JP2010516874A - 位置規則性ポリマーの調製方法 - Google Patents
位置規則性ポリマーの調製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010516874A JP2010516874A JP2009547541A JP2009547541A JP2010516874A JP 2010516874 A JP2010516874 A JP 2010516874A JP 2009547541 A JP2009547541 A JP 2009547541A JP 2009547541 A JP2009547541 A JP 2009547541A JP 2010516874 A JP2010516874 A JP 2010516874A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- atoms
- polymer
- mixture
- group
- groups
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 103
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 70
- -1 poly (3-substituted) thiophenes Chemical class 0.000 claims abstract description 73
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 21
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 58
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 46
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 36
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 35
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 27
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 25
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 22
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 21
- 125000002734 organomagnesium group Chemical group 0.000 claims description 19
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 18
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 17
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 16
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 15
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 14
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims description 13
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 12
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 11
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 10
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 10
- LVEYOSJUKRVCCF-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(diphenylphosphino)propane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CCCP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 LVEYOSJUKRVCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- AIXAANGOTKPUOY-UHFFFAOYSA-N carbachol Chemical group [Cl-].C[N+](C)(C)CCOC(N)=O AIXAANGOTKPUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 7
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 6
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 5
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 5
- KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene Chemical compound [Fe+2].C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MUALRAIOVNYAIW-UHFFFAOYSA-N binap Chemical group C1=CC=CC=C1P(C=1C(=C2C=CC=CC2=CC=1)C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MUALRAIOVNYAIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004001 thioalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- QFMZQPDHXULLKC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CCP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QFMZQPDHXULLKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BCJVBDBJSMFBRW-UHFFFAOYSA-N 4-diphenylphosphanylbutyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CCCCP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BCJVBDBJSMFBRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MZFPAWGWFDGCHP-UHFFFAOYSA-N 5-diphenylphosphanylpentyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CCCCCP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MZFPAWGWFDGCHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003860 C1-C20 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 claims description 2
- 108091028043 Nucleic acid sequence Proteins 0.000 claims description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005424 photoluminescence Methods 0.000 claims 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 3
- 150000005082 selenophenes Chemical class 0.000 abstract description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 41
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 10
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 10
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 9
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 9
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 8
- 0 Cc1cc(*)c(-c2cc(*)c(-c3cc(*)c(C)[s]3)[s]2)[s]1 Chemical compound Cc1cc(*)c(-c2cc(*)c(-c3cc(*)c(C)[s]3)[s]2)[s]1 0.000 description 7
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 7
- MABNMNVCOAICNO-UHFFFAOYSA-N selenophene Chemical compound C=1C=C[se]C=1 MABNMNVCOAICNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 5
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 5
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229920002848 poly(3-alkoxythiophenes) Polymers 0.000 description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- NSYFIAVPXHGRSH-UHFFFAOYSA-N 2,5-dibromo-3-hexylthiophene Chemical compound CCCCCCC=1C=C(Br)SC=1Br NSYFIAVPXHGRSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 4
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M magnesium;butane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CCC[CH2-] QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 3
- 229920000301 poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl) polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- SXNCMLQAQIGJDO-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-5-(5-bromothiophen-2-yl)thiophene Chemical compound S1C(Br)=CC=C1C1=CC=C(Br)S1 SXNCMLQAQIGJDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 2
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HKNRNTYTYUWGLN-UHFFFAOYSA-N dithieno[3,2-a:2',3'-d]thiophene Chemical compound C1=CSC2=C1SC1=C2C=CS1 HKNRNTYTYUWGLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000013086 organic photovoltaic Methods 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N thieno[3,2-b]thiophene Chemical compound S1C=CC2=C1C=CS2 VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JRTIUDXYIUKIIE-KZUMESAESA-N (1z,5z)-cycloocta-1,5-diene;nickel Chemical compound [Ni].C\1C\C=C/CC\C=C/1.C\1C\C=C/CC\C=C/1 JRTIUDXYIUKIIE-KZUMESAESA-N 0.000 description 1
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006649 (C2-C20) alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001989 1,3-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([H])C([*:2])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- 125000003229 2-methylhexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005916 2-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005917 3-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003358 C2-C20 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 1
- 229910002422 La(NO3)3·6H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 229910019800 NbF 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- LYXFCGCYJQCSRL-UHFFFAOYSA-N OOSO Chemical compound OOSO LYXFCGCYJQCSRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018287 SbF 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005874 Vilsmeier-Haack formylation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910007926 ZrCl Inorganic materials 0.000 description 1
- IWJQOQYQKSPLMD-UHFFFAOYSA-N [Se]1C=CC=C1.[Se]1C=CC=C1 Chemical compound [Se]1C=CC=C1.[Se]1C=CC=C1 IWJQOQYQKSPLMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- OIPILFWXSMYKGL-UHFFFAOYSA-N acetylcholine Chemical compound CC(=O)OCC[N+](C)(C)C OIPILFWXSMYKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004373 acetylcholine Drugs 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005194 alkoxycarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005248 alkyl aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005196 alkyl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005199 aryl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005200 aryloxy carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005569 butenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 229920000359 diblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- BOUYBUIVMHNXQB-UHFFFAOYSA-N dicyclohexyl(2-dicyclohexylphosphanylethyl)phosphane Chemical compound C1CCCCC1P(C1CCCCC1)CCP(C1CCCCC1)C1CCCCC1 BOUYBUIVMHNXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000011532 electronic conductor Substances 0.000 description 1
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 150000002680 magnesium Chemical class 0.000 description 1
- NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;bromide Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[Br-] NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004660 morphological change Effects 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001979 organolithium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000006464 oxidative addition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005691 oxidative coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000006410 propenylene group Chemical group 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 229940071182 stannate Drugs 0.000 description 1
- 125000005402 stannate group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004862 thiobutyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004055 thiomethyl group Chemical group [H]SC([H])([H])* 0.000 description 1
- WEMNATFLVGEPEW-UHFFFAOYSA-N thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1.C=1C=CSC=1 WEMNATFLVGEPEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000428 triblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G61/122—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides
- C08G61/123—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G61/122—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides
- C08G61/123—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds
- C08G61/126—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds with a five-membered ring containing one sulfur atom in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L65/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
- H01B1/12—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明は、位置規則性ポリマー、特に、位置規則性度が高く規定の分子量の頭−尾(HT)ポリ(3−置換)チオフェンまたはセレノフェンの調製方法に関し、この方法によって調製される新規なポリマーに関し、電界効果トランジスタ(FET)、エレクトロルミネッセンス、光起電およびセンサー装置が含まれる光学的、電気光学的または電子装置における半導体または電荷輸送材料としての新規なポリマーの使用に関し、および新規なポリマーを含有するFETおよび他の半導体部品または材料に関する。
【選択図】なし
Description
結果として生じる有機亜鉛種を、次いで、ニッケル(II)触媒であるNi(dppe)Cl2と反応させ、ポリマーを与える。ニッケル(0)触媒であるNi(PPh3)4を用いた反応では、位置規則性度の低い(65%)ポリマーを与えることが報告された。また、パラジウム(0)触媒(Pd(PPh3)4)を用いた反応でも、位置規則性度の低い(50%)ポリマーを与えることが報告された(Chen、J.Am.Chem.Soc.、1992年、114巻、10087頁(非特許文献7)参照)。
結果として生じる有機マグネシウム試薬をニッケル(II)触媒と反応させ、位置規則性ポリマーを与える。McCulloughら、Macromolecules、2005年、38巻、8649頁(非特許文献9)において、この反応は更に研究されている。この文献では、ニッケル(II)が「リビング」タイプの重合で開始剤として作用し、ポリマーの分子量がニッケル(II)触媒の濃度に関係し、分散度が約1.5で10,000の領域の数平均分子量(Mn)が得られると報告されている。
しかしながら、この方法は、位置規則性度が低く(65%)中程度の分子量(Mn=15,000)のポリマーを与えるのみであった。加えて、化学量論量のNi(COD)2を使用することは、この試薬の毒性のため非常に望ましくない。
本発明は、
a)2−および5−位に脱離基をそれぞれ有する3−置換チオフェンまたは3−置換セレノフェン(「遊離体」)を、マグネシウムまたは反応性亜鉛または有機マグネシウムハロゲン化物と反応させ、
b)Ni(0)触媒および二座配位子を、1個以上の脱離基を有する芳香族モノマーまたはオリゴマー(「活性体」)と反応させ、
c)工程a)およびb)からの結果生じる反応混合物を互いに接触させ、任意工程として生じる混合物を撹拌および/または加熱して、それにより重合反応を開始し、
d)任意工程として重合反応を停止する試薬を加え、および任意工程として反応混合物よりポリマーを回収する
ことにより、位置規則性ポリ(3−置換チオフェン)またはポリ(3−置換セレノフェン)を調製する方法に関する。
(式中、AはSまたはSeであり、RはHまたはFであり、nは1より大きい整数であり、およびR1は1種類以上のヘテロ原子を含んでいてもよく、本発明の方法に対して記載される条件下で反応しないカルビルまたはヒドロカルビル基である。)
a)式IIの化合物(「遊離体」)をマグネシウムまたは反応性亜鉛または有機マグネシウムハロゲン化物と反応させ、それにより有機マグネシウムまたは有機亜鉛中間体または有機マグネシウムまたは有機亜鉛中間体の混合物を生成し、
(式中、A、RおよびR1は式I中で定義される通りであり、X1およびX2は、それぞれ互いに独立に適切な脱離基である。)
b)Ni(0)触媒および二座配位子を、1個以上の脱離基を有する芳香族モノマーまたはオリゴマー(「活性体」)と反応させ、
c)工程a)により得られる中間体または中間体混合物を、工程b)により得られる混合物と接触させ、任意工程として生じる混合物を撹拌および/または加熱して、それにより重合反応を開始し、
d)任意工程として重合反応を停止する試薬を加え、および任意工程として混合物より結果として生じるポリマーを回収する
ことによる方法に関する。
a1)有機溶媒中において該遊離体を有機マグネシウムハロゲン化物と反応させ、それにより有機マグネシウム中間体を生成させるか、または代わりに
a2)有機溶媒中において該遊離体を金属マグネシウムと反応させ、それにより有機マグネシウム中間体を生成させるか、または代わりに
a3)有機溶媒中において該遊離体を反応性亜鉛と反応させ、それにより有機亜鉛中間体を生成させるか、または代わりに
a4)工程a1)またはa2)中に記載される通りに有機マグネシウム中間体を生成させ、前記中間体を亜鉛ジハロゲン化物と反応させ、それにより有機亜鉛中間体を生成させ、
および、
b)触媒量のNi(0)触媒および二座配位子を該活性体と反応させ、
および、
c)工程a1)〜a4)の1つにより得られる中間体または中間体混合物を、工程b)により得られる混合物と接触させ、任意工程として生じる混合物を撹拌および/または加熱して、それにより重合反応を開始し、
および、
d)任意工程として重合反応を停止する試薬を加え、および任意工程として混合物より結果として生じるポリマーを回収する
ことによる方法に関する。
用語「位置規則性」は、少なくとも85%の位置規則性度を有するポリマーを意味する。「位置規則性度」は、ポリマー中の繰返し単位の頭−尾カップリング(HT−二連子)数を全カップリング数で割り、百分率で表したものを意味する。位置規則性度が90%以上のポリマーが好ましく、95%以上が非常に好ましく、96〜100%がより好ましく、98〜100%が最も好ましい。
ただし
R0およびR00は、それぞれ互いに独立に、Hまたは1〜12個のC原子のアルキルであり、
Y1およびY2は、それぞれ互いに独立に、H、F、ClまたはCNであり、
Pは、保護されていてもよい重合性または反応性基であり、
Spは、スペーサー基または単結合である。
CH2=CW2−(O)k1−、CH3−CH=CH−O−、(CH2=CH)2CH−OCO−、(CH2=CH−CH2)2CH−OCO−、(CH2=CH)2CH−O−、(CH2=CH−CH2)2N−、(CH2=CH−CH2)2N−CO−、HO−CW2W3−、HS−CW2W3−、HW2N−、HO−CW2W3−NH−、CH2=CW1−CO−NH−、CH2=CH−(COO)k1−Phe−(O)k2−、CH2=CH−(CO)k1−Phe−(O)k2−、Phe−CH=CH−、HOOC−、OCN−、およびW4W5W6Si−から選択され、W1は、H、Cl、CN、CF3、フェニルまたは1〜5個のC原子のアルキル、特に、H、ClまたはCH3であり、W2およびW3は、それぞれ互いに独立に、Hまたは1〜5個のC原子のアルキル、特に、H、メチル、エチルまたはn−プロピルであり、W4、W5およびW6は、それぞれ互いに独立に、Cl、1〜5個のC原子のオキサアルキルまたはオキサカルボニルアルキルであり、W7およびW8は、それぞれ互いに独立に、H、Clまたは1〜5個のC原子のアルキルであり、Pheは、上で定義される通りの1個以上の基Lで置換されていてもよい1,4−フェニレンであり、k1およびk2は、それぞれ互いに独立に、0または1である。
Sp’は30個までのC原子のアルキレンで、該基は置換されていないか、F、Cl、Br、IまたはCNによって単置換または多置換されており、また、1個以上の隣接していないCH2基は、Oおよび/またはS原子が互いに直接結合しないようにして、それぞれの場合で互いに独立に、−O−、−S−、−NH−、−NR0−、−SiR0R00−、−CO−、−COO−、−OCO−、−OCO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−CH=CH−または−C≡C−で置き換えられていることも可能であり、
X’は、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−COO−、−CO−NR0−、−NR0−CO−、−NR0−CO−NR00−、−OCH2−、−CH2O−、−SCH2−、−CH2S−、−CF2O−、−OCF2−、−CF2S−、−SCF2−、−CF2CH2−、−CH2CF2−、−CF2CF2−、−CH=N−、−N=CH−、−N=N−、−CH=CR0−、−CY1=CY2−、−C≡C−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−または単結合であり、
R0およびR00は、それぞれ互いに独立に、Hまたは1〜12個のC原子のアルキルであり、および
Y1およびY2は、それぞれ互いに独立に、H、F、ClまたはCNである。
式中、
Bは、それぞれ出現のたびに互いに独立に、S、SeまたはCR6=CR7であり、
R2〜7は、それぞれ互いに独立に、式I中で定義される通りのR、R1またはX1の意味または上で与えられる好ましい意味の1つを有し、R2〜7の少なくとも1つはX1の意味の1つを有し、および
mは、1〜10の整数である。
式中、AはSまたはSeであり、Hal1およびHal2は同一または異なるハロゲン原子であり、好ましくは、BrまたはClであり、R’はR1に与えられる意味の1つを有し、好ましくは、H、1〜12個のC原子のアルキルまたはフルオロアルキルである。
式中、
R8は、直鎖状、分岐状または環状で1〜20個のC原子のアルキルであり、該基は無置換であるか、またはF、Cl、BrまたはIにより単置換または多置換されており、式中、1個以上の隣接していないCH2基は、Oおよび/またはS原子が互いに直接結合しないようにして、それぞれの場合で互いに独立に、−O−、−S−、−NR0−、−SiR0R00−、−CY1=CY2−または−C≡C−により置き換えられていてもよく、または、1個以上の基Lによって置換されていてもよいアリールまたはヘテロアリールであり、
Lは、F、Cl、Br、Iまたは1〜20個のC原子のアルキル、アルコキシまたはチオアルキルであり、式中、1個以上のH原子は、FまたはClにより置換されていてもよく、
X1は、式II中で定義される通りであり、
および、Y1、Y2、R0およびR00は、上で定義される通りである。
第1の工程(工程a)において、2−および/または5−位に脱離基を有する3−置換チオフェンまたはセレノフェン(「遊離体」)を、有機マグネシウムハロゲン化物またはマグネシウムまたは反応性亜鉛と反応させる。遊離体は、好ましくは、上で定義される通りの式IIの化合物である。
式中、A、R、nおよびR1は式IおよびIIで与えられる意味を有し、X11およびX22は、それぞれ互いに独立に、H、ハロゲン、スズ酸塩、ボロン酸塩または1個以上のヘテロ原子も含んでもよい脂肪族、脂環式または芳香族基である。
21.32gの2,5−ジブロモ−3−ヘキシルチオフェンを125.4gのTHF中に窒素下で溶解し、追って、THF中のn−ブチルマグネシウムクロリドの溶液32.58g(約2M)を加えてグリニャール混合物を生成し、56℃に加熱する。
2.30kgの2,5−ジブロモ−3−ヘキシルチオフェンを28kgのTHF中に窒素下で溶解し、追って、THF中のn−ブチルマグネシウムクロリドの溶液3.3kg(約2M)を加えてグリニャール混合物を生成し、40℃に加熱する。
3.50kgの2,5−ジブロモ−3−ヘキシルチオフェンを18kgのTHF中に窒素下で溶解し、追って、THF中のn−ブチルマグネシウムクロリドの溶液5.1kg(約2M)を加えてグリニャール混合物を生成し、25℃に加熱する。
Claims (18)
- a)2−および5−位に脱離基をそれぞれ有する3−置換チオフェンまたは3−置換セレノフェン(「遊離体」)を、マグネシウムまたは反応性亜鉛または有機マグネシウムハロゲン化物と反応させ、
b)Ni(0)触媒および二座配位子を、1個以上の脱離基を有する芳香族モノマーまたはオリゴマー(「活性体」)と反応させ、
c)工程a)およびb)からの結果生じる反応混合物を互いに接触させ、任意工程として生じる混合物を撹拌および/または加熱して、それにより重合反応を開始し、
d)任意工程として重合反応を停止する試薬を加え、および任意工程として反応混合物よりポリマーを回収する
ことにより、位置規則性ポリ(3−置換チオフェン)またはポリ(3−置換セレノフェン)を調製する方法。 - 式Iの位置規則性ポリマーを調製する請求項1に記載の方法であって、
(式中、AはSまたはSeであり、RはHまたはFであり、nは1より大きい整数であり、およびR1は1種類以上のヘテロ原子を含んでいてもよく、本発明の方法に対して記載される条件下で反応しないカルビルまたはヒドロカルビル基である。)
a)式IIのモノマー(「遊離体」)をマグネシウムまたは反応性亜鉛または有機マグネシウムハロゲン化物と反応させ、それにより有機マグネシウムまたは有機亜鉛中間体または有機マグネシウムまたは有機亜鉛中間体の混合物を生成し、
(式中、A、RおよびR1は式I中で定義される通りであり、X1およびX2は、それぞれ互いに独立に適切な脱離基である。)
b)Ni(0)触媒および二座配位子を、1個以上の脱離基を有する芳香族モノマーまたはオリゴマー(「活性体」)と反応させ、
c)工程a)により得られる中間体または中間体混合物を、工程b)により得られる混合物と接触させ、任意工程として生じる混合物を撹拌および/または加熱して、それにより重合反応を開始し、
d)任意工程として重合反応を停止する試薬を加え、および任意工程として混合物より結果として生じるポリマーを回収する
ことによる方法。 - a1)有機溶媒中において該遊離体を有機マグネシウムハロゲン化物と反応させ、それにより有機マグネシウム中間体を生成させるか、または代わりに
a2)有機溶媒中において該遊離体を金属マグネシウムと反応させ、それにより有機マグネシウム中間体を生成させるか、または代わりに
a3)有機溶媒中において該遊離体を反応性亜鉛と反応させ、それにより有機亜鉛中間体を生成させるか、または代わりに
a4)工程a1)またはa2)中に記載される通りに有機マグネシウム中間体を生成させ、前記中間体を亜鉛ジハロゲン化物と反応させ、それにより有機亜鉛中間体を生成させ、
および、
b)触媒量のNi(0)触媒および二座配位子を該活性体と反応させ、
および、
c)工程a1)〜a4)の1つにより得られる中間体または中間体混合物を、工程b)により得られる混合物と接触させ、任意工程として生じる混合物を撹拌および/または加熱して、それにより重合反応を開始し、
および、
d)任意工程として重合反応を停止する試薬を加え、および任意工程として混合物より結果として生じるポリマーを回収する
ことを特徴とする請求項1または2に記載の方法。 - 該遊離体は請求項2中で定義される通りの式IIで、式中、AはSまたはSe、RはHであり、および
R1は、直鎖状、分岐状または環状で1〜20個のC原子のアルキルで、該基は無置換であるか、またはF、Cl、BrまたはIにより単置換または多置換されており、式中、1個以上の隣接していないCH2基は、Oおよび/またはS原子が互いに直接結合しないようにして、それぞれの場合で互いに独立に、−O−、−S−、−NR0−、−SiR0R00−、−CY1=CY2−または−C≡C−により置き換えられていてもよく、または、好ましくは1〜30個のC原子を有する置換されていてもよいアリールまたはヘテロアリール、またはP−Spを表し、ここで、
R0およびR00は、互いに独立に、Hまたは1〜12個のC原子のアルキルであり、
Y1およびY2は、互いに独立に、H、FまたはClであり、
Pは、保護されていてもよい重合性または反応性基であり、
Spは、スペーサー基または単結合であり、および
X1およびX2は、Cl、BrおよびIより選択される同一または異なる脱離基である
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。 - 該遊離体の3−位の置換基(R1)は、1個以上のフッ素原子で置換されていてもよいC1〜C20−アルキル、またはC1〜C20−アルケニル、C1〜C20−アルキニル、C1〜C20−アルコキシ、C1〜C20−チオアルキル、C1〜C20−シリル、C1〜C20−アミノもしくはC1〜C20−フルオロアルキルより選択されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 該活性体は、直接結合しているか、または請求項4中で定義される通りのR0およびY1、2で、−CH=CR0−、−CY1=CY2−、−C≡C−より選ばれる基を介して結合している1個以上の芳香環を含み、および/または1個以上の縮合芳香環を含む化合物であり、これらの環の全てが置換されていてもよいことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 該有機マグネシウムハロゲン化物は式IVより選択されることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
(式中、
R8は、1個以上の基Lによって置換されていてもよいアリールまたはヘテロアリールであるか、または、直鎖状、分岐状または環状で1〜20個のC原子のアルキルであり、該基は無置換であるか、またはF、Cl、BrまたはIにより単置換または多置換されており、式中、1個以上の隣接していないCH2基は、Oおよび/またはS原子が互いに直接結合しないようにして、それぞれの場合で互いに独立に、−O−、−S−、−NR0−、−SiR0R00−、−CY1=CY2−または−C≡C−により置き換えられていてもよく、
Lは、F、Cl、Br、Iまたは1〜20個のC原子のアルキル、アルコキシまたはチオアルキルであり、式中、1個以上のH原子は、FまたはClにより置換されていてもよく、
Y1およびY2は、それぞれ互いに独立に、H、F、ClまたはCNであり、
R0およびR00は、それぞれ互いに独立に、H、1〜12個のC原子のアルキルまたはアリールであり、
X1は、請求項2中で定義される通りである。) - 該二座配位子はホスフィン配位子であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 該二座配位子は、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン(dppe)、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(dppp)、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン(dppb)、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(dppf)、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(BINAP)、および1,2−ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)エタンより選択されることを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 該Ni(0)触媒は、Ni(COD)2またはNi(CO)4であることを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
- ジエチルエーテル、THF、2−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサンまたはジフェニルエーテルより選択される溶媒中で行うことを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。
- 該ポリマーは、95%以上の位置規則性度および50以上の重合度nを有することを特徴とする請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項1〜14のいずれか一項に記載の方法により得られるポリマー。
- 請求項15に記載の1種類以上ポリマーを含有する半導体または電荷輸送材料、部品または装置。
- 光学的、電気光学的または電子的部品または装置、有機電界効果トランジスタ(OFET)、集積回路(IC)、薄膜トランジスタ(TFT)、フラットパネルディスプレイ、高周波識別(RFID)タグ、エレクトロルミネッセンスまたはフォトルミネッセンス装置または部品、有機発光ダイオード(OLED)、ディスプレイのバックライト、光起電またはセンサー装置、電荷注入層、ショトキーダイオード、平坦化層、帯電防止フィルム、導電性基体またはパターン、電池における電極材料、光導電体、電子写真用途、電子写真記録、有機記憶装置、配向層、バイオセンサー、バイオチップにおける電荷輸送、半導体性、導電性、光導電体性または発光性材料として、またはDNA配列を検出および識別するための請求項15に記載のポリマーの使用。
- 請求項15または16に記載のポリマー、半導体または電荷輸送材料、部品または装置を含有する光学的、電気光学的または電子的装置、FET、IC、TFT、OLEDまたはRFIDタグ。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP07002093 | 2007-01-31 | ||
| EP07002093.8 | 2007-01-31 | ||
| PCT/EP2007/010744 WO2008092490A1 (en) | 2007-01-31 | 2007-12-10 | Process of preparing regioregular polymers |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010516874A true JP2010516874A (ja) | 2010-05-20 |
| JP5570818B2 JP5570818B2 (ja) | 2014-08-13 |
Family
ID=39323652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009547541A Expired - Fee Related JP5570818B2 (ja) | 2007-01-31 | 2007-12-10 | 位置規則性ポリマーの調製方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8221652B2 (ja) |
| EP (1) | EP2125927A1 (ja) |
| JP (1) | JP5570818B2 (ja) |
| KR (1) | KR20090116761A (ja) |
| CN (1) | CN101595154B (ja) |
| TW (1) | TWI439487B (ja) |
| WO (1) | WO2008092490A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015144255A (ja) * | 2013-12-17 | 2015-08-06 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC | 導電性複合体、その製造方法およびそれを含む物品 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007036593A1 (de) * | 2007-08-02 | 2009-02-05 | Bayer Technology Services Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Poly- und Oligothiophenen in technischem Maßstab |
| CA2875864A1 (en) | 2011-07-01 | 2013-01-10 | Evgueni E. Nesterov | Controlled radical polymerization, and catalysts useful therein |
| US9336921B2 (en) * | 2013-12-17 | 2016-05-10 | Dow Global Technologies Llc | Electrically conducting composites, methods of manufacture thereof and articles comprising the same |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006076156A1 (en) * | 2005-01-12 | 2006-07-20 | Honeywell International Inc. | Halogenated thiophene monomer for the preparation of regioregular polythiophenes |
| WO2006107740A2 (en) * | 2005-04-01 | 2006-10-12 | Carnegie Mellon University | Living synthesis of conducting polymers including regioregular polymers, polythiophenes, and block copolymers |
| WO2007011945A1 (en) * | 2005-07-18 | 2007-01-25 | Rieke Metals Inc. | Improved process for substituted polythiophene polymers |
| JP2009520043A (ja) * | 2005-11-24 | 2009-05-21 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 位置規則性ポリマーの製造方法 |
| JP2009520044A (ja) * | 2005-11-24 | 2009-05-21 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 位置規則性ポリセレノフェン類 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3534445B2 (ja) * | 1993-09-09 | 2004-06-07 | 隆一 山本 | ポリチオフェンを用いたel素子 |
| EP0902043A3 (de) * | 1997-09-10 | 1999-08-11 | Basf Aktiengesellschaft | Polyselenophene, Verfahren zu deren Herstellung, und deren Verwendung |
| US6894145B2 (en) * | 2003-06-16 | 2005-05-17 | Organic Vision Inc. | Methods to purify polymers |
| KR101069519B1 (ko) * | 2004-07-08 | 2011-09-30 | 삼성전자주식회사 | 올리고티오펜과 n-형 방향족 화합물을 주쇄에 교호로 포함하는 유기 반도체 고분자 |
| KR101102158B1 (ko) * | 2005-05-11 | 2012-01-02 | 삼성전자주식회사 | 신규한 유기 고분자 반도체, 이를 이용한 유기 고분자반도체 박막의 형성방법 및 이를 이용한 유기박막트랜지스터 |
-
2007
- 2007-12-10 JP JP2009547541A patent/JP5570818B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-12-10 WO PCT/EP2007/010744 patent/WO2008092490A1/en active Application Filing
- 2007-12-10 EP EP07847042A patent/EP2125927A1/en not_active Withdrawn
- 2007-12-10 US US12/524,611 patent/US8221652B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-12-10 KR KR1020097018034A patent/KR20090116761A/ko not_active Abandoned
- 2007-12-10 CN CN2007800506492A patent/CN101595154B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-01-29 TW TW097103329A patent/TWI439487B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006076156A1 (en) * | 2005-01-12 | 2006-07-20 | Honeywell International Inc. | Halogenated thiophene monomer for the preparation of regioregular polythiophenes |
| WO2006107740A2 (en) * | 2005-04-01 | 2006-10-12 | Carnegie Mellon University | Living synthesis of conducting polymers including regioregular polymers, polythiophenes, and block copolymers |
| JP2008534751A (ja) * | 2005-04-01 | 2008-08-28 | カーネギー メロン ユニバーシティ | レジオレギュラーポリマー、ポリチオフェンおよびブロックコポリマーを含む導電性ポリマーのリビング合成法 |
| WO2007011945A1 (en) * | 2005-07-18 | 2007-01-25 | Rieke Metals Inc. | Improved process for substituted polythiophene polymers |
| JP2009501838A (ja) * | 2005-07-18 | 2009-01-22 | リーケ メタルズ インコーポレイテッド | 置換ポリチオフェンポリマーのための改良プロセス |
| JP2009520043A (ja) * | 2005-11-24 | 2009-05-21 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 位置規則性ポリマーの製造方法 |
| JP2009520044A (ja) * | 2005-11-24 | 2009-05-21 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 位置規則性ポリセレノフェン類 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015144255A (ja) * | 2013-12-17 | 2015-08-06 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC | 導電性複合体、その製造方法およびそれを含む物品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20090116761A (ko) | 2009-11-11 |
| EP2125927A1 (en) | 2009-12-02 |
| US8221652B2 (en) | 2012-07-17 |
| TWI439487B (zh) | 2014-06-01 |
| CN101595154B (zh) | 2012-07-18 |
| TW200846386A (en) | 2008-12-01 |
| WO2008092490A1 (en) | 2008-08-07 |
| US20100084614A1 (en) | 2010-04-08 |
| JP5570818B2 (ja) | 2014-08-13 |
| CN101595154A (zh) | 2009-12-02 |
| HK1138605A1 (en) | 2010-08-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101295985B1 (ko) | 위치 규칙성 중합체의 제조방법 | |
| EP1891077B1 (en) | Monomers , oligomers and polymers of thieno (3, 4-d) thiazole | |
| US7524922B2 (en) | Poly(benzodithiophenes) | |
| US7807776B2 (en) | Procees of preparing regioregular polymers | |
| US7294288B2 (en) | Process of preparing regioregular polymers | |
| JP5739598B2 (ja) | チオフェンまたはセレノフェン化合物の重合方法 | |
| EP1654298B1 (en) | Process of preparing regioregular polymers | |
| KR20070112791A (ko) | 티오펜 및 셀레노펜 함유 단량체, 올리고머 및 중합체 | |
| KR20110058796A (ko) | 인다세노디티오펜 및 인다세노디셀레노펜 중합체 및 유기 반도체로서의 그 용도 | |
| EP1754736A1 (en) | Process for the polymerisation of thiophene or selenophene derivatives | |
| EP1951787B1 (en) | Regioregular polyselenophenes | |
| EP1778695B1 (en) | POLYMERS OF THIENO[2,3-b]THIOPHENE | |
| JP5570818B2 (ja) | 位置規則性ポリマーの調製方法 | |
| EP1524286B1 (en) | Poly(benzodithiophenes) | |
| HK1138605B (en) | Process of preparing regioregular polymers |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101209 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130415 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130507 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130805 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140527 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140625 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5570818 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |