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JP2008115175A - Heterocyclic compound - Google Patents

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JP2008115175A
JP2008115175A JP2007267174A JP2007267174A JP2008115175A JP 2008115175 A JP2008115175 A JP 2008115175A JP 2007267174 A JP2007267174 A JP 2007267174A JP 2007267174 A JP2007267174 A JP 2007267174A JP 2008115175 A JP2008115175 A JP 2008115175A
Authority
JP
Japan
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group
lower alkyl
alkyl group
halogen
benzo
Prior art date
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Pending
Application number
JP2007267174A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Yamashita
博司 山下
Atsushi Matsubara
淳 松原
Kunio Oshima
邦生 大島
Hideaki Kuroda
英明 黒田
Satoshi Shimizu
聡 清水
Hisashi Takahashi
永 高橋
Kazumi Kondo
一見 近藤
Shinichi Taira
伸一 平良
Tatsuyoshi Tanaka
達義 田中
Tae Fukushima
多恵 福島
Yoji Sakurai
庸二 櫻井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Otsuka Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Priority to JP2007267174A priority Critical patent/JP2008115175A/en
Publication of JP2008115175A publication Critical patent/JP2008115175A/en
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  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heterocyclic compound having a wide therapeutic spectrum for mental diseases, and having high safety. <P>SOLUTION: The heterocyclic compound is represented by general formula (1), wherein Q is formula (I), wherein A<SP>1</SP>represents a lower alkylene group; Z represents O or S; R<SP>11</SP>represents hydrogen or the like; and R<SP>12</SP>represents hydrogen or the like. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、新規な複素環化合物に関する。   The present invention relates to a novel heterocyclic compound.

統合失調症を始め双極性障害、気分障害及び感情障害の病因がヘテロジーナス(heterogeneous:異種)であることより、薬剤に広い治療スペクトラムを発現させるためには、複数の薬理作用を併有していることが望まれる。   Since the etiology of schizophrenia, bipolar disorder, mood disorder, and emotional disorder is heterogeneous, the drug has multiple pharmacological actions to develop a broad therapeutic spectrum. It is hoped that

特許文献1には、一般式   Patent Document 1 discloses a general formula.

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、A’は−(CH2mCH2−、−(CH2mO−等を示す。mは1〜4の整数を示す。RAは水素原子、1〜3個の弗素原子で置換されていてもよいC1-4アルキル基等を示す。]
で表されるカルボスチリル誘導体が、D2受容体アンタゴニスト作用及びセロトニン2A(5−HT2A)受容体アンタゴニスト作用を有し、統合失調症及び他の中枢神経疾患の治療に有効であることが開示されている。
[Wherein, A ′ represents — (CH 2 ) m CH 2 —, — (CH 2 ) m O—, or the like. m shows the integer of 1-4. R A represents a hydrogen atom, a C 1-4 alkyl group which may be substituted with 1 to 3 fluorine atoms, or the like. ]
It is disclosed that the carbostyril derivative represented by the formula has a D 2 receptor antagonistic action and a serotonin 2A (5-HT 2A ) receptor antagonistic action, and is effective in the treatment of schizophrenia and other central nervous diseases. Has been.

しかしながら、該特許文献1には、該文献に記載のカルボスチリル誘導体が、D2受容体パーシャルアゴニスト作用、5−HT2A受容体アンタゴニスト作用、α1受容体アンタゴニスト作用及びセロトニン取り込み阻害作用を併有し、広い治療スペクトラムを有する点については全く開示されていない。 However, in Patent Document 1, the carbostyril derivative described in the document has a D 2 receptor partial agonist action, a 5-HT 2A receptor antagonist action, an α 1 receptor antagonist action, and a serotonin uptake inhibitory action. However, there is no disclosure regarding the point of having a wide therapeutic spectrum.

また特許文献2には、ある種の[1,8]ナフチリジン−2−オン誘導体が開示されている。   Patent Document 2 discloses certain [1,8] naphthyridin-2-one derivatives.

しかしながら、該特許文献2にも、該文献に記載の[1,8]ナフチリジン−2−オン誘導体が、D2受容体パーシャルアゴニスト作用、5−HT2A受容体アンタゴニスト作用、α1受容体アンタゴニスト作用及びセロトニン取り込み阻害作用を併有し、広い治療スペクトラムを有する点については全く開示されていない。
WO2004/026864A1 WO2005/043309A1
However, also in Patent Document 2, the [1,8] naphthyridin-2-one derivative described in the above document has a D 2 receptor partial agonist action, a 5-HT 2A receptor antagonist action, an α 1 receptor antagonist action. In addition, there is no disclosure of the fact that it has both serotonin uptake inhibitory action and a broad therapeutic spectrum.
WO2004 / 026864A1 WO2005 / 043309A1

本発明は、公知の定型抗精神病薬及び非定型抗精神病薬に比べて、より広い治療スペクトラムを有し、副作用が少なく、忍容性及び安全性に優れた抗精神病薬を提供することを課題とする。   An object of the present invention is to provide an antipsychotic drug having a broader therapeutic spectrum, fewer side effects, and excellent tolerability and safety compared to known typical antipsychotic drugs and atypical antipsychotic drugs. And

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ドパミンD2受容体パーシャルアゴニスト作用(D2受容体パーシャルアゴニスト作用)、セロトニン5−HT2A受容体アンタゴニスト作用(5−HT2A受容体アンタゴニスト作用)及びアドレナリンα1受容体アンタゴニスト作用(α1受容体アンタゴニスト作用)を有し、更にそれらの作用に加えてセロトニン取り込み阻害作用(あるいはセロトニン再取り込み阻害作用)を併有する新規化合物を合成することに成功した。本発明は、斯かる知見に基づき完成されたものである。 As a result of intensive studies in order to solve the above problems, the present inventors have conducted a dopamine D 2 receptor partial agonist action (D 2 receptor partial agonist action), a serotonin 5-HT 2A receptor antagonist action (5- HT 2A receptor antagonistic action) and adrenergic α 1 receptor antagonistic action (α 1 receptor antagonistic action), and in addition to these actions, serotonin uptake inhibitory action (or serotonin reuptake inhibitory action) The compound was successfully synthesized. The present invention has been completed based on such findings.

本発明は、以下の項に示す複素環化合物またはその塩を提供する。   The present invention provides a heterocyclic compound or a salt thereof shown in the following section.

項1.
一般式(1):
Item 1.
General formula (1):

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、Qは、下記一般式(I)で示される基または一般式(II)で示される基を示す。
一般式(I)
[Wherein, Q represents a group represented by the following general formula (I) or a group represented by the general formula (II).
Formula (I)

Figure 2008115175
Figure 2008115175

(式中、Aは低級アルキレン基を示す。
ZはOまたはSを示す。
11
(1-1)水素、
(1-2)低級アルキル基、
(1-3)フェニル基、ナフチル基及びジヒドロインデニル基からなる群から選ばれたアリール基(ここで、アリール基上に置換基として下記(i)〜(xxxiii)からなる群から選ばれた少なくとも1つの基が置換していてもよい:
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルケニル基、
(iii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iv)低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(vi)ニトロ基、
(vii)シアノ基、
(viii)ハロゲン、
(ix)アリール基、
(x)アリールオキシ基、
(xi)低級アルコキシカルボニル基、
(xii)ヒドロキシ基、
(xiii)保護されたヒドロキシ基、
(xiv)低級アルカノイル基、
(xv)スルファモイル基、
(xvi)低級アルキルチオ基、
(xvii)低級アルキルスルホニル基、
(xviii)ヒドロキシスルホニル基、
(xix)低級アルキル基、低級アルカノイル基、シクロC3−C8アルキル基、アリール基及びアロイル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアミノ基、
(xx)モルホリニルカルボニル低級アルケニル基、
(xxi)モルホリニルカルボニル低級アルキル基、
(xxii)ピロリル基、
(xxiii)ピラゾリル基、
(xxiv)イミダゾリル基、
(xxv)トリアゾリル基、
(xxvi)ピリジル基、
(xxvii)オキソ基を有していてもよいピロリジニル基、
(xxviii)モルホリニル基、
(xxix)チオモルホリニル基、
(xxx)低級アルキニル基、
(xxxi)シクロC3−C8アルキル基、
(xxxii)グアニジノ基、
(xxxiii)オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいジヒドロピラゾリル基)、
(1-4)複素環基(ここで、複素環基上に置換基として下記(i)〜(xix)からなる群から選ばれた少なくとも1つの基が置換していてもよい:
(i)低級アルキル基、
(ii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iii)低級アルコキシ基、
(iv)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン、
(vi)アリール基上に、ハロゲン及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール基、
(vii)ハロゲンを有していてもよいアリール低級アルキル基、
(viii)低級アルカノイル基、
(ix)アロイル基、
(x)アミノ基上に、低級アルカノイル基を有していてもよいアミノ低級アルカノイル基、
(xi)低級アルキルチオ基、
(xii)ピロリル基、
(xiii)オキソ基、
(xiv)チオキソ基、
(xv)カルバモイル基、
(xvi)ヒドロキシ基、
(xvii)ピラニル基、
(xviii)チエニル基、
(xix)フリル基)、
(1-5)アミノ基上及び/または低級アルキル基上に、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル低級アルキル基、インドリルカルボニル基、アリール基(当該アリール基上に、ハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる基を有していてもよい)及びアリール低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(1-6)低級アルコキシ低級アルキル基、
(1-7)アロイル低級アルキル基、
(1-8)アリール基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール低級アルキル基、
(1-9)アリール基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及びシアノ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリールオキシ低級アルキル基、
(1-10)アダマンチル低級アルキル基
(1-11)アリール基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルキル基を有していてもよいアミノ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール低級アルケニル基、
(1-12)低級アルキル基を有していてもよいアミノ基;低級アルキル基を有していてもよいアミノ低級アルキル基ならびにハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール基からなる群から選ばれる基を有していてもよいシクロC3−C8アルキル基、
(1-13)シクロC3−C8アルキル低級アルキル基、
(1-14)アリールチオ低級アルキル基、
(1-15)ピペリジル基、テトラヒドロピラニル基、ピリジル基、チエニル基、イミダゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソインドリル基、チアゾリジニル基及びインドリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基(ここで、複素環基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン、オキソ基及びチオキソ基からなる群から選ばれる基を有していてもよい)、
(1-16)アリール低級アルケニル基(低級アルケニル基上にアリール基を有していてもよい)、
(1-17)ベンゾジオキソリル基、ピリジル基、フリル基及びイミダゾリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルケニル基、
(1-18)ベンゾジオキソリルオキシ低級アルキル基、
(1-19)ピリジルチオ低級アルキル基、または
(1-20)低級アルキル基を有していてもよいアミノ基
を示す。
12は、
(2-1)水素、
(2-2)低級アルキル基、
(2-3)ハロゲン置換低級アルキル基、
(2-4)低級アルケニル基、
(2-5)低級アルキニル基、
(2-6)低級アルカノイル基、
(2-7)ヒドロキシ低級アルキル基、
(2-8)低級アルコキシ低級アルキル基、
(2-9)シクロC3−C8アルキル基、
(2-10)シクロC3−C8アルキル低級アルキル基、
(2-11)アリール基、
(2-12)アリール基上に、低級アルキル基を有していてもよいアミノ基及びアリールオキシ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール低級アルキル基、
(2-13)テトラヒドロフリル基、
(2-14)フリル基及びピリジル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基、
(2-15)テトラヒドロピラニル基または
(2-16)低級アルカノイルオキシ低級アルキル基
を示す。)
一般式(II):
21−A− (II)
(式中、−A−は低級アルキレン基、低級アルケニレン基または基−A21−O−A22−を示す。
(In the formula, A 1 represents a lower alkylene group.
Z represents O or S.
R 11 is (1-1) hydrogen,
(1-2) a lower alkyl group,
(1-3) an aryl group selected from the group consisting of a phenyl group, a naphthyl group and a dihydroindenyl group (wherein the aryl group was selected from the group consisting of (i) to (xxxiii) below as a substituent At least one group may be substituted:
(i) a lower alkyl group,
(ii) a lower alkenyl group,
(iii) a halogen-substituted lower alkyl group,
(iv) a lower alkoxy group,
(v) a halogen-substituted lower alkoxy group,
(vi) a nitro group,
(vii) a cyano group,
(viii) halogen,
(ix) an aryl group,
(x) an aryloxy group,
(xi) a lower alkoxycarbonyl group,
(xii) a hydroxy group,
(xiii) a protected hydroxy group,
(xiv) a lower alkanoyl group,
(xv) sulfamoyl group,
(xvi) a lower alkylthio group,
(xvii) a lower alkylsulfonyl group,
(xviii) hydroxysulfonyl group,
(xix) an amino group optionally having a group selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkanoyl group, a cyclo C3-C8 alkyl group, an aryl group and an aroyl group;
(xx) morpholinylcarbonyl lower alkenyl group,
(xxi) morpholinylcarbonyl lower alkyl group,
(xxii) pyrrolyl group,
(xxiii) pyrazolyl group,
(xxiv) an imidazolyl group,
(xxv) triazolyl group,
(xxvi) pyridyl group,
(xxvii) an pyrrolidinyl group optionally having an oxo group,
(xxviii) morpholinyl group,
(xxix) thiomorpholinyl group,
(xxx) a lower alkynyl group,
(xxxi) a cyclo C3-C8 alkyl group,
(xxxii) guanidino group,
(xxxiii) a dihydropyrazolyl group optionally having a group selected from the group consisting of an oxo group and a lower alkyl group),
(1-4) Heterocyclic group (here, at least one group selected from the group consisting of the following (i) to (xix) may be substituted as a substituent on the heterocyclic group:
(i) a lower alkyl group,
(ii) a halogen-substituted lower alkyl group,
(iii) a lower alkoxy group,
(iv) a halogen-substituted lower alkoxy group,
(v) halogen,
(vi) an aryl group optionally having a group selected from the group consisting of halogen and halogen-substituted lower alkyl groups on the aryl group;
(vii) aryl lower alkyl group optionally having halogen,
(viii) a lower alkanoyl group,
(ix) aroyl group,
(x) an amino lower alkanoyl group optionally having a lower alkanoyl group on the amino group,
(xi) a lower alkylthio group,
(xii) pyrrolyl group,
(xiii) an oxo group,
(xiv) a thioxo group,
(xv) a carbamoyl group,
(xvi) a hydroxy group,
(xvii) pyranyl group,
(xviii) thienyl group,
(xix) furyl group),
(1-5) On an amino group and / or a lower alkyl group, a lower alkyl group, a lower alkanoyl group, a hydroxy lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl lower alkyl group, an indolylcarbonyl group, an aryl group (the aryl group) An amino lower alkyl group optionally having a group selected from the group consisting of a halogen and a lower alkoxy group) and an aryl lower alkoxycarbonyl group;
(1-6) a lower alkoxy lower alkyl group,
(1-7) an aroyl lower alkyl group,
(1-8) an aryl lower alkyl group which may have a group selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a hydroxy group, a halogen and a nitro group on the aryl group;
(1-9) an aryloxy lower alkyl group which may have a group selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen and a cyano group on the aryl group;
(1-10) adamantyl lower alkyl group (1-11) amino optionally having a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen-substituted lower alkyl group, a halogen-substituted lower alkoxy group or a lower alkyl group on the aryl group An aryl lower alkenyl group optionally having a group selected from the group consisting of a group, a halogen and a nitro group,
(1-12) an amino group optionally having a lower alkyl group; an amino lower alkyl group optionally having a lower alkyl group, and a group selected from the group consisting of a halogen and a lower alkyl group; A cyclo C3-C8 alkyl group optionally having a group selected from the group consisting of aryl groups,
(1-13) a cyclo C3-C8 alkyl lower alkyl group,
(1-14) arylthio lower alkyl group,
(1-15) Lower alkyl substituted with a heterocyclic group selected from the group consisting of piperidyl group, tetrahydropyranyl group, pyridyl group, thienyl group, imidazolyl group, tetrazolyl group, benzimidazolyl group, isoindolyl group, thiazolidinyl group and indolyl group A group (which may have a group selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen, an oxo group and a thioxo group on the heterocyclic group),
(1-16) aryl lower alkenyl group (which may have an aryl group on the lower alkenyl group),
(1-17) a lower alkenyl group substituted with a heterocyclic group selected from the group consisting of a benzodioxolyl group, a pyridyl group, a furyl group, and an imidazolyl group,
(1-18) benzodioxolyloxy lower alkyl group,
(1-19) A pyridylthio lower alkyl group, or (1-20) an amino group optionally having a lower alkyl group.
R 12 is
(2-1) Hydrogen,
(2-2) a lower alkyl group,
(2-3) a halogen-substituted lower alkyl group,
(2-4) a lower alkenyl group,
(2-5) a lower alkynyl group,
(2-6) lower alkanoyl group,
(2-7) hydroxy lower alkyl group,
(2-8) a lower alkoxy lower alkyl group,
(2-9) a cyclo C3-C8 alkyl group,
(2-10) cyclo C3-C8 alkyl lower alkyl group,
(2-11) aryl group,
(2-12) an aryl lower alkyl group which may have a group selected from the group consisting of an amino group and an aryloxy group which may have a lower alkyl group on the aryl group;
(2-13) tetrahydrofuryl group,
(2-14) a lower alkyl group substituted by a heterocyclic group selected from the group consisting of a furyl group and a pyridyl group,
(2-15) represents a tetrahydropyranyl group or (2-16) a lower alkanoyloxy lower alkyl group. )
General formula (II):
R 21 -A 2- (II)
(In the formula, —A 2 — represents a lower alkylene group, a lower alkenylene group or a group —A 21 —O—A 22 —.

ここで、A21及びA22は、同一または異なって、C1−C5アルキレン基を示す。但し、A21のアルキレン基及びA22のアルキレン基を構成する炭素原子の総数は6を超えないものとする。
21はN−含有複素環基を示す:
ここで、上記R21で示されるN−含有複素環上には、下記(1)〜(13)からなる群から選ばれた少なくとも1つの基が置換していてもよい:
(1)ハロゲン置換または未置換低級アルキル基
(2)低級アルケニル基
(3)低級アルコキシ基
(4)ヒドロキシ基
(5)保護されたヒドロキシ基
(6)アリール基
(7)低級アルカノイル基
(8)カルボキシ基
(9)低級アルコキシカルボニル基
(10)低級アルキル基を有していてもよいカルバモイル基
(11)アリール低級アルキル基(ここで、アリール基上には低級アルコキシ基を有していてもよい)
(12)オキソ基
(13)チオキソ基)]
で表される複素環化合物またはその塩。
Here, A 21 and A 22 are the same or different and each represents a C1-C5 alkylene group. However, the total number of carbon atoms constituting the alkylene group of A 21 and the alkylene group of A 22 does not exceed 6.
R 21 represents an N-containing heterocyclic group:
Here, on the N-containing heterocyclic ring represented by R 21 , at least one group selected from the group consisting of the following (1) to (13) may be substituted:
(1) halogen-substituted or unsubstituted lower alkyl group (2) lower alkenyl group (3) lower alkoxy group (4) hydroxy group (5) protected hydroxy group (6) aryl group (7) lower alkanoyl group (8) Carboxy group (9) lower alkoxycarbonyl group (10) carbamoyl group optionally having lower alkyl group (11) aryl lower alkyl group (wherein the aryl group may have a lower alkoxy group) )
(12) Oxo group (13) Thioxo group)]
Or a salt thereof.

項2.
Qが、下記一般式(I)で示される基:
Item 2.
Q is a group represented by the following general formula (I):

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、Aは低級アルキレン基を示す。
ZはOまたはSを示す。
11
(1-1)水素、
(1-2)低級アルキル基、
(1-3 a)フェニル基、ナフチル基及びジヒドロインデニル基からなる群から選ばれたアリール基(ここで、アリール基上に置換基として下記(i)〜(viii)、(ix a)、(x a)、(xii)、(xiii a)、(xiv)〜(xviii)、(xix a)、(xx)〜(xxvi)、(xxvii a)、及び(xxviii)〜(xxxiii)からなる群から選ばれた基を1〜3個置換していてもよい:
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルケニル基、
(iii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iv)低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(vi)ニトロ基、
(vii)シアノ基、
(viii)ハロゲン、
(ix a)フェニル基、
(x a)フェノキシ基、
(xi)低級アルコキシカルボニル基、
(xii)ヒドロキシ基、
(xiii a)低級アルカノイルオキシ基またはフェニル基上にハロゲンを1〜3個有していてもよいフェニル低級アルコキシ基、
(xiv)低級アルカノイル基、
(xv)スルファモイル基、
(xvi)低級アルキルチオ基、
(xvii)低級アルキルスルホニル基、
(xviii)ヒドロキシスルホニル基、
(xix a)低級アルキル基、低級アルカノイル基、シクロC3−C8アルキル基、フェニル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれる基を1〜2個有していてもよいアミノ基、
(xx)モルホリニルカルボニル低級アルケニル基、
(xxi)モルホリニルカルボニル低級アルキル基、
(xxii)ピロリル基、
(xxiii)ピラゾリル基、
(xxiv)イミダゾリル基、
(xxv)トリアゾリル基、
(xxvi)ピリジル基、
(xxvii a)オキソ基を1〜2個有していてもよいピロリジニル基、
(xxviii)モルホリニル基、
(xxix)チオモルホリニル基、
(xxx)低級アルキニル基、
(xxxi)シクロC3−C8アルキル基、
(xxxii)グアニジノ基、
(xxxiii)1個のオキソ基及び1個の低級アルキル基を有するジヒドロピラゾリル基)、
(1-4 a)ピロリジニル、ピペリジル、チアゾリジニル、テトラヒドロピラニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ジヒドロピラゾリル(例えば、4,5−ジヒドロピラゾリル等)、ピリジル、ジヒドロピリジル(例えば、1,2−ジヒドロピリジル等)、テトラヒドロピリミジニル(1,2,3,4−テトラヒドロピリミジニル等)、ピラジニル、チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チエニル、フリル、インドリル、インドリニル、イソインドリニル、ベンゾイミダゾリル、イミダソピリジルキノリル、ジヒドロキノリル、テトラヒドロキノリル、イソキノリル、シノリニル、インダゾリル、キノキサリニル、ベンゾトリアゾリル、ジヒドロナフチリジル、ベンゾチアゾリル、ジヒドロベンゾチアゾリル、ジヒドロベンゾチアジニル、チエノピラジニル、ベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサジニル、フロピロリル、ベンゾジオキソリル、ジヒドロベンゾジオキシニル及びベンゾチエニルからなる群から選ばれる複素環基(ここで、複素環基上に置換基として下記(i)〜(v)、(vi a)、(vii a)、(viii)、(ix a)、(x a)及び(xi)〜(xix)からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい:
(i)低級アルキル基、
(ii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iii)低級アルコキシ基、
(iv)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン、
(vi a)フェニル基上に、ハロゲン及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよいフェニル基、
(vii a)ハロゲンを1〜3個有していてもよいフェニル低級アルキル基、
(viii)低級アルカノイル基、
(ix a)ベンゾイル基、
(x a)アミノ基上に、低級アルカノイル基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルカノイル基、
(xi)低級アルキルチオ基、
(xii)ピロリル基、
(xiii)オキソ基、
(xiv)チオキソ基、
(xv)カルバモイル基、
(xvi)ヒドロキシ基、
(xvii)ピラニル基、
(xviii)チエニル基、
(xix)フリル基)、
(1-5 a)アミノ基上及び/または低級アルキル基上に、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル低級アルキル基、インドリルカルボニル基、フェニル基(当該フェニル基上に、ハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよい)及びフェニル低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれる基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(1-6)低級アルコキシ低級アルキル基、
(1-7 a)ベンゾイル低級アルキル基、
(1-8 a)フェニル基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよいフェニル低級アルキル基、
(1-9 a)フェニル基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及びシアノ基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよいフェノキシ低級アルキル基、
(1-10)アダマンチル低級アルキル基、
(1-11 a)フェニル基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよいフェニル低級アルケニル基、
(1-12 a)低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ基;低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基ならびにハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよいフェニル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいシクロC3−C8アルキル基、
(1-13)シクロC3−C8アルキル低級アルキル基、
(1-14 a)フェニルチオ低級アルキル基、
(1-15 a)ピペリジル基、テトラヒドロピラニル基、ピリジル基、チエニル基、イミダゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソインドリル基、チアゾリジニル基及びインドリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基(ここで、複素環基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン、オキソ基及びチオキソ基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよい)、
(1-16 a)フェニル低級アルケニル基(低級アルケニル基上にフェニル基を1〜2個を有していてもよい)、
(1-17)ベンゾジオキソリル基、ピリジル基、フリル基及びイミダゾリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルケニル基、
(1-18)ベンゾジオキソリルオキシ低級アルキル基、
(1-19)ピリジルチオ低級アルキル基または
(1-20 a)低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ基
を示す。
12は、
(2-1)水素
(2-2)低級アルキル基、
(2-3)ハロゲン置換低級アルキル基、
(2-4)低級アルケニル基、
(2-5)低級アルキニル基、
(2-6)低級アルカノイル基、
(2-7)ヒドロキシ低級アルキル基、
(2-8)低級アルコキシ低級アルキル基、
(2-9)シクロC3−C8アルキル基、
(2-10)シクロC3−C8アルキル低級アルキル基、
(2-11 a)フェニル基、
(2-12 a)フェニル基上に、低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ基及びフェノキシ基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよいフェニル低級アルキル基、
(2-13)テトラヒドロフリル基、
(2-14)フリル基及びピリジル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基、
(2-15)テトラヒドロピラニル基または
(2-16)低級アルカノイルオキシ低級アルキル基
を示す。]
または下記一般式(II)で示される基:
21−A− (II)
[式中、−A−は低級アルキレン基、低級アルケニレン基または基−A21−O−A22−を示す。
ここで、A21及びA22は、同一または異なって、C1−C5アルキレン基を示す。但し、A21のアルキレン基及びA22のアルキレン基を構成する炭素原子の総数は6を超えないものとする。
21はピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、ヘキサヒドロピリミジニル、ピペラジニル、オクタヒドロイソインドール、アゼパニル、アゾカニル、アザスピロノナニル、アザスピロデカニル、ジアザスピロノナニル、ジヒドロピロリル、イミダゾリル、ジヒドロイミダゾリル、トリアゾリル、ジヒドロトリアゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ジヒドロピリジル、ピリミジニル、ジヒドロピリミジニル、ピラジニル、ジヒドロピラジニル、ピリダジニル、テトラゾリル、インドリル、イソインドリル、インドリニル、イソインドリニル、ヘキサヒドロイソインドリル、オクタヒドロイソインドリル、ベンゾイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、キナゾリニル、ジヒドロキナゾリニル、ベンゾトリアゾリル、カルバゾリル、スピロ[シクロペンタンインドリニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル、オキサジナニル、モルホリニル、ベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジニル、ジヒドロベンゾオキサジニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、チアゾリル、ジヒドロチアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、ジヒドロチアジニル、チアゾリジニルベンゾチアゾリル及びベンゾチアジアゾリルからなる群から選ばれるN−含有複素環基を示す:
ここで、上記R21で示されるN−含有複素環上には、下記(1)〜(4)、(5 a)、(6 a)、(7)〜(9)、(10 a)、(11 a)、(12)及び(13)からなる群から選ばれた1〜3個の基が置換していてもよい:
(1)ハロゲン置換または未置換低級アルキル基
(2)低級アルケニル基
(3)低級アルコキシ基
(4)ヒドロキシ基
(5a)低級アルカノイルオキシ基またはフェニル低級アルコキシ基
(6a)フェニル基
(7)低級アルカノイル基
(8)カルボキシ基
(9)低級アルコキシカルボニル基
(10a)低級アルキル基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基
(11a)フェニル低級アルキル基(ここで、フェニル基上には低級アルコキシ基を1〜2個有していてもよい)
(12)オキソ基
(13)チオキソ基]
を示す項1に記載の複素環化合物またはその塩。
[Wherein, A 1 represents a lower alkylene group.
Z represents O or S.
R 11 is (1-1) hydrogen,
(1-2) a lower alkyl group,
(1-3 a) an aryl group selected from the group consisting of a phenyl group, a naphthyl group, and a dihydroindenyl group (wherein the following (i) to (viii), (ix a), (xa), (xii), (xiii a), (xiv) to (xviii), (xix a), (xx) to (xxvi), (xxvii a), and (xxviii) to (xxxiii) 1 to 3 groups selected from may be substituted:
(i) a lower alkyl group,
(ii) a lower alkenyl group,
(iii) a halogen-substituted lower alkyl group,
(iv) a lower alkoxy group,
(v) a halogen-substituted lower alkoxy group,
(vi) a nitro group,
(vii) a cyano group,
(viii) halogen,
(ix a) a phenyl group,
(xa) a phenoxy group,
(xi) a lower alkoxycarbonyl group,
(xii) a hydroxy group,
(xiii a) a phenyl lower alkoxy group optionally having 1 to 3 halogen atoms on the lower alkanoyloxy group or phenyl group,
(xiv) a lower alkanoyl group,
(xv) sulfamoyl group,
(xvi) a lower alkylthio group,
(xvii) a lower alkylsulfonyl group,
(xviii) hydroxysulfonyl group,
(xix a) an amino group optionally having 1 or 2 groups selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkanoyl group, a cyclo C3-C8 alkyl group, a phenyl group and a benzoyl group;
(xx) morpholinylcarbonyl lower alkenyl group,
(xxi) morpholinylcarbonyl lower alkyl group,
(xxii) pyrrolyl group,
(xxiii) pyrazolyl group,
(xxiv) an imidazolyl group,
(xxv) triazolyl group,
(xxvi) pyridyl group,
(xxviia) pyrrolidinyl group optionally having 1 to 2 oxo groups,
(xxviii) morpholinyl group,
(xxix) thiomorpholinyl group,
(xxx) a lower alkynyl group,
(xxxi) a cyclo C3-C8 alkyl group,
(xxxii) guanidino group,
(xxxiii) a dihydropyrazolyl group having one oxo group and one lower alkyl group),
(1-4 a) pyrrolidinyl, piperidyl, thiazolidinyl, tetrahydropyranyl, pyrrolyl, imidazolyl, pyrazolyl, dihydropyrazolyl (eg 4,5-dihydropyrazolyl etc.), pyridyl, dihydropyridyl (eg 1,2-dihydropyridyl etc. ), Tetrahydropyrimidinyl (such as 1,2,3,4-tetrahydropyrimidinyl), pyrazinyl, thiazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thienyl, furyl, indolyl, indolinyl, isoindolinyl, benzimidazolyl, imidasopyridylquinolyl, dihydroquinolyl, tetrahydroquinol Ril, isoquinolyl, cinolinyl, indazolyl, quinoxalinyl, benzotriazolyl, dihydronaphthyridyl, benzothiazolyl, dihydrobenzothiazolyl, dihydrobenzothia A heterocyclic group selected from the group consisting of dinyl, thienopyrazinyl, benzoxazolyl, dihydrobenzoxazolyl, dihydrobenzoxazinyl, furopyrrolyl, benzodioxolyl, dihydrobenzodioxinyl and benzothienyl, wherein From the group consisting of the following (i) to (v), (vi a), (vii a), (viii), (ix a), (xa) and (xi) to (xix) as substituents on the ring group 1-3 selected groups may be substituted:
(i) a lower alkyl group,
(ii) a halogen-substituted lower alkyl group,
(iii) a lower alkoxy group,
(iv) a halogen-substituted lower alkoxy group,
(v) halogen,
(vi a) a phenyl group optionally having 1 to 3 groups selected from the group consisting of halogen and halogen-substituted lower alkyl groups on the phenyl group;
(viia) a phenyl lower alkyl group optionally having 1 to 3 halogen atoms,
(viii) a lower alkanoyl group,
(ix a) a benzoyl group,
(xa) an amino lower alkanoyl group optionally having 1 to 2 lower alkanoyl groups on the amino group;
(xi) a lower alkylthio group,
(xii) pyrrolyl group,
(xiii) an oxo group,
(xiv) a thioxo group,
(xv) a carbamoyl group,
(xvi) a hydroxy group,
(xvii) pyranyl group,
(xviii) thienyl group,
(xix) furyl group),
(1-5 a) On an amino group and / or a lower alkyl group, a lower alkyl group, a lower alkanoyl group, a hydroxy lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl lower alkyl group, an indolylcarbonyl group, a phenyl group 1 to 2 groups selected from the group consisting of halogen and lower alkoxy groups may be present on the phenyl group) and 1 to 2 groups selected from the group consisting of phenyl lower alkoxycarbonyl groups. An amino lower alkyl group,
(1-6) a lower alkoxy lower alkyl group,
(1-7 a) benzoyl lower alkyl group,
(1-8 a) a phenyl lower alkyl group which may have 1 to 3 groups selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a hydroxy group, a halogen and a nitro group on the phenyl group;
(1-9 a) a phenoxy lower alkyl group which may have 1 to 3 groups selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen and a cyano group on the phenyl group;
(1-10) adamantyl lower alkyl group,
(1-11 a) On the phenyl group, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen-substituted lower alkyl group, a halogen-substituted lower alkoxy group, an amino group optionally having 1-2 lower alkyl groups, a halogen, and A phenyl lower alkenyl group optionally having 1 to 3 groups selected from the group consisting of nitro groups,
(1-12 a) an amino group optionally having 1 to 2 lower alkyl groups; an amino lower alkyl group optionally having 1 to 2 lower alkyl groups, and a group consisting of a halogen and a lower alkyl group A cyclo C3-C8 alkyl group optionally having a group selected from the group consisting of phenyl groups optionally having 1 to 3 groups selected from
(1-13) a cyclo C3-C8 alkyl lower alkyl group,
(1-14 a) a phenylthio lower alkyl group,
(1-15 a) Lower substituted by a heterocyclic group selected from the group consisting of piperidyl group, tetrahydropyranyl group, pyridyl group, thienyl group, imidazolyl group, tetrazolyl group, benzimidazolyl group, isoindolyl group, thiazolidinyl group and indolyl group An alkyl group (which may have 1 to 3 groups selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen, an oxo group and a thioxo group on the heterocyclic group),
(1-16 a) a phenyl lower alkenyl group (which may have 1 to 2 phenyl groups on the lower alkenyl group),
(1-17) a lower alkenyl group substituted with a heterocyclic group selected from the group consisting of a benzodioxolyl group, a pyridyl group, a furyl group, and an imidazolyl group,
(1-18) benzodioxolyloxy lower alkyl group,
(1-19) A pyridylthio lower alkyl group or (1-20 a) an amino group optionally having 1 to 2 lower alkyl groups.
R 12 is
(2-1) hydrogen (2-2) a lower alkyl group,
(2-3) a halogen-substituted lower alkyl group,
(2-4) a lower alkenyl group,
(2-5) a lower alkynyl group,
(2-6) lower alkanoyl group,
(2-7) hydroxy lower alkyl group,
(2-8) a lower alkoxy lower alkyl group,
(2-9) a cyclo C3-C8 alkyl group,
(2-10) cyclo C3-C8 alkyl lower alkyl group,
(2-11 a) a phenyl group,
(2-12 a) A phenyl lower group optionally having 1 to 3 groups selected from the group consisting of an amino group and a phenoxy group which may have 1 to 2 lower alkyl groups on the phenyl group An alkyl group,
(2-13) tetrahydrofuryl group,
(2-14) a lower alkyl group substituted by a heterocyclic group selected from the group consisting of a furyl group and a pyridyl group,
(2-15) represents a tetrahydropyranyl group or (2-16) a lower alkanoyloxy lower alkyl group. ]
Or a group represented by the following general formula (II):
R 21 -A 2- (II)
Wherein, -A 2 - is lower alkylene, lower alkenylene group or a group -A 21 -O-A 22 - shows the.
Here, A 21 and A 22 are the same or different and each represents a C1-C5 alkylene group. However, the total number of carbon atoms constituting the alkylene group of A 21 and the alkylene group of A 22 does not exceed 6.
R 21 is pyrrolidinyl, imidazolidinyl, piperidyl, hexahydropyrimidinyl, piperazinyl, octahydroisoindole, azepanyl, azocanyl, azaspirononyl, azaspirodecanyl, diazaspirononyl, dihydropyrrolyl, imidazolyl, dihydroimidazolyl, triazolyl , Dihydrotriazolyl, pyrazolyl, pyridyl, dihydropyridyl, pyrimidinyl, dihydropyrimidinyl, pyrazinyl, dihydropyrazinyl, pyridazinyl, tetrazolyl, indolyl, isoindolyl, indolinyl, isoindolinyl, hexahydroisoindolyl, octahydroisoindolyl, benzimidazolyl Quinolyl, isoquinolyl, indazolyl, quinazolinyl, dihydroquinazolinyl, benzotriazolyl, cal Basolyl, spiro [cyclopentaneindolinyl, oxazolyl, isoxazolyl, oxadiazolyl, oxazolidinyl, isoxazolidinyl, oxadinanyl, morpholinyl, benzoxazolyl, dihydrobenzoxazolyl, benzooxazinyl, dihydrobenzoxazinyl, benzo Represents an N-containing heterocyclic group selected from the group consisting of oxazolyl, benzooxadiazolyl, thiazolyl, dihydrothiazolyl, isothiazolyl, thiadiazolyl, dihydrothiazinyl, thiazolidinylbenzothiazolyl and benzothiadiazolyl :
Here, on the N-containing heterocycle represented by R 21 , the following (1) to (4), (5 a), (6 a), (7) to (9), (10 a), 1 to 3 groups selected from the group consisting of (11 a), (12) and (13) may be substituted:
(1) halogen-substituted or unsubstituted lower alkyl group (2) lower alkenyl group (3) lower alkoxy group (4) hydroxy group (5a) lower alkanoyloxy group or phenyl lower alkoxy group (6a) phenyl group (7) lower alkanoyl Group (8) carboxy group (9) lower alkoxycarbonyl group (10a) carbamoyl group optionally having 1 to 2 lower alkyl groups (11a) phenyl lower alkyl group (here, lower alkoxy on the phenyl group) (You may have 1-2 groups)
(12) Oxo group (13) Thioxo group]
The heterocyclic compound or its salt of claim | item 1 which shows these.

項3.一般式(1):   Item 3. General formula (1):

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、Qは、下記一般式(I)で示される基、 Wherein Q is a group represented by the following general formula (I),

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、Aは低級アルキレン基を示す。
ZはOまたはSを示す。
11
(1-1)水素、
(1-2)低級アルキル基、
(1-3 a)フェニル基、ナフチル基及びジヒドロインデニル基からなる群から選ばれたアリール基(ここで、アリール基上に置換基として下記(i)〜(viii)、(ix a)、(x a)、 (xii)、(xiii a)、(xiv)〜(xviii)、(xix a)、(xx)〜(xxvi)、(xxvii a)、(xxviii)〜(xxxii)及び(xxxiii a)からなる群から選ばれた基を1〜3個置換していてもよい:
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルケニル基、
(iii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iv)低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(vi)ニトロ基、
(vii)シアノ基、
(viii)ハロゲン、
(ix a)フェニル基、
(x a)フェノキシ基、
(xi)低級アルコキシカルボニル基、
(xii)ヒドロキシ基、
(xiii a)低級アルカノイルオキシ基またはフェニル基上にハロゲンを1〜3個有していてもよいフェニル低級アルコキシ基、
(xiv)低級アルカノイル基、
(xv)スルファモイル基、
(xvi)低級アルキルチオ基、
(xvii)低級アルキルスルホニル基、
(xviii)ヒドロキシスルホニル基、
(xix a)低級アルキル基、低級アルカノイル基、シクロC3−C8アルキル基、フェニル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれる基を1〜2個有していてもよいアミノ基(より好ましくは、N,N−ジ低級アルキルアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、N−低級アルカノイル−N−シクロC3−C8アルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基)、
(xx)モルホリニルカルボニル低級アルケニル基、
(xxi)モルホリニルカルボニル低級アルキル基、
(xxii)ピロリル基、
(xxiii)ピラゾリル基、
(xxiv)イミダゾリル基、
(xxv)トリアゾリル基、
(xxvi)ピリジル基、
(xxvii a)オキソ基を1〜2個(好ましくは1個)有していてもよいピロリジニル基、
(xxviii)モルホリニル基、
(xxix)チオモルホリニル基、
(xxx)低級アルキニル基、
(xxxi)シクロC3−C8アルキル基、
(xxxii)グアニジノ基、
(xxxiii a)1個のオキソ基及び1個の低級アルキル基を有するジヒドロピラゾリル基)、
(1-4 a)ピロリジニル、ピペリジル、チアゾリジニル、テトラヒドロピラニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ジヒドロピラゾリル(例えば、4,5−ジヒドロピラゾリル等)、ピリジル、ジヒドロピリジル(例えば、1,2−ジヒドロピリジル等)、テトラヒドロピリミジニル(1,2,3,4−テトラヒドロピリミジニル等)、ピラジニル、チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チエニル、フリル、インドリル、インドリニル、イソインドリニル、ベンゾイミダゾリル、イミダソピリジルキノリル、ジヒドロキノリル、テトラヒドロキノリル、イソキノリル、シノリニル、インダゾリル、キノキサリニル、ベンゾトリアゾリル、ジヒドロナフチリジル、ベンゾチアゾリル、ジヒドロベンゾチアゾリル、ジヒドロベンゾチアジニル、チエノピラジニル、ベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサジニル、フロピロリル、ベンゾジオキソリル、ジヒドロベンゾジオキシニル及びベンゾチエニルからなる群から選ばれる複素環基(ここで、複素環基上に置換基として下記(i)〜(v)、(vi a)、(vii a)、(viii)、(ix a)、(x a)及び(xi)〜(xix)からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい:
(i)低級アルキル基、
(ii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iii)低級アルコキシ基、
(iv)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン、
(vi a)フェニル基上に、ハロゲン及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれる基を1〜3個(好ましくは1個)有していてもよいフェニル基、
(vii a)ハロゲンを1〜3個(好ましくは1〜2個)有していてもよいフェニル低級アルキル基、
(viii)低級アルカノイル基、
(ix a)ベンゾイル基、
(x a)アミノ基上に、低級アルカノイル基を1〜2個(好ましくは1個)有していてもよいアミノ低級アルカノイル基、
(xi)低級アルキルチオ基、
(xii)ピロリル基、
(xiii)オキソ基、
(xiv)チオキソ基、
(xv)カルバモイル基、
(xvi)ヒドロキシ基、
(xvii)ピラニル基、
(xviii)チエニル基、
(xix)フリル基)、
(1-5 a)アミノ基上及び/または低級アルキル基上に、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル低級アルキル基、インドリルカルボニル基、フェニル基(当該フェニル基上に、ハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる基を1〜3個(好ましくは1個)有していてもよい)及びフェニル低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれる基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(1-6)低級アルコキシ低級アルキル基、
(1-7 a)ベンゾイル低級アルキル基、
(1-8 a)フェニル基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を1〜3個(好ましくは1〜2個)有していてもよいフェニル低級アルキル基、
(1-9 a)フェニル基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及びシアノ基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよいフェノキシ低級アルキル基、
(1-10)アダマンチル低級アルキル基、
(1-11 a)フェニル基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ基(好ましくはN,N−ジ低級アルキルアミノ基)、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を1〜3個(好ましくは1〜2個)有していてもよいフェニル低級アルケニル基、
(1-12 a)低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ基(好ましくはN,N−ジ低級アルキルアミノ基);低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基(好ましくはN,N−ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基)ならびにハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を1〜3個(好ましくは1個)有していてもよいフェニル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいシクロC3−C8アルキル基、
(1-13)シクロC3−C8アルキル低級アルキル基、
(1-14 a)フェニルチオ低級アルキル基、
(1-15 a)ピペリジル基、テトラヒドロピラニル基、ピリジル基、チエニル基、イミダゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソインドリル基、チアゾリジニル基及びインドリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基(ここで、複素環基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン、オキソ基及びチオキソ基からなる群から選ばれる基を1〜3個(好ましくは1〜2個)有していてもよい)、
(1-16 a)フェニル低級アルケニル基(低級アルケニル基上にフェニル基を1〜2個(好ましくは1個)を有していてもよい)、
(1-17)ベンゾジオキソリル基、ピリジル基、フリル基及びイミダゾリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルケニル基、
(1-18)ベンゾジオキソリルオキシ低級アルキル基、
(1-19)ピリジルチオ低級アルキル基または
(1-20 a)低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ基
を示す。
さらに、R11のより好ましい定義は、
(1-1)水素、
(1-2)低級アルキル基、
(1-5 aaa)アミノ基上及び/または低級アルキル基上に、低級アルカノイル基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれる基を1個有するアミノ低級アルキル基または
(1-20 aa)低級アルキル基を1〜2個有するアミノ基が挙げられる。
12は、
(2-1)水素
(2-2)低級アルキル基、
(2-3)ハロゲン置換低級アルキル基、
(2-4)低級アルケニル基、
(2-5)低級アルキニル基、
(2-6)低級アルカノイル基、
(2-7)ヒドロキシ低級アルキル基、
(2-8)低級アルコキシ低級アルキル基、
(2-9)シクロC3−C8アルキル基、
(2-10)シクロC3−C8アルキル低級アルキル基、
(2-11 a)フェニル基、
(2-12 a)フェニル基上に、低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ基(より好ましくは、N,N−ジ低級アルキルアミノ基)及びフェノキシ基からなる群から選ばれる基を1〜3個(好ましくは1個)有していてもよいフェニル低級アルキル基、
(2-13)テトラヒドロフリル基、
(2-14)フリル基及びピリジル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基、
(2-15)テトラヒドロピラニル基または
(2-16)低級アルカノイルオキシ低級アルキル基
を示す。
さらに、R12のより好ましい定義は、
(2-2)低級アルキル基、
(2-4)低級アルケニル基、
(2-6)低級アルカノイル基、
(2-7)ヒドロキシ低級アルキル基、
(2-8)低級アルコキシ低級アルキル基または
(2-9)シクロC3−C8アルキル基が挙げられる。)
または下記一般式(II)で示される基、
21−A− (II)
[式中、−A−は低級アルキレン基、低級アルケニレン基または基−A21−O−A22−を示す。
[Wherein, A 1 represents a lower alkylene group.
Z represents O or S.
R 11 is (1-1) hydrogen,
(1-2) a lower alkyl group,
(1-3 a) an aryl group selected from the group consisting of a phenyl group, a naphthyl group, and a dihydroindenyl group (here, the following (i) to (viii), (ix a), (xa), (xii), (xiii a), (xiv) to (xviii), (xix a), (xx) to (xxvi), (xxvii a), (xxviii) to (xxxii) and (xxxiii a 1 to 3 groups selected from the group consisting of:
(i) a lower alkyl group,
(ii) a lower alkenyl group,
(iii) a halogen-substituted lower alkyl group,
(iv) a lower alkoxy group,
(v) a halogen-substituted lower alkoxy group,
(vi) a nitro group,
(vii) a cyano group,
(viii) halogen,
(ix a) a phenyl group,
(xa) a phenoxy group,
(xi) a lower alkoxycarbonyl group,
(xii) a hydroxy group,
(xiii a) a phenyl lower alkoxy group optionally having 1 to 3 halogen atoms on the lower alkanoyloxy group or phenyl group,
(xiv) a lower alkanoyl group,
(xv) sulfamoyl group,
(xvi) a lower alkylthio group,
(xvii) a lower alkylsulfonyl group,
(xviii) hydroxysulfonyl group,
(xix a) an amino group optionally having 1 to 2 groups selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkanoyl group, a cyclo C3-C8 alkyl group, a phenyl group and a benzoyl group (more preferably N N-dilower alkylamino group, lower alkanoylamino group, N-lower alkanoyl-N-cycloC3-C8 alkylamino group, phenylamino group, benzoylamino group),
(xx) morpholinylcarbonyl lower alkenyl group,
(xxi) morpholinylcarbonyl lower alkyl group,
(xxii) pyrrolyl group,
(xxiii) pyrazolyl group,
(xxiv) an imidazolyl group,
(xxv) triazolyl group,
(xxvi) pyridyl group,
(xxviia) pyrrolidinyl group optionally having 1 to 2 (preferably 1) oxo groups,
(xxviii) morpholinyl group,
(xxix) thiomorpholinyl group,
(xxx) a lower alkynyl group,
(xxxi) a cyclo C3-C8 alkyl group,
(xxxii) guanidino group,
(xxxiii a) a dihydropyrazolyl group having one oxo group and one lower alkyl group),
(1-4 a) pyrrolidinyl, piperidyl, thiazolidinyl, tetrahydropyranyl, pyrrolyl, imidazolyl, pyrazolyl, dihydropyrazolyl (eg 4,5-dihydropyrazolyl etc.), pyridyl, dihydropyridyl (eg 1,2-dihydropyridyl etc. ), Tetrahydropyrimidinyl (such as 1,2,3,4-tetrahydropyrimidinyl), pyrazinyl, thiazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thienyl, furyl, indolyl, indolinyl, isoindolinyl, benzimidazolyl, imidasopyridylquinolyl, dihydroquinolyl, tetrahydroquinol Ril, isoquinolyl, cinolinyl, indazolyl, quinoxalinyl, benzotriazolyl, dihydronaphthyridyl, benzothiazolyl, dihydrobenzothiazolyl, dihydrobenzothia A heterocyclic group selected from the group consisting of dinyl, thienopyrazinyl, benzoxazolyl, dihydrobenzoxazolyl, dihydrobenzoxazinyl, furopyrrolyl, benzodioxolyl, dihydrobenzodioxinyl and benzothienyl, wherein From the group consisting of the following (i) to (v), (vi a), (vii a), (viii), (ix a), (xa) and (xi) to (xix) as substituents on the ring group 1-3 selected groups may be substituted:
(i) a lower alkyl group,
(ii) a halogen-substituted lower alkyl group,
(iii) a lower alkoxy group,
(iv) a halogen-substituted lower alkoxy group,
(v) halogen,
(vi a) a phenyl group which may have 1 to 3 (preferably 1) groups selected from the group consisting of halogen and halogen-substituted lower alkyl groups on the phenyl group;
(viia) a phenyl lower alkyl group optionally having 1 to 3 (preferably 1 to 2) halogens;
(viii) a lower alkanoyl group,
(ix a) a benzoyl group,
(xa) an amino lower alkanoyl group optionally having 1 to 2 (preferably 1) lower alkanoyl groups on the amino group;
(xi) a lower alkylthio group,
(xii) pyrrolyl group,
(xiii) an oxo group,
(xiv) a thioxo group,
(xv) a carbamoyl group,
(xvi) a hydroxy group,
(xvii) pyranyl group,
(xviii) thienyl group,
(xix) furyl group),
(1-5 a) On an amino group and / or a lower alkyl group, a lower alkyl group, a lower alkanoyl group, a hydroxy lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl lower alkyl group, an indolylcarbonyl group, a phenyl group A group selected from the group consisting of 1 to 3 (preferably 1) groups selected from the group consisting of halogen and lower alkoxy groups on the phenyl group and a group consisting of phenyl lower alkoxycarbonyl groups is 1 ~ 2 amino lower alkyl groups optionally having,
(1-6) a lower alkoxy lower alkyl group,
(1-7 a) benzoyl lower alkyl group,
(1-8 a) having 1 to 3 (preferably 1 to 2) groups selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a hydroxy group, a halogen and a nitro group on the phenyl group; A phenyl lower alkyl group,
(1-9 a) a phenoxy lower alkyl group which may have 1 to 3 groups selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen and a cyano group on the phenyl group;
(1-10) adamantyl lower alkyl group,
(1-11 a) An amino group optionally having 1 to 2 lower alkyl groups, lower alkoxy groups, halogen-substituted lower alkyl groups, halogen-substituted lower alkoxy groups or lower alkyl groups on the phenyl group (preferably N, N-di-lower alkylamino group), a phenyl lower alkenyl group optionally having 1 to 3 (preferably 1 to 2) groups selected from the group consisting of halogen and nitro group,
(1-12 a) an amino group which may have 1 to 2 lower alkyl groups (preferably an N, N-dilower alkylamino group); may have 1 to 2 lower alkyl groups Phenyl optionally having 1 to 3 (preferably 1) groups selected from the group consisting of amino lower alkyl groups (preferably N, N-di-lower alkylamino lower alkyl groups) and halogens and lower alkyl groups A cyclo C3-C8 alkyl group optionally having a group selected from the group consisting of groups;
(1-13) a cyclo C3-C8 alkyl lower alkyl group,
(1-14 a) a phenylthio lower alkyl group,
(1-15 a) a lower group substituted with a heterocyclic group selected from the group consisting of a piperidyl group, a tetrahydropyranyl group, a pyridyl group, a thienyl group, an imidazolyl group, a tetrazolyl group, a benzoimidazolyl group, an isoindolyl group, a thiazolidinyl group, and an indolyl group An alkyl group (wherein the heterocyclic group has 1 to 3 (preferably 1 to 2) groups selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen, an oxo group and a thioxo group; You may)
(1-16 a) a phenyl lower alkenyl group (which may have 1 to 2 (preferably 1) phenyl groups on the lower alkenyl group),
(1-17) a lower alkenyl group substituted with a heterocyclic group selected from the group consisting of a benzodioxolyl group, a pyridyl group, a furyl group, and an imidazolyl group,
(1-18) benzodioxolyloxy lower alkyl group,
(1-19) A pyridylthio lower alkyl group or (1-20 a) an amino group optionally having 1 to 2 lower alkyl groups.
Furthermore, a more preferred definition of R 11 is
(1-1) hydrogen,
(1-2) a lower alkyl group,
(1-5 aaa) an amino lower alkyl group having one group selected from the group consisting of a lower alkanoyl group and a lower alkoxycarbonyl group on an amino group and / or a lower alkyl group or (1-20 aa) lower alkyl Examples include amino groups having 1 to 2 groups.
R 12 is
(2-1) hydrogen (2-2) a lower alkyl group,
(2-3) a halogen-substituted lower alkyl group,
(2-4) a lower alkenyl group,
(2-5) a lower alkynyl group,
(2-6) lower alkanoyl group,
(2-7) hydroxy lower alkyl group,
(2-8) a lower alkoxy lower alkyl group,
(2-9) a cyclo C3-C8 alkyl group,
(2-10) cyclo C3-C8 alkyl lower alkyl group,
(2-11 a) a phenyl group,
(2-12 a) selected from the group consisting of an amino group (more preferably N, N-di-lower alkylamino group) optionally having 1 to 2 lower alkyl groups on the phenyl group and a phenoxy group Phenyl lower alkyl group optionally having 1 to 3 (preferably 1) groups,
(2-13) tetrahydrofuryl group,
(2-14) a lower alkyl group substituted by a heterocyclic group selected from the group consisting of a furyl group and a pyridyl group,
(2-15) represents a tetrahydropyranyl group or (2-16) a lower alkanoyloxy lower alkyl group.
Furthermore, a more preferred definition of R 12 is
(2-2) a lower alkyl group,
(2-4) a lower alkenyl group,
(2-6) lower alkanoyl group,
(2-7) hydroxy lower alkyl group,
(2-8) lower alkoxy lower alkyl group or (2-9) cyclo C3-C8 alkyl group. )
Or a group represented by the following general formula (II):
R 21 -A 2- (II)
Wherein, -A 2 - is lower alkylene, lower alkenylene group or a group -A 21 -O-A 22 - shows the.

ここで、A21及びA22は、同一または異なって、C1−C5アルキレン基を示す。但し、A21のアルキレン基及びA22のアルキレン基を構成する炭素原子の総数は6を超えないものとする。
21はピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、ヘキサヒドロピリミジニル、ピペラジニル、オクタヒドロイソインドール、アゼパニル、アゾカニル、アザスピロノナニル、アザスピロデカニル、ジアザスピロノナニル、ジヒドロピロリル、イミダゾリル、ジヒドロイミダゾリル、トリアゾリル、ジヒドロトリアゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ジヒドロピリジル、ピリミジニル、ジヒドロピリミジニル、ピラジニル、ジヒドロピラジニル、ピリダジニル、テトラゾリル、インドリル、イソインドリル、インドリニル、イソインドリニル、ヘキサヒドロイソインドリル、オクタヒドロイソインドリル、ベンゾイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、キナゾリニル、ジヒドロキナゾリニル、ベンゾトリアゾリル、カルバゾリル、スピロ[シクロペンタンインドリニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル、オキサジナニル、モルホリニル、ベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジニル、ジヒドロベンゾオキサジニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、チアゾリル、ジヒドロチアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、ジヒドロチアジニル、チアゾリジニルベンゾチアゾリル及びベンゾチアジアゾリルからなる群から選ばれるN−含有複素環基を示す:
ここで、上記R21で示されるN−含有複素環上には、下記(1)〜(4)、(5 a)、(6 a)、(7)〜(9)、(10 a)、(11 a)、(12)及び(13)からなる群から選ばれた1〜3個の基が置換していてもよい:
(1)ハロゲン置換または未置換低級アルキル基
(2)低級アルケニル基
(3)低級アルコキシ基
(4)ヒドロキシ基
(5 a)低級アルカノイルオキシ基またはフェニル低級アルコキシ基
(6 a)フェニル基
(7)低級アルカノイル基
(8)カルボキシ基
(9)低級アルコキシカルボニル基
(10a)低級アルキル基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基
(11a)フェニル低級アルキル基(ここで、フェニル基上には低級アルコキシ基を1〜2個有していてもよい)
(12)オキソ基
(13)チオキソ基
さらに、R21のより好ましい定義は、低級アルキル基及びオキソ基からなる群から選ばれる基を1〜2個有するイミダゾリジニル基;低級アルキル基、オキソ基及びチオキソ基からなる群から選ばれる基を1〜2個有するピペリジル基;低級アルキル基及びオキソ基からなる群から選ばれる基を1〜2個有するオキサゾリジニル基;低級アルキル基及びオキソ基からなる群から選ばれる基を1〜2個有するオキサジナニル基が挙げられる]
で表される複素環化合物またはその塩。
Here, A 21 and A 22 are the same or different and each represents a C1-C5 alkylene group. However, the total number of carbon atoms constituting the alkylene group of A 21 and the alkylene group of A 22 does not exceed 6.
R 21 is pyrrolidinyl, imidazolidinyl, piperidyl, hexahydropyrimidinyl, piperazinyl, octahydroisoindole, azepanyl, azocanyl, azaspirononyl, azaspirodecanyl, diazaspirononyl, dihydropyrrolyl, imidazolyl, dihydroimidazolyl, triazolyl , Dihydrotriazolyl, pyrazolyl, pyridyl, dihydropyridyl, pyrimidinyl, dihydropyrimidinyl, pyrazinyl, dihydropyrazinyl, pyridazinyl, tetrazolyl, indolyl, isoindolyl, indolinyl, isoindolinyl, hexahydroisoindolyl, octahydroisoindolyl, benzimidazolyl Quinolyl, isoquinolyl, indazolyl, quinazolinyl, dihydroquinazolinyl, benzotriazolyl, cal Basolyl, spiro [cyclopentaneindolinyl, oxazolyl, isoxazolyl, oxadiazolyl, oxazolidinyl, isoxazolidinyl, oxadinanyl, morpholinyl, benzoxazolyl, dihydrobenzoxazolyl, benzooxazinyl, dihydrobenzoxazinyl, benzo Represents an N-containing heterocyclic group selected from the group consisting of oxazolyl, benzooxadiazolyl, thiazolyl, dihydrothiazolyl, isothiazolyl, thiadiazolyl, dihydrothiazinyl, thiazolidinylbenzothiazolyl and benzothiadiazolyl :
Here, on the N-containing heterocycle represented by R 21 , the following (1) to (4), (5 a), (6 a), (7) to (9), (10 a), 1 to 3 groups selected from the group consisting of (11 a), (12) and (13) may be substituted:
(1) halogen-substituted or unsubstituted lower alkyl group (2) lower alkenyl group (3) lower alkoxy group (4) hydroxy group (5 a) lower alkanoyloxy group or phenyl lower alkoxy group (6 a) phenyl group (7) Lower alkanoyl group (8) Carboxy group (9) Lower alkoxycarbonyl group (10a) Carbamoyl group which may have one or two lower alkyl groups (11a) Phenyl lower alkyl group (here, on the phenyl group, (It may have 1 to 2 lower alkoxy groups)
(12) Oxo group (13) Thioxo group Further, R 21 is more preferably defined as an imidazolidinyl group having 1 to 2 groups selected from the group consisting of a lower alkyl group and an oxo group; a lower alkyl group, an oxo group and a thioxo group. A piperidyl group having 1 to 2 groups selected from the group consisting of groups; an oxazolidinyl group having 1 to 2 groups selected from the group consisting of lower alkyl groups and oxo groups; selected from the group consisting of lower alkyl groups and oxo groups And an oxadinanyl group having 1 to 2 groups.]
Or a salt thereof.

項4.
Qが、下記一般式(I)で示される基:
Item 4.
Q is a group represented by the following general formula (I):

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、Aは低級アルキレン基を示す。
ZはOまたはSを示す。
11
(1-1)水素、
(1-2)低級アルキル基、
(1-5 aa)アミノ基上及び/または低級アルキル基上に、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル低級アルキル基、インドリルカルボニル基、フェニル基(当該フェニル基上に、ハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる基を(好ましくは1個)有していてもよい)及びフェニル低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれる基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基または
(1-20 a)低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ基
を示す。
12は、
(2-1)水素、
(2-2)低級アルキル基、
(2-4)低級アルケニル基、
(2-6)低級アルカノイル基、
(2-7)ヒドロキシ低級アルキル基、
(2-8)低級アルコキシ低級アルキル基または
(2-9)シクロC3−C8アルキル基
を示す。]
を示す項2に記載の複素環化合物またはその塩。
[Wherein, A 1 represents a lower alkylene group.
Z represents O or S.
R 11 is (1-1) hydrogen,
(1-2) a lower alkyl group,
(1-5 aa) On an amino group and / or a lower alkyl group, a lower alkyl group, a lower alkanoyl group, a hydroxy lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl lower alkyl group, an indolylcarbonyl group, a phenyl group (Preferably one group selected from the group consisting of halogen and lower alkoxy groups may be present on the phenyl group) and 1 to 2 groups selected from the group consisting of phenyl lower alkoxycarbonyl groups. An amino lower alkyl group which may be optionally substituted or an amino group which may have 1 to 2 (1-20a) lower alkyl groups.
R 12 is
(2-1) Hydrogen,
(2-2) a lower alkyl group,
(2-4) a lower alkenyl group,
(2-6) lower alkanoyl group,
(2-7) hydroxy lower alkyl group,
(2-8) represents a lower alkoxy lower alkyl group or (2-9) a cyclo C3-C8 alkyl group. ]
The heterocyclic compound or its salt of claim | item 2 which shows these.

項5.
Qが、下記一般式(II)で示される基:
21−A− (II)
[式中、−A−は低級アルキレン基または低級アルケニレン基を示す。
21は、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、アゼパニル、オキサゾリジニル及びオキサジナニルからなる群から選ばれるN−含有複素環基を示す:
ここで、上記R21で示されるN−含有複素環上には、下記(1)、(12)及び(13)からなる群から選ばれた1〜2個の基が置換していてもよい:
(1)ハロゲン置換または未置換低級アルキル基
(12)オキソ基
(13)チオキソ基]
を示す項2に記載の複素環化合物またはその塩。
Item 5.
Q is a group represented by the following general formula (II):
R 21 -A 2- (II)
[Wherein, -A 2 -represents a lower alkylene group or a lower alkenylene group.
R 21 represents an N-containing heterocyclic group selected from the group consisting of pyrrolidinyl, imidazolidinyl, piperidyl, azepanyl, oxazolidinyl and oxadinanyl:
Here, on the N-containing heterocyclic ring represented by R 21 , 1 to 2 groups selected from the group consisting of the following (1), (12) and (13) may be substituted. :
(1) Halogen-substituted or unsubstituted lower alkyl group (12) oxo group (13) thioxo group]
The heterocyclic compound or its salt of claim | item 2 which shows these.

項6.前記一般式(1)で表される複素環化合物が、
N−[5−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ペンチル]アセトアミド、
N−[5−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ペンチル]−2,4−ジフルオロベンズアミド、
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−N−シクロプロピルアセトアミド、
5−メチル−2−ピラジンカルボン酸[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]エチルアミド、
4−チアゾールカルボン酸[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]エチルアミド、
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−N−エチル−アセトアミド、
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−N−イソプロピルアセトアミド、
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−N−エチルチオアセトアミド、
N−アリル−N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]アセトアミドまたは
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−N−tert−ブチルホルムアミド
である、項4に記載の複素環化合物またはその塩。
Item 6. The heterocyclic compound represented by the general formula (1) is
N- [5- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) pentyl] acetamide,
N- [5- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) pentyl] -2,4-difluorobenzamide,
N- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] -N-cyclopropylacetamide,
5-methyl-2-pyrazinecarboxylic acid [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] ethylamide,
4-thiazolecarboxylic acid [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] ethylamide,
N- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] -N-ethyl-acetamide,
N- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] -N-isopropylacetamide,
N- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] -N-ethylthioacetamide,
N-allyl-N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] acetamide or N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazine- Item 5. The heterocyclic compound or a salt thereof according to Item 4, which is [1-yl) butyl] -N-tert-butylformamide.

項7.前記一般式(1)で表される複素環化合物が、
1−[5−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ペンチル]−イミダゾリジン−2−オン、
1−[5−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ペンチル]−3−メチルイミダゾリジン−2−オン、
1−[5−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ペンチル]−ピロリジン−2−オン、
1−[5−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ペンチル]−ピロリジン−2,5−ジオン、
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]アゼパン−2−オン、
3−[6−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ヘキシル]オキサゾリジン−2−オン、
3−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−4,4−ジメチルオキサゾリジン−2−オン、
3−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−4−メチルオキサゾリジン−2−オン、
3−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−オキサゾリジン−2−オン、
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]ピロリジン−2−オン、
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]ピペリジン−2−オン、
1−[(E)−4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)−2−ブテニル]−3−メチルイミダゾリジン−2−オン、
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ピペリジン−2−チオンまたは
3−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−4−メチルオキサゾリジン−2−オン
である、項5に記載の複素環化合物またはその塩。
Item 7. The heterocyclic compound represented by the general formula (1) is
1- [5- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) pentyl] -imidazolidin-2-one,
1- [5- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) pentyl] -3-methylimidazolidin-2-one,
1- [5- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) pentyl] -pyrrolidin-2-one,
1- [5- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) pentyl] -pyrrolidine-2,5-dione,
1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] azepan-2-one,
3- [6- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) hexyl] oxazolidine-2-one,
3- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] -4,4-dimethyloxazolidine-2-one,
3- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] -4-methyloxazolidine-2-one,
3- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] -oxazolidine-2-one,
1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] pyrrolidin-2-one,
1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] piperidin-2-one,
1-[(E) -4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) -2-butenyl] -3-methylimidazolidin-2-one,
1- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] piperidin-2-thione or 3- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazine Item 6. The heterocyclic compound or a salt thereof according to Item 5, which is -1-yl) butyl] -4-methyloxazolidine-2-one.

前記一般式において示される各基は、具体的には次の通りである。   Specific examples of the groups shown in the general formula are as follows.

低級アルキル基としては、炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。より具体的には、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、sec−ブチル、n−ペンチル、1−エチルプロピル、イソペンチル、ネオペンチル、n−ヘキシル、1,2,2−トリメチルプロピル、3,3−ジメチルブチル、2−エチルブチル、イソヘキシル、3−メチルペンチル基等が含まれる。   Examples of the lower alkyl group include linear or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms). More specifically, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, sec-butyl, n-pentyl, 1-ethylpropyl, isopentyl, neopentyl, n-hexyl, 1,2 , 2-trimethylpropyl, 3,3-dimethylbutyl, 2-ethylbutyl, isohexyl, 3-methylpentyl group and the like.

低級アルキレン基としては、炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキレン基を挙げることができる。より具体的には、メチレン、エチレン、トリメチレン、2−メチルトリメチレン、2,2−ジメチルエチレン、2,2−ジメチルトリメチレン、1−メチルトリメチレン、メチルメチレン、エチルメチレン、テトラメチレン、1−メチルテトラメチレン、1−エチルテトラメチレン、2−メチルテトラメチレン、2−エチルテトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン基等が含まれる。   Examples of the lower alkylene group include linear or branched alkylene groups having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms). More specifically, methylene, ethylene, trimethylene, 2-methyltrimethylene, 2,2-dimethylethylene, 2,2-dimethyltrimethylene, 1-methyltrimethylene, methylmethylene, ethylmethylene, tetramethylene, 1- Examples include methyltetramethylene, 1-ethyltetramethylene, 2-methyltetramethylene, 2-ethyltetramethylene, pentamethylene, hexamethylene groups and the like.

低級アルケニレン基としては、二重結合を1〜3個有する炭素数2〜6(好ましくは炭素数2〜4)の直鎖または分枝鎖状アルケニレン基を挙げることができる。より具体的には、ビニレン、1−プロペニレン、1−メチル−1−プロペニレン、2−メチル−1−プロペニレン、2−プロペニレン、2−ブテニレン、1−ブテニレン、3−ブテニレン、2−ペンテニレン、1−ペンテニレン、3−ペンテニレン、4−ペンテニレン、1,3−ブタジエニレン、1,3−ペンタジエニレン、2−ペンテン−4−イニレン、2−ヘキセニレン、1−ヘキセニレン、5−へキセニレン、3−ヘキセニレン、4−へキセニレン、3,3−ジメチル−1−プロペニレン、2−エチル−1−プロペニレン、1,3,5−ヘキサトリエニレン、1,3−ヘキサジエニレン、1,4−ヘキサジエニレン基等が含まれる。   Examples of the lower alkenylene group include straight-chain or branched alkenylene groups having 1 to 2 carbon atoms and having 2 to 6 carbon atoms (preferably 2 to 4 carbon atoms). More specifically, vinylene, 1-propenylene, 1-methyl-1-propenylene, 2-methyl-1-propenylene, 2-propenylene, 2-butenylene, 1-butenylene, 3-butenylene, 2-pentenylene, 1- Pentenylene, 3-pentenylene, 4-pentenylene, 1,3-butadienylene, 1,3-pentadienylene, 2-pentene-4-ynylene, 2-hexenylene, 1-hexenylene, 5-hexenylene, 3-hexenylene, 4-hexene Xenylene, 3,3-dimethyl-1-propenylene, 2-ethyl-1-propenylene, 1,3,5-hexatrienylene, 1,3-hexadienylene, 1,4-hexadienylene group and the like are included.

C1−C5アルキレン基としては、炭素数1〜5の直鎖または分枝鎖状アルキレン基を挙げることができる。より具体的には、メチレン、エチレン、トリメチレン、2−メチルトリメチレン、2,2−ジメチルエチレン、2,2−ジメチルトリメチレン、1−メチルトリメチレン、メチルメチレン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン基等が含まれる。   Examples of the C1-C5 alkylene group include linear or branched alkylene groups having 1 to 5 carbon atoms. More specifically, methylene, ethylene, trimethylene, 2-methyltrimethylene, 2,2-dimethylethylene, 2,2-dimethyltrimethylene, 1-methyltrimethylene, methylmethylene, ethylmethylene, tetramethylene, pentamethylene Groups etc. are included.

一般式において上記−A21−O−A22−で示される基としては、例えば、−CH−O−CH−、−CH−O−(CH−、−CH−O−(CH−、−CH−O−(CH−、−CH−O−(CH−、−(CH−O−(CH−、−(CH−O−(CH−、−CH(CH)−CH−O−CH(CH)−CH−等が挙げられる。 In the general formula, examples of the group represented by —A 21 —O—A 22 — include —CH 2 —O—CH 2 —, —CH 2 —O— (CH 2 ) 2 —, —CH 2 —O. - (CH 2) 3 -, - CH 2 -O- (CH 2) 4 -, - CH 2 -O- (CH 2) 5 -, - (CH 2) 2 -O- (CH 2) 2 -, - (CH 2) 3 -O- ( CH 2) 3 -, - CH (CH 3) -CH 2 -O-CH (CH 3) -CH 2 - and the like.

低級アルケニル基としては、二重結合を1〜3個有する炭素数2〜6(好ましくは炭素数2〜4)の直鎖または分枝鎖状アルケニル基を挙げることができ、トランス体及びシス体の両者を包含する。より具体的には、ビニル、1−プロペニル、2−プロペニル、1−メチル−1−プロペニル、2−メチル−1−プロペニル、2−メチル−2−プロペニル、2−プロペニル、2−ブテニル、1−ブテニル、3−ブテニル、2−ペンテニル、1−ペンテニル、3−ペンテニル、4−ペンテニル、1,3−ブタジエニル、1,3−ペンタジエニル、2−ペンテン−4−イル、2−ヘキセニル、1−ヘキセニル、5−へキセニル、3−ヘキセニル、4−へキセニル、3,3−ジメチル−1−プロペニル、2−エチル−1−プロペニル、1,3,5−ヘキサトリエニル、1,3−ヘキサジエニル、1,4−ヘキサジエニル基等が含まれる。   Examples of the lower alkenyl group include a straight chain or branched alkenyl group having 1 to 3 carbon atoms and having 2 to 6 carbon atoms (preferably 2 to 4 carbon atoms). Of both. More specifically, vinyl, 1-propenyl, 2-propenyl, 1-methyl-1-propenyl, 2-methyl-1-propenyl, 2-methyl-2-propenyl, 2-propenyl, 2-butenyl, 1- Butenyl, 3-butenyl, 2-pentenyl, 1-pentenyl, 3-pentenyl, 4-pentenyl, 1,3-butadienyl, 1,3-pentadienyl, 2-penten-4-yl, 2-hexenyl, 1-hexenyl, 5-hexenyl, 3-hexenyl, 4-hexenyl, 3,3-dimethyl-1-propenyl, 2-ethyl-1-propenyl, 1,3,5-hexatrienyl, 1,3-hexadienyl, 1, 4-hexadienyl group and the like are included.

低級アルキニル基としては、炭素数2〜6(好ましくは炭素数2〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキニル基を挙げることができる。より具体的には、エチニル、2−プロピニル、2−ブチニル、3−ブチニル、1−メチル−2−プロピニル、2−ペンチニル、2−ヘキシニル基等が含まれる。   Examples of the lower alkynyl group include linear or branched alkynyl groups having 2 to 6 carbon atoms (preferably 2 to 4 carbon atoms). More specifically, ethynyl, 2-propynyl, 2-butynyl, 3-butynyl, 1-methyl-2-propynyl, 2-pentynyl, 2-hexynyl group and the like are included.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。   Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

ハロゲン置換低級アルキル基としては、ハロゲン原子が1〜7個、より好ましくは1〜3個置換した前記例示の低級アルキル基を挙げることができる。より具体的には、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、ジクロロフルオロメチル、2,2−ジフルオロエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、2−フルオロエチル、2−クロロエチル、3,3,3−トリフルオロプロピル、ヘプタフルオロプロピル、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル、ヘプタフルオロイソプロピル、3−クロロプロピル、2−クロロプロピル、3−ブロモプロピル、4,4,4−トリフルオロブチル、4,4,4,3,3−ペンタフルオロブチル、4−クロロブチル、4−ブロモブチル、2−クロロブチル、5,5,5−トリフルオロペンチル、5−クロロペンチル、6,6,6−トリフルオロへキシル、6−クロロヘキシル、ペルフルオロヘキシル基等が含まれる。   Examples of the halogen-substituted lower alkyl group include the above-described lower alkyl groups substituted with 1 to 7, more preferably 1 to 3, halogen atoms. More specifically, fluoromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, chloromethyl, dichloromethyl, trichloromethyl, bromomethyl, dibromomethyl, dichlorofluoromethyl, 2,2-difluoroethyl, 2,2,2-trifluoroethyl , Pentafluoroethyl, 2-fluoroethyl, 2-chloroethyl, 3,3,3-trifluoropropyl, heptafluoropropyl, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl, heptafluoroisopropyl, 3-chloropropyl 2-chloropropyl, 3-bromopropyl, 4,4,4-trifluorobutyl, 4,4,4,3,3-pentafluorobutyl, 4-chlorobutyl, 4-bromobutyl, 2-chlorobutyl, 5,5 , 5-trifluoropentyl, 5-chloropentyl, 6, , Hexyl 6-trifluoromethyl, 6-chloro hexyl, perfluorohexyl group or the like.

低級アルコキシ基としては、炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分岐鎖状のアルコキシ基を挙げることができる。より具体的には、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、tert−ブトキシ、sec−ブトキシ、n−ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、n−ヘキシルオキシ、イソヘキシルオキシ、3−メチルペンチルオキシ基等が含まれる。   Examples of the lower alkoxy group include linear or branched alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms). More specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, tert-butoxy, sec-butoxy, n-pentyloxy, isopentyloxy, neopentyloxy, n-hexyloxy, iso Hexyloxy, 3-methylpentyloxy groups and the like are included.

アリール基としては、例えば、フェニル、ビフェニル、ナフチル、ジヒドロインデニル、9H−フルオレニル基等を挙げることができる。   Examples of the aryl group include phenyl, biphenyl, naphthyl, dihydroindenyl, 9H-fluorenyl group and the like.

アリールオキシ基としては、例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ基等を挙げることができる。   Examples of the aryloxy group include phenyloxy and naphthyloxy groups.

アリールチオ基としては、例えば、フェニルチオ、ナフチルチオ基等を挙げることができる。   Examples of the arylthio group include phenylthio and naphthylthio groups.

アロイル基としては、ベンゾイル、ナフトイル基等を挙げることができる。   Examples of aroyl groups include benzoyl and naphthoyl groups.

低級アルキルチオ基としては、炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキルチオ基を挙げることができる。より具体的には、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、イソプロピルチオ、n−ブチルチオ、tert−ブチルチオ、n−ペンチルチオ、n−ヘキシルチオ基等が含まれる。   Examples of the lower alkylthio group include linear or branched alkylthio groups having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms). More specifically, methylthio, ethylthio, n-propylthio, isopropylthio, n-butylthio, tert-butylthio, n-pentylthio, n-hexylthio group and the like are included.

ハロゲン置換低級アルコキシ基としては、ハロゲン原子が1〜7個、好ましくは1〜3個置換した前記例示の低級アルコキシ基を挙げることができる。より具体的には、フルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、クロロメトキシ、ジクロロメトキシ、トリクロロメトキシ、ブロモメトキシ、ジブロモメトキシ、ジクロロフルオロメトキシ、2,2,2−トリフルオロエトキシ、ペンタフルオロエトキシ、2−クロロエトキシ、3,3,3−トリフルオロプロポキシ、ヘプタフルオロプロポキシ、ヘプタフルオロイソプロポキシ、3−クロロプロポキシ、2−クロロプロポキシ、3−ブロモプロポキシ、4,4,4−トリフルオロブトキシ、4,4,4,3,3−ペンタフルオロブトキシ、4−クロロブトキシ、4−ブロモブトキシ、2−クロロブトキシ、5,5,5−トリフルオロペントキシ、5−クロロペントキシ、6,6,6−トリフルオロへキシルオキシ、6−クロロヘキシルオキシ基等が含まれる。   Examples of the halogen-substituted lower alkoxy group include the exemplified lower alkoxy groups substituted with 1 to 7, preferably 1 to 3, halogen atoms. More specifically, fluoromethoxy, difluoromethoxy, trifluoromethoxy, chloromethoxy, dichloromethoxy, trichloromethoxy, bromomethoxy, dibromomethoxy, dichlorofluoromethoxy, 2,2,2-trifluoroethoxy, pentafluoroethoxy, 2 -Chloroethoxy, 3,3,3-trifluoropropoxy, heptafluoropropoxy, heptafluoroisopropoxy, 3-chloropropoxy, 2-chloropropoxy, 3-bromopropoxy, 4,4,4-trifluorobutoxy, 4, 4,4,3,3-pentafluorobutoxy, 4-chlorobutoxy, 4-bromobutoxy, 2-chlorobutoxy, 5,5,5-trifluoropentoxy, 5-chloropentoxy, 6,6,6- Trifluorohexyloxy, 6- Rollo hexyloxy group and the like.

低級アルカノイル基としては、炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルカノイル基を挙げることができる。より具体的には、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、tert−ブチルカルボニル、ヘキサノイル基等が含まれる。   Examples of the lower alkanoyl group include linear or branched alkanoyl groups having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms). More specifically, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, pentanoyl, tert-butylcarbonyl, hexanoyl group and the like are included.

低級アルカノイルオキシ基としては、アルカノイル部分が炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルカノイル基であるアルカノイルオキシ基を挙げることができる。より具体的には、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、tert−ブチルカルボニルオキシ、ヘキサノイルオキシ基等が含まれる。   Examples of the lower alkanoyloxy group include an alkanoyloxy group in which the alkanoyl moiety is a linear or branched alkanoyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms). More specifically, formyloxy, acetyloxy, propionyloxy, butyryloxy, isobutyryloxy, pentanoyloxy, tert-butylcarbonyloxy, hexanoyloxy groups and the like are included.

低級アルカノイルオキシ低級アルキル基としては、前記例示の低級アルカノイルオキシ基を1〜3個、好ましくは1個有する、炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基を挙げることができる。より具体的には、ホルミルオキシメチル、3−アセチルオキシプロピル、2−プロピオニルオキシエチル、ブチリルオキシメチル、2−イソブチリルオキシエチル、3−ペンタノイルオキシプロピル、tert−ブチルカルボニルオキシメチル、ヘキサノイルオキシメチル基等が含まれる。   The lower alkanoyloxy lower alkyl group has 1 to 3 and preferably 1 lower alkanoyloxy groups exemplified above, and is a straight chain or branched chain having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms). An alkyl group can be mentioned. More specifically, formyloxymethyl, 3-acetyloxypropyl, 2-propionyloxyethyl, butyryloxymethyl, 2-isobutyryloxyethyl, 3-pentanoyloxypropyl, tert-butylcarbonyloxymethyl, hexa Noyloxymethyl group and the like are included.

ヒドロキシ基の保護基としては、例えば、低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)、低級アルカノイル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルカノイル基)、低級アルキル部分が炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基であり、フェニル基上にハロゲン原子等の置換基を1〜3個、好ましくは1個有していてもよいフェニル低級アルキル基を挙げることができる。   Examples of the protective group for the hydroxy group include a lower alkyl group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)) and a lower alkanoyl group (preferably carbon atoms). Straight chain or branched chain alkanoyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms), straight chain or branched chain whose lower alkyl moiety is 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms) A phenyl lower alkyl group which is a chain alkyl group and may have 1 to 3, preferably 1 substituent such as a halogen atom on the phenyl group.

保護されたヒドロキシ基としては、例えば、前記例示の低級アルコキシ基、低級アルカノイル部分が前記例示の低級アルカノイルオキシ基、低級アルコキシ部分が前記例示の低級アルコキシ基であるフェニル低級アルコキシ基(フェニル基上にハロゲン原子等の置換基を1〜3個、好ましくは1個有していてもよい)等を挙げることができる。より具体的には、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、tert−ブトキシ、sec−ブトキシ、n−ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、n−ヘキシルオキシ、イソヘキシルオキシ、3−メチルペンチルオキシ、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、tert−ブチルカルボニルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ベンジルオキシ、4−クロロベンジルオキシ、2−フェニルエトキシ、1−フェニルエトキシ、3−フェニルプロポキシ、4−フェニルブトキシ、5−フェニルペンチルオキシ、6−フェニルヘキシルオキシ、1,1−ジメチル−2−フェニルエトキシ、2−メチル−3−フェニルプロポキシ基等が挙げられる。   Examples of the protected hydroxy group include a lower alkoxy group exemplified above, a phenyl lower alkoxy group wherein the lower alkanoyl moiety is the lower alkanoyloxy group exemplified above, and the lower alkoxy moiety is the lower alkoxy group exemplified above (on the phenyl group). 1 to 3 substituents such as a halogen atom, and preferably 1 substituent). More specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, tert-butoxy, sec-butoxy, n-pentyloxy, isopentyloxy, neopentyloxy, n-hexyloxy, iso Hexyloxy, 3-methylpentyloxy, formyloxy, acetyloxy, propionyloxy, butyryloxy, isobutyryloxy, pentanoyloxy, tert-butylcarbonyloxy, hexanoyloxy, benzyloxy, 4-chlorobenzyloxy, 2- Phenylethoxy, 1-phenylethoxy, 3-phenylpropoxy, 4-phenylbutoxy, 5-phenylpentyloxy, 6-phenylhexyloxy, 1,1-dimethyl-2-phenylethoxy, 2-methyl-3- Enirupuropokishi group, and the like.

ヒドロキシ低級アルキル基としては、ヒドロキシ基を1〜5個、好ましくは1〜3個有する前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。より具体的には、ヒドロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル、2,3−ジヒドロキシプロピル、4−ヒドロキシブチル、3,4−ジヒドロキシブチル、1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル、5−ヒドロキシペンチル、6−ヒドロキシヘキシル、3,3−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル、2−メチル−3−ヒドロキシプロピル、2,3,4−トリヒドロキシブチル、ペルヒドロキシヘキシル基等が含まれる。   As the hydroxy lower alkyl group, the above-described lower alkyl group having 1 to 5, preferably 1 to 3 hydroxy groups (preferably a straight chain having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms) or A branched alkyl group). More specifically, hydroxymethyl, 2-hydroxyethyl, 1-hydroxyethyl, 3-hydroxypropyl, 2,3-dihydroxypropyl, 4-hydroxybutyl, 3,4-dihydroxybutyl, 1,1-dimethyl-2 -Hydroxyethyl, 5-hydroxypentyl, 6-hydroxyhexyl, 3,3-dimethyl-3-hydroxypropyl, 2-methyl-3-hydroxypropyl, 2,3,4-trihydroxybutyl, perhydroxyhexyl group, etc. included.

ヒドロキシ低級アルキル基の保護基としては、例えば、炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基、低級アルカノイル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルカノイル基)、低級アルキル部分が炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基であるフェニル低級アルキル基を挙げることができる。   Examples of the protective group for the hydroxy lower alkyl group include a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms) and a lower alkanoyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms (more Preferably, it is a linear or branched alkanoyl group having 1 to 4 carbon atoms), and the lower alkyl portion is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms). Mention may be made of phenyl lower alkyl groups.

保護されたヒドロキシ低級アルキル基としては、前記例示の保護されたヒドロキシ基(好ましくは低級アルコキシ基、低級アルカノイルオキシ基またはフェニル低級アルコキシ基(フェニル基上にハロゲン原子等の置換基を1〜3個、好ましくは1個有していてもよい))を1〜5個、好ましくは1〜3個有する前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。より具体的にはメトキシメチル、2−メトキシエチル、2−エトキシエチル、2−n−プロポキシエチル、2−イソプロポキシエチル、2−n−ブトキシエチル、2−イソブトキシエチル、2−tert−ブトキシエチル、2−sec−ブトキシエチル、2−n−ペンチルオキシエチル、2−イソペンチルオキシエチル、2−ネオペンチルオキシエチル、2−n−ヘキシルオキシエチル、2−イソヘキシルオキシエチル、2−(3−メチルペンチルオキシ)エチル、2−ホルミルオキシエチル、2−アセチルオキシエチル、2−プロピオニルオキシエチル、2−ブチリルオキシエチル、2−イソブチリルオキシエチル、2−ペンタノイルオキシエチル、2−tert−ブチルカルボニルオキシエチル、2−ヘキサノイルオキシエチル、2−ベンジルオキシエチル、2−(2−フェニルエトキシ)エチル、2−(1−フェニルエトキシ)エチル、2−(3−フェニルプロポキシ)エチル、2−(4−フェニルブトキシ)エチル、2−(5−フェニルペンチルオキシ)エチル、2−(6−フェニルヘキシルオキシ)エチル、2−(1,1−ジメチル−2−フェニルエトキシ)エチル、2−(2−メチル−3−フェニルプロポキシ)エチル、3−エトキシプロピル、2,3−ジエトキシプロピル、4−エトキシブチル、3,4−ジエトキシブチル、1,1−ジメチル−2−エトキシエチル、5−エトキシペンチル、6−エトキシヘキシル、3,3−ジメチル−3−エトキシプロピル、2−メチル−3−エトキシプロピル、2,3,4−トリエトキシブチル基等が含まれる。   Examples of the protected hydroxy lower alkyl group include the protected hydroxy groups exemplified above (preferably a lower alkoxy group, a lower alkanoyloxy group or a phenyl lower alkoxy group (1 to 3 substituents such as a halogen atom on the phenyl group). , Preferably 1 may be present)) 1-5, preferably 1-3, of the above-described lower alkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms (more preferably having 1 to 4 carbon atoms)) Straight chain or branched alkyl group). More specifically, methoxymethyl, 2-methoxyethyl, 2-ethoxyethyl, 2-n-propoxyethyl, 2-isopropoxyethyl, 2-n-butoxyethyl, 2-isobutoxyethyl, 2-tert-butoxyethyl 2-sec-butoxyethyl, 2-n-pentyloxyethyl, 2-isopentyloxyethyl, 2-neopentyloxyethyl, 2-n-hexyloxyethyl, 2-isohexyloxyethyl, 2- (3- Methylpentyloxy) ethyl, 2-formyloxyethyl, 2-acetyloxyethyl, 2-propionyloxyethyl, 2-butyryloxyethyl, 2-isobutyryloxyethyl, 2-pentanoyloxyethyl, 2-tert- Butylcarbonyloxyethyl, 2-hexanoyloxyethyl, 2-benzene Zyloxyethyl, 2- (2-phenylethoxy) ethyl, 2- (1-phenylethoxy) ethyl, 2- (3-phenylpropoxy) ethyl, 2- (4-phenylbutoxy) ethyl, 2- (5-phenyl) Pentyloxy) ethyl, 2- (6-phenylhexyloxy) ethyl, 2- (1,1-dimethyl-2-phenylethoxy) ethyl, 2- (2-methyl-3-phenylpropoxy) ethyl, 3-ethoxypropyl 2,3-diethoxypropyl, 4-ethoxybutyl, 3,4-diethoxybutyl, 1,1-dimethyl-2-ethoxyethyl, 5-ethoxypentyl, 6-ethoxyhexyl, 3,3-dimethyl-3 -Ethoxypropyl, 2-methyl-3-ethoxypropyl, 2,3,4-triethoxybutyl group and the like are included.

低級アルコキシカルボニル基としては、低級アルコキシ部分が前記例示の低級アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基)であるアルコキシカルボニル基を挙げることができる。より具体的には、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、n−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、sec−ブトキシカルボニル、n−ペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシ、n−ヘキシルオキシカルボニル、イソヘキシルオキシカルボニル、3−メチルペンチルオキシカルボニル基等が含まれる。   The lower alkoxycarbonyl group is an alkoxy in which the lower alkoxy moiety is the lower alkoxy group exemplified above (preferably a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)). A carbonyl group can be mentioned. More specifically, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, n-butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, sec-butoxycarbonyl, n-pentyloxycarbonyl, neopentyloxy, n-hexyloxycarbonyl, isohexyloxycarbonyl, 3-methylpentyloxycarbonyl group and the like are included.

低級アルキルスルホニル基としては、低級アルキル部分が前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)であるアルキルスルホニル基を挙げることができる。より具体的には、メチルスルホニル、エチルスルホニル、n−プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、n−ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、tert−ブチルスルホニル、sec−ブチルスルホニル、n−ペンチルスルホニル、イソペンチルスルホニル、ネオペンチルスルホニル、n−ヘキシルスルホニル、イソヘキシルスルホニル、3−メチルペンチルスルホニル基等が含まれる。   As the lower alkylsulfonyl group, an alkylsulfonyl in which the lower alkyl moiety is the above-exemplified lower alkyl group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)). The group can be mentioned. More specifically, methylsulfonyl, ethylsulfonyl, n-propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, n-butylsulfonyl, isobutylsulfonyl, tert-butylsulfonyl, sec-butylsulfonyl, n-pentylsulfonyl, isopentylsulfonyl, neopentylsulfonyl , N-hexylsulfonyl, isohexylsulfonyl, 3-methylpentylsulfonyl group and the like.

シクロC3−C8アルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル基等を挙げることができる。   Examples of the cyclo C3-C8 alkyl group include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, and cyclooctyl groups.

置換基として低級アルキル基、低級アルカノイル基、シクロC3−C8アルキル基、アリール基及びアロイル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいアミノ基としては、置換基として、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基);前記例示の低級アルカノイル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルカノイル基);前記例示のシクロC3−C8アルキル基、アリール基(好ましくはフェニル基);前記例示のアリール基(好ましくはフェニル基)及び前記例示のアロイル基(好ましくはベンゾイル基)からなる群から選ばれた基を1〜2個有することのあるアミノ基を挙げることができる。より具体的には、例えば、アミノ、N−メチルアミノ、N,N−ジメチルアミノ、N−エチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ、N−n−プロピルアミノ、N−イソプロピルアミノ、N−ホルミルアミノ、N−アセチルアミノ、N−フェニルアミノ、N−ベンゾイルアミノ、N−アセチル−N−シクロC3−C8アルキルアミノ基等を挙げることができる。   The amino group optionally having a group selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkanoyl group, a cyclo C3-C8 alkyl group, an aryl group and an aroyl group as a substituent includes Lower alkyl group (preferably linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)); lower alkanoyl group exemplified above (preferably 1 to 6 carbon atoms (more preferably) Is a linear or branched alkanoyl group having 1 to 4 carbon atoms); the above-exemplified cyclo C3-C8 alkyl group, aryl group (preferably phenyl group); the above-exemplified aryl group (preferably phenyl group); Mention may be made of amino groups which may have 1 to 2 groups selected from the group consisting of the exemplified aroyl groups (preferably benzoyl groups). More specifically, for example, amino, N-methylamino, N, N-dimethylamino, N-ethylamino, N, N-diethylamino, Nn-propylamino, N-isopropylamino, N-formylamino, N-acetylamino, N-phenylamino, N-benzoylamino, N-acetyl-N-cycloC3-C8 alkylamino group and the like can be mentioned.

モルホリニルカルボニル低級アルケニル基としては、低級アルケニル部分が前記例示の低級アルケニル基(好ましくは炭素数2〜6(より好ましくは炭素数2〜4)の直鎖または分枝鎖状アルケニル基)であるモルホリニルカルボニル低級アルケニル基を挙げることができる。より具体的には、1−(または2−)(4−モルホリニルカルボニル)ビニル、1−(または2−または3−)(4−モルホリニル)1−(または2−)プロペニル基が含まれる。   As the morpholinylcarbonyl lower alkenyl group, the lower alkenyl moiety is the above-exemplified lower alkenyl group (preferably a linear or branched alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms (more preferably 2 to 4 carbon atoms)). Mention may be made of certain morpholinylcarbonyl lower alkenyl groups. More specifically, 1- (or 2-) (4-morpholinylcarbonyl) vinyl, 1- (or 2- or 3-) (4-morpholinyl) 1- (or 2-) propenyl groups are included. .

モルホリニルカルボニル低級アルキル基としては、低級アルキル部分が前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)であるモルホリニルカルボニル低級アルキル基を挙げることができる。より具体的には、4−モルホリニルカルボニルメチル、1−(または2−)(4−モルホリニルカルボニル)エチル、1−(または2−または3−)(4−モルホリニルカルボニル)−1−(または2−)プロピル基が含まれる。   As the morpholinylcarbonyl lower alkyl group, the lower alkyl moiety is the above-exemplified lower alkyl group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)). Mention may be made of certain morpholinylcarbonyl lower alkyl groups. More specifically, 4-morpholinylcarbonylmethyl, 1- (or 2-) (4-morpholinylcarbonyl) ethyl, 1- (or 2- or 3-) (4-morpholinylcarbonyl)- 1- (or 2-) propyl groups are included.

オキソ基を有していてもよいピロリジニル基としては、オキソ基を1〜2個(好ましくは1個)有していてよいピロリジニル基が挙げられる。具体的には、(1−、2−、または3−)ピロリジニル、(2−または3−)オキソ−1−ピロリジニル、(3−、4−、または5−)オキソ−2−ピロリジニル、(2−、4−、または5−)オキソ−3−ピロリジニル基を挙げることができる。   Examples of the pyrrolidinyl group optionally having an oxo group include pyrrolidinyl groups optionally having 1 to 2 (preferably 1) oxo groups. Specifically, (1-, 2-, or 3-) pyrrolidinyl, (2- or 3-) oxo-1-pyrrolidinyl, (3-, 4-, or 5-) oxo-2-pyrrolidinyl, (2 Mention may be made of the group-, 4- or 5-) oxo-3-pyrrolidinyl.

オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいジヒドロピラゾリル基としては、オキソ基及び前記例示の低級アルキル基からなる群から選ばれる基を1〜2個有していてもよいジヒドロピラゾリル基が挙げられる。   The dihydropyrazolyl group optionally having a group selected from the group consisting of an oxo group and a lower alkyl group has 1 to 2 groups selected from the group consisting of an oxo group and the lower alkyl group exemplified above. The dihydropyrazolyl group which may be sufficient is mentioned.

アリール基上にハロゲン及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール基としては、アリール部分が、フェニル、ナフチル等であり、当該アリール部分上に、前記例示のハロゲン及び前記例示のハロゲン置換低級アルキル基(好ましくは、ハロゲン置換炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を1〜5個、好ましくは1〜3個、より好ましくは1個有することのあるアリール基を挙げることができる。   As the aryl group which may have a group selected from the group consisting of halogen and halogen-substituted lower alkyl group on the aryl group, the aryl moiety is phenyl, naphthyl, etc. 1 to 5, preferably halogen and the above-exemplified halogen-substituted lower alkyl group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 halogen atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)), preferably Mention may be made of aryl groups which may have 1 to 3, more preferably 1.

ハロゲンを有していてもよいアリール低級アルキル基としては、アリール部分が、フェニル、ナフチル等であるアリール基を1〜3個、好ましくは1個有する、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖上アルキル基)を挙げることができる。アリール基上の置換基としては、前記例示のハロゲンを1〜5個、好ましくは1〜3個、より好ましくは1〜2個置換していてもよい)。   As the aryl lower alkyl group optionally having halogen, the above-exemplified lower alkyl group (preferably having a carbon number of 1 to 3 and preferably 1 aryl group in which the aryl moiety is phenyl, naphthyl, etc.) 1 to 6 (more preferably, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). The substituent on the aryl group may be substituted with 1 to 5, preferably 1 to 3, and more preferably 1 to 2 halogens as exemplified above.

アミノ低級アルカノイル基としては、アミノ基を1〜3個(好ましくは1個)有する前記例示の低級アルカノイル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルカノイル基)を挙げることができる。より具体的にはアミノアセチル、3−アミノプロピオニル、4−アミノブチリル、3,4−ジアミノブチリル、3,3−ジメチル−3−アミノプロピオニル、4−アミノブチリル、5−アミノバレリル基等が含まれる。   As the amino lower alkanoyl group, a linear or branched lower alkanoyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)) having 1 to 3 (preferably 1) amino groups. A branched alkanoyl group). More specifically, aminoacetyl, 3-aminopropionyl, 4-aminobutyryl, 3,4-diaminobutyryl, 3,3-dimethyl-3-aminopropionyl, 4-aminobutyryl, 5-aminovaleryl group and the like are included.

アミノ基上に、低級アルカノイル基を有していてもよいアミノ低級アルカノイル基としては、置換基として前記例示の低級アルカノイル基を1〜2個(好ましくは1個)有する前記例示のアミノ低級アルカノイル基を挙げることができる。より具体的にはN−ホルミルアミノアセチル、N−アセチルアミノアセチル、N−プロピオニルアミノアセチル、3−(N−アセチルアミノ)プロピオニル、4−(N−アセチルアミノ)ブチリル、3,4−ジ(N−アセチルアミノ)ブチリル、3,3−ジメチル−3−(N−プロピニルアミノ)プロピオニル、4−(N−ホルミルアミノ)ブチリル、5−(N−アセチルアミノ)バレリル基等が含まれる。   As the amino lower alkanoyl group optionally having a lower alkanoyl group on the amino group, the exemplified amino lower alkanoyl group having 1 to 2 (preferably 1) of the lower alkanoyl groups exemplified above as substituents Can be mentioned. More specifically, N-formylaminoacetyl, N-acetylaminoacetyl, N-propionylaminoacetyl, 3- (N-acetylamino) propionyl, 4- (N-acetylamino) butyryl, 3,4-di (N -Acetylamino) butyryl, 3,3-dimethyl-3- (N-propynylamino) propionyl, 4- (N-formylamino) butyryl, 5- (N-acetylamino) valeryl group and the like are included.

カルバモイル低級アルキル基としては、カルバモイル基を、1〜3個、より好ましくは1〜2個有する前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。   As the carbamoyl lower alkyl group, the lower alkyl group described above having 1 to 3, more preferably 1 to 2 carbamoyl groups (preferably having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)). Chain or branched alkyl group).

アミノ低級アルキル基としては、アミノ基を1〜5個、好ましくは1個有する、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。より具体例には、アミノメチル、2−アミノエチル、1−アミノエチル、3−アミノプロピル、4−アミノブチル、5−アミノペンチル、6−アミノヘキシル、1,1−ジメチル−2−アミノエチル、2−メチル−3−アミノプロピル、N,N−ジメチルアミノメチル、N−メチル−N−エチルアミノメチル、N−メチルアミノメチル、2−(N−メチルアミノ)エチル、1−メチル−2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、1−メチル−2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル、2−(N,N−ジイソプロピルアミノ)エチル、3−(N,N−ジメチルアミノ)プロピル、3−(N,N−ジエチルアミノ)プロピル等が挙げられる。   The amino lower alkyl group has 1 to 5 amino groups, preferably 1 amino group, preferably the above-described lower alkyl groups (preferably having 1 to 6 carbon atoms (more preferably having 1 to 4 carbon atoms), linear or branched. A branched alkyl group). More specific examples include aminomethyl, 2-aminoethyl, 1-aminoethyl, 3-aminopropyl, 4-aminobutyl, 5-aminopentyl, 6-aminohexyl, 1,1-dimethyl-2-aminoethyl, 2-methyl-3-aminopropyl, N, N-dimethylaminomethyl, N-methyl-N-ethylaminomethyl, N-methylaminomethyl, 2- (N-methylamino) ethyl, 1-methyl-2- ( N, N-dimethylamino) ethyl, 1-methyl-2- (N, N-diethylamino) ethyl, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl, 2- (N, N-diethylamino) ethyl, 2- ( N, N-diisopropylamino) ethyl, 3- (N, N-dimethylamino) propyl, 3- (N, N-diethylamino) propyl and the like can be mentioned.

アミノ基上及び/または低級アルキル基上に、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、インドリルカルボニル基、アリール基(当該アリール基上に、ハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる基を有していてもよい)及びアリール低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基を有していてもよいアミノ低級アルキル基としては、アミノ基を1〜5個、好ましくは1個有する、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。アミノ基上及び/または低級アルキル基上には、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)、前記例示の低級アルカノイル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルカノイル基)、前記例示のヒドロキシ低級アルキル基(好ましくは、ヒドロキシ基を1〜3個有する炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)、前記例示のカルバモイル低級アルキル基(好ましくは、カルバモイル基を1〜3個有する炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)、インドリルカルボニル基、前記例示のハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール基(好ましくはハロゲン及び炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルコキシ基からなる群から選ばれる基を1〜5個、好ましくは1〜3個有していてもよいフェニル基)、ならびにアルコキシ部分が前記例示の低級アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖上アルコキシ基)であり前記例示のアリール基を1〜3個、好ましくは1個有するアルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた基を1〜2個有していてもよい。   On the amino group and / or on the lower alkyl group, a lower alkyl group, a lower alkanoyl group, a hydroxy lower alkyl group, a carbamoyl lower alkyl group, an indolylcarbonyl group, an aryl group (on the aryl group, from a halogen and a lower alkoxy group) An amino lower alkyl group optionally having a group selected from the group consisting of an aryl lower alkoxycarbonyl group, and 1-5 amino groups, The lower alkyl group exemplified above (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)) is preferable. On the amino group and / or the lower alkyl group, the exemplified lower alkyl group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)), Illustrative lower alkanoyl group (preferably a linear or branched alkanoyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)), the above exemplified hydroxy lower alkyl group (preferably 1 hydroxy group) A straight chain or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms) having 3 carbon atoms, a carbamoyl lower alkyl group exemplified above (preferably a carbon having 1 to 3 carbamoyl groups). A straight or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms), an indolylcarbonyl group, a halogen selected from the group consisting of the above-mentioned halogens and lower alkoxy groups. 1 to 5 groups, preferably 1 selected from the group consisting of an aryl group (preferably a halogen and a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms). A phenyl group which may have ˜3), and an alkoxy moiety having a lower alkoxy group as exemplified above (preferably a linear or branched alkoxy having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms). 1 to 2 and preferably 1 to 2 groups selected from the group consisting of alkoxycarbonyl groups having 1 to 3 and preferably 1 aryl group as exemplified above.

低級アルコキシ低級アルキル基としては、前記例示の低級アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルコキシ基)を1〜3個、好ましくは1個有する、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を例示できる。より具体的には、メトキシメチル、2−メトキシエチル、1−エトキシエチル、2−エトキシエチル、2−イソブトキシエチル、2,2−ジメトキシエチル、2−メトキシ−1−メチルエチル、2−メトキシ−1−エチルエチル、3−メトキシプロピル、3−エトキシプロピル、2−イソプロポキシエチル、3−イソブロポキシプロピル、3−n−ブトキシプロピル、4−n−プロポキシブチル、1−メチル−3−イソブトキシプロピル、1,1−ジメチル−2−n−ペンチルオキシエチル、5−n−ヘキシルオキシペンチル、6−メトキシヘキシル、1−エトキシイソプロピル、2−メチル−3−メトキシプロピル基等が含まれる。   As the lower alkoxy lower alkyl group, 1 to 3 lower alkoxy groups exemplified above (preferably linear or branched alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms) are preferable, preferably Can be exemplified by the lower alkyl group exemplified above (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)). More specifically, methoxymethyl, 2-methoxyethyl, 1-ethoxyethyl, 2-ethoxyethyl, 2-isobutoxyethyl, 2,2-dimethoxyethyl, 2-methoxy-1-methylethyl, 2-methoxy- 1-ethylethyl, 3-methoxypropyl, 3-ethoxypropyl, 2-isopropoxyethyl, 3-isopropoxypropyl, 3-n-butoxypropyl, 4-n-propoxybutyl, 1-methyl-3-isobutoxypropyl, 1,1-dimethyl-2-n-pentyloxyethyl, 5-n-hexyloxypentyl, 6-methoxyhexyl, 1-ethoxyisopropyl, 2-methyl-3-methoxypropyl group and the like are included.

アロイル低級アルキル基としては、前記例示のアロイル基(好ましくはベンゾイル基)を1〜5個、好ましくは1個有する、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。より具体例には、ベンゾイルメチル、2−ベンゾイルエチル、1−ベンゾイルエチル、1−(または2−)ナフトイルメチル基等が含まれる。   As the aroyl lower alkyl group, the above exemplified lower alkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 carbon atom) having 1 to 5, preferably 1 aroyl group (preferably benzoyl group) exemplified above. -4) linear or branched alkyl groups). More specific examples include benzoylmethyl, 2-benzoylethyl, 1-benzoylethyl, 1- (or 2-) naphthoylmethyl group and the like.

アリール基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン及びニトロ基からなる基から選ばれる基を有していてもよいアリール低級アルキル基としては、アリール部分が、フェニル、ナフチル等であるアリール基を1〜3個、好ましくは1個有する、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。アリール基上の置換基としては、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)、前記例示の低級アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)、ヒドロキシ基、前記例示のハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を1〜5個、好ましくは1〜3個、より好ましくは1〜2個置換していてもよい。   As the aryl lower alkyl group which may have a group selected from a group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a hydroxy group, a halogen and a nitro group on the aryl group, the aryl moiety is phenyl, naphthyl or the like. The above-described lower alkyl group having 1 to 3 and preferably 1 aryl group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)) Can be mentioned. Examples of the substituent on the aryl group include the lower alkyl group exemplified above (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)), and the lower alkoxy group exemplified above. 1 group selected from the group consisting of a group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)), a hydroxy group, the above-exemplified halogen and nitro group. -5, preferably 1-3, more preferably 1-2 may be substituted.

アリール基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及びシアノ基からなる基から選ばれる基を有していてもよいアリールオキシ低級アルキル基としては、アリール部分が、フェニル、ナフチル等であるアリール基を1〜3個、好ましくは1個有する、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。アリール基上の置換基としては、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)、前記例示の低級アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)、前記例示のハロゲン及びシアノ基からなる群から選ばれる基を1〜5個、好ましくは1〜3個置換していてもよい。   The aryloxy lower alkyl group optionally having a group selected from a group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen and a cyano group on the aryl group is an aryl whose aryl moiety is phenyl, naphthyl or the like. Examples of the lower alkyl group exemplified above having 1 to 3 groups, preferably 1 (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)) be able to. Examples of the substituent on the aryl group include the lower alkyl group exemplified above (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)), and the lower alkoxy group exemplified above. 1 to 5 groups selected from the group consisting of a group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)) and the halogens exemplified above and a cyano group , Preferably 1 to 3 may be substituted.

アリール低級アルコキシ基としては、アリール部分が、フェニル、ナフチル等であるアリール基を1〜3個、好ましくは1個有する、前記例示の低級アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルコキシ基)を挙げることができる。   As the aryl lower alkoxy group, the above exemplified lower alkoxy group (preferably having 1 to 6 carbon atoms (more preferably carbon atoms) having 1 to 3 aryl groups, preferably 1 aryl group such as phenyl, naphthyl, etc.) And straight chain or branched alkoxy groups of formulas 1 to 4).

低級アルキル基を有していてもよいアミノ基としては、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を1〜2個有することのあるアミノ基を挙げることができる。より具体的には、例えば、アミノ、N−メチルアミノ、N,N−ジメチルアミノ、N−エチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ、N−n−プロピルアミノ、N−イソプロピルアミノ等を挙げることができる。   Examples of the amino group optionally having a lower alkyl group include the lower alkyl groups exemplified above (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)). An amino group which may have 1 to 2 can be mentioned. More specifically, examples include amino, N-methylamino, N, N-dimethylamino, N-ethylamino, N, N-diethylamino, Nn-propylamino, N-isopropylamino and the like. .

アリール低級アルケニル基としては、アリール部分が、フェニル、ナフチル等であるアリール基を1〜3個、好ましくは1個有する、前記例示の低級アルケニル基(好ましくは炭素数2〜6(より好ましくは炭素数2〜4)の直鎖または分枝鎖状アルケニル基)を挙げることができる。   As the aryl lower alkenyl group, the above-exemplified lower alkenyl group (preferably having 2 to 6 carbon atoms (more preferably carbon atoms) having 1 to 3, preferably 1 aryl groups in which the aryl moiety is phenyl, naphthyl, or the like. And a linear or branched alkenyl group represented by formulas 2 to 4).

アリール基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルキル基を有していてもよいアミノ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール低級アルケニル基としては、前記例示のアリール低級アルケニル基(好ましくはフェニルが1個置換した炭素数2〜6(好ましくは炭素数2〜4)の直鎖または分枝鎖状アルケニル基)を挙げることができる。アリール基上の置換基としては、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)、前記例示の低級アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)、前記例示のハロゲン置換低級アルキル基(好ましくはハロゲンを1〜3個有する炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)、前記例示のハロゲン置換低級アルコキシ基(好ましくはハロゲンを1〜3個有する炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)、前記例示の低級アルキル基を有していてもよいアミノ基(好ましくは炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基を1〜2個有してもよいアミノ基)、前記例示のハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を1〜5個、好ましくは1〜3個、より好ましくは1〜2個置換していてもよい。ハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール基としては、アリール部分が、フェニル、ナフチル等であり、当該アリール部分上に、前記例示のハロゲン及び前記例示の低級アルキル基(好ましくは、炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を1〜5個、好ましくは1〜3個、より好ましくは1個有することのあるアリール基を挙げることができる。   A group selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen-substituted lower alkyl group, a halogen-substituted lower alkoxy group, an amino group optionally having a lower alkyl group, a halogen, and a nitro group on the aryl group. As the aryl lower alkenyl group which may be contained, the aryl lower alkenyl group exemplified above (preferably a straight chain or branched chain having 2 to 6 carbon atoms (preferably 2 to 4 carbon atoms) substituted with one phenyl. Alkenyl group). Examples of the substituent on the aryl group include the lower alkyl group exemplified above (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)), and the lower alkoxy group exemplified above. A group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)), the above-described halogen-substituted lower alkyl group (preferably carbon having 1 to 3 halogen atoms) A linear or branched alkyl group having 1 to 6 (preferably 1 to 4 carbon atoms), the above-described halogen-substituted lower alkoxy group (preferably 1 to 6 carbon atoms having 1 to 3 halogen atoms (preferably Is a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) and an amino group (preferably having 1 to 6 carbon atoms (preferably having 1 to 4 carbon atoms), which may have the lower alkyl group exemplified above. ) Linear or branched 1 to 5 groups, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2 groups selected from the group consisting of the halogens and nitro groups exemplified above. May be substituted. As the aryl group which may have a group selected from the group consisting of halogen and lower alkyl groups, the aryl moiety is phenyl, naphthyl, etc., and the above exemplified halogen and the above exemplified lower group are present on the aryl moiety. 1 to 5, preferably 1 to 3, more preferably 1 alkyl group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)) The aryl group which may have may be mentioned.

低級アルキル基を有していてもよいアミノ基;低級アルキル基を有していてもよいアミノ低級アルキル基ならびにハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール基からなる群から選ばれる基を有していてもよいシクロC3−C8アルキル基としては、前記例示の低級アルキル基を有していてもよいアミノ基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基を1〜2個有してもよいアミノ基)、前記例示の低級アルキル基を有していてもよい前記例示のアミノ低級アルキル基(好ましくは、アミノ基上に、炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基を1〜2個有してもよいアミノ基を1から5個、好ましくは1個有する炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)、及び前記例示のハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール基アリール基(好ましくはアリール部分が、フェニル、ナフチル等であり、当該アリール部分上に、前記例示のハロゲン及び前記例示の低級アルキル基(好ましくは、炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を1〜5個、好ましくは1〜3個有することのあるアリール基)からなる群から選ばれる基を1〜3個、好ましくは1個有することのある、前記例示のシクロC3−C8アルキル基を挙げることができる。   An amino group optionally having a lower alkyl group; an amino lower alkyl group optionally having a lower alkyl group and an aryl group optionally having a group selected from the group consisting of a halogen and a lower alkyl group; As the cyclo C3-C8 alkyl group optionally having a group selected from the group consisting of the above-mentioned amino groups optionally having a lower alkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms (more preferably carbon The amino group optionally having 1 to 2 linear or branched alkyl groups of formulas 1 to 4), and the above-described amino lower alkyl group (which may have the above-mentioned lower alkyl group) Preferably, 1 to 5 amino groups which may have 1 to 2 linear or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms) on the amino group, Preferably 1 carbon number 6 (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), and an aryl group which may have a group selected from the group consisting of the above-exemplified halogen and lower alkyl groups ( Preferably, the aryl moiety is phenyl, naphthyl or the like, and on the aryl moiety, the exemplified halogen and the exemplified lower alkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)). 1 to 5 and preferably 1 to 3 groups, preferably 1 group selected from the group consisting of 1 to 5, preferably 1 to 3 aryl groups which may have 1 to 3 linear or branched alkyl groups) And the exemplified cyclo C3-C8 alkyl group.

シクロC3−C8アルキル低級アルキル基としては、前記例示のシクロC3−C8アルキル基を1〜3個、好ましくは1個有する、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。   As the cyclo C3-C8 alkyl lower alkyl group, the above-exemplified lower alkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms (more preferably) having 1 to 3, preferably 1 cyclo C3-C8 alkyl group described above. And straight chain or branched alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms).

アリールチオ低級アルキル基としては、前記例示のアリールチオ基を1〜3個、好ましくは1個有する、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。   As the arylthio lower alkyl group, the above exemplified lower alkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)) having 1 to 3, preferably 1 arylthio groups as described above. Chain or branched alkyl group).

アダマンチル低級アルキル基としては、アダマンチル基を1〜3個、好ましくは1個有する、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。   The adamantyl lower alkyl group has 1 to 3 and preferably 1 adamantyl groups, and is preferably a linear or branched lower alkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)). A branched alkyl group).

ピペリジル基、テトラヒドロピラニル基、ピリジル基、チエニル基、イミダゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソインドリル基、チアゾリジニル基及びインドリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基(ここで、複素環基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン、オキソ基及びチオキソ基からなる群から選ばれる基を有していてもよい)としては、ピペリジル基、テトラヒドロピラニル基、ピリジル基、チエニル基、イミダゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソインドリル基、チアゾリジニル基及びインドリル基からなる群から選ばれる複素環基が、1〜3個、好ましくは1個置換した前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。複素環基上の置換基としては、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)、前記例示の低級アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)、前記例示のハロゲン、オキソ基及びチオキソ基からなる群から選ばれる基を1〜5個、好ましくは1〜3個、置換していてもよい。   Lower alkyl group substituted by a heterocyclic group selected from the group consisting of piperidyl group, tetrahydropyranyl group, pyridyl group, thienyl group, imidazolyl group, tetrazolyl group, benzimidazolyl group, isoindolyl group, thiazolidinyl group and indolyl group (wherein On the heterocyclic group, a group selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen, an oxo group, and a thioxo group) may be used as a piperidyl group, a tetrahydropyranyl group, a pyridyl group, The above-mentioned lower alkyl groups exemplified above substituted with 1 to 3, preferably 1 heterocyclic group selected from the group consisting of thienyl group, imidazolyl group, tetrazolyl group, benzimidazolyl group, isoindolyl group, thiazolidinyl group and indolyl group Is carbon number 1-6 (more preferably carbon number Include a linear or branched alkyl group having to 4)). Examples of the substituent on the heterocyclic group include the lower alkyl group exemplified above (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)), and the lower moiety exemplified above. A group selected from the group consisting of an alkoxy group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)), the above-exemplified halogen, oxo group and thioxo group; 1 to 5, preferably 1 to 3, may be substituted.

アリール低級アルケニル基(低級アルケニル基上に、アリール基を有していてもよい)としては、前記例示のアリール低級アルケニル基(好ましくはフェニルが1個置換した炭素数2〜6(好ましくは炭素数2〜4)の直鎖または分枝鎖状アルケニル基)を挙げることができる。低級アルケニル基上置換基として、前記例示のアリール基(好ましくはフェニル基)を1〜3個、好ましくは1〜2個、より好ましくは1個置換していてもよい。   As the aryl lower alkenyl group (which may have an aryl group on the lower alkenyl group), the aryl lower alkenyl group exemplified above (preferably having 2 to 6 carbon atoms (preferably having 1 carbon atom substituted) 2-4) linear or branched alkenyl groups). As a substituent on the lower alkenyl group, 1 to 3, preferably 1 to 2, more preferably 1 of the above exemplified aryl groups (preferably phenyl group) may be substituted.

ベンゾジオキソリル基、ピリジル基、フリル基及びイミダゾリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルケニル基としては、ベンゾジオキソリル基、ピリジル基及びイミダゾリル基からなる群から選ばれる複素環基が、1〜3個、好ましくは1個置換した前記例示の低級アルケニル基(好ましくは炭素数2〜6(より好ましくは炭素数2〜4)の直鎖または分枝鎖状アルケニル基)を挙げることができる。   The lower alkenyl group substituted by the heterocyclic group selected from the group consisting of benzodioxolyl group, pyridyl group, furyl group and imidazolyl group is a complex selected from the group consisting of benzodioxolyl group, pyridyl group and imidazolyl group. The above-mentioned lower alkenyl groups exemplified above substituted with 1 to 3 ring groups, preferably 1 (preferably linear or branched alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms (more preferably 2 to 4 carbon atoms)) Can be mentioned.

ベンゾジオキソリルオキシ低級アルキル基としては、ベンゾジオキソリルオキシ基を1〜3個、好ましくは1個有する、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。   The benzodioxolyloxy lower alkyl group has 1 to 3, preferably 1 benzodioxolyloxy groups as exemplified above, preferably 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 carbon atoms). -4) linear or branched alkyl groups).

ピリジルチオ低級アルキル基としては、ピリジルチオ基を1〜3個、好ましくは1個有する、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。   The pyridylthio lower alkyl group has 1 to 3 and preferably 1 pyridylthio groups, and is preferably a straight or branched lower alkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)). A branched alkyl group).

アリール基上に、低級アルキル基を有していてもよいアミノ基及びアリールオキシ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール低級アルキル基としては、アリール部分が、フェニル、ナフチル等であるアリール基を1〜3個、好ましくは1個有していてもよい、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。アリール基上の置換基としては、前記例示の低級アルキル基を有していてもよいアミノ基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ基)及び前記例示のアリールオキシ基(好ましくはフェノキシ基)からなる群から選ばれる基を1〜5個、好ましくは1〜3個、より好ましくは1個置換していてもよい。   An aryl lower alkyl group which may have a group selected from the group consisting of an amino group and an aryloxy group optionally having a lower alkyl group on the aryl group includes an aryl moiety such as phenyl, naphthyl, etc. The above-described lower alkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms (more preferably having 1 to 4 carbon atoms), which may have 1 to 3 aryl groups, preferably 1 A branched alkyl group). As the substituent on the aryl group, an amino group (preferably having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms), which may have the above-described lower alkyl group, is linear or branched. 1 to 5, preferably 1 to 3 groups selected from the group consisting of the above-exemplified aryloxy groups (preferably phenoxy groups) and amino groups optionally having 1 to 2 alkyl groups) Preferably one may be substituted.

フリル基及びピリジル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基としては、フリル基及びピリジル基からなる群から選ばれる複素環基が、1〜3個、好ましくは1個置換した前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。   As the lower alkyl group substituted by a heterocyclic group selected from the group consisting of a furyl group and a pyridyl group, 1 to 3 heterocyclic groups selected from the group consisting of a furyl group and a pyridyl group are substituted. Examples thereof include the lower alkyl groups exemplified above (preferably linear or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)).

複素環基としては、
・1〜4個(好ましくは1〜2個)の窒素原子を含有する飽和3〜8員(好ましくは5〜8員)複素単環基(例えば、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピラゾリジニル、ピペリジル、ヘキサヒドロピリミジニル、ピペラジニル、オクタヒドロイソインドール、アゼパニル、アゾカニル等);
・1〜2個(好ましくは1個)の酸素原子と1〜3個(好ましくは1〜2個)の窒素原子とを含有する飽和3〜8員(より好ましくは5または6員)複素単環基(例えば、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル、モルホリニル等);
・1〜2個の窒素原子を含有するスピロ飽和複素環基(例えば、アザスピロノナニル(例えば、1−アザスピロ[4,4]ノナニル、2−アザスピロ[4,4]ノナニル等)、アザスピロデカニル(例えば、1−アザスピロ[4,5]デカニル、2−アザスピロ[4,5]デカニル等)、ジアザスピロノナニル(例えば、1,3−ジアザスピロ[4,4]ノナニル、1,4−ジアザスピロ[4,4]ノナニル等)等);
・1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する飽和3〜8員(より好ましくは5または6員)複素単環基(例えば、チアゾリジニル等);
・1〜2個の酸素原子を含有する飽和3〜8員(より好ましくは5または6員)複素単環基(例えば、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、オキシラニル、オキソラニル、ジオキソラニル等);
・1〜2個の硫黄原子(好ましくは1個)を含有する飽和3〜8員(より好ましくは5または6員)複素単環基(例えば、テトラチエニル、テトラヒドロチオピラニル等;
・1〜4個(好ましくは1〜3個)の窒素原子を含有する不飽和3〜8員(より好ましくは5または6員)複素単環基(例えば、ピロリル、ジヒドロピロリル(例えば1H−2,5−ジヒドロピロリル等)、イミダゾリル(例えば1H−イミダゾリル等)、ジヒドロイミダゾリル(例えば、1H−2,3−ジヒドロイミダゾリル等)、トリアゾリル(例えば、4H−1,2,4−トリアゾリル、1H−1,2,3−トリアゾリル、2H−1,2,3−トリアゾリル等)、ジヒドロトリアゾリル(例えば、1H−4,5−ジヒドロ−1,2,4−トリアゾリル等)、ピラゾリル、ジヒドロピラゾリル(例えば、4,5−ジヒドロピラゾリル等)、ピリジル、ジヒドロピリジル(例えば、1,2−ジヒドロピリジル等)、ピリミジニル、ジヒドロピリミジニル(1,6−ジヒドロピリミジニル等)、テトラヒドロピリミジニル(1,2,3,4−テトラヒドロピリミジニル等)、ピラジニル、ジヒドロピラジニル(例えば、1,2−ジヒドロピラジニル等)、ピリダジニル、テトラゾリル(例えば、1H−テトラゾリル、2H−テトラゾリル等)等);
・1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する不飽和3〜8員(より好ましくは5員)複素単環基(例えば、チアゾリル、ジヒドロチアゾリル(例えば、2,3−ジヒドロチアゾリル)、イソチアゾリル、チアジアゾリル(例えば、1,2,3−チアジアゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、1,2,5−チアジアゾリル等)、ジヒドロチアジニル等);
・1〜2個(好ましくは1個)の酸素原子と1〜3個(好ましくは1〜2個)の窒素原子とを含有する不飽和3〜8員(より好ましくは5または6員)複素単環基(例えば、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル(例えば、1,2,4−オキサジアゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,5−オキサジアゾリル等)等);
・硫黄原子1ないし2個を有する3ないし8員(より好ましくは5または6員)の不飽和複素単環基(例えば、チエニル、ジヒドロチエニル等);
・酸素原子1ないし2個を有する3ないし8員(より好ましくは5または6員)の不飽和複素単環基(例えば、フリル基、ピラニル基等);
・酸素原子1個及び硫黄原子1ないし2個を有する3ないし8員(より好ましくは5または6員)の不飽和複素単環基(例えば、ジヒドロオキサチイニル等);
・1〜4個(好ましくは1〜2個)の窒素原子を含有する不飽和縮合複素環基(例えば、インドリル、イソインドリル、インドリニル、イソインドリニル、ヘキサヒドロイソインドリニル(例えば、2,3,3a,4,7,7a−ヘキサヒドロイソインドリニル等)、ベンゾイミダゾリル、イミダソピリジル(例えば、イミダゾ[1,2−a]ピリジル等)、キノリル、ジヒドロキノリル(例えば、1,2−ジヒドロキノリル等)、テトラヒドロキノリル(1,2,3,4−テトラヒドロキノリル等)、イソキノリル、シノリニル、インダゾリル、キナゾリニル、ジヒドロキナゾリニル(3,4−ジヒドロキナゾリニル等)、ベンゾトリアゾリル(例えば、ベンゾ[d][1,2,3]トリアゾリル等)、ナフチリジル(例えば、1.8−ナフチリジル等)、ジヒドロナフチリジル(例えば、1,2ジヒドロ−1.8−ナフチリジル等)、カルバゾリル等);
・1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する不飽和縮合複素環基(例えば、ベンゾチアゾリル(例えば、ベンゾ[d]チアゾリル等)、ジヒドロベンゾチアゾリル(例えば、2,3−ジヒドロベンゾ[d]チアゾリル等)、ベンゾチアジアゾリル、ジヒドロベンゾチアジニル(2H−3,4−ジヒドロベンゾ[b][1,4]チアジニル等)チエノピラジニル(例えば、チエノ[3,2−b]ピラジニル等));
・1〜2個(好ましくは1個)の酸素原子と1〜3個(好ましくは1〜2個)の窒素原子とを含有する不飽和縮合複素環基(例えば、ベンゾオキサゾリル(例えば、ベンゾ[d]オキサゾリル等)、ジヒドロベンゾオキサゾリル(例えば、2,3−ジヒドロキシベンゾ[d]オキサゾリル等)、ベンゾオキサジニル(例えば、ベンゾ[b][1,4]オキサジニル等)、ジヒドロベンゾオキサジニル(例えば、2H−3,4−ジヒドロキシベンゾ[b][1,4]オキサジニル等)、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、フロピロリル(例えば、4H−フロ[3,2−b]ピロリル等)等);
・1〜2個の窒素原子を含有するスピロ不飽和縮合複素環基(例えば、スピロ[シクロペンタンインドリニル](例えば、スピロ[シクロペンタン−1,3’−インドリニル]等);
・酸素原子1ないし4個を有する不飽和縮合複素環基(例えば、ベンゾフリル、ジヒドロベンゾフリル(例えば、2,3−ジヒドロベンゾフリル等)、ベンゾジオキソリル(例えば、ベンゾ[d][1,3]オキソリル等)、ジヒドロベンゾジオキシニル(例えば、2,3−ジヒドロベンゾ[b][1,4]ジオキシニル等)等);
・硫黄原子1ないし2個を有する不飽和縮合複素環基(例えば、ベンゾチエニル等)
等の複素環基が挙げられる。
As the heterocyclic group,
A saturated 3-8 membered (preferably 5-8 membered) heteromonocyclic group containing from 1 to 4 (preferably 1 to 2) nitrogen atoms (eg pyrrolidinyl, imidazolidinyl, pyrazolidinyl, piperidyl, hexahydropyrimidinyl) , Piperazinyl, octahydroisoindole, azepanyl, azocanyl, etc.);
A saturated 3 to 8 membered (more preferably 5 or 6 membered) complex unit containing 1 to 2 (preferably 1) oxygen atoms and 1 to 3 (preferably 1 to 2) nitrogen atoms A cyclic group (eg, oxazolidinyl, isoxazolidinyl, morpholinyl, etc.);
A spiro saturated heterocyclic group containing 1 to 2 nitrogen atoms (for example, azaspirononanyl (for example, 1-azaspiro [4,4] nonanyl, 2-azaspiro [4,4] nonanyl, etc.), azaspiro Decanyl (eg, 1-azaspiro [4,5] decanyl, 2-azaspiro [4,5] decanyl, etc.), diazaspirononanyl (eg, 1,3-diazaspiro [4,4] nonanyl, 1,4 -Diazaspiro [4,4] nonanyl etc.));
A saturated 3-8 membered (more preferably 5 or 6 membered) heteromonocyclic group containing 1-2 sulfur atoms and 1-3 nitrogen atoms (eg, thiazolidinyl, etc.);
A saturated 3-8 membered (more preferably 5 or 6 membered) heteromonocyclic group containing 1-2 oxygen atoms (eg, tetrahydrofuryl, tetrahydropyranyl, oxiranyl, oxolanyl, dioxolanyl, etc.);
A saturated 3-8 membered (more preferably 5 or 6 membered) heteromonocyclic group containing 1 to 2 sulfur atoms (preferably 1), such as tetrathienyl, tetrahydrothiopyranyl, etc .;
An unsaturated 3-8 membered (more preferably 5 or 6 membered) heteromonocyclic group containing 1 to 4 (preferably 1 to 3) nitrogen atoms (eg pyrrolyl, dihydropyrrolyl (eg 1H- 2,5-dihydropyrrolyl etc.), imidazolyl (eg 1H-imidazolyl etc.), dihydroimidazolyl (eg 1H-2,3-dihydroimidazolyl etc.), triazolyl (eg 4H-1,2,4-triazolyl 1H -1,2,3-triazolyl, 2H-1,2,3-triazolyl etc.), dihydrotriazolyl (eg 1H-4,5-dihydro-1,2,4-triazolyl etc.), pyrazolyl, dihydropyrazolyl (For example, 4,5-dihydropyrazolyl and the like), pyridyl, dihydropyridyl (for example, 1,2-dihydropyridyl and the like), pyrimidinyl, dihydropyridyl and the like. Limidinyl (such as 1,6-dihydropyrimidinyl), tetrahydropyrimidinyl (such as 1,2,3,4-tetrahydropyrimidinyl), pyrazinyl, dihydropyrazinyl (such as 1,2-dihydropyrazinyl), pyridazinyl, tetrazolyl (For example, 1H-tetrazolyl, 2H-tetrazolyl, etc.) etc.);
An unsaturated 3-8 membered (more preferably 5 membered) heteromonocyclic group containing 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms (eg thiazolyl, dihydrothiazolyl (eg 2 , 3-dihydrothiazolyl), isothiazolyl, thiadiazolyl (eg, 1,2,3-thiadiazolyl, 1,2,4-thiadiazolyl, 1,3,4-thiadiazolyl, 1,2,5-thiadiazolyl, etc.), dihydro Thiazinyl, etc.);
Unsaturated 3 to 8 membered (more preferably 5 or 6 membered) complex containing 1 to 2 (preferably 1) oxygen atom and 1 to 3 (preferably 1 to 2) nitrogen atoms Monocyclic groups (eg, oxazolyl, isoxazolyl, oxadiazolyl (eg, 1,2,4-oxadiazolyl, 1,3,4-oxadiazolyl, 1,2,5-oxadiazolyl, etc.));
3 to 8 membered (more preferably 5 or 6 membered) unsaturated heteromonocyclic groups having 1 to 2 sulfur atoms (eg thienyl, dihydrothienyl etc.);
3 to 8 membered (more preferably 5 or 6 membered) unsaturated heterocyclic monocyclic group having 1 to 2 oxygen atoms (for example, furyl group, pyranyl group, etc.);
A 3- to 8-membered (more preferably 5- or 6-membered) unsaturated heteromonocyclic group having 1 oxygen atom and 1 to 2 sulfur atoms (for example, dihydrooxathinyl, etc.);
An unsaturated condensed heterocyclic group containing 1 to 4 (preferably 1 to 2) nitrogen atoms (for example, indolyl, isoindolyl, indolinyl, isoindolinyl, hexahydroisoindolinyl (for example, 2,3,3a, 4,7,7a-hexahydroisoindolinyl, etc.), benzimidazolyl, imidasopyridyl (eg, imidazo [1,2-a] pyridyl, etc.), quinolyl, dihydroquinolyl (eg, 1,2-dihydroquinolyl, etc.), Tetrahydroquinolyl (such as 1,2,3,4-tetrahydroquinolyl), isoquinolyl, cinolinyl, indazolyl, quinazolinyl, dihydroquinazolinyl (such as 3,4-dihydroquinazolinyl), benzotriazolyl (such as benzotriazolyl) [D] [1,2,3] triazolyl, etc.), naphthyridyl (eg, 1.8-naphth Chylidyl etc.), dihydronaphthylidyl (eg 1,2 dihydro-1.8-naphthyridyl etc.), carbazolyl etc.);
An unsaturated condensed heterocyclic group containing 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms (for example, benzothiazolyl (for example, benzo [d] thiazolyl etc.), dihydrobenzothiazolyl (for example 2 , 3-dihydrobenzo [d] thiazolyl etc.), benzothiadiazolyl, dihydrobenzothiazinyl (2H-3,4-dihydrobenzo [b] [1,4] thiazinyl etc.) thienopyrazinyl (eg thieno [3,2- b] pyrazinyl and the like));
An unsaturated condensed heterocyclic group containing 1 to 2 (preferably 1) oxygen atom and 1 to 3 (preferably 1 to 2) nitrogen atoms (for example, benzoxazolyl (for example, Benzo [d] oxazolyl etc.), dihydrobenzoxazolyl (eg 2,3-dihydroxybenzo [d] oxazolyl etc.), benzoxazinyl (eg benzo [b] [1,4] oxazinyl etc.), dihydro Benzoxazinyl (eg, 2H-3,4-dihydroxybenzo [b] [1,4] oxazinyl, etc.), benzoxazolyl, benzoxdiazolyl, furopyrrolyl (eg, 4H-furo [3,2-b ] Pyrrolyl etc.));
A spiro unsaturated fused heterocyclic group containing 1 to 2 nitrogen atoms (eg spiro [cyclopentaneindolinyl] (eg spiro [cyclopentane-1,3′-indolinyl] etc.);
An unsaturated condensed heterocyclic group having 1 to 4 oxygen atoms (for example, benzofuryl, dihydrobenzofuryl (for example, 2,3-dihydrobenzofuryl and the like)), benzodioxolyl (for example, benzo [d] [1, 3] oxolyl, etc.), dihydrobenzodioxinyl (eg, 2,3-dihydrobenzo [b] [1,4] dioxinyl, etc.);
.Unsaturated condensed heterocyclic groups having 1 to 2 sulfur atoms (for example, benzothienyl, etc.)
And the like, and the like.

N−含有複素環基としては、1〜4個(好ましくは1〜2個)の窒素原子を含有する飽和3〜8員(好ましくは5〜8員)複素単環基、1〜2個の窒素原子を含有するスピロ飽和複素環基、1〜4個(好ましくは1〜3個)の窒素原子を含有する不飽和3〜8員(より好ましくは5または6員)複素単環基、1〜4個(好ましくは1〜2個)の窒素原子を含有する不飽和縮合複素環基、1〜2個の窒素原子を含有するスピロ不飽和縮合複素環基、1〜2個(好ましくは1個)の酸素原子と1〜3個(好ましくは1〜2個)の窒素原子とを含有する不飽和3〜8員(より好ましくは5または6員)複素単環基、1〜2個(好ましくは1個)の酸素原子と1〜3個(好ましくは1〜2個)の窒素原子とを含有する飽和3〜8員(好ましくは5または6員)複素単環基、1〜2個(好ましくは1個)の酸素原子と1〜3個(好ましくは1〜2個)の窒素原子とを含有する不飽和縮合複素環基、1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する不飽和3〜8員(好ましくは5員)複素単環基、1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する飽和3〜8員(好ましくは5または6員)複素単環基、1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する不飽和縮合複素環基等が挙げられる。   As an N-containing heterocyclic group, a saturated 3 to 8 member (preferably 5 to 8 member) heterocyclic monocyclic group containing 1 to 4 (preferably 1 to 2) nitrogen atoms, 1 to 2 Spiro saturated heterocyclic group containing nitrogen atom, unsaturated 3-8 membered (more preferably 5 or 6 membered) heterocyclic monocyclic group containing 1 to 4 (preferably 1 to 3) nitrogen atoms, 1 Unsaturated fused heterocyclic group containing -4 (preferably 1 to 2) nitrogen atoms, Spiro unsaturated fused heterocyclic group containing 1 to 2 nitrogen atoms, 1 to 2 (preferably 1 Unsaturated 3- to 8-membered (more preferably 5- or 6-membered) heterocyclic monocyclic group containing 1 to 3 oxygen atoms and 1 to 3 (preferably 1 to 2) nitrogen atoms, 1 to 2 ( Saturated 3 to 8 member (preferably 5 or preferably 1) containing 1 oxygen atom and 1 to 3 (preferably 1 to 2) nitrogen atoms 6-membered) heterocyclic monocyclic group, an unsaturated condensed heterocyclic group containing 1 to 2 (preferably 1) oxygen atoms and 1 to 3 (preferably 1 to 2) nitrogen atoms, 1 to An unsaturated 3- to 8-membered (preferably 5-membered) heteromonocyclic group containing 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms, 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms; Saturated 3- to 8-membered (preferably 5- or 6-membered) heterocyclic monocyclic group, and unsaturated condensed heterocyclic group containing 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms. .

1〜4個(好ましくは1〜2個)の窒素原子を含有する飽和3〜8員(好ましくは5〜8員)複素単環基としては、例えば、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、ヘキサヒドロピリミジニル、ピペラジニル、オクタヒドロイソインドール、アゼパニル、アゾカニル等が挙げられる。   Examples of the saturated 3 to 8 member (preferably 5 to 8 member) heteromonocyclic group containing 1 to 4 (preferably 1 to 2) nitrogen atoms include pyrrolidinyl, imidazolidinyl, piperidyl, hexahydropyrimidinyl, Piperazinyl, octahydroisoindole, azepanyl, azocanyl and the like can be mentioned.

1〜2個の窒素原子を含有するスピロ飽和複素環基としては、例えば、アザスピロノナニル(例えば、1−アザスピロ[4,4]ノナニル、2−アザスピロ[4,4]ノナニル等)、アザスピロデカニル(例えば、1−アザスピロ[4,5]デカニル、2−アザスピロ[4,5]デカニル等)、ジアザスピロノナニル(例えば、1,3−ジアザスピロ[4,4]ノナニル、1,4−ジアザスピロ[4,4]ノナニル等)等が挙げられる。   Examples of the spiro saturated heterocyclic group containing 1 to 2 nitrogen atoms include azaspirononanyl (for example, 1-azaspiro [4,4] nonanyl, 2-azaspiro [4,4] nonanyl, etc.), aza Spirodecanyl (eg, 1-azaspiro [4,5] decanyl, 2-azaspiro [4,5] decanyl, etc.), diazaspirononyl (eg, 1,3-diazaspiro [4,4] nonanyl, 1, 4-diazaspiro [4,4] nonanyl and the like).

1〜4個(好ましくは1〜3個)の窒素原子を含有する不飽和3〜8員(好ましくは5または6員)複素単環基としては、例えば、ピロリル、ジヒドロピロリル(例えば、1H−2,5−ジヒドロピロリル等)、イミダゾリル(例えば、1H−イミダゾリル等)、ジヒドロイミダゾリル(例えば、1H−2,3−ジヒドロイミダゾリル等)、トリアゾリル(例えば、4H−1,2,4−トリアゾリル、1H−1,2,3−トリアゾリル、2H−1,2,3−トリアゾリル等)、ジヒドロトリアゾリル(例えば、1H−4,5−ジヒドロ−1,2,4−トリアゾリル等)、ピラゾリル、ピリジル、ジヒドロピリジル(例えば、1,2−ジヒドロピリジル等)、ピリミジニル、ジヒドロピリミジニル(1,6−ジヒドロピリミジニル等)、ピラジニル、ジヒドロピラジニル(例えば、1,2−ジヒドロピラジニル等)、ピリダジニル、テトラゾリル(例えば、1H−テトラゾリル、2H−テトラゾリル等)等が挙げられる。   Examples of unsaturated 3-8 membered (preferably 5 or 6 membered) heteromonocyclic groups containing 1 to 4 (preferably 1 to 3) nitrogen atoms include, for example, pyrrolyl, dihydropyrrolyl (for example, 1H -2,5-dihydropyrrolyl etc.), imidazolyl (eg 1H-imidazolyl etc.), dihydroimidazolyl (eg 1H-2,3-dihydroimidazolyl etc.), triazolyl (eg 4H-1,2,4-triazolyl) 1H-1,2,3-triazolyl, 2H-1,2,3-triazolyl, etc.), dihydrotriazolyl (eg, 1H-4,5-dihydro-1,2,4-triazolyl, etc.), pyrazolyl, Pyridyl, dihydropyridyl (eg, 1,2-dihydropyridyl), pyrimidinyl, dihydropyrimidinyl (eg, 1,6-dihydropyrimidinyl), pyrazin Le, dihydro pyrazinyl (e.g., 1,2-dihydro-pyrazinyl, etc.), pyridazinyl, tetrazolyl (e.g., 1H-tetrazolyl, 2H- tetrazolyl, etc.) and the like.

1〜4個(好ましくは1〜2個)の窒素原子を含有する不飽和縮合複素環基としては、例えば、インドリル、イソインドリル、インドリニル、イソインドリニル、ヘキサヒドロイソインドリル(例えば、2,3,3a,4,7,7a−ヘキサヒドロイソインドリル等)、オクタヒドロイソインドリル、ベンゾイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、キナゾリニル、ジヒドロキナゾリニル(3,4−ジヒドロキナゾリニル等)、ベンゾトリアゾリル、カルバゾリル等が挙げられる。   Examples of the unsaturated condensed heterocyclic group containing 1 to 4 (preferably 1 to 2) nitrogen atoms include indolyl, isoindolyl, indolinyl, isoindolinyl, hexahydroisoindolyl (for example, 2,3,3a , 4,7,7a-hexahydroisoindolyl, etc.), octahydroisoindolyl, benzimidazolyl, quinolyl, isoquinolyl, indazolyl, quinazolinyl, dihydroquinazolinyl (3,4-dihydroquinazolinyl etc.), benzotriazolyl And carbazolyl.

1〜2個の窒素原子を含有するスピロ不飽和縮合複素環基としては、例えば、スピロ[シクロペンタンインドリニル](例えば、スピロ[シクロペンタン−1,3’−インドリニル]等)が挙げられる。   Examples of the spiro unsaturated condensed heterocyclic group containing 1 to 2 nitrogen atoms include spiro [cyclopentaneindolinyl] (for example, spiro [cyclopentane-1,3'-indolinyl] and the like).

1〜2個(好ましくは1個)の酸素原子と1〜3個(好ましくは1〜2個)の窒素原子とを含有する不飽和3〜8員(より好ましくは5または6員)複素単環基としては、例えば、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル(例えば、1,2,4−オキサジアゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,5−オキサジアゾリル等)等が挙げられる。   Unsaturated 3 to 8 membered (more preferably 5 or 6 membered) complex unit containing 1 to 2 (preferably 1) oxygen atom and 1 to 3 (preferably 1 to 2) nitrogen atoms Examples of the ring group include oxazolyl, isoxazolyl, oxadiazolyl (for example, 1,2,4-oxadiazolyl, 1,3,4-oxadiazolyl, 1,2,5-oxadiazolyl, etc.) and the like.

1〜2個(好ましくは1個)の酸素原子と1〜3個(好ましくは1〜2個)の窒素原子とを含有する飽和3〜8員(好ましくは5または6員)複素単環基としては、例えば、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル、オキサジナニル、モルホリニル等が挙げられる。   Saturated 3 to 8 membered (preferably 5 or 6 membered) heteromonocyclic group containing 1 to 2 (preferably 1) oxygen atom and 1 to 3 (preferably 1 to 2) nitrogen atoms Examples thereof include oxazolidinyl, isoxazolidinyl, oxadinanyl, morpholinyl and the like.

1〜2個(好ましくは1個)の酸素原子と1〜3個(好ましくは1〜2個)の窒素原子とを含有する不飽和縮合複素環基としては、例えば、ベンゾオキサゾリル(例えば、ベンゾ[d]オキサゾリル等)、ジヒドロベンゾオキサゾリル(例えば、2,3−ジヒドロキシベンゾ[d]オキサゾリル等)、ベンゾオキサジニル(例えば、ベンゾ[b][1,4]オキサジニル等)、ジヒドロベンゾオキサジニル(例えば、2H−3,4−ジヒドロキシベンゾ[b][1,4]オキサジニル等)、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル等が挙げられる。   Examples of the unsaturated condensed heterocyclic group containing 1 to 2 (preferably 1) oxygen atom and 1 to 3 (preferably 1 to 2) nitrogen atoms include benzoxazolyl (for example, Benzo [d] oxazolyl, etc.), dihydrobenzoxazolyl (eg 2,3-dihydroxybenzo [d] oxazolyl etc.), benzoxazinyl (eg benzo [b] [1,4] oxazinyl etc.), Examples include dihydrobenzoxazinyl (for example, 2H-3,4-dihydroxybenzo [b] [1,4] oxazinyl and the like), benzoxazolyl, benzooxadiazolyl, and the like.

1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する不飽和3〜8員(好ましくは5員)複素単環基としては、例えば、チアゾリル、ジヒドロチアゾリル(例えば、2,3−ジヒドロチアゾリル)、イソチアゾリル、チアジアゾリル(例えば、1,2,3−チアジアゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、1,2,5−チアジアゾリル等)、ジヒドロチアジニル等が挙げられる。   Examples of the unsaturated 3- to 8-membered (preferably 5-membered) heteromonocyclic group containing 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms include thiazolyl and dihydrothiazolyl (for example, 2 , 3-dihydrothiazolyl), isothiazolyl, thiadiazolyl (eg, 1,2,3-thiadiazolyl, 1,2,4-thiadiazolyl, 1,3,4-thiadiazolyl, 1,2,5-thiadiazolyl, etc.), dihydro Thiazinyl and the like.

1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する飽和3〜8員(好ましくは5または6員)複素単環基としては、例えば、チアゾリジニル等が挙げられる。   Examples of the saturated 3- to 8-membered (preferably 5- or 6-membered) heteromonocyclic group containing 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms include thiazolidinyl.

1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する不飽和縮合複素環基としては、例えば、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル等が挙げられる。   Examples of the unsaturated condensed heterocyclic group containing 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms include benzothiazolyl and benzothiadiazolyl.

低級アルキル基を有していてもよいカルバモイル基としては、前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を1〜2個有することのあるカルバモイル基を挙げることができる。より具体的には、例えば、該低級アルキル基を有することのあるカルバモイル基には、カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−メチル−N−エチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル基等を挙げることができる。   Examples of the carbamoyl group optionally having a lower alkyl group include the lower alkyl groups exemplified above (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms)). A carbamoyl group which may have 1 or 2 of. More specifically, for example, the carbamoyl group which may have the lower alkyl group includes carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-ethylcarbamoyl and N-ethylcarbamoyl groups. Etc.

アリール低級アルキル基(ここで、アリール基上には低級アルコキシ基を有していてもよい)としては、前記例示のアリール基を1〜3個、好ましくは1個有する前記例示の低級アルキル基(好ましくは炭素数1〜6(より好ましくは炭素数1〜4)の直鎖または分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。ここで、アリール基上には、前記例示の低級アルコキシ基が1〜7個、好ましくは1〜5個、より好ましくは1〜2個置換していてもよい。アリール低級アルキル基(アリール基上には低級アルコキシ基を有していてもよい)の具体例としては、ベンジル、1−フェニルエチル、2−フェニルエチル、1−メチル−1−フェニルエチル、1,1−ジメチル−2−フェニルエチル、1,1−ジメチル−3−フェニルプロピル、(2−、3−または4−)メトキシベンジル、2−[(2−、3−または4−)メトキシフェニル]エチル、1−[(2−、3−または4−)メトキシフェニル]エチル、1−[(2−、3−または4−)メトキシフェニル]プロピル、(2−、3−または4−)エトキシベンジル、(2,4−、3,4−または3,5−)ジメトキシベンジル、2−[(3,5−または3,4−)ジメトキシフェニル]エチル、2−(2−エトキシフェニル)エチル、1−(4−メトキシフェニル)ブチル、ナフチルメチル基等が含まれる。







上記一般式(1)で表される複素環化合物(以下、化合物(1)とする)は、種々の方法により製造され得るが、その一例を示せば、例えば下記反応式−1〜4、7、8、12または13で示される方法により製造される。
[反応式−1]
As the aryl lower alkyl group (wherein the aryl group may have a lower alkoxy group), the above exemplified lower alkyl group having 1 to 3, preferably 1, of the above exemplified aryl groups ( Preferable examples include linear or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4 carbon atoms). Here, 1 to 7, preferably 1 to 5, more preferably 1 to 2 of the exemplified lower alkoxy groups may be substituted on the aryl group. Specific examples of the aryl lower alkyl group (which may have a lower alkoxy group on the aryl group) include benzyl, 1-phenylethyl, 2-phenylethyl, 1-methyl-1-phenylethyl, 1, 1-dimethyl-2-phenylethyl, 1,1-dimethyl-3-phenylpropyl, (2-, 3- or 4-) methoxybenzyl, 2-[(2-, 3- or 4-) methoxyphenyl] ethyl 1-[(2-, 3- or 4-) methoxyphenyl] ethyl, 1-[(2-, 3- or 4-) methoxyphenyl] propyl, (2-, 3- or 4-) ethoxybenzyl, (2,4-, 3,4- or 3,5-) dimethoxybenzyl, 2-[(3,5- or 3,4-) dimethoxyphenyl] ethyl, 2- (2-ethoxyphenyl) ethyl, 1- ( - methoxyphenyl) butyl, naphthylmethyl group.







The heterocyclic compound represented by the general formula (1) (hereinafter referred to as the compound (1)) can be produced by various methods. , 8, 12 or 13.
[Reaction Formula-1]

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、R11、R12、A、及びZは、前記と同じ意味を有し、X11は、ハロゲン原子またはハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基を示す。]
ここで、ハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基としては、例えば、低級アルカンスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、アラルキルスルホニルオキシ基等を例示できる。
[Wherein, R 11 , R 12 , A 1 , and Z have the same meaning as described above, and X 11 represents a halogen atom or a group that causes a substitution reaction similar to a halogen atom. ]
Here, examples of the group that causes the same substitution reaction as the halogen atom include a lower alkanesulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, an aralkylsulfonyloxy group, and the like.

一般式(2)において、X11で示されるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子である。 In the general formula (2), the halogen atom represented by X 11 is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

11で示される低級アルカンスルホニルオキシ基としては、具体的には、メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、イソプロパンスルホニルオキシ、n−プロパンスルホニルオキシ、n−ブタンスルホニルオキシ、tert−ブタンスルホニルオキシ、n−ペンタンスルホニルオキシ、n−ヘキサンスルホニルオキシ基等の炭素数が1〜6の直鎖または分枝鎖状のアルカンスルホニルオキシ基を例示できる。 The lower alkanesulfonyloxy group represented by X 11, specifically, methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy, isopropanesulfonyl oxy, n- propane sulfonyloxy, n- butane sulfonyloxy, tert- butane sulfonyloxy, n Examples thereof include linear or branched alkanesulfonyloxy groups having 1 to 6 carbon atoms such as -pentanesulfonyloxy group and n-hexanesulfonyloxy group.

11で示されるアリールスルホニルオキシ基としては、例えば、フェニル環上に置換基として炭素数1〜6の直鎖または分枝鎖状アルキル基、炭素数1〜6の直鎖または分枝鎖状アルコキシ基、ニトロ基及びハロゲン原子なる群より選ばれた基を1〜3個有することのあるフェニルスルホニルオキシ基、ナフチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。上記置換基を有することのあるフェニルスルホニルオキシ基の具体例としては、フェニルスルホニルオキシ、4−メチルフェニルスルホニルオキシ、2−メチルフェニルスルホニルオキシ、4−ニトロフェニルスルホニルオキシ、4−メトキシフェニルスルホニルオキシ、2−ニトロフェニルスルホニルオキシ、3−クロロフェニルスルホニルオキシ等を例示できる。ナフチルスルホニルオキシ基の具体例としては、α−ナフチルスルホニルオキシ、β−ナフチルスルホニルオキシ基等を例示できる。 The arylsulfonyloxy group represented by X 11, for example, straight-chain or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms as a substituent on the phenyl ring, 1 to 6 carbon atoms straight chain or branched Examples thereof include a phenylsulfonyloxy group and a naphthylsulfonyloxy group which may have 1 to 3 groups selected from the group consisting of an alkoxy group, a nitro group and a halogen atom. Specific examples of the phenylsulfonyloxy group which may have a substituent include phenylsulfonyloxy, 4-methylphenylsulfonyloxy, 2-methylphenylsulfonyloxy, 4-nitrophenylsulfonyloxy, 4-methoxyphenylsulfonyloxy, Examples thereof include 2-nitrophenylsulfonyloxy and 3-chlorophenylsulfonyloxy. Specific examples of the naphthylsulfonyloxy group include an α-naphthylsulfonyloxy group and a β-naphthylsulfonyloxy group.

11で示されるアラルキルスルホニルオキシ基としては、例えばフェニル環上に置換基として炭素数1〜6の直鎖または分枝鎖状アルキル基、炭素数1〜6の直鎖または分枝鎖状アルコキシ基、ニトロ基及びハロゲン原子なる群より選ばれた基を1〜3個有することのあるフェニル基が置換した炭素数1〜6の直鎖または分枝鎖状のアルキルスルホニルオキシ基、ナフチル基が置換した炭素数1〜6の直鎖または分枝鎖状のアルキルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。上記フェニル基が置換したアルキルスルホニルオキシ基の具体例としては、ベンジルスルホニルオキシ、2−フェニルエチルスルホニルオキシ、4−フェニルブチルスルホニルオキシ、2−メチルベンジルスルホニルオキシ、4−メトキシベンジルスルホニルオキシ、4−ニトロベンジルスルホニルオキシ、3−クロロベンジルスルホニルオキシ等を例示できる。上記ナフチル基が置換したアルキルスルホニルオキシ基の具体例としては、α−ナフチルメチルスルホニルオキシ、β−ナフチルメチルスルホニルオキシ基等を例示できる。 As the aralkylsulfonyloxy group represented by X 11 , for example, a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms as a substituent on the phenyl ring. A linear or branched alkylsulfonyloxy group having 1 to 3 carbon atoms or a naphthyl group substituted with a phenyl group which may have 1 to 3 groups selected from the group consisting of a group, a nitro group and a halogen atom Examples thereof include a substituted or straight chain or branched alkylsulfonyloxy group having 1 to 6 carbon atoms. Specific examples of the alkylsulfonyloxy group substituted with the phenyl group include benzylsulfonyloxy, 2-phenylethylsulfonyloxy, 4-phenylbutylsulfonyloxy, 2-methylbenzylsulfonyloxy, 4-methoxybenzylsulfonyloxy, 4- Examples thereof include nitrobenzylsulfonyloxy and 3-chlorobenzylsulfonyloxy. Specific examples of the alkylsulfonyloxy group substituted with the naphthyl group include α-naphthylmethylsulfonyloxy and β-naphthylmethylsulfonyloxy groups.

化合物(1a)は、一般式(2)の化合物(以下、化合物(2)とする)と一般式(3)の化合物(以下、化合物(3)とする)とを反応させることによって製造することができる。   Compound (1a) is produced by reacting a compound of general formula (2) (hereinafter referred to as compound (2)) with a compound of general formula (3) (hereinafter referred to as compound (3)). Can do.

本反応は、通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、例えば、水;メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、トリフルオロエタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジグライム等のエーテル系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒;アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒;塩化メチレン、塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;または他の有機溶媒中で行われる。さらに、本反応は、これらの慣用の溶媒の混合溶媒中で行われる。この反応は、通常、アルカリ金属(例えば、ナトリウム、カリウム等)、アルカリ金属炭酸水素塩(例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)、アルカリ金属水酸化物(例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等)、アルカリ金属炭酸塩(例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等)、アルカリ金属低級アルコキシド(例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等)、水素化物(例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウム等)等の無機塩基、トリアルキルアミン(例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N−エチルジイソプロピルアミン等)、ピリジン、キノリン、N−メチルピペリジン、イミダゾール、ピコリン、ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン(DBN)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)等の有機塩基の存在下で行う。また、これらの塩基が液状の場合、溶媒として用いることができる。   This reaction is usually a conventional solvent that does not adversely influence the reaction, such as water; alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, trifluoroethanol, ethylene glycol; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone. Ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether and diglyme; ester solvents such as methyl acetate and ethyl acetate; aprotic polar solvents such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide and dimethyl sulfoxide; methylene chloride and ethylene chloride In a halogenated hydrocarbon-based solvent; or other organic solvents. Furthermore, this reaction is carried out in a mixed solvent of these conventional solvents. This reaction usually involves alkali metal (eg, sodium, potassium, etc.), alkali metal hydrogen carbonate (eg, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc.), alkali metal hydroxide (eg, lithium hydroxide) Sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, etc.), alkali metal carbonates (eg, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, etc.), alkali metal lower alkoxides (eg, sodium methoxide, sodium ethoxide) Etc.), hydrides (eg, sodium hydride, potassium hydride, etc.), inorganic bases, trialkylamines (eg, trimethylamine, triethylamine, N-ethyldiisopropylamine, etc.), pyridine, quinoline, N-methylpiperidine, imidazole , Picoline Dimethylaminopyridine, dimethylaniline, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), The reaction is carried out in the presence of an organic base such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU). Moreover, when these bases are liquid, it can be used as a solvent.

これらの塩基性化合物は、1種単独でまたは2種以上混合して使用される。   These basic compounds are used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

塩基性化合物の使用量は、化合物(2)に対して、通常0.5〜10倍モル、好ましくは0.5〜6倍モルである。   The usage-amount of a basic compound is 0.5-10 times mole normally with respect to a compound (2), Preferably it is 0.5-6 times mole.

上記反応は、必要に応じて、反応促進剤として、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム等のヨウ化アルカリ金属を添加して行うことができる。   The above reaction can be carried out by adding an alkali metal iodide such as potassium iodide or sodium iodide as a reaction accelerator if necessary.

上記反応式−1における化合物(2)と化合物(3)との使用割合は、通常前者に対し後者を少なくとも0.5倍モル、好ましくは0.5〜5倍モル程度とすればよい。   The use ratio of the compound (2) and the compound (3) in the above reaction formula-1 is usually at least 0.5 times mol, preferably about 0.5 to 5 times mol of the latter with respect to the former.

反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加熱下で反応が行われる。好ましくは、室温付近から約150℃の温度条件下に1〜30時間反応させるのがよい。
[反応式−2]
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating. Preferably, the reaction is performed at a temperature of about room temperature to about 150 ° C. for 1 to 30 hours.
[Reaction Formula-2]

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、R11、R12、A及びZは、前記と同じ意味を有し、X12は、水酸基、ハロゲン原子またはハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基を示す。]
ここで、一般式(4)において、X12で示されるハロゲン原子及びハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基としては、前記X11と同じ基を例示できる。
[Wherein, R 11 , R 12 , A 1 and Z have the same meaning as described above, and X 12 represents a hydroxyl group, a halogen atom or a group causing a substitution reaction similar to a halogen atom. ]
Here, in the general formula (4), as the group which causes the same substitution reaction as halogen atom and a halogen atom represented by X 12, it can be exemplified the same groups as the X 11.

化合物(1)は、一般式(4)の化合物(以下、化合物(4)とする)と一般式(5)の化合物(以下、化合物(5)とする)とを反応させることによって製造することができる。   Compound (1) is produced by reacting a compound of general formula (4) (hereinafter referred to as compound (4)) with a compound of general formula (5) (hereinafter referred to as compound (5)). Can do.

本反応は、前記反応式−1における反応と同様の反応条件下に行われる。
12が水酸基を示す化合物(4)の場合は、本反応は、化合物(5)と化合物(4)とを通常のアミド結合生成反応に付すことにより製造することができる。このアミド結合生成反応には、公知のアミド結合生成反応を広く適用することができる。具体的には、(イ)混合酸無水物法、すなわち化合物(4)にアルキルハロカルボン酸を反応させて混合酸無水物とし、これに化合物(5)を反応させる方法、(ロ)活性エステル法、すなわち化合物(4)をフェニル、p−ニトロフェニルエステル、N−ヒドロキシコハク酸イミドエステル、1−ヒドロキシベンゾトリアゾールエステル等の活性エステル、またはベンズオキサゾリン−2−チオンとの活性アミドとし、これに化合物(5)を反応させる方法、(ハ)カルボジイミド法、すなわち化合物(4)に化合物(5)をジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド(WSC)、カルボニルジイミダゾール等の活性化剤の存在下に縮合反応させる方法、(ニ)その他の方法、例えば化合物(4)を無水酢酸等の脱水剤によりカルボン酸無水物とし、これに化合物(5)を反応させる方法、化合物(4)と低級アルコールとのエステルに化合物(5)を反応させる方法等を挙げることができる。
This reaction is performed under the same reaction conditions as in the reaction of Reaction Scheme-1.
In the case of compound (4) in which X 12 represents a hydroxyl group, this reaction can be produced by subjecting compound (5) and compound (4) to a normal amide bond forming reaction. Known amide bond formation reactions can be widely applied to this amide bond formation reaction. Specifically, (b) a mixed acid anhydride method, that is, a method of reacting compound (4) with an alkylhalocarboxylic acid to form a mixed acid anhydride, and reacting this with compound (5), (b) an active ester The compound (4) is an active ester such as phenyl, p-nitrophenyl ester, N-hydroxysuccinimide ester, 1-hydroxybenzotriazole ester, or active amide with benzoxazoline-2-thione. A method of reacting compound (5), (c) a carbodiimide method, that is, compound (4) is converted to compound (5) by dicyclohexylcarbodiimide, 1- (3-dimethylaminopropyl) -3-ethylcarbodiimide (WSC), carbonyldiimidazole A method of condensation reaction in the presence of an activator such as (d) other methods, examples For example, compound (4) is converted to a carboxylic acid anhydride with a dehydrating agent such as acetic anhydride and compound (5) is reacted therewith, compound (4) is reacted with an ester of lower alcohol and compound (5) is reacted Can be mentioned.

上記混合無水物法(イ)において用いられる混合酸無水物は、通常のショッテン−バウマン反応により得られ、これを通常単離することなく化合物(5)と反応させることにより一般式(1a)の本発明化合物が製造される。   The mixed acid anhydride used in the mixed anhydride method (I) is obtained by a normal Schotten-Baumann reaction, and is usually reacted with the compound (5) without isolation, to obtain a compound of the general formula (1a). The compound of the present invention is produced.

上記ショッテン−バウマン反応は、塩基性化合物の存在下に行われる。   The Schotten-Baumann reaction is performed in the presence of a basic compound.

用いられる塩基性化合物としては、ショッテン−バウマン反応に慣用の化合物、例えば、アルカリ金属(例えば、ナトリウム、カリウム等)、アルカリ金属炭酸水素塩(例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)、アルカリ金属水酸化物(例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等)、アルカリ土類金属水酸化物(例えば、水酸化カルシウム等)、アルカリ金属炭酸塩(例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等)、アルカリ金属低級アルコキシド(例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等)、水素化物(例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウム等)、ナトリウムアミド等の無機塩基、トリアルキルアミン(例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N−エチルジイソプロピルアミン等)、ピリジン、キノリン、N−メチルピペリジン、イミダゾール、ピコリン、ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン(DBN)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)等の有機塩基が挙げられる。これらの塩基性化合物は、1種単独でまたは2種以上混合して用いられる。該反応は、通常−20〜100℃程度、好ましくは0〜50℃程度において行われ、反応時間は5分〜10時間程度、好ましくは5分〜2時間程度である。   Examples of the basic compound used include compounds commonly used in the Schotten-Baumann reaction, such as alkali metals (for example, sodium and potassium), alkali metal hydrogen carbonates (for example, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate and the like). ), Alkali metal hydroxide (eg, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, etc.), alkaline earth metal hydroxide (eg, calcium hydroxide, etc.), alkali metal carbonate (eg, Lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, etc.), alkali metal lower alkoxides (eg, sodium methoxide, sodium ethoxide, etc.), hydrides (eg, sodium hydride, potassium hydride, etc.), sodium amide, etc. Inorganic bases, trialkylamines (e.g., Limethylamine, triethylamine, N-ethyldiisopropylamine, etc.), pyridine, quinoline, N-methylpiperidine, imidazole, picoline, dimethylaminopyridine, dimethylaniline, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non Organic bases such as -5-ene (DBN), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU) . These basic compounds are used singly or in combination of two or more. The reaction is usually performed at about -20 to 100 ° C, preferably about 0 to 50 ° C, and the reaction time is about 5 minutes to 10 hours, preferably about 5 minutes to 2 hours.

得られた混合酸無水物と化合物(5)との反応は、通常−20〜150℃程度、好ましくは10〜50℃程度にて行われ、反応時間は5分〜10時間程度、好ましくは5分〜5時間程度である。   The reaction between the obtained mixed acid anhydride and compound (5) is usually performed at about -20 to 150 ° C, preferably about 10 to 50 ° C, and the reaction time is about 5 minutes to 10 hours, preferably 5 About minutes to 5 hours.

混合酸無水物法は一般に溶媒中で行われる。用いられる溶媒としては混合酸無水物法に慣用されている溶媒がいずれも使用可能であり、具体的には、水;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒;アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル燐酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。   The mixed acid anhydride method is generally performed in a solvent. As the solvent used, any solvent commonly used in the mixed acid anhydride method can be used. Specifically, water; halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, dichloromethane, dichloroethane, carbon tetrachloride; benzene Aromatic solvents such as toluene, xylene; ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane; ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate; acetonitrile, N, N-dimethyl Examples include aprotic polar solvents such as formamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoric triamide, and mixed solvents thereof.

混合酸無水物法において使用されるアルキルハロカルボン酸としては、例えば、クロロ蟻酸メチル、ブロモ蟻酸メチル、クロロ蟻酸エチル、ブロモ蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソブチル等が挙げられる。   Examples of the alkylhalocarboxylic acid used in the mixed acid anhydride method include methyl chloroformate, methyl bromoformate, ethyl chloroformate, ethyl bromoformate, and isobutyl chloroformate.

混合酸無水物法における化合物(4)とアルキルハロカルボン酸と化合物(5)の使用割合は、通常少なくとも等モルずつとするのがよいが、化合物(5)に対してアルキルハロカルボン酸及び化合物(4)をそれぞれ等モル〜6倍モル量程度の範囲内で使用することができる。   The ratio of compound (4), alkylhalocarboxylic acid and compound (5) used in the mixed acid anhydride method is usually preferably at least equimolar, but alkylhalocarboxylic acid and compound relative to compound (5). (4) can be used within the range of about equimolar to 6-fold molar amount.

前記活性化剤の存在下に縮合反応させる方法(ハ)においては、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下または非存在下に行われる。ここで使用される溶媒及び塩基性化合物としては、前記反応式−1で用いた溶媒及び塩基性化合物をいずれも使用することができる。活性化剤の使用量は、化合物(4)に対して通常少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜5倍モル量とするのがよい。活性化剤としてWSCを使用する場合は、反応系内に1−ヒドロキシベンゾトリアゾール及び/または塩酸等の酸を添加することにより、反応を有利に進行させることができる。該反応は、通常−20〜180℃程度、好ましくは0〜150℃程度にて行われ、一般に5分〜90時間程度で反応は完結する。   In the method (c) in which the condensation reaction is carried out in the presence of the activator, the reaction is carried out in a suitable solvent in the presence or absence of a basic compound. As the solvent and basic compound used here, any of the solvent and basic compound used in Reaction Scheme-1 can be used. The amount of activator used is usually at least equimolar, preferably equimolar to 5-fold molar relative to compound (4). When using WSC as an activator, the reaction can be advantageously advanced by adding an acid such as 1-hydroxybenzotriazole and / or hydrochloric acid to the reaction system. The reaction is usually performed at about -20 to 180 ° C, preferably about 0 to 150 ° C, and the reaction is generally completed in about 5 minutes to 90 hours.

更に本アミド結合生成反応は、化合物(4)と化合物(5)とを、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィニルクロリド、フェニル−N−フェニルホスホラミドクロリデート、ジエチルクロロホスフェート、シアノリン酸ジエチル、ジフェニルリン酸アジド、ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホスフィニッククロリド等の燐化合物の縮合剤の存在下に反応させる方法によっても行うことができる。前記縮合剤は、1種単独でまたは2種以上混合して用いられる。   Furthermore, this amide bond formation reaction is carried out by converting compound (4) and compound (5) into triphenylphosphine, diphenylphosphinyl chloride, phenyl-N-phenylphosphoramide chloride, diethyl chlorophosphate, diethyl cyanophosphate, diphenylphosphorus. It can also be performed by a method of reacting in the presence of a condensing agent of a phosphorus compound such as acid azide or bis (2-oxo-3-oxazolidinyl) phosphinic chloride. The condensing agent may be used alone or in combination of two or more.

該反応は、上記反応式―1において用いられる溶媒及び塩基性化合物の存在下に、通常−20〜150℃程度、好ましくは0〜100℃程度付近にて行われ、一般に5分〜30時間程度にて反応は終了する。縮合剤及び化合物(5)は、化合物(4)に対してそれぞれ少なくとも等モル量程度、好ましくは等モル〜3倍モル量程度使用するのがよい。   The reaction is usually performed at about −20 to 150 ° C., preferably about 0 to 100 ° C. in the presence of the solvent and basic compound used in the above reaction scheme-1, and generally about 5 minutes to 30 hours. The reaction ends at. The condensing agent and the compound (5) may be used at least in an equimolar amount, preferably in an equimolar to 3 times molar amount with respect to the compound (4).

ここで、本発明の化合物の原料化合物である化合物(4)は、公知の化合物であるか、または公知の化合物から容易に製造することができる。
[反応式−3]
Here, the compound (4) which is a raw material compound of the compound of this invention is a well-known compound, or can be easily manufactured from a well-known compound.
[Reaction Formula-3]

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、R12及びAは、前記と同じ意味を有する。R14は水素または低級アルキル基を意味する。]
一般式(1b)の化合物(以下、化合物(1b)とする)は、一般式(10)の化合物(以下、化合物(10)とする)と化合物(5)を反応させることにより製造することができる。
[Wherein R 12 and A 1 have the same meaning as described above. R 14 represents hydrogen or a lower alkyl group. ]
A compound of general formula (1b) (hereinafter referred to as compound (1b)) can be produced by reacting a compound of general formula (10) (hereinafter referred to as compound (10)) with compound (5). it can.

本反応は、反応に悪影響を及ぼさない各種の溶媒、例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類;クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル類;その他、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド等の有機溶媒中、またはそれらの混合物中で行われる。尚、前記化合物(10)または(5)が液体のものを用いる場合、これらも溶媒として機能する。化合物(10)に対する化合物(5)の使用量は通常1〜10倍モル量、好ましくは、1〜3倍モル量である。反応は、冷却下〜加熱下の何れの温度条件下でも行い得る。好ましくは、−10℃〜150℃の温度条件を採用できる。反応は該温度条件下に約10分〜10時間で終了する。   This reaction can be carried out in various solvents that do not adversely influence the reaction, for example, ethers such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, cyclopentyl methyl ether; halogenated carbonization such as chloroform, methylene chloride, and ethylene chloride. Hydrogens; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate; etc .; in addition, in an organic solvent such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide, or a mixture thereof. In addition, when the said compound (10) or (5) uses a liquid thing, these also function as a solvent. The amount of the compound (5) used relative to the compound (10) is usually 1 to 10 times the molar amount, preferably 1 to 3 times the molar amount. The reaction can be performed under any temperature condition from cooling to heating. Preferably, a temperature condition of −10 ° C. to 150 ° C. can be adopted. The reaction is completed in about 10 minutes to 10 hours under the temperature conditions.

本反応は塩基の存在下に反応を行ってもよい。好適な塩基としては、例えば、トリ(低級)アルキルアミン(例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N−エチルジイソプロピルアミン等)、ピリジン、キノリン、ピペリジン、イミダゾール、ピコリン、ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、N−(低級)アルキル−モルホリン(例えば、N−メチルモルホリン等)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)等の有機塩基が挙げられる。
[反応式−4]
This reaction may be performed in the presence of a base. Suitable bases include, for example, tri (lower) alkylamine (eg, trimethylamine, triethylamine, N-ethyldiisopropylamine, etc.), pyridine, quinoline, piperidine, imidazole, picoline, dimethylaminopyridine, dimethylaniline, N- (lower ) Alkyl-morpholine (for example, N-methylmorpholine, etc.), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5 (DBN), 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU) And organic bases such as 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO).
[Scheme-4]

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、R11、R12及びAは、前記と同じ意味を有する。]
一般式(1d)の化合物(以下、化合物(1d)とする)は、一般式(1c)の化合物(以下、化合物(1c)とする)をチオキソ化剤と反応させることにより製造することができる。
ここで、チオキソ化剤の好適な例としては、五硫化燐,ローソン試薬(2,4−ビス(4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジホスフェタン−2,4−ジスルフィド)等のようなオキソ基をチオキソ基に変化させうる慣用のものが挙げられる。この反応に用いられる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない各種の溶媒、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
[Wherein R 11 , R 12 and A 1 have the same meaning as described above. ]
A compound of the general formula (1d) (hereinafter referred to as compound (1d)) can be produced by reacting a compound of the general formula (1c) (hereinafter referred to as compound (1c)) with a thioxo agent. .
Here, preferred examples of the thioxolating agent include phosphorus pentasulfide, Lawesson's reagent (2,4-bis (4-methoxyphenyl) -1,3-dithia-2,4-diphosphetane-2,4-disulfide). And the like which can change an oxo group such as thioxo group into a thioxo group. Solvents used in this reaction include various solvents that do not adversely affect the reaction, such as halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, dichloromethane, dichloroethane, and carbon tetrachloride; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene. Examples of the solvent include ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran and dimethoxyethane, or mixed solvents thereof.

本反応は、反応温度は特に限定されないが、通常は加熱下で、好ましくは65〜150℃にて行われ、反応時間は30分〜10時間程度、好ましくは30分〜5時間程度である。   The reaction temperature is not particularly limited, but this reaction is usually carried out under heating, preferably at 65 to 150 ° C., and the reaction time is about 30 minutes to 10 hours, preferably about 30 minutes to 5 hours.

本反応における化合物(1c)とチオキソ化剤の使用割合は、通常、化合物(1c)に対してチオキソ化剤を等量モル〜大過剰モル量、好ましくは等量モル〜1.3モル等量の範囲内で使用することができる。   The ratio of the compound (1c) and the thioxating agent used in this reaction is usually equimolar to large excess molar amount, preferably equimolar to 1.3 molar equivalents of the thioxating agent relative to the compound (1c). Can be used within the range.

また、本発明の化合物の原料化合物である化合物(5)は、新規化合物を含み、種々の方法により製造され得るが、その一例を示せば、例えば下記反応式−5〜反応式−6で示される方法により製造される。
[反応式−5]
Compound (5), which is a raw material compound of the compound of the present invention, includes a novel compound and can be produced by various methods. For example, the following reaction formula-5 to reaction formula-6 are shown. It is manufactured by the method.
[Reaction Formula-5]

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、R12、X11及びAは、前記と同じ意味を有し、R13は、水素または低級アルコキシカルボニル基を示す。]
ここで、一般式(6)において、X11で示されるハロゲン原子及びハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基としては、前記と同じ基を例示できる。
[Wherein, R 12 , X 11 and A 1 have the same meaning as described above, and R 13 represents hydrogen or a lower alkoxycarbonyl group. ]
Here, in the general formula (6), as a group which causes the same substitution reaction as halogen atom and a halogen atom represented by X 11, it can be exemplified the same groups as above.

上記R13で示される低級アルコキシカルボニル基の好適な具体例としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、第三級ブトキシカルボニル基等を挙げることができる。低級アルコキシカルボニル基のより好ましい例としては、(C−C)アルコキシカルボニル基を例示することができる。これらの内でも、第三級ブトキシカルボニル基は特に好適である。
化合物(5a)は、一般式(6)の化合物(以下、化合物(6)とする)と一般式(3)の化合物(以下、化合物(3)とする)とを反応させることによって製造することができる。本反応は、前記反応式−1における反応と同様の反応条件下に行われる。
Preferable specific examples of the lower alkoxycarbonyl group represented by R 13 include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl group and the like. More preferred examples of the lower alkoxycarbonyl group include a (C 1 -C 4 ) alkoxycarbonyl group. Of these, the tertiary butoxycarbonyl group is particularly preferred.
Compound (5a) is produced by reacting a compound of general formula (6) (hereinafter referred to as compound (6)) with a compound of general formula (3) (hereinafter referred to as compound (3)). Can do. This reaction is performed under the same reaction conditions as in the reaction of Reaction Scheme-1.

ここで、本発明の化合物の原料化合物である化合物(3)及び(6)は、公知の化合物であるか、または公知の化合物から容易に製造することができる。   Here, the compounds (3) and (6), which are raw material compounds of the compound of the present invention, are known compounds or can be easily produced from known compounds.

化合物(5a)のR13が低級アルコキシカルボニル基を示す化合物の場合は、その化合物を、低級アルコキシカルボニル基の脱離反応に付すことにより、一般式(5)の化合物(以下、化合物(5)とする)を製造することができる。この脱離反応は、加水分解のような慣用の方法に従って行われる。 In the case where R 13 of the compound (5a) represents a lower alkoxycarbonyl group, the compound is subjected to elimination reaction of the lower alkoxycarbonyl group to give a compound of the general formula (5) (hereinafter referred to as compound (5) Can be manufactured. This elimination reaction is performed according to a conventional method such as hydrolysis.

加水分解は、好ましくは、ルイス酸を含む酸の存在下で行われる。好適な酸としては、有機酸(例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等)及び無機酸(例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸等)が挙げられる。   The hydrolysis is preferably performed in the presence of an acid including a Lewis acid. Suitable acids include organic acids (eg, formic acid, acetic acid, propionic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc.) and inorganic acids (eg, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, etc.).

ルイス酸、例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ酢酸等を用いる反応は、好ましくは、カチオン捕捉剤(例えば、アニソール、フェノール等)の存在下で行い得る。   The reaction using a Lewis acid such as trihaloacetic acid such as trichloroacetic acid or trifluoroacetic acid can be preferably carried out in the presence of a cation scavenger (eg anisole or phenol).

本加水分解反応は、反応に悪影響を及ぼさない各種の溶媒、例えば水;メタノール、エタノール、トリフルオロエタノール、エチレングリコール等のアルコール類;アセトン等のケトン類;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類;クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル類;その他、アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド等の有機溶媒中、またはそれらの混合物中で行われる。尚、前記酸として液体のものを用いる場合、これらも溶媒として機能する。反応は、冷却下〜加温下の何れの温度条件下でも行い得る。   This hydrolysis reaction is carried out in various solvents that do not adversely affect the reaction, such as water; alcohols such as methanol, ethanol, trifluoroethanol, and ethylene glycol; ketones such as acetone; diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, 1, 2 -Ethers such as dimethoxyethane and cyclopentyl methyl ether; Halogenated hydrocarbons such as chloroform, methylene chloride and ethylene chloride; Esters such as methyl acetate, ethyl acetate and n-butyl acetate; Others, acetonitrile, N, N- It is carried out in an organic solvent such as dimethylformamide or in a mixture thereof. In addition, when using a liquid thing as said acid, these also function as a solvent. The reaction can be performed under any temperature condition from cooling to warming.

好ましくは、0℃〜室温の温度条件を採用できる。反応は該温度条件下に約0.5〜10時間で終了する。
[反応式−6]
Preferably, a temperature condition of 0 ° C. to room temperature can be employed. The reaction is completed in about 0.5 to 10 hours under the temperature condition.
[Reaction formula -6]

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、X11及びAは、前記と同じ意味を有する。]
ここで、一般式(7)において、X11で示されるハロゲン原子及びハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基としては、前記と同じ基を例示できる。
[Wherein X 11 and A 1 have the same meaning as described above. ]
Here, in the general formula (7), as a group which causes the same substitution reaction as halogen atom and a halogen atom represented by X 11, it can be exemplified the same groups as above.

化合物(8)は、一般式(7)の化合物(以下、化合物(7)とする)と一般式(3)の化合物(以下、化合物(3)とする)とを反応させることによって製造することができる。本反応は、前記反応式−1における反応と同様の反応条件下に行われる。   Compound (8) is produced by reacting a compound of general formula (7) (hereinafter referred to as compound (7)) with a compound of general formula (3) (hereinafter referred to as compound (3)). Can do. This reaction is carried out under the same reaction conditions as those in the reaction scheme-1.

ここで、本発明の化合物の原料化合物である化合物(7)及び(3)は、公知の化合物であるか、または公知の化合物から容易に製造することができる。   Here, the compounds (7) and (3), which are raw material compounds of the compound of the present invention, are known compounds or can be easily produced from known compounds.

化合物(5b)は、一般式(8)の化合物(以下、化合物(8)とする)と一般式(9)の化合物(以下、化合物(9)とする)とを反応させることによって製造することができる。本反応は、反応に悪影響を及ぼさない各種の溶媒、例えば水;メタノール、エタノール、トリフルオロエタノール、エチレングリコール等のアルコール類;アセトン等のケトン類;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類;クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル類;その他、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド等の有機溶媒中、またはそれらの混合物中で行われる。尚、前記酸として液体のものを用いる場合、これらも溶媒として機能する。反応は、冷却下〜加熱下の何れの温度条件下でも行い得る。   Compound (5b) is produced by reacting a compound of general formula (8) (hereinafter referred to as compound (8)) with a compound of general formula (9) (hereinafter referred to as compound (9)). Can do. This reaction is carried out in various solvents that do not adversely influence the reaction, such as water; alcohols such as methanol, ethanol, trifluoroethanol, and ethylene glycol; ketones such as acetone; diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxy. Ethers such as ethane and cyclopentyl methyl ether; Halogenated hydrocarbons such as chloroform, methylene chloride, and ethylene chloride; Esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and n-butyl acetate; Others, acetonitrile, N, N-dimethylformamide In an organic solvent such as, or a mixture thereof. In addition, when using a liquid thing as said acid, these also function as a solvent. The reaction can be performed under any temperature condition from cooling to heating.

好ましくは、50℃〜100℃の温度条件を採用できる。反応は該温度条件下に約0.5〜10時間で終了する。
り製造される。
反応式−7
Preferably, a temperature condition of 50 ° C to 100 ° C can be adopted. The reaction is completed in about 0.5 to 10 hours under the temperature condition.
Manufactured.
Reaction formula-7

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、R21及びAは、前記と同じ意味を有し、X21は、ハロゲン原子またはハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基を示す。]
ここで、ハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基としては、前記と同じ基を例示できる。
[Wherein, R 21 and A 2 have the same meaning as described above, and X 21 represents a halogen atom or a group that causes a substitution reaction similar to a halogen atom. ]
Here, examples of the group causing the same substitution reaction as the halogen atom include the same groups as described above.

本反応は、前記反応式−1における反応と同様の反応条件下に行われる。   This reaction is carried out under the same reaction conditions as those in the reaction scheme-1.

ここで、本発明の化合物の原料化合物である化合物(11)は、新規化合物を含み、種々の方法により製造され得るが、その一例を示せば、例えば下記反応式−9で示される方法により製造される。   Here, the compound (11) which is a raw material compound of the compound of the present invention includes a novel compound and can be produced by various methods. For example, the compound (11) can be produced by the method represented by the following reaction formula-9. Is done.

また、化合物(1)において−A−が−A21−O−A22−である化合物[ここで、A21及びA22は前記と同じ意味を有する。](以下、化合物(1f)とする)は、例えば、下記の反応式−8で示される方法により製造される。
反応式−8
Further, in the compound (1) -A 2 - is -A 21 -O-A 22 -, compound [wherein, A 21 and A 22 are as defined above. ] (Hereinafter referred to as compound (1f)) is produced, for example, by the method represented by the following reaction formula-8.
Reaction formula-8

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、R21、A21及びA22は、前記と同じ意味を有し、X22は、水酸基、ハロゲン原子またはハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基を示す。]
ここで、一般式(12)において、X22で示されるハロゲン原子及びハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基としては、前記と同じ基を例示できる。
[Wherein, R 21 , A 21 and A 22 have the same meaning as described above, and X 22 represents a hydroxyl group, a halogen atom or a group causing a substitution reaction similar to a halogen atom. ]
Here, in the general formula (12), as the group which causes the same substitution reaction as halogen atom and a halogen atom represented by X 22, can be exemplified the same groups as above.

化合物(1f)は、一般式(12)の化合物(以下、化合物(12)とする)と一般式(13)の化合物(以下、化合物(13)とする)とを反応させることによって製造することができる。   Compound (1f) is produced by reacting a compound of general formula (12) (hereinafter referred to as compound (12)) with a compound of general formula (13) (hereinafter referred to as compound (13)). Can do.

本反応は、前記反応式−1における反応と同様の反応条件下に行われる。   This reaction is carried out under the same reaction conditions as those in the reaction scheme-1.

22が水酸基を示す化合物(12)の場合は、本反応は、適当な溶媒中、適当な縮合剤の存在下行うこともできる。 In the case of the compound (12) in which X 22 represents a hydroxyl group, this reaction can also be carried out in a suitable solvent in the presence of a suitable condensing agent.

本反応は、通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、例えば、水;メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、トリフルオロエタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジグライム等のエーテル系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒;アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒;塩化メチレン、塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;または他の有機溶媒中で行われる。さらに、ここで使用される溶媒としては、これら慣用の溶媒の混合溶媒中を挙げることもできる。   This reaction is usually a conventional solvent that does not adversely influence the reaction, such as water; alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, trifluoroethanol, ethylene glycol; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone. Ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether and diglyme; ester solvents such as methyl acetate and ethyl acetate; aprotic polar solvents such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide and dimethyl sulfoxide; methylene chloride and ethylene chloride In a halogenated hydrocarbon-based solvent; or other organic solvents. Furthermore, as a solvent used here, the mixed solvent of these usual solvents can also be mentioned.

縮合剤としては、ジエチルアゾジカルボキシレート等のアゾカルボキシレート類及びトリフェニルホスフィン等の燐化合物の混合物等を挙げることができる。   Examples of the condensing agent include a mixture of azocarboxylates such as diethyl azodicarboxylate and a phosphorus compound such as triphenylphosphine.

縮合剤の使用量は、化合物(12)に対して、通常少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜2倍モルとするのがよい。   The amount of the condensing agent to be used is usually at least equimolar amount, preferably equimolar to 2-fold molar relative to compound (12).

上記反応式−8における化合物(12)と化合物(13)との使用割合は、通常前者に対し後者を少なくとも等モル、好ましくは等モル〜2倍モル程度とすればよい。   The use ratio of the compound (12) and the compound (13) in the above Reaction Scheme-8 is usually such that the latter is at least equimolar, preferably equimolar to 2-fold molar, relative to the former.

反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加熱下で反応が行われる。好ましくは、0℃〜150℃の温度条件下に1〜10時間反応させるのがよい。   The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating. Preferably, the reaction is performed for 1 to 10 hours under a temperature condition of 0 ° C to 150 ° C.

ここで、本発明の化合物の原料化合物である化合物(12)は、公知の化合物であるか、または公知の化合物から容易に製造することができる。   Here, the compound (12) which is a raw material compound of the compound of this invention is a well-known compound, or can be easily manufactured from a well-known compound.

また、本発明の化合物の原料化合物である化合物(13)は、新規化合物を含み、種々の方法により製造され得るが、その一例を示せば、例えば下記反応式−10または反応式−11で示される方法により製造される。
反応式−
In addition, the compound (13) which is a raw material compound of the compound of the present invention includes a novel compound and can be produced by various methods. It is manufactured by the method.
Reaction Formula- 9

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、R21、X21及びAは、前記と同じ意味を有し、X23は、ハロゲン原子またはハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基を示す。]
ここで、一般式(15)において、X23で示されるハロゲン原子及びハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基としては、前記と同じ基を例示できる。
[Wherein, R 21 , X 21 and A 2 have the same meaning as described above, and X 23 represents a halogen atom or a group that causes a substitution reaction similar to a halogen atom. ]
Here, in the general formula (15), as the group which causes the same substitution reaction as halogen atom and a halogen atom represented by X 23, can be exemplified the same groups as above.

化合物(11)は、一般式(14)の化合物(以下、化合物(14)とする)と一般式(15)の化合物(以下、化合物(15)とする)とを反応させることによって製造することができる。   Compound (11) is produced by reacting a compound of general formula (14) (hereinafter referred to as compound (14)) with a compound of general formula (15) (hereinafter referred to as compound (15)). Can do.

本反応は、前記反応式−1における反応と同様の反応条件下に行われる。   This reaction is carried out under the same reaction conditions as those in the reaction scheme-1.

ここで、本発明の化合物の原料化合物である化合物(14)及び(15)は、公知の化合物であるか、または公知の化合物から容易に製造することができる。
反応式−10
Here, the compounds (14) and (15), which are raw material compounds of the compound of the present invention, are known compounds or can be easily produced from known compounds.
Reaction formula- 10

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中A22は、前記と同じ意味を有し、X24は、ハロゲン原子またはハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基を示す。]
ここで、一般式(16)において、X24で示されるハロゲン原子及びハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基としては、前記と同じ基を例示できる。
[Wherein A 22 has the same meaning as described above, and X 24 represents a halogen atom or a group that causes a substitution reaction similar to a halogen atom. ]
Here, in the general formula (16), as the group which causes the same substitution reaction as halogen atom and a halogen atom represented by X 24, can be exemplified the same groups as above.

化合物(13)は、化合物(3)と一般式(16)の化合物(以下、化合物(16)とする)とを反応させることによって製造することができる。   Compound (13) can be produced by reacting compound (3) with a compound of general formula (16) (hereinafter referred to as compound (16)).

本反応は、前記反応式−1における反応と同様の反応条件下に行われる。   This reaction is carried out under the same reaction conditions as those in the reaction scheme-1.

ここで、本発明の化合物の原料化合物である化合物(16)は、公知の化合物であるか、または公知の化合物から容易に製造することができる。
反応式−11
Here, the compound (16) which is a raw material compound of the compound of this invention is a well-known compound, or can be easily manufactured from a well-known compound.
Reaction Formula- 11

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、A22は、前記と同じ意味を有し、R23は、低級アルカノイル基を、X24は、ハロゲン原子またはハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基を示す。]
ここで、一般式(17)及び(18)において、R23における低級アルカノイル基としては、前記と同じ基を例示できる。
[Wherein, A 22 has the same meaning as described above, R 23 represents a lower alkanoyl group, and X 24 represents a halogen atom or a group that causes a substitution reaction similar to a halogen atom. ]
Here, in the general formulas (17) and (18), examples of the lower alkanoyl group for R 23 include the same groups as described above.

また、一般式(17)において、X24で示されるハロゲン原子及びハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基としては、前記と同じ基を例示できる。 In the general formula (17), as the group which causes the same substitution reaction as halogen atom and a halogen atom represented by X 24, can be exemplified the same groups as above.

一般式(18)の化合物(以下、化合物(18)とする)は、化合物(3)と化合物(17)とを反応させることによって製造することができる。   The compound of general formula (18) (hereinafter referred to as compound (18)) can be produced by reacting compound (3) with compound (17).

本反応は、前記反応式−1における反応と同様の反応条件下に行われる。   This reaction is carried out under the same reaction conditions as those in the reaction scheme-1.

ここで、本発明の化合物の原料化合物である化合物(17)は、公知の化合物であるか、または公知の化合物から容易に製造することができる。   Here, the compound (17) which is a raw material compound of the compound of the present invention is a known compound or can be easily produced from a known compound.

次いで、化合物(18)を脱アシル化反応に付すことによって、化合物(13)を製造することができる。   Next, compound (13) can be produced by subjecting compound (18) to a deacylation reaction.

この反応の好適な方法としては、加水分解等の慣用のものが挙げられる。加水分解反応は、塩基あるいはルイス酸を含めての酸の存在下に実施するのが好ましい。好適な塩基としては、アルカリ金属(例えば、ナトリウム、カリウム等)、アルカリ金属炭酸水素塩(例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)、アルカリ金属水酸化物(例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等)、アルカリ金属炭酸塩(例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等)、アルカリ金属低級アルコキシド(例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等)、水素化物(例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウム等)等の無機塩基、トリアルキルアミン(例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N−エチルジイソプロピルアミン等)、ピリジン、キノリン、ピペリジン、イミダゾール、ピコリン、ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、DBN、DABCO、DBU等の有機塩基が挙げられる。好適な酸としては、有機酸(たとえば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等)及び無機酸(たとえば塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素等)が挙げられる。トリハロ酢酸(たとえばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等)等のルイス酸を用いての脱離は、カチオン補捉剤(たとえばアニソール、フェノール等)の存在下に実施するのが好ましい。   Suitable methods for this reaction include conventional methods such as hydrolysis. The hydrolysis reaction is preferably carried out in the presence of an acid including a base or a Lewis acid. Suitable bases include alkali metals (eg, sodium, potassium, etc.), alkali metal bicarbonates (eg, lithium bicarbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, etc.), alkali metal hydroxides (eg, lithium hydroxide) Sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, etc.), alkali metal carbonates (eg, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, etc.), alkali metal lower alkoxides (eg, sodium methoxide, sodium ethoxide) Etc.), inorganic bases such as hydrides (eg, sodium hydride, potassium hydride, etc.), trialkylamines (eg, trimethylamine, triethylamine, N-ethyldiisopropylamine, etc.), pyridine, quinoline, piperidine, imidazole, picoline, Zimechi Aminopyridine, dimethylaniline, N- methylmorpholine, DBN, DABCO, and organic bases DBU or the like. Suitable acids include organic acids (eg, formic acid, acetic acid, propionic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc.) and inorganic acids (eg, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, hydrogen chloride, hydrogen bromide, etc.). . The elimination using a Lewis acid such as trihaloacetic acid (for example, trichloroacetic acid or trifluoroacetic acid) is preferably carried out in the presence of a cation-trapping agent (for example, anisole or phenol).

本反応は、通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、例えば、水;メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、トリフルオロエタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジグライム等のエーテル系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒;アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒;塩化メチレン、塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;または他の有機溶媒中で行われる。さらに、本反応は、これらの慣用の溶媒の混合溶媒中で行われてもよい。これらの内ではエタノールが好ましい。反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加熱下で反応が行われる。好ましくは、室温付近から使用する溶媒の沸点付近までの温度条件下に0.5〜75時間反応させるのがよい。
反応式−12
This reaction is usually performed using a conventional solvent that does not adversely influence the reaction, such as water; alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, trifluoroethanol, and ethylene glycol; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone. Ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether and diglyme; ester solvents such as methyl acetate and ethyl acetate; aprotic polar solvents such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide and dimethyl sulfoxide; methylene chloride and ethylene chloride In a halogenated hydrocarbon-based solvent; or other organic solvents. Furthermore, this reaction may be carried out in a mixed solvent of these conventional solvents. Of these, ethanol is preferred. The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating. Preferably, the reaction is carried out for 0.5 to 75 hours under temperature conditions from around room temperature to around the boiling point of the solvent used.
Reaction Formula- 12

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、Aは前記に同じ。R21aは、前記R21にて示される基のうち、(8)カルボキシ基が少なくとも1つ置換した前記N−含有複素環基を示す。R21bは、前記R21にて示される基のうち、(10)低級アルキル基を有していてもよいカルバモイル基が少なくとも1つ置換した前記N−含有複素環基を示す。R22及びR23は、同一または異なって水素原子または低級アルキル基を示す。]
化合物(1g)と化合物(19)との反応は、化合物(19)のアミンと化合物(1g)のカルボン酸とを通常のアミド結合生成反応にて反応させる方法である。このアミド結合生成反応には、公知のアミド結合生成反応を広く適用することができる。具体的には、(イ)混合酸無水物法、すなわちカルボン酸(1g)にアルキルハロカルボン酸を反応させて混合酸無水物とし、これにアミン(19)を反応させる方法、(ロ)活性エステル法、すなわちカルボン酸(1g)をフェニル、p−ニトロフェニルエステル、N−ヒドロキシコハク酸イミドエステル、1−ヒドロキシベンゾトリアゾールエステル等の活性エステル、またはベンズオキサゾリン−2−チオンとの活性アミドとし、これにアミン(19)を反応させる方法、(ハ)カルボジイミド法、すなわちカルボン酸(1g)にアミン(19)をジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド(WSC)、カルボニルジイミダゾール等の活性化剤の存在下に縮合反応させる方法、(ニ)その他の方法、例えばカルボン酸(1g)を無水酢酸等の脱水剤によりカルボン酸無水物とし、これにアミン(19)を反応させる方法、カルボン酸(1g)と低級アルコールとのエステルにアミン(19)を反応させる方法、カルボン酸(1g)の酸ハロゲン化物、すなわちカルボン酸ハライドにアミン(19)を反応させる方法等を挙げることができる。
[Wherein A is the same as defined above. R 21a is, the of the groups indicated by R 21, showing the (8) carboxy group of at least one substituted the N- containing heterocyclic group. R 21b represents the N-containing heterocyclic group in which at least one carbamoyl group optionally having (10) a lower alkyl group is substituted among the groups represented by R 21 . R 22 and R 23 are the same or different and each represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. ]
The reaction between the compound (1g) and the compound (19) is a method in which the amine of the compound (19) and the carboxylic acid of the compound (1g) are reacted in a normal amide bond forming reaction. Known amide bond formation reactions can be widely applied to this amide bond formation reaction. Specifically, (b) a mixed acid anhydride method, that is, a method in which an alkylhalocarboxylic acid is reacted with a carboxylic acid (1 g) to form a mixed acid anhydride, and this is reacted with an amine (19), (b) activity Ester method, ie carboxylic acid (1 g) as an active amide with phenyl, p-nitrophenyl ester, N-hydroxysuccinimide ester, 1-hydroxybenzotriazole ester or benzoxazoline-2-thione, A method of reacting this with an amine (19), (c) a carbodiimide method, that is, a carboxylic acid (1 g) with an amine (19) as dicyclohexylcarbodiimide, 1- (3-dimethylaminopropyl) -3-ethylcarbodiimide (WSC), Method of condensation reaction in the presence of an activating agent such as carbonyldiimidazole (D) Other methods, for example, a method in which carboxylic acid (1 g) is converted to a carboxylic acid anhydride with a dehydrating agent such as acetic anhydride, and this is reacted with amine (19), an ester of carboxylic acid (1 g) with a lower alcohol Examples thereof include a method of reacting amine (19), a method of reacting an acid halide of carboxylic acid (1 g), that is, a carboxylic acid halide with amine (19), and the like.

上記混合無水物法(イ)において用いられる混合酸無水物は、通常のショッテン−バウマン反応により得られ、これを通常単離することなくアミン(19)と反応させることにより一般式(1h)の本発明化合物が製造される。   The mixed anhydride used in the mixed anhydride method (I) is obtained by a normal Schotten-Baumann reaction, and is usually reacted with an amine (19) without isolation to give a general formula (1h) The compound of the present invention is produced.

上記ショッテン−バウマン反応は、塩基性化合物の存在下に行われる。   The Schotten-Baumann reaction is performed in the presence of a basic compound.

用いられる塩基性化合物としては、ショッテン−バウマン反応に慣用の化合物、例えば、アルカリ金属(例えば、ナトリウム、カリウム等)、アルカリ金属炭酸水素塩(例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)、アルカリ金属水酸化物(例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等)、アルカリ土類金属水酸化物(例えば、水酸化カルシウム等)、アルカリ金属炭酸塩(例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等)、アルカリ金属低級アルコキシド(例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等)、水素化物(例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウム等)、ナトリウムアミド等の無機塩基、トリアルキルアミン(例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N−エチルジイソプロピルアミン等)、ピリジン、キノリン、ピペリジン、イミダゾール、ピコリン、ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン(DBN)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)等の有機塩基が挙げられる。これらの塩基性化合物は、1種単独でまたは2種以上混合して用いられる。該反応は、通常−20〜100℃程度、好ましくは0〜50℃程度において行われ、反応時間は5分〜10時間程度、好ましくは5分〜2時間程度である。   Examples of the basic compound used include compounds commonly used in the Schotten-Baumann reaction, such as alkali metals (for example, sodium and potassium), alkali metal hydrogen carbonates (for example, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate and the like). ), Alkali metal hydroxide (eg, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, etc.), alkaline earth metal hydroxide (eg, calcium hydroxide, etc.), alkali metal carbonate (eg, Lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, etc.), alkali metal lower alkoxides (eg, sodium methoxide, sodium ethoxide, etc.), hydrides (eg, sodium hydride, potassium hydride, etc.), sodium amide, etc. Inorganic bases, trialkylamines (e.g., Limethylamine, triethylamine, N-ethyldiisopropylamine, etc.), pyridine, quinoline, piperidine, imidazole, picoline, dimethylaminopyridine, dimethylaniline, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5 And organic bases such as ene (DBN), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU). These basic compounds are used singly or in combination of two or more. The reaction is usually performed at about -20 to 100 ° C, preferably about 0 to 50 ° C, and the reaction time is about 5 minutes to 10 hours, preferably about 5 minutes to 2 hours.

得られた混合酸無水物とアミン(19)との反応は、通常−20〜150℃程度、好ましくは10〜50℃程度にて行われ、反応時間は5分〜10時間程度、好ましくは5分〜5時間程度である。   The reaction of the obtained mixed acid anhydride and amine (19) is usually performed at about -20 to 150 ° C, preferably about 10 to 50 ° C, and the reaction time is about 5 minutes to 10 hours, preferably 5 About minutes to 5 hours.

混合酸無水物法は一般に溶媒中で行われる。用いられる溶媒としては混合酸無水物法に慣用されている溶媒がいずれも使用可能であり、具体的には、水;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒;アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル燐酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。   The mixed acid anhydride method is generally performed in a solvent. As the solvent used, any solvent commonly used in the mixed acid anhydride method can be used. Specifically, water; halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, dichloromethane, dichloroethane, carbon tetrachloride; benzene Aromatic solvents such as toluene, xylene; ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane; ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate; acetonitrile, N, N-dimethyl Examples include aprotic polar solvents such as formamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoric triamide, and mixed solvents thereof.

混合酸無水物法において使用されるアルキルハロカルボン酸としては、例えば、クロロ蟻酸メチル、ブロモ蟻酸メチル、クロロ蟻酸エチル、ブロモ蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソブチル等が挙げられる。   Examples of the alkylhalocarboxylic acid used in the mixed acid anhydride method include methyl chloroformate, methyl bromoformate, ethyl chloroformate, ethyl bromoformate, and isobutyl chloroformate.

混合酸無水物法におけるカルボン酸(1g)とアルキルハロカルボン酸とアミン(19)の使用割合は、通常少なくとも等モルずつとするのがよいが、アミン(19)に対してアルキルハロカルボン酸及びカルボン酸(1g)をそれぞれ等モル〜6倍モル量程度の範囲内で使用することができる。   The ratio of the carboxylic acid (1 g), alkylhalocarboxylic acid and amine (19) used in the mixed acid anhydride method is usually at least equimolar, but the alkylhalocarboxylic acid and amine (19) Carboxylic acid (1 g) can be used in the range of about equimolar to 6 times molar amount.

前記活性化剤の存在下に縮合反応させる方法(ハ)においては、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下または非存在下に行われる。ここで使用される溶媒及び塩基性化合物としては、下記その他の方法(ニ)のカルボン酸ハライドにアミン(19)を反応させる方法で用いた溶媒及び塩基性化合物をいずれも使用することができる。活性化剤の使用量は、化合物(19)に対して通常少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜5倍モル量とするのがよい。活性化剤としてWSCを使用する場合は、反応系内に1−ヒドロキシベンゾトリアゾール及び/または塩酸等の酸を添加することにより、反応を有利に進行させることができる。該反応は、通常−20〜180℃程度、好ましくは0〜150℃程度にて行われ、一般に5分〜90時間程度で反応は完結する。   In the method (c) in which the condensation reaction is carried out in the presence of the activator, the reaction is carried out in a suitable solvent in the presence or absence of a basic compound. As the solvent and basic compound used here, any of the solvent and basic compound used in the method of reacting the amine (19) with the carboxylic acid halide of the following other method (d) can be used. The amount of activator used is usually at least equimolar, preferably equimolar to 5-fold molar relative to compound (19). When using WSC as an activator, the reaction can be advantageously advanced by adding an acid such as 1-hydroxybenzotriazole and / or hydrochloric acid to the reaction system. The reaction is usually performed at about -20 to 180 ° C, preferably about 0 to 150 ° C, and the reaction is generally completed in about 5 minutes to 90 hours.

また前記その他の方法(ニ)の内で、カルボン酸ハライドにアミン(19)を反応させる方法を採用する場合、該反応は塩基性化合物の存在下に、適当な溶媒中で行われる。用いられる塩基性化合物としては、公知のものを広く使用でき、例えば上記ショッテン−バウマン反応に用いられる塩基性化合物をいずれも使用することができる。溶媒としては、例えば上記混合酸無水物法に用いられる溶媒の他に、メタノール、エタノール、イソプロパノール、プロパノール、ブタノール、3−メトキシ−1−ブタノール、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ等のアルコール系溶媒、アセトニトリル、ピリジン、アセトン、水等を挙げることができる。アミン(19)とカルボン酸ハライドとの使用割合としては、特に限定がなく広い範囲内で適宜選択すればよいが、通常前者に対して後者を少なくとも等モル量程度、好ましくは等モル〜5倍モル量程度とするのがよい。該反応は通常−20〜180℃程度、好ましくは0〜150℃程度にて行われ、一般に5分〜50時間程度で反応は完結する。   Of the other methods (d), when the method of reacting a carboxylic acid halide with an amine (19) is employed, the reaction is carried out in a suitable solvent in the presence of a basic compound. As the basic compound used, known compounds can be widely used. For example, any of the basic compounds used in the Schotten-Baumann reaction can be used. As the solvent, for example, in addition to the solvent used in the mixed acid anhydride method, alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, propanol, butanol, 3-methoxy-1-butanol, ethyl cellosolve, methyl cellosolve, acetonitrile, Pyridine, acetone, water, etc. can be mentioned. The proportion of amine (19) and carboxylic acid halide used is not particularly limited and may be appropriately selected within a wide range. Usually, the latter is at least about equimolar amount, preferably equimolar to 5 times the former. The molar amount is good. The reaction is usually carried out at about -20 to 180 ° C, preferably about 0 to 150 ° C, and the reaction is generally completed in about 5 minutes to 50 hours.

更に上記反応式−6に示すアミド結合生成反応は、カルボン酸(1g)とアミン(19)とを、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィニルクロリド、フェニル−N−フェニルホスホラミドクロリデート、ジエチルクロロホスフェート、シアノリン酸ジエチル、ジフェニルリン酸アジド、ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホスフィニッククロリド等の燐化合物の縮合剤の存在下に反応させる方法によっても行うことができる。前記縮合剤は、1種単独でまたは2種以上混合して用いられる。   Further, the amide bond formation reaction shown in the above reaction formula-6 is carried out by converting carboxylic acid (1 g) and amine (19) into triphenylphosphine, diphenylphosphinyl chloride, phenyl-N-phenylphosphoramide chloride, diethyl chlorophosphate. It can also be carried out by a method of reacting in the presence of a condensing agent of a phosphorus compound such as diethyl cyanophosphate, diphenyl phosphate azide, and bis (2-oxo-3-oxazolidinyl) phosphinic chloride. The condensing agent may be used alone or in combination of two or more.

該反応は、上記カルボン酸ハライドにアミン(19)を反応させる方法において用いられる溶媒及び塩基性化合物の存在下に、通常−20〜150℃程度、好ましくは0〜100℃程度付近にて行われ、一般に5分〜30時間程度にて反応は終了する。縮合剤及びアミン(19)は、カルボン酸(1g)に対してそれぞれ少なくとも等モル量程度、好ましくは等モル〜3倍モル量程度使用するのがよい。
反応式−13
The reaction is usually performed at about −20 to 150 ° C., preferably about 0 to 100 ° C. in the presence of a solvent and a basic compound used in the method of reacting the carboxylic acid halide with amine (19). In general, the reaction is completed in about 5 minutes to 30 hours. The condensing agent and amine (19) may be used in an amount of at least about equimolar amount, preferably about equimolar to 3 times molar amount with respect to carboxylic acid (1 g).
Reaction formula-13

Figure 2008115175
Figure 2008115175

[式中、Aは前記に同じ。
21cは、基
[Wherein A 2 is the same as defined above.
R 21c is a group

Figure 2008115175
Figure 2008115175

を示す。
21dは、基
Indicates.
R 21d is a group

Figure 2008115175
Figure 2008115175

を示す。
21eは、
Indicates.
R 21e is

Figure 2008115175
Figure 2008115175

を示す。
25及びX26は、それぞれハロゲン原子またはハロゲン原子と同様の置換反応を起こす基を示す。R24は前記R21の置換基(1)〜(13)と同一の基を示す。pは、4または5を示す。]
化合物(1i)と化合物(20)との反応は、適当な不活性溶媒中、塩基性化合物の存在下に行われる。
Indicates.
X 25 and X 26 each represent a halogen atom or a group that causes a substitution reaction similar to a halogen atom. R 24 represents the same group as the substituents (1) to (13) of R 21 . p represents 4 or 5. ]
The reaction between compound (1i) and compound (20) is carried out in a suitable inert solvent in the presence of a basic compound.

ここで用いられる塩基性化合物としては、例えば、金属ナトリウム、金属カリウム、金属マグネシウム;水素化ナトリウム;ナトリウムアミド;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムtert−ブトキシド等の金属アルコキシド;メチルリチウム、n−ブチルリチウム、フェニルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等のアルキル及びアリールリチウムまたはリチウムアミド;リチウムヘキサメチルジシラジド等のシリルアミド等が挙げられる。これらの塩基性化合物は、1種単独でまたは2種以上混合して用いられる。   Examples of the basic compound used herein include metal sodium, metal potassium, metal magnesium; sodium hydride; sodium amide; metal alkoxide such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tert-butoxide; methyl lithium, n- Examples include alkyl and aryl lithium such as butyl lithium, phenyl lithium and lithium diisopropylamide, or lithium amide; silylamide such as lithium hexamethyldisilazide. These basic compounds are used singly or in combination of two or more.

塩基性化合物の使用量は、化合物(1i)に対して、通常少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜5倍モル量である。   The amount of the basic compound to be used is generally at least equimolar amount, preferably equimolar to 5-fold molar amount relative to compound (1i).

用いられる不活性溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル系溶媒;n−ヘキサン、へプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等またはこれらの混合溶媒等を挙げることができる。   Examples of the inert solvent used include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene; ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, monoglyme and diglyme; n-hexane, heptane and cyclohexane. Aliphatic hydrocarbon solvents; halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, dichloromethane, dichloroethane, and carbon tetrachloride; dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, and a mixed solvent thereof.

該反応は、通常−90〜150℃、好ましくは−90〜120℃付近にて行われ、一般に10分〜30時間程度にて反応は終了する。   The reaction is usually carried out at -90 to 150 ° C, preferably around -90 to 120 ° C, and the reaction is generally completed in about 10 minutes to 30 hours.

化合物(20)の使用量は、化合物(1i)に対して、通常少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜5倍モル量とするのがよい。
(1j)を(1k)に導く反応は、化合物(1i)を化合物(1j)に導く反応と同様の条件下に行われることができる。
The amount of compound (20) to be used is generally at least equimolar amount, preferably equimolar to 5-fold molar amount relative to compound (1i).
The reaction that leads (1j) to (1k) can be carried out under the same conditions as the reaction that leads compound (1i) to compound (1j).

化合物(1)の内、Qが一般式(II)で示される基である化合物は、下記反応A〜Gを適用することにより、様々な化合物に変換することができる。   Among the compounds (1), compounds in which Q is a group represented by the general formula (II) can be converted into various compounds by applying the following reactions A to G.

反応A
化合物(1)において、R21で示されるN−含有複素環基の複素環上に(12)オキソ基が置換した化合物の場合、該化合物を還元することにより、対応するN−含有複素環基の複素環上のオキソ基が脱オキソ化した化合物(1)に導くことができる。
Reaction A
In the compound (1), in the case of the compound in which the (12) oxo group is substituted on the heterocyclic ring of the N-containing heterocyclic group represented by R 21 , the corresponding N-containing heterocyclic group is reduced by reducing the compound. To the compound (1) in which the oxo group on the heterocyclic ring is deoxoated.

上記還元反応に用いられる還元剤としては、例えば、水素化硼素ナトリウム、水素化シアノ硼素ナトリウム、水素化トリアセチルオキシ硼素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム等の水素化還元剤またはこれらの水素化還元剤の混合物等を例示できる。水素化還元剤は、出発物質に対して、通常等モル〜5倍モル量程度、好ましくは等モル〜2倍モル程度用いられる。   Examples of the reducing agent used in the reduction reaction include hydrogenation reducing agents such as sodium borohydride, sodium cyanoborohydride, sodium triacetyloxyborohydride, lithium aluminum hydride, and the like. A mixture etc. can be illustrated. The hydrogenation reducing agent is usually used in an amount of about equimolar to 5-fold molar amount, preferably about equimolar to 2-fold molar relative to the starting material.

該還元反応は、通常適当な溶媒中で行われる。溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒等を例示できる。   The reduction reaction is usually performed in a suitable solvent. Examples of the solvent include ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, monoglyme and diglyme; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene.

反応温度は、通常0〜150℃程度、好ましくは0〜100℃程度が適当であり、該反応は一般に30分〜10時間程度で終了する。   The reaction temperature is usually about 0 to 150 ° C., preferably about 0 to 100 ° C., and the reaction is generally completed in about 30 minutes to 10 hours.

反応B
化合物(1)において、R21で示されるN−含有複素環基の複素環上に(5)保護されたヒドロキシ基が置換した化合物の場合、該化合物を脱保護することにより、対応するN−含有複素環基の複素環上に(4)ヒドロキシ基が置換した化合物(1)に導くことができる。
Reaction B
In the compound (1), in the case where (5) a protected hydroxy group is substituted on the heterocyclic ring of the N-containing heterocyclic group represented by R 21 , the corresponding N- The compound (1) in which (4) a hydroxy group is substituted on the heterocyclic ring of the containing heterocyclic group can be derived.

上記脱保護反応は、適当な溶媒中または無溶媒下で、酸または塩基性化合物の存在下に行われる。   The deprotection reaction is performed in the presence of an acid or a basic compound in a suitable solvent or without a solvent.

用いられる溶媒としては、例えば、水;メタノール、エタノール、イソプロパノール、tert−ブタノール等の低級アルコール系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライム等のエーテル系溶媒;酢酸、蟻酸等の脂肪酸系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル燐酸トリアミドまたはこれらの混合溶媒等を挙げることができる。   Examples of the solvent used include water; lower alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol and tert-butanol; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; ether solvents such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, monoglyme and diglyme. Fatty acid solvents such as acetic acid and formic acid; ester solvents such as methyl acetate and ethyl acetate; halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, dichloromethane, dichloroethane and carbon tetrachloride; N, N-dimethylformamide, N, N- Examples thereof include amide solvents such as dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone; dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoric triamide, and mixed solvents thereof.

酸としては、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸等の無機酸及び蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸等の有機酸を挙げることができる。また塩基性化合物としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化リチウム等の金属水酸化物等を挙げることができる。   Examples of the acid include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and hydrobromic acid, and organic acids such as formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, and sulfonic acid such as p-toluenesulfonic acid. Examples of the basic compound include carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide and lithium hydroxide. be able to.

酸または塩基性化合物の使用量は、出発物質1モルに対して、通常少なくとも1モル、好ましくは1〜10モルであるが、酸は、反応溶媒として大過剰に用いてもよい。   The amount of the acid or basic compound used is usually at least 1 mol, preferably 1 to 10 mol, relative to 1 mol of the starting material, but the acid may be used in a large excess as the reaction solvent.

この反応は、通常0〜200℃程度、好ましくは0〜150℃程度にて好適に進行し、一般に10分〜30時間程度で終了する。   This reaction normally proceeds suitably at about 0 to 200 ° C., preferably about 0 to 150 ° C., and is generally completed in about 10 minutes to 30 hours.

保護基が低級アルキル基の場合、適当な溶媒中、脱アルキル化剤の存在下で処理することにより脱保護ができる。使用される溶媒としては、上記脱保護反応で用いられる溶媒をいずれも使用することができる。脱アルキル化剤としては、例えば、三臭化硼素等の三ハロゲン化硼素等が挙げられる。脱アルキル化剤の使用量は、出発物質1モルに対して通常少なくとも等モル、好ましくは等モル〜10倍モル量である。該反応は、通常0〜150℃、好ましくは室温〜100℃付近にて、1〜50時間程度にて終了する。   When the protecting group is a lower alkyl group, deprotection can be achieved by treatment in a suitable solvent in the presence of a dealkylating agent. As the solvent used, any of the solvents used in the above deprotection reaction can be used. Examples of the dealkylating agent include boron trihalides such as boron tribromide. The amount of the dealkylating agent to be used is usually at least equimolar, preferably equimolar to 10-fold molar amount with respect to 1 mol of the starting material. The reaction is usually completed in about 1 to 50 hours at 0 to 150 ° C., preferably at room temperature to about 100 ° C.

保護基がフェニル低級アルキル基の場合、還元処理を行うことによっても脱保護できる。この還元処理は、例えば適当な溶媒中、触媒の存在下、接触水素添加することにより行うことができる。   When the protecting group is a phenyl lower alkyl group, it can also be deprotected by carrying out a reduction treatment. This reduction treatment can be performed, for example, by catalytic hydrogenation in a suitable solvent in the presence of a catalyst.

使用される溶媒としては、例えば、水;酢酸、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒;n−ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素溶媒;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒;酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル溶媒;ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。   Examples of the solvent used include water; alcohol solvents such as acetic acid, methanol, ethanol and isopropanol; hydrocarbon solvents such as n-hexane and cyclohexane; ether solvents such as dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether and ethylene glycol dimethyl ether; Examples thereof include ester solvents such as ethyl acetate and methyl acetate; aprotic polar solvents such as dimethylformamide or mixed solvents thereof.

使用される触媒としては、例えば、パラジウム、パラジウム−黒、パラジウム−炭素、白金、酸化白金、亜クロム酸銅、ラネーニッケル等またはこれらの混合物等が挙げられる。触媒の使用量は、出発物質に対して一般に0.02〜1倍重量程度とするのがよい。   Examples of the catalyst to be used include palladium, palladium-black, palladium-carbon, platinum, platinum oxide, copper chromite, Raney nickel, and a mixture thereof. The amount of catalyst used is generally about 0.02 to 1 times the weight of the starting material.

反応温度は、通常−20〜100℃付近、好ましくは0〜80℃付近、水素圧は通常1〜10気圧とするのがよく、該反応は、一般に0.5〜20時間程度で終了する。   The reaction temperature is usually around −20 to 100 ° C., preferably around 0 to 80 ° C., the hydrogen pressure is usually 1 to 10 atm, and the reaction is generally completed in about 0.5 to 20 hours.

反応C
化合物(1)において、R21で示されるN−含有複素環基が不飽和複素環基である化合物の場合、該化合物を還元することにより、対応するN−含有複素環基の複素環基の一部が飽和になった化合物(1)に導くことができる。
Reaction C
In the compound (1), in the case where the N-containing heterocyclic group represented by R 21 is an unsaturated heterocyclic group, by reducing the compound, the heterocyclic group of the corresponding N-containing heterocyclic group is reduced. It can lead to compound (1) which is partially saturated.

上記還元反応は、例えば、無溶媒下または適当な溶媒中、還元剤の存在下に行われる。   The above reduction reaction is performed, for example, in the absence of a solvent or in a suitable solvent in the presence of a reducing agent.

ここで使用される溶媒としては、例えば、水;メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、エチレングリコール等の低級アルコール系溶媒;アセトニトリル、蟻酸、酢酸等の脂肪酸系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。   Examples of the solvent used here include water; lower alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, tert-butanol, and ethylene glycol; fatty acid solvents such as acetonitrile, formic acid, and acetic acid; diethyl ether, tetrahydrofuran, Ether solvents such as dioxane, monoglyme and diglyme; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene; halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride or mixed solvents thereof It is done.

還元剤としては、例えば、パラジウム−黒、パラジウム−炭素、酸化白金、白金黒、ラネーニッケル等の接触水素還元剤等が挙げられる。接触水素還元剤は、出発物質に対して、通常1〜5倍重量、好ましくは1〜3倍重量程度用いられる。   Examples of the reducing agent include catalytic hydrogen reducing agents such as palladium-black, palladium-carbon, platinum oxide, platinum black, and Raney nickel. The catalytic hydrogen reducing agent is usually used in an amount of 1 to 5 times, preferably 1 to 3 times the weight of the starting material.

該反応は、通常常圧〜20気圧程度、好ましくは常圧〜10気圧程度の水素雰囲気中で、通常−30〜100℃程度、好ましくは0〜60℃程度の温度で行われる。該反応は、一般に1〜20時間程度で終了する。   The reaction is usually performed at a temperature of about −30 to 100 ° C., preferably about 0 to 60 ° C. in a hydrogen atmosphere of about normal pressure to 20 atm, preferably about 10 to 10 atm. The reaction is generally completed in about 1 to 20 hours.

反応D
化合物(1)において、R21で表されるN−含有複素環基の複素環上に(9)低級アルコキシカルボニル基が置換した化合物の場合、該化合物を加水分解することにより、対応するN−含有複素環基の複素環上に(8)カルボキシ基が置換した化合物(1)に導くことができる。
Reaction D
In the compound (1), in the case of (9) a compound in which a lower alkoxycarbonyl group is substituted on the heterocyclic ring of the N-containing heterocyclic group represented by R 21 , the corresponding N- The compound (1) in which (8) a carboxy group is substituted on the heterocyclic ring of the containing heterocyclic group can be derived.

上記加水分解反応は、適当な溶媒中または無溶媒下で、酸または塩基性化合物の存在下に行うことができる。   The hydrolysis reaction can be carried out in the presence of an acid or a basic compound in a suitable solvent or without a solvent.

用いられる溶媒としては、例えば、水;メタノール、エタノール、イソプロパノール、tert−ブタノール等の低級アルコール系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライム等のエーテル系溶媒;酢酸、蟻酸等の脂肪酸系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチル燐酸トリアミドまたはこれらの混合溶媒等を挙げることができる。   Examples of the solvent used include water; lower alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol and tert-butanol; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; ether solvents such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, monoglyme and diglyme. Fatty acid solvents such as acetic acid and formic acid; ester solvents such as methyl acetate and ethyl acetate; halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, dichloromethane, dichloroethane and carbon tetrachloride; dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, hexamethyl Examples thereof include phosphoric triamide or a mixed solvent thereof.

酸としては、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸等の有機酸等を挙げることができる。これらの酸は、1種単独でまたは2種以上混合して用いられる。   Examples of the acid include mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and hydrobromic acid, organic acids such as sulfonic acid such as formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid and p-toluenesulfonic acid. These acids are used singly or in combination of two or more.

塩基性化合物としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化リチウム等の金属水酸化物等を挙げることができる。これらの塩基性化合物は、1種単独でまたは2種以上混合して用いられる。   Examples of the basic compound include carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate, metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide and lithium hydroxide. be able to. These basic compounds are used singly or in combination of two or more.

加水分解反応は、通常0〜200℃程度、好ましくは0〜150℃程度にて好適に進行し、一般に10分〜80時間程度で終了する。   The hydrolysis reaction proceeds normally at about 0 to 200 ° C., preferably about 0 to 150 ° C., and is generally completed in about 10 minutes to 80 hours.

反応E
化合物(1)において、R21で表されるN−含有複素環基の複素環上に(8)カルボキシ基が置換した化合物の場合、該化合物と低級アルコール(例えば、メタノール、エタノール、tert−ブタノール等)とを反応させることにより、対応するN−含有複素環基の複素環上に(9)低級アルコキシカルボニル基が置換した化合物(1)に導くことができる。
Reaction E
In the compound (1), in the case of the compound in which (8) a carboxy group is substituted on the heterocyclic ring of the N-containing heterocyclic group represented by R 21 , the compound and a lower alcohol (for example, methanol, ethanol, tert-butanol) Etc.) can be led to the compound (1) in which (9) a lower alkoxycarbonyl group is substituted on the heterocyclic ring of the corresponding N-containing heterocyclic group.

上記反応は、通常のエステル化反応条件をいずれも使用することができる。例えば、該反応は、無機酸及び/またはハロゲン化剤の存在下で行われる。無機酸としては、例えば、塩酸、硫酸等が挙げられる。ハロゲン化剤としては、例えば、チオニルクロリド、オキシ塩化燐、五塩化燐、三塩化燐等が挙げられる。低級アルコールは、出発原料に対して、大過剰量使用される。該反応は、通常0〜150℃、好ましくは50〜100℃程度にて好適に進行し、一般に1〜10時間程度で終了する。   For the above reaction, any of ordinary esterification reaction conditions can be used. For example, the reaction is performed in the presence of an inorganic acid and / or a halogenating agent. Examples of inorganic acids include hydrochloric acid and sulfuric acid. Examples of the halogenating agent include thionyl chloride, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, phosphorus trichloride and the like. The lower alcohol is used in a large excess with respect to the starting material. The reaction normally proceeds suitably at about 0 to 150 ° C., preferably about 50 to 100 ° C., and is generally completed in about 1 to 10 hours.

反応F
化合物(1)において、R21で表されるN−含有複素環基の複素環のN原子上に(11)アリール低級アルキル基(ここで、アリール基上には低級アルコキシ基を有していてもよい)が置換した化合物は、該化合物を適当な溶媒中または無溶媒下で、酸の存在下に処理することにより、対応するN−含有複素環基のN原子上のアリール低級アルキル基が脱離した化合物(1)に導くことができる。
Reaction F
In the compound (1), (11) an aryl lower alkyl group (wherein the aryl group has a lower alkoxy group) on the N atom of the heterocyclic ring of the N-containing heterocyclic group represented by R 21 Or a compound substituted with an aryl lower alkyl group on the N atom of the corresponding N-containing heterocyclic group by treating the compound in an appropriate solvent or without solvent in the presence of an acid. It can lead to the detached compound (1).

上記反応で用いられる溶媒としては、例えば、水;メタノール、エタノール、イソプロパノール、tert−ブタノール等の低級アルコール系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライム等のエーテル系溶媒;酢酸、蟻酸等の脂肪酸系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル燐酸トリアミドまたはこれらの混合溶媒等を挙げることができる。   Examples of the solvent used in the above reaction include water; lower alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, and tert-butanol; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, monoglyme, diglyme, and the like. Ether solvents; fatty acid solvents such as acetic acid and formic acid; ester solvents such as methyl acetate and ethyl acetate; halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, dichloromethane, dichloroethane, and carbon tetrachloride; N, N-dimethylformamide, N Amide solvents such as N, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone; dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoric triamide or a mixed solvent thereof.

酸としては、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸等の無機酸及び蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸等の有機酸を挙げることができる。酸の使用量は、出発物質1モルに対して、通常少なくとも1モル、好ましくは1〜30モルであるが、酸は、反応溶媒として大過剰に用いてもよい。   Examples of the acid include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and hydrobromic acid, and organic acids such as formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, and sulfonic acid such as p-toluenesulfonic acid. The amount of the acid used is usually at least 1 mol, preferably 1 to 30 mol, relative to 1 mol of the starting material, but the acid may be used in a large excess as the reaction solvent.

この反応は、通常0〜200℃程度、好ましくは0〜150℃程度にて好適に進行し、一般に10分〜30時間程度で終了する。   This reaction normally proceeds suitably at about 0 to 200 ° C., preferably about 0 to 150 ° C., and is generally completed in about 10 minutes to 30 hours.

反応G
化合物(1)において、R21で表されるN−含有複素環基の複素環のN原子上に(7)低級アルカノイル基が置換した化合物は、対応するN−含有複素環の少なくとも1つのN原子が無置換である化合物(1)とアルカノイル化剤とを一般に適当な溶媒中または無溶媒下、塩基性化合物の存在下または非存在下反応させることにより製造される。
Reaction G
In the compound (1), the compound in which (7) a lower alkanoyl group is substituted on the heterocyclic N atom of the N-containing heterocyclic group represented by R 21 is at least one N of the corresponding N-containing heterocyclic ring. In general, it is produced by reacting compound (1) having an unsubstituted atom with an alkanoylating agent in the presence or absence of a basic compound in a suitable solvent or in the absence of a solvent.

上記反応で用いられる不活性溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル系溶媒;ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒;メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、エチレングリコール等の低級アルコール系溶媒;酢酸等の脂肪酸系溶媒;酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;アセトニトリル、ピリジン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ヘキサメチル燐酸トリアミドまたはこれらの混合溶媒等を挙げることができる。   Examples of the inert solvent used in the above reaction include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene; ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, monoglyme, and diglyme; dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and four Halogenated hydrocarbon solvents such as carbon chloride; lower alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, tert-butanol and ethylene glycol; fatty acid solvents such as acetic acid; ester solvents such as ethyl acetate and methyl acetate; Ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; acetonitrile, pyridine, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, hexamethylphosphoric triamide or a mixed solvent thereof. Rukoto can.

塩基性化合物としては、例えば、アルカリ金属(例えば、ナトリウム、カリウム等)、アルカリ金属炭酸水素塩(例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)、アルカリ金属水酸化物(例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等)、アルカリ土類金属水酸化物(例えば、水酸化カルシウム等)、アルカリ金属炭酸塩(例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等)、アルカリ金属低級アルコキシド(例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等)、水素化物(例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウム等)、ナトリウムアミド等の無機塩基、トリアルキルアミン(例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N−エチルジイソプロピルアミン等)、ピリジン、キノリン、ピペリジン、イミダゾール、ピコリン、ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン(DBN)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)等の有機塩基またはこれらの混合物を挙げることができる。   Examples of the basic compound include alkali metals (for example, sodium, potassium, etc.), alkali metal hydrogen carbonates (for example, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc.), alkali metal hydroxides (for example, water Lithium oxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, etc.), alkaline earth metal hydroxides (eg, calcium hydroxide), alkali metal carbonates (eg, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, carbonic acid) Cesium, etc.), alkali metal lower alkoxides (eg, sodium methoxide, sodium ethoxide, etc.), hydrides (eg, sodium hydride, potassium hydride, etc.), inorganic bases such as sodium amide, trialkylamines (eg, trimethylamine) , Triethylamine, N-ethyldi Propylamine, etc.), pyridine, quinoline, piperidine, imidazole, picoline, dimethylaminopyridine, dimethylaniline, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), 1, An organic base such as 4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU) or a mixture thereof can be given.

塩基性化合物の存在下で反応を行う場合、塩基性化合物は、出発物質に対して通常少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜5倍モル量使用するのがよい。   When the reaction is carried out in the presence of a basic compound, the basic compound is usually used in an amount of at least equimolar amount, preferably equimolar to 5-fold molar amount relative to the starting material.

アルカノイル化剤としては、例えば、アセチルクロリド等の低級アルカノイルハライド類、無水酢酸等の脂肪酸無水物等が挙げられる。   Examples of the alkanoylating agent include lower alkanoyl halides such as acetyl chloride, fatty acid anhydrides such as acetic anhydride, and the like.

低級アルカノイル化剤は、出発物質に対して通常少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜5倍モル量用いられる。   The lower alkanoylating agent is generally used in an amount of at least equimolar amount, preferably equimolar to 5-fold molar amount based on the starting material.

該反応は、通常0〜200℃、好ましくは0〜150℃程度にて行われ、一般に5分〜5時間程度にて反応は終了する。   The reaction is usually performed at 0 to 200 ° C., preferably about 0 to 150 ° C., and the reaction is generally completed in about 5 minutes to 5 hours.

この反応の反応系内には、沃化ナトリウム、沃化カリウム等のアルカリ金属ハロゲン化合物等を添加してもよい。   In the reaction system of this reaction, an alkali metal halogen compound such as sodium iodide or potassium iodide may be added.

上記各反応式において用いられる原料化合物は、好適な塩であってもよく、また各反応で得られる目的化合物も好適な塩を形成していてもよい。それらの好適な塩は以下に例示されている化合物(1)の好適な塩が挙げられる。   The starting compound used in each of the above reaction formulas may be a suitable salt, and the target compound obtained in each reaction may form a suitable salt. Suitable salts thereof include suitable salts of the compound (1) exemplified below.

化合物(1)の好適な塩は、薬理的に許容される塩であって、例えば、アルカリ金属塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩等)、アルカリ土類金属塩(例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等)等の金属塩、アンモニウム塩、炭酸アルカリ金属(例えば、炭酸リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム等)、炭酸水素アルカリ金属(例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)、アルカリ金属水酸化物(例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等)等の無機塩基の塩;例えば、トリ(低級)アルキルアミン(例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N−エチルジイソプロピルアミン等)、ピリジン、キノリン、ピペリジン、イミダゾール、ピコリン、ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、N−(低級)アルキル−モルホリン(例えば、N−メチルモルホリン等)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN)、1、8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)等の有機塩基の塩;塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等の無機酸の塩;ギ酸、酢酸塩、プロピオン酸塩、シュウ酸塩、マロン酸塩、コハク酸塩、フマル酸塩、マレイン酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、炭酸塩、ピクリン酸塩、メタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、グルタミン酸塩等の有機酸の塩等が挙げられる。   Suitable salts of the compound (1) are pharmacologically acceptable salts such as alkali metal salts (for example, sodium salts and potassium salts), alkaline earth metal salts (for example, calcium salts and magnesium salts). Metal salts such as ammonium salts, alkali metal carbonates (eg, lithium carbonate, potassium carbonate, sodium carbonate, cesium carbonate, etc.), alkali metal hydrogen carbonates (eg, lithium hydrogen carbonate, sodium bicarbonate, potassium hydrogen carbonate, etc.), alkalis Salts of inorganic bases such as metal hydroxides (eg, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, etc.); eg, tri (lower) alkylamines (eg, trimethylamine, triethylamine, N-ethyldiisopropyl) Amines), pyridine, quinoline, piperidine, imidazole, picoline Dimethylaminopyridine, dimethylaniline, N- (lower) alkyl-morpholine (eg, N-methylmorpholine), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5 (DBN), 1,8-diazabicyclo [ 5.4.0] Salts of organic bases such as undecene-7 (DBU), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO); hydrochlorides, hydrobromides, hydroiodides , Inorganic acid salts such as sulfate, nitrate, phosphate; formic acid, acetate, propionate, oxalate, malonate, succinate, fumarate, maleate, lactate, malic acid Examples thereof include salts of organic acids such as salts, citrates, tartrates, carbonates, picrates, methanesulfonates, ethanesulfonates, p-toluenesulfonates, and glutamates.

また、各反応式において示された原料及び目的化合物に溶媒和物(例えば、水和物、エタノレート等)が付加された形態の化合物も、各々の一般式に含まれる。好ましい溶媒和物としては水和物が挙げられる。   In addition, compounds in a form in which a solvate (eg, hydrate, ethanolate, etc.) is added to the raw materials and target compounds shown in each reaction formula are also included in each general formula. Preferred solvates include hydrates.

上記各反応式で得られる各々の目的化合物は、反応混合物を、例えば、冷却した後、濾過、濃縮、抽出等の単離操作によって粗反応生成物を分離し、カラムクロマトグラフィー、再結晶等の通常の精製操作によって、反応混合物から単離精製することができる。   Each target compound obtained in each of the above reaction formulas is obtained by cooling the reaction mixture, for example, separating the crude reaction product by an isolation operation such as filtration, concentration, extraction, etc., and performing column chromatography, recrystallization, etc. It can be isolated and purified from the reaction mixture by ordinary purification procedures.

本発明の一般式(1)で表される化合物には、幾何異性体、立体異性体、光学異性体等の異性体も当然に包含される。   The compound represented by the general formula (1) of the present invention naturally includes isomers such as geometric isomers, stereoisomers, and optical isomers.

一般式(1)の化合物及びその塩は、一般的な医薬製剤の形態で用いられる。製剤は通常使用される充填剤、増量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈剤あるいは賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤としては各種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代表的なものとして錠剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤(液剤、懸濁剤等)等が挙げられる。   The compound of the general formula (1) and a salt thereof are used in the form of a general pharmaceutical preparation. The preparation is prepared by using diluents or excipients such as fillers, extenders, binders, moisturizers, disintegrants, surfactants, lubricants and the like that are usually used. Various forms of this pharmaceutical preparation can be selected according to the purpose of treatment. Representative examples thereof include tablets, pills, powders, solutions, suspensions, emulsions, granules, capsules, suppositories, injections ( Liquid, suspension, etc.).

錠剤の形態に成形するに際しては、担体としてこの分野で従来よりよく知られている各種のものを広く使用することができる。その例としては、例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素、デンプン、炭酸カシウム、カオリン、結晶セルロース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパノール、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチルセルロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第4級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレングリコール等の滑沢剤等を使用できる。更に錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコーティング錠あるいは二重錠、多層錠とすることができる。   In molding into a tablet form, various carriers well known in the art can be widely used as carriers. Examples thereof include excipients such as lactose, sucrose, sodium chloride, glucose, urea, starch, calcium carbonate, kaolin, crystalline cellulose, silicic acid, water, ethanol, propanol, simple syrup, glucose solution, starch solution, Gelatin solution, binders such as carboxymethylcellulose, shellac, methylcellulose, potassium phosphate, polyvinylpyrrolidone, dry starch, sodium alginate, agar powder, laminaran powder, sodium bicarbonate, calcium carbonate, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, lauryl sulfate Disintegrators such as sodium, stearic acid monoglyceride, starch, lactose, disintegration inhibitors such as sucrose, stearin, cocoa butter, hydrogenated oil, absorption accelerators such as quaternary ammonium base, sodium lauryl sulfate, glyce Emissions, moisturizing agents such as starch, starch, lactose, kaolin, bentonite, adsorbent such as colloidal silicic acid, purified talc, stearates, boric acid powder, a lubricant such as polyethylene glycol can be used. Further, the tablets can be made into tablets with ordinary coatings as necessary, for example, sugar-coated tablets, gelatin-encapsulated tablets, enteric-coated tablets, film-coated tablets, double tablets, and multilayer tablets.

丸剤の形態に成形するに際しては、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用できる。その例としては、例えばブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガント末、ゼラチン、エタノール等の結合剤、ラミナラン、カンテン等の崩壊剤等を使用できる。   When forming into the form of a pill, those conventionally known in this field can be widely used as the carrier. Examples include excipients such as glucose, lactose, starch, cacao butter, hydrogenated vegetable oil, kaolin and talc, binders such as gum arabic powder, tragacanth powder, gelatin, ethanol, and disintegrants such as laminaran and agar. Can be used.

坐剤の形態に成形するに際しては、担体として従来公知のものを広く使用できる。その例としては、例えばポリエチレングリコール、カカオ脂、高級アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼラチン、半合成グリセライド等を挙げることができる。   In molding into a suppository form, conventionally known carriers can be widely used. Examples thereof include polyethylene glycol, cocoa butter, higher alcohols, higher alcohol esters, gelatin, semi-synthetic glycerides and the like.

カプセル剤は常法に従い通常有効成分化合物を上記で例示した各種の担体と混合して硬質ゼラチンカプセル、軟質カプセル等に充填して調製される。   Capsules are usually prepared by mixing the active ingredient compound with the various carriers exemplified above and filling them into hard gelatin capsules, soft capsules and the like according to conventional methods.

注射剤として調製される場合、液剤、乳剤及び懸濁剤は殺菌され、且つ血液と等張であるのが好ましく、これらの形態に成形するに際しては、希釈剤としてこの分野において慣用されているものをすべて使用でき、例えば水、エチルアルコール、マクロゴール、プロピレングリコール、エトキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等を使用できる。   When prepared as injections, solutions, emulsions and suspensions are preferably sterilized and isotonic with blood, and are commonly used in this field as diluents when molded into these forms For example, water, ethyl alcohol, macrogol, propylene glycol, ethoxylated isostearyl alcohol, polyoxylated isostearyl alcohol, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters and the like can be used.

なお、この場合等張性の溶液を調製するに充分な量の食塩、ブドウ糖あるいはグリセリンを医薬製剤中に含有せしめてもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加してもよい。更に必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の医薬品を医薬製剤中に含有させることもできる。   In this case, a sufficient amount of sodium chloride, glucose or glycerin may be contained in the pharmaceutical preparation to prepare an isotonic solution, and a normal solubilizing agent, buffering agent, soothing agent, etc. may be added. May be. Furthermore, a coloring agent, a preservative, a fragrance | flavor, a flavor agent, a sweetening agent, etc. and other pharmaceuticals can also be contained in a pharmaceutical formulation as needed.

本発明の医薬製剤中に含有されるべき一般式(1)の化合物またはその塩の量としては、特に限定されず広範囲から適宜選択されるが、通常製剤組成物中に約1〜70重量%、好ましくは約1〜30重量%とするのがよい。   The amount of the compound of the general formula (1) or a salt thereof to be contained in the pharmaceutical preparation of the present invention is not particularly limited and is appropriately selected from a wide range, but is usually about 1 to 70% by weight in the preparation composition. , Preferably about 1 to 30% by weight.

本発明の医薬製剤の投与方法は特に制限はなく、各種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等に応じた方法で投与される。例えば錠剤、丸剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤の場合には、経口投与される。また注射剤の場合には単独でまたはブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内投与され、更に必要に応じて単独で筋肉内、皮内、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤の場合には直腸内投与される。   The administration method of the pharmaceutical preparation of the present invention is not particularly limited, and it is administered according to various preparation forms, patient age, sex and other conditions, the degree of disease, and the like. For example, in the case of tablets, pills, solutions, suspensions, emulsions, granules and capsules, they are administered orally. In the case of an injection, it is administered intravenously alone or mixed with a normal replacement fluid such as glucose and amino acids, and further administered alone intramuscularly, intradermally, subcutaneously or intraperitoneally as needed. In the case of a suppository, it is administered intrarectally.

本発明医薬製剤の投与量は、用法、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、通常有効成分化合物の量が、1日当り体重1kg当り、約0.1〜10mg程度とするのがよい。また投与単位形態の製剤中には有効成分化合物が約1〜200mgの範囲で含有されるのが望ましい。   The dosage of the pharmaceutical preparation of the present invention is appropriately selected depending on the usage, the patient's age, sex and other conditions, the degree of disease, etc., but the amount of the active ingredient compound is usually about 0.1 to 0.1 kg / kg body weight per day. It should be about 10 mg. In addition, the active ingredient compound is desirably contained in the dosage unit form in a range of about 1 to 200 mg.

本発明の化合物は、D2受容体パーシャルアゴニスト作用、5−HT2A受容体アンタゴニスト作用及びセロトニン取り込み阻害作用(あるいはセロトニン再取り込み阻害作用)を有している。 The compound of the present invention has a D 2 receptor partial agonist action, a 5-HT 2A receptor antagonist action and a serotonin uptake inhibitory action (or a serotonin reuptake inhibitory action).

2受容体パーシャルアゴニスト作用は、ドパミン(DA)作動性神経伝達が亢進している場合にはこれを抑制し、一方、DA作動性神経伝達が低下している場合にはこれを促進してDA神経伝達を正常な状態へ安定化させる働き(dopamine system stabilizer、ドパミンシステムスタビライザー)を有している。この働きにより、副作用を発現することなく、DA神経伝達異常(亢進及び低下)に基づく症状に対して、優れた臨床改善作用、例えば、陽性及び陰性症状改善作用、認知障害改善作用、うつ症状改善作用等を発現する(融道男:精神医学,第46巻,第855〜864頁(2004)、菊地哲朗及び廣瀬毅:脳の科学,第25巻,第579〜583頁(2004)及びHarrison, T. S. and Perry, C. M.: Drugs 64: 1715-1736, 2004 参照)。 The D 2 receptor partial agonist action suppresses this when dopamine (DA) -acting neurotransmission is enhanced, while promoting it when DA-acting neurotransmission is reduced. It has a function to stabilize DA neurotransmission to a normal state (dopamine system stabilizer, dopamine system stabilizer). By this function, without causing side effects, excellent clinical improvement action, such as positive and negative symptom improvement action, cognitive impairment improvement action, depressive symptom improvement, on symptoms based on DA neurotransmission abnormality (up and down) (Miyako: Psychiatry, 46, 855-864 (2004), Tetsuro Kikuchi and Satoshi Hirose: Brain Science, 25, 579-583 (2004) and Harrison) , TS and Perry, CM: Drugs 64: 1715-1736, 2004).

5−HT2A受容体アンタゴニスト作用は、錐体外路系副作用を軽減すると共に、優れた臨床効果を発現し、例えば、陰性症状改善、認知障害改善、うつ症状改善、不眠改善等に有効である(石郷岡純及び稲田健:臨床精神薬理,第4巻,第1653〜1664頁(2001)、村崎光邦:臨床精神薬理,第1巻,第5〜22頁(1998)、Pullar, I.A. et al., :Eur. J. Pharmacol., 407:_39-46, 2000及びMeltzer, H. Y. et al.: Prog. Neuro-psychopharmacol. Biol. Psychiatry 27: 1159-1172, 2003 参照)。 The 5-HT 2A receptor antagonistic action reduces the extrapyramidal side effects and exhibits an excellent clinical effect, and is effective for improving negative symptoms, cognitive impairment, depressive symptoms, insomnia, etc. ( Jun Ishigoka and Ken Inada: Clinical Psychopharmacology, Vol. 4, pp. 1653-1664 (2001), Mitsuaki Murasaki: Clinical Psychopharmacology, Vol. 1, pp. 5-22 (1998), Pullar, IA et al., : Eur. J. Pharmacol., 407: _39-46, 2000 and Meltzer, HY et al .: Prog. Neuro-psychopharmacol. Biol. Psychiatry 27: 1159-1172, 2003).

セロトニン取り込み阻害作用(あるいはセロトニン再取り込み阻害作用)は、例えば、うつ症状の改善に有効である(村崎光邦:臨床精神薬理,第1巻,第5〜22頁(1998)参照)。   The serotonin uptake inhibitory action (or serotonin reuptake inhibitory action) is effective, for example, in the improvement of depressive symptoms (Murazaki Mitsukuni: Clinical Psychopharmacology, Vol. 1, pp. 5-22 (1998)).

本発明の化合物は、これら3つの作用が全て優れているか、またはこれら作用のうち1つまたは2つが顕著に優れている。   The compounds of the present invention are all excellent in these three actions, or one or two of these actions are remarkably excellent.

また、本発明の化合物のうちのあるものは、上記作用に加えて、α1受容体アンタゴニスト作用を有している。α1受容体アンタゴニスト作用は、統合失調症の陽性症状の改善に有効である(Svensson, T. H.: Prog. Neuro-psychopharmacol. Biol. Psychiatry 27:1145-1158, 2003 参照)。 Further, some of the compounds of the present invention have an α 1 receptor antagonistic action in addition to the above action. α 1 receptor antagonistic action is effective in improving the positive symptoms of schizophrenia (see Svensson, TH: Prog. Neuro-psychopharmacol. Biol. Psychiatry 27: 1145-1158, 2003).

そのため、本発明の化合物は、中枢神経疾患に対して広い治療スペクトラムを有し、優れた臨床効果を備えている。   Therefore, the compound of the present invention has a broad therapeutic spectrum for central nervous disease and has an excellent clinical effect.

従って、本発明の化合物は、統合失調症、治療抵抗性、難治性または慢性統合失調症、失調感情障害、精神病性障害、気分障害、双極性障害(例えば、双極性I型障害及び双極性II型障害)、うつ病、内因性うつ病、大うつ病、メランコリー及び治療抵抗性うつ病、気分変調性障害、気分循環性障害、不安障害(例えば、パニック発作、パニック障害、広場恐怖、社会恐怖、強迫性障害、外傷後ストレス障害、全般性不安障害、急性ストレス障害等)、身体表現性障害(例えば、ヒステリー、身体化障害、転換性障害、疼痛性障害、心気症等)、虚偽性障害、解離性障害、性障害(例えば、性機能不全、性的欲求障害、性的興奮障害、勃起障害等)、摂食障害(例えば、神経性無食欲症、神経性大食症等)、睡眠障害、適応障害、物質関連障害(例えば、アルコール乱用、中毒及び薬物耽溺、覚醒剤中毒、麻薬中毒等)、無快感症(快感消失症、anhedonia、例えば医原性無快感症、心理的、精神的な原因での無快感症、鬱病に伴う無快感症、統合失調症に伴う無快感症等)、せん妄、認知障害、アルツハイマー病、パーキンソン病、その他の神経変性疾患に伴う認知障害、アルツハイマー病、パーキンソン病及び関連障害の神経変性疾患に起因した認知障害、統合失調症の認知障害、治療抵抗性、難治性または慢性統合失調症等に起因する認知障害、嘔吐、乗物酔い、肥満、偏頭痛、疼痛、精神遅滞、自閉性障害(自閉症)、トウレット障害、チック障害、注意欠陥多動性障害、行為障害、ダウン症候群等、中枢神経系の種々の障害等の中枢神経疾患の改善に極めて有効である。   Accordingly, the compounds of the present invention can be used to treat schizophrenia, refractory, refractory or chronic schizophrenia, ataxic emotional disorder, psychotic disorder, mood disorder, bipolar disorder (eg, bipolar I disorder and bipolar II Type disorders), depression, intrinsic depression, major depression, melancholic and treatment-resistant depression, mood modulation disorders, mood circulation disorders, anxiety disorders (eg, panic attacks, panic disorders, agoraphobia, social phobia) Obsessive-compulsive disorder, post-traumatic stress disorder, generalized anxiety disorder, acute stress disorder, etc.), somatic expression disorder (eg hysteria, somatization disorder, conversion disorder, pain disorder, psychosis), falseness Disorders, dissociative disorders, sexual disorders (eg, sexual dysfunction, sexual desire disorder, sexual arousal disorder, erectile dysfunction), eating disorders (eg, anorexia nervosa, bulimia nervosa, etc.), Sleep disorders, adaptation disorders, substance-related Harm (eg alcohol abuse, addiction and drug abuse, stimulant addiction, narcotic addiction, etc.), annoyance (loss of anxiety, anhedonia, eg iatrogenic annoynia, psychological, mental annoyance , Anorexia associated with depression, anxiety associated with schizophrenia), delirium, cognitive impairment, Alzheimer's disease, Parkinson's disease, cognitive impairment associated with other neurodegenerative diseases, Alzheimer's disease, Parkinson's disease and related disorders Cognitive impairment due to degenerative disease, cognitive impairment of schizophrenia, treatment resistance, refractory or cognitive impairment due to chronic schizophrenia, vomiting, motion sickness, obesity, migraine, pain, mental retardation, autism Extremely effective in improving central nervous system disorders such as various disorders of the central nervous system such as disability (autism), towlet disorder, tic disorder, attention deficit / hyperactivity disorder, behavioral disorder, and Down's syndrome It is.

更に、本発明の化合物は、副作用が殆どなく、忍容性及び安全性の点において優れている。   Furthermore, the compound of the present invention has few side effects and is excellent in terms of tolerability and safety.

また、本発明の化合物は、下記に例示する現在臨床上で使用されている(1)気分安定薬、(2)セロトニン再取り込み阻害薬、(3)ノルエピネフリン再取り込み阻害薬、(4)セロトニン及びノルエピネフリン再取り込み阻害剤薬ならびに(5)抗不安薬からなる群から選ばれた少なくとも1種の薬剤と組み合わせて投与することにより、従来の治療法では得られなかった投与量低減、副作用改善、治療効果増強等といった効果を得ることができる。   In addition, the compounds of the present invention are used in the present clinical examples exemplified below: (1) mood stabilizers, (2) serotonin reuptake inhibitors, (3) norepinephrine reuptake inhibitors, (4) serotonin and Norepinephrine reuptake inhibitor and (5) administration in combination with at least one drug selected from the group consisting of anti-anxiety drugs, dose reduction, side effect improvement, treatment not obtained by conventional treatment methods Effects such as effect enhancement can be obtained.

(1)気分安定薬
気分安定薬としては、気分安定薬として機能する化合物を、広く使用でき、当業者に知られている。
(1) Mood stabilizers As mood stabilizers, compounds that function as mood stabilizers can be widely used and are known to those skilled in the art.

本発明において用いられ得る気分安定薬の非限定的なリストとしては、リチウム、バルプロ酸、ジバルプロックスナトリウム、カルバマゼピン、オクスカルバマゼピン、ゾニサミド、ラモトリジン、トピラメート、ガバペンチン、レベチラセタム、クロナゼパム、フェニトイン、サイロイドホルモン、チアガビン(tiagabine)及びオメガ3脂肪酸が挙げられる。好ましくは、ラモトリジン、ゾニサミド、トピラメート、リチウム、バルプロ酸及びカルバマゼピンが挙げられる。   Non-limiting lists of mood stabilizers that can be used in the present invention include lithium, valproic acid, divalprox sodium, carbamazepine, oxcarbamazepine, zonisamide, lamotrigine, topiramate, gabapentin, levetiracetam, clonazepam, phenytoin, thyroid hormone Tiagabine and omega-3 fatty acids. Preferred are lamotrigine, zonisamide, topiramate, lithium, valproic acid and carbamazepine.

(2)セロトニン再取り込み阻害薬
セロトニン再取り込み阻害剤としては、セロトニン再取り込み阻害薬として機能する化合物であれば公知のものを広く使用できる。
(2) Serotonin reuptake inhibitor As the serotonin reuptake inhibitor, known compounds can be widely used as long as they function as serotonin reuptake inhibitors.

セロトニン再取り込み阻害薬の中でも、従来の標準的な薬理学的アッセイ法であるWong等の方法(Neuropsychopharmacology, 8, pp337-344(1993))で、IC50値(セロトニン再取り込みを50%阻害する薬物の濃度)が、約1000nMまたはそれ未満であるものが好ましい。   Among serotonin reuptake inhibitors, a drug that inhibits 50% of the serotonin reuptake by the conventional standard pharmacological assay method, Wong et al. (Neuropsychopharmacology, 8, pp337-344 (1993)). Is preferably about 1000 nM or less.

このようなセロトニン再取り込み阻害薬としては、例えば、フルボキサミン(5−メトキシ−1−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]−1−ペンタノン−O−(2−アミノエチル)オキシム)、フルオキセチン(N−メチル−3−(p−トリフルオロメチルフェノキシ)−3−フェニルプロピルアミン)、パロキセチン(トランス−(−)−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イルオキシ)メチル]−4−(4−フルオロフェニル)ピペリジン)、セルトラリン(1S−シス)−4−(3,4−ジクロロフェニル)−1,2,3,4−テトラヒドロ−N−メチル−1−ナフチルアミン塩酸塩)、ベンラファキシン(1−[2−ジメチルアミノ−1−(4−メトキシフェニル)エチル]シクロヘキサノール)、ミルナシプラン(N,N−ジエチル−2−アミノメチル−1−フェニルシクロプロパンカルボキシアミド)、シタロプラム(1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−イソベンゾフランカルボニトリル)、デュロキセチン(N−メチル−3−(1−ナフタレニルオキシ)−3−(2−チエニル)プロパンアミン)、エスシタロプラム(S−(+)−1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−イソベンゾフランカルボニトリルオキサレート)等を例示できる。   Examples of such serotonin reuptake inhibitors include fluvoxamine (5-methoxy-1- [4- (trifluoromethyl) phenyl] -1-pentanone-O- (2-aminoethyl) oxime), fluoxetine (N -Methyl-3- (p-trifluoromethylphenoxy) -3-phenylpropylamine), paroxetine (trans-(-)-3-[(1,3-benzodioxol-5-yloxy) methyl] -4- (4-fluorophenyl) piperidine), sertraline (1S-cis) -4- (3,4-dichlorophenyl) -1,2,3,4-tetrahydro-N-methyl-1-naphthylamine hydrochloride), venlafaxine (1- [2-dimethylamino-1- (4-methoxyphenyl) ethyl] cyclohexanol), milnacipran ( , N-diethyl-2-aminomethyl-1-phenylcyclopropanecarboxamide), citalopram (1- [3- (dimethylamino) propyl] -1- (4-fluorophenyl) -1,3-dihydro-5 Isobenzofurancarbonitrile), duloxetine (N-methyl-3- (1-naphthalenyloxy) -3- (2-thienyl) propanamine), escitalopram (S-(+)-1- [3- (dimethylamino) ) Propyl] -1- (4-fluorophenyl) -1,3-dihydro-5-isobenzofurancarbonitrile oxalate) and the like.

(3)ノルエピネフリン再取り込み阻害薬
ノルエピネフリン再取り込み阻害薬としては、ノルエピネフリン再取り込み阻害薬として機能する化合物であれば公知のものを広く使用できる。このようなノルエピネフリン再取り込み阻害薬としては、例えば、レボキセチン、アトモキセチン及びブプロピオンが挙げられる。好ましくは、レボキセチン及びアトモキセチンが挙げられる。
(3) Norepinephrine reuptake inhibitor Norepinephrine reuptake inhibitors can be widely used as long as they function as norepinephrine reuptake inhibitors. Examples of such norepinephrine reuptake inhibitors include reboxetine, atomoxetine and bupropion. Preferably, reboxetine and atomoxetine are used.

(4)セロトニン及びノルエピネフリン再取り込み阻害剤薬
セロトニン及びノルエピネフリン再取り込み阻害剤薬としては、セロトニン及びノルエピネフリン再取り込み阻害剤薬として機能する化合物であれば公知のものを広く使用できる。このようなセロトニン及びノルエピネフリン再取り込み阻害薬としては、例えば、ベンラファキシン、デュロキセチン及びミルナシプラン等が挙げられる。
(4) Serotonin and Norepinephrine Reuptake Inhibitor Drugs As serotonin and norepinephrine reuptake inhibitor drugs, known compounds can be widely used as long as they function as serotonin and norepinephrine reuptake inhibitor drugs. Examples of such serotonin and norepinephrine reuptake inhibitors include venlafaxine, duloxetine and milnacipran.

(5)抗不安薬
抗不安薬の非限定的なリストとしては、ジアゼパム、クロルジアゼポキシド、クロキサゾラム、クロチアゼパム、アルプラゾラム、エチゾラム、オキサゾラム等のベンゾジアゼピン系抗不安薬、タンドスピロン、ブスピロン等を含むセロトニン5-HT1A受容体アゴニスト系抗不安剤が挙げられる。
(5) Anti-anxiety drugs A non-limiting list of anti-anxiety drugs includes diazepam, chlordiazepoxide, cloxazolam, clothiazepam, alprazolam, benzodiazepine anti-anxiety drugs such as tandospirone, buspirone, serotonin 5-HT1A receptors And body agonist anti-anxiety agents.

上記(1)気分安定薬、(2)セロトニン再取り込み阻害薬、(3)ノルエピネフリン再取り込み阻害薬、(4)セロトニン及びノルエピネフリン再取り込み阻害剤薬ならびに(5)抗不安薬からなる群から選ばれる薬剤は、遊離塩基、塩(酸付加塩等)等のいずれの形態でもよい。また、これらの薬剤は、ラセミ体であってもよいし、R及びS鏡像異性体であってもよい。これらの薬剤は、単一の薬剤を単独で使用しても、必要に応じて、2種またはそれ以上の薬剤を組み合わせて使用してもよい。単一の薬剤が好ましい。   Selected from the group consisting of (1) mood stabilizers, (2) serotonin reuptake inhibitors, (3) norepinephrine reuptake inhibitors, (4) serotonin and norepinephrine reuptake inhibitors, and (5) anxiolytics. The drug may be in any form such as free base, salt (acid addition salt, etc.). These drugs may be racemic or R and S enantiomers. These drugs may be used alone or in combination of two or more drugs as necessary. A single drug is preferred.

これらの薬剤は、医薬的に許容される酸と容易に酸付加塩を形成し得る。斯かる酸としては、例えば硫酸、硝酸、塩酸、リン酸、臭化水素酸等の無機酸、酢酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、コハク酸、安息香酸等の有機酸を例示できる。これらの酸付加塩もまた遊離形態の再取り込み阻害剤と同様に本発明において有効成分化合物として用いることができる。   These agents can readily form acid addition salts with pharmaceutically acceptable acids. Examples of such acids include inorganic acids such as sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, hydrobromic acid, acetic acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, oxalic acid, maleic acid, fumaric acid, malic acid, tartaric acid. And organic acids such as citric acid, succinic acid and benzoic acid. These acid addition salts can also be used as active ingredient compounds in the present invention, as are free form reuptake inhibitors.

これらの薬剤のうち酸性基を有する化合物は、これに医薬的に許容し得る塩基性化合物を作用させることにより容易に塩を形成させることができる。斯かる塩基性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸塩または重炭酸塩、ナトリウムメチラート、カリウムエチラート等のアルカリ金属アルコラート等を例示することができる。   Among these drugs, a compound having an acidic group can easily form a salt by allowing a pharmaceutically acceptable basic compound to act on the compound. Examples of such basic compounds include metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and calcium hydroxide, and alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, and potassium bicarbonate. Or, alkali metal alcoholates such as bicarbonate, sodium methylate, potassium ethylate and the like can be exemplified.

以下に、参考例、実施例、薬理試験例及び製剤例を掲げて、本発明をより一層明らかにする。   Hereinafter, the present invention will be further clarified with reference examples, examples, pharmacological test examples and formulation examples.

参考例1
エチル−(4−ヒドロキシブチル)カルバミン酸 tert−ブチルエステルの合成
4−エチルアミノ−1−ブタノール5.0ml(39ミリモル)及びトリエチルアミン6.5ml(47ミリモル)のジクロロメタン溶液(100ml)に氷冷下ジ−t−ブチルジカ−ボネ−ト9.32g(43ミリモル)を加え、混合物を室温で21時間撹拌した。反応液に水を加え、分液し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1→1:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮して無色油状物のエチル−(4−ヒドロキシブチル)カルバミン酸 tert−ブチルエステル7.40g(収率88%)を得た。
Reference example 1
Synthesis of ethyl- (4-hydroxybutyl) carbamic acid tert-butyl ester To a dichloromethane solution (100 ml) of 5.0 ml (39 mmol) of 4-ethylamino-1-butanol and 6.5 ml (47 mmol) of triethylamine under ice-cooling. 9.32 g (43 mmol) of di-t-butyl dicarbonate was added and the mixture was stirred at room temperature for 21 hours. Water was added to the reaction solution and the phases were separated, and the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and then concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 2: 1 → 1: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure to obtain 7.40 g (yield 88%) of colorless oily ethyl- (4-hydroxybutyl) carbamic acid tert-butyl ester.

参考例2
メタンスルホン酸 4−(tert−ブトキシカルボニル−エチル−アミノ)ブチルエステルの合成
エチル−(4−ヒドロキシブチル)カルバミン酸 tert−ブチルエステル6.50g(30ミリモル)及びトリエチルアミン5.0ml(36ミリモル)のジクロロメタン溶液(130ml)に氷冷下メタンスルホニルクロリド2.5ml(32ミリモル)を滴下して加え、同温度で1時間撹拌した。反応液に水を加え、分液し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1→1.5:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮して無色油状物のメタンスルホン酸 4−(tert−ブトキシカルボニル−エチル−アミノ)ブチルエステル7.22g(収率82%)を得た。
Reference example 2
Synthesis of methanesulfonic acid 4- (tert-butoxycarbonyl-ethyl-amino) butyl ester 6.50 g (30 mmol) of ethyl- (4-hydroxybutyl) carbamic acid tert-butyl ester and 5.0 ml (36 mmol) of triethylamine To the dichloromethane solution (130 ml), 2.5 ml (32 mmol) of methanesulfonyl chloride was added dropwise under ice cooling, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. Water was added to the reaction solution and the phases were separated, and the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and then concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 2: 1 → 1.5: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure to obtain 7.22 g (yield 82%) of methanesulfonic acid 4- (tert-butoxycarbonyl-ethyl-amino) butyl ester as a colorless oil.

参考例3
[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−エチル−カルバミン酸 tert−ブチルエステル塩酸塩の合成
メタンスルホン酸 4−(tert−ブトキシカルボニル−エチル−アミノ)ブチルエステル7.20g(24.4ミリモル)のDMF溶液(150ml)に4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン塩酸塩6.83g(26.8ミリモル)及び炭酸カリウム7.75g(56.1ミリモル)を加え、混合物を80℃で3.5時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、これに水を加え、反応生成物を酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1→1:2)で精製した。精製物を減圧下に濃縮して無色油状物の[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−エチル−カルバミン酸 tert−ブチルエステル4.84g(収率48%)を得た。得られた濃縮物のうち340mgをエタノール2mlに溶解し、溶液に1N−HClエタノール溶液0.9mlを加え、析出した結晶を濾取し、乾燥して白色粉末の[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−エチル−カルバミン酸 tert−ブチルエステル塩酸塩を得た。
融点230-232℃。
Reference example 3
Synthesis of [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -ethyl-carbamic acid tert-butyl ester hydrochloride Methanesulfonic acid 4- (tert-butoxycarbonyl-ethyl- Amino) butyl ester 7.20 g (24.4 mmol) in DMF solution (150 ml) in 4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazine hydrochloride 6.83 g (26.8 mmol) and potassium carbonate 7.75 g (56.1 mmol) was added and the mixture was stirred at 80 ° C. for 3.5 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, water was added thereto, and the reaction product was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 2: 1 → 1: 2). The purified product was concentrated under reduced pressure to give colorless oil [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -ethyl-carbamic acid tert-butyl ester 4.84 g ( Yield 48%) was obtained. 340 mg of the obtained concentrate was dissolved in 2 ml of ethanol, 0.9 ml of 1N-HCl ethanol solution was added to the solution, and the precipitated crystals were collected by filtration and dried to give [4- (4-benzo [ b] Thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -ethyl-carbamic acid tert-butyl ester hydrochloride was obtained.
Melting point 230-232 ° C.

参考例4
[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−エチル−アミン二塩酸塩の合成
[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−エチル−カルバミン酸 tert−ブチルエステル4.20g(10.1ミリモル)のジクロロメタン溶液(80ml)にトリフルオロ酢酸7.8mlを加え、混合物を室温で16時間撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、残渣に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、反応生成物をジクロロメタンで抽出した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=1:0→9:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮して淡黄色油状物の[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−エチル−アミン2.71g(収率85%)を得た。得られた濃縮物のうち260mgをエタノール2mlに溶解し、1N−HClエタノール溶液1.8mlを加えて析出した結晶を濾取し、乾燥して白色粉末の[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−エチル−アミン二塩酸塩を得た。
融点265-267℃。
Reference example 4
Synthesis of [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -ethyl-amine dihydrochloride [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazine To a dichloromethane solution (80 ml) of 4.20 g (10.1 mmol) of -1-yl) butyl] -ethyl-carbamic acid tert-butyl ester was added 7.8 ml of trifluoroacetic acid, and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, an aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added to the residue, and the reaction product was extracted with dichloromethane. The extract was dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by basic silica gel column chromatography (dichloromethane: methanol = 1: 0 → 9: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure to give 2.71 g (yield 85%) of [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -ethyl-amine as a pale yellow oil. ) 260 mg of the obtained concentrate was dissolved in 2 ml of ethanol, 1.8 ml of 1N-HCl ethanol solution was added, and the precipitated crystals were collected by filtration and dried to give [4- (4-benzo [b] Thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -ethyl-amine dihydrochloride was obtained.
Melting point 265-267 ° C.

参考例5
2−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]イソインドール−1,3−ジオン塩酸塩の合成
2−(4−ブロモブチル) イソインドール−1,3−ジオン200mg(0.71ミリモル)、1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン塩酸塩200mg(0.78ミリモル)、炭酸カリウム(230mg、1.66ミリモル)及びよう化ナトリウム(130mg、0.87ミリモル)をジメチルホルムアミド(DMF)(4ml)に加え、混合物を80度で5時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、これに水を加え、反応生成物を酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後の有機層を減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=30:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣をエタノール(2ml)に溶解し、溶液に濃塩酸(0.65ml)を加えた。塩酸添加後の溶液を減圧下に濃縮し、残渣をエタノール−酢酸エチルから再結晶して淡黄色粉末の2−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]イソインドール−1,3−ジオン塩酸塩210mg(収率65%)を得た。
融点295℃(分解)。
Reference Example 5
Synthesis of 2- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] isoindole-1,3-dione hydrochloride 2- (4-bromobutyl) isoindole-1, 3-dione 200 mg (0.71 mmol), 1-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazine hydrochloride 200 mg (0.78 mmol), potassium carbonate (230 mg, 1.66 mmol) and sodium iodide (130 mg, 0.87 mmol) was added to dimethylformamide (DMF) (4 ml) and the mixture was stirred at 80 degrees for 5 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, water was added thereto, and the reaction product was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. The organic layer after drying was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane: methanol = 30: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, the residue was dissolved in ethanol (2 ml), and concentrated hydrochloric acid (0.65 ml) was added to the solution. The solution after addition of hydrochloric acid was concentrated under reduced pressure, and the residue was recrystallized from ethanol-ethyl acetate to give 2- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) as a pale yellow powder. )] Butyl] isoindole-1,3-dione hydrochloride 210 mg (yield 65%) was obtained.
Melting point 295 ° C (decomposition).

参考例6
4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチルアミンの合成
2−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]イソインドール−1,3−ジオン789mg(1.89ミリモル)のエタノール溶液(8ml)にヒドラジン一水和物0.27ml(5.6ミリモル)を加え、混合物を2時間加熱還流下に撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、残渣に1N−水酸化ナトリウム水溶液を加え、反応生成物をジクロロメタンで抽出洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後の生成物を減圧下に濃縮し黄色油状物の4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチルアミン581mg(収率定量的)を得た。
Reference Example 6
Synthesis of 4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butylamine 2- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] To an ethanol solution (8 ml) of 789 mg (1.89 mmol) of isoindole-1,3-dione was added 0.27 ml (5.6 mmol) of hydrazine monohydrate, and the mixture was stirred for 2 hours under heating to reflux. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, 1N aqueous sodium hydroxide solution was added to the residue, the reaction product was extracted and washed with dichloromethane, and dried over anhydrous sodium sulfate. The dried product was concentrated under reduced pressure to obtain 581 mg (yield quantitative) of 4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butylamine as a yellow oily substance.

参考例7
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−プロピン−2−イルアミン
4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチルアミン330mg(1.14ミリモル)のジクロロメタン溶液に氷冷下、プロパルギルブロミド0.084ml(1.14ミリモル)を加え、混合物を室温で15時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、反応生成物をジクロロメタンで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後の生成物を減圧下に濃縮し、残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:2)で精製した。精製物を減圧下に濃縮して白色無定形固体のN−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−プロピン−2−イルアミン75mg(収率20%)を得た。
Reference Example 7
N- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -propyn-2-ylamine 4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazine-1 -Ill) To a solution of 330 mg (1.14 mmol) of butylamine in dichloromethane was added 0.084 ml (1.14 mmol) of propargyl bromide under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 15 hours. A saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added to the reaction solution, and the reaction product was extracted with dichloromethane and dried over anhydrous sodium sulfate. The dried product was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by basic silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 2). The purified product was concentrated under reduced pressure to give 75 mg (yield) of white amorphous solid N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -propyn-2-ylamine 20%).

参考例8
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン塩酸塩の合成
4−ブロモベンゾ[b]チオフェン14.4g、無水ピペラジン29.8g、ナトリウムt−ブトキシド9.3g、(R)−(+)−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(BINAP)0.65g、トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム(0)0.63g及びトルエン250mlからなる混合物を、窒素雰囲気下、1時間加熱還流した。反応液に水を注ぎ、酢酸エチル抽出し、水洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール:25%アンモニア水=100:10:1)により精製して、黄色油状の1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン9.5gを得た。
Reference Example 8
Synthesis of 1-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazine hydrochloride 14.4 g of 4-bromobenzo [b] thiophene, 29.8 g of anhydrous piperazine, 9.3 g of sodium t-butoxide, (R)-(+)- A mixture consisting of 0.65 g of 2,2′-bis (diphenylphosphino) -1,1′-binaphthyl (BINAP), 0.63 g of tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0) and 250 ml of toluene was placed under a nitrogen atmosphere. Heated to reflux for 1 hour. Water was poured into the reaction solution, extracted with ethyl acetate, washed with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane: methanol: 25% aqueous ammonia = 100: 10: 1) to obtain 9.5 g of 1-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazine as a yellow oil.

1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン9.5gのメタノール溶液に、濃塩酸3.7mlを加え、減圧下に溶媒を留去した。残渣に酢酸エチルを加え、析出する結晶を濾取し、メタノールから再結晶して、無色針状晶の1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン塩酸塩を得た。
融点:276−280℃
1H−NMR(DMSO−d6)δppm:
3.25−3.35(8H,m),6.94(1H,d,J=7.6Hz),7.30(1H,dd,J=7.8Hz,7.8Hz),7.51(1H,d,J=5.5Hz),7.68(1H,d,J=8.1Hz),7.73(1H,d,J=5.5Hz),9.35(2H,brs)。
To a methanol solution of 9.5 g of 1-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazine was added 3.7 ml of concentrated hydrochloric acid, and the solvent was distilled off under reduced pressure. Ethyl acetate was added to the residue, and the precipitated crystals were collected by filtration and recrystallized from methanol to obtain colorless needle-like 1-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazine hydrochloride.
Melting point: 276-280 ° C
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ ppm:
3.25-3.35 (8H, m), 6.94 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.30 (1H, dd, J = 7.8 Hz, 7.8 Hz), 7.51 (1H, d, J = 5.5 Hz), 7.68 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.73 (1H, d, J = 5.5 Hz), 9.35 (2H, brs) .

参考例9
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン塩酸塩の合成
4−ブロモベンゾ[b]チオフェン14.4g、無水ピペラジン29.8g、ナトリウムt−ブトキシド9.3g、(R)−(+)−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(BINAP)0.65g、トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム(0)0.63g及びトルエン250mlからなる混合物を、窒素雰囲気下、1時間加熱還流した。反応液に水を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール:25%アンモニア水=100:10:1)により精製して、黄色油状の1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン9.5gを得た。
Reference Example 9
Synthesis of 1-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazine hydrochloride 4-bromobenzo [b] thiophene 14.4 g, anhydrous piperazine 29.8 g, sodium tert-butoxide 9.3 g, (R)-(+)-2 , 2′-bis (diphenylphosphino) -1,1′-binaphthyl (BINAP) 0.65 g, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0) 0.63 g and toluene 250 ml under nitrogen atmosphere. Heated to reflux for 1 hour. Water was poured into the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane: methanol: 25% aqueous ammonia = 100: 10: 1) to obtain 9.5 g of 1-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazine as a yellow oil.

1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン9.5gのメタノール溶液に、濃塩酸3.7mlを加え、減圧下に溶媒を留去した。残渣に酢酸エチルを加え、析出する結晶をろ取し、メタノールから再結晶して、無色針状晶の1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン塩酸塩を得た。
融点:276−280℃
H−NMR(DMSO−d)δppm:3.25−3.35(8H,m),6.94(1H,d,J=7.6Hz),7.30(1H,dd,J=7.8Hz,J=7.8Hz),7.51(1H,d,J=5.5Hz),7.68(1H,d,J=8.1Hz),7.73(1H,d,J=5.5Hz),9.35(2H,brs)。
To a methanol solution of 9.5 g of 1-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazine was added 3.7 ml of concentrated hydrochloric acid, and the solvent was distilled off under reduced pressure. Ethyl acetate was added to the residue, and the precipitated crystals were collected by filtration and recrystallized from methanol to obtain colorless needle-like 1-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazine hydrochloride.
Melting point: 276-280 ° C
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ ppm: 3.25-3.35 (8H, m), 6.94 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.30 (1H, dd, J = 7.8 Hz, J = 7.8 Hz), 7.51 (1H, d, J = 5.5 Hz), 7.68 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.73 (1H, d, J = 5.5 Hz), 9.35 (2H, brs).

参考例10
4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−3−メチルピペラジン−1−カルボン酸tert−ブチルエステルの合成
原料化合物として3−メチルピペラジン−1−カルボン酸tert−ブチルエステル及び4−ブロモベンゾ[b]チオフェンを用い、参考例9と同様にして標記化合物を得た。
H−NMR(CDCl)δppm:1.85−1.95(3H,m),1.50(9H,s),2.8−2.9(1H,m),3.15−3.35(2H,m),3.4−3.5(1H,m),3.5−3.65(1H,m),3.65−3.7(1H,m),3.7−3.9(1H,m),6.98(1H,d,J=7.5Hz),7.29(1H,dd,J=8Hz、J=8Hz),7.38(1H,d,J=5.5Hz),7.61(1H,d,J=8Hz)。
Reference Example 10
Synthesis of 4-benzo [b] thiophen-4-yl-3-methylpiperazine-1-carboxylic acid tert-butyl ester 3-methylpiperazine-1-carboxylic acid tert-butyl ester and 4-bromobenzo [b] as raw material compounds The title compound was obtained in the same manner as in Reference Example 9 using thiophene.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm: 1.85-1.95 (3H, m), 1.50 (9H, s), 2.8-2.9 (1H, m), 3.15-3 .35 (2H, m), 3.4-3.5 (1H, m), 3.5-3.65 (1H, m), 3.65-3.7 (1H, m), 3.7 −3.9 (1H, m), 6.98 (1H, d, J = 7.5 Hz), 7.29 (1H, dd, J = 8 Hz, J = 8 Hz), 7.38 (1H, d, J = 5.5 Hz), 7.61 (1H, d, J = 8 Hz).

参考例11
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−2−メチルピペラジン二塩酸塩の合成
4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−3−メチルピペラジン−1−カルボン酸tert−ブチルエステル1.22g(3.7ミリモル)のジクロロメタン溶液(12ml)にトリフルオロ酢酸6mlを加え、室温で1時間撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、残渣に5%炭酸カリウム水溶液を加えてジクロロメタンで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣に濃塩酸0.6ml及びメタノール10mlを加えて減圧下に濃縮した。残渣をアセトニトリルから結晶化して微褐色粉末の1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−2−メチルピペラジン二塩酸塩0.98gを得た。
H−NMR(DMSO−d)δppm:0.92(3H,d,J=6.5Hz),2.8−3.6(6H,m),3.6−4.0(1H,m),5.3−6.8(1H,m),7.20(1H,br),7.38(1H,dd,J=8Hz,J=8Hz),7.5−8.0(3H,m),9.4−10.1(2H,m)。
Reference Example 11
Synthesis of 1-benzo [b] thiophen-4-yl-2-methylpiperazine dihydrochloride 4-benzo [b] thiophen-4-yl-3-methylpiperazine-1-carboxylic acid tert-butyl ester 1.22 g ( 3.7 ml) in dichloromethane (12 ml) was added 6 ml of trifluoroacetic acid and stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, 5% aqueous potassium carbonate solution was added to the residue, and the mixture was extracted with dichloromethane. The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. Concentrated hydrochloric acid (0.6 ml) and methanol (10 ml) were added to the residue, and the mixture was concentrated under reduced pressure. The residue was crystallized from acetonitrile to obtain 0.98 g of 1-benzo [b] thiophen-4-yl-2-methylpiperazine dihydrochloride as a fine brown powder.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ ppm: 0.92 (3H, d, J = 6.5 Hz), 2.8-3.6 (6H, m), 3.6-4.0 (1H, m), 5.3-6.8 (1H, m), 7.20 (1H, br), 7.38 (1H, dd, J = 8 Hz, J = 8 Hz), 7.5-8.0 ( 3H, m), 9.4-10.1 (2H, m).

参考例12
1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−3−メチルピペラジン二塩酸塩の合成
原料化合物として2−メチルピペラジン及び4−ブロモベンゾ[b]チオフェンを用い、参考例9と同様にして標記化合物を得た。
H−NMR(DMSO−d)δppm:1.34(3H,d,J=6.5Hz),2.85−2.95(1H,m),3.05−3.15(1H,m),3.2−3.6(6H,m),6.97(1H,d,J=7.5Hz),7.31(1H,dd,J=8Hz,J=8Hz),7.54(1H,d,J=5.5Hz),7.69(1H,d,J=8Hz),7.75(1H,d,J=5.5Hz),9.2−9.3(1H,m),9.64(1H,br)。
Reference Example 12
Synthesis of 1-benzo [b] thiophen-4-yl-3-methylpiperazine dihydrochloride Using 2-methylpiperazine and 4-bromobenzo [b] thiophene as starting compounds, the title compound was obtained in the same manner as in Reference Example 9. It was.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ ppm: 1.34 (3H, d, J = 6.5 Hz), 2.85-2.95 (1H, m), 3.05-3.15 (1H, m), 3.2-3.6 (6H, m), 6.97 (1H, d, J = 7.5 Hz), 7.31 (1H, dd, J = 8 Hz, J = 8 Hz), 7. 54 (1H, d, J = 5.5 Hz), 7.69 (1H, d, J = 8 Hz), 7.75 (1H, d, J = 5.5 Hz), 9.2-9.3 (1H , M), 9.64 (1H, br).

参考例13
1−(4−クロロブチル)−2−ピロリドンの合成
2−ピロリドン(5.0g、58.7ミリモル)のジメチルホルムアミド溶液(50ml)に氷冷下水素化ナトリウム(60%油性)(2.47g、61.8ミリモル)を加え、同温度で1時間撹拌した。さらに、反応物を室温で1時間撹拌し、これに1−ブロモ−4−クロロブタン(13.5ml、117.3ミリモル)を加え、80℃で2時間撹拌した。
Reference Example 13
Synthesis of 1- (4-chlorobutyl) -2-pyrrolidone To a solution of 2-pyrrolidone (5.0 g, 58.7 mmol) in dimethylformamide (50 ml) under ice-cooling sodium hydride (60% oily) (2.47 g, 61.8 mmol) was added and stirred at the same temperature for 1 hour. Furthermore, the reaction was stirred at room temperature for 1 hour, 1-bromo-4-chlorobutane (13.5 ml, 117.3 mmol) was added thereto, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 2 hours.

この反応液を室温まで冷却し、これに水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この有機層を減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1→酢酸エチル)で精製した。得られた精製物を減圧下に濃縮して淡黄色油状物の1−(4−クロロブチル)−2−ピロリドン(3.88g)を得た。
H−NMR(CDCl)δppm:1.65−1.90(4H,m),2.00−2.10(2H,m),2.39(2H,t,J=8.3Hz),3.32(2H,t,J=7.1Hz),3.39(2H,t,J=7.1Hz),3.58(2H,t,J=6.4Hz)。
The reaction mixture was cooled to room temperature, water was added thereto, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. The organic layer was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 1: 1 → ethyl acetate). The resulting purified product was concentrated under reduced pressure to obtain 1- (4-chlorobutyl) -2-pyrrolidone (3.88 g) as a pale yellow oil.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm: 1.65-1.90 (4H, m), 2.00-2.10 (2H, m), 2.39 (2H, t, J = 8.3 Hz) 3.32 (2H, t, J = 7.1 Hz), 3.39 (2H, t, J = 7.1 Hz), 3.58 (2H, t, J = 6.4 Hz).

適当な原料化合物を用い、上記参考例9−13と同様にして参考例14−40の化合物を合成した。   The compound of Reference Example 14-40 was synthesized in the same manner as in Reference Example 9-13 using an appropriate raw material compound.

Figure 2008115175
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Figure 2008115175
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実施例1
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−N−エチル−アセトアミド塩酸塩の合成
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]エチルアミン270mg(0.85ミリモル)及びトリエチルアミン0.15ml(1.08ミリモル)のジクロロメタン溶液(10ml)に無水酢酸0.10ml(1.06ミリモル)を加え、混合物を室温で1時間撹拌した。反応液に水を加えてジクロロメタンで抽出した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=30:1→9:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣をエタノール2mlに溶解し、得られた溶液に1N−HClエタノール溶液0.85mlを加えた。析出した結晶を濾取し、乾燥して白色粉末のN−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−N−エチル−アセトアミド塩酸塩240mg(収率71%)を得た。
融点198-200℃。
Example 1
Synthesis of N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -N-ethyl-acetamide hydrochloride
N- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] ethylamine 270 mg (0.85 mmol) and triethylamine 0.15 ml (1.08 mmol) in dichloromethane (10 ml ) Was added 0.10 ml (1.06 mmol) of acetic anhydride and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with dichloromethane. The extract was dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane: methanol = 30: 1 → 9: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, the residue was dissolved in 2 ml of ethanol, and 0.85 ml of 1N-HCl ethanol solution was added to the resulting solution. The precipitated crystals were collected by filtration and dried to give 240 mg of white powder of N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -N-ethyl-acetamide hydrochloride ( Yield 71%) was obtained.
Melting point 198-200 ° C.

実施例2
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ベンズアミド塩酸塩の合成
4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチルアミン220mg(0.76ミリモル)及びピリジン0.15ml(1.9ミリモル)のジクロロメタン溶液(5ml)に氷冷下塩化ベンゾイル0.15ml(1.3ミリモル)を加えて同温度で2時間撹拌した。反応液に水を加えてジクロロメタンで抽出し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。洗浄後の抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=30:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣をエタノール2mlに溶解し、得られた溶液に1N−HClエタノール溶液0.8mlを加えた。析出した結晶を濾取、乾燥して白色粉末のN−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ベンズアミド塩酸塩230mg(収率70%)を得た。
融点209-210℃。
Example 2
Synthesis of N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] benzamide hydrochloride 4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazine-1- Yl) To a solution of 220 mg (0.76 mmol) of butylamine and 0.15 ml (1.9 mmol) of pyridine in dichloromethane (5 ml) was added 0.15 ml (1.3 mmol) of benzoyl chloride under ice-cooling and the same temperature for 2 hours. Stir. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with dichloromethane and washed with an aqueous sodium bicarbonate solution. The washed extract was dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane: methanol = 30: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, the residue was dissolved in 2 ml of ethanol, and 0.8 ml of 1N-HCl ethanol solution was added to the resulting solution. The precipitated crystals were collected by filtration and dried to obtain 230 mg (yield 70%) of N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] benzamide hydrochloride as a white powder. Obtained.
Melting point 209-210 ° C.

実施例3
3−アセチルアミノ−N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ベンズアミドの合成
4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチルアミン150mg(0.52ミリモル)及び3−アセトアミド安息香酸110mg(0.61ミリモル)のDMF溶液(3ml)にトリエチルアミン0.15ml(1.06ミリモル)とジエチルホスホロシアニデート(DEPC)0.1ml(0.67ミリモル)とを加え、混合物を室温で1.5時間撹拌した。反応液に水を加え、反応生成物を酢酸エチルで抽出し、水で洗浄した。洗浄後の生成物を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=30:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣をエタノール−ヘキサンから再結晶して淡黄色針状晶の3−アセチルアミノ−N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ベンズアミド170mg(収率73%)を得た。
融点178-180℃。
Example 3
Synthesis of 3-acetylamino-N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] benzamide 4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazine 1-yl) butylamine 150 mg (0.52 mmol) and 3-acetamidobenzoic acid 110 mg (0.61 mmol) in DMF (3 ml) were added triethylamine 0.15 ml (1.06 mmol) and diethylphosphorocyanidate ( DEPC) 0.1 ml (0.67 mmol) was added and the mixture was stirred at room temperature for 1.5 hours. Water was added to the reaction solution, and the reaction product was extracted with ethyl acetate and washed with water. The washed product was dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by basic silica gel column chromatography (dichloromethane: methanol = 30: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, and the residue was recrystallized from ethanol-hexane to give pale yellow needles of 3-acetylamino-N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazine- 170 mg (yield 73%) of 1-yl) butyl] benzamide were obtained.
Melting point 178-180 ° C.

実施例4
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−N−プロピル−アセトアミド塩酸塩の合成
4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチルアミン246mg(0.85ミリモル)のメタノール溶液(7ml)に氷冷下、オルトぎ酸メチル1mlとプロピオンアルデヒド73mg(1.3ミリモル)とを加え、混合物を5分間同温度で撹拌した。得られた液にMP−ボロヒドリド(3.18ミリモル/g)0.4g(1.3ミリモル)を加え、混合物を室温で1時間撹拌した。樹脂をろ別し、濾液を減圧下に濃縮した。残渣をジクロロメタン7mlに溶解し、無水酢酸0.12ml(1.3ミリモル)を加えて室温で1時間撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮して残渣をエタノール2mlに溶解し、得られた溶液に1N−HClエタノール溶液0.3mlを加えた。析出した結晶を濾取、乾燥して白色粉末のN−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−N−プロピル−アセトアミド塩酸塩83mg(収率24%)を得た。
融点198-200℃。
Example 4
Synthesis of N- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -N-propyl-acetamide hydrochloride 4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl -To a solution (7 ml) of 246 mg (0.85 mmol) of piperazin-1-yl) butylamine under ice cooling, 1 ml of methyl orthoformate and 73 mg (1.3 mmol) of propionaldehyde were added, and the mixture was stirred for 5 minutes. Stir at temperature. To the obtained liquid, 0.4 g (1.3 mmol) of MP-borohydride (3.18 mmol / g) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The resin was filtered off and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was dissolved in 7 ml of dichloromethane, 0.12 ml (1.3 mmol) of acetic anhydride was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by basic silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 2: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, the residue was dissolved in 2 ml of ethanol, and 0.3 ml of 1N-HCl ethanol solution was added to the resulting solution. The precipitated crystals were collected by filtration and dried to obtain 83 mg (yield) of white powder of N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -N-propyl-acetamide hydrochloride. 24%).
Melting point 198-200 ° C.

実施例5
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−N−メチル−アセトアミド塩酸塩の合成
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−ホルムアミド166mg(0.52ミリモル)のTHF溶液(15ml)に水素化リチウムアルミニウム50mg(1.04ミリモル)を加え、混合物を2時間加熱還流下に撹拌した。反応液を室温まで冷却し、これに少量の水、メタノール、及びセライトを加え、混合物を5分間撹拌した。セライトろ過し、濾液を減圧下に濃縮した。残渣をジクロロメタン15mlに溶解し、無水酢酸0.074ml(0.78ミリモル)を加え、混合物を室温で1時間撹拌した。反応液に水を加え、反応生成物をジクロロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後の生成物を減圧下に濃縮し、残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:2)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣をエタノール1mlに溶解し、1N−HClエタノール溶液0.2mlを加えた。得られた溶液にエーテルを加えて放置し、析出した結晶を濾取し、乾燥して白色粉末のN−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−N−メチル−アセトアミド塩酸塩58mg(収率29%)を得た。
融点216-217℃。
Example 5
Synthesis of N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -N-methyl-acetamide hydrochloride N- [4- (4-Benzo [b] thiophene- 50 mg (1.04 mmol) of lithium aluminum hydride was added to 166 mg (0.52 mmol) of 4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -formamide in THF (15 ml) and the mixture was heated under reflux for 2 hours. Stir. The reaction solution was cooled to room temperature, a small amount of water, methanol, and celite were added thereto, and the mixture was stirred for 5 minutes. Celite filtration was performed, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was dissolved in 15 ml of dichloromethane, 0.074 ml (0.78 mmol) of acetic anhydride was added and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Water was added to the reaction solution, the reaction product was extracted with dichloromethane, and the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate. The dried product was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by basic silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 2). The purified product was concentrated under reduced pressure, the residue was dissolved in 1 ml of ethanol, and 0.2 ml of 1N-HCl ethanol solution was added. Ether was added to the resulting solution and the mixture was allowed to stand. The precipitated crystals were collected by filtration and dried to give white powder of N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl). 58 mg (yield 29%) of butyl] -N-methyl-acetamide hydrochloride were obtained.
Melting point 216-217 ° C.

実施例6
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−N−フェニル−アセトアミド塩酸塩の合成
N−(4−ブロモブチル)−N−フェニル−アセトアミド367mg(1.35ミリモル)のDMF溶液に4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン塩酸塩288mg(1.13ミリモル)及び炭酸カリウム468mg(3.4ミリモル)を加え、混合物を80℃で3時間撹拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、これに水を加え、反応生成物を酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後の有機層を減圧下に濃縮し、残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣をエタノール5mlに溶解し、1N−HClエタノール溶液1.05mlを加えた。析出した結晶を濾取し、乾燥して白色粉末のN−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−N−フェニル−アセトアミド塩酸塩153mg(収率31%)を得た。
融点216.5-218.0℃。
Example 6
Synthesis of N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -N-phenyl-acetamide hydrochloride N- (4-Bromobutyl) -N-phenyl-acetamide 367 mg To a solution of (1.35 mmol) in DMF was added 288 mg (1.13 mmol) of 4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazine hydrochloride and 468 mg (3.4 mmol) of potassium carbonate, and the mixture was heated at 80 ° C. Stir for 3 hours. The obtained reaction liquid was cooled to room temperature, water was added thereto, and the reaction product was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. The dried organic layer was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by basic silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, the residue was dissolved in 5 ml of ethanol, and 1.05 ml of 1N-HCl ethanol solution was added. The precipitated crystals were collected by filtration and dried to give 153 mg of N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -N-phenyl-acetamide hydrochloride as a white powder ( Yield 31%) was obtained.
Melting point 216.5-218.0 ° C.

実施例7
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−(R)−ピロリジン−2−カルボキサミドの合成
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−(R)−1−(tert−ブトキシカルボニル)ピロリジン−2−カルボキサミド2.01g(4.13ミリモル)のメタノール溶液(5ml)に4N−HCl酢酸エチル溶液10mlを加え、混合物を室温で17時間撹拌した。反応液に水及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて塩基性にし、生成物をジクロロメタンで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮して褐色油状物のN−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−(R)−ピロリジン−2−カルボキサミド1.56g(収率98%)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 1.45-1.63 (4H, m), 1.63-1.80 (2H, m), 1.84-1.94 (1H, m), 2.02-2.26 (1H, m), 2.37-2.56 (2H, m), 2.59-2.79 (4H, m), 2.84-3.06 (2H, m), 3.09-3.23 (4H, m), 3.23-3.37 (2H, m), 3.72 (1H, dd, J=5.3, 9.0 Hz), 6.90 (1H, d, J=7.7 Hz), 7.27 (1H, t, J=7.8 Hz), 7.33-7.44 (2H, m), 7.55 (1H, d, J=8.0) 7.59-7.81 (1H, brs)。
Example 7
Synthesis of N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl]-(R) -pyrrolidine-2-carboxamide
N- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl]-(R) -1- (tert-butoxycarbonyl) pyrrolidine-2-carboxamide 2.01 g (4. 13 ml) in methanol (5 ml) was added 10 ml of 4N-HCl ethyl acetate solution and the mixture was stirred at room temperature for 17 hours. Water and saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution were added to the reaction solution to make it basic, and the product was extracted with dichloromethane. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and then concentrated under reduced pressure to give a brown oily N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl]-(R) -Pyrrolidine-2-carboxamide 1.56g (yield 98%) was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δppm: 1.45-1.63 (4H, m), 1.63-1.80 (2H, m), 1.84-1.94 (1H, m), 2.02-2.26 (1H, m), 2.37- 2.56 (2H, m), 2.59-2.79 (4H, m), 2.84-3.06 (2H, m), 3.09-3.23 (4H, m), 3.23-3.37 (2H, m), 3.72 (1H, dd, J = 5.3, 9.0 Hz), 6.90 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.27 (1H, t, J = 7.8 Hz), 7.33-7.44 (2H, m), 7.55 (1H, d, J = 8.0) 7.59-7.81 (1H, brs).

実施例8
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−(R)−1−(2−アセチルアミノアセチル)ピロリジン−2−カルボキサミドの合成
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−(R)−ピロリジン−2−カルボキサミド288mg(0.745ミリモル)のジクロロメタン溶液(7ml)にN−アセチルグリシン104mg、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩(WSC)214mg(1.11ミリモル)及び1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBT)170mg(1.11ミリモル)を加え、混合物を室温で18時間撹拌した。反応液に水及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて塩基性にし、生成物をジクロロメタンで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=20:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチルから再結晶して白色粉末のN−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−(R)−1−(2−アセチルアミノアセチル)ピロリジン−2−カルボキサミド104mg(収率29%)を得た。
融点125.5-126.5℃。
Example 8
Synthesis of N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl]-(R) -1- (2-acetylaminoacetyl) pyrrolidine-2-carboxamide
N- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl]-(R) -pyrrolidine-2-carboxamide in 288 mg (0.745 mmol) in dichloromethane solution (7 ml) Add 104 mg of N-acetylglycine, 214 mg (1.11 mmol) of 1- (3-dimethylaminopropyl) -3-ethylcarbodiimide hydrochloride (WSC) and 170 mg (1.11 mmol) of 1-hydroxybenzotriazole (HOBT) The mixture was stirred at room temperature for 18 hours. Water and saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution were added to the reaction solution to make it basic, and the product was extracted with dichloromethane. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by basic silica gel column chromatography (ethyl acetate: methanol = 20: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, and the residue was recrystallized from ethyl acetate to give white powder of N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl]-(R ) -1- (2-acetylaminoacetyl) pyrrolidine-2-carboxamide 104 mg (yield 29%) was obtained.
Melting point 125.5-126.5 ° C.

実施例9
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−N−エチル−チオアセトアミド塩酸塩の合成
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−N−エチル−アセトアミド2.23g(6.2ミリモル)のTHF溶液(70ml)にローソン試薬(Lawesson's Reagent)3.01g(7.44ミリモル)を加え、混合物を3時間加熱還流下に撹拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣をエタノール30mlに溶解し、溶液に1N−HClエタノール溶液4.6mlを加えた。エーテル15ml加えて放置し、析出した結晶を濾取し、乾燥して白色粉末のN−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−N−エチル−チオアセトアミド塩酸塩1.47g(収率58%)を得た。
融点224.0−225.5℃。
Example 9
Synthesis of N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -N-ethyl-thioacetamide hydrochloride N- [4- (4-Benzo [b] thiophene -4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -N-ethyl-acetamide 2.23 g (6.2 mmol) in THF (70 ml) Lawesson's Reagent 3.01 g (7.44 mmol) Was added and the mixture was stirred under reflux with heating for 3 hours. The resulting reaction solution was cooled to room temperature and purified by basic silica gel column chromatography. The purified product was concentrated under reduced pressure, the residue was dissolved in 30 ml of ethanol, and 4.6 ml of 1N-HCl ethanol solution was added to the solution. 15 ml of ether was added and the mixture was allowed to stand. The precipitated crystals were collected by filtration, dried and dried as white powder of N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -N— 1.47 g (yield 58%) of ethyl-thioacetamide hydrochloride was obtained.
Melting point 224.0-225.5 [deg.] C.

実施例10
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−N−イソプロピル−チオアセトアミド塩酸塩の合成
出発原料としてN−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−N−イソプロピル−アセトアミドを用い実施例9と同様にして標題化合物を合成した。
白色粉末
融点 217.5−223.5℃。
Example 10
Synthesis of N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -N-isopropyl-thioacetamide hydrochloride As starting material, N- [4- (4-benzo [ b) Thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -N-isopropyl-acetamide was used to synthesize the title compound in the same manner as in Example 9.
White powder melting point 217.5-223.5 ° C.

実施例11
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]エチル−3,3−ジメチル尿素塩酸塩の合成
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]エチルアミン0.5g(1.6ミリモル)及びトリエチルアミン0.33ml(2.4ミリモル)のジクロロメタン溶液(20ml)にN,N−ジメチルカルバモイルクロリド0.2g(1.9ミリモル)を加え、混合物を室温で3日間撹拌した。反応液に水を加え、反応生成物をジクロロメタンで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後の生成物を減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=15:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣をメタノールに溶解し、得られた溶液に0.5N−HClメタノール溶液2.5mlを加え、析出した結晶を濾取し、乾燥して白色粉末の1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]エチル−3,3−ジメチル尿素塩酸塩0.44g(収率66%)を得た。
融点184−186℃。
Example 11
Synthesis of 1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] ethyl-3,3-dimethylurea hydrochloride
N- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] ethylamine 0.5 g (1.6 mmol) and triethylamine 0.33 ml (2.4 mmol) in dichloromethane (20 ml) was added 0.2 g (1.9 mmol) of N, N-dimethylcarbamoyl chloride and the mixture was stirred at room temperature for 3 days. Water was added to the reaction solution, and the reaction product was extracted with dichloromethane. The organic layer was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. The dried product was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane: methanol = 15: 1). The purified product is concentrated under reduced pressure, the residue is dissolved in methanol, and 2.5 ml of 0.5 N HCl methanol solution is added to the resulting solution. The precipitated crystals are collected by filtration, dried and dried with a white powder 1- 0.44 g (66% yield) of [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] ethyl-3,3-dimethylurea hydrochloride was obtained.
Mp 184-186 ° C.

実施例12
1−[2−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)エチル]−3−エチル尿素塩酸塩の合成
2−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)エチルアミン319mg(1.22ミリモル)のジクロロメタン溶液(7ml)にエチルイソシアナート0.125ml(1.58ミリモル)を加え、混合物を室温で1時間撹拌した。反応液を減圧下に濃縮した。残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣をエタノールに溶解し、得られた溶液に1N−HClエタノール溶液0.7mlを加え、冷蔵庫に一夜放置して析出した結晶を濾取し、乾燥して白色粉末の1−[2−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)エチル]−3−エチル尿素塩酸塩126mg(収率28%)を得た。
融点190.5−191.5℃。
Example 12
Synthesis of 1- [2- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) ethyl] -3-ethylurea hydrochloride 2- (4-benzo [b] thiophen-4-yl- To a solution of piperazin-1-yl) ethylamine in 319 mg (1.22 mmol) in dichloromethane (7 ml) was added 0.125 ml (1.58 mmol) of ethyl isocyanate and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction solution was concentrated under reduced pressure. The residue was purified by basic silica gel column chromatography (ethyl acetate). The purified product is concentrated under reduced pressure, the residue is dissolved in ethanol, 0.7 ml of 1N-HCl ethanol solution is added to the resulting solution, and the resulting crystals are left to stand overnight in a refrigerator. 126 mg (yield 28%) of 1- [2- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) ethyl] -3-ethylurea hydrochloride as powder was obtained.
Melting point 190.5-191.5 ° C.

適当な原料化合物を用い、上記実施例1〜12と同様にして実施例13〜1448及び1548〜1585の化合物を製造できる。   The compounds of Examples 13 to 1448 and 1548 to 1585 can be produced in the same manner as in Examples 1 to 12 using an appropriate raw material compound.

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上記実施例において得られた化合物のNMRデータを以下に示す:
実施例14で得られた化合物のNMRのデータ
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 1.50-1.70 (2H, m), 1.70-1.90 (2H, m), 3.10-3.50 (8H, m), 3.50-3.65 (4H, m), 6.96 (1H, d, J=7.5 Hz), 7.31 (1H, t, J=7.9Hz), 7.48 (1H, d, J=5.6 Hz), 7.69 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.76 (1H, d, J=5.5 Hz), 8.09 (2H, dd, J=2.0, 6.9 Hz), 8.32 (2H, dd, J=2.0, 6.9 Hz), 8.9 (1H, m), 10.2 (1H, br)。
The NMR data of the compounds obtained in the above examples are shown below:
NMR data of the compound obtained in Example 14
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δppm: 1.50-1.70 (2H, m), 1.70-1.90 (2H, m), 3.10-3.50 (8H, m), 3.50-3.65 (4H, m), 6.96 ( 1H, d, J = 7.5 Hz), 7.31 (1H, t, J = 7.9 Hz), 7.48 (1H, d, J = 5.6 Hz), 7.69 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.76 (1H, d, J = 5.5 Hz), 8.09 (2H, dd, J = 2.0, 6.9 Hz), 8.32 (2H, dd, J = 2.0, 6.9 Hz), 8.9 (1H, m), 10.2 (1H, br).

実施例28で得られた化合物のNMRのデータ
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 0.90-1.10 (3H, br), 1.40-1.70 (4H, br), 2.03 (3H, s), 3.00-3.70 (14H, m), 6.9 (1H, br), 7.28 (2H, d, J=8.3 Hz), 7.4 (2H, br), 7.61 (2H, d, J=8.6 Hz), 7.7 (2H, br), 10.06 (1H, brs)。
NMR data of the compound obtained in Example 28
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δppm: 0.90-1.10 (3H, br), 1.40-1.70 (4H, br), 2.03 (3H, s), 3.00-3.70 (14H, m), 6.9 (1H, br), 7.28 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.4 (2H, br), 7.61 (2H, d, J = 8.6 Hz), 7.7 (2H, br), 10.06 (1H, brs).

実施例29で得られた化合物のNMRのデータ
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 1.00-1.20 (3H, br), 1.50-1.70 (4H, br), 2.03 (3H, s), 2.50-3.60 (14H, m), 6.80-7.00 (2H, m), 7.10-7.80 (7H, m), 10.03 (1H, brs) 。
NMR data of the compound obtained in Example 29
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δppm: 1.00-1.20 (3H, br), 1.50-1.70 (4H, br), 2.03 (3H, s), 2.50-3.60 (14H, m), 6.80-7.00 ( 2H, m), 7.10-7.80 (7H, m), 10.03 (1H, brs).

実施例114で得られた化合物のNMRのデータ
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 1.00-1.20 (3H, m), 1.50-1.80 (4H, m), 3.00-3.70 (14H, m), 6.97 (1H, d, J=7.5 Hz), 7.25-7.40 (3H, m), 7.48 (1H, t, J=5.9Hz), 7.69 (1H, d, J=8.0 Hz), 7.75 (1H, d, J=5.6 Hz), 8.66 (2H, d, J=5.9 Hz), 10.3 (1H, br) 。
NMR data of the compound obtained in Example 114.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δppm: 1.00-1.20 (3H, m), 1.50-1.80 (4H, m), 3.00-3.70 (14H, m), 6.97 (1H, d, J = 7.5 Hz) , 7.25-7.40 (3H, m), 7.48 (1H, t, J = 5.9Hz), 7.69 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.75 (1H, d, J = 5.6 Hz), 8.66 (2H, d, J = 5.9 Hz), 10.3 (1H, br).

実施例116で得られた化合物のNMRのデータ
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 1.19 (3H, t, J=6.9 Hz ), 1.60-1.75 (4H, m), 3.10-3.60 (14H, m), 6.97 (1H, d, J=7.4 Hz), 7.13 (1H, dd, J=3.7, 5.0 Hz), 7.30-7.35 (1H, m), 7.40-7.45 (1H, m), 7.45-7.50 (1H, m), 7.65-7.80 (3H, m), 10.3 (1H, br) 。
NMR data of the compound obtained in Example 116.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δppm: 1.19 (3H, t, J = 6.9 Hz), 1.60-1.75 (4H, m), 3.10-3.60 (14H, m), 6.97 (1H, d, J = 7.4 Hz), 7.13 (1H, dd, J = 3.7, 5.0 Hz), 7.30-7.35 (1H, m), 7.40-7.45 (1H, m), 7.45-7.50 (1H, m), 7.65-7.80 (3H , m), 10.3 (1H, br).

実施例117で得られた化合物のNMRのデータ
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 1.12 (3H, t, J=7.1 Hz ), 1.55-1.75 (4H, m), 3.00-3.60 (14H, m), 6.66 (1H, dd, J=0.6, 1.7 Hz), 6.96 (1H, d, J=7.7 Hz), 7.30 (1H, t, J=7.9 Hz), 7.45-7.50 (1H, m), 7.65-7.80 (3H, m), 8.01 (1H, s), 10.32 (1H, brs) 。
NMR data of the compound obtained in Example 117
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δppm: 1.12 (3H, t, J = 7.1 Hz), 1.55-1.75 (4H, m), 3.00-3.60 (14H, m), 6.66 (1H, dd, J = 0.6, 1.7 Hz), 6.96 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.30 (1H, t, J = 7.9 Hz), 7.45-7.50 (1H, m), 7.65-7.80 (3H, m), 8.01 ( 1H, s), 10.32 (1H, brs).

実施例119で得られた化合物のNMRのデータ
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 1.02,1.09 (total 3H, t, J=7.0 Hz ), 1.50-1.80 (4H, m), 3.10-3.60 (17H, m), 4.06 (2H, s), 6.95 (1H, d, J=7.5 Hz), 7.30 (1H, t, J=7.8 Hz), 7.47 (1H, d, J=5.6 Hz), 7.69 (1H, d, J=8.0 Hz), 7.75 (1H, d, J=5.5 Hz), 10.5 (1H, br) 。
NMR data of the compound obtained in Example 119
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δppm: 1.02,1.09 (total 3H, t, J = 7.0 Hz), 1.50-1.80 (4H, m), 3.10-3.60 (17H, m), 4.06 (2H, s ), 6.95 (1H, d, J = 7.5 Hz), 7.30 (1H, t, J = 7.8 Hz), 7.47 (1H, d, J = 5.6 Hz), 7.69 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.75 (1H, d, J = 5.5 Hz), 10.5 (1H, br).

実施例138で得られた化合物のNMRのデータ
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 1.78-1.80 (2H, m), 1.84 (3H, s), 1.86-2.10 (4H, m), 2.80-3.01 (2H, m), 3.13-3.30 (15H, m), 3.91 (2H, m), 4.20 (1H, dd, J=8.1, 3.5 Hz), 6.95 (1H, d, J=7.6 Hz), 7.31 (1H, t, J=7.8 Hz), 7.46-7.50 (1H, m), 7.68 (1H, d, J=8.0 Hz), 7.75 (1H, d, J=5.5 Hz), 7.98-8.07 (2H, m) 。
NMR data of the compound obtained in Example 138.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δppm: 1.78-1.80 (2H, m), 1.84 (3H, s), 1.86-2.10 (4H, m), 2.80-3.01 (2H, m), 3.13-3.30 ( 15H, m), 3.91 (2H, m), 4.20 (1H, dd, J = 8.1, 3.5 Hz), 6.95 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.31 (1H, t, J = 7.8 Hz), 7.46-7.50 (1H, m), 7.68 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.75 (1H, d, J = 5.5 Hz), 7.98-8.07 (2H, m).

実施例150で得られた化合物のNMRのデータ
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 1.03,1.12 (total 3H, t, J=7.1 Hz ), 1.50-1.80 (4H, m), 3.00-3.60 (14H, m), 3.91 (2H, s), 6.90-7.00 (1H, m), 7.20-7.50 (4H, m), 7.69 (1H, d, J=8.0 Hz), 7.76 (1H, d, J=5.6 Hz), 7.8 (1H, br), 8.52 (1H, brs), 10.2 (1H, br) 。
NMR data of the compound obtained in Example 150.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δppm: 1.03,1.12 (total 3H, t, J = 7.1 Hz), 1.50-1.80 (4H, m), 3.00-3.60 (14H, m), 3.91 (2H, s ), 6.90-7.00 (1H, m), 7.20-7.50 (4H, m), 7.69 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.76 (1H, d, J = 5.6 Hz), 7.8 (1H, br) , 8.52 (1H, brs), 10.2 (1H, br).

実施例155で得られた化合物のNMRのデータ
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 1.10-1.20 (3H, m), 1.40-1.80 (8H, m), 2.80-3.50 (14H, m), 3.50-3.60 (4H, m), 4.30-4.60 (1H, m), 6.95 (1H, d, J=7.6 Hz), 7.25-7.45 (6H, m), 7.47 (1H, d, J=5.6 Hz), 7.69 (1H, d, J=8.0 Hz), 7.75 (1H, d, J=5.5 Hz), 10.2 (1H, br) 。
NMR data of the compound obtained in Example 155.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δppm: 1.10-1.20 (3H, m), 1.40-1.80 (8H, m), 2.80-3.50 (14H, m), 3.50-3.60 (4H, m), 4.30- 4.60 (1H, m), 6.95 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.25-7.45 (6H, m), 7.47 (1H, d, J = 5.6 Hz), 7.69 (1H, d, J = 8.0 Hz) ), 7.75 (1H, d, J = 5.5 Hz), 10.2 (1H, br).

実施例1435で得られた化合物のNMRのデータ
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 1.07 (6H, t, d=7.0 Hz), 1.11 (3H, t, J=7.0 Hz), 3.12-3.21 (8H, m), 3.28-3.41 (2H, m), 3.47-3.49 (2H, m), 3.54-3.57 (2H, m), 3.63-3.66 (2H, m), 6.98 (1H, d, J=7.6 Hz), 7.32 (1H, d, J=7.8 Hz), 7.48 (1H, d, d=5.5 Hz), 7.70 (1H, d, d=8.0 Hz), 7.77 (1H, d, d=5.4 Hz) 。
NMR data of the compound obtained in Example 1435
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δppm: 1.07 (6H, t, d = 7.0 Hz), 1.11 (3H, t, J = 7.0 Hz), 3.12-3.21 (8H, m), 3.28-3.41 (2H , m), 3.47-3.49 (2H, m), 3.54-3.57 (2H, m), 3.63-3.66 (2H, m), 6.98 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.32 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.48 (1H, d, d = 5.5 Hz), 7.70 (1H, d, d = 8.0 Hz), 7.77 (1H, d, d = 5.4 Hz).

実施例1441で得られた化合物のNMRのデータ
1H-NMR (DMSO-d6) δppm: 1.00-1.10 (9H, m), 1.27-1.29 (2H, m), 1.48-1.50 (2H, m), 1.70-1.75 (2H, m), 3.04-3.20 (8H, m), 3.20-3.25 (4H, m), 3.30-3.34 (2H, m), 3.50-3.60 (4H, m), 6.97 (1H, d, J=8.1 Hz), 7.32 (1H, t, J=6.6 Hz), 7.48-7.49 (1H, m), 7.70 (1H, d, J=7.1 Hz), 7.74-7.80 (1H, m), 10.36 (1H, brs)。
NMR data of the compound obtained in Example 1441.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δppm: 1.00-1.10 (9H, m), 1.27-1.29 (2H, m), 1.48-1.50 (2H, m), 1.70-1.75 (2H, m), 3.04- 3.20 (8H, m), 3.20-3.25 (4H, m), 3.30-3.34 (2H, m), 3.50-3.60 (4H, m), 6.97 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.32 (1H, t, J = 6.6 Hz), 7.48-7.49 (1H, m), 7.70 (1H, d, J = 7.1 Hz), 7.74-7.80 (1H, m), 10.36 (1H, brs).

実施例1449
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−2−ピロリドン二塩酸塩の合成
1−(4−クロロブチル)−2−ピロリドン(150mg、0.85ミリモル)、1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン塩酸塩(240mg、0.94ミリモル)、炭酸カリウム(290mg、2.10ミリモル)及びよう化ナトリウム(170mg、1.13ミリモル)をジメチルホルムアミド(DMF)(3ml)に加え、80℃で6時間撹拌した。この反応液を室温まで冷却し、これに水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥した有機層を減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=30:1→15:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、得られる残渣をエタノール(2ml)に溶解し、濃塩酸(0.15ml)を加えた。得られた溶液を減圧下に濃縮し、残渣をエタノール−酢酸エチルから再結晶して淡褐色粉末の1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−2−ピロリドン二塩酸塩(220mg)を得た。
融点:183.0−185.0℃。
Example 1449
Synthesis of 1- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -2-pyrrolidone dihydrochloride 1- (4-Chlorobutyl) -2-pyrrolidone (150 mg, 0 .85 mmol), 1-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazine hydrochloride (240 mg, 0.94 mmol), potassium carbonate (290 mg, 2.10 mmol) and sodium iodide (170 mg, 1.13 mmol) Was added to dimethylformamide (DMF) (3 ml) and stirred at 80 ° C. for 6 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature, water was added thereto, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. The dried organic layer was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane: methanol = 30: 1 → 15: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, and the resulting residue was dissolved in ethanol (2 ml), and concentrated hydrochloric acid (0.15 ml) was added. The resulting solution was concentrated under reduced pressure, and the residue was recrystallized from ethanol-ethyl acetate to give 1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) as a light brown powder. Butyl] -2-pyrrolidone dihydrochloride (220 mg) was obtained.
Melting point: 183.0-185.0 ° C.

適当な原料化合物を用い、実施例1449と同様にして実施例1462〜1480、1483、1486〜1490、1493〜1513、1515〜1518、1520、1522〜1544及び1586〜1593の化合物を合成した。   The compounds of Examples 1462 to 1480, 1483, 1486 to 1490, 1493 to 1513, 1515 to 1518, 1520, 1522 to 1544, and 1586 to 1593 were synthesized in the same manner as in Example 1449 using appropriate raw material compounds.

実施例1450
4−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−6−メトキシ−3,4−ジヒドロ−2H−ベンゾ[1,4]オキサジン塩酸塩の合成
水素化リチウムアルミニウム(34mg、0.90ミリモル)をテトラヒドロフラン(THF)(2ml)に懸濁し、これに4−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−6−メトキシ−4H−ベンゾ[1,4]オキサジン−3−オン(0.34g、0.75ミリモル)のTHF溶液(5ml)を滴下した。反応液を1時間加熱還流し、室温まで冷却後、氷冷下反応液に水(50μl)、15%水酸化ナトリウム水溶液(50μl)、及び水(150μl)の順に加えて室温で30分撹拌した。得られた溶液をろ過して不溶物を除去し、ろ液を減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1→2:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、得られる残渣を酢酸エチル(5ml)に溶解し、1N−塩酸エタノール(0.11ml)を加えた。生成した不溶物をろ取し、乾燥して白色粉末の4−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−6−メトキシ−3,4−ジヒドロ−2H−ベンゾ[1,4]オキサジン塩酸塩(39mg)を得た。
融点:218.7−219.8℃。
Example 1450
Synthesis of 4- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -6-methoxy-3,4-dihydro-2H-benzo [1,4] oxazine hydrochloride Lithium aluminum hydride (34 mg, 0.90 mmol) was suspended in tetrahydrofuran (THF) (2 ml) to which 4- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) was added. A THF solution (5 ml) of butyl] -6-methoxy-4H-benzo [1,4] oxazin-3-one (0.34 g, 0.75 mmol) was added dropwise. The reaction solution was heated to reflux for 1 hour, cooled to room temperature, and then added with water (50 μl), 15% aqueous sodium hydroxide solution (50 μl), and water (150 μl) in that order under ice cooling and stirred at room temperature for 30 minutes. . The obtained solution was filtered to remove insoluble matters, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 5: 1 → 2: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, and the resulting residue was dissolved in ethyl acetate (5 ml), and 1N-hydrochloric ethanol (0.11 ml) was added. The formed insoluble matter was collected by filtration and dried to give 4- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -6-methoxy-3,4- as white powder. Dihydro-2H-benzo [1,4] oxazine hydrochloride (39 mg) was obtained.
Melting point: 218.7-219.8 [deg.] C.

実施例1451
3−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−6−ヒドロキシ−3H−キナゾリン−4−オン1.5臭化水素酸塩の合成
3−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−6−メトキシ−3H−キナゾリン−4−オン(0.41g、0.91ミリモル)をジクロロメタン(15ml)に溶解し、氷冷下これに2M−三臭化ホウ素ジクロロメタン溶液(1.37ml、2.74ミリモル)を滴下した。得られた反応液を室温で2日間撹拌後、これに水を加えて30分撹拌した。精製した不溶物をろ取し、ろ物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=20:1→10:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮乾固して白色粉末の3−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−6−ヒドロキシ−3H−キナゾリン−4−オン1.5臭化水素酸塩(0.16g)を得た。
融点:249.0−250.2℃。
Example 1451
Synthesis of 3- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -6-hydroxy-3H-quinazolin-4-one 1.5 hydrobromide 3- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -6-methoxy-3H-quinazolin-4-one (0.41 g, 0.91 mmol) in dichloromethane (15 ml 2M-boron tribromide dichloromethane solution (1.37 ml, 2.74 mmol) was added dropwise under ice cooling. The resulting reaction solution was stirred at room temperature for 2 days, water was added thereto, and the mixture was stirred for 30 minutes. The purified insoluble matter was collected by filtration, and the filtrate was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane: methanol = 20: 1 → 10: 1). The purified product was concentrated to dryness under reduced pressure to give 3- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -6-hydroxy-3H-quinazoline-4 as a white powder. -On 1.5 hydrobromide (0.16 g) was obtained.
Melting point: 249.0-250.2 ° C.

実施例1452
2−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]オクタヒドロイソインドール−1−オン塩酸塩の合成
2−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−2,3,3a,4,7,7a−ヘキサヒドロイソインドール−1−オン(0.10g、0.24ミリモル)のエタノール溶液に10%パラジウム炭素0.2gを加え、水素雰囲気下、室温で16時間撹拌した。反応液をセライトろ過し、ろ液を減圧下に濃縮した。残渣を酢酸エチル(5ml)に溶解し、1N−塩酸エタノール(0.24ml)を加えた。生成した不溶物をろ取し、乾燥して白色粉末の2−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]オクタヒドロイソインドール−1−オン塩酸塩(50mg)を得た。
融点:219.7−221.0℃。
Example 1452
Synthesis of 2- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] octahydroisoindol-1-one hydrochloride 2- [4- (4-Benzo [b] Thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -2,3,3a, 4,7,7a-hexahydroisoindol-1-one (0.10 g, 0.24 mmol) in ethanol solution of 10 % Palladium on carbon (0.2 g) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours in a hydrogen atmosphere. The reaction solution was filtered through celite, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was dissolved in ethyl acetate (5 ml), and 1N ethanolic hydrochloric acid (0.24 ml) was added. The produced insoluble matter was collected by filtration and dried to give 2- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] octahydroisoindol-1-one hydrochloric acid as white powder Salt (50 mg) was obtained.
Melting point: 219.7-221.0 [deg.] C.

実施例1453
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−3−(4−ヨードブチル)ピロリジン−2−オン塩酸塩の合成
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ピロリジン−2−オン(500mg、1.40ミリモル)及び1,4−ジヨードブタン(0.35ml、2.65ミリモル)のTHF溶液を氷冷し、窒素雰囲気下、これに1.1M−リチウムヘキサメチルジシラジドTHF溶液(3.2ml、3.52ミリモル)を滴下して加えた。室温で20時間撹拌し、反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、得られる残渣をエタノール(2ml)に溶解し、濃塩酸(0.15ml)を加えた。得られた溶液を減圧下に濃縮し、残渣をエタノール−酢酸エチルから再結晶して淡黄色粉末の1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−3−(4−ヨードブチル)ピロリジン−2−オン塩酸塩(170mg)を得た。
融点:118.0−120.0℃。
Example 1453
Synthesis of 1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -3- (4-iodobutyl) pyrrolidin-2-one hydrochloride 1- [4- (4 -Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] pyrrolidin-2-one (500 mg, 1.40 mmol) and 1,4-diiodobutane (0.35 ml, 2.65 mmol) in THF The solution was ice-cooled, and 1.1 M lithium hexamethyldisilazide THF solution (3.2 ml, 3.52 mmol) was added dropwise thereto under a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at room temperature for 20 hours, an aqueous ammonium chloride solution was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 2: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, and the resulting residue was dissolved in ethanol (2 ml), and concentrated hydrochloric acid (0.15 ml) was added. The resulting solution was concentrated under reduced pressure, and the residue was recrystallized from ethanol-ethyl acetate to give 1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) as a pale yellow powder. Butyl] -3- (4-iodobutyl) pyrrolidin-2-one hydrochloride (170 mg) was obtained.
Melting point: 118.0-120.0 ° C.

実施例1454
2−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−2−アザスピロ[4,4]ノナン−1−オン二塩酸塩の合成
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ピロリジン−2−オン(500mg、1.40ミリモル)及び1,4−ジヨードブタン(0.35ml、2.65ミリモル)のTHF溶液を氷−メタノール浴で冷却し、窒素雰囲気下、これに1.1M−リチウムヘキサメチルジシラジドのTHF溶液(1.9ml、2.09ミリモル)を滴下した。得られた反応液を室温で22時間撹拌した。この反応液を氷−メタノール浴で冷却し、1.1M−リチウムヘキサメチルジシラジドのTHF溶液(1.9ml、2.09ミリモル)を滴下し、室温で19時間撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、得られる残渣をエタノール(2ml)に溶解し、1N−塩酸エタノール(0.19ml)を加えた。生成した不溶物をろ取、乾燥して白色粉末の2−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−2−アザスピロ[4,4]ノナン−1−オン二塩酸塩(20mg)を得た。
融点:217.0−219.0℃。
Example 1454
Synthesis of 2- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -2-azaspiro [4,4] nonan-1-one dihydrochloride 1- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] pyrrolidin-2-one (500 mg, 1.40 mmol) and 1,4-diiodobutane (0.35 ml, 2.65 mmol) Of THF was cooled in an ice-methanol bath, and a solution of 1.1 M lithium hexamethyldisilazide in THF (1.9 ml, 2.09 mmol) was added dropwise thereto under a nitrogen atmosphere. The resulting reaction solution was stirred at room temperature for 22 hours. The reaction solution was cooled in an ice-methanol bath, and a THF solution of 1.1 M lithium hexamethyldisilazide (1.9 ml, 2.09 mmol) was added dropwise, followed by stirring at room temperature for 19 hours. Aqueous ammonium chloride solution was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 4: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, and the resulting residue was dissolved in ethanol (2 ml), and 1N hydrochloric acid ethanol (0.19 ml) was added. The produced insoluble matter was collected by filtration and dried to give 2- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -2-azaspiro [4,4] nonane as a white powder. -1-one dihydrochloride (20 mg) was obtained.
Melting point: 217.0-219.0 [deg.] C.

実施例1455
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ピペラジン−2−オン二塩酸塩の合成
4−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−3−オキソピペラジン−1−カルボン酸 tert−ブチルエステル(280mg、0.59ミリモル)のジクロロメタン溶液(10ml)にトリフルオロ酢酸(1.0ml、13ミリモル)を加え、室温で14時間撹拌した。反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてアルカリ性にし、ジクロロメタンで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=30:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮して残渣をエタノール(2ml)に溶解し、1N−塩酸エタノール(1.2ml)を加えた。生成した不溶物をろ取、乾燥して白色粉末の1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ピペラジン−2−オン二塩酸塩(210mg)を得た。
融点:258.0−260.0℃。
Example 1455
Synthesis of 1- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] piperazin-2-one dihydrochloride 4- [4- (4-Benzo [b] thiophene- 4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -3-oxopiperazine-1-carboxylic acid tert-butyl ester (280 mg, 0.59 mmol) in dichloromethane (10 ml) in trifluoroacetic acid (1.0 ml, 13 Mmol) and stirred at room temperature for 14 hours. The reaction mixture was made alkaline by adding aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and extracted with dichloromethane. The organic layer was washed with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution and then dried over anhydrous sodium sulfate. The residue was purified by basic silica gel column chromatography (dichloromethane: methanol = 30: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, the residue was dissolved in ethanol (2 ml), and 1N-hydrochloric ethanol (1.2 ml) was added. The produced insoluble matter was collected by filtration and dried to give 1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] piperazin-2-one dihydrochloride (210 mg) as a white powder. )
Melting point: 258.0-260.0 ° C.

実施例1456
4−アセチル−1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ピペラジン−2−オン塩酸塩の合成
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ピペラジン−2−オン(260mg、0.70ミリモル)のジクロロメタン溶液(5ml)にトリエチルアミン(0.15ml、1.08ミリモル)を加えた。氷冷下、これに無水酢酸(0.1ml、1.06ミリモル)を加え、室温で2時間撹拌した。反応液に水を加えて30分撹拌し、炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてジクロロメタンで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:酢酸エチル=1:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、得られる残渣をエタノール(2ml)に溶解し、1N−塩酸エタノール(0.6ml)を加えた。生成した不溶物をろ取し、乾燥して白色粉末の4−アセチル−1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ピペラジン−2−オン塩酸塩(220mg)を得た。
融点:215.0−217.0℃。
Example 1456
Synthesis of 4-acetyl-1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] piperazin-2-one hydrochloride 1- [4- (4-Benzo [b Triethylamine (0.15 ml, 1.08 mmol) was added to a solution of thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] piperazin-2-one (260 mg, 0.70 mmol) in dichloromethane (5 ml). Under ice cooling, acetic anhydride (0.1 ml, 1.06 mmol) was added thereto and stirred at room temperature for 2 hours. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was stirred for 30 minutes. Aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added, and the mixture was extracted with dichloromethane. The organic layer was washed with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution and then dried over anhydrous sodium sulfate. The mixture was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by basic silica gel column chromatography (dichloromethane: ethyl acetate = 1: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, and the resulting residue was dissolved in ethanol (2 ml), and 1N hydrochloric acid ethanol (0.6 ml) was added. The resulting insoluble matter was collected by filtration and dried to give white powder of 4-acetyl-1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] piperazin-2-one The hydrochloride (220 mg) was obtained.
Melting point: 215.0-217.0 ° C.

実施例1457
1−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロピル]イミダゾリジン−2−オンの合成
1−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロピル]−3−(2,4−ジメトキシベンジル)イミダゾリジン−2−オン(0.32g、0.65ミリモル)のジクロロメタン溶液(10ml)にトリフルオロ酢酸(1.0ml、13ミリモル)を加え、室温で一夜撹拌した。反応液に水酸化ナトリウム水溶液を加えてアルカリ性にし、ジクロロメタンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた溶液を減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=30:1→10:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣を酢酸エチル−ジエチルエーテルから再結晶して白色粉末の1−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロピル]イミダゾリジン−2−オン(0.10g)を得た。
H−NMR(DMSO−d)δppm:1.60−1.70(2H,m),2.30−2.40(2H,m),2.61(4H,brs),3.00−3.15(6H,m),3.15−3.50(4H,m),6.23(1H,s),6.90(1H,d,J=7.6Hz),7.27(1H,dd,J=7.8Hz,J=7.8Hz),7.40(1H,d,J=5.5Hz),7.61(1H,d,J=7.9Hz),7.69(1H,d,J=5.5Hz)。
Example 1457
Synthesis of 1- [3- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) propyl] imidazolidin-2-one 1- [3- (4-benzo [b] thiophen-4- (Il-piperazin-1-yl) propyl] -3- (2,4-dimethoxybenzyl) imidazolidin-2-one (0.32 g, 0.65 mmol) in dichloromethane (10 ml) in trifluoroacetic acid (1. 0 ml, 13 mmol) was added and stirred at room temperature overnight. The reaction solution was made alkaline by adding an aqueous sodium hydroxide solution, and extracted with dichloromethane. The organic layer was washed with saturated brine and dried over anhydrous sodium sulfate. The resulting solution was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane: methanol = 30: 1 → 10: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, and the residue was recrystallized from ethyl acetate-diethyl ether to give 1- [3- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) propyl] as white powder. Imidazolidin-2-one (0.10 g) was obtained.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ ppm: 1.60-1.70 (2H, m), 2.30-2.40 (2H, m), 2.61 (4H, brs), 3.00 -3.15 (6H, m), 3.15-3.50 (4H, m), 6.23 (1H, s), 6.90 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.27 (1H, dd, J = 7.8 Hz, J = 7.8 Hz), 7.40 (1H, d, J = 5.5 Hz), 7.61 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7. 69 (1H, d, J = 5.5 Hz).

適当な原料化合物を用い、実施例1457と同様にして実施例1514及び1521の化合物を合成した。   The compounds of Examples 1514 and 1521 were synthesized in the same manner as Example 1457 using appropriate raw material compounds.

実施例1458
1−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロピル]−6−オキソ−1,6−ジヒドロピリジン−3−カルボン酸塩酸塩の合成
1−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロピル]−6−オキソ−1,6−ジヒドロピリジン−3−カルボン酸エチルエステル(0.31g、0.73ミリモル)のエタノール溶液(3ml)に6N−水酸化ナトリウム水溶液(1ml)を加え、室温で3日間撹拌した。氷冷下、反応液に6N−塩酸を加え、生成した不溶物をろ取し、乾燥して白色粉末の1−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロピル]−6−オキソ−1,6−ジヒドロピリジン−3−カルボン酸塩酸塩(181mg)を得た。
融点:265.0℃(分解)。
Example 1458
Synthesis of 1- [3- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) propyl] -6-oxo-1,6-dihydropyridine-3-carboxylic acid hydrochloride 1- [3- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) propyl] -6-oxo-1,6-dihydropyridine-3-carboxylic acid ethyl ester (0.31 g, 0.73 mmol) in ethanol To the solution (3 ml) was added 6N-aqueous sodium hydroxide solution (1 ml), and the mixture was stirred at room temperature for 3 days. Under ice-cooling, 6N-hydrochloric acid was added to the reaction mixture, and the resulting insoluble material was collected by filtration and dried to give 1- [3- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazine-1- Yl) propyl] -6-oxo-1,6-dihydropyridine-3-carboxylic acid hydrochloride (181 mg).
Melting point: 265.0 ° C. (decomposition).

実施例1459
1−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロピル]−6−オキソ−1,6−ジヒドロピリジン−3−カルボン酸エチルアミド塩酸塩一水和物の合成
1−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロピル]−6−オキソ−1,6−ジヒドロピリジン−3−カルボン酸(015g、0.35ミリモル)のアセトニトリル溶液(3ml)に氷冷下、トリエチルアミン(0.14ml、1.04ミリモル)及びクロロ炭酸イソブチル(0.07ml、0.52ミリモル)を加え、30分撹拌した。これにエチルアミン水溶液(70%)(0.08ml、0.1ミリモル)を加え、室温で15分撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液を減圧下に濃縮し、残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1→0:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、得られる残渣を酢酸エチルに溶解し、4N−塩酸酢酸エチルを加えた。生成した不溶物をろ取し、乾燥して白色粉末の1−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロピル]−6−オキソ−1,6−ジヒドロピリジン−3−カルボン酸エチルアミド塩酸塩一水和物(71mg)を得た。
融点:135.0−141.5℃。
Example 1459
Synthesis of 1- [3- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) propyl] -6-oxo-1,6-dihydropyridine-3-carboxylic acid ethylamide hydrochloride monohydrate Of 1- [3- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) propyl] -6-oxo-1,6-dihydropyridine-3-carboxylic acid (015 g, 0.35 mmol) Triethylamine (0.14 ml, 1.04 mmol) and isobutyl chlorocarbonate (0.07 ml, 0.52 mmol) were added to an acetonitrile solution (3 ml) under ice cooling, and the mixture was stirred for 30 minutes. To this was added ethylamine aqueous solution (70%) (0.08 ml, 0.1 mmol), and the mixture was stirred at room temperature for 15 minutes. Water was added to the reaction solution, extracted with ethyl acetate, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The obtained solution was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by basic silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 2: 1 → 0: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, the resulting residue was dissolved in ethyl acetate, and 4N-ethyl acetate was added. The formed insoluble matter was collected by filtration and dried to give a white powder of 1- [3- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) propyl] -6-oxo-1,6- Dihydropyridine-3-carboxylic acid ethylamide hydrochloride monohydrate (71 mg) was obtained.
Melting point: 135.0-141.5 ° C.

実施例1460
1−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロピル]−6−オキソ−1,6−ジヒドロピリジン−3−カルボン酸ジメチルアミド塩酸塩の合成
1−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロピル]−6−オキソ−1,6−ジヒドロピリジン−3−カルボン酸(015g、0.35ミリモル)のDMF溶液(3ml)に氷冷下、トリエチルアミン(0.24ml、1.7ミリモル)、ジメチルアミン塩酸塩(0.09g、1.04ミリモル)及びシアノりん酸ジエチル(DEPC)(0.07ml、0.42ミリモル)を加え、室温で一夜撹拌した。反応液にトリエチルアミン(0.24ml、1.7ミリモル)、ジメチルアミン塩酸塩(0.09g、1.04ミリモル)及びシアノりん酸ジエチル(0.07ml、0.42ミリモル)をさらに加え、室温で26時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液を減圧下に濃縮し、得られる残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:1→0:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、得られる残渣を酢酸エチルに溶解し、4N−塩酸酢酸エチルを加えた。生成した不溶物をろ取し、乾燥して白色粉末の1−[3−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)プロピル]−6−オキソ−1,6−ジヒドロピリジン−3−カルボン酸ジメチルアミド塩酸塩(43mg)を得た。
融点:201.5−206.0℃。
Example 1460
Synthesis of 1- [3- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) propyl] -6-oxo-1,6-dihydropyridine-3-carboxylic acid dimethylamide hydrochloride 1- [ 3- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) propyl] -6-oxo-1,6-dihydropyridine-3-carboxylic acid (015 g, 0.35 mmol) in DMF ( 3 ml) under cooling with ice, triethylamine (0.24 ml, 1.7 mmol), dimethylamine hydrochloride (0.09 g, 1.04 mmol) and diethyl cyanophosphate (DEPC) (0.07 ml, 0.42 mmol). ) And stirred overnight at room temperature. To the reaction solution were further added triethylamine (0.24 ml, 1.7 mmol), dimethylamine hydrochloride (0.09 g, 1.04 mmol) and diethyl cyanophosphate (0.07 ml, 0.42 mmol), and at room temperature. Stir for 26 hours. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. The obtained solution was concentrated under reduced pressure, and the resulting residue was purified by basic silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 3: 1 → 0: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, the resulting residue was dissolved in ethyl acetate, and 4N-ethyl acetate was added. The formed insoluble matter was collected by filtration and dried to give a white powder of 1- [3- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) propyl] -6-oxo-1,6- Dihydropyridine-3-carboxylic acid dimethylamide hydrochloride (43 mg) was obtained.
Melting point: 201.5-206.0 ° C.

適当な原料化合物を用い、実施例1460と同様にして実施例1484、1485及び1519の化合物を合成した。   The compounds of Examples 1484, 1485 and 1519 were synthesized in the same manner as in Example 1460 using appropriate raw material compounds.

実施例1461
3−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−2−オキソ−2,3−ジヒドロチアゾール−4−カルボン酸メチルアミド塩酸塩の合成
3−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−2−オキソ−2,3−ジヒドロチアゾール−4−カルボン酸エチルエステル塩酸塩(0.25g、0.52ミリモル)のメタノール溶液(3ml)にメチルアミン水溶液(40%)(3ml)を加え、7時間加熱還流した。室温まで冷却し、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得られる残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1→0:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、得られる残渣を酢酸エチルに溶解し、4N−塩酸酢酸エチルを加えた。生成した不溶物をろ取し、乾燥して白色粉末の3−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−2−オキソ−2,3−ジヒドロチアゾール−4−カルボン酸メチルアミド塩酸塩(181mg)を得た。
融点:137.0−143.5℃(分解)。
Example 1461
Synthesis of 3- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -2-oxo-2,3-dihydrothiazole-4-carboxylic acid methylamide hydrochloride 3- [ 4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -2-oxo-2,3-dihydrothiazole-4-carboxylic acid ethyl ester hydrochloride (0.25 g,. A methylamine aqueous solution (40%) (3 ml) was added to a methanol solution (3 ml) of 52 mmol), and the mixture was heated to reflux for 7 hours. After cooling to room temperature, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and then dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue was purified by basic silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 5: 1 → 0: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, the resulting residue was dissolved in ethyl acetate, and 4N-ethyl acetate was added. The formed insoluble matter was collected by filtration and dried to give 3- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -2-oxo-2,3- Dihydrothiazole-4-carboxylic acid methylamide hydrochloride (181 mg) was obtained.
Melting point: 137.0-143.5 ° C (decomposition).

適当な原料化合物を用い、実施例1461と同様にして実施例1481、1482、1491及び1492の化合物を合成した。   The compounds of Examples 1481, 1482, 1491 and 1492 were synthesized in the same manner as in Example 1461 using appropriate raw material compounds.

上記実施例1462−1544で得られた化合物の化学構造及び理化学的性質を以下の表に示す。   The chemical structure and physicochemical properties of the compounds obtained in Examples 1462-1544 are shown in the following table.

Figure 2008115175
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実施例1545
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ピペリジン−2−チオン塩酸塩の合成
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−2−ピペリドン995mg(2.7ミリモル)のTHF溶液(35ml)にローソン試薬(Lawesson’s Reagent)1.30g(3.2ミリモル)を加え、加熱還流下に、3時間撹拌した。反応液を、室温まで冷却し、塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:2→0:1)で精製した。精製物を減圧下に濃縮し、残渣をエタノールに溶解し、得られた溶液に1N−HClエタノール溶液2.0mlを加えて放置した。析出した結晶をろ取し、乾燥して白色粉末の1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ピペリジン−2−チオン塩酸塩648mg(収率57%)を得た。
融点258.0−260.0℃。
Example 1545
Synthesis of 1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] piperidine-2-thione hydrochloride 1- [4- (4-Benzo [b] thiophene-4 -Ile-piperazin-1-yl) butyl] -2-piperidone 1.95 g (3.2 mmol) of Lawesson's Reagent was added to a THF solution (35 ml) of 995 mg (2.7 mmol) and heated under reflux. For 3 hours. The reaction solution was cooled to room temperature and purified by basic silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 2 → 0: 1). The purified product was concentrated under reduced pressure, the residue was dissolved in ethanol, and 2.0 ml of 1N-HCl ethanol solution was added to the resulting solution and left standing. The precipitated crystals were collected by filtration and dried to give 648 mg (yield) of 1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] piperidine-2-thione hydrochloride as a white powder. 57%) was obtained.
Mp 258.0-260.0 ° C.

実施例1546
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ピロリジン−2−チオンの合成
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−2−ピロリドンを用い、実施例1545と同様にして標記化合物を合成した。
微黄色針状晶(エタノール)
融点122.0−124.0℃。
Example 1546
Synthesis of 1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] pyrrolidin-2-thione 1- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl The title compound was synthesized in the same manner as in Example 1545 using -piperazin-1-yl) butyl] -2-pyrrolidone.
Slightly yellow needles (ethanol)
Melting point 122.0-124.0 ° C.

実施例1547
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]−4−ベンジルピペラジン−2,5−ジオン塩酸塩の合成
1−ベンジル−4−(4−クロロブチル)ピペラジン−2,5−ジオンと1−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン塩酸塩を用い、実施例1449と同様にして標記化合物を合成した。
白色粉末(エタノール−エーテル)
融点220−230℃
H−NMR(DMSO−d)δppm:1.50−1.80(4H,m),3.00−3.60(12H,m),3.87(2H,s),4.07(2H,s),4.52(2H,s),6.95(1H,d,J=7.5Hz),7.20−7.40(6H,m),7.47(1H,d,J=5.5Hz),7.69(1H,d,J=8.0Hz),7.75(1H,d,J=5.5Hz),10.93(1H,brs)。
Example 1547
Synthesis of 1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] -4-benzylpiperazine-2,5-dione hydrochloride 1-Benzyl-4- (4- The title compound was synthesized in the same manner as in Example 1449 using (chlorobutyl) piperazine-2,5-dione and 1-benzo [b] thiophen-4-yl-piperazine hydrochloride.
White powder (ethanol-ether)
Melting point 220-230 ° C
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ ppm: 1.50-1.80 (4H, m), 3.00-3.60 (12H, m), 3.87 (2H, s), 4.07 (2H, s), 4.52 (2H, s), 6.95 (1H, d, J = 7.5 Hz), 7.20-7.40 (6H, m), 7.47 (1H, d , J = 5.5 Hz), 7.69 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.75 (1H, d, J = 5.5 Hz), 10.93 (1H, brs).

Figure 2008115175
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薬理試験1
1)ドパミンD2受容体結合実験
Kohlerらの方法(Kohler C, Hall H, Ogren SO and Gawell L. Specific in vitro and in vivo binding of 3H-raclopride. A potent substituted benzamide drug with high affinity for dopamine D-2 receptors in the rat brain. Biochem. Pharmacol., 1985; 34: 2251-2259)に従って、実験を行った。
Pharmacological test 1
1) Dopamine D 2 receptor binding experiment
Kohler et al. (Kohler C, Hall H, Ogren SO and Gawell L. Specific in vitro and in vivo binding of 3H-raclopride. A potent substituted benzamide drug with high affinity for dopamine D-2 receptors in the rat brain. Biochem. Pharmacol., 1985; 34: 2251-2259).

ウイスター系雄性ラットを断頭し、脳をすみやかに取り出し、線条体を摘出した。組織重量の50倍量の50mMトリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン(トリス)−塩酸 緩衝液(pH:7.4)中で高速回転刃によるホモジナイザーを用いてホモジナイズし、4℃、48,000×gで10分間遠心した。得られた沈渣を再度組織重量の50倍量の上記緩衝液で懸濁し、37℃で10分間インキュベーションした後、上記条件で遠心した。得られた沈渣を組織重量の25倍量の50mMトリス−塩酸緩衝液(120mM NaCl、5mM KCl、2mM CaCl2、1mM MgCl2含有、pH:7.4)で懸濁し、これらを膜標本として結合実験に用いるまで−85℃で凍結保存した。 Wistar male rats were decapitated, the brain was immediately removed, and the striatum was removed. Homogenize in 50 mM Tris (hydroxymethyl) aminomethane (Tris) -hydrochloric acid buffer solution (pH: 7.4) 50 times the tissue weight using a homogenizer with a high-speed rotary blade, 4 ° C., 48,000 × g And centrifuged for 10 minutes. The obtained sediment was suspended again in the above buffer of 50 times the tissue weight, incubated at 37 ° C. for 10 minutes, and then centrifuged under the above conditions. The obtained sediment is suspended in 50 mM Tris-HCl buffer (containing 120 mM NaCl, 5 mM KCl, 2 mM CaCl 2 , 1 mM MgCl 2 , pH: 7.4) 25 times the tissue weight, and these are bound as a membrane specimen. The sample was stored frozen at -85 ° C until used in the experiment.

結合実験は、膜標本40μl、[3H]−ラクロプライド20μl(最終濃度1−2nM)、被験薬物20μl及び50mMトリス−塩酸緩衝液(120mMNaCl、5mM KCl、2mM CaCl2、1mM MgCl2含有、pH:7.4)で全容量200μlにして行った(最終ジメチルスルホキシド濃度1%)。反応は室温で1時間行い、セルハーベスターを用い、グラスファイバー製フィルタープレートに吸引ろ過することにより終了した。グラスファイバー製フィルタープレートを50mMトリス−塩酸緩衝液(pH:7.4)で洗浄した後、乾燥後、マイクロプレート液体シンチレーションカクテルを加えて、マイクロプレートシンチレーションカウンターで放射活性を測定した。10μM(+)−塩酸ブタクラモール存在下での放射活性を非特異結合とした。 Binding experiments consisted of 40 μl membrane specimen, 20 μl [ 3 H] -Raclopride (final concentration 1-2 nM), 20 μl test drug and 50 mM Tris-HCl buffer (120 mM NaCl, 5 mM KCl, 2 mM CaCl 2 , 1 mM MgCl 2 , pH 7.4) with a total volume of 200 μl (final dimethyl sulfoxide concentration 1%). The reaction was carried out at room temperature for 1 hour and terminated by suction filtration using a cell harvester onto a glass fiber filter plate. The glass fiber filter plate was washed with 50 mM Tris-HCl buffer (pH: 7.4), dried, then added with a microplate liquid scintillation cocktail, and the radioactivity was measured with a microplate scintillation counter. Nonspecific binding was defined as radioactivity in the presence of 10 μM (+)-butaclamol hydrochloride.

IC50値は、濃度依存性反応から非線形解析プログラムを用いて算出した。Ki値は、Cheng-Prussoff 式を用いてIC50値から算出した。結果を次表に示す。 IC 50 values were calculated from concentration-dependent reactions using a non-linear analysis program. Ki values were calculated from IC 50 values using the Cheng-Prussoff equation. The results are shown in the following table.

Figure 2008115175
Figure 2008115175

2)セロトニン5−HT2A受容体結合実験
Leysen JEらの方法(Leysen JE, Niemegeers CJE, Van Nueten JM, and Laduron PM. [3H]Ketanserin (R 41 468), a selective 3H-ligand for serotonin 2 receptor binding sites. Mol. Pharmacol., 1982; 21: 301-314)に従って、実験を行った。
2) Serotonin 5-HT 2A receptor binding experiment
Leysen JE et al. (Leysen JE, Niemegeers CJE, Van Nueten JM, and Laduron PM. [3H] Ketanserin (R 41 468), a selective 3H-ligand for serotonin 2 receptor binding sites. Mol. Pharmacol., 1982; 21 : 301-314).

ウイスター系雄性ラットを断頭し、脳をすみやかに取り出し、前頭皮質を摘出した。組織重量の10倍量の0.25Mショ糖中でテフロン(登録商標)ガラスホモジナイザーを用いてホモジナイズし、4℃、1,000×gで10分間遠心した。得られた上清を別の遠心管に移し、沈渣を組織重量の5倍量の0.25Mショ糖で懸濁し、上記条件で遠心した。得られた上清を先に得られた上清と合わせ50mMトリス−塩酸緩衝液(pH:7.4)で組織重量の40倍量に調製し、4℃、35,000×gで10分間遠心した。得られた沈渣を再度組織重量の40倍量の上記緩衝液で懸濁し、上記条件で遠心した。得られた沈渣を組織重量の20倍量の上記緩衝液で懸濁し、これらを膜標本として結合実験に用いるまで−85℃で凍結保存した。   Wistar male rats were decapitated, the brain was immediately removed, and the frontal cortex was removed. The tissue was homogenized using a Teflon (registered trademark) glass homogenizer in 0.25 M sucrose of 10 times the tissue weight, and centrifuged at 4 ° C. and 1,000 × g for 10 minutes. The obtained supernatant was transferred to another centrifuge tube, and the sediment was suspended in 0.25M sucrose, which is 5 times the tissue weight, and centrifuged under the above conditions. The obtained supernatant was combined with the previously obtained supernatant and adjusted to a volume 40 times the tissue weight with 50 mM Tris-HCl buffer (pH: 7.4), and 10 minutes at 4 ° C. and 35,000 × g. Centrifuged. The obtained sediment was suspended again in the buffer solution 40 times the tissue weight and centrifuged under the above conditions. The obtained sediment was suspended in the above buffer solution having an amount 20 times the weight of the tissue, and these were frozen and stored at −85 ° C. until used as a membrane specimen for binding experiments.

結合実験は、膜標本40μl、[3H]−ケタンセリン20μl(最終濃度1−3nM)、被験薬物20μl及び50mMトリス−塩酸緩衝液(pH:7.4)で全容量200μlにして行った(最終ジメチルスルホキシド濃度1%)。反応は37℃で20分間行い、セルハーベスターを用い、グラスファイバー製フィルタープレートに吸引ろ過することにより終了した。 The binding experiment was performed with a membrane sample of 40 μl, [ 3 H] -ketanserin 20 μl (final concentration 1-3 nM), a test drug 20 μl, and 50 mM Tris-HCl buffer (pH: 7.4) in a total volume of 200 μl (final) Dimethyl sulfoxide concentration 1%). The reaction was performed at 37 ° C. for 20 minutes and terminated by suction filtration through a glass fiber filter plate using a cell harvester.

グラスファイバー製フィルタープレートを50mMトリス−HCl緩衝液(pH:7.4)で洗浄した後、乾燥後、マイクロプレート液体シンチレーションカクテルを加えて、マイクロプレートシンチレーションカウンターで放射活性を測定した。10μMスピペロン存在下での放射活性を非特異結合とした。   The glass fiber filter plate was washed with 50 mM Tris-HCl buffer (pH: 7.4), dried, then added with a microplate liquid scintillation cocktail, and the radioactivity was measured with a microplate scintillation counter. Radioactivity in the presence of 10 μM spiperone was defined as nonspecific binding.

IC50値は、濃度依存性反応から非線形解析プログラムを用いて算出した。Ki値は、Cheng-Prussoff 式を用いてIC50値から算出した。結果を次表に示す。 IC 50 values were calculated from concentration-dependent reactions using a non-linear analysis program. Ki values were calculated from IC 50 values using the Cheng-Prussoff equation. The results are shown in the following table.

Figure 2008115175
Figure 2008115175

ヒト型ドパミンD2受容体発現チャイニーズハムスター卵巣/DHFR(−)細胞を培地(イスコブ修飾ダルベッコ培地(IMDM培地),10%牛胎仔血清,50I.U./ml ペニシリン,50μg/ml ストレプトマイシン,200μg/ml ジェネティシン,0.1mM ヒポキサンチンナトリウム,16μM チミジン)中、37℃、5%炭酸ガス条件で培養した。ポリ−L−リジン塗布された96穴マイクロプレートに104細胞/ウェルの細胞を播き,2日間同条件下で培養した。各ウェルを洗浄液100μl(IMDM培地,0.1mMヒポキサンチンナトリウム,16μMチミジン)で洗浄し、試験化合物3μMを溶解した試験化合物添加培地50μl(IMDM培地,0.1%アスコルビン酸ナトリウム,0.1mMヒポキサンチンナトリウム,16μMチミジン)に置換した。37℃、5%炭酸ガス条件で20分静置した後、同試験化合物3μMを溶解した試験化合物添加フォルスコリン刺激培地100μl(IMDM培地,0.1%アスコルビン酸ナトリウム,0.1mMヒポキサンチンナトリウム,16μMチミジン,10μMフォルスコリン,500μM3−イソブチル−1−メチルキサンチン)に置換し、37℃、5%炭酸ガス条件で10分間静置した。培地を除去後、リシス(Lysis)1B水溶液200μl(アマシャムバイオサイエンス サイクリックAMP バイオトラック エンザイムイムノアッセイシステム添付試薬)を分注し、約10分間振盪した。各ウェル中の水溶液を測定サンプルとした。4倍希釈した測定サンプルを上記エンザイムイムノアッセイシステムを用いてサイクリックAMP量の測定を行った。試験化合物を加えていないウェルのサイクリックAMP量を100%として各試験化合物の抑制率を計算した。この実験系において、対照薬として用いたドパミンは最大活性として、サイクリックAMP量を約10%まで抑制した。 Human dopamine D 2 receptor-expressing Chinese hamster ovary / DHFR (−) cells in medium (Iscob modified Dulbecco medium (IMDM medium), 10% fetal calf serum, 50 IU / ml penicillin, 50 μg / ml streptomycin, 200 μg / ml geneticin, 0.1 mM sodium hypoxanthine, 16 μM thymidine) at 37 ° C. and 5% carbon dioxide gas. 10 4 cells / well of cells were seeded in a 96-well microplate coated with poly-L-lysine and cultured under the same conditions for 2 days. Each well was washed with 100 μl of washing solution (IMDM medium, 0.1 mM sodium hypoxanthine, 16 μM thymidine), and 50 μl of test compound-supplemented medium in which 3 μM of the test compound was dissolved (IMDM medium, 0.1% sodium ascorbate, 0.1 mM hypopoxin). (Xanthine sodium, 16 μM thymidine). After standing at 37 ° C. and 5% carbon dioxide for 20 minutes, 100 μl of test compound-added forskolin-stimulated medium in which 3 μM of the same test compound was dissolved (IMDM medium, 0.1% sodium ascorbate, 0.1 mM sodium hypoxanthine, 16 μM thymidine, 10 μM forskolin, 500 μM 3-isobutyl-1-methylxanthine) and allowed to stand at 37 ° C. under 5% carbon dioxide for 10 minutes. After removing the medium, 200 μl of Lysis 1B aqueous solution (Amersham Biosciences Cyclic AMP Biotrac Enzyme Immunoassay System attached reagent) was dispensed and shaken for about 10 minutes. The aqueous solution in each well was used as a measurement sample. Using the enzyme immunoassay system, a cyclic AMP amount was measured on a measurement sample diluted 4-fold. The inhibition rate of each test compound was calculated with the amount of cyclic AMP in a well to which no test compound was added as 100%. In this experimental system, dopamine used as a control drug suppressed the amount of cyclic AMP to about 10% as the maximum activity.

上記試験において、試験化合物がドパミンD2受容体に対するパーシャルアゴニスト性を有していることを確認した。 In the above test, it was confirmed that the test compound has a partial agonistic property to the dopamine D 2 receptor.

試験化合物がドパミンD2受容体に対するパーシャルアゴニスト性を有していることにより、統合失調症患者においてドパミン神経伝達を正常な状態へ安定化させることができ、その結果、副作用を発現することなく、例えば陽性及び陰性症状改善作用、認知障害改善作用等の臨床改善作用を発現することができる。 Since the test compound has a partial agonistic property with respect to the dopamine D 2 receptor, dopamine neurotransmission can be stabilized in a normal state in a schizophrenic patient, and as a result, without causing side effects, For example, clinical improvement effects such as positive and negative symptom improvement effects and cognitive impairment improvement effects can be exhibited.

製剤例
本発明の化合物100g、アビセル(商標名、旭化成(株)製)40g、コーンスターチ30g及びステアリン酸マグネシウム2gを混合研磨後、糖衣R10mmのキネで打錠した。
Formulation Example 100 g of the compound of the present invention, 40 g of Avicel (trade name, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), 30 g of corn starch and 2 g of magnesium stearate were mixed and polished, and tableted with a sugar coated R10 mm kine.

得られた錠剤をTC−5(商標名、信越化学工業(株)製、ヒドロキシプロピルメチルセルロース)10g、ポリエチレングルコール6000 3g、ひまし油40g及び適量のエタノールからなるフィルムコーテイング剤を用いて皮膜を行い、上記組成のフイルムコーテイング錠を製造した。   The obtained tablets were coated with a film coating agent consisting of 10 g of TC-5 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., hydroxypropylmethylcellulose), 3 g of polyethylene glycol 6000, 40 g of castor oil, and an appropriate amount of ethanol. A film coating tablet having the above composition was produced.

Claims (6)

一般式(1):
Figure 2008115175
[式中、Qは、下記一般式(I)で示される基または一般式(II)で示される基を示す。
一般式(I):
Figure 2008115175
(式中、Aは低級アルキレン基を示す。
ZはOまたはSを示す。
11
(1-1)水素、
(1-2)低級アルキル基、
(1-3)フェニル基、ナフチル基及びジヒドロインデニル基からなる群から選ばれたアリール基(ここで、アリール基上に置換基として下記(i)〜(xxxiii)からなる群から選ばれた少なくとも1つの基が置換していてもよい:
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルケニル基、
(iii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iv)低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(vi)ニトロ基、
(vii)シアノ基、
(viii)ハロゲン、
(ix)アリール基、
(x)アリールオキシ基、
(xi)低級アルコキシカルボニル基、
(xii)ヒドロキシ基、
(xiii)保護されたヒドロキシ基、
(xiv)低級アルカノイル基、
(xv)スルファモイル基、
(xvi)低級アルキルチオ基、
(xvii)低級アルキルスルホニル基、
(xviii)ヒドロキシスルホニル基、
(xix)低級アルキル基、低級アルカノイル基、シクロC3−C8アルキル基、アリール基及びアロイル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアミノ基、
(xx)モルホリニルカルボニル低級アルケニル基、
(xxi)モルホリニルカルボニル低級アルキル基、
(xxii)ピロリル基、
(xxiii)ピラゾリル基、
(xxiv)イミダゾリル基、
(xxv)トリアゾリル基、
(xxvi)ピリジル基、
(xxvii)オキソ基を有していてもよいピロリジニル基、
(xxviii)モルホリニル基、
(xxix)チオモルホリニル基、
(xxx)低級アルキニル基、
(xxxi)シクロC3−C8アルキル基、
(xxxii)グアニジノ基、
(xxxiii)オキソ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいジヒドロピラゾリル基)、
(1-4)複素環基(ここで、複素環基上に置換基として下記(i)〜(xix)からなる群から選ばれた少なくとも1つの基が置換していてもよい:
(i)低級アルキル基、
(ii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iii)低級アルコキシ基、
(iv)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン、
(vi)アリール基上に、ハロゲン及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール基、
(vii)ハロゲンを有していてもよいアリール低級アルキル基、
(viii)低級アルカノイル基、
(ix)アロイル基、
(x)アミノ基上に、低級アルカノイル基を有していてもよいアミノ低級アルカノイル基、
(xi)低級アルキルチオ基、
(xii)ピロリル基、
(xiii)オキソ基、
(xiv)チオキソ基、
(xv)カルバモイル基、
(xvi)ヒドロキシ基、
(xvii)ピラニル基、
(xviii)チエニル基、
(xix)フリル基)、
(1-5)アミノ基上及び/または低級アルキル基上に、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル低級アルキル基、インドリルカルボニル基、アリール基(当該アリール基上に、ハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる基を有していてもよい)及びアリール低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(1-6)低級アルコキシ低級アルキル基、
(1-7)アロイル低級アルキル基、
(1-8)アリール基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール低級アルキル基、
(1-9)アリール基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及びシアノ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリールオキシ低級アルキル基、
(1-10)アダマンチル低級アルキル基
(1-11)アリール基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルキル基を有していてもよいアミノ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール低級アルケニル基、
(1-12)低級アルキル基を有していてもよいアミノ基;低級アルキル基を有していてもよいアミノ低級アルキル基ならびにハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール基からなる群から選ばれる基を有していてもよいシクロC3−C8アルキル基、
(1-13)シクロC3−C8アルキル低級アルキル基、
(1-14)アリールチオ低級アルキル基、
(1-15)ピペリジル基、テトラヒドロピラニル基、ピリジル基、チエニル基、イミダゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソインドリル基、チアゾリジニル基及びインドリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基(ここで、複素環基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン、オキソ基及びチオキソ基からなる群から選ばれる基を有していてもよい)、
(1-16)アリール低級アルケニル基(低級アルケニル基上にアリール基を有していてもよい)、
(1-17)ベンゾジオキソリル基、ピリジル基、フリル基及びイミダゾリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルケニル基、
(1-18)ベンゾジオキソリルオキシ低級アルキル基、
(1-19)ピリジルチオ低級アルキル基、または
(1-20)低級アルキル基を有していてもよいアミノ基
を示す。
12は、
(2-1)水素、
(2-2)低級アルキル基、
(2-3)ハロゲン置換低級アルキル基、
(2-4)低級アルケニル基、
(2-5)低級アルキニル基、
(2-6)低級アルカノイル基、
(2-7)ヒドロキシ低級アルキル基、
(2-8)低級アルコキシ低級アルキル基、
(2-9)シクロC3−C8アルキル基、
(2-10)シクロC3−C8アルキル低級アルキル基、
(2-11)アリール基、
(2-12)アリール基上に、低級アルキル基を有していてもよいアミノ基及びアリールオキシ基からなる群から選ばれる基を有していてもよいアリール低級アルキル基、
(2-13)テトラヒドロフリル基、
(2-14)フリル基及びピリジル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基、
(2-15)テトラヒドロピラニル基または
(2-16)低級アルカノイルオキシ低級アルキル基
を示す。)
一般式(II):
21−A− (II)
(式中、−A−は低級アルキレン基、低級アルケニレン基または基−A21−O−A22−を示す。
ここで、A21及びA22は、同一または異なって、C1−C5アルキレン基を示す。但し、A21のアルキレン基及びA22のアルキレン基を構成する炭素原子の総数は6を超えないものとする。
21はN−含有複素環基を示す:
ここで、上記R21で示されるN−含有複素環上には、下記(1)〜(13)からなる群から選ばれた少なくとも1つの基が置換していてもよい:
(1)ハロゲン置換または未置換低級アルキル基
(2)低級アルケニル基
(3)低級アルコキシ基
(4)ヒドロキシ基
(5)保護されたヒドロキシ基
(6)アリール基
(7)低級アルカノイル基
(8)カルボキシ基
(9)低級アルコキシカルボニル基
(10)低級アルキル基を有していてもよいカルバモイル基
(11)アリール低級アルキル基(ここで、アリール基上には低級アルコキシ基を有していてもよい)
(12)オキソ基
(13)チオキソ基)]
で表される複素環化合物またはその塩。
General formula (1):
Figure 2008115175
[Wherein, Q represents a group represented by the following general formula (I) or a group represented by the general formula (II).
Formula (I):
Figure 2008115175
(In the formula, A 1 represents a lower alkylene group.
Z represents O or S.
R 11 is (1-1) hydrogen,
(1-2) a lower alkyl group,
(1-3) an aryl group selected from the group consisting of a phenyl group, a naphthyl group and a dihydroindenyl group (wherein the aryl group was selected from the group consisting of (i) to (xxxiii) below as a substituent At least one group may be substituted:
(i) a lower alkyl group,
(ii) a lower alkenyl group,
(iii) a halogen-substituted lower alkyl group,
(iv) a lower alkoxy group,
(v) a halogen-substituted lower alkoxy group,
(vi) a nitro group,
(vii) a cyano group,
(viii) halogen,
(ix) an aryl group,
(x) an aryloxy group,
(xi) a lower alkoxycarbonyl group,
(xii) a hydroxy group,
(xiii) a protected hydroxy group,
(xiv) a lower alkanoyl group,
(xv) sulfamoyl group,
(xvi) a lower alkylthio group,
(xvii) a lower alkylsulfonyl group,
(xviii) hydroxysulfonyl group,
(xix) an amino group optionally having a group selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkanoyl group, a cyclo C3-C8 alkyl group, an aryl group and an aroyl group;
(xx) morpholinylcarbonyl lower alkenyl group,
(xxi) morpholinylcarbonyl lower alkyl group,
(xxii) pyrrolyl group,
(xxiii) pyrazolyl group,
(xxiv) an imidazolyl group,
(xxv) triazolyl group,
(xxvi) pyridyl group,
(xxvii) an pyrrolidinyl group optionally having an oxo group,
(xxviii) morpholinyl group,
(xxix) thiomorpholinyl group,
(xxx) a lower alkynyl group,
(xxxi) a cyclo C3-C8 alkyl group,
(xxxii) guanidino group,
(xxxiii) a dihydropyrazolyl group optionally having a group selected from the group consisting of an oxo group and a lower alkyl group),
(1-4) Heterocyclic group (here, at least one group selected from the group consisting of the following (i) to (xix) may be substituted as a substituent on the heterocyclic group:
(i) a lower alkyl group,
(ii) a halogen-substituted lower alkyl group,
(iii) a lower alkoxy group,
(iv) a halogen-substituted lower alkoxy group,
(v) halogen,
(vi) an aryl group optionally having a group selected from the group consisting of halogen and halogen-substituted lower alkyl groups on the aryl group;
(vii) aryl lower alkyl group optionally having halogen,
(viii) a lower alkanoyl group,
(ix) aroyl group,
(x) an amino lower alkanoyl group optionally having a lower alkanoyl group on the amino group,
(xi) a lower alkylthio group,
(xii) pyrrolyl group,
(xiii) an oxo group,
(xiv) a thioxo group,
(xv) a carbamoyl group,
(xvi) a hydroxy group,
(xvii) pyranyl group,
(xviii) thienyl group,
(xix) furyl group),
(1-5) On an amino group and / or a lower alkyl group, a lower alkyl group, a lower alkanoyl group, a hydroxy lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl lower alkyl group, an indolylcarbonyl group, an aryl group (the aryl group) An amino lower alkyl group optionally having a group selected from the group consisting of a halogen and a lower alkoxy group) and an aryl lower alkoxycarbonyl group;
(1-6) a lower alkoxy lower alkyl group,
(1-7) an aroyl lower alkyl group,
(1-8) an aryl lower alkyl group which may have a group selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a hydroxy group, a halogen and a nitro group on the aryl group;
(1-9) an aryloxy lower alkyl group which may have a group selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen and a cyano group on the aryl group;
(1-10) adamantyl lower alkyl group (1-11) amino optionally having a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen-substituted lower alkyl group, a halogen-substituted lower alkoxy group or a lower alkyl group on the aryl group An aryl lower alkenyl group optionally having a group selected from the group consisting of a group, a halogen and a nitro group,
(1-12) an amino group optionally having a lower alkyl group; an amino lower alkyl group optionally having a lower alkyl group, and a group selected from the group consisting of a halogen and a lower alkyl group; A cyclo C3-C8 alkyl group optionally having a group selected from the group consisting of aryl groups,
(1-13) a cyclo C3-C8 alkyl lower alkyl group,
(1-14) arylthio lower alkyl group,
(1-15) Lower alkyl substituted with a heterocyclic group selected from the group consisting of piperidyl group, tetrahydropyranyl group, pyridyl group, thienyl group, imidazolyl group, tetrazolyl group, benzimidazolyl group, isoindolyl group, thiazolidinyl group and indolyl group A group (which may have a group selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen, an oxo group and a thioxo group on the heterocyclic group),
(1-16) aryl lower alkenyl group (which may have an aryl group on the lower alkenyl group),
(1-17) a lower alkenyl group substituted with a heterocyclic group selected from the group consisting of a benzodioxolyl group, a pyridyl group, a furyl group, and an imidazolyl group,
(1-18) benzodioxolyloxy lower alkyl group,
(1-19) A pyridylthio lower alkyl group, or (1-20) an amino group optionally having a lower alkyl group.
R 12 is
(2-1) Hydrogen,
(2-2) a lower alkyl group,
(2-3) a halogen-substituted lower alkyl group,
(2-4) a lower alkenyl group,
(2-5) a lower alkynyl group,
(2-6) lower alkanoyl group,
(2-7) hydroxy lower alkyl group,
(2-8) a lower alkoxy lower alkyl group,
(2-9) a cyclo C3-C8 alkyl group,
(2-10) cyclo C3-C8 alkyl lower alkyl group,
(2-11) aryl group,
(2-12) an aryl lower alkyl group which may have a group selected from the group consisting of an amino group and an aryloxy group which may have a lower alkyl group on the aryl group;
(2-13) tetrahydrofuryl group,
(2-14) a lower alkyl group substituted by a heterocyclic group selected from the group consisting of a furyl group and a pyridyl group,
(2-15) represents a tetrahydropyranyl group or (2-16) a lower alkanoyloxy lower alkyl group. )
General formula (II):
R 21 -A 2- (II)
(In the formula, —A 2 — represents a lower alkylene group, a lower alkenylene group or a group —A 21 —O—A 22 —.
Here, A 21 and A 22 are the same or different and each represents a C1-C5 alkylene group. However, the total number of carbon atoms constituting the alkylene group of A 21 and the alkylene group of A 22 does not exceed 6.
R 21 represents an N-containing heterocyclic group:
Here, on the N-containing heterocyclic ring represented by R 21 , at least one group selected from the group consisting of the following (1) to (13) may be substituted:
(1) halogen-substituted or unsubstituted lower alkyl group (2) lower alkenyl group (3) lower alkoxy group (4) hydroxy group (5) protected hydroxy group (6) aryl group (7) lower alkanoyl group (8) Carboxy group (9) lower alkoxycarbonyl group (10) carbamoyl group optionally having lower alkyl group (11) aryl lower alkyl group (wherein the aryl group may have a lower alkoxy group) )
(12) Oxo group (13) Thioxo group)]
Or a salt thereof.
Qが、下記一般式(I)で示される基:
Figure 2008115175
[式中、Aは低級アルキレン基を示す。
ZはOまたはSを示す。
11
(1-1)水素、
(1-2)低級アルキル基、
(1-3 a)フェニル基、ナフチル基及びジヒドロインデニル基からなる群から選ばれたアリール基(ここで、アリール基上に置換基として下記(i)〜(viii)、(ix a)、(x a)、(xii)、(xiii a)、(xiv)〜(xviii)、(xix a)、(xx)〜(xxvi)、(xxvii a)、及び(xxviii)〜(xxxiii)からなる群から選ばれた基を1〜3個置換していてもよい:
(i)低級アルキル基、
(ii)低級アルケニル基、
(iii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iv)低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(vi)ニトロ基、
(vii)シアノ基、
(viii)ハロゲン、
(ix a)フェニル基、
(x a)フェノキシ基、
(xi)低級アルコキシカルボニル基、
(xii)ヒドロキシ基、
(xiii a)低級アルカノイルオキシ基またはフェニル基上にハロゲンを1〜3個有していてもよいフェニル低級アルコキシ基、
(xiv)低級アルカノイル基、
(xv)スルファモイル基、
(xvi)低級アルキルチオ基、
(xvii)低級アルキルスルホニル基、
(xviii)ヒドロキシスルホニル基、
(xix a)低級アルキル基、低級アルカノイル基、シクロC3−C8アルキル基、フェニル基及びベンゾイル基からなる群から選ばれる基を1〜2個有していてもよいアミノ基、
(xx)モルホリニルカルボニル低級アルケニル基、
(xxi)モルホリニルカルボニル低級アルキル基、
(xxii)ピロリル基、
(xxiii)ピラゾリル基、
(xxiv)イミダゾリル基、
(xxv)トリアゾリル基、
(xxvi)ピリジル基、
(xxvii a)オキソ基を1〜2個有していてもよいピロリジニル基、
(xxviii)モルホリニル基、
(xxix)チオモルホリニル基、
(xxx)低級アルキニル基、
(xxxi)シクロC3−C8アルキル基、
(xxxii)グアニジノ基、
(xxxiii)1個のオキソ基及び1個の低級アルキル基を有するジヒドロピラゾリル基)、
(1-4 a)ピロリジニル、ピペリジル、チアゾリジニル、テトラヒドロピラニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ジヒドロピラゾリル、ピリジル、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピリミジニル、ピラジニル、チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チエニル、フリル、インドリル、インドリニル、イソインドリニル、ベンゾイミダゾリル、イミダソピリジルキノリル、ジヒドロキノリル、テトラヒドロキノリル、イソキノリル、シノリニル、インダゾリル、キノキサリニル、ベンゾトリアゾリル、ジヒドロナフチリジル、ベンゾチアゾリル、ジヒドロベンゾチアゾリル、ジヒドロベンゾチアジニル、チエノピラジニル、ベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサジニル、フロピロリル、ベンゾジオキソリル、ジヒドロベンゾジオキシニル及びベンゾチエニルからなる群から選ばれる複素環基(ここで、複素環基上に置換基として下記(i)〜(v)、(vi a)、(vii a)、(viii)、(ix a)、(x a)及び(xi)〜(xix)からなる群から選ばれた基が1〜3個置換していてもよい:
(i)低級アルキル基、
(ii)ハロゲン置換低級アルキル基、
(iii)低級アルコキシ基、
(iv)ハロゲン置換低級アルコキシ基、
(v)ハロゲン、
(vi a)フェニル基上に、ハロゲン及びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよいフェニル基、
(vii a)ハロゲンを1〜3個有していてもよいフェニル低級アルキル基、
(viii)低級アルカノイル基、
(ix a)ベンゾイル基、
(x a)アミノ基上に、低級アルカノイル基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルカノイル基、
(xi)低級アルキルチオ基、
(xii)ピロリル基、
(xiii)オキソ基、
(xiv)チオキソ基、
(xv)カルバモイル基、
(xvi)ヒドロキシ基、
(xvii)ピラニル基、
(xviii)チエニル基、
(xix)フリル基)、
(1-5 a)アミノ基上及び/または低級アルキル基上に、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル低級アルキル基、インドリルカルボニル基、フェニル基(当該フェニル基上に、ハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよい)及びフェニル低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれる基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基、
(1-6)低級アルコキシ低級アルキル基、
(1-7 a)ベンゾイル低級アルキル基、
(1-8 a)フェニル基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよいフェニル低級アルキル基、
(1-9 a)フェニル基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及びシアノ基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよいフェノキシ低級アルキル基、
(1-10)アダマンチル低級アルキル基、
(1-11 a)フェニル基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ基、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよいフェニル低級アルケニル基、
(1-12 a)低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ基;低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基ならびにハロゲン及び低級アルキル基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよいフェニル基からなる群から選ばれる基を有していてもよいシクロC3−C8アルキル基、
(1-13)シクロC3−C8アルキル低級アルキル基、
(1-14 a)フェニルチオ低級アルキル基、
(1-15 a)ピペリジル基、テトラヒドロピラニル基、ピリジル基、チエニル基、イミダゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソインドリル基、チアゾリジニル基及びインドリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基(ここで、複素環基上に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン、オキソ基及びチオキソ基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよい)、
(1-16 a)フェニル低級アルケニル基(低級アルケニル基上にフェニル基を1〜2個を有していてもよい)、
(1-17)ベンゾジオキソリル基、ピリジル基、フリル基及びイミダゾリル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルケニル基、
(1-18)ベンゾジオキソリルオキシ低級アルキル基、
(1-19)ピリジルチオ低級アルキル基または
(1-20 a)低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ基
を示す。
12は、
(2-1)水素
(2-2)低級アルキル基、
(2-3)ハロゲン置換低級アルキル基、
(2-4)低級アルケニル基、
(2-5)低級アルキニル基、
(2-6)低級アルカノイル基、
(2-7)ヒドロキシ低級アルキル基、
(2-8)低級アルコキシ低級アルキル基、
(2-9)シクロC3−C8アルキル基、
(2-10)シクロC3−C8アルキル低級アルキル基、
(2-11 a)フェニル基、
(2-12 a)フェニル基上に、低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ基及びフェノキシ基からなる群から選ばれる基を1〜3個有していてもよいフェニル低級アルキル基、
(2-13)テトラヒドロフリル基、
(2-14)フリル基及びピリジル基からなる群から選ばれる複素環基が置換した低級アルキル基、
(2-15)テトラヒドロピラニル基または
(2-16)低級アルカノイルオキシ低級アルキル基
を示す。]
または下記一般式(II)で表される基:
21−A− (II)
[式中、−A−は低級アルキレン基、低級アルケニレン基または基−A21−O−A22−を示す。
ここで、A21及びA22は、同一または異なって、C1−C5アルキレン基を示す。但し、A21のアルキレン基及びA22のアルキレン基を構成する炭素原子の総数は6を超えないものとする。
21はピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、ヘキサヒドロピリミジニル、ピペラジニル、オクタヒドロイソインドール、アゼパニル、アゾカニル、アザスピロノナニル、アザスピロデカニル、ジアザスピロノナニル、ジヒドロピロリル、イミダゾリル、ジヒドロイミダゾリル、トリアゾリル、ジヒドロトリアゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ジヒドロピリジル、ピリミジニル、ジヒドロピリミジニル、ピラジニル、ジヒドロピラジニル、ピリダジニル、テトラゾリル、インドリル、イソインドリル、インドリニル、イソインドリニル、ヘキサヒドロイソインドリル、オクタヒドロイソインドリル、ベンゾイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、キナゾリニル、ジヒドロキナゾリニル、ベンゾトリアゾリル、カルバゾリル、スピロ[シクロペンタンインドリニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル、オキサジナニル、モルホリニル、ベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジニル、ジヒドロベンゾオキサジニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、チアゾリル、ジヒドロチアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、ジヒドロチアジニル、チアゾリジニルベンゾチアゾリル及びベンゾチアジアゾリルからなる群から選ばれるN−含有複素環基を示す:
ここで、上記R21で示されるN−含有複素環上には、下記(1)〜(4)、(5 a)、(6 a)、(7)〜(9)、(10 a)、(11 a)、(12)及び(13)からなる群から選ばれた1〜3個の基が置換していてもよい:
(1)ハロゲン置換または未置換低級アルキル基
(2)低級アルケニル基
(3)低級アルコキシ基
(4)ヒドロキシ基
(5a)低級アルカノイルオキシ基またはフェニル低級アルコキシ基
(6a)フェニル基
(7)低級アルカノイル基
(8)カルボキシ基
(9)低級アルコキシカルボニル基
(10a)低級アルキル基を1〜2個有していてもよいカルバモイル基
(11a)フェニル低級アルキル基(ここで、フェニル基上には低級アルコキシ基を1〜2個有していてもよい)
(12)オキソ基
(13)チオキソ基]
を示す請求項1に記載の複素環化合物またはその塩。
Q is a group represented by the following general formula (I):
Figure 2008115175
[Wherein, A 1 represents a lower alkylene group.
Z represents O or S.
R 11 is (1-1) hydrogen,
(1-2) a lower alkyl group,
(1-3 a) an aryl group selected from the group consisting of a phenyl group, a naphthyl group, and a dihydroindenyl group (wherein the following (i) to (viii), (ix a), (xa), (xii), (xiii a), (xiv) to (xviii), (xix a), (xx) to (xxvi), (xxvii a), and (xxviii) to (xxxiii) 1 to 3 groups selected from may be substituted:
(i) a lower alkyl group,
(ii) a lower alkenyl group,
(iii) a halogen-substituted lower alkyl group,
(iv) a lower alkoxy group,
(v) a halogen-substituted lower alkoxy group,
(vi) a nitro group,
(vii) a cyano group,
(viii) halogen,
(ix a) a phenyl group,
(xa) a phenoxy group,
(xi) a lower alkoxycarbonyl group,
(xii) a hydroxy group,
(xiii a) a phenyl lower alkoxy group optionally having 1 to 3 halogen atoms on the lower alkanoyloxy group or phenyl group,
(xiv) a lower alkanoyl group,
(xv) sulfamoyl group,
(xvi) a lower alkylthio group,
(xvii) a lower alkylsulfonyl group,
(xviii) hydroxysulfonyl group,
(xix a) an amino group optionally having 1 or 2 groups selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkanoyl group, a cyclo C3-C8 alkyl group, a phenyl group and a benzoyl group;
(xx) morpholinylcarbonyl lower alkenyl group,
(xxi) morpholinylcarbonyl lower alkyl group,
(xxii) pyrrolyl group,
(xxiii) pyrazolyl group,
(xxiv) an imidazolyl group,
(xxv) triazolyl group,
(xxvi) pyridyl group,
(xxviia) pyrrolidinyl group optionally having 1 to 2 oxo groups,
(xxviii) morpholinyl group,
(xxix) thiomorpholinyl group,
(xxx) a lower alkynyl group,
(xxxi) a cyclo C3-C8 alkyl group,
(xxxii) guanidino group,
(xxxiii) a dihydropyrazolyl group having one oxo group and one lower alkyl group),
(1-4 a) pyrrolidinyl, piperidyl, thiazolidinyl, tetrahydropyranyl, pyrrolyl, imidazolyl, pyrazolyl, dihydropyrazolyl, pyridyl, dihydropyridyl, tetrahydropyrimidinyl, pyrazinyl, thiazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thienyl, furyl, indolyl, indolinyl, isoindolinyl , Benzimidazolyl, imidazolopyridylquinolyl, dihydroquinolyl, tetrahydroquinolyl, isoquinolyl, cinolinyl, indazolyl, quinoxalinyl, benzotriazolyl, dihydronaphthylidyl, benzothiazolyl, dihydrobenzothiazolyl, dihydrobenzothiazinyl, thienopyrazinyl, benzox Zolyl, dihydrobenzoxazolyl, dihydrobenzoxazinyl, furopyrrolyl, ben A heterocyclic group selected from the group consisting of dioxolyl, dihydrobenzodioxinyl and benzothienyl (wherein (i) to (v), (vi a), (vii a), One to three groups selected from the group consisting of (viii), (ix a), (xa) and (xi) to (xix) may be substituted:
(i) a lower alkyl group,
(ii) a halogen-substituted lower alkyl group,
(iii) a lower alkoxy group,
(iv) a halogen-substituted lower alkoxy group,
(v) halogen,
(vi a) a phenyl group optionally having 1 to 3 groups selected from the group consisting of halogen and halogen-substituted lower alkyl groups on the phenyl group;
(viia) a phenyl lower alkyl group optionally having 1 to 3 halogen atoms,
(viii) a lower alkanoyl group,
(ix a) a benzoyl group,
(xa) an amino lower alkanoyl group optionally having 1 to 2 lower alkanoyl groups on the amino group;
(xi) a lower alkylthio group,
(xii) pyrrolyl group,
(xiii) an oxo group,
(xiv) a thioxo group,
(xv) a carbamoyl group,
(xvi) a hydroxy group,
(xvii) pyranyl group,
(xviii) thienyl group,
(xix) furyl group),
(1-5 a) On an amino group and / or a lower alkyl group, a lower alkyl group, a lower alkanoyl group, a hydroxy lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl lower alkyl group, an indolylcarbonyl group, a phenyl group 1 to 2 groups selected from the group consisting of halogen and lower alkoxy groups may be present on the phenyl group) and 1 to 2 groups selected from the group consisting of phenyl lower alkoxycarbonyl groups. An amino lower alkyl group,
(1-6) a lower alkoxy lower alkyl group,
(1-7 a) benzoyl lower alkyl group,
(1-8 a) a phenyl lower alkyl group which may have 1 to 3 groups selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a hydroxy group, a halogen and a nitro group on the phenyl group;
(1-9 a) a phenoxy lower alkyl group which may have 1 to 3 groups selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen and a cyano group on the phenyl group;
(1-10) adamantyl lower alkyl group,
(1-11 a) On the phenyl group, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen-substituted lower alkyl group, a halogen-substituted lower alkoxy group, an amino group optionally having 1-2 lower alkyl groups, a halogen, and A phenyl lower alkenyl group optionally having 1 to 3 groups selected from the group consisting of nitro groups,
(1-12 a) an amino group optionally having 1 to 2 lower alkyl groups; an amino lower alkyl group optionally having 1 to 2 lower alkyl groups, and a group consisting of a halogen and a lower alkyl group A cyclo C3-C8 alkyl group optionally having a group selected from the group consisting of phenyl groups optionally having 1 to 3 groups selected from
(1-13) a cyclo C3-C8 alkyl lower alkyl group,
(1-14 a) a phenylthio lower alkyl group,
(1-15 a) Lower substituted by a heterocyclic group selected from the group consisting of piperidyl group, tetrahydropyranyl group, pyridyl group, thienyl group, imidazolyl group, tetrazolyl group, benzimidazolyl group, isoindolyl group, thiazolidinyl group and indolyl group An alkyl group (which may have 1 to 3 groups selected from the group consisting of a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen, an oxo group and a thioxo group on the heterocyclic group),
(1-16 a) a phenyl lower alkenyl group (which may have 1 to 2 phenyl groups on the lower alkenyl group),
(1-17) a lower alkenyl group substituted with a heterocyclic group selected from the group consisting of a benzodioxolyl group, a pyridyl group, a furyl group, and an imidazolyl group,
(1-18) benzodioxolyloxy lower alkyl group,
(1-19) A pyridylthio lower alkyl group or (1-20 a) an amino group optionally having 1 to 2 lower alkyl groups.
R 12 is
(2-1) hydrogen (2-2) a lower alkyl group,
(2-3) a halogen-substituted lower alkyl group,
(2-4) a lower alkenyl group,
(2-5) a lower alkynyl group,
(2-6) lower alkanoyl group,
(2-7) hydroxy lower alkyl group,
(2-8) a lower alkoxy lower alkyl group,
(2-9) a cyclo C3-C8 alkyl group,
(2-10) cyclo C3-C8 alkyl lower alkyl group,
(2-11 a) a phenyl group,
(2-12 a) A phenyl lower group optionally having 1 to 3 groups selected from the group consisting of an amino group and a phenoxy group which may have 1 to 2 lower alkyl groups on the phenyl group An alkyl group,
(2-13) tetrahydrofuryl group,
(2-14) a lower alkyl group substituted by a heterocyclic group selected from the group consisting of a furyl group and a pyridyl group,
(2-15) represents a tetrahydropyranyl group or (2-16) a lower alkanoyloxy lower alkyl group. ]
Or a group represented by the following general formula (II):
R 21 -A 2- (II)
Wherein, -A 2 - is lower alkylene, lower alkenylene group or a group -A 21 -O-A 22 - shows the.
Here, A 21 and A 22 are the same or different and each represents a C1-C5 alkylene group. However, the total number of carbon atoms constituting the alkylene group of A 21 and the alkylene group of A 22 does not exceed 6.
R 21 is pyrrolidinyl, imidazolidinyl, piperidyl, hexahydropyrimidinyl, piperazinyl, octahydroisoindole, azepanyl, azocanyl, azaspirononyl, azaspirodecanyl, diazaspirononyl, dihydropyrrolyl, imidazolyl, dihydroimidazolyl, triazolyl , Dihydrotriazolyl, pyrazolyl, pyridyl, dihydropyridyl, pyrimidinyl, dihydropyrimidinyl, pyrazinyl, dihydropyrazinyl, pyridazinyl, tetrazolyl, indolyl, isoindolyl, indolinyl, isoindolinyl, hexahydroisoindolyl, octahydroisoindolyl, benzimidazolyl Quinolyl, isoquinolyl, indazolyl, quinazolinyl, dihydroquinazolinyl, benzotriazolyl, cal Basolyl, spiro [cyclopentaneindolinyl, oxazolyl, isoxazolyl, oxadiazolyl, oxazolidinyl, isoxazolidinyl, oxadinanyl, morpholinyl, benzoxazolyl, dihydrobenzoxazolyl, benzooxazinyl, dihydrobenzoxazinyl, benzo Represents an N-containing heterocyclic group selected from the group consisting of oxazolyl, benzooxadiazolyl, thiazolyl, dihydrothiazolyl, isothiazolyl, thiadiazolyl, dihydrothiazinyl, thiazolidinylbenzothiazolyl and benzothiadiazolyl :
Here, on the N-containing heterocycle represented by R 21 , the following (1) to (4), (5 a), (6 a), (7) to (9), (10 a), 1 to 3 groups selected from the group consisting of (11 a), (12) and (13) may be substituted:
(1) halogen-substituted or unsubstituted lower alkyl group (2) lower alkenyl group (3) lower alkoxy group (4) hydroxy group (5a) lower alkanoyloxy group or phenyl lower alkoxy group (6a) phenyl group (7) lower alkanoyl Group (8) carboxy group (9) lower alkoxycarbonyl group (10a) carbamoyl group optionally having 1 to 2 lower alkyl groups (11a) phenyl lower alkyl group (here, lower alkoxy on the phenyl group) (You may have 1-2 groups)
(12) Oxo group (13) Thioxo group]
The heterocyclic compound or its salt of Claim 1 which shows these.
Qが、下記一般式(I)で表される基:
Figure 2008115175
[式中、Aは低級アルキレン基を示す。
ZはOまたはSを示す。
11
(1-1)水素、
(1-2)低級アルキル基、
(1-5 aa)アミノ基上及び/または低級アルキル基上に、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル低級アルキル基、インドリルカルボニル基、フェニル基(当該フェニル基上に、ハロゲン及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる基を有していてもよい)及びフェニル低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれる基を1〜2個有していてもよいアミノ低級アルキル基または
(1-20 a)低級アルキル基を1〜2個有していてもよいアミノ基
を示す。
12は、
(2-1)水素、
(2-2)低級アルキル基、
(2-4)低級アルケニル基、
(2-6)低級アルカノイル基、
(2-7)ヒドロキシ低級アルキル基、
(2-8)低級アルコキシ低級アルキル基または
(2-9)シクロC3−C8アルキル基
を示す。]
を示す請求項2に記載の複素環化合物またはその塩。
Q is a group represented by the following general formula (I):
Figure 2008115175
[Wherein, A 1 represents a lower alkylene group.
Z represents O or S.
R 11 is (1-1) hydrogen,
(1-2) a lower alkyl group,
(1-5 aa) On an amino group and / or a lower alkyl group, a lower alkyl group, a lower alkanoyl group, a hydroxy lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl lower alkyl group, an indolylcarbonyl group, a phenyl group An amino group which may have a group selected from the group consisting of halogen and a lower alkoxy group on a phenyl group) and a group selected from the group consisting of a phenyl lower alkoxycarbonyl group; An amino group optionally having 1 to 2 lower alkyl groups or (1-20a) lower alkyl groups is shown.
R 12 is
(2-1) Hydrogen,
(2-2) a lower alkyl group,
(2-4) a lower alkenyl group,
(2-6) lower alkanoyl group,
(2-7) hydroxy lower alkyl group,
(2-8) represents a lower alkoxy lower alkyl group or (2-9) a cyclo C3-C8 alkyl group. ]
The heterocyclic compound or its salt of Claim 2 which shows these.
Qが、下記一般式(II)で示される基:
21−A− (II)
[式中、−A−は低級アルキレン基または低級アルケニレン基を示す。
21は、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、アゼパニル、オキサゾリジニル及びオキサジナニルからなる群から選ばれるN−含有複素環基を示す:
ここで、上記R21で示されるN−含有複素環上には、下記(1)、(12)及び(13)からなる群から選ばれた1〜2個の基が置換していてもよい:
(1)ハロゲン置換または未置換低級アルキル基
(12)オキソ基
(13)チオキソ基]
を示す請求項2に記載の複素環化合物またはその塩。
Q is a group represented by the following general formula (II):
R 21 -A 2- (II)
[Wherein, -A 2 -represents a lower alkylene group or a lower alkenylene group.
R 21 represents an N-containing heterocyclic group selected from the group consisting of pyrrolidinyl, imidazolidinyl, piperidyl, azepanyl, oxazolidinyl and oxadinanyl:
Here, on the N-containing heterocyclic ring represented by R 21 , 1 to 2 groups selected from the group consisting of the following (1), (12) and (13) may be substituted. :
(1) Halogen-substituted or unsubstituted lower alkyl group (12) oxo group (13) thioxo group]
The heterocyclic compound or its salt of Claim 2 which shows these.
前記一般式(1)で表される複素環化合物が、
N−[5−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ペンチル]アセトアミド、
N−[5−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ペンチル]−2,4−ジフルオロベンズアミド、
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−N−シクロプロピルアセトアミド、
5−メチル−2−ピラジンカルボン酸[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]エチルアミド、
4−チアゾールカルボン酸[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]エチルアミド、
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−N−エチル−アセトアミド、
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−N−イソプロピルアセトアミド、
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−N−エチルチオアセトアミド、
N−アリル−N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]アセトアミドまたは
N−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−N−tert−ブチルホルムアミド
である、請求項3に記載の複素環化合物またはその塩。
The heterocyclic compound represented by the general formula (1) is
N- [5- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) pentyl] acetamide,
N- [5- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) pentyl] -2,4-difluorobenzamide,
N- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] -N-cyclopropylacetamide,
5-methyl-2-pyrazinecarboxylic acid [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] ethylamide,
4-thiazolecarboxylic acid [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] ethylamide,
N- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] -N-ethyl-acetamide,
N- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] -N-isopropylacetamide,
N- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] -N-ethylthioacetamide,
N-allyl-N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] acetamide or N- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazine- The heterocyclic compound or a salt thereof according to claim 3, which is 1-yl) butyl] -N-tert-butylformamide.
前記一般式(1)で表される複素環化合物が、
1−[5−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ペンチル]−イミダゾリジン−2−オン、
1−[5−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ペンチル]−3−メチルイミダゾリジン−2−オン、
1−[5−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ペンチル]−ピロリジン−2−オン、
1−[5−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ペンチル]−ピロリジン−2,5−ジオン、
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]アゼパン−2−オン、
3−[6−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ヘキシル]オキサゾリジン−2−オン、
3−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−4,4−ジメチルオキサゾリジン−2−オン、
3−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−4−メチルオキサゾリジン−2−オン、
3−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−オキサゾリジン−2−オン、
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]ピロリジン−2−オン、
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]ピペリジン−2−オン、
1−[(E)−4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)−2−ブテニル]−3−メチルイミダゾリジン−2−オン、
1−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イル−ピペラジン−1−イル)ブチル]ピペリジン−2−チオンまたは
3−[4−(4−ベンゾ[b]チオフェン−4−イルピペラジン−1−イル)ブチル]−4−メチルオキサゾリジン−2−オン
である、請求項4に記載の複素環化合物またはその塩。
The heterocyclic compound represented by the general formula (1) is
1- [5- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) pentyl] -imidazolidin-2-one,
1- [5- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) pentyl] -3-methylimidazolidin-2-one,
1- [5- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) pentyl] -pyrrolidin-2-one,
1- [5- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) pentyl] -pyrrolidine-2,5-dione,
1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] azepan-2-one,
3- [6- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) hexyl] oxazolidine-2-one,
3- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] -4,4-dimethyloxazolidine-2-one,
3- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] -4-methyloxazolidine-2-one,
3- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] -oxazolidine-2-one,
1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] pyrrolidin-2-one,
1- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) butyl] piperidin-2-one,
1-[(E) -4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazin-1-yl) -2-butenyl] -3-methylimidazolidin-2-one,
1- [4- (4-Benzo [b] thiophen-4-yl-piperazin-1-yl) butyl] piperidin-2-thione or 3- [4- (4-benzo [b] thiophen-4-ylpiperazine The heterocyclic compound or a salt thereof according to claim 4, which is -1-yl) butyl] -4-methyloxazolidine-2-one.
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