JP2009229687A - Wet type image forming apparatus and wet type image forming method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、アモルファスシリコン感光体を備えた湿式画像形成装置およびそれを用いた湿式画像形成方法に関し、特に、所定の研磨装置を備え、フィルミングが少ないアモルファスシリコン感光体を備えた湿式画像形成装置およびそれを用いた湿式画像形成方法に関する。 The present invention relates to a wet image forming apparatus including an amorphous silicon photoconductor and a wet image forming method using the same, and more particularly to a wet image forming apparatus including a predetermined polishing apparatus and an amorphous silicon photoconductor with little filming. And a wet image forming method using the same.
アモルファスシリコン感光体を備えた湿式画像形成装置においては、現像装置として、液体現像装置が搭載されており、アモルファスシリコン感光体上に形成された静電潜像を、この液体現像装置から供給される液体現像剤によって現像する。
この際、連続的に現像を行った場合、アモルファスシリコン感光体に対するトナーのフィルミングが大きな問題となる。
すなわち、トナーを構成する樹脂等の一部が剥離して、アモルファスシリコン感光体の表面に付着し、それが原因して、画像特性が著しく低下するという問題が見られた。
In a wet image forming apparatus provided with an amorphous silicon photoconductor, a liquid developing device is mounted as a developing device, and an electrostatic latent image formed on the amorphous silicon photoconductor is supplied from the liquid developing device. Develop with liquid developer.
At this time, when the development is continuously performed, filming of the toner with respect to the amorphous silicon photosensitive member becomes a big problem.
That is, there has been a problem that a part of the resin constituting the toner is peeled off and adheres to the surface of the amorphous silicon photosensitive member, and as a result, the image characteristics are remarkably deteriorated.
しかしながら、アモルファスシリコン感光体を備えた湿式画像形成装置において、適当な研磨装置は未だ存在しないという状態である。
すなわち、湿式画像形成装置においては、アモルファスシリコン感光体の表面が、現像剤に含まれる非水溶性溶剤で、部分的に覆われているという特殊性があるものの、アモルファスシリコン感光体の表面を過度に研磨した場合、非水溶性溶剤の塗膜剥離が生じやすいのはもちろんのこと、アモルファスシリコン感光体の表面まで損傷しやすいという問題が見られた。
However, in a wet image forming apparatus provided with an amorphous silicon photoreceptor, there is no suitable polishing apparatus yet.
That is, in the wet image forming apparatus, although the surface of the amorphous silicon photoconductor is peculiarly covered with the non-water-soluble solvent contained in the developer, the surface of the amorphous silicon photoconductor is excessive. In the case of polishing, it was found that the surface of the amorphous silicon photosensitive member was easily damaged as well as the coating of the water-insoluble solvent was easily peeled off.
一方、乾式画像形成装置においては、湿式画像形成装置とは異なり、現像剤に含まれる非水溶性溶剤で、常時覆われているという特殊性がないことより、以下のような研磨装置が提案されている。
まず、感光体の表面の残留トナーを除去するためのクリーニングブレードを備えた電子写真装置において、クリーニングブレードを補助するためのクリーニング手段として、研磨粒子を含む導電性ポリウレタン塗膜を備えたクリーニングローラーをさらに設けることが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
より具体的には、ローラー芯金の外周に、硬度が10〜40、体積抵抗率が1×105〜1×109Ω・cmであるポリウレタンエラストマーからなる導電性のローラー基材を設け、さらにその外表面に、研磨粒子として、シリカやアルミナを含む導電性ポリウレタン塗膜が形成してあるクリーニングローラーである。
On the other hand, the dry type image forming apparatus, unlike the wet type image forming apparatus, has been proposed the following polishing apparatus because there is no particularity that it is always covered with a water-insoluble solvent contained in the developer. ing.
First, in an electrophotographic apparatus provided with a cleaning blade for removing residual toner on the surface of the photoreceptor, a cleaning roller provided with a conductive polyurethane coating film containing abrasive particles is used as a cleaning means for assisting the cleaning blade. Providing further is proposed (for example, refer to Patent Document 1).
More specifically, a conductive roller base material made of a polyurethane elastomer having a hardness of 10 to 40 and a volume resistivity of 1 × 10 5 to 1 × 10 9 Ω · cm is provided on the outer periphery of the roller metal core, Further, the cleaning roller has a conductive polyurethane coating film containing silica or alumina as abrasive particles formed on the outer surface thereof.
また、アモルファスシリコン感光体を用いた場合であっても、画像流れが発生しないように、所定の研磨手段を備えた画像形成装置が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
より具体的には、図5に示すように、アモルファスシリコン感光体402の外表面に、電荷を付与する帯電手段403と、感光体に光照射する露光手段404と、静電潜像に対してトナー像を感光体表面に形成する現像手段405と、トナー像を被転写材に転写する転写手段408と、感光体表面の残留トナーを除去するクリーニング手段409と、残余静電潜像を除去する除電手段410と、研磨手段412と、を配設して成り、且つ研磨手段412による感光体402の1回転当たりの表面研磨速度が0.0001〜0.05Å/回転である画像形成装置401であって、モース硬度が11を超え且つ粒度がJIS−R−6001の規格による#800以上である研磨粒子を含む研磨手段412を配設することが提案されている(例えば、特許文献2参照)。
In addition, an image forming apparatus provided with a predetermined polishing means has been proposed so that image flow does not occur even when an amorphous silicon photoconductor is used (see, for example, Patent Document 2).
More specifically, as shown in FIG. 5, a
また、研磨ローラーに研磨テープを巻回させた研磨装置を用いてアモルファスシリコン感光体の表面を研磨する際に、研磨むらを抑制する研磨テープが提案されている(例えば、特許文献3参照)。
より具体的には、図6に示すように、原子間力顕微鏡による10μm×10μmの視野で測定される算術平均粗さを(Ra)とし、少なくとも2本の研磨ローラー530に巻回させた連続の研摩テープ531を加圧当接させながら給送し、感光体500の最表面を算術平均粗さ(Ra)で25nm以下に研磨する方法において、感光体500を保持機構520により保持回転させ、連続の研磨テープ531をアモルファスシリコン感光体500の表面に少なくとも2本の研磨ローラー530により加圧当接させながら給送し、アモルファスシリコン感光体500の最表面を研磨するためのSiC、Al2O3、Fe2O3等を含む研磨テープ531が提案されている。
More specifically, as shown in FIG. 6, the arithmetic average roughness measured in the field of view of 10 μm × 10 μm by an atomic force microscope is (Ra), and is continuously wound around at least two
しかしながら、特許文献1〜3に開示された研磨手段や研磨テープでは、アモルファスシリコン感光体を備えた湿式画像形成装置に用いた場合、アモルファスシリコン感光体を過度に研磨してしまい、時間とともに、画像特性が低下しやすいという問題が見られた。
すなわち、湿式画像形成装置においては、上述したように、アモルファスシリコン感光体の表面を過度に研磨した場合、非水溶性溶剤の塗膜剥離が生じやすいのはもちろんのこと、アモルファスシリコン感光体の表面まで損傷しやすくなって、長時間にわたって高品位の画像特性が得られないという問題が見られた。
However, in the polishing means and the polishing tape disclosed in Patent Documents 1 to 3, the amorphous silicon photoconductor is excessively polished when used in a wet image forming apparatus provided with an amorphous silicon photoconductor. There was a problem that the characteristics were likely to deteriorate.
That is, in the wet image forming apparatus, as described above, when the surface of the amorphous silicon photoconductor is excessively polished, the coating of the non-aqueous solvent is likely to occur, and the surface of the amorphous silicon photoconductor There was a problem that high quality image characteristics could not be obtained for a long time.
そこで、本発明者らは鋭意研究した結果、研磨装置の表面に、モース硬度が所定範囲である研磨粒子を含有することにより、長期間にわたってフィルミングの発生を防止できることを見出した。
すなわち、本発明によれば、所定の研磨装置によって、アモルファスシリコン感光体の表面を適度に研磨することにより、長期間にわたってフィルミングの発生を防止し、優れた画像特性が安定的に得られる湿式画像形成装置およびそれを用いた湿式画像形成方法を提供することを目的とする。
Thus, as a result of intensive studies, the present inventors have found that the occurrence of filming can be prevented over a long period of time by containing abrasive particles having a Mohs hardness in a predetermined range on the surface of the polishing apparatus.
That is, according to the present invention, the surface of the amorphous silicon photoconductor is appropriately polished by a predetermined polishing apparatus to prevent filming over a long period of time, and to achieve excellent image characteristics stably. An object of the present invention is to provide an image forming apparatus and a wet image forming method using the same.
本発明によれば、
アモルファスシリコン感光体と、
当該アモルファスシリコン感光体を所定電位に帯電させるための帯電装置と、
アモルファスシリコン感光体に対して、絶縁性液体中にトナーを分散させた液体現像剤を供給する液体現像装置と、を備えた湿式画像形成装置であって、
アモルファスシリコン感光体の表面を研磨するための研磨装置をさらに備えるとともに、
当該研磨装置の表面に、モース硬度が3〜6の範囲である研磨粒子を含有することを特徴とする湿式画像形成装置が提供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、本発明によれば、アモルファスシリコン感光体の表面を適度に研磨することにより、長期間にわたってフィルミングの発生を防止し、優れた画像特性を安定的に得ることができる。
なお、アモルファスシリコン感光体の表面におけるモース硬度は、通常、8〜11の範囲内の値であることが判明している。
According to the present invention,
An amorphous silicon photoreceptor,
A charging device for charging the amorphous silicon photosensitive member to a predetermined potential;
A liquid image development apparatus that supplies a liquid developer in which toner is dispersed in an insulating liquid to an amorphous silicon photoreceptor, and a wet image forming apparatus comprising:
Further equipped with a polishing apparatus for polishing the surface of the amorphous silicon photoreceptor,
There is provided a wet image forming apparatus characterized in that the surface of the polishing apparatus contains abrasive particles having a Mohs hardness in the range of 3 to 6, and the above-described problems can be solved.
In other words, according to the present invention, by appropriately polishing the surface of the amorphous silicon photoreceptor, it is possible to prevent filming over a long period of time and stably obtain excellent image characteristics.
It has been found that the Mohs hardness on the surface of the amorphous silicon photoreceptor is usually a value in the range of 8-11.
また、本発明の湿式画像形成装置を構成するにあたり、研磨装置の表面に、研磨粒子が露出して、存在することが好ましい。
このように構成することにより、比較的少量の研磨粒子によっても、アモルファスシリコン感光体の表面を、効果的に研磨することができる。
Further, in constituting the wet image forming apparatus of the present invention, it is preferable that the abrasive particles are exposed and present on the surface of the polishing apparatus.
With this configuration, the surface of the amorphous silicon photoreceptor can be effectively polished with a relatively small amount of abrasive particles.
また、本発明の湿式画像形成装置を構成するにあたり、研磨装置の表面に、研磨粒子を含有する研磨層を備えることが好ましい。
このように構成することにより、研磨粒子を含有する研磨層が初期不良の場合はもちろんのこと、使用によって、劣化した場合であっても、研磨層のみを容易に交換することができる。
また、このように構成することにより、研磨装置の製造も容易になって、経済的に有利となる。
In configuring the wet image forming apparatus of the present invention, it is preferable to provide a polishing layer containing abrasive particles on the surface of the polishing apparatus.
With this configuration, it is possible to easily replace only the polishing layer even if the polishing layer containing the abrasive particles is deteriorated by use as well as the initial polishing layer.
Moreover, by comprising in this way, manufacture of a grinding | polishing apparatus becomes easy and it becomes economically advantageous.
また、本発明の湿式画像形成装置を構成するにあたり、研磨装置が、基材として、樹脂発泡体を含む弾性ローラーであることが好ましい。
このように構成することにより、アモルファスシリコン感光体に対する押圧力を均一化することができ、アモルファスシリコン感光体の表面をさらに適度に研磨することができる。
Further, in configuring the wet image forming apparatus of the present invention, the polishing apparatus is preferably an elastic roller including a resin foam as a base material.
With this configuration, the pressing force against the amorphous silicon photoconductor can be made uniform, and the surface of the amorphous silicon photoconductor can be polished more appropriately.
また、本発明の湿式画像形成装置を構成するにあたり、研磨粒子が、メラミン樹脂粉末、フッ素樹脂粉末、およびガラスビーズからなる群から選択される少なくとも一つであることが好ましい。
このように構成することにより、比較的少量の研磨粒子によっても、アモルファスシリコン感光体の表面を、効果的に研磨することができる。
また、このような研磨粒子であれば、平均粒径や比重等の調整が容易であるばかりか、安価であって、経済的である。
In configuring the wet image forming apparatus of the present invention, the abrasive particles are preferably at least one selected from the group consisting of melamine resin powder, fluororesin powder, and glass beads.
With this configuration, the surface of the amorphous silicon photoreceptor can be effectively polished with a relatively small amount of abrasive particles.
Such abrasive particles are not only easy to adjust the average particle diameter and specific gravity, but also inexpensive and economical.
また、本発明の湿式画像形成装置を構成するにあたり、研磨粒子の外形を、多面体形状とすることが好ましい。
このように構成することにより、比較的少量の研磨粒子によっても、アモルファスシリコン感光体の表面を、効果的に研磨することができる。
In configuring the wet image forming apparatus of the present invention, it is preferable that the outer shape of the abrasive particles is a polyhedral shape.
With this configuration, the surface of the amorphous silicon photoreceptor can be effectively polished with a relatively small amount of abrasive particles.
また、本発明の湿式画像形成装置を構成するにあたり、研磨粒子の平均粒径を、0.001〜100μmの範囲内の値とすることが好ましい。
このように構成することにより、比較的少量の研磨粒子によっても、アモルファスシリコン感光体の表面を、効果的に研磨することができる。
In configuring the wet image forming apparatus of the present invention, the average particle size of the abrasive particles is preferably set to a value within the range of 0.001 to 100 μm.
With this configuration, the surface of the amorphous silicon photoreceptor can be effectively polished with a relatively small amount of abrasive particles.
また、本発明の湿式画像形成装置を構成するにあたり、研磨粒子の含有量を、研磨装置の全体量に対して、1〜50重量%の範囲内の値とすることが好ましい。
このように構成することにより、アモルファスシリコン感光体の表面を、さらに適度かつ、効果的に研磨することができ、フィルミングを有効に防止することができる。
In configuring the wet image forming apparatus of the present invention, the content of the abrasive particles is preferably set to a value in the range of 1 to 50% by weight with respect to the total amount of the polishing apparatus.
With this configuration, the surface of the amorphous silicon photoconductor can be polished more appropriately and effectively, and filming can be effectively prevented.
また、本発明の別の態様は、
アモルファスシリコン感光体と、
当該アモルファスシリコン感光体を所定電位に帯電させるための帯電装置と、
アモルファスシリコン感光体に対して、絶縁性液体中にトナーを分散させた液体現像剤を供給する液体現像装置と、
アモルファスシリコン感光体の表面を研磨するための研磨装置と、を用いた湿式画像形成方法であって、
表面に、モース硬度が3〜6の範囲である研磨粒子を含有した研磨装置を用いて、アモルファスシリコン感光体の表面を研磨する工程を含むことを特徴とする湿式画像形成方法である。
すなわち、本発明の湿式画像形成方法によれば、所定の研磨装置を用いて、アモルファスシリコン感光体の表面を適度に研磨することにより、長期間にわたってフィルミングの発生を防止し、優れた画像特性を安定的に得ることができる。
Another aspect of the present invention is as follows:
An amorphous silicon photoreceptor,
A charging device for charging the amorphous silicon photosensitive member to a predetermined potential;
A liquid developing device for supplying a liquid developer in which toner is dispersed in an insulating liquid to the amorphous silicon photosensitive member;
A wet image forming method using a polishing apparatus for polishing the surface of an amorphous silicon photoreceptor,
A wet image forming method comprising a step of polishing the surface of an amorphous silicon photoreceptor using a polishing apparatus containing polishing particles having a Mohs hardness in the range of 3 to 6 on the surface.
That is, according to the wet image forming method of the present invention, the surface of the amorphous silicon photoconductor is appropriately polished using a predetermined polishing apparatus, thereby preventing filming over a long period of time and excellent image characteristics. Can be obtained stably.
[第1の実施形態]
本発明の第1の実施形態は、図1に例示するように、
アモルファスシリコン感光体51と、
当該アモルファスシリコン感光体51を所定電位に帯電させるための帯電装置53と、
アモルファスシリコン感光体51に対して、絶縁性液体中にトナーを分散させた液体現像剤11を供給する液体現像装置18と、を備えた湿式画像形成装置10であって、
アモルファスシリコン感光体51の表面を研磨するための研磨装置58をさらに備えている。
そして、図2(a)〜(c)に例示するように、研磨装置58の表面に、モース硬度が3〜6の範囲である研磨粒子58aを含有することを特徴としている。
以下、図3に示すように、カラー画像形成用のタンデム型の湿式画像形成装置(カラープリンタ)150の場合を例にとって、図1に例示する湿式画像形成装置10および図2に示す研磨装置58を具体的に説明する。
[First Embodiment]
The first embodiment of the present invention, as illustrated in FIG.
An
A charging
A wet
A polishing
And as illustrated in FIGS. 2A to 2C, the surface of the polishing
Hereinafter, as shown in FIG. 3, taking as an example the case of a tandem type wet image forming apparatus (color printer) 150 for color image formation, the wet
1.基本構成
図3に示すカラープリンタ150は、画像形成のための様々なユニットや部品が収納される上側本体部150Aと、この上側本体部150Aの下部に配置され、各色用の液体現像剤循環装置LY、LM、LC、LB(混合液体供給システム)が収納される下側本体部150Bと、から構成されている。
そして、上側本体部150Aには、画像データに基づいてトナー画像を形成するタンデム式の画像形成部2と、用紙を収容する用紙収納部3と、画像形成部2で形成されたトナー画像を用紙上に転写する二次転写部4と、転写されたトナー画像を用紙上に定着させる定着部5と、定着の完了した用紙を排紙する排出部6と、用紙収納部3から排出部6まで用紙を搬送する用紙搬送部7と、が含まれている。
1. Basic Configuration A
In the upper
ここで、画像形成部2は、中間転写ベルト21と、この中間転写ベルト21のクリーニング部22と、イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)、ブラック(Bk)の各色にそれぞれ対応した画像形成ユニットFY、FM、FC、及びFBとを備える。
また、中間転写ベルト21は、導電性を有する使用可能な用紙搬送方向に直角な方向の長さが最大の用紙より幅広であって、無端状、すなわちループ状部材であり、図中、時計回りに循環駆動される。
以下、中間転写ベルト21の駆動させた状態において、外側を向く面を表面と称し、反対面を裏面と称する。
Here, the
Further, the
Hereinafter, in a state where the
また、画像形成ユニットFY、FM、FC、及びFBは、中間転写ベルト21の近傍に4つ並べて中間転写ベルト21のクリーニング部22と、二次転写部4との間に配置される。
なお、各画像形成ユニットFY、FM、FC、FBの配置の順番はこの限りではないが、各色の混色による完成画像への影響を配慮すると、この配置が好ましい。
Further, four image forming units FY, FM, FC, and FB are arranged in the vicinity of the
Note that the order of arrangement of the image forming units FY, FM, FC, and FB is not limited to this, but this arrangement is preferable in consideration of the influence of the color mixture on the completed image.
また、画像形成ユニットFY、FM、FC、及びFBは、感光体ドラム51と、帯電装置53と、LED露光装置54と、現像装置18と、一次転写ローラー20と、研磨装置58と、除電装置52と、を備えている。
そして、各画像形成ユニットFY、FM、FC、FBに対応して、それぞれ液体現像剤循環装置LY、LM、LC、LBが設けられ、各色の液体現像剤の供給、並びに回収が行われるようになっている。
The image forming units FY, FM, FC, and FB include a
In correspondence with the image forming units FY, FM, FC, and FB, liquid developer circulating devices LY, LM, LC, and LB are provided, respectively, so that the liquid developer of each color is supplied and recovered. It has become.
2.アモルファスシリコン感光体
(1)導電性基板
図4に、アモルファスシリコン感光体51の部分的断面図を示すが、アモルファスシリコン感光体51は、通常、コアとして導電性基板51aを含んでおり、アルミニウム合金などの導電部材でもって構成するか、もしくは樹脂やガラスの表面に導電性膜を蒸着などしてもよい。
ここで、導電性基板を構成する材料としては、アルミニウム(Al)、SUS(ステンレススチール)、亜鉛(Zn)、銅(Cu)、鉄(Fe)、チタン(Ti)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、タンタル(Ta)、錫(Sn)、金(Au)、銀(Ag)などの金属材料やそれらの合金材料などが挙げられる。
また、樹脂やガラス、セラミックスなどの絶縁性材料の表面を、上述した金属やITO、SnO2 などの透明導電性材料で導電処理したものなども挙げられる。
中でも、アルミニウム合金材料を用いると、低コストで感光体の軽量化が可能なばかりか、a−Si系光導電層あるいはキャリア注入阻止層との密着性が高く、それにより感光体の信頼性も向上するといった点で好適である。
2. Amorphous Silicon Photoreceptor (1) Conductive Substrate FIG. 4 shows a partial cross-sectional view of the
Here, as a material constituting the conductive substrate, aluminum (Al), SUS (stainless steel), zinc (Zn), copper (Cu), iron (Fe), titanium (Ti), nickel (Ni), chromium Examples thereof include metal materials such as (Cr), tantalum (Ta), tin (Sn), gold (Au), and silver (Ag), and alloy materials thereof.
In addition, the surface of an insulating material such as resin, glass, or ceramic is subjected to conductive treatment with the above-described transparent conductive material such as metal, ITO, or SnO 2 .
In particular, when an aluminum alloy material is used, it is possible not only to reduce the weight of the photoreceptor at a low cost, but also to have high adhesion to the a-Si photoconductive layer or carrier injection blocking layer, thereby improving the reliability of the photoreceptor. This is preferable in terms of improvement.
(2)キャリア注入阻止層
また、図4に示すように、キャリア注入阻止層51bは、アモルファスシリコン系材料(a−Si系材料)を母材にして、それに、H(水素原子)やF(フッ素原子)を含有させ、さらに周期律表第III 族、第IV族、第V族のうち少なくとも1種の元素を含有させて構成することが好ましい。
また、C、N、Oなどの元素を、キャリア注入阻止層の構成材料として、さらに含有させることも好ましい。
(2) Carrier Injection Blocking Layer Further, as shown in FIG. 4, the carrier
It is also preferable to further contain elements such as C, N, and O as a constituent material of the carrier injection blocking layer.
(3)光導電層
また、図4に示すように、アモルファスシリコン系材料からなる光導電層51cとしては、アモルファス状態を略してa−と表示した場合、例えば、a−SiC、a−SiCN、a−SiNO、a−SiCO、a−SiN、a−Si、a−C、a−CN、a−SiO等から構成してあることが好ましい。
また、HやFなどの元素を、アモルファスシリコン系材料の一部として、さらに含有させることも好ましい。
(3) Photoconductive layer Further, as shown in FIG. 4, as the
It is also preferable to further contain an element such as H or F as a part of the amorphous silicon material.
(4)表面層
また、図4に示すように、表面層51dは、アモルファス状態の珪素(Si)および/または炭素(C)の原子から構成するとともに、酸素(O)または窒素(N)のうち少なくとも1種の原子と、水素(H)またはフッ素(F)のうち少なくとも1種の原子とを含有することが好ましい。
例えば、そのSi原子とC原子との比率をSi1-x Cx で表示した場合には、xを0.4≦x≦1.0の範囲にすると、モース硬度が8〜11の範囲になることが確認されている。
なお、かかる表面層の膜厚を0.1〜10μmの範囲内の値とすることが好ましく、0.3〜5μmの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(4) Surface Layer As shown in FIG. 4, the
For example, when the ratio of Si atoms to C atoms is expressed as Si 1-x C x , if x is in the range of 0.4 ≦ x ≦ 1.0, the Mohs hardness is in the range of 8-11. It has been confirmed that
In addition, it is preferable to make the film thickness of this surface layer into the value within the range of 0.1-10 micrometers, and it is further more preferable to set it as the value within the range of 0.3-5 micrometers.
4.帯電装置
また、帯電装置としては、公知の態様とすることができるが、例えば、スコロトロン型帯電装置とすることが好ましい。
4). Charging Device The charging device may be a known embodiment, but for example, a scorotron charging device is preferable.
5.液体現像装置
また、液体現像装置18は、図1に示すように、トナーを含有する液体現像剤11を貯溜する液体現像剤タンク45を、その外部に備えている。
また、かかる液体現像装置18の内部には、現像ローラー12と、アニロックスローラー13と、汲み上げローラー14と、ドクタブレード15と、クリーニングブレード33と、帯電装置17と、クリーニング手段32等が設けられており、現像ローラー12、アニロックスローラー13、および汲み上げローラー14は、それぞれ歯車列等からなる駆動手段により回転駆動される。
そして、アニロックスローラー13と、汲み上げローラー14と、の当接部近傍であって、汲み上げローラー14上に、供給装置18cによって、所定の液体現像剤11が供給されている。
5. Liquid Developing Device Further, as shown in FIG. 1, the liquid developing
Further, inside the liquid developing
The
また、汲み上げローラー14の上方に、アニロックスローラー13が設けられている。そして、かかるアニロックスローラー13の上方には、現像ローラー12がさらに設けられている。
そして、汲み上げローラー14とアニロックスローラー13、及びアニロックスローラー13と現像ローラー12は、それぞれ当接している。
また、ドクタブレード15は、アニロックスローラー13の上部、かつ現像ローラー12に対して、アニロックスローラー13の回転方向の上流側に、アニロックスローラー13の軸線方向について、その一端が当接しており、アニロックスローラー13のローラー面に供給された液体現像剤11が表面に彫られた溝(凹部)に保持され、かかる液体現像剤11の量を規制している。
そして、感光体ドラム51は、液体現像装置18の外側にあって、現像ローラー12に当接している。
An
The pumping
The
The
また、液体現像装置18の外部に設けてある液体現像剤貯溜槽(液体現像剤タンク)45には、トナー粒子と絶縁性液体であるキャリアからなる液体現像剤11が貯溜されている。
かかる液体現像剤11は、シリコンオイル等の非極性、すなわち、電気的に中性の溶媒であるキャリア液中にトナー粒子が高濃度で分散するように調整されている。
また、トナー粒子は、エポキシ等の樹脂(バインダー)、トナーに所定の電荷を与える荷電制御剤、着色顔料等から構成されている。
そして、この液体現像剤11を、現像剤担持体としての現像ローラー12から、感光体ドラム51のLED露光装置54によって光が照射された部分の静電潜像に、供給することにより、感光体ドラム51にトナー像を現像することができる。
A liquid developer storage tank (liquid developer tank) 45 provided outside the liquid developing
The
The toner particles are composed of a resin (binder) such as epoxy, a charge control agent that gives a predetermined charge to the toner, a color pigment, and the like.
Then, the
6.研磨装置
(1)研磨粒子のモース硬度
図2(a)に示すように、研磨装置58の表面(内部に存在する場合を含む。)に、モース硬度が3〜6の範囲である研磨粒子58aを含有することを特徴とする。
この理由は、研磨装置の表面に存在する研磨粒子のモース硬度が3未満となると、アモルファスシリコン感光体の表面研磨が不十分となって、長期間にわたって、フィルミングを防止することが困難となるためである。
一方、研磨粒子のモース硬度が6を超えると、アモルファスシリコン感光体の表面研磨が過度になって、逆に、画像特性が劣化する場合があるためである。
したがって、研磨装置において、モース硬度が3〜5の範囲である研磨粒子を含有することがより好ましく、モース硬度が3〜4の範囲である研磨粒子を含有することがさらに好ましい。
なお、研磨粒子のモース硬度は、モース硬度計を用いて、測定することができる。
6). Polishing Device (1) Mohs Hardness of Abrasive Particles As shown in FIG. 2 (a),
The reason for this is that if the Mohs hardness of the abrasive particles present on the surface of the polishing apparatus is less than 3, the surface polishing of the amorphous silicon photoreceptor becomes insufficient and it is difficult to prevent filming over a long period of time. Because.
On the other hand, if the Mohs hardness of the abrasive particles exceeds 6, the surface polishing of the amorphous silicon photoreceptor becomes excessive, and on the contrary, the image characteristics may deteriorate.
Accordingly, the polishing apparatus preferably contains abrasive particles having a Mohs hardness in the range of 3 to 5, and more preferably contains abrasive particles having a Mohs hardness in the range of 3 to 4.
The Mohs hardness of the abrasive particles can be measured using a Mohs hardness meter.
(2)研磨粒子の種類
また、研磨粒子の種類に関して、モース硬度の値が所定範囲内であるならば、特に制限されるものではないが、例えば、メラミン樹脂粉末(モース硬度:3〜4)、フッ素樹脂粉末(モース硬度:3〜4)、およびガラスビーズ(モース硬度:6〜7)からなる群から選択される少なくとも一つであることが好ましい。
この理由は、このような研磨粒子に構成することにより、比較的少量の研磨粒子によっても、アモルファスシリコン感光体の表面を、効果的に研磨することができるためである。
また、このような研磨粒子であれば、平均粒径や比重等の調整が容易であるばかりか、安価であって、経済的であるためである。
なお、メラミン樹脂粉末であれば、外形を多角形とすることが容易であって、かつ、比重が、通常、2g/cm3以下であって、分散性が良好であることからより好ましい研磨粒子である。
また、ガラスビーズであれば、耐久性に優れているばかりか、比重が、通常、3g/cm3以下であって、分散性が良好であることからより好ましい研磨粒子である。
(2) Types of abrasive particles The type of abrasive particles is not particularly limited as long as the value of the Mohs hardness is within a predetermined range. For example, melamine resin powder (Mohs hardness: 3 to 4) And at least one selected from the group consisting of fluororesin powder (Mohs hardness: 3-4) and glass beads (Mohs hardness: 6-7).
This is because the surface of the amorphous silicon photosensitive member can be effectively polished with a relatively small amount of abrasive particles by constituting such abrasive particles.
In addition, such abrasive particles are not only easy to adjust the average particle diameter and specific gravity, but also inexpensive and economical.
In addition, if it is a melamine resin powder, it is easy to make an external shape into a polygon, and since specific gravity is 2 g / cm < 3 > or less normally and dispersibility is more preferable, it is a more preferable abrasive particle. It is.
Glass beads are more preferable abrasive particles because they are not only excellent in durability but also have a specific gravity of usually 3 g / cm 3 or less and good dispersibility.
(3)研磨粒子の配置
また、図2(a)〜(c)に示すように、研磨装置58、58´´、58´´´(研磨層58´を含む。)の表面に、研磨粒子58aが露出して、存在することが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、比較的少量の研磨粒子によっても、アモルファスシリコン感光体の表面を、効果的に研磨することができるためである。
なお、図2(a)および(b)は、一部の研磨粒子58aが、研磨装置58、58´の表面に部分的に露出している例であり、図2(c)は、ほとんどの研磨粒子58aが、研磨装置58´´の表面に露出している例である。
(3) Arrangement of Abrasive Particles As shown in FIGS. 2A to 2C,
This is because the surface of the amorphous silicon photosensitive member can be effectively polished with a relatively small amount of abrasive particles.
2A and 2B are examples in which some
(4)研磨粒子の外形
また、研磨粒子の外形を、多面体形状とすることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、比較的少量の研磨粒子によっても、アモルファスシリコン感光体の表面を、効果的に研磨することができるためである。
また、多面体形状としては、複数の角を有する立体形状であれば良いが、通常、6〜30面体であることが好ましく、8〜20面体であることがより好ましい。
なお、研磨粒子の外形については、電子顕微鏡や粒度分布計を用いて、確認することができる。
(4) External shape of abrasive particles The external shape of the abrasive particles is preferably a polyhedral shape.
This is because the surface of the amorphous silicon photosensitive member can be effectively polished with a relatively small amount of abrasive particles.
Moreover, as a polyhedron shape, what is necessary is just the solid shape which has a some angle | corner, Usually, it is preferable that it is a 6-30 plane, and it is more preferable that it is an 8-20 plane.
The outer shape of the abrasive particles can be confirmed using an electron microscope or a particle size distribution meter.
(5)研磨粒子の平均粒径
また、研磨粒子の平均粒径についても特に制限されるものではないが、通常、0.001〜100μmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、研磨粒子の平均粒径が0.001μm未満となると、アモルファスシリコン感光体の表面に対する研磨効果が著しく低下する場合があるためである。
一方、研磨粒子の平均粒径が100μmを超えると、アモルファスシリコン感光体の表面に対する研磨効果が過度に発現する場合があるためである。
したがって、研磨粒子の平均粒径を0.01〜30μmの範囲内の値とすることがより好ましく、0.1〜10μmの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、研磨粒子の平均粒径については、電子顕微鏡や粒度分布計を用いて、測定することができる。
(5) Average Particle Size of Abrasive Particles The average particle size of the abrasive particles is not particularly limited, but is usually preferably a value within the range of 0.001 to 100 μm.
This is because if the average particle size of the abrasive particles is less than 0.001 μm, the polishing effect on the surface of the amorphous silicon photoreceptor may be significantly reduced.
On the other hand, if the average particle size of the abrasive particles exceeds 100 μm, the polishing effect on the surface of the amorphous silicon photoreceptor may be excessively exhibited.
Accordingly, the average particle size of the abrasive particles is more preferably set to a value within the range of 0.01 to 30 μm, and further preferably set to a value within the range of 0.1 to 10 μm.
The average particle size of the abrasive particles can be measured using an electron microscope or a particle size distribution meter.
(6)研磨粒子の含有量
また、研磨粒子の含有量についても特に制限されるものではないが、通常、研磨装置(研磨粒子および基材の合計量)の全体量に対して、1〜50重量%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、研磨粒子の含有量が、1重量%未満となると、アモルファスシリコン感光体の表面に対する研磨効果が著しく低下する場合があるためである。
一方、研磨粒子の含有量が、50重量%を超えると、アモルファスシリコン感光体の表面に対する研磨効果が過度に発現したり、均一に分散することが困難となったりする場合があるためである。
したがって、研磨粒子の含有量を、研磨装置の全体量に対して、3〜30重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、5〜20重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(6) Content of abrasive particles The content of abrasive particles is not particularly limited, but is usually 1 to 50 with respect to the total amount of the polishing apparatus (total amount of abrasive particles and substrate). A value within the range of% by weight is preferred.
This is because if the content of the abrasive particles is less than 1% by weight, the polishing effect on the surface of the amorphous silicon photoreceptor may be significantly reduced.
On the other hand, if the content of the abrasive particles exceeds 50% by weight, the polishing effect on the surface of the amorphous silicon photoreceptor may be excessively exhibited or it may be difficult to uniformly disperse.
Therefore, the content of the abrasive particles is more preferably set to a value within the range of 3 to 30% by weight, and further to a value within the range of 5 to 20% by weight, based on the total amount of the polishing apparatus. preferable.
(7)基材
(7)−1 主基材
また、図2(a)〜(c)に示すように、研磨装置58、58´´、58´´´において、研磨粒子58aを含有する基材58bについても特に制限されるものではないが、例えば、樹脂発泡体であることが好ましい。
この理由は、このような樹脂発泡体中に、研磨粒子を含有することにより、アモルファスシリコン感光体に対する押圧力を均一化することができ、アモルファスシリコン感光体の表面をさらに適度に研磨することができるためである。
(7) Base Material (7) -1 Main Base Material As shown in FIGS. 2A to 2C, the polishing
The reason for this is that by including abrasive particles in such a resin foam, the pressing force against the amorphous silicon photoconductor can be made uniform, and the surface of the amorphous silicon photoconductor can be polished more appropriately. This is because it can.
また、樹脂発泡体の種類についても特に制限されるものではないが、例えば、ウレタン樹脂発泡体、スチレン樹脂発泡体、オレフィン樹脂発泡体、シリコーン樹脂発泡体、メラミン樹脂発泡体、フェノール樹脂発泡体等が挙げられる。
特に、ウレタン樹脂発泡体であれば、ポリオール化合物およびイソシアネート化合物から、発泡剤を使用することなく作成できるとともに、耐久性に優れていることから好ましい樹脂発泡体である。
The type of the resin foam is not particularly limited. For example, urethane resin foam, styrene resin foam, olefin resin foam, silicone resin foam, melamine resin foam, phenol resin foam, etc. Is mentioned.
In particular, a urethane resin foam is a preferred resin foam because it can be prepared from a polyol compound and an isocyanate compound without using a foaming agent and is excellent in durability.
(7)−2 副基材
また、図2(c)に示すように、研磨装置58´´´の一部を構成する副基材として、繊維状物質58dを含有することが好ましい。
この理由は、繊維状物質を含有することによって、研磨装置の耐久性が著しく向上するためである。また、研磨装置における研磨粒子の保持性も、著しく向上するためである。
すなわち、繊維状物質がマトリックスの一部となり、その間に、研磨粒子が入り込んで付着するため、研磨装置の耐久性が向上するばかりか、研磨粒子の脱落が少なくなるためである。
(7) -2 Sub-Substrate Moreover, as shown in FIG. 2C, it is preferable to contain a
The reason is that the durability of the polishing apparatus is remarkably improved by containing the fibrous substance. Further, the retention of abrasive particles in the polishing apparatus is also remarkably improved.
That is, since the fibrous substance becomes a part of the matrix and the abrasive particles enter and adhere between them, not only the durability of the polishing apparatus is improved but also the falling off of the abrasive particles is reduced.
ここで、繊維状物質の種類としては、ポリアミド樹脂、オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ガラスから構成された繊維であることが好ましい。
そして、通常、繊維状物質の直径を0.1〜100μmの範囲とするとともに、その長さを0.1〜5mmの範囲内の値とすることが好ましい。
なお、繊維状物質を添加する場合、研磨装置(研磨粒子、基材、および繊維状物質の合計量)の全体量に対して、0.1〜30重量%の範囲内の値とすることが好ましく、0.5〜20重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、1〜10重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
Here, as a kind of fibrous substance, it is preferable that it is the fiber comprised from the polyamide resin, the olefin resin, the polyester resin, the polyurethane resin, and glass.
And it is usually preferable to make the diameter of a fibrous substance into the range of 0.1-100 micrometers, and to make the length into the value within the range of 0.1-5 mm.
In addition, when adding a fibrous substance, it is set as the value within the range of 0.1-30 weight% with respect to the whole quantity of polishing apparatus (Abrasive particle | grains, a base material, and the total amount of a fibrous substance). Preferably, the value is in the range of 0.5 to 20% by weight, more preferably in the range of 1 to 10% by weight.
(8) 研磨層
また、図2(a)に示すように、研磨装置58に含まれる芯材58cの表面に、研磨粒子58aを含有する主基材58bからなる研磨層58´を備えることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、研磨粒子を含有する研磨層が初期不良の場合はもちろんのこと、使用によって、劣化した場合であっても、研磨層を容易に交換することができるためである。
また、このように構成することにより、研磨装置の製造も容易になって、経済的に有利となるためである。
(8) Polishing Layer As shown in FIG. 2A, the surface of the
The reason for this is that the polishing layer can be easily replaced even when it is deteriorated by use as well as when the polishing layer containing the abrasive particles is initially defective. Because.
Further, this configuration facilitates the manufacture of the polishing apparatus, which is economically advantageous.
ここで、研磨層は、研磨装置(研磨ローラー)の表面部分に設けることにより、さらに効果的である。
すなわち、研磨装置の表面における研磨層を容易に交換することができるためである。
また、このように研磨装置の表面に設けることにより、研磨装置の製造もさらに容易になって、経済的に有利となるためである。
Here, the polishing layer is more effective by being provided on the surface portion of the polishing apparatus (polishing roller).
That is, the polishing layer on the surface of the polishing apparatus can be easily replaced.
In addition, by providing the surface of the polishing apparatus in this way, it becomes easier to manufacture the polishing apparatus, which is economically advantageous.
7. クリーニングブレード
また、図1に示すように、研磨装置58とともに、クリーニングブレード57を併用することを特徴とする。
この理由は、感光体に残留するトナー等については、基本的に、クリーニングブレードによって除去し、感光体に残留するトナーの構成樹脂や堆積物等の比較的小さな除去物については、研磨ロールによって、除去することができるためである。
7). Cleaning Blade Further, as shown in FIG. 1, a
The reason for this is that toner remaining on the photoreceptor is basically removed by a cleaning blade, and relatively small removals such as toner constituent resin and deposits remaining on the photoreceptor are removed by a polishing roll. This is because it can be removed.
[第2の実施形態]
本発明の第2の実施形態は、図1に例示する湿式画像形成装置10を用いた湿式画像形成方法であって、
アモルファスシリコン感光体51と、
当該アモルファスシリコン感光体51を所定電位に帯電させるための帯電装置53と、
アモルファスシリコン感光体51に対して、絶縁性液体中にトナーを分散させた液体現像剤11を供給する液体現像装置18と、アモルファスシリコン感光体51の表面を研磨するための研磨装置58と、を用いた湿式画像形成方法である。
そして、図2(a)〜(c)に例示するように、表面にモース硬度が3〜6の範囲である研磨粒子58aを含有した研磨装置58を用いて、アモルファスシリコン感光体51の表面を研磨する工程を含むことを特徴としている。
以下、第1の実施形態の湿式画像形成装置10を用いた湿式画像形成方法を、重複しない範囲で、具体的に説明する。
[Second Embodiment]
The second embodiment of the present invention is a wet image forming method using the wet
An
A charging
A liquid developing
2A to 2C, the surface of the amorphous silicon
Hereinafter, the wet image forming method using the wet
1.回転速度
図2(a)〜(c)に例示するように、研磨装置58が研磨ロールである場合、その回転速度率(アモルファスシリコン感光体の回転数を基準にした回転数割合)を、−50〜+50%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる回転速度率が、−50%未満の値になると、アモルファスシリコン感光体の表面に対する研磨効果が著しく低下する場合があるためである。
一方、かかる回転速度率が、+50%を超えると、アモルファスシリコン感光体の表面に対する研磨効果が過度に発現する場合があるためである。
したがって、回転速度率を、−30〜+30%の範囲内の値とすることがより好ましく、−10〜+10%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
1. Rotational Speed As illustrated in FIGS. 2A to 2C, when the polishing
The reason for this is that when the rotation rate is less than −50%, the polishing effect on the surface of the amorphous silicon photosensitive member may be significantly reduced.
On the other hand, if the rotation rate exceeds + 50%, the polishing effect on the surface of the amorphous silicon photoreceptor may be excessively exhibited.
Therefore, it is more preferable to set the rotation speed rate to a value within the range of -30 to + 30%, and it is even more preferable to set the value within the range of -10 to + 10%.
2.研磨頻度
また、研磨装置によるアモルファスシリコン感光体の表面に対する研磨処理は、常時行うこともできるが、所定間隔を空けて、断続的に実施することも好ましい。
すなわち、アモルファスシリコン感光体の表面の汚染度合いが激しい場合、例外的に、専用のクリーニングモードを設けることも好ましい。
2. Polishing frequency Further, the polishing process for the surface of the amorphous silicon photoreceptor by the polishing apparatus can be performed constantly, but it is also preferable that the polishing process is intermittently performed at predetermined intervals.
That is, when the degree of contamination of the surface of the amorphous silicon photoreceptor is severe, it is preferable to provide a dedicated cleaning mode as an exception.
また、絶縁性液体中にトナーを分散させた液体現像剤を供給する液体現像を行う現像工程に、同期させて、かかる研磨処理工程を実施することが好ましい。
この場合、研磨処理工程を実施する所定間隔を10〜10000秒の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる所定間隔が10秒未満の値になると、アモルファスシリコン感光体の表面に対する研磨効果が過度に発現したり、研磨装置の劣化が速くなったりする場合があるためである。
一方、かかる所定間隔が、10000秒を超えると、アモルファスシリコン感光体の表面に対する研磨効果が著しく低下する場合があるためである。
したがって、かかる所定間隔を、60〜5000秒の範囲内の値とすることがより好ましく、500〜3000秒の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
In addition, it is preferable to carry out the polishing process in synchronization with a development process in which liquid development is performed to supply a liquid developer in which toner is dispersed in an insulating liquid.
In this case, it is preferable to set the predetermined interval for carrying out the polishing treatment step to a value within the range of 10 to 10,000 seconds.
This is because if the predetermined interval is less than 10 seconds, the polishing effect on the surface of the amorphous silicon photosensitive member may be excessively exhibited, or the polishing apparatus may be rapidly deteriorated.
On the other hand, if the predetermined interval exceeds 10,000 seconds, the polishing effect on the surface of the amorphous silicon photoconductor may be significantly reduced.
Therefore, the predetermined interval is more preferably set to a value within the range of 60 to 5000 seconds, and further preferably set to a value within the range of 500 to 3000 seconds.
[実施例1]
1.研磨ローラーの作成
(1)研磨層用液の作成
ボールミル容器内に、ポリエステルポリオール100重量部に対して、研磨粒子としてのガラスビーズ(モース硬度:6、平均粒径:20μm、外形:球状)を10重量部の割合となるように添加した後、室温、回転数60rpm、攪拌時間10時間の条件で、均一に混合した。
次いで、ボールミル容器内に、ウレタン硬化剤としてのトリレンジイソシアネートを7重量部の割合となるように添加して、研磨層用液とした。
[Example 1]
1. Preparation of polishing roller (1) Preparation of polishing layer solution Glass beads (Mohs hardness: 6, average particle size: 20 μm, outer shape: spherical) as polishing particles are added to 100 parts by weight of polyester polyol in a ball mill container. After adding so that it might become a ratio of 10 weight part, it mixed uniformly on conditions of room temperature, rotation speed 60rpm, and stirring
Next, tolylene diisocyanate as a urethane curing agent was added to the ball mill container so as to have a ratio of 7 parts by weight to obtain a polishing layer solution.
(2)研磨層用液の塗布
得られた研磨層用液を、120℃に加熱したローラー金型内に注入し、そのまま20時間かけて、硬化させた。
すなわち、厚さ7mmの研磨層が表面に形成され、ガラスビーズが表面に存在する研磨ロール(直径:15mm)が得られた。
(2) Application of polishing layer solution The obtained polishing layer solution was poured into a roller mold heated to 120 ° C and cured as it was for 20 hours.
That is, a polishing roll (diameter: 15 mm) in which a polishing layer having a thickness of 7 mm was formed on the surface and glass beads were present on the surface was obtained.
2.研磨ローラーの評価
(1)耐フィルミング性
得られた研磨ロールを、京セラミタ製の湿式画像形成装置に搭載し、以下の条件で、耐フィルミング性を評価した。
すなわち、現像液槽、汲み上げローラー、塗布ローラー、現像ローラー、直径40mmの感光体、および直径15mmの研磨ローラーを備えた湿式画像形成装置(京セラミタ製実験機)において、線速0.1m/secの感光体に対し、+10%の周速で逆回転方向、1kgfの加重で、研磨ローラーを当接させた。
一方、プロセス条件として、現像バイアス300V、感光体表面電位450Vにて、白紙A4に対して、所定画像パターンを50,000枚連続印字した後、その印刷状態を目視で観察して、耐フィルミング性を評価した。
◎:フィルミングの発生が全く観察されない。
○:フィルミングの発生がほとんど観察されない。
△:フィルミングの発生が少々観察される。
×:フィルミングの発生が顕著に観察される。
2. Evaluation of polishing roller (1) Filming resistance The obtained polishing roll was mounted on a wet image forming apparatus manufactured by Kyocera Mita, and filming resistance was evaluated under the following conditions.
That is, in a wet image forming apparatus (Kyocera Mita experimental machine) equipped with a developer tank, a drawing roller, a coating roller, a developing roller, a photoconductor having a diameter of 40 mm, and a polishing roller having a diameter of 15 mm, a linear velocity of 0.1 m / sec. A polishing roller was brought into contact with the photoconductor at a peripheral speed of + 10% and in a reverse rotation direction with a load of 1 kgf.
On the other hand, as a process condition, after continuously printing 50,000 predetermined image patterns on a white paper A4 with a developing bias of 300 V and a photoreceptor surface potential of 450 V, the printed state is visually observed to prevent filming. Sex was evaluated.
A: The occurrence of filming is not observed at all.
○: Little filming is observed.
Δ: A little filming is observed.
X: The occurrence of filming is remarkably observed.
(2)感光体の耐久性
上記(1)耐フィルミング性の評価後に、A4紙1枚に所定画像パターンの印字を行い、黒点の発生数を確認した。すなわち、感光体の表面を研磨することによって感光体の表面層が削れ、その結果、感光体の耐電圧性が低下し、帯電装置からの帯電電界に耐えられなくなって感光体の感光層が絶縁破壊され、帯電電荷を保持できなくなり、黒点が発生する現象を、感光体の耐久性として、以下の基準に沿って評価した。
◎:黒点の発生が無し。
○:黒点の発生数が1個である。
△:黒点の発生数が2個〜4個である。
×:黒点の発生数が5個以上である。
(2) Durability of photoconductor After the evaluation of (1) filming resistance, a predetermined image pattern was printed on one A4 sheet, and the number of black spots was confirmed. That is, by polishing the surface of the photoconductor, the surface layer of the photoconductor is scraped, and as a result, the withstand voltage of the photoconductor is reduced, and the photoconductor layer of the photoconductor is insulated because it cannot withstand the charging electric field from the charging device. The phenomenon in which the charged charges cannot be retained and black spots are generated was evaluated according to the following criteria as the durability of the photoreceptor.
A: No black spot is generated.
○: The number of black spots is one.
Δ: The number of black spots generated is 2 to 4.
X: The number of black spots generated is 5 or more.
[実施例2]
実施例2では、研磨粒子として、メラミン樹脂粉末(モース硬度:4、平均粒径:10μm、外形:多角形)を用いた以外、実施例1と同様に、研磨ローラーを作成して、評価した。
[Example 2]
In Example 2, a polishing roller was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that melamine resin powder (Mohs hardness: 4, average particle size: 10 μm, outer shape: polygon) was used as the abrasive particles. .
[実施例3]
実施例3では、研磨粒子として、ポリエステル樹脂粉末(モース硬度:3、平均粒径10μm、外形:多角形)を用いた以外、実施例1と同様に、研磨ローラーを作成して、評価した。
[Example 3]
In Example 3, a polishing roller was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that polyester resin powder (Mohs hardness: 3,
[実施例4]
実施例4では、研磨粒子として、メラミン樹脂粉末(モース硬度4、平均粒径10μm、外形:多角形)を用いるとともに、それを、実施例1で作成した研磨ローラーの表面に接着させて、評価した。
但し、実施例4では、研磨層用液の中に、直径2μm、長さ3mmの繊維状物質を、1重量%となるように添加し、図2(c)に示す研磨ローラーの構成とした。
[Example 4]
In Example 4, melamine resin powder (
However, in Example 4, a fibrous material having a diameter of 2 μm and a length of 3 mm was added to the polishing layer solution so as to be 1% by weight, and the configuration of the polishing roller shown in FIG. .
[比較例1]
比較例1では、研磨粒子として、アルミナ(モース硬度:12、平均粒径:1μm、外形:球状)を用いた以外、実施例1と同様に、研磨ローラーを作成して、評価した。
[Comparative Example 1]
In Comparative Example 1, a polishing roller was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that alumina (Mohs hardness: 12, average particle size: 1 μm, outer shape: spherical) was used as the abrasive particles.
[比較例2]
比較例1では、研磨粒子として、炭化ケイ素(モース硬度:13、平均粒径:1μm、外形:球状)を用いた以外、実施例1と同様に、研磨ローラーを作成して、評価した。
[Comparative Example 2]
In Comparative Example 1, a polishing roller was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that silicon carbide (Mohs hardness: 13, average particle diameter: 1 μm, outer shape: spherical) was used as the abrasive particles.
[比較例3]
比較例3では、研磨粒子として、酸化ホウ素(モース硬度:14、平均粒径:1μm、外形:球状)を用いた以外、実施例1と同様に、研磨ローラーを作成して、評価した。
[Comparative Example 3]
In Comparative Example 3, a polishing roller was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that boron oxide (Mohs hardness: 14, average particle diameter: 1 μm, outer shape: spherical) was used as the abrasive particles.
[比較例4]
比較例4では、研磨粒子として、酸化チタン(モース硬度:7、平均粒径:1μm、外形:球状)を用いた以外、実施例1と同様に、研磨ローラーを作成して、評価した。
[Comparative Example 4]
In Comparative Example 4, a polishing roller was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that titanium oxide (Mohs hardness: 7, average particle diameter: 1 μm, outer shape: spherical) was used as the abrasive particles.
[比較例5]
比較例5では、研磨粒子として、ナイロン粒子(モース硬度:2、平均粒径:10μm、外形:多角形)を用いた以外、実施例1と同様に、研磨ローラーを作成して、評価した。
[Comparative Example 5]
In Comparative Example 5, a polishing roller was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that nylon particles (Mohs hardness: 2, average particle size: 10 μm, outer shape: polygon) were used as the abrasive particles.
本発明の湿式画像形成装置およびそれを用いた湿式画像形成方法によれば、アモルファスシリコン感光体の表面を研磨するための所定の研磨装置をさらに備えるとともに、当該研磨装置の表面に、モース硬度が3〜6の範囲である研磨粒子を含有することにより、アモルファスシリコン感光体の表面を損傷することなく、適度に研磨できようになった。
したがって、長期間にわたってフィルミングの発生を防止し、優れた画像特性が安定的に得られるようになった。
よって、本発明の湿式画像形成装置を、各種プリンタ、ファクシミリ、コピー機等として、好適に適用することができる。
According to the wet image forming apparatus and the wet image forming method using the wet image forming apparatus of the present invention, the wet image forming apparatus further includes a predetermined polishing apparatus for polishing the surface of the amorphous silicon photoconductor, and the surface of the polishing apparatus has Mohs hardness. By containing abrasive particles in the range of 3 to 6, it was possible to polish appropriately without damaging the surface of the amorphous silicon photoreceptor.
Therefore, the occurrence of filming is prevented over a long period of time, and excellent image characteristics can be stably obtained.
Therefore, the wet image forming apparatus of the present invention can be suitably applied as various printers, facsimiles, copiers and the like.
2:画像形成部
3:用紙収納部
4:二次転写部
5:定着部
6:排出部
7:用紙搬送部
10:湿式画像形成装置
11:液体現像剤
12:現像ローラー(現像剤担持体)
13:アニロックスローラー
14:汲み上げローラー
15:ドクタブレード
17:帯電装置
18:液体現像装置
18a:回収液溜め
18b:廃棄液溜め
18c:供給装置
20:一次転写ローラー
21:中間転写ベルト
22:クリーニング部
32:クリーニングローラー
32a:第1のクリーニング手段
32b:第2のクリーニング手段
33:クリーニングブレード
45:液体現像剤タンク
46:廃液タンク
51:感光体ドラム
52:除電装置
53:帯電装置
54:LED露光装置
57:クリーニングブレード
58、58´、58´´、58´´´:研磨装置(研磨層を含む)
58a:研磨粒子
58b:基材
58c:芯材
58d:繊維状物質
150:カラープリンタ(湿式画像形成装置)
2: image forming unit 3: paper storage unit 4: secondary transfer unit 5: fixing unit 6: discharge unit 7: paper transport unit 10: wet image forming apparatus 11: liquid developer 12: developing roller (developer carrier)
13: Anilox roller 14: Pumping roller 15: Doctor blade 17: Charging device 18:
58a:
Claims (9)
当該アモルファスシリコン感光体を所定電位に帯電させるための帯電装置と、
前記アモルファスシリコン感光体に対して、絶縁性液体中にトナーを分散させた液体現像剤を供給する液体現像装置と、
を備えた湿式画像形成装置であって、
前記アモルファスシリコン感光体の表面を研磨するための研磨装置をさらに備えるとともに、
当該研磨装置の表面に、モース硬度が3〜6の範囲である研磨粒子を含有することを特徴とする湿式画像形成装置。 An amorphous silicon photoreceptor,
A charging device for charging the amorphous silicon photosensitive member to a predetermined potential;
A liquid developing device for supplying a liquid developer in which a toner is dispersed in an insulating liquid to the amorphous silicon photoreceptor;
A wet image forming apparatus comprising:
Further comprising a polishing apparatus for polishing the surface of the amorphous silicon photoreceptor,
A wet image forming apparatus comprising abrasive particles having a Mohs hardness in the range of 3 to 6 on the surface of the polishing apparatus.
当該アモルファスシリコン感光体を所定電位に帯電させるための帯電装置と、
前記アモルファスシリコン感光体に対して、絶縁性液体中にトナーを分散させた液体現像剤を供給する液体現像装置と、
前記アモルファスシリコン感光体の表面を研磨するための研磨装置と、を用いた湿式画像形成方法であって、
表面に、モース硬度が3〜6の範囲である研磨粒子を含有した研磨装置を用いて、前記アモルファスシリコン感光体の表面を研磨する工程を含むことを特徴とする湿式画像形成方法。 An amorphous silicon photoreceptor,
A charging device for charging the amorphous silicon photosensitive member to a predetermined potential;
A liquid developing device for supplying a liquid developer in which a toner is dispersed in an insulating liquid to the amorphous silicon photoreceptor;
A wet image forming method using a polishing apparatus for polishing the surface of the amorphous silicon photoreceptor,
A wet image forming method comprising a step of polishing the surface of the amorphous silicon photoreceptor using a polishing apparatus containing polishing particles having a Mohs hardness of 3 to 6 on the surface.
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