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JP2007240263A - Semiconductor integrated circuit and operation test method - Google Patents

Semiconductor integrated circuit and operation test method Download PDF

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JP2007240263A
JP2007240263A JP2006061490A JP2006061490A JP2007240263A JP 2007240263 A JP2007240263 A JP 2007240263A JP 2006061490 A JP2006061490 A JP 2006061490A JP 2006061490 A JP2006061490 A JP 2006061490A JP 2007240263 A JP2007240263 A JP 2007240263A
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input
temperature
semiconductor substrate
heat generating
circuit
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JP2006061490A
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Japanese (ja)
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Shunsuke Toyoshima
俊輔 豊嶋
Akinobu Watanabe
彰信 渡邊
Yuichi Tsukada
祐一 塚田
Kazuo Tanaka
一雄 田中
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Renesas Technology Corp
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Renesas Technology Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately perform an operation test even when operation guarantee temperature is set to be high. <P>SOLUTION: A microcomputer 1 comprises a semiconductor substrate 2, input/output circuits 4 and 4A-E, a plurality of heat generating circuits 5A-5D, pads 3A-3C for inputting a control signal S1 for controlling the heat generating circuits, a temperature sensor 7, pads 3D and 3E for outputting a detected signal S3 by a temperature sensor to the outside, a decoder 6, and the like. The input/output circuits are connected with the pads arranged at predetermined intervals on a semiconductor substrate, and have an input/output buffer or the like. The heat generating circuits are arranged near the input/output circuits. The temperature sensor is a pn junction silicon diode. The decoder decodes the control signal generated by a control circuit disposed in a tool for evaluation based on the detected signal by the temperature sensor, and selects a heat generating circuit to be operated according to a decoding result every block. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、発熱回路を備えた半導体集積回路及び動作試験方法に関し、例えば自動車等のエンジンルームに搭載されるマイクロコンピュータ及びそれの動作試験に適用して有効な技術に関する。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit provided with a heat generating circuit and an operation test method, for example, a microcomputer mounted in an engine room of an automobile or the like, and a technique effective when applied to an operation test thereof.

例えばエンジンルームに搭載されるマイクロコンピュータに対しては、信頼性を保証するために、規格又はそれよりも厳しい動作条件の下で一定時間の動作試験が行われる。従来の動作試験は、評価用治具に保持されたマイクロコンピュータを炉体内に収容し、炉体内を動作保証温度とされる125℃の高温とし、その高温下で数十時間行われていた。評価用治具は、マイクロコンピュータを単に保持するだけでなく、動作試験中にマイクロコンピュータに所定の入力データを出力し、この入力データに対してマイクロコンピュータが正しい出力データを出力したか否かを判定する機能を有しており、例えば125℃までの耐熱性を有する測定系の各部品等を備えている。この動作試験において、正しい出力データが出力されなかった場合には、そのマイクロコンピュータは、欠陥を潜在的に含むデバイスとして不良品とされる。   For example, a microcomputer mounted in an engine room is subjected to an operation test for a certain period of time under operating conditions that are more stringent than the standard or the like in order to guarantee reliability. The conventional operation test has been carried out for several tens of hours at a high temperature of 125 ° C. in which the microcomputer held in the evaluation jig is housed in the furnace body and the furnace body is set to an operation guarantee temperature. The evaluation jig not only holds the microcomputer but also outputs predetermined input data to the microcomputer during the operation test, and whether or not the microcomputer outputs correct output data for this input data. It has a determination function, and includes, for example, each component of the measurement system having heat resistance up to 125 ° C. If correct output data is not output in this operation test, the microcomputer is regarded as a defective product as a device that potentially includes a defect.

近年、上記マイクロコンピュータに対する動作保証温度が高くされ、例えば125℃から160℃に変更された。これにより、動作試験では、マイクロコンピュータの耐熱性だけでなく、評価用治具の測定系の各部品における耐熱性も要求されてしまう。しかしながら、測定系の各部品は、現状では160℃までの耐熱性を有していない場合もある。このため、動作試験の一例として、マイクロコンピュータの温度を実際に160℃まで上昇させることなく、評価可能な範囲、例えば125℃での評価結果に基づいて、要求された動作保証温度である160℃での結果を予測し、その予測値を評価結果とするものがある。これでは、評価結果と実使用時での結果が一致しない可能性が高く、高温下で不具合が生じる場合がある。   In recent years, the operation guarantee temperature for the microcomputer has been increased and changed from 125 ° C. to 160 ° C., for example. As a result, in the operation test, not only the heat resistance of the microcomputer but also the heat resistance of each component of the measurement system of the evaluation jig is required. However, each component of the measurement system may not have heat resistance up to 160 ° C. at present. For this reason, as an example of the operation test, the required operation guarantee temperature is 160 ° C. based on the evaluation result in an evaluable range, for example, 125 ° C., without actually raising the temperature of the microcomputer to 160 ° C. There is a method that predicts the result of and uses the predicted value as the evaluation result. In this case, there is a high possibility that the evaluation result and the result at the time of actual use do not coincide with each other, and a defect may occur at a high temperature.

これに対して、マイクロコンピュータに発熱回路を設け、マイクロコンピュータ自体を動作保証温度まで上昇させる半導体集積回路が知られている。特許文献1には、発熱手段を内蔵する被試験対象としての半導体デバイスが開示されている。この発熱手段は、テスタから入力される制御信号パターンに応じて、半導体素子等の自己発熱素子が発熱するように構成されている。特許文献2には、半導体基板上に構成された温度センサ部を有する温度検知回路が開示されており、温度センサ部の近傍には、埋め込み領域を用いて形成されたヒータ等の発熱体が内蔵されている。   On the other hand, a semiconductor integrated circuit is known in which a microcomputer is provided with a heat generating circuit to raise the microcomputer itself to an operation guarantee temperature. Patent Document 1 discloses a semiconductor device as an object to be tested that includes a heat generating means. The heat generating means is configured such that a self-heating element such as a semiconductor element generates heat in accordance with a control signal pattern input from a tester. Patent Document 2 discloses a temperature detection circuit having a temperature sensor unit configured on a semiconductor substrate, and a heating element such as a heater formed using an embedded region is built in the vicinity of the temperature sensor unit. Has been.

特開2001−091570号公報JP 2001-091570 A 特開平10−325761号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-325761

本発明者は、動作保証温度が例えば160℃となり、既存の評価用治具の各部品の耐熱性を上回った場合であっても、各部品を破損させることなく、マイクロコンピュータを実際に動作保証温度まで上昇させ、動作試験を精度よく行う手段について検討した。特許文献1の半導体デバイスでは、半導体デバイスの表面温度が、予め設定した設定温度となるように制御できると記載されている。しかしながら、半導体デバイスに内蔵された自己発熱素子については、その半導体基板上での位置、数共に開示されていない。このため、自己発熱素子を半導体基板上に配置するためにレイアウト設計を大幅に変更しなければならない可能性もある。さらに、半導体デバイスの表面温度が均一に設定温度になる保証はなく、温度センサで検出された半導体基板上の一部だけが設定温度となり、他の箇所では設定温度よりも高い又は低い可能性もあり、高精度で動作試験を行うことは困難である。   The inventor has actually guaranteed the operation of the microcomputer without damaging each component even when the guaranteed operation temperature is, for example, 160 ° C. and exceeds the heat resistance of each component of the existing evaluation jig. We investigated the means to raise the temperature to perform the operation test with high accuracy. In the semiconductor device of Patent Document 1, it is described that the surface temperature of the semiconductor device can be controlled to be a preset temperature. However, the position and number of self-heating elements built in the semiconductor device on the semiconductor substrate are not disclosed. For this reason, the layout design may have to be significantly changed in order to arrange the self-heating elements on the semiconductor substrate. Furthermore, there is no guarantee that the surface temperature of the semiconductor device will be uniformly set temperature, only the part on the semiconductor substrate detected by the temperature sensor will be the set temperature, and it may be higher or lower than the set temperature in other places It is difficult to perform an operation test with high accuracy.

一方、特許文献2の温度検知回路では、テスト時には、ヒータに通電して加熱することによって、温度センサ部周辺のみを加熱できるから、温度検知回路のテストを簡単に行うことができる。しかしながら、動作試験では、温度センサ部周辺だけでなく、半導体基板の周辺部等、半導体基板の全体を動作保証温度まで上昇させなくてはならない。要するに、特許文献2の温度検知回路では、埋め込み領域を用いてヒータを形成するから、半導体基板の全体を略均一に動作保証温度とすることが困難となってしまう。   On the other hand, in the temperature detection circuit of Patent Document 2, it is possible to easily test the temperature detection circuit because only the periphery of the temperature sensor unit can be heated by energizing and heating the heater during the test. However, in the operation test, not only the periphery of the temperature sensor unit but also the entire semiconductor substrate, such as the peripheral part of the semiconductor substrate, must be raised to the guaranteed operating temperature. In short, in the temperature detection circuit of Patent Document 2, since the heater is formed using the embedded region, it becomes difficult to make the entire semiconductor substrate have an operation guarantee temperature substantially uniformly.

本発明の目的は、動作保証温度が高く設定されている場合でも、動作試験を精度よく行うことができる半導体集積回路及び動作試験方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit and an operation test method capable of accurately performing an operation test even when the operation guarantee temperature is set high.

本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。   The following is a brief description of an outline of typical inventions disclosed in the present application.

〔1〕本発明に係る半導体集積回路は、入出力回路(4,4A〜4E)と、複数の発熱回路(5A〜5D)と、第1外部端子(3A〜3C)と、温度センサ(7)と、第2外部端子(3D,3E)と、を備える。入出力回路は、半導体基板(2)に複数配置される。複数の発熱回路は、前記入出力回路の近傍、又は前記入出力回路内に配置される。第1外部端子は、前記発熱回路を制御する制御信号(S1)を入力する。温度センサは、温度を検出する。第2外部端子は、前記温度センサによる検出信号(S3)を外部に出力する。   [1] A semiconductor integrated circuit according to the present invention includes an input / output circuit (4, 4A to 4E), a plurality of heating circuits (5A to 5D), a first external terminal (3A to 3C), and a temperature sensor (7 ) And second external terminals (3D, 3E). A plurality of input / output circuits are arranged on the semiconductor substrate (2). The plurality of heat generating circuits are arranged in the vicinity of the input / output circuit or in the input / output circuit. A control signal (S1) for controlling the heat generating circuit is input to the first external terminal. The temperature sensor detects the temperature. The second external terminal outputs a detection signal (S3) from the temperature sensor to the outside.

上記より、例えば入出力バッファを有する入出力回路は、半導体基板の周辺部や中央部等に複数配置されている各外部端子に接続されている。このような入出力回路の近傍に複数配置される発熱回路は、半導体基板上に分散して配置されることになる。さらに、隣接する各外部端子の間には僅かな隙間が形成されているから、隣接する入出力回路の間にも発熱回路を配置できる程度の隙間がある。また、入出力回路によっては、回路内部に発熱回路を配置可能なスペースが存在する場合もあり、その際は入出力回路内に配置することも可能である。つまり、レイアウト設計を大幅に変更することなく、半導体基板に発熱回路を分散させて配置できる。   From the above, for example, an input / output circuit having an input / output buffer is connected to a plurality of external terminals arranged in a peripheral portion or a central portion of the semiconductor substrate. A plurality of heating circuits arranged in the vicinity of such an input / output circuit are distributed on the semiconductor substrate. Further, since a slight gap is formed between the adjacent external terminals, there is a gap enough to arrange the heat generating circuit between the adjacent input / output circuits. Also, depending on the input / output circuit, there may be a space in the circuit in which the heat generating circuit can be arranged. In that case, the circuit can be arranged in the input / output circuit. That is, the heat generating circuits can be distributed and arranged on the semiconductor substrate without significantly changing the layout design.

また、各外部端子として、第1外部端子及び第2外部端子を有しているから、動作試験時に、評価用治具に備えられた例えば動作試験用の制御回路により、第2外部端子から出力された温度センサによる検出信号に応じて、制御信号を生成させて、更に、この制御信号を第1外部端子から発熱回路に入力させることができる。このように、動作試験時において、動作保証温度が例えば160℃とされ、評価用治具の耐熱性、例えば125℃を上回っている場合でも、半導体基板に分散させて配置された発熱回路を制御信号により制御できる。従って、この半導体集積回路によれば、評価用治具の温度を125℃以上まで上昇させることなく、半導体基板を略均一に動作保証温度まで上昇させ、さらに、その状態を所定時間、例えば数十時間維持できる。要するに、動作保証温度が高く設定されている場合でも、動作試験を精度よく行うことができる。   Further, since each external terminal has a first external terminal and a second external terminal, it is output from the second external terminal by, for example, an operation test control circuit provided in the evaluation jig during the operation test. A control signal can be generated according to the detected signal from the temperature sensor, and this control signal can be input from the first external terminal to the heat generating circuit. In this way, in the operation test, even when the guaranteed operating temperature is, for example, 160 ° C. and exceeds the heat resistance of the evaluation jig, for example, 125 ° C., the heating circuit arranged dispersed on the semiconductor substrate is controlled. It can be controlled by a signal. Therefore, according to the semiconductor integrated circuit, the temperature of the evaluation jig is raised to 125 ° C. or more without raising the temperature of the semiconductor substrate substantially uniformly to the operation guarantee temperature, and the state is maintained for a predetermined time, for example, several tens of times. Can maintain time. In short, even when the guaranteed operating temperature is set high, the operation test can be accurately performed.

さらに、評価用治具の温度は、耐熱性を下回るようにするが、例えば炉体を用いて半導体基板と評価用治具を共に125℃の温度まで上昇させ、その後、発熱回路により半導体基板の温度を動作保証温度まで上昇させてもよい。また、炉体を用いず、発熱回路だけを用いて、半導体基板の温度を常温例えば25℃程度から動作保証温度まで上昇させてもよい。   Further, the temperature of the evaluation jig is made lower than the heat resistance. For example, both the semiconductor substrate and the evaluation jig are raised to a temperature of 125 ° C. using a furnace body, and then the semiconductor substrate is heated by a heating circuit. The temperature may be raised to the operation guarantee temperature. Further, the temperature of the semiconductor substrate may be raised from room temperature, for example, about 25 ° C. to an operation guarantee temperature by using only the heat generating circuit without using the furnace body.

本発明の具体的な一つの形態として、前記入出力回路の近傍は、前記入出力回路の間である。上記より、隣接する入出力回路の間に形成された僅かな隙間に発熱回路が配置されることになり、半導体基板の面積を大幅に大きくする必要もなく、レイアウト設計にも影響が小さくて済む。   As a specific form of the present invention, the vicinity of the input / output circuit is between the input / output circuits. As described above, the heat generating circuit is arranged in a slight gap formed between adjacent input / output circuits, so that it is not necessary to greatly increase the area of the semiconductor substrate and the influence on the layout design can be reduced. .

本発明の具体的な一つの形態として、前記入出力回路が前記半導体基板の周辺部に複数配置され、かつ、前記半導体基板が矩形である場合には、前記半導体基板の対向する辺の近傍に配置される前記発熱回路の数は、同一である。上記より、発熱回路による熱量が半導体基板の周辺部から、例えば中央部に向かって均一に伝達されることになる。これにより、半導体基板の温度を、動作保証温度まで均一に上昇させることができる。さらに、半導体基板の温度が均一に上昇するから、温度センサで検出された温度が半導体基板全体の温度と一致することになり、動作試験の信頼性を高めることができる。   As a specific form of the present invention, when a plurality of the input / output circuits are arranged in the peripheral portion of the semiconductor substrate and the semiconductor substrate is rectangular, the input / output circuit is arranged in the vicinity of the opposing sides of the semiconductor substrate. The number of the heating circuits arranged is the same. From the above, the amount of heat generated by the heat generating circuit is uniformly transmitted from the peripheral portion of the semiconductor substrate toward, for example, the central portion. Thereby, the temperature of the semiconductor substrate can be uniformly raised to the operation guarantee temperature. Furthermore, since the temperature of the semiconductor substrate rises uniformly, the temperature detected by the temperature sensor matches the temperature of the entire semiconductor substrate, and the reliability of the operation test can be improved.

本発明の具体的な一つの形態として、前記温度センサは、ダイオードである。上記より、半導体集積回路の製造プロセスにおいて、pn接合ダイオードを形成するのは容易であるから、ダイオードを温度センサとすることにより、製造プロセスが大幅に増加することがなく、製造コストも削減できる。   As a specific form of the present invention, the temperature sensor is a diode. As described above, since it is easy to form a pn junction diode in the manufacturing process of the semiconductor integrated circuit, the manufacturing process is not significantly increased and the manufacturing cost can be reduced by using the diode as the temperature sensor.

本発明の具体的な一つの形態として、前記制御信号をデコードして、デコード結果に応じて動作させるべき前記発熱回路をブロック単位で選択するデコーダ(6)を備える。上記より、例えば発熱回路が半導体基板の周辺部に配置されている場合には、隣接する発熱回路を異なるブロックに含めることにより、半導体基板の周辺部に配置された発熱回路から発生する熱量を、ブロックの数だけ段階的に変化させることができる。要するに、発熱回路のブロック単位での制御が可能となり、半導体基板の温度を精度よく略均一に上昇させることができる。   As a specific form of the present invention, a decoder (6) is provided that decodes the control signal and selects the heat generating circuit to be operated according to the decoding result in units of blocks. From the above, for example, when the heat generating circuit is disposed in the peripheral portion of the semiconductor substrate, the amount of heat generated from the heat generating circuit disposed in the peripheral portion of the semiconductor substrate by including adjacent heat generating circuits in different blocks, The number of blocks can be changed in stages. In short, the heat generating circuit can be controlled in units of blocks, and the temperature of the semiconductor substrate can be raised substantially uniformly with high accuracy.

本発明の具体的な一つの形態として、前記第1外部端子は、前記制御信号の入力とは異なる第1信号(S2)のインタフェース機能に兼用される。前記第2外部端子は、前記検出信号の出力とは異なる第2信号(S4)のインタフェース機能に兼用される。第1切換え回路(17)と、第2切換え回路(18)と、第3外部端子(3F)とを更に有する。第1切換え回路は、前記制御信号の伝達経路(8A)と前記第1信号の伝達経路(19)とを選択的に前記第1外部端子に接続する。第2切換え回路は、前記検出信号の伝達経路(9A)と前記第2信号の伝達経路(20)とを選択的に前記第2外部端子に接続する。第3外部端子は、前記第1切換え回路と前記第2切換え回路を共通に切換え制御可能である。上記より、第1外部端子は、通常動作時には第1信号の伝達経路と接続され、例えば動作試験時には発熱回路を制御する制御信号の伝達経路と接続される。また、第2外部端子は、通常動作時には第2信号の伝達経路と接続され、例えば動作試験時には温度センサによる検出信号の伝達経路と接続される。要するに、第1外部端子及び第2外部端子は、複数の機能を有するから、例えば1つの第3外部端子を設けることにより、動作試験を行うための専用の外部端子を複数設けることを要しない。これにより、リードピンの数を大幅に変更せずに、動作試験を行うことができる。   As a specific form of the present invention, the first external terminal is also used for the interface function of the first signal (S2) different from the input of the control signal. The second external terminal is also used for an interface function of a second signal (S4) different from the output of the detection signal. A first switching circuit (17), a second switching circuit (18), and a third external terminal (3F) are further included. The first switching circuit selectively connects the control signal transmission path (8A) and the first signal transmission path (19) to the first external terminal. The second switching circuit selectively connects the transmission path (9A) of the detection signal and the transmission path (20) of the second signal to the second external terminal. The third external terminal can switch and control the first switching circuit and the second switching circuit in common. From the above, the first external terminal is connected to the transmission path of the first signal during normal operation, and is connected to the transmission path of the control signal for controlling the heat generating circuit, for example, during the operation test. The second external terminal is connected to the transmission path of the second signal during normal operation, and is connected to the transmission path of the detection signal by the temperature sensor, for example, during an operation test. In short, since the first external terminal and the second external terminal have a plurality of functions, it is not necessary to provide a plurality of dedicated external terminals for performing an operation test, for example, by providing one third external terminal. Thereby, an operation test can be performed without significantly changing the number of lead pins.

〔2〕本発明に係る半導体集積回路の動作試験方法は、複数の前記発熱回路をブロックに分割し、前記第2外部端子から出力される前記検出信号に基づいて動作させるべきブロックを選択して、発熱させる前記発熱回路の数を可変に制御する。   [2] In the semiconductor integrated circuit operation test method according to the present invention, a plurality of the heat generating circuits are divided into blocks, and a block to be operated is selected based on the detection signal output from the second external terminal. The number of the heat generating circuits that generate heat is variably controlled.

上記より、ブロックに含まれる発熱回路の数を同一とし、例えば半導体基板の周辺部に配置される発熱回路を、所定数毎に同一ブロックに含まれるようにすれば、ブロックを選択することで、半導体基板の周辺部に生じる熱量を調整できる。これにより、半導体基板の温度を動作保証温度まで略均一に上昇させ、その温度を所定時間維持することもできるから、動作試験の信頼性を高めることができる。   From the above, if the number of heat generating circuits included in the block is the same, for example, if the heat generating circuit arranged in the peripheral part of the semiconductor substrate is included in the same block for every predetermined number, by selecting the block, The amount of heat generated at the periphery of the semiconductor substrate can be adjusted. Thereby, the temperature of the semiconductor substrate can be raised substantially uniformly to the operation guarantee temperature, and the temperature can be maintained for a predetermined time, so that the reliability of the operation test can be improved.

本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記の通りである。   The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

即ち、動作保証温度が高く設定されている場合でも、動作試験を精度よく行うことができる。   That is, even when the guaranteed operating temperature is set high, the operation test can be accurately performed.

図1には、本発明の実施形態に係る半導体集積回路の一例であるマイクロコンピュータの概略構成が例示される。マイクロコンピュータ1は、例えば自動車等のエンジンルームに搭載され、160℃程度の高温下で長時間使用されることがある。このため、マイクロコンピュータ1は、このような厳しい動作条件の下でも不具合を生じないように動作試験が行われ、不良品と良品が選別される。図中には、この動作試験時に主に用いられる各回路等が例示されている。マイクロコンピュータ1は、半導体基板2と、半導体基板2上に形成されたパッド3,3A〜3Eと、入出力回路(I/O)4,4A〜4Eと、発熱回路5A〜5Dと、デコーダ6と、温度センサ7等とを備えている。図中、パッド3,3A〜3E、入出力回路4,4A〜4Eについては、半導体基板2に複数配置されているので、同一機能を有するものについては符号を適宜省略し、動作試験に用いられる機能等を有しているものについては符号の末尾にアルファベットを付した。また、発熱回路5A〜5Dについては、詳細は後述するが、デコーダ6によりブロック単位で選択可能であるから、そのブロック毎に符号の末尾にアルファベットを付した。   FIG. 1 illustrates a schematic configuration of a microcomputer as an example of a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention. For example, the microcomputer 1 is mounted in an engine room of an automobile or the like and may be used at a high temperature of about 160 ° C. for a long time. Therefore, the microcomputer 1 is subjected to an operation test so as not to cause a problem even under such severe operating conditions, and a defective product and a non-defective product are selected. In the figure, each circuit etc. mainly used at the time of this operation test is illustrated. The microcomputer 1 includes a semiconductor substrate 2, pads 3, 3A to 3E formed on the semiconductor substrate 2, input / output circuits (I / O) 4, 4A to 4E, heating circuits 5A to 5D, and a decoder 6 And a temperature sensor 7 and the like. In the figure, the pads 3, 3A to 3E and the input / output circuits 4, 4A to 4E are arranged on the semiconductor substrate 2, so that those having the same function are appropriately omitted and used for the operation test. For those having functions, etc., alphabets are added to the end of the reference numerals. Although the details of the heat generating circuits 5A to 5D will be described later, since the decoder 6 can be selected in units of blocks, an alphabet is added to the end of the code for each block.

半導体基板2は、正方形に形成されており、その周辺部にはパッド3,3A〜3Eが所定間隔を隔てて複数配置されている。パッド3は、例えば不図示のリードフレームのリードにワイヤボンディングによって結合される。マイクロコンピュータ1は、図示を省略した所定の内部回路等を有しており、パッケージ後、通常動作を行うための所定のシステムに組み込まれると、上記リードからパッド3を介して各種信号がこの内部回路に入力される。一方、動作試験に主に用いられるパッド3A〜3Eは、必ずしもリードに結合する必要はない。これは、パッケージ前に動作試験を行う場合、パッド3A〜3Eは、不図示の評価用治具の外部端子に接続すればよく、パッケージ後の通常動作時には使用しない場合もあるからである。評価用治具は、動作試験中にマイクロコンピュータ1を単に保持するだけでなく、例えば125℃までの耐熱性を有する測定系の各部品等を備えており、マイクロコンピュータ1に所定の入力データを出力し、この入力データに対してマイクロコンピュータ1が正しい出力データを出力したか否かを判定する機能を有する。   The semiconductor substrate 2 is formed in a square shape, and a plurality of pads 3, 3 </ b> A to 3 </ b> E are arranged at predetermined intervals around the semiconductor substrate 2. For example, the pad 3 is coupled to a lead of a lead frame (not shown) by wire bonding. The microcomputer 1 has a predetermined internal circuit (not shown) and the like. When the microcomputer 1 is incorporated into a predetermined system for performing normal operation after packaging, various signals are transmitted from the lead to the internal via the pad 3. Input to the circuit. On the other hand, the pads 3A to 3E mainly used for the operation test are not necessarily coupled to the leads. This is because when performing an operation test before packaging, the pads 3A to 3E may be connected to external terminals of an evaluation jig (not shown) and may not be used during normal operation after packaging. The evaluation jig not only simply holds the microcomputer 1 during the operation test, but also includes measurement system components having heat resistance up to 125 ° C., for example. The microcomputer 1 has a function of determining whether or not the microcomputer 1 has output correct output data for the input data.

入出力回路4は、パッド3に接続されており、例えば入出力バッファを備え、マイクロコンピュータ1に接続された所定のシステムと内部回路の間での信号のやり取りを可能としている。入出力回路4A〜4Cは、それぞれ配線8A〜8Cを介してデコーダ6に接続されている。入出力回路4D,4Eは、それぞれ配線9A,9Bを介して温度センサ7に接続されている。また、これらの入出力回路4A〜4Eは、パッド3A〜3Eと接続されると共に、内部回路にも接続可能とされている(図5参照)。   The input / output circuit 4 is connected to the pad 3 and includes, for example, an input / output buffer, and enables the exchange of signals between a predetermined system connected to the microcomputer 1 and the internal circuit. The input / output circuits 4A to 4C are connected to the decoder 6 via wirings 8A to 8C, respectively. The input / output circuits 4D and 4E are connected to the temperature sensor 7 via wirings 9A and 9B, respectively. The input / output circuits 4A to 4E are connected to the pads 3A to 3E and can be connected to an internal circuit (see FIG. 5).

入出力回路4,4A〜4Eは、半導体基板2に所定間隔を隔てて配置されたパッド3,3A〜3Eにそれぞれ接続されているから、その間には、発熱回路5A〜5Dをそれぞれ配置するだけの隙間が存在している。即ち、発熱回路5A〜5Dは、隣接する入出力回路4,4A〜4Eの間にそれぞれ配置されている。これにより、発熱回路5A〜5Dは、半導体基板2の周辺部に分散させて配置され、その上、設計段階において、大幅なレイアウト設計の変更をすることを要しない。また、発熱回路5A〜5Dは十分に小さく、半導体基板2の面積を増大させることもない。   Since the input / output circuits 4 and 4A to 4E are respectively connected to the pads 3 and 3A to 3E arranged at a predetermined interval on the semiconductor substrate 2, only the heating circuits 5A to 5D are arranged therebetween. There are gaps. That is, the heat generating circuits 5A to 5D are respectively disposed between the adjacent input / output circuits 4 and 4A to 4E. As a result, the heat generating circuits 5A to 5D are arranged in a distributed manner around the periphery of the semiconductor substrate 2, and in addition, it is not necessary to change the layout design significantly in the design stage. Further, the heat generating circuits 5A to 5D are sufficiently small and do not increase the area of the semiconductor substrate 2.

半導体基板2には、その周辺部に沿って、互いに重ならないように配線10A〜10Dが配置されている。これらの配線10A〜10Dは、複数の分岐を有し、それらの分岐を経由して発熱回路5A〜5Dにそれぞれ接続されている。発熱回路5A〜5Dが半導体基板2の一辺の近傍に配置されている場合、例えば同一辺の隣接する発熱回路5A,5Bは、それぞれ異なる配線10A,10Bに接続されている。同じく、同一辺の隣接する発熱回路5C,5Dは、それぞれ異なる配線10C,10Dに接続されている。要するに、複数の発熱回路5A〜5Dは、配線10A〜10D毎にブロックとして区別することができる。即ち、複数の発熱回路5A〜5Dは、4つのブロックに区別でき、同一辺の隣接したものは異なるブロックとされる。   Wirings 10 </ b> A to 10 </ b> D are arranged along the periphery of the semiconductor substrate 2 so as not to overlap each other. These wirings 10A to 10D have a plurality of branches, and are connected to the heat generating circuits 5A to 5D via these branches, respectively. When the heat generating circuits 5A to 5D are arranged in the vicinity of one side of the semiconductor substrate 2, for example, the adjacent heat generating circuits 5A and 5B on the same side are connected to different wirings 10A and 10B, respectively. Similarly, adjacent heating circuits 5C and 5D on the same side are connected to different wirings 10C and 10D, respectively. In short, the plurality of heating circuits 5A to 5D can be distinguished as blocks for each of the wirings 10A to 10D. That is, the plurality of heat generating circuits 5A to 5D can be distinguished into four blocks, and adjacent ones on the same side are different blocks.

デコーダ6は、例えば評価用治具に備えられた制御回路からパッド3A〜3C、入出力回路4A〜4Cを経由して、配線8A〜8Cを介して入力された制御信号、即ち、動作させるべきブロックを指示する信号をデコードする。デコーダ6は、そのデコード結果に基づいて、適宜のブロックを選択又は非選択とするための信号を配線11A〜11Dに出力する。要するに、デコーダ6は、動作させるべき発熱回路5A〜5Dをブロック単位で選択することができる。ここで、同一ブロックに含まれる発熱回路5A〜5Dの数は、それぞれ同一である。このため、デコーダ6によって選択されるブロック数を制御することにより、発熱回路5A〜5Dによる熱量は、選択されるブロック数に応じて段階的に調整されることになる。そして、この発熱回路5A〜5Dによる熱量は、半導体基板2の周辺部から中央部に向かって伝達されるから、半導体基板2の温度を動作保証温度とされる160℃まで均一に上昇させることができる。   The decoder 6 should be operated, for example, from the control circuit provided in the evaluation jig via the pads 3A to 3C and the input / output circuits 4A to 4C, that is, the control signal input via the wirings 8A to 8C. Decode the signal that points to the block. Based on the decoding result, the decoder 6 outputs a signal for selecting or deselecting an appropriate block to the wirings 11A to 11D. In short, the decoder 6 can select the heat generating circuits 5A to 5D to be operated in units of blocks. Here, the number of the heat generating circuits 5A to 5D included in the same block is the same. Therefore, by controlling the number of blocks selected by the decoder 6, the amount of heat generated by the heat generating circuits 5A to 5D is adjusted stepwise according to the number of selected blocks. The amount of heat generated by the heat generating circuits 5A to 5D is transmitted from the peripheral part to the central part of the semiconductor substrate 2, so that the temperature of the semiconductor substrate 2 can be increased uniformly to 160 ° C., which is an operation guarantee temperature. it can.

図2には、発熱回路5Aの概略構成が一例として示される。他の発熱回路5B〜5Dについては同一の構成を有するので、説明を省略する。発熱回路5Aは、多結晶シリコン(poly-Si)により形成された抵抗素子12と、MOSスイッチ13とを備えている。抵抗素子12は、一端が電源電圧Vccに接続され、他端がMOSスイッチ13に接続されている。MOSスイッチ13の一端は、図示のように接地されており、ゲート13aにはデコーダ6からの信号が配線11A,10Aを介して供給される。このようにすれば、デコーダ6からの信号が例えばハイレベルになると、MOSスイッチ13が導通して、抵抗素子12に電流が流れて熱を発生し、デコーダ6からの信号がローレベルになると、MOSスイッチ13が遮断され、抵抗素子12には電流が流れず、熱が発生しない。要するに、発熱回路5Aは、デコーダ6からの信号に応じて動作可能とされる。また、半導体基板2の周辺部に発熱回路5A〜5Dが合計200個配置され、動作試験時に半導体基板2の温度を動作保証温度とされる160℃まで上昇させるために全体で1W程度の発熱が要求されている場合には、発熱回路5A〜5Dは、1個当たり5mWの発熱量が必要とされることになる。このような場合には、抵抗素子12やMOSスイッチ13は、発熱回路5Aが隣接する入出力回路4の間に配置可能であり、かつ、必要とされる発熱量が得られるようにサイズ、材質等適宜選択される。   FIG. 2 shows a schematic configuration of the heat generating circuit 5A as an example. Since the other heat generating circuits 5B to 5D have the same configuration, description thereof is omitted. The heat generating circuit 5 </ b> A includes a resistance element 12 formed of polycrystalline silicon (poly-Si) and a MOS switch 13. The resistance element 12 has one end connected to the power supply voltage Vcc and the other end connected to the MOS switch 13. One end of the MOS switch 13 is grounded as shown in the figure, and a signal from the decoder 6 is supplied to the gate 13a via wirings 11A and 10A. In this way, when the signal from the decoder 6 becomes high level, for example, the MOS switch 13 becomes conductive, current flows through the resistance element 12 to generate heat, and when the signal from the decoder 6 becomes low level, The MOS switch 13 is cut off, no current flows through the resistance element 12, and no heat is generated. In short, the heat generation circuit 5A is operable in accordance with a signal from the decoder 6. In addition, a total of 200 heat generating circuits 5A to 5D are arranged in the peripheral portion of the semiconductor substrate 2, and the heat generation of about 1 W as a whole is generated in order to raise the temperature of the semiconductor substrate 2 to 160 ° C., which is an operation guarantee temperature during the operation test. When required, the heat generation circuits 5A to 5D require a heat generation amount of 5 mW per piece. In such a case, the resistance element 12 and the MOS switch 13 can be arranged between the input / output circuits 4 adjacent to the heat generating circuit 5A, and the size and material so as to obtain the required heat generation amount. Etc. are appropriately selected.

図3には、温度センサ7の回路構成の一例が概略的に示される。温度センサ7は、例えばpn接合シリコンダイオードであって、そのカソード側は配線9Aを介して入出力回路4D、パッド3Dに接続され、アノード側は配線9Bを介して入出力回路4E、パッド3Eに接続されている。パッド3D,3Eの間には、配線を介して定電流源14と電圧計15が接続されている。これらの定電流源14と電圧計15は、マイクロコンピュータ1ではなく、例えば評価用治具に配置される。定電流源14は、上記ダイオードに対して一定の順方向電流を供給する。電圧計15は、ダイオードの順方向電圧を測定する。これにより、ダイオードの温度特性、即ち、接合温度に応じて電圧値が変化する特性を測定できる。   FIG. 3 schematically shows an example of the circuit configuration of the temperature sensor 7. The temperature sensor 7 is, for example, a pn junction silicon diode. The cathode side is connected to the input / output circuit 4D and the pad 3D via the wiring 9A, and the anode side is connected to the input / output circuit 4E and the pad 3E via the wiring 9B. It is connected. A constant current source 14 and a voltmeter 15 are connected between the pads 3D and 3E via wiring. The constant current source 14 and the voltmeter 15 are not arranged in the microcomputer 1 but, for example, in an evaluation jig. The constant current source 14 supplies a constant forward current to the diode. The voltmeter 15 measures the forward voltage of the diode. Thereby, the temperature characteristic of the diode, that is, the characteristic in which the voltage value changes according to the junction temperature can be measured.

図4には、ダイオードの温度特性の一例が示される。図中、横軸を温度Ta=Tj(℃)、縦軸を電圧Vf(V)とする。ダイオードは、その温度特性を測定するために、例えば全ての発熱回路5A〜5Dがオフ状態であり、常温25℃程度の雰囲気下において、予め順方向電圧が測定される。この測定値を図中、基準点A(25、VfA)とする。そして基準点A以外の温度で順方向電圧を測定すれば、温度センサ7として用いられるダイオードの温度特性、例えば−1.5mV/℃を測定できる。これにより、式「Vf=VfA+(−0.0015×温度変化)」が得られる。そして、動作試験時に電圧計15で測定された電圧値に基づいて、温度を算出することができる。要するに、温度センサ7は、ダイオードの温度特性を用いることで半導体基板2の温度を検出可能とされる。また、温度センサ7としてダイオードを用いるから、マイクロコンピュータ1の製造プロセスにおいてpn接合ダイオードを形成するのは容易である。これにより、マイクロコンピュータ1の製造プロセスを大幅に変更する必要もなく、製造コストも低減できる。   FIG. 4 shows an example of the temperature characteristics of the diode. In the figure, the horizontal axis represents temperature Ta = Tj (° C.), and the vertical axis represents voltage Vf (V). In order to measure the temperature characteristics of the diode, for example, all the heat generating circuits 5A to 5D are in an off state, and the forward voltage is measured in advance in an atmosphere at a room temperature of about 25 ° C. This measured value is defined as a reference point A (25, VfA) in the figure. If the forward voltage is measured at a temperature other than the reference point A, the temperature characteristic of the diode used as the temperature sensor 7, for example, −1.5 mV / ° C. can be measured. Thereby, the expression “Vf = VfA + (− 0.0015 × temperature change)” is obtained. The temperature can be calculated based on the voltage value measured by the voltmeter 15 during the operation test. In short, the temperature sensor 7 can detect the temperature of the semiconductor substrate 2 by using the temperature characteristic of the diode. Further, since a diode is used as the temperature sensor 7, it is easy to form a pn junction diode in the manufacturing process of the microcomputer 1. Thereby, it is not necessary to significantly change the manufacturing process of the microcomputer 1, and the manufacturing cost can be reduced.

図5には、複数の機能を兼用するパッドを含む回路構成の一例が示される。図中、パッド3A〜3Cと、パッド3D,3Eは、それぞれ略同一の回路構成を有しているので、パッド3Aとパッド3Dが代表的に示される。また、パッド3Fは、図1に示したパッド3のうちいずれであってもよい。マイクロコンピュータ1は、主に通常動作時で用いられる回路として内部回路(INTCUIT)16を備えている。パッド3Aは、入出力回路4Aを介して切換え回路(SW)17に接続されている。パッド3Dは、入出力回路4Dを介して切換え回路(SW)18に接続されている。また、パッド3Fは、入出力回路4Fを介して切換え回路17,18にそれぞれ接続され、切換え回路17,18を共通に切換え制御する。   FIG. 5 shows an example of a circuit configuration including a pad that also functions as a plurality of functions. In the drawing, since the pads 3A to 3C and the pads 3D and 3E have substantially the same circuit configuration, the pad 3A and the pad 3D are representatively shown. Further, the pad 3F may be any of the pads 3 shown in FIG. The microcomputer 1 includes an internal circuit (INTCUIT) 16 as a circuit mainly used in normal operation. The pad 3A is connected to the switching circuit (SW) 17 via the input / output circuit 4A. The pad 3D is connected to the switching circuit (SW) 18 via the input / output circuit 4D. The pad 3F is connected to the switching circuits 17 and 18 via the input / output circuit 4F, respectively, and controls the switching circuits 17 and 18 in common.

切換え回路17は、パッド3Fからの信号に応じて、デコーダ6に制御信号S1を伝達するための配線8Aを含む伝達経路と、内部回路16に所定の信号S2を伝達するための配線19を含む伝達経路とを選択的に切換え可能であって、これらの伝達経路のいずれかをパッド3Aに接続する。これにより、パッド3Aは、通常動作時には配線19を含む伝達経路と接続され、動作試験時には配線8Aを含む伝達経路と接続される。要するに、パッド3Aは、制御信号S1の入力とは異なる上記所定の信号S2のインタフェース機能に兼用されることになる。   Switching circuit 17 includes a transmission path including a wiring 8A for transmitting control signal S1 to decoder 6 and a wiring 19 for transmitting a predetermined signal S2 to internal circuit 16 in accordance with a signal from pad 3F. The transmission path can be selectively switched, and one of these transmission paths is connected to the pad 3A. Thereby, the pad 3A is connected to the transmission path including the wiring 19 during normal operation, and is connected to the transmission path including the wiring 8A during the operation test. In short, the pad 3A is also used for the interface function of the predetermined signal S2, which is different from the input of the control signal S1.

また、切換え回路18は、パッド3Fからの信号に応じて、温度センサ7による検出信号S3を伝達するための配線9Aを含む伝達経路と、内部回路16に所定の信号S4を伝達するための配線20を含む伝達経路とを選択的に切換え可能であって、これらの伝達経路のいずれかをパッド3Dに接続する。これにより、パッド3Dは、通常動作時には配線20を含む伝達経路と接続され、動作試験時には配線9Aを含む伝達経路と接続される。要するに、パッド3Aは、検出信号S3の入力とは異なる上記所定の信号S4のインタフェース機能に兼用されることになる。従って、マイクロコンピュータ1は、複数の機能を兼用するパッド3A〜3Eを有するから、例えばパッド3Fを設けることにより、動作試験時にのみ用いられる専用パッドを複数設ける必要がない。このようにすれば、マイクロコンピュータ1では、パッド3の数を大幅に変更することなく、動作試験を行うことができる。   The switching circuit 18 also includes a transmission path including a wiring 9A for transmitting the detection signal S3 from the temperature sensor 7 according to a signal from the pad 3F, and a wiring for transmitting a predetermined signal S4 to the internal circuit 16. The transmission path including 20 can be selectively switched, and one of these transmission paths is connected to the pad 3D. Thereby, the pad 3D is connected to the transmission path including the wiring 20 during the normal operation, and is connected to the transmission path including the wiring 9A during the operation test. In short, the pad 3A is also used for the interface function of the predetermined signal S4 different from the input of the detection signal S3. Accordingly, since the microcomputer 1 includes the pads 3A to 3E that also have a plurality of functions, for example, by providing the pad 3F, it is not necessary to provide a plurality of dedicated pads that are used only during the operation test. In this way, the microcomputer 1 can perform an operation test without significantly changing the number of pads 3.

次に、マイクロコンピュータ1における動作試験方法について説明する。まず、温度センサ7とされるダイオードの温度特性を予め測定する。そして、マイクロコンピュータ1を評価用治具で保持し、その状態で炉体内に収容する。評価用治具は125℃までの耐熱性を有しているので、炉体は、マイクロコンピュータ1及び評価用治具が収容された内部の雰囲気を125℃まで上昇させる。炉体は、雰囲気の温度を125℃のまま維持する。次に、マイクロコンピュータ1は、パッド3Fにより切換え回路17,18を制御して、例えばパッド3Aとデコーダ6の伝達経路と、パッド3Dと温度センサ7の伝達経路を選択する。マイクロコンピュータ1は、パッド3Dと温度センサ7の伝達経路を介して、温度センサ7による検出信号S3をパッド3Dから、評価用治具に備えられた動作試験用の制御回路に出力する。この動作試験用の制御回路は、上記検出信号S3に基づいて、動作させるべき発熱回路5A〜5Dの数を指示する制御信号S1を生成する。そして、マイクロコンピュータ1は、パッド3Aとデコーダ6の伝達経路を介して、上記制御信号S1をパッド3Aからデコーダ6に入力する。   Next, an operation test method in the microcomputer 1 will be described. First, the temperature characteristics of the diode used as the temperature sensor 7 are measured in advance. And the microcomputer 1 is hold | maintained with the jig | tool for evaluation, and is accommodated in the furnace body in the state. Since the evaluation jig has heat resistance up to 125 ° C., the furnace body raises the atmosphere inside the microcomputer 1 and the evaluation jig to 125 ° C. The furnace body maintains the temperature of the atmosphere at 125 ° C. Next, the microcomputer 1 controls the switching circuits 17 and 18 by the pad 3F to select, for example, the transmission path of the pad 3A and the decoder 6, and the transmission path of the pad 3D and the temperature sensor 7. The microcomputer 1 outputs the detection signal S3 from the temperature sensor 7 from the pad 3D to the operation test control circuit provided in the evaluation jig via the transmission path between the pad 3D and the temperature sensor 7. The operation test control circuit generates a control signal S1 indicating the number of heat generating circuits 5A to 5D to be operated based on the detection signal S3. The microcomputer 1 inputs the control signal S1 from the pad 3A to the decoder 6 through the transmission path between the pad 3A and the decoder 6.

デコーダ6は、この制御信号S1をデコードして、デコード結果に応じて動作させるべき発熱回路5A〜5Dをブロック単位で選択する。発熱回路5A〜5Dは、例えば半導体基板2の周辺に合計200個配置され、配線10A〜10Dにより4つのブロックに区分され、1つのブロックに含まれる数は50個とされる。動作試験では、半導体基板2の温度を動作保証温度とされる160℃まで上昇させる必要がある。このため、デコーダ6による発熱回路5A〜5Dのブロック単位の選択は、160℃に到達するまでの到達時間等を考慮して適宜行うことができる。例えば到達時間を短縮させたい場合には、4つのブロックを全て選択して、発熱回路5A〜5Dを全て動作させてもよい。また、到達時間を特に短縮させる必要がない場合には、1つのブロック、例えば発熱回路5Aだけを選択するようにしてもよい。いずれのブロックを選択しても、発熱回路5A〜5Dによる熱量は、半導体基板2の周辺部から中央部に向かって伝達されるから、半導体基板2の温度は略均一に上昇することになる。   The decoder 6 decodes the control signal S1 and selects the heat generating circuits 5A to 5D to be operated according to the decoding result in units of blocks. For example, a total of 200 heat generating circuits 5A to 5D are arranged around the semiconductor substrate 2, and are divided into four blocks by wirings 10A to 10D, and the number contained in one block is 50. In the operation test, it is necessary to raise the temperature of the semiconductor substrate 2 to 160 ° C., which is an operation guarantee temperature. For this reason, the selection of the block units of the heat generating circuits 5A to 5D by the decoder 6 can be appropriately performed in consideration of the arrival time until reaching 160 ° C. For example, when it is desired to shorten the arrival time, all the four blocks may be selected and all the heat generating circuits 5A to 5D may be operated. Further, when it is not necessary to particularly shorten the arrival time, only one block, for example, the heat generation circuit 5A may be selected. Regardless of which block is selected, the amount of heat generated by the heat generating circuits 5A to 5D is transmitted from the peripheral portion of the semiconductor substrate 2 toward the central portion, so that the temperature of the semiconductor substrate 2 rises substantially uniformly.

また、半導体基板2の温度は、温度センサ7により適宜測定されているから、この温度センサ7による検出信号S3が評価用治具の上記制御回路に再び入力される。制御回路は、動作保証温度と現状の温度との差に基づいて発熱回路5A〜5Dをブロック単位で選択するための上記制御信号S1を再び生成する。この制御信号S1は、デコーダ6に入力される。例えば全てのブロックを選択している状態では、半導体基板2の温度が160℃を上回ってしまい、正確な動作試験を行うことが困難となってしまう。これを回避するために、160℃付近ではいずれかのブロックを非選択として、発熱回路5A〜5Dによる全体の発熱量を小さくして、半導体基板2の温度が徐々に160℃に到達するように制御する。また、半導体基板2の温度が160℃を十分に下回っている状態では、発熱回路5A〜5Dによる発熱量が不足しているので、他のブロックを新たに選択すればよい。このように、動作させるべき発熱回路5A〜5Dの数を適宜選択することにより、半導体基板2の温度を動作保証温度とされる160℃まで略均一に上昇させることができる。そして、マイクロコンピュータ1は、半導体基板2の温度が動作保証温度になれば、その状態を維持するように適宜の数の発熱回路5A〜5Dを動作させる。   Further, since the temperature of the semiconductor substrate 2 is appropriately measured by the temperature sensor 7, the detection signal S3 from the temperature sensor 7 is input again to the control circuit of the evaluation jig. The control circuit again generates the control signal S1 for selecting the heat generating circuits 5A to 5D in units of blocks based on the difference between the guaranteed operating temperature and the current temperature. This control signal S1 is input to the decoder 6. For example, when all the blocks are selected, the temperature of the semiconductor substrate 2 exceeds 160 ° C., making it difficult to perform an accurate operation test. In order to avoid this, any block is not selected in the vicinity of 160 ° C., the total amount of heat generated by the heat generating circuits 5A to 5D is reduced, and the temperature of the semiconductor substrate 2 gradually reaches 160 ° C. Control. Further, when the temperature of the semiconductor substrate 2 is sufficiently lower than 160 ° C., the amount of heat generated by the heat generating circuits 5A to 5D is insufficient, so another block may be selected. As described above, by appropriately selecting the number of the heat generating circuits 5A to 5D to be operated, the temperature of the semiconductor substrate 2 can be raised substantially uniformly to 160 ° C., which is an operation guarantee temperature. Then, when the temperature of the semiconductor substrate 2 reaches the operation guarantee temperature, the microcomputer 1 operates an appropriate number of heat generating circuits 5A to 5D so as to maintain the state.

評価用治具は、半導体基板2の温度が160℃になると、所定のパッド3を介して動作試験用の入力データを例えば内部回路16に入力し、正しい出力データが出力されたか否かを判定する。この判定は、半導体基板2の温度が動作保証温度に維持される例えば数十時間の間に適宜行われる。この判定で常に正しい出力データが出力されると、マイクロコンピュータ1は良品として選別される。一方、誤った出力データが出力されると欠陥を潜在的に含むデバイスとして不良品として選別される。従って、このマイクロコンピュータ1の動作試験方法では、デコーダ6によりブロック単位で発熱回路5A〜5Dを選択することで、半導体基板2の周辺部に生じる熱量を調整して、半導体基板2の温度を動作保証温度まで略均一に上昇させ、その温度を所定時間維持することができる。さらに、動作試験時において、評価用治具の温度は、125℃を上回ることがないので、破損することがない。要するに、この動作試験方法によれば、動作保証温度が高く設定されている場合でも、動作試験を精度よく行い、動作試験の結果に対する信頼性を高めることができる。   When the temperature of the semiconductor substrate 2 reaches 160 ° C., the evaluation jig inputs operation test input data to, for example, the internal circuit 16 via the predetermined pad 3 and determines whether or not correct output data is output. To do. This determination is appropriately performed during, for example, several tens of hours when the temperature of the semiconductor substrate 2 is maintained at the operation guarantee temperature. If correct output data is always output in this determination, the microcomputer 1 is selected as a non-defective product. On the other hand, if incorrect output data is output, it is selected as a defective product as a device that potentially includes a defect. Therefore, in the operation test method of the microcomputer 1, the heat generation circuits 5 </ b> A to 5 </ b> D are selected in units of blocks by the decoder 6, thereby adjusting the amount of heat generated in the peripheral portion of the semiconductor substrate 2 and operating the temperature of the semiconductor substrate 2. The temperature can be raised substantially uniformly to the guaranteed temperature, and the temperature can be maintained for a predetermined time. Furthermore, during the operation test, the temperature of the evaluation jig does not exceed 125 ° C., and therefore is not damaged. In short, according to this operation test method, even when the guaranteed operation temperature is set high, the operation test can be performed with high accuracy and the reliability of the result of the operation test can be improved.

以上、本発明者によってなされた発明を実施形態に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは言うまでもない。   As mentioned above, although the invention made by this inventor was concretely demonstrated based on embodiment, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to it and can be variously changed in the range which does not deviate from the summary.

例えば、動作試験では、炉体を用いて半導体基板2と評価用治具を共に125℃の温度まで上昇させ、その後、発熱回路5A〜5Dにより半導体基板2の温度を動作保証温度まで上昇させるようにしたが、これに限定されない。例えば炉体を用いず、発熱回路5A〜5Dだけを用いて、半導体基板2の温度を常温である25℃程度から動作保証温度まで上昇させてもよい。このようにすれば、動作試験時に炉体が不要となるから、動作試験をより簡易に行うことができる。また、動作試験時において、評価用治具に備えられた動作試験用の制御回路を用いて上記制御信号S1を生成するようにしたが、これに限られず、この制御回路をマイクロコンピュータ1の内部に設けるようにしてもよい。このようにすれば、評価用治具の構成を簡略化できる。   For example, in the operation test, the furnace body is used to raise both the semiconductor substrate 2 and the evaluation jig to a temperature of 125 ° C., and then the temperature of the semiconductor substrate 2 is raised to a guaranteed operating temperature by the heating circuits 5A to 5D. However, it is not limited to this. For example, the temperature of the semiconductor substrate 2 may be raised from the normal temperature of about 25 ° C. to the operation guarantee temperature by using only the heating circuits 5A to 5D without using the furnace body. In this way, since the furnace body is not required during the operation test, the operation test can be performed more easily. In the operation test, the control signal S1 is generated using the operation test control circuit provided in the evaluation jig. However, the present invention is not limited to this. You may make it provide in. In this way, the configuration of the evaluation jig can be simplified.

さらに、半導体基板2は、正方形としたがこれに限らず、半導体基板2の温度を略均一に上昇させることができるように、発熱回路5A〜5Dを適宜配置可能であれば、長方形等の矩形であってもよく、また、曲線を有する適宜の形状であってもよい。パッド3,3A〜3Eは、半導体基板2の周辺部に限らず、例えば中央部に複数配置されていてもよく、その近傍に発熱回路5A〜5Dを配置してもよい。また、入出力回路4,4A〜4Eによっては、その回路内部に発熱回路5A〜5Dを配置可能なスペースが存在する場合もある。そこで、この場合には、入出力回路4,4A〜4Eの内部に発熱回路5A〜5Dを配置することもできる。さらに、上記したマイクロコンピュータ1は、発熱回路5A〜5Dを有しており、半導体基板2の温度を動作保証温度まで略均一に上昇させる機能を有しているので、車載用に限らず、高い耐熱性が要求される適宜の制御システム及びその動作試験に適用することもできる。   Furthermore, although the semiconductor substrate 2 is square, the present invention is not limited to this. If the heat generating circuits 5A to 5D can be appropriately arranged so that the temperature of the semiconductor substrate 2 can be raised substantially uniformly, a rectangle such as a rectangle can be used. It may also be an appropriate shape having a curve. The pads 3, 3 </ b> A to 3 </ b> E are not limited to the peripheral part of the semiconductor substrate 2, and a plurality of pads 3, 3 </ b> A to 3 </ b> D may be arranged, for example, in the central part. Further, depending on the input / output circuits 4 and 4A to 4E, there may be a space in which the heat generating circuits 5A to 5D can be arranged. Therefore, in this case, the heat generating circuits 5A to 5D can be arranged inside the input / output circuits 4 and 4A to 4E. Further, the microcomputer 1 described above has the heat generation circuits 5A to 5D and has a function of raising the temperature of the semiconductor substrate 2 substantially uniformly to the operation guarantee temperature, so that the microcomputer 1 is not limited to being mounted on a vehicle. The present invention can also be applied to an appropriate control system that requires heat resistance and its operation test.

本発明の実施形態に係る半導体集積回路の一例であるマイクロコンピュータの概略構成を例示する説明図である。1 is an explanatory diagram illustrating a schematic configuration of a microcomputer that is an example of a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the invention; FIG. 発熱回路の概略構成を例示する回路図である。It is a circuit diagram which illustrates schematic structure of a heat generating circuit. 温度センサの概略構成を例示する回路図である。It is a circuit diagram which illustrates schematic structure of a temperature sensor. ダイオードの温度特性を例示する特性図である。It is a characteristic view which illustrates the temperature characteristic of a diode. 複数の機能を兼用するパッドを例示する説明図である。It is explanatory drawing which illustrates the pad which combines a some function.

符号の説明Explanation of symbols

1 マイクロコンピュータ
2 半導体基板
3,3A〜3E パッド
4,4A〜4E 入出力回路(I/O)
5A〜5D 発熱回路
6 デコーダ(DEC)
7 温度センサ(TEMPSES)
12 抵抗素子
13 MOSスイッチ
14 定電流源
15 電圧計
16 内部回路(INTCUIT)
17,18 切換え回路
S1 制御信号
S3 検出信号
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Microcomputer 2 Semiconductor substrate 3, 3A-3E Pad 4, 4A-4E Input / output circuit (I / O)
5A to 5D Heat generation circuit 6 Decoder (DEC)
7 Temperature sensor (TEMPSES)
12 Resistance element 13 MOS switch 14 Constant current source 15 Voltmeter 16 Internal circuit (INTCUIT)
17, 18 switching circuit S1 control signal S3 detection signal

Claims (7)

半導体基板に複数配置された入出力回路と、
前記入出力回路の近傍、又は前記入出力回路内に配置された複数の発熱回路と、
前記発熱回路を制御する制御信号を入力するための第1外部端子と、
温度を検出する温度センサと、
前記温度センサによる検出信号を外部に出力するための第2外部端子と、を備える半導体集積回路。
A plurality of input / output circuits arranged on a semiconductor substrate;
A plurality of heat generating circuits arranged in the vicinity of the input / output circuit or in the input / output circuit;
A first external terminal for inputting a control signal for controlling the heating circuit;
A temperature sensor for detecting the temperature;
And a second external terminal for outputting a detection signal from the temperature sensor to the outside.
前記入出力回路の近傍は、前記入出力回路の間である請求項1記載の半導体集積回路。   The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the vicinity of the input / output circuit is between the input / output circuits. 前記入出力回路が前記半導体基板の周辺部に複数配置され、かつ、前記半導体基板が矩形である場合には、前記半導体基板の対向する辺の近傍に配置される前記発熱回路の数は、同一である請求項1記載の半導体集積回路。   When a plurality of the input / output circuits are arranged in the periphery of the semiconductor substrate and the semiconductor substrate is rectangular, the number of the heating circuits arranged in the vicinity of the opposing sides of the semiconductor substrate is the same. The semiconductor integrated circuit according to claim 1. 前記温度センサは、ダイオードである請求項1記載の半導体集積回路。   The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the temperature sensor is a diode. 前記制御信号をデコードして、デコード結果に応じて動作させるべき前記発熱回路をブロック単位で選択するデコーダを備える請求項1記載の半導体集積回路。   2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising a decoder that decodes the control signal and selects the heat generating circuit to be operated according to a decoding result in units of blocks. 前記第1外部端子は、前記制御信号の入力とは異なる第1信号のインタフェース機能に兼用され、
前記第2外部端子は、前記検出信号の出力とは異なる第2信号のインタフェース機能に兼用され、
前記制御信号の伝達経路と前記第1信号の伝達経路とを選択的に前記第1外部端子に接続する第1切換え回路と、
前記検出信号の伝達経路と前記第2信号の伝達経路とを選択的に前記第2外部端子に接続する第2切換え回路と、
前記第1切換え回路と前記第2切換え回路を共通に切換え制御可能な第3外部端子と、を更に有する請求項1記載の半導体集積回路。
The first external terminal is also used for an interface function of a first signal different from the input of the control signal,
The second external terminal is also used for an interface function of a second signal different from the output of the detection signal,
A first switching circuit for selectively connecting the transmission path of the control signal and the transmission path of the first signal to the first external terminal;
A second switching circuit that selectively connects the transmission path of the detection signal and the transmission path of the second signal to the second external terminal;
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising a third external terminal capable of switching and controlling the first switching circuit and the second switching circuit in common.
請求項5項記載の半導体集積回路の動作試験方法であって、
複数の前記発熱回路をブロックに分割し、前記第2外部端子から出力される前記検出信号に基づいて動作させるべきブロックを選択して、発熱させる前記発熱回路の数を可変に制御する半導体集積回路の動作試験方法。
An operation test method for a semiconductor integrated circuit according to claim 5,
A semiconductor integrated circuit that divides a plurality of heat generating circuits into blocks, selects a block to be operated based on the detection signal output from the second external terminal, and variably controls the number of heat generating circuits that generate heat Operation test method.
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