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JP2010053334A - Epoxy-based resin composition, prepreg, cured product, sheet-like molded article, laminate plate, and multilayer laminate plate - Google Patents

Epoxy-based resin composition, prepreg, cured product, sheet-like molded article, laminate plate, and multilayer laminate plate Download PDF

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JP2010053334A
JP2010053334A JP2009074853A JP2009074853A JP2010053334A JP 2010053334 A JP2010053334 A JP 2010053334A JP 2009074853 A JP2009074853 A JP 2009074853A JP 2009074853 A JP2009074853 A JP 2009074853A JP 2010053334 A JP2010053334 A JP 2010053334A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin composition
compound
group
silica
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Application number
JP2009074853A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuhiro Goto
信弘 後藤
Katsu Heiji
克 瓶子
Junnosuke Murakami
淳之介 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy-based resin composition excellent in dispersibility of a silica component, and in which surface roughness of a cured product, where the surface of a cured material is roughening treated, is made to be small. <P>SOLUTION: The epoxy-based resin composition includes an epoxy-based resin, a curing agent, and the silica component in which a silica particle is surface treated with a silane coupling agent, and the silica component is contained within a range of 25-400 pts.wt. based on the total of 100 pts.wt. of the epoxy-based resin and the curing agent. An average particle diameter of the silica particle is ≤1 μm, and the silane coupling agent is at least one selected from a group consisting of a silane compound having an amino group, silane compound having a mercapto group, silane compound having an isocyanate group, silane compound having an acid anhydride group, and silane compound having an isocyanuric acid group. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば、銅めっき層等が表面に形成される硬化体を得るのに用いられるエポキシ系樹脂組成物に関し、より詳細には、エポキシ系樹脂、硬化剤及びシリカ成分を含むエポキシ系樹脂組成物、並びに該エポキシ系樹脂組成物を用いたプリプレグ、硬化体、シート状成形体、積層板及び多層積層板に関する。   The present invention relates to an epoxy resin composition used for obtaining a cured product having, for example, a copper plating layer formed on the surface thereof, and more specifically, an epoxy resin containing an epoxy resin, a curing agent, and a silica component. The present invention relates to a composition, and a prepreg, a cured body, a sheet-like molded body, a laminate, and a multilayer laminate using the epoxy resin composition.

従来、多層基板又は半導体装置等を形成するために、様々な熱硬化性樹脂組成物が用いられている。   Conventionally, various thermosetting resin compositions have been used to form multilayer substrates or semiconductor devices.

例えば、下記の特許文献1には、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、イミダゾールシランにより表面処理されたフィラーとを含む熱硬化性樹脂組成物が開示されている。フィラーの表面には、イミダゾール基が存在する。イミダゾール基は、硬化触媒及び反応起点として作用する。このため、熱硬化性樹脂組成物の硬化物の強度を高めることができる。また、特許文献1には、熱硬化性樹脂組成物が、接着剤、封止材、塗料、積層材及び成形材等の密着性が必要な用途に有用であることが記載されている。   For example, Patent Literature 1 below discloses a thermosetting resin composition including a thermosetting resin, a curing agent, and a filler surface-treated with imidazole silane. An imidazole group exists on the surface of the filler. The imidazole group acts as a curing catalyst and a reaction starting point. For this reason, the intensity | strength of the hardened | cured material of a thermosetting resin composition can be raised. Patent Document 1 describes that the thermosetting resin composition is useful for applications that require adhesion, such as an adhesive, a sealing material, a paint, a laminate, and a molding material.

下記の特許文献2には、エポキシ樹脂と、フェノール樹脂と、硬化剤と、無機充填材と、Si原子及びN原子が直接結合していないイミダゾールシランとを含むエポキシ樹脂組成物が開示されている。ここでは、エポキシ樹脂組成物の硬化物の半導体チップに対する接着性が高いこと、並びに硬化物の耐湿性が高いため、IRリフロー後でも、硬化物が半導体チップ等から剥離し難いことが記載されている。   Patent Document 2 below discloses an epoxy resin composition containing an epoxy resin, a phenol resin, a curing agent, an inorganic filler, and an imidazole silane in which Si atoms and N atoms are not directly bonded. . Here, it is described that the cured product of the epoxy resin composition has high adhesion to the semiconductor chip and that the cured product has high moisture resistance, so that the cured product is difficult to peel off from the semiconductor chip or the like even after IR reflow. Yes.

また、下記の特許文献3には、エポキシ系樹脂と、硬化剤と、イミダゾールシランにより処理されており、かつ平均粒子径が5μm以下であるシリカとを含むエポキシ樹脂組成物が開示されている。このエポキシ樹脂組成物を硬化させた硬化物の表面を、粗化処理することにより、多くの樹脂をエッチングしなくても、シリカを容易に脱離させることができる。このため、硬化物の表面の表面粗さを小さくすることができる。さらに、硬化物と銅めっきとの密着性を高くすることができる。   Patent Document 3 below discloses an epoxy resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, and silica treated with imidazole silane and having an average particle diameter of 5 μm or less. By roughening the surface of the cured product obtained by curing the epoxy resin composition, silica can be easily detached without etching much resin. For this reason, the surface roughness of the surface of hardened | cured material can be made small. Furthermore, the adhesion between the cured product and the copper plating can be increased.

特開平9−169871号公報JP-A-9-168771 特開2002−128872号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-128772 国際公開第2007/032424号パンフレットInternational Publication No. 2007/032424 Pamphlet

上記のような熱硬化性樹脂組成物の硬化体の表面には、銅等の金属からなる配線が形成されることがある。近年、このような硬化体の表面に形成される配線の微細化が進行している。すなわち、配線の幅方向の寸法(L)と、配線が形成されていない部分の幅方向の寸法(S)とを示すL/Sが、より一層小さくされてきている。このため、熱硬化性樹脂組成物の硬化物の線膨張率をより一層小さくすることが検討されている。従来、硬化物の線膨張率を小さくするために、一般的には、熱硬化性樹脂組成物にシリカ等の充填材が多く配合されていた。   A wiring made of a metal such as copper may be formed on the surface of the cured body of the thermosetting resin composition as described above. In recent years, the miniaturization of wiring formed on the surface of such a cured body has progressed. That is, L / S indicating the dimension (L) in the width direction of the wiring and the dimension (S) in the width direction of the portion where the wiring is not formed has been further reduced. For this reason, it has been studied to further reduce the linear expansion coefficient of the cured product of the thermosetting resin composition. Conventionally, in order to reduce the linear expansion coefficient of a cured product, generally, a filler such as silica is often blended in a thermosetting resin composition.

しかしながら、特許文献1〜3では、フィラー又はシリカ等の無機充填材はイミダゾールシランにより表面処理されている。このようなイミダゾールシランにより表面処理されたシリカ等を多く配合した場合には、シリカ等が凝集しやすかった。従って、硬化体の表面を粗化処理した場合に、凝集したシリカ等がまとまって脱離し、表面粗さが大きくなることがあった。   However, in Patent Documents 1 to 3, an inorganic filler such as a filler or silica is surface-treated with imidazole silane. When a large amount of silica or the like surface-treated with such imidazole silane was blended, the silica or the like was easily aggregated. Therefore, when the surface of the cured body is roughened, the agglomerated silica and the like are collectively separated and the surface roughness may increase.

本発明の目的は、シリカ成分の分散性に優れており、硬化物の表面が粗化処理された硬化体の表面粗さを小さくすることができ、さらに、粗化処理された硬化体の表面に金属層が形成された場合に、硬化体と金属層との接着強度を高めることができるエポキシ系樹脂組成物、並びに該エポキシ系樹脂組成物を用いたプリプレグ、硬化体、シート状成形体、積層板及び多層積層板を提供することにある。   The object of the present invention is excellent in dispersibility of the silica component, can reduce the surface roughness of the cured body whose surface of the cured product is roughened, and further, the surface of the roughened cured body When a metal layer is formed on the epoxy resin composition that can increase the adhesive strength between the cured body and the metal layer, as well as a prepreg, a cured body, and a sheet-like molded body using the epoxy resin composition, It is providing a laminated board and a multilayer laminated board.

本発明によれば、エポキシ系樹脂と、硬化剤と、シリカ粒子がシランカップリング剤により表面処理されているシリカ成分とを含有し、前記エポキシ系樹脂及び前記硬化剤の合計100重量部に対して、前記シリカ成分を25〜400重量部の範囲内で含有し、前記シリカ粒子の平均粒子径が1μm以下であり、前記シランカップリング剤が、アミノ基を有するシラン化合物、メルカプト基を有するシラン化合物、イソシアネート基を有するシラン化合物、酸無水物基を有するシラン化合物及びイソシアヌル酸基を有するシラン化合物からなる群から選択された少なくとも1種である、エポキシ系樹脂組成物が提供される。   According to the present invention, an epoxy resin, a curing agent, and a silica component in which silica particles are surface-treated with a silane coupling agent are contained, and the total amount of the epoxy resin and the curing agent is 100 parts by weight. The silica component is contained within a range of 25 to 400 parts by weight, the silica particles have an average particle size of 1 μm or less, and the silane coupling agent is an amino group-containing silane compound or mercapto group-containing silane. There is provided an epoxy resin composition which is at least one selected from the group consisting of a compound, a silane compound having an isocyanate group, a silane compound having an acid anhydride group, and a silane compound having an isocyanuric acid group.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物のある特定の局面では、前記エポキシ系樹脂、前記硬化剤及び前記シリカ成分の合計100重量%の内の15重量%〜80重量%が、23℃で液状である。   In a specific aspect of the epoxy resin composition according to the present invention, 15 wt% to 80 wt% of a total of 100 wt% of the epoxy resin, the curing agent, and the silica component is liquid at 23 ° C. is there.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物の他の特定の局面では、前記エポキシ系樹脂100重量%中に、アントラセン骨格を有するエポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、アダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂、トリアジン骨格を有するエポキシ樹脂及びビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂からなる群から選択された少なくとも1種のエポキシ系樹脂を合計で2〜20重量%の範囲内で含む。   In another specific aspect of the epoxy resin composition according to the present invention, an epoxy resin having an anthracene skeleton, an epoxy resin having a naphthalene skeleton, an epoxy resin having an adamantane skeleton, and a triazine skeleton in 100% by weight of the epoxy resin. And at least one epoxy resin selected from the group consisting of epoxy resins having a biphenyl skeleton and a biphenyl skeleton in a total range of 2 to 20% by weight.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物のさらに他の特定の局面では、前記硬化剤100重量%中に、ビフェニル構造を有するフェノール化合物、ナフタレン構造を有するフェノール化合物、ジシクロペンタジエン構造を有するフェノール化合物、アミノトリアジン構造を有するフェノール化合物及び活性エステル化合物からなる群から選択された少なくとも1種の硬化剤を合計で5〜100重量%の範囲内で含む。   In still another specific aspect of the epoxy resin composition according to the present invention, in 100% by weight of the curing agent, a phenol compound having a biphenyl structure, a phenol compound having a naphthalene structure, a phenol compound having a dicyclopentadiene structure, At least one curing agent selected from the group consisting of a phenol compound having an aminotriazine structure and an active ester compound is included within a total range of 5 to 100% by weight.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物の他の特定の局面では、マレイミド化合物がさらに含有されており、前記マレイミド化合物の含有量が2〜45重量%の範囲内である。   In another specific aspect of the epoxy resin composition according to the present invention, a maleimide compound is further contained, and the content of the maleimide compound is in the range of 2 to 45% by weight.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物のさらに他の特定の局面では、前記シリカ粒子の最大粒子径は5μm以下である。   In still another specific aspect of the epoxy resin composition according to the present invention, the maximum particle size of the silica particles is 5 μm or less.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物の別の特定の局面では、前記エポキシ系樹脂及び前記硬化剤の合計100重量部に対して、有機化層状珪酸塩が0.01〜2重量部の範囲内でさらに含有される。   In another specific aspect of the epoxy resin composition according to the present invention, the organic layered silicate is in the range of 0.01 to 2 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the epoxy resin and the curing agent. It is further contained.

本発明に係るプリプレグでは、本発明に従って構成されたエポキシ系樹脂組成物が、多孔質基材に含浸されている。   In the prepreg according to the present invention, the porous base material is impregnated with the epoxy resin composition constituted according to the present invention.

また、本発明によれば、本発明に従って構成されたエポキシ系樹脂組成物又は該エポキシ系樹脂組成物が多孔質基材に含浸されているプリプレグを加熱し、予備硬化させることにより得られた硬化物が粗化処理されている硬化体であって、粗化処理された表面の算術平均粗さRaが0.3μm以下であり、かつ十点平均粗さRzが3.0μm以下である、硬化体が提供される。   Further, according to the present invention, the epoxy resin composition constituted according to the present invention or a prepreg impregnated in a porous substrate with the epoxy resin composition is heated and precured. A cured product in which a product is roughened, and has an arithmetic average roughness Ra of 0.3 μm or less and a ten-point average roughness Rz of 3.0 μm or less. The body is provided.

本発明に係る硬化体のある特定の局面では、前記予備硬化の後、前記粗化処理される前に、前記硬化物が膨潤処理されている。   On the specific situation with the hardening body which concerns on this invention, the said hardened | cured material is swollen before the said roughening process after the said pre-hardening.

本発明に係るシート状成形体は、本発明に従って構成されたエポキシ系樹脂組成物、該エポキシ系樹脂組成物が多孔質基材に含浸されているプリプレグ、又は前記エポキシ系樹脂組成物もしくは前記プリプレグを硬化させることにより得られた硬化物が粗化処理されている硬化体が、シート状に成形されている。   A sheet-like molded product according to the present invention includes an epoxy resin composition configured according to the present invention, a prepreg in which a porous base material is impregnated with the epoxy resin composition, or the epoxy resin composition or the prepreg. The hardened | cured material in which the hardened | cured material obtained by hardening | curing is roughened is shape | molded in the sheet form.

本発明に係る積層板は、本発明に従って構成されたシート状成形体と、該シート状成形体の少なくとも片面に積層されている金属層とを備える。   The laminated board which concerns on this invention is equipped with the sheet-like molded object comprised according to this invention, and the metal layer laminated | stacked on the at least single side | surface of this sheet-like molded object.

本発明に係る積層板のある特定の局面では、前記金属層は、回路として形成されている。   On the specific situation with the laminated board which concerns on this invention, the said metal layer is formed as a circuit.

本発明に係る多層積層板は、積層された複数の上記シート状成形体と、該シート状成形体の間に配置された金属層とを備える。   The multilayer laminated board which concerns on this invention is equipped with the several said sheet-like molded object laminated | stacked, and the metal layer arrange | positioned between this sheet-like molded object.

本発明に係る多層積層板のある特定の局面では、最表層の前記シート状成形体の外側の表面に積層された金属層がさらに備えられる。   On the specific situation with the multilayer laminated board which concerns on this invention, the metal layer laminated | stacked on the outer surface of the said sheet-like molded object of the outermost layer is further provided.

本発明に係る多層積層板の他の特定の局面では、前記金属層は、回路として形成されている。   In another specific aspect of the multilayer laminate according to the present invention, the metal layer is formed as a circuit.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物は、平均粒子径1μm以下のシリカ粒子の表面が上記特定のシランカップリング剤により表面処理されているシリカ成分を含むため、シリカ成分の分散性を高めることができる。従って、シリカ成分が凝集するのを抑制しつつ、シリカ成分を比較的多く配合することができる。   Since the epoxy resin composition according to the present invention includes a silica component in which the surface of silica particles having an average particle diameter of 1 μm or less is surface-treated with the specific silane coupling agent, the dispersibility of the silica component can be improved. it can. Therefore, a relatively large amount of the silica component can be blended while suppressing the aggregation of the silica component.

さらに、本発明に係るエポキシ系樹脂組成物では、シリカ成分が凝集し難いため、硬化物の表面が粗化処理された硬化体の表面粗さを小さくすることができる。さらに、粗化処理された硬化体の表面に金属層が形成された場合に、硬化物と金属層との接着強度を高めることができる。   Furthermore, in the epoxy resin composition according to the present invention, since the silica component hardly aggregates, the surface roughness of the cured product obtained by roughening the surface of the cured product can be reduced. Furthermore, when a metal layer is formed on the surface of the roughened cured body, the adhesive strength between the cured product and the metal layer can be increased.

図1は、本発明の一実施形態に係るエポキシ系樹脂組成物の硬化物が粗化処理された硬化体の表面を模式的に示す部分切欠正面断面図である。FIG. 1 is a partially cutaway front sectional view schematically showing the surface of a cured body obtained by roughening a cured product of an epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1に示す硬化体の表面に金属層が形成された状態を示す部分切欠正面断面である。FIG. 2 is a partially cutaway front cross-section showing a state in which a metal layer is formed on the surface of the cured body shown in FIG. 図3は、本発明の一実施形態に係るエポキシ系樹脂組成物を用いた多層積層板を模式的に示す部分切欠正面断面図である。FIG. 3 is a partially cutaway front cross-sectional view schematically showing a multilayer laminate using the epoxy resin composition according to one embodiment of the present invention.

本願発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、エポキシ系樹脂と、硬化剤と、平均粒子径が1μm以下であるシリカ粒子の表面が上記特定のシランカップリング剤により表面処理されているシリカ成分とを上記特定の割合で含む組成を採用することにより、シリカ成分の分散性を高めることができ、かつ硬化物の表面が粗化処理された硬化体の表面粗さを小さくすることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present application have surface-treated the surface of the epoxy resin, the curing agent, and the silica particles having an average particle diameter of 1 μm or less with the specific silane coupling agent. By adopting a composition containing the above-mentioned specific proportion of silica component, the dispersibility of the silica component can be increased, and the surface roughness of the cured product obtained by roughening the surface of the cured product can be reduced. As a result, the present invention has been completed.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物は、エポキシ系樹脂と、硬化剤と、シリカ粒子がシランカップリング剤により表面処理されているシリカ成分とを含有する。エポキシ系樹脂組成物に含まれる成分を以下説明する。   The epoxy resin composition according to the present invention contains an epoxy resin, a curing agent, and a silica component in which silica particles are surface-treated with a silane coupling agent. The components contained in the epoxy resin composition will be described below.

(エポキシ系樹脂)
本発明に係るエポキシ系樹脂組成物に含まれている「エポキシ系樹脂」とは、少なくとも1個のエポキシ基(オキシラン環)を有する有機化合物をいう。
(Epoxy resin)
The “epoxy resin” contained in the epoxy resin composition according to the present invention refers to an organic compound having at least one epoxy group (oxirane ring).

上記エポキシ系樹脂の1分子当たりのエポキシ基の数は、1以上である。エポキシ基の数は、2以上であることがより好ましい。   The number of epoxy groups per molecule of the epoxy resin is one or more. The number of epoxy groups is more preferably 2 or more.

上記エポキシ系樹脂として、従来公知のエポキシ系樹脂を用いることができる。エポキシ系樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。また、「エポキシ系樹脂」には、エポキシ系樹脂の誘導体又はエポキシ系樹脂の水添物も含まれる。   A conventionally known epoxy resin can be used as the epoxy resin. As for an epoxy resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. The “epoxy resin” includes a derivative of an epoxy resin or a hydrogenated product of an epoxy resin.

上記エポキシ系樹脂としては、例えば、芳香族エポキシ系樹脂(1)、脂環族エポキシ系樹脂(2)、脂肪族エポキシ系樹脂(3)、グリシジルエステル型エポキシ系樹脂(4)、グリシジルアミン型エポキシ系樹脂(5)、グリシジルアクリル型エポキシ系樹脂(6)又はポリエステル型エポキシ系樹脂(7)等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin include aromatic epoxy resin (1), alicyclic epoxy resin (2), aliphatic epoxy resin (3), glycidyl ester type epoxy resin (4), and glycidyl amine type. Examples thereof include an epoxy resin (5), a glycidyl acrylic epoxy resin (6), and a polyester epoxy resin (7).

上記芳香族エポキシ系樹脂(1)としては、例えば、ビスフェノール型エポキシ樹脂又はノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the aromatic epoxy resin (1) include a bisphenol type epoxy resin or a novolac type epoxy resin.

上記ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂又はビスフェノールS型エポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the bisphenol type epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, and bisphenol S type epoxy resin.

上記ノボラック型エポキシ系樹脂としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂又はクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the novolac epoxy resin include phenol novolac epoxy resins and cresol novolac epoxy resins.

さらに、上記芳香族エポキシ系樹脂(1)として、ナフタレン、ナフチレンエーテル、ビフェニル、アントラセン、ピレン、キサンテン又はインドールなどの芳香族環を主鎖中に有するエポキシ系樹脂等を用いることができる。また、インドール−フェノール共縮合エポキシ樹脂又はフェノールアラルキル型エポキシ樹脂等を用いることができる。さらに、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテル等の芳香族化合物からなるエポキシ系樹脂等を用いることができる。   Furthermore, as the aromatic epoxy resin (1), an epoxy resin having an aromatic ring such as naphthalene, naphthylene ether, biphenyl, anthracene, pyrene, xanthene, or indole in the main chain can be used. Moreover, an indole-phenol co-condensation epoxy resin or a phenol aralkyl type epoxy resin can be used. Furthermore, an epoxy resin made of an aromatic compound such as trisphenolmethane triglycidyl ether can be used.

上記脂環族エポキシ系樹脂(2)としては、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−2−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−2−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、又はビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル等が挙げられる。   Examples of the alicyclic epoxy resin (2) include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-2-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy- 2-methylcyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 2- (3 , 4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexanone-meta-dioxane, or bis (2,3-epoxycyclopentyl) ether.

上記脂環族エポキシ系樹脂(2)の市販品としては、例えば、ダイセル化学工業社製の商品名「EHPE−3150」(軟化温度71℃)等が挙げられる。   As a commercial item of the said alicyclic epoxy-type resin (2), the brand name "EHPE-3150" (softening temperature 71 degreeC) by Daicel Chemical Industries, etc. are mentioned, for example.

上記脂肪族エポキシ系樹脂(3)としては、例えば、ネオペンチルグリコールのジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールのジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル、又は長鎖ポリオールのポリグリシジルエーテル等が挙げられる。   Examples of the aliphatic epoxy resin (3) include, for example, diglycidyl ether of neopentyl glycol, diglycidyl ether of 1,4-butanediol, diglycidyl ether of 1,6-hexanediol, triglycidyl ether of glycerin, Examples include triglycidyl ether of trimethylolpropane, diglycidyl ether of polyethylene glycol, diglycidyl ether of polypropylene glycol, or polyglycidyl ether of long-chain polyol.

上記長鎖ポリオールは、ポリオキシアルキレングリコール又はポリテトラメチレンエーテルグリコールを含むことが好ましい。また、上記ポリオキシアルキレングリコールのアルキレン基の炭素数は2〜9の範囲内にあることが好ましく、2〜4の範囲内にあることがより好ましい。   The long-chain polyol preferably contains polyoxyalkylene glycol or polytetramethylene ether glycol. Moreover, it is preferable that the carbon number of the alkylene group of the said polyoxyalkylene glycol exists in the range of 2-9, and it is more preferable to exist in the range of 2-4.

上記グリシジルエステル型エポキシ系樹脂(4)としては、例えば、フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ジグリシジル−p−オキシ安息香酸、サリチル酸のグリシジルエーテル−グリシジルエステル又はダイマー酸グリシジルエステル等が挙げられる。   Examples of the glycidyl ester type epoxy resin (4) include diglycidyl phthalate, diglycidyl tetrahydrophthalate, diglycidyl hexahydrophthalate, diglycidyl-p-oxybenzoic acid, and glycidyl ether-glycidyl of salicylic acid. Examples thereof include esters or dimer acid glycidyl esters.

上記グリシジルアミン型エポキシ系樹脂(5)としては、例えば、トリグリシジルイソシアヌレート、環状アルキレン尿素のN,N’−ジグリシジル誘導体、p−アミノフェノールのN,N,O−トリグリシジル誘導体、又はm−アミノフェノールのN,N,O−トリグリシジル誘導体等が挙げられる。   Examples of the glycidylamine type epoxy resin (5) include triglycidyl isocyanurate, N, N′-diglycidyl derivative of cyclic alkylene urea, N, N, O-triglycidyl derivative of p-aminophenol, or m- Examples thereof include N, N, O-triglycidyl derivatives of aminophenol.

上記グリシジルアクリル型エポキシ系樹脂(6)としては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレートと、ラジカル重合性モノマーとの共重合体等が挙げられる。上記ラジカル重合性モノマーとしては、エチレン、酢酸ビニル又は(メタ)アクリル酸エステル等が挙げられる。   Examples of the glycidyl acrylic epoxy resin (6) include a copolymer of glycidyl (meth) acrylate and a radical polymerizable monomer. Examples of the radical polymerizable monomer include ethylene, vinyl acetate, and (meth) acrylic acid ester.

上記ポリエステル型エポキシ系樹脂(7)としては、例えば、エポキシ基を有するポリエステル樹脂等が挙げられる。ポリエステル樹脂は、1分子当たり2個以上のエポキシ基を有することが好ましい。   Examples of the polyester-type epoxy resin (7) include polyester resins having an epoxy group. The polyester resin preferably has two or more epoxy groups per molecule.

上記エポキシ系樹脂として、上記(1)〜(7)のエポキシ系樹脂の他に、以下に示すエポキシ樹脂(8)〜(11)を用いてもよい。   As the epoxy resin, the following epoxy resins (8) to (11) may be used in addition to the epoxy resins (1) to (7).

上記エポキシ系樹脂(8)としては、例えば、共役ジエン化合物を主体とする(共)重合体の炭素−炭素二重結合をエポキシ化した化合物、又は共役ジエン化合物を主体とする(共)重合体の部分水添物の炭素−炭素二重結合をエポキシ化した化合物等が挙げられる。上記エポキシ系樹脂(8)の具体例としては、エポキシ化ポリブタジエン又はエポキシ化ジシクロペンタジエン等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin (8) include a compound obtained by epoxidizing a carbon-carbon double bond of a (co) polymer mainly composed of a conjugated diene compound, or a (co) polymer mainly composed of a conjugated diene compound. And a compound obtained by epoxidizing a carbon-carbon double bond of the partially hydrogenated product. Specific examples of the epoxy resin (8) include epoxidized polybutadiene or epoxidized dicyclopentadiene.

上記エポキシ系樹脂(9)としては、ビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロックと、共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック又はその部分水添物の重合体ブロックとを同一分子内に有するブロック共重合体であって、炭素−炭素二重結合がエポキシ化された化合物等が挙げられる。このような化合物としては、例えば、エポキシ化SBS等が挙げられる。   The epoxy resin (9) has a polymer block mainly composed of a vinyl aromatic compound and a polymer block mainly composed of a conjugated diene compound or a partially hydrogenated polymer block in the same molecule. Examples of the block copolymer include a compound in which a carbon-carbon double bond is epoxidized. Examples of such a compound include epoxidized SBS.

上記エポキシ系樹脂(10)としては、例えば、上記(1)〜(9)のエポキシ系樹脂の構造中に、ウレタン結合が導入されたウレタン変性エポキシ樹脂、又はポリカプロラクトン結合が導入されたポリカプロラクトン変性エポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin (10) include a urethane-modified epoxy resin in which a urethane bond is introduced or a polycaprolactone in which a polycaprolactone bond is introduced in the structure of the epoxy resin of the above (1) to (9). Examples thereof include modified epoxy resins.

上記エポキシ系樹脂(11)としては、ビスアリールフルオレン骨格を有するエポキシ系樹脂等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin (11) include an epoxy resin having a bisarylfluorene skeleton.

上記エポキシ樹脂(11)の市販品としては、例えば、大阪ガスケミカル社製の商品名「オンコートEXシリーズ」等が挙げられる。   As a commercial item of the said epoxy resin (11), the brand name "Oncoat EX series" by Osaka Gas Chemical Company etc. are mentioned, for example.

また、上記エポキシ系樹脂として、可撓性エポキシ系樹脂が好適に用いられる。可撓性エポキシ系樹脂の使用により、硬化物の柔軟性を高めることができる。   Moreover, a flexible epoxy resin is suitably used as the epoxy resin. The use of a flexible epoxy resin can increase the flexibility of the cured product.

上記可撓性エポキシ樹脂としては、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル、長鎖ポリオールのポリグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレートとラジカル重合性モノマーとの共重合体、エポキシ基を有するポリエステル樹脂、共役ジエン化合物を主体とする(共)重合体の炭素−炭素二重結合をエポキシ化した化合物、共役ジエン化合物を主体とする(共)重合体の部分水添物の炭素−炭素二重結合をエポキシ化した化合物、ウレタン変性エポキシ樹脂、又はポリカプロラクトン変性エポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the flexible epoxy resin include diglycidyl ether of polyethylene glycol, diglycidyl ether of polypropylene glycol, polyglycidyl ether of long chain polyol, a copolymer of glycidyl (meth) acrylate and a radical polymerizable monomer, and an epoxy group. Polyester resin having a conjugated diene compound as a main component, a compound obtained by epoxidizing a carbon-carbon double bond of a (co) polymer, a carbon-carbon as a partially hydrogenated product of a (co) polymer mainly including a conjugated diene compound Examples include a compound in which a double bond is epoxidized, a urethane-modified epoxy resin, or a polycaprolactone-modified epoxy resin.

さらに、上記可撓性エポキシ樹脂としては、ダイマー酸もしくはダイマー酸の誘導体の分子内にエポキシ基が導入されたダイマー酸変性エポキシ樹脂、又はゴム成分の分子内にエポキシ基が導入されたゴム変性エポキシ樹脂等が挙げられる。   Further, the flexible epoxy resin includes a dimer acid-modified epoxy resin in which an epoxy group is introduced into the molecule of a dimer acid or a dimer acid derivative, or a rubber-modified epoxy in which an epoxy group is introduced into a molecule of a rubber component. Examples thereof include resins.

上記ゴム成分としては、NBR、CTBN、ポリブタジエン又はアクリルゴム等が挙げられる。   Examples of the rubber component include NBR, CTBN, polybutadiene, and acrylic rubber.

上記可撓性エポキシ系樹脂は、ブタジエン骨格を有することが好ましい。ブタジエン骨格を有する可撓性エポキシ樹脂の使用により、硬化物の柔軟性をより一層高めることができる。また、低温域から高温域までの広い温度範囲にわたり、硬化物の伸度を高めることができる。   The flexible epoxy resin preferably has a butadiene skeleton. By using a flexible epoxy resin having a butadiene skeleton, the flexibility of the cured product can be further enhanced. In addition, the elongation of the cured product can be increased over a wide temperature range from a low temperature range to a high temperature range.

上記エポキシ系樹脂として、ビフェニル型エポキシ系樹脂を用いてもよい。該ビフェニル型エポキシ系樹脂としては、フェノール化合物の水酸基の一部をエポキシ基含有基で置換し、残りの水酸基を水酸基以外の水素などの置換基で置換した化合物等が挙げられる。   A biphenyl type epoxy resin may be used as the epoxy resin. Examples of the biphenyl type epoxy resin include compounds in which part of the hydroxyl group of the phenol compound is substituted with an epoxy group-containing group and the remaining hydroxyl group is substituted with a substituent such as hydrogen other than the hydroxyl group.

上記ビフェニル型エポキシ系樹脂は、下記式(8)で表されるビフェニル型エポキシ樹脂であることが好ましい。この好ましいビフェニル型エポキシ系樹脂の使用により、硬化物の線膨張率をより一層低くすることができる。   The biphenyl type epoxy resin is preferably a biphenyl type epoxy resin represented by the following formula (8). By using this preferable biphenyl type epoxy resin, the linear expansion coefficient of the cured product can be further reduced.

Figure 2010053334
Figure 2010053334

上記式(8)中、tは1〜11の整数を示す。   In said formula (8), t shows the integer of 1-11.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物では、上記エポキシ系樹脂、上記硬化剤及び上記シリカ成分の合計100重量%の内の15重量%〜80重量%が、23℃で液状であることが好ましい。上記エポキシ系樹脂、上記硬化剤及び上記シリカ成分の合計100重量%の内の25重量%以上が23℃で液状であることがより好ましい。23℃で液状である成分の量が15重量%未満であると、Bステージ状態でのエポキシ系樹脂組成物が脆くなり、エポキシ系樹脂組成物が折り曲げられたときに、割れたりする。さらに、23℃で液状である成分の含有量が少なすぎると、硬化剤がビフェニル構造を有するフェノール化合物又はナフタレン構造を有するフェノール化合物である場合に、エポキシ系樹脂組成物がカッター等で切断されたときに切り屑が生じるおそれがある。23℃で液状の成分として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂又はビスフェノールF型エポキシ樹脂を好適に使用できる。   In the epoxy resin composition according to the present invention, 15 wt% to 80 wt% of the total of 100 wt% of the epoxy resin, the curing agent and the silica component is preferably liquid at 23 ° C. More preferably, 25% by weight or more of the total of 100% by weight of the epoxy resin, the curing agent and the silica component is liquid at 23 ° C. If the amount of the component that is liquid at 23 ° C. is less than 15% by weight, the epoxy resin composition in the B-stage state becomes brittle and cracks when the epoxy resin composition is bent. Furthermore, when the content of the component that is liquid at 23 ° C. is too small, the epoxy resin composition was cut with a cutter or the like when the curing agent was a phenol compound having a biphenyl structure or a phenol compound having a naphthalene structure. Occasionally chips may be generated. As a liquid component at 23 ° C., a bisphenol A type epoxy resin or a bisphenol F type epoxy resin can be suitably used.

上記エポキシ系樹脂は、アントラセン骨格を有するエポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、アダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂、トリアジン骨格を有するエポキシ樹脂及びビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1種のエポキシ系樹脂(以下、エポキシ系樹脂Aと略記する)を含むことが好ましい。また、エポキシ系樹脂組成物に含まれている全てのエポキシ系樹脂の合計100重量%中、上記エポキシ系樹脂Aの含有量は2〜20重量%の範囲内であることが好ましい。   The epoxy resin is at least one selected from the group consisting of an epoxy resin having an anthracene skeleton, an epoxy resin having a naphthalene skeleton, an epoxy resin having an adamantane skeleton, an epoxy resin having a triazine skeleton, and an epoxy resin having a biphenyl skeleton. It is preferable that epoxy resin (hereinafter abbreviated as epoxy resin A) is included. Moreover, it is preferable that content of the said epoxy resin A exists in the range of 2-20 weight% in the total 100 weight% of all the epoxy resins contained in the epoxy resin composition.

上記エポキシ樹脂Aが含まれる場合、また上記エポキシ樹脂Aの含有量が上記好ましい範囲内にある場合には、硬化物のガラス転移温度を高め、かつ線膨張率を低くすることができるとともに、エポキシ系樹脂組成物又はシート状成形体のハンドリング性を良好にすることができる。さらに、上記エポキシ系樹脂Aの含有量が上記好ましい範囲内にある場合には、粗化処理された硬化体の表面粗さをより一層小さくできることができる。このため、エポキシ系樹脂組成物は、ビルドアップ用絶縁フィルムに好適に使用できる。   When the epoxy resin A is included, and when the content of the epoxy resin A is within the preferable range, the glass transition temperature of the cured product can be increased and the linear expansion coefficient can be decreased. The handling property of the resin-based resin composition or the sheet-like molded product can be improved. Furthermore, when the content of the epoxy resin A is within the preferable range, the surface roughness of the roughened cured body can be further reduced. For this reason, an epoxy-type resin composition can be used conveniently for the insulating film for buildups.

(硬化剤)
本発明に係るエポキシ系樹脂組成物に含まれている硬化剤は、エポキシ系樹脂を硬化させることができるものであれば特に限定されない。硬化剤として、従来公知の硬化剤を用いることができる。
(Curing agent)
The curing agent contained in the epoxy resin composition according to the present invention is not particularly limited as long as it can cure the epoxy resin. As the curing agent, a conventionally known curing agent can be used.

上記硬化剤としては、例えば、ジシアンジアミド、アミン化合物、アミン化合物から合成される化合物、イミダゾール化合物、ヒドラジド化合物、メラミン化合物、酸無水物、フェノール化合物、活性エステル化合物、ベンゾオキサジン化合物、熱潜在性カチオン重合触媒、光潜在性カチオン重合開始剤又はシアネートエステル樹脂等が挙げられる。これらの硬化剤の誘導体を用いてもよい。硬化剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。また、硬化剤とともに、アセチルアセトン鉄等の硬化触媒を用いてもよい。   Examples of the curing agent include dicyandiamide, amine compounds, compounds synthesized from amine compounds, imidazole compounds, hydrazide compounds, melamine compounds, acid anhydrides, phenol compounds, active ester compounds, benzoxazine compounds, and thermal latent cationic polymerization. A catalyst, photolatent cationic polymerization initiator, cyanate ester resin, etc. are mentioned. Derivatives of these curing agents may be used. As for a hardening | curing agent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. A curing catalyst such as acetylacetone iron may be used together with the curing agent.

上記アミン化合物としては、例えば、鎖状脂肪族アミン化合物、環状脂肪族アミン化合物又は芳香族アミン化合物等が挙げられる。   Examples of the amine compound include a chain aliphatic amine compound, a cyclic aliphatic amine compound, and an aromatic amine compound.

上記鎖状脂肪族アミン化合物としては、例えば、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリオキシプロピレンジアミン又はポリオキシプロピレントリアミン等が挙げられる。   Examples of the chain aliphatic amine compound include ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyoxypropylenediamine, and polyoxypropylenetriamine.

上記環状脂肪族アミン化合物としては、例えば、メンセンジアミン、イソフォロンジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシル)メタン、ジアミノジシクロヘキシルメタン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、N−アミノエチルピペラジン、又は3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン等が挙げられる。   Examples of the cycloaliphatic amine compound include mensendiamine, isophoronediamine, bis (4-amino-3-methylcyclohexyl) methane, diaminodicyclohexylmethane, bis (aminomethyl) cyclohexane, N-aminoethylpiperazine, or 3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro (5,5) undecane and the like can be mentioned.

上記芳香族アミン化合物としては、例えば、m−キシレンジアミン、α−(m/p−アミノフェニル)エチルアミン、m−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、又はα,α−ビス(4−アミノフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン等が挙げられる。   Examples of the aromatic amine compound include m-xylenediamine, α- (m / p-aminophenyl) ethylamine, m-phenylenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, and α, α-bis (4-aminophenyl). ) -P-diisopropylbenzene.

上記アミン化合物として、3級アミン化合物を用いてもよい。3級アミン化合物としては、例えば、N,N−ジメチルピペラジン、ピリジン、ピコリン、ベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール又は1,8−ジアザビスシクロ(5,4,0)ウンデセン−1等が挙げられる。   A tertiary amine compound may be used as the amine compound. Examples of the tertiary amine compound include N, N-dimethylpiperazine, pyridine, picoline, benzyldimethylamine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, and 1,8. -Diazabiscyclo (5,4,0) undecene-1 etc. are mentioned.

上記アミン化合物から合成される化合物の具体例としては、ポリアミノアミド化合物、ポリアミノイミド化合物又はケチミン化合物等が挙げられる。   Specific examples of the compound synthesized from the amine compound include a polyaminoamide compound, a polyaminoimide compound, or a ketimine compound.

上記ポリアミノアミド化合物としては、例えば、上記アミン化合物とカルボン酸とから合成される化合物等が挙げられる。上記カルボン酸としては、例えば、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカ二酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ジヒドロイソフタル酸、テトラヒドロイソフタル酸又はヘキサヒドロイソフタル酸等が挙げられる。   Examples of the polyaminoamide compound include compounds synthesized from the amine compounds and carboxylic acids. Examples of the carboxylic acid include succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecadioic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, dihydroisophthalic acid, tetrahydroisophthalic acid, and hexahydroisophthalic acid.

上記ポリアミノイミド化合物としては、例えば、上記アミン化合物とマレイミド化合物とから合成される化合物等が挙げられる。上記マレイミド化合物としては、例えば、ジアミノジフェニルメタンビスマレイミド等が挙げられる。   Examples of the polyaminoimide compound include compounds synthesized from the amine compound and maleimide compound. Examples of the maleimide compound include diaminodiphenylmethane bismaleimide.

また、上記ケチミン化合物としては、例えば、上記アミン化合物とケトン化合物とから合成される化合物等が挙げられる。   Moreover, as said ketimine compound, the compound etc. which are synthesize | combined from the said amine compound and a ketone compound are mentioned, for example.

上記アミン化合物から合成される化合物の他の具体例としては、上記アミン化合物と、エポキシ化合物、尿素化合物、チオ尿素化合物、アルデヒド化合物、フェノール化合物又はアクリル系化合物とから合成される化合物等が挙げられる。   Other specific examples of the compound synthesized from the amine compound include compounds synthesized from the amine compound and an epoxy compound, a urea compound, a thiourea compound, an aldehyde compound, a phenol compound, or an acrylic compound. .

上記イミダゾール化合物としては、例えば、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾリン、又は2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the imidazole compound include 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1- Benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1- Cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2' -Undecylimidazolyl- (1 ')]-Ethi -S-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-methyl Imidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2- Examples include phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenylimidazoline, or 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole.

上記ヒドラジド化合物としては、例えば、1,3−ビス(ヒドラジノカルボエチル)−5−イソプロピルヒダントイン、7,11−オクタデカジエン−1,18−ジカルボヒドラジド、エイコサン二酸ジヒドラジド又はアジピン酸ジヒドラジド等が挙げられる。   Examples of the hydrazide compound include 1,3-bis (hydrazinocarboethyl) -5-isopropylhydantoin, 7,11-octadecadien-1,18-dicarbohydrazide, eicosane diacid dihydrazide, and adipic acid dihydrazide. Is mentioned.

上記メラミン化合物としては、例えば、2,4−ジアミノ−6−ビニル−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。   Examples of the melamine compound include 2,4-diamino-6-vinyl-1,3,5-triazine.

上記酸無水物としては、例えば、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセロールトリスアンヒドロトリメリテート、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ナジック酸無水物、メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸−無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、ポリアゼライン酸無水物、ポリドデカン二酸無水物又はクロレンド酸無水物等が挙げられる。   Examples of the acid anhydride include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bisanhydro trimellitate, glycerol tris anhydro trimellitate, Methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methyl nadic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, 5- (2,5-dioxo Tetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride-maleic anhydride adduct, dodecenyl succinic anhydride, polyazelinic anhydride, polydodecanedioic anhydride Or chlorendic acid Anhydride, and the like.

上記熱潜在性カチオン重合触媒としては、例えば、イオン性熱潜在性カチオン重合触媒又は非イオン性熱潜在性カチオン重合触媒が挙げられる。   Examples of the thermal latent cationic polymerization catalyst include an ionic thermal latent cationic polymerization catalyst and a nonionic thermal latent cationic polymerization catalyst.

上記イオン性熱潜在性カチオン重合触媒としては、6フッ化アンチモン、6フッ化リン又は4フッ化ホウ素等を対アニオンとする、ベンジルスルホニウム塩、ベンジルアンモニウム塩、ベンジルピリジニウム塩又はベンジルスルホニウム塩等が挙げられる。   Examples of the ionic thermal latent cationic polymerization catalyst include benzylsulfonium salt, benzylammonium salt, benzylpyridinium salt or benzylsulfonium salt having antimony hexafluoride, phosphorus hexafluoride or boron tetrafluoride as a counter anion. Can be mentioned.

上記非イオン性熱潜在性カチオン重合触媒としては、N−ベンジルフタルイミド又は芳香族スルホン酸エステル等が挙げられる。   Examples of the nonionic thermal latent cationic polymerization catalyst include N-benzylphthalimide or aromatic sulfonic acid ester.

上記光潜在性カチオン重合触媒としては、例えば、イオン性光潜在性カチオン重合開始剤又は非イオン性光潜在性カチオン重合開始剤が挙げられる。   Examples of the photolatent cationic polymerization catalyst include ionic photolatent cationic polymerization initiators and nonionic photolatent cationic polymerization initiators.

上記イオン性光潜在性カチオン重合開始剤の具体例としては、オニウム塩類又は有機金属錯体類等が挙げられる。上記オニウム塩類としては、例えば、6フッ化アンチモン、6フッ化リン又は4フッ化ホウ素等を対アニオンとする、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ハロニウム塩又は芳香族スルホニウム塩等が挙げられる。上記有機金属錯体類としては、例えば、鉄−アレン錯体、チタノセン錯体又はアリールシラノール−アルミニウム錯体等が挙げられる。   Specific examples of the ionic photolatent cationic polymerization initiator include onium salts and organometallic complexes. Examples of the onium salts include aromatic diazonium salts, aromatic halonium salts, and aromatic sulfonium salts using antimony hexafluoride, phosphorus hexafluoride, boron tetrafluoride, or the like as a counter anion. Examples of the organometallic complexes include iron-allene complexes, titanocene complexes, and arylsilanol-aluminum complexes.

上記非イオン性光潜在性カチオン重合開始剤の具体例としては、ニトロベンジルエステル、スルホン酸誘導体、リン酸エステル、フェノールスルホン酸エステル、ジアゾナフトキノン又はN−ヒドロキシイミドスルホナート等が挙げられる。   Specific examples of the nonionic photolatent cationic polymerization initiator include nitrobenzyl ester, sulfonic acid derivative, phosphoric ester, phenol sulfonic acid ester, diazonaphthoquinone, N-hydroxyimide sulfonate, and the like.

上記フェノール化合物としては、例えば、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、t−ブチルフェノールノボラック、ジシクロペンタジエンクレゾール、フェノールアラルキル樹脂、α−ナフトールアラルキル樹脂、β−ナフトールアラルキル樹脂又はアミノトリアジンノボラック樹脂等が挙げられる。フェノール化合物として、これらの誘導体を用いてもよい。フェノール化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the phenol compound include phenol novolak, o-cresol novolak, p-cresol novolak, t-butylphenol novolak, dicyclopentadiene cresol, phenol aralkyl resin, α-naphthol aralkyl resin, β-naphthol aralkyl resin or aminotriazine novolak. Examples thereof include resins. These derivatives may be used as the phenol compound. As for a phenol compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記硬化剤として上記フェノール化合物が好適に用いられる。上記フェノール化合物の使用により、硬化物の耐熱性及び寸法安定性を高めることができ、さらに硬化物の吸水性を低くすることができる。さらに、粗化処理された硬化体の表面粗さをより一層小さくすることができる。具体的には、粗化処理された硬化体の表面の算術平均粗さRa及び十点平均粗さRzをより一層小さくすることができる。   The phenol compound is preferably used as the curing agent. By using the phenol compound, the heat resistance and dimensional stability of the cured product can be increased, and the water absorption of the cured product can be lowered. Furthermore, the surface roughness of the roughened cured body can be further reduced. Specifically, the arithmetic average roughness Ra and the ten-point average roughness Rz of the surface of the roughened cured body can be further reduced.

上記硬化剤として、下記式(1)、下記式(2)及び下記式(3)の内のいずれかで表されるフェノール化合物がより好適に用いられる。この場合には、硬化体の表面粗さをさらに一層小さくすることができる。   As the curing agent, a phenol compound represented by any one of the following formula (1), the following formula (2), and the following formula (3) is more preferably used. In this case, the surface roughness of the cured body can be further reduced.

Figure 2010053334
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上記式(1)中、R1はメチル基又はエチル基を示し、R2は水素又は炭化水素基を示し、nは2〜4の整数を示す。   In said formula (1), R1 shows a methyl group or an ethyl group, R2 shows hydrogen or a hydrocarbon group, n shows the integer of 2-4.

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上記式(2)中、mは0〜5の整数を示す。   In said formula (2), m shows the integer of 0-5.

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上記式(3)中、R3は下記式(4a)又は下記式(4b)で表される基を示し、R4は下記式(5a)、下記式(5b)又は下記式(5c)で表される基を示し、R5は下記式(6a)又は下記式(6b)で表される基を示し、R6は水素又は炭素数1〜20の有機基を示し、pは1〜6の整数を示し、qは1〜6の整数を示し、rは1〜11の整数を示す。   In the above formula (3), R3 represents a group represented by the following formula (4a) or the following formula (4b), and R4 is represented by the following formula (5a), the following formula (5b) or the following formula (5c). R5 represents a group represented by the following formula (6a) or the following formula (6b), R6 represents hydrogen or an organic group having 1 to 20 carbon atoms, and p represents an integer of 1 to 6. , Q represents an integer of 1 to 6, and r represents an integer of 1 to 11.

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なかでも、上記式(3)で表されるフェノール化合物であって、上記式(3)中のR4が上記式(5c)で表される基である、ビフェニル構造を有するフェノール化合物が好ましい。この好ましい硬化剤の使用により、硬化物の電気特性及び耐熱性をより一層高くすることができ、かつ、線膨張率及び吸水性をより一層低くすることができる。さらに、熱履歴が与えられた場合の硬化物の寸法安定性をより一層高めることができる。   Among them, a phenol compound represented by the above formula (3), and a phenol compound having a biphenyl structure in which R4 in the above formula (3) is a group represented by the above formula (5c) is preferable. By using this preferable curing agent, the electrical properties and heat resistance of the cured product can be further increased, and the linear expansion coefficient and water absorption can be further decreased. Furthermore, the dimensional stability of the cured product when a thermal history is given can be further enhanced.

上記硬化剤は、下記式(7)で示される構造を有するフェノール化合物であることが特に好ましい。この場合、硬化物の電気特性及び耐熱性をより一層高くすることができ、かつ線膨張率及び吸水性をより一層低くすることができる。さらに、熱履歴が与えられた場合の硬化物の寸法安定性をさらに一層高めることができる。   The curing agent is particularly preferably a phenol compound having a structure represented by the following formula (7). In this case, the electrical properties and heat resistance of the cured product can be further increased, and the linear expansion coefficient and water absorption can be further decreased. Furthermore, the dimensional stability of the cured product when a thermal history is given can be further enhanced.

Figure 2010053334
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上記式(7)中、sは1〜11の整数を示す。   In said formula (7), s shows the integer of 1-11.

上記活性エステル化合物としては、例えば、芳香族多価エステル化合物等が挙げられる。活性エステル化合物を用いた場合には、活性エステル基とエポキシ系樹脂との反応時にOH基が生成されないため、誘電率及び誘電正接に優れた硬化物を得ることができる。上記活性エステル化合物の具体例は、例えば、特開2002−12650号公報に開示されている。   As said active ester compound, an aromatic polyvalent ester compound etc. are mentioned, for example. When an active ester compound is used, no OH group is generated during the reaction between the active ester group and the epoxy resin, so that a cured product having excellent dielectric constant and dielectric loss tangent can be obtained. Specific examples of the active ester compound are disclosed in, for example, JP-A No. 2002-12650.

上記活性エステル化合物の市販品としては、例えば、大日本インキ化学工業社製の商品名「EPICLON EXB9451−65T」等が挙げられる。   As a commercial item of the said active ester compound, the brand name "EPICLON EXB9451-65T" by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. etc. are mentioned, for example.

上記ベンゾオキサジン化合物としては、脂肪族系ベンゾオキサジン樹脂又は芳香族系ベンゾオキサジン樹脂が挙げられる。   Examples of the benzoxazine compound include aliphatic benzoxazine resins and aromatic benzoxazine resins.

上記ベンゾオキサジン化合物の市販品としては、例えば、四国化成学工業社製の商品名「P−d型ベンゾオキサジン」及び「F−a型ベンゾオキサジン」等が挙げられる。   As a commercial item of the said benzoxazine compound, the brand name "Pd type benzoxazine", "Fa type benzoxazine", etc. by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd. etc. are mentioned, for example.

上記シアネートエステル樹脂としては、例えばノボラック型シアネートエステル樹脂、ビスフェノール型シアネートエステル樹脂及び一部をトリアジン化したプレポリマーなどを用いることができる。シアネートエステル樹脂の使用により、硬化物の線膨張率をより一層低くすることができる。   As the cyanate ester resin, for example, a novolak-type cyanate ester resin, a bisphenol-type cyanate ester resin, a prepolymer obtained by partially triazinating, or the like can be used. By using a cyanate ester resin, the linear expansion coefficient of the cured product can be further reduced.

上記イミダゾール化合物を用いる場合に、該イミダゾール化合物とともに、硬化促進剤を用いてもよい。   When using the said imidazole compound, you may use a hardening accelerator with this imidazole compound.

上記硬化促進剤としては、トリフェノルホスフィンなどのホスフィン化合物、DBU、DBN、DBUのフェノール塩、DBNのフェノール塩、オクチル酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、オルソフタル酸塩又はフェノールノボラック樹脂塩等が挙げられる。   Examples of the curing accelerator include phosphine compounds such as triphenorphosphine, DBU, DBN, DBU phenol salt, DBN phenol salt, octylate, p-toluenesulfonate, formate, orthophthalate or phenol novolac resin. Examples include salts.

上記硬化剤は、ビフェニル構造を有するフェノール化合物、ナフタレン構造を有するフェノール化合物、ジシクロペンタジエン構造を有するフェノール化合物、アミノトリアジン構造を有するフェノール化合物及び活性エステル化合物からなる群から選択される少なくとも1種の硬化剤(以下、硬化剤Bと略記する)を含むことが好ましい。エポキシ系樹脂組成物に含まれている全ての硬化剤100重量%中、上記硬化剤Bの含有量は1〜100重量%の範囲内であることが好ましい。上記硬化剤Bが含まれる場合、また上記硬化剤Bの含有量が上記好ましい範囲内にある場合には、硬化物を粗化処理する際に、粗化処理により樹脂成分が悪影響を受け難い。   The curing agent is at least one selected from the group consisting of a phenol compound having a biphenyl structure, a phenol compound having a naphthalene structure, a phenol compound having a dicyclopentadiene structure, a phenol compound having an aminotriazine structure, and an active ester compound. It preferably contains a curing agent (hereinafter abbreviated as curing agent B). It is preferable that content of the said hardening | curing agent B exists in the range of 1 to 100 weight% in 100 weight% of all the hardening | curing agents contained in the epoxy resin composition. When the curing agent B is included, and when the content of the curing agent B is within the preferable range, the resin component is hardly adversely affected by the roughening treatment when the cured product is roughened.

上記硬化剤は、フェノール化合物、活性エステル化合物及びベンゾオキサジン化合物からなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。これらの好ましい硬化剤を用いた場合には、硬化物を粗化処理する際に、粗化処理により樹脂成分が悪影響を受け難い。   The curing agent is preferably at least one selected from the group consisting of a phenol compound, an active ester compound, and a benzoxazine compound. When these preferable curing agents are used, when the cured product is roughened, the resin component is hardly affected by the roughening treatment.

活性エステル化合物又はベンゾオキサジン化合物の使用により、誘電率及び誘電正接により一層優れた硬化物を得ることができる。活性エステル化合物は、芳香族多価エステル化合物であることが好ましい。芳香族多価エステル化合物の使用により、誘電率及び誘電正接にさらに一層優れた硬化物を得ることができる。   By using an active ester compound or a benzoxazine compound, it is possible to obtain a cured product having a better dielectric constant and dielectric loss tangent. The active ester compound is preferably an aromatic polyvalent ester compound. By using the aromatic polyvalent ester compound, it is possible to obtain a cured product that is further excellent in dielectric constant and dielectric loss tangent.

上記硬化剤は、フェノール化合物は、ビフェニル構造を有するフェノール化合物、ナフタレン構造を有するフェノール化合物、ジシクロペンタジエン構造を有するフェノール化合物及びアミノトリアジン構造を有するフェノール化合物からなる群から選択された少なくとも1種であることが特に好ましい。これらの好ましい硬化剤を用いた場合、硬化物を粗化処理する際に、粗化処理により樹脂成分が悪影響をより一層受け難い。具体的には、硬化物を粗化処理する際に、硬化物の表面が粗くなりすぎることなく、シリカ成分を選択的に脱離させて、微細な孔を形成することができる。このため、硬化物の表面に、表面粗さが非常に小さい、微細な凹凸を形成することができる。なかでも、ビフェニル構造を有するフェノール化合物が好ましい。   The curing agent may be at least one selected from the group consisting of a phenol compound having a biphenyl structure, a phenol compound having a naphthalene structure, a phenol compound having a dicyclopentadiene structure, and a phenol compound having an aminotriazine structure. It is particularly preferred. When these preferable hardening | curing agents are used, when roughening a hardened | cured material, a resin component is harder to receive a bad influence by a roughening process. Specifically, when roughening the cured product, the silica component can be selectively desorbed and fine pores can be formed without the surface of the cured product becoming too rough. For this reason, the fine unevenness | corrugation whose surface roughness is very small can be formed in the surface of hardened | cured material. Of these, a phenol compound having a biphenyl structure is preferable.

ビフェニル構造を有するフェノール化合物又はナフタレン構造を有するフェノール化合物の使用により、電気特性、特に誘電正接に優れており、かつ強度及び線膨張率にも優れており、しかも吸水率が低い硬化物を得ることができる。   By using a phenolic compound having a biphenyl structure or a phenolic compound having a naphthalene structure, a cured product having excellent electrical characteristics, particularly dielectric loss tangent, excellent strength and linear expansion coefficient, and low water absorption is obtained. Can do.

エポキシ系樹脂及び硬化剤の分子量が大きいと、硬化物の表面に、微細な粗面を形成しやすい。エポキシ系樹脂の重量平均分子量は、微細な粗面を形成するのに影響する。ただし、硬化剤の重量平均分子量の方が、エポキシ系樹脂の重量平均分子量よりも、微細な粗面を形成するのに大きく影響する。硬化剤の重量平均分子量は、500以上であることが好ましく、1800以上であることがより好ましい。硬化剤の重量平均分子量の好ましい上限は、15000である。硬化剤の重量平均分子量が大きすぎると、膨潤及び粗化工程で樹脂がエッチングされ難くなったり、レーザー穴あけ加工の際に樹脂を除去できなかったりする可能性がある。   When the molecular weights of the epoxy resin and the curing agent are large, it is easy to form a fine rough surface on the surface of the cured product. The weight average molecular weight of the epoxy resin affects the formation of a fine rough surface. However, the weight average molecular weight of the curing agent has a greater influence on the formation of a fine rough surface than the weight average molecular weight of the epoxy resin. The weight average molecular weight of the curing agent is preferably 500 or more, and more preferably 1800 or more. A preferable upper limit of the weight average molecular weight of the curing agent is 15000. If the weight average molecular weight of the curing agent is too large, the resin may not be easily etched in the swelling and roughening process, or the resin may not be removed during laser drilling.

また、エポキシ系樹脂のエポキシ当量及び硬化剤の当量が大きいと、硬化物の表面に微細な粗面を形成しやすい。さらに、硬化剤が固体であり、かつ硬化剤の軟化温度が60℃以上であると、硬化物の表面に微細な粗面を形成しやすい。   Moreover, when the epoxy equivalent of an epoxy resin and the equivalent of a hardening | curing agent are large, it is easy to form a fine rough surface on the surface of hardened | cured material. Furthermore, when the curing agent is solid and the softening temperature of the curing agent is 60 ° C. or higher, it is easy to form a fine rough surface on the surface of the cured product.

上記エポキシ系樹脂100重量部に対して、上記硬化剤は1〜200重量部の範囲内で含有されることが好ましい。硬化剤の含有量が少なすぎると、エポキシ系樹脂が充分に硬化しないことがある。硬化剤の含有量が多すぎると、エポキシ系樹脂を硬化させる効果が飽和することがある。上記硬化剤の含有量のより好ましい下限は30重量部であり、より好ましい上限は140重量部である。   The curing agent is preferably contained within a range of 1 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. When there is too little content of a hardening | curing agent, an epoxy resin may not fully harden | cure. If the content of the curing agent is too large, the effect of curing the epoxy resin may be saturated. The minimum with more preferable content of the said hardening | curing agent is 30 weight part, and a more preferable upper limit is 140 weight part.

(シリカ成分)
本発明のエポキシ系樹脂組成物には、シリカ粒子がシランカップリング剤により表面よりされているシリカ成分が含まれている。シリカ成分は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Silica component)
The epoxy resin composition of the present invention contains a silica component in which silica particles are formed from the surface by a silane coupling agent. Only 1 type may be used for a silica component and 2 or more types may be used together.

上記シリカ粒子の平均粒子径は、1μm以下である。平均粒子径が1μm以下であることにより、硬化物が粗化処理された硬化体に、微細な粗面を形成できる。また、硬化物の表面に平均径1μm以下程度の大きさの微細な孔を形成できる。上記シリカ粒子の平均粒子径は、50nm以上であることが好ましい。   The average particle diameter of the silica particles is 1 μm or less. When the average particle diameter is 1 μm or less, a fine rough surface can be formed on the cured body obtained by roughening the cured product. In addition, fine holes having an average diameter of about 1 μm or less can be formed on the surface of the cured product. The average particle diameter of the silica particles is preferably 50 nm or more.

上記シリカ粒子の平均粒子径が1μmより大きいと、硬化物を粗化処理する際に、シリカ成分が脱離し難くなる。また、粗化処理された硬化体の表面に金属層を形成するために、めっき処理した場合に、脱離しなかったシリカ成分と樹脂成分との空隙に、めっきが潜り込むことがある。このため、硬化物の表面に金属層が回路として形成されている場合に、回路に不具合が生じるおそれがある。   When the average particle diameter of the silica particles is larger than 1 μm, the silica component is hardly detached when the cured product is roughened. In addition, when a plating process is performed to form a metal layer on the surface of the hardened body that has been subjected to the roughening treatment, the plating may sink into the gap between the silica component and the resin component that have not been detached. For this reason, when the metal layer is formed in the surface of hardened | cured material as a circuit, there exists a possibility that a malfunction may arise in a circuit.

特に、ビフェニル構造を有するフェノール化合物、ナフタレン構造を有するフェノール化合物、ジシクロペンタジエン構造を有するフェノール化合物、アミノトリアジン構造を有するフェノール化合物、芳香族多価エステル化合物又はベンゾオキサジン化合物を硬化剤として用いた場合には、粗化処理によりシリカ成分の周辺の樹脂成分は削れにくい。この場合には、シリカ粒子の平均粒子径が1μmよりも大きいと、シリカ成分がより一層脱離し難くなる。   In particular, when a phenol compound having a biphenyl structure, a phenol compound having a naphthalene structure, a phenol compound having a dicyclopentadiene structure, a phenol compound having an aminotriazine structure, an aromatic polyvalent ester compound, or a benzoxazine compound is used as a curing agent In the case of the roughening treatment, the resin component around the silica component is hardly scraped off. In this case, when the average particle diameter of the silica particles is larger than 1 μm, the silica component is more difficult to desorb.

平均粒子径が1μm以下のシリカ粒子であって、シランカップリング剤により表面処理されていないシリカ粒子を用いた場合には、シリカ粒子が凝集しやすい。また、平均粒子径が1μm以下のシリカ粒子がイミダゾールシランにより表面処理されているイミダゾールシラン処理シリカを用いた場合にも、イミダゾールシラン処理シリカが凝集しやすい。このため、エポキシ系樹脂組成物中にシリカ粒子又はイミダゾールシラン処理シリカを充分に分散できないことがあった。   When silica particles having an average particle diameter of 1 μm or less and not surface-treated with a silane coupling agent are used, the silica particles tend to aggregate. Moreover, also when using the imidazole silane processing silica in which the silica particle whose average particle diameter is 1 micrometer or less is surface-treated with imidazole silane, the imidazole silane processing silica tends to aggregate. For this reason, silica particles or imidazole silane-treated silica may not be sufficiently dispersed in the epoxy resin composition.

これに対し、本発明では、イミダゾールシランではなく、アミノ基を有するシラン化合物、メルカプト基を有するシラン化合物、イソシアネート基を有するシラン化合物、酸無水物基を有するシラン化合物及びイソシアヌル酸基を有するシラン化合物からなる群から選択された少なくとも1種のシランカップリング剤により、上記シリカ粒子が表面処理されているシリカ成分が用いられるため、シリカ成分が凝集し難い。このため、エポキシ系樹脂組成物中でのシリカ成分の分散性を高めることができる。このため、シリカ成分の添加量を比較的多くすることができる。シリカ成分の添加量が多くても、硬化物が粗化処理された硬化体に、微細な粗面を形成できる。   In contrast, in the present invention, not an imidazole silane, but a silane compound having an amino group, a silane compound having a mercapto group, a silane compound having an isocyanate group, a silane compound having an acid anhydride group, and a silane compound having an isocyanuric acid group Since the silica component in which the silica particles are surface-treated is used by at least one silane coupling agent selected from the group consisting of: the silica component hardly aggregates. For this reason, the dispersibility of the silica component in an epoxy resin composition can be improved. For this reason, the addition amount of a silica component can be made comparatively large. Even if the addition amount of the silica component is large, a fine rough surface can be formed on the cured product obtained by roughening the cured product.

シリカ粒子は粒子径が小さくなるほど凝集しやすくなる傾向がある。アミノ基を有するシラン化合物、メルカプト基を有するシラン化合物、イソシアネート基を有するシラン化合物、酸無水物基を有するシラン化合物及びイソシアヌル酸基を有するシラン化合物からなる群から選択された少なくとも1種のシランカップリング剤により、上記シリカ粒子が表面処理されているシリカ成分は、イミダゾールシランに比較して凝集しにくいので、使用するシリカの粒子径を小さくすることも可能になる。中でも特に、アミノ基を有するシラン化合物によりシリカ粒子が表面処理されているシリカ成分を用いた場合には、粗化処理された硬化体の表面粗さを極めて小さくすることができる。   Silica particles tend to aggregate as the particle size decreases. At least one silane cup selected from the group consisting of a silane compound having an amino group, a silane compound having a mercapto group, a silane compound having an isocyanate group, a silane compound having an acid anhydride group, and a silane compound having an isocyanuric acid group Since the silica component in which the silica particles are surface-treated with the ring agent is less likely to aggregate than imidazole silane, the particle diameter of the silica used can be reduced. In particular, when a silica component whose silica particles are surface-treated with a silane compound having an amino group is used, the surface roughness of the roughened cured body can be extremely reduced.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物では、例えば10個程度以上のシリカ成分が凝集した凝集物が極めて生じ難い。   In the epoxy resin composition according to the present invention, for example, an aggregate in which about 10 or more silica components are aggregated is extremely unlikely to occur.

上記シリカ粒子の平均粒子径として、50%となるメディアン径(d50)の値を採用できる。上記平均粒子径は、レーザー回折散乱方式の粒度分布測定装置を用いて測定できる。   As the average particle diameter of the silica particles, a median diameter (d50) value of 50% can be adopted. The average particle size can be measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus.

平均粒子径の異なる複数種類のシリカ粒子を用いてもよい。細密充填を考慮して、粒度分布の異なる複数種類のシリカ粒子を用いることが好ましい。この場合には、例えば部品内蔵基板のような流動性の要求される用途に、エポキシ系樹脂組成物を好適に使用できる。また、上記シリカ成分とは別に、平均粒子径が数10nmのシリカ粒子を用いることにより、エポキシ系樹脂組成物の粘度を高くしたり、エポキシ系樹脂組成物のチクソトロピー性を制御したりすることができる。   A plurality of types of silica particles having different average particle diameters may be used. In consideration of fine packing, it is preferable to use a plurality of types of silica particles having different particle size distributions. In this case, for example, the epoxy resin composition can be suitably used for applications requiring fluidity such as a component-embedded substrate. In addition to the silica component, by using silica particles having an average particle size of several tens of nanometers, the viscosity of the epoxy resin composition can be increased, or the thixotropy of the epoxy resin composition can be controlled. it can.

シリカ粒子の最大粒子径は、5μm以下であることが好ましい。最大粒子径が5μm以下であると、硬化物を粗化処理する際に、シリカ成分がより一層脱離しやすくなる。さらに、硬化物の表面に比較的大きな孔が生じ難く、均一かつ微細な凹凸を形成できる。   The maximum particle size of the silica particles is preferably 5 μm or less. When the maximum particle size is 5 μm or less, the silica component is more easily detached when the cured product is roughened. Furthermore, it is difficult to form relatively large holes on the surface of the cured product, and uniform and fine irregularities can be formed.

特に、ビフェニル構造を有するフェノール化合物、芳香族多価エステル化合物又はベンゾオキサジン化合物を硬化剤として用いた場合には、硬化物の表面から硬化物内に粗化液が浸透し難く、シリカ成分が比較的脱離し難い。しかし、最大粒子径が5μm以下のシリカ成分をの使用により、シリカ成分を無理なく脱離させることができる。硬化物の表面にL/Sが15μm/15μm以下の微細配線を形成する場合に、絶縁信頼性を高めることができるので、シリカの最大粒子径は2μm以下であることが好ましい。なお、「L/S」とは、配線の幅方向の寸法(L)/配線が形成されていない部分の幅方向の寸法(S)を示す。   In particular, when a phenol compound having a biphenyl structure, an aromatic polyvalent ester compound, or a benzoxazine compound is used as a curing agent, the roughening liquid does not easily penetrate into the cured product from the surface of the cured product, and the silica component is compared. It is difficult to detach. However, by using a silica component having a maximum particle size of 5 μm or less, the silica component can be easily removed. When forming fine wiring with L / S of 15 μm / 15 μm or less on the surface of the cured product, the insulation reliability can be improved, so the maximum particle diameter of silica is preferably 2 μm or less. Note that “L / S” indicates the dimension (L) in the width direction of the wiring / the dimension (S) in the width direction of the portion where the wiring is not formed.

シリカ粒子の形状は特に限定されない。シリカ粒子の形状としては、例えば球状又は不定形状等が挙げられる。硬化物を粗化処理する際に、シリカ成分がより一層脱離しやすいため、シリカ粒子は球状であることが好ましく、真球状であることがより好ましい。   The shape of the silica particles is not particularly limited. Examples of the shape of the silica particles include a spherical shape or an indefinite shape. Since the silica component is more easily detached when the cured product is roughened, the silica particles are preferably spherical and more preferably true spherical.

シリカ粒子の比表面積は、3m/g以上であることが好ましい。比表面積が3m/g未満であると、硬化物の機械的特性が低下するおそれがある。さらに、例えば粗化処理された硬化体の表面に金属層が形成された場合に、硬化物と金属層との密着性が低下することがある。上記比表面積は、BET法により求めることができる。 The specific surface area of the silica particles is preferably 3 m 2 / g or more. There exists a possibility that the mechanical characteristic of hardened | cured material may fall that a specific surface area is less than 3 m < 2 > / g. Furthermore, for example, when a metal layer is formed on the surface of the roughened cured body, the adhesion between the cured product and the metal layer may be reduced. The specific surface area can be determined by the BET method.

上記シリカ粒子としては、天然シリカ原料を粉砕して得られる結晶性シリカ、天然シリカ原料を火炎溶融し、粉砕して得られる破砕溶融シリカ、天然シリカ原料を火炎溶融、粉砕及び火炎溶融して得られる球状溶融シリカ、フュームドシリカ(アエロジル)、又はゾルゲル法シリカなどの合成シリカ等が挙げられる。   As the silica particles, crystalline silica obtained by pulverizing natural silica raw material, crushed fused silica obtained by flame melting and pulverizing natural silica raw material, and natural silica raw material obtained by flame melting, pulverizing and flame melting And synthetic silica such as spherical fused silica, fumed silica (Aerosil), or sol-gel silica.

上記合成シリカは、イオン性不純物を含んでいる場合が多い。純度が高いことから、溶融シリカが好適に用いられる。シリカ粒子は、溶剤に分散された状態でシリカスラリーとして用いられてよい。シリカスラリーの使用により、エポキシ系樹脂組成物の製造の際に、作業性及び生産性を高めることができる。   The synthetic silica often contains ionic impurities. Since the purity is high, fused silica is preferably used. The silica particles may be used as a silica slurry in a state dispersed in a solvent. By using the silica slurry, workability and productivity can be improved during the production of the epoxy resin composition.

上記シランカップリング剤として、アミノ基を有するシラン化合物、メルカプト基を有するシラン化合物、イソシアネート基を有するシラン化合物、酸無水物基を有するシラン化合物及びイソシアヌル酸基を有するシラン化合物からなる群から選択された少なくとも1種が用いられる。シランカップリング剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The silane coupling agent is selected from the group consisting of silane compounds having amino groups, silane compounds having mercapto groups, silane compounds having isocyanate groups, silane compounds having acid anhydride groups, and silane compounds having isocyanuric acid groups. At least one kind is used. As for a silane coupling agent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記アミノ基を有するシラン化合物の具体例としては、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン又は3−(4−メチルピペラジノ)プロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Specific examples of the silane compound having an amino group include N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyltrimethoxysilane, N- 2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propyl Examples include amine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, and 3- (4-methylpiperazino) propyltrimethoxysilane.

上記メルカプト基を有するシラン化合物の具体例としては、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン又は3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Specific examples of the silane compound having a mercapto group include 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane.

上記イソシアネートシランの具体例としては、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Specific examples of the isocyanate silane include 3-isocyanatopropyltriethoxysilane.

上記酸無水物基を有するシラン化合物として、従来公知の酸無水物基を有するシラン化合物を用いることができる。   As the silane compound having an acid anhydride group, a conventionally known silane compound having an acid anhydride group can be used.

上記イソシアヌル酸基を有するシラン化合物として、従来公知のイソシアヌル酸基を有するシラン化合物を用いることができる。   As the silane compound having an isocyanuric acid group, a conventionally known silane compound having an isocyanuric acid group can be used.

上記シリカ粒子を上記シランカップリング剤により表面処理し、シリカ成分を得た後、該シリカ成分を樹脂組成物に添加することが好ましい。この場合には、シリカ成分の分散性をより一層高めることができる。   After the silica particles are surface-treated with the silane coupling agent to obtain a silica component, the silica component is preferably added to the resin composition. In this case, the dispersibility of the silica component can be further enhanced.

上記シリカ粒子をシランカップリング剤により表面処理する方法としては、例えば、以下の第1〜第3の方法が挙げられる。   Examples of the method for surface-treating the silica particles with a silane coupling agent include the following first to third methods.

第1の方法として、乾式法が挙げられる。乾式法としては、例えば、シリカ粒子にシランカップリング剤を直接付着させる方法等が挙げられる。乾式法では、ミキサーにシリカ粒子を仕込んで、攪拌しながらシランカップリング剤のアルコール溶液又は水溶液を滴下又は噴霧した後、さらに攪拌し、ふるいにより分級する。その後、加熱によりシランカップリング剤とシリカ粒子とを脱水縮合させることにより、上記シリカ成分を得ることができる。得られたシリカ成分は、溶剤に分散された状態でシリカスラリーとして使用されてもよい。   The first method includes a dry method. Examples of the dry method include a method of directly attaching a silane coupling agent to silica particles. In the dry method, silica particles are charged into a mixer, and an alcohol solution or an aqueous solution of a silane coupling agent is dropped or sprayed with stirring, and then further stirred and classified by sieving. Thereafter, the silica component can be obtained by dehydrating and condensing the silane coupling agent and the silica particles by heating. The obtained silica component may be used as a silica slurry in a state dispersed in a solvent.

第2の方法として、湿式法が挙げられる。湿式法では、シリカ粒子を含むシリカスラリーを攪拌しながらシランカップリング剤を添加し、攪拌した後、濾過、乾燥及びふるいによる分級を行う。次に、加熱によりシラン化合物とシリカとを脱水縮合させることにより、上記シリカ成分を得ることができる。   The second method includes a wet method. In the wet method, a silane coupling agent is added while stirring a silica slurry containing silica particles, and after stirring, classification is performed by filtration, drying, and sieving. Next, the silica component can be obtained by dehydrating and condensing the silane compound and silica by heating.

第3の方法として、シリカ粒子を含むシリカスラリーを攪拌しながら、シランカップリング剤を添加した後、加熱還流処理により脱水縮合を進行させる方法が挙げられる。得られたシリカ成分は、溶剤に分散された状態でシリカスラリーとして使用されてもよい。   As a third method, there is a method in which dehydration condensation proceeds by heating and refluxing after adding a silane coupling agent while stirring a silica slurry containing silica particles. The obtained silica component may be used as a silica slurry in a state dispersed in a solvent.

未処理のシリカ粒子を用いた場合、エポキシ系樹脂組成物を硬化させても、シリカ粒子がエポキシ系樹脂と複合化されない。上記シリカ粒子が上記特定のシランカップリング剤により表面処理されているシリカ成分を用いた場合には、エポキシ系樹脂組成物を硬化させると、シリカ成分がエポキシ系樹脂と複合化される。このため、硬化物のガラス転移温度Tgが高くなる。すなわち、未処理のシリカ粒子ではなく、上記シリカ粒子が上記シランカップリング剤により表面処理されているシリカ成分がエポキシ系樹脂組成物に含まれていることにより、硬化物のガラス転移温度Tgを高くすることができる。   When untreated silica particles are used, the silica particles are not combined with the epoxy resin even if the epoxy resin composition is cured. When the silica component in which the silica particles are surface-treated with the specific silane coupling agent is used, when the epoxy resin composition is cured, the silica component is combined with the epoxy resin. For this reason, the glass transition temperature Tg of hardened | cured material becomes high. That is, the silica component in which the silica particles are surface-treated with the silane coupling agent, not the untreated silica particles, is contained in the epoxy resin composition, so that the glass transition temperature Tg of the cured product is increased. can do.

特にイソシアヌル酸基を有するシラン化合物によりシリカ粒子が表面処理されているシリカ成分の使用により、硬化物のガラス転移温度Tgをより一層高くすることができる。   In particular, the use of a silica component in which silica particles are surface-treated with a silane compound having an isocyanuric acid group can further increase the glass transition temperature Tg of the cured product.

また、上記シリカ粒子が上記特定のシランカップリング剤により表面処理されているシリカ成分の使用により、硬化物のリフロー耐性を高めることができる。   Moreover, the reflow resistance of hardened | cured material can be improved by use of the silica component by which the said silica particle is surface-treated with the said specific silane coupling agent.

イミダゾールシランによりシリカ粒子が表面処理されているシリカ成分を用いた場合には、シリカ成分の親水性が比較的高いため、硬化物の吸水性が高くなる。   When a silica component whose silica particles are surface-treated with imidazole silane is used, the water absorption of the cured product is increased because the hydrophilicity of the silica component is relatively high.

これに対し、アミノ基を有するシラン化合物、メルカプト基を有するシラン化合物、イソシアネート基を有するシラン化合物、酸無水物基を有するシラン化合物及びイソシアヌル酸基を有するシラン化合物からなる群から選択された少なくとも1種によりシリカ粒子が表面処理されているシリカを用いた場合には、硬化物の吸水性を低くすることができ、かつ硬化物の絶縁信頼性を高くすることができる。具体的には例えば、HAST(高度加速ストレス試験)環境下やPCT(プレッシャークッカーテスト)環境下等のような高温及び高湿条件下でも、硬化物の体積抵抗率を高く維持できる。   On the other hand, at least one selected from the group consisting of a silane compound having an amino group, a silane compound having a mercapto group, a silane compound having an isocyanate group, a silane compound having an acid anhydride group, and a silane compound having an isocyanuric acid group When silica whose surface is treated with seeds is used, the water absorption of the cured product can be lowered, and the insulation reliability of the cured product can be increased. Specifically, for example, the volume resistivity of the cured product can be maintained high even under high temperature and high humidity conditions such as in a HAST (highly accelerated stress test) environment or a PCT (pressure cooker test) environment.

上記エポキシ系樹脂及び上記硬化剤の合計100重量部に対して、上記シリカ成分は25〜400重量部の範囲内で含有される。上記エポキシ系樹脂及び上記硬化剤の合計100重量部対する上記シリカ成分の含有量の好ましい下限は43重量部であり、好ましい上限は250重量部であり、より好ましい上限は150重量部である。シリカ成分の含有量が少なすぎると、硬化物を粗化処理した際に、シリカ成分の脱離により形成される孔の総表面積が小さくなる。このため、粗化処理された硬化体の表面に金属層が形成された場合に、硬化物と金属層との接着強度を充分に高めることができないことがある。上記シリカ成分の含有量が多すぎると、粗化処理された硬化体が脆くなりやすく、かつ硬化体と金属層との接着強度が低下することがある。   The silica component is contained within a range of 25 to 400 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the epoxy resin and the curing agent. The minimum with preferable content of the said silica component with respect to a total of 100 weight part of the said epoxy resin and the said hardening | curing agent is 43 weight part, A preferable upper limit is 250 weight part, A more preferable upper limit is 150 weight part. When there is too little content of a silica component, when roughening a hardened | cured material, the total surface area of the hole formed by detachment | desorption of a silica component will become small. For this reason, when a metal layer is formed on the surface of the roughened cured body, the adhesive strength between the cured product and the metal layer may not be sufficiently increased. When there is too much content of the said silica component, the hardened | cured material roughened is easy to become weak, and the adhesive strength of a hardened | cured material and a metal layer may fall.

本発明では、シリカ成分の含有量が多くても、例えば上記エポキシ系樹脂及び上記硬化剤の合計100重量部対する上記シリカ成分の含有量が100重量部以上であっても、シリカ成分をエポキシ系樹脂組成物に充分に分散させることができる。従って、硬化物の表面が粗化処理された硬化体の表面粗さを小さくすることができ、かつ硬化体の線膨張率を低くすることができる。また、本発明では、シリカ成分の分散性に優れているため、従来の分散し難いシリカ成分を用いた場合と比較して、シリカ成分の配合量が同じであっても、線膨張率を低くすることができる。   In the present invention, even if the content of the silica component is large, for example, even if the content of the silica component with respect to a total of 100 parts by weight of the epoxy resin and the curing agent is 100 parts by weight or more, the silica component is epoxy-based. It can be sufficiently dispersed in the resin composition. Therefore, the surface roughness of the cured product obtained by roughening the surface of the cured product can be reduced, and the linear expansion coefficient of the cured product can be reduced. Further, in the present invention, since the dispersibility of the silica component is excellent, the linear expansion coefficient is low even when the amount of the silica component is the same as compared with the conventional case where the silica component that is difficult to disperse is used. can do.

上記シリカ成分は、シリカ粒子100重量部がシランカップリング剤0.6〜5重量部により表面処理されているシリカ成分であることが好ましい。シランカップリング剤の量の好ましい下限は2重量部であり、好ましい上限は4重量部である。シランカップリング剤の量が少なすぎると、粗化処理された硬化体の表面粗さが大きくなりやすい。シランカップリング剤の量が多すぎると、エポキシ系樹脂組成物の保存安定性が低下し、エポキシ系樹脂組成物がゲル化しやすくなる。   The silica component is preferably a silica component in which 100 parts by weight of silica particles are surface-treated with 0.6 to 5 parts by weight of a silane coupling agent. A preferable lower limit of the amount of the silane coupling agent is 2 parts by weight, and a preferable upper limit is 4 parts by weight. If the amount of the silane coupling agent is too small, the surface roughness of the roughened cured body tends to increase. When there is too much quantity of a silane coupling agent, the storage stability of an epoxy resin composition will fall, and an epoxy resin composition will become easy to gelatinize.

(有機化層状珪酸塩)
本発明に係るエポキシ系樹脂組成物は、有機化層状珪酸塩を含有することが好ましい。
(Organized layered silicate)
The epoxy resin composition according to the present invention preferably contains an organically modified layered silicate.

有機化層状珪酸塩を含むエポキシ系樹脂組成物では、シリカ成分の周囲に、有機化層状珪酸塩が存在する。このため、硬化物を膨潤処理及び粗化処理する際に、硬化物の表面に存在するシリカ成分がより一層脱離しやすくなる。これは、有機化層状珪酸塩の層間又は有機化層状珪酸塩と樹脂成分との間のナノオーダーの無数の界面に、膨潤液又は粗化液が浸透するとともに、エポキシ系樹脂とシリカ成分との界面にも、膨潤液又は粗化液が浸透するためと推定される。ただし、シリカ成分が脱離しやすくなするメカニズムは、明らかではない。   In the epoxy resin composition containing the organic layered silicate, the organic layered silicate exists around the silica component. For this reason, when the cured product is subjected to a swelling treatment and a roughening treatment, the silica component present on the surface of the cured product is more easily detached. This is because the swelling liquid or the roughening liquid permeates through an infinite number of nano-order interfaces between the organic layered silicate layers or between the organic layered silicate and the resin component, and between the epoxy resin and the silica component. It is presumed that the swelling liquid or the roughening liquid also permeates the interface. However, the mechanism that facilitates the separation of the silica component is not clear.

上記有機化層状珪酸塩とは、例えば、スメクタイト系粘土鉱物、膨潤性マイカ、バーミキュライト又はハロイサイト等の層状珪酸塩が有機化処理された有機化層状珪酸塩が挙げられる。有機化層状珪酸塩は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the organically modified layered silicate include an organically modified layered silicate obtained by organically treating a layered silicate such as smectite clay mineral, swelling mica, vermiculite, or halloysite. As for the organic layered silicate, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記スメクタイト系粘土鉱物としては、モンモリロナイト、ヘクトライト、サポナイト、バイデライト、スティブンサイト又はノントロナイト等が挙げられる。   Examples of the smectite clay mineral include montmorillonite, hectorite, saponite, beidellite, stevensite, and nontronite.

上記有機化層状珪酸塩として、モンモリロナイト、ヘクトライト及び膨潤性マイカからなる群より選択される少なくとも1種の層状珪酸塩が有機化処理された有機化層状珪酸塩が好適に用いられる。   As the organic layered silicate, an organic layered silicate obtained by organically treating at least one layered silicate selected from the group consisting of montmorillonite, hectorite and swellable mica is preferably used.

エポキシ系樹脂及び硬化剤の合計100重量部に対して、上記有機化層状珪酸塩は0.01〜2重量部の範囲内で含有されることが好ましい。上記有機化層状珪酸塩の含有量が少なすぎると、シリカ成分を脱離しやすくする効果が不足することがある。上記有機化層状珪酸塩の含有量が多すぎると、膨潤液又は粗化液の浸透する界面が多くなりすぎて、粗化処理された硬化体の表面粗さが比較的大きくなる。特に、エポキシ系樹脂組成物が封止剤用途に用いられる場合には、有機化層状珪酸塩の含有量が多すぎると、膨潤液又は粗化液の浸透速度が早くなるため、粗化処理により硬化体の表面粗さが変化する速度が速すぎて、膨潤処理又は粗化処理の処理時間を充分に確保できないことがある。   The organically modified layered silicate is preferably contained within a range of 0.01 to 2 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the epoxy resin and the curing agent. If the content of the organically modified layered silicate is too small, the effect of easily detaching the silica component may be insufficient. When there is too much content of the said organic-ized layered silicate, the interface which a swelling liquid or a roughening liquid osmose | permeates will increase too much, and the surface roughness of the roughened hardening body will become comparatively large. In particular, when the epoxy resin composition is used for sealant applications, if the content of the organically modified layered silicate is too large, the permeation rate of the swelling liquid or the roughening liquid becomes faster. The speed at which the surface roughness of the cured body changes is too fast, and it may not be possible to secure sufficient treatment time for the swelling treatment or roughening treatment.

なお、エポキシ系樹脂及び硬化剤の合計100重量部に対する有機化層状珪酸塩の含有量が2重量部を超えると、粗化処理された硬化体の表面粗さが比較的大きくなりやすい。   When the content of the organically modified layered silicate with respect to 100 parts by weight of the total of the epoxy resin and the curing agent exceeds 2 parts by weight, the surface roughness of the roughened cured body tends to be relatively large.

なお、有機化層状珪酸塩を用いなかった場合には、粗化処理された硬化体の表面粗さはより一層小さくなる。シリカ成分と有機化層状珪酸塩の配合比率の調整により、粗化処理された硬化物の表面粗さを制御できる。   Note that when the organic layered silicate is not used, the surface roughness of the roughened cured body is further reduced. By adjusting the blending ratio of the silica component and the organically modified layered silicate, the surface roughness of the roughened cured product can be controlled.

エポキシ系樹脂及び硬化剤の合計100重量部に対して、上記シリカ成分が25〜400重量部の範囲内、かつ上記有機化層状珪酸塩が0.1〜2重量部の範囲内で含有されていることが好ましい。この場合には、エポキシ系樹脂組成物の硬化物により形成された基板を、炭酸ガスレーザーなどのレーザーにより穿孔加工した際に、エポキシ系樹脂、硬化剤及び有機化層状珪酸塩が同時に分解し、蒸発しやすい。このため、部分的に残存する樹脂由来成分の量や有機化層状珪酸塩の残渣を極めて少なくすることができる。従って、例えば、デスミア処理する場合、デスミア処理を複数回又は複数種を組み合わせて行わなくても、残存している有機化層状珪酸塩の残渣を容易に除去できる。よって、穿孔加工により残渣が生じ難く、従って、めっき不良等を抑制できる。   The silica component is contained in the range of 25 to 400 parts by weight and the organically modified layered silicate is contained in the range of 0.1 to 2 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the epoxy resin and the curing agent. Preferably it is. In this case, when the substrate formed of the cured product of the epoxy resin composition is perforated by a laser such as a carbon dioxide laser, the epoxy resin, the curing agent and the organically modified layered silicate are simultaneously decomposed, Evaporates easily. For this reason, the amount of the resin-derived component partially remaining and the residue of the organically modified layered silicate can be extremely reduced. Therefore, for example, when desmear treatment is performed, the remaining organic layered silicate residue can be easily removed without performing desmear treatment a plurality of times or in combination of a plurality of types. Therefore, a residue is not easily generated by the drilling process, and hence plating defects and the like can be suppressed.

なお、上記デスミア処理は、公知の方法を用いることができる。上記デスミア処理は、例えばプラズマ処理法又は薬液処理法等を用いることができる。   In addition, the said desmear process can use a well-known method. For the desmear treatment, for example, a plasma treatment method or a chemical solution treatment method can be used.

(マレイミド化合物)
本発明のエポキシ系樹脂組成物は、マレイミド化合物を含有することが好ましい。
(Maleimide compound)
The epoxy resin composition of the present invention preferably contains a maleimide compound.

上記マレイミド化合物は、1分子中に1個以上のマレイミド基を有する化合物であれば特に限定されない。上記マレイミド化合物としては、例えば、N−フェニルマレイミド、N−ヒドロキシフェニルマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)−フェニル]プロパン、ビス(3,5−ジメチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3,5−ジエチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ポリフェニルメタンマレイミド、これらマレイミド化合物のプレポリマー、もしくはマレイミド化合物とアミン化合物のプレポリマーなどが挙げられる。上記マレイミド化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The maleimide compound is not particularly limited as long as it is a compound having one or more maleimide groups in one molecule. Examples of the maleimide compound include N-phenylmaleimide, N-hydroxyphenylmaleimide, bis (4-maleimidophenyl) methane, 2,2-bis [4- (4-maleimidophenoxy) -phenyl] propane, and bis (3 , 5-dimethyl-4-maleimidophenyl) methane, bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane, bis (3,5-diethyl-4-maleimidophenyl) methane, polyphenylmethanemaleimide, these Examples include a prepolymer of a maleimide compound or a prepolymer of a maleimide compound and an amine compound. As for the said maleimide compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記マレイミド化合物として、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン又はポリフェニルメタンマレイミドが好適に用いられる。   As the maleimide compound, bis (4-maleimidophenyl) methane, 2,2-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] propane, bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane or poly Phenylmethane maleimide is preferably used.

上記マレイミド化合物の市販品としては、商品名「BMI−1000」のビス(4−マレイミドフェニル)メタン(4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド)、商品名「BMI−2000」のポリフェニルメタンマレイミド(フェニルメタンマレイミドのオリゴマー)、及び商品名「BMI−5100」のビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン(以上いずれも大和化成工業社製)、並びに商品名「BMI」のビス(4−マレイミドフェニル)メタン(4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド)、商品名「BMI−70」のビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、及び商品名「BMI−80」の2,2’−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン(以上いずれもケイ・アイ化成社製)等が挙げられる。   Commercially available products of the maleimide compound include bis (4-maleimidophenyl) methane (4,4′-diphenylmethane bismaleimide) with a trade name “BMI-1000”, polyphenylmethanemaleimide (phenyl) with a trade name “BMI-2000”. Oligomer of methane maleimide), bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane (trade name “BMI” manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.) and trade name “BMI-5100” (4-maleimidophenyl) methane (4,4′-diphenylmethane bismaleimide), bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane under the trade name “BMI-70”, and trade name “BMI-80” 2,2′-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] propane (above) Re also include KI Chemical Industry Co., Ltd.), and the like.

上記マレイミド化合物の使用により、硬化物の熱膨張特性、吸湿時の耐熱性及び難燃性、並びに硬化体に対する金属箔の引き剥がし強さをより一層高めることができる。   By using the maleimide compound, it is possible to further increase the thermal expansion characteristics of the cured product, the heat resistance and flame retardance during moisture absorption, and the peel strength of the metal foil against the cured product.

エポキシ系樹脂組成物100重量%中、上記マレイミド化合物の含有量は2〜45重量%の範囲内であることが好ましい。エポキシ系樹脂組成物100重量%中の上記マレイミド化合物の含有量のより好ましい下限は5重量%であり、より好ましい上限は25重量%である。マレイミド化合物の含有量が少なすぎると、マレイミド化合物の添加効果が充分に得られないことがある。マレイミド化合物の含有量が多すぎると、粗化処理された硬化体の表面粗さが大きくなったり、硬化物の引張強度又は伸びが低下したり、エポキシ系樹脂組成物又はシート状成形体のハンドリング性が低下したりすることがある。   In 100 wt% of the epoxy resin composition, the content of the maleimide compound is preferably in the range of 2 to 45 wt%. The more preferable lower limit of the content of the maleimide compound in 100% by weight of the epoxy resin composition is 5% by weight, and the more preferable upper limit is 25% by weight. If the content of the maleimide compound is too small, the effect of adding the maleimide compound may not be sufficiently obtained. If the content of the maleimide compound is too large, the surface roughness of the roughened cured product will increase, the tensile strength or elongation of the cured product will decrease, or the epoxy resin composition or sheet-shaped molded product will be handled. May deteriorate.

(添加され得る他の成分)
本発明に係るエポキシ系樹脂組成物は、上記エポキシ系樹脂に加えて、必要に応じて、該エポキシ系樹脂と共重合可能な樹脂を含有していてもよい。
(Other ingredients that can be added)
The epoxy resin composition according to the present invention may contain a resin copolymerizable with the epoxy resin, if necessary, in addition to the epoxy resin.

上記共重合可能な樹脂は特に限定されない。上記共重合可能な樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、熱硬化型変性ポリフェニレンエーテル樹脂又はベンゾオキサジン樹脂等が挙げられる。上記共重合可能な樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。   The copolymerizable resin is not particularly limited. Examples of the copolymerizable resin include phenoxy resin, thermosetting modified polyphenylene ether resin, or benzoxazine resin. As the copolymerizable resin, only one type may be used, or two or more types may be used in combination.

上記熱硬化型変性ポリフェニレンエーテル樹脂の具体例としては、エポキシ基、イソシアネート基又はアミノ基などの官能基により、ポリフェニレンエーテル樹脂を変性させた樹脂等が挙げられる。上記熱硬化型変性ポリフェニレンエーテル樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。   Specific examples of the thermosetting modified polyphenylene ether resin include resins obtained by modifying a polyphenylene ether resin with a functional group such as an epoxy group, an isocyanate group, or an amino group. As for the said thermosetting modified polyphenylene ether resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

エポキシ基によりポリフェニレンエーテル樹脂を変性させた硬化型変性ポリフェニレンエーテル樹脂の市販品としては、例えば、三菱ガス化学社製の商品名「OPE−2Gly」等が挙げられる。   Examples of commercially available curable modified polyphenylene ether resins obtained by modifying a polyphenylene ether resin with an epoxy group include trade name “OPE-2Gly” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company.

上記ベンゾオキサジン樹脂は特に限定されない。上記ベンゾオキサジン樹脂の具体例としては、メチル基、エチル基、フェニル基、ビフェニル基もしくはシクロヘキシル基などのアリール基骨格を有する置換基がオキサジン環の窒素に結合された樹脂、又はメチレン基、エチレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフタレン基もしくはシクロヘキシレン基などのアリーレン基骨格を有する置換基が2つのオキサジン環の窒素間に結合された樹脂等が挙げられる。上記ベンゾオキサジン樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。ベンゾオキサジン樹脂とエポキシ系樹脂との反応により、硬化物の耐熱性を高くしたり、吸水性及び線膨張率を低くしたりすることができる。   The benzoxazine resin is not particularly limited. Specific examples of the benzoxazine resin include a resin in which a substituent having an aryl group skeleton such as a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, a biphenyl group, or a cyclohexyl group is bonded to nitrogen of the oxazine ring, or a methylene group, an ethylene group And a resin in which a substituent having an arylene skeleton such as a phenylene group, a biphenylene group, a naphthalene group, or a cyclohexylene group is bonded between nitrogen atoms of two oxazine rings. As for the said benzoxazine resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. By the reaction between the benzoxazine resin and the epoxy resin, the heat resistance of the cured product can be increased, and the water absorption and the linear expansion coefficient can be decreased.

なお、ベンゾオキサジンモノマーもしくはオリゴマー、又はベンゾオキサジンモノマーもしくはオリゴマーがオキサジン環の開環重合によって高分子量化された樹脂は、上記ベンゾオキサジン樹脂に含まれる。   A benzoxazine monomer or oligomer, or a resin in which a benzoxazine monomer or oligomer is polymerized by ring-opening polymerization of an oxazine ring is included in the benzoxazine resin.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物には、必要に応じて、熱可塑性樹脂類、エポキシ系樹脂以外の熱硬化性樹脂類、熱可塑性エラストマー類、架橋ゴム、オリゴマー類、無機化合物、造核剤、酸化防止剤、老化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、難燃助剤、シランカップリング剤、帯電防止剤、防曇剤、充填剤、軟化剤、可塑剤又は着色剤等の添加剤が添加されてもよい。これらの添加剤は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The epoxy resin composition according to the present invention includes, as necessary, thermoplastic resins, thermosetting resins other than epoxy resins, thermoplastic elastomers, crosslinked rubber, oligomers, inorganic compounds, and nucleating agents. , Antioxidant, anti-aging agent, heat stabilizer, light stabilizer, ultraviolet absorber, lubricant, flame retardant aid, silane coupling agent, antistatic agent, antifogging agent, filler, softener, plasticizer or Additives such as colorants may be added. As for these additives, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記熱可塑性樹脂類の具体例としては、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂又はフェノキシ樹脂等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂類は、1種のみが用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。   Specific examples of the thermoplastic resins include polysulfone resins, polyether sulfone resins, polyimide resins, polyetherimide resins, and phenoxy resins. As for the said thermoplastic resins, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記熱硬化性樹脂類としては、ポリビニルベンジルエーテル樹脂、又は二官能ポリフェニレンエーテルオリゴマーとクロロメチルスチレンとの反応による得られる反応生成物等が挙げられる。上記二官能ポリフェニレンエーテルオリゴマーとクロロメチルスチレンとの反応による得られる反応生成物の市販品としては、三菱ガス化学社製の商品名「OPE−2St」等が挙げられる。上記熱硬化性樹脂類は、1種のみが用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。   Examples of the thermosetting resins include a polyvinyl benzyl ether resin or a reaction product obtained by a reaction between a bifunctional polyphenylene ether oligomer and chloromethylstyrene. As a commercial product of the reaction product obtained by the reaction of the bifunctional polyphenylene ether oligomer and chloromethylstyrene, there is a trade name “OPE-2St” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company. As for the said thermosetting resins, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記熱可塑性樹脂類又は上記熱硬化性樹脂類を用いる場合、上記エポキシ系樹脂組成物100重量部に対して、上記熱可塑性樹脂類又は上記熱硬化性樹脂類は0.5〜50重量部の範囲内で含有されることが好ましく、1〜20重量部の範囲内で含有されることがより好ましい。熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂の含有量が少なすぎると、硬化物の伸びや靭性が充分に高められないことがあり、多すぎると、硬化物の強度が低下することがある。   When the thermoplastic resin or the thermosetting resin is used, the thermoplastic resin or the thermosetting resin is 0.5 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin composition. It is preferably contained within the range, and more preferably contained within the range of 1 to 20 parts by weight. When there is too little content of a thermoplastic resin or a thermosetting resin, the elongation and toughness of hardened | cured material may not fully be improved, and when too large, the intensity | strength of hardened | cured material may fall.

銅箔などの他の部材との接着性を高める目的で、上記シランカップリング剤をエポキシ系樹脂組成物に添加してもよい。   The silane coupling agent may be added to the epoxy resin composition for the purpose of enhancing the adhesion with other members such as copper foil.

(エポキシ系樹脂組成物)
本発明に係るエポキシ系樹脂組成物の製造方法は、特に限定されない。エポキシ系樹脂組成物の製造方法としては、例えば、上記エポキシ系樹脂と、上記硬化剤と、上記シリカ成分と、必要に応じて配合される有機化層状珪酸塩等とを、溶剤に添加した後、乾燥し、溶剤を除去する方法等が挙げられる。
(Epoxy resin composition)
The manufacturing method of the epoxy resin composition according to the present invention is not particularly limited. As a method for producing an epoxy resin composition, for example, after adding the epoxy resin, the curing agent, the silica component, and an organized layered silicate blended as necessary, to a solvent And a method of drying and removing the solvent.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物は、例えば適当な溶媒に溶解された後、用いられてもよい。   The epoxy resin composition according to the present invention may be used after being dissolved in, for example, a suitable solvent.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物の用途は、特に限定されない。エポキシ系樹脂組成物は、例えば、多層基板のコア層やビルドアップ層等を形成する基板用材料、接着シート、積層板、樹脂付き銅箔、銅張積層板、TAB用テープ、プリント基板、プリプレグ又はワニス等に好適に用いられる。   The use of the epoxy resin composition according to the present invention is not particularly limited. Epoxy resin compositions include, for example, substrate materials for forming core layers and buildup layers of multilayer substrates, adhesive sheets, laminates, copper foils with resin, copper-clad laminates, TAB tapes, printed boards, prepregs, etc. Or it is used suitably for a varnish etc.

また、本発明に係るエポキシ系樹脂組成物を用いることにより、粗化処理された硬化体の表面に微細な孔を形成できる。このため、硬化体の表面に微細な配線を形成することができ、かつ該配線における信号伝送速度を速くすることができる。従って、エポキシ系樹脂組成物は、樹脂付き銅箔、銅張積層板、プリント基板、プリプレグ、接着シート又はTAB用テープなどの絶縁性を要求される用途に好適に用いられる。   Moreover, a fine hole can be formed in the surface of the hardening body roughened by using the epoxy resin composition which concerns on this invention. For this reason, fine wiring can be formed on the surface of the cured body, and the signal transmission speed in the wiring can be increased. Therefore, the epoxy resin composition is suitably used for applications that require insulation, such as a resin-coated copper foil, a copper-clad laminate, a printed board, a prepreg, an adhesive sheet, or a TAB tape.

硬化物の表面に導電性めっき層を形成した後に回路を形成するアディティブ法や、セミアディティブ法などによって硬化物と導電性めっき層とを複数積層するビルドアップ基板等に、本発明のエポキシ系樹脂組成物はより好適に用いられる。この場合には、導電性めっき層と硬化物との接合信頼性を高めることができる。また、粗化処理された硬化体の表面に形成されたシリカ成分の抜けた穴が小さいため、パターン間の絶縁信頼性を高めることができる。さらに、シリカ成分の抜けた穴の深さが浅いため、層間の絶縁信頼性を高めることができる。よって、信頼性の高い微細な配線を形成できる。   The epoxy resin of the present invention is applied to an additive method in which a circuit is formed after a conductive plating layer is formed on the surface of a cured product, a build-up substrate in which a plurality of cured products and conductive plating layers are laminated by a semi-additive method, etc. The composition is more preferably used. In this case, the bonding reliability between the conductive plating layer and the cured product can be increased. Moreover, since the hole which the silica component formed in the surface of the hardening body roughened is small, the insulation reliability between patterns can be improved. Furthermore, since the depth of the hole through which the silica component is removed is shallow, the insulation reliability between the layers can be improved. Therefore, highly reliable fine wiring can be formed.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物は、封止用材料又はソルダーレジスト等にも用いることができる。また、硬化体の表面に形成された配線の高速信号伝送性能を高めることができるため、高い高周波特性が要求される、パッシブ部品又はアクティブ部品が内蔵される部品内蔵基板等にも、本発明のエポキシ系樹脂組成物を用いることができる。   The epoxy resin composition according to the present invention can also be used for a sealing material or a solder resist. Further, since the high-speed signal transmission performance of the wiring formed on the surface of the cured body can be enhanced, the present invention can be applied to a component-embedded substrate or the like in which a passive component or an active component is built that requires high-frequency characteristics. An epoxy resin composition can be used.

(プリプレグ)
本発明に係るプリプレグは、上記エポキシ系樹脂組成物が多孔質基材に含浸されているプリプレグである。
(Prepreg)
The prepreg according to the present invention is a prepreg in which a porous base material is impregnated with the epoxy resin composition.

上記多孔質基材は、上記エポキシ系樹脂組成物を含浸させることができれば、特に限定されない。上記多孔質基材としては、有機繊維又はガラス繊維等が挙げられる。上記有機繊維としては、カーボン繊維、ポリアミド繊維、ポリアラミド繊維又はポリエステル繊維等が挙げられる。また、多孔質基材の形態としては、平織りもしくは綾織りなどの織物の形態、又は不織布の形態等が挙げられる。上記多孔質基材は、ガラス繊維不織布であることが好ましい。   The porous substrate is not particularly limited as long as it can be impregnated with the epoxy resin composition. Examples of the porous substrate include organic fibers or glass fibers. Examples of the organic fiber include carbon fiber, polyamide fiber, polyaramid fiber, and polyester fiber. Moreover, as a form of a porous base material, the form of textiles, such as a plain weave or a twill, or the form of a nonwoven fabric, etc. are mentioned. The porous substrate is preferably a glass fiber nonwoven fabric.

(硬化体)
本発明のエポキシ系樹脂組成物又は該エポキシ系樹脂組成物が多孔質基材に含浸されているプリプレグを予備硬化(半硬化)させることにより、硬化物を得ることができる。得られた硬化物を粗化処理することにより、硬化体を得ることができる。
(Hardened body)
A cured product can be obtained by pre-curing (semi-curing) the epoxy resin composition of the present invention or a prepreg in which the porous substrate is impregnated with the epoxy resin composition. A hardened body can be obtained by roughening the obtained cured product.

得られた硬化物は、一般に、Bステージと呼ばれる半硬化状態である。本明細書において、「硬化物」には、半硬化物から、完全な硬化状態である硬化物までの範囲を意味する。   The obtained cured product is generally in a semi-cured state called a B stage. In the present specification, the “cured product” means a range from a semi-cured product to a cured product in a completely cured state.

本発明の硬化体は、具体的には、以下のようにして得られる。   Specifically, the cured product of the present invention is obtained as follows.

金属層が形成される硬化物の表面に微細な凹凸を形成するために、上記エポキシ系樹脂組成物又は上記プリプレグを予備硬化させ、硬化物を得る。適度に予備硬化させるためには、上記エポキシ系樹脂組成物又は上記プリプレグを130〜190℃で30分以上加熱し、硬化させることが好ましい。   In order to form fine irregularities on the surface of the cured product on which the metal layer is formed, the epoxy resin composition or the prepreg is precured to obtain a cured product. In order to pre-cure appropriately, it is preferable to cure the epoxy resin composition or the prepreg by heating at 130 to 190 ° C. for 30 minutes or more.

予備硬化温度が130℃よりも低いと、エポキシ系樹脂組成物が充分に硬化されないため、粗化処理後の硬化体の表面の凹凸が大きくなる。予備硬化温度が190℃よりも高いと、エポキシ系樹脂組成物の硬化反応が急速に進行しやすい。このため、硬化度が部分的に異なりやすく、粗い部分と密な部分とが形成されやすい。その結果、粗化処理後の硬化体の表面の凹凸が大きくなる。予備硬化時間が30分よりも短いと、エポキシ系樹脂組成物が充分に硬化されないため、粗化処理後の硬化体の表面の凹凸が大きくなる。生産性を高めることができるので、予備硬化時間は、1時間以下であることが好ましい。   When the pre-curing temperature is lower than 130 ° C., the epoxy resin composition is not sufficiently cured, so that the unevenness of the surface of the cured body after the roughening treatment becomes large. When the preliminary curing temperature is higher than 190 ° C., the curing reaction of the epoxy resin composition tends to proceed rapidly. For this reason, the degree of curing tends to be partially different, and a rough portion and a dense portion are likely to be formed. As a result, the unevenness of the surface of the cured body after the roughening treatment is increased. When the pre-curing time is shorter than 30 minutes, the epoxy resin composition is not sufficiently cured, so that the unevenness of the surface of the cured body after the roughening treatment becomes large. Since productivity can be improved, it is preferable that pre-curing time is 1 hour or less.

得られた硬化物の表面に微細な凹凸を形成するために、硬化物が粗化処理される。該粗化処理される前に、硬化物が膨潤処理されることが好ましい。ただし、硬化物は、必ずしも膨潤処理されなくてもよい。   In order to form fine irregularities on the surface of the obtained cured product, the cured product is roughened. It is preferable that the cured product is subjected to a swelling treatment before the roughening treatment. However, the cured product is not necessarily subjected to the swelling treatment.

上記膨潤処理方法としては、例えば、エチレングリコールなどを主成分とする化合物の水溶液又は有機溶媒分散溶液などにより、硬化物を処理する方法が用いられる。具体的には、上記膨潤処理は、40重量%エチレングリコール水溶液等を用いて、処理温度30〜85℃で1〜20分間、硬化物を処理することにより行なわれる。   As the swelling treatment method, for example, a method of treating a cured product with an aqueous solution or an organic solvent dispersion solution of a compound mainly composed of ethylene glycol or the like is used. Specifically, the swelling treatment is carried out by treating the cured product with a 40 wt% ethylene glycol aqueous solution or the like at a treatment temperature of 30 to 85 ° C. for 1 to 20 minutes.

上記粗化処理には、例えば、マンガン化合物、クロム化合物又は過硫酸化合物などの化学酸化剤等が用いられる。これらの化学酸化剤は、水又は有機溶剤が添加された後、水溶液又は有機溶媒分散溶液として用いられる。   For the roughening treatment, for example, a chemical oxidizing agent such as a manganese compound, a chromium compound, or a persulfuric acid compound is used. These chemical oxidizers are used as an aqueous solution or an organic solvent dispersion after water or an organic solvent is added.

上記マンガン化合物としては、過マンガン酸カリウム又は過マンガン酸ナトリウム等が挙げられる。上記クロム化合物としては、重クロム酸カリウム又は無水クロム酸カリウム等が挙げられる。上記過硫酸化合物としては、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム又は過硫酸アンモニウム等が挙げられる。   Examples of the manganese compound include potassium permanganate and sodium permanganate. Examples of the chromium compound include potassium dichromate and anhydrous potassium chromate. Examples of the persulfate compound include sodium persulfate, potassium persulfate, and ammonium persulfate.

上記粗化処理方法は特に限定されない。上記粗化処理方法として、例えば、30〜90g/L過マンガン酸又は過マンガン酸塩溶液及び30〜90g/L水酸化ナトリウム溶液を用いて、処理温度30〜85℃及び1〜10分間の条件で、1回又は2回、硬化物を処理する方法が好適である。粗化処理の回数が多いと粗化効果も大きい。しかしながら、粗化処理の回数が3回を超えると、粗化効果が飽和することがあり、又は硬化体の表面の樹脂成分が必要以上に削られて、硬化体の表面にシリカ成分が脱離した形状の孔が形成されにくくなる。   The roughening treatment method is not particularly limited. As the roughening treatment method, for example, using a 30 to 90 g / L permanganate or permanganate solution and a 30 to 90 g / L sodium hydroxide solution, a treatment temperature of 30 to 85 ° C. and a condition of 1 to 10 minutes A method of treating the cured product once or twice is preferable. When the number of roughening treatments is large, the roughening effect is large. However, when the number of roughening treatments exceeds 3, the roughening effect may be saturated, or the resin component on the surface of the cured body is scraped more than necessary, and the silica component is detached from the surface of the cured body. It becomes difficult to form holes having the shape.

図1に、本発明の一実施形態に係るエポキシ系樹脂組成物の硬化物が粗化処理された硬化体の表面を模式的に部分切欠正面断面図で示す。   In FIG. 1, the surface of the hardening body by which the hardened | cured material of the epoxy-type resin composition which concerns on one Embodiment of this invention was roughened is shown with a partial notch front sectional drawing typically.

図1に示すように、硬化体1の表面1aに、シリカ成分の脱離により形成された孔1bが形成されている。   As shown in FIG. 1, holes 1 b formed by desorption of the silica component are formed on the surface 1 a of the cured body 1.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物では、上記シリカ粒子が上記特定のシランカップリング剤により表面処理されているシリカ成分が含有されているため、シリカ成分の分散性に優れている。従って、粗化処理された硬化体1には、シリカ成分の凝集物の脱離による大きな孔が形成され難い。よって、硬化体1の強度が局所的に低下し難く、硬化体と金属層との接着強度を高めることができる。また、硬化体1の線膨張率を低くするために、シリカ成分をエポキシ系樹脂組成物に多く配合することができ、シリカ成分を多く配合しても、硬化体1の表面に微細な複数の孔1bを形成できる。ただし、孔1bは、シリカ成分が数個程度、例えば2〜10個まとまって脱離した孔であってもよい。   The epoxy resin composition according to the present invention is excellent in dispersibility of the silica component because the silica particles contain a silica component whose surface is treated with the specific silane coupling agent. Therefore, it is difficult for the roughened cured body 1 to form large pores due to the desorption of the silica component aggregates. Therefore, the strength of the cured body 1 is unlikely to decrease locally, and the adhesive strength between the cured body and the metal layer can be increased. Further, in order to lower the linear expansion coefficient of the cured body 1, a large amount of silica component can be blended in the epoxy resin composition. Hole 1b can be formed. However, the hole 1b may be a hole in which about several silica components, for example, 2 to 10 are removed.

また、シリカ成分の脱離により形成された孔1bの近傍では、図1に矢印Aを付して示す部分の樹脂成分が必要以上に多く削られていない。特に、ビフェニル構造を有するフェノール化合物、芳香族多価エステル化合物又はベンゾオキサジン構造を有する化合物を硬化剤として用いた場合に、シリカ成分の脱離により形成された孔1bの表面では、樹脂成分が比較的多く削られやすい。しかし、上記シリカ粒子が上記特定のシランカップリング剤により処理されたシリカ成分を用いた場合には、ビフェニル構造を有するフェノール化合物、芳香族多価エステル化合物又はベンゾオキサジン構造を有する化合物を硬化剤として用いても、樹脂成分が必要以上に多く削られない。このため、硬化体1の強度を高めることができる。   Further, in the vicinity of the hole 1b formed by the desorption of the silica component, the resin component in the portion indicated by the arrow A in FIG. In particular, when a phenol compound having a biphenyl structure, an aromatic polyvalent ester compound, or a compound having a benzoxazine structure is used as a curing agent, the resin component is compared on the surface of the hole 1b formed by the elimination of the silica component. It is easy to be sharpened. However, when the silica particle is a silica component treated with the specific silane coupling agent, a phenol compound having a biphenyl structure, an aromatic polyvalent ester compound, or a compound having a benzoxazine structure is used as a curing agent. Even if used, the resin component is not removed more than necessary. For this reason, the intensity | strength of the hardening body 1 can be raised.

上記のようにして得られた硬化体の粗化処理された表面の算術平均粗さRaは0.3μm以下であり、かつ十点平均粗さRzは3.0μm以下であることが好ましい。上記粗化処理された表面の算術平均粗さRaは0.2μm以下であることがより好ましい。上記粗化処理された表面の十点平均粗さRzは、2.0μm以下であることがより好ましい。上記算術平均粗さRaが大きすぎると、硬化体の表面に配線が形成された場合に、該配線における電気信号の伝送速度を高速化できないことがある。上記十点平均粗さRzが大きすぎると、硬化体の表面に配線が形成された場合に、該配線における電気信号の伝送速度を高速化できないことがある。算術平均粗さRa及び十点平均粗さRzは、JIS B0601−1994に準拠した測定法により求めることができる。   The arithmetic average roughness Ra of the roughened surface of the cured product obtained as described above is preferably 0.3 μm or less, and the ten-point average roughness Rz is preferably 3.0 μm or less. The arithmetic average roughness Ra of the roughened surface is more preferably 0.2 μm or less. The ten-point average roughness Rz of the roughened surface is more preferably 2.0 μm or less. If the arithmetic average roughness Ra is too large, when the wiring is formed on the surface of the cured body, the transmission speed of the electrical signal in the wiring may not be increased. If the ten-point average roughness Rz is too large, when a wiring is formed on the surface of the cured body, the transmission speed of the electrical signal in the wiring may not be increased. The arithmetic average roughness Ra and the ten-point average roughness Rz can be obtained by a measuring method based on JIS B0601-1994.

硬化体の表面に形成された複数の孔の平均径は、5μm以下であることが好ましい。
複数の孔の平均径が5μmより大きいと、硬化体の表面にL/Sが小さい配線を形成することが困難なことがあり、かつ形成された配線間が短絡しやすくなる。
The average diameter of the plurality of holes formed on the surface of the cured body is preferably 5 μm or less.
When the average diameter of the plurality of holes is larger than 5 μm, it may be difficult to form a wiring having a small L / S on the surface of the cured body, and the formed wirings are easily short-circuited.

上記粗化処理された硬化体には、必要に応じて、公知のめっき用触媒を施したり、無電解めっきを施したりした後、電解めっきを施すことができる。これにより、硬化体の表面に金属層としてのめっき層を形成できる。   The roughened cured body can be subjected to electrolytic plating after being subjected to a known plating catalyst or electroless plating, if necessary. Thereby, the plating layer as a metal layer can be formed on the surface of the cured body.

図2に、粗化処理された上記硬化体1の表面に、めっき処理により金属層2が形成された状態を示す。図2に示すように、金属層2は、硬化体1の表面1aに形成された微細な孔1b内に至っている。従って、物理的なアンカー効果により、硬化体1と金属層2との接着強度を高めることができる。また、シリカ成分の脱離により形成された孔1bの近傍では、樹脂成分が必要以上に多く削られていないため、硬化体1と金属層2との接着強度を高めることができる。   FIG. 2 shows a state in which the metal layer 2 is formed on the surface of the cured body 1 subjected to the roughening treatment by plating. As shown in FIG. 2, the metal layer 2 reaches into the fine holes 1 b formed on the surface 1 a of the cured body 1. Therefore, the adhesive strength between the cured body 1 and the metal layer 2 can be increased by a physical anchor effect. Further, in the vicinity of the hole 1b formed by the desorption of the silica component, the resin component is not shaved more than necessary, so that the adhesive strength between the cured body 1 and the metal layer 2 can be increased.

上記シリカ成分の平均粒子径が小さいほど、硬化体1の表面に微細な凹凸を形成できる。平均粒子径が1μmのシリカ粒子がシランカップリング剤により表面処理されているシリカ成分が用いられているため、孔1bを小さくすることができ、従って、硬化体1の表面に微細な凹凸を形成できる。このため、回路の配線の微細度合いを示すL/Sを小さくすることができる。   As the average particle diameter of the silica component is smaller, fine irregularities can be formed on the surface of the cured body 1. Since the silica component in which silica particles having an average particle diameter of 1 μm are surface-treated with a silane coupling agent is used, the pores 1b can be made small, and thus fine irregularities are formed on the surface of the cured body 1. it can. For this reason, L / S which shows the fineness of the wiring of a circuit can be made small.

L/Sが小さい銅等の配線を硬化体1の表面に形成した場合、配線の信号処理速度を高めることができる。例えば、信号が5GHz以上の高周波であっても、硬化体1の表面粗さが小さいので、硬化体1と金属層2との界面での電気信号の損失を小さくすることができる。   When wiring such as copper having a small L / S is formed on the surface of the cured body 1, the signal processing speed of the wiring can be increased. For example, even if the signal has a high frequency of 5 GHz or higher, the surface roughness of the cured body 1 is small, so that the loss of an electrical signal at the interface between the cured body 1 and the metal layer 2 can be reduced.

L/Sが、65μm/65μmよりも小さい場合、特にL/Sが45μm/45μmよりも小さい場合、シリカ粒子の平均粒子径は、5μm以下であることが好ましく、2μm以下であることが好ましい。また、L/Sが13μm/13μmよりも小さい場合、シリカ粒子の平均粒子径は2μm以下であることが好ましく、1μm以下であることがより好ましい。   When L / S is smaller than 65 μm / 65 μm, particularly when L / S is smaller than 45 μm / 45 μm, the average particle diameter of the silica particles is preferably 5 μm or less, and preferably 2 μm or less. When L / S is smaller than 13 μm / 13 μm, the average particle diameter of the silica particles is preferably 2 μm or less, and more preferably 1 μm or less.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物では、平均粒子径が1μm以下のシリカ粒子が上記シランカップリング剤により表面処理されているシリカ成分が含有されているため、表面粗さのばらつきが小さく、例えば、L/Sが13μm/13μm程度の微細な配線を、硬化体の表面に形成できる。また、配線間の短絡を生じることなく、L/Sが10μm/10μm以下の微細な配線を、硬化体の表面に形成できる。このような配線が形成された硬化体では、安定的に、かつ小さい損失で、電気信号を伝送することができる。   In the epoxy resin composition according to the present invention, silica particles having an average particle diameter of 1 μm or less are subjected to surface treatment with the silane coupling agent, so that variation in surface roughness is small. , Fine wiring with L / S of about 13 μm / 13 μm can be formed on the surface of the cured body. Moreover, fine wiring with L / S of 10 μm / 10 μm or less can be formed on the surface of the cured body without causing a short circuit between the wirings. In the cured body in which such wiring is formed, an electric signal can be transmitted stably and with a small loss.

上記金属層を形成する材料として、シールド用もしくは回路形成用などに用いられる金属箔もしくは金属めっき、又は回路保護用に用いるめっき用材料を使用できる。   As a material for forming the metal layer, a metal foil or metal plating used for shielding or circuit formation, or a plating material used for circuit protection can be used.

上記めっき材料としては、例えば、金、銀、銅、ロジウム、パラジウム、ニッケル又は錫などが挙げられる。これらの2種類以上の合金を用いてもよく、また、2種類以上のめっき材料により複数層の金属層を形成してもよい。さらに、目的に応じて、めっき材料には、上記金属以外の他の金属又は物質が含有されてもよい。   Examples of the plating material include gold, silver, copper, rhodium, palladium, nickel, and tin. Two or more kinds of these alloys may be used, and a plurality of metal layers may be formed of two or more kinds of plating materials. Furthermore, depending on the purpose, the plating material may contain other metals or substances other than the above metals.

(シート状成形体、積層板及び多層積層板)
本発明に係るシート状成形体は、上記エポキシ系樹脂組成物、上記プリプレグ、又は上記エポキシ系樹脂組成物もしくは上記プリプレグを硬化させた硬化体が、シート状に成形されているシート状成形体である。
(Sheet compacts, laminates and multilayer laminates)
The sheet-shaped molded product according to the present invention is a sheet-shaped molded product in which the epoxy resin composition, the prepreg, or the cured product obtained by curing the epoxy resin composition or the prepreg is molded into a sheet shape. is there.

なお、本明細書において、「シート」は、厚さや幅に限定されず、板状の形状を意味するものであり、シートにはフィルムも含まれる。「シート状成形体」には、接着性シートが含まれる。   In the present specification, the “sheet” is not limited to a thickness or a width, but means a plate shape, and the sheet includes a film. The “sheet-like molded product” includes an adhesive sheet.

上記エポキシ系樹脂組成物をシート状に成形する方法としては、例えば、押出機を用いて、エポキシ系樹脂組成物を溶融混練し、押出した後、Tダイやサーキュラーダイ等により、フィルム状に成形する押出成形法、エポキシ系樹脂組成物を有機溶剤等の溶媒に溶解又は分散させた後、キャスティングしてフィルム状に成形するキャスティング成形法、又は従来公知のその他のシート成形法等が挙げられる。なかでも、薄型化を進めることができるので、押出成形法又はキャスティング成形法が好ましい。   As a method for forming the epoxy resin composition into a sheet, for example, using an extruder, the epoxy resin composition is melt-kneaded, extruded, and then formed into a film with a T die or a circular die. And an extrusion molding method, a casting molding method in which an epoxy resin composition is dissolved or dispersed in a solvent such as an organic solvent and then cast into a film, or other conventionally known sheet molding methods. Of these, the extrusion molding method or the casting molding method is preferable because the thickness can be reduced.

本発明に係る積層板は、上記シート状成形体と、該シート状成形体の少なくとも片面に積層されている金属層とを備える。   The laminated board which concerns on this invention is equipped with the said sheet-like molded object and the metal layer laminated | stacked on the at least single side | surface of this sheet-like molded object.

本発明に係る多層積層板は、積層された複数の上記シート状成形体と、該シート状成形体の間に配置された少なくとも1つの金属層とを備える。多層基板は、最表層のシート状成形体の外側の表面に積層された金属層がさらに備えていてもよい。   The multilayer laminated board which concerns on this invention is equipped with the several said sheet-like molded object laminated | stacked, and the at least 1 metal layer arrange | positioned between this sheet-like molded object. The multilayer substrate may further include a metal layer laminated on the outer surface of the outermost sheet-like molded body.

上記積層板のシート状成形体には、少なくとも一部の領域に接着層が配置されていてもよい。また、多層積層板の積層されたシート状成形体には、少なくとも一部の領域に接着層が配置されていてもよい。   An adhesive layer may be disposed in at least a part of the sheet-like molded body of the laminate. Moreover, the adhesive layer may be arrange | positioned in the at least one part area | region in the sheet-like molded object on which the multilayer laminated board was laminated | stacked.

上記積層板又は多層積層板の金属層は、回路として形成されていることが好ましい。この場合には、シート状成形体と金属層との接着強度が高いため、回路の信頼性を高めることができる。   The metal layer of the laminate or multilayer laminate is preferably formed as a circuit. In this case, since the adhesive strength between the sheet-like molded body and the metal layer is high, the reliability of the circuit can be improved.

図3に本発明の一実施形態に係るエポキシ系樹脂組成物を用いた多層積層板を模式的に部分切欠正面断面図で示す。   FIG. 3 schematically shows a multilayer laminate using the epoxy resin composition according to one embodiment of the present invention in a partially cutaway front sectional view.

図3に示す多層積層板11では、基板12の上面12aに、複数の硬化体13〜16が積層されている。最上層の硬化体16以外の硬化体13〜15には、上面の一部の領域に金属層17が形成されている。すなわち、積層された硬化体13〜16の各層間に、金属層17がそれぞれ配置されている。下方の金属層17と上方の金属層17とは、図示しないビアホール接続及びスルーホール接続の内の少なくとも一方により互いに接続されている。   In the multilayer laminated plate 11 shown in FIG. 3, a plurality of cured bodies 13 to 16 are laminated on the upper surface 12 a of the substrate 12. In the cured bodies 13 to 15 other than the uppermost cured body 16, a metal layer 17 is formed in a partial region of the upper surface. That is, the metal layer 17 is arrange | positioned between each layer of the laminated | stacked hardening bodies 13-16, respectively. The lower metal layer 17 and the upper metal layer 17 are connected to each other by at least one of via hole connection and through hole connection (not shown).

多層積層板11では、硬化体13〜16が、本発明の一実施形態に係るエポキシ系樹脂組成物をシート状に成形することにより得られたシート状成形体を、硬化させることにより形成されている。このため、硬化体13〜16の表面には、図示しない微細な孔が形成されている。また、微細な孔の内部に金属層17が至っている。従って、硬化体13〜16と金属層17との接着強度を高めることができる。また、多層積層板11では、金属層17の幅方向寸法(L)と、金属層17が形成されていない部分の幅方向寸法(S)とを小さくすることができる。   In the multilayer laminate 11, the cured bodies 13 to 16 are formed by curing a sheet-like molded body obtained by molding the epoxy resin composition according to one embodiment of the present invention into a sheet shape. Yes. For this reason, fine holes (not shown) are formed on the surfaces of the cured bodies 13 to 16. Further, the metal layer 17 reaches the inside of the fine hole. Therefore, the adhesive strength between the cured bodies 13 to 16 and the metal layer 17 can be increased. Moreover, in the multilayer laminated board 11, the width direction dimension (L) of the metal layer 17 and the width direction dimension (S) of the part in which the metal layer 17 is not formed can be made small.

なお、搬送の補助、ごみの付着又は傷の防止等を目的として、上述したシート状成形体又は積層板の表面には、フィルムが積層されてもよい。   In addition, a film may be laminated | stacked on the surface of the sheet-like molded object or laminated board mentioned above for the purpose of conveyance assistance, prevention of adhesion of a refuse, or a damage | wound.

上記フィルムとしては、樹脂コート紙、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムポリブチレンテレフタレート(PBT)フィルム又はポリプロピレン(PP)フィルム等が挙げられる。これらのフィルムは、必要に応じて、離型性を高めるために離型処理されていてもよい。   Examples of the film include resin-coated paper, polyester film, polyethylene terephthalate (PET) film, polybutylene terephthalate (PBT) film, and polypropylene (PP) film. These films may be subjected to a release treatment in order to improve the release properties as necessary.

上記離型処理の方法としては、シリコン系化合物、フッ素系化合物もしくは界面活性剤等を上記フィルム中に含有させる方法、上記フィルムの表面に凹凸を付与する方法、又はシリコン系化合物、フッ素系化合物もしくは界面活性剤等の離型性を有する物質を上記フィルムの表面に塗布する方法等が挙げられる。上記フィルムの表面に凹凸を付与する方法としては、上記フィルムの表面にエンボス加工などを施す方法等が挙げられる。   As a method for the release treatment, a method for containing a silicon compound, a fluorine compound or a surfactant in the film, a method for imparting irregularities to the surface of the film, a silicon compound, a fluorine compound or Examples thereof include a method of applying a releasable substance such as a surfactant to the surface of the film. Examples of a method for providing irregularities on the surface of the film include a method of embossing the surface of the film.

上記フィルムを保護するために、樹脂コート紙、ポリエステルフィルム、PETフィルム、PPフィルムなどの保護フィルムが上記フィルムに積層されていてもよい。   In order to protect the film, a protective film such as a resin-coated paper, a polyester film, a PET film, or a PP film may be laminated on the film.

以下、実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by giving examples and comparative examples. The present invention is not limited to the following examples.

実施例及び比較例では、以下に示す材料を用いた。   In the examples and comparative examples, the following materials were used.

(エポキシ系樹脂)
(1)ビフェニル系エポキシ樹脂(日本化薬社製、商品名「NC−3000H」、重量平均分子量2070、エポキシ等量288、上記式(8)で表されるエポキシ系樹脂に相当する)
(2)ビスフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成社製、商品名「RE−410S」、重量平均分子量約350)
(3)アントラセン骨格含有エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名「YX8800」、エポキシ当量181)
(4)ナフタレン骨格含有エポキシ樹脂(DIC社製、商品名「HP-4032」、エポキシ当量152)
(5)アダマンタン骨格含有エポキシ樹脂(出光興産社製、商品名「アダマンテートX−E−202」、エポキシ当量193)
(6)トリアジン骨格含有エポキシ樹脂(日産化学工業社製、商品名「TEPIC−PAS B22」、エポキシ当量180〜200)
(Epoxy resin)
(1) Biphenyl-based epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name “NC-3000H”, weight average molecular weight 2070, epoxy equivalent 288, corresponding to the epoxy-based resin represented by the above formula (8))
(2) Bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., trade name “RE-410S”, weight average molecular weight about 350)
(3) Anthracene skeleton-containing epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin, trade name “YX8800”, epoxy equivalent 181)
(4) Naphthalene skeleton-containing epoxy resin (manufactured by DIC, trade name “HP-4032”, epoxy equivalent 152)
(5) Adamantane skeleton-containing epoxy resin (manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd., trade name “adamantate X-E-202”, epoxy equivalent 193)
(6) Triazine skeleton-containing epoxy resin (manufactured by Nissan Chemical Industries, trade name “TEPIC-PAS B22”, epoxy equivalent 180-200)

(硬化剤)
(1)フェノール系硬化剤(明和化成社製、商品名「MEH7851−4H」、重量平均分子量約10200、軟化点120℃以上、上記式(7)で表されるフェノール化合物に相当する)
(2)αナフトール型フェノール硬化剤(東都化成社製、商品名「SN−475」、軟化点75℃)
(3)ジシクロペンタジエン型フェノール硬化剤(DCPD系硬化剤、新日本石油社製、商品名「DPP−6125」、軟化点120℃)
(4)アミノトリアジンノボラックフェノール型硬化剤(DIC社製、商品名「LA−1356」、固形分60重量%MEK(メチルケチルケトン)溶液)
(5)活性エステル化合物型硬化剤:
活性エステル化合物型硬化剤(DIC社製、商品名「EXB−9451−65T」、ポリスチレン換算での重量平均分子量2840、固形分65重量%トルエン溶液)を100℃以上で加熱乾燥し、固形分100重量%としたもの
(Curing agent)
(1) Phenol-based curing agent (Maywa Kasei Co., Ltd., trade name “MEH7851-4H”, weight average molecular weight of about 10200, softening point of 120 ° C. or higher, corresponding to the phenol compound represented by the above formula (7))
(2) α-naphthol type phenol curing agent (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., trade name “SN-475”, softening point 75 ° C.)
(3) Dicyclopentadiene type phenol curing agent (DCPD curing agent, manufactured by Nippon Oil Corporation, trade name “DPP-6125”, softening point 120 ° C.)
(4) Aminotriazine novolak phenol type curing agent (manufactured by DIC, trade name “LA-1356”, solid content 60 wt% MEK (methyl ketyl ketone) solution)
(5) Active ester compound type curing agent:
An active ester compound type curing agent (manufactured by DIC, trade name “EXB-9451-65T”, polystyrene equivalent weight average molecular weight 2840, solid content 65 wt% toluene solution) is dried by heating at 100 ° C. or more to obtain a solid content of 100 Weight%

(硬化促進剤)
(1)イミダゾール(四国化成工業社製、商品名「2PN−CN」)
(Curing accelerator)
(1) Imidazole (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name “2PN-CN”)

(有機化層状珪酸塩)
トリオクチルメチルアンモニウム塩で化学処理された合成ヘクトライト(コープケミカル社製、商品名「ルーセンタイトSTN」)
(Organized layered silicate)
Synthetic hectorite chemically treated with trioctylmethylammonium salt (trade name “Lucentite STN”, manufactured by Corp Chemical)

(マレイミド)
ポリフェニルメタンマレイミド(大和化成工業社製、商品名「BMI−2300」)
(Maleimide)
Polyphenylmethane maleimide (manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name “BMI-2300”)

(溶剤)
N,N−ジメチルホルムアミド(DMF、特級、和光純薬社製)
(solvent)
N, N-dimethylformamide (DMF, special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

(シリカ粒子)
シリカ粒子(平均粒径0.3μm、最大粒子径5μm、比表面積18m/g)
(Silica particles)
Silica particles (average particle size 0.3 μm, maximum particle size 5 μm, specific surface area 18 m 2 / g)

(シランカップリング剤)
シランカップリング剤(1)アミノシラン(信越化学工業社製、商品名「KBE−903」)
シランカップリング剤(2)メルカプトシラン(信越化学工業社製、商品名「KBM−803」)
シランカップリング剤(3)イソシアネートシラン(信越化学工業社製、商品名「KBP−44」)
シランカップリング剤(4)酸無水物基を有するシラン化合物(信越化学工業社製、商品名「X−12−967」)
シランカップリング剤(5)イソシアヌル酸基を有するシラン化合物(信越化学工業社製、商品名「X−12−965」)
シランカップリング剤(6)イミダゾールシラン(日鉱金属社製、商品名「IM-1000」)
シランカップリング剤(7)ビニルシラン(信越化学工業社製、商品名「KBM-1003」)
(Silane coupling agent)
Silane coupling agent (1) Aminosilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “KBE-903”)
Silane coupling agent (2) Mercaptosilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “KBM-803”)
Silane coupling agent (3) Isocyanate silane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “KBP-44”)
Silane coupling agent (4) Silane compound having an acid anhydride group (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name "X-12-967")
Silane coupling agent (5) Silane compound having an isocyanuric acid group (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “X-12-965”)
Silane Coupling Agent (6) Imidazolesilane (manufactured by Nikko Metals, trade name “IM-1000”)
Silane coupling agent (7) Vinylsilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “KBM-1003”)

(シリカ粒子のシランカップリング剤による処理方法)
上記シリカ粒子(平均粒子径0.3μm、最大粒子径5μm)100重量部と、シランカップリング剤(1)アミノシラン(信越化学工業社製、商品名「KBE−903」)4重量部と、エタノール100重量部とを混合し、60℃で1時間撹拌した後、揮発成分を留去した。続いて、減圧乾燥機により100℃で6時間乾燥することにより、アミノシラン処理されたシリカ成分(1)を得た。得られたシリカ成分(1)をシリカ成分の濃度が50重量%になるようにDMFに加え、ビーズミルにて分散させ、アミノシランにより表面処理されたシリカ成分(1)を含むシリカスラリー(1)(シリカ成分(1)50重量%とDMF50重量%とを含む)を得た。
(Method of treating silica particles with a silane coupling agent)
100 parts by weight of the above silica particles (average particle size 0.3 μm, maximum particle size 5 μm), 4 parts by weight of silane coupling agent (1) aminosilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “KBE-903”), ethanol After mixing with 100 parts by weight and stirring at 60 ° C. for 1 hour, volatile components were distilled off. Subsequently, silica component (1) treated with aminosilane was obtained by drying at 100 ° C. for 6 hours with a vacuum dryer. The obtained silica component (1) is added to DMF so that the concentration of the silica component is 50% by weight, dispersed in a bead mill, and silica slurry (1) (1) containing silica component (1) surface-treated with aminosilane ( Silica component (1) 50% by weight and DMF 50% by weight were obtained).

また、上記シランカップリング剤(1)を、上記シランカップリング剤(2)〜(7)に変更したこと以外は上記シリカ成分(1)の処理方法と同様の処理方法により、メルカプトシランにより表面処理されたシリカ成分(2)、イソシアネートシランにより表面処理されたシリカ成分(3)、酸無水物基を有するシラン化合物により表面処理されたシリカ成分(4)、イソシアヌル酸基を有するシラン化合物により表面処理されたシリカ成分(5)、イミダゾールシランにより表面処理されたシリカ成分(6)及びビニルシランにより表面処理されたシリカ成分(7)を含むシリカスラリー(2)〜(7)(シリカ成分(2)〜(7)50重量%とDMF50重量%とを含む)を得た。   Further, the surface of the silane coupling agent (1) is treated with mercaptosilane by the same treatment method as that for the silica component (1) except that the silane coupling agent (2) to (7) is changed. Surface treated with treated silica component (2), silica component (3) surface treated with isocyanate silane, silica component (4) surface treated with silane compound having acid anhydride group, silane compound having isocyanuric acid group Silica slurries (2) to (7) (silica component (2)) containing treated silica component (5), silica component (6) surface-treated with imidazole silane, and silica component (7) surface-treated with vinylsilane To (7) including 50 wt% and DMF 50 wt%).

(実施例1)
シリカスラリー(1)46.40g及びDMF10.02gを混合し、均一な溶液となるまで常温で6時間攪拌した。その後、イミダゾール「2PZ−CN」0.21gを添加し、常温で1時間攪拌した。
Example 1
46.40 g of silica slurry (1) and 10.02 g of DMF were mixed and stirred at room temperature for 6 hours until a uniform solution was obtained. Thereafter, 0.21 g of imidazole “2PZ-CN” was added and stirred at room temperature for 1 hour.

次に、エポキシ系樹脂としてのビスフェノールA型エポキシ樹脂「RE−410S」19.52gを加え、常温で1時間攪拌した。次いで、硬化剤としてのαナフトール型フェノール硬化剤「SN−475」23.35gを上記溶液に添加し、常温で2時間攪拌して、エポキシ系樹脂組成物を調製した。   Next, 19.52 g of bisphenol A type epoxy resin “RE-410S” as an epoxy resin was added and stirred at room temperature for 1 hour. Next, 23.35 g of an α-naphthol type phenol curing agent “SN-475” as a curing agent was added to the above solution and stirred at room temperature for 2 hours to prepare an epoxy resin composition.

(実施例2〜21及び比較例1〜4)
使用した材料の種類及び配合量を下記の表1〜5に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にして、エポキシ系樹脂組成物を調製した。なお、マレイミド化合物が含まれている場合には、上記硬化剤の添加の際に、マレイミド化合物を添加した。
(Examples 2 to 21 and Comparative Examples 1 to 4)
An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the type and blending amount of the materials used were changed as shown in Tables 1 to 5 below. In addition, when the maleimide compound was contained, the maleimide compound was added in the case of the addition of the said hardening | curing agent.

(樹脂シートの未硬化物の作製)
離型処理された透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(商品名「PET5011 550」、厚み50μm、リンテック社製)を用意した。このPETフィルム上にアプリケーターを用いて、乾燥後の厚みが50μmとなるように、得られた実施例及び比較例のエポキシ系樹脂組成物を塗工した。次に、100℃のギアオーブン内で12分間乾燥して、200mm×200mmの面積を有する厚み50μmの樹脂シートの未硬化物を作製した。作製した樹脂シートの未硬化物を用いて、以下の硬化体A、樹脂シートの半硬化物及び硬化体Bを作製した。
(Preparation of uncured resin sheet)
A release-treated transparent polyethylene terephthalate (PET) film (trade name “PET5011 550”, thickness 50 μm, manufactured by Lintec Corporation) was prepared. Using the applicator on this PET film, the epoxy resin compositions of the obtained Examples and Comparative Examples were applied so that the thickness after drying was 50 μm. Next, it was dried in a gear oven at 100 ° C. for 12 minutes to prepare an uncured product of a resin sheet having an area of 200 mm × 200 mm and a thickness of 50 μm. The following cured body A, semi-cured product of resin sheet, and cured body B were prepared using the uncured product of the produced resin sheet.

(硬化体Aの作製)
ガラスエポキシ基板上に、銅厚みが25μm、パターン長が3cm、かつL/S=75μm/75μmのパターンが10本形成された回路基板を用意した。この回路基板上に、得られた樹脂シートの未硬化物を、真空ラミネートした。真空ラミネートに際し、真空ラミネータ(名機製作所社製、MVLP−500)を用いて、90℃、0.6MPa、真空40秒及び加圧40秒のラミネート条件によりラミネートした。なお、後述の真空ラミネートの際にも、同様の条件によりラミネートした。その後、樹脂シートの未硬化物を150℃で1時間予備硬化させ、樹脂シートの未硬化物が半硬化した半硬化体A1と回路基板とからなる積層体Aを得た。
(Preparation of cured product A)
A circuit board was prepared on a glass epoxy substrate having a copper thickness of 25 μm, a pattern length of 3 cm, and 10 patterns of L / S = 75 μm / 75 μm. An uncured product of the obtained resin sheet was vacuum laminated on the circuit board. At the time of vacuum lamination, lamination was performed using a vacuum laminator (MVLP-500, manufactured by Meiki Seisakusho Co., Ltd.) under lamination conditions of 90 ° C., 0.6 MPa, vacuum 40 seconds, and pressure 40 seconds. It should be noted that lamination was performed under the same conditions when vacuum laminating described later. Thereafter, the uncured product of the resin sheet was precured at 150 ° C. for 1 hour to obtain a laminate A composed of a semi-cured product A1 and a circuit board obtained by semi-curing the uncured product of the resin sheet.

その後、得られた積層体Aの半硬化体A1の表面を、下記の(a)膨潤処理をした後、下記の(b)過マンガン酸塩処理すなわち粗化処理をし、さらに下記の(c)銅めっき処理をした。   Thereafter, the surface of the semi-cured body A1 of the obtained laminate A is subjected to the following (a) swelling treatment, then the following (b) permanganate treatment, that is, roughening treatment, and the following (c) ) Copper plating treatment.

(a)膨潤処理:
積層体Aを80℃の膨潤液(スウェリングディップセキュリガントP、アトテックジャパン社製)に入れて、10分間揺動した。その後、純水で洗浄した。
(A) Swelling treatment:
Laminate A was placed in an 80 ° C. swelling liquid (Swelling Dip Securigant P, manufactured by Atotech Japan) and rocked for 10 minutes. Thereafter, it was washed with pure water.

(b)過マンガン酸塩処理(粗化処理):
膨潤処理された積層体Aを80℃の過マンガン酸カリウム(コンセントレートコンパクトCP、アトテックジャパン社製)粗化水溶液に入れて、20分間揺動した。その後、25℃の洗浄液(リダクションセキュリガントP、アトテックジャパン社製)により2分間洗浄し、純水でさらに洗浄した。表面が粗化処理された半硬化体A2を得た。
(B) Permanganate treatment (roughening treatment):
The swelled laminate A was placed in a 80 ° C. potassium permanganate (concentrate compact CP, manufactured by Atotech Japan) roughening aqueous solution and rocked for 20 minutes. Then, it wash | cleaned for 2 minutes with the washing | cleaning liquid (Reduction securigant P, the Atotech Japan company make) of 25 degreeC, and also wash | cleaned further with the pure water. A semi-cured product A2 having a roughened surface was obtained.

(c)銅めっき処理:
次に、粗化処理された半硬化体A2を以下の手順で無電解銅めっき及び電解銅めっき処理を行った。
(C) Copper plating treatment:
Next, the roughened semi-cured product A2 was subjected to electroless copper plating and electrolytic copper plating in the following procedure.

粗化処理された半硬化体A2を60℃のアルカリクリーナ(クリーナーセキュリガント902)で5分間処理し、脱脂洗浄した。次に25℃のプリディップ液(プリディップネオガントB)で2分間処理した。その後、40の℃のアクチベーター液(アクチベーターネオガント834)で5分間処理し、パラジウム触媒を付けた。更に、30℃の還元液(リデューサーネオガントWA)により、5分間処理した。   The roughened semi-cured product A2 was treated with an alkali cleaner (cleaner securigant 902) at 60 ° C. for 5 minutes and degreased and washed. Next, it was treated with a predip solution (predip Neogant B) at 25 ° C. for 2 minutes. Thereafter, it was treated with an activator solution (activator Neogant 834) at 40 ° C. for 5 minutes to attach a palladium catalyst. Further, it was treated with a reducing solution (reducer Neogant WA) at 30 ° C. for 5 minutes.

次に、半硬化体A2を化学銅液(ベーシックプリントガントMSK−DK、カッパープリントガントMSK、スタビライザープリントガントMSK)に入れ、無電解めっきをめっき厚さが0.5μm程度になるまで実施した。無電解めっき後に、残留している水素ガスを除去するため、120℃の温度で30分間アニールをかけた。無電解めっきの工程までのすべての工程は、ビーカースケールで処理液を1Lとし、半硬化体A2を揺動しながら実施した。   Next, the semi-cured product A2 was placed in a chemical copper solution (basic print Gantt MSK-DK, copper print Gantt MSK, stabilizer print Gantt MSK), and electroless plating was performed until the plating thickness reached about 0.5 μm. After the electroless plating, annealing was performed at a temperature of 120 ° C. for 30 minutes in order to remove the remaining hydrogen gas. All the steps up to the electroless plating step were performed while the semi-cured body A2 was swung with a processing solution of 1 L on a beaker scale.

続いて、無電解めっき処理された半硬化体A2に、電解めっきをめっき厚さが25μmとなるように処理した。電気銅めっきとして硫酸銅(リデューサーCu)を用いて、0.6A/cmの電流を流した。銅めっき処理後、170℃で1時間加熱し、硬化させ、銅めっき層が形成された硬化体Aを得た。 Subsequently, electroplating was performed on the semi-cured body A2 that had been subjected to electroless plating so that the plating thickness was 25 μm. An electric current of 0.6 A / cm 2 was passed using copper sulfate (reducer Cu) as the electrolytic copper plating. After the copper plating treatment, it was heated at 170 ° C. for 1 hour and cured to obtain a cured product A on which a copper plating layer was formed.

(樹脂シートの半硬化物の作製)
得られた樹脂シートの未硬化物を170℃のギアオーブン内で1時間加熱して、樹脂シートの半硬化物を作製した。
(Preparation of semi-cured resin sheet)
The obtained uncured product of the resin sheet was heated in a gear oven at 170 ° C. for 1 hour to prepare a semi-cured product of the resin sheet.

(硬化体Bの作製)
得られた樹脂シートの未硬化物を170℃のギアオーブン内で1時間加熱して、樹脂シートの半硬化物を得た。得られた樹脂シートの半硬化物を170℃で1時間加熱し、硬化させ、硬化体Bを得た。
(Preparation of cured product B)
The resulting uncured resin sheet was heated in a gear oven at 170 ° C. for 1 hour to obtain a semi-cured resin sheet. The obtained semi-cured product of the resin sheet was heated at 170 ° C. for 1 hour and cured to obtain a cured product B.

(評価)
(1)誘電率及び誘電正接
得られた上記樹脂シートの半硬化物を8枚重ね合わせて、真空ラミネートした後、厚み400μmの積層体を得た。その後、170℃で1時間硬化し、15mm×15mmの平面形状に裁断し積層体の硬化体である積層体Bを得た。誘電率測定装置(品番「HP4291B」、HEWLETT PACKARD社製)を用いて、周波数1GHzにおける常温(23℃)での積層体Bの誘電率及び誘電正接を測定した。
(Evaluation)
(1) Dielectric constant and dielectric loss tangent Eight semi-cured products of the resin sheet obtained above were superposed and vacuum laminated, and then a laminate having a thickness of 400 μm was obtained. Then, it hardened | cured at 170 degreeC for 1 hour, and it cut | judged to the planar shape of 15 mm x 15 mm, and obtained the laminated body B which is a hardening body of a laminated body. The dielectric constant and dielectric loss tangent of laminate B at room temperature (23 ° C.) at a frequency of 1 GHz were measured using a dielectric constant measuring device (product number “HP4291B”, manufactured by HEWLETT PACKARD).

(2)平均線膨張率
得られた上記硬化体Bを、3mm×25mmの平面形状に裁断した。線膨張率計(品番「TMA/SS120C」、セイコーインスツルメンツ社製)を用いて、引っ張り荷重2.94×10−2N、昇温速度5℃/分の条件で、裁断された硬化体Bの23〜100℃における平均線膨張率(α1)、及び150〜260℃における平均線膨張率(α2)を測定した。
(2) Average linear expansion coefficient The obtained cured product B was cut into a 3 mm × 25 mm planar shape. Using a linear expansion meter (product number “TMA / SS120C”, manufactured by Seiko Instruments Inc.), the cured body B was cut under the conditions of a tensile load of 2.94 × 10 −2 N and a heating rate of 5 ° C./min. The average linear expansion coefficient (α1) at 23 to 100 ° C. and the average linear expansion coefficient (α2) at 150 to 260 ° C. were measured.

(3)ガラス転移温度(Tg)
得られた上記硬化体Bを5mm×3mmの平面形状に裁断した。粘弾性スペクトロレオメーター(品番「RSA−II」、レオメトリック・サイエンティフィックエフ・イー社製)を用いて、昇温速度5℃/分の条件で、30から250℃まで裁断された硬化体Bの損失率tanδを測定し、損失率tanδが最大値になる温度(ガラス転移温度Tg)を求めた。
(3) Glass transition temperature (Tg)
The obtained cured body B was cut into a planar shape of 5 mm × 3 mm. Cured body cut from 30 to 250 ° C. at a temperature rising rate of 5 ° C./min using a viscoelastic spectro rheometer (Part No. “RSA-II”, manufactured by Rheometric Scientific F.E.) The loss rate tan δ of B was measured, and the temperature at which the loss rate tan δ reached the maximum value (glass transition temperature Tg) was determined.

(4)破断強度及び破断点伸度
得られた上記樹脂シートの半硬化物を2枚積層し、170℃で1時間加熱し硬化させ、10×80mmの平面形状に裁断し、厚み100μmの試験サンプルを得た。引張試験機(商品名「テンシロン」、オリエンテック社製)を用いて、チャック間距離60mm、クロスヘッド速度5mm/分の条件で引張試験を行い、試験サンプルの破断強度(MPa)および破断伸び率(%)を測定した。
(4) Tensile strength and elongation at break Two semi-cured products of the obtained resin sheet were laminated, heated at 170 ° C. for 1 hour, cured, cut into a 10 × 80 mm planar shape, and a test with a thickness of 100 μm. A sample was obtained. Using a tensile tester (trade name “Tensilon”, manufactured by Orientec Co., Ltd.), a tensile test was performed under the conditions of a distance between chucks of 60 mm and a crosshead speed of 5 mm / min. The breaking strength (MPa) and breaking elongation of the test sample (%) Was measured.

(5)粗化接着強度
得られた上記銅めっき層が形成された硬化体Aの銅めっき層の表面に10mm幅に切り欠きを入れた。その後、引張試験機(商品名「オートグラフ」、島津製作所社製)を用いて、クロスヘッド速度5mm/分の条件で、銅めっき層と硬化体との接着強度を測定し、得られた測定値を粗化接着強度とした。
(5) Roughening adhesive strength A notch was cut into a 10 mm width on the surface of the copper plating layer of the cured body A on which the obtained copper plating layer was formed. Then, using a tensile tester (trade name “Autograph”, manufactured by Shimadzu Corporation), the adhesive strength between the copper plating layer and the cured body was measured under the condition of a crosshead speed of 5 mm / min, and the obtained measurement. The value was defined as roughened adhesive strength.

(6)算術平均粗さRa及び十点平均粗さRz
非接触式の表面粗さ計(商品名「WYKO」、ビーコ社製)を用いて、粗化処理された上記半硬化体A2の粗化処理された表面の算術平均粗さRa及び十点平均粗さRzを測定した。算術平均粗さRa及び十点平均粗さRzはともにJIS B 0601−1994に従った。
(6) Arithmetic average roughness Ra and ten-point average roughness Rz
Arithmetic average roughness Ra and ten-point average of the roughened surface of the semi-cured product A2 roughened using a non-contact type surface roughness meter (trade name “WYKO”, manufactured by Beiko) Roughness Rz was measured. The arithmetic average roughness Ra and the ten-point average roughness Rz were both in accordance with JIS B 0601-1994.

(7)銅接着強度
CZ処理銅箔(CZ−8301、メック社製)に、樹脂シートの半硬化物を真空ラミネートし、170℃で1時間加熱し、硬化させ、銅箔付きの硬化体Cを得た。その後、銅箔の表面に10mm幅に切り欠きを入れた。引張試験機(商品名「オートグラフ」、島津製作所社製)を用いて、クロスヘッド速度5mm/分の条件で、銅箔と硬化体との間の接着強度を測定し、測定された接着強度を銅接着強度とした。
(7) Copper adhesive strength CZ-treated copper foil (CZ-8301, manufactured by MEC) is vacuum-laminated with a semi-cured product of a resin sheet, heated at 170 ° C. for 1 hour to be cured, and cured product C with copper foil. Got. Thereafter, a notch was cut into a 10 mm width on the surface of the copper foil. Using a tensile tester (trade name “Autograph”, manufactured by Shimadzu Corporation), the adhesive strength between the copper foil and the cured body was measured under the condition of a crosshead speed of 5 mm / min. Was defined as the copper adhesive strength.

(8)体積抵抗率
100mm×100mmの平面形状に裁断した硬化体Bを、134℃、相対湿度100%RH、3atm及び2時間の各条件でプレッシャークッカーテスト(PCT)を行い、その後23℃及び相対湿度65%RHの環境下に1時間放置した。その後、高抵抗率計(商品名「ハイレスターUP」、三菱化学社製)にJボックスUタイプを接続して、硬化体Bの体積抵抗率(Ω・cm)を測定した。
(8) Volume resistivity The cured body B cut into a planar shape of 100 mm × 100 mm is subjected to a pressure cooker test (PCT) under conditions of 134 ° C., relative humidity 100% RH, 3 atm and 2 hours, and then 23 ° C. and It was left for 1 hour in an environment with a relative humidity of 65% RH. Thereafter, a J-box U type was connected to a high resistivity meter (trade name “High Lester UP”, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and the volume resistivity (Ω · cm) of the cured product B was measured.

(9)溶融粘度
直径25mm×1mmの大きさに打ち抜いた樹脂シートの半硬化物の溶融粘度を、レオメータ(商品名「AR−2000ex」、ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン社製)にて5℃/分の昇温速度、1Hz、歪み量22%の測定条件にて、23℃から180℃までの測定を行い、90℃における溶融粘度を求めた。
(9) Melt viscosity The melt viscosity of a semi-cured resin sheet punched into a diameter of 25 mm × 1 mm is measured with a rheometer (trade name “AR-2000ex”, manufactured by T.A. Instruments Japan). Measurement was carried out from 23 ° C. to 180 ° C. under the measurement conditions of a heating rate of 5 ° C./min, 1 Hz, and a strain amount of 22%, and the melt viscosity at 90 ° C. was determined.

(10)パターン埋込み性
積層体Aを切断し、研磨した後に断面観察を行い、パターン部分に樹脂が隙間なく埋め込まれているか否かを評価した。パターン部分に樹脂が隙間なく埋め込まれている場合を「○」、パターン部分に空隙がある場合を「×」とした。
(10) Pattern embedding property After the laminate A was cut and polished, cross-sectional observation was performed, and it was evaluated whether or not the resin was embedded in the pattern portion without any gap. The case where the resin was embedded in the pattern part without any gap was indicated as “◯”, and the case where the pattern part had a void was indicated as “x”.

(11)ハンドリング性
得られた樹脂シートの半硬化物を幅25mm×長さ50mmの大きさに切り出し、5つの試験片を用意した。23℃及び相対湿度65%RHの環境下で、5つの試験片を180℃に折り曲げて、下記の評価基準でハンドリング性を評価した。
(11) Handling property The semi-cured product of the obtained resin sheet was cut into a size of 25 mm wide by 50 mm long to prepare five test pieces. Under the environment of 23 ° C. and relative humidity 65% RH, five test pieces were bent at 180 ° C., and the handling property was evaluated according to the following evaluation criteria.

〔ハンドリング性の評価基準〕
◎:5つの試験片が全て割れなかった
○:1つ以上の試験片が割れたものの、割れた試験片の中に粉状に割れた試験片はなかった
×:1つ以上の試験片が割れ、かつ割れた試験片の中に粉状に割れた試験片があった
結果を下記の表1〜5に示す。
[Handling property evaluation criteria]
◎: All five test pieces were not broken. ○: One or more test pieces were cracked, but none of the cracked test pieces were broken into powder. ×: One or more test pieces were Tables 1 to 5 below show the results of cracking and there were test pieces that were broken into powder in the cracked test pieces.

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1…硬化体
1a…上面
1b…孔
2…金属層
11…多層積層板
12…基板
12a…上面
13〜16…硬化体
17…金属層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Hardened body 1a ... Upper surface 1b ... Hole 2 ... Metal layer 11 ... Multilayer laminated board 12 ... Substrate 12a ... Upper surface 13-16 ... Hardened body 17 ... Metal layer

Claims (16)

エポキシ系樹脂と、硬化剤と、シリカ粒子がシランカップリング剤により表面処理されているシリカ成分とを含有し、
前記エポキシ系樹脂及び前記硬化剤の合計100重量部に対して、前記シリカ成分を25〜400重量部の範囲内で含有し、
前記シリカ粒子の平均粒子径が1μm以下であり、
前記シランカップリング剤が、アミノ基を有するシラン化合物、メルカプト基を有するシラン化合物、イソシアネート基を有するシラン化合物、酸無水物基を有するシラン化合物及びイソシアヌル酸基を有するシラン化合物からなる群から選択された少なくとも1種である、エポキシ系樹脂組成物。
Containing an epoxy resin, a curing agent, and a silica component in which silica particles are surface-treated with a silane coupling agent,
The silica component is contained within a range of 25 to 400 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the epoxy resin and the curing agent,
The silica particles have an average particle size of 1 μm or less,
The silane coupling agent is selected from the group consisting of a silane compound having an amino group, a silane compound having a mercapto group, a silane compound having an isocyanate group, a silane compound having an acid anhydride group, and a silane compound having an isocyanuric acid group. An epoxy resin composition which is at least one kind.
前記エポキシ系樹脂、前記硬化剤及び前記シリカ成分の合計100重量%の内の15重量%〜80重量%が、23℃で液状である、請求項1に記載のエポキシ系樹脂組成物。   2. The epoxy resin composition according to claim 1, wherein 15 wt% to 80 wt% of a total of 100 wt% of the epoxy resin, the curing agent, and the silica component is liquid at 23 ° C. 3. 前記エポキシ系樹脂100重量%中に、アントラセン骨格を有するエポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、アダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂、トリアジン骨格を有するエポキシ樹脂及びビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂からなる群から選択された少なくとも1種のエポキシ系樹脂を合計で2〜20重量%の範囲内で含む、請求項1または2に記載のエポキシ系樹脂組成物。   100% by weight of the epoxy resin is selected from the group consisting of an epoxy resin having an anthracene skeleton, an epoxy resin having a naphthalene skeleton, an epoxy resin having an adamantane skeleton, an epoxy resin having a triazine skeleton, and an epoxy resin having a biphenyl skeleton. The epoxy resin composition according to claim 1 or 2, further comprising at least one epoxy resin in the range of 2 to 20% by weight in total. 前記硬化剤100重量%中に、ビフェニル構造を有するフェノール化合物、ナフタレン構造を有するフェノール化合物、ジシクロペンタジエン構造を有するフェノール化合物、アミノトリアジン構造を有するフェノール化合物及び活性エステル化合物からなる群から選択された少なくとも1種の硬化剤を合計で5〜100重量%の範囲内で含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物。   100% by weight of the curing agent was selected from the group consisting of a phenol compound having a biphenyl structure, a phenol compound having a naphthalene structure, a phenol compound having a dicyclopentadiene structure, a phenol compound having an aminotriazine structure, and an active ester compound. The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 3, comprising at least one curing agent in a total range of 5 to 100% by weight. マレイミド化合物をさらに含有し、
前記マレイミド化合物の含有量が2〜45重量%の範囲内である、請求項1〜4のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物。
Further containing a maleimide compound,
The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the content of the maleimide compound is in the range of 2 to 45% by weight.
前記シリカ粒子の最大粒子径が5μm以下である、請求項1〜5のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein a maximum particle diameter of the silica particles is 5 µm or less. 前記エポキシ系樹脂及び前記硬化剤の合計100重量部に対して、有機化層状珪酸塩を0.01〜2重量部の範囲内でさらに含有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物。   The organically modified layered silicate is further contained within a range of 0.01 to 2 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the epoxy resin and the curing agent. Epoxy resin composition. 請求項1〜7のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物が、多孔質基材に含浸されている、プリプレグ。   A prepreg in which the porous base material is impregnated with the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 7. 請求項1〜7のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物又は該エポキシ系樹脂組成物が多孔質基材に含浸されているプリプレグを加熱し、予備硬化させることにより得られた硬化物が粗化処理されている硬化体であって、
粗化処理された表面の算術平均粗さRaが0.3μm以下であり、かつ十点平均粗さRzが3.0μm以下である、硬化体。
A cured product obtained by heating and pre-curing the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 7 or a prepreg in which the porous resin substrate is impregnated with the epoxy resin composition. Is a hardened body that has been roughened,
A cured product having an arithmetic average roughness Ra of 0.3 μm or less and a ten-point average roughness Rz of 3.0 μm or less on the roughened surface.
前記予備硬化の後、粗化処理される前に、前記硬化物が膨潤処理されている、請求項9に記載の硬化体。   The cured body according to claim 9, wherein the cured product is subjected to a swelling treatment after the preliminary curing and before the roughening treatment. 請求項1〜7のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物、該エポキシ系樹脂組成物が多孔質基材に含浸されているプリプレグ、又は前記エポキシ系樹脂組成物もしくは前記プリプレグを硬化させることにより得られた硬化物が粗化処理されている硬化体が、シート状に成形されている、シート状成形体。   The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 7, a prepreg in which the porous resin substrate is impregnated with the epoxy resin composition, or the epoxy resin composition or the prepreg is cured. The sheet-like molded object by which the hardening body by which the hardened | cured material obtained by this was roughened is shape | molded by the sheet form. 請求項11に記載のシート状成形体と、該シート状成形体の少なくとも片面に積層されている金属層とを備える、積層板。   A laminate comprising: the sheet-like molded body according to claim 11; and a metal layer laminated on at least one surface of the sheet-shaped molded body. 前記金属層が、回路として形成されている、請求項12に記載の積層板。   The laminate according to claim 12, wherein the metal layer is formed as a circuit. 積層された複数の請求項11に記載のシート状成形体と、該シート状成形体の間に配置された金属層とを備える、多層積層板。   A multilayer laminate comprising a plurality of laminated sheet-like molded bodies according to claim 11 and a metal layer disposed between the sheet-like molded bodies. 最表層の前記シート状成形体の外側の表面に積層された金属層をさらに備える、請求項14に記載の多層積層板。   The multilayer laminated board of Claim 14 further provided with the metal layer laminated | stacked on the outer surface of the said sheet-like molded object of the outermost layer. 前記金属層が、回路として形成されている、請求項14または15に記載の多層積層板。   The multilayer laminate according to claim 14 or 15, wherein the metal layer is formed as a circuit.
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