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JP2011132430A - Adhesive for semiconductor chip bonding, non-electroconductive paste, and non-electroconductive film - Google Patents

Adhesive for semiconductor chip bonding, non-electroconductive paste, and non-electroconductive film Download PDF

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JP2011132430A
JP2011132430A JP2009295044A JP2009295044A JP2011132430A JP 2011132430 A JP2011132430 A JP 2011132430A JP 2009295044 A JP2009295044 A JP 2009295044A JP 2009295044 A JP2009295044 A JP 2009295044A JP 2011132430 A JP2011132430 A JP 2011132430A
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JP
Japan
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semiconductor chip
adhesive
bonding
weight
epoxy
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JP2009295044A
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Japanese (ja)
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Kohei Takeda
幸平 竹田
Chizuru Kin
千鶴 金
Hideaki Ishizawa
英亮 石澤
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Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive for semiconductor chip bonding which is excellent in storage stability and rapid curability, is high in transparency, and facilitates the recognition of an alignment mark at the time of semiconductor chip bonding, and to provide a non-electroconductive paste and a non-electroconductive film produced by using the adhesive for semiconductor chip bonding. <P>SOLUTION: There are rovided an adhesive for semiconductor chip bonding comprising an epoxy resin, a phenolic curing agent of a hydroxyl equivalent of 110 or higher and 2,3-dihydro-1H-pyrrolo[1,2-a]benzimidazole and a non-electroconductive paste and a non-electroconductive film characterized by being produced by using the adhesive. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、貯蔵安定性及び速硬化性に優れ、かつ、透明性が高く、半導体チップボンディング時のアライメントマークの認識を容易なものとする半導体チップ接合用接着剤に関する。また、本発明は、該半導体チップ接合用接着剤を用いて製造される非導電性ペースト及び非導電性フィルムに関する。 The present invention relates to an adhesive for bonding a semiconductor chip that is excellent in storage stability and fast curability, has high transparency, and facilitates recognition of an alignment mark during semiconductor chip bonding. The present invention also relates to a non-conductive paste and a non-conductive film manufactured using the semiconductor chip bonding adhesive.

半導体装置の製造においては、半導体チップを基板又は他の半導体チップに接着固定するボンディング工程が行われる。半導体チップをボンディングする際には、現在では、接着剤、接着シート等が用いられることが多い。 In manufacturing a semiconductor device, a bonding process is performed in which a semiconductor chip is bonded and fixed to a substrate or another semiconductor chip. Currently, adhesives, adhesive sheets, and the like are often used for bonding semiconductor chips.

例えば、特許文献1には、半導体チップと可撓性の配線基板とそれらに挟まれた絶縁層からなる構造を有する半導体装置において、絶縁層が加熱接着温度におけるキャピラリレオメータ法による最低粘度が、100〜2000Pa・sである絶縁層用接着フィルムが開示されている。特許文献1には、同文献に記載の絶縁層用接着フィルムは、浸出量制御、即ち半導体チップに設けられた電気信号を出力するための電極部分に流出する接着剤の抑制に優れ、耐熱性、回路充填性にも優れることが記載されている。 For example, Patent Document 1 discloses that in a semiconductor device having a structure including a semiconductor chip, a flexible wiring board, and an insulating layer sandwiched between them, the minimum viscosity by the capillary rheometer method at the heat bonding temperature is 100. An adhesive film for an insulating layer of ˜2000 Pa · s is disclosed. In Patent Literature 1, the adhesive film for an insulating layer described in the literature is excellent in controlling the amount of leaching, that is, suppressing the adhesive flowing out to an electrode portion for outputting an electric signal provided on a semiconductor chip, and has heat resistance. Further, it is described that the circuit filling property is also excellent.

一方、近年、半導体装置の小型化、高集積化が進展し、例えば、表面に電極として複数の突起を有するフリップチップ、複数の薄研削した半導体チップを積層したスタックドチップ等も生産されている。更に、このような小型化、高集積化した半導体装置を効率よく生産するために、製造工程の自動化もますます進展している。 On the other hand, in recent years, miniaturization and high integration of semiconductor devices have progressed. For example, flip chips having a plurality of protrusions as electrodes on the surface, stacked chips in which a plurality of thinly ground semiconductor chips are stacked, and the like are also produced. . Furthermore, in order to efficiently produce such miniaturized and highly integrated semiconductor devices, the automation of the manufacturing process is also progressing more and more.

近年の自動化されたボンディング工程においては、半導体チップ上に設置されたアライメントマークをカメラが認識することよって、半導体チップの位置合わせが行われる。このとき、アライメントマークは半導体チップ上に塗布された接着剤の上から認識されるため、ボンディング時に用いられる接着剤には、カメラがアライメントマークを充分に認識することができる程度の透明性が求められる。
しかしながら、従来の接着剤では、透明性を向上させると、同時に貯蔵安定性が低下することが問題であり、透明性と貯蔵安定性とを両立し、半導体装置の生産性の向上に貢献することのできる新しい接着剤が望まれている。
In recent automated bonding processes, a semiconductor chip is aligned by a camera recognizing an alignment mark placed on the semiconductor chip. At this time, since the alignment mark is recognized from above the adhesive applied on the semiconductor chip, the adhesive used at the time of bonding is required to have transparency enough for the camera to recognize the alignment mark. It is done.
However, with conventional adhesives, when transparency is improved, storage stability is a problem at the same time, and both transparency and storage stability are compatible, contributing to improvement in productivity of semiconductor devices. New adhesives that can be used are desired.

特開平11−12545号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-12545

本発明は、貯蔵安定性及び速硬化性に優れ、かつ、透明性が高く、半導体チップボンディング時のアライメントマークの認識を容易なものとする半導体チップ接合用接着剤を提供することを目的とする。また、本発明は、該半導体チップ接合用接着剤を用いて製造される非導電性ペースト及び非導電性フィルムを提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an adhesive for bonding a semiconductor chip that has excellent storage stability and fast curing property, is highly transparent, and facilitates recognition of an alignment mark during semiconductor chip bonding. . Another object of the present invention is to provide a non-conductive paste and a non-conductive film manufactured using the semiconductor chip bonding adhesive.

本発明は、エポキシ樹脂と、水酸基当量が110以上のフェノール系硬化剤と、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾールとを含有する半導体チップ接合用接着剤である。
以下、本発明を詳述する。
The present invention is an adhesive for bonding a semiconductor chip containing an epoxy resin, a phenolic curing agent having a hydroxyl equivalent weight of 110 or more, and 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole. .
The present invention is described in detail below.

一般に、硬化性化合物としてエポキシ樹脂を含有する半導体チップ接合用接着剤において、透明性を改善するためには、例えば、エポキシ樹脂に対する硬化剤及び硬化促進剤の溶解性を高めることが考えられる。しかしながら、エポキシ樹脂に対して硬化剤及び硬化促進剤が充分に溶解していると、保管中でも硬化反応が進行しやすく、貯蔵安定性の低下につながる。
この問題に対し、本発明者らは、エポキシ樹脂と、水酸基当量が110以上のフェノール系硬化剤と、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾールとを含有する半導体チップ接合用接着剤は、貯蔵安定性及び速硬化性に優れるとともに、透明性も高く、半導体チップボンディング時のアライメントマークの認識を容易なものとすることを見出し、本発明を完成させるに至った。
In general, in order to improve transparency in an adhesive for bonding a semiconductor chip containing an epoxy resin as a curable compound, for example, it is conceivable to increase the solubility of a curing agent and a curing accelerator in the epoxy resin. However, if the curing agent and the curing accelerator are sufficiently dissolved in the epoxy resin, the curing reaction is likely to proceed even during storage, leading to a decrease in storage stability.
In response to this problem, the present inventors have disclosed a semiconductor containing an epoxy resin, a phenolic curing agent having a hydroxyl equivalent weight of 110 or more, and 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole. It has been found that an adhesive for chip bonding is excellent in storage stability and fast curing property, has high transparency, and facilitates recognition of alignment marks during semiconductor chip bonding, and has led to the completion of the present invention. .

本発明の半導体チップ接合用接着剤は、エポキシ樹脂を含有する。
上記エポキシ樹脂は特に限定されず、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールAD型、ビスフェノールS型等のビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型等のノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテル等の芳香族エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、及び、これらの変性物、水添化物等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、単独で用いられてもよく、二種以上が併用されてもよい。
The adhesive for semiconductor chip bonding of the present invention contains an epoxy resin.
The epoxy resin is not particularly limited. For example, bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol AD type, bisphenol S type and other bisphenol type epoxy resins, phenol novolak type, cresol novolak type and other novolak type epoxy resins, trisphenol methane Examples thereof include aromatic epoxy resins such as triglycidyl ether, biphenyl type epoxy resins, naphthalene type epoxy resins, dicyclopentadiene type epoxy resins, and modified products and hydrogenated products thereof. These epoxy resins may be used independently and 2 or more types may be used together.

本発明の半導体チップ接合用接着剤は、上記エポキシ樹脂と反応可能な官能基を有する高分子化合物(以下、単に、反応可能な官能基を有する高分子化合物ともいう)を含有してもよい。
上記反応可能な官能基を有する高分子化合物を含有することで、得られる半導体チップ接合用接着剤の硬化物は靭性をもち、優れた耐衝撃性を発現することができる。
The adhesive for bonding a semiconductor chip of the present invention may contain a polymer compound having a functional group capable of reacting with the epoxy resin (hereinafter also simply referred to as a polymer compound having a functional group capable of reacting).
By containing the polymer compound having a functional group capable of reacting, the obtained cured product of the adhesive for bonding a semiconductor chip has toughness and can exhibit excellent impact resistance.

上記反応可能な官能基を有する高分子化合物は特に限定されず、例えば、アミノ基、ウレタン基、イミド基、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基等を有する高分子化合物等が挙げられる。なかでも、エポキシ基を有する高分子化合物が好ましい。
上記エポキシ基を有する高分子化合物を含有することで、得られる半導体チップ接合用接着剤の硬化物は優れた靭性を発現する。即ち、得られる半導体チップ接合用接着剤の硬化物は、上記エポキシ樹脂に由来する優れた機械的強度、耐熱性及び耐湿性と、上記エポキシ基を有する高分子化合物に由来する優れた靭性とを兼備することにより、高い接合信頼性や接続信頼性を発現することができる。
The polymer compound having a reactive functional group is not particularly limited, and examples thereof include a polymer compound having an amino group, a urethane group, an imide group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group, and the like. Among these, a polymer compound having an epoxy group is preferable.
By containing the high molecular compound which has the said epoxy group, the hardened | cured material of the adhesive agent for semiconductor chip joining obtained expresses the outstanding toughness. That is, the obtained cured product of the semiconductor chip bonding adhesive has excellent mechanical strength, heat resistance and moisture resistance derived from the epoxy resin, and excellent toughness derived from the polymer compound having the epoxy group. By having both, high joint reliability and connection reliability can be expressed.

上記エポキシ基を有する高分子化合物は、末端及び/又は側鎖(ペンダント位)にエポキシ基を有する高分子化合物であれば特に限定されず、例えば、エポキシ基含有アクリルゴム、エポキシ基含有ブタジエンゴム、ビスフェノール型高分子量エポキシ樹脂、エポキシ基含有フェノキシ樹脂、エポキシ基含有アクリル樹脂、エポキシ基含有ウレタン樹脂、エポキシ基含有ポリエステル樹脂等が挙げられる。なかでも、エポキシ基を多く含み、得られる半導体チップ接合用接着剤の硬化物が優れた機械的強度、耐熱性、靭性等を発現できることから、エポキシ基含有アクリル樹脂が好ましい。これらのエポキシ基を有する高分子化合物は、単独で用いられてもよく、二種以上が併用されてもよい。 The polymer compound having an epoxy group is not particularly limited as long as it is a polymer compound having an epoxy group at the terminal and / or side chain (pendant position). For example, an epoxy group-containing acrylic rubber, an epoxy group-containing butadiene rubber, Examples thereof include bisphenol type high molecular weight epoxy resin, epoxy group-containing phenoxy resin, epoxy group-containing acrylic resin, epoxy group-containing urethane resin, and epoxy group-containing polyester resin. Among these, an epoxy group-containing acrylic resin is preferable because it contains a large amount of epoxy groups and the cured product of the obtained adhesive for bonding semiconductor chips can exhibit excellent mechanical strength, heat resistance, toughness, and the like. These polymer compounds having an epoxy group may be used alone or in combination of two or more.

上記反応可能な官能基を有する高分子化合物として、上記エポキシ基を有する高分子化合物、特にエポキシ基含有アクリル樹脂を用いる場合、該エポキシ基を有する高分子化合物の重量平均分子量の好ましい下限は1万である。上記重量平均分子量が1万未満であると、得られる半導体チップ接合用接着剤の造膜性が不充分となり、例えば、半導体チップ接合用接着剤をフィルム状にしようとしても、フィルムとして形状を保持することができないことがある。 When the polymer compound having an epoxy group, particularly an epoxy group-containing acrylic resin, is used as the polymer compound having a reactive functional group, the preferred lower limit of the weight average molecular weight of the polymer compound having an epoxy group is 10,000. It is. When the weight average molecular weight is less than 10,000, the film-forming property of the obtained adhesive for bonding a semiconductor chip becomes insufficient. For example, even if the adhesive for bonding a semiconductor chip is made into a film, the shape is maintained as a film. There are things you can't do.

上記反応可能な官能基を有する高分子化合物として、上記エポキシ基を有する高分子化合物、特にエポキシ基含有アクリル樹脂を用いる場合、該エポキシ基を有する高分子化合物のエポキシ当量の好ましい下限は200、好ましい上限は1000である。上記エポキシ当量が200未満であると、得られる半導体チップ接合用接着剤の硬化物が堅く、脆くなることがある。上記エポキシ当量が1000を超えると、得られる半導体チップ接合用接着剤の硬化物の機械的強度、耐熱性等が不充分となることがある。 When the polymer compound having an epoxy group, particularly an epoxy group-containing acrylic resin, is used as the polymer compound having a functional group capable of reacting, the preferred lower limit of the epoxy equivalent of the polymer compound having an epoxy group is 200, preferably The upper limit is 1000. When the epoxy equivalent is less than 200, a cured product of the obtained adhesive for bonding a semiconductor chip may be hard and brittle. When the epoxy equivalent exceeds 1000, the mechanical strength, heat resistance, and the like of the resulting cured product of the adhesive for bonding a semiconductor chip may be insufficient.

本発明の半導体チップ接合用接着剤が上記反応可能な官能基を有する高分子化合物を含有する場合、上記反応可能な官能基を有する高分子化合物の含有量は特に限定されないが、上記エポキシ樹脂100重量部に対する好ましい下限が1重量部、好ましい上限が500重量部である。上記反応可能な官能基を有する高分子化合物の含有量が1重量部未満であると、得られる半導体チップ接合用接着剤の硬化物は、熱によるひずみが発生する際、靭性が不充分となり、接合信頼性が劣ることがある。上記反応可能な官能基を有する高分子化合物の含有量が500重量部を超えると、得られる半導体チップ接合用接着剤の硬化物の耐熱性が低下することがある。 When the adhesive for bonding a semiconductor chip of the present invention contains the polymer compound having the reactive functional group, the content of the polymer compound having the reactive functional group is not particularly limited, but the epoxy resin 100 A preferred lower limit relative to parts by weight is 1 part by weight, and a preferred upper limit is 500 parts by weight. When the content of the polymer compound having a reactive functional group is less than 1 part by weight, the cured product of the obtained adhesive for bonding a semiconductor chip has insufficient toughness when strain due to heat occurs. Bonding reliability may be inferior. When content of the high molecular compound which has the said functional group which can react exceeds 500 weight part, the heat resistance of the hardened | cured material of the adhesive agent for semiconductor chip bonding obtained may fall.

本発明の半導体チップ接合用接着剤は、水酸基当量が110以上のフェノール系硬化剤を含有する。水酸基当量が110未満のフェノール系硬化剤を含有する場合、得られる半導体チップ接合用接着剤は、貯蔵安定性が低下する。本発明の半導体チップ接合用接着剤は、水酸基当量が115以上のフェノール系硬化剤を含有することが好ましい。 The adhesive for bonding a semiconductor chip of the present invention contains a phenolic curing agent having a hydroxyl equivalent weight of 110 or more. When the phenolic curing agent having a hydroxyl group equivalent of less than 110 is contained, the obtained semiconductor chip bonding adhesive has low storage stability. The adhesive for bonding a semiconductor chip of the present invention preferably contains a phenolic curing agent having a hydroxyl equivalent weight of 115 or more.

上記水酸基当量が110以上のフェノール系硬化剤は、水酸基当量が110以上であれば特に限定されず、例えば、クレゾールノボラック型樹脂、BPAノボラック型樹脂(ビスフェノールAノボラック型樹脂)、ビフェニルフェノールノボラック型樹脂、ジシクロペンタジエンフェノールノボラック型樹脂等が挙げられる。 The phenolic curing agent having a hydroxyl group equivalent of 110 or more is not particularly limited as long as the hydroxyl group equivalent is 110 or more. And dicyclopentadiene phenol novolac type resin.

上記水酸基当量が110以上のフェノール系硬化剤の含有量は特に限定されないが、上記エポキシ樹脂と上記反応可能な官能基を有する高分子化合物との合計100重量部に対する好ましい下限が5重量部、好ましい上限が150重量部である。上記水酸基当量が110以上のフェノール系硬化剤の含有量が5重量部未満であると、得られる半導体チップ接合用接着剤は、充分に硬化しなかったり、速硬化性が低下したりすることがある。上記水酸基当量が110以上のフェノール系硬化剤の含有量が150重量部を超えると、得られる半導体チップ接合用接着剤は、貯蔵安定性が低下したり、透明性が低下したりすることがある。上記水酸基当量が110以上のフェノール系硬化剤の含有量は、上記エポキシ樹脂と上記反応可能な官能基を有する高分子化合物との合計100重量部に対するより好ましい下限が10重量部である。 The content of the phenolic curing agent having a hydroxyl equivalent weight of 110 or more is not particularly limited, but a preferred lower limit with respect to a total of 100 parts by weight of the epoxy resin and the polymer compound having a reactive functional group is preferably 5 parts by weight. The upper limit is 150 parts by weight. When the content of the phenolic curing agent having a hydroxyl group equivalent of 110 or more is less than 5 parts by weight, the obtained adhesive for bonding a semiconductor chip may not be sufficiently cured or the rapid curability may be reduced. is there. When the content of the phenolic curing agent having a hydroxyl group equivalent of 110 or more exceeds 150 parts by weight, the obtained adhesive for bonding a semiconductor chip may have reduced storage stability or reduced transparency. . The content of the phenolic curing agent having a hydroxyl group equivalent of 110 or more is more preferably 10 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the epoxy resin and the polymer compound having a reactive functional group.

本発明の半導体チップ接合用接着剤は、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾールを含有する。
上記水酸基当量が110以上のフェノール系硬化剤と、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾールとを併用することで、得られる半導体チップ接合用接着剤は、貯蔵安定性及び速硬化性に優れ、保管中は硬化反応が進行しないが、一旦加熱すると速やかに硬化反応が進行する。従って、このような半導体チップ接合用接着剤を用いて半導体チップをボンディングする際には、半導体チップ接合用接着剤の加熱硬化時間を短縮することができ、半導体装置の製造にかかる時間(タクトタイム)を大幅に短縮することができる。また、ボンディングする半導体チップが薄型である場合には、ソリの発生を抑制する効果も得られる。
The adhesive for bonding a semiconductor chip of the present invention contains 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole.
By using a phenolic curing agent having a hydroxyl equivalent weight of 110 or more and 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole in combination, the resulting adhesive for bonding a semiconductor chip is storage stable. It has excellent properties and fast curability, and the curing reaction does not proceed during storage, but the curing reaction proceeds promptly once heated. Therefore, when a semiconductor chip is bonded using such a semiconductor chip bonding adhesive, the heat curing time of the semiconductor chip bonding adhesive can be shortened, and the time required for manufacturing the semiconductor device (tact time) ) Can be greatly shortened. Moreover, when the semiconductor chip to be bonded is thin, an effect of suppressing the generation of warp can be obtained.

更に、上記水酸基当量が110以上のフェノール系硬化剤と、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾールとを併用することで、得られる半導体チップ接合用接着剤は、透明性が高く、このような半導体チップ接合用接着剤を用いて半導体チップをボンディングする際には、カメラによるアライメントマークの認識が容易となり、半導体装置の生産性を向上させることができる。 Furthermore, by using a phenolic curing agent having a hydroxyl equivalent weight of 110 or more and 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole in combination, an adhesive for bonding a semiconductor chip is obtained. When the semiconductor chip is bonded using such an adhesive for bonding a semiconductor chip, the alignment mark can be easily recognized by a camera, and the productivity of the semiconductor device can be improved.

2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾールの市販品として、例えば、TBZ(四国化成工業社製)等が挙げられる。 Examples of commercial products of 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole include TBZ (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.).

2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾールの含有量は特に限定されないが、上記エポキシ樹脂と上記反応可能な官能基を有する高分子化合物との合計100重量部に対する好ましい下限が0.1重量部、好ましい上限が10重量部である。2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾールの含有量が0.1重量部未満であると、得られる半導体チップ接合用接着剤は、充分に硬化しなかったり、速硬化性が低下したりすることがある。2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾールの含有量が10重量部を超えると、得られる半導体チップ接合用接着剤は、貯蔵安定性が低下したり、透明性が低下したりすることがある。2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾールの含有量は、上記エポキシ樹脂と上記反応可能な官能基を有する高分子化合物との合計100重量部に対するより好ましい下限が0.2重量部、より好ましい上限が5重量部、更に好ましい上限は1重量部である。 The content of 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole is not particularly limited, but is preferably based on a total of 100 parts by weight of the epoxy resin and the polymer compound having a reactive functional group. The lower limit is 0.1 parts by weight, and the preferred upper limit is 10 parts by weight. If the content of 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole is less than 0.1 parts by weight, the resulting adhesive for bonding a semiconductor chip may not be sufficiently cured, Curability may decrease. When the content of 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole exceeds 10 parts by weight, the resulting adhesive for bonding a semiconductor chip may have reduced storage stability or transparency. It may decrease. The content of 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole has a more preferable lower limit with respect to 100 parts by weight in total of the epoxy resin and the polymer compound having a reactive functional group. 2 parts by weight, more preferably 5 parts by weight, and still more preferably 1 part by weight.

本発明の半導体チップ接合用接着剤は、本発明の効果を阻害しない範囲内で無機充填材を含有してもよい。
上記無機充填材を含有することで、得られる半導体チップ接合用接着剤の硬化物の線膨張率が低下する。従って、このような半導体チップ接合用接着剤を用いて半導体チップをボンディングする際には、半導体チップ、基板等に生じる応力を抑制することができ、半導体チップ、基板等の剥がれ又はソリ、ハンダ等の導通部分に生じるクラック等を抑制することができる。
上記無機充填材は特に限定されず、例えば、ヒュームドシリカ、コロイダルシリカ等のシリカ、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素、ガラスビーズ、ガラスフリット等が挙げられる。
The adhesive for bonding a semiconductor chip of the present invention may contain an inorganic filler as long as the effects of the present invention are not impaired.
By containing the inorganic filler, the linear expansion coefficient of the cured product of the obtained adhesive for bonding a semiconductor chip is lowered. Therefore, when bonding a semiconductor chip using such an adhesive for bonding a semiconductor chip, stress generated on the semiconductor chip, the substrate, etc. can be suppressed, and the semiconductor chip, the substrate, etc. can be peeled off or warped, soldered, etc. The crack etc. which arise in the conduction part of can be controlled.
The inorganic filler is not particularly limited, and examples thereof include silica such as fumed silica and colloidal silica, alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon nitride, glass beads, and glass frit.

上記無機充填材として粒子状の無機充填材を用いる場合、平均粒子径の好ましい下限は0.1nm、好ましい上限は30μmである。上記粒子状の無機充填材の平均粒子径が0.1nm未満であると、増粘効果が高く、得られる半導体チップ接合用接着剤の流動性が低下することがある。上記粒子状の無機充填材の平均粒子径が30μmを超えると、得られる半導体チップ接合用接着剤を用いて半導体チップをボンディングする際に、電極間で上記無機充填材を噛みこむことがある。 When a particulate inorganic filler is used as the inorganic filler, the preferred lower limit of the average particle diameter is 0.1 nm, and the preferred upper limit is 30 μm. When the average particle size of the particulate inorganic filler is less than 0.1 nm, the thickening effect is high, and the fluidity of the resulting adhesive for bonding a semiconductor chip may be lowered. When the average particle size of the particulate inorganic filler exceeds 30 μm, the inorganic filler may be bitten between the electrodes when the semiconductor chip is bonded using the obtained semiconductor chip bonding adhesive.

本発明の半導体チップ接合用接着剤が上記無機充填材を含有する場合、上記無機充填材の含有量は特に限定されないが、上記エポキシ樹脂と上記反応可能な官能基を有する高分子化合物との合計100重量部に対する好ましい下限は5重量部、好ましい上限は80重量部である。上記無機充填材の含有量が5重量部未満であると、上記無機充填材を添加する効果をほとんど得ることができないことがある。上記無機充填材の含有量が80重量部を超えると、得られる半導体チップ接合用接着剤の硬化物の線膨張率は低下するものの、同時に弾性率が上昇し、半導体チップ、基板等に生じる応力を抑制できないことがある。
上記無機充填材の含有量は、上記エポキシ樹脂と上記反応可能な官能基を有する高分子化合物との合計100重量部に対するより好ましい下限は10重量部、より好ましい上限は60重量部、更に好ましい下限は15重量部、更に好ましい上限は40重量部である。
When the adhesive for semiconductor chip bonding of the present invention contains the inorganic filler, the content of the inorganic filler is not particularly limited, but is the total of the epoxy resin and the polymer compound having a functional group capable of reacting. A preferred lower limit for 100 parts by weight is 5 parts by weight, and a preferred upper limit is 80 parts by weight. If the content of the inorganic filler is less than 5 parts by weight, the effect of adding the inorganic filler may be hardly obtained. If the content of the inorganic filler exceeds 80 parts by weight, the coefficient of linear expansion of the cured product of the resulting adhesive for bonding semiconductor chips will decrease, but at the same time the elastic modulus will increase, causing stress on the semiconductor chip, substrate, etc. May not be suppressed.
The content of the inorganic filler is more preferably 10 parts by weight, more preferably 60 parts by weight, and still more preferably the lower limit with respect to 100 parts by weight of the total of the epoxy resin and the polymer compound having a reactive functional group. Is 15 parts by weight, and a more preferable upper limit is 40 parts by weight.

本発明の半導体チップ接合用接着剤は、本発明の効果を阻害しない範囲内で希釈剤を含有してもよい。
上記希釈剤は特に限定されないが、半導体チップ接合用接着剤の加熱硬化時に硬化物に取り込まれる反応性希釈剤が好ましい。なかでも、得られる半導体チップ接合用接着剤の接着信頼性を悪化させないために、1分子中に2以上の官能基を有する反応性希釈剤がより好ましい。
上記1分子中に2以上の官能基を有する反応性希釈剤として、例えば、脂肪族型エポキシ、エチレンオキサイド変性エポキシ、プロピレンオキサイド変性エポキシ、シクロヘキサン型エポキシ、ジシクロペンタジエン型エポキシ、フェノール型エポキシ等が挙げられる。
The adhesive for bonding a semiconductor chip of the present invention may contain a diluent within a range that does not impair the effects of the present invention.
Although the said diluent is not specifically limited, The reactive diluent taken in by hardened | cured material at the time of heat-hardening of the adhesive for semiconductor chip joining is preferable. Of these, a reactive diluent having two or more functional groups in one molecule is more preferable in order not to deteriorate the adhesion reliability of the obtained adhesive for bonding a semiconductor chip.
Examples of the reactive diluent having two or more functional groups in one molecule include aliphatic epoxy, ethylene oxide modified epoxy, propylene oxide modified epoxy, cyclohexane epoxy, dicyclopentadiene epoxy, phenol epoxy and the like. Can be mentioned.

本発明の半導体チップ接合用接着剤が上記希釈剤を含有する場合、上記希釈剤の含有量は特に限定されないが、上記エポキシ樹脂と上記反応可能な官能基を有する高分子化合物との合計100重量部に対する好ましい下限は1重量部、好ましい上限は50重量部である。上記希釈剤の含有量が1重量部未満であると、上記希釈剤を添加する効果をほとんど得ることができないことがある。上記希釈剤の含有量が50重量部を超えると、得られる半導体チップ接合用接着剤の接着信頼性が劣ったり、所望の粘度特性が得られなかったりすることがある。上記希釈剤の含有量は、上記エポキシ樹脂と上記反応可能な官能基を有する高分子化合物との合計100重量部に対するより好ましい下限が5重量部、より好ましい上限が20重量部である。 When the adhesive for semiconductor chip bonding of the present invention contains the diluent, the content of the diluent is not particularly limited, but a total of 100 weights of the epoxy resin and the polymer compound having a reactive functional group. The preferred lower limit for parts is 1 part by weight, and the preferred upper limit is 50 parts by weight. If the content of the diluent is less than 1 part by weight, the effect of adding the diluent may be hardly obtained. When the content of the diluent exceeds 50 parts by weight, the adhesive reliability of the obtained adhesive for bonding a semiconductor chip may be inferior or desired viscosity characteristics may not be obtained. The content of the diluent is more preferably 5 parts by weight and more preferably 20 parts by weight based on a total of 100 parts by weight of the epoxy resin and the polymer compound having a reactive functional group.

本発明の半導体チップ接合用接着剤は、必要に応じて、溶媒を含有してもよい。
上記溶媒は特に限定されず、例えば、芳香族炭化水素類、塩化芳香族炭化水素類、塩化脂肪族炭化水素類、アルコール類、エステル類、エーテル類、ケトン類、グリコールエーテル(セロソルブ)類、脂環式炭化水素類、脂肪族炭化水素類等が挙げられる。
The adhesive for bonding a semiconductor chip of the present invention may contain a solvent, if necessary.
The solvent is not particularly limited, and examples thereof include aromatic hydrocarbons, chlorinated aromatic hydrocarbons, chlorinated aliphatic hydrocarbons, alcohols, esters, ethers, ketones, glycol ethers (cellosolves), and fats. Examples thereof include cyclic hydrocarbons and aliphatic hydrocarbons.

本発明の半導体チップ接合用接着剤は、必要に応じて、無機イオン交換体を含有してもよい。上記無機イオン交換体のうち、市販品として、例えば、IXEシリーズ(東亞合成社製)等が挙げられる。本発明の半導体チップ接合用接着剤が上記無機イオン交換体を含有する場合、上記無機イオン交換体の含有量は特に限定されないが、本発明の半導体チップ接合用接着剤中の好ましい下限が1重量%、好ましい上限が10重量%である。 The adhesive for semiconductor chip bonding of the present invention may contain an inorganic ion exchanger, if necessary. Among the inorganic ion exchangers, examples of commercially available products include IXE series (manufactured by Toagosei Co., Ltd.). When the adhesive for bonding semiconductor chips of the present invention contains the inorganic ion exchanger, the content of the inorganic ion exchanger is not particularly limited, but the preferred lower limit in the adhesive for bonding semiconductor chips of the present invention is 1 weight. %, And a preferred upper limit is 10% by weight.

本発明の半導体チップ接合用接着剤は、その他必要に応じて、ブリード防止剤、イミダゾールシランカップリング剤等の接着性付与剤等の添加剤を含有してもよい。 The semiconductor chip bonding adhesive of the present invention may contain additives such as an anti-bleeding agent and an adhesion-imparting agent such as an imidazole silane coupling agent, if necessary.

本発明の半導体チップ接合用接着剤を製造する方法は特に限定されず、例えば、上記エポキシ樹脂、上記水酸基当量が110以上のフェノール系硬化剤及び2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、必要に応じて添加される上記反応可能な官能基を有する高分子化合物、上記無機充填材及びその他の添加剤等を所定量配合して混合することにより半導体チップ接合用接着剤を得る方法等が挙げられる。
上記混合する方法は特に限定されず、例えば、ホモディスパー、万能ミキサー、バンバリーミキサー、ニーダー等を用いて混合する方法等が挙げられる。
The method for producing the semiconductor chip bonding adhesive of the present invention is not particularly limited. For example, the epoxy resin, the phenolic curing agent having a hydroxyl equivalent weight of 110 or more, and 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2 -A] Adhesion for bonding a semiconductor chip by mixing and mixing a predetermined amount of benzimidazole, a polymer compound having the above-mentioned reactive functional group added as necessary, the above inorganic filler and other additives, etc. And a method for obtaining an agent.
The method of mixing is not particularly limited, and examples thereof include a method of mixing using a homodisper, a universal mixer, a Banbury mixer, a kneader, and the like.

本発明の半導体チップ接合用接着剤の用途は特に限定されないが、例えば、半導体装置の製造において、本発明の半導体チップ接合用接着剤を用いて、半導体チップを基板又は他の半導体チップにボンディングすることができる。
本発明の半導体チップ接合用接着剤は、貯蔵安定性及び速硬化性に優れ、かつ、透明性が高いことから、本発明の半導体チップ接合用接着剤を用いて半導体チップをボンディングする際には、半導体装置の製造にかかる時間(タクトタイム)を大幅に短縮することができるとともに、カメラによるアライメントマークの認識が容易となり、半導体装置の生産性を向上させることができる。
The use of the adhesive for bonding a semiconductor chip of the present invention is not particularly limited. For example, in manufacturing a semiconductor device, the adhesive for bonding a semiconductor chip of the present invention is used to bond a semiconductor chip to a substrate or another semiconductor chip. be able to.
The adhesive for bonding a semiconductor chip of the present invention is excellent in storage stability and quick curing, and has high transparency. Therefore, when bonding a semiconductor chip using the adhesive for bonding a semiconductor chip of the present invention. The time (takt time) required for manufacturing the semiconductor device can be greatly reduced, and the alignment mark can be easily recognized by the camera, thereby improving the productivity of the semiconductor device.

更に、本発明の半導体チップ接合用接着剤を用いて非導電性ペースト(NCP)及び非導電性フィルム(NCF)を製造し、該非導電性ペースト及び非導電性フィルムを用いて、半導体チップを基板又は他の半導体チップにボンディングすることもできる。このような非導電性ペースト及び非導電性フィルムもまた、本発明の1つである。
本発明の非導電性ペースト及び非導電性フィルムは、本発明の半導体チップ接合用接着剤を用いて製造されることから、貯蔵安定性及び速硬化性に優れ、かつ、透明性が高い。従って、本発明の非導電性ペースト及び非導電性フィルムを用いて半導体チップをボンディングする際には、半導体装置の製造にかかる時間(タクトタイム)を大幅に短縮することができるとともに、カメラによるアライメントマークの認識が容易となり、半導体装置の生産性を向上させることができる。
Furthermore, a non-conductive paste (NCP) and a non-conductive film (NCF) are manufactured using the adhesive for bonding a semiconductor chip of the present invention, and the semiconductor chip is substrated using the non-conductive paste and the non-conductive film. Alternatively, it can be bonded to another semiconductor chip. Such a non-conductive paste and a non-conductive film are also one aspect of the present invention.
Since the non-conductive paste and non-conductive film of the present invention are produced using the adhesive for bonding a semiconductor chip of the present invention, the non-conductive paste and the non-conductive film are excellent in storage stability and fast curability and have high transparency. Therefore, when a semiconductor chip is bonded using the non-conductive paste and non-conductive film of the present invention, the time required for manufacturing the semiconductor device (tact time) can be greatly reduced and alignment by a camera can be performed. Mark recognition becomes easy, and the productivity of the semiconductor device can be improved.

本発明の非導電性フィルムの厚みは特に限定されないが、好ましい下限は2μm、好ましい上限は500μmである。上記厚みが2μm未満であると、異物が混入された場合に平滑なフィルムが得られないことがある。上記厚みが500μmを超えると、非導電性フィルムの透明性が低下して、半導体チップをボンディングする際、カメラによるアライメントマークの認識が困難となったり、溶剤が残留しやすく、ボンディング時及び加熱硬化時に気泡が発生したりすることがある。 Although the thickness of the nonelectroconductive film of this invention is not specifically limited, A preferable minimum is 2 micrometers and a preferable upper limit is 500 micrometers. If the thickness is less than 2 μm, a smooth film may not be obtained when foreign matter is mixed. When the thickness exceeds 500 μm, the transparency of the non-conductive film is lowered, and when bonding a semiconductor chip, it becomes difficult to recognize the alignment mark by the camera, or the solvent tends to remain, and at the time of bonding and heat curing Sometimes bubbles are generated.

本発明の非導電性フィルムを製造する方法は特に限定されず、例えば、押出機による押出成型法、上記エポキシ樹脂等の硬化性化合物等を溶剤で希釈して硬化性組成物溶液を調製し、この溶液をセパレーター上にキャスティングした後、乾燥させる溶剤キャスト法、上記溶液をウェーハに直接塗工するスピンコート法、上記溶液をスクリーン印刷する方法等が挙げられる。 The method for producing the nonconductive film of the present invention is not particularly limited, for example, an extrusion molding method using an extruder, a curable compound such as the epoxy resin is diluted with a solvent to prepare a curable composition solution, Examples thereof include a solvent casting method in which the solution is cast on a separator and then dried, a spin coating method in which the solution is directly applied to a wafer, and a method in which the solution is screen-printed.

本発明によれば、貯蔵安定性及び速硬化性に優れ、かつ、透明性が高く、半導体チップボンディング時のアライメントマークの認識を容易なものとする半導体チップ接合用接着剤を提供することができる。また、本発明によれば、該半導体チップ接合用接着剤を用いて製造される非導電性ペースト及び非導電性フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the adhesive for semiconductor chip joining which is excellent in storage stability and quick-curing property, is highly transparent, and makes it easy to recognize alignment marks during semiconductor chip bonding can be provided. . Moreover, according to this invention, the nonelectroconductive paste and nonelectroconductive film manufactured using this adhesive agent for semiconductor chip joining can be provided.

以下に実施例を掲げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。 The embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1〜5、比較例1〜4)
表1の組成に従って、ホモディスパーを用いて下記に示す各材料を攪拌混合し、半導体チップ接合用接着剤を調製した。
(Examples 1-5, Comparative Examples 1-4)
According to the composition of Table 1, the following materials were stirred and mixed using a homodisper to prepare a semiconductor chip bonding adhesive.

(エポキシ樹脂)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(商品名「1004AF」、ジャパンエポキシレジン社製)
ビフェニル型エポキシ樹脂(商品名「YX−4000」、ジャパンエポキシレジン社製)
(Epoxy resin)
Bisphenol A type epoxy resin (trade name “1004AF”, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
Biphenyl type epoxy resin (trade name “YX-4000”, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)

(反応可能な官能基を有する高分子化合物)
グリシジル基含有アクリル樹脂(商品名「G−2050M」、日油社製)
(Polymer compound having a functional group capable of reacting)
Glycidyl group-containing acrylic resin (trade name “G-2050M”, manufactured by NOF Corporation)

(フェノール系硬化剤)
クレゾールノボラック型樹脂(水酸基当量117、商品名「KA−1160」、DIC社製)
BPAノボラック型樹脂(水酸基当量118、商品名「VH−4150」、DIC社製)
ビフェニルフェノールノボラック型樹脂(水酸基当量229、商品名「GPH−103」、日本化薬社製)
フェノールノボラック型樹脂(水酸基当量104、商品名「TD−2131」、DIC社製)
(Phenolic curing agent)
Cresol novolac type resin (hydroxyl equivalent 117, trade name “KA-1160”, manufactured by DIC)
BPA novolac resin (hydroxyl equivalent weight 118, trade name “VH-4150”, manufactured by DIC)
Biphenylphenol novolac resin (hydroxyl equivalent 229, trade name “GPH-103”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Phenol novolak type resin (hydroxyl equivalent 104, trade name “TD-2131”, manufactured by DIC)

(酸無水物系硬化剤)
トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸(商品名「YH−306」、ジャパンエポキシレジン社製)
(Acid anhydride curing agent)
Trialkyltetrahydrophthalic anhydride (trade name “YH-306”, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)

(硬化促進剤)
2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール(商品名「TBZ」、四国化成工業社製)
2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物(固形イミダゾール、商品名「2MAOK」、四国化成工業社製)
(Curing accelerator)
2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole (trade name “TBZ”, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)
2,4-Diamino-6- [2′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct (solid imidazole, trade name “2MAOK”, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)

(無機充填材)
シリカフィラー(商品名「SE−4000」、アドマテックス社製)
ガラスビーズ(商品名「UBS−0010E」、ユニチカ社製)
(Inorganic filler)
Silica filler (trade name “SE-4000”, manufactured by Admatechs)
Glass beads (trade name “UBS-0010E”, manufactured by Unitika Ltd.)

(その他)
シランカップリング剤(商品名「KBM−573」、信越化学社製)
増粘剤(商品名「レオロシール MT−10」、トクヤマ社製)
(Other)
Silane coupling agent (trade name “KBM-573”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Thickener (Brand name "Leosil MT-10", manufactured by Tokuyama)

(評価)
実施例、比較例で得られた半導体チップ接合用接着剤について、以下の評価を行った。結果を表1に示す。
(Evaluation)
The following evaluation was performed about the adhesive agent for semiconductor chip bonding obtained by the Example and the comparative example. The results are shown in Table 1.

(1)貯蔵安定性
半導体チップ接合用接着剤について、23℃において、E型粘度計(商品名「VISCOMETER TV−22」、TOKI SANGYO CO.LTD社製、使用ローターφ15mm)を用いて初期粘度η(Pa・s)及び調製後1週間経過時の粘度η(Pa・s)を測定した。
粘度ηが初期粘度ηの2倍に達していない場合を「○」、2倍に達している場合を「×」として貯蔵安定性を評価した。
(1) About storage-stable semiconductor chip bonding adhesive, initial viscosity η at 23 ° C. using an E-type viscometer (trade name “VISCOMETER TV-22”, manufactured by TOKI SANGYO CO. LTD, rotor used: φ15 mm) 0 (Pa · s) and viscosity η t (Pa · s) after one week from the preparation were measured.
The case where the viscosity η t did not reach twice the initial viscosity η 0 was evaluated as “◯”, and the case where it reached 2 times as “×” was evaluated for storage stability.

(2)ゲル化時間の測定
半導体チップ接合用接着剤約0.1mLをホットプレート上に滴下し、予め120℃、150℃及び200℃の各温度に設定したホットプレート上で温めておいたガラスを上から押しつけた。そのガラスが外れなくなるまでの時間をゲル化時間として測定した。
(2) Measurement of gelation time About 0.1 mL of adhesive for bonding semiconductor chips was dropped on a hot plate, and the glass was heated on a hot plate set in advance at 120 ° C., 150 ° C. and 200 ° C. Was pressed from above. The time until the glass did not come off was measured as the gel time.

(3)ヘーズ値の測定
半導体チップ接合用接着剤を厚さ70μmのフィルム状とし、ヘーズ測定を行った。
ヘーズ値が80未満の場合を「○」、80以上の場合を「×」として透明性を評価した。なお、ヘーズ閾値を80としたのは、フリップチップボンダー(澁谷工業社製、「DB100」)に搭載されているアライメント認識用カメラを用いてアライメントマークを認識できたのが、ヘーズ値80未満の場合であったためである。
(3) Measurement of haze value The adhesive for bonding semiconductor chips was formed into a film having a thickness of 70 μm, and haze measurement was performed.
Transparency was evaluated by setting “h” when the haze value was less than 80, and “x” when the haze value was 80 or more. Note that the haze threshold was set to 80 because the alignment mark was recognized using an alignment recognition camera mounted on a flip chip bonder (“DB100” manufactured by Kasuya Kogyo Co., Ltd.). This is because it was a case.

Figure 2011132430
Figure 2011132430

本発明によれば、貯蔵安定性及び速硬化性に優れ、かつ、透明性が高く、半導体チップボンディング時のアライメントマークの認識を容易なものとする半導体チップ接合用接着剤を提供することができる。また、本発明によれば、該半導体チップ接合用接着剤を用いて製造される非導電性ペースト及び非導電性フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the adhesive for semiconductor chip joining which is excellent in storage stability and quick-curing property, is highly transparent, and makes it easy to recognize alignment marks during semiconductor chip bonding can be provided. . Moreover, according to this invention, the nonelectroconductive paste and nonelectroconductive film manufactured using this adhesive agent for semiconductor chip joining can be provided.

Claims (3)

エポキシ樹脂と、水酸基当量が110以上のフェノール系硬化剤と、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾールとを含有することを特徴とする半導体チップ接合用接着剤。 An adhesive for bonding a semiconductor chip, comprising an epoxy resin, a phenolic curing agent having a hydroxyl equivalent weight of 110 or more, and 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole. 請求項1記載の半導体チップ接合用接着剤を用いて製造されることを特徴とする非導電性ペースト。 A non-conductive paste manufactured using the semiconductor chip bonding adhesive according to claim 1. 請求項1記載の半導体チップ接合用接着剤を用いて製造されることを特徴とする非導電性フィルム。 A non-conductive film manufactured using the adhesive for bonding a semiconductor chip according to claim 1.
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