JP2007193396A - Manufacturing method of antenna sheet for non-contact IC tag - Google Patents
Manufacturing method of antenna sheet for non-contact IC tag Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007193396A JP2007193396A JP2006008237A JP2006008237A JP2007193396A JP 2007193396 A JP2007193396 A JP 2007193396A JP 2006008237 A JP2006008237 A JP 2006008237A JP 2006008237 A JP2006008237 A JP 2006008237A JP 2007193396 A JP2007193396 A JP 2007193396A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- contact
- antenna
- chip
- base film
- tag
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】 アンテナシートの製造工程、特にアンテナに対してICチップを実装する段階でICチップが静電破壊を生じないような製法を提供する。
【解決手段】 本非接触ICタグ用アンテナシートの製法は、非接触ICタグのアンテナシートを製造する工程において、ベースフィルム11にウェットエッチング法によりアンテナパターンを形成した後に、静電防止剤をフィルムのアンテナパターン面に塗布し、その後に、アンテナパターンの端部にICチップを実装することを特徴とする。
静電防止剤塗布後のベースフィルム11の表面固有抵抗率が、106 Ω/□以上であって、1013Ω/□以下にすることが好ましい。
【選択図】 図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method in which an IC chip does not cause electrostatic breakdown in an antenna sheet manufacturing process, particularly at a stage of mounting an IC chip on an antenna.
The method of manufacturing an antenna sheet for a non-contact IC tag includes the step of manufacturing an antenna sheet for a non-contact IC tag, forming an antenna pattern on a base film 11 by a wet etching method, and then applying an antistatic agent to the film. The antenna pattern surface is applied, and then an IC chip is mounted on the end of the antenna pattern.
The surface resistivity of the base film 11 after application of the antistatic agent is preferably 10 6 Ω / □ or more and 10 13 Ω / □ or less.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、非接触ICタグ用アンテナシートの製法に関する。詳しくは、非接触ICタグのアンテナシートを製造する工程において、ベースフィルムにアンテナパターンを形成した後のICチップ実装直前に、静電防止剤をフィルムに塗布することにより、ICチップが静電破壊を受けずに安全に実装できる製法に関するものである。
従って、本発明の技術分野は非接触ICタグやアンテナシートの製造分野となる。
The present invention relates to a method of manufacturing an antenna sheet for a non-contact IC tag. Specifically, in the process of manufacturing an antenna sheet for a non-contact IC tag, an antistatic agent is applied to the film immediately before mounting the IC chip after the antenna pattern is formed on the base film. It is related to a manufacturing method that can be safely implemented without receiving any damage.
Therefore, the technical field of the present invention is the field of manufacturing non-contact IC tags and antenna sheets.
非接触ICタグは、情報を記録して保持し非接触で外部装置と交信して情報交換できるので、運送や物流等における認識媒体として、あるいは商品の品質管理、在庫管理等の各種目的に多用されるようになってきている。
このような非接触ICタグは、シートやフィルムにアンテナパターンを形成した後、当該アンテナパターンの両端部にICチップを実装する工程により製造されることが多い。 ところが、ICチップ実装時に、シートまたはフィルムが静電気により帯電していると、ICチップが静電気により破壊される問題がある。通常、ICチップのインターフェースには過電圧を防止する機構が設けられているが、1Kv以上の過電圧がかかった場合には、当該過電圧防止機構も破壊されてしまうことになる。
静電気の帯電は、ICチップ自体の破壊に限らず、連続状に供給されるシートまたはフィルムが帯電して、ローラに巻き付き生産設備の駆動が阻害されることや、塵埃が吸着して不良品を生じてしまうという問題も伴う。
Non-contact IC tags record and hold information and can exchange information by communicating with external devices in a non-contact manner, so they are widely used as a recognition medium in transportation and logistics, or for various purposes such as product quality control and inventory management. It has come to be.
Such non-contact IC tags are often manufactured by forming an antenna pattern on a sheet or film and then mounting an IC chip on both ends of the antenna pattern. However, when the IC chip is mounted, if the sheet or film is charged by static electricity, there is a problem that the IC chip is destroyed by static electricity. Normally, an IC chip interface is provided with a mechanism for preventing an overvoltage. However, when an overvoltage of 1 Kv or more is applied, the overvoltage prevention mechanism is also destroyed.
Static electricity charging is not limited to the destruction of the IC chip itself, but the sheet or film supplied in a continuous state is charged. There is also a problem that it occurs.
一般的な製造の場合、最初にシートまたはフィルムに静電防止剤を塗工してから加工することが行われるが、非接触ICタグの製造工程はウェットエッチングが行われるので、事前に塗工したシート等では、アンテナパターン形成後では、レジスト剥離剤等の酸、アルカリにより静電防止剤が流出してしまいその効果が失われる場合が多い。
また、シート等に静電防止剤を練り込みすることも考えられるが、練り込みシート等は静電防止剤が表面にブリードしてその効果が不安定となる問題がある。ブリードした静電防止剤が生産設備のローラ等に付着して後続の製品の品質を損なう問題もある。このような事情からシート製造メーカーは練り込み基材の生産を控えるようである。
そこで、本発明はICチップ実装直前の工程において、シート等に静電防止剤を塗工する工程を有する、非接触ICタグ用アンテナシートの製法を提案するものである。
In general production, the sheet or film is first coated with an antistatic agent and then processed, but the non-contact IC tag production process is wet etching. In such a sheet, after the antenna pattern is formed, the antistatic agent flows out due to an acid or alkali such as a resist remover and the effect is often lost.
In addition, it is conceivable to knead an antistatic agent into a sheet or the like, but the kneaded sheet or the like has a problem that the antistatic agent bleeds to the surface and the effect becomes unstable. There is also a problem that the antistatic agent that has bleed adheres to the rollers of the production facility and impairs the quality of subsequent products. Under such circumstances, sheet manufacturers seem to refrain from producing kneaded substrates.
Therefore, the present invention proposes a method for producing an antenna sheet for a non-contact IC tag, which includes a step of applying an antistatic agent to a sheet or the like immediately before the IC chip mounting.
上記のような非接触ICタグ用アンテナシートの製法に関する先行技術を検出することはできないが、帯電防止性フィルムの製造方法については、特許文献1〜特許文献3等がある。いずれも、帯電防止ポリエステルフィルムの製造法等に関するが、本願とは直接には関係しないものである。 Although the prior art regarding the manufacturing method of the antenna sheet for non-contact IC tags as described above cannot be detected, there are Patent Documents 1 to 3 and the like regarding the manufacturing method of the antistatic film. Both relate to a method for producing an antistatic polyester film, but are not directly related to the present application.
従来の非接触ICタグ用アンテナシートの製造法では、静電防止処理のされていないベースフィルムを使用するので、ICチップの実装時に静電気による障害を受けてICチップが破壊する問題が生じている。ICチップの破壊に至らない場合でも、加工機のローラに帯電したフィルムが巻き付き回転が停止したり、塵埃やゴミがフィルムに付着して製品価値を失わせる問題も生じている。一方、静電防止処理剤の塗工されたフィルムまたはシートでは、ICチップ実装前のウェットエッチングの工程時に、当該処理剤が流出して効果を喪失するので、やはり同じ問題が生じる。
そこで、本願は非接触ICタグ用アンテナシートの製造における、このような課題を解決すべく研究して本発明の完成に至ったものである。
In the conventional method of manufacturing an antenna sheet for a non-contact IC tag, a base film that has not been subjected to antistatic treatment is used, so that there is a problem that the IC chip is damaged due to a failure caused by static electricity when the IC chip is mounted. . Even when the IC chip is not destroyed, there is a problem that the film charged on the roller of the processing machine is wound and the rotation stops, or dust or dust adheres to the film and the product value is lost. On the other hand, in the film or sheet coated with the antistatic treatment agent, the treatment agent flows out and loses its effect during the wet etching process before mounting the IC chip.
Therefore, the present application has been completed to complete the present invention by studying to solve such problems in the manufacture of antenna sheets for non-contact IC tags.
上記課題を解決する本発明の要旨は、非接触ICタグのアンテナシートを製造する工程において、ベースフィルムにエッチング法によりアンテナパターンを形成した後に、静電防止剤をベースフィルム面に塗布し、その後に、アンテナパターンの端部にICチップを実装することを特徴とする非接触ICタグ用アンテナシートの製法、にある。 The gist of the present invention for solving the above problems is that, in the process of manufacturing an antenna sheet for a non-contact IC tag, an antenna pattern is formed on the base film by an etching method, and then an antistatic agent is applied to the base film surface. And a method of manufacturing an antenna sheet for a non-contact IC tag, wherein an IC chip is mounted on an end portion of the antenna pattern.
上記において、静電防止剤塗布後のベースフィルムの表面抵抗率は、106 Ω/□以上であって、1013Ω/□以下であることが、静電破壊も生じず短絡も生じず、非接触ICタグ用アンテナシートとして好ましい値となる。また、静電防止剤の塗布はディッピング方式またはスプレー方式で行うことができ、静電防止剤の塗布液を水溶液とすれば、環境性にも優れ効率よく塗布することができる。 In the above, the surface resistivity of the base film after application of the antistatic agent is 10 6 Ω / □ or more and 10 13 Ω / □ or less, neither electrostatic breakdown nor short circuit occurs, This is a preferable value as an antenna sheet for a non-contact IC tag. The antistatic agent can be applied by a dipping method or a spray method, and if the antistatic agent coating solution is an aqueous solution, it can be efficiently applied with excellent environmental performance.
本発明の非接触ICタグ用アンテナシートの製法では、ベースフィルムにウェットエッチング法によりアンテナパターンを形成した後に、静電防止剤をフィルムのアンテナパターン面に塗布するので、ICチップ実装時にベースフィルムが帯電していることがなく、ICチップが静電破壊を受けることがない。
また、その後の積層加工においても、ベースフィルムの帯電を防止できるので、シートやフィルムの帯電によるローラ巻き込み停止や、非接触ICタグに対するごみや塵埃の付着を防止できる利点も生じる。
In the method for manufacturing an antenna sheet for a non-contact IC tag according to the present invention, an anti-static agent is applied to the antenna pattern surface of the film after the antenna pattern is formed on the base film by a wet etching method. The IC chip is not charged and the IC chip is not subject to electrostatic breakdown.
In addition, since the base film can be prevented from being charged in the subsequent laminating process, there are also advantages that it is possible to prevent the roller from being caught by charging the sheet or film, and to prevent dust and dust from adhering to the non-contact IC tag.
本発明の非接触ICタグ用アンテナシートの製法に関する。
非接触ICタグには各種の形態があるが、一般的には、ベースフィルムにアンテナパターンを形成し、当該アンテナパターンにICチップを実装し、そのアンテナシートのアンテナパターン面やICチップを保護する表面保護シートで被覆した形態のものが通常である。このベースフィルムにアンテナパターンを形成しICチップを実装した状態のシートをアンテナシート(またはインレットベース)と一般にいう。
このアンテナパターンは、導電性インキにより印刷したり、細線の捲線をコイル状に巻き付けして使用する場合もあるが、ベースフィルムにラミネートした金属箔をウェット方式のエッチングで形成する方式が効率的であり、精度の高いアンテナが得られることから広く採用されている。本発明も当該方法に関するものである。
The present invention relates to a method for producing an antenna sheet for a non-contact IC tag according to the present invention.
There are various types of contactless IC tags, but in general, an antenna pattern is formed on a base film, an IC chip is mounted on the antenna pattern, and the antenna pattern surface of the antenna sheet and the IC chip are protected. Usually, the surface is coated with a surface protective sheet. A sheet in which an antenna pattern is formed on the base film and an IC chip is mounted is generally referred to as an antenna sheet (or inlet base).
This antenna pattern may be used by printing with conductive ink or by winding a thin wire in a coil shape, but a method of forming a metal foil laminated on a base film by wet etching is efficient. In addition, it is widely used because an antenna with high accuracy can be obtained. The present invention also relates to the method.
はじめに非接触ICタグの形態について説明する。非接触ICタグ1の平面形態は、図3のように、ベースフヘルム11にコイル状のアンテナパターン2を形成し、アンテナパターンの両端部2a,2bにICチップ3を装着している。
図3のものは透明なベースフィルム11にラミネートされた金属箔をエッチングして、アンテナパターン2を形成したもので、被着体に貼着する面側から見た図である。アンテナパターン2の一端はベースフィルム11の背面を導通部材17にかしめ具等を用いて接続し、ICチップ3に接続する端部2aに通じるようにしている。ICチップ3は、アンテナパターン2の両端部2a,2bに異方導電性接着剤等によりそのパッドが接続するようにされている。
First, the form of the non-contact IC tag will be described. As shown in FIG. 3, the non-contact IC tag 1 has a planar form in which a coiled
The thing of FIG. 3 is the figure seen from the surface side which adheres to a to-be-adhered body by etching the metal foil laminated on the
非接触ICタグ1の断面は、図4のように、ベースフィルム11のアンテナパターン2面に、接着剤層5を介して表面保護シート4を積層し、ベースフィルム11のアンテナパターン2とは反対側面には、粘着剤層7を有し、当該粘着剤層7は剥離紙8により保護された形態が一般的である。ただし、非接触ICタグは物品に貼着して使用しない場合もあり、その場合には粘着剤層7と剥離紙8を持たない形態となる。
As shown in FIG. 4, the cross section of the non-contact IC tag 1 is obtained by laminating the surface protection sheet 4 on the surface of the
非接触ICタグの製造工程について、以下図面を参照して説明する。
図1は、エッチング工程を示す図、図2は、静電防止剤の塗布工程を示す図、である。
The manufacturing process of the non-contact IC tag will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a diagram showing an etching process, and FIG. 2 is a diagram showing an antistatic agent coating process.
図1は、エッチング工程を示す図であり、図1(A)は、アルミニウム箔付きベースフィルムにエッチング用レジストを形成した後の状態、図1(B)は、エッチング後の状態を示している。いずれも連続状のベースフィルムを用いる場合を示している。
図1(A)のように、ベースフィルム11にアルミニウム箔11aをラミネートした基材を準備し、これに、エッチング用レジスト10を印刷して乾燥した後、塩化鉄等のエッチング液でレジスト10から露出したアルミ箔部分をエッチングする。
FIG. 1 is a diagram showing an etching process, FIG. 1 (A) shows a state after an etching resist is formed on a base film with an aluminum foil, and FIG. 1 (B) shows a state after etching. . In either case, a continuous base film is used.
As shown in FIG. 1 (A), a base material obtained by laminating an
アンテナに用いられる金属箔はアルミ箔に限らず、銅箔等も用いられる。厚みは、20μmから35μm程度のものを使用することが多い。
なお、レジストはフォトレジストを使用してもよいが、印刷方式の場合はフォトマスクを使用しないことと、レジスト塗布や露光等の工程の簡略を図れる利点がある。また、エッチング後のレジストは剥離除去しないで、耐蝕膜としてそのまま残す場合もある。
エッチング後、レジストを剥離除去し洗浄すれば、図1(B)のように、ベースフィルム11にアンテナパターン2が形成されて残る。このアンテナパターン2の端部2a,2bにICチップ3を装着する際に、静電障害が生じる。
The metal foil used for the antenna is not limited to aluminum foil, and copper foil or the like is also used. A thickness of about 20 μm to 35 μm is often used.
Note that a photoresist may be used as the resist. However, in the case of a printing method, there are advantages that a photomask is not used and steps such as resist coating and exposure can be simplified. In addition, the resist after etching may be left as it is as a corrosion-resistant film without being removed.
After the etching, if the resist is removed and washed, the
図2は、静電防止剤の塗布工程を示す図であり、本発明の特徴とするところである。
図2(A)は、ディッピング方式であり、アンテナパターン2形成後の連続状ベースフィルム11を塗布槽12の静電防止剤の希釈液6中に浸漬し、ディッピング塗布する方式である。塗布方法は、ディッピング方式に限らず、ローラまたはグラビア塗工方式(図2(B))やスプレー方式(図2(C))であってもよい。
グラビア塗工方式の場合は、グラビアロール13とバックアップロール15を使用し、ドクタナイフ14で余分の塗布希釈液6を掻き落しながらベースフィルム11に静電防止剤を塗布する。スプレー方式には、エアースプレーとエアレススプレーと静電方式とがある。エアースプレーは霧吹きの原理を利用するもので、スプレーガン16から圧搾空気と共に希釈液6を霧状にベースフィルム11に吹き付けする。エアーレススプレーは、エアーを使わず希釈液6の液剤自体に圧力をかけて小さなノズルから微粒子にして吐き出させる液化霧化方式であり、いずれであってもよい。
FIG. 2 is a diagram showing an antistatic agent coating process, which is a feature of the present invention.
FIG. 2A shows a dipping method in which the
In the case of the gravure coating method, the
塗布面はベースフィルム11の両面であっても、アンテナパターン2面側のみの片面であってもよい。裏面であっても帯電防止効果を生じるが、一定の表面抵抗率とするためにはアンテナパターン2面側が好ましい。ディッピングする場合は当然に両面塗布となるが、ローラ塗布またはグラビア塗布のように、片面のみが塗布される塗布方式が他方側面に塗布剤の影響を残さないことから好ましい場合もある。
塗布後は、エアーの吹き付けにより乾燥してベースフィルム11を一旦巻取りするか、インラインで次工程のICチップ実装を行う。
The application surface may be both surfaces of the
After coating, the
次いで、ICチップの実装をおこなう。ICチップ3はアンテナパターン2のコイルの両端部2a,2bに実装する。所定位置に停止したアンテナパターン2の両端部2a,2bに、1個毎のICチップ3をピッキング機械により掴んで位置決めして固定する。
コイルの両端部2a,2bには異方性導電接着シートを予めラミネートしておくか、ICチップのバンプ側に当該接着シートをラミネートしておく。あるいは、異方性導電接着剤を使用してもよい。ICチップ3を位置決めして固定した後、ICチップ3のバンプが両端部2a,2bに接触する程度に、治具を用いて加熱押圧して電気的な接続を行う。
バンプは先端を鋭利にして両端部2a,2bに食い込むようにする場合もある。バンプが完全に接触しない場合でも異方性導電材料を使用するため、電気的な接続がされる。
以上のような、ICチップ3の装着工程については、特開2001−143036号公報等にも詳細に記載されている。
コイルの一端を導通部材17を介して基材の背面から端部2aに接続する加工も同時に行われる。以上の工程により、アンテナシートが完成する。
Next, an IC chip is mounted. The IC chip 3 is mounted on both
An anisotropic conductive adhesive sheet is laminated in advance on both
In some cases, the bumps are sharpened and bite into both
The mounting process of the IC chip 3 as described above is also described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-143036.
The process of connecting one end of the coil to the
次に、ベースフィルム11のアンテナパターン2面に表面保護シート4のラミネートを行う。アンテナやICチップを保護する目的であるが、表面に表示印刷を付することも同時に行われる。ICタグをラベル形態にする場合は、ベースフィルム11の背面側に粘着剤層7と剥離紙8を設ける加工を行う。完成したラベル状非接触ICタグは、前記図4の平面図と図5の断面図の形態となる。
Next, the surface protective sheet 4 is laminated on the surface of the
静電防止剤を塗布し乾燥した後において、プラスチックフィルムの表面抵抗率は、23°C、50%RH(相対湿度)下において、106 Ω/□以上であって、1013Ω/□以下になるようにすることが好ましい。1013Ω/□を超える値では、静電気拡散効果が極端に低下し帯電し易く、ICチップの破壊が生じることがある。また、106 Ω/□未満になるとアンテナ線間に短絡が生じ、アンテナ特性が低下するからである。
一般的にプラスチックとして、PETフィルムが採用されるが、所定の塗布条件により上記抵抗率を達成できる。他のフィルムであっても同様と考えられる。
After the antistatic agent is applied and dried, the surface resistivity of the plastic film is 10 6 Ω / □ or more and 10 13 Ω / □ or less at 23 ° C. and 50% RH (relative humidity). It is preferable that If the value exceeds 10 13 Ω / □, the static electricity diffusion effect is extremely reduced and the film is easily charged, and the IC chip may be destroyed. Further, if it is less than 10 6 Ω / □, a short circuit occurs between the antenna wires, and the antenna characteristics deteriorate.
Generally, a PET film is used as the plastic, but the above-described resistivity can be achieved under predetermined coating conditions. The same applies to other films.
また、導電パターン面(アンテナ面)に塗布した場合であって、アルミニウムの表面抵抗率は、23°C、50%RH下において、2mΩ/□以上であって4mΩ/□以下であることが好ましい。4mΩ/□を超える値では、ICチップ3のパッド間との抵抗率が大きくなり過ぎるからである。なお、2mΩ/□未満は通常実現できない。
なお、上記の表面抵抗率はJIS K−6911に準拠して測定することができる。
Also, when applied to the conductive pattern surface (antenna surface), the surface resistivity of aluminum is preferably 2 mΩ / □ or more and 4 mΩ / □ or less at 23 ° C. and 50% RH. . This is because when the value exceeds 4 mΩ / □, the resistivity between the pads of the IC chip 3 becomes too large. In addition, less than 2 mΩ / □ cannot usually be realized.
The surface resistivity can be measured according to JIS K-6911.
他の試験方法として、ベースフィルム11に電荷をチャージして飽和させ、飽和電荷が半分の値にまで減衰する時間を測定する方法がある。この場合は半減期が1時間以内となるのが好ましい。半減期が短いほど静電気の拡散が早いことになる。帯電量は電荷の発生量と減衰量の差であるので、帯電による障害をなくす方法としては、電荷の発生を抑える方法と電荷の減衰を促進する方法があり、静電防止剤による処理は後者に属する。
電荷減衰時間の測定は、23±5°C、12±3%RH下における減衰時間を、MIL−B−81705Cに準拠して、ETS社製のStatic Decay Meter−40C等により測定することができる。
As another test method, there is a method of charging the
The charge decay time can be measured with a Static Decay Meter-40C manufactured by ETS in accordance with MIL-B-81705C, and the decay time under 23 ± 5 ° C. and 12 ± 3% RH. .
使用する静電防止剤としては、アニオン系、カチオン系、非イオン系、両性系のいずれかの界面活性剤、脂肪酸誘導体、4官能基性珪素部分加水分解物を挙げることができる。これらの大多数は水溶性である。
上記のアニオン系界面活性剤としては、硫酸化油、石鹸、硫酸化エステル油、硫酸化アミド油、オレフィンの硫酸エステル塩類、脂肪アルコール硫酸エステル塩、アルキル硫酸エステル塩、脂肪酸エチルスルフォン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、ナフタレンスルフォン酸とホルマリンとの混合物、コハク酸エステルスルフォン酸塩、燐酸エステル塩等を挙げることができる。
Examples of the antistatic agent used include anionic, cationic, nonionic, and amphoteric surfactants, fatty acid derivatives, and tetrafunctional silicon partial hydrolysates. The majority of these are water soluble.
The anionic surfactants include sulfated oils, soaps, sulfated ester oils, sulfated amide oils, olefinic sulfate salts, fatty alcohol sulfate esters, alkyl sulfate esters, fatty acid ethyl sulfonates, alkyls. Examples thereof include sulfonic acid salts, alkylbenzene sulfonic acid salts, mixtures of naphthalene sulfonic acid and formalin, succinic acid ester sulfonic acid salts, and phosphoric acid ester salts.
また、カチオン系界面活性剤としては、第1級アミン塩、第3級アミン塩、第4級アンモニウム化合物、ピリジン誘導体等を挙げることができる。
また、非イオン系界面活性剤としては、多価アルコールの部分的脂肪酸エステル、脂肪アルコールのエチレンオキサイド付加物、脂肪酸のエチレンオキサイド付加物、脂肪アミノまたは脂肪酸アミドのエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールのエチレンオキサイド付加物、アルキルナフトールのエチレンオキサイド付加物、多価アルコールの部分的脂肪酸エステルのエチレンオキサイド付加物等を挙げることができる。
さらに、両性界面活性剤としては、カルボン酸誘導体、イミダゾリン誘導体等を挙げることができる。
Examples of the cationic surfactant include a primary amine salt, a tertiary amine salt, a quaternary ammonium compound, and a pyridine derivative.
Nonionic surfactants include partial fatty acid esters of polyhydric alcohols, fatty acid ethylene oxide adducts, fatty acid ethylene oxide adducts, fatty amino or fatty acid amide ethylene oxide adducts, and alkylphenol ethylene oxides. Examples include adducts, ethylene oxide adducts of alkyl naphthols, ethylene oxide adducts of partial fatty acid esters of polyhydric alcohols, and the like.
Furthermore, examples of amphoteric surfactants include carboxylic acid derivatives and imidazoline derivatives.
静電防止剤として市販されているものではないが、洗濯物の柔軟仕上げ剤として市販されているものには、カチオン系活性剤が含まれるものもある。このような柔軟仕上げ剤、あるいは柔軟仕上げ剤を含む洗剤やスプレー剤が、本発明の静電防止剤として効果を奏する場合もある。 Although not commercially available as antistatic agents, some that are marketed as softeners for laundry include cationic active agents. Such a soft finish or a detergent or spray containing the soft finish may be effective as the antistatic agent of the present invention.
<その他の材料について>
(1)ベースフィルム
プラスチックフィルムを幅広く各種のものを使用でき、以下に挙げる単独フィルムあるいはそれらの複合フィルムを使用できる。
ポリエチレンテレフタレート(PET)、PET−G(テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体)、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ポリスチレン系、ABS、ポリアクリル酸エステル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリウレタン、等である。
<Other materials>
(1) Base film A wide variety of plastic films can be used, and the following single films or composite films thereof can be used.
Polyethylene terephthalate (PET), PET-G (terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer), polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polycarbonate, polyamide, polyimide, cellulose diacetate, cellulose triacetate, Polystyrene, ABS, polyacrylate, polypropylene, polyethylene, polyurethane, and the like.
(2)表面保護シート
プラスチックフィルムや紙基材を幅広く各種のものを使用できる。プラスチックフィルムとしては、上記に挙げたものを使用でき、紙基材としては、以下のもの等を使用できる。表面にプリンター印字をする場合は、上質紙、コート紙等の紙基材が特に好ましい。
上質紙、コート紙、クラフト紙、グラシン紙、合成紙、ラテックスやメラミン含浸紙。
(2) Surface protection sheet A wide variety of plastic films and paper substrates can be used. As the plastic film, those listed above can be used, and as the paper substrate, the following can be used. When performing printer printing on the surface, paper substrates such as fine paper and coated paper are particularly preferable.
Fine paper, coated paper, kraft paper, glassine paper, synthetic paper, latex and melamine impregnated paper.
以下、実際の実施形態について実施例を用いて説明する。
ベースフィルム11として、厚み38μmの透明2軸延伸PETフィルムに25μm厚のアルミニウム箔をドライラミネートしたウェブ状基材を使用し、これに印刷レジストをアンテナパターン状にスクリーン印刷した(図1参照)。
次いで、アルミ露出部を塩化鉄溶液によりフォトエッチングして、図4のようなアンテナパターン2を有するベースフィルムフィルム11が完成した。なお、アンテナパターン2は外形が、ほぼ45mm×76mmの大きさとなるようにした。
Hereinafter, actual embodiments will be described using examples.
As the
Next, the exposed aluminum part was photo-etched with an iron chloride solution to complete the
このベースフィルム11を静電防止剤の水溶液に浸漬してディッピング方式により塗布した。静電防止剤には米国ACL社製の「スタティサイトRE」を使用した。該静電防止剤の市販品は、2.0%の水溶液であるが、これをさらに10倍に希釈して使用した。
ベースフィルム11を塗布液槽12を通した後、エアーの吹き付けにより乾燥し一旦巻取りした。その後、ベースフィルム11のアンテナパターン2の両端部2a,2bに平面サイズが1.0mm角、厚み150μmであるICチップ3の実装を連続して行った。
実装時にICチップ3とベースフィルム間、あるいはアンテナ間で、静電気障害(スパーク)が発生することはなく、その後の加工適性も良好でローラ巻き付きや塵埃付着等の現象もなかった。
The
After passing the
There was no electrostatic failure (spark) between the IC chip 3 and the base film or between the antennas during mounting, and the subsequent processability was good, and there were no phenomena such as roller winding and dust adhesion.
なお、静電防止剤を塗布・乾燥後のPETフィルム表面の表面抵抗率を23°C、50%RH下において、抵抗率計(三菱化学株式会社製「MCP−HT260」)で測定した結果は、1010Ω/□から1012Ω/□の範囲であった。また、アンテナのアルミ面の表面抵抗率は、2mΩ/□から4mΩ/□の範囲であった。 The surface resistivity of the PET film surface after applying and drying the antistatic agent was measured with a resistivity meter (“MCP-HT260” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) at 23 ° C. and 50% RH. The range was from 10 10 Ω / □ to 10 12 Ω / □. The surface resistivity of the aluminum surface of the antenna was in the range of 2 mΩ / □ to 4 mΩ / □.
1 非接触ICタグ
2 アンテナパターン
3 ICチップ
4 表面保護シート
5 接着剤層
6 静電防止剤希釈液
7 粘着剤層
8 剥離紙
10 レジスト
11 ベースフィルム
12 液槽
17 導通部材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (4)
The method for producing an antenna sheet for a non-contact IC tag according to claim 1 or 2, wherein the coating solution of the antistatic agent is an aqueous solution.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006008237A JP2007193396A (en) | 2006-01-17 | 2006-01-17 | Manufacturing method of antenna sheet for non-contact IC tag |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006008237A JP2007193396A (en) | 2006-01-17 | 2006-01-17 | Manufacturing method of antenna sheet for non-contact IC tag |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007193396A true JP2007193396A (en) | 2007-08-02 |
Family
ID=38449079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006008237A Pending JP2007193396A (en) | 2006-01-17 | 2006-01-17 | Manufacturing method of antenna sheet for non-contact IC tag |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2007193396A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010097601A (en) * | 2008-09-18 | 2010-04-30 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Semiconductor device |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0493247A (en) * | 1990-08-10 | 1992-03-26 | Teijin Ltd | Antistatic film |
| JPH0725187A (en) * | 1993-07-12 | 1995-01-27 | Teijin Ltd | Film for ic card |
| JP2001060257A (en) * | 1999-08-24 | 2001-03-06 | Teijin Ltd | Laminated film for ic card |
| JP2003288560A (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-10 | Toppan Forms Co Ltd | Interposer and inlet sheet having antistatic function |
-
2006
- 2006-01-17 JP JP2006008237A patent/JP2007193396A/en active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0493247A (en) * | 1990-08-10 | 1992-03-26 | Teijin Ltd | Antistatic film |
| JPH0725187A (en) * | 1993-07-12 | 1995-01-27 | Teijin Ltd | Film for ic card |
| JP2001060257A (en) * | 1999-08-24 | 2001-03-06 | Teijin Ltd | Laminated film for ic card |
| JP2003288560A (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-10 | Toppan Forms Co Ltd | Interposer and inlet sheet having antistatic function |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010097601A (en) * | 2008-09-18 | 2010-04-30 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Semiconductor device |
| US9177978B2 (en) | 2008-09-18 | 2015-11-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US10020296B2 (en) | 2008-09-18 | 2018-07-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| US11127732B2 (en) | 2008-09-18 | 2021-09-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6087810B2 (en) | Enhanced adhesion of flexible circuit cover film | |
| JP2007279782A (en) | Non-contact IC tag having IC chip destruction prevention structure, non-contact IC tag connecting body, and manufacturing method of non-contact IC tag connecting body | |
| CN106536439A (en) | Method of strengthening an edge of a glass substrate | |
| JP2007193396A (en) | Manufacturing method of antenna sheet for non-contact IC tag | |
| JP4831312B2 (en) | Non-contact IC tag manufacturing method | |
| CN107731749B (en) | Packaging film, preparation method thereof and OLED display device | |
| US20070295448A1 (en) | System for forming leaf laminates | |
| JPH09142569A (en) | Carrier tape and manufacturing method thereof | |
| JP4657138B2 (en) | Conductive material for packaging electronic parts and packaging container for electronic parts | |
| JP4088769B2 (en) | Manufacturing method of cover tape for packaging electronic parts | |
| JP4775799B2 (en) | Method for producing sheet for metal thin film transfer material | |
| CN222064413U (en) | Adhesive tape | |
| JP2604899B2 (en) | Method of manufacturing film for processing semiconductor wafer | |
| JP2007217091A (en) | Surface treatment apparatus and surface treatment method | |
| CN222064414U (en) | Adhesive tape | |
| CN210736649U (en) | Release film | |
| CN219658280U (en) | Anti-static mark printing label | |
| JP4520439B2 (en) | Conductive material for packaging electronic parts | |
| JP4736555B2 (en) | Information recording medium | |
| US20090246437A1 (en) | Laminate Sheet and Manufacturing Method Thereof | |
| JP7547734B2 (en) | Cover tape for packaging electronic components and electronic component package | |
| JP2002060530A (en) | Saponified film, method for producing the same, and apparatus for producing the same | |
| JP2010058040A (en) | Cleaning film and cleaning method using the same | |
| KR200179250Y1 (en) | Antistatic Labels for Semiconductor Marking | |
| KR200388792Y1 (en) | Two layered antistatic adhesive tape |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090105 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110810 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110824 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20111220 |