JP2009196985A - Medicinal composition - Google Patents
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Abstract
【課題】 糖尿病などの予防・治療に有用な、医薬組成物を提供する。
【解決手段】 下式の化合物、またはその薬理的に許容しうる塩を含有する医薬組成物。
(式中、環A及び環Bは、置換されていてもよい、単環不飽和ヘテロ環、二環縮合不飽和ヘテロ環、またはベンゼン環、Xは炭素または窒素、Yは−(CH2)n−(nは1または2)、Zは5−チオ−β−D−グルコピラノシル、4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル、β−D−ガラクトピラノシル、4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル等であり、ただし、環Aが置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環のとき、YはXを含む環に結合し、Zは5−チオ−β−D−グルコピラノシル等であり、環Aと環Bが置換されていてもよいベンゼンのとき、Zは5−チオ−β−D−グルコピラノシルである。)
【選択図】 なし
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pharmaceutical composition useful for prevention / treatment of diabetes and the like.
A pharmaceutical composition comprising a compound of the following formula, or a pharmaceutically acceptable salt thereof:
(Wherein ring A and ring B are optionally substituted monocyclic unsaturated heterocycle, bicyclic fused unsaturated heterocycle, or benzene ring, X is carbon or nitrogen, Y is — (CH 2 ) n- (n is 1 or 2), Z is 5-thio-β-D-glucopyranosyl, 4-fluoro-4-deoxy-β-D-glucopyranosyl, β-D-galactopyranosyl, 4-fluoro-4 -Deoxy-β-D-galactopyranosyl, etc. provided that, when ring A is an optionally substituted bicyclic fused unsaturated heterocycle, Y is bonded to a ring containing X and Z is 5 Z is 5-thio-β-D-glucopyranosyl, such as -thio-β-D-glucopyranosyl and the like, wherein ring A and ring B may be substituted.
[Selection figure] None
Description
本発明は、医薬組成物に関する。 The present invention relates to a pharmaceutical composition.
糖尿病の治療においては食事療法および運動療法が必須であるが、これだけで充分なコントロールが得られないときは、必要に応じてインスリンまたは経口糖尿病薬が使用される。現在、糖尿病治療薬としては、ビグアナイド系化合物、スルホニルウレア系化合物、インスリン抵抗性改善薬およびα−グルコシダーゼ阻害薬が用いられている。しかしながら、ビグアナイド系化合物には乳酸アシドーシス、スルホニルウレア系化合物には重篤な低血糖、インスリン抵抗性改善薬には浮腫および心不全、α−グルコシダーゼ阻害薬には腹部膨満および下痢などの副作用があり、このような問題点のない新しい糖尿病治療薬の開発が望まれている。 Diet therapy and exercise therapy are essential for the treatment of diabetes, but if this alone does not provide sufficient control, insulin or oral diabetes drugs are used as needed. Currently, biguanide compounds, sulfonylurea compounds, insulin resistance improvers, and α-glucosidase inhibitors are used as antidiabetic agents. However, biguanide compounds have side effects such as lactic acidosis, sulfonylurea compounds have severe hypoglycemia, insulin resistance improvers have edema and heart failure, and α-glucosidase inhibitors have abdominal distension and diarrhea. Development of new anti-diabetic drugs without such problems is desired.
近年、糖尿病の進展に、糖尿病の病態そのものである高血糖自身が関与する、というグルコース・トキシシティー・セオリー(Glucose toxicity theory)が提唱されている。慢性的な高血糖が、インスリン分泌を低下させると共に、インスリン感受性を低下させ、これがさらなる血糖値の上昇を引き起こすという悪循環を生むとするものである(非特許文献1、非特許文献2参照)。本理論によれば、高血糖を是正することは、様々な合併症を抑制するのみならず、前述の悪循環を断ち切ることで、糖尿病の効率的な治療にもつながることになる。 In recent years, Glucose toxicity theory has been proposed in which hyperglycemia, which is the pathological condition of diabetes itself, is involved in the development of diabetes. Chronic hyperglycemia reduces insulin secretion and insulin sensitivity, which causes a vicious cycle in which blood glucose levels further increase (see Non-Patent Documents 1 and 2). According to this theory, correcting hyperglycemia not only suppresses various complications, but also leads to efficient treatment of diabetes by breaking the vicious circle described above.
高血糖を是正するための一つの方法としては、血中の過剰な糖を尿中に直接排泄させるやり方が考えられる。例えば、腎臓の近位尿細管に存在するナトリウム依存性グルコース輸送担体(SGLT)を阻害することで、腎臓での糖再吸収を阻害し、糖の尿中排泄を促進して血糖を降下させることができる。事実、SGLT阻害作用を有するフロリジンを、糖尿病モデル動物に持続的に皮下投与して高血糖を是正し、血糖値を長期間正常に保つことによって、インスリン分泌およびインスリン抵抗性が改善することが確認されている(非特許文献3、非特許文献4、非特許文献5等)。 One method for correcting hyperglycemia is to excrete excess sugar in blood directly into urine. For example, by inhibiting the sodium-dependent glucose transporter (SGLT) present in the proximal tubule of the kidney, it inhibits glucose reabsorption in the kidney, promotes urinary excretion of sugar, and lowers blood glucose Can do. In fact, it has been confirmed that phlorizin having SGLT inhibitory action is continuously administered subcutaneously to diabetic model animals to correct hyperglycemia and to maintain normal blood glucose levels for a long period of time, thereby improving insulin secretion and insulin resistance. (Non-Patent Document 3, Non-Patent Document 4, Non-Patent Document 5, etc.).
また、糖尿病モデル動物にSGLT阻害薬を長期間処置することにより、該モデル動物の腎臓への悪影響や血漿中電解質の異常を全く引き起こすことなく、インスリン分泌応答およびインスリン感受性を改善し、かつ糖尿病性腎症や神経障害の発症・進展を抑制することが報告されている(非特許文献6、非特許文献7、非特許文献8等)。 Further, by treating a diabetes model animal with an SGLT inhibitor for a long period of time, the insulin secretion response and insulin sensitivity are improved without causing any adverse effects on the kidney of the model animal or abnormalities in plasma electrolytes, and the diabetic It has been reported to suppress the onset / progress of nephropathy and neuropathy (Non-Patent Document 6, Non-Patent Document 7, Non-Patent Document 8, etc.).
以上のことから、SGLT阻害薬は糖尿病患者において血糖値を低下させることによって、インスリン分泌およびインスリン抵抗性を改善し、かつ糖尿病及び糖尿病合併症の発症進展を抑制することが期待される。 From the above, SGLT inhibitors are expected to improve insulin secretion and insulin resistance and suppress the development of diabetes and diabetic complications by lowering blood glucose levels in diabetic patients.
特許文献1には、下記構造を有するアリールO−またはN−チオグルコピラノシドが記載されている。 Patent Document 1 describes aryl O- or N-thioglucopyranoside having the following structure.
(式中、YはOまたはNである)
特許文献2には、下記構造を有するヘテロシクリル フルオログリコシド誘導体が記載されている。
(Where Y is O or N)
Patent Document 2 describes a heterocyclyl fluoroglycoside derivative having the following structure.
特許文献3には、 下記構造を有するアリール フルオログリコシドが記載されている。 Patent Document 3 describes an aryl fluoroglycoside having the following structure.
これら化合物は、SGLT阻害作用を有することが記載されている。 These compounds are described as having an SGLT inhibitory action.
さらに特許文献4には、下記構造を有するアリールC−グリコシドが記載されている。 Furthermore, Patent Document 4 describes an aryl C-glycoside having the following structure.
本発明は、優れたSGLT阻害作用を有する化合物を有効成分とする、新規医薬組成物を提供するものである。 The present invention provides a novel pharmaceutical composition comprising a compound having an excellent SGLT inhibitory action as an active ingredient.
本発明は、下記式(A)で示される化合物またはその薬理的に許容しうる塩を有効成分とする医薬組成物に関する。 The present invention relates to a pharmaceutical composition comprising as an active ingredient a compound represented by the following formula (A) or a pharmacologically acceptable salt thereof.
式(A): Formula (A):
(式中、環A及び環Bは、それぞれ独立に、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環、置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環、または置換されていてもよいベンゼン環、
Xは炭素または窒素、
Yは、−(CH2)n−(ここで、nは1または2である)、
Zは、
(In the formula, ring A and ring B are each independently an optionally substituted monocyclic unsaturated heterocycle, an optionally substituted bicyclic fused unsaturated heterocycle, or an optionally substituted benzene. ring,
X is carbon or nitrogen,
Y is — (CH 2 ) n — (where n is 1 or 2),
Z is
であり、
ここにおいて、
(1)環Aが置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環のとき、Yは当該二環縮合不飽和へテロ環のうちのXを含む一方の環に結合し、Zは
And
put it here,
(1) When ring A is an optionally substituted bicyclic fused unsaturated heterocycle, Y is bonded to one of the bicyclic fused unsaturated heterocycles containing X, and Z is
であり;
(2)環Aと環Bが置換されていてもよいベンゼン環であるとき、Zは
Is;
(2) When ring A and ring B are optionally substituted benzene rings, Z is
である。) It is. )
式(A)の化合物は、哺乳類の腸および腎臓に存在するナトリウム依存性グルコース輸送担体の阻害活性を有し、本発明の医薬組成物は、血糖降下剤として、あるいは糖尿病や糖尿病合併症(たとえば糖尿病性網膜症、糖尿病性神経障害、糖尿病性腎症)、肥満症の治療・予防剤、過血糖(食後過血糖など)の予防・治療剤または創傷治癒促進剤等として有用である。 The compound of the formula (A) has an inhibitory activity on a sodium-dependent glucose transporter existing in the intestine and kidney of mammals, and the pharmaceutical composition of the present invention is used as a hypoglycemic agent or as a diabetes or diabetic complication (for example, It is useful as a therapeutic / preventive agent for diabetic retinopathy, diabetic neuropathy, diabetic nephropathy), obesity, a prophylactic / therapeutic agent for hyperglycemia (such as postprandial hyperglycemia) or a wound healing promoter.
“ハロゲン”または“ハロ”とは、塩素、臭素、フッ素およびヨウ素を指称し、塩素またはフッ素が好ましい。 “Halogen” or “halo” refers to chlorine, bromine, fluorine and iodine, with chlorine or fluorine being preferred.
“アルキル”とは、炭素数1〜12の直鎖または分枝鎖の飽和炭化水素鎖の1価基を指称する。炭素数1〜6の直鎖または分枝鎖のアルキル基が好ましく、炭素数1〜4の直鎖または分枝鎖のアルキル基がより好ましい。たとえばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、イソブチル、これらの各種分枝鎖異性体等が挙げられる。さらにアルキルは、必要により、後述の置換基で、独立に1〜4置換されてもよい。 “Alkyl” refers to a monovalent group of a straight or branched saturated hydrocarbon chain having 1 to 12 carbon atoms. A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable, and a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable. Examples thereof include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t-butyl, isobutyl, and various branched chain isomers thereof. Furthermore, the alkyl may be independently substituted with 1 to 4 substituents as described below, if necessary.
“アルキレン”とは、炭素数1〜12の直鎖または分枝鎖の飽和炭化水素鎖の2価基を指称する。炭素数1〜6の直鎖または分枝鎖のアルキレン基が好ましく、炭素数1〜4の直鎖または分枝鎖のアルキレン基がより好ましい。たとえばメチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン等が挙げられる。必要に応じて後述の置換基で独立に1〜4置換されてもよい。 “Alkylene” refers to a divalent group of a straight or branched saturated hydrocarbon chain having 1 to 12 carbon atoms. A linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms is preferable, and a linear or branched alkylene group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable. For example, methylene, ethylene, propylene, trimethylene and the like can be mentioned. If necessary, it may be independently substituted with 1 to 4 substituents described later.
これらアルキレンが、ベンゼン環上、単環不飽和へテロ環上、または二環縮合不飽和へテロ環上の異なる炭素原子に結合するときは、結合している炭素原子と共に5〜7員の縮合された炭化水素環を形成しても良く、そして当該炭化水素環はさらに後述の置換基で独立に1〜4置換されていてもよい。 When these alkylenes are bonded to different carbon atoms on the benzene ring, monocyclic unsaturated heterocycle, or bicyclic fused unsaturated heterocycle, a 5- to 7-membered fused together with the bonded carbon atoms. The hydrocarbon ring may be formed, and the hydrocarbon ring may be further independently substituted with 1 to 4 substituents described later.
“アルケニル”とは、炭素数2〜12で1つ以上の二重結合を有する直鎖または分枝鎖の炭化水素鎖の1価基を指称し、炭素数2〜6の直鎖または分枝鎖のアルケニル基が好ましく、炭素数2〜4の直鎖または分枝鎖のアルケニル基がより好ましい。たとえばビニル、2−プロペニル、3−ブテニル、2−ブテニル、4−ペンテニル、3−ペンテニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニル、2−ヘプテニ基、3−ヘプテニル、4−ヘプテニル、3−オクテニル、3−ノネニル、4−デセニル、3−ウンデセニル、4−ドデセニル、4,8,12−テトラデカトリエニル等が挙げられる。アルケニルは必要により、後述の置換基で、独立に1〜4置換されてもよい。 “Alkenyl” refers to a monovalent group of a straight or branched hydrocarbon chain having 2 to 12 carbon atoms and having one or more double bonds, and having 2 to 6 carbon atoms. A chain alkenyl group is preferable, and a linear or branched alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms is more preferable. For example, vinyl, 2-propenyl, 3-butenyl, 2-butenyl, 4-pentenyl, 3-pentenyl, 2-hexenyl, 3-hexenyl, 2-heptenyl group, 3-heptenyl, 4-heptenyl, 3-octenyl, 3- Nonenyl, 4-decenyl, 3-undecenyl, 4-dodecenyl, 4,8,12-tetradecatrienyl and the like can be mentioned. If necessary, alkenyl may be independently substituted with 1 to 4 substituents as described below.
“アルケニレン”とは、炭素数2〜12で1つ以上の二重結合を有する直鎖または分枝鎖の炭化水素鎖の2価基を指称し、炭素数2〜6の直鎖または分枝鎖のアルケニレン基が好ましく、炭素数2〜4の直鎖または分枝鎖のアルケニレン基がより好ましい。たとえばビニレン、プロペニレン、ブタンジエニレン等があげられる。アルケニレンは必要により、後述の置換基で、独立に1〜4置換されてもよい。 “Alkenylene” refers to a divalent group of a straight or branched hydrocarbon chain having 2 to 12 carbon atoms and having one or more double bonds, and having 2 to 6 carbon atoms. A chain alkenylene group is preferable, and a linear or branched alkenylene group having 2 to 4 carbon atoms is more preferable. For example, vinylene, propenylene, butanediylene and the like can be mentioned. If necessary, alkenylene may be independently substituted with 1 to 4 substituents described later.
アルケニレンが、ベンゼン環上、単環不飽和へテロ環上、または二環縮合不飽和へテロ環上の異なる炭素原子に結合するときは、結合している炭素原子と共に5〜7員の縮合された炭化水素環を形成しても良く、そして当該炭化水素環はさらに後述の置換基で独立に1〜4置換されていてもよい。 When alkenylene is bonded to different carbon atoms on the benzene ring, monocyclic unsaturated heterocycle, or bicyclic fused unsaturated heterocycle, it is fused together with the carbon atoms to which it is bonded to a 5- to 7-membered. A hydrocarbon ring may be formed, and the hydrocarbon ring may be further independently substituted with 1 to 4 substituents described later.
“アルキニル”とは、炭素数2〜12で1つ以上の三重結合を有する直鎖または分枝鎖の炭化水素鎖の1価基を指称し、炭素数2〜6の直鎖または分枝鎖のアルキニル基が好ましく、炭素数2〜4の直鎖または分枝鎖のアルキニル基がより好ましい。たとえば2−プロピニル、3−ブチニル、2−ブチニル、4−ペンチニル、3−ペンチニル、2−ヘキシニル、3−ヘキシニル、2−ヘプチニル、3−ヘプチニル、4−ヘプチニル、3−オクチニル、3−ノニニル、4−デシニル、3−ウンデシニル、4−ドデシニル等が挙げられる。アルキニルは必要により、後述の置換基で、独立に1〜4置換されてもよい。 “Alkynyl” refers to a monovalent group of a straight or branched hydrocarbon chain having 2 to 12 carbon atoms and having one or more triple bonds, and is a straight chain or branched chain having 2 to 6 carbon atoms Of the alkynyl group is more preferable, and a linear or branched alkynyl group having 2 to 4 carbon atoms is more preferable. For example 2-propynyl, 3-butynyl, 2-butynyl, 4-pentynyl, 3-pentynyl, 2-hexynyl, 3-hexynyl, 2-heptynyl, 3-heptynyl, 4-heptynyl, 3-octynyl, 3-noninyl, 4 -Decynyl, 3-undecynyl, 4-dodecynyl and the like. Alkynyl may be independently substituted with 1 to 4 substituents as described below, if necessary.
“シクロアルキル”とは、炭素数3〜12の単環もしくは二環式飽和炭化水素環の1価基を指称し、炭素数3〜7の単環式飽和炭化水素基が好ましい。具体的には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロデシル等が挙げられる。これらは必要により、後述の置換基で、独立に1〜4置換されてもよい。 “Cycloalkyl” refers to a monovalent group of a monocyclic or bicyclic saturated hydrocarbon ring having 3 to 12 carbon atoms, preferably a monocyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 7 carbon atoms. Specific examples include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclodecyl and the like. If necessary, these may be independently substituted with 1 to 4 substituents described later.
“シクロアルケニル”とは、炭素数4〜12で1つ以上の二重結合を有する単環もしくは二環式不飽和炭化水素環の1価基を指称し、炭素数4〜7の単環式不飽和炭化水素基が好ましい。具体的には、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル等が挙げられる。これらは必要により、後述の置換基で、1〜4置換されてもよい。 “Cycloalkenyl” refers to a monovalent group of a monocyclic or bicyclic unsaturated hydrocarbon ring having 4 to 12 carbon atoms and having one or more double bonds, and is a monocyclic group having 4 to 7 carbon atoms. Unsaturated hydrocarbon groups are preferred. Specific examples include cyclopentenyl, cyclopentadienyl, cyclohexenyl and the like. These may be optionally substituted by 1 to 4 substituents as described below.
“シクロアルキニル”とは、炭素数6〜12で1つ以上の三重結合を有する単環もしくは二環式不飽和炭化水素環の1価基を指称し、炭素数6〜8の単環式不飽和炭化水素基が好ましい。具体的には、シクロオクチニル、シクロデシニル等が挙げられる。これらは必要により、後述の置換基ので、独立に1〜4置換されてもよい。 “Cycloalkynyl” refers to a monovalent group of a monocyclic or bicyclic unsaturated hydrocarbon ring having 6 to 12 carbon atoms and having one or more triple bonds, and having 6 to 8 carbon atoms. Saturated hydrocarbon groups are preferred. Specific examples include cyclooctynyl and cyclodecynyl. Since these are substituents described later, they may be independently substituted by 1 to 4 as necessary.
“アリール基”とは、炭素数6〜10の単環または二環式芳香族炭化水素の1価基を指称する。具体的には、たとえばフェニル、ナフチル(1−ナフチル、2−ナフチルなど)が挙げられる。これらは必要により、後述の置換基で、独立に1〜4置換されてもよい。 The “aryl group” refers to a monovalent group of a monocyclic or bicyclic aromatic hydrocarbon having 6 to 10 carbon atoms. Specific examples include phenyl and naphthyl (1-naphthyl, 2-naphthyl and the like). If necessary, these may be independently substituted with 1 to 4 substituents described later.
“単環不飽和へテロ環”とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より独立して選択されたヘテロ原子を1〜4個有する3〜12員の単環の不飽和炭化水素環を意味し、好ましくは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より独立して選択されたヘテロ原子を1〜4個有する4〜7員の不飽和炭化水素環を意味する。具体的にはピリジン、ピリミジン、ピラジン、フラン、チオフェン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソキサゾール、4,5−ジヒドロオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、テトラゾール等が挙げられる。必要により、後述の置換基で、独立に1〜4置換されてもよい。 “Monocyclic unsaturated heterocycle” means a 3- to 12-membered monocyclic unsaturated hydrocarbon having 1 to 4 heteroatoms independently selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom It means a ring, preferably a 4- to 7-membered unsaturated hydrocarbon ring having 1 to 4 heteroatoms independently selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. Specific examples include pyridine, pyrimidine, pyrazine, furan, thiophene, pyrrole, imidazole, pyrazole, oxazole, isoxazole, 4,5-dihydrooxazole, thiazole, isothiazole, thiadiazole, tetrazole and the like. If necessary, it may be independently substituted with 1 to 4 substituents described later.
“二環縮合不飽和へテロ環”とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より独立して選択されたヘテロ原子を少なくとも1つ有し、二重結合もしくは三重結合を少なくとも1つ有する7〜12員の二環の縮合炭化水素環を意味し、好ましくは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より独立して選択されたヘテロ原子を1〜4個有する8〜10員の縮合炭化水素環を意味する。たとえばベンゾチオフェン、インドール、テトラヒドロベンゾチオフェン、ベンゾフラン、イソキノリン、チエノチオフェン、チエノピリジン、キノリン、インドリン、イソインドリン、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール、インダゾール、ジヒドロイソキノリン等があげられる。 “Bicyclic fused unsaturated heterocycle” means at least one heteroatom independently selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, and at least one double or triple bond. Means a 7-12 membered bicyclic condensed hydrocarbon ring having preferably 8-10 membered having 1-4 heteroatoms independently selected from the group consisting of nitrogen, oxygen and sulfur atoms. A condensed hydrocarbon ring is meant. Examples thereof include benzothiophene, indole, tetrahydrobenzothiophene, benzofuran, isoquinoline, thienothiophene, thienopyridine, quinoline, indoline, isoindoline, benzothiazole, benzoxazole, indazole, dihydroisoquinoline and the like.
“ヘテロシクリル”とは、上記“単環不飽和ヘテロ環”または“二環縮合不飽和ヘテロ環”の1価基あるいは“単環不飽和ヘテロ環”または“二環縮合不飽和ヘテロ環”を水素で飽和して生じるヘテロ環の1価基を指称する。必要により、後述の置換基で、独立に1〜4置換されてもよい。 “Heterocyclyl” is a monovalent group of the above “monocyclic unsaturated heterocycle” or “bicyclic fused unsaturated heterocycle” or “monocyclic unsaturated heterocycle” or “bicyclic fused unsaturated heterocycle”. Refers to a monovalent group of a heterocyclic ring that occurs when saturated with. If necessary, it may be independently substituted with 1 to 4 substituents described later.
“アルカノイル”とは、上記“アルキル”がカルボニルに結合して生成した基を指称する。 “Alkanoyl” refers to a group formed by bonding the above “alkyl” to a carbonyl.
“アルコキシ”とは、上記“アルキル”が酸素原子に結合して生成した基を指称する。 “Alkoxy” refers to a group formed by bonding the above “alkyl” to an oxygen atom.
上述の各基における置換基としては、たとえば、ハロゲン(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、ニトロ、シアノ、オキソ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフイニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノ−もしくはジ−アリールカルバモイル、アルキルスルフイニル、アルケニルスルフイニル、アルキニルスルフイニル、シクロアルキルスルフイニル、シクロアルケニルスルフイニル、シクロアルキニルスルフイニル、アリールスルフイニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルスルホニルなどが挙げられる。上記各基はさらに所望により、適宜これら置換基で置換されていてもよい。 Examples of the substituent in each of the above groups include halogen (fluorine, chlorine, bromine, iodine), nitro, cyano, oxo, hydroxyl, mercapto, carboxyl, sulfo, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, cyclo Alkynyl, aryl, heterocyclyl, alkoxy, alkenyloxy, alkynyloxy, cycloalkyloxy, cycloalkenyloxy, cycloalkynyloxy, aryloxy, heterocyclyloxy, alkanoyl, alkenylcarbonyl, alkynylcarbonyl, cycloalkylcarbonyl, cycloalkenylcarbonyl, cycloalkynyl Carbonyl, arylcarbonyl, heterocyclylcarbonyl, alkoxycarbonyl, alkenyloxycarbonyl, alkyl Ruoxycarbonyl, cycloalkyloxycarbonyl, cycloalkenyloxycarbonyl, cycloalkynyloxycarbonyl, aryloxycarbonyl, heterocyclyloxycarbonyl, alkanoyloxy, alkenylcarbonyloxy, alkynylcarbonyloxy, cycloalkylcarbonyloxy, cycloalkenylcarbonyloxy, cycloalkynyl Carbonyloxy, arylcarbonyloxy, heterocyclylcarbonyloxy, alkylthio, alkenylthio, alkynylthio, cycloalkylthio, cycloalkenylthio, cycloalkynylthio, arylthio, heterocyclylthio, amino, mono- or di-alkylamino, mono- or di- Alkanoylamino, mono- or di-alkoxy Rubonylamino, mono- or di-arylcarbonylamino, alkylsulfinylamino, alkylsulfonylamino, arylsulfinylamino, arylsulfonylamino, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, mono- or di-arylcarbamoyl, alkylsulfuryl Phynyl, alkenylsulfinyl, alkynylsulfinyl, cycloalkylsulfinyl, cycloalkenylsulfinyl, cycloalkynylsulfinyl, arylsulfinyl, heterocyclylsulfinyl, alkylsulfonyl, alkenylsulfonyl, alkynylsulfonyl, cycloalkyl Sulfonyl, cycloalkenylsulfonyl, cycloalkynylsulfonyl, arylsulfonyl, heterocyclylsulfonyl, etc. Can be mentioned. Each of the above groups may be further optionally substituted with these substituents as desired.
さらに、ハロアルキル、ハロ低級アルキル、ハロアルコキシ、ハロ低級アルコキシ、ハロフェニル、ハロへテロシクリルなる用語は、それぞれ、1つ以上のハロゲンで置換された、アルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、フェニルまたはヘテロシクリルを指称する。好ましくは1〜7のハロゲンで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、フェニルまたはヘテロシクリルであり、より好ましくは1〜5のハロゲンで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、フェニルまたはヘテロシクリルである。さらに、ハロピリジル、ハロチエニルなる用語は、それぞれ、1つ以上のハロゲン(フッ素や塩素など)で置換された、ピリジル、またはチエニルを指称する。具体的には、CHF2、CF3、CHF2O、CF3O、CF3CH2、CF3CH2O、FCH2CH2O、ClCH2CH2O、FC6H4、ClC6H4、BrC6H4、IC6H4、FC5H3N、ClC5H3N、BrC5H3N、FC4H2S、ClC4H2S、およびBrC4H2Sが挙げられる。 Furthermore, the terms haloalkyl, halolower alkyl, haloalkoxy, haloloweralkoxy, halophenyl, haloheterocyclyl, each represent alkyl, loweralkyl, alkoxy, loweralkoxy, phenyl or heterocyclyl substituted with one or more halogens. Refer to it. Preferred are alkyl, lower alkyl, alkoxy, lower alkoxy, phenyl or heterocyclyl substituted with 1 to 7 halogen, more preferably alkyl, lower alkyl, alkoxy, lower alkoxy or phenyl substituted with 1 to 5 halogen. Or it is heterocyclyl. Furthermore, the terms halopyridyl, halothienyl, respectively, refer to pyridyl, or thienyl, substituted with one or more halogens (such as fluorine or chlorine). Specifically, CHF 2, CF 3, CHF 2 O, CF 3 O, CF 3 CH 2, CF 3 CH 2 O, FCH 2 CH 2 O, ClCH 2 CH 2 O, FC 6 H 4, ClC 6 H 4 , BrC 6 H 4 , IC 6 H 4 , FC 5 H 3 N, ClC 5 H 3 N, BrC 5 H 3 N, FC 4 H 2 S, ClC 4 H 2 S, and BrC 4 H 2 S It is done.
ヒドロキシアルキル、ヒドロキシ低級アルキル、ヒドロキシアルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、ヒドロキシフェニルなる用語は、それぞれ、1つ以上のヒドロキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルを指称する。好ましくは1〜4のヒドロキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルであり、より好ましくは1〜2のヒドロキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルである。さらに、アルコキシアルキル、低級アルコキシアルキル、アルコキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、アルコキシアルコキシ、低級アルコキシアルコキシ、アルコキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、アルコキシフェニル、低級アルコキシフェニルなる用語は、それぞれ、1つ以上のアルコキシまたは低級アルコキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルを指称する。好ましくは1〜4のアルコキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルであり、より好ましくは1〜2のアルコキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルである。 The terms hydroxyalkyl, hydroxy lower alkyl, hydroxyalkoxy, hydroxy lower alkoxy, hydroxyphenyl, respectively, refer to alkyl, lower alkyl, alkoxy, lower alkoxy, or phenyl substituted with one or more hydroxy. Preferably it is alkyl substituted with 1-4 hydroxy, lower alkyl, alkoxy, lower alkoxy, or phenyl, more preferably alkyl substituted with 1-2 hydroxy, lower alkyl, alkoxy, lower alkoxy, or phenyl It is. Further, the terms alkoxyalkyl, lower alkoxyalkyl, alkoxy lower alkyl, lower alkoxy lower alkyl, alkoxyalkoxy, lower alkoxyalkoxy, alkoxylower alkoxy, loweralkoxyloweralkoxy, alkoxyphenyl, loweralkoxyphenyl are each one or more of Refers to alkyl, lower alkyl, alkoxy, lower alkoxy, or phenyl substituted with alkoxy or lower alkoxy. Preferably it is alkyl substituted by 1-4 alkoxy, lower alkyl, alkoxy, lower alkoxy, or phenyl, more preferably alkyl substituted by 1-2 alkoxy, lower alkyl, alkoxy, lower alkoxy, or phenyl It is.
同様に、“シアノフェニル”は1つ以上のシアノ基で置換されたフェニル基を指称する。 Similarly, “cyanophenyl” refers to a phenyl group substituted with one or more cyano groups.
“アリールアルキル”および“アリールアルコキシ”とは、単独で使用されても、あるいは他に置換の一部で使用される場合においても、アリールを置換として有する、アルキルまたはアルコキシを指称する。 “Arylalkyl” and “arylalkoxy” refer to an alkyl or alkoxy having an aryl as a substitution, whether used alone or otherwise as part of a substitution.
本明細書中の一般式の定義において「低級」なる用語は、特に断らない限り、炭素数が1乃至6の直鎖又は分枝鎖の炭素鎖を意味する。より好ましくは、炭素数1から4の直鎖又は分岐鎖の炭素鎖を意味する。 In the definition of the general formula in the present specification, the term “lower” means a straight or branched carbon chain having 1 to 6 carbon atoms unless otherwise specified. More preferably, it means a linear or branched carbon chain having 1 to 4 carbon atoms.
本発明の有効成分において、好ましい態様としては、環Aが置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、Zが In the active ingredient of the present invention, as a preferred embodiment, ring A is an optionally substituted monocyclic unsaturated heterocycle, and Z is
である。 It is.
他の好ましい態様としては、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、ニトロ、シアノ、オキソ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフイニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノーもしくはジーアリールカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルキルスルフイニル、アルケニルスルフイニル、アルキニルスルフイニル、シクロアルキルスルフイニル、シクロアルケニルスルフイニル、シクロアルキニルスルフイニル、アリールスルフイニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、およびヘテロシクリルスルホニルなどから選ばれる1〜5の置換基(ここにおいて該置換基はさらに上記置換基から選ばれる1以上の置換基で置換されていてもよい)で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であり、
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、ニトロ、シアノ、オキソ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフイニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノ−もしくはジ−アリールカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルキルスルフイニル、アルケニルスルフイニル、アルキニルスルフイニル、シクロアルキルスルフイニル、シクロアルケニルスルフイニル、シクロアルキニルスルフイニル、アリールスルフイニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、およびヘテロシクリルスルホニルなどから選ばれる1〜5の置換基(ここにおいて該置換基はさらに上記置換基から選ばれる1以上の置換基で置換されていてもよい)で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であり、
置換されていてもよいベンゼン環が、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフイニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノ−もしくはジ−アリールカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルキルスルフイニル、アルケニルスルフイニル、アルキニルスルフイニル、シクロアルキルスルフイニル、シクロアルケニルスルフイニル、シクロアルキニルスルフイニル、アリールスルフイニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルスルホニル、アルキレン、アルキレンオキシ、アルキレンジオキシ、およびアルケニレンなどから選ばれる1〜5の置換基(ここにおいて該置換基はさらに上記置換基から選ばれる1以上の置換基で置換されていてもよい)で置換されていてもよいベンゼン環である。
In another preferred embodiment, the optionally substituted monocyclic unsaturated heterocycle is a halogen, nitro, cyano, oxo, hydroxyl, mercapto, carboxyl, sulfo, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, cyclo Alkynyl, aryl, heterocyclyl, alkoxy, alkenyloxy, alkynyloxy, cycloalkyloxy, cycloalkenyloxy, cycloalkynyloxy, aryloxy, heterocyclyloxy, alkanoyl, alkenylcarbonyl, alkynylcarbonyl, cycloalkylcarbonyl, cycloalkenylcarbonyl, cycloalkynyl Carbonyl, arylcarbonyl, heterocyclylcarbonyl, alkoxycarbonyl, alkenyloxycarbonyl, alkynylo Cycarbonyl, cycloalkyloxycarbonyl, cycloalkenyloxycarbonyl, cycloalkynyloxycarbonyl, aryloxycarbonyl, heterocyclyloxycarbonyl, alkanoyloxy, alkenylcarbonyloxy, alkynylcarbonyloxy, cycloalkylcarbonyloxy, cycloalkenylcarbonyloxy, cycloalkynylcarbonyl Oxy, arylcarbonyloxy, heterocyclylcarbonyloxy, alkylthio, alkenylthio, alkynylthio, cycloalkylthio, cycloalkenylthio, cycloalkynylthio, arylthio, heterocyclylthio, amino, mono- or di-alkylamino, mono- or di-alkanoyl Amino, mono- or di-alkoxycarbo Ruamino, mono- or di-arylcarbonylamino, alkylsulfinylamino, alkylsulfonylamino, arylsulfinylamino, arylsulfonylamino, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, mono- or diarylcarbamoyl, sulfamoyl, mono- or Di-alkylsulfamoyl, alkylsulfinyl, alkenylsulfinyl, alkynylsulfinyl, cycloalkylsulfinyl, cycloalkenylsulfinyl, cycloalkynylsulfinyl, arylsulfinyl, heterocyclylsulfinyl, alkylsulfonyl Alkenylsulfonyl, alkynylsulfonyl, cycloalkylsulfonyl, cycloalkenylsulfonyl, cycloalkynylsulfonyl , Arylsulfonyl, and heterocyclylsulfonyl, etc. (wherein the substituent may be further substituted with one or more substituents selected from the above substituents) A good monocyclic unsaturated heterocycle,
An optionally substituted bicyclic fused unsaturated heterocycle is halogen, nitro, cyano, oxo, hydroxyl, mercapto, carboxyl, sulfo, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, cycloalkynyl, aryl, heterocyclyl, Alkoxy, alkenyloxy, alkynyloxy, cycloalkyloxy, cycloalkenyloxy, cycloalkynyloxy, aryloxy, heterocyclyloxy, alkanoyl, alkenylcarbonyl, alkynylcarbonyl, cycloalkylcarbonyl, cycloalkenylcarbonyl, cycloalkynylcarbonyl, arylcarbonyl, heterocyclyl Carbonyl, alkoxycarbonyl, alkenyloxycarbonyl, alkynyloxycarbonyl, cyclo Alkyloxycarbonyl, cycloalkenyloxycarbonyl, cycloalkynyloxycarbonyl, aryloxycarbonyl, heterocyclyloxycarbonyl, alkanoyloxy, alkenylcarbonyloxy, alkynylcarbonyloxy, cycloalkylcarbonyloxy, cycloalkenylcarbonyloxy, cycloalkynylcarbonyloxy, arylcarbonyl Oxy, heterocyclylcarbonyloxy, alkylthio, alkenylthio, alkynylthio, cycloalkylthio, cycloalkenylthio, cycloalkynylthio, arylthio, heterocyclylthio, amino, mono- or di-alkylamino, mono- or di-alkanoylamino, mono- Or di-alkoxycarbonylamino, mono-if Is di-arylcarbonylamino, alkylsulfinylamino, alkylsulfonylamino, arylsulfinylamino, arylsulfonylamino, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, mono- or di-arylcarbamoyl, sulfamoyl, mono- or di- Alkylsulfamoyl, alkylsulfinyl, alkenylsulfinyl, alkynylsulfinyl, cycloalkylsulfinyl, cycloalkenylsulfinyl, cycloalkynylsulfinyl, arylsulfinyl, heterocyclylsulfinyl, alkylsulfonyl, alkenyl Sulfonyl, alkynylsulfonyl, cycloalkylsulfonyl, cycloalkenylsulfonyl, cycloalkynylsulfonyl, arylsulfonyl, And bicyclic condensation optionally substituted with 1 to 5 substituents selected from heterocyclylsulfonyl and the like (wherein the substituents may be further substituted with one or more substituents selected from the above substituents) An unsaturated heterocycle,
An optionally substituted benzene ring is halogen, nitro, cyano, hydroxyl, mercapto, carboxyl, sulfo, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, cycloalkynyl, aryl, heterocyclyl, alkoxy, alkenyloxy, alkynyloxy , Cycloalkyloxy, cycloalkenyloxy, cycloalkynyloxy, aryloxy, heterocyclyloxy, alkanoyl, alkenylcarbonyl, alkynylcarbonyl, cycloalkylcarbonyl, cycloalkenylcarbonyl, cycloalkynylcarbonyl, arylcarbonyl, heterocyclylcarbonyl, alkoxycarbonyl, alkenyloxy Carbonyl, alkynyloxycarbonyl, cycloalkyloxycarbo , Cycloalkenyloxycarbonyl, cycloalkynyloxycarbonyl, aryloxycarbonyl, heterocyclyloxycarbonyl, alkanoyloxy, alkenylcarbonyloxy, alkynylcarbonyloxy, cycloalkylcarbonyloxy, cycloalkenylcarbonyloxy, cycloalkynylcarbonyloxy, arylcarbonyloxy, Heterocyclylcarbonyloxy, alkylthio, alkenylthio, alkynylthio, cycloalkylthio, cycloalkenylthio, cycloalkynylthio, arylthio, heterocyclylthio, amino, mono- or di-alkylamino, mono- or di-alkanoylamino, mono- or di -Alkoxycarbonylamino, mono- or di-aryl cal Nylamino, alkylsulfinylamino, alkylsulfonylamino, arylsulfinylamino, arylsulfonylamino, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, mono- or di-arylcarbamoyl, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl, Alkylsulfinyl, alkenylsulfinyl, alkynylsulfinyl, cycloalkylsulfinyl, cycloalkenylsulfinyl, cycloalkynylsulfinyl, arylsulfinyl, heterocyclylsulfinyl, alkylsulfonyl, alkenylsulfonyl, alkynylsulfonyl, Cycloalkylsulfonyl, cycloalkenylsulfonyl, cycloalkynylsulfonyl, arylsulfonyl, heterocyclylsulfo 1 to 5 substituents selected from nyl, alkylene, alkyleneoxy, alkylenedioxy, alkenylene and the like (wherein the substituent may be further substituted with one or more substituents selected from the above substituents) A benzene ring optionally substituted by
“置換されていてもよいベンゼン環”には、アルキレンで置換されたベンゼン環、すなわち、アルキレンが結合している炭素原子と共に縮環した炭化水素環を形成しているベンゼン環、および、アルケニレンで置換されたベンゼン環、すなわち、結合している炭素原子と共に縮環した炭化水素環(例えばベンゼン環など)を形成しているベンゼン環も包含される。 The “optionally substituted benzene ring” includes a benzene ring substituted with alkylene, that is, a benzene ring forming a hydrocarbon ring condensed with a carbon atom to which alkylene is bonded, and alkenylene. Substituted benzene rings, that is, benzene rings forming a condensed hydrocarbon ring (for example, a benzene ring) with a bonded carbon atom are also included.
置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環として好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソから選ばれた1〜3の置換基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環があげられる。 The optionally substituted monocyclic unsaturated heterocycle is preferably halogen, hydroxyl, alkoxy, alkyl, haloalkyl, haloalkoxy, hydroxyalkyl, alkoxyalkyl, alkoxyalkoxy, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, cycloalkyl. Oxy, aryl, aryloxy, arylalkoxy, cyano, nitro, amino, mono- or di-alkylamino, alkanoylamino, alkoxycarbonylamino, carboxyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, sulfamoyl, mono- Or di-alkylsulfamoyl, alkanoyl, alkylsulfonylamino, arylsulfonylamino, alkylsulfinyl, al Rusuruhoniru, arylsulfonyl, monocyclic unsaturated heterocyclic ring may be substituted with a substituent having 1 to 3 selected from heterocyclyl and oxo and the like.
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環として好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソから選ばれた1〜3の置換基で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環があげられる。 The optionally substituted bicyclic fused unsaturated heterocycle is preferably halogen, hydroxyl, alkoxy, alkyl, haloalkyl, haloalkoxy, hydroxyalkyl, alkoxyalkyl, alkoxyalkoxy, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, cyclo Alkyloxy, aryl, aryloxy, arylalkoxy, cyano, nitro, amino, mono- or di-alkylamino, alkanoylamino, alkoxycarbonylamino, carboxyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, sulfamoyl, mono -Or di-alkylsulfamoyl, alkanoyl, alkylsulfonylamino, arylsulfonylamino, alkylsulfinyl, Alkylsulfonyl, arylsulfonyl, by two may be ring fused unsaturated heterocyclic ring substituted with a substituent having 1 to 3 selected from heterocyclyl and oxo and the like.
また、置換されていてもよいベンゼン環として好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン、アルキレンオキシ、アルキレンジオキシおよびアルケニレンから選ばれた1〜3の置換基で置換されていてもよいベンゼン環があげられる。 The benzene ring which may be substituted is preferably halogen, hydroxyl, alkoxy, alkyl, haloalkyl, haloalkoxy, hydroxyalkyl, alkoxyalkyl, alkoxyalkoxy, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, cycloalkyloxy, Aryl, aryloxy, arylalkoxy, cyano, nitro, amino, mono- or di-alkylamino, alkanoylamino, alkoxycarbonylamino, carboxyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, sulfamoyl, mono- or di -Alkylsulfamoyl, alkanoyl, alkylsulfonylamino, arylsulfonylamino, alkylsulfinyl, alkyl Sulfonyl, arylsulfonyl, heterocyclyl, alkylene, alkyleneoxy, a benzene ring which may be substituted with 1-3 substituents selected from alkylenedioxy and alkenylene and the like.
他の好ましい態様においては、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソから独立して選ばれる1−3の置換基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であり、
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソから独立して選ばれる1−3の置換基で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であり、
置換されていてもよいベンゼン環が、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびアルケニレンから独立して選ばれる1−3の置換基で置換されていてもよいベンゼン環であり、
ここにおいて、これらベンゼン環上、単環不飽和ヘテロ環上、または二環縮合不飽和ヘテロ環上の置換は、さらに、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、フェニル、アルキレンオキシ、アルキレンジオキシ、オキソ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから独立して選ばれる1−3の置換基で置換されていてもよい。
In other preferred embodiments, the optionally substituted monocyclic unsaturated heterocycle is halogen, hydroxy, cyano, nitro, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, alkoxy, alkanoyl, alkylthio, alkylsulfonyl, alkylsulfinyl, Amino, mono- or di-alkylamino, alkanoylamino, alkoxycarbonylamino, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl, carboxy, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, alkylsulfonylamino, phenyl, Monocyclic unsaturated hete optionally substituted with 1-3 substituents independently selected from phenoxy, phenylsulfonylamino, phenylsulfonyl, heterocyclyl and oxo It is a ring,
The optionally substituted bicyclic fused unsaturated heterocycle is halogen, hydroxy, cyano, nitro, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, alkoxy, alkylthio, alkylsulfonyl, alkylsulfinyl, amino, mono- or di-alkyl. Amino, alkanoylamino, alkoxycarbonylamino, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl, carboxy, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, alkanoyl, alkylsulfonylamino, phenyl, phenoxy, phenylsulfonylamino, A bicyclic fused unsaturated heterocycle optionally substituted with 1-3 substituents independently selected from phenylsulfonyl, heterocyclyl and oxo;
Optionally substituted benzene rings are halogen, hydroxy, cyano, nitro, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, alkoxy, alkanoyl, alkylthio, alkylsulfonyl, alkylsulfinyl, amino, mono- or di-alkylamino, alkanoyl Amino, alkoxycarbonylamino, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl, carboxy, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, alkylsulfonylamino, phenyl, phenoxy, phenylsulfonylamino, phenylsulfonyl, heterocyclyl, A benzene ring optionally substituted with 1-3 substituents independently selected from alkylene and alkenylene;
Here, the substitution on the benzene ring, monocyclic unsaturated heterocycle, or bicyclic fused unsaturated heterocycle further includes halogen, hydroxy, cyano, alkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkanoyl, alkylthio, 1-3 substituents independently selected from alkylsulfonyl, mono- or di-alkylamino, carboxy, alkoxycarbonyl, phenyl, alkyleneoxy, alkylenedioxy, oxo, carbamoyl, and mono- or di-alkylcarbamoyl May be substituted.
好ましい態様としては、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、シアノ、アルキル、アルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、フェニル、ヘテロシクリル、およびオキソから独立して選ばれる1−3の置換基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であり;
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、シアノ、アルキル、アルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、フェニル、ヘテロシクリル、およびオキソから独立して選ばれる1−3の置換基で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であり;
置換されていてもよいベンゼン環が、ハロゲン、シアノ、アルキル、アルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、フェニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびアルケニレンから独立して選ばれる1−3の置換基で置換されていてもよいベンゼン環であり;
ここにおいて、これらベンゼン環上、単環不飽和ヘテロ環上、または二環不飽和ヘテロ環上の置換は、さらに、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシ、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから独立して選ばれる1−3の置換基で置換されていてもよい。
In a preferred embodiment, the optionally substituted monocyclic unsaturated heterocycle is halogen, cyano, alkyl, alkoxy, alkanoyl, mono- or di-alkylamino, alkanoylamino, alkoxycarbonylamino, carboxy, alkoxycarbonyl, carbamoyl. A monocyclic unsaturated heterocycle optionally substituted with 1-3 substituents independently selected from mono- or di-alkylcarbamoyl, phenyl, heterocyclyl, and oxo;
The optionally substituted bicyclic fused unsaturated heterocycle is halogen, cyano, alkyl, alkoxy, alkanoyl, mono- or di-alkylamino, alkanoylamino, alkoxycarbonylamino, carboxy, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or A bicyclic fused unsaturated heterocycle optionally substituted with 1-3 substituents independently selected from di-alkylcarbamoyl, phenyl, heterocyclyl, and oxo;
Optionally substituted benzene ring is halogen, cyano, alkyl, alkoxy, alkanoyl, mono- or di-alkylamino, alkanoylamino, alkoxycarbonylamino, carboxy, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, A benzene ring optionally substituted with 1-3 substituents independently selected from phenyl, heterocyclyl, alkylene and alkenylene;
Here, the substitution on the benzene ring, monocyclic unsaturated heterocycle or bicyclic unsaturated heterocycle is further halogen, cyano, alkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkanoyl, mono- or di- It may be substituted with 1-3 substituents independently selected from alkylamino, carboxy, hydroxy, phenyl, alkylenedioxy, alkyleneoxy, alkoxycarbonyl, carbamoyl, and mono- or di-alkylcarbamoyl.
他の好ましい態様としては、
(1)環Aが以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり:
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、及びオキソ;
環Bが、それぞれ以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環、二環縮合不飽和へテロ環、またはベンゼン環:
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン、及びアルケニレン;
ここにおいて、上記環Aおよび環Bの置換基はさらに以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい:
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル;
(2)環Aが以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよいベンゼン環:
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン及びアルケニレン;
環Bが、それぞれ以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環不飽和へテロ環であり:
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン及びオキソ;
ここにおいて、上記の環Aおよび環Bの置換基は、以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい:
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル;あるいは、
(3)環Aが以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい二環不飽和へテロ環であり:
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、及びオキソ;
環Bが選ばれる1−3の置換基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環、二環縮合不飽和ヘテロ環またはベンゼン環:
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびオキソ;
ここにおいて、これら環Aおよび環Bの置換はさらにハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシ、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから独立して選ばれる1−3の置換基で置換されていてもよい;
である。
As another preferred embodiment,
(1) A ring A is a monocyclic unsaturated heterocycle optionally substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Halogen, hydroxy, cyano, nitro, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, alkoxy, alkanoyl, alkylthio, alkylsulfonyl, alkylsulfinyl, amino, mono- or di-alkylamino, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl Carboxyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, alkylsulfonylamino, phenyl, phenoxy, phenylsulfonylamino, phenylsulfonyl, heterocyclyl, and oxo;
Ring B may each be substituted with 1-3 groups selected from the following groups, monocyclic unsaturated heterocycles, bicyclic fused unsaturated heterocycles, or benzene rings:
Halogen, hydroxy, cyano, nitro, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, alkoxy, alkanoyl, alkylthio, alkylsulfonyl, alkylsulfinyl, amino, mono- or di-alkylamino, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl Carboxyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, alkylsulfonylamino, phenyl, phenoxy, phenylsulfonylamino, phenylsulfonyl, heterocyclyl, alkylene, and alkenylene;
Here, the substituents of the ring A and the ring B may be further substituted with a group 1-3 selected from the following group:
Halogen, cyano, alkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkanoyl, mono- or di-alkylamino, carboxyl, hydroxy, phenyl, alkylenedioxy, alkyleneoxy, alkoxycarbonyl, carbamoyl, and mono- or di-alkylcarbamoyl;
(2) The benzene ring in which ring A may be substituted with 1-3 group selected from the following group:
Halogen, hydroxy, cyano, nitro, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, alkoxy, alkanoyl, alkylthio, alkylsulfonyl, alkylsulfinyl, amino, mono- or di-alkylamino, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl Carboxyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, alkylsulfonylamino, phenyl, phenoxy, phenylsulfonylamino, phenylsulfonyl, heterocyclyl, alkylene and alkenylene;
Ring B is a monocyclic unsaturated heterocycle or bicyclic unsaturated heterocycle, each optionally substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Halogen, hydroxy, cyano, nitro, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, alkoxy, alkanoyl, alkylthio, alkylsulfonyl, alkylsulfinyl, amino, mono- or di-alkylamino, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl Carboxyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, alkylsulfonylamino, phenyl, phenoxy, phenylsulfonylamino, phenylsulfonyl, heterocyclyl, alkylene and oxo;
Here, the substituents of the above ring A and ring B may be substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Halogen, cyano, alkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkanoyl, mono- or di-alkylamino, carboxyl, hydroxy, phenyl, alkylenedioxy, alkyleneoxy, alkoxycarbonyl, carbamoyl, and mono- or di-alkylcarbamoyl; Or
(3) A ring A is a bicyclic unsaturated hetero ring optionally substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Halogen, hydroxy, cyano, nitro, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, alkoxy, alkanoyl, alkylthio, alkylsulfonyl, alkylsulfinyl, amino, mono- or di-alkylamino, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl Carboxyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, alkylsulfonylamino, phenyl, phenoxy, phenylsulfonylamino, phenylsulfonyl, heterocyclyl, and oxo;
Monocyclic unsaturated heterocycle, bicyclic fused unsaturated heterocycle or benzene ring optionally substituted with 1-3 substituents wherein ring B is selected:
Halogen, hydroxy, cyano, nitro, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, alkoxy, alkanoyl, alkylthio, alkylsulfonyl, alkylsulfinyl, amino, mono- or di-alkylamino, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl , Carboxy, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, alkylsulfonylamino, phenyl, phenoxy, phenylsulfonylamino, phenylsulfonyl, heterocyclyl, alkylene and oxo;
Here, the substitution of ring A and ring B is further halogen, cyano, alkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkanoyl, mono- or di-alkylamino, carboxy, hydroxy, phenyl, alkylenedioxy, alkyleneoxy, alkoxy Optionally substituted with 1-3 substituents independently selected from carbonyl, carbamoyl and mono- or di-alkylcarbamoyl;
It is.
他の好ましい態様としては、
(1)環Aが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、環Bが、(a)ハロゲン;シアノ;低級アルキル;ハロ低級アルキル;低級アルコキシ;ハロ低級アルコキシ;モノ−もしくはジ−アルキルアミノ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル;および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよいベンゼン環であるか、(b)ハロゲン;シアノ;低級アルキル;ハロ低級アルキル;低級アルコキシ;ハロ低級アルコキシ;モノ−もしくはジ−アルキルアミノ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル;および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であるか、あるいは(c)ハロゲン;シアノ;低級アルキル;ハロ低級アルキル;低級アルコキシ;ハロ低級アルコキシ;モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル;および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であるか;
(2)環Aが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、または低級アルケニレンで置換されていてもよいベンゼン環であり、 環Bが、(a)ハロゲン;シアノ;低級アルキル;ハロ低級アルキル;フェニル低級アルキル;低級アルコキシ;ハロ低級アルコキシ;モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイルまたはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル;および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、または(b)ハロゲン;シアノ;低級アルキル;ハロ低級アルキル;フェニル低級アルキル;低級アルコキシ;ハロ低級アルコキシ;モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル;および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であるか;あるいは
(3)環Aが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であり、 環Bが、(a)ハロゲン;シアノ;低級アルキル;ハロ低級アルキル;低級アルコキシ;ハロ低級アルコキシ;モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル;および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよいベンゼン環、(b)ハロゲン;シアノ;低級アルキル;ハロ低級アルキル;低級アルコキシ;ハロ低級アルコキシ;モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル;および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、あるいは(c)ハロゲン;シアノ;低級アルキル;ハロ低級アルキル;低級アルコキシ;ハロ低級アルコキシ;モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル;および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環である。
As another preferred embodiment,
(1) Ring A is a monocyclic unsaturated heterocycle optionally substituted with halogen, lower alkyl, halolower alkyl, lower alkoxy, or oxo, and ring B is (a) halogen; cyano; Alkyl; halo lower alkyl; lower alkoxy; halo lower alkoxy; mono- or di-alkylamino; optionally substituted by halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or mono- or di-lower alkylamino Good phenyl; and a benzene ring optionally substituted with a group selected from halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or heterocyclyl optionally substituted with mono- or di-lower alkylamino Or (b) halogen; cyano; lower alkyl; halo lower alkyl Lower alkoxy; halo lower alkoxy; mono- or di-alkylamino; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, phenyl optionally substituted with mono- or di-lower alkylamino; and halogen; A monocyclic unsaturated heterocycle optionally substituted with a group selected from cyano, lower alkyl, halolower alkyl, lower alkoxy, heterocyclyl optionally substituted with mono- or di-alkylamino, or ( c) halogen; cyano; lower alkyl; halo lower alkyl; lower alkoxy; halo lower alkoxy; mono- or di-lower alkylamino; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or mono- or di-lower. Substituted with alkylamino Optionally substituted phenyl; and optionally substituted with a group selected from halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or heterocyclyl optionally substituted with mono- or di-lower alkylamino Is a ring-fused unsaturated heterocycle;
(2) Ring A is a benzene ring optionally substituted with halogen, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, phenyl, or lower alkenylene, and ring B is (a) halogen; cyano; lower alkyl; Halo lower alkyl; phenyl lower alkyl; lower alkoxy; halo lower alkoxy; mono- or di-lower alkylamino; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, halo lower alkoxy, mono- or di-alkylamino, Phenyl optionally substituted with carbamoyl or mono- or di-lower alkylcarbamoyl; and halogen, cyano, lower alkyl, halolower alkyl, lower alkoxy, halolower alkoxy, mono- or di-lower alkylamino, carbamoyl, Also A monocyclic unsaturated heterocycle optionally substituted with a group selected from heterocyclyl optionally substituted with mono- or di-lower alkylcarbamoyl, or (b) halogen; cyano; lower alkyl; halolower alkyl; Phenyl lower alkyl; lower alkoxy; halo lower alkoxy; mono- or di-lower alkylamino; phenyl optionally substituted with halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or mono- or di-alkylamino And to a bicyclic fused unsaturated group optionally substituted with a group selected from halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, heterocyclyl optionally substituted with mono- or di-lower alkylamino; Is a terror ring; or (3) Ring A is A bicyclic fused-unsaturated heterocycle optionally substituted with a logene, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or oxo, wherein ring B is (a) halogen; cyano; lower alkyl; halo lower alkyl; Lower alkoxy; halo lower alkoxy; mono- or di-lower alkylamino; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or phenyl optionally substituted with mono- or di-alkylamino; and halogen A benzene ring optionally substituted with a group selected from heterocyclyl optionally substituted with cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or mono- or di-lower alkylamino, (b) halogen; Lower alkyl; halo lower alkyl; lower alkoxy; Mono- or di-lower alkylamino; halogen, cyano, lower alkyl, halo-lower alkyl, lower alkoxy, or phenyl optionally substituted with mono- or di-lower alkylamino; and halogen, cyano A monocyclic unsaturated heterocycle optionally substituted with a group selected from heterocyclyl optionally substituted with lower alkyl, halolower alkyl, lower alkoxy, mono- or di-lower alkylamino, or (c) Halo; cyano; lower alkyl; halo lower alkyl; lower alkoxy; halo lower alkoxy; mono- or di-lower alkylamino; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or mono- or di-alkylamino Optionally substituted And bicyclic fused unsaturated groups optionally substituted with a group selected from halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, heterocyclyl optionally substituted with mono- or di-lower alkylamino Heterocycle.
より好ましい態様においては、Yが−CH2−であって、Xを1位として3位の位置で環Aと結合している。 In a more preferred embodiment, Y is —CH 2 —, and X is the 1-position and is bonded to ring A at the 3-position.
他の好ましい態様としては、
(1)環Aが以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよいベンゼン環:
ハロゲン;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;フェニル;および低級アルキレン;
環Bが、それぞれ以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であり:
ハロゲン;ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリル;およびオキソ;
(2)環Aが以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環:
ハロゲン;低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;およびオキソ;
環Bが、以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよいベンゼン環であり:
ハロゲン;ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル;および低級アルキレン;
(3)環Aが以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環:
ハロゲン;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;およびオキソ;
環Bが、それぞれ以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であり:
ハロゲン;ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル;およびオキソ;
(4)環Aが以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環:
ハロゲン;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;およびオキソ;
環Bが、それぞれ以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい、ベンゼン環または単環不飽和へテロ環:
ハロゲン;ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル;および低級アルキレン;或いは、
(5)環Aが以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環:
ハロゲン;低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;およびオキソ;
環Bが、それぞれ以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環:
ハロゲン;ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル;およびオキソ;
である。
As another preferred embodiment,
(1) The benzene ring in which ring A may be substituted with 1-3 group selected from the following group:
Lower alkyl optionally substituted with halogen or lower alkoxy; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; phenyl; and lower alkylene;
Ring B is a monocyclic unsaturated heterocycle or bicyclic fused unsaturated heterocycle, each optionally substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Halogen; lower alkyl optionally substituted with halogen, lower alkoxy or phenyl; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower Phenyl optionally substituted with alkoxy, halo lower alkoxy, mono- or di-lower alkylamino, carbamoyl, or mono- or di-lower alkylcarbamoyl; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, halo Heterocyclyl optionally substituted with lower alkoxy, mono- or di-lower alkylamino, carbamoyl, or mono- or di-lower alkylcarbamoyl; and oxo;
(2) Monocyclic unsaturated heterocyclic ring in which ring A may be substituted with 1-3 group selected from the following group:
Lower alkyl optionally substituted by lower alkoxy; lower alkoxy optionally substituted by halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; and oxo;
Ring B is a benzene ring optionally substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Halogen; lower alkyl optionally substituted with halogen, lower alkoxy or phenyl; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower Phenyl optionally substituted with alkoxy, or halo-lower alkoxy; heterocyclyl optionally substituted with halogen, cyano, lower alkyl, halo-lower alkyl, lower alkoxy, or halo-lower alkoxy; and lower alkylene;
(3) Monocyclic unsaturated heterocyclic ring in which ring A may be substituted with 1-3 group selected from the following group:
Lower alkyl optionally substituted with halogen or lower alkoxy; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; and oxo;
Ring B is a monocyclic unsaturated heterocycle or bicyclic fused unsaturated heterocycle, each optionally substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Halogen; lower alkyl optionally substituted with halogen, lower alkoxy or phenyl; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower Phenyl optionally substituted with alkoxy, or halo lower alkoxy; heterocyclyl optionally substituted with halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or halo lower alkoxy; and oxo;
(4) Bicyclic fused unsaturated heterocyclic ring optionally substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Lower alkyl optionally substituted with halogen or lower alkoxy; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; and oxo;
A benzene ring or a monounsaturated heterocycle, wherein ring B may be substituted with 1-3 groups each selected from the following group:
Halogen; lower alkyl optionally substituted with halogen, lower alkoxy or phenyl; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower Phenyl optionally substituted with alkoxy, or halo lower alkoxy; heterocyclyl optionally substituted with halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or halo lower alkoxy; and lower alkylene; or
(5) Monocyclic unsaturated heterocyclic ring in which ring A may be substituted with 1-3 group selected from the following group:
Lower alkyl optionally substituted by lower alkoxy; lower alkoxy optionally substituted by halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; and oxo;
Ring B may be substituted with 1-3 groups each selected from the following groups, monocyclic unsaturated heterocycle or bicyclic fused unsaturated heterocycle:
Halogen; lower alkyl optionally substituted with halogen, lower alkoxy or phenyl; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower Phenyl optionally substituted with alkoxy, or halo lower alkoxy; heterocyclyl optionally substituted with halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or halo lower alkoxy; and oxo;
It is.
好ましい単環不飽和ヘテロ環としては、窒素、酸素および硫黄から独立に選ばれるヘテロ原子を1または2含む5〜6員の不飽和ヘテロ環が挙げられる。具体的には、フラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾール、テトラゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ジヒドロイソオキサゾール、ジヒドロピリジン、およびチアゾールなどが好ましい。好ましい二環縮合不飽和ヘテロ環としては、窒素、酸素および硫黄から独自に選ばれるヘテロ原子を1〜4個含む9〜10員の二環不飽和ヘテロ環があげられる。具体的には、インドリン、イソインドリン、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール、インドール、インダゾール、キノリン、イソキノリン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、チエノチオフェン、またはジヒドロイソキノリンが好ましい。 Preferred monocyclic unsaturated heterocycles include 5- to 6-membered unsaturated heterocycles containing 1 or 2 heteroatoms independently selected from nitrogen, oxygen and sulfur. Specifically, furan, thiophene, oxazole, isoxazole, triazole, tetrazole, pyrazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, dihydroisoxazole, dihydropyridine, and thiazole are preferable. Preferred bicyclic fused unsaturated heterocycles include 9 to 10 membered bicyclic unsaturated heterocycles containing 1 to 4 heteroatoms independently selected from nitrogen, oxygen and sulfur. Specifically, indoline, isoindoline, benzothiazole, benzoxazole, indole, indazole, quinoline, isoquinoline, benzothiophene, benzofuran, thienothiophene, or dihydroisoquinoline is preferable.
さらにまた、本発明の有効成分において、好ましい化合物としては、環Aが、 Furthermore, in the active ingredient of the present invention, as a preferable compound, ring A is
(式中、R1a、R2a、R3a、R1b、R2b、およびR3bは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、フェニル、フェニルアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、またはフェニルスルホニルを表す。)
であり、環Bが、
(Wherein R 1a , R 2a , R 3a , R 1b , R 2b , and R 3b are each independently hydrogen, halogen, hydroxyl, alkoxy, alkyl, haloalkyl, haloalkoxy, hydroxyalkyl, alkoxyalkyl, Alkoxyalkoxy, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, cycloalkyloxy, phenyl, phenylalkoxy, cyano, nitro, amino, mono- or di-alkylamino, alkanoylamino, carboxyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di -Represents alkylcarbamoyl, alkanoyl, alkylsulfonylamino, phenylsulfonylamino, alkylsulfinyl, alkylsulfonyl or phenylsulfonyl.
And ring B is
(式中、R4aおよびR5aは、それぞれ独立して、水素;ハロゲン;ヒドロキシ;アルコキシ;アルキル;ハロアルキル;ハロアルコキシ;ヒドロキシアルキル;アルコキシアルキル;フェニルアルキル;アルコキシアルコキシ;ヒドロキシアルコキシ;アルケニル;アルキニル;シクロアルキル;シクロアルケニル;シクロアルキルオキシ;フェニルオキシ;フェニルアルコキシ;シアノ;ニトロ;アミノ;モノ−もしくはジ−アルキルアミノ;アルカノイルアミノ;カルボキシル;アルコキシカルボニル;カルバモイル;モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル;アルカノイル;アルキルスルホニルアミノ;フェニルスルホニルアミノ;アルキルスルフィニル;アルキルスルホニル;フェニルスルホニル;ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいフェニル;またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、あるいはR4aおよびR5aは、互いに末端で結合してアルキレンを形成し;
R4b、R5b、R4cおよびR5cは、それぞれ独立して、水素;ハロゲン;ヒドロキシル;アルコキシ;アルキル;ハロアルキル;ハロアルコキシ;ヒドロキシアルキル;アルコキシアルキル;フェニルアルキル;アルコキシアルコキシ;ヒドロキシアルコキシ;アルケニル;アルキニル;シクロアルキル;シクロアルケニル;シクロアルキルオキシ;フェニルオキシ;フェニルアルコキシ;シアノ;ニトロ;アミノ;モノ−もしくはジ−アルキルアミノ;アルカノイルアミノ;カルボキシル;アルコキシカルボニル;カルバモイル;モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル;アルカノイル;アルキルスルホニルアミノ;フェニルスルホニルアミノ;アルキルスルフィニル;アルキルスルホニル;フェニルスルホニル;ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、およびモノ−もしくはジ−アルキルアミノから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいフェニル;またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシおよびハロアルコキシから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいヘテロシクリルを表す。)
であり、Zが
(Wherein R 4a and R 5a are each independently hydrogen; halogen; hydroxy; alkoxy; alkyl; haloalkyl; haloalkoxy; hydroxyalkyl; alkoxyalkyl; phenylalkyl; alkoxyalkoxy; hydroxyalkoxy; alkenyl; alkynyl; Cycloalkenyl; Cycloalkenyl; Cycloalkyloxy; Phenyloxy; Phenylalkoxy; Cyano; Nitro; Amino; Mono- or Di-alkylamino; Alkanoylamino; Carboxyl; Alkylsulfonylamino; phenylsulfonylamino; alkylsulfinyl; alkylsulfonyl; phenylsulfonyl; halogen, cyano, alkyl, Phenyl optionally substituted with 1-3 groups selected from loalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkylenedioxy, alkyleneoxy, mono- or di-alkylamino, carbamoyl, and mono- or di-alkylcarbamoyl; or R 4a and R 5a are heterocyclyl optionally substituted with 1-3 groups selected from halogen, cyano, alkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, carbamoyl and mono- or di-alkylcarbamoyl, Bonded to each other terminally to form an alkylene;
R 4b , R 5b , R 4c and R 5c are each independently hydrogen; halogen; hydroxyl; alkoxy; alkyl; haloalkyl; haloalkoxy; hydroxyalkyl; alkoxyalkyl; phenylalkyl; Cycloalkenyl; Cycloalkoxy; Phenyloxy; Phenylalkoxy; Cyano; Nitro; Amino; Mono- or Di-alkylamino; Alkanoylamino; Carboxyl; Alkoxycarbonyl; Carbamoyl; Mono- or Di-alkylcarbamoyl; Alkylsulfonylamino; phenylsulfonylamino; alkylsulfinyl; alkylsulfonyl; phenylsulfonyl; halogen, cyano, a Phenyl optionally substituted with 1-3 groups selected from: kill, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkylenedioxy, alkyleneoxy, and mono- or di-alkylamino; or halogen, cyano, alkyl, haloalkyl, It represents a heterocyclyl optionally substituted with 1-3 groups selected from alkoxy and haloalkoxy. )
And Z is
である。 It is.
本発明の有効成分においてより好ましくは、R1a、R2a、R3a、R1b、R2b、およびR3bが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはフェニルであり;
R4aおよびR5aが、それぞれ独立して、水素;ハロゲン;低級アルキル;ハロ低級アルキル;フェニル低級アルキル;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいフェニル;または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、またはR4aおよびR5aが互いに末端で結合して低級アルキレンを形成し;
R4b、R5b、R4cおよびR5cが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシである。
More preferably, in the active ingredient of the present invention, R 1a , R 2a , R 3a , R 1b , R 2b , and R 3b are each independently hydrogen, halogen, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or Phenyl;
R 4a and R 5a are each independently hydrogen; halogen; lower alkyl; halo lower alkyl; phenyl lower alkyl; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, halo lower alkoxy, methylenedioxy, ethylene Phenyl optionally substituted by 1-3 groups selected from oxy, mono- or di-lower alkylamino, carbamoyl and mono- or di-lower alkylcarbamoyl; or halogen, cyano, lower alkyl, halolower alkyl , Lower alkoxy, halo lower alkoxy, mono- or di-lower alkylamino, carbamoyl, and heterocyclyl optionally substituted with 1-3 groups selected from mono- or di-lower alkylcarbamoyl, or R another 4a and R 5a is And combine with each other to form a lower alkylene;
R 4b , R 5b , R 4c and R 5c are each independently hydrogen, halogen, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy or halo lower alkoxy.
本発明の有効成分においてさらに好ましくは、環Aが、
環Aが、
In the active ingredient of the present invention, more preferably, ring A is
Ring A is
であり、R1aがハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、R2aおよびR3aが水素であり;環Bが、 R 1a is halogen, lower alkyl, or lower alkoxy, R 2a and R 3a are hydrogen; ring B is
であり、
R4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいフェニル;またはハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、
R5aが水素であるか、
またはR4aおよびR5aが互いに末端で結合してアルキレンを形成している化合物である。
And
R 4a is from halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, halo lower alkoxy, methylenedioxy, ethyleneoxy, mono- or di-lower alkylamino, carbamoyl, and mono- or di-lower alkylcarbamoyl. Phenyl optionally substituted with 1-3 groups selected; or selected from halogen, cyano, lower alkyl, lower alkoxy, mono- or di-lower alkylamino, carbamoyl, or mono- or di-lower alkylcarbamoyl A heterocyclyl optionally substituted with 1-3 groups;
Whether R 5a is hydrogen,
Alternatively, R 4a and R 5a are bonded to each other at the terminal to form an alkylene.
本発明の有効成分においてさらにより好ましい化合物としては、R1aがハロゲン、または低級アルキルであり、R4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいフェニル;または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、R5aが、水素である。 As an even more preferred compound in the active ingredient of the present invention, R 1a is halogen or lower alkyl, and R 4a is halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, halo lower alkoxy, mono- or di -Phenyl optionally substituted with 1-3 groups selected from lower alkylamino, carbamoyl, and mono- or di-lower alkylcarbamoyl; or halogen, cyano, lower alkyl, lower alkoxy, carbamoyl and mono- or Heterocyclyl optionally substituted with 1-3 groups selected from di-lower alkylcarbamoyl, and R 5a is hydrogen.
より好ましくは、R4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル;または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリルである。 More preferably, R 4a is phenyl optionally substituted with halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, halo lower alkoxy, or mono- or di-lower alkylamino; or halogen, cyano, Heterocyclyl optionally substituted by lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy or halo lower alkoxy.
さらに好ましくは、R4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されたフェニル;または、ハロゲン、シアノ、低級アルキルまたは低級アルコキシで置換されたヘテロシクリルである。 More preferably, R 4a is phenyl substituted with halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or halo lower alkoxy; or heterocyclyl substituted with halogen, cyano, lower alkyl or lower alkoxy. .
さらにより好ましくは、ヘテロシクリルが、窒素、酸素および硫黄から選ばれるヘテロ原子を1〜2個含有する5〜6員のヘテロシクリルであるか、窒素、酸素および硫黄から選ばれるヘテロ原子を1〜4個含有する9〜10員のヘテロシクリルである。具体例としては、チエニル、ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピラゾリル、チアゾリル、キノリル、テトラゾリル、およびオキサゾリルが挙げられる。 Even more preferably, the heterocyclyl is a 5-6 membered heterocyclyl containing 1-2 heteroatoms selected from nitrogen, oxygen and sulfur, or 1-4 heteroatoms selected from nitrogen, oxygen and sulfur. It is a 9-10 membered heterocyclyl contained. Specific examples include thienyl, pyridyl, pyrimidyl, pyrazinyl, pyrazolyl, thiazolyl, quinolyl, tetrazolyl, and oxazolyl.
とりわけ好ましくは、R4aが、ハロゲンまたはシアノで置換されたフェニル;または、ハロゲンで置換されたピリジルである。 Particularly preferably, R 4a is phenyl substituted with halogen or cyano; or pyridyl substituted with halogen.
本発明の他の好ましい態様としては、環Aが In another preferred embodiment of the present invention, ring A is
であり、R1aが、ハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、R2aおよびR3aが水素であり;環Bが R 1a is halogen, lower alkyl, or lower alkoxy, R 2a and R 3a are hydrogen; ring B is
であり、R4bおよびR5bがそれぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシである。 R 4b and R 5b are each independently hydrogen, halogen, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or halo lower alkoxy.
さらに他の好ましい態様としては、環Aが、 In still another preferred embodiment, ring A is
であり、R6が水素、ハロゲンまたはアルキルであり、環Bが R 6 is hydrogen, halogen or alkyl, and ring B is
であり、R7aとR7bは、互いに独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、ハロピリジル、チエニル、またはハロチエニルであるか、あるいはR7aとR7bは、結合している炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環または縮合ジヒドロフラン環を形成し、YがCH2である。 R 7a and R 7b are independently of each other hydrogen, halogen, alkyl, cycloalkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkylthio, hydroxy, phenyl, halophenyl, cyanophenyl, pyridyl, halopyridyl, thienyl, or halothienyl. Or R 7a and R 7b form a fused benzene ring, fused furan ring or fused dihydrofuran ring with the carbon atoms to which they are bonded, and Y is CH 2 .
より好ましい態様としては、R6がハロゲンであり、Zが In a more preferred embodiment, R 6 is halogen and Z is
であり、R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、またはハロピリジルであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環、縮合ジヒドロフラン環を形成する。 R 7a and R 7b are independently hydrogen, halogen, alkyl, cycloalkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkylthio, phenyl, halophenyl, cyanophenyl, pyridyl, or halopyridyl, or R 7a and R 7b A condensed benzene ring, a condensed furan ring, and a condensed dihydrofuran ring are formed together with the carbon atom to which 7b is bonded.
さらに好ましい態様としては、R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に縮合フラン環、または縮合ジヒドロフラン環を形成する。 In a further preferred embodiment, R 7a and R 7b are independently hydrogen, halogen, alkyl, cycloalkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, or alkylthio, or condensed together with the carbon atom to which R 7a and R 7b are bonded. A furan ring or a condensed dihydrofuran ring is formed.
さらに好ましい他の態様としては、R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、またはハロアルコキシであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に縮合フラン環、または縮合ジヒドロフラン環を形成する。 In yet another preferred embodiment, R 7a and R 7b are independently hydrogen, halogen, alkyl, cycloalkyl, haloalkyl, alkoxy, or haloalkoxy, or condensed together with the carbon atom to which R 7a and R 7b are attached. A furan ring or a condensed dihydrofuran ring is formed.
他の好ましい態様としては、R6がフッ素、塩素または臭素であり、より好ましくはフッ素または塩素である。 In another preferred embodiment, R 6 is fluorine, chlorine or bromine, more preferably fluorine or chlorine.
さらに、好ましい他の態様としては、R6がハロゲンであり、環Bが In another preferred embodiment, R 6 is halogen, and ring B is
であり、R7aがハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオである。 And R 7a is halogen, alkyl, cycloalkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, or alkylthio.
より好ましくは、R7aがハロゲン(塩素、臭素、ヨウ素など)、アルキル(メチル、エチルなど)、シクロアルキル(シクロプロピルなど)、ハロアルキル(ジフルオロメチル、トリフルオロメチルなど)、アルコキシ(メトキシ、エトキシなど)またはハロアルコキシ(クロロエトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシなど)である。さらに好ましくは、R7aがハロゲン、アルキル、シクロアルキル、またはアルコキシである。 More preferably, R 7a is halogen (chlorine, bromine, iodine etc.), alkyl (methyl, ethyl etc.), cycloalkyl (cyclopropyl etc.), haloalkyl (difluoromethyl, trifluoromethyl etc.), alkoxy (methoxy, ethoxy etc.) ) Or haloalkoxy (chloroethoxy, difluoromethoxy, trifluoromethoxy, etc.). More preferably, R 7a is halogen, alkyl, cycloalkyl, or alkoxy.
他の好ましい態様としては、環Bが In another preferred embodiment, ring B is
である。 It is.
さらに好ましくは、R6がハロゲンであり、R7aがハロゲン(特にフッ素、塩素)またはアルキル(特にメチルまたはエチル)である。 More preferably, R 6 is halogen and R 7a is halogen (especially fluorine, chlorine) or alkyl (especially methyl or ethyl).
さらに他の好ましい態様としては、環Bが In yet another preferred embodiment, ring B is
は単結合または二重結合を示す)
であり、R6 がハロゲンである。
Represents a single bond or a double bond)
And R 6 is halogen.
他の好ましい態様としては、環Aがインドール、クロロインドール、またはクロロベンゼン、環Bがエチルフェニル、エトキシフェニル、ベンゾ[b]チオフェン−2−イル、または5−フェニル−2−チエニル、Yが−CH2−、及びZが5−チオ−β−D−グルコピラノシル、4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル、4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル、または6−フルオロ−6−デオキシ−β−D−グルコピラノシルである。 In another preferred embodiment, ring A is indole, chloroindole, or chlorobenzene, ring B is ethylphenyl, ethoxyphenyl, benzo [b] thiophen-2-yl, or 5-phenyl-2-thienyl, and Y is —CH. 2- and Z are 5-thio-β-D-glucopyranosyl, 4-fluoro-4-deoxy-β-D-glucopyranosyl, 4-fluoro-4-deoxy-β-D-galactopyranosyl, or 6- Fluoro-6-deoxy-β-D-glucopyranosyl.
本発明の医薬組成物において、好ましい有効成分としては、
3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドール、4−クロロ−3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドール、4−クロロ−3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル)インドール、4−クロロ−3−(4−エトキシフェニルメチル)−1−(5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドール、3−(ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル)−4−クロロ−1−(4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル)ベンゼン、4−クロロ−3−(5−フェニル−2−チエニルメチル)−1−(6−フルオロ−6−デオキシ−β−D−グルコピラノシル)ベンゼン、または4−クロロ−3−(5−フェニル−2−チエニルメチル)−1−(4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル)ベンゼン、またはその薬理的に許容しうる塩である。
In the pharmaceutical composition of the present invention, as a preferred active ingredient,
3- (4-Ethylphenylmethyl) -1- (5-thio-β-D-glucopyranosyl) indole, 4-chloro-3- (4-ethylphenylmethyl) -1- (5-thio-β-D- Glucopyranosyl) indole, 4-chloro-3- (4-ethylphenylmethyl) -1- (4-fluoro-4-deoxy-β-D-glucopyranosyl) indole, 4-chloro-3- (4-ethoxyphenylmethyl) -1- (5-thio-β-D-glucopyranosyl) indole, 3- (benzo [b] thiophen-2-ylmethyl) -4-chloro-1- (4-fluoro-4-deoxy-β-D-galacto Pyranosyl) benzene, 4-chloro-3- (5-phenyl-2-thienylmethyl) -1- (6-fluoro-6-deoxy-β-D-glucopyranosyl) benzene, or 4-chloro-3- ( 5-Phenyl-2-thienylmethyl) -1- (4- Ruoro-4- deoxy-beta-D-glucopyranosyl) benzene, or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
本発明の有効成分(I)は、ナトリウム依存性グルコース輸送担体の阻害活性を有し、優れた血糖降下作用を示す。このため、本発明の医薬組成物は血糖降下剤として有用である。また本発明の医薬組成物は、糖尿病、糖尿病合併症(糖尿病性網膜症、糖尿病性神経障害、糖尿病性腎症など)、遅延創傷治癒、インスリン抵抗性、高血糖症、高インスリン血症、高脂肪酸血症、高グリセロール血症、高脂血症、肥満症、高トリグリセリド血症、X症候群、メタボリック症候群、アテローム硬化症、過血糖あるいは高血圧症などの予防または治療剤として好適に使用することができる。とりわけ、糖尿病(1型または2型糖尿病など)、糖尿病合併症(たとえば糖尿病性網膜症、糖尿病性神経障害、糖尿病性腎症)、または肥満症の予防または治療剤として、あるいは過血糖(特に食後の過血糖)の予防または治療剤として好適に使用することができる。 The active ingredient (I) of the present invention has an inhibitory activity on a sodium-dependent glucose transporter and exhibits an excellent hypoglycemic effect. For this reason, the pharmaceutical composition of the present invention is useful as a hypoglycemic agent. In addition, the pharmaceutical composition of the present invention comprises diabetes, diabetic complications (diabetic retinopathy, diabetic neuropathy, diabetic nephropathy, etc.), delayed wound healing, insulin resistance, hyperglycemia, hyperinsulinemia, high It can be suitably used as a prophylactic or therapeutic agent for fatty acidemia, hyperglycerolemia, hyperlipidemia, obesity, hypertriglyceridemia, syndrome X, metabolic syndrome, atherosclerosis, hyperglycemia or hypertension it can. In particular, as a preventive or therapeutic agent for diabetes (such as type 1 or type 2 diabetes), diabetic complications (eg diabetic retinopathy, diabetic neuropathy, diabetic nephropathy) or obesity, or hyperglycemia (especially after meals) Can be suitably used as a preventive or therapeutic agent for hyperglycemia.
本発明の有効成分(A)は、遊離の形でもまたその薬理的に許容しうる塩の形でも本発明の目的に用いることができる。薬理的に許容しうる塩としては、たとえばリチウム、ナトリウムまたはカリウムなどのアルカリ金属塩;カルシウムまたはマグネシウムなどのアルカリ土類金属塩;並びに亜鉛またはアルミニウムとの塩;および有機塩基たとえばアンモニウム、コリン、ジエタノールアミン、リジン、エチレンジアミン、tert−ブチルアミン、tert−オクチルアミン、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン、N−メチルグルコサミン、トリエタノールアミンおよびデヒドロアビエチルアミンとの塩;塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸との塩;あるいはギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、フマール酸、マレイン酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸などの有機酸との塩;またはアスパラギン酸、グルタミン酸などの酸性アミノ酸との塩等が挙げられる。 The active ingredient (A) of the present invention can be used for the purpose of the present invention either in a free form or in the form of a pharmaceutically acceptable salt thereof. Pharmacologically acceptable salts include, for example, alkali metal salts such as lithium, sodium or potassium; alkaline earth metal salts such as calcium or magnesium; and salts with zinc or aluminum; and organic bases such as ammonium, choline, diethanolamine , Lysine, ethylenediamine, tert-butylamine, tert-octylamine, tris (hydroxymethyl) aminomethane, N-methylglucosamine, triethanolamine and salts with dehydroabiethylamine; hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, Salts with inorganic acids such as sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid; or formic acid, acetic acid, propionic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, fumaric acid, maleic acid, lactic acid, malic acid, tartaric acid, citric acid, methanesulfonic acid Ethane sulfonic acid, Salts with organic acids such as Zensuruhon acid; or aspartic acid, salts with acidic amino acids such as glutamic acid.
また、有効成分(A)の薬理的に許容しうる塩とは、その分子内塩、溶媒和物あるいは水和物等をいずれも含む。 Moreover, the pharmacologically acceptable salt of the active ingredient (A) includes any of its internal salts, solvates or hydrates.
本発明の有効成分である化合物(A)およびその薬理的に許容しうる塩は、経口的にも非経口的にも投与することができ、経口もしくは非経口投与に通常用いられる医薬担体を用いて、適当な製剤とすることができる。かかる医薬担体としては、例えば、結合剤(シロップ、アラビアゴム、ゼラチン、ソルビット、トラガント、ポリビニルピロリドン等)、賦形剤(乳糖、砂糖、コーンスターチ、リン酸カリウム、ソルビット、グリシン等)、潤滑剤(ステアリン酸マグネシウム、タルク、ポリエチレングリコール、シリカ等)、崩壊剤(バレイショデンプン等)および湿潤剤(ラウリル硫酸ナトリウム等)等をあげることができる。また、これら医薬製剤は、経口投与する場合には、錠剤、顆粒剤、カプセル剤、散剤の如き固形製剤であってもよく、溶液、懸濁液、乳液の如き液体製剤であってもよい。一方、非経口投与する場合には、例えば、注射用蒸留水、生理的食塩水、ブドウ糖水溶液等を用いて注射剤や点滴剤として、あるいは坐剤等とすることができる。 The compound (A) which is an active ingredient of the present invention and a pharmaceutically acceptable salt thereof can be administered orally or parenterally, and a pharmaceutical carrier usually used for oral or parenteral administration is used. Thus, a suitable preparation can be obtained. Examples of such pharmaceutical carriers include binders (syrup, gum arabic, gelatin, sorbit, tragacanth, polyvinylpyrrolidone, etc.), excipients (lactose, sugar, corn starch, potassium phosphate, sorbit, glycine, etc.), lubricants ( Examples thereof include magnesium stearate, talc, polyethylene glycol, silica, etc.), disintegrating agents (potato starch, etc.) and wetting agents (sodium lauryl sulfate, etc.). In addition, in the case of oral administration, these pharmaceutical preparations may be solid preparations such as tablets, granules, capsules and powders, or liquid preparations such as solutions, suspensions and emulsions. On the other hand, in the case of parenteral administration, for example, injection water, physiological saline, glucose aqueous solution or the like can be used as an injection, a drip infusion, or a suppository.
本発明の有効成分(A)、その薬理的に許容し得る塩の投与量は、投与方法、患者の年令、体重、状態或いは疾患の種類・程度によっても異なるが、通常、1日当り約0.1〜50mg/kg、とりわけ約0.1〜30mg/kg程度とするのが好ましい。 The dose of the active ingredient (A) of the present invention and its pharmacologically acceptable salt varies depending on the administration method, patient age, body weight, condition or type / degree of disease, but is usually about 0 per day. 0.1 to 50 mg / kg, particularly about 0.1 to 30 mg / kg is preferable.
本発明の有効成分(A)は、SGLT阻害作用を有し、これにより尿中への糖の排泄を促進し、血糖降下作用を奏する。インスリン非依存型糖尿病モデル動物に、本発明の有効成分を4週間連続投与したところ、血糖値の改善が見られた。 The active ingredient (A) of the present invention has an SGLT inhibitory action, thereby promoting the excretion of sugar into urine and exerting a hypoglycemic action. When the active ingredient of the present invention was continuously administered to a non-insulin dependent diabetes model animal for 4 weeks, the blood glucose level was improved.
また、本発明の有効成分である化合物は、毒性が低いという特徴も有する。 Moreover, the compound which is an active ingredient of this invention also has the characteristics that toxicity is low.
本発明の有効成分は、以下の方法により製造することができる。
製法I
The active ingredient of the present invention can be produced by the following method.
Manufacturing method I
(式中、OR8は保護されたヒドロキシであり、Phはフェニルであり、他の記号は前記と同一意味を有する。)
工程I−1:
式(I−1)で示される化合物は、式(B)で示される化合物とベンズアルデヒドジメチルアセタールを適当な溶媒(テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロメタンなど)中、酸(塩酸、硫酸、p−トシル酸、四フッ化ホウ酸など)の存在下に縮合することにより製造することができる。
工程I−2:
式(I−2)で示される化合物は、化合物(I−1)のヒドロキシを保護することにより製造することができる。ヒドロキシの保護基としては、慣用の保護基を用いることができ、例えばベンジル基、アセチル基、トリメチルシリル基などのアルキルシリル基が挙げられる。あるいは、ヒドロキシの保護基は隣接するヒドロキシとともにアセタールやシリルアセタールを形成していてもよい。ヒドロキシの保護は慣用の方法により実施することができる("Protecting Groups in Organic Synthesis", John Wiley & Sons参照)。
工程I−3:
式(I−3)で示される化合物は、式(I−2)で示される化合物を適当な溶媒中(例えば、メタノール、エタノール、水など)、酸(例えば、塩酸、酢酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸など)で加水分解することにより製造することができる。
工程I−4:
式(I−4)で示される化合物は、式(I−3)で示される化合物のヒドロキシを、工程I−2と同様にして保護することにより製造することができる。
工程I−5:
式(I−5)で示される化合物は、式(I−4)で示される化合物を、適当な溶媒(ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフランなど)中、フッ化剤(例えば、(ジエチルアミノ)スルファー トリフルオリド)で処理することにより、製造することができる。
工程I−6:
式(A−1)で示される化合物は、式(I−5)で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。
(Wherein OR 8 is protected hydroxy, Ph is phenyl, and other symbols have the same meanings as described above.)
Step I-1:
The compound represented by the formula (I-1) is obtained by combining a compound represented by the formula (B) and benzaldehyde dimethyl acetal in an appropriate solvent (tetrahydrofuran, dioxane, dichloromethane, etc.) with an acid (hydrochloric acid, sulfuric acid, p-tosylic acid, For example, by the condensation in the presence of fluorinated boric acid.
Step I-2:
The compound represented by the formula (I-2) can be produced by protecting the hydroxy of the compound (I-1). As the hydroxy protecting group, a conventional protecting group can be used, and examples thereof include alkylsilyl groups such as benzyl group, acetyl group, and trimethylsilyl group. Alternatively, the hydroxy protecting group may form an acetal or silyl acetal together with the adjacent hydroxy. Hydroxy protection can be performed by conventional methods (see "Protecting Groups in Organic Synthesis", John Wiley & Sons).
Step I-3:
The compound represented by the formula (I-3) is obtained by reacting the compound represented by the formula (I-2) in an appropriate solvent (eg, methanol, ethanol, water, etc.), acid (eg, hydrochloric acid, acetic acid, p-toluenesulfone). Acid, methanesulfonic acid, trifluoroacetic acid, etc.).
Step I-4:
The compound represented by the formula (I-4) can be produced by protecting the hydroxy of the compound represented by the formula (I-3) in the same manner as in Step I-2.
Step I-5:
The compound represented by the formula (I-5) is obtained by converting the compound represented by the formula (I-4) into a fluorinating agent (for example, (diethylamino) sulfur trifluoride) in a suitable solvent (dichloromethane, chloroform, tetrahydrofuran, etc.). It can manufacture by processing with.
Step I-6:
The compound represented by the formula (A-1) can be produced by subjecting the compound represented by the formula (I-5) to deprotection.
脱保護は、除去される保護基の種類に応じ、還元、加水分解、酸処理、フッ化物処理などの常法により実施することができる。 Deprotection can be carried out by conventional methods such as reduction, hydrolysis, acid treatment, fluoride treatment, etc., depending on the type of protecting group to be removed.
還元の場合には、例えば、適当な溶媒中(メタノール、エタノールなど)、水素雰囲気下、触媒(パラジウム−炭素、白金など)を用いて処理すればよい。 In the case of reduction, for example, the treatment may be carried out using a catalyst (palladium-carbon, platinum, etc.) in a suitable solvent (methanol, ethanol, etc.) under a hydrogen atmosphere.
加水分解の場合には、適当な溶媒中(例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、水など)、塩基(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなど)で処理すればよい。 In the case of hydrolysis, in a suitable solvent (eg, tetrahydrofuran, dioxane, methanol, ethanol, water, etc.), a base (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, etc.) ).
酸処理の場合は、適当な溶媒中(例えば、メタノール、エタノールなど)、酸(例えば、塩酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸など)で処理すればよい。 In the case of acid treatment, treatment with an acid (for example, hydrochloric acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, trifluoroacetic acid, etc.) may be performed in a suitable solvent (for example, methanol, ethanol, etc.).
フッ化物処理の場合には、適当な溶媒中(メタノール、エタノール、アセトニトリル、テトラヒドロフランなど)、フッ化物(フッ化水素、フッ化水素−ピリジン、フッ化テトラブチルアンモニウム等)で処理すればよい。
製法II:
In the case of fluoride treatment, treatment with a fluoride (hydrogen fluoride, hydrogen fluoride-pyridine, tetrabutylammonium fluoride, etc.) in an appropriate solvent (methanol, ethanol, acetonitrile, tetrahydrofuran, etc.) may suffice.
Process II:
(式中、Trはトリチル(すなわちトリフェニルメチル)であり、他の記号は前記と同一意味を有する。)
工程II−1:
式(II−1)で示される化合物は、式(B)で示される化合物と塩化トリチルを、塩基(ピリジン、N,N−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなど)の存在下、適当な溶媒(ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンなど)中、冷却下から加熱下で反応させることにより製造することができる。
工程II−2:
式(II−2)で示される化合物は、式(II−1)で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程II−3:
式(II−3)で示される化合物は、式(II−2)で示される化合物を、適当な溶媒(テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、水など)中、酸(酢酸、ギ酸、塩酸など)で処理することにより、製造することができる。
工程II−4:
式(II−4)で示される化合物は、式(II−3)で示される化合物をフッ化剤で処理することにより製造することができる。この工程は工程I−5と同様にして実施することができる。
工程II−5:
式(A−2)で示される化合物は、式(II−4)で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は、工程I−6と同様にして実施することができる。
製法III:
(In the formula, Tr is trityl (ie, triphenylmethyl), and other symbols have the same meanings as described above.)
Step II-1:
The compound represented by the formula (II-1) is prepared by combining the compound represented by the formula (B) with trityl chloride in the presence of a base (pyridine, N, N-dimethylaminopyridine, triethylamine, diisopropylethylamine, etc.) (Dimethylformamide, tetrahydrofuran, dichloromethane, etc.) can be produced by reacting under cooling to heating.
Step II-2:
The compound represented by the formula (II-2) can be produced by protecting the hydroxy of the compound represented by the formula (II-1). Protection can be carried out in the same manner as in Step I-2.
Step II-3:
The compound represented by the formula (II-3) is obtained by treating the compound represented by the formula (II-2) with an acid (acetic acid, formic acid, hydrochloric acid, etc.) in an appropriate solvent (tetrahydrofuran, methanol, ethanol, water, etc.). By doing so, it can be manufactured.
Step II-4:
The compound represented by the formula (II-4) can be produced by treating the compound represented by the formula (II-3) with a fluorinating agent. This step can be carried out in the same manner as Step I-5.
Step II-5:
The compound represented by the formula (A-2) can be produced by subjecting the compound represented by the formula (II-4) to deprotection. Deprotection can be carried out in the same manner as in Step I-6.
Process III:
(式中、R9 は臭素またはヨウ素、他の記号は前記と同一意味を有する。)
工程III−1:
式(III−1)で示される化合物は、式(C)で示される化合物を、適当な溶媒(テトラヒドロフランなど)中、冷却下、アルキルリチウム(メチルリチウム、n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウムなど)で処理した後、式(D)で示される化合物と反応させることにより製造することができる。
工程III−2:
式(III−2)で示される化合物は、式(III−1)で示される化合物を、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩などのルイス酸またはトリフルオロ酢酸などの存在下、適当な溶媒中(例えば、アセトニトリル、ジクロロメタンなど)で、冷却下から室温でシラン化合物(例えば、トリエチルシラン、トリイソプロピルシランなどのトリアルキルシラン類)で処理することにより、製造することができる。
工程III−3:
式(A−3)で示される化合物は、式(III−2)で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法IV:
(Wherein R 9 is bromine or iodine, and other symbols have the same meaning as described above.)
Step III-1:
The compound represented by the formula (III-1) is obtained by cooling the compound represented by the formula (C) in an appropriate solvent (such as tetrahydrofuran) while cooling with alkyllithium (methyllithium, n-butyllithium, t-butyllithium, etc. ) And then reacting with the compound represented by the formula (D).
Step III-2:
The compound represented by the formula (III-2) is obtained by reacting the compound represented by the formula (III-1) in a suitable solvent in the presence of Lewis acid such as boron trifluoride / diethyl ether complex or trifluoroacetic acid ( For example, it can be produced by treating with a silane compound (for example, trialkylsilanes such as triethylsilane and triisopropylsilane) at room temperature under cooling with acetonitrile, dichloromethane and the like.
Step III-3:
The compound represented by the formula (A-3) can be produced by subjecting the compound represented by the formula (III-2) to deprotection. Deprotection can be carried out in the same manner as in Step I-6.
Recipe IV:
(式中、記号は前記と同一意味を有する。)
工程IV−1:
式(IV−1)で示される化合物は、式(E)で示される化合物と式(F)で示される化合物(例えば、2,3,4,6−テトラ−O−ベンジル−D−ガラクトピラノシル クロリド)を、適当な溶媒中(テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドなど)、塩基(水素化ナトリウム、水酸化カリウムなど)の存在下、冷却下から加熱下に縮合させることにより製造することができる。
工程IV−2:
式(A−4)で示される化合物は、式(IV−1)で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法V:
(In the formula, the symbols have the same meaning as described above.)
Step IV-1:
The compound represented by the formula (IV-1) includes a compound represented by the formula (E) and a compound represented by the formula (F) (for example, 2,3,4,6-tetra-O-benzyl-D-galactopira Nosyl chloride) can be produced by condensation under cooling to heating in the presence of a base (sodium hydride, potassium hydroxide, etc.) in a suitable solvent (tetrahydrofuran, dimethylformamide, etc.).
Step IV-2:
The compound represented by the formula (A-4) can be produced by subjecting the compound represented by the formula (IV-1) to deprotection. Deprotection can be carried out in the same manner as in Step I-6.
Manufacturing method V:
(式中、記号は前記と同一意味を有する。)
工程V−1:
式(V−1)で示される化合物は、式(C)で示される化合物をアルキルリチウムで処理したのち、式(G)で示される化合物と反応させることにより製造することができる。この工程は工程III−1と同様にして製造することができる。
工程V−2:
式(V−2)で示される化合物は、式(V−1)で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程III−2と同様にして実施することができる。
工程V−3:
式(A−5)で示される化合物は、式(V−2)で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法VI:
(In the formula, the symbols have the same meaning as described above.)
Process V-1:
The compound represented by the formula (V-1) can be produced by treating the compound represented by the formula (C) with alkyllithium and then reacting with the compound represented by the formula (G). This step can be produced in the same manner as Step III-1.
Process V-2:
The compound represented by the formula (V-2) can be produced by reducing the compound represented by the formula (V-1). The reduction can be carried out in the same manner as in Step III-2.
Process V-3:
The compound represented by the formula (A-5) can be produced by subjecting the compound represented by the formula (V-2) to deprotection. Deprotection can be carried out in the same manner as in Step I-6.
Process VI:
(式中、記号は前記と同一意味を有する。)
工程VI−1:
式(VI−1)で示される化合物は、式(A−3)または(A−4)で示される化合物とベンズアルデヒドジメチルアセタールを縮合させることにより製造することができる。縮合は工程I−1と同様にして実施することができる。
工程VI−2:
式(VI−2)で示される化合物は、式(VI−1)で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程VI−3:
式(VI−3)で示される化合物は、式(VI−2)で示される化合物を酸で加水分解することにより製造することができる。加水分解は工程I−3と同様にして実施することができる。
工程VI−4:
式(VI−4)で示される化合物は、式(VI−3)で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程VI−5:
式(VI−5)で示される化合物は、式(VI−4)で示される化合物をフッ化剤で処理することにより製造することができる。この工程は工程I−5と同様にして実施することができる。
工程VI−6:
式(A−6)で示される化合物は、式(VI−5)で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法VII:
(In the formula, the symbols have the same meaning as described above.)
Process VI-1:
The compound represented by the formula (VI-1) can be produced by condensing the compound represented by the formula (A-3) or (A-4) and benzaldehyde dimethyl acetal. The condensation can be carried out in the same manner as in Step I-1.
Process VI-2:
The compound represented by the formula (VI-2) can be produced by protecting the hydroxy of the compound represented by the formula (VI-1). Protection can be carried out in the same manner as in Step I-2.
Process VI-3:
The compound represented by the formula (VI-3) can be produced by hydrolyzing the compound represented by the formula (VI-2) with an acid. Hydrolysis can be carried out in the same manner as in Step I-3.
Process VI-4:
The compound represented by the formula (VI-4) can be produced by protecting the hydroxy of the compound represented by the formula (VI-3). Protection can be carried out in the same manner as in Step I-2.
Process VI-5:
The compound represented by the formula (VI-5) can be produced by treating the compound represented by the formula (VI-4) with a fluorinating agent. This step can be carried out in the same manner as Step I-5.
Process VI-6:
The compound represented by the formula (A-6) can be produced by subjecting the compound represented by the formula (VI-5) to deprotection. Deprotection can be carried out in the same manner as in Step I-6.
Process VII:
(式中、記号は前記と同一意味を有する。)
工程VII−1:
式(VII−1)で示される化合物は、式(C)で示される化合物をリチオ化し、リチオ化された化合物をCuIで処理した後、得られた化合物を式(H)で示される化合物と反応させることにより製造することができる。
(In the formula, the symbols have the same meaning as described above.)
Step VII-1:
The compound represented by the formula (VII-1) is obtained by lithiating the compound represented by the formula (C), treating the lithiated compound with CuI, and then converting the obtained compound into a compound represented by the formula (H). It can be produced by reacting.
リチオ化は、適当な溶媒中(テトラヒドロフランなど)、冷却下に、アルキルリチウム(メチルリチウム、n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウムなど)で処理することにより製造することができる。 Lithiation can be produced by treating with alkyllithium (methyllithium, n-butyllithium, t-butyllithium, etc.) in a suitable solvent (tetrahydrofuran, etc.) under cooling.
CuIによる処理は、適当な溶媒中(テトラヒドロフランなど)、冷却下、リチオ化された化合物とCuIを反応させることにより実施することができる。 The treatment with CuI can be carried out by reacting the lithiated compound with CuI in a suitable solvent (such as tetrahydrofuran) under cooling.
得られた化合物と式(H)の化合物の反応は、適当な溶媒中(テトラヒドロフランなど)冷却下から室温で実施することができる。
工程VII−2:
式(VII−2)で示される化合物は、式(VII−1)で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程III−2と同様にして実施することができる。
工程VII−3:
式(A−7)で示される化合物は、式(VII−2)で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法VIII:
The reaction of the obtained compound with the compound of formula (H) can be carried out in an appropriate solvent (such as tetrahydrofuran) under cooling to room temperature.
Step VII-2:
The compound represented by the formula (VII-2) can be produced by reducing the compound represented by the formula (VII-1). The reduction can be carried out in the same manner as in Step III-2.
Step VII-3:
The compound represented by the formula (A-7) can be produced by subjecting the compound represented by the formula (VII-2) to deprotection. Deprotection can be carried out in the same manner as in Step I-6.
Process VIII:
(式中、記号は前記と同一意味を有する。)
工程VIII−1:
式(VIII−1)で示される化合物は、式(E)で示される化合物と式(I)で示される化合物(Tetrahedron Lett., 2001, 42, 1197−1200参照)を縮合することにより製造することができる。縮合は工程IV−1と同様にして実施することができる。
工程VIII−2:
式(A−8)で示される化合物は、式(VIII-1)で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
(In the formula, the symbols have the same meaning as described above.)
Step VIII-1:
The compound represented by the formula (VIII-1) is produced by condensing the compound represented by the formula (E) and the compound represented by the formula (I) (see Tetrahedron Lett., 2001, 42, 1197-1200). be able to. The condensation can be carried out in the same manner as in Step IV-1.
Step VIII-2:
The compound represented by the formula (A-8) can be produced by subjecting the compound represented by the formula (VIII-1) to deprotection. Deprotection can be carried out in the same manner as in Step I-6.
式(A)で示される化合物のうち、環Aが Of the compounds represented by formula (A), ring A is
(ここでR6は前記と同一意味を有する)
であり、環Bが
(Where R 6 has the same meaning as above)
And ring B is
(ここでR7aとR7bは前記と同一意味を有する。)
であり、YがCH2である化合物は、以下の方法により製造することができる。
製法IX:
(Here, R 7a and R 7b have the same meaning as described above.)
And Y is CH 2 can be produced by the following method.
Recipe IX:
(式中、Arは (Where Ar is
であり、R6、R7、R7bおよびR8は前記と同一意味を有する。)
工程IX−1:
式(IX−1)で示される化合物は、式(J)で示される化合物と式(K)(すなわち5−チオ−D−グルコース)を適当な溶媒中(例えば、メタノール、エタノールなど)、触媒(例えば、塩化アンモニウム、酢酸など)の存在もしくは非存在下に縮合させることにより製造することができる。
工程IX−2:
式(IX−2)で示される化合物は、式(IX−1)で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程IX−3:
式(IX−3)で示される化合物は、式(IX−2)で示される化合物を適当な溶媒中(例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロメタンなど)、室温又は冷却下に酸化剤(2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノンなど)で処理することにより、製造することができる。
工程IX−4:
式(IX−4)で示される化合物は、式(IX−3)で示される化合物とAr−COCl(ただし、記号は前記と同一意味を有する)で示される化合物を縮合することにより製造することができる。
And R 6 , R 7 , R 7b and R 8 have the same meaning as described above. )
Step IX-1:
The compound represented by the formula (IX-1) is obtained by catalyzing the compound represented by the formula (J) and the formula (K) (that is, 5-thio-D-glucose) in a suitable solvent (for example, methanol, ethanol, etc.). (For example, it can be produced by condensation in the presence or absence of ammonium chloride, acetic acid, etc.).
Step IX-2:
The compound represented by the formula (IX-2) can be produced by protecting the hydroxy of the compound represented by the formula (IX-1). Protection can be carried out in the same manner as in Step I-2.
Step IX-3:
The compound represented by the formula (IX-3) is obtained by reacting the compound represented by the formula (IX-2) with an oxidizing agent (2,3−) in a suitable solvent (for example, tetrahydrofuran, dioxane, dichloromethane, etc.) at room temperature or under cooling. (Dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone, etc.).
Process IX-4:
The compound represented by the formula (IX-4) is produced by condensing the compound represented by the formula (IX-3) and the compound represented by Ar-COCl (the symbols have the same meaning as described above). Can do.
縮合は、適当な溶媒中(例えば、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素)、ルイス酸(例えば、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩など)の存在下に、冷却下から加熱下(例えば、−30℃〜60℃)で実施することができる。
工程IX−5:
式(IX−5)で示される化合物は、式(IX−4)で示される化合物を還元することにより製造することができる。
還元は、適当な溶媒中(例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル類、メタノール、エタノールなどのアルコール類など)、還元剤(例えば、水素化ホウ素ナトリウム(塩化セリウムの存在下または非存在下に使用)、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなど)で、冷却下から室温(例えば、−30℃〜25℃)で処理することにより実施することができる。
工程IX−6:
式(IX−6)で示される化合物は、式(IX−5)で示される化合物を還元することにより製造することができる。
The condensation is carried out in a suitable solvent (for example, a halogenated hydrocarbon such as dichloromethane or chloroform) in the presence of a Lewis acid (for example, aluminum chloride, boron trifluoride / diethyl ether complex) under cooling to heating ( For example, it can be carried out at −30 ° C. to 60 ° C.).
Step IX-5:
The compound represented by the formula (IX-5) can be produced by reducing the compound represented by the formula (IX-4).
The reduction is carried out in a suitable solvent (for example, ethers such as tetrahydrofuran, alcohols such as methanol and ethanol), reducing agents (for example, sodium borohydride (used in the presence or absence of cerium chloride), hydrogen For example, by treatment with sodium triacetoxyborohydride, lithium aluminum hydride, diisobutylaluminum hydride) at room temperature (for example, −30 ° C. to 25 ° C.) under cooling.
Step IX-6:
The compound represented by the formula (IX-6) can be produced by reducing the compound represented by the formula (IX-5).
還元は、適当な溶媒中(アセトニトリル、ジクロロメタンなど)、酸(トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸などの有機酸、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体、四塩化チタンなどのルイス酸)の存在下、冷却下から室温(例えば、−30℃〜25℃)でシラン試薬(トリエチルシラン、トリイソプロピルシランなど)で処理することにより、実施できる。
工程IX−7:
式(A−9)で示される化合物は、式(IX−6)で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法X:
Reduction is performed in a suitable solvent (acetonitrile, dichloromethane, etc.), in the presence of an acid (organic acid such as trifluoroacetic acid or methanesulfonic acid, Lewis acid such as boron trifluoride / diethyl ether complex, titanium tetrachloride). It can be carried out by treating with a silane reagent (triethylsilane, triisopropylsilane, etc.) from below at room temperature (for example, -30 ° C to 25 ° C).
Step IX-7:
The compound represented by the formula (A-9) can be produced by subjecting the compound represented by the formula (IX-6) to deprotection. The deprotection can be carried out in the same manner as in Step I-6. .
Recipe X:
(式中、記号は前記と同一意味を有する。)
工程X−1:
式(X−1)で示される化合物は、式(XII−7)(後記製法XIIに記載)で示される化合物とベンズアルデヒドジメチルアセタールを縮合させることにより製造することができる。縮合は工程I−1と同様にして実施することができる。
工程X−2:
式(X−2)で示される化合物は式(X−1)で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程X−3:
式(X−3)で示される化合物は、式(X−2)で示される化合物を酸で加水分解することにより製造することができる。加水分解は工程I−3と同様にして実施することができる。
工程X−4:
式(X−4)で示される化合物は、式(X−3)で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程X−5:
式(X−5)で示される化合物は、式(X−4)で示される化合物をフッ化剤で処理することにより製造することができる。この工程は工程I−5と同様にして実施することができる。
工程X−6:
式(A−10)で示される化合物は、式(X−5)で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法XI:
(In the formula, the symbols have the same meaning as described above.)
Process X-1:
The compound represented by the formula (X-1) can be produced by condensing a compound represented by the formula (XII-7) (described later in the production method XII) and benzaldehyde dimethyl acetal. The condensation can be carried out in the same manner as in Step I-1.
Process X-2:
The compound represented by the formula (X-2) can be produced by protecting the hydroxy of the compound represented by the formula (X-1). Protection can be carried out in the same manner as in Step I-2.
Process X-3:
The compound represented by the formula (X-3) can be produced by hydrolyzing the compound represented by the formula (X-2) with an acid. Hydrolysis can be carried out in the same manner as in Step I-3.
Process X-4:
The compound represented by the formula (X-4) can be produced by protecting the hydroxy of the compound represented by the formula (X-3). Protection can be carried out in the same manner as in Step I-2.
Process X-5:
The compound represented by the formula (X-5) can be produced by treating the compound represented by the formula (X-4) with a fluorinating agent. This step can be carried out in the same manner as Step I-5.
Process X-6:
The compound represented by the formula (A-10) can be produced by subjecting the compound represented by the formula (X-5) to deprotection. Deprotection can be carried out in the same manner as in Step I-6.
Process XI:
(式中、Ar1はフェニルまたはチエニル、R11は臭素またはヨウ素、Ar2はフェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、ハロピリジル、チエニル、またはハロチエニル、R12はシクロアルキル、R10 は Wherein Ar 1 is phenyl or thienyl, R 11 is bromine or iodine, Ar 2 is phenyl, halophenyl, cyanophenyl, pyridyl, halopyridyl, thienyl, or halothienyl, R 12 is cycloalkyl, R 10 is
ここでOR8は保護されたヒドロキシであり、R6とZは前記と同一意味を有する。)
工程XI−1:
式(XI−1)で示される化合物は、式(L)で示される化合物と、Ar2B(OH)2またはR12B(OH)2(ただし、記号は前記と同一意味を有する。)をカップリングすることにより製造することができる。
Where OR 8 is protected hydroxy and R 6 and Z have the same meaning as above. )
Process XI-1:
The compound represented by the formula (XI-1) is the same as the compound represented by the formula (L), Ar 2 B (OH) 2 or R 12 B (OH) 2 (wherein the symbols have the same meanings as described above). Can be produced by coupling.
カップリング反応は、適当な溶媒中(例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、水、またはそれらの混合溶媒など)、パラジウム触媒(例えば、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、酢酸パラジウムなど)と塩基(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど)の存在下、室温から加熱下(例えば、25〜150℃)に実施することができる。
工程XI−2:
式(A−11)で示される化合物は、式(XI−1)で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法XII:
The coupling reaction is carried out in a suitable solvent (eg, tetrahydrofuran, dioxane, water, or a mixed solvent thereof), a palladium catalyst (eg, tetrakis (triphenylphosphine) palladium, palladium acetate, etc.) and a base (eg, sodium carbonate). In the presence of potassium carbonate, etc.) from room temperature to heating (for example, 25 to 150 ° C.).
Process XI-2:
The compound represented by the formula (A-11) can be produced by subjecting the compound represented by the formula (XI-1) to deprotection. Deprotection can be carried out in the same manner as in Step I-6.
Process XII:
(式中、記号は前記と同一意味を有する。)
工程XII−1:
式(XII−1)で示される化合物は、式(M)で示される化合物と式(N)で示されるD−ガラクトースを縮合させることにより製造することができる。縮合は工程IX−1と同様にして実施することができる。
工程XII−2:
式(XII−2)で示される化合物は、式(XII−1)で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程XII−3:
式(XII−3)で示される化合物は、式(XII−2)で示される化合物を酸化することにより製造することができる。酸化は工程IX−3と同様にして実施することができる。
工程XII−4:
式(XII−4)で示される化合物は、式(XII−3)で示される化合物とAr−COCl(記号は前記と同一意味を有する)を縮合することにより製造することができる。縮合は工程IX−4と同様にして実施することができる。
工程XII−5:
式(XII−5)で示される化合物は、式(XII−4)で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程IX−5と同様にして実施することができる。
工程XII−6:
式(XII−6)で示される化合物は、式(XII−5)で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程IX−6と同様にして実施することができる。
工程XII−7:
式(XII−7)で示される化合物は、式(XII−6)で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
(In the formula, the symbols have the same meaning as described above.)
Process XII-1:
The compound represented by the formula (XII-1) can be produced by condensing the compound represented by the formula (M) and D-galactose represented by the formula (N). The condensation can be carried out in the same manner as in Step IX-1.
Process XII-2:
The compound represented by the formula (XII-2) can be produced by protecting the hydroxy of the compound represented by the formula (XII-1). Protection can be carried out in the same manner as in Step I-2.
Process XII-3:
The compound represented by the formula (XII-3) can be produced by oxidizing the compound represented by the formula (XII-2). The oxidation can be carried out in the same manner as in Step IX-3.
Process XII-4:
The compound represented by the formula (XII-4) can be produced by condensing the compound represented by the formula (XII-3) and Ar—COCl (the symbols have the same meaning as described above). The condensation can be carried out in the same manner as in Step IX-4.
Process XII-5:
The compound represented by the formula (XII-5) can be produced by reducing the compound represented by the formula (XII-4). The reduction can be carried out in the same manner as in Step IX-5.
Process XII-6:
The compound represented by the formula (XII-6) can be produced by reducing the compound represented by the formula (XII-5). The reduction can be carried out in the same manner as in Step IX-6.
Process XII-7:
The compound represented by the formula (XII-7) can be produced by subjecting the compound represented by the formula (XII-6) to deprotection. Deprotection can be carried out in the same manner as in Step I-6.
式(B)の化合物、式(C)の化合物、および式(E)の化合物はWO 2004/080990パンフレットまたはWO 2005/012326パンフレットに記載されている。 Compounds of formula (B), compounds of formula (C), and compounds of formula (E) are described in WO 2004/080990 or WO 2005/012326.
式(J)の化合物は、以下のようにして製造することができる。
製法XIII:
The compound of the formula (J) can be produced as follows.
Process XIII:
(式中、R13はアルキルであり、他の記号は前記と同一意味を有する。)
まず、式(O)で示される化合物を、適当な溶媒中(メタノール、エタノール、トルエンなど)、酸(たとえば、塩化亜鉛、塩酸、ポリリン酸、トリフルオロ酢酸など)の存在下、加熱して環化することにより、式(XIII−1)で示される化合物を製造する。
(In the formula, R 13 is alkyl, and other symbols have the same meaning as described above.)
First, the compound represented by the formula (O) is heated in a suitable solvent (methanol, ethanol, toluene, etc.) and in the presence of an acid (for example, zinc chloride, hydrochloric acid, polyphosphoric acid, trifluoroacetic acid, etc.) to cyclize. To produce a compound represented by the formula (XIII-1).
次に、式(XIII−1)で示される化合物を適当な溶媒中(例えば、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、水など)、室温又は加熱下、塩基(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムなど)で加水分解することにより、式(XIII−2)で示される化合物を製造する。 Next, the compound represented by the formula (XIII-1) is used in a suitable solvent (eg, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, water, etc.) at room temperature or under heating with a base (eg, sodium hydroxide, lithium hydroxide, etc.). A compound represented by the formula (XIII-2) is produced by hydrolysis.
さらに、式(XIII−2)で示される化合物を、適当な溶媒中(例えば、キノリンなど)、触媒(例えば、銅)の存在下に脱炭酸して、式(XIII−3)で示される化合物を製造する。 Further, the compound represented by the formula (XIII-2) is decarboxylated in an appropriate solvent (for example, quinoline) in the presence of a catalyst (for example, copper) to obtain a compound represented by the formula (XIII-3). Manufacturing.
そして、式(XIII−3)で示される化合物を、適当な溶媒中(例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンなど)、室温または加熱下、酸(例えば、トリフルオロ酢酸、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩)の存在下、還元剤(例えば、トリエチルシラン、水素化ホウ素亜鉛)で処理することにより、式(J)で示される化合物を製造することができる。 Then, the compound represented by the formula (XIII-3) is reacted with an acid (for example, trifluoroacetic acid, boron trifluoride / diethyl ether complex) in a suitable solvent (for example, tetrahydrofuran, dichloromethane, etc.) at room temperature or under heating. A compound represented by the formula (J) can be produced by treatment with a reducing agent (for example, triethylsilane, zinc borohydride) in the presence.
式(O)で示される化合物は、式(P) The compound represented by the formula (O) is represented by the formula (P)
(ただし、記号は前記と同一意味を有する)
で示される化合物と、適当な溶媒中(アセトニトリル、メタノール、エタノール、水)、室温又は加熱下に、酸(塩酸、酢酸など)の存在下、CH3COCO2R13(ただし、R13は前記と同一意味を有する)と反応させることにより製造するか、あるいは、式(Q)
(However, the symbols have the same meaning as above)
In the presence of an acid (hydrochloric acid, acetic acid, etc.) at room temperature or under heating in a suitable solvent (acetonitrile, methanol, ethanol, water) and CH 3 COCO 2 R 13 (wherein R 13 is the same as above) Or the compound of formula (Q)
(ただし、記号は前記と同一意味を有する)
で示される化合物を、適当な溶媒中(水、メタノール、エタノール)、室温又は冷却下、酸(例えば、塩酸など)の存在下に亜硝酸ナトリウムで処理して、対応するジアゾニウム塩化合物を製した後、適当な溶媒中(例えば、メタノール、エタノール、水)、室温又は冷却下に、塩基(酢酸ナトリウム、水酸化カリウムなど)の存在下でCH3COCH(CH3)CO2R13(ただし、R13は前記と同一意味を有する)と反応させることにより製造することができる。
(However, the symbols have the same meaning as above)
Was treated with sodium nitrite in an appropriate solvent (water, methanol, ethanol) at room temperature or in the presence of an acid (for example, hydrochloric acid) at room temperature or under cooling to produce the corresponding diazonium salt compound. Then, CH 3 COCH (CH 3 ) CO 2 R 13 (however, in the presence of a base (sodium acetate, potassium hydroxide, etc.) in a suitable solvent (eg, methanol, ethanol, water) at room temperature or under cooling R 13 can be produced by reacting with R) having the same meaning as described above.
式(G)で示される化合物は、以下のようにして製造することができる。
製法XIV:
The compound represented by the formula (G) can be produced as follows.
Recipe XIV:
(式中、Meはメチルであり、他の記号は前記と同一意味を有する。)
式(XIV−1)の化合物は、工程I−5と同様にして、式(R)の化合物をフッ化剤で処理して製造する。
(In the formula, Me is methyl, and other symbols have the same meaning as described above.)
The compound of formula (XIV-1) is produced by treating the compound of formula (R) with a fluorinating agent in the same manner as in Step I-5.
式(XIV−2)の化合物は、式(XIV−1)の化合物を脱アルキル化反応に付すことにより製造する。脱アルキル化は、加熱下、硫酸と酢酸の混合物中で実施する。 A compound of formula (XIV-2) is prepared by subjecting a compound of formula (XIV-1) to a dealkylation reaction. Dealkylation is carried out in a mixture of sulfuric acid and acetic acid under heating.
式(G)の化合物は、式(XIV−2)の化合物を、適当な溶媒中(ジクロロメタンなど)、冷却下から室温で、酸化剤(酢酸−ジメチルスルホキシドなど)により酸化して製造する。 The compound of the formula (G) is produced by oxidizing the compound of the formula (XIV-2) with an oxidizing agent (such as acetic acid-dimethyl sulfoxide) in a suitable solvent (such as dichloromethane) under cooling to room temperature.
式(R)の化合物は、例えば、テトラへドロン・レターズ(Tetrahedron Lett.), 2000, 41, 5547−5551に記載の方法など、慣用の方法で製造することができる。 The compound of the formula (R) can be produced by a conventional method such as the method described in Tetrahedron Lett., 2000, 41, 5547-5551.
この他の原料化合物は、商業上入手しうるか、あるいは当業者にとって慣用の方法によって容易に製造される。
製造例1:3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドール
(1)ペンタ−O−アセチル−5−チオ−D−グルコピラノース(813 mg)をエタノール(20 ml)に懸濁し、そこにナトリウムメトキシド(28%メタノール溶液、2滴)を加えた。この混合物をアルゴン雰囲気下室温で1時間攪拌し、得られた溶液にインドリン(238 mg)を加え、一晩還流した。さらに酢酸(2滴)を加え、7時間還流した。室温に冷却後、溶媒を減圧下留去し、粗体の1−(5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドリンを得た。この化合物は精製することなく次の工程に用いた。
These other starting compounds are commercially available or are easily produced by methods conventional to those skilled in the art.
Production Example 1: 3- (4-Ethylphenylmethyl) -1- (5-thio-β-D-glucopyranosyl) indole (1) Penta-O-acetyl-5-thio-D-glucopyranose (813 mg) Suspended in ethanol (20 ml), sodium methoxide (28% methanol solution, 2 drops) was added thereto. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour under an argon atmosphere, indoline (238 mg) was added to the resulting solution, and the mixture was refluxed overnight. Further acetic acid (2 drops) was added and refluxed for 7 hours. After cooling to room temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain crude 1- (5-thio-β-D-glucopyranosyl) indoline. This compound was used in the next step without purification.
(2)上記化合物をクロロホルム(20 ml)に溶解し、無水酢酸(1.51 ml)、ピリジン(1.29 ml)及び4−ジメチルアミノピリジン(24 mg)を加えた。室温で2.5日間攪拌した後、有機溶媒を減圧下留去し、残渣を酢酸エチルに溶解した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=4:1)で精製し、さらにメタノールから再結晶して、1−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドリン(321 mg)を得た。融点:163−165℃. APCI−Mass m/Z 466(M+H)。 (2) The above compound was dissolved in chloroform (20 ml), and acetic anhydride (1.51 ml), pyridine (1.29 ml) and 4-dimethylaminopyridine (24 mg) were added. After stirring at room temperature for 2.5 days, the organic solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was dissolved in ethyl acetate. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 4: 1), recrystallized from methanol, and 1- (2,3,4 , 6-Tetra-O-acetyl-5-thio-β-D-glucopyranosyl) indoline (321 mg) was obtained. Melting point: 163-165 ° C. APCI-Mass m / Z 466 (M + H).
(3)上記化合物(310 mg)を1,4−ジオキサン(10 ml)に溶解し、そこに2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン(159 mg)と水(3滴)を加えた。室温で2時間攪拌後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後 溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=2:1)で精製して、1−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドール(308 mg)を得た。APCI−Mass m/Z 481(M+NH4)。 (3) The above compound (310 mg) was dissolved in 1,4-dioxane (10 ml), and 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone (159 mg) and water (3 Drop) was added. After stirring at room temperature for 2 hours, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 2: 1) to give 1- (2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-thio-β-D-glucopyranosyl). Indole (308 mg) was obtained. APCI-Mass m / Z 481 (M + NH 4 ).
(4) 上記化合物(305 mg)と塩化4−エチルベンゾイル(166 mg)のジクロロメタン(15 ml)溶液に,塩化アルミニウム(439 mg)を0℃で加えた。同温で30分攪拌後、室温で5時間攪拌した。混合物を氷水に注ぎ、1N塩酸(10 ml)を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル = 3:1−2:1)で精製して、4−エチルフェニル 1−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドール−3−イル ケトン(354 mg)を得た。 APCI−Mass m/Z 596(M+H)。 (4) Aluminum chloride (439 mg) was added to a solution of the above compound (305 mg) and 4-ethylbenzoyl chloride (166 mg) in dichloromethane (15 ml) at 0 ° C. The mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes and then at room temperature for 5 hours. The mixture was poured into ice water, 1N hydrochloric acid (10 ml) was added, and the mixture was extracted with chloroform. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 3: 1-2: 1) to give 4-ethylphenyl 1- (2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5- Thio-β-D-glucopyranosyl) indol-3-yl ketone (354 mg) was obtained. APCI-Mass m / Z 596 (M + H).
(5) 上記化合物(347 mg)のエタノール(5 ml)−テトラヒドロフラン(10 ml)溶液に塩化セリウム(III)5水和物(648 mg)と水素化ホウ素ナトリウム(66 mg)を0℃で加えた。同温で2時間攪拌後、0.5N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去して、4−エチルフェニル 1−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドール−3−イル メタノール(387 mg)を得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。 (5) Cerium (III) chloride pentahydrate (648 mg) and sodium borohydride (66 mg) were added to a solution of the above compound (347 mg) in ethanol (5 ml) -tetrahydrofuran (10 ml) at 0 ° C. It was. After stirring at the same temperature for 2 hours, 0.5N hydrochloric acid was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure to give 4-ethylphenyl 1- (2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-thio-β-D-glucopyranosyl) indol-3-yl. Methanol (387 mg) was obtained. This compound was used in the next step without purification.
(6)上記化合物をアセトニトリル(10 ml)−ジクロロメタン(5 ml)に溶解し、アルゴン雰囲気下−10℃でトリエチルシラン(0.46 ml)と三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩(0.37 ml)を加えた。同温で1時間攪拌後、飽和重曹水を加え、有機溶媒を減圧留去した。酢酸エチル(25 ml)で抽出し、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=4:1)で精製して、3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドール(290 mg)を得た。APCI−Mass m/Z 599(M+NH4)。 (6) The above compound was dissolved in acetonitrile (10 ml) -dichloromethane (5 ml), and triethylsilane (0.46 ml) and boron trifluoride / diethyl ether complex salt (0.37 ml) were added at −10 ° C. in an argon atmosphere. . After stirring at the same temperature for 1 hour, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, and the organic solvent was distilled off under reduced pressure. After extraction with ethyl acetate (25 ml) and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 4: 1) to give 3- (4-ethylphenylmethyl) -1- (2,3,4,6-tetra-O-acetyl- 5-thio-β-D-glucopyranosyl) indole (290 mg) was obtained. APCI-Mass m / Z 599 (M + NH 4 ).
(7)上記化合物(281 mg)をメタノール(5 ml)−テトラヒドロフラン(5 ml)に溶解し、そこにナトリウムメトキシド(28%メタノール溶液、2滴)を加えた。アルゴン雰囲気下、室温で2時間攪拌後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:クロロホルム/メタノール=19:1)で精製して3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドール(190 mg)を得た。APCI−Mass m/Z 414(M+H)。 (7) The above compound (281 mg) was dissolved in methanol (5 ml) -tetrahydrofuran (5 ml), and sodium methoxide (28% methanol solution, 2 drops) was added thereto. After stirring for 2 hours at room temperature under an argon atmosphere, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: chloroform / methanol = 19: 1) to give 3- (4-ethylphenylmethyl) -1- (5-thio-β-D-glucopyranosyl) indole (190 mg). Obtained. APCI-Mass m / Z 414 (M + H).
製造例2:4−クロロ−3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドール
(1)ペンタ−O−アセチル−5−チオ−D−グルコピラノース(1323 mg)をエタノール(30 ml)に懸濁し、ナトリウムメトキシド(28%メタノール溶液、2滴)を加えた。混合物をアルゴン雰囲気下室温で1時間攪拌し、得られた溶液に4−クロロインドリン(500 mg)と塩化アンモニウム(174 mg)を加え、22時間還流した。室温に冷却後、溶媒を留去して、粗体の4−クロロ−1−(5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドリンを得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
Production Example 2: 4-Chloro-3- (4-ethylphenylmethyl) -1- (5-thio-β-D-glucopyranosyl) indole (1) Penta-O-acetyl-5-thio-D-glucopyranose ( 1323 mg) was suspended in ethanol (30 ml), and sodium methoxide (28% methanol solution, 2 drops) was added. The mixture was stirred at room temperature under an argon atmosphere for 1 hour, 4-chloroindoline (500 mg) and ammonium chloride (174 mg) were added to the resulting solution, and the mixture was refluxed for 22 hours. After cooling to room temperature, the solvent was distilled off to obtain crude 4-chloro-1- (5-thio-β-D-glucopyranosyl) indoline. This compound was used in the next step without purification.
(2)上記化合物をクロロホルム(20 ml)に溶解し、無水酢酸(2.45 ml)、ピリジン(2.10 ml)及び4−(ジメチルアミノ)ピリジン(40 mg)を加えた。室温で一晩攪拌後、溶媒を減圧下留去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、洗浄、乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル = 3:1)で精製して、4−クロロ−1−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドリン(1157 mg)を得た。 APCI−Mass m/Z 500/502(M+H)。 (2) The above compound was dissolved in chloroform (20 ml), and acetic anhydride (2.45 ml), pyridine (2.10 ml) and 4- (dimethylamino) pyridine (40 mg) were added. After stirring overnight at room temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was dissolved in ethyl acetate, washed and dried, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 3: 1) to give 4-chloro-1- (2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-thio-β- D-glucopyranosyl) indoline (1157 mg) was obtained. APCI-Mass m / Z 500/502 (M + H).
(3)上記化合物を製造例 1−(3)と同様に処理することにより、4−クロロ−1−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドールを得た。 APCI−Mass m/Z 515/517 (M+NH4)。 (3) By treating the above compound in the same manner as in Production Example 1- (3), 4-chloro-1- (2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-thio-β-D- A glucopyranosyl) indole was obtained. APCI-Mass m / Z 515/517 (M + NH 4 ).
(4)上記化合物と塩化4−エチルベンゾイルを製造例1−(4),(5),(6)及び(7)と同様に処理することにより、4−クロロ−3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドールを得た。APCI−Mass m/Z 448/450(M+H)。 (4) By treating the above compound and 4-ethylbenzoyl chloride in the same manner as in Production Example 1- (4), (5), (6) and (7), 4-chloro-3- (4-ethylphenyl) Methyl) -1- (5-thio-β-D-glucopyranosyl) indole was obtained. APCI-Mass m / Z 448/450 (M + H).
製造例3:4−クロロ−3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル)インドール
(1)4−クロロインドリン(1.00 g)及びD−ガラクトース(1.94 g)の水(3.0 ml)−エタノール(20 ml)懸濁液を、アルゴン雰囲気下29時間還流した。溶媒を減圧下留去して、粗体の4−クロロ−1−(β−D−ガラクトピラノシル)インドリンを得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
Production Example 3: 4-chloro-3- (4-ethylphenylmethyl) -1- (4-fluoro-4-deoxy-β-D-glucopyranosyl) indole (1) 4-chloroindoline (1.00 g) and D- A suspension of galactose (1.94 g) in water (3.0 ml) -ethanol (20 ml) was refluxed for 29 hours under an argon atmosphere. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain crude 4-chloro-1- (β-D-galactopyranosyl) indoline. This compound was used in the next step without purification.
(2)上記化合物をクロロホルム(20 ml)に懸濁し、そこに無水酢酸(4.92 ml)、ピリジン(4.21 ml)及び4−(ジメチルアミノ)ピリジン(80 mg)を加えた。室温で1.5時間攪拌後、溶媒を減圧下留去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=90:10−60:40)で精製して、4−クロロ−1−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル)インドリン(2.34 g)を得た。APCI−Mass m/Z 484/486 (M+H)。 (2) The above compound was suspended in chloroform (20 ml), and acetic anhydride (4.92 ml), pyridine (4.21 ml) and 4- (dimethylamino) pyridine (80 mg) were added thereto. After stirring at room temperature for 1.5 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was dissolved in ethyl acetate, washed and dried, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 90: 10-60: 40) to give 4-chloro-1- (2,3,4,6-tetra-O-acetyl-β- D-galactopyranosyl) indoline (2.34 g) was obtained. APCI-Mass m / Z 484/486 (M + H).
(3)上記化合物を製造例 1−(3)と同様に処理して、4−クロロ−1−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル)インドールを得た。APCI−Mass m/Z 499/501 (M+NH4)。 (3) The above compound was treated in the same manner as in Production Example 1- (3) to give 4-chloro-1- (2,3,4,6-tetra-O-acetyl-β-D-galactopyranosyl). I got an indole. APCI−Mass m / Z 499/501 (M + NH 4 ).
(4)上記化合物及び塩化4−エチルベンゾイルを製造例1−(4),(5),(6)及び(7)と同様に処理することにより、4−クロロ−3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(β−D−ガラクトピラノシル)インドールを得た。APCI−Mass m/Z 432/434(M+H)。 (4) By treating the above compound and 4-ethylbenzoyl chloride in the same manner as in Production Example 1- (4), (5), (6) and (7), 4-chloro-3- (4-ethylphenyl) Methyl) -1- (β-D-galactopyranosyl) indole was obtained. APCI-Mass m / Z 432/434 (M + H).
(5)上記化合物(6.80 g)をクロロホルム(300 ml)に懸濁し、そこにベンズアルデヒドジメチルアセタール(3.54 ml)及びp−トルエンスルホン酸1水和物(0.15 g)を加えた。室温で40分攪拌後、溶媒を減圧留去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:クロロホルム/メタノール=100:0−90:10)で精製して、4−クロロ−3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(4,6−O−ベンジリデン−β−D−ガラクトピラノシル)インドール(7.12 g)を得た。APCI−Mass m/Z 520/522(M+H)。 (5) The above compound (6.80 g) was suspended in chloroform (300 ml), and benzaldehyde dimethyl acetal (3.54 ml) and p-toluenesulfonic acid monohydrate (0.15 g) were added thereto. After stirring at room temperature for 40 minutes, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was dissolved in ethyl acetate, washed and dried, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: chloroform / methanol = 100: 0-90: 10) to give 4-chloro-3- (4-ethylphenylmethyl) -1- (4,6-O-benzylidene -Β-D-Galactopyranosyl) indole (7.12 g) was obtained. APCI-Mass m / Z 520/522 (M + H).
(6)上記化合物(7.12 g)をクロロホルム(300 ml)に懸濁し、そこにピリジン(6.64 ml)及び塩化ベンゾイル(4.77 ml)を0℃で加えた。室温に昇温し、3日間攪拌した。混合物を酢酸エチルで希釈し、洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去して、粗体の4−クロロ−3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(2,3−ジ−O−ベンゾイル−4,6−O−ベンジリデン−β−D−ガラクトピラノシル)インドールを得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。 (6) The above compound (7.12 g) was suspended in chloroform (300 ml), and pyridine (6.64 ml) and benzoyl chloride (4.77 ml) were added thereto at 0 ° C. The mixture was warmed to room temperature and stirred for 3 days. The mixture was diluted with ethyl acetate, washed and dried, and the solvent was evaporated under reduced pressure to give crude 4-chloro-3- (4-ethylphenylmethyl) -1- (2,3-di-O- Benzoyl-4,6-O-benzylidene-β-D-galactopyranosyl) indole was obtained. This compound was used in the next step without purification.
(7)上記化合物の酢酸(240 ml)−水(30 ml)溶液を70℃で一晩攪拌した。溶媒を減圧留去し、残渣を酢酸エチルに溶解した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:クロロホルム/酢酸エチル = 100:0−95:5)で精製して、4−クロロ−3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(2,3−ジ−O−ベンゾイル−β−D−ガラクトピラノシル)インドール(7.06 g)を得た。APCI−Mass m/Z 657/659 (M+NH4)。 (7) A solution of the above compound in acetic acid (240 ml) -water (30 ml) was stirred at 70 ° C. overnight. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was dissolved in ethyl acetate. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: chloroform / ethyl acetate = 100: 0-95: 5) to give 4-chloro-3- (4-ethylphenylmethyl) -1- (2,3-di- O-benzoyl-β-D-galactopyranosyl) indole (7.06 g) was obtained. APCI−Mass m / Z 657/659 (M + NH 4 ).
(8)上記化合物(7.06 g)を2,4,6−トリメチルピリジン(70 ml)に懸濁し、そこに塩化ベンゾイル(1.54 ml)を−40℃で加えた。混合物を0℃に昇温し、一晩攪拌した。2N塩酸を用いて反応混合物のpHを5に合わせ、酢酸エチル−テトラヒドロフランで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル = 90:10−50:50)で精製し、さらにエタノールから再結晶して、4−クロロ−3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(2,3,6−トリ−O−ベンゾイル−β−D−ガラクトピラノシル)インドール(5.17 g)を得た。融点:192−193℃. APCI−Mass m/Z 761/763(M+NH4)。 (8) The above compound (7.06 g) was suspended in 2,4,6-trimethylpyridine (70 ml), and benzoyl chloride (1.54 ml) was added thereto at −40 ° C. The mixture was warmed to 0 ° C. and stirred overnight. The reaction mixture was adjusted to pH 5 with 2N hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate-tetrahydrofuran. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 90: 10-50: 50) and recrystallized from ethanol to give 4-chloro-3- (4-ethylphenylmethyl) -1- (2,3,6-Tri-O-benzoyl-β-D-galactopyranosyl) indole (5.17 g) was obtained. Melting point: 192-193 ° C. APCI-Mass m / Z 761/763 (M + NH 4 ).
(9)上記化合物(700 mg)をジクロロメタン(70 ml)に溶かし、そこに(ジエチルアミノ)スルファー トリフルオリド(1.24 ml)をアルゴン雰囲気下、0℃で加えた。室温で24時間攪拌後、冷水を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:クロロホルム/酢酸エチル = 100:0−95:5)で精製し、さらにジイソプロピルエーテルから再結晶して、4−クロロ−3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(2,3,6−トリ−O−ベンゾイル−4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル)インドール(452 mg)を得た。融点:137−138℃. APCI−Mass m/Z 746/748(M+H)。 (9) The above compound (700 mg) was dissolved in dichloromethane (70 ml), and (diethylamino) sulfur trifluoride (1.24 ml) was added thereto at 0 ° C. under an argon atmosphere. After stirring at room temperature for 24 hours, cold water was added and the mixture was extracted with chloroform. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: chloroform / ethyl acetate = 100: 0-95: 5) and recrystallized from diisopropyl ether to give 4-chloro-3- (4-ethylphenylmethyl) -1 -(2,3,6-Tri-O-benzoyl-4-fluoro-4-deoxy-β-D-glucopyranosyl) indole (452 mg) was obtained. Melting point: 137-138 ° C. APCI-Mass m / Z 746/748 (M + H).
(10)上記化合物を製造例1−(7)と同様に処理することにより、4−クロロ−3−(4−エチルフェニルメチル)−1−(4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル)インドールを得た。 APCI−Mass m/Z 434/436 (M+H)。 (10) By treating the above compound in the same manner as in Production Example 1- (7), 4-chloro-3- (4-ethylphenylmethyl) -1- (4-fluoro-4-deoxy-β-D- A glucopyranosyl) indole was obtained. APCI-Mass m / Z 434/436 (M + H).
製造例4:4−クロロ−3−(4−エトキシフェニルメチル)−1−(5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドール
製造例2−(3) で得られた4−クロロ−1−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル)インドール及び 塩化4−エトキシベンゾイルを製造例1−(4),(5),(6)及び(7)と同様に処理して、題記化合物を得た。APCI−Mass m/Z 464/466(M+H)。
Production Example 4: 4-Chloro-3- (4-ethoxyphenylmethyl) -1- (5-thio-β-D-glucopyranosyl) indole Production Example 2- (3-) 4-Chloro-1- ( 2,3,4,6-Tetra-O-acetyl-5-thio-β-D-glucopyranosyl) indole and 4-ethoxybenzoyl chloride were prepared in Preparation Examples 1- (4), (5), (6) and (7 ) To give the title compound. APCI-Mass m / Z 464/466 (M + H).
製造例5:3−(ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル)−4−クロロ−1−(4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル)ベンゼン
(1) 1−(ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル)−5−ブロモ−2−クロロベンゼン(1.00 g)をテトラヒドロフラン(8 ml)−トルエン(16 ml)に溶解し、アルゴン雰囲気下、−78℃に冷却した。そこへn−ブチルリチウム(1.59Mヘキサン溶液、1.86 ml)を滴下し、混合物を同温で30分攪拌した。2,3,4,6−テトラキス−O−トリメチルシリル−D−グルコノ−1,5−ラクトン(US 6,515,117参照;1.26 g)のトルエン(10 ml)溶液を滴下し、さらに同温で1.5時間攪拌した。メタンスルホン酸(0.58 ml)のメタノール(20 ml)溶液を加え、室温で一晩攪拌した。氷冷下、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:クロロホルム/メタノール=10:0−9:1)で精製して,3−(ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル)−4−クロロ−1−(1−α−メトキシ−β−D−グルコピラノシル)ベンゼン(875 mg)を得た。
Production Example 5: 3- (Benzo [b] thiophen-2-ylmethyl) -4-chloro-1- (4-fluoro-4-deoxy-β-D-galactopyranosyl) benzene (1) 1- (benzo [B] Thiophen-2-ylmethyl) -5-bromo-2-chlorobenzene (1.00 g) was dissolved in tetrahydrofuran (8 ml) -toluene (16 ml) and cooled to −78 ° C. under an argon atmosphere. N-Butyllithium (1.59 M hexane solution, 1.86 ml) was added dropwise thereto, and the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes. Toluene (10 ml) solution of 2,3,4,6-tetrakis-O-trimethylsilyl-D-glucono-1,5-lactone (see US 6,515,117; 1.26 g) was added dropwise and further stirred at the same temperature for 1.5 hours. . Methanolsulfonic acid (0.58 ml) in methanol (20 ml) was added and stirred at room temperature overnight. Under ice-cooling, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. After washing and drying, the residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: chloroform / methanol = 10: 0-9: 1) to give 3- (benzo [b] thiophen-2-ylmethyl) -4-chloro-1 -(1-α-Methoxy-β-D-glucopyranosyl) benzene (875 mg) was obtained.
(2)上記化合物(1.91 g)及びトリエチルシラン(2.03 ml)のジクロロメタン(80 ml)溶液を、アルゴン雰囲気下、−78℃に冷却し、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩(1.61 ml)を加えた。0℃に昇温し、同温で3時間攪拌した。反応混合物に飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:クロロホルム/メタノール=10:0−9:1)で精製し,酢酸エチル−ジエチルエーテルから再結晶して、3−(ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル)−4−クロロ−1−(β−D−グルコピラノシル)ベンゼン(1.29 g)を得た。融点:153−154℃. APCI−Mass m/Z 438/440 (M+NH4)。 (2) A solution of the above compound (1.91 g) and triethylsilane (2.03 ml) in dichloromethane (80 ml) was cooled to −78 ° C. under an argon atmosphere, and boron trifluoride / diethyl ether complex (1.61 ml) was added. It was. The temperature was raised to 0 ° C., and the mixture was stirred at the same temperature for 3 hours. Saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with chloroform. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: chloroform / methanol = 10: 0-9: 1) and recrystallized from ethyl acetate-diethyl ether to give 3- (benzo [b] thiophen-2-ylmethyl)- 4-Chloro-1- (β-D-glucopyranosyl) benzene (1.29 g) was obtained. Melting point: 153-154 ° C. APCI-Mass m / Z 438/440 (M + NH 4 ).
(3) 上記 化合物 を製造例3−(5),(6),(7)及び(8)と同様に処理することにより、3−(ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル)−4−クロロ−1−(2,3,6−トリ−O−ベンゾイル−β−D−グルコピラノシル)ベンゼンを得た。融点:215−217℃. APCI−Mass m/Z 750/752 (M+NH4)。 (3) By treating the above compound in the same manner as in Production Example 3- (5), (6), (7) and (8), 3- (benzo [b] thiophen-2-ylmethyl) -4-chloro -1- (2,3,6-tri-O-benzoyl-β-D-glucopyranosyl) benzene was obtained. Melting point: 215-217 ° C. APCI-Mass m / Z 750/752 (M + NH 4 ).
(4)上記化合物(796 mg)及び4−ジメチルアミノピリジン(780 mg)のジクロロメタン(50 ml)溶液を、アルゴン雰囲気下、0℃に冷却し、(ジエチルアミノ)スルファー トリフルオリド(0.63 ml)を加えた。混合物を室温に昇温し、同温で19時間攪拌した。そこへ氷冷下冷水を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=4:1−2:1)で精製し,酢酸エチル-ヘキサンから再結晶して、3−(ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル)−4−クロロ−1−(2,3,6−トリ−O−ベンゾイル−4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル)ベンゼン(305 mg)を得た。融点:204−207℃. APCI−Mass m/Z 752/754 (M+NH4)。 (4) A dichloromethane (50 ml) solution of the above compound (796 mg) and 4-dimethylaminopyridine (780 mg) was cooled to 0 ° C. under an argon atmosphere, and (diethylamino) sulfur trifluoride (0.63 ml) was added. It was. The mixture was warmed to room temperature and stirred at the same temperature for 19 hours. Thereto was added cold water under ice cooling, and the mixture was extracted with chloroform. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 4: 1-2: 1) and recrystallized from ethyl acetate-hexane to give 3- (benzo [b] thiophen-2-ylmethyl)- 4-Chloro-1- (2,3,6-tri-O-benzoyl-4-fluoro-4-deoxy-β-D-galactopyranosyl) benzene (305 mg) was obtained. Melting point: 204-207 ° C. APCI-Mass m / Z 752/754 (M + NH 4 ).
(5)上記化合物を製造例1−(7)と同様に処理することにより、3−(ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル)−4−クロロ−1−(4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル)ベンゼンを得た。APCI−Mass m/Z 440/442(M+NH4)。 (5) By treating the above compound in the same manner as in Production Example 1- (7), 3- (benzo [b] thiophen-2-ylmethyl) -4-chloro-1- (4-fluoro-4-deoxy- β-D-galactopyranosyl) benzene was obtained. APCI-Mass m / Z 440/442 (M + NH 4 ).
製造例6:4−クロロ−3−(5−フェニル−2−チエニルメチル)−1−(6−フルオロ−6−デオキシ−β−D−グルコピラノシル)ベンゼン
(1)5−ブロモ−2−クロロ−1−(5−フェニル−2−チエニルメチル)ベンゼンを製造例5−(1)及び(2)と同様に処理することにより、4−クロロ−3−(5−フェニル−2−チエニルメチル)−1−(β−D−グルコピラノシル)ベンゼンを得た。APCI−Mass m/Z 464/466 (M+NH4)。
Production Example 6: 4-Chloro-3- (5-phenyl-2-thienylmethyl) -1- (6-fluoro-6-deoxy-β-D-glucopyranosyl) benzene (1) 5-Bromo-2-chloro- By treating 1- (5-phenyl-2-thienylmethyl) benzene in the same manner as in Production Example 5- (1) and (2), 4-chloro-3- (5-phenyl-2-thienylmethyl)- 1- (β-D-glucopyranosyl) benzene was obtained. APCI-Mass m / Z 464/466 (M + NH 4 ).
(2)上記化合物(1.00 g)をN,N−ジメチルホルムアミド(10 ml)に溶解し、そこに塩化トリチル(686 mg)、4−ジメチルアミノピリジン(14 mg)及びトリエチルアミン(0.47 ml)を加えた。室温で6日間攪拌後、酢酸エチルで希釈した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:クロロホルム/メタノール=100:1−19:1)で精製して、4−クロロ−3−(5−フェニル−2−チエニルメチル)−1−(6−O−トリチル−β−D−グルコピラノシル)ベンゼン(870 mg)を得た。ESI−Mass m/Z 711/713 (M+Na)。 (2) Dissolve the above compound (1.00 g) in N, N-dimethylformamide (10 ml) and add trityl chloride (686 mg), 4-dimethylaminopyridine (14 mg) and triethylamine (0.47 ml) to it. It was. The mixture was stirred at room temperature for 6 days and diluted with ethyl acetate. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: chloroform / methanol = 100: 1-19: 1) to give 4-chloro-3- (5-phenyl-2-thienylmethyl) -1- (6-O- Trityl-β-D-glucopyranosyl) benzene (870 mg) was obtained. ESI-Mass m / Z 711/713 (M + Na).
(3) 上記化合物を製造例1−(2)と同様に処理することにより、4−クロロ−3−(5−フェニル−2−チエニルメチル)−1−(2,3,4−トリ−O−アセチル−6−O−トリチル−β−D−グルコピラノシル)ベンゼンを得た。ESI−Mass m/Z 837/839 (M+Na)
(4)上記化合物(1.45 g)のギ酸(10 ml)−ジエチルエーテル(5 ml)溶液を室温で3.5時間攪拌し、水で希釈した。酢酸エチルで抽出後、洗浄、乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=4:1−1:1)で精製して,4−クロロ−3−(5−フェニル−2−チエニルメチル)−1−(2,3,4−トリ−O−アセチル−β−D−グルコピラノシル)ベンゼン(689 mg)を得た。融点:166−168℃. APCI−Mass m/Z 590/592 (M+NH4)。
(3) By treating the above compound in the same manner as in Production Example 1- (2), 4-chloro-3- (5-phenyl-2-thienylmethyl) -1- (2,3,4-tri-O -Acetyl-6-O-trityl-β-D-glucopyranosyl) benzene was obtained. ESI−Mass m / Z 837/839 (M + Na)
(4) A solution of the above compound (1.45 g) in formic acid (10 ml) -diethyl ether (5 ml) was stirred at room temperature for 3.5 hours and diluted with water. After extraction with ethyl acetate, washing and drying were performed, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 4: 1-1: 1) to give 4-chloro-3- (5-phenyl-2-thienylmethyl) -1- (2,3 , 4-Tri-O-acetyl-β-D-glucopyranosyl) benzene (689 mg) was obtained. Melting point: 166-168 ° C. APCI-Mass m / Z 590/592 (M + NH 4 ).
(5)上記化合物を製造例5−(4)及び1−(7)と同様に処理することにより、4−クロロ−3− (5−フェニル−2−チエニルメチル)−1−(6−フルオロ−6−デオキシ−β−D−グルコピラノシル)ベンゼンを得た。APCI−Mass m/Z 466/468 (M+NH4)。 (5) The above compound is treated in the same manner as in Production Examples 5- (4) and 1- (7) to give 4-chloro-3- (5-phenyl-2-thienylmethyl) -1- (6-fluoro -6-Deoxy-β-D-glucopyranosyl) benzene was obtained. APCI-Mass m / Z 466/468 (M + NH 4 ).
製造例7:4−クロロ−3−(5−フェニル−2−チエニルメチル)−1−(4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル)ベンゼン
(1) 5−ブロモ−2−クロロ−1−(5−フェニル−2−チエニルメチル)ベンゼン(397 mg)をテトラヒドロフラン(10 ml)に溶解し、アルゴン雰囲気下、−78℃に冷却した。そこへn−ブチルリチウム(1.56Mヘキサン溶液、0.70 ml)を滴下し、同温で20分攪拌した。2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−D−グルコノ−1,5−ラクトン(496 mg)のテトラヒドロフラン(5 ml)溶液を滴下し、さらに同温で1.5時間攪拌した。ついで飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、室温に昇温した。混合物を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去して、粗体の4−クロロ−3−(5−フェニル−2−チエニルメチル)−1−(1−ヒドロキシ−2,3,6−トリ− O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−D−グルコピラノシル)ベンゼンを得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
Production Example 7: 4-Chloro-3- (5-phenyl-2-thienylmethyl) -1- (4-fluoro-4-deoxy-β-D-glucopyranosyl) benzene (1) 5-Bromo-2-chloro- 1- (5-Phenyl-2-thienylmethyl) benzene (397 mg) was dissolved in tetrahydrofuran (10 ml) and cooled to −78 ° C. under an argon atmosphere. N-Butyllithium (1.56M hexane solution, 0.70 ml) was added dropwise thereto and stirred at the same temperature for 20 minutes. A solution of 2,3,6-tri-O-benzyl-4-fluoro-4-deoxy-D-glucono-1,5-lactone (496 mg) in tetrahydrofuran (5 ml) was added dropwise, and the mixture was further stirred at the same temperature for 1.5 hours. Stir. Then, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added, and the temperature was raised to room temperature. The mixture was diluted with water and extracted with ethyl acetate. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure to give crude 4-chloro-3- (5-phenyl-2-thienylmethyl) -1- (1-hydroxy-2,3,6-tri-O. -Benzyl-4-fluoro-4-deoxy-D-glucopyranosyl) benzene was obtained. This compound was used in the next step without purification.
(2)上記 化合物のジクロロメタン(10 ml)溶液をアルゴン雰囲気下、−78℃に冷却し、そこにトリイソプロピルシラン(0.68 ml)及び三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩(0.42 ml)を加えた。−78℃で1時間攪拌後、0℃に昇温し、同温で1時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル = 19:1−9:1)で精製して、4−クロロ−3−(5−フェニル−2−チエニルメチル)−1−(2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル)ベンゼン(226 mg)を得た。APCI−Mass m/Z 736/738 (M+NH4)。 (2) A dichloromethane (10 ml) solution of the above compound was cooled to −78 ° C. under an argon atmosphere, and triisopropylsilane (0.68 ml) and boron trifluoride · diethyl ether complex (0.42 ml) were added thereto. After stirring at −78 ° C. for 1 hour, the temperature was raised to 0 ° C. and stirred at the same temperature for 1 hour. A saturated aqueous ammonium chloride solution was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 19: 1-9: 1) to give 4-chloro-3- (5-phenyl-2-thienylmethyl) -1- (2,3 , 6-tri-O-benzyl-4-fluoro-4-deoxy-β-D-glucopyranosyl) benzene (226 mg) was obtained. APCI−Mass m / Z 736/738 (M + NH 4 ).
(3)ヨウ化ナトリウム(550 mg)のアセトニトリル(5 ml)溶液に、アルゴン雰囲気下、0℃で、塩化トリメチルシリル(0.47 ml)を加え、同温で20分攪拌した。そこへ上記化合物(220 mg)のアセトニトリル(5 ml)を加え、0℃で1時間、ついで室温で2.5時間攪拌した。10%チオ硫酸ナトリウム水溶液を0℃で加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:クロロホルム/メタノール=30:1)で精製して,4−クロロ−3−(5−フェニル−2−チエニルメチル)−1−(4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル)ベンゼン (123 mg)を得た。APCI−Mass m/Z 466/468 (M+NH4)
製造例8−36
上記製造例のいずれかと同様にして、表1記載の化合物を製造した。
(3) To a solution of sodium iodide (550 mg) in acetonitrile (5 ml) was added trimethylsilyl chloride (0.47 ml) at 0 ° C. under an argon atmosphere, and the mixture was stirred at the same temperature for 20 minutes. Thereto was added acetonitrile (5 ml) of the above compound (220 mg), and the mixture was stirred at 0 ° C. for 1 hour and then at room temperature for 2.5 hours. A 10% aqueous sodium thiosulfate solution was added at 0 ° C., and the mixture was extracted with ethyl acetate. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: chloroform / methanol = 30: 1) to give 4-chloro-3- (5-phenyl-2-thienylmethyl) -1- (4-fluoro-4-deoxy- β-D-glucopyranosyl) benzene (123 mg) was obtained. APCI−Mass m / Z 466/468 (M + NH 4 )
Production Example 8-36
The compounds shown in Table 1 were produced in the same manner as in any of the above production examples.
参考例1: 4−クロロインドリン
4−クロロインドール(3.15 g)及びトリエチルシラン(8.30 ml)のトリフルオロ酢酸(32 ml)溶液を50℃で30分攪拌し、溶媒を減圧下留去した。残渣を飽和重曹水で塩基性とし、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=100:0−80:20)で精製して、題記化合物を得た(2.89 g)。APCI−Mass m/Z 154/156 (M+H)。
Reference example 1: 4-chloroindoline
A solution of 4-chloroindole (3.15 g) and triethylsilane (8.30 ml) in trifluoroacetic acid (32 ml) was stirred at 50 ° C. for 30 minutes, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was basified with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and extracted with ethyl acetate. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 100: 0-80: 20) to give the title compound (2.89 g). APCI-Mass m / Z 154/156 (M + H).
参考例2:1−(ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル)−5−ブロモ−2−クロロベンゼン
(1)5−ブロモ−2−クロロ安息香酸(10.0 g)をジクロロメタン(80 ml)に懸濁し、そこへN,O−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩(4.56 g)、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩(8.96 g)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(6.31 g)及びトリエチルアミン(8.88 ml)を加えた。室温で64時間攪拌後、10%塩酸を0℃で加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去し、粗体の5−ブロモ−2−クロロ−N−メトキシ−N−メチルベンズアミドを得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
Reference Example 2: 1- (Benzo [b] thiophen-2-ylmethyl) -5-bromo-2-chlorobenzene (1) 5-Bromo-2-chlorobenzoic acid (10.0 g) was suspended in dichloromethane (80 ml). N, O-dimethylhydroxylamine hydrochloride (4.56 g), 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide hydrochloride (8.96 g), 1-hydroxybenzotriazole (6.31 g) and Triethylamine (8.88 ml) was added. After stirring at room temperature for 64 hours, 10% hydrochloric acid was added at 0 ° C., and the mixture was extracted with chloroform. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain crude 5-bromo-2-chloro-N-methoxy-N-methylbenzamide. This compound was used in the next step without purification.
(2)上記化合物の テトラヒドロフラン(200 ml)溶液をアルゴン雰囲気下−78℃に冷却し、そこへ水素化ジイソブチルアルミニウム(1.0Mトルエン溶液、64 ml)を加えた。混合物を−78℃で30分、ついで0℃で40分攪拌した。10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=19:1)で精製して、5−ブロモ−2−クロロベンズアルデヒド(8.90 g)を得た。 (2) A tetrahydrofuran (200 ml) solution of the above compound was cooled to −78 ° C. under an argon atmosphere, and diisobutylaluminum hydride (1.0 M toluene solution, 64 ml) was added thereto. The mixture was stirred at −78 ° C. for 30 minutes and then at 0 ° C. for 40 minutes. 10% hydrochloric acid was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 19: 1) to give 5-bromo-2-chlorobenzaldehyde (8.90 g).
(3)チアナフタレン(5.18 g)のテトラヒドロフラン(60 ml)溶液にアルゴン雰囲気下、−78℃でn−ブチルリチウム(2.44Mヘキサン溶液、15.8 ml)を滴下し、−78℃で30分、ついで0℃で30分攪拌した。−78℃に冷却後、上記化合物(8.90 g)のテトラヒドロフラン(60 ml)溶液を加え、同温で1.5時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=15:1)で精製して、ベンゾ[b]チオフェン−2−イル 5−ブロモ−2−クロロフェニル メタノール(12.25 g)を得た。 (3) n-Butyllithium (2.44M hexane solution, 15.8 ml) was added dropwise to a tetrahydrofuran (60 ml) solution of thiaphthalene (5.18 g) at −78 ° C. in an argon atmosphere at −78 ° C. for 30 minutes. The mixture was stirred at 0 ° C for 30 minutes. After cooling to −78 ° C., a solution of the above compound (8.90 g) in tetrahydrofuran (60 ml) was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 1.5 hours. Saturated aqueous ammonium chloride solution was added and the mixture was extracted with ethyl acetate. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 15: 1) to obtain benzo [b] thiophen-2-yl 5-bromo-2-chlorophenyl methanol (12.25 g).
(4)上記化合物(12.25 g)のジクロロメタン(300 ml)溶液を0℃に冷却し、トリエチルシラン(12.17 ml)及び 三フッ化ホウ素・ジエチル エーテル錯塩(6.58 ml)を加えた。同温で2時間攪拌後、飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン)で精製して、1−(ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル)−5−ブロモ−2−クロロベンゼン(9.30 g)を得た。1H−NMR(CDCl3)δ4.30 (s, 2H), 7.02 (d, J=0.9 Hz, 1H), 7.23−7.36 (m, 4H), 7.43 (m, 1H), 7.65−7.69 (m, 1H), 7.73−7.77 (m, 1H)。 (4) A solution of the above compound (12.25 g) in dichloromethane (300 ml) was cooled to 0 ° C., and triethylsilane (12.17 ml) and boron trifluoride · diethyl ether complex (6.58 ml) were added. After stirring at the same temperature for 2 hours, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, and the mixture was extracted with chloroform. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane) to obtain 1- (benzo [b] thiophen-2-ylmethyl) -5-bromo-2-chlorobenzene (9.30 g). 1H-NMR (CDCl 3 ) δ 4.30 (s, 2H), 7.02 (d, J = 0.9 Hz, 1H), 7.23-7.36 (m, 4H), 7.43 (m, 1H), 7.65-7.69 (m, 1H), 7.73-7.77 (m, 1H).
参考例3:5−ブロモ−2−クロロ−1−(5−フェニル−2−チエニルメチル)ベンゼン
(1)5−ブロモ−2−クロロ安息香酸(55.95 g)をジクロロメタン(500 ml)に懸濁し、塩化オキサリル(25 ml)及びN,N−ジメチルホルムアミド(5滴)を加えた。室温で一晩攪拌後、テトラヒドロフラン(50 ml)を加え、さらに同温で1時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮して、塩化5−ブロモ−2−クロロベンゾイルを得た。この化合物と2−フェニルチオフェン(34.63 g)をジクロロメタン(1000 ml)に溶解し、塩化アルミニウム(31.70 g)を0℃で加えた。混合物を0℃で30分、ついで室温で18時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をヘキサン中で粉末化して5−ブロモ−2−クロロフェニル 5−フェニル−2−チエニル ケトン(50.22 g)を得た。融点:132−134℃. APCI−Mass m/Z 377/379 (M+H)。
Reference Example 3: 5-Bromo-2-chloro-1- (5-phenyl-2-thienylmethyl) benzene (1) 5-Bromo-2-chlorobenzoic acid (55.95 g) was suspended in dichloromethane (500 ml). , Oxalyl chloride (25 ml) and N, N-dimethylformamide (5 drops) were added. After stirring overnight at room temperature, tetrahydrofuran (50 ml) was added, and the mixture was further stirred at the same temperature for 1 hour. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure to give 5-bromo-2-chlorobenzoyl chloride. This compound and 2-phenylthiophene (34.63 g) were dissolved in dichloromethane (1000 ml), and aluminum chloride (31.70 g) was added at 0 ° C. The mixture was stirred at 0 ° C. for 30 minutes and then at room temperature for 18 hours. The reaction mixture was poured into ice water and extracted with chloroform. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was triturated in hexane to give 5-bromo-2-chlorophenyl 5-phenyl-2-thienyl ketone (50.22 g). Melting point: 132-134 ° C. APCI-Mass m / Z 377/379 (M + H).
(2)上記化合物(50.00 g)及びトリエチルシラン(63.44 ml)のジクロロメタン(300 ml)−アセトニトリル(300 ml)懸濁液に、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩(50.18 ml)を0℃で加えた。室温で3時間攪拌後、重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。活性炭処理後、メタノールから結晶化して、5−ブロモ−2−クロロ−1−(5−フェニル−2−チエニルメチル)ベンゼン(42.92 g)を得た。 融点:80−81℃。 (2) Boron trifluoride-diethyl ether complex (50.18 ml) was added to a suspension of the above compound (50.00 g) and triethylsilane (63.44 ml) in dichloromethane (300 ml) -acetonitrile (300 ml) at 0 ° C. It was. After stirring at room temperature for 3 hours, aqueous sodium bicarbonate was added, and the mixture was extracted with chloroform. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. After treatment with activated carbon, crystallization from methanol gave 5-bromo-2-chloro-1- (5-phenyl-2-thienylmethyl) benzene (42.92 g). Melting point: 80-81 ° C.
参考例4:2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−D−グルコノ−1,5−ラクトン
(1)メチル2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノシド(サカガミら、テトラへドロン・レターズ,2000, 41, 5547−5551参照;16.99 g)をジクロロメタン(172 ml)に溶解し、(ジエチルアミノ)スルファー・トリフルオリド(9.71 ml)を0℃で加えた。混合物を0℃で2時間、ついで室温で5時間攪拌した。混合物を0℃に冷却し、飽和重曹水を加えた。有機相を乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=100:0−90:10)で精製して、メチル 2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシド(5.86 g)を得た。APCI−Mass m/Z 484 (M+NH4)。
Reference Example 4: 2,3,6-Tri-O-benzyl-4-fluoro-4-deoxy-D-glucono-1,5-lactone (1) Methyl 2,3,6-tri-O-benzyl-β -D-galactopyranoside (see Sakagami et al., Tetrahedron Letters, 2000, 41, 5547-5551; 16.99 g) is dissolved in dichloromethane (172 ml) and (diethylamino) sulfur trifluoride (9.71 ml) Was added at 0 ° C. The mixture was stirred at 0 ° C. for 2 hours and then at room temperature for 5 hours. The mixture was cooled to 0 ° C. and saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added. After drying the organic phase, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 100: 0-90: 10), and methyl 2,3,6-tri-O-benzyl-4-fluoro-4-deoxy-β- D-glucopyranoside (5.86 g) was obtained. APCI-Mass m / Z 484 (M + NH 4 ).
(2)上記化合物(5.39 g)と3M硫酸(10 ml)−酢酸(50 ml)の混合物を90℃で5時間攪拌した。室温に冷却後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=4:1)で精製して、2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−D−グルコース(2.39 g)を得た。APCI−Mass m/Z 470(M+NH4)。 (2) A mixture of the above compound (5.39 g) and 3M sulfuric acid (10 ml) -acetic acid (50 ml) was stirred at 90 ° C. for 5 hours. After cooling to room temperature, water was added and extracted with ethyl acetate. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 4: 1) to give 2,3,6-tri-O-benzyl-4-fluoro-4-deoxy-D-glucose (2.39 g). Got. APCI-Mass m / Z 470 (M + NH 4 ).
(3)上記化合物(2.76 g)をジメチルスルホキシド(16 ml)に溶解し、ついでアルゴン雰囲気下、0℃で無水酢酸(11 ml)を加えた。混合物を室温で一晩攪拌した後、0℃で氷水を加え、酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=19:1−9:1)で精製して、2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−D−グルコノ−1,5−ラクトン(2.08 g)を得た。APCI−Mass m/Z 468(M+NH4)。 (3) The above compound (2.76 g) was dissolved in dimethyl sulfoxide (16 ml), and acetic anhydride (11 ml) was added at 0 ° C. under an argon atmosphere. The mixture was stirred at room temperature overnight, ice water was added at 0 ° C., and the mixture was extracted with ethyl acid. After washing and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: hexane / ethyl acetate = 19: 1-9: 1) to give 2,3,6-tri-O-benzyl-4-fluoro-4-deoxy-D-glucono. -1,5-lactone (2.08 g) was obtained. APCI-Mass m / Z 468 (M + NH 4 ).
試験例
1.ヒトSGLT2阻害作用確認試験
(1)試験化合物
前記製造例記載化合物を用いた。
(2)試験方法
24穴プレートに、ヒトSGLT2安定発現CHOK1細胞を40×104個/穴で播種した。10%ウシ胎児血清、50 IU/mlペニシリン、50μg/mlストレプトマイシン、400μg/mlゲネチシンを含むHam's F−12培地中で、37℃、5%CO2存在下2日間培養した後、メチル−α−D−グルコピラノシド(α−MG)取り込み実験に供した。培地を除去し、緩衝液(137 mM塩化ナトリウム、5 mM塩化カリウム、1 mM塩化カルシウム、1 mM塩化マグネシウム、50 mM 2−[4−(2−ヒドロキシエチル)−1−ピペラジニル]エタンスルホン酸、20 mMトリス(ヒドロキシメチル)アミノメタンを含む緩衝液、pH 7.4)で1回洗浄後、試験化合物を含む緩衝液を1穴あたり250μl加えた。試験化合物は、ジメチルスルフォキシド(DMSO)に溶解し、緩衝液に添加した(DMSOの終濃度0.5%)。また、対照用として、DMSOのみを含む緩衝液を、SGLT非特異的な取り込み量測定用として、SGLT阻害物質フロリジン(終濃度100μM)を含む緩衝液を、それぞれ同様に調製し、同じく1穴あたり250μlずつ添加した。37℃で10分間静置後、α−MGと(U−14C)−α−MG(α−MGの終濃度0.5 mM)を含む緩衝液を、1穴あたり50μlずつ加え、さらに37℃で2時間静置した。次に、細胞に添加した緩衝液を全て除去し、氷冷したリン酸緩衝液を1穴あたり400μlずつ加え、直ちに除去した。この洗浄操作を、さらに2回繰り返し行った。その後、0.3 N NaOHを1穴あたり300μlずつ加え、細胞を可溶化し、可溶化液中の放射活性を液体シンチレーションカウンターで測定した。結果は、蛋白濃度で補正した。対照の取り込みからSGLT非特異的な取り込みを差し引いた値を100%とし、各試験化合物がそれを50%阻害する濃度(IC50値)を、プロビット法(ロジスティックモデル)によって求めた。
(3)結果
結果は下表のとおりである。
Test Example 1 Human SGLT2 Inhibitory Action Confirmation Test (1) Test Compound The compound described in the above Production Example was used.
(2) Test method
Human SGLT2 stably expressing CHOK1 cells were seeded in a 24-well plate at 40 × 10 4 cells / well. After culturing in Ham's F-12 medium containing 10% fetal bovine serum, 50 IU / ml penicillin, 50 μg / ml streptomycin, 400 μg / ml geneticin for 2 days at 37 ° C. in the presence of 5% CO 2 , methyl-α- D-glucopyranoside (α-MG) uptake experiment was conducted. Remove the medium and buffer (137 mM sodium chloride, 5 mM potassium chloride, 1 mM calcium chloride, 1 mM magnesium chloride, 50 mM 2- [4- (2-hydroxyethyl) -1-piperazinyl] ethanesulfonic acid, After washing once with a buffer containing 20 mM tris (hydroxymethyl) aminomethane, pH 7.4), 250 μl of a buffer containing the test compound was added per well. The test compound was dissolved in dimethyl sulfoxide (DMSO) and added to the buffer (final DMSO concentration 0.5%). In addition, a buffer containing only DMSO was prepared as a control, and a buffer containing the SGLT inhibitor phlorizin (final concentration 100 μM) was prepared in the same way for measuring non-SGLT uptake. 250 μl was added. After leaving at 37 ° C. for 10 minutes, a buffer solution containing α-MG and (U- 14C ) -α-MG (final concentration of α-MG 0.5 mM) was added at 50 μl per well, and further at 37 ° C. Let stand for 2 hours. Next, all the buffer solution added to the cells was removed, and 400 μl of ice-cold phosphate buffer was added per well and immediately removed. This washing operation was repeated two more times. Thereafter, 300 μl per well of 0.3 N NaOH was added to solubilize the cells, and the radioactivity in the solubilized solution was measured with a liquid scintillation counter. Results were corrected with protein concentration. The value obtained by subtracting SGLT non-specific uptake from control uptake was taken as 100%, and the concentration at which each test compound inhibited it by 50% (IC 50 value) was determined by the probit method (logistic model).
(3) Results The results are as shown in the table below.
(1)被験化合物
前記製造例記載化合物を用いた。
(2)実験方法
6週齢の雄性SDラットを2日間代謝ケージで予備飼育後、実験に用いた。被験化合物(30 mg/kg)は、0.2%Tween80を含む0.2%カルボキシメチルセルロース(CMC)溶液に懸濁し、10 ml/kg宛経口投与した。対照群には、溶媒(0.2%Tween80を含む0.2%CMC溶液)のみを経口投与した。1群あたりの匹数は3匹とした。投与直後から代謝ケージにて24時間尿を採集し、グルコース脱水素酵素法にて、尿中のグルコース濃度を測定した。尿量と尿中グルコース濃度から、1日あたりの尿糖排泄量を算出した。
(3)結果
結果は下表のとおりである。なお、1日あたりの尿糖排泄量(mg)は、下式で定義されるAまたはBで表した。
(2) Experimental method
Six-week-old male SD rats were preliminarily raised in metabolic cages for 2 days and then used for experiments. The test compound (30 mg / kg) was suspended in a 0.2% carboxymethyl cellulose (CMC) solution containing 0.2% Tween 80 and orally administered to 10 ml / kg. In the control group, only the solvent (0.2% CMC solution containing 0.2% Tween 80) was orally administered. The number of animals per group was three. Immediately after administration, urine was collected for 24 hours in a metabolic cage, and the glucose concentration in urine was measured by the glucose dehydrogenase method. The amount of urinary glucose excretion per day was calculated from the urine volume and urine glucose concentration.
(3) Results The results are as shown in the table below. The urinary glucose excretion amount (mg) per day was expressed as A or B defined by the following formula.
A≧2400>B≧2000(mg) A ≧ 2400> B ≧ 2000 (mg)
本発明の有効成分である式(A)で示される化合物、その薬理的に許容しうる塩、または、SGLT阻害作用を有し、血糖降下作用を奏する。このため、本発明の医薬組成物は、血糖降下剤として、あるいは、糖尿病、糖尿病合併症(糖尿病性腎症、糖尿病性網膜症、糖尿病性神経症など)、肥満症、過血糖等の予防・治療剤として有用である。 The compound represented by the formula (A), which is an active ingredient of the present invention, a pharmacologically acceptable salt thereof, or has an SGLT inhibitory action and exhibits a hypoglycemic action. Therefore, the pharmaceutical composition of the present invention can be used as a hypoglycemic agent, or for the prevention / prevention of diabetes, diabetic complications (diabetic nephropathy, diabetic retinopathy, diabetic neuropathy, etc.), obesity, hyperglycemia, etc. It is useful as a therapeutic agent.
Claims (24)
(式中、環A及び環Bは、それぞれ独立に、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環、置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環、または置換されていてもよいベンゼン環、
Xは炭素または窒素、
Yは、−(CH2)n−(ここで、nは1または2である)、
Zは、
であり、
ここにおいて、
(1)環Aが置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環のとき、Yは当該二環縮合不飽和へテロ環のうちのXを含む一方の環に結合し、Zは
であり;
(2)環Aと環Bが置換されていてもよいベンゼン環であるとき、Zは
である。)
で示される化合物、またはその医薬的に許容しうる塩を有効成分としてなる医薬組成物。 Formula (A):
(In the formula, ring A and ring B are each independently an optionally substituted monocyclic unsaturated heterocycle, an optionally substituted bicyclic fused unsaturated heterocycle, or an optionally substituted benzene. ring,
X is carbon or nitrogen,
Y is — (CH 2 ) n — (where n is 1 or 2),
Z is
And
put it here,
(1) When ring A is an optionally substituted bicyclic fused unsaturated heterocycle, Y is bonded to one of the bicyclic fused unsaturated heterocycles containing X, and Z is
Is;
(2) When ring A and ring B are optionally substituted benzene rings, Z is
It is. )
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient.
である請求項1記載の医薬組成物。 Ring A is an optionally substituted monocyclic unsaturated heterocycle, and Z is
The pharmaceutical composition according to claim 1.
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、及びオキソ;
環Bが、それぞれ以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環、二環縮合不飽和へテロ環、またはベンゼン環:
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン、及びアルケニレン;
ここにおいて、上記環Aおよび環Bの置換基はさらに以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい:
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル;
(2)環Aが以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよいベンゼン環:
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン及びアルケニレン;
環Bが、それぞれ以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環不飽和へテロ環であり:
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン及びオキソ;
ここにおいて、上記の環Aおよび環Bの置換基は、以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい:
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル;あるいは、
(3)環Aが以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい二環不飽和へテロ環であり:
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、及びオキソ;
環Bが選ばれる1−3の置換基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環、二環縮合不飽和ヘテロ環またはベンゼン環:
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびオキソ;
ここにおいて、これら環Aおよび環Bの置換はさらにハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシ、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから独立して選ばれる1−3の置換基で置換されていてもよい;
である、請求項1記載の医薬組成物。 (1) A ring A is a monocyclic unsaturated heterocycle optionally substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Halogen, hydroxy, cyano, nitro, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, alkoxy, alkanoyl, alkylthio, alkylsulfonyl, alkylsulfinyl, amino, mono- or di-alkylamino, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl Carboxyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, alkylsulfonylamino, phenyl, phenoxy, phenylsulfonylamino, phenylsulfonyl, heterocyclyl, and oxo;
Ring B may each be substituted with 1-3 groups selected from the following groups, monocyclic unsaturated heterocycles, bicyclic fused unsaturated heterocycles, or benzene rings:
Halogen, hydroxy, cyano, nitro, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, alkoxy, alkanoyl, alkylthio, alkylsulfonyl, alkylsulfinyl, amino, mono- or di-alkylamino, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl Carboxyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, alkylsulfonylamino, phenyl, phenoxy, phenylsulfonylamino, phenylsulfonyl, heterocyclyl, alkylene, and alkenylene;
Here, the substituents of the ring A and the ring B may be further substituted with a group 1-3 selected from the following group:
Halogen, cyano, alkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkanoyl, mono- or di-alkylamino, carboxyl, hydroxy, phenyl, alkylenedioxy, alkyleneoxy, alkoxycarbonyl, carbamoyl, and mono- or di-alkylcarbamoyl;
(2) The benzene ring in which ring A may be substituted with 1-3 group selected from the following group:
Halogen, hydroxy, cyano, nitro, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, alkoxy, alkanoyl, alkylthio, alkylsulfonyl, alkylsulfinyl, amino, mono- or di-alkylamino, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl Carboxyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, alkylsulfonylamino, phenyl, phenoxy, phenylsulfonylamino, phenylsulfonyl, heterocyclyl, alkylene and alkenylene;
Ring B is a monocyclic unsaturated heterocycle or bicyclic unsaturated heterocycle, each optionally substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Halogen, hydroxy, cyano, nitro, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, alkoxy, alkanoyl, alkylthio, alkylsulfonyl, alkylsulfinyl, amino, mono- or di-alkylamino, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl Carboxyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, alkylsulfonylamino, phenyl, phenoxy, phenylsulfonylamino, phenylsulfonyl, heterocyclyl, alkylene and oxo;
Here, the substituents of the above ring A and ring B may be substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Halogen, cyano, alkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkanoyl, mono- or di-alkylamino, carboxyl, hydroxy, phenyl, alkylenedioxy, alkyleneoxy, alkoxycarbonyl, carbamoyl, and mono- or di-alkylcarbamoyl; Or
(3) A ring A is a bicyclic unsaturated hetero ring optionally substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Halogen, hydroxy, cyano, nitro, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, alkoxy, alkanoyl, alkylthio, alkylsulfonyl, alkylsulfinyl, amino, mono- or di-alkylamino, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl Carboxyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, alkylsulfonylamino, phenyl, phenoxy, phenylsulfonylamino, phenylsulfonyl, heterocyclyl, and oxo;
Monocyclic unsaturated heterocycle, bicyclic fused unsaturated heterocycle or benzene ring optionally substituted with 1-3 substituents wherein ring B is selected:
Halogen, hydroxy, cyano, nitro, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, alkoxy, alkanoyl, alkylthio, alkylsulfonyl, alkylsulfinyl, amino, mono- or di-alkylamino, sulfamoyl, mono- or di-alkylsulfamoyl , Carboxy, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di-alkylcarbamoyl, alkylsulfonylamino, phenyl, phenoxy, phenylsulfonylamino, phenylsulfonyl, heterocyclyl, alkylene and oxo;
Here, the substitution of ring A and ring B is further halogen, cyano, alkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkanoyl, mono- or di-alkylamino, carboxy, hydroxy, phenyl, alkylenedioxy, alkyleneoxy, alkoxy Optionally substituted with 1-3 substituents independently selected from carbonyl, carbamoyl and mono- or di-alkylcarbamoyl;
The pharmaceutical composition according to claim 1, wherein
(2)環Aが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、または低級アルケニレンで置換されていてもよいベンゼン環であり、 環Bが、(a)ハロゲン;シアノ;低級アルキル;ハロ低級アルキル;フェニル低級アルキル;低級アルコキシ;ハロ低級アルコキシ;モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイルまたはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル;および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、または(b)ハロゲン;シアノ;低級アルキル;ハロ低級アルキル;フェニル低級アルキル;低級アルコキシ;ハロ低級アルコキシ;モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル;および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であるか;あるいは
(3)環Aが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であり、 環Bが、(a)ハロゲン;シアノ;低級アルキル;ハロ低級アルキル;低級アルコキシ;ハロ低級アルコキシ;モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル;および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよいベンゼン環、(b)ハロゲン;シアノ;低級アルキル;ハロ低級アルキル;低級アルコキシ;ハロ低級アルコキシ;モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル;および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、あるいは(c)ハロゲン;シアノ;低級アルキル;ハロ低級アルキル;低級アルコキシ;ハロ低級アルコキシ;モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル;および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環である、請求項1記載の医薬組成物。 (1) Ring A is a monocyclic unsaturated heterocycle optionally substituted with halogen, lower alkyl, halolower alkyl, lower alkoxy, or oxo, and ring B is (a) halogen; cyano; Alkyl; halo lower alkyl; lower alkoxy; halo lower alkoxy; mono- or di-alkylamino; optionally substituted by halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or mono- or di-lower alkylamino Good phenyl; and a benzene ring optionally substituted with a group selected from halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or heterocyclyl optionally substituted with mono- or di-lower alkylamino Or (b) halogen; cyano; lower alkyl; halo lower alkyl Lower alkoxy; halo lower alkoxy; mono- or di-alkylamino; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, phenyl optionally substituted with mono- or di-lower alkylamino; and halogen; A monocyclic unsaturated heterocycle optionally substituted with a group selected from cyano, lower alkyl, halolower alkyl, lower alkoxy, heterocyclyl optionally substituted with mono- or di-alkylamino, or ( c) halogen; cyano; lower alkyl; halo lower alkyl; lower alkoxy; halo lower alkoxy; mono- or di-lower alkylamino; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or mono- or di-lower. Substituted with alkylamino Optionally substituted phenyl; and optionally substituted with a group selected from halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or heterocyclyl optionally substituted with mono- or di-lower alkylamino Is a ring-fused unsaturated heterocycle;
(2) Ring A is a benzene ring optionally substituted with halogen, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, phenyl, or lower alkenylene, and ring B is (a) halogen; cyano; lower alkyl; Halo lower alkyl; phenyl lower alkyl; lower alkoxy; halo lower alkoxy; mono- or di-lower alkylamino; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, halo lower alkoxy, mono- or di-alkylamino, Phenyl optionally substituted with carbamoyl or mono- or di-lower alkylcarbamoyl; and halogen, cyano, lower alkyl, halolower alkyl, lower alkoxy, halolower alkoxy, mono- or di-lower alkylamino, carbamoyl, Also A monocyclic unsaturated heterocycle optionally substituted with a group selected from heterocyclyl optionally substituted with mono- or di-lower alkylcarbamoyl, or (b) halogen; cyano; lower alkyl; halolower alkyl; Phenyl lower alkyl; lower alkoxy; halo lower alkoxy; mono- or di-lower alkylamino; phenyl optionally substituted with halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or mono- or di-alkylamino And to a bicyclic fused unsaturated group optionally substituted with a group selected from halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, heterocyclyl optionally substituted with mono- or di-lower alkylamino; Is a terror ring; or (3) Ring A is A bicyclic fused-unsaturated heterocycle optionally substituted with a logene, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or oxo, wherein ring B is (a) halogen; cyano; lower alkyl; halo lower alkyl; Lower alkoxy; halo lower alkoxy; mono- or di-lower alkylamino; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or phenyl optionally substituted with mono- or di-alkylamino; and halogen A benzene ring optionally substituted with a group selected from heterocyclyl optionally substituted with cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or mono- or di-lower alkylamino, (b) halogen; Lower alkyl; halo lower alkyl; lower alkoxy; Mono- or di-lower alkylamino; halogen, cyano, lower alkyl, halo-lower alkyl, lower alkoxy, or phenyl optionally substituted with mono- or di-lower alkylamino; and halogen, cyano A monocyclic unsaturated heterocycle optionally substituted with a group selected from heterocyclyl optionally substituted with lower alkyl, halolower alkyl, lower alkoxy, mono- or di-lower alkylamino, or (c) Halo; cyano; lower alkyl; halo lower alkyl; lower alkoxy; halo lower alkoxy; mono- or di-lower alkylamino; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or mono- or di-alkylamino Optionally substituted And bicyclic fused unsaturated groups optionally substituted with a group selected from halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, heterocyclyl optionally substituted with mono- or di-lower alkylamino The pharmaceutical composition according to claim 1, which is a heterocycle.
ハロゲン;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;フェニル;および低級アルキレン;
環Bが、それぞれ以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であり:
ハロゲン;ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリル;およびオキソ;
(2)環Aが以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環:
ハロゲン;低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;およびオキソ;
環Bが、以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよいベンゼン環であり:
ハロゲン;ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル;および低級アルキレン;
(3)環Aが以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環:
ハロゲン;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;およびオキソ;
環Bが、それぞれ以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であり:
ハロゲン;ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル;およびオキソ;
(4)環Aが以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環:
ハロゲン;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;およびオキソ;
環Bが、それぞれ以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい、ベンゼン環または単環不飽和へテロ環:
ハロゲン;ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル;および低級アルキレン;或いは、
(5)環Aが以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環:
ハロゲン;低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;およびオキソ;
環Bが、それぞれ以下の群から選ばれる1−3の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環:
ハロゲン;ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル;ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ;シクロアルキル;シクロアルコキシ;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル;およびオキソ;
である、請求項1記載の医薬組成物。 (1) The benzene ring in which ring A may be substituted with 1-3 group selected from the following group:
Lower alkyl optionally substituted with halogen or lower alkoxy; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; phenyl; and lower alkylene;
Ring B is a monocyclic unsaturated heterocycle or bicyclic fused unsaturated heterocycle, each optionally substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Halogen; lower alkyl optionally substituted with halogen, lower alkoxy or phenyl; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower Phenyl optionally substituted with alkoxy, halo lower alkoxy, mono- or di-lower alkylamino, carbamoyl, or mono- or di-lower alkylcarbamoyl; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, halo Heterocyclyl optionally substituted with lower alkoxy, mono- or di-lower alkylamino, carbamoyl, or mono- or di-lower alkylcarbamoyl; and oxo;
(2) Monocyclic unsaturated heterocyclic ring in which ring A may be substituted with 1-3 group selected from the following group:
Lower alkyl optionally substituted by lower alkoxy; lower alkoxy optionally substituted by halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; and oxo;
Ring B is a benzene ring optionally substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Halogen; lower alkyl optionally substituted with halogen, lower alkoxy or phenyl; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower Phenyl optionally substituted with alkoxy, or halo-lower alkoxy; heterocyclyl optionally substituted with halogen, cyano, lower alkyl, halo-lower alkyl, lower alkoxy, or halo-lower alkoxy; and lower alkylene;
(3) Monocyclic unsaturated heterocyclic ring in which ring A may be substituted with 1-3 group selected from the following group:
Lower alkyl optionally substituted with halogen or lower alkoxy; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; and oxo;
Ring B is a monocyclic unsaturated heterocycle or bicyclic fused unsaturated heterocycle, each optionally substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Halogen; lower alkyl optionally substituted with halogen, lower alkoxy or phenyl; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower Phenyl optionally substituted with alkoxy, or halo lower alkoxy; heterocyclyl optionally substituted with halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or halo lower alkoxy; and oxo;
(4) Bicyclic fused unsaturated heterocyclic ring optionally substituted with 1-3 groups selected from the following group:
Lower alkyl optionally substituted with halogen or lower alkoxy; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; and oxo;
A benzene ring or a monounsaturated heterocycle, wherein ring B may be substituted with 1-3 groups each selected from the following group:
Halogen; lower alkyl optionally substituted with halogen, lower alkoxy or phenyl; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower Phenyl optionally substituted with alkoxy, or halo lower alkoxy; heterocyclyl optionally substituted with halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or halo lower alkoxy; and lower alkylene; or
(5) Monocyclic unsaturated heterocyclic ring in which ring A may be substituted with 1-3 group selected from the following group:
Lower alkyl optionally substituted by lower alkoxy; lower alkoxy optionally substituted by halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; and oxo;
Ring B may be substituted with 1-3 groups each selected from the following groups, monocyclic unsaturated heterocycle or bicyclic fused unsaturated heterocycle:
Halogen; lower alkyl optionally substituted with halogen, lower alkoxy or phenyl; lower alkoxy optionally substituted with halogen or lower alkoxy; cycloalkyl; cycloalkoxy; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower Phenyl optionally substituted with alkoxy, or halo lower alkoxy; heterocyclyl optionally substituted with halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or halo lower alkoxy; and oxo;
The pharmaceutical composition according to claim 1, wherein
(式中、R1a、R2a、R3a、R1b、R2b、およびR3bは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、フェニル、フェニルアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、またはフェニルスルホニルを表す。)
であり、環Bが、
(式中、R4aおよびR5aは、それぞれ独立して、水素;ハロゲン;ヒドロキシ;アルコキシ;アルキル;ハロアルキル;ハロアルコキシ;ヒドロキシアルキル;アルコキシアルキル;フェニルアルキル;アルコキシアルコキシ;ヒドロキシアルコキシ;アルケニル;アルキニル;シクロアルキル;シクロアルケニル;シクロアルキルオキシ;フェニルオキシ;フェニルアルコキシ;シアノ;ニトロ;アミノ;モノ−もしくはジ−アルキルアミノ;アルカノイルアミノ;カルボキシル;アルコキシカルボニル;カルバモイル;モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル;アルカノイル;アルキルスルホニルアミノ;フェニルスルホニルアミノ;アルキルスルフィニル;アルキルスルホニル;フェニルスルホニル;ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいフェニル;またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、あるいはR4aおよびR5aは、互いに末端で結合してアルキレンを形成し;
R4b、R5b、R4cおよびR5cは、それぞれ独立して、水素;ハロゲン;ヒドロキシル;アルコキシ;アルキル;ハロアルキル;ハロアルコキシ;ヒドロキシアルキル;アルコキシアルキル;フェニルアルキル;アルコキシアルコキシ;ヒドロキシアルコキシ;アルケニル;アルキニル;シクロアルキル;シクロアルケニル;シクロアルキルオキシ;フェニルオキシ;フェニルアルコキシ;シアノ;ニトロ;アミノ;モノ−もしくはジ−アルキルアミノ;アルカノイルアミノ;カルボキシル;アルコキシカルボニル;カルバモイル;モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル;アルカノイル;アルキルスルホニルアミノ;フェニルスルホニルアミノ;アルキルスルフィニル;アルキルスルホニル;フェニルスルホニル;ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、およびモノ−もしくはジ−アルキルアミノから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいフェニル;またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシおよびハロアルコキシから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいヘテロシクリルを表す。)
であり、Zが
である、請求項1記載の医薬組成物。 Ring A is
(Wherein R 1a , R 2a , R 3a , R 1b , R 2b , and R 3b are each independently hydrogen, halogen, hydroxyl, alkoxy, alkyl, haloalkyl, haloalkoxy, hydroxyalkyl, alkoxyalkyl, Alkoxyalkoxy, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, cycloalkyloxy, phenyl, phenylalkoxy, cyano, nitro, amino, mono- or di-alkylamino, alkanoylamino, carboxyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, mono- or di -Represents alkylcarbamoyl, alkanoyl, alkylsulfonylamino, phenylsulfonylamino, alkylsulfinyl, alkylsulfonyl or phenylsulfonyl.
And ring B is
(Wherein R 4a and R 5a are each independently hydrogen; halogen; hydroxy; alkoxy; alkyl; haloalkyl; haloalkoxy; hydroxyalkyl; alkoxyalkyl; phenylalkyl; alkoxyalkoxy; hydroxyalkoxy; alkenyl; alkynyl; Cycloalkenyl; Cycloalkenyl; Cycloalkyloxy; Phenyloxy; Phenylalkoxy; Cyano; Nitro; Amino; Mono- or Di-alkylamino; Alkanoylamino; Carboxyl; Alkylsulfonylamino; phenylsulfonylamino; alkylsulfinyl; alkylsulfonyl; phenylsulfonyl; halogen, cyano, alkyl, Phenyl optionally substituted with 1-3 groups selected from loalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkylenedioxy, alkyleneoxy, mono- or di-alkylamino, carbamoyl, and mono- or di-alkylcarbamoyl; or R 4a and R 5a are heterocyclyl optionally substituted with 1-3 groups selected from halogen, cyano, alkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, carbamoyl and mono- or di-alkylcarbamoyl, Bonded to each other terminally to form an alkylene;
R 4b , R 5b , R 4c and R 5c are each independently hydrogen; halogen; hydroxyl; alkoxy; alkyl; haloalkyl; haloalkoxy; hydroxyalkyl; alkoxyalkyl; phenylalkyl; Cycloalkenyl; Cycloalkoxy; Phenyloxy; Phenylalkoxy; Cyano; Nitro; Amino; Mono- or Di-alkylamino; Alkanoylamino; Carboxyl; Alkoxycarbonyl; Carbamoyl; Mono- or Di-alkylcarbamoyl; Alkylsulfonylamino; phenylsulfonylamino; alkylsulfinyl; alkylsulfonyl; phenylsulfonyl; halogen, cyano, a Phenyl optionally substituted with 1-3 groups selected from: kill, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkylenedioxy, alkyleneoxy, and mono- or di-alkylamino; or halogen, cyano, alkyl, haloalkyl, It represents a heterocyclyl optionally substituted with 1-3 groups selected from alkoxy and haloalkoxy. )
And Z is
The pharmaceutical composition according to claim 1, wherein
R4aおよびR5aが、それぞれ独立して、水素;ハロゲン;低級アルキル;ハロ低級アルキル;フェニル低級アルキル;ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいフェニル;または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、またはR4aおよびR5aが互いに末端で結合して低級アルキレンを形成し;
R4b、R5b、R4cおよびR5cが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシである、請求項7記載の医薬組成物。 R 1a , R 2a , R 3a , R 1b , R 2b , and R 3b are each independently hydrogen, halogen, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or phenyl;
R 4a and R 5a are each independently hydrogen; halogen; lower alkyl; halo lower alkyl; phenyl lower alkyl; halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, halo lower alkoxy, methylenedioxy, ethylene Phenyl optionally substituted by 1-3 groups selected from oxy, mono- or di-lower alkylamino, carbamoyl and mono- or di-lower alkylcarbamoyl; or halogen, cyano, lower alkyl, halolower alkyl , Lower alkoxy, halo lower alkoxy, mono- or di-lower alkylamino, carbamoyl, and heterocyclyl optionally substituted with 1-3 groups selected from mono- or di-lower alkylcarbamoyl, or R another 4a and R 5a is And combine with each other to form a lower alkylene;
The pharmaceutical composition according to claim 7, wherein R 4b , R 5b , R 4c and R 5c are each independently hydrogen, halogen, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy or halo lower alkoxy.
であり、R1aがハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、R2aおよびR3aが水素であり;環Bが、
であり、
R4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいフェニル;またはハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる1−3の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、
R5aが水素であるか、
またはR4aおよびR5aが互いに末端で結合してアルキレンを形成している、請求項8記載の医薬組成物。 Ring A is
R 1a is halogen, lower alkyl, or lower alkoxy, R 2a and R 3a are hydrogen; ring B is
And
R 4a is from halogen, cyano, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, halo lower alkoxy, methylenedioxy, ethyleneoxy, mono- or di-lower alkylamino, carbamoyl, and mono- or di-lower alkylcarbamoyl. Phenyl optionally substituted with 1-3 groups selected; or selected from halogen, cyano, lower alkyl, lower alkoxy, mono- or di-lower alkylamino, carbamoyl, or mono- or di-lower alkylcarbamoyl A heterocyclyl optionally substituted with 1-3 groups;
Whether R 5a is hydrogen,
9. The pharmaceutical composition according to claim 8, wherein R 4a and R 5a are bonded to each other at an end to form an alkylene.
であり、R1aが、ハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、R2aおよびR3aが水素であり;環Bが
であり、R4bおよびR5bがそれぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシである、請求項7記載の医薬組成物。 Ring A is
R 1a is halogen, lower alkyl, or lower alkoxy, R 2a and R 3a are hydrogen; ring B is
8. The pharmaceutical composition according to claim 7, wherein R 4b and R 5b are each independently hydrogen, halogen, lower alkyl, halo lower alkyl, lower alkoxy, or halo lower alkoxy.
であり、R6が水素、ハロゲンまたはアルキルであり、環Bが
であり、R7aとR7bは、互いに独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、ハロピリジル、チエニル、またはハロチエニルであるか、あるいはR7aとR7bは、結合している炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環または縮合ジヒドロフラン環を形成し、YがCH2である、請求項1記載の医薬組成物。 Ring A is
R 6 is hydrogen, halogen or alkyl, and ring B is
R 7a and R 7b are independently of each other hydrogen, halogen, alkyl, cycloalkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkylthio, hydroxy, phenyl, halophenyl, cyanophenyl, pyridyl, halopyridyl, thienyl, or halothienyl. Or R 7a and R 7b together with the carbon atoms to which they are bonded form a fused benzene ring, fused furan ring or fused dihydrofuran ring, wherein Y is CH 2 . .
であり、R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、またはハロピリジルであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環、または縮合ジヒドロフラン環を形成する、請求項15記載の医薬組成物。 R 6 is halogen and Z is
R 7a and R 7b are independently hydrogen, halogen, alkyl, cycloalkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, alkylthio, phenyl, halophenyl, cyanophenyl, pyridyl, or halopyridyl, or R 7a and R 7b The pharmaceutical composition according to claim 15, which forms a condensed benzene ring, a condensed furan ring, or a condensed dihydrofuran ring together with the carbon atom to which 7b is bonded.
であり、R7aがハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオである、請求項16記載の医薬組成物。 R 6 is halogen and ring B is
17. The pharmaceutical composition according to claim 16, wherein R 7a is halogen, alkyl, cycloalkyl, haloalkyl, alkoxy, haloalkoxy, or alkylthio.
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|---|---|---|---|---|
| JP2014516038A (en) * | 2011-05-20 | 2014-07-07 | ヤンセン ファーマシューティカ エヌ.ベー. | Process for the preparation of compounds useful as inhibitors of SGLT-2 |
| US9522931B2 (en) | 2011-05-20 | 2016-12-20 | Janssen Pharmaceutica Nv | Process for the preparation of compounds useful as inhibitors of SGLT-2 |
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