JP2009021578A - Wiring substrate with reinforcing member - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、樹脂配線基板の反りを防止するための補強材を備えた補強材付き配線基板に関するものである。 The present invention relates to a wiring board with a reinforcing material provided with a reinforcing material for preventing warping of a resin wiring board.
パソコンや携帯電話のようなエレクトロニクス機器の普及は、IT革命として社会構造に大きな変革をもたらしつつある。この技術の核となるのが大規模半導体集積回路(LSI)技術であり、かかるLSI(LSIチップ)の動作周波数は演算速度の向上を達成するために益々上がる傾向にある。なお、LSIチップは、LSI搭載用配線基板上にフリップチップ接続された状態(いわゆる半導体パッケージの状態)で使用される(例えば、特許文献1参照)。このLSIチップは、一般に熱膨張係数が2.0ppm/℃〜5.0ppm/℃程度の半導体材料(例えばシリコン等)を用いて形成される。一方、LSI搭載用配線基板は、それよりも熱膨張係数がかなり大きい樹脂材料等を用いて形成された樹脂配線基板であることが多い。この樹脂配線基板の一例としては、高分子材料製のコア基板の表面及び裏面にビルドアップ層を形成したものが従来提案されている。 The spread of electronic devices such as personal computers and mobile phones is revolutionizing the social structure as an IT revolution. The core of this technology is a large-scale semiconductor integrated circuit (LSI) technology, and the operating frequency of such LSI (LSI chip) tends to increase more and more in order to achieve an improvement in calculation speed. The LSI chip is used in a flip chip connection state (so-called semiconductor package state) on the LSI mounting wiring board (see, for example, Patent Document 1). This LSI chip is generally formed using a semiconductor material (for example, silicon) having a thermal expansion coefficient of about 2.0 ppm / ° C. to 5.0 ppm / ° C. On the other hand, an LSI mounting wiring board is often a resin wiring board formed using a resin material having a considerably larger thermal expansion coefficient. As an example of this resin wiring substrate, a substrate in which a buildup layer is formed on the front surface and the back surface of a core substrate made of a polymer material has been conventionally proposed.
ところで近年では、半導体パッケージが搭載される機器の小型化に伴い、樹脂配線基板の小型化、薄肉化が要求されている。しかし、樹脂配線基板が薄肉化され、特にコア基板の厚さが例えば800μm以下になると、樹脂配線基板の剛性の低下が避けられなくなる。この場合、フリップチップ接続に用いたはんだが冷却される際に、チップ材料と基板材料との熱膨張係数差に起因する熱応力の影響を受けて、樹脂配線基板がチップ搭載面側に反りやすくなる。その結果、チップ接合部分にクラックが起こり、オープン不良などが生じやすくなる。つまり、上記のようなLSIチップを用いて半導体パッケージを構成した場合、高い歩留まりや信頼性を実現できないという問題が生じる。また、樹脂配線基板が小型化されると、半導体パッケージのハンドリング性が低下するという問題も生じる。 Incidentally, in recent years, with the miniaturization of devices on which semiconductor packages are mounted, there is a demand for miniaturization and thinning of resin wiring boards. However, when the thickness of the resin wiring board is reduced, and particularly when the thickness of the core board is 800 μm or less, for example, the rigidity of the resin wiring board is inevitably lowered. In this case, when the solder used for flip chip connection is cooled, the resin wiring board tends to warp to the chip mounting surface side due to the influence of thermal stress caused by the difference in thermal expansion coefficient between the chip material and the substrate material. Become. As a result, cracks occur in the chip bonding portion, and open defects are likely to occur. That is, when a semiconductor package is configured using the LSI chip as described above, there arises a problem that high yield and reliability cannot be realized. Further, when the resin wiring board is miniaturized, there arises a problem that the handling property of the semiconductor package is lowered.
上記の問題を解決するために、樹脂配線基板101の片面(基板主面102または基板裏面103)に、両面接着テープ104(または、はんだ等)を用いて金属製のスティフナ105を貼付した半導体パッケージ100が提案されている(図10,図11参照)。このようにすれば、スティフナ105によって樹脂配線基板101の反りが抑えられ、樹脂配線基板101とLSIチップ106との接合部分にクラックが生じにくくなるため、歩留まりが高くなり、信頼性が向上する。また、スティフナ105を貼付することで半導体パッケージ100の剛性が高くなるため、半導体パッケージ100のハンドリング性が向上する。
ところで、スティフナ105は、樹脂配線基板101の片面のみに接触する単純形状(平板状)であるため、樹脂配線基板101の反りを抑える機能を持たせるために自身の剛性を高くする必要がある。そこで、スティフナ105を厚く形成することが考えられるが、半導体パッケージ100全体が肉厚になり、半導体パッケージ100の大型化に繋がってしまう。よって、スティフナ105を、応力の影響を受けても反らない高剛性の金属材料によって形成することが必須となる。しかし、高剛性の金属材料は一般的に高価であるため、スティフナ105の製造コストが上昇し、ひいては半導体パッケージ100の製造コストが上昇してしまう。
By the way, since the
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、補強材の製造コストを上昇させることなく、信頼性及びハンドリング性を向上させることができる補強材付き配線基板を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a wiring board with a reinforcing material that can improve reliability and handling properties without increasing the manufacturing cost of the reinforcing material. It is in.
そして上記課題を解決するための手段としては、基板主面、基板裏面及び基板側面を有し、四辺を有する平面視矩形状をなし、樹脂絶縁層及び導体層を積層した構造の樹脂配線基板と、前記樹脂配線基板の四辺を包囲する矩形枠状に形成されるとともに、その内壁面が、前記基板側面と、前記基板主面の外周部及び前記基板裏面の外周部の少なくとも一方とに面接合される窪みを有する補強材とを備えることを特徴とする補強材付き配線基板がある。 And as a means for solving the above-mentioned problems, there is a resin wiring board having a substrate main surface, a substrate back surface, a substrate side surface, a rectangular shape in plan view having four sides, and a structure in which a resin insulating layer and a conductor layer are laminated. And a rectangular frame surrounding the four sides of the resin wiring board, and its inner wall surface is bonded to the side surface of the substrate and at least one of the outer peripheral portion of the substrate main surface and the outer peripheral portion of the substrate back surface. There is a wiring board with a reinforcing material characterized by comprising a reinforcing material having a recessed portion.
従って、上記手段の発明によれば、補強材が樹脂配線基板の四辺における2面以上に面接合することで、樹脂配線基板の四辺を確実に補強できるため、樹脂配線基板の反りが確実に抑えられる。それゆえ、樹脂配線基板の反りに起因する不具合が防止されるため、補強材付き配線基板の信頼性が向上する。また、樹脂配線基板に対する補強材の面接合により、補強材付き配線基板の剛性が高くなるため、補強材付き配線基板のハンドリング性が向上する。しかも、補強材は、窪みを有しており、単なる平板状よりも剛性が高い形状であるため、補強材を肉厚にしたり、補強材をコストの高い高剛性の材料を用いて形成したりしなくても済む。従って、補強材の製造コストを上昇させることなく、信頼性及びハンドリング性を向上させることができる。 Therefore, according to the invention of the above means, since the reinforcing material can be bonded to two or more surfaces on the four sides of the resin wiring board, the four sides of the resin wiring board can be reliably reinforced, so that the warping of the resin wiring board is surely suppressed. It is done. Therefore, problems due to the warpage of the resin wiring board are prevented, and the reliability of the wiring board with the reinforcing material is improved. Moreover, since the rigidity of the wiring board with the reinforcing material is increased by the surface bonding of the reinforcing material to the resin wiring board, the handling property of the wiring board with the reinforcing material is improved. Moreover, since the reinforcing material has a recess and has a shape that is higher in rigidity than a simple flat plate, the reinforcing material is made thicker or the reinforcing material is formed using a high-rigidity material with high cost. You don't have to. Therefore, reliability and handling can be improved without increasing the manufacturing cost of the reinforcing material.
上記補強材付き配線基板を構成する前記樹脂配線基板は、コスト性、加工性、絶縁性、機械的強度などを考慮して適宜選択することができる。樹脂配線基板としては、基板主面、基板裏面及び基板側面を有し、四辺を有する平面視矩形状をなし、樹脂絶縁層及び導体層を積層した構造のものが使用される。 The resin wiring board constituting the wiring board with reinforcing material can be appropriately selected in consideration of cost, workability, insulation, mechanical strength, and the like. As the resin wiring substrate, a substrate having a substrate main surface, a substrate back surface, a substrate side surface, a rectangular shape in plan view having four sides, and a structure in which a resin insulating layer and a conductor layer are laminated is used.
樹脂絶縁層は、絶縁性、耐熱性、耐湿性等を考慮して適宜選択することができる。樹脂絶縁層を形成するための高分子材料の好適例としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂などの熱硬化性樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリプロピレン樹脂などの熱可塑性樹脂等が挙げられる。そのほか、これらの樹脂とガラス繊維(ガラス織布やガラス不織布)やポリアミド繊維等の有機繊維との複合材料、あるいは、連続多孔質PTFE等の三次元網目状フッ素系樹脂基材にエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を含浸させた樹脂−樹脂複合材料等を使用してもよい。 The resin insulation layer can be appropriately selected in consideration of insulation, heat resistance, moisture resistance, and the like. Preferred examples of the polymer material for forming the resin insulation layer include thermosetting resins such as epoxy resin, phenol resin, urethane resin, silicone resin, polyimide resin, polycarbonate resin, acrylic resin, polyacetal resin, polypropylene resin, etc. And other thermoplastic resins. In addition, composite materials of these resins and organic fibers such as glass fibers (glass woven fabrics and glass nonwoven fabrics) and polyamide fibers, or three-dimensional network fluorine-based resin base materials such as continuous porous PTFE, epoxy resins, etc. A resin-resin composite material impregnated with a thermosetting resin may be used.
前記導体層は主として銅からなり、サブトラクティブ法、セミアディティブ法、フルアディティブ法などといった公知の手法によって形成される。具体的に言うと、例えば、銅箔のエッチング、無電解銅めっきあるいは電解銅めっきなどの手法が適用される。なお、スパッタやCVD等の手法により薄膜を形成した後にエッチングを行うことで導体層を形成したり、導電性ペースト等の印刷により導体層を形成したりすることも可能である。 The conductor layer is mainly made of copper, and is formed by a known method such as a subtractive method, a semi-additive method, or a full additive method. Specifically, for example, techniques such as etching of copper foil, electroless copper plating, or electrolytic copper plating are applied. Note that a conductor layer can be formed by etching after forming a thin film by a technique such as sputtering or CVD, or a conductor layer can be formed by printing a conductive paste or the like.
また、樹脂配線基板における内層には、コアとして金属板(メタルコア)が設けられていてもよい。かかる金属板を構成する金属の例としては、銅や銅合金、銅以外の金属単体や合金などがある。さらに、樹脂配線基板は、コア基板(樹脂製)上に、樹脂絶縁層と導体層とを交互に形成した形態としてもよい。 Moreover, the inner layer in the resin wiring board may be provided with a metal plate (metal core) as a core. Examples of the metal constituting the metal plate include copper, a copper alloy, and a simple metal or alloy other than copper. Furthermore, the resin wiring board may have a form in which resin insulating layers and conductor layers are alternately formed on a core substrate (made of resin).
上記補強材付き配線基板を構成する補強材は、前記基板側面と、前記基板主面の外周部及び前記基板裏面の外周部の少なくとも一方とに面接合される。補強材の形状等は特に限定されず任意であるが、前記基板側面と、前記基板主面の外周部及び前記基板裏面の外周部とに面接合されうる平面(内壁面)を有していることがよい。従って、例えば、前記基板側面と、前記基板主面の外周部とに面接合する断面略L字状の補強材、前記基板側面と、前記基板裏面の外周部とに面接合する断面略L字状の補強材、前記基板側面、前記基板主面の外周部及び前記基板裏面の外周部に面接合する断面略コ字状の補強材などを用いることが好ましく、特には、前記基板側面、前記基板主面の外周部及び前記基板裏面の外周部に面接合する断面略コ字状の補強材がよい。このようにすれば、断面略L字状である場合よりも補強材の剛性が高くなるため、樹脂配線基板の剛性がよりいっそう向上する。また、選択可能な補強材の形成材料の種類がさらに多くなるため、より低コストの材料を用いて補強材を形成することが可能となり、補強材の製造コストがよりいっそう低減される。 The reinforcing material constituting the wiring board with the reinforcing material is surface-bonded to the side surface of the substrate and at least one of the outer peripheral portion of the substrate main surface and the outer peripheral portion of the back surface of the substrate. The shape or the like of the reinforcing material is not particularly limited and is arbitrary, but has a flat surface (inner wall surface) that can be surface-bonded to the substrate side surface, the outer peripheral portion of the substrate main surface, and the outer peripheral portion of the substrate back surface. It is good. Therefore, for example, a substantially L-shaped reinforcing material that is surface-bonded to the substrate side surface and the outer peripheral portion of the substrate main surface, and a substantially L-shaped cross-section surface-bonded to the substrate side surface and the outer peripheral portion of the substrate back surface. It is preferable to use a substantially reinforcing material having a substantially U-shaped cross-section that is surface-bonded to the outer periphery of the substrate, the substrate side surface, the outer peripheral portion of the substrate main surface, and the outer peripheral portion of the back surface of the substrate. A reinforcing material having a substantially U-shaped cross section that is bonded to the outer peripheral portion of the substrate main surface and the outer peripheral portion of the back surface of the substrate is preferable. In this way, the rigidity of the reinforcing material becomes higher than that in the case of a substantially L-shaped cross section, and the rigidity of the resin wiring board is further improved. In addition, since the number of types of reinforcing material that can be selected is further increased, the reinforcing material can be formed using a lower cost material, and the manufacturing cost of the reinforcing material is further reduced.
なお、前記基板側面、前記基板主面の外周部及び前記基板裏面の外周部に面接合する断面略コ字状の補強材の一例としては、前記基板側面に面接触可能な補強材本体と、前記補強材本体から前記樹脂配線基板の中心方向に突出して前記基板主面の外周部に面接触可能な第1突出片と、前記補強材本体から前記樹脂配線基板の中心方向に突出して前記基板裏面の外周部に面接触可能な第2突出片とによって前記窪みを構成しているものを挙げることができる。この場合、前記第1突出片と前記第2突出片との間隔は、前記樹脂配線基板の厚さよりも小さくなっており、前記第1突出片と前記第2突出片とで前記樹脂配線基板を挟み込んでいることが好ましい。このようにすれば、補強材本体の内側面(内壁面)、第1突出片の内側面(内壁面)、及び、第2突出片の内側面(内壁面)の3面で樹脂配線基板を保持できるため、樹脂配線基板をより安定的に保持できる。しかも、接着剤を用いなくても、樹脂配線基板に補強材を確実に接合することができる。また、接着剤を用いるようにすれば、樹脂配線基板と補強材との接合がより確実になる。なお、基板主面側に例えば半導体集積回路素子が搭載され、基板裏面側が樹脂配線基板を搭載するための母基板に接続される場合、前記第2突出片の厚さは、前記第1突出片の厚さよりも小さくなっていることが好ましい。このようにすれば、樹脂配線基板に補強材を取り付けた場合でも、基板裏面と母基板との間隔があまり大きくならなくて済むため、基板裏面側と母基板とを容易に接続することができる。また、前記第1突出片の突出量は、前記第2突出片の突出量よりも大きく設定されることが好ましい。このようにすれば、第1突出片の突出量が第2突出片の突出量以下である場合よりも補強材の剛性が高くなるため、樹脂配線基板の剛性がよりいっそう向上する。 In addition, as an example of a reinforcing material having a substantially U-shaped cross section that is surface-bonded to the outer surface of the substrate side surface, the outer peripheral portion of the substrate main surface, and the outer peripheral portion of the back surface of the substrate, A first protruding piece that protrudes from the reinforcing material body toward the center of the resin wiring board and can come into surface contact with the outer peripheral portion of the main surface of the substrate, and protrudes from the reinforcing material body toward the center of the resin wiring board. The thing which comprises the said hollow with the 2nd protrusion piece which can be surface-contacted to the outer peripheral part of a back surface can be mentioned. In this case, an interval between the first projecting piece and the second projecting piece is smaller than a thickness of the resin wiring board, and the resin projecting circuit board is formed by the first projecting piece and the second projecting piece. It is preferable to sandwich. In this way, the resin wiring board is formed on the three surfaces of the inner surface (inner wall surface) of the reinforcing material body, the inner surface (inner wall surface) of the first projecting piece, and the inner surface (inner wall surface) of the second projecting piece. Since it can hold | maintain, a resin wiring board can be hold | maintained more stably. In addition, the reinforcing material can be reliably bonded to the resin wiring board without using an adhesive. Further, if an adhesive is used, the bonding between the resin wiring board and the reinforcing material becomes more reliable. In the case where, for example, a semiconductor integrated circuit element is mounted on the main surface side of the substrate and the back surface side of the substrate is connected to a mother substrate for mounting the resin wiring substrate, the thickness of the second protruding piece is set to the first protruding piece. The thickness is preferably smaller than the thickness. In this way, even when a reinforcing material is attached to the resin wiring board, the distance between the back surface of the substrate and the mother board does not have to be so large, and the back surface side of the board and the mother board can be easily connected. . Moreover, it is preferable that the protrusion amount of the first protrusion piece is set larger than the protrusion amount of the second protrusion piece. In this way, since the rigidity of the reinforcing material becomes higher than the case where the protrusion amount of the first protrusion piece is equal to or less than the protrusion amount of the second protrusion piece, the rigidity of the resin wiring board is further improved.
ここで、上記半導体集積回路素子としては、熱膨張係数が5.0ppm/℃未満であるものが使用される。半導体集積回路素子の熱膨張係数は、特に2.0ppm/℃以上5.0ppm/℃未満であることがよく、その例としては、熱膨張係数が4.0ppm/℃程度のシリコンからなる半導体集積回路素子(LSIチップ)などを挙げることができる。前記半導体集積回路素子の大きさ及び形状は特に限定されないが、少なくとも一辺が5.0mm以上であることがよい。このような大型の半導体集積回路素子になると、発熱量が増大しやすく応力の影響も受けやすいため、本願発明の課題が発生しやすくなるからである。このような薄肉の半導体集積回路素子になると、剛性が弱くなって応力の影響を受けやすくなるため、本願発明の課題が発生しやすくなるからである。 Here, as the semiconductor integrated circuit element, one having a thermal expansion coefficient of less than 5.0 ppm / ° C. is used. The thermal expansion coefficient of the semiconductor integrated circuit element is particularly preferably not less than 2.0 ppm / ° C. and less than 5.0 ppm / ° C., for example, a semiconductor integrated circuit made of silicon having a thermal expansion coefficient of about 4.0 ppm / ° C. Examples include circuit elements (LSI chips). The size and shape of the semiconductor integrated circuit element are not particularly limited, but at least one side is preferably 5.0 mm or more. This is because in such a large semiconductor integrated circuit element, the amount of heat generation is likely to increase, and the influence of stress is likely to occur, so that the problem of the present invention is likely to occur. This is because when such a thin semiconductor integrated circuit element is used, the rigidity of the semiconductor integrated circuit element becomes weak and it is easily affected by stress, so that the problem of the present invention is likely to occur.
ここで、半導体集積回路素子の「熱膨張係数」とは、厚み方向(Z方向)に対して垂直な方向(XY方向)の熱膨張係数のことを意味し、0℃〜100℃の間のTMA(熱機械分析装置)にて測定した値のことをいう。「TMA」とは、熱機械的分析をいい、例えばJPCA−BU01に規定されるものをいう。 Here, the “thermal expansion coefficient” of the semiconductor integrated circuit element means a thermal expansion coefficient in a direction (XY direction) perpendicular to the thickness direction (Z direction), and is between 0 ° C. and 100 ° C. It means the value measured with TMA (Thermomechanical Analyzer). “TMA” refers to thermomechanical analysis, such as that defined in JPCA-BU01.
前記補強材は、前記樹脂配線基板を構成する樹脂材料よりも高剛性の樹脂材料からなることが好ましく、例えば樹脂配線基板を構成する樹脂材料よりもヤング率が高い樹脂材料からなることが好ましい。具体的には、補強材を構成する樹脂材料のヤング率は50GPa以上であることが好適である。その理由は、補強材自体に高い剛性が付与されていれば、それを面接合することで樹脂配線基板に高い剛性を付与することができ、外部から加わる応力に対していっそう強くなるからである。また、高い剛性を有する補強材であれば、補強材を薄くしても樹脂配線基板に十分高い剛性を付与することができるため、補強材付き配線基板全体の薄肉化を阻害しないからである。なお、単に、樹脂配線基板よりも高剛性という条件を満たすものであれば、補強材はセラミック製であっても金属製であってもよい。しかし、製造コストや軽量化の面から言えば、補強材は、一般的にセラミック材料や金属材料よりも安価かつ軽量な樹脂材料からなることが好ましい。 The reinforcing material is preferably made of a resin material having a rigidity higher than that of the resin material constituting the resin wiring board. For example, the reinforcing material is preferably made of a resin material having a Young's modulus higher than that of the resin material constituting the resin wiring board. Specifically, the Young's modulus of the resin material constituting the reinforcing material is preferably 50 GPa or more. The reason is that if the reinforcing material itself is given high rigidity, it can be given high rigidity to the resin wiring board by surface bonding, and becomes stronger against externally applied stress. . In addition, if the reinforcing material has high rigidity, the resin wiring board can be provided with sufficiently high rigidity even if the reinforcing material is thinned, so that the thinning of the entire wiring board with reinforcing material is not hindered. Note that the reinforcing material may be made of ceramic or metal as long as it satisfies the condition of higher rigidity than the resin wiring board. However, in terms of manufacturing cost and weight reduction, the reinforcing material is preferably made of a resin material that is generally cheaper and lighter than a ceramic material or a metal material.
前記補強材を構成する樹脂材料の好適例としては、PB樹脂(ポリブテン樹脂)、PA樹脂(ポリアミド樹脂)、ABS樹脂(アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体)、PBT樹脂(ポリブチレンテレフタレート樹脂)、PPS樹脂(ポリフェニレンサルファイド樹脂)、PI樹脂(ポリイミド樹脂)、PC樹脂(ポリカーボネート樹脂)などが挙げられる。そのほか、これらの樹脂とガラス繊維(ガラス織布やガラス不織布)やポリアミド繊維等の有機繊維との複合材料等を使用してもよい。 Preferable examples of the resin material constituting the reinforcing material include PB resin (polybutene resin), PA resin (polyamide resin), ABS resin (acrylonitrile butadiene styrene copolymer), PBT resin (polybutylene terephthalate resin), PPS resin. (Polyphenylene sulfide resin), PI resin (polyimide resin), PC resin (polycarbonate resin), and the like. In addition, a composite material of these resins and glass fibers (glass woven fabric or glass nonwoven fabric) or organic fibers such as polyamide fibers may be used.
また前記補強材は、高い剛性を有することに加えて、低い熱膨張係数を有することが好ましい。補強材の熱膨張係数は、前記樹脂絶縁層の熱膨張係数よりも低いことがよく、具体的には5ppm/℃以上20ppm/℃未満であることがよい。 The reinforcing material preferably has a low coefficient of thermal expansion in addition to having a high rigidity. The thermal expansion coefficient of the reinforcing material is preferably lower than the thermal expansion coefficient of the resin insulating layer, and specifically, it is preferably 5 ppm / ° C. or more and less than 20 ppm / ° C.
前記補強材は樹脂配線基板側に面接合されるが、面接合の手法は特に限定されることはなく、補強材を形成している材料の性質、形状等に合った周知の手法を採用することができる。例えば、前記窪みの内壁面を、前記基板側面と、前記基板主面の外周部及び前記基板裏面の外周部の少なくとも一方とに対して接着剤を介して接合固定することが好ましい。このようにすれば、樹脂配線基板に対して補強材を確実かつ容易に接合することができる。なお、補強材が樹脂材料からなる場合、接着剤としては、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、ゴム系接着剤などが挙げられる。また、補強材が金属材料やセラミック材料からなる場合、接着剤としては、ポリマーを主成分とする接着剤などが挙げられる。 The reinforcing material is surface-bonded to the resin wiring board side, but the method of surface bonding is not particularly limited, and a well-known method that suits the nature, shape, etc. of the material forming the reinforcing material is adopted. be able to. For example, the inner wall surface of the recess is preferably bonded and fixed to the substrate side surface and at least one of the outer peripheral portion of the substrate main surface and the outer peripheral portion of the substrate back surface via an adhesive. In this way, the reinforcing material can be reliably and easily joined to the resin wiring board. When the reinforcing material is made of a resin material, examples of the adhesive include acrylic adhesives, epoxy adhesives, cyanoacrylate adhesives, rubber adhesives, and the like. When the reinforcing material is made of a metal material or a ceramic material, examples of the adhesive include an adhesive mainly composed of a polymer.
なお、前記補強材は、複数のレール部材からなり、前記複数のレール部材をそれぞれの端部において互いに接続することにより、矩形枠状に形成されていることが好ましい。また、前記補強材は、レール状部材であり、前記レール状部材に設けられた3つの屈曲部において屈曲させることにより、矩形枠状に形成されたものであってもよい。補強材が複数のレール部材からなる場合、補強材がレール状部材である場合よりも構造が簡単になるため、複数のレール部材からなる補強材の製造コストがよりいっそう低減される。一方、補強材がレール状部材である場合、複数のレール部材を互いに接続する工程が不要となるため、補強材の製造が容易になる。ここで、それぞれのレール部材の平面視での形状は、基本的に任意であるが、各レール部材を互いに接続した際に矩形枠状となるような形状、例えば、平面視略棒状(平面視略I字状)、平面視略L字状、平面視略コ字状などに形成される。なお、それぞれのレール部材を同じ形状にすれば、同じ設備で全てのレール部材を形成できるため、補強材の製造コストをよりいっそう低減することができる。 The reinforcing member is preferably composed of a plurality of rail members, and is formed in a rectangular frame shape by connecting the plurality of rail members to each other at respective end portions. The reinforcing member may be a rail-like member, and may be formed in a rectangular frame shape by being bent at three bent portions provided on the rail-like member. When the reinforcing material is composed of a plurality of rail members, the structure becomes simpler than when the reinforcing material is a rail-shaped member, and thus the manufacturing cost of the reinforcing material composed of the plurality of rail members is further reduced. On the other hand, when the reinforcing material is a rail-shaped member, the step of connecting the plurality of rail members to each other is not necessary, and therefore the manufacturing of the reinforcing material is facilitated. Here, the shape of each rail member in plan view is basically arbitrary, but when the rail members are connected to each other, a shape that forms a rectangular frame shape, for example, a substantially rod shape in plan view (plan view). (Substantially I-shaped), substantially L-shaped in plan view, and substantially U-shaped in plan view. In addition, if each rail member is made into the same shape, since all the rail members can be formed with the same equipment, the manufacturing cost of the reinforcing material can be further reduced.
前記補強材を作製する方法としては、樹脂シートに対するレーザー加工を行って矩形枠状の補強材を切り出す方法、樹脂シートに対するレーザー加工により複数のレール部材を切り出した後にそれぞれのレール部材をそれぞれの端部において互いに接合して矩形枠状の補強材を得る方法、樹脂シートを打ち抜くことにより補強材を得る方法、金型に樹脂材を流し込んで硬化させることにより補強材を得る方法、印刷によって補強材を得る方法などが挙げられる。 As a method for producing the reinforcing material, a method of cutting out a rectangular frame-shaped reinforcing material by performing laser processing on a resin sheet, a method of cutting a plurality of rail members by laser processing on a resin sheet, and then removing each rail member from each end. A method of obtaining a rectangular frame-shaped reinforcing material by joining together at a part, a method of obtaining a reinforcing material by punching a resin sheet, a method of obtaining a reinforcing material by pouring a resin material into a mold and curing it, and a reinforcing material by printing And the like.
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に基づき詳細に説明する。 Hereinafter, an embodiment embodying the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1〜図3に示されるように、本実施形態の半導体パッケージ10は、スティフナ付き配線基板11(補強材付き配線基板)と、半導体集積回路素子であるLSIチップ21とからなるPGA(ピングリッドアレイ)である。なお、半導体パッケージ10の形態は、PGAのみに限定されず、例えばBGA(ボールグリッドアレイ)やLGA(ランドグリッドアレイ)等であってもよい。LSIチップ21は、縦15.0mm×横15.0mm×厚さ0.8mmの矩形平板状であって、熱膨張係数が4.2ppm/℃のシリコンからなる。LSIチップ21の下面24側の表層には、図示しない回路素子が形成されている。また、LSIチップ21の下面24側には、複数の面接続端子22が格子状に設けられている。
As shown in FIGS. 1 to 3, the
一方、スティフナ付き配線基板11は、樹脂配線基板40と、補強材である配線基板用スティフナ(以下「スティフナ」という)31とを備えている。樹脂配線基板40は、1つの基板主面41、1つの基板裏面42及び4つの基板側面43を有し、四辺を有する平面視矩形状をなしている。また、樹脂配線基板40は、ガラスエポキシからなる略矩形板状のコア基板44を有するとともに、コア基板44のコア主面45(図3では上面)上に第1ビルドアップ層51を有し、同じくコア基板44のコア裏面46(図3では下面)上に第2ビルドアップ層52を有するビルドアップ多層配線基板である。
On the other hand, the
図3に示されるように、本実施形態のコア基板44は、縦50.0mm×横50.0mm×厚さ0.4mmの平面視略矩形状である。コア基板44は、平面方向(XY方向)における熱膨張係数が10〜30ppm/℃程度(具体的には18ppm/℃)となっている。なお、コア基板44の熱膨張係数は、0℃〜ガラス転移温度(Tg)間の測定値の平均値をいう。また、コア基板44における複数箇所には、コア主面45及びコア裏面46を貫通するスルーホール導体47が形成されている。これらのスルーホール導体47は、コア基板44のコア主面45側とコア裏面46側とを接続導通している。なお、スルーホール導体47の内部は、例えばエポキシ樹脂などの閉塞体48で埋められている。そして、スルーホール導体47における開口部には銅めっき層からなる蓋状導体49が形成され、その結果スルーホール導体47が塞がれている。
As shown in FIG. 3, the
図3に示されるように、コア基板44のコア主面45上に形成された第1ビルドアップ層51は、熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)からなる2層の樹脂絶縁層53と、銅からなる導体層55とを交互に積層した構造を有している。本実施形態において、樹脂絶縁層53の熱膨張係数は、10〜60ppm/℃程度(具体的には20ppm/℃程度)となっている。なお、樹脂絶縁層53の熱膨張係数は、0℃〜ガラス転移温度(Tg)間の測定値の平均値をいう。各樹脂絶縁層53における複数箇所には、導体層55に接続されるビア導体58が形成されている。なお、ビア導体58は、電解銅めっきによって形成されるコンフォーマルビア(完全に銅めっきが埋まらない形態のビア)である。また、第2層の樹脂絶縁層53の表面上における複数箇所には、端子パッド56がアレイ状に形成されている。さらに、第2層の樹脂絶縁層53の表面は、ソルダーレジスト(図示略)によってほぼ全体的に覆われている。ソルダーレジストの所定箇所には端子パッド56を露出させる開口部(図示略)が形成され、端子パッド56の表面上には複数のはんだバンプ57が配設されている。各はんだバンプ57は、前記LSIチップ21の面接続端子22に電気的に接続されている。即ち、LSIチップ21は、樹脂配線基板40の前記基板主面41側に搭載されている。また、LSIチップ21と樹脂配線基板40との隙間には、熱硬化性樹脂からなるアンダーフィル材61が充填形成されている。
As shown in FIG. 3, the
図3に示されるように、コア基板44のコア裏面46上に形成された第2ビルドアップ層52は、上述した第1ビルドアップ層51とほぼ同じ構造を有している。即ち、第2ビルドアップ層52は、熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)からなる2層の樹脂絶縁層54と、導体層55とを交互に積層した構造を有しており、樹脂絶縁層54の熱膨張係数が10〜60ppm/℃程度(具体的には20ppm/℃程度)となっている。また、各樹脂絶縁層54における複数箇所には、導体層55に接続されるビア導体58が形成されている。なお、ビア導体58は、電解銅めっきによって形成されるコンフォーマルビアである。また、第2層の樹脂絶縁層54の下面上における複数箇所には、導体層55に電気的に接続されるPGA用パッド59が形成されている。さらに、第2層の樹脂絶縁層54の下面は、ソルダーレジスト(図示略)によってほぼ全体的に覆われている。ソルダーレジストの所定箇所には、PGA用パッド59を露出させる開口部(図示略)が形成されている。PGA用パッド59の表面上には、図示しないマザーボード(母基板)との電気的な接続を図るための複数のピン60がはんだ付けによって接合されている。そして、各ピン60により、図1〜図3に示されるスティフナ付き配線基板11は図示しないマザーボード上に実装される。
As shown in FIG. 3, the
図1〜図5に示されるように、前記スティフナ31は、前記樹脂配線基板40の四辺(即ち、前記4つの基板側面43を構成する辺)を包囲する環状樹脂部材である。本実施形態のスティフナ31は、縦52.0mm×横52.0mm×厚さ2.0mmの平面視矩形枠状である。なお、スティフナ31の表面(図2では上面)の面積は588mm2であって、樹脂配線基板40の基板主面41の面積は2500mm2であるため、スティフナ31の表面の面積は基板主面41の面積の約24%となっている。スティフナ31は、樹脂配線基板40(コア基板44及びビルドアップ層51,52)を構成する樹脂材料(本実施形態ではガラスエポキシ及びエポキシ樹脂)よりも高剛性の樹脂材料(本実施形態ではポリブテン樹脂)によって形成されている。これにより、スティフナ31の熱膨張係数は、樹脂絶縁層53,54の熱膨張係数(20ppm/℃程度)よりも小さい値となっており、具体的には約15ppm/℃に設定されている。また、スティフナ31のヤング率は、樹脂配線基板40のヤング率(約30GPa)よりも大きい値となっており、約50GPaに設定されている。
As shown in FIGS. 1 to 5, the
図1,図4,図5に示されるように、スティフナ31は、2つのレール部材(具体的には、平面視略コ字状のレール部材35と平面視略棒状のレール部材36)からなっている。各レール部材35,36をそれぞれの端部において互いに接続することにより、矩形枠状のスティフナ31が形成される。
As shown in FIGS. 1, 4, and 5, the
また図2〜図5に示されるように、スティフナ31(レール部材35,36)は、補強材本体37、第1突出片38及び第2突出片39により、一側面側に窪み34を有する断面略コ字状に構成される。補強材本体37は、前記基板側面43と平行に配置されており、基板側面43に面接触可能となっている。第1突出片38は、補強材本体37の第1端部(図3では上端部)から前記樹脂配線基板40の中心方向に突出して、前記基板主面41の外周部(即ち、前記LSIチップ21の実装エリアであるダイエリアを除く領域)に面接触可能となっている。第2突出片39は、補強材本体37の第2端部(図3では下端部)から樹脂配線基板40の中心方向(即ち、第1突出片38と同一方向)に突出して、前記基板裏面42の外周部(即ち、前記ピン60が存在するエリアを除く領域)に面接触可能となっている。なお、補強材本体37の幅(図3では上端から下端までの高さ)は、本実施形態では2.0mmに設定されている。第1突出片38及び第2突出片39の突出長さ(突出量)は、互いに等しく設定されており、本実施形態では約2.0mmに設定されている。また、第1突出片38と第2突出片39との間隔は、樹脂配線基板40の厚さよりもやや大きくなっており、本実施形態では約0.8mmに設定されている。さらに、補強材本体37及び第1突出片38の厚さは、スティフナ31が所望の剛性を得られる程度に設定されており、0.5mm以上1.5mm以下(本実施形態では1.0mm)に設定されている。一方、第2突出片39の厚さは、樹脂配線基板40側のピン60とマザーボードとの接続を容易にするために、補強材本体37及び第1突出片38の厚さよりも小さく設定されており、0.05mm以上0.5mm以下(本実施形態では0.1mm以上0.2mm以下)に設定されている。
As shown in FIGS. 2 to 5, the stiffener 31 (
そして図2,図3に示されるように、窪み34の内壁面33は、基板側面43と、基板主面41の外周部と、基板裏面42の外周部とに対して、接着剤32を介して面接合(接合固定)される。なお、本実施形態の接着剤32は、エポキシ系接着剤である。
As shown in FIGS. 2 and 3, the
次に、本実施形態の半導体パッケージ10の製造方法について説明する。
Next, a method for manufacturing the
まず、樹脂配線基板40を従来周知の手法により作製し、あらかじめ準備しておく。樹脂配線基板40は以下のように作製される。まず、縦50.0mm×横50.0mm×厚み0.4mmの基材の両面に銅箔が貼付された銅張積層板(図示略)を準備する。そして、YAGレーザーまたは炭酸ガスレーザーを用いてレーザー孔あけ加工を行い、銅張積層板を貫通する貫通孔を所定位置にあらかじめ形成しておく。次に、従来公知の手法に従って無電解銅めっき及び電解銅めっきを行うことでスルーホール導体47を形成した後、そのスルーホール導体47内に閉塞体48を充填形成する。さらに、銅張積層板の両面に対して銅めっきを行った後、さらに銅張積層板の両面の銅箔のエッチングを行って蓋状導体49をパターニングする。具体的には、無電解銅めっきの後、露光及び現像を行って所定パターンのめっきレジストを形成する。この状態で無電解銅めっき層を共通電極として電解銅めっきを施した後、まずレジストを溶解除去して、さらに不要な無電解銅めっき層をエッチングで除去する。その結果、コア基板44を得る。
First, the
次に、コア基板44のコア主面45及びコア裏面46に感光性エポキシ樹脂を被着し、露光及び現像を行うことにより、ビア導体58が形成されるべき位置に盲孔を有する第1層の樹脂絶縁層53,54(厚さ40μm)を形成する。さらに、従来公知の手法(例えばセミアディティブ法)に従って電解銅めっきを行い、前記盲孔の内部にビア導体58を形成するとともに、樹脂絶縁層53,54上に導体層55を形成する。
Next, a photosensitive epoxy resin is applied to the core
次に、第1層の樹脂絶縁層53,54上に感光性エポキシ樹脂を被着し、露光及び現像を行うことにより、ビア導体58が形成されるべき位置に盲孔を有する第2層の樹脂絶縁層53,54(厚さ40μm)を形成する。次に、従来公知の手法に従って電解銅めっきを行い、前記盲孔の内部にビア導体58を形成する。さらに、第2層の樹脂絶縁層53上に端子パッド56を形成するとともに、第2層の樹脂絶縁層54上にPGA用パッド59を形成する。
Next, a photosensitive epoxy resin is deposited on the first resin insulation layers 53 and 54, and exposure and development are performed, whereby a second layer having blind holes at positions where via
この後、第2層の樹脂絶縁層53,54上にソルダーレジストを形成する。次に、所定のマスクを配置した状態で露光及び現像を行い、ソルダーレジストに、端子パッド56やPGA用パッド59を露出させる開口部をパターニングする。以上の結果、両面にビルドアップ層51,52を備える所望の樹脂配線基板40が完成する。
Thereafter, a solder resist is formed on the second
その後、樹脂配線基板40における複数の端子パッド56上に略半球状のはんだバンプ57を形成しておく。はんだバンプ57を形成する手法としては特に限定されず、印刷法やめっき法などの周知の手法を採用することができる。次に、はんだ付けにより、PGA用パッド59の表面上にピン60を接合する。その後、樹脂配線基板40の基板主面41にLSIチップ21を載置する。このとき、LSIチップ21側の面接続端子22と、樹脂配線基板40側の端子パッド56とを位置合わせするようにする。そして、200℃前後の温度に加熱して各はんだバンプ57をリフローすることにより、各面接続端子22と各端子パッド56とを接合する。この後、LSIチップ21と樹脂配線基板40との隙間にアンダーフィル材61となる熱硬化性樹脂を充填しかつ熱硬化させる。
Thereafter, substantially hemispherical solder bumps 57 are formed on the plurality of
また、樹脂配線基板40を補強するためのスティフナ31を作製し、あらかじめ準備しておく。スティフナ31は、例えば以下のように作製される。まず、第1型(図示略)と第2型(図示略)とを合わせることにより、内部に平面視略コ字状のレール部材35と同一形状かつ同一体積のキャビティを構成する。この状態で、熱可塑性を有するポリブテン樹脂を加熱した状態でキャビティ内に充填した後、冷却することにより、レール部材35が成形される。その後、第1型及び第2型を互いに離間させれば、成形されたレール部材35が取り出される。同様に、第3型(図示略)と第4型(図示略)とを合わせることにより、内部に平面視略棒状のレール部材36と同一形状かつ同一体積のキャビティを構成する。この状態で、ポリブテン樹脂を加熱した状態でキャビティ内に充填した後、冷却することにより、レール部材36が形成される。その後、第3型及び第4型を互いに離間させれば、成形されたレール部材36が取り出される。
Further, a
次に、レール部材35の窪み34内に接着剤32を塗布し、その窪み34内に樹脂配線基板40を挿入する(図4参照)。さらに、レール部材36の窪み34内に接着剤32を塗布するとともに、レール部材35の両端部に設けられた端面30(図4参照)に接着剤を塗布する。なお、端面30に塗布される接着剤は、窪み34内に塗布される接着剤32と同じものである。そして、レール部材36の両端部(第1突出片38及び第2突出片39の先端面)をレール部材35の両端部(端面30)に接触させるとともに、レール部材36の窪み34内に樹脂配線基板40の外周部を挿入させる。この状態で、接着剤を乾燥硬化させれば、各レール部材35,36が、それぞれの端部において接着剤を介して互いに接続され、矩形枠状のスティフナ31が形成される。また、接着剤32の乾燥硬化により、スティフナ31が樹脂配線基板40に対して接合固定され、図1に示す半導体パッケージ10が得られる。なお、各レール部材35,36を互いに接続する接着剤、及び、スティフナ31を樹脂配線基板40に接合固定する接着剤32は、常温(非加熱状態)で乾燥硬化されるため、樹脂配線基板40が熱応力の影響を受けなくて済む。
Next, the adhesive 32 is applied in the
従って、本実施形態によれば以下の効果を得ることができる。 Therefore, according to the present embodiment, the following effects can be obtained.
(1)本実施形態のスティフナ付き配線基板11によれば、スティフナ31が樹脂配線基板40の四辺における複数の面(基板主面41、基板裏面42、基板側面43)に面接合することで、樹脂配線基板40の四辺を確実に補強できるため、樹脂配線基板40の反りが確実に抑えられる。それゆえ、樹脂配線基板40の反りに起因する不具合が防止されるため、スティフナ付き配線基板11の信頼性が向上する。さらに、樹脂配線基板40が反りにくくなることで基板裏面42が平坦になるため、半導体パッケージ10を確実にマザーボード上に実装できる。また、樹脂配線基板40に対するスティフナ31の面接合により、スティフナ付き配線基板11の剛性が高くなるため、スティフナ付き配線基板11のハンドリング性が向上する。しかも、スティフナ31は、窪み34を有しており、単なる平板状よりも剛性が高い形状であるため、スティフナ31を肉厚にしたり、スティフナ31をコストの高い高剛性の材料を用いて形成したりしなくても済む。従って、スティフナ31の製造コストを上昇させることなく、信頼性及びハンドリング性を向上させることができる。
(1) According to the
(2)本実施形態のスティフナ31は、複数のレール部材35,36をそれぞれの端部において互いに接続することにより、矩形枠状に形成されている。従って、比較的単純な構造のレール部材35,36によってスティフナ31を形成できるため、スティフナ31の製造コストがよりいっそう低減される。
(2) The
(3)本実施形態の第1突出片38の突出長さは約2.0mmであり、第1突出片38は、基板主面41の外周部の一部分のみを覆っているに過ぎない。よって、基板主面41の露出部分が大きくなるため、基板主面41上に、LSIチップ21だけでなく、LSIチップ21以外の電子部品も容易に実装することができる。
(3) The protruding length of the first protruding
なお、本実施形態は以下のように変更してもよい。 In addition, you may change this embodiment as follows.
・上記実施形態のスティフナ31は、複数のレール部材35,36からなり、各レール部材35,36をそれぞれの端部において互いに接続することにより、矩形枠状に形成されていた。しかし、スティフナ31は、矩形枠状の1つの部材であってもよい。
-The
また図6,図7に示されるように、3つの屈曲部73を有するレール状部材72を各屈曲部73においてそれぞれ90°ずつ屈曲させることにより、矩形枠状に形成されるスティフナ71であってもよい。なお、各屈曲部73は、レール状部材72において等間隔に3つ設けられている。このようにすれば、上記実施形態のような各レール部材35,36を互いに接続する工程が不要となるため、スティフナ71の製造が容易になる。
6 and 7, a
・上記実施形態では、第1突出片38と第2突出片39との間隔が、樹脂配線基板40の厚さよりもやや大きくなっていた。しかし、第1突出片38と第2突出片39との間隔を樹脂配線基板40の厚さより小さくし、第1突出片38と第2突出片39とで樹脂配線基板40を挟み込むようにしてもよい。このようにすれば、接着剤32を用いなくても、樹脂配線基板40にスティフナ31を確実に接合することができる。また、接着剤32を用いるようにすれば、樹脂配線基板40とスティフナ31との接合がより確実になる。
In the above embodiment, the distance between the first projecting
・上記実施形態の半導体パッケージ10を構成するスティフナ付き配線基板11は、第1突出片38及び第2突出片39の突出長さが互いに等しく設定されたスティフナ31を備えていた。なお、基板裏面42は、PGA用パッド59(及びピン60)が略全面に配置されているために強度が高いが、基板主面41は、LSIチップ21が中央部に配置されているだけであるために強度が低い。
The stiffener-equipped
そこで図8に示されるように、第1突出片82の突出量L1を第2突出片83の突出量L2よりも大きく設定したスティフナ81を、半導体パッケージ10Aを構成するスティフナ付き配線基板11Aに設けてもよい。ここで、第1突出片82の突出量L1は4mmに設定され、第2突出片83の突出量L2は2mmに設定されている。また、第1突出片82は第2突出片83よりも厚く設定されている。具体的に言うと、第1突出片82の厚さは0.5mm以上1.5mm以下(図8では1.0mm)に設定され、第2突出片83の厚さは0.05mm以上0.5mm以下(図8では0.1mm以上0.2mm以下)に設定されている。このようにすれば、スティフナ81の剛性がよりいっそう高くなるため、樹脂配線基板40の剛性がよりいっそう向上する。
Therefore, as shown in FIG. 8, a
・図9に示されるように、半導体パッケージ10Bを構成するスティフナ付き配線基板11Bにスティフナ91を設け、スティフナ91の上面92上にプリント配線基板P1を設置してもよい。なお、スティフナ91の第1突出片94は、基板主面41からLSIチップ21の表面(図9では上面)までの高さよりも厚く設定されているため、プリント配線基板P1はLSIチップ21に接触しないようになる。即ち、スティフナ91は、樹脂配線基板40を補強する機能と、樹脂配線基板40とプリント配線基板P1との間に介在するスペーサとしての機能とを兼ねている。
As shown in FIG. 9, the
さらに、スティフナ91に、内側面93側及び上面92側を導通させるスルーホール導体(図示略)と、内側面93上及び上面92上に配置されスルーホール導体に接続される端子パッド(図示略)とを設け、スルーホール導体及び端子パッドを介して樹脂配線基板40とプリント配線基板P1とを電気的に接続してもよい。
Further, a through-hole conductor (not shown) for conducting the
・上記実施形態におけるスティフナ31は、ポリブテン樹脂によって形成されていた。しかし、スティフナ31を他の樹脂材料によって形成してもよいし、アンバー(Fe−Ni系合金、36%Ni)などの金属材料や、セラミック材料などによって形成してもよい。なお、スティフナ31を金属材料によって形成すれば、静電気やノイズ源からの電磁波をスティフナ31によって遮蔽することができる。
-The
・上記実施形態において、樹脂配線基板40における基板主面41上や基板裏面42上には、LSIチップ21のほかに電子部品が実装されていてもよい。電子部品としては、例えば、裏面または側面に複数の端子を有するチップ部品(例えばチップトランジスタ、チップダイオード、チップ抵抗、チップコンデンサ、チップコイルなど)などがある。
In the above embodiment, electronic components other than the
次に、前述した実施形態によって把握される技術的思想を以下に列挙する。 Next, the technical ideas grasped by the embodiment described above are listed below.
(1)基板主面、基板裏面及び基板側面を有し、四辺を有する平面視矩形状をなし、樹脂絶縁層及び導体層を積層した構造の樹脂配線基板、及び、前記樹脂配線基板の四辺を包囲する矩形枠状に形成されるとともに、その内壁面が、前記基板側面と、前記基板主面の外周部及び前記基板裏面の外周部の少なくとも一方とに面接合される窪みを有する補強材を備える補強材付き配線基板と、前記基板主面及び前記基板裏面の少なくとも一方の側に搭載された半導体集積回路素子とを備えることを特徴とする半導体パッケージ。 (1) A resin wiring substrate having a substrate main surface, a substrate back surface, and a substrate side surface, having a rectangular shape in plan view having four sides, and a structure in which a resin insulating layer and a conductor layer are laminated, and four sides of the resin wiring substrate. A reinforcing material that is formed in a rectangular frame shape surrounding the inner wall surface and has a recess that is surface-bonded to the substrate side surface and at least one of the outer peripheral portion of the substrate main surface and the outer peripheral portion of the substrate back surface. A semiconductor package comprising: a wiring board with a reinforcing material provided; and a semiconductor integrated circuit element mounted on at least one side of the substrate main surface and the substrate back surface.
(2)基板主面、基板裏面及び基板側面を有し、四辺を有する平面視矩形状をなし、樹脂絶縁層及び導体層を積層した構造の樹脂配線基板を備える補強材付き配線基板に取り付けられ、前記樹脂配線基板の四辺を包囲する矩形枠状に形成される補強材であって、前記基板側面と、前記基板主面の外周部及び前記基板裏面の外周部の少なくとも一方とに面接合可能な窪みを一側面側に有する複数のレール部材からなり、前記複数のレール部材をそれぞれの端部において互いに接続することにより、矩形枠状に形成されることを特徴とする配線基板用補強材。 (2) It is attached to a wiring board with a reinforcing material having a resin wiring board having a substrate main surface, a substrate back surface and a substrate side surface, having a rectangular shape in a plan view having four sides, and a structure in which a resin insulating layer and a conductor layer are laminated. The reinforcing material is formed in a rectangular frame shape surrounding the four sides of the resin wiring board, and can be surface-bonded to the side surface of the substrate and at least one of the outer peripheral portion of the substrate main surface and the outer peripheral portion of the back surface of the substrate. A reinforcing member for a wiring board, comprising a plurality of rail members having a hollow on one side surface, and formed into a rectangular frame shape by connecting the plurality of rail members to each other at respective end portions.
(3)基板主面、基板裏面及び基板側面を有し、四辺を有する平面視矩形状をなし、樹脂絶縁層及び導体層を積層した構造の樹脂配線基板を備える補強材付き配線基板に取り付けられ、前記樹脂配線基板の四辺を包囲する矩形枠状に形成される補強材であって、前記基板側面と、前記基板主面の外周部及び前記基板裏面の外周部の少なくとも一方とに面接合可能な窪みを一側面側に有する複数のレール部材からなり、前記複数のレール部材をそれぞれの端部において互いに接続することにより、矩形枠状に形成されており、前記複数のレール部材は、補強材本体と、前記補強材本体から突出する第1突出片と、前記補強材本体から前記第1突出片と同一方向に突出する第2突出片とによって前記窪みを構成しており、前記第1突出片と前記第2突出片との間隔が、前記樹脂配線基板の厚さよりも小さくなっており、前記第1突出片と前記第2突出片とで前記樹脂配線基板を挟持可能となっていることを特徴とする配線基板用補強材。 (3) It is attached to a wiring board with a reinforcing material having a resin wiring board having a substrate main surface, a substrate back surface, a substrate side surface, a rectangular shape in plan view having four sides, and a structure in which a resin insulating layer and a conductor layer are laminated. The reinforcing material is formed in a rectangular frame shape surrounding the four sides of the resin wiring board, and can be surface-bonded to the side surface of the substrate and at least one of the outer peripheral portion of the substrate main surface and the outer peripheral portion of the back surface of the substrate. A plurality of rail members each having a hollow on one side surface, and the plurality of rail members are connected to each other at respective end portions, and are formed in a rectangular frame shape. The recess is constituted by a main body, a first protruding piece protruding from the reinforcing material main body, and a second protruding piece protruding from the reinforcing material main body in the same direction as the first protruding piece, Piece and said first The wiring is characterized in that an interval between the protruding pieces is smaller than a thickness of the resin wiring board, and the resin wiring board can be sandwiched between the first protruding pieces and the second protruding pieces. Reinforcing material for substrates.
11,11A,11B…補強材付き配線基板としてのスティフナ付き配線基板
31,71,81,91…補強材としてのスティフナ
32…接着剤
33…補強材の内壁面
34…窪み
35,36…レール部材
37…補強材本体
38,82,94…第1突出片
39,83…第2突出片
40…樹脂配線基板
41…基板主面
42…基板裏面
43…基板側面
53,54…樹脂絶縁層
55…導体層
72…レール状部材
73…屈曲部
L1…第1突出片の突出量
L2…第2突出片の突出量
11, 11A, 11B ...
Claims (8)
前記樹脂配線基板の四辺を包囲する矩形枠状に形成されるとともに、その内壁面が、前記基板側面と、前記基板主面の外周部及び前記基板裏面の外周部の少なくとも一方とに面接合される窪みを有する補強材と
を備えることを特徴とする補強材付き配線基板。 A substrate wiring surface having a substrate main surface, a substrate back surface and a substrate side surface, having a rectangular shape in plan view having four sides, and a structure in which a resin insulating layer and a conductor layer are laminated;
It is formed in a rectangular frame shape surrounding the four sides of the resin wiring board, and its inner wall surface is surface-bonded to the substrate side surface and at least one of the outer peripheral portion of the substrate main surface and the outer peripheral portion of the substrate back surface. A wiring board with a reinforcing material, comprising: a reinforcing material having a recess.
前記第2突出片の厚さは、前記第1突出片の厚さよりも小さくなっている
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の補強材付き配線基板。 The reinforcing material includes: a reinforcing material main body that can be in surface contact with the side surface of the substrate; and a first protruding piece that protrudes from the reinforcing material main body toward the center of the resin wiring substrate and can be in surface contact with the outer peripheral portion of the substrate main surface. The recess is configured by a second protruding piece that protrudes from the reinforcing material body toward the center of the resin wiring board and can be brought into surface contact with the outer peripheral portion of the back surface of the substrate.
5. The wiring board with reinforcing material according to claim 1, wherein a thickness of the second protruding piece is smaller than a thickness of the first protruding piece.
前記第1突出片と前記第2突出片との間隔は、前記樹脂配線基板の厚さよりも小さくなっており、
前記第1突出片と前記第2突出片とで前記樹脂配線基板を挟み込んでいる
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の補強材付き配線基板。 The reinforcing material includes: a reinforcing material main body that can be in surface contact with the side surface of the substrate; and a first protruding piece that protrudes from the reinforcing material main body toward the center of the resin wiring substrate and can be in surface contact with the outer peripheral portion of the substrate main surface. The recess is configured by a second protruding piece that protrudes from the reinforcing material body toward the center of the resin wiring board and can be brought into surface contact with the outer peripheral portion of the back surface of the substrate.
The interval between the first protruding piece and the second protruding piece is smaller than the thickness of the resin wiring board,
The wiring board with a reinforcing material according to any one of claims 1 to 5, wherein the resin wiring board is sandwiched between the first protruding piece and the second protruding piece.
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