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JP2007250719A - Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof - Google Patents

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JP2007250719A
JP2007250719A JP2006070459A JP2006070459A JP2007250719A JP 2007250719 A JP2007250719 A JP 2007250719A JP 2006070459 A JP2006070459 A JP 2006070459A JP 2006070459 A JP2006070459 A JP 2006070459A JP 2007250719 A JP2007250719 A JP 2007250719A
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JP
Japan
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hole transport
organic
layer
light emitting
transport layer
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Pending
Application number
JP2006070459A
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Japanese (ja)
Inventor
Takahisa Shimizu
貴央 清水
Akiko Tsujii
明子 辻井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP2006070459A priority Critical patent/JP2007250719A/en
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Abstract

【課題】本発明は、正孔輸送材料としてドープ型のPEDOT/PSSのように不純物が発光層に移行する恐れのある材料を用いても、不純物の移行を防ぐことのできる膜を備えた有機EL素子であって、均一発光可能な有機EL素子及びこのような有機EL素子を効率よく製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】基板と、当該基板上に第一電極、有機発光媒体層、第二電極を備え、当該有機発光媒体層は少なくとも正孔輸送層と有機発光層を備え、さらに前記正孔輸送層と前記有機発光層との間に第二正孔輸送層を備えた有機エレクトロルミネッセント素子であって、前記第二正孔輸送層の膜厚は10nm以上30nm以下であり、膜厚バラツキは±20%以内であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセント素子とする。
【選択図】図1
The present invention provides an organic film having a film that can prevent migration of impurities even when a material that may cause impurities to migrate to a light emitting layer, such as doped PEDOT / PSS, is used as a hole transport material. An object of the present invention is to provide an organic EL element that can emit light uniformly and a method for efficiently manufacturing such an organic EL element.
A substrate and a first electrode, an organic light emitting medium layer, and a second electrode are provided on the substrate, and the organic light emitting medium layer includes at least a hole transport layer and an organic light emitting layer, and further includes the hole transport layer. And an organic electroluminescent device comprising a second hole transport layer between the organic light emitting layer, the film thickness of the second hole transport layer is 10 nm or more and 30 nm or less, and the film thickness variation is The organic electroluminescent device is characterized by being within ± 20%.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、有機薄膜のエレクトロルミネッセンス現象を利用した有機薄膜エレクトロルミネッセント素子、特に有機発光層が有機発光体材料からなるポリマーエレクトロルミネッセント素子に関するものである。   The present invention relates to an organic thin film electroluminescent device using an electroluminescent phenomenon of an organic thin film, and more particularly to a polymer electroluminescent device in which an organic light emitting layer is made of an organic light emitting material.

エレクトロルミネッセント素子(以下、EL素子とする)は、少なくとも基板と、当該基板上に第一電極、発光媒体層、第二電極を順次備え、第一電極と第二電極との間に電圧を印加することで有機発光層を発光させ、第一電極側または第二電極側を透光性として光を取り出す構造の自発光型素子である。なかでも発光媒体層の構成材料に有機材料を用いたものを有機EL素子という。   An electroluminescent element (hereinafter referred to as an EL element) includes at least a substrate, a first electrode, a light emitting medium layer, and a second electrode in that order on the substrate, and a voltage between the first electrode and the second electrode. Is a self-luminous element having a structure in which the organic light-emitting layer emits light by applying a light, and the first electrode side or the second electrode side is made translucent to extract light. Among these, a material using an organic material as a constituent material of the light emitting medium layer is called an organic EL element.

有機材料からなる有機発光媒体層は通常機能分化された複数の層から構成される。その典型的な例としては、正孔注入層に銅フタロシアニン、正孔輸送層にN,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン、発光体層にトリス(8−キノリノール)アルミニウムをそれぞれ用いたものが挙げられる。ここで挙げた有機発光媒体層を構成し機能する物質(機能性材料)はいずれも低分子の化合物であり、各層は1〜100nm程度の厚みで抵抗加熱方式などの真空蒸着法などによって積層される。このため、低分子材料を用いる薄膜型の有機エレクトロルミネッセント素子の製造のためには、複数の蒸着釜を連結した真空蒸着装置を必要とし、生産性が低く製造コストが高い、大型化が難しいなどの問題点があった。   An organic light emitting medium layer made of an organic material is usually composed of a plurality of functionally differentiated layers. Typical examples thereof include copper phthalocyanine for the hole injection layer and N, N′-di (1-naphthyl) -N, N′-diphenyl-1,1′-biphenyl-4,4 for the hole transport layer. '-Diamine, and those using tris (8-quinolinol) aluminum for the luminescent layer, respectively. The substances (functional materials) constituting and functioning the organic light emitting medium layer mentioned here are all low-molecular compounds, and each layer is laminated by a vacuum evaporation method such as a resistance heating method with a thickness of about 1 to 100 nm. The For this reason, in order to manufacture a thin film type organic electroluminescent device using a low molecular material, a vacuum deposition apparatus in which a plurality of vapor deposition kettles are connected is required, and the productivity is low and the manufacturing cost is high. There were problems such as difficulties.

これに対し、有機発光媒体層を構成する機能性材料に高分子材料を用いたポリマーエレクトロルミネッセント素子がある。
有機発光媒体層に含まれる機能性材料に高分子材料を用いたポリマーEL素子の構造は、低分子を機能性材料とするEL素子と同様に第一電極と第二電極との間に有機発光媒体層が挟まれている。有機発光媒体層は有機(ポリマー)発光層のみの単層か、有機発光層と発光層の発光を補助する機能性材料を含む層とを備える多層構成となる。例えば、陽極側から正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層のように構成されている。
On the other hand, there is a polymer electroluminescent device using a polymer material as a functional material constituting the organic light emitting medium layer.
The structure of the polymer EL element using a polymer material as the functional material contained in the organic light emitting medium layer is organic light emitting between the first electrode and the second electrode as in the case of the EL element using a low molecular weight functional material. The media layer is sandwiched. The organic light emitting medium layer has a single layer structure including only an organic (polymer) light emitting layer or a multilayer structure including an organic light emitting layer and a layer containing a functional material that assists light emission of the light emitting layer. For example, a positive hole transport layer, an organic light emitting layer, and an electron transport layer are configured from the anode side.

ポリマー型の発光層としては、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾールなどの高分子中に低分子の蛍光色素を溶解させたものや、ポリフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリアルキルフルオレン誘導体(PAF)等の高分子発光体が用いられる。これら高分子材料は、溶剤に溶解させることで塗布法や印刷法で製膜することができるため、前述の低分子材料を用いた有機EL素子と比較して、大気圧下での製膜が可能であり設備コストが安いという利点がある。   Examples of the polymer-type light emitting layer include those obtained by dissolving a low-molecular fluorescent dye in a polymer such as polystyrene, polymethyl methacrylate, and polyvinyl carbazole, polyphenylene vinylene derivatives (PPV), polyalkylfluorene derivatives (PAF), and the like. A polymer light emitter is used. Since these polymer materials can be dissolved in a solvent to form a film by a coating method or a printing method, compared with the organic EL element using the above-described low molecular weight material, film formation under atmospheric pressure is possible. There is an advantage that it is possible and equipment cost is low.

そして、このようなポリマー型の発光層を備えた有機EL素子には、陽極側に正孔輸送材料としてドープされたポリチオフェン(以下PEDOT/PSSと略する)材料を機能性材料として含む正孔輸送層を設ける構造が現在多く用いられている。しかし、ドーパントからの不純物が発光層に混入し、その発光寿命を低下させてしまうという問題点が挙げられている。   An organic EL device having such a polymer-type light emitting layer includes a hole transporting material containing a polythiophene (hereinafter abbreviated as PEDOT / PSS) material doped as a hole transporting material on the anode side as a functional material. A structure in which a layer is provided is currently widely used. However, there is a problem that impurities from the dopant are mixed in the light emitting layer and the light emission lifetime is reduced.

これを解決するために、PEDOT/PSS層と発光層の間に、10nm程度のフルオレン誘導体薄膜を設ける方法が提案されている。この薄膜を設けることで、PEDOT/PSSからの不純物の浸出を防止し、さらには陽極側からの電子の浸入を阻止する電子ブロック層として用いるという報告がある(非特許文献1)。   In order to solve this, a method of providing a fluorene derivative thin film of about 10 nm between the PEDOT / PSS layer and the light emitting layer has been proposed. By providing this thin film, there is a report that it is used as an electron blocking layer that prevents leaching of impurities from PEDOT / PSS and further prevents the penetration of electrons from the anode side (Non-patent Document 1).

しかしながら、ここで報告された材料による薄膜は10nm程と非常に薄い膜としなければならないため、その形成方法に制限がある。そのためスピンコート法により成膜することは、かろうじて可能であるが、各種コーティング法、パターン状に形成可能な印刷法により成膜するには、膜厚の均一性を出すことが非常に難しく、均一にならなかった場合、素子が均一に発光しないという問題点がある。   However, since the thin film made of the material reported here must be a very thin film of about 10 nm, its formation method is limited. For this reason, it is possible to form a film by spin coating, but it is very difficult and uniform to form a film by various coating methods and printing methods that can be formed in a pattern. If not, there is a problem that the element does not emit light uniformly.

Applied Physics Letters Vol.80 pp2436−2438Applied Physics Letters Vol. 80 pp 2436-2438

そこで、本発明は、正孔輸送材料としてドープ型のPEDOT/PSSのように不純物が発光層に移行する恐れのある材料を用いても、不純物の移行を防ぐことのできる膜を備えた有機EL素子であって、均一発光可能な有機EL素子及びこのような有機EL素子を効率よく製造する方法を提供するためになされたものである。   Therefore, the present invention provides an organic EL provided with a film that can prevent the migration of impurities even when a material that may cause impurities to migrate to the light emitting layer, such as doped PEDOT / PSS, is used as a hole transport material. The present invention has been made in order to provide an organic EL element capable of uniformly emitting light and a method for efficiently manufacturing such an organic EL element.

上記課題を解決するためになされた第一の発明は、基板と、当該基板上に第一電極、有機発光媒体層、第二電極を備え、当該有機発光媒体層は少なくとも正孔輸送層と有機発光層を備え、さらに前記正孔輸送層と前記有機発光層との間に第二正孔輸送層を備えた有機エレクトロルミネッセント素子であって、前記第二正孔輸送層の膜厚は10nm以上30nm以下であり、膜厚バラツキは±20%以内であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセント素子である。   A first invention made to solve the above problems includes a substrate, and a first electrode, an organic light emitting medium layer, and a second electrode on the substrate, and the organic light emitting medium layer includes at least a hole transport layer and an organic layer. An organic electroluminescent device comprising a light emitting layer and further comprising a second hole transport layer between the hole transport layer and the organic light emitting layer, wherein the film thickness of the second hole transport layer is The organic electroluminescent element is characterized in that the thickness is 10 nm or more and 30 nm or less, and the film thickness variation is within ± 20%.

さらには、前記第二正孔輸送層の膜厚は15nm以上であり、膜厚バラツキは±10%以内であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子である。   Furthermore, the thickness of the second hole transport layer is 15 nm or more, and the variation in film thickness is within ± 10%.

上記課題を解決するためになされた他の発明は、基板と、当該基板上に少なくとも第一電極、有機発光媒体層、第二電極を備え、当該有機発光媒体層は少なくとも正孔輸送層と有機発光層を備え、さらに前記正孔輸送層と前記有機発光層との間に第二正孔輸送層を備えた有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法であって、1.基板上に第一電極を形成する工程、2.前記第一電極の上方に正孔輸送層を湿式法により形成する工程、3.前記正孔輸送層の上方に第二正孔輸送層を湿式法により形成する工程、4.前記第二正孔輸送層の上に有機発光層を湿式法により形成する工程、5.正孔輸送層、第二正孔輸送層、有機発光層を含む有機発光媒体層の上方に第二電極を形成する工程、を備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法である。   Another invention made in order to solve the above-described problems includes a substrate, and at least a first electrode, an organic light emitting medium layer, and a second electrode on the substrate, and the organic light emitting medium layer includes at least a hole transport layer and an organic layer. A method for producing an organic electroluminescent device comprising a light emitting layer, and further comprising a second hole transport layer between the hole transport layer and the organic light emitting layer. 1. forming a first electrode on the substrate; 2. forming a hole transport layer above the first electrode by a wet method; 3. forming a second hole transport layer above the hole transport layer by a wet method; 4. forming an organic light emitting layer on the second hole transport layer by a wet method; Forming a second electrode above an organic light emitting medium layer including a hole transport layer, a second hole transport layer, and an organic light emitting layer, and a method for producing an organic electroluminescent device .

本発明の有機EL素子は、正孔輸送層と有機発光層との間に第二正孔輸送層を備え、かつ第二正孔輸送層の膜厚が10nm以上30nm以下、膜厚バラツキが±20%以下であるので、不純物の移動による有機発光層の劣化を防ぐとともに均一発光可能な優れた構造の有機EL素子とすることができる。また、有効画素領域の膜厚が10nm以上30nm以下であり膜厚バラツキが±20%以下の第二正孔輸送層を備えた有機EL素子を製造することができるので、特に大画面で優れた表示品質の有機ELディスプレイとすることができる。さらに、第二正孔輸送層は高い正孔移動能と電子ブロック能を有するため、発光効率の向上にもつながる。   The organic EL device of the present invention includes a second hole transport layer between the hole transport layer and the organic light emitting layer, and the film thickness of the second hole transport layer is 10 nm or more and 30 nm or less, and the film thickness variation is ± Since it is 20% or less, it is possible to provide an organic EL element having an excellent structure capable of preventing uniform deterioration of the organic light emitting layer due to migration of impurities and capable of uniform light emission. In addition, since an organic EL element having a second hole transport layer having an effective pixel region thickness of 10 nm or more and 30 nm or less and a thickness variation of ± 20% or less can be manufactured, it is particularly excellent on a large screen. An organic EL display with display quality can be obtained. Furthermore, since the second hole transport layer has high hole mobility and electron blocking ability, it leads to an improvement in luminous efficiency.

以下、本発明による有機EL素子の詳細を図1に基いて説明する。
本発明の有機EL素子は、少なくとも基板と、基板上に形成された第一電極と、有機発光媒体層と、第二電極とを備える。そして、有機発光媒体層は少なくとも正孔輸送層と有機発光層を備え、さらに正孔輸送層と有機発光層との間に第二正孔輸送層を備えている。
Hereinafter, the details of the organic EL device according to the present invention will be described with reference to FIG.
The organic EL device of the present invention includes at least a substrate, a first electrode formed on the substrate, an organic light emitting medium layer, and a second electrode. The organic light emitting medium layer includes at least a hole transport layer and an organic light emitting layer, and further includes a second hole transport layer between the hole transport layer and the organic light emitting layer.

本発明における基板1(図1)としては、電極や有機発光媒体層を保持できる程度の強度を備えた基材なら制限はない。具体的にはガラス基板やプラスチック製のフィルムまたはシートを用いることができる。0.2mmから1mm程度の薄いガラス基板を用いれば、バリア性が非常に高い薄型の有機EL素子を作製することができる。
また、可撓性のあるプラスチック製のフィルムを用いれば、巻き取りにより有機EL素子を連続的に製造することが可能であり、安価に素子を提供することができる。プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート等を用いることができる。また、第一電極2を製膜しない側にセラミック蒸着フィルムやポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体鹸化物等の他のガスバリア性フィルムを積層すれば、よりバリア性が向上し、寿命の長い有機EL素子とすることができる。
The substrate 1 (FIG. 1) in the present invention is not limited as long as it is a base material having a strength sufficient to hold an electrode and an organic light emitting medium layer. Specifically, a glass substrate or a plastic film or sheet can be used. If a thin glass substrate having a thickness of about 0.2 mm to 1 mm is used, a thin organic EL element having a very high barrier property can be produced.
If a flexible plastic film is used, the organic EL element can be continuously manufactured by winding, and the element can be provided at a low cost. As the plastic film, polyethylene terephthalate, polypropylene, cycloolefin polymer, polyamide, polyether sulfone, polymethyl methacrylate, polycarbonate and the like can be used. If another gas barrier film such as a ceramic vapor deposited film, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer is laminated on the side where the first electrode 2 is not formed, the barrier property is further improved. And it can be set as an organic EL element with a long lifetime.

水蒸気や酸素などの透過を防ぐバリア性を考慮するとガラス基板の他に金属薄膜や金属薄板も有用であるが、第一電極との絶縁性を図る処置が必要である。また、第一電極側から光を取り出す、いわゆるボトムエミッション構造の有機EL素子とする場合には、第一電極2はもちろん基板1としても透光性の材料を選択する必要がある。   In consideration of the barrier property for preventing permeation of water vapor, oxygen and the like, a metal thin film or a metal thin plate is useful in addition to the glass substrate, but a measure for insulation from the first electrode is necessary. Further, in the case of an organic EL element having a so-called bottom emission structure in which light is extracted from the first electrode side, it is necessary to select a translucent material for the substrate 1 as well as the first electrode 2.

第一電極2は、基板1の上に直接または平坦化層などを介して間接的に形成される。第一電極を陽極として機能させる場合は、具体的にはインジウムと錫の複合酸化物(以下ITOという)を好ましく用いることができる。前記基板1上に蒸着またはスパッタリング法により製膜することができる。また、オクチル酸インジウムやアセトンインジウムなどの前駆体を基材上に塗布後、熱分解により酸化物を形成する塗布熱分解法等により形成することもできる。あるいは、アルミニウム、金、銀等の金属が半透明状に蒸着されたものを用いることができる。あるいはポリアニリン等の有機半導体も用いることができる。ボトムエミッションタイプのポリマーEL素子とする場合には透明または半透明の電極を形成することのできる導電性物質を選択する。   The first electrode 2 is formed directly on the substrate 1 or indirectly through a planarization layer or the like. When the first electrode functions as an anode, specifically, a composite oxide of indium and tin (hereinafter referred to as ITO) can be preferably used. A film can be formed on the substrate 1 by vapor deposition or sputtering. Alternatively, a precursor such as indium octylate or indium acetone can be formed on the base material by a coating pyrolysis method in which an oxide is formed by thermal decomposition. Alternatively, a material in which a metal such as aluminum, gold, or silver is vapor-deposited in a translucent state can be used. Alternatively, an organic semiconductor such as polyaniline can also be used. In the case of a bottom emission type polymer EL element, a conductive material capable of forming a transparent or translucent electrode is selected.

上記、第一電極2は、必要に応じてエッチングによりパターニングを行ったり、UV処理、プラズマ処理などにより表面の活性化を行ってもよい。   The first electrode 2 may be patterned by etching as necessary, or may be activated by UV treatment, plasma treatment, or the like.

マトリクス表示可能なディスプレイとして有機EL素子を製造する場合には、第一電極をストライプ状に形成し、有機発光媒体層を挟んで形成される第二電極を第一電極と直角に交わるストライプ状に形成することで、交点が発光する方式のパッシブマトリクス表示とすることができる。また、基板1に各画素に対応する薄膜トランジスタを形成し、これと導通するように各画素に対応する第一電極を各々設けることもできる。   When manufacturing an organic EL element as a display capable of matrix display, the first electrode is formed in a stripe shape, and the second electrode formed with the organic light-emitting medium layer in between is formed in a stripe shape that intersects the first electrode at a right angle. By forming, a passive matrix display in which the intersections emit light can be obtained. In addition, a thin film transistor corresponding to each pixel may be formed on the substrate 1, and a first electrode corresponding to each pixel may be provided so as to be electrically connected thereto.

第一電極をエッチングによりパターン状に形成した場合は、第一電極パターンの端部の凹凸が大きく、上方に積層する有機発光媒体層では覆いきれない場合がある。こうなると、第一電極と第二電極がショートしてしまう。そのため、第一電極の端部は絶縁性の樹脂などで被覆することが好ましい。第一電極端部の被覆には、例えばポリイミド、アクリル、ポリウレタンなどの樹脂の組成物に感光性を持たせ、これを塗布し、マスク露光し、現像することで行うことができる。   When the first electrode is formed into a pattern by etching, the unevenness at the end of the first electrode pattern is large and may not be covered by the organic light-emitting medium layer stacked above. As a result, the first electrode and the second electrode are short-circuited. Therefore, it is preferable to cover the end portion of the first electrode with an insulating resin or the like. The coating of the end portion of the first electrode can be performed, for example, by imparting photosensitivity to a resin composition such as polyimide, acrylic, polyurethane, etc., applying this, exposing to a mask, and developing.

また、第一電極の端部を覆う絶縁性の樹脂(絶縁性隔壁5とする)の高さを一定以上、例えば0.5μm以上1.5μm以下とすると、ある第一電極パターンと、隣接する第一電極パターンとの上方に形成される有機発光媒体層が異なる場合、例えばそれぞれ発光層の発光色を異なる色とする場合に、隣接する画素との混色を防ぐ役割を果たす。   Further, when the height of the insulating resin covering the end portion of the first electrode (referred to as the insulating partition wall 5) is a certain level or more, for example, 0.5 μm or more and 1.5 μm or less, it is adjacent to a certain first electrode pattern. When the organic light emitting medium layer formed above the first electrode pattern is different, for example, when the light emitting color of the light emitting layer is different from each other, it serves to prevent color mixing with adjacent pixels.

本発明における有機EL素子の有機発光媒体層3は、少なくとも正孔輸送層3aと有機発光層3cを備え、さらに正孔輸送層と有機発光層との間に第二正孔輸送層3bを備えている(図1)。   The organic light emitting medium layer 3 of the organic EL element in the present invention includes at least a hole transport layer 3a and an organic light emitting layer 3c, and further includes a second hole transport layer 3b between the hole transport layer and the organic light emitting layer. (Fig. 1).

正孔輸送層3aに用いる正孔輸送材料としては、ドープ型の正孔輸送材料を好ましく用いることができる。ドープ型の正孔輸送材料とは、電子アクセプター性の材料を少量混合することにより、導電性を備えるようになった導電性高分子であり、正孔(ホール)を有機発光層へ伝達することのできる正孔輸送材料である。例えば、ドープ型ポリチオフェン等を挙げることができる。特に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)にポリスチレンスルホン酸をドープした有機材料が、湿式法による製膜が可能であり好ましく用いられている。   As the hole transport material used for the hole transport layer 3a, a doped hole transport material can be preferably used. Doped hole transport material is a conductive polymer that is made conductive by mixing a small amount of electron acceptor material, and transmits holes to the organic light-emitting layer. It is a hole transport material that can be formed. For example, a doped polythiophene can be used. In particular, an organic material obtained by doping poly (3,4-ethylenedioxythiophene) with polystyrene sulfonic acid is preferably used because it can be formed into a film by a wet method.

正孔輸送層3aに用いることのできる機能性材料は、溶剤に溶解または分散させてインキ状に加工し、これを塗布法、印刷法、液滴吐出法などの方法で第一電極を形成した基板上に積層することができる。正孔輸送材料を溶解又は分散させる溶剤としては、隣接する有機発光層に含まれる発光材料の溶解性も考慮して、水、またはアルコール系の溶剤を好ましく用いることができる。   The functional material that can be used for the hole transport layer 3a was dissolved or dispersed in a solvent and processed into an ink, and this was formed into a first electrode by a method such as a coating method, a printing method, or a droplet discharge method. It can be laminated on a substrate. As a solvent for dissolving or dispersing the hole transport material, water or an alcohol-based solvent can be preferably used in consideration of the solubility of the light-emitting material contained in the adjacent organic light-emitting layer.

塗布法としては、一般的にスピンコート法、ディッピング法、バーコート法、スリットコート(ダイコート)法等があげられる。
印刷法としては、凹版印刷法、凸版印刷法、平版印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法等様々な印刷法が挙げられる。特に被印刷基板に接触状態になる印刷版、あるいはブランケットとして樹脂や弾性材料を選択することのできる凸版印刷法やオフセット印刷法が好ましい。
また、印刷版を使用しないインキ配置方法として、インキジェット法を挙げることができる。
Examples of the coating method generally include spin coating, dipping, bar coating, and slit coating (die coating).
Examples of the printing method include various printing methods such as an intaglio printing method, a relief printing method, a planographic printing method, an offset printing method, and a screen printing method. In particular, a printing plate that comes into contact with the substrate to be printed, or a relief printing method or an offset printing method in which a resin or an elastic material can be selected as a blanket is preferable.
Moreover, an ink jet method can be mentioned as an ink arrangement method that does not use a printing plate.

第二正孔輸送層3bは、正孔輸送層から有機発光層への不純物の移行及び電子の移動を阻止する機能を備える。不純物には例えば金属イオンなどのイオン性物質を挙げることができる。第二正孔輸送層に用いることのできる機能性材料には、正孔輸送層に用いた機能性材料であってドーパントがドープされていないポリマーまたはオリゴマーを挙げることができる。さらに、未ドープ状態で高い正孔移動度を示すような材料であり、具体的に正孔移動度は1×10−4以上1cm/v・s以下の範囲となるような材料を選択すれば、膜厚が10nm以上あっても低電圧で十分な輝度を得ることができる。さらに好ましくは1×10−2以上1cm/v・s以下の範囲となるような材料であれば、膜厚を15nm以上と厚くしても低電圧で高い輝度を得る事ができ、さらに膜厚のバラツキも低く抑えることができる。このような正孔移動度を有する機能性材料としては、例えば、立体規則性のあるポリアルキルチオフェン(0.1cm/v・s)や、結晶性の良いポリアルキルフルオレン(4×10−3cm/v・s)、正孔輸送性の高いトリフェニルアミン系のポリマー(1×10−2cm/v・s)、またはオリゴマーが挙げられる。ただし、この次に積層される有機発光材料の成膜方法を考慮し、トルエンやキシレン等への溶解性が1wt%程度の低い溶解性であることが好ましい。 The second hole transport layer 3b has a function of preventing impurity migration and electron transfer from the hole transport layer to the organic light emitting layer. Examples of impurities include ionic substances such as metal ions. Examples of the functional material that can be used for the second hole transport layer include a polymer or an oligomer that is the functional material used for the hole transport layer and is not doped with a dopant. Furthermore, a material that exhibits high hole mobility in an undoped state, specifically, a material that has a hole mobility in the range of 1 × 10 −4 or more and 1 cm 2 / v · s or less should be selected. For example, even if the film thickness is 10 nm or more, sufficient luminance can be obtained at a low voltage. More preferably, if the material is in the range of 1 × 10 −2 or more and 1 cm 2 / v · s or less, high luminance can be obtained at a low voltage even when the film thickness is increased to 15 nm or more. Thickness variation can be kept low. Examples of the functional material having such hole mobility include polyalkylthiophene (0.1 cm 2 / v · s) having stereoregularity and polyalkylfluorene (4 × 10 −3 ) having good crystallinity. cm 2 / v · s), a triphenylamine polymer (1 × 10 −2 cm 2 / v · s) having a high hole-transport property, or an oligomer. However, in consideration of the method of forming the organic light emitting material to be laminated next, it is preferable that the solubility in toluene, xylene or the like is as low as about 1 wt%.

本発明で基準とする正孔移動度の測定はTime−of−Flight(TOF)法による。測定条件は、以下の通りである。
測定素子構造:半透明Al(20nm)/材料5μm/Al(80nm)
炭素ガスレーザにて励起
130V、25℃で測定
The measurement of hole mobility as a reference in the present invention is based on the Time-of-Flight (TOF) method. The measurement conditions are as follows.
Measuring element structure: translucent Al (20 nm) / material 5 μm / Al (80 nm)
Measured at 130V and 25 ° C with a carbon gas laser

第二正孔輸送層の形成順は、正孔輸送層と有機発光層との間に形成されていればよく、この際他の機能性材料を含む層(例えば正孔注入層や絶縁層(正孔移動度が1×10−4cm/v・sに満たない層))が隣接して形成されていてもよい。 The second hole transport layer may be formed in any order as long as it is formed between the hole transport layer and the organic light-emitting layer. At this time, a layer containing another functional material (for example, a hole injection layer or an insulating layer ( Layers having a hole mobility of less than 1 × 10 −4 cm 2 / v · s)) may be formed adjacent to each other.

第二正孔輸送層を構成する移行防止材料はポリマーまたはオリゴマーであるので適当な溶剤に溶解又は分散してインキ状に加工し、これを正孔輸送層と同様に湿式法にて正孔輸送層上に積層することができる。湿式法としては全面に一様に皮膜を形成する塗布法と必要な部分のみに皮膜を形成する印刷法、また印刷版を使用しないパターニング方法として液滴吐出法が挙げられる。第二正孔輸送層の膜厚が10nmから30nmの場合は全面に形成する塗布法を好ましく用いることができる。スリットコート法によれば、基板が大型(1000mm角以上)になっても、基板の中央部と端部で限度以上の膜厚バラツキを生じさせずに第二正孔輸送層を形成することができ、有機EL素子を多面付けで形成する際はもとより、大型のディスプレイを製造する際にもバラツキを一定の範囲内に収めることができるので、発光均一性のよいディスプレイとすることができる。第二正孔輸送層の膜厚が15nm以上の場合は、印刷法あるいは液滴吐出法を好ましく用いることができる。印刷法あるいは液滴吐出法によれば、やはり大型のディスプレイを製造する際の膜厚バラツキを所定の範囲に収め、輝度均一性の高いディスプレイとすることができるとともに、部分形成が可能であるため、対応する画素に合わせて用いる材料を変更することもできる。特に、低い隔壁でも十分パターン配置が可能で、被印刷基板を傷つけることのないよう印刷版として樹脂製の凸版を使用することのできる凸版印刷法が好ましい。
移行防止材料をインキとして調整する際に用いることのできる溶剤としては、正孔輸送材料をインキ状に調整する際に用いたものと同様の水系・アルコール系の溶剤を好ましく使用することができる。
Since the migration preventing material constituting the second hole transport layer is a polymer or oligomer, it is dissolved or dispersed in an appropriate solvent and processed into an ink, and this is transported by a wet method in the same manner as the hole transport layer. It can be laminated on the layer. Examples of the wet method include a coating method that uniformly forms a film on the entire surface, a printing method that forms a film only on necessary portions, and a droplet discharge method as a patterning method that does not use a printing plate. When the thickness of the second hole transport layer is from 10 nm to 30 nm, a coating method formed on the entire surface can be preferably used. According to the slit coating method, even when the substrate becomes large (1000 mm square or more), the second hole transport layer can be formed without causing a film thickness variation exceeding the limit at the center and the end of the substrate. In addition, since the variation can be kept within a certain range not only when the organic EL element is formed with multiple faces but also when a large display is manufactured, a display with good emission uniformity can be obtained. When the thickness of the second hole transport layer is 15 nm or more, a printing method or a droplet discharge method can be preferably used. According to the printing method or the droplet discharge method, the variation in film thickness when manufacturing a large display can be kept within a predetermined range, a display with high luminance uniformity can be formed, and partial formation is possible. The material used in accordance with the corresponding pixel can be changed. In particular, a relief printing method in which a resin plate can be used as a printing plate is preferable so that a pattern can be sufficiently arranged even with a low partition and the printed substrate is not damaged.
As a solvent that can be used when adjusting the migration preventing material as an ink, the same water-based / alcohol-based solvent as that used when adjusting the hole transport material into an ink can be preferably used.

本発明の有機EL素子の備える第二正孔輸送層の厚みは10nm以上30nm以下の範囲である。また膜厚のバラツキは±20%である。ここで、厚みとバラツキが規定されるのは有機EL素子の有効画素領域に形成された第二正孔輸送層についてである。有効画素領域とは、有機EL素子をディスプレイ化した際に、情報の表示に使用される領域のことを指し、この領域の発光状態は有機EL素子及びディスプレイの品質に大きく影響する。特に正孔移動度が1×10−4以上1cm/v・sであれば、15nm以上の厚みであっても正孔の移動を妨げることがなく、低電圧で高輝度を得ることができる。10nm以上の厚みを備えるため、均一発光のために許容される膜厚変化の範囲が広く、スピンコート法や、それ以外の印刷法などのウエットコーティング法を適用することができる。30nm以下の厚みであれば、過度な電流を消費せずに十分な輝度を得ることができる。
第二正孔輸送層は、不純物の移行を防ぐのみならず、有機発光層への電子の移動を防ぐ(電子ブロック)ことができる。
The thickness of the 2nd hole transport layer with which the organic EL element of this invention is provided is the range of 10 nm or more and 30 nm or less. Further, the variation in film thickness is ± 20%. Here, the thickness and the variation are defined for the second hole transport layer formed in the effective pixel region of the organic EL element. The effective pixel region refers to a region used for displaying information when the organic EL element is converted into a display, and the light emission state of this region greatly affects the quality of the organic EL element and the display. In particular, when the hole mobility is 1 × 10 −4 or more and 1 cm 2 / v · s, even if the thickness is 15 nm or more, hole movement is not hindered, and high luminance can be obtained at a low voltage. . Since it has a thickness of 10 nm or more, the range of change in film thickness allowed for uniform light emission is wide, and a wet coating method such as a spin coating method or other printing methods can be applied. If the thickness is 30 nm or less, sufficient luminance can be obtained without consuming excessive current.
The second hole transport layer not only prevents the migration of impurities, but also prevents the movement of electrons to the organic light emitting layer (electronic block).

正孔輸送層3aから第二正孔輸送層3bを介して、有機発光層3cを形成する。有機発光層は、低分子発光材料を高分子発光材料、あるいは高分子バインダー中に分散させたものや、高分子発光材料を用いることができる。例えば、低分子発光材料として一般に有機発光材料として用いられている、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、N,N’−ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、N,N’−ジアリール置換ピロロピロール系等の発光性色素を高分子バインダーであるポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等に溶解させたものや、高分子発光材料としてポリパラフェニレンビニレン(PPV)系やポリアルキルフルオレン(PAF)系、ポリパラフェニレン系等を用いることができる。   An organic light emitting layer 3c is formed from the hole transport layer 3a through the second hole transport layer 3b. For the organic light emitting layer, a low molecular light emitting material dispersed in a polymer light emitting material or polymer binder, or a polymer light emitting material can be used. For example, coumarin-based, perylene-based, pyran-based, anthrone-based, porphyrene-based, quinacridone-based, N, N′-dialkyl-substituted quinacridone-based, naphthalimide-based, N , N′-diaryl-substituted pyrrolopyrrole-based luminescent dyes dissolved in polymer binders such as polystyrene, polymethyl methacrylate, polyvinylcarbazole, etc., and polymer luminescent materials such as polyparaphenylene vinylene (PPV) Polyalkylfluorene (PAF), polyparaphenylene, and the like can be used.

有機発光層を構成する機能性材料は高分子を含むため、溶剤に溶解又は分散してインキ状に加工し、これを正孔輸送層、第二正孔輸送層と同様に印刷法や塗布法により第二正孔輸送層上に積層することができる。有機発光材料をインキとして調整する際に用いることのできる溶剤としては、水系、アルコール系、有機溶剤等を挙げることができるが、発光材料は通常水分に暴露されることで劣化しやすく、また溶解度パラメータの大きい有機溶剤ではないと溶解しにくいため、芳香族系の有機溶剤を好ましく用いることができる。このような有機溶剤としては例えばトルエン、キシレン、アニソール等を挙げることができる。   Since the functional material constituting the organic light-emitting layer contains a polymer, it is dissolved or dispersed in a solvent and processed into an ink, and this is printed or applied in the same manner as the hole transport layer and the second hole transport layer. Can be laminated on the second hole transport layer. Solvents that can be used when preparing organic light emitting materials as inks include water-based, alcohol-based, and organic solvents. However, light-emitting materials are usually easily deteriorated by exposure to moisture, and are soluble. Since it is difficult to dissolve unless the organic solvent has a large parameter, an aromatic organic solvent can be preferably used. Examples of such an organic solvent include toluene, xylene, anisole and the like.

このようにしてインキ状に調整された移行防止材料以外の機能性材料(機能性インキ)を例えばスピンコート法で一面に一定の厚みで塗布して機能性インキ皮膜とし、溶媒を除いて機能性薄膜として形成する。特に、隣接する画素で異なる発光色の有機発光材料を選択する必要がある場合は画素間の混色を防ぐためにも画素毎に入色できる方法が好ましい。このような方法としてはインキジェット法や印刷法が挙げられる。特に、絶縁性隔壁の高さが低くても混色なく形成可能で、また隔壁に撥インキ物質の添加の必要のない印刷法が好ましい。特に、被印刷基板を傷つけることなくパターン成膜が可能な、印刷版として樹脂凸版を用いた凸版印刷法が好ましい。   In this way, functional materials (functional inks) other than the transition prevention material adjusted to the ink shape are applied to one surface with a certain thickness by, for example, spin coating to form a functional ink film, and the functionality is removed except for the solvent. It is formed as a thin film. In particular, when it is necessary to select organic light-emitting materials having different emission colors in adjacent pixels, a method that allows color entry for each pixel is preferable in order to prevent color mixture between pixels. Examples of such a method include an ink jet method and a printing method. In particular, a printing method that can be formed without color mixing even when the height of the insulating partition wall is low and that does not require the addition of an ink repellent substance to the partition wall is preferable. In particular, a relief printing method using a resin relief plate as a printing plate capable of forming a pattern without damaging the substrate to be printed is preferable.

インキに含まれる溶媒の乾燥方法としては、発光特性に支障が出ない程度に溶剤を除くことができればよく、加熱状態や減圧状態に置く方法を選択することができる。正孔輸送層及び第二正孔輸送層の成膜時は熱を加えてもよいが、発光特性への影響を考えると、発光材料はよりデリケートであるため、減圧状態で溶剤を除くのが好ましい。   As a method for drying the solvent contained in the ink, it is sufficient if the solvent can be removed to such an extent that the light emission characteristics are not hindered, and a method of placing in a heated state or a reduced pressure state can be selected. Heat may be applied during the formation of the hole transport layer and the second hole transport layer, but considering the effect on the light emission characteristics, the light emitting material is more delicate, so the solvent should be removed under reduced pressure. preferable.

上記で述べた正孔輸送層、第二正孔輸送層、有機発光媒体層の他に、さらに正孔注入層、電子ブロック層、電子輸送層、電子注入層、正孔ブロック層、絶縁層等を設けてもよい。   In addition to the hole transport layer, second hole transport layer, and organic light emitting medium layer described above, a hole injection layer, an electron block layer, an electron transport layer, an electron injection layer, a hole block layer, an insulating layer, etc. May be provided.

有機発光媒体層3の上方に第二電極4を形成し、第一電極2との間に有機発光媒体層3が挟まれるようにする。第一電極2と第二電極4で挟まれた有機発光媒体層3には電流が流れることによって正孔と電子が供給され、有機発光層3cで結合して発光する。
第二電極4を陰極とする場合にはMg,Al,Yb等の金属単体を用いる。また、有機発光媒体層と接する界面にLiやLiF等の化合物を1nm程度はさんでから、安定性・導電性の高いAlやCuを積層して用いる。または、電子注入効率と安定性を両立させるため、仕事関数の低い金属と安定な金属との合金系、例えばMgAg,AlLi,CuLi等の合金が使用できる。第二電極の形成方法は材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム法、スパッタリング法を用いることができる。第二電極の厚さは、10nmから1000nm程度が望ましい。第二電極側から光を取り出す、いわゆるトップエミッション構造とする場合には第二電極4及び後述する封止層も透光性となるよう材料を選択する必要がある。
こうして本発明の有機EL素子を得ることができる。
A second electrode 4 is formed above the organic light emitting medium layer 3 so that the organic light emitting medium layer 3 is sandwiched between the first electrode 2 and the second electrode 4. Holes and electrons are supplied to the organic light emitting medium layer 3 sandwiched between the first electrode 2 and the second electrode 4 by a current flow, and the organic light emitting layer 3c combines to emit light.
When the second electrode 4 is a cathode, a single metal such as Mg, Al, Yb is used. Further, a compound such as Li or LiF is sandwiched between about 1 nm at the interface in contact with the organic light emitting medium layer, and Al or Cu having high stability and conductivity is laminated and used. Alternatively, in order to achieve both electron injection efficiency and stability, an alloy system of a metal having a low work function and a stable metal, for example, an alloy such as MgAg, AlLi, or CuLi can be used. As a method for forming the second electrode, a resistance heating vapor deposition method, an electron beam method, or a sputtering method can be used depending on the material. The thickness of the second electrode is preferably about 10 nm to 1000 nm. In the case of a so-called top emission structure in which light is extracted from the second electrode side, it is necessary to select materials so that the second electrode 4 and a sealing layer to be described later are also translucent.
Thus, the organic EL element of the present invention can be obtained.

有機発光層は水分や酸素への暴露により発光特性が低下する。また、電極に用いられる金属は1族や2族の金属を含み反応性が高いため、やはり水や酸素と反応してしまう。従って外部からの水や酸素の浸入をふせぐことができるように、金属やガラスなどの封止基材を第一電極、有機発光媒体層及び第二電極を覆うように接着する。封止基材としては水や酸素の透過を防ぐことができるガラス・金属の他、酸化ケイ素等の皮膜を蒸着したPET等のプラスチックフィルムを用いることもできる。封止基材は外部からの物理的な圧力からも有機EL素子を守ることができる。   The organic light-emitting layer is deteriorated in light emission characteristics upon exposure to moisture and oxygen. Moreover, since the metal used for an electrode contains a group 1 or group 2 metal and has high reactivity, it reacts with water and oxygen. Therefore, a sealing base material such as metal or glass is bonded so as to cover the first electrode, the organic light emitting medium layer, and the second electrode so as to prevent entry of water and oxygen from the outside. As the sealing substrate, a plastic film such as PET on which a film of silicon oxide or the like is vapor-deposited can be used in addition to glass and metal that can prevent permeation of water and oxygen. The sealing substrate can protect the organic EL element from physical pressure from the outside.

図2に、基材1上に第一電極2、有機発光媒体層3、第二電極4を順次積層し、接着剤21を介して板状の封止基材22で封止を行った有機EL素子の模式断面図を示す。図中に示す2a及び4aはそれぞれ第一電極と第二電極の取り出し部である。
また、封止基材を接着する前に、第二電極上に水分や酸素の透過を防ぐ窒化物やケイ化物の薄膜を蒸着等の手段によって積層することもできる。また、一端浸入した水分や酸素の拡散を防ぐために、酸素吸収剤や水分吸収剤を封入して封止することもできる。
接着には熱硬化性接着剤や光硬化性接着剤を用いることができるが、過度の加熱は有機EL素子の発光特性に悪影響を与えるため、光硬化性接着剤を用いることが好ましい。
In FIG. 2, an organic material in which a first electrode 2, an organic light emitting medium layer 3, and a second electrode 4 are sequentially laminated on a base material 1 and sealed with a plate-shaped sealing base material 22 via an adhesive 21. A schematic cross-sectional view of an EL element is shown. Reference numerals 2a and 4a shown in the drawing are extraction portions for the first electrode and the second electrode, respectively.
In addition, a thin film of nitride or silicide that prevents permeation of moisture and oxygen can be laminated on the second electrode by means such as vapor deposition before adhering the sealing substrate. Further, in order to prevent diffusion of moisture or oxygen that has entered one end, an oxygen absorbent or a moisture absorbent can be enclosed and sealed.
A thermosetting adhesive or a photocurable adhesive can be used for adhesion, but it is preferable to use a photocurable adhesive because excessive heating adversely affects the light emitting characteristics of the organic EL element.

以下、本発明を用いて、有機EL素子を作製した一例を図に従って説明する。   Hereinafter, an example of producing an organic EL element using the present invention will be described with reference to the drawings.

[実施例1]
図1に示すように、100mm四方のガラス基板を透光性の基板1とし、800μmピッチ(L/S=700/100)のITOラインを透明の第一電極2として設けた。その後、ITO端部をカバーするように絶縁性レジストをフォトリソ法でパターニングし、絶縁性隔壁5を設けた。続いて、UV/O洗浄を行った後、下記化学式(1)で表されるポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸(以下PEDOT/PSSという)の1wt%水分散溶液を正孔輸送材料インキとし、スリットコート法を用いて厚み80nmで塗布してドープ型の正孔輸送材料を含む正孔輸送層3aを形成した。ここで、ホストはPEDOT、ドーパントはPSSである。さらに、未ドープ型の正孔輸送材料として、立体規則性ポリチオフェン(アルドリッチ社)(6×10−2cm/v・s)0.5重量%ジクロロエタン溶液をスリットコート法により成膜し、第二正孔輸送層3bを形成した。第二正孔輸送層3bであるポリチオフェン薄膜の厚みは20nmであった。また、ポリチオフェン薄膜の膜厚の均一性は±2nmであった。
[Example 1]
As shown in FIG. 1, a 100 mm square glass substrate was used as a translucent substrate 1, and an ITO line with an 800 μm pitch (L / S = 700/100) was provided as a transparent first electrode 2. Thereafter, an insulating resist was patterned by a photolithographic method so as to cover the ITO end portion, and an insulating partition wall 5 was provided. Subsequently, after UV / O 3 cleaning, a 1 wt% aqueous dispersion of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) represented by the following chemical formula (1) and polystyrene sulfonic acid (hereinafter referred to as PEDOT / PSS) Was used as a hole transport material ink, and was applied at a thickness of 80 nm using a slit coating method to form a hole transport layer 3a containing a doped hole transport material. Here, the host is PEDOT and the dopant is PSS. Furthermore, as an undoped hole transport material, a stereoregular polythiophene (Aldrich) (6 × 10 −2 cm 2 / v · s) 0.5 wt% dichloroethane solution was formed by a slit coating method. A two-hole transport layer 3b was formed. The thickness of the polythiophene thin film which is the second hole transport layer 3b was 20 nm. The uniformity of the polythiophene thin film was ± 2 nm.

Figure 2007250719
Figure 2007250719

続いて、ポリフルオレン系高分子発光材料をアニソール等の溶剤に1.3wt%で溶解させて有機発光インキを調整し、これを樹脂凸版印刷法を用いて膜厚50nmとなるよう先に形成した第二正孔輸送層3bの上にパターン形成して有機発光層3cを設けた。
次いで、MgAgを2元共蒸着により200nmの厚みで800μmピッチ(L/S=700/100)のストライプ状に形成して第二電極4とした。ここで第二電極のパターンは第一電極のパターンと直角に交わるように配置した。こうして本発明のパッシブ駆動型の有機EL素子を作製した。さらにガラス板を封止基板として用い、この封止基板に光硬化性接着剤を全面に塗布して有機EL素子の第二電極形成面に接着して封止を行った。この有機EL素子を、第一電極を陽極とし第二電極を陰極として、開始輝度400Cd/m(電圧5.2V)で直流駆動したところ、その輝度半減時間は3000時間であった。また、輝度計で有機EL素子の面内の輝度を10点測定し、この有機EL素子全体での面内輝度バラツキを算定したところ、400Cd/mにおいて±5%であった。
Subsequently, a polyfluorene polymer light emitting material was dissolved in a solvent such as anisole at 1.3 wt% to prepare an organic light emitting ink, which was first formed to have a film thickness of 50 nm using a resin relief printing method. An organic light emitting layer 3c was provided by pattern formation on the second hole transport layer 3b.
Subsequently, MgAg was formed into a stripe shape with a thickness of 200 nm and a pitch of 800 μm (L / S = 700/100) by binary co-evaporation to form a second electrode 4. Here, the pattern of the second electrode was arranged so as to intersect with the pattern of the first electrode at a right angle. Thus, the passive drive type organic EL device of the present invention was produced. Further, a glass plate was used as a sealing substrate, and a photocurable adhesive was applied to the entire surface of the sealing substrate and adhered to the second electrode formation surface of the organic EL element for sealing. When this organic EL element was DC-driven with a first electrode as an anode and a second electrode as a cathode at a starting luminance of 400 Cd / m 2 (voltage of 5.2 V), the luminance half time was 3000 hours. In addition, 10 in-plane luminances of the organic EL element were measured with a luminance meter, and the in-plane luminance variation of the entire organic EL element was calculated, and it was ± 5% at 400 Cd / m 2 .

[実施例2]
実施例1と同様に厚さ10nm(均一性±2nm)の薄膜を第二正孔輸送層として形成して有機EL素子を作成し、封止までを行った。この有機EL素子を実施例1と同様に開始輝度400Cd/m(電圧4.7V)で直流駆動したところ、その輝度半減時間は5000時間であった。面内輝度バラツキは400Cd/mにおいて±15%であったが、目視では判別不能であった。
[Example 2]
In the same manner as in Example 1, a thin film having a thickness of 10 nm (uniformity ± 2 nm) was formed as the second hole transport layer to prepare an organic EL device, and sealing was performed. When this organic EL element was DC-driven with a starting luminance of 400 Cd / m 2 (voltage 4.7 V) in the same manner as in Example 1, the luminance half time was 5000 hours. The in-plane luminance variation was ± 15% at 400 Cd / m 2 , but could not be determined visually.

[実施例3]
実施例1と同様に厚さ15nm(均一性±1.5nm)の薄膜を第二正孔輸送層として形成して有機EL素子を作成し、封止までを行った。また、第二正孔輸送層の形成はスリットコート法に変えて第一電極の形状に対応した樹脂凸版を用いた凸版印刷法によって印刷を行い積層した。この有機EL素子を実施例1と同様に開始輝度400Cd/m(電圧5.0V)で直流駆動したところ、その輝度半減時間は4000時間であった。面内輝度バラツキは400Cd/mにおいて±7%であった。
[Example 3]
In the same manner as in Example 1, a thin film having a thickness of 15 nm (uniformity ± 1.5 nm) was formed as the second hole transport layer to prepare an organic EL device, and the process up to sealing was performed. The second hole transport layer was formed by printing by a letterpress printing method using a resin letterpress corresponding to the shape of the first electrode instead of the slit coating method. When this organic EL element was DC driven at a starting luminance of 400 Cd / m 2 (voltage of 5.0 V) in the same manner as in Example 1, the luminance half time was 4000 hours. The in-plane luminance variation was ± 7% at 400 Cd / m 2 .

[実施例4]
実施例1と同様に厚さ20nm(均一性±2nm)の薄膜を第二正孔輸送層として形成して有機EL素子を作成し、封止までを行った。また、第二正孔輸送層の形成はスリットコート法に変えて第一電極の形状に対応した樹脂凸版を用いた凸版印刷法によって印刷を行い積層した。この有機EL素子を実施例1と同様に開始輝度400Cd/m(電圧5.1V)で直流駆動したところ、その輝度半減時間は4000時間であった。面内輝度バラツキは400Cd/mにおいて±10%であった。
[Example 4]
In the same manner as in Example 1, a thin film having a thickness of 20 nm (uniformity ± 2 nm) was formed as a second hole transport layer to prepare an organic EL device, and the process up to sealing was performed. The second hole transport layer was formed by printing by a letterpress printing method using a resin letterpress corresponding to the shape of the first electrode instead of the slit coating method. When this organic EL element was DC-driven with a starting luminance of 400 Cd / m 2 (voltage of 5.1 V) in the same manner as in Example 1, the luminance half time was 4000 hours. The in-plane luminance variation was ± 10% at 400 Cd / m 2 .

[比較例1]
実施例1と同様に厚さ10nm(均一性±3nm)の薄膜を第二正孔輸送層として形成して有機EL素子を作成し、封止までを行った。また、第二正孔輸送層の形成はスリットコート法に変えてスピンコート法によった。この有機EL素子を実施例1と同様に開始輝度400Cd/m(電圧4.7V)で直流駆動したところ、その輝度半減時間は3000時間であった。しかし、面内輝度バラツキは400Cd/mにおいて±30%であり、目視でもはっきり分かる程度であった。
[Comparative Example 1]
In the same manner as in Example 1, a thin film having a thickness of 10 nm (uniformity ± 3 nm) was formed as the second hole transport layer to prepare an organic EL device, and sealing was performed. The second hole transport layer was formed by spin coating instead of slit coating. When this organic EL element was DC-driven at a starting luminance of 400 Cd / m 2 (voltage 4.7 V) in the same manner as in Example 1, the luminance half time was 3000 hours. However, the in-plane luminance variation was ± 30% at 400 Cd / m 2 , which was clearly visible.

[比較例2]
実施例1と同様に厚さ35nm(均一性±1.5nm)の薄膜を第二正孔輸送層として形成して有機EL素子を作成し、封止までを行った。この有機EL素子を実施例1と同様に開始輝度400Cd/mで直流駆動しようとしたが、電圧を15Vまで上げても400Cd/mに達することはなかった。
[Comparative Example 2]
In the same manner as in Example 1, a thin film having a thickness of 35 nm (uniformity ± 1.5 nm) was formed as the second hole transport layer to prepare an organic EL element, and the process up to sealing was performed. Although this organic EL element was intended to be DC driven at a starting luminance of 400 Cd / m 2 as in Example 1, it did not reach 400 Cd / m 2 even when the voltage was increased to 15V.

本発明の有機EL素子の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of the organic EL element of this invention. 本発明の有機EL素子を封止した状態の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of the state which sealed the organic EL element of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1:基板
2:第一電極
2a:取り出し部
3:有機発光媒体層
3a:正孔輸送層
3b:第二正孔輸送層
3c:有機発光層
4:第二電極
4a:取り出し部
5:絶縁性隔壁
10:ポリマーEL素子
21:接着剤
22封止基材
1: Substrate 2: First electrode 2a: Extraction part 3: Organic light emitting medium layer 3a: Hole transport layer 3b: Second hole transport layer 3c: Organic light emission layer 4: Second electrode 4a: Extraction part 5: Insulating property Partition 10: Polymer EL element 21: Adhesive 22 Sealing base material

Claims (4)

基板と、当該基板上に第一電極、有機発光媒体層、第二電極を備え、当該有機発光媒体層は少なくとも正孔輸送層と有機発光層を備え、さらに前記正孔輸送層と前記有機発光層との間に第二正孔輸送層を備えた有機エレクトロルミネッセント素子であって、
前記第二正孔輸送層の膜厚は10nm以上30nm以下であり、膜厚バラツキは±20%以内であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセント素子。
A substrate, and a first electrode, an organic light emitting medium layer, and a second electrode on the substrate, wherein the organic light emitting medium layer includes at least a hole transport layer and an organic light emitting layer, and the hole transport layer and the organic light emitting layer. An organic electroluminescent device comprising a second hole transport layer between the layers,
2. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the film thickness of the second hole transport layer is 10 nm or more and 30 nm or less, and the film thickness variation is within ± 20%.
前記第二正孔輸送層の膜厚は15nm以上であり、膜厚バラツキは±10%以内であることを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   2. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the film thickness of the second hole transport layer is 15 nm or more, and the film thickness variation is within ± 10%. 基板と、当該基板上に少なくとも第一電極、有機発光媒体層、第二電極を備え、当該有機発光媒体層は少なくとも正孔輸送層と有機発光層を備え、さらに前記正孔輸送層と前記有機発光層との間に第二正孔輸送層を備えた有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法であって、
1.基板上に第一電極を形成する工程、
2.前記第一電極の上方に正孔輸送層を湿式法により形成する工程、
3.前記正孔輸送層の上方に第二正孔輸送層を湿式法により形成する工程、
4.前記第二正孔輸送層の上に有機発光層を湿式法により形成する工程、
5.正孔輸送層、第二正孔輸送層、有機発光層を含む有機発光媒体層の上方に第二電極を形成する工程、
を備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法。
A substrate, and at least a first electrode, an organic light emitting medium layer, and a second electrode on the substrate; the organic light emitting medium layer includes at least a hole transport layer and an organic light emitting layer; and the hole transport layer and the organic A method for producing an organic electroluminescent device comprising a second hole transport layer between a light emitting layer,
1. Forming a first electrode on the substrate;
2. Forming a hole transport layer above the first electrode by a wet method;
3. Forming a second hole transport layer above the hole transport layer by a wet method;
4). Forming an organic light emitting layer on the second hole transport layer by a wet method;
5). Forming a second electrode above an organic light emitting medium layer including a hole transport layer, a second hole transport layer, and an organic light emitting layer;
A method for producing an organic electroluminescent device, comprising:
前記湿式法は、パターニング可能な印刷法または液滴吐出法であることを特徴とする請求項3記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。   4. The method of manufacturing an organic electroluminescent element according to claim 3, wherein the wet method is a patterning printing method or a droplet discharge method.
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