JP2008226407A - Magnetic disk substrate manufacturing method, chemical strengthening apparatus, and magnetic disk manufacturing method - Google Patents
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Abstract
【課題】表面平滑性および平坦度に優れた磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供する。
【解決手段】端面を面取りしたドーナツ状ガラス板の少なくとも、前記ガラス板の端面部分を化学強化する化学強化工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記化学強化工程が複数枚の前記ドーナツ状ガラス板の主表面を合わせて積層し、前記主表面を加圧状態で、化学強化処理を行うものであることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、端面を面取りしたドーナツ状ガラス板の少なくとも前記ガラス板の端面部分を化学強化する磁気ディスク用ガラス基板の化学強化装置であって、複数枚の前記ドーナツ状ガラス板の主表面を合わせて積層してなるガラス板積層体を、前記ドーナツ状ガラス板の主表面の垂直軸方向に移動可能な押し付け板を介して、加圧する加圧手段を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の化学強化装置及び該ガラス基板を用いる磁気ディスクの製造方法。
【選択図】図3A glass substrate for a magnetic disk and a magnetic disk excellent in surface smoothness and flatness are provided.
A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk including a chemical strengthening step of chemically strengthening at least an end surface portion of the glass plate having a chamfered end surface, wherein the chemical strengthening step includes a plurality of chemical strengthening steps. A method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, comprising: laminating the main surfaces of the doughnut-shaped glass plates together and subjecting the main surface to a pressurized state, and a donut with a chamfered end surface A glass substrate laminate for chemically strengthening a glass substrate for a magnetic disk that chemically strengthens at least an end surface portion of the glass plate of a glass plate, wherein the main surfaces of a plurality of donut glass plates are laminated together And a pressing means that pressurizes the magnetic dough through a pressing plate that is movable in the vertical axis direction of the main surface of the donut-shaped glass plate. Method of manufacturing a magnetic disk using chemical tempering apparatus and the glass substrate of the glass substrate for a click.
[Selection] Figure 3
Description
本発明は、磁気ディスク用基板の製造方法および磁気ディスク用基板の化学強化装置ならびに磁気ディスクの製造方法に関する。この磁気ディスク用基板は、コンピュータの外部記憶装置をはじめとする各種磁気記録装置に搭載される磁気記録媒体に用いられる。
更に詳細には、本発明は、端面部分を強化し、かつ、表面平滑性および平坦度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく生産できる製造方法および化学強化装置に関し、さらに、この製造方法により得られた磁気ディスク用ガラス基板を用いた磁気ディスクの製造方法に関する。
The present invention relates to a magnetic disk substrate manufacturing method, a magnetic disk substrate chemical strengthening apparatus, and a magnetic disk manufacturing method. This magnetic disk substrate is used for a magnetic recording medium mounted on various magnetic recording devices including an external storage device of a computer.
More specifically, the present invention relates to a manufacturing method and a chemical strengthening apparatus that can efficiently produce a glass substrate for a magnetic disk that has an end face portion that is reinforced and that is excellent in surface smoothness and flatness. The present invention relates to a magnetic disk manufacturing method using the obtained magnetic disk glass substrate.
近年の磁気ディスクの高密度記録化に伴い、ディジタル信号を記録する磁性層の性能向上だけでなく、記録の読み出しを行う磁気ヘッドおよび基板といった様々な構成要素の性能向上も要求されている。このような要求に向けた検討の中で、基板については、従来から使用されていたアルミニウム基板に代わり、ガラス基板が注目されるようになってきている。 With the recent increase in recording density of magnetic disks, there is a demand not only for improving the performance of the magnetic layer for recording digital signals, but also for improving the performance of various components such as a magnetic head and a substrate for reading records. In consideration of such a demand, as a substrate, a glass substrate has been attracting attention in place of the conventionally used aluminum substrate.
即ち、ガラス基板は、小型・高密度化に要求される基板の薄板化が容易であること、磁気ヘッドの低浮上量化を可能とする基板表面の平坦度の確保が、容易であること、ガラス基板の表面硬度が高く、またヤング率が大きいためモバイル用途には適していることなどから、高密度磁気ディスクの基板として注目され始めている。 In other words, the glass substrate is easy to reduce the thickness of the substrate required for miniaturization and high density, easy to ensure the flatness of the substrate surface that enables low flying height of the magnetic head, glass Since the surface hardness of the substrate is high and the Young's modulus is large, it is suitable for mobile applications.
ガラス基板には大別すると結晶化ガラス基板とアモルファスガラス基板がある。以前は、結晶化ガラス基板も使われてきたが、最近の磁気記録密度の上昇に伴い、より平滑な表面が実現できるアモルファスガラス基板が主流となっている。 Glass substrates are roughly classified into crystallized glass substrates and amorphous glass substrates. In the past, crystallized glass substrates have been used, but with the recent increase in magnetic recording density, amorphous glass substrates that can realize a smoother surface have become mainstream.
高密度記録が実現可能となったガラス基板を用いることによって、ハードディスクドライブは、小型の磁気ディスクを用いたものでも十分な情報量を格納できるようになってきた。このようなハードディスクドライブは、据置型パソコンなどに搭載されるもののみならず、持ち運び可能なノート型パソコンなどにも、広く搭載されるようになって来た。 By using a glass substrate on which high-density recording can be realized, a hard disk drive can store a sufficient amount of information even with a small magnetic disk. Such hard disk drives have come to be widely installed not only in those installed in stationary personal computers, but also in portable notebook personal computers.
このような持ち運び用途に使用される小型ハードディスクドライブは、持ち運び中、または、使用中において落下する危険性があり、強い衝撃力に曝されることがあるので、用いられる磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクは、高い耐衝撃性が要求される。 A small hard disk drive used for such portable applications has a risk of falling while being carried or used, and may be exposed to a strong impact force. The disk is required to have high impact resistance.
一方、ガラス材料の欠点として、破壊強度が低いことが挙げられる。
これは、ガラス板からドーナツ状基板に加工する工程中や、その後工程のラップ・ポリッシュ、洗浄、成膜工程等で加えられる応力によって微小クラックが誘起され、これを起点としてクラックが伸展し、破壊に至るためである。
On the other hand, a disadvantage of the glass material is low fracture strength.
This is because micro-cracks are induced during the process of processing from a glass plate to a donut-shaped substrate, and stress applied in subsequent lapping / polishing, cleaning, film-forming processes, etc., and cracks extend and break down. It is to reach.
ハードディスク用ガラス基板の破壊強度の指標として円環抗折強度がある。ハードディスク用ガラス基板の破壊強度(円環抗折強度)はガラス基板への強化処理によって改善されてきている。この強化処理としては、一般的には、化学強化処理が行われている。 There is an annular bending strength as an index of the breaking strength of a glass substrate for a hard disk. The breaking strength (circular bending strength) of the glass substrate for hard disks has been improved by the strengthening treatment to the glass substrate. As this strengthening treatment, chemical strengthening treatment is generally performed.
磁気ディスク用ガラス基板は、一般的には、プレス法によって溶融ガラスから直接的に板状のガラスディスクを成形し、作製されたガラスディスクの端面及び主表面を研磨し、化学強化等の強化処理を行うことで、製造される。 A glass substrate for a magnetic disk is generally formed by directly forming a plate-like glass disk from molten glass by a pressing method, polishing the end face and main surface of the produced glass disk, and performing a strengthening process such as chemical strengthening. It is manufactured by doing.
一方、最近の高密度記録化の動きによって、磁気ヘッドには、磁気抵抗効果型素子や大型磁気抵抗効果型素子が搭載されたものが使用されるようになっている。 On the other hand, due to the recent trend toward high-density recording, magnetic heads equipped with magnetoresistive elements or large magnetoresistive elements are being used.
磁気抵抗効果型素子や大型磁気抵抗効果型素子を搭載した磁気ヘッドは、従来の薄膜型素子により情報が再生される磁気ディスクに比較して、表面が十分に平滑、かつ、清浄であることが要求される。 A magnetic head equipped with a magnetoresistive element or a large magnetoresistive element has a sufficiently smooth surface and a clean surface compared to a magnetic disk on which information is reproduced by a conventional thin film element. Required.
一方、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクに求められる主表面の平滑性及び清浄度の向上を阻害する因子の一つが、化学強化工程におけるガラスディスクの主表面に対する異物の付着である。 On the other hand, one of the factors that hinder the improvement of the smoothness and cleanliness of the main surface required for the magnetic disk glass substrate and the magnetic disk is the adhesion of foreign matter to the main surface of the glass disk in the chemical strengthening process.
即ち、化学強化工程においては、300℃を越える高温下での処理となる。しかし、このような高温化での処理を行うと、ガラスディスクの主表面に異物が付着しやすくなるという問題がある。 That is, in the chemical strengthening step, the treatment is performed at a high temperature exceeding 300 ° C. However, when processing at such a high temperature is performed, there is a problem that foreign matter tends to adhere to the main surface of the glass disk.
このような問題を解決するため、特許文献1には、化学強化工程の後に、ガラスディスクの主表面を研磨するようにした磁気ディスク用ガラス基板が提案されている。また、特許文献2には、ガラスディスクの端面のみに化学強化剤を選択的に塗布して、化学強化処理を行うようにした磁気ディスク用ガラス基板が提案されている。
In order to solve such a problem,
また、特許文献3には、円柱状のガラス母材に中心穴をあけた後、得られた円筒状のガラス母材の側面の研磨、または、鏡面加工を行い、その後、ガラス母材の側面の化学強化処理を行ってから、切断処理を行うようにした磁気ディスク用ガラス基板が提案されている。また、特許文献4には、端面を面取りした磁気記録媒体用ドーナツ状ガラス基板を、スペーサーを介して複数枚積層した状態で内外周端面を研磨することが提案されている。
しかしながら、特許文献1に記載の提案では、化学強化工程による強化効果を損なうことなく表面を平坦化させなければならず、そのため、研磨取り代(研磨量)を精密に管理する必要があり、磁気ディスク用ガラス基板の製造を困難としている。
However, in the proposal described in
また、特許文献2に記載された磁気ディスク用ガラス基板においては、化学強化液が塗布された箇所が化学強化処理されるため、化学強化がなされる箇所を正確に規定することが困難であり、安定した品質の磁気ディスク用ガラス基板の製造が困難となる。
In addition, in the glass substrate for magnetic disk described in
また、特許文献3に記載された磁気ディスク用ガラス基板においては、長い円柱の内面を精度よく加工することは困難であり、安定した品質の磁気ディスク用ガラス基板の製造が困難となる。 In the glass substrate for magnetic disk described in Patent Document 3, it is difficult to accurately process the inner surface of a long cylinder, and it becomes difficult to manufacture a glass substrate for magnetic disk with stable quality.
また、特許文献4に記載された磁気記録媒体用ガラス基板においては、端面のみを研磨する方法を提案しているものであり、化学強化工程におけるガラスディスクの主表面に対する異物の付着については、何の対策も施されていない。
In addition, in the glass substrate for magnetic recording medium described in
また、ハードディスクドライブについては、コストダウン及び大量生産の要望が強く、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に供給する必要があるが、これら特許文献1,2,3,4に記載された磁気ディスク用ガラス基板においては、耐衝撃性及び主表面の平滑性、清浄度および平坦度を満足させつつ精度よく大量の製品を供給することは困難であり、品質のばらつきのない大量の磁気ディスクを安定して製造することが困難となっている。 In addition, for hard disk drives, there is a strong demand for cost reduction and mass production, and it is necessary to supply glass substrates for magnetic disks and magnetic disks in large quantities at low cost. For glass substrates for magnetic disks, it is difficult to accurately supply a large quantity of products while satisfying impact resistance, smoothness of the main surface, cleanliness and flatness, and a large quantity of magnetic materials without quality variations. It has become difficult to manufacture a disk stably.
そこで、本発明は、上述の実情に鑑みて提案されるものであって、本発明の第1の目的は、化学強化工程における主表面に対する異物の付着の影響を確実に防止し、表面平滑性、特に外周部付近の表面平滑性および平坦度に優れた磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供することにあり、かつ、このような磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを製造の困難化やコスト上昇を招くことなく、したがって廉価に、かつ、大量に提供できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することにある。 Therefore, the present invention is proposed in view of the above-mentioned circumstances, and the first object of the present invention is to reliably prevent the influence of foreign matter adhesion to the main surface in the chemical strengthening process, and to achieve surface smoothness. An object of the present invention is to provide a magnetic disk glass substrate and a magnetic disk excellent in surface smoothness and flatness particularly in the vicinity of the outer periphery, and to make such a glass disk and magnetic disk difficult to manufacture and cost. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk that can be provided at low cost and in large quantities without causing an increase.
即ち、本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、端面を面取りしたドーナツ状ガラス板の少なくとも、前記ガラス板の端面部分を化学強化する化学強化工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記化学強化工程が複数枚の前記ドーナツ状ガラス板の主表面を合わせて積層し、前記主表面を加圧状態で、化学強化処理を行うものであることを特徴とする。 That is, the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention is a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk including a chemical strengthening step of chemically strengthening at least an end surface portion of the glass plate of a doughnut-shaped glass plate having a chamfered end surface. In the chemical strengthening step, the main surfaces of a plurality of the doughnut-shaped glass plates are laminated together, and the main surface is subjected to a chemical strengthening process in a pressurized state.
また、本発明の磁気ディスク用ガラス基板の化学強化装置は、端面を面取りしたドーナツ状ガラス板の少なくとも前記ガラス板の端面部分を化学強化する磁気ディスク用ガラス基板の化学強化装置であって、複数枚の前記ドーナツ状ガラス板の主表面を合わせて積層してなるガラス板積層体を、前記ドーナツ状ガラス板の主表面の垂直軸方向に移動可能な押し付け板を介して、加圧する加圧手段を有することを特徴とする。 Further, the glass substrate chemical strengthening device of the present invention is a glass substrate chemical strengthening device for chemically strengthening at least an end surface portion of the glass plate of a doughnut-shaped glass plate whose end surface is chamfered. Pressurizing means for pressurizing the glass plate laminate formed by laminating the main surfaces of the doughnut-shaped glass plates through a pressing plate movable in the vertical axis direction of the main surface of the donut-shaped glass plates It is characterized by having.
また、本発明の磁気ディスクの製造方法は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする。 The magnetic disk manufacturing method of the present invention is characterized in that at least a magnetic layer is formed on the main surface of the magnetic disk glass substrate manufactured by the magnetic disk glass substrate manufacturing method.
本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によれば、主表面への化学強化を防止することにより、化学強化処理における主表面への影響、更には残存する異物の付着による影響を防止して表面平滑性、特に外周部付近の表面平滑性および平坦度に優れた磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供することができるという特徴を有する。また、この製造方法によれば、このような磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを製造の困難化やコスト上昇を招くことなく、したがって廉価に、かつ、大量に提供できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することができる。 According to the method for producing a glass substrate for a magnetic disk of the present invention, by preventing chemical strengthening to the main surface, the influence on the main surface in the chemical strengthening treatment, and further the influence due to the adhesion of the remaining foreign matter can be prevented. It has a feature that it can provide a glass substrate for a magnetic disk and a magnetic disk excellent in surface smoothness, particularly surface smoothness and flatness in the vicinity of the outer peripheral portion. In addition, according to this manufacturing method, the magnetic disk glass substrate and the magnetic disk can be provided at low cost and in large quantities without causing difficulty in manufacturing or increasing the cost. A method can be provided.
以下に、本発明について、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造される磁気ディスク用ガラス基板の構成を示す斜視図である。図1に示すように、磁気ディスク用ガラス基板1の中心部に内孔2を有する。
The present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a glass substrate for magnetic disk manufactured by the method for manufacturing a glass substrate for magnetic disk according to the present invention. As shown in FIG. 1, an
本発明に用いるガラス基板の材料としては、化学強化処理により、破壊強度を向上させることができるガラスであればどのようなガラスをも用いることができるが、アルミノシリケートガラスを用いることが好ましい。アルミノシリケートガラスは、優れた平滑鏡面を実現することができるとともに、化学強化を行うことによって、破壊強度を高めることができる。 As the material of the glass substrate used in the present invention, any glass can be used as long as it can improve the breaking strength by chemical strengthening treatment, but it is preferable to use an aluminosilicate glass. The aluminosilicate glass can realize an excellent smooth mirror surface and can increase the breaking strength by performing chemical strengthening.
アルミノシリケートガラスとしては、SiO2:62乃至75重量%、Al2O3:5乃至15重量%、Li2O:4乃至10重量%、Na2O:4乃至12重量%、ZrO2:5.5乃至15重量%を主成分として含有するとともに、Na2OとZrO2との重量比が0.5乃至2.0、Al2O3とZrO2との重量比が0.4乃至2.5であるものが好ましく用いられる。 The aluminosilicate glass, SiO 2: 62 to 75 wt%, Al 2 O 3: 5 to 15 wt%, Li 2 O: 4 to 10 wt%, Na 2 O: 4 to 12 wt%, ZrO 2: 5 0.5 to 15 wt% as a main component, the weight ratio of Na 2 O to ZrO 2 is 0.5 to 2.0, and the weight ratio of Al 2 O 3 to ZrO 2 is 0.4 to 2 .5 is preferably used.
図2は、前記磁気ディスク用ガラス基板1の端面部分の形状を示す断面図である。
本発明により製造される磁気ディスク用ガラス基板は、端面部分の両側の稜部が面取りされたものである。すなわち、この磁気ディスク用ガラス基板1の外周側端面部分及び内孔2の内周側端面部分は、図2に示すように、この内周側端面部分から両側の主平面に向けて、面取り部(C面)3,3が形成されており、また、この磁気ディスク用ガラス基板1の外周側端面部分も、この外周側端面部分から両側の主平面に向けて、面取り部(C面)が形成された状態となっている。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the shape of the end surface portion of the magnetic
The glass substrate for a magnetic disk produced according to the present invention has a chamfered ridge on both sides of the end face portion. That is, the outer peripheral side end surface portion of the magnetic
この磁気ディスク用ガラス基板1の内周側端面部分における面取り部3,3の間の部分は、磁気ディスク用ガラス基板1の主平面に対して垂直面からなる円筒状の側面4となっている。
A portion between the chamfered portions 3 and 3 in the inner peripheral side end surface portion of the magnetic
また、この磁気ディスク用ガラス基板1の外周側端面部分においても、面取り部の間の部分は、磁気ディスク用ガラス基板1の主平面に対して垂直面からなる円筒状の側面となっている。
Also, in the outer peripheral side end surface portion of the magnetic
磁気ディスク用ガラス基板は、端面部分の稜部が面取りされていることにより、破壊強度が高まる。なお、本発明における端面部分とは、側面と面取り面とを合わせた部分を指す。 The glass substrate for a magnetic disk has high crushing strength due to the chamfered edge portion of the end surface portion. In addition, the end surface part in this invention points out the part which match | combined the side surface and the chamfering surface.
このドーナツ状ガラス基板の主表面の表面粗さRa(中心線表面粗さ)は0.5μm以下であることが好ましい。この表面粗さRaが0.5μmより大きくなると化学強化処理時に化学強化処理液が主表面側に回り込んでき易くなり、化学強化処理により平坦度が悪化するおそれがある。また、表面粗さRmax(最大高さ)は8μm以下であることが好ましい。この表面粗さRmaxが8μmより大きくなるとRaの場合と同様に、化学強化処理時に化学強化処理液が主表面側に回り込んでき易くなり、化学強化処理により平坦度が悪化するおそれがある。
また、このドーナツ状ガラス基板の主表面の平坦度が6μm以下であることが好ましい。平坦度が6μmを超えて大きくなった場合も化学強化処理時に化学強化処理液が主表面側に回り込んでき易くなり、化学強化処理によりさらに平坦度が悪化するおそれがある。
The surface roughness Ra (center line surface roughness) of the main surface of the doughnut-shaped glass substrate is preferably 0.5 μm or less. If this surface roughness Ra is larger than 0.5 μm, the chemical strengthening treatment liquid tends to enter the main surface side during the chemical strengthening treatment, and the flatness may be deteriorated by the chemical strengthening treatment. The surface roughness Rmax (maximum height) is preferably 8 μm or less. If this surface roughness Rmax is larger than 8 μm, the chemical strengthening treatment liquid is likely to wrap around the main surface during the chemical strengthening process as in the case of Ra, and the flatness may be deteriorated by the chemical strengthening process.
Moreover, it is preferable that the flatness of the main surface of this donut-shaped glass substrate is 6 micrometers or less. Even when the flatness exceeds 6 μm, the chemical strengthening treatment liquid tends to enter the main surface side during the chemical strengthening treatment, and the flatness may be further deteriorated by the chemical strengthening treatment.
磁気ディスク用ガラス基板は、その一例として、以下の工程により製造することができる。
(1)第1ラッピング工程
(2)穴あけ工程
(3)第2ラッピング工程
(4)面取り工程
(5)化学強化工程
(6)第1研磨工程
(7)第2研磨工程
(8)洗浄工程
この工程例では化学強化工程を面取り工程と第1研磨工程の間に設けているが、化学強化工程は面取り工程の後であればよく、第1研磨工程と第2研磨工程の間に設けてもよい。
As an example, the glass substrate for magnetic disk can be manufactured by the following steps.
(1) First lapping step (2) Drilling step (3) Second lapping step (4) Chamfering step (5) Chemical strengthening step (6) First polishing step (7) Second polishing step (8) Cleaning step This In the process example, the chemical strengthening process is provided between the chamfering process and the first polishing process, but the chemical strengthening process may be provided after the chamfering process, and may be provided between the first polishing process and the second polishing process. Good.
(1)第1ラッピング工程
ラッピングとは、遊離砥粒(研磨剤)をふくんだ状態で摺動運動(すりあわせ)を行い、加工物を微少切削しながら研磨することによって、加工物をより平坦に仕上げていく遊離砥粒加工を意味し、ここでは、溶融ガラスをプレス成形して得られた円板状のガラスプレス材の主表面を比較的粗めの砥粒を用い所定の厚みまでラッピング加工し、ガラスディスクの平行度、平坦度を所定のものとする。ラッピング加工は、両面ラッピング装置とアルミナ砥粒、シリコンカーバイド砥粒などを用いて行われる。
(1) 1st lapping process Lapping is a sliding motion (grinding) with loose abrasive grains (abrasive) included, and polishing the work piece while finely cutting the work piece. It means loose abrasive processing that finishes flatly. Here, the main surface of the disk-shaped glass press material obtained by press molding molten glass is used to obtain a predetermined thickness using relatively coarse abrasive grains. Lapping is performed so that the parallelism and flatness of the glass disk are predetermined. The lapping process is performed using a double-sided lapping apparatus, alumina abrasive grains, silicon carbide abrasive grains, and the like.
(2)穴あけ工程
この工程では、このガラス板の中心軸にそって、所定の大きさの中心孔を形成する。この中心孔は、磁気ディスク用ガラス基板における中心孔となるものであり、磁気ディスク用ガラス基板の中心孔として予定している内径よりもやや小径の内径の孔を形成する。この穴あけ工程は、例えば、ダイヤモンド砥石を用いたコアドリルにより実施することができる。
(2) Drilling step In this step, a central hole having a predetermined size is formed along the central axis of the glass plate. This central hole is a central hole in the magnetic disk glass substrate, and forms a hole having an inner diameter slightly smaller than the inner diameter planned as the central hole of the magnetic disk glass substrate. This drilling step can be performed by, for example, a core drill using a diamond grindstone.
(3)第2ラッピング工程
穴あけ加工したドーナツ状のガラス板の主表面をラッピング加工する工程であり、第1ラッピング工程と同様に両面ラッピング装置とアルミナ砥粒、シリコンカーバイド砥粒などを用いて加工を行う。第2ラッピング工程では、第1ラッピング工程よりも細かい砥粒を用い所定の厚みまで加工し、平行度、平坦度の向上を行うと共に、表面粗さを所定レベルまで低減させる。
(3) Second lapping step This is a step of lapping the main surface of a holed doughnut-shaped glass plate and is processed using a double-sided lapping device, alumina abrasive grains, silicon carbide abrasive grains, etc. as in the first lapping process. I do. In the second lapping step, the abrasive is finer than the first lapping step and processed to a predetermined thickness to improve parallelism and flatness and reduce the surface roughness to a predetermined level.
(4)面取り工程
この工程では、ドーナツ状のガラス板の内周と外周の面取り(C面)加工を行う。面取り加工は、面取り形状を転写した形状の砥石を用い、研削加工により、面取りを行うと共に、所定の製造する磁気ディスク用ガラス基板の内径、外径の寸法を得る。
(4) Chamfering step In this step, chamfering (C surface) processing of the inner periphery and outer periphery of the donut-shaped glass plate is performed. In the chamfering process, a grindstone having a shape obtained by transferring the chamfered shape is used, and the chamfering is performed by grinding, and the inner and outer diameter dimensions of a predetermined magnetic disk glass substrate to be manufactured are obtained.
この工程では、更に、内外周の側面(周面)を研磨し、鏡面加工する。この工程における研磨は、研磨剤を用いて、ブラシ等により行う。この工程において使用する研磨剤に含まれる研磨砥粒としては、ガラス板に対して研磨能力を奏する研磨砥粒であれば、特に制限なく使用することができる。例えば、酸化セリウム(CeO2)砥粒、コロイダルシリカ砥粒、アルミナ砥粒、ダイヤモンド砥粒などを挙げることができ、特に、酸化セリウム研磨砥粒が好ましい。研磨砥粒の粒径については、適宜選択することができるが、例えば、0.5μm乃至3μm程度とすることが好ましい。また、研磨剤は、研磨砥粒を含む通常の研磨剤に、水(純水)などの液体を加え、スラリー状の研磨剤として用いることが好ましい。 In this step, the inner and outer peripheral side surfaces (circumferential surfaces) are further polished and mirror-finished. Polishing in this step is performed with a brush or the like using an abrasive. The abrasive grains contained in the abrasive used in this step can be used without particular limitation as long as they are abrasive grains that exhibit a polishing ability with respect to a glass plate. Examples thereof include cerium oxide (CeO 2 ) abrasive grains, colloidal silica abrasive grains, alumina abrasive grains, and diamond abrasive grains, and cerium oxide abrasive grains are particularly preferable. The particle size of the abrasive grains can be selected as appropriate, but is preferably about 0.5 μm to 3 μm, for example. The abrasive is preferably used as a slurry abrasive by adding a liquid such as water (pure water) to an ordinary abrasive containing abrasive grains.
(5)化学強化工程
ハードディスクドライブに磁気ディスクをセットする場合、スピンドルモータのハブをガラス磁気ディスクの内孔2に挿入し、その上から、ディスク押えによって固定される。
ハードディスクドライブに衝撃力が印加された場合、内径の端面部分に衝撃力が集中するので、端面部分にクラックが発生し、ガラス磁気ディスクが損傷してしまう。そこで、少なくとも端面部分を強化すれば、ガラス磁気ディスクが損傷を防止することが出来る。
(5) Chemical strengthening process When a magnetic disk is set in the hard disk drive, the spindle motor hub is inserted into the
When an impact force is applied to the hard disk drive, the impact force concentrates on the end face portion of the inner diameter, so that a crack occurs in the end face portion and the glass magnetic disk is damaged. Therefore, if at least the end face portion is reinforced, the glass magnetic disk can be prevented from being damaged.
化学強化処理は、加熱した化学強化処理液にガラス基板を浸漬し、ガラス基板表層のイオンを化学強化処理液中のイオンでイオン交換してガラス基板を化学強化するものである。
本発明のガラス基板の製造方法においては、ドーナツ状のガラス板の端面部分に化学強化を施す。
In the chemical strengthening treatment, the glass substrate is immersed in a heated chemical strengthening treatment solution, and ions on the surface of the glass substrate are ion-exchanged with ions in the chemical strengthening treatment solution to chemically strengthen the glass substrate.
In the manufacturing method of the glass substrate of this invention, chemical strengthening is given to the end surface part of a donut-shaped glass plate.
通常、イオン交換は、ガラスの転移温度(Tg)以下の温度域で、ガラス中のアルカリイオンを、それよりもイオン半径の大きいアルカリイオンと置換し、置換によるイオン交換部の容積増加によってガラス表層に強い圧縮応力を発生させてガラス表面を強化する。 Usually, ion exchange replaces alkali ions in the glass with alkali ions having a larger ion radius in a temperature range below the glass transition temperature (Tg), and increases the volume of the ion exchange part due to the substitution. The glass surface is strengthened by generating strong compressive stress.
化学強化処理液としては、硝酸カリウム(KNO3)、硝酸ナトリウム(NaNO3)、炭酸カリウム(K2CO3)などの塩や、これらの塩を混合したもの(例えば、KNO3+NaNO3、KNO3+K2CO3など)の塩、あるいは、これらの塩にCu、Ag、Rb、Csなどのイオンの塩を混合したものの塩等が挙げられる。 Examples of the chemical strengthening treatment liquid include salts such as potassium nitrate (KNO 3 ), sodium nitrate (NaNO 3 ), potassium carbonate (K 2 CO 3 ), and mixtures of these salts (for example, KNO 3 + NaNO 3 , KNO 3 + K 2 CO 3 or the like), or salts obtained by mixing salts of ions such as Cu, Ag, Rb, and Cs with these salts.
加熱温度は、処理するガラスのガラス転移点によって変化するが、250℃〜650℃、特に350℃〜500℃、さらには350℃〜450℃であることが好ましい。 Although heating temperature changes with the glass transition points of the glass to process, it is preferable that they are 250 to 650 degreeC, especially 350 to 500 degreeC, Furthermore, it is preferable that it is 350 to 450 degreeC.
浸漬時間は、抗折強度と圧縮応力層の観点から、1時間〜20時間程度とすることが好ましい。ガラス基板表層に形成する圧縮応力層の厚さは、耐衝撃性を高めるという観点から、60〜300μm程度とすることが好ましい。
なお、ガラス基板を化学強化処理液に浸漬する前に、ガラス基板の割れやひびを防止するため、ガラス基板を200〜450℃に予熱しておくことが好ましい。
The immersion time is preferably about 1 to 20 hours from the viewpoint of the bending strength and the compressive stress layer. The thickness of the compressive stress layer formed on the surface layer of the glass substrate is preferably about 60 to 300 μm from the viewpoint of improving impact resistance.
In addition, before immersing a glass substrate in a chemical strengthening process liquid, in order to prevent a glass substrate from a crack and a crack, it is preferable to preheat a glass substrate at 200-450 degreeC.
本発明のガラス基板の製造方法においては、この化学強化処理は、複数枚の前記ドーナツ状ガラス板の主表面を合わせて積層し、主表面に圧力をかけた状態(加圧状態)で行われる。ドーナツ状ガラス板の積層方法としては、複数枚のドーナツ状ガラス板をドーナツ状のスペーサーと交互に各主表面を合わせて積層する方法を採用することが好ましい。 In the method for producing a glass substrate of the present invention, this chemical strengthening treatment is performed in a state where the main surfaces of the plurality of doughnut-shaped glass plates are laminated together and pressure is applied to the main surfaces (pressurized state). . As a method of laminating the doughnut-shaped glass plates, it is preferable to employ a method of laminating a plurality of donut-shaped glass plates with the main surfaces alternately aligned with the donut-shaped spacers.
スペーサーは、特に限定するものではないが、耐熱性、耐食性のよいものが望ましい。例えばステンレススチールなどの素材からなり、厚さ0.1〜0.5mmのドーナツ状のものが好ましく用いられる。0.5mmより大きい場合にはスペース効率が悪く、0.1mmより小さい場合には耐久性が低下する。スペーサーの外径寸法は、前記ドーナツ状ガラス板の外径の寸法以上である、即ち、スペーサーの外径が前記ドーナツ状ガラス板の外径と同じであるか、それより大きいことが好ましい。このような寸法にすることにより、前記ドーナツ状ガラス板とスペーサーとの積層体の加圧状態での化学強化処理時に、ガラス板の主表面を化学強化処理液にさらすことなく、ガラス板の側面のみを化学強化処理することができる。 The spacer is not particularly limited, but a spacer having good heat resistance and corrosion resistance is desirable. For example, a donut shape made of a material such as stainless steel and having a thickness of 0.1 to 0.5 mm is preferably used. When it is larger than 0.5 mm, the space efficiency is poor, and when it is smaller than 0.1 mm, the durability is lowered. The outer diameter of the spacer is preferably equal to or larger than the outer diameter of the doughnut-shaped glass plate, that is, the outer diameter of the spacer is equal to or larger than the outer diameter of the donut-shaped glass plate. By adopting such dimensions, the side surface of the glass plate can be exposed without exposing the main surface of the glass plate to the chemical strengthening treatment liquid during the chemical strengthening treatment in a pressurized state of the laminate of the donut glass plate and the spacer. Only chemical strengthening treatment can be performed.
前記ドーナツ状ガラス板とスペーサーとの積層体の加圧方法としては、積層したガラス板の主表面の垂直軸方向に移動可能な押し付け板を用い、この押し付け板で積層体を主表面の垂直軸方向に押圧する方法を採用できる。この押し付け板の押圧は機械的に行ってもよいが、積層したガラス板の主表面の垂直軸方向に移動可能な重しの重力によって行ってもよい。 As a method of pressing the laminated body of the doughnut-shaped glass plate and the spacer, a pressing plate that can move in the vertical axis direction of the main surface of the laminated glass plate is used, and the pressing plate moves the laminated body to the vertical axis of the main surface. A method of pressing in the direction can be employed. The pressing of the pressing plate may be performed mechanically, or may be performed by gravity of a weight that is movable in the vertical axis direction of the main surface of the laminated glass plates.
このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス母材側面の表層のリチウムイオン、ナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオン、カリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス板が強化される。 Thus, by immersing in the chemical strengthening solution, the lithium ions and sodium ions in the surface layer on the side surface of the glass base material are respectively replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, and the glass plate is strengthened.
化学強化の後、化学強化処理液からガラス基板を引き上げ、熱歪みの発生を抑えることができるように所定温度まで徐冷することが好ましい。このように徐冷することにより、熱歪みによるダメージを回避できる。 After chemical strengthening, it is preferable that the glass substrate is lifted from the chemical strengthening treatment solution and gradually cooled to a predetermined temperature so that the occurrence of thermal distortion can be suppressed. Such slow cooling can avoid damage due to thermal strain.
ガラス基板を徐冷する速度は、2℃/分〜100℃/分、特に5℃/分〜60℃/分、さらには10℃/分〜50℃/分であることが好ましい。 The rate of slow cooling of the glass substrate is preferably 2 ° C / min to 100 ° C / min, particularly 5 ° C / min to 60 ° C / min, and more preferably 10 ° C / min to 50 ° C / min.
徐冷は、例えば、第一、第二徐冷室を用いて順次徐冷する二段階徐冷を行うことが好ましい。まず、化学強化処理液からガラス基板を引き上げ、例えば、300℃に加熱されている第一徐冷室に移送し、この中で約10分間保持して300℃にガラス基板を徐冷する。ついで、第一徐冷室から例えば、200℃に加熱されている第二徐冷室にガラス基板を移送し、300℃から200℃までガラス基板を徐冷する。このように二段階に分けて徐冷することにより、熱歪みによるダメージからガラス基板を開放できる。 For the slow cooling, for example, it is preferable to perform two-stage slow cooling in which the first and second slow cooling chambers are gradually cooled. First, the glass substrate is pulled up from the chemical strengthening treatment liquid and transferred to, for example, a first annealing chamber heated to 300 ° C., and held in this for about 10 minutes to slowly cool the glass substrate to 300 ° C. Next, the glass substrate is transferred from the first annealing chamber to, for example, the second annealing chamber heated to 200 ° C., and the glass substrate is gradually cooled from 300 ° C. to 200 ° C. Thus, by gradually cooling in two steps, the glass substrate can be released from damage due to thermal strain.
次いで、塩の結晶物を除去するために洗浄を行う。洗浄は、水または温水等に浸漬することによって行う。温水は、通常の水でも良いが、パーティクルの付着を抑えるため純水が好ましい。また、温水としては、80℃程度に加温したものが好ましく用いられる。尚、塩の結晶物は、析出溶融塩である硝酸塩と塩化物等である。 A wash is then performed to remove the salt crystals. Cleaning is performed by immersing in water or warm water. The warm water may be normal water, but pure water is preferable in order to suppress adhesion of particles. Moreover, as warm water, what was heated at about 80 degreeC is used preferably. In addition, the crystalline substance of a salt is nitrate and chloride which are precipitation molten salts.
塩の結晶物を効果的に除去するために、水または温水等に浸漬するだけでなく、超音波を伝播させる方法を付加した洗浄にしても良い。又、塩の結晶物だけではなく他のパーティクル等の汚れも併せて除去しても良い。この場合、パーティクル等の汚れを落とす洗浄剤を混合して異なった異物を一括して洗浄しても良い。 In order to effectively remove the salt crystals, it may be washed not only by immersing in water or warm water but also by a method of propagating ultrasonic waves. Further, not only the salt crystals but also dirt such as other particles may be removed together. In this case, different foreign substances may be collectively cleaned by mixing a cleaning agent that removes dirt such as particles.
(6)第1研磨工程
次に、主表面研磨工程として、第1研磨工程を施す。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程で主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする。この工程は、両面研磨装置と硬質樹脂ポリッシャとを用い、遊星歯車機構を用いて行うことができる。研磨剤としては酸化セリウム砥粒を用いることが好ましい。
(6) 1st grinding | polishing process Next, a 1st grinding | polishing process is given as a main surface grinding | polishing process. The first polishing process is mainly intended to remove scratches and distortions remaining on the main surface in the lapping process described above. This process can be performed using a planetary gear mechanism using a double-side polishing apparatus and a hard resin polisher. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains are preferably used.
(7)第2研磨工程
次に、主表面の鏡面研磨工程として、第2研磨工程を施す。この第2研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この工程は、両面研磨装置と軟質発泡樹脂ポリッシャを用い、遊星歯車機構を用いて行うことができる。研磨剤としては、第1研磨工程で用いる酸化セリウム砥粒に比べてより微細なコロイダルシリカ砥粒を用いることが好ましい。
(7) Second Polishing Step Next, a second polishing step is performed as a mirror polishing step for the main surface. The purpose of this second polishing step is to finish the main surface into a mirror surface. This step can be performed using a planetary gear mechanism using a double-side polishing apparatus and a soft foam resin polisher. As the abrasive, it is preferable to use finer colloidal silica abrasive grains than the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step.
(8)洗浄工程
第2研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄する。すなわち、2槽の中性洗剤洗浄槽、2槽の純水洗浄槽で順次浸漬洗浄し、次いでIPA洗浄槽で浸漬洗浄した後、IPA蒸気乾燥槽に入れて蒸気乾燥を行う。なお、各洗浄槽には、超音波を印加することが好ましい。
(8) Cleaning step The glass substrate that has finished the second polishing step is immersed in each of the cleaning baths of neutral detergent, neutral detergent, pure water, pure water, IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying) in order. Wash. That is, two neutral detergent cleaning tanks, two pure water cleaning tanks are sequentially immersed and cleaned, and then the IPA cleaning tank is immersed and cleaned, and then placed in an IPA vapor drying tank to perform steam drying. In addition, it is preferable to apply an ultrasonic wave to each washing tank.
次に、本発明の化学強化装置につき説明する。
図3は、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法に用いる化学強化装置の外観を示す図である。
図3aは、本発明の化学強化装置にドーナツ状のガラス板1を複数枚積層して設置した状態を示している。この状態で、溶融塩の中に浸漬し、化学強化処理を行う。このドーナツ状のガラス板1はそれぞれスペーサー(図示せず)を介して積層されていることが好ましい。
Next, the chemical strengthening apparatus of the present invention will be described.
FIG. 3 is a view showing the appearance of a chemical strengthening apparatus used in the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention.
FIG. 3 a shows a state in which a plurality of donut-shaped
まず、図3eには、2本の支柱6,6を立てたベース板5が示されている。この2本の支柱6,6を立てたベース板5を傾けて設置しておき、この支柱6,6とベース板5で支えるように、好ましくはスペーサーを介して複数枚積層したドーナツ状のガラス板1を設置する。その際、ガラス板1が支柱に直接接触せず、図示していない支柱側スペーサーを介して接触するように、支柱側スペーサーを設置しておく。このようにすることで、図3dに示すように、容易に積層したドーナツ状のガラス板1を整列させることが出来る。なお、図3aに示すように固定した後、支柱側スペーサーを取り外すことによって、ガラス板1と支柱6との間に間隙を設けることが出来、支柱との接触による化学強化のムラ、または、摺動によるダメージやパーティクルの発生を防止することが出来る。
First, FIG. 3e shows a
次に、図3cに示すように、3本目の支柱6を設置し、ベース板5を下にして置く。次に、図3bに示すように、3本の支柱6,6,6に沿って稼動可能なように、支柱径よりも大きな孔12を設けた押し付け板8を上から載せ、図3aに示すように、ガラス板の主表面を加圧するような状態でナット10を用いて固定する。このような状態にすることで、これを化学強化処理液に浸漬してもガラス板の主表面には化学強化処理液が進入することなく、化学強化処理液に浸漬可能な状態となる。
Next, as shown in FIG. 3c, a
化学強化処理液中に浸漬すると、ベース板5と押し付け板8の中心部には、設置するドーナツ状のガラス板1の内孔2に位置合わせして孔9、11が設けられており、また、ベース板には、台となる突起7を設けているので、化学強化処理液が積層したガラス板の内孔部分にも入り込み、内径の端面部分も化学強化処理を行うことが出来る。
When immersed in the chemical strengthening treatment liquid, holes 9 and 11 are provided in the center of the
なお、押し付け板8の厚みを調節することによって、ガラス板の主表面に掛かる圧力を調整することが出来る。すなわち、この図3の場合は、押し付け板8は重しの役割も兼ねている。 The pressure applied to the main surface of the glass plate can be adjusted by adjusting the thickness of the pressing plate 8. That is, in the case of FIG. 3, the pressing plate 8 also serves as a weight.
一回の処理枚数を増やすには、支柱6を長くし、押し付け板の上に稼動可能な孔と化学強化処理液が入る孔を設けた重しを追加するだけで、処理枚数を増やすことが出来る。
すなわち、処理するガラス板の厚みとベース板の厚みと押し付け板の厚みと重しの厚みだけで済むため、例えば、100枚積層して処理する場合には厚み20cmとなり、従来のホルダーで処理する場合の約70cm比較して、3分の1以下であり、スペース効率を約3倍上げることが出来る。
In order to increase the number of sheets processed at one time, it is possible to increase the number of processed sheets by simply increasing the length of the
That is, since only the thickness of the glass plate to be processed, the thickness of the base plate, the thickness of the pressing plate, and the thickness of the pressing plate are sufficient, for example, when processing by stacking 100 sheets, the thickness becomes 20 cm, and processing is performed with a conventional holder. Compared with about 70 cm of the case, it is 1/3 or less, and the space efficiency can be increased about 3 times.
次に本発明の磁気ディスクの製造方法に付き説明する。
前述の(1)〜(8)の工程により製造された磁気ディスク用ガラス基板を用いて、以下に示す工程により磁気ディスクを製造する。
Next, a method for manufacturing a magnetic disk according to the present invention will be described.
A magnetic disk is manufactured by the following process using the glass substrate for magnetic disk manufactured by the processes (1) to (8) described above.
(9)磁性層形成工程
磁性層形成工程においては、磁気ディスク用ガラス基板の主表面の上に少なくとも磁性層を形成する。磁性層としては、Co−Pt系合金磁性層が好ましい。また、磁気ディスク用ガラス基板と磁性層との間には、磁性層の結晶配向性やグレインの制御、微細化を図る観点から、適宜下地層を形成するようにしてもよい。これら下地層及び磁性層の成膜方法としては、例えば、DCマグネトロンスパッタリング法を用いることができる。下地層としては、Cr合金からなる下地層が好ましい。
なお、磁性層形成工程で形成された磁性層の上に磁性層を保護するための保護層を設ける保護層形成工程、保護層形成工程で形成された保護層の上に磁気ヘッドからの衝撃を緩和するための潤滑層を形成する潤滑層形成工程を設けることが好ましい。
(9) Magnetic Layer Formation Step In the magnetic layer formation step, at least a magnetic layer is formed on the main surface of the magnetic disk glass substrate. As the magnetic layer, a Co—Pt alloy magnetic layer is preferable. Further, an underlayer may be appropriately formed between the glass substrate for magnetic disk and the magnetic layer from the viewpoint of controlling the crystal orientation of the magnetic layer, grain, and miniaturization. As a method for forming these underlayer and magnetic layer, for example, a DC magnetron sputtering method can be used. As the underlayer, an underlayer made of a Cr alloy is preferable.
A protective layer forming step for providing a protective layer for protecting the magnetic layer on the magnetic layer formed in the magnetic layer forming step, and an impact from the magnetic head on the protective layer formed in the protective layer forming step. It is preferable to provide a lubricating layer forming step for forming a lubricating layer for relaxation.
(10)保護層形成工程
保護層形成工程においては、磁性層形成工程で形成された磁性層の上に磁性層を保護するための保護層を設ける。保護層の材料としては、炭素系保護層を挙げることができる。炭素系保護層としては水素化炭素、窒素化炭素を用いることができる。この保護層の形成には、プラズマCVD法、または、DCマグネトロンスパッタリング法を用いることができる。
(10) Protective layer forming step In the protective layer forming step, a protective layer for protecting the magnetic layer is provided on the magnetic layer formed in the magnetic layer forming step. Examples of the material for the protective layer include a carbon-based protective layer. As the carbon-based protective layer, hydrogenated carbon or nitrogenated carbon can be used. For the formation of this protective layer, plasma CVD or DC magnetron sputtering can be used.
(11)潤滑層形成工程
潤滑層形成工程においては、保護層形成工程で形成された保護層の上に磁気ヘッドからの衝撃を緩和するための潤滑層を形成する。潤滑層としては、パーフルオロポリエーテル系潤滑層を挙げることができる。特に、保護層との親和性に優れる水酸基を具備するアルコール変性パーフルオロポリエーテル潤滑層が好ましい。この潤滑層は、ディップ法を用いて形成することができる。
(11) Lubricating layer forming step In the lubricating layer forming step, a lubricating layer for reducing the impact from the magnetic head is formed on the protective layer formed in the protective layer forming step. An example of the lubricating layer is a perfluoropolyether lubricating layer. In particular, an alcohol-modified perfluoropolyether lubricating layer having a hydroxyl group having excellent affinity with the protective layer is preferable. This lubricating layer can be formed using a dip method.
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。
<実施例1>
磁気ディスク用ガラス基板製造用材料として、溶融プレス法によって形成されたアルミノシリケートガラスからなる直径66mm、厚み1.3mmの円板状ガラス板を用いた。
アルミノシリケートガラスとしては、モル%表示で、SiO2を57〜74%、Al2O3を3〜15%、LiO2を7〜16%、Na2Oを4〜14%主成分として含有する化学強化用ガラスを使用した。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
<Example 1>
As a material for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, a disc-shaped glass plate made of aluminosilicate glass formed by a melt press method and having a diameter of 66 mm and a thickness of 1.3 mm was used.
As the aluminosilicate glass, SiO 2 is contained in 57% to 74%, Al 2 O 3 is 3 to 15%, LiO 2 is 7 to 16%, and Na 2 O is 4 to 14% as a main component. Glass for chemical strengthening was used.
1000枚の円板状ガラス板に対し両面ラッピング装置とアルミナ砥粒(粒径45μm)を用いて第1のラッピング加工を行い、厚み0.89〜0.90mmのガラス板を得た。
次に、ダイヤモンド砥石のコアドリルによって、このガラス板の中心軸にそって、所定の大きさの中心孔を形成し、ドーナツ状のガラス板を得た。
A first lapping process was performed on 1000 disc-shaped glass plates using a double-sided lapping apparatus and alumina abrasive grains (particle size: 45 μm) to obtain a glass plate having a thickness of 0.89 to 0.90 mm.
Next, a center hole of a predetermined size was formed along the central axis of the glass plate with a diamond drill core drill to obtain a donut-shaped glass plate.
続いて、穴あけ加工したドーナツ状のガラス板の主表面に対し第2のラッピング加工を行った。第2のラッピング加工では、両面ラッピング装置とアルミナ砥粒(粒径6μm)を用いて加工を行い、厚み0.66〜0.68mmのドーナツ状のガラス板を得た。得られたガラス板の平坦度と表面粗さ(Ra:0.33〜0.48μmおよびRmax:4.1〜7.7μm)、平坦度は0〜10μmであった。これら基板を、平坦度0〜4μmのガラス基板、平坦度4〜6μmのガラス基板、平坦度6μmより大きいガラス基板に分類した。平坦度0〜10μmのガラス基板100枚を選び出し、面取りを実施した。 Then, the 2nd lapping process was performed with respect to the main surface of the donut-shaped glass plate which carried out the drilling process. In the second lapping process, a doughnut-shaped glass plate having a thickness of 0.66 to 0.68 mm was obtained by using a double-sided lapping apparatus and alumina abrasive grains (particle diameter: 6 μm). The flatness and surface roughness (Ra: 0.33 to 0.48 μm and Rmax: 4.1 to 7.7 μm) and flatness of the obtained glass plate were 0 to 10 μm. These substrates were classified into a glass substrate having a flatness of 0 to 4 μm, a glass substrate having a flatness of 4 to 6 μm, and a glass substrate having a flatness of greater than 6 μm. 100 glass substrates having a flatness of 0 to 10 μm were selected and chamfered.
次に、前述の面取り工程を終えたドーナツ状のガラス板の端面部分に化学強化処理を施した。図3に示す化学強化装置に100枚のドーナツ状のガラス板を積層し、300℃に予熱した後、化学強化処理液に浸漬した。なお、図3の押し付け板8の厚みを調整し、ガラス板の間隙がなくなるように、ガラス板に加わる加重を調整した。化学強化処理は、380℃に加熱した硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化処理液に3時間浸漬して行った。化学強化処理液は重ね合わせたガラス板の間に入り込むことはなく、ガラス板の主表面は化学強化処理されなかった。 Next, the chemical strengthening process was performed to the end surface part of the doughnut-shaped glass plate which finished the above-mentioned chamfering process. 100 doughnut-shaped glass plates were laminated on the chemical strengthening apparatus shown in FIG. 3, preheated to 300 ° C., and then immersed in a chemical strengthening treatment solution. The thickness of the pressing plate 8 in FIG. 3 was adjusted, and the load applied to the glass plate was adjusted so that there was no gap between the glass plates. The chemical strengthening treatment was performed by immersing in a chemical strengthening treatment liquid in which potassium nitrate (60%) heated to 380 ° C. and sodium nitrate (40%) were mixed for 3 hours. The chemical strengthening treatment liquid did not enter between the laminated glass plates, and the main surface of the glass plate was not chemically strengthened.
化学強化を終えた化学強化装置を、化学強化処理液からガラス基板を引き上げ、300℃に加熱されている第1徐冷室に移送し、この中で約30分間保持して300℃に徐冷する。ついで、第1徐冷室から200℃に加熱されている第2徐冷室に移送し、300℃から200℃までガラス基板を徐冷した。
徐冷した化学強化装置を80℃に加熱した純水に浸漬して洗浄を行い、さらに、純水に浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。
After the chemical strengthening, the chemical strengthening apparatus pulls up the glass substrate from the chemical strengthening treatment liquid, transfers it to the first slow cooling chamber heated to 300 ° C., holds it therein for about 30 minutes, and slowly cools to 300 ° C. To do. Subsequently, the glass substrate was transferred from the first annealing chamber to the second annealing chamber heated to 200 ° C., and the glass substrate was gradually cooled from 300 ° C. to 200 ° C.
The chemical strengthening apparatus that had been slowly cooled was immersed in pure water heated to 80 ° C. for cleaning, and further immersed in pure water for cleaning. Note that ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.
次に、両面研磨装置と硬質樹脂ポリッシャとを用い、酸化セリウム砥粒を研磨剤としては用い、第1研磨を行った。次に、第2研磨として、両面研磨装置と軟質発泡樹脂ポリッシャを用い、遊星歯車機構を用い、研磨剤としては、コロイダルシリカ砥粒を用い、精密研磨し、表面を鏡面仕上げした。
第2研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。
このようにして磁気ディスク用ガラス基板を製造した。
Next, the first polishing was performed using a double-side polishing apparatus and a hard resin polisher and using cerium oxide abrasive as an abrasive. Next, as the second polishing, a double-side polishing apparatus and a soft foamed resin polisher were used, a planetary gear mechanism was used, and colloidal silica abrasive grains were used as the polishing agent, and the surface was mirror-finished.
The glass substrate which finished the 2nd grinding | polishing process was immersed in each washing | cleaning tank of neutral detergent, neutral detergent, a pure water, a pure water, IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying) sequentially, and was wash | cleaned. Note that ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.
In this way, a glass substrate for a magnetic disk was produced.
磁気ディスク用ガラス基板を、光学式の表面欠陥検査装置で表面の欠陥を検査した。また、光学式の平坦度測定装置によって、平坦度を測定した。更に、円環抗折強度を測定した。その結果を表1に示す。 The surface defect of the glass substrate for a magnetic disk was inspected with an optical surface defect inspection apparatus. Further, the flatness was measured by an optical flatness measuring device. Furthermore, the ring bending strength was measured. The results are shown in Table 1.
得られた磁気ディスク用ガラス基板の両面にCr下地層、CoPtCr磁性層、カーボン保護層をマグネトロンスパッタリング法によりこの順に成膜し、その上にパーフルオロポリエーテル系潤滑層をディップ法を用いて形成することにより、磁気記録媒体を作製し、電磁変換特性を評価した。 A Cr underlayer, a CoPtCr magnetic layer, and a carbon protective layer are formed in this order on both sides of the obtained magnetic disk glass substrate by a magnetron sputtering method, and a perfluoropolyether-based lubricating layer is formed thereon using a dip method. As a result, a magnetic recording medium was produced and the electromagnetic conversion characteristics were evaluated.
<実施例2>
実施例1で分類した平坦度4〜6μmのガラス基板から100枚を抜き取り、実施例1と同様に面取り、化学強化処理、洗浄、第1研磨、第2研磨、洗浄を行って磁気ディスク用ガラス基板を製造した。得られた磁気ディスク用ガラス基板を実施例1と同様にして表面欠陥、平坦度、円環抗折強度を測定した。その結果を表1に示す。
また、実施例2で得た磁気ディスク用ガラス基板についても実施例1と同様にして磁気記録媒体を作製し、電磁変換特性を評価した。
<Example 2>
100 glass plates with a flatness of 4 to 6 μm classified in Example 1 were extracted, and chamfered, chemically strengthened, cleaned, first polished, second polished, and cleaned in the same manner as in Example 1 to produce magnetic disk glass. A substrate was manufactured. The obtained glass substrate for magnetic disk was measured for surface defects, flatness, and ring bending strength in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
For the magnetic disk glass substrate obtained in Example 2, a magnetic recording medium was prepared in the same manner as in Example 1, and the electromagnetic conversion characteristics were evaluated.
<実施例3>
実施例1で分類した平坦度6μmより大きなガラス基板から100枚を抜き取り、実施例1と同様に面取り、化学強化処理、洗浄、第1研磨、第2研磨、洗浄を行って磁気ディスク用ガラス基板を製造した。得られた磁気ディスク用ガラス基板を実施例1と同様にして表面欠陥、平坦度、円環抗折強度を測定した。その結果を表1に示す。
<Example 3>
100 glass substrates having a flatness larger than 6 μm classified in Example 1 were extracted, and chamfered, chemically strengthened, washed, first polished, second polished, and washed in the same manner as in Example 1 to obtain a glass substrate for a magnetic disk. Manufactured. The obtained glass substrate for magnetic disk was measured for surface defects, flatness, and ring bending strength in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
<実施例4>
第2のラッピング加工で、アルミナ砥粒(粒径10μm)を用いて加工した以外実施例1と同様にして、加工を行い、厚み0.66〜0.68mmのドーナツ状のガラス板を得た。得られたガラス板の表面粗さ(Ra0.51〜0.75μmおよびRmax8.3〜12.8μm)、平坦度は0〜9μmであった。これら基板から平坦度1〜4μmのガラス基板100枚を選び出し、実施例1と同様に面取り、化学強化処理、洗浄、第1研磨、第2研磨、洗浄を行って磁気ディスク用ガラス基板を製造した。得られた磁気ディスク用ガラス基板を実施例1と同様にして表面欠陥、平坦度、円環抗折強度を測定した。その結果を表1に示す。
<Example 4>
In the second lapping process, a doughnut-shaped glass plate having a thickness of 0.66 to 0.68 mm was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was processed using alumina abrasive grains (particle size: 10 μm). . The surface roughness (Ra 0.51 to 0.75 μm and Rmax 8.3 to 12.8 μm) and flatness of the obtained glass plate were 0 to 9 μm. 100 glass substrates having a flatness of 1 to 4 μm were selected from these substrates, and chamfered, chemically strengthened, cleaned, first polished, second polished, and cleaned in the same manner as in Example 1 to produce a magnetic disk glass substrate. . The obtained glass substrate for magnetic disk was measured for surface defects, flatness, and ring bending strength in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
<実施例5>
実施例1で分類した平坦度1〜4μmのガラス基板から100枚を抜き取り、実施例1と同様に面取り、化学強化処理、洗浄、第1研磨、第2研磨、洗浄を行って磁気ディスク用ガラス基板を製造した。
ただし、強化処理は図3に示す化学強化装置に100枚のドーナツ状のガラス板を積層し、図3の押し付け板8を載せ、ガラス板の間隙がなくなるように、ナット10を締め込みガラス板に加わる加重を調整し固定した以外は、実施例1と同様である。
得られた磁気ディスク用ガラス基板を実施例1と同様にして表面欠陥、平坦度、円環抗折強度を測定した。その結果を表1に示す。
<Example 5>
100 glass plates with a flatness of 1 to 4 μm classified in Example 1 were extracted, and chamfered, chemically strengthened, washed, first polished, second polished, and washed in the same manner as in Example 1 to produce a magnetic disk glass. A substrate was manufactured.
However, in the strengthening process, 100 doughnut-shaped glass plates are stacked on the chemical strengthening apparatus shown in FIG. 3, the pressing plate 8 of FIG. 3 is placed, and the
The obtained glass substrate for magnetic disk was measured for surface defects, flatness, and ring bending strength in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
<実施例6>
実施例1で分類した平坦度1〜4μmのガラス基板から100枚を抜き取り、このガラス板と同寸法の外径、内径を有する厚み0.2mmのSUS304製のスペーサーとガラス板とを交互に主表面を合わせて積層した積層体を実施例1と同様にして図3に示す化学強化装置にセットしこれを用いた以外は実施例1と同様にして化学強化処理を行い、以下、実施例1と同様にして磁気ディスク用ガラス基板を製造した。得られた磁気ディスク用ガラス基板を実施例1と同様にして表面欠陥、平坦度、円環抗折強度を測定した。その結果を表1に示す。
実施例6で得た磁気ディスク用ガラス基板についても実施例1と同様にして磁気記録媒体を作製し、電磁変換特性を評価した。
<Example 6>
100 glass substrates with a flatness of 1 to 4 μm classified in Example 1 were extracted, and SUS304 spacers and glass plates having an outer diameter and an inner diameter of the same dimensions as this glass plate were alternately used. The laminated body which laminated | stacked according to the surface was set to the chemical strengthening apparatus shown in FIG. 3 similarly to Example 1, and except having used this, a chemical strengthening process was performed like Example 1, and hereafter, Example 1 is referred to. A glass substrate for a magnetic disk was manufactured in the same manner as described above. The obtained glass substrate for magnetic disk was measured for surface defects, flatness, and ring bending strength in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
For the magnetic disk glass substrate obtained in Example 6, a magnetic recording medium was prepared in the same manner as in Example 1, and the electromagnetic conversion characteristics were evaluated.
<比較例1>
実施例1で分類した平坦度1〜4μmのガラス基板から100枚を抜き取り、従来用いられている化学強化処理条件に変更した。すなわち、面取り工程の後、第1研磨工程、第2研磨工程、洗浄工程を経た後、ガラス基板を1枚ずつホルダーに入れて、化学強化処理を行い、他は同様にしてガラス基板製造した。化学強化処理液としては、実施例1で用いたと同様の処理液を用いた。この場合、ガラス基板全体が化学強化されている。得られた磁気ディスク用ガラス基板を実施例1と同様にして表面欠陥、平坦度、円環抗折強度を測定した。その結果を表1に示す。
得られた磁気ディスク用ガラス基板についても実施例1と同様にして磁気記録媒体を作製し、電磁変換特性を評価した。
<Comparative Example 1>
100 glass substrates with a flatness of 1 to 4 μm classified in Example 1 were extracted and changed to chemical strengthening treatment conditions used conventionally. That is, after the chamfering process, after passing through the first polishing process, the second polishing process, and the cleaning process, the glass substrates were put one by one in the holder and subjected to chemical strengthening treatment, and the others were manufactured in the same manner. As the chemical strengthening treatment liquid, the same treatment liquid as used in Example 1 was used. In this case, the entire glass substrate is chemically strengthened. The obtained glass substrate for magnetic disk was measured for surface defects, flatness, and ring bending strength in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
For the obtained magnetic disk glass substrate, a magnetic recording medium was produced in the same manner as in Example 1, and the electromagnetic conversion characteristics were evaluated.
表1から明らかなように、比較例1で得られた磁気ディスク用ガラス基板は化学強化による平坦度の悪化は見られないものの化学強化処理工程による表面欠陥が多いものであった。これに比べて、実施例1〜6で得られた磁気ディスク用ガラス基板はいずれも欠陥数が少なく、本発明のガラス基板の製造方法によれば、化学強化処理液によりガラス基板の主表面があらされることによる欠陥の発生がないことが推測される。 As is apparent from Table 1, the glass substrate for magnetic disk obtained in Comparative Example 1 had many surface defects due to the chemical strengthening treatment step although no deterioration in flatness due to chemical strengthening was observed. In comparison, all the glass substrates for magnetic disks obtained in Examples 1 to 6 have a small number of defects, and according to the method for producing a glass substrate of the present invention, the main surface of the glass substrate is caused by the chemical strengthening treatment liquid. It is presumed that there are no defects due to the occurrence.
また、実施例1、2と実施例3の比較から、平坦度が平均3μmの実施例1、平均5μmの実施例2(いずれも平坦度は6μm以下である)では化学強化処理による平坦度悪化は見られないが、平坦度の平均が9μmである実施例3では化学強化処理後にさらに平坦度が低下するため、第2ラッピング後のガラス板の平坦度は6μm以下であることが好ましい。 Further, from the comparison between Examples 1 and 2 and Example 3, in Example 1 with an average flatness of 3 μm and Example 2 with an average of 5 μm (both flatness is 6 μm or less), the flatness deteriorates due to chemical strengthening treatment. However, in Example 3 where the average flatness is 9 μm, the flatness is further lowered after the chemical strengthening treatment. Therefore, the flatness of the glass plate after the second lapping is preferably 6 μm or less.
また、実施例1、2と実施例4の比較から、Raが0.5μm以下、Rmaxが8μm以下である実施例1、2では化学強化処理による平坦度悪化は見られないが、Raが0.5μmより大きく、Rmaxも8μmより大きい実施例4では平坦度が低下するため、第2ラッピング後のガラス板のRaは0.5μm以下であることが好ましく、Rmaxが8μm以下であることが好ましい。 Further, from the comparison between Examples 1 and 2 and Example 4, in Examples 1 and 2 in which Ra is 0.5 μm or less and Rmax is 8 μm or less, deterioration in flatness due to chemical strengthening treatment is not observed, but Ra is 0 In Example 4 where the thickness is larger than 0.5 μm and Rmax is also larger than 8 μm, the flatness is lowered. Therefore, Ra of the glass plate after the second lapping is preferably 0.5 μm or less, and Rmax is preferably 8 μm or less. .
また、実施例1、2と実施例5の比較から、移動可能な重しによって加圧された実施例1、実施例2では化学強化処理による平坦度悪化は見られないが、押し付け板8をナットで締め付け加圧された実施例5では化学強化処理後平坦度が低下した。これは、支柱6が、化学強化処理における加熱のため熱膨張し、加圧力が低下したものと推定する。実施例1、2のように移動可能な重しによる加圧は、加熱中も加圧力が低下せず、好ましい。
Further, from the comparison between Examples 1 and 2 and Example 5, in Examples 1 and 2 pressed by a movable weight, flatness deterioration due to the chemical strengthening treatment is not seen, but the pressing plate 8 is In Example 5 which was tightened and pressurized with a nut, the flatness decreased after the chemical strengthening treatment. This is estimated that the support |
スペーサーを用いて製造した実施例6の場合も、実施例1、2の場合と同様に、平坦度低下は見られなかった。また、ガラス基板100枚のロールオフ値を測定したところ、実施例6の場合、50μm以下の範囲に分布していたのに対し、実施例1のロールオフ値は、100μm以下の範囲に分布していた。実施例6では、スペーサーにより主表面への化学強化処理液の回り込みの防止効果が向上し、ロールオフ値のバラツキが小さくなっている。ここで、ロールオフ値とは、主表面の平坦面を基準とした時の外径端部の基準位置での平坦面からのズレを言う。ロールオフ値が大きいと、磁気ヘッドがこの部分をフライングすることが出来なくなり、記録部の減少となる。 In the case of Example 6 manufactured using a spacer, the flatness was not lowered as in Examples 1 and 2. Further, when the roll-off value of 100 glass substrates was measured, in the case of Example 6, it was distributed in the range of 50 μm or less, whereas the roll-off value of Example 1 was distributed in the range of 100 μm or less. It was. In Example 6, the effect of preventing the chemical strengthening treatment liquid from entering the main surface is improved by the spacer, and the variation in the roll-off value is reduced. Here, the roll-off value refers to a deviation from the flat surface at the reference position of the outer diameter end when the flat surface of the main surface is used as a reference. If the roll-off value is large, the magnetic head cannot fly this portion, resulting in a decrease in the recording portion.
実施例1、2、6および比較例1の磁気ディスク用基板を用いて作製した磁気記録媒体の電磁変換特性を評価した結果、従来基板である比較例1の磁気記録媒体に比較して、本発明の磁気ディスク用ガラス基板である実施例1,2、6で製造した磁気記録媒体のエラーレイトは、一桁以上低く、優れた特性を示す磁気記録媒体であった。 As a result of evaluating the electromagnetic conversion characteristics of the magnetic recording media produced using the magnetic disk substrates of Examples 1, 2, 6 and Comparative Example 1, the magnetic recording media of this example were compared with the magnetic recording medium of Comparative Example 1 as a conventional substrate. The error rate of the magnetic recording media manufactured in Examples 1, 2 and 6 which are the glass substrates for magnetic disks of the invention was one or more digits lower, and the magnetic recording media showed excellent characteristics.
本発明によれば破壊強度が高く、表面欠陥が少なく、優れた平坦性を持つ磁気ディスク用ガラス基板を廉価にかつ大量に得ることができ、この磁気ディスク用ガラス基板を用いて得られる磁気記録ディスクはエラーレイトが、一桁以上低く、優れた特性を示すという特徴を有する。 According to the present invention, a glass substrate for a magnetic disk having high fracture strength, few surface defects, and excellent flatness can be obtained inexpensively and in large quantities, and magnetic recording obtained using this glass substrate for a magnetic disk The disc has a characteristic that the error rate is lower by one digit or more and exhibits excellent characteristics.
1 磁気ディスク用ガラス基板 2 内孔
3 面取り部 4 側面
5 ベース板 6 支柱
7 突起 8 押し付け板
9,11 中心孔 10 ナット
12 孔
DESCRIPTION OF
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007066926A JP2008226407A (en) | 2007-03-15 | 2007-03-15 | Magnetic disk substrate manufacturing method, chemical strengthening apparatus, and magnetic disk manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007066926A JP2008226407A (en) | 2007-03-15 | 2007-03-15 | Magnetic disk substrate manufacturing method, chemical strengthening apparatus, and magnetic disk manufacturing method |
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| JP2007066926A Pending JP2008226407A (en) | 2007-03-15 | 2007-03-15 | Magnetic disk substrate manufacturing method, chemical strengthening apparatus, and magnetic disk manufacturing method |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP2008226407A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011159367A (en) * | 2010-02-03 | 2011-08-18 | Konica Minolta Opto Inc | Method of manufacturing glass substrate for information recording medium, and method of manufacturing information recording medium |
-
2007
- 2007-03-15 JP JP2007066926A patent/JP2008226407A/en active Pending
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