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JP2007169271A - Method for producing α-trifluoromethyl ketone compound - Google Patents

Method for producing α-trifluoromethyl ketone compound Download PDF

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JP2007169271A
JP2007169271A JP2006316436A JP2006316436A JP2007169271A JP 2007169271 A JP2007169271 A JP 2007169271A JP 2006316436 A JP2006316436 A JP 2006316436A JP 2006316436 A JP2006316436 A JP 2006316436A JP 2007169271 A JP2007169271 A JP 2007169271A
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Abstract

【課題】トリフルオロメチル化剤としてヨウ化トリフルオロメタンを用い、高収率でα−トリフルオロメチルケトン化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】 リチウムエノラート化合物を、ラジカル開始剤存在下、ヨウ化トリフルオロメタンと反応させることを特徴とするα−トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法。
【選択図】 なし
Provided is a method for producing an α-trifluoromethyl ketone compound in high yield using trifluoromethane iodide as a trifluoromethylating agent.
A process for producing an α-trifluoromethyl ketone compound, comprising reacting a lithium enolate compound with trifluoromethane iodide in the presence of a radical initiator.
[Selection figure] None

Description

本発明は、α−トリフルオロメチルケトン化合物を製造する方法に関する。より詳細にはケトン化合物から誘導されるリチウムエノラート化合物をヨウ化トリフルオロメタンと反応させて、α−トリフルオロメチルケトン化合物を製造する方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an α-trifluoromethyl ketone compound. More specifically, the present invention relates to a method for producing an α-trifluoromethyl ketone compound by reacting a lithium enolate compound derived from a ketone compound with trifluoromethane iodide.

α−トリフルオロメチルケトン化合物は、トリフルオロメチル基含有による特有の物理的性質、化学的性質を示すため、医農薬中間体や液晶材料の原料等として極めて有用である。   Since the α-trifluoromethyl ketone compound exhibits specific physical and chemical properties due to the trifluoromethyl group content, it is extremely useful as a raw material for medical and agricultural chemical intermediates and liquid crystal materials.

α−トリフルオロメチルケトン化合物を製造する方法としては、トリフルオロメチル化剤とケトン誘導体を反応させる方法が知られており、トリフルオロメチル化剤として、CF3カチオン型反応剤を用いる方法とヨウ化トリフルオロメタンを用いる方法に大別される。   As a method for producing an α-trifluoromethyl ketone compound, a method in which a trifluoromethylating agent and a ketone derivative are reacted is known. The method is roughly classified into methods using trifluoromethane.

前者の方法としては、非特許文献1、非特許文献2にトリフルオロメチルカルコゲン塩化合物とケトン誘導体を反応させる方法が報告されている。これらの方法は、α−トリフルオロメチルケトン化合物の収率は比較的高いものの、反応原料であるトリフルオロメチルカルコゲン塩化合物をあらかじめ合成する必要がある。その際、合成に特殊な装置、煩雑な操作を必要とする問題がある。   As the former method, Non-Patent Document 1 and Non-Patent Document 2 report a method of reacting a trifluoromethyl chalcogen salt compound and a ketone derivative. In these methods, although the yield of the α-trifluoromethyl ketone compound is relatively high, it is necessary to synthesize a trifluoromethyl chalcogen salt compound as a reaction raw material in advance. At that time, there is a problem that a special apparatus for synthesis and complicated operations are required.

一方、後者の方法は、ヨウ化トリフルオロメタンが容易に入手できるため工業的に利用し易い方法と言える。しかし、この方法の場合、ヨウ化トリフルオロメタンとケトン誘導体を反応させる際に分解反応を併発し、収率が低下し易い問題があった。分解反応を避けるための方法として、非特許文献3ではケトン誘導体としてシリルエノラート化合物を用いる方法が、非特許文献4ではケトン誘導体としてゲルミルエノラート化合物を用いる方法が報告されている。しかし、これらの方法ではケトン誘導体の反応性が低いため、長い反応時間を必要とする上、目的物の収率も十分でない。また、非特許文献5ではケトン誘導体として、エナミン化合物を用いる方法が報告されている。この方法の場合、エナミン化合物を合成する工程が煩雑である上、目的物の収率も十分とは言えない。
J. Am. Chem. Soc., 115, 2156 (1993) J. Org. Chem., 59, 5692 (1994) Bull. Chem. Soc. Jpn., 64, 1542 (1991) Tetrahedron Letters, 31, 6391 (1990) J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1, 1365 (1977)
On the other hand, the latter method can be said to be an industrially easy method because iodide trifluoromethane can be easily obtained. However, in the case of this method, there is a problem in that the yield tends to be lowered due to the simultaneous occurrence of a decomposition reaction when the trifluoromethane iodide is reacted with the ketone derivative. As a method for avoiding the decomposition reaction, Non-Patent Document 3 reports a method using a silyl enolate compound as a ketone derivative, and Non-Patent Document 4 reports a method using a germyl enolate compound as a ketone derivative. However, since the reactivity of the ketone derivative is low in these methods, a long reaction time is required and the yield of the target product is not sufficient. Non-Patent Document 5 reports a method using an enamine compound as a ketone derivative. In this method, the process of synthesizing the enamine compound is complicated and the yield of the target product is not sufficient.
J. Am. Chem. Soc., 115, 2156 (1993) J. Org. Chem., 59, 5692 (1994) Bull. Chem. Soc. Jpn., 64, 1542 (1991) Tetrahedron Letters, 31, 6391 (1990) J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1, 1365 (1977)

本発明はこれらの課題に鑑みてなされたものである。即ち、トリフルオロメチル化剤としてヨウ化トリフルオロメタンを用い、高収率でα−トリフルオロメチルケトン化合物を製造する方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of these problems. That is, an object of the present invention is to provide a method for producing an α-trifluoromethyl ketone compound in high yield using trifluoromethane iodide as a trifluoromethylating agent.

前記課題に鑑み本発明者らは鋭意検討した結果、特定のケトン誘導体を、ラジカル開始剤存在下、ヨウ化トリフルオロメタンと反応させることにより、高収率でα−トリフルオロメチルケトン化合物が得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。即ち、本発明は下記要旨に関わるものである。   As a result of intensive investigations in view of the above problems, the present inventors have obtained a α-trifluoromethyl ketone compound in high yield by reacting a specific ketone derivative with iodotrifluoromethane in the presence of a radical initiator. As a result, the present invention has been completed. That is, the present invention relates to the following gist.

(1) 一般式(3) (1) General formula (3)

Figure 2007169271
Figure 2007169271

(式中、R1は、置換ないし未置換の炭素数1〜20のアルキル基または置換ないし未置換の炭素数6〜20のアリール基を表し、R2及びR3は、それぞれ独立に、水素原子、置換ないし未置換の炭素数1〜20のアルキル基または置換ないし未置換の炭素数6〜20のアリール基を表す。R1〜R3は同一であっても非同一であってもよく、任意の2個がヘテロ原子の介在、非介在下に互いに結合し環状構造を形成していても良い。)
で表されるリチウムエノラート化合物を、ラジカル開始剤存在下、ヨウ化トリフルオロメタンと反応させることを特徴とする、一般式(4)
(In the formula, R1 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and R2 and R3 each independently represents a hydrogen atom or a substituted group. Or an unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, R1 to R3 may be the same or non-identical, and any two May be bonded to each other with or without heteroatoms to form a cyclic structure.)
A lithium enolate compound represented by the formula (4) is reacted with iodotrifluoromethane in the presence of a radical initiator:

Figure 2007169271
Figure 2007169271

(式中、R1〜R3は前記定義に同じ)
で表されるα−トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法。
(Wherein R1 to R3 are the same as defined above)
The manufacturing method of the alpha-trifluoromethyl ketone compound represented by these.

(2) ラジカル開始剤がトリアルキルボラン化合物及び分子状酸素であることを特徴とする(1)に記載のα−トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法。 (2) The method for producing an α-trifluoromethyl ketone compound according to (1), wherein the radical initiator is a trialkylborane compound and molecular oxygen.

(3) 前記一般式(3)のリチウムエノラートが、一般式(1) (3) The lithium enolate of the general formula (3) is represented by the general formula (1)

Figure 2007169271
Figure 2007169271

(式中、R1〜R3は前記定義に同じ)
で表されるケトン化合物及び/または一般式(2)
(Wherein R1 to R3 are the same as defined above)
And / or the general formula (2)

Figure 2007169271
Figure 2007169271

(式中、R1〜R3は、前記定義に同じ。R4〜R6は同一または非同一の炭素数1〜10のアルキル基を表す。)
で表されるシリルエノールエーテル化合物と、モル比で0.8〜1.2倍のリチウム化合物との反応によって得られるリチウムエノラートであることを特徴とする(1)または(2)に記載のα−トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法。
(In the formula, R 1 to R 3 are the same as defined above. R 4 to R 6 represent the same or non-identical alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.)
The lithium enolate obtained by reacting the silyl enol ether compound represented by formula (II) with a lithium compound having a molar ratio of 0.8 to 1.2 times as described in (1) or (2) -Manufacturing method of a trifluoromethyl ketone compound.

(4) リチウム化合物がアルキルリチウム化合物及び/またはリチウムアミド化合物であることを特徴とする(3)に記載のα−トリフルオロメチルケトンの製造方法。 (4) The method for producing α-trifluoromethyl ketone according to (3), wherein the lithium compound is an alkyl lithium compound and / or a lithium amide compound.

(5)亜鉛化合物を存在させて反応させることを特徴とする(1)〜(4)のいずれか1項に記載のα−トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法。 (5) The method for producing an α-trifluoromethyl ketone compound according to any one of (1) to (4), wherein the reaction is carried out in the presence of a zinc compound.

(6)亜鉛化合物がジアルキル亜鉛であることを特徴とする(5)に記載のα−トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法。 (6) The method for producing an α-trifluoromethyl ketone compound according to (5), wherein the zinc compound is dialkylzinc.

(7)亜鉛化合物に加え、更に環状エーテル化合物を存在させることを特徴とする(5)または(6)に記載のα−トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法。 (7) The method for producing an α-trifluoromethyl ketone compound according to (5) or (6), wherein a cyclic ether compound is further present in addition to the zinc compound.

本発明によれば、工業的に入手容易なヨウ化トリフルオロメタンを原料とし、高収率でα−トリフルオロメチルケトン化合物を製造することができる。
According to the present invention, an α-trifluoromethyl ketone compound can be produced in high yield from industrially readily available trifluoromethane iodide as a raw material.

以下に、さらに詳細に本発明を説明する。   The present invention is described in further detail below.

本発明は、前記一般式(3)のリチウムエノラート化合物をヨウ化トリフルオロメタンと反応させ、前記一般式(4)のα−トリフルオロメチルケトン化合物を製造することを特徴とするものである。本発明は、原料であるリチウムエノラート化合物を生成させる過程と該リチウムエノラート化合物をヨウ化トリフルオロメタンと反応させる過程からなる。   The present invention is characterized in that the α-trifluoromethyl ketone compound of the general formula (4) is produced by reacting the lithium enolate compound of the general formula (3) with trifluoromethane iodide. The present invention comprises a process of producing a lithium enolate compound as a raw material and a process of reacting the lithium enolate compound with trifluoromethane iodide.

本発明の前過程である、リチウムエノラート化合物を生成させる過程について説明する。リチウムエノラート化合物は、前記一般式(1)のケトン化合物及び/または前記一般式(2)のシリルエノールエーテルとリチウム化合物を反応させることによって生成させる。   A process for forming a lithium enolate compound, which is a pre-process of the present invention, will be described. The lithium enolate compound is produced by reacting the ketone compound of the general formula (1) and / or the silyl enol ether of the general formula (2) with a lithium compound.

一般式(1)〜(4)において、置換基R1は、置換ないし未置換の炭素数1〜20のアルキル基または置換ないし未置換の炭素数6〜20のアリール基である。置換基R2およびR3は、水素原子、置換ないし未置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換ないし未置換の炭素数6〜20のアリール基である。未置換のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−オクチル基及びn−デシル基等を挙げることができる。置換基を有するアルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、2−メトキシエチル基、ベンジル基、2−フェニルエチル基、トリフルオロメチル基等を挙げることができる。未置換のアリール基としては、例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等を挙げることができる。置換基を有するアリール基としては、例えば、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、4−エチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−フルオロフェニル基、2−メチル−1−ナフチル基等を挙げることができる。なお、R1〜R3は同一であってもよいし、非同一であってもよい。また、置換基R1〜R3は、任意の2個が、互いにヘテロ原子の介在または非介在化に結合し、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環等の環状構造を形成していてもよい。ヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子等を挙げることができる。   In the general formulas (1) to (4), the substituent R1 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms. The substituents R2 and R3 are a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms. Examples of the unsubstituted alkyl group include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, Examples thereof include an n-octyl group and an n-decyl group. Examples of the alkyl group having a substituent include a methoxymethyl group, a 2-methoxyethyl group, a benzyl group, a 2-phenylethyl group, and a trifluoromethyl group. Examples of the unsubstituted aryl group include a phenyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group. Examples of the aryl group having a substituent include 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 4-methoxyphenyl group. , 4-fluorophenyl group, 2-methyl-1-naphthyl group and the like. R1 to R3 may be the same or non-identical. In addition, any two substituents R1 to R3 are bonded to each other with a hetero atom intervening or non-intervening to form a cyclic structure such as a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring or a cyclooctane ring. May be. Examples of the hetero atom include an oxygen atom and a sulfur atom.

このようなケトン化合物の一例として、アセトン、メチルエチルケトン、メチルn−プロピルケトン、メチルi−プロピルケトン、メチルn−ブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルsec−ブチルケトン、6−ウンデカノン、メチルシクロヘキシルケトン、メトキシアセトン、トリフルオロアセトン、アセトフェノン、2’−メチルアセトフェノン、4’−メチルアセトフェノン、4’−メトキシアセトフェノン、4’−フルオロアセトフェノン、2’,4’,6’−トリメトキシアセトフェノン、プロピオフェノン、n−ブチロフェノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−メチルシクロヘキサノン、4−t−ブチルシクロヘキサノン及び4−オキソテトラヒドロピラン等を挙げることができる。   Examples of such ketone compounds include acetone, methyl ethyl ketone, methyl n-propyl ketone, methyl i-propyl ketone, methyl n-butyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl sec-butyl ketone, 6-undecanone, methyl cyclohexyl ketone, methoxy acetone, Trifluoroacetone, acetophenone, 2′-methylacetophenone, 4′-methylacetophenone, 4′-methoxyacetophenone, 4′-fluoroacetophenone, 2 ′, 4 ′, 6′-trimethoxyacetophenone, propiophenone, n-butyrophenone , Cyclopentanone, cyclohexanone, 2-methylcyclohexanone, 4-t-butylcyclohexanone, 4-oxotetrahydropyran and the like.

また、前記一般式(2)のシリルエノールエーテル化合物は、前記の一般式(1)のケトン化合物を塩基存在下、トリアルキルシリルハライド化合物と反応させることにより得られる。一般式(2)中の置換基R4〜R6は炭素数1〜10のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基及びn−ブチル基等を挙げることができる。前記一般式(2)のシリルエノールエーテル化合物の一例として、2−(トリメチルシロキシ)プロペン、2−(トリメチルシロキシ)−2−ブテン、2−(トリメチルシロキシ)−1−ブテン、6−(トリメチルシロキシ)−5−ウンデセン、1−フェニル−1−(トリメチルシロキシ)エチレン、1−(トリメチルシロキシ)シクロヘキセン、1−(トリメチルシロキシ)−6−メチルシクロヘキセン、1−(トリメチルシロキシ)−2−メチルシクロヘキセン及び1−(トリメチルシロキシ)−4−t−ブチルシクロヘキセン等を挙げることができる。   The silyl enol ether compound of the general formula (2) can be obtained by reacting the ketone compound of the general formula (1) with a trialkylsilyl halide compound in the presence of a base. The substituents R4 to R6 in the general formula (2) are alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, and an n-butyl group. Examples of the silyl enol ether compound of the general formula (2) include 2- (trimethylsiloxy) propene, 2- (trimethylsiloxy) -2-butene, 2- (trimethylsiloxy) -1-butene, and 6- (trimethylsiloxy). ) -5-undecene, 1-phenyl-1- (trimethylsiloxy) ethylene, 1- (trimethylsiloxy) cyclohexene, 1- (trimethylsiloxy) -6-methylcyclohexene, 1- (trimethylsiloxy) -2-methylcyclohexene and Examples include 1- (trimethylsiloxy) -4-t-butylcyclohexene.

リチウム化合物は、有機リチウム化合物または金属リチウムであり、有機リチウムとして、例えば、メチルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム及びt−ブチルリチウム等のアルキルリチウム化合物、リチウムジイソプロピルアミド及びリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等のリチウムアミド化合物等を挙げることができる。なお、リチウムアミド化合物は、ジイソプロピルアミンまたはビス(トリメチルシリル)アミン等のアミン化合物とアルキルリチウム化合物を任意の順序で添加することにより、リチウムエノラート化合物を生成させる液中において生成させてもよい。前記一般式(1)のケトン化合物及び/または前記一般式(2)のシリルエノールエーテル化合物に対するリチウム化合物の使用量は、モル比で0.5〜2であり、好ましくは0.8〜1.2である。リチウム化合物の使用量が0.5未満の場合、リチウムエノラートの生成量が十分でなく、また、2を超える場合は、α−トリフルオロメチルケトン化合物の製造に用いた際、目的物の分解反応が進行して収率が低下する場合がある。   The lithium compound is an organic lithium compound or metallic lithium, and examples of the organic lithium include alkyl lithium compounds such as methyl lithium, n-butyl lithium, sec-butyl lithium and t-butyl lithium, lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl). ) Lithium amide compounds such as amides. The lithium amide compound may be produced in a liquid for producing a lithium enolate compound by adding an amine compound such as diisopropylamine or bis (trimethylsilyl) amine and an alkyllithium compound in any order. The amount of the lithium compound used relative to the ketone compound of the general formula (1) and / or the silyl enol ether compound of the general formula (2) is 0.5 to 2, and preferably 0.8 to 1. 2. When the amount of the lithium compound used is less than 0.5, the amount of lithium enolate produced is not sufficient, and when it exceeds 2, the decomposition reaction of the target product when used in the production of the α-trifluoromethyl ketone compound. May progress and the yield may decrease.

また、前記一般式(3)のリチウムエノラート化合物は、前記一般式(1)のケトン化合物及び/または前記一般式(2)のシリルエノールエーテル化合物とリチウム化合物を溶媒の不在下に反応させてもよいが、通常、非プロトン性溶媒の存在下に反応させる。非プロトン性溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ペンタン、ヘキサン等のアルカン類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類を挙げることができる。反応温度は、特に限定されないが、通常、−100℃〜50℃である。リチウムエノラート化合物は単離してα−トリフルオロメチルケトン化合物の製造に用いてもよいが、ケトン化合物及び/またはシリルエノールエーテル化合物とリチウム化合物を反応させた反応液をα−トリフルオロメチルケトン化合物の製造に用いるのが簡便であり、リチウムエノラート化合物の分解等を招きにくい。   The lithium enolate compound of the general formula (3) may be obtained by reacting the ketone compound of the general formula (1) and / or the silyl enol ether compound of the general formula (2) with a lithium compound in the absence of a solvent. Usually, the reaction is carried out in the presence of an aprotic solvent. Examples of the aprotic solvent include ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran, alkanes such as pentane and hexane, and aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene. Although reaction temperature is not specifically limited, Usually, it is -100 degreeC-50 degreeC. The lithium enolate compound may be isolated and used in the production of the α-trifluoromethyl ketone compound, but the reaction solution obtained by reacting the ketone compound and / or the silyl enol ether compound with the lithium compound is used as the α-trifluoromethyl ketone compound. It is easy to use in the production and hardly causes decomposition of the lithium enolate compound.

次に、前記一般式(3)のリチウムエノラート化合物をヨウ化トリフルオロメタンと反応させる過程について説明する。
本発明では、前記一般式(3)のリチウムエノラート化合物をラジカル開始剤の存在下、ヨウ化トリフルオロメタンと反応させて前記一般式(4)のα−トリフルオロメチルケトン化合物を製造する。
Next, the process of reacting the lithium enolate compound of the general formula (3) with trifluoromethane iodide will be described.
In the present invention, the α-trifluoromethyl ketone compound of the general formula (4) is produced by reacting the lithium enolate compound of the general formula (3) with trifluoromethane iodide in the presence of a radical initiator.

前記一般式(3)のリチウムエノラート化合物に対するヨウ化トリフルオロメタンの使用量は、特に限定されないが、通常、モル比で0.5〜30倍である。   Although the usage-amount of the trifluoromethane iodide with respect to the lithium enolate compound of the said General formula (3) is not specifically limited, Usually, it is 0.5-30 times in molar ratio.

ラジカル開始剤は、ヨウ化トリフルオロメタンからトリフルオロメチルラジカルを発生し得るものであれば特に限定されるものではないが、例えば、トリエチルボラン、トリブチルボラン等のトリアルキルボラン化合物と分子状酸素、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、ジt−ブチルパーオキサイド等のパーオキサイド化合物等を挙げることができる。これらのうち、トリアルキルボラン化合物と分子状酸素は、温和な条件でラジカルを発生できるため、α−トリフルオロメチルケトン化合物が収率よく得られ易く有利である。リチウムエノラート化合物に対するラジカル開始剤の使用量は、通常、モル比で0.01〜2倍である。なお、トリアルキルボラン化合物と分子状酸素の組み合わせの場合、トリアルキルボランを前記比率で添加する。分子状酸素は微量存在していれば十分である。   The radical initiator is not particularly limited as long as it can generate a trifluoromethyl radical from trifluoromethane iodide. For example, trialkylborane compounds such as triethylborane and tributylborane, molecular oxygen, azo Examples thereof include azo compounds such as bisisobutyronitrile and peroxide compounds such as di-t-butyl peroxide. Of these, trialkylborane compounds and molecular oxygen are advantageous because they can generate radicals under mild conditions, so that α-trifluoromethyl ketone compounds can be obtained in good yields. The amount of radical initiator used relative to the lithium enolate compound is usually 0.01 to 2 times in molar ratio. In the case of a combination of a trialkylborane compound and molecular oxygen, trialkylborane is added at the above ratio. It is sufficient that a small amount of molecular oxygen is present.

また、前記一般式(3)のリチウムエノラート化合物とヨウ化トリフルオロメタンを反応させる際に非プロトン性溶媒を使用してもよい。非プロトン性溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等のアルカン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族化合物類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジn−ブチルエーテル、モノグライム、ジグライム、トリグライム、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、アニソール、ベラトロール等のエーテル類、ジエチルスルフィド、ジn−ブチルスルフィド等のスルフィド類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類等を挙げることができる。   In addition, an aprotic solvent may be used when the lithium enolate compound of the general formula (3) is reacted with iodinated trifluoromethane. Examples of aprotic solvents include alkanes such as pentane, hexane, octane and cyclohexane, aromatic compounds such as benzene, toluene and xylene, diethyl ether, diisopropyl ether, di-n-butyl ether, monoglyme, diglyme, triglyme, tetrahydrofuran, Examples thereof include ethers such as 1,4-dioxane, anisole and veratrol, sulfides such as diethyl sulfide and di-n-butyl sulfide, and nitriles such as acetonitrile, propionitrile and benzonitrile.

前記一般式(3)のリチウムエノラート化合物とヨウ化トリフルオロメタンを反応させる際の反応温度は、特に限定されないが、通常、−100℃〜100℃である。反応圧力は、常圧または加圧下にて実施することができる。反応時間は通常、1秒〜10時間である。なお、反応は十分な攪拌下にて行うことが望ましい。   Although the reaction temperature at the time of making the lithium enolate compound of the said General formula (3) and iodide trifluoromethane react is not specifically limited, Usually, it is -100 degreeC-100 degreeC. The reaction pressure can be carried out at normal pressure or under pressure. The reaction time is usually 1 second to 10 hours. The reaction is desirably performed with sufficient stirring.

また、前記一般式(3)のリチウムエノラート化合物、ラジカル開始剤、ヨウ化トリフルオロメタンの混合順は特に限定されないが、リチウムエノラート化合物とラジカル開始剤を混合後、ヨウ化トリフルオロメタンを添加する方法、あるいはリチウムエノラート化合物とヨウ化トリフルオロメタンを混合後、ラジカル開始剤を添加する方法が操作上簡便である。   Further, the mixing order of the lithium enolate compound of the general formula (3), the radical initiator, and the trifluoromethane iodide is not particularly limited, but a method of adding the trifluoromethane iodide after mixing the lithium enolate compound and the radical initiator, Alternatively, a method of adding a radical initiator after mixing a lithium enolate compound and trifluoromethane iodide is convenient in terms of operation.

また、本発明の方法では、リチウムエノラート化合物に亜鉛化合物を添加し反応させることができる。亜鉛化合物の添加により、収率が向上する効果が認められる場合がある。
亜鉛化合物は、2価の原子価を有する亜鉛化合物であり、例えば、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジn−ブチル亜鉛、ジフェニル亜鉛、メチル沃化亜鉛及びジシアノ亜鉛等の有機亜鉛化合物、フッ化亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛等の亜鉛ハロゲン化物、硝酸亜鉛、硫酸亜鉛、燐酸亜鉛、炭酸亜鉛等の亜鉛酸素酸塩、酢酸亜鉛等の亜鉛有機酸塩、酸化亜鉛、水酸化亜鉛及び水素化亜鉛等を挙げることができる。これら亜鉛化合物のうち、有機亜鉛化合物、特にジエチル亜鉛等のジアルキル亜鉛がα−トリフルオロメチルケトン化合物の収率の点で好ましい。前記一般式(1)のケトン化合物及び/または前記一般式(2)のシリルエノールエーテル化合物に対する亜鉛化合物の使用量は、モル比で0.5〜2である。なお、亜鉛化合物の添加時期は特に限定されないが、通常、前記一般式(3)のリチウムエノラート化合物を生成させた後に添加し、ヨウ化トリフルオロメタン、ラジカル開始剤を加えて反応させる。
In the method of the present invention, a zinc compound can be added to the lithium enolate compound and allowed to react. The effect of improving the yield may be observed by the addition of the zinc compound.
The zinc compound is a zinc compound having a divalent valence, for example, an organic zinc compound such as dimethyl zinc, diethyl zinc, di-n-butyl zinc, diphenyl zinc, methyl zinc iodide and dicyano zinc, zinc fluoride, Zinc halides such as zinc chloride, zinc bromide and zinc iodide, zinc oxyacid salts such as zinc nitrate, zinc sulfate, zinc phosphate and zinc carbonate, zinc organic acid salts such as zinc acetate, zinc oxide, zinc hydroxide and Examples thereof include zinc hydride. Of these zinc compounds, organic zinc compounds, particularly dialkyl zinc such as diethyl zinc, are preferred in terms of the yield of the α-trifluoromethyl ketone compound. The amount of the zinc compound used relative to the ketone compound of the general formula (1) and / or the silyl enol ether compound of the general formula (2) is 0.5 to 2 in molar ratio. In addition, although the addition time of a zinc compound is not specifically limited, Usually, it adds after producing | generating the lithium enolate compound of the said General formula (3), It is made to react by adding trifluoromethane iodide and a radical initiator.

また、本発明の方法では、亜鉛化合物に加え、更に、環状エーテル化合物を添加することができる。環状エーテル化合物の添加により更に収率が向上する場合がある。環状エーテル化合物としては、例えば、12−クラウン−4−エーテル、15−クラウン−5−エーテル、18−クラウン−6−エーテル等を挙げることができる。前記一般式(1)のケトン化合物及び/または前記一般式(2)のシリルエノールエーテル化合物に対する環状エーテル化合物の使用量は、モル比で0.5〜2である。環状エーテル化合物の添加時期は特に限定されないが、通常、前記一般式(3)のリチウムエノラート化合物を生成させ、亜鉛化合物に続いて添加し、ヨウ化トリフルオロメタン、ラジカル開始剤を加えて反応させせる。   In the method of the present invention, a cyclic ether compound can be added in addition to the zinc compound. The yield may be further improved by adding a cyclic ether compound. Examples of the cyclic ether compound include 12-crown-4-ether, 15-crown-5-ether, 18-crown-6-ether and the like. The usage-amount of the cyclic ether compound with respect to the ketone compound of the said General formula (1) and / or the silyl enol ether compound of the said General formula (2) is 0.5-2 in molar ratio. Although the addition time of the cyclic ether compound is not particularly limited, usually, the lithium enolate compound of the general formula (3) is formed, added after the zinc compound, and reacted by adding trifluoromethane iodide and a radical initiator. .

反応後は酢酸や塩酸等の酸あるいは水を添加し、反応試剤を失活させ、不溶物を除去した後、公知の蒸留法、再結晶法またはクロマト分離法等により前記一般式(4)のα−トリフルオロメチルケトン化合物を単離することができる。
実施例
以下に実施例を用いて本発明を詳細に説明するが、本発明はこの実施例によって限定されるものではない。
After the reaction, an acid such as acetic acid or hydrochloric acid or water is added to inactivate the reaction reagent, the insoluble matter is removed, and then the above-mentioned general formula (4) is obtained by a known distillation method, recrystallization method or chromatographic separation method. The α-trifluoromethyl ketone compound can be isolated.
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail using examples, but the present invention is not limited to the examples.

シュレンク管にテトラヒドロフラン 2ml、ジイソプロピルアミン 28μlを入れ、ドライアイス−メタールバスで冷却し、液温を−78℃とした。次に、1.58mol/L n−ブチルリチウムヘキサン溶液 0.13ml(0.20mmol)を添加し、0℃で30分攪拌後した。再び−78℃とし、シクロヘキサノン 20.7μl(0.20mmol)を添加し、60分攪拌した。次に、ヨウ化トリフルオロメタン 200mg(1.0mmol)を添加し、次いで、1mol/L トリエチルボラン/ヘキサン溶液 0.2ml(0.2mmol)を15秒で添加し反応を開始させた。60分後、5mol/l 酢酸 テトラヒドロフラン溶液 0.12mlを添加し反応を停止させた。反応液をベンゾトリフルオライドを内部標準として、19F−NMRにて分析したところ、2−(トリフルオロメチル)シクロヘキサノンの収率は80%であった。 A Schlenk tube was charged with 2 ml of tetrahydrofuran and 28 μl of diisopropylamine, cooled in a dry ice-methanol bath, and the liquid temperature was -78 ° C. Next, 0.13 ml (0.20 mmol) of a 1.58 mol / L n-butyllithium hexane solution was added, followed by stirring at 0 ° C. for 30 minutes. The temperature was again −78 ° C., 20.7 μl (0.20 mmol) of cyclohexanone was added, and the mixture was stirred for 60 minutes. Next, 200 mg (1.0 mmol) of trifluoromethane iodide was added, and then 0.2 ml (0.2 mmol) of a 1 mol / L triethylborane / hexane solution was added in 15 seconds to start the reaction. After 60 minutes, 0.12 ml of a 5 mol / l acetic acid tetrahydrofuran solution was added to stop the reaction. When the reaction solution was analyzed by 19 F-NMR using benzotrifluoride as an internal standard, the yield of 2- (trifluoromethyl) cyclohexanone was 80%.

シュレンク管にテトラヒドロフラン 2ml、1−(トリメチルシロキシ)シクロヘキセン 38.9μl(0.2mmol)を入れ、0℃に冷却し、1.58mol/L n−ブチルリチウムヘキサン溶液 0.13ml(0.20mmol)を添加し、30分攪拌した。
次に−78℃に冷却し、ヨウ化トリフルオロメタン 200mg(1.0mmol)を添加し、次いで、1mol/L トリエチルボラン/ヘキサン溶液 0.2ml(0.2mmol)を15秒で添加し反応を開始させた。2時間後、5mol/l 酢酸 テトラヒドロフラン溶液 0.12mlを添加し反応を停止させた。反応液をベンゾトリフルオライドを内部標準として、19F−NMRにて分析したところ、2−(トリフルオロメチル)シクロヘキサノンの収率は77%であった。
Add 2 ml of tetrahydrofuran and 38.9 μl (0.2 mmol) of 1- (trimethylsiloxy) cyclohexene to a Schlenk tube, cool to 0 ° C., and add 0.13 ml (0.20 mmol) of 1.58 mol / L n-butyllithium hexane solution. Added and stirred for 30 minutes.
Next, it is cooled to −78 ° C., 200 mg (1.0 mmol) of trifluoromethane iodide is added, and then 0.2 ml (0.2 mmol) of 1 mol / L triethylborane / hexane solution is added in 15 seconds to start the reaction. I let you. After 2 hours, 0.12 ml of a 5 mol / l acetic acid tetrahydrofuran solution was added to stop the reaction. When the reaction solution was analyzed by 19 F-NMR using benzotrifluoride as an internal standard, the yield of 2- (trifluoromethyl) cyclohexanone was 77%.

シクロヘキサノンを4−t−ブチルシクロヘキサノン 31mg(0.2mmol)に変え、反応時間を1秒とした以外は実施例1と同様に反応させた。反応液をベンゾトリフルオライドを内部標準として、19F−NMRにて分析したところ、2−(トリフルオロメチル)−4−t−ブチルシクロヘキサノンの収率は71%であった。 The reaction was conducted in the same manner as in Example 1 except that cyclohexanone was changed to 31 mg (0.2 mmol) of 4-t-butylcyclohexanone and the reaction time was changed to 1 second. When the reaction solution was analyzed by 19 F-NMR using benzotrifluoride as an internal standard, the yield of 2- (trifluoromethyl) -4-tert-butylcyclohexanone was 71%.

シュレンク管にテトラヒドロフラン 2ml、ジイソプロピルアミン 45μlを入れ、ドライアイス−メタールバスで冷却し、液温を−78℃とした。次に、1.58mol/L n−ブチルリチウムヘキサン溶液 0.20ml(0.36mmol)を添加し、0℃で30分攪拌後した。再び−78℃とし、シクロヘキサノン 20.7μl(0.20mmol)を添加し、30分攪拌した。次に、ヨウ化トリフルオロメタン 200mg(1.0mmol)を添加し、次いで、1mol/L トリエチルボラン/ヘキサン溶液 0.2ml(0.2mmol)を15秒で添加し反応を開始させた。30分後、5mol/l 酢酸 テトラヒドロフラン溶液 0.12mlを添加し反応を停止させた。   A Schlenk tube was charged with 2 ml of tetrahydrofuran and 45 μl of diisopropylamine, cooled in a dry ice-methanol bath, and the liquid temperature was adjusted to −78 ° C. Next, 0.20 ml (0.36 mmol) of a 1.58 mol / L n-butyllithium hexane solution was added, followed by stirring at 0 ° C. for 30 minutes. The temperature was again −78 ° C., 20.7 μl (0.20 mmol) of cyclohexanone was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. Next, 200 mg (1.0 mmol) of trifluoromethane iodide was added, and then 0.2 ml (0.2 mmol) of a 1 mol / L triethylborane / hexane solution was added in 15 seconds to start the reaction. After 30 minutes, 0.12 ml of a 5 mol / l acetic acid tetrahydrofuran solution was added to stop the reaction.

反応液をベンゾトリフルオライドを内部標準として、19F−NMRにて分析したところ、2−(トリフルオロメチル)シクロヘキサノンの収率は41%であった。 When the reaction solution was analyzed by 19 F-NMR using benzotrifluoride as an internal standard, the yield of 2- (trifluoromethyl) cyclohexanone was 41%.

シュレンク管にテトラヒドロフラン 2ml、1−(トリメチルシロキシ)シクロペンテン 31mg(0.2mmol)を入れ、0℃に冷却し、1.0mol/L メチルリチウム ジエチルエーテル溶液 0.20ml(0.20mmol)を添加し、30分攪拌した。   Add 2 ml of tetrahydrofuran and 31 mg (0.2 mmol) of 1- (trimethylsiloxy) cyclopentene to the Schlenk tube, cool to 0 ° C., add 0.20 ml (0.20 mmol) of 1.0 mol / L methyllithium diethyl ether solution, Stir for 30 minutes.

次に−78℃に冷却し、ヨウ化トリフルオロメタン 200mg(1.0mmol)を添加し、次いで、1mol/L トリエチルボラン/ヘキサン溶液 0.2ml(0.2mmol)を15秒で添加し、反応を開始させた。20時間後、5mol/l 酢酸 テトラヒドロフラン溶液 0.12mlを添加し反応を停止させた。反応液をベンゾトリフルオライドを内部標準として、19F−NMRにて分析したところ、2−(トリフルオロメチル)シクロペンタノンの収率は40%であった。 Next, it is cooled to −78 ° C., 200 mg (1.0 mmol) of trifluoromethane iodide is added, then 0.2 ml (0.2 mmol) of 1 mol / L triethylborane / hexane solution is added in 15 seconds, and the reaction is performed. Started. After 20 hours, 0.12 ml of a 5 mol / l acetic acid tetrahydrofuran solution was added to stop the reaction. When the reaction solution was analyzed by 19 F-NMR using benzotrifluoride as an internal standard, the yield of 2- (trifluoromethyl) cyclopentanone was 40%.

シュレンク管にテトラヒドロフラン 1ml、1−(トリメチルシロキシ)シクロペンテン 31mg(0.2mmol)を入れ、0℃に冷却し、1.0mol/L メチルリチウム ジエチルエーテル溶液 0.20ml(0.20mmol)を添加し、30分攪拌した。   Add 1 ml of tetrahydrofuran and 31 mg (0.2 mmol) of 1- (trimethylsiloxy) cyclopentene to a Schlenk tube, cool to 0 ° C., add 0.20 ml (0.20 mmol) of 1.0 mol / L methyllithium diethyl ether solution, Stir for 30 minutes.

次に、1.0mol/Lジエチル亜鉛ヘキサン溶液 0.20ml(0.20mmol)を添加し、30分攪拌した。   Next, 0.20 ml (0.20 mmol) of 1.0 mol / L diethyl zinc hexane solution was added and stirred for 30 minutes.

次に−78℃に冷却し、ヨウ化トリフルオロメタン 400mg(2.0mmol)を添加し、次いで、1mol/L トリエチルボラン/ヘキサン溶液 0.2ml(0.2mmol)を添加し、空気0.5mlをシリンジで加え反応を開始させた。2時間後、5mol/l 酢酸 テトラヒドロフラン溶液 0.12mlを添加し反応を停止させた。反応液をベンゾトリフルオライドを内部標準として、19F−NMRにて分析したところ、2−(トリフルオロメチル)シクロペンタノンの収率は50%であった。 Next, it is cooled to −78 ° C., 400 mg (2.0 mmol) of trifluoromethane iodide is added, then 0.2 ml (0.2 mmol) of 1 mol / L triethylborane / hexane solution is added, and 0.5 ml of air is added. The reaction was initiated with a syringe. After 2 hours, 0.12 ml of a 5 mol / l acetic acid tetrahydrofuran solution was added to stop the reaction. When the reaction solution was analyzed by 19 F-NMR using benzotrifluoride as an internal standard, the yield of 2- (trifluoromethyl) cyclopentanone was 50%.

シュレンク管にテトラヒドロフラン 2ml、6−(トリメチルシロキシ)−5−ウンデセン 48mg(0.2mmol)を入れ、0℃に冷却し、1.0mol/L メチルリチウム ジエチルエーテル溶液 0.20ml(0.20mmol)を添加し、30分攪拌した。次に−78℃に冷却し、ヨウ化トリフルオロメタン 200mg(1.0mmol)を添加し、次いで、1mol/L トリエチルボラン/ヘキサン溶液 0.2ml(0.2mmol)を15秒で添加し、反応を開始させた。20時間後、5mol/l 酢酸 テトラヒドロフラン溶液 0.12mlを添加し反応を停止させた。反応液をベンゾトリフルオライドを内部標準として、19F−NMRにて分析したところ、5−(トリフルオロメチル)−6−ウンデカノンの収率は35%であった。 A Schlenk tube was charged with 2 ml of tetrahydrofuran and 48 mg (0.2 mmol) of 6- (trimethylsiloxy) -5-undecene, cooled to 0 ° C., and 0.20 ml (0.20 mmol) of 1.0 mol / L methyllithium diethyl ether solution was added. Added and stirred for 30 minutes. Next, it is cooled to −78 ° C., 200 mg (1.0 mmol) of trifluoromethane iodide is added, then 0.2 ml (0.2 mmol) of 1 mol / L triethylborane / hexane solution is added in 15 seconds, and the reaction is performed. Started. After 20 hours, 0.12 ml of a 5 mol / l acetic acid tetrahydrofuran solution was added to stop the reaction. When the reaction solution was analyzed by 19 F-NMR using benzotrifluoride as an internal standard, the yield of 5- (trifluoromethyl) -6-undecanone was 35%.

シュレンク管にテトラヒドロフラン 1ml、6−(トリメチルシロキシ)−5−ウンデセン 48mg(0.2mmol)を入れ、0℃に冷却し、1.0mol/L メチルリチウム ジエチルエーテル溶液 0.20ml(0.20mmol)を添加し、30分攪拌した。次に、1.0mol/Lジエチル亜鉛ヘキサン溶液 0.20ml(0.20mmol)を添加し、30分攪拌した。次に−78℃に冷却し、ヨウ化トリフルオロメタン 400mg(2.0mmol)を添加し、次いで、1mol/L トリエチルボラン/ヘキサン溶液 0.2ml(0.2mmol)を添加し、空気0.5mlをシリンジで加え反応を開始させた。20時間後、5mol/l 酢酸 テトラヒドロフラン溶液 0.12mlを添加し反応を停止させた。反応液をベンゾトリフルオライドを内部標準として、19F−NMRにて分析したところ、5−(トリフルオロメチル)−6−ウンデカノンの収率は74%であった。 A Schlenk tube was charged with 1 ml of tetrahydrofuran and 48 mg (0.2 mmol) of 6- (trimethylsiloxy) -5-undecene, cooled to 0 ° C., and 0.20 ml (0.20 mmol) of a 1.0 mol / L methyllithium diethyl ether solution. Added and stirred for 30 minutes. Next, 0.20 ml (0.20 mmol) of a 1.0 mol / L diethyl zinc hexane solution was added and stirred for 30 minutes. Next, it is cooled to −78 ° C., 400 mg (2.0 mmol) of trifluoromethane iodide is added, then 0.2 ml (0.2 mmol) of 1 mol / L triethylborane / hexane solution is added, and 0.5 ml of air is added. The reaction was initiated with a syringe. After 20 hours, 0.12 ml of a 5 mol / l acetic acid tetrahydrofuran solution was added to stop the reaction. When the reaction solution was analyzed by 19 F-NMR using benzotrifluoride as an internal standard, the yield of 5- (trifluoromethyl) -6-undecanone was 74%.

シュレンク管にテトラヒドロフラン 1ml、6−(トリメチルシロキシ)−5−ウンデセン 48mg(0.2mmol)を入れ、0℃に冷却し、1.0mol/L メチルリチウム ジエチルエーテル溶液 0.20ml(0.20mmol)を添加し、30分攪拌した。次に、1.0mol/Lジエチル亜鉛ヘキサン溶液 0.20ml(0.20mmol)を加えて20分攪拌後、12−クラウン−4−エーテル 35mg(0.20mmol)を添加し、30分攪拌した。次に−78℃に冷却し、ヨウ化トリフルオロメタン 400mg(2.0mmol)を添加し、次いで、1mol/L トリエチルボラン/ヘキサン溶液 0.2ml(0.2mmol)を添加し、空気0.5mlをシリンジで加え反応を開始させた。20時間後、5mol/l 酢酸 テトラヒドロフラン溶液 0.12mlを添加し反応を停止させた。反応液をベンゾトリフルオライドを内部標準として、19F−NMRにて分析したところ、5−(トリフルオロメチル)−6−ウンデカノンの収率は86%であった。 A Schlenk tube was charged with 1 ml of tetrahydrofuran and 48 mg (0.2 mmol) of 6- (trimethylsiloxy) -5-undecene, cooled to 0 ° C., and 0.20 ml (0.20 mmol) of a 1.0 mol / L methyllithium diethyl ether solution. Added and stirred for 30 minutes. Next, 0.20 ml (0.20 mmol) of 1.0 mol / L diethyl zinc hexane solution was added and stirred for 20 minutes, 35 mg (0.20 mmol) of 12-crown-4-ether was added and stirred for 30 minutes. Next, it is cooled to −78 ° C., 400 mg (2.0 mmol) of trifluoromethane iodide is added, then 0.2 ml (0.2 mmol) of 1 mol / L triethylborane / hexane solution is added, and 0.5 ml of air is added. The reaction was initiated with a syringe. After 20 hours, 0.12 ml of a 5 mol / l acetic acid tetrahydrofuran solution was added to stop the reaction. When the reaction solution was analyzed by 19 F-NMR using benzotrifluoride as an internal standard, the yield of 5- (trifluoromethyl) -6-undecanone was 86%.

本発明により、工業的に入手可能なヨウ化トリフルオロメタンを用いて、高収率でα−トリフルオロメチルケトン化合物を製造することができる。α−トリフルオロメチルケトン化合物は、電子材料、医農薬原料として極めて有用である。   According to the present invention, an α-trifluoromethyl ketone compound can be produced in high yield using industrially available trifluoromethane iodide. The α-trifluoromethyl ketone compound is extremely useful as an electronic material and a raw material for medical and agricultural chemicals.

Claims (7)

一般式(3)
Figure 2007169271
(式中、R1は、置換ないし未置換の炭素数1〜20のアルキル基または置換ないし未置換の炭素数6〜20のアリール基を表し、R2及びR3は、それぞれ独立に、水素原子、置換ないし未置換の炭素数1〜20のアルキル基または置換ないし未置換の炭素数6〜20のアリール基を表す。R1〜R3は同一であっても非同一であってもよく、任意の2個がヘテロ原子の介在、非介在下に互いに結合し環状構造を形成していても良い。)
で表されるリチウムエノラート化合物を、ラジカル開始剤存在下、ヨウ化トリフルオロメタンと反応させることを特徴とする、一般式(4)
Figure 2007169271
(式中、R1〜R3は前記定義に同じ)
で表されるα−トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法。
General formula (3)
Figure 2007169271
(In the formula, R1 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and R2 and R3 each independently represents a hydrogen atom or a substituted group. Or an unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, R1 to R3 may be the same or non-identical, and any two May be bonded to each other with or without heteroatoms to form a cyclic structure.)
A lithium enolate compound represented by the formula (4) is reacted with iodotrifluoromethane in the presence of a radical initiator:
Figure 2007169271
(Wherein R1 to R3 are the same as defined above)
The manufacturing method of the alpha-trifluoromethyl ketone compound represented by these.
ラジカル開始剤がトリアルキルボラン化合物及び分子状酸素であることを特徴とする請求項1に記載のα−トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法。
The method for producing an α-trifluoromethyl ketone compound according to claim 1, wherein the radical initiator is a trialkylborane compound and molecular oxygen.
前記一般式(3)のリチウムエノラートが、一般式(1)
Figure 2007169271
(式中、R1〜R3は前記定義に同じ)
で表されるケトン化合物及び/または一般式(2)
Figure 2007169271
(式中、R1〜R3は、前記定義に同じ。R4〜R6は同一または非同一の炭素数1〜10のアルキル基を表す。)
で表されるシリルエノールエーテル化合物と、モル比で0.8〜1.2倍のリチウム化合物との反応によって得られるリチウムエノラートであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のα−トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法。
The lithium enolate of the general formula (3) is represented by the general formula (1)
Figure 2007169271
(Wherein R1 to R3 are the same as defined above)
And / or the general formula (2)
Figure 2007169271
(In the formula, R 1 to R 3 are the same as defined above. R 4 to R 6 represent the same or non-identical alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.)
The lithium enolate obtained by the reaction of the silyl enol ether compound represented by formula (II) and a lithium compound having a molar ratio of 0.8 to 1.2 times, α according to claim 1 or 2. -Manufacturing method of a trifluoromethyl ketone compound.
リチウム化合物がアルキルリチウム化合物及び/またはリチウムアミド化合物であることを特徴とする請求項3に記載のα−トリフルオロメチルケトンの製造方法。   The method for producing α-trifluoromethyl ketone according to claim 3, wherein the lithium compound is an alkyl lithium compound and / or a lithium amide compound. 亜鉛化合物を存在させて反応させることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のα−トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法。   The method for producing an α-trifluoromethyl ketone compound according to any one of claims 1 to 4, wherein the reaction is carried out in the presence of a zinc compound. 亜鉛化合物がジアルキル亜鉛であることを特徴とする請求項5に記載のα−トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法。   The method for producing an α-trifluoromethyl ketone compound according to claim 5, wherein the zinc compound is dialkylzinc. 亜鉛化合物に加え、更に環状エーテル化合物を存在させることを特徴とする請求項5または6に記載のα−トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法。   The method for producing an α-trifluoromethyl ketone compound according to claim 5 or 6, further comprising a cyclic ether compound in addition to the zinc compound.
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