JP2012528823A - アミノオルガノシランの製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 7
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 88
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 59
- -1 amine ammonium halide Chemical class 0.000 claims abstract description 58
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims abstract description 34
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims abstract description 14
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 37
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 30
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 claims description 30
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 20
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 16
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 16
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 14
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 14
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims description 11
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 10
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 6
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 6
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 5
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical group CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003916 ethylene diamine group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 4
- NFDXQGNDWIPXQL-UHFFFAOYSA-N 1-cyclooctyldiazocane Chemical compound C1CCCCCCC1N1NCCCCCC1 NFDXQGNDWIPXQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1H-imidazole Chemical compound CN1C=CN=C1 MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DDHUNHGZUHZNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diamine Chemical compound NCC(C)(C)CN DDHUNHGZUHZNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000012973 diazabicyclooctane Substances 0.000 claims description 2
- UKODFQOELJFMII-UHFFFAOYSA-N pentamethyldiethylenetriamine Chemical compound CN(C)CCN(C)CCN(C)C UKODFQOELJFMII-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N tetraethylenepentamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCN FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 16
- 239000002585 base Substances 0.000 description 80
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 36
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 21
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical class NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 9
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 5
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 5
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 5
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 5
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 5
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 5
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 5
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910007991 Si-N Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910006294 Si—N Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 4
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- UOCZMUZYGLTGHO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(morpholin-4-ylmethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CN1CCOCC1 UOCZMUZYGLTGHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TXAUMPQRSDQWCL-UHFFFAOYSA-N N-(dimethoxymethylsilylmethyl)aniline Chemical compound COC(OC)[SiH2]CNC1=CC=CC=C1 TXAUMPQRSDQWCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005997 bromomethyl group Chemical group 0.000 description 3
- HCFPRFJJTHMING-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diamine;hydron;chloride Chemical compound [Cl-].NCC[NH3+] HCFPRFJJTHMING-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- VNBLTKHUCJLFSB-UHFFFAOYSA-N n-(trimethoxysilylmethyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CNC1=CC=CC=C1 VNBLTKHUCJLFSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 2
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 description 2
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- QLNOVKKVHFRGMA-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical group [CH2]CC[Si](OC)(OC)OC QLNOVKKVHFRGMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 2
- GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylimidazole Chemical compound CC1=NC=CN1C GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 1-undecene Chemical compound CCCCCCCCCC=C DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IELVEAVYQVBGNX-UHFFFAOYSA-N 3-[(2,2-dimethylazasilolidin-1-yl)-dimethylsilyl]propan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](C)(C)N1CCC[Si]1(C)C IELVEAVYQVBGNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPZDIFSPRVHGIF-UHFFFAOYSA-N 3-aminopropylsilicon Chemical compound NCCC[Si] ZPZDIFSPRVHGIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IAHBRVXRNOZVLM-UHFFFAOYSA-N COC(OC)OC[SiH2]CCl Chemical compound COC(OC)OC[SiH2]CCl IAHBRVXRNOZVLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical class NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001334 alicyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000003868 ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001448 anilines Chemical class 0.000 description 1
- MMCPOSDMTGQNKG-UHFFFAOYSA-N anilinium chloride Chemical compound Cl.NC1=CC=CC=C1 MMCPOSDMTGQNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- XEYDTPFVYTVHTI-UHFFFAOYSA-N bromomethylsilane Chemical class [SiH3]CBr XEYDTPFVYTVHTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001804 chlorine Chemical class 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 125000004965 chloroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](CCl)(OCC)OCC ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](CCl)(OC)OC FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXZMFKUGAPMMCJ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(CCl)OC ZXZMFKUGAPMMCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012847 fine chemical Substances 0.000 description 1
- 238000001640 fractional crystallisation Methods 0.000 description 1
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940087646 methanolamine Drugs 0.000 description 1
- DGKBWLBTWDDRJX-UHFFFAOYSA-N methoxy-[methoxy(methyl)silyl]oxy-methylsilane Chemical compound CO[SiH](C)O[SiH](C)OC DGKBWLBTWDDRJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
- 125000001190 organyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-O phenylazanium Chemical class [NH3+]C1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 125000002112 pyrrolidino group Chemical group [*]N1C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- YWOSGXSBVHJBEJ-UHFFFAOYSA-N silylmethanamine Chemical class NC[SiH3] YWOSGXSBVHJBEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001577 simple distillation Methods 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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Abstract
Description
R′3-nR1 nSi−R2−NR3R4 (1)
のアミノオルガニルトリオルガニルシランを、一般式(2)
H−NR3R4 (2)
の環状もしくは非環状のアミンと、一般式(3)
R′3-nR1 nSi−R2−X (3)
の(ハロゲンオルガニル)シランとを反応させることにより製造する方法(I)において、
[式中、
R′は、それぞれ1〜10個の炭素原子を有するアシルオキシ基又はアルコキシ基を意味し、
R1は、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、
R2は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基を意味し、
R3、R4は、互いに独立して、水素又は1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、その際、R3、R4は、互いに結合されていてもよく、かつ得られる環は、更にまた他のヘテロ原子、NH基もしくはNR2a基を有してよく、
R2aは、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基を意味し、
nは、0、1、2もしくは3の数を意味し、
Xは、塩素、臭素もしくはヨウ素を意味する]
前記反応が、以下の連続した工程:
a)一般式(3)の(ハロゲンオルガニル)シラン1モル当たりに一般式(2)のアミン1.1〜100モルを0〜250℃の温度で反応させる工程と、
その際、前記一般式(1)のシランの他に、副生成物として一般式(2)のアミンのアンモニウムハロゲン化物が形成され、
b)塩基(B)を反応混合物に添加する工程と、
その際、塩基(B)は1モル当たりに少なくとも2モルの塩基性の官能基を含み、ここで塩交換がなされ、その際に一般式(2)のアミンが遊離され、そして塩基(B)は、塩基(B)の塩基性の官能基少なくとも1.6モルがハロゲン化水素付加物として存在する量で添加され、
c)一般式(2)のアミンを反応混合物から留去する工程と、
d)塩基(B)を前記反応混合物に、2つの液相を形成するのに十分な量で添加する工程と、
その際、一方の相は、塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含み、
e)塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含む液相を分離する工程と、
を含む前記方法である。
H2NR7 (5)
のアミンと、一般式(6)
(R2)Y1Si−R5−Y2 (6)
の(ハロゲンオルガニル)シランとを反応させることにより製造する方法(II)において、
[式中、
R5は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基であって、炭化水素鎖がカルボニル基、カルボキシル基、酸素原子、NH又はNR8基によって中断されていてよい基を意味し、
R6は、水素又は1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基であって、ハロゲン原子、OH基及び基−NH2−、−NHR8、NR8 2で置換されていてよい基を意味し、
R7は、水素又は1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基であって、ハロゲン原子、OH基及び基−NH2−、−NHR8、NR8 2で置換されていてよい基を意味し、
Rは、炭化水素基、それぞれ1〜10個の炭素原子を有するアルコキシ基を意味し、
R8は、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、かつ
Y1及びY2は、塩素、臭素又はヨウ素を意味する]
前記反応が、以下の連続した工程:
a)一般式(6)の(ハロゲンオルガニル)シラン1モル当たりに一般式(5)のアミン1.1〜1000モルを0〜300℃の温度で反応させる工程と、
その際、前記一般式(4)のシランの他に、副生成物として一般式(5)のアミンのアンモニウムハロゲン化物が形成され、
b)塩基(B)を反応混合物に添加する工程と、
その際、塩基(B)は1モル当たりに少なくとも2モルの塩基性の官能基を含み、ここで塩交換がなされ、その際に一般式(5)のアミンが遊離され、そして塩基(B)は、塩基(B)の塩基性の官能基少なくとも1.6モルがハロゲン化水素付加物として存在する量で添加され、
c)一般式(5)のアミンを反応混合物から留去する工程と、
d)塩基(B)を前記反応混合物に、2つの液相を形成するのに十分な量で添加する工程と、
その際、一方の相は、塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含み、
e)塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含む液相を分離する工程と、
を含む前記方法である。
R01 3-tR11 tSi−R12−NR13−R14−SiR02 3-sR15 s (7)
のシリルオルガノアミンを、一般式(8)
H−NR13−R14−SiR02 3-sR15 s (8)
の(アミノオルガニル)シランと、一般式(9)
R01 3-tR11 tSi−R12−Z (9)
の(ハロゲンオルガニル)シランとを反応させることにより製造する方法(III)において、
[式中、
R01、R02は、それぞれ1〜10個の炭素原子を有するアルコキシ基を意味し、
R11、R15は、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、
R12は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基であって、炭化水素鎖がカルボニル基、カルボキシル基、酸素原子又は硫黄原子によって中断されていてよい基を意味し、
R14は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基であって、炭化水素鎖がカルボニル基、カルボキシル基、酸素原子、硫黄原子、NH又はNR18基によって中断されていてよい基を意味し、その際、R18は、R11、R15と同じ意味を有し、
R13は、水素、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基又は一般式R03 3-oR16 oSi−R17−の基を意味し、式中、R16は、R11及びR15と同じ意味であり、R17は、R12及びR14と同じ意味であり、かつR03は、R01及びR02と同じ意味であり、かつ
s、t、oは、互いに独立して、0、1、2又は3の数を意味し、かつ
Zは、塩素、臭素又はヨウ素を意味する]
前記反応が、以下の連続した工程:
a)一般式(9)の(ハロゲンオルガニル)シラン1モル当たりに一般式(8)のアミン1.1〜100モルを0〜250℃の温度で反応させる工程と、
その際、前記一般式(7)のシリルオルガノアミンの他に、副生成物として一般式(8)のアミンのアンモニウムハロゲン化物が形成され、
b)塩基(B)を反応混合物に添加する工程と、
その際、塩基(B)は1モル当たりに少なくとも2モルの塩基性の官能基を含み、ここで塩交換がなされ、その際に一般式(8)のアミンが遊離され、そして塩基(B)は、塩基(B)の塩基性の官能基少なくとも1.6モルがハロゲン化水素付加物として存在する量で添加され、
c)一般式(8)のアミンを反応混合物から留去する工程と、
d)塩基(B)を前記反応混合物に、2つの液相を形成するのに十分な量で添加する工程と、
その際、一方の相は、塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含み、
e)塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含む液相を分離する工程と、
を含む前記方法である。
例えば2B*H−Hal→B↑+B*2H−Hal
が進行することがある。
a1)工程a)において一般式(2)、(5)もしくは(8)のアミンが過剰に使用される場合には、この過剰量は、更に工程b)での塩基(B)の添加前に完全にもしくは部分的に分離してよい。
・ 工程e)の後の生成物含有相への又はしかしながら工程c)で蒸留されたアミンフラクションへの脂肪族ケトンもしくはアルデヒドの付加的な添加。この措置は、工程b)で添加された塩基(B)が第一級アミノ基を有する化合物である場合には、この相中でなおも含まれる塩基(B)の残留物を相応のイミンへと変換するために用いられる。前記イミンは、しばしば、生成物から、とりわけ過剰に使用されかつ/又は工程b)で再び遊離される一般式(2)、(5)もしくは(8)のアミンから、塩基(B)自体よりも容易に蒸留により分離できる。
・ エチレンジアミンの添加は、工程b)において、一般式(3)、(6)もしくは(9)の(ハロゲンオルガニル)シランの量に対して0.5〜0.8当量の特に好ましいエチレンジアミン量だけが添加されたときに既に十分に完全な塩交換がもたらされる。
4−(トリエトキシシリルメチル)テトラヒドロ−1,4−オキサジンの製造
還流冷却器、KPG撹拌機、温度計を有する1000mlの四ツ口フラスコにおいて、305gの乾モルホリン(pKb 5.67)を加熱還流(127℃)させ、そして60分以内で撹拌しつつ305.8gのクロロメチル−トリエトキシシランを加えた。計量供給の間には還流を保持した。その際、温度は連続的に153℃に上昇した。添加の完了後に、15分にわたり前記温度で後撹拌した。15分以内で、撹拌しつつ46.3gのエチレンジアミン(pKb 4.07)を前記混合物に添加した。その際に、固体のエチレンジアミン−ビスヒドロクロリドが沈殿した。淡ベージュ色の懸濁液を還流条件下(137℃)で60分にわたり撹拌した。次いで、94℃/5hPaまでの低沸点物を留去した。193.9gの無色の澄明なフラクションが得られ、前記フラクションは、GCによれば、90%のモルホリン、5.2%のエタノール、2.45%の4−(トリエトキシシリルメチル)テトラヒドロ−1,4−オキサジン及び1.5%のエチレンジアミンを含有していた。それ故に、95%のモルホリンが回収された。蒸留残滓に、50℃で120gのエチレンジアミンを加え、15分にわたり撹拌した。50gのシクロヘキサンの添加後に、2つの液相が形成した。下方のエチレンジアミン塩酸塩相を抜き取った。上方の相から、92℃/5hPaまでの低沸点物を留去した。61.4gの無色の澄明なフラクションが得られ、前記フラクションは、GCによれば、78.6%のシクロヘキサン、16%のエタノール及び4.6%のモルホリンを含有していた。残留物を濾過した。330.3gの澄明な帯黄色の濾液が得られ、前記濾液は、GCによれば、90%の4−(トリエトキシシリルメチル)テトラヒドロ−1,4−オキサジンを含有していた。分別蒸留によって、98%の4−(トリエトキシシリルメチル)テトラヒドロ−1,4−オキサジン(収率77%)を有する無色の澄明なフラクション289gが得られた。
N−フェニルアミノメチルトリメトキシシランの製造
還流冷却器、KPG撹拌機、温度計を有する500mlの四ツ口フラスコ中で、163.7gの乾アニリン(pKb 9.4)を100℃に加熱し、そして180分以内で撹拌しつつ60gのクロロメチル−トリメトキシシランを加え、そして60分にわたり後撹拌した。10分以内で、撹拌しつつ11.6gのエチレンジアミン(pKb 4.07)を前記混合物に添加した。その際に、エチレンジアミン−ビスヒドロクロリドの白色の沈殿物が生じた。変わらない温度(100℃)で60分にわたり更に撹拌した。引き続き、真空を印加し、そして10hPaで85℃までの温度で124gのアニリンを蒸留した(GCによる純度98.5%;収率95%)。100℃で蒸留残滓に13.7gのエチレンジアミンを加えた。その際に、エチレンジアミン塩酸塩の液相が形成し、それは80℃で分離された。上方の相を、ビグリュー(vigreux)カラムを介して分別蒸留した。10hPaで137℃の沸点で、59.6g(収率72%)のN−フェニルアミノメチルトリメトキシシランが得られ、その純度は96.6%で測定された。
N−フェニルアミノメチルジメトキシメチルシランの製造
還流冷却器、KPG撹拌機、温度計を有する2000mlの五ツ口フラスコ中で、1413gの乾アニリン(pKb 9.4)を100℃に加熱し、そして180分以内で撹拌しつつ450gの(クロロメチル)ジメトキシメチルシランを加え、そして60分にわたり後撹拌した。次いで、10分以内で、撹拌しつつ96.2gのエチレンジアミン(pKb 4.07)を前記混合物に添加した。その際に、エチレンジアミン−ビスヒドロクロリドの沈殿物が形成した。変わらない温度(100℃)で60分にわたり更に撹拌した*)。引き続き、真空を印加し、そして20hPaで110℃までで1141gのアニリンを蒸留した(GCによる純度95.3%+2%のN−フェニルアミノメチルジメトキシメチルシラン;アニリンの収率100%)。100℃及び85hPaの圧力で、蒸留残滓に4分以内で113.6gのエチレンジアミンを加えた。その際に調節する弱い還流によって、装置内の蒸気室中に形成した薄膜をすすぎ落とした。その際に、エチレンジアミン塩酸塩の液相が形成し、それは80℃で分離された。上方の相を10hPaで115℃まで加熱した。残留物として、88.1%のフェニルアミノメチルジメトキシメチルシラン、4.8%のビス[(ジメトキシメチルシリル)メチル]アミン、2.9%の1,3−ビス(N−フェニルアミノメチル)−1,3−ジメトキシ−1,3−ジメチル−ジシロキサンからなる混合物が残留した。目的生成物の収率は、86%であった。
比較試験において、(クロロメチル)ジメトキシメトキシメチルシランとアニリンとの実施例3と同様の反応条件下での反応の後に、アニリン過剰量を、エチレンジアミンを予め添加せずに留去した。反応混合物のDSC測定は、197℃以降で発熱的分解を示した(−1025kJ/kg)。アニリンの留去の後に、分解温度は、168℃に低下し、分解エンタルピーは−1312kJ/kg未満であった。−1312kJ/kgの分解エンタルピーは、約875℃の断熱的な温度上昇に相当する。蒸留過程で慣用のより長期の温度負荷において、分解温度(開始温度)の低下が進行することがある。それは、上記方法でエチレンジアミンを添加しないと、すなわちアニリン塩酸塩をエチレンジアミン−ビスヒドロクロリドに変換しないと、高い安全性リスクを侵すことを意味する。
ビス((3−トリメトキシシリル)プロピル)アミンの製造
還流冷却器、KPG撹拌機、温度計及び30cmのビグリューカラムを有する4000mlの五ツ口フラスコ中で、1906.8gの3−アミノプロピルトリメトキシシラン(Wacker Chemie AG(ドイツ)で購入できるGeniosil(登録商標)GF96)を130℃で初充填し、そして還流下に120分以内で696.3gの3−クロロプロピル−トリメトキシシランを加えた。添加の完了後に、240分にわたり前記温度で後撹拌した。それを110℃に冷却し、3分以内で、撹拌しつつ115.8gのエチレンジアミンを前記混合物に添加した。その際、固体のエチレンジアミン−ビスヒドロクロリドが沈殿した。次いで、ビグリューカラムを介して蒸留した。105℃/10hPaまでで1318.8gの無色の澄明な低沸点フラクションを蒸留し、それは、GCによれば、87.4%の3−アミノプロピルトリメトキシシラン、1%のメタノール及び7.9%のエチレンジアミンを含有していた。135℃/10hPaまでで中間経過を取り出し、それは、GCによれば、74%の3−アミノプロピルトリメトキシシラン、8.3%のビス((3−トリメトキシシリル)プロピル)アミン、11.8%の環化生成物(=1,1−ジメトキシ−1−シラ−2−(3−(トリメトキシシリル)プロピル)アザシクロペンタン)及び1.4%のエチレンジアミンを含有していた。コールドトラップにおいて、メタノールとエチレンジアミンとの1:1混合物27.6gが集まった。従って、3−アミノプロピルシランが定量的に回収された。305.4gのエチレンジアミンを蒸留残滓へと100℃で添加した後に、液状の下方の相が形成し、それを80℃で抜き取った。上方の相を加熱し、蒸留残滓を濾過した。85%のビス((3−トリメトキシシリル)プロピル)アミン、1.4%の環化生成物(=1,1−ジメトキシ−1−シラ−2−(3−(トリメトキシシリル)プロピル)アザシクロペンタン)、7.4%のトリス((3−トリメトキシシリル)プロピル)アミン、1.7%の3−アミノプロピルトリメトキシシランからなる混合物981gが得られた。
Claims (10)
- 一般式(1)
R′3-nR1 nSi−R2−NR3R4 (1)
のアミノオルガニルトリオルガニルシランを、一般式(2)
H−NR3R4 (2)
の環状もしくは非環状のアミンと、一般式(3)
R′3-nR1 nSi−R2−X (3)
の(ハロゲンオルガニル)シランとを反応させることにより製造する方法(I)において、
[式中、
R′は、それぞれ1〜10個の炭素原子を有するアシルオキシ基又はアルコキシ基を意味し、
R1は、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、
R2は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基を意味し、
R3、R4は、互いに独立して、水素又は1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、その際、R3、R4は、互いに結合されていてもよく、かつ得られる環は、更にまた他のヘテロ原子、NH基もしくはNR2a基を有してよく、
R2aは、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基を意味し、
nは、0、1、2もしくは3の数を意味し、
Xは、塩素、臭素もしくはヨウ素を意味する]
前記反応が、以下の連続した工程:
a)一般式(3)の(ハロゲンオルガニル)シラン1モル当たりに一般式(2)のアミン1.1〜100モルを0〜250℃の温度で反応させる工程と、
その際、前記一般式(1)のシランの他に、副生成物として一般式(2)のアミンのアンモニウムハロゲン化物が形成され、
b)塩基(B)を反応混合物に添加する工程と、
その際、塩基(B)は1モル当たりに少なくとも2モルの塩基性の官能基を含み、ここで塩交換がなされ、その際に一般式(2)のアミンが遊離され、そして塩基(B)は、塩基(B)の塩基性の官能基少なくとも1.6モルがハロゲン化水素付加物として存在する量で添加され、
c)一般式(2)のアミンを反応混合物から留去する工程と、
d)塩基(B)を前記反応混合物に、2つの液相を形成するのに十分な量で添加する工程と、
その際、一方の相は、塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含み、
e)塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含む液相を分離する工程と、
を含む前記方法。 - 一般式(4)
の環状アミノシランを、一般式(5)
H2NR7 (5)
のアミンと、一般式(6)
(R2)Y1Si−R5−Y2 (6)
の(ハロゲンオルガニル)シランとを反応させることにより製造する方法(II)において、
[式中、
R5は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基であって、炭化水素鎖がカルボニル基、カルボキシル基、酸素原子、NH又はNR8基によって中断されていてよい基を意味し、
R6は、水素又は1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基であって、ハロゲン原子、OH基及び基−NH2−、−NHR8、NR8 2で置換されていてよい基を意味し、
R7は、水素又は1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基であって、ハロゲン原子、OH基及び基−NH2−、−NHR8、NR8 2で置換されていてよい基を意味し、
Rは、炭化水素基、それぞれ1〜10個の炭素原子を有するアルコキシ基を意味し、
R8は、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、かつ
Y1及びY2は、塩素、臭素又はヨウ素を意味する]
前記反応が、以下の連続した工程:
a)一般式(6)の(ハロゲンオルガニル)シラン1モル当たりに一般式(5)のアミン1.1〜1000モルを0〜300℃の温度で反応させる工程と、
その際、前記一般式(4)のシランの他に、副生成物として一般式(5)のアミンのアンモニウムハロゲン化物が形成され、
b)塩基(B)を反応混合物に添加する工程と、
その際、塩基(B)は1モル当たりに少なくとも2モルの塩基性の官能基を含み、ここで塩交換がなされ、その際に一般式(5)のアミンが遊離され、そして塩基(B)は、塩基(B)の塩基性の官能基少なくとも1.6モルがハロゲン化水素付加物として存在する量で添加され、
c)一般式(5)のアミンを反応混合物から留去する工程と、
d)塩基(B)を前記反応混合物に、2つの液相を形成するのに十分な量で添加する工程と、
その際、一方の相は、塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含み、
e)塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含む液相を分離する工程と、
を含む前記方法。 - 一般式(7)
R01 3-tR11 tSi−R12−NR13−R14−SiR02 3-sR15 s (7)
のシリルオルガノアミンを、一般式(8)
H−NR13−R14−SiR02 3-sR15 s (8)
の(アミノオルガニル)シランと、一般式(9)
R01 3-tR11 tSi−R12−Z (9)
の(ハロゲンオルガニル)シランとを反応させることにより製造する方法(III)において、
[式中、
R01、R02は、それぞれ1〜10個の炭素原子を有するアルコキシ基を意味し、
R11、R15は、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、
R12は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基であって、炭化水素鎖がカルボニル基、カルボキシル基、酸素原子又は硫黄原子によって中断されていてよい基を意味し、
R14は、1〜10個の炭素原子を有する二価の炭化水素基であって、炭化水素鎖がカルボニル基、カルボキシル基、酸素原子、硫黄原子、NH又はNR18基によって中断されていてよい基を意味し、その際、R18は、R11、R15と同じ意味を有し、
R13は、水素、1〜10個の炭素原子を有する炭化水素基又は一般式R03 3-oR16 oSi−R17−の基を意味し、式中、R16は、R11及びR15と同じ意味であり、R17は、R12及びR14と同じ意味であり、かつR03は、R01及びR02と同じ意味であり、かつ
s、t、oは、互いに独立して、0、1、2又は3の数を意味し、かつ
Zは、塩素、臭素又はヨウ素を意味する]
前記反応が、以下の連続した工程:
a)一般式(9)の(ハロゲンオルガニル)シラン1モル当たりに一般式(8)のアミン1.1〜100モルを0〜250℃の温度で反応させる工程と、
その際、前記一般式(7)のシリルオルガノアミンの他に、副生成物として一般式(8)のアミンのアンモニウムハロゲン化物が形成され、
b)塩基(B)を反応混合物に添加する工程と、
その際、塩基(B)は1モル当たりに少なくとも2モルの塩基性の官能基を含み、ここで塩交換がなされ、その際に一般式(8)のアミンが遊離され、そして塩基(B)は、塩基(B)の塩基性の官能基少なくとも1.6モルがハロゲン化水素付加物として存在する量で添加され、
c)一般式(8)のアミンを反応混合物から留去する工程と、
d)塩基(B)を前記反応混合物に、2つの液相を形成するのに十分な量で添加する工程と、
その際、一方の相は、塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含み、
e)塩基(B)のヒドロハロゲン化物少なくとも90質量%を含む液相を分離する工程と、
を含む前記方法。 - 工程d)で添加される塩基(B)の量が、工程b)で使用される塩基(B)の量の20〜200%である、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。
- 工程b)、c)及びd)を、20℃〜250℃の温度で実施する、請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法。
- 使用されるべき一般式(2)、(5)もしくは(8)のアミンの含水量が、0〜20000ppmである、請求項1から5までのいずれか1項に記載の方法。
- 使用されるべき一般式(2)、(5)もしくは(8)のアミンのpKb値が、塩基(B)のpKb値よりも、少なくとも1pKb単位大きい、請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法。
- 塩基(B)の沸点が、生成物(1)、(4)もしくは(7)の沸点とも、一般式(2)、(5)もしくは(8)のアミンの沸点とも、少なくとも40℃だけ異なる、請求項1から7までのいずれか1項に記載の方法。
- 塩基(B)として、エチレンジアミン単位もしくはプロピレンジアミン単位を含むオリゴアミン(O)又はそれらの混合物が使用される、請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法。
- 塩基(B)が、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジアザビシクロオクタン、ペンタメチルジエチレントリアミン、1,2−プロピレンジアミン、2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジアミン、1,2−ジメチルイミダゾール、N−メチルイミダゾール、N4−アミン(BASF SE(ドイツ)社製)及びそれらの混合物から選択される、請求項9に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102009026755A DE102009026755A1 (de) | 2009-06-04 | 2009-06-04 | Verfahren zur Herstellung von Aminoorganosilanen |
| DE102009026755.7 | 2009-06-04 | ||
| PCT/EP2010/057582 WO2010139674A1 (de) | 2009-06-04 | 2010-06-01 | Verfahren zur herstellung von aminoorganosilanen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012528823A true JP2012528823A (ja) | 2012-11-15 |
| JP5519006B2 JP5519006B2 (ja) | 2014-06-11 |
Family
ID=42286727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012513587A Expired - Fee Related JP5519006B2 (ja) | 2009-06-04 | 2010-06-01 | アミノオルガノシランの製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8981138B2 (ja) |
| EP (1) | EP2438074A1 (ja) |
| JP (1) | JP5519006B2 (ja) |
| KR (1) | KR101368101B1 (ja) |
| CN (1) | CN102459287A (ja) |
| DE (1) | DE102009026755A1 (ja) |
| WO (1) | WO2010139674A1 (ja) |
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-
2009
- 2009-06-04 DE DE102009026755A patent/DE102009026755A1/de not_active Withdrawn
-
2010
- 2010-06-01 KR KR1020127000279A patent/KR101368101B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2010-06-01 JP JP2012513587A patent/JP5519006B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-06-01 WO PCT/EP2010/057582 patent/WO2010139674A1/de active Application Filing
- 2010-06-01 CN CN2010800246020A patent/CN102459287A/zh active Pending
- 2010-06-01 EP EP10721166A patent/EP2438074A1/de not_active Withdrawn
- 2010-06-01 US US13/375,081 patent/US8981138B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JPWO2021002163A1 (ja) * | 2019-07-02 | 2021-01-07 | ||
| JP7279790B2 (ja) | 2019-07-02 | 2023-05-23 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサン化合物、該化合物を含む組成物及びそれらの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2438074A1 (de) | 2012-04-11 |
| KR101368101B1 (ko) | 2014-02-27 |
| US8981138B2 (en) | 2015-03-17 |
| WO2010139674A1 (de) | 2010-12-09 |
| CN102459287A (zh) | 2012-05-16 |
| KR20120032513A (ko) | 2012-04-05 |
| DE102009026755A1 (de) | 2010-12-09 |
| JP5519006B2 (ja) | 2014-06-11 |
| US20120071650A1 (en) | 2012-03-22 |
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| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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