JP2010120038A - レーザー加工装置及びレーザー加工方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レーザー加工装置1は、レーザーにより被加工物Wを加工するレーザー加工装置1であって、被加工物Wに向かって照射するレーザーを出射するレーザー発振器18と、ノズル14を有し、ノズル14から噴流液体Fを噴射する液体噴流手段6と、被加工物Wを設置する設置台9と、ノズル14周囲の空間52を吸引するヘッド側吸引手段46と、設置台9に設けられ、設置台9表面近傍の空間を裏面側から吸引する設置台側吸引手段48と、ヘッド側吸引手段46及び設置台側吸引手段48の吸引力を制御する吸引力制御装置60と、を備える。
【選択図】 図1
Description
そこで、レーザー加工によって生じた粉塵(パーティクル)等の切屑を除去するための装置を備えたものが提案されている(特許文献1及び特許文献2)。
また、特許文献2に記載のレーザー加工装置は、レーザー照射手段と被加工物との間に液体を循環させるデブリ回収装置を備える。このデブリ回収装置は、レーザー照射手段の先端部と被加工物の表面との間の空間を局所的に液体で浸した液浸部を形成し、この液浸部に、加工によって生じた切屑を放出させ、液浸部の液体を回収することによって、切屑を除去する。
このように構成された本発明においては、アシストガス供給装置を更に有するので、ノズルヘッドから噴射された液柱の周りにアシストガスが噴出される。したがって、液柱の周りのアシストガスによって、液柱を安定させることができ、液柱内を導かれるレーザーが安定して被加工物まで伝送される。
このように構成された本発明においては、設置台がハニカム状に構成され、設置台側吸引手段が設置台の裏面側から貫通孔を通して表面側の空間を吸引するので、被加工物を設置するための設置台としての構造的強度を確保しながら、設置台表面側に存在する水滴等の吸引を効率よく行うことができる。
このように構成された本発明においては、設置台側吸引手段が切屑を含んだ水滴等を吸引するとともに、被加工物を保持するのにも役立つので、簡単な構造で被加工物の保持及び切屑の吸引を行うことができる。
このように構成された本発明においては、設置台に固定された被加工物の周囲をカバー部材で覆うので、被加工物を良好に吸引して設置台に固定することができると共に、設置台側吸引手段に必要な吸引力を最小限にとどめることができ、効率的な吸引を実現することができる。
以下、本発明の好ましい実施形態を添付図面を参照して説明する。
図1は、本発明の一実施形態によるレーザー加工装置の全体構成を概略的に示す図である。本発明の実施形態にかかるレーザー加工装置1は、レーザー加工ヘッド2と、このレーザー加工ヘッド2を通ってレーザーを被加工物W上に照射する光学装置4と、被加工物Wに噴流液体である高圧水を噴射するための液体噴流手段6と、液体噴流手段6によって生成された噴流液柱Fに沿ってアシストガスASを導入するアシストガス供給装置8と、被加工物Wを設置、固定するための設置台9と、レーザー加工により発生した切屑を吸引するための吸引手段10と、を備えている。
レーザー光学系16は、レーザー発振器18から出射されたレーザーを光ファイバ等でレーザー加工ヘッド2に導くと共に、このレーザーをレーザー加工ヘッド2内のノズル14の上端の開口近傍の位置で集光させるように構成されている。なお、図1においては、レーザー光学系16は模式化して図示されており、レーザーを最終的に集光させる1枚の集光レンズ20のみ示している。
グリーンレーザーは、2倍波(SHG)YAGレーザーであり、波長が532nmである。グリーンレーザーは、YAGレーザー(波長1064nm)やCO2レーザー(波長10.6μm)と異なり、水を通過しやすい特徴を有するため、噴流液体として安価で入手が容易な水を使用する場合には、レーザーの伝搬効率を向上させることができる。また、水に吸収され難いため、熱レンズの発生を抑制することで、レーザー加工ヘッド2内のノズル14の開口近傍の位置に精度よくレーザーを導くことが容易となる。このため、ノズル14の損傷を防止するとともに、安定した加工品質を確保することができる。
本実施形態では、貫通孔42を仕切る壁44の厚みは、約0.3mmのものを採用している。また、本実施形態では、設置台9は、XY方向(水平方向)に沿って移動可能に構成され、レーザー加工ヘッド2がZ方向(上下方向)に移動可能に設けられている。なお、設置台9及びレーザー加工ヘッド2の移動可能な方向は自由に設計することができ、例えば設置台9がZ方向に移動し、レーザー加工ヘッド2がXY方向に移動するように構成してもよい。また、上述のように、設置台9及びレーザー加工ヘッド2の両方が移動可能に設けられている構造に限らず、例えば設置台9がXYZ方向(水平方向及び上下方向)に沿って移動可能に構成されていてもよく、または、レーザー加工ヘッド2がXYZ方向に沿って移動可能に設けられていてもよい。
2つの吸引路56は1つの流量調整弁58及び吸引装置60に接続している。
まず、設置台9に被加工物Wを載置する。そして、吸引装置52によって設置台側吸引手段48を動作させ、吸引室62内の空気を吸引する。すると、吸引力によって被加工物Wが設置台9の表面38に吸着され、設置台9に保持、固定される。
ここで、本実施形態では、被加工物Wの面積は、設置台9の表面38の面積より小さいため、被加工物Wの周囲には、設置台9の表面38が露出する。この露出部分を、図1に示すようなカバー部材68で覆う。なお、カバー部材68は、露出部分全体を覆う大きさ、形状であってもよく、あるいは、露出部分の一部のみを覆う大きさ、形状であってもよい。
アシストガス供給装置8は、アシストガス供給源32からの空気(アシストガス)をガス供給室36に供給し、空気をノズル14の下方から被加工物Wに向かって噴出する。アシストガスは、噴流液柱Fの周囲を取り囲み、これにより、噴流液柱Fの流れを安定させる。
図2は、本発明の実施形態による吸引手段による吸引動作を示す部分拡大斜視図である。この図2に示すように、レーザーによって被加工物Wを加工すると、加工部の周囲に切屑が発生する。この切屑の一部は、微細な切粉やガス状の微粉となって、加工部上方に飛散する。また、噴流液柱Fが被加工物Wに衝突することによってノズル14の周囲に霧が発生する。この切粉や霧は、ヘッド側吸引手段46の包囲壁50によって、空間52内に或る程度閉じ込められる。そして、ヘッド側吸引手段46が空間52内の空気を吸引すると、飛散した切粉等が吸引されて加工部周辺から除去される。
設置台側吸引手段48は、設置台9の裏面40側から貫通孔42を通して表面38側の被加工物Wの周囲の領域及び表面上方の空間を吸引する。本実施形態では、被加工物Wを切断する加工を行っているので、被加工物Wには、図2に示すように切断面の間に間隙70が形成される。したがって、設置台側吸引手段48は、主にこの間隙70から被加工物Wの表面に存在する水滴を、内部に閉じ込められた切屑と一緒に吸引室62に吸引する。これにより、被加工物Wの表面に存在する切屑が除去される。
吸引手段10が、ヘッド側吸引手段46と設置台側吸引手段48とを備えているので、加工部の上方に飛散する微細な切粉だけでなく、被加工物Wの表面上に水滴中に閉じ込められた切屑の両方を除去することができる。したがって、本実施形態のように、噴流液柱Fによってレーザーを被加工物Wへ導くタイプのレーザー加工装置1においても、噴流液柱Fによって生じる水滴内に閉じ込められた切屑を確実に除去することができ、被加工物の加工品質を良好にすることができる。
例えば、機械の隙間調整に使われるシム材を切断加工する場合では、シム材の表面上に付着した切粉の分だけシム材の厚みが増加してしまい、所望の厚さのシム材が得られず、製品不良となることがある。また、例えば被加工物Wとして半導体ウェハを切断加工する場合には、半導体ウェハに切粉が付着すると、製品の電気的特性にばらつきが生じてしまうなどの問題がある。本実施形態のレーザー加工装置1によれば、上記のような問題が発生するのを効果的に抑制、防止することができる。
また、設置台側吸引手段48が、被加工物Wを設置台9に固定する吸引保持手段を兼ねているので、被加工物Wの保持構造を別途設ける必要がなく、レーザー加工装置の構造が簡単になる。
[実施例]
前述の実施形態のレーザー加工装置1を用いて、複数個の被加工物Wのレーザー切断加工を行った。被加工物Wは、材質がステンレス鋼であり、直径約40mmの円形の材料を用いた。複数個の被加工物Wの平均厚さは10.7μmであった。この被加工物Wを、レーザー加工装置1の設置台9に設置し、吸引手段10で吸引処理を行いながら、レーザー切断加工する。このときの、レーザー加工装置1の加工条件は、ノズル14の直径が100μm、噴流液柱Fの噴出圧力が10MPa、レーザーの波長が532nm、レーザーパルス周波数が15kHz、レーザー出力が18W、設置台9の移動速度、即ち被加工物Wの送り速度が1000mm/minであった。また、吸引手段10のヘッド側吸引手段46の吸引圧力が−10kPaであり、設置台側吸引手段48の吸引圧力が−10kPaであった。
上記のような条件でレーザー切断加工を行い、切断加工後の被加工物Wの表面をマイクロスコープで観察した。また、切断加工後の被加工物Wの平均厚さをマイクロメータにより計測した。
前述の実施形態のレーザー加工装置1を用いて、複数個の被加工物Wのレーザー切断加工を行った。被加工物Wは、実施例と同じ条件のものを使用した。また、レーザー加工装置1の使用条件は、吸引手段10を作動させなかった他は、実施例でのレーザー加工装置1の使用条件と同じであった。
上記のような条件でレーザー切断加工を行い、切断加工後の被加工物Wの表面をマイクロスコープで観察した。また、切断加工後の被加工物Wの平均厚さをマイクロメータにより計測した。
図3は、実施例の被加工物Wの切断加工後の表面の状態を示す。また、図4は、比較例の被加工物Wの切断加工後の表面の状態を示し、図5は、比較例の被加工物Wの表面の状態の部分拡大図を示す。
図3に示すように、実施例では、切断加工後の被加工物Wの表面には、切屑等が観察されず、表面状態が良好であった。また、切断加工後の被加工物Wの平均厚さは、11.2μmであった。
これに対して、図4の領域A及び図5に示すように、比較例では、被加工物Wの表面に切屑が残っていることが分かる。また、切断加工後の被加工物Wの平均厚さは、12.7μmであった。即ち、比較例では、被加工物Wの表面に切屑が残っているために、平均厚さが実施例のものよりも厚くなってしまっていることが分かる。
2 レーザー加工ヘッド
4 光学装置
6 液体噴流手段
8 アシストガス供給装置
9 設置台
10 吸引手段
14 ノズル
18 レーザー発振器
20 集光レンズ
38 表面
40 裏面
42 貫通孔
46 ヘッド側吸引手段
48 設置台側吸引手段
52 空間
60 吸引力制御装置
W 被加工物
Claims (6)
- レーザーにより被加工物を加工するレーザー加工装置であって、
前記被加工物に向かって照射するレーザーを出射するレーザー発振器と、
ノズルを有し、前記ノズルから噴流液体を噴射する液体噴流手段と、
前記被加工物を設置する設置台と、
前記ノズルヘッド周囲の空間を吸引するヘッド側吸引手段と、
前記設置台に設けられ、前記設置台表面近傍の空間を裏面側から吸引する設置台側吸引手段と、
前記ヘッド側吸引手段及び前記設置台側吸引手段の吸引力を制御する吸引力制御装置と、を備える、
ことを特徴とするレーザー加工装置。 - 液柱の周りに液柱の形成を助けるアシストガスを噴出するアシストガス供給装置を更に有する、
請求項1に記載のレーザー加工装置。 - 前記設置台は、厚さ方向に貫通する複数の貫通孔を有するハニカム状に構成され、前記設置台側吸引手段は、前記貫通孔を通して前記裏面側から前記表面側の空間を吸引するように前記設置台に接続される、
請求項1又は2に記載のレーザー加工装置。 - 前記設置台は、前記設置台側吸引手段の吸引力で被加工物を保持するように構成される、
請求項1から3の何れか1項に記載のレーザー加工装置。 - 請求項1から4の何れか1項に記載のレーザー加工装置を用いて、レーザーにより被加工物を加工するレーザー加工方法であって、
前記被加工物を前記設置台に設置し、前記設置台側吸引手段により、前記被加工物を吸引して前記設置台に固定する工程と、
前記ヘッド側吸引手段によって前記ノズルヘッド周辺の空間を吸引し、且つ前記設置台側吸引手段によって前記設置台の裏面から表面側の空間を吸引する工程と、
前記ノズルヘッド周辺の空間及び前記設置台の表面側の空間を吸引しながら、前記レーザー発振器から出射されたレーザーにより前記被加工物の加工を行う工程と、を備える、
ことを特徴とするレーザー加工方法。 - 前記被加工物を前記設置台に固定する工程は、前記被加工物の周囲の前記設置台表面をカバー部材で覆う工程を含む、
請求項5に記載のレーザー加工方法。
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