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JP2015080383A - Semiconductor module - Google Patents

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JP2015080383A
JP2015080383A JP2013217738A JP2013217738A JP2015080383A JP 2015080383 A JP2015080383 A JP 2015080383A JP 2013217738 A JP2013217738 A JP 2013217738A JP 2013217738 A JP2013217738 A JP 2013217738A JP 2015080383 A JP2015080383 A JP 2015080383A
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JP
Japan
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electrode
substrate
copper connector
bare chip
semiconductor module
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JP2013217738A
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Japanese (ja)
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崇 須永
Takashi Sunaga
崇 須永
昇 金子
Noboru Kaneko
昇 金子
修 三好
Osamu Miyoshi
修 三好
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NSK Ltd
Original Assignee
NSK Ltd
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Publication date
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Abstract

【課題】ベアチップトランジスタの電極と基板上の配線パターンとの接続を銅コネクタを用いた半田実装作業をおこない、銅コネクタの半田実装作業における自立性を確保した上で半田接続における銅コネクタの位置精度を良好にすることができる半導体モジュールを提供する。【解決手段】半導体モジュール３０は、ベアチップトランジスタ３５の上面に形成された電極Ｓ，Ｇ上と複数の配線パターン３３ａ〜３３ｄのうち配線パターン３３ｂ，３３ｃ上とを半田３４ｂ，３４ｃを介して接続する、銅コネクタ３６ａ，３６ｂを備える。銅コネクタ３６ｂは、ベアチップトランジスタ３５の電極Ｇに接続される電極接続部３６ｂｂと、電極接続部３６ｂｂに対して対向するように配置され、前記配線パターン３３ｃに接続される基板接続部３６ｂｃとを備える。電極接続部３６ｂｂの一方向と直交する方向の幅Ｗ１は、基板接続部３６ｂｂの一方向と直交する方向の幅Ｗ２よりも狭い。【選択図】図８[PROBLEMS] To perform solder mounting work using a copper connector for connection between a bare chip transistor electrode and a wiring pattern on a substrate, and to ensure the independence in the solder mounting work of the copper connector, and then position accuracy of the copper connector in the solder connection. Provided is a semiconductor module that can be improved. A semiconductor module 30 connects electrodes S, G formed on an upper surface of a bare chip transistor 35 and wiring patterns 33b, 33c among a plurality of wiring patterns 33a-33d via solders 34b, 34c. Copper connectors 36a and 36b are provided. The copper connector 36b includes an electrode connection portion 36bb connected to the electrode G of the bare chip transistor 35, and a substrate connection portion 36bc disposed to face the electrode connection portion 36bb and connected to the wiring pattern 33c. . The width W1 in the direction orthogonal to one direction of the electrode connection portion 36bb is narrower than the width W2 in the direction orthogonal to one direction of the substrate connection portion 36bb. [Selection] Figure 8

Description

本発明は、自動車用電気機器に組み込まれるパワーモジュール等の半導体モジュールに関する。   The present invention relates to a semiconductor module such as a power module incorporated in an automobile electrical device.

昨今、自動車等の車両における種々の電気機器の制御に電子装置が導入されてきた。電子装置が組み込まれた電気機器の一例として電動パワーステアリング装置では、自動車の操舵に係る電動モータが収容される筐体にモータ駆動部が設けられ、このモータ駆動部に電子装置が搭載される。この電子装置は、パワーモジュールとして、モータ駆動部に組み込まれる。   Recently, electronic devices have been introduced to control various electric devices in vehicles such as automobiles. In an electric power steering apparatus as an example of an electric device in which an electronic device is incorporated, a motor driving unit is provided in a housing that houses an electric motor related to steering of an automobile, and the electronic device is mounted on the motor driving unit. This electronic device is incorporated as a power module in the motor drive unit.

パワーモジュールは、電動パワーステアリング装置のような比較的大きな電流で駆動される電気機器の制御に適した、例えば、ＦＥＴ（Ｆｉｅｌｄ Ｅｆｆｅｃｔ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）、ＩＧＢＴ（Ｉｎｓｕｌａｔｅｄ Ｇａｔｅ Ｂｉｐｏｌａｒ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等のパワー素子を搭載したいわゆる半導体モジュールとして構成される。この種のパワーモジュールは、車両に搭載されることから車載モジュール（Ｉｎ−ｖｅｈｉｃｌｅ Ｍｏｄｕｌｅ）とも呼ばれる。   The power module is equipped with power elements such as FET (Field Effect Transistor) and IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor) suitable for controlling electric devices driven by a relatively large current such as an electric power steering device. It is configured as a so-called semiconductor module. This type of power module is also called an in-vehicle module because it is mounted on a vehicle.

従来、この種の半導体モジュールとして、例えば、図１７に示すものが知られている（特許文献１参照）。図１７は、従来の半導体モジュールの一例の断面模式図である。
図１７に示す半導体モジュール１００は、金属製の基板１０１と、基板１０１の凹部の底部平坦面上に設けられた樹脂１０２と、樹脂１０２上に形成された複数の銅箔（配線パターン）１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃ，１０３ｄとを備えている。銅箔１０３ａ及び銅箔１０３ｃと銅箔１０３ｄとの間には、溝１０９が形成されている。そして、複数の銅箔１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃ，１０３ｄのうち銅箔１０３ａ，１０３ｂの上には、熱緩衝板１０４ａ，１０４ｂがそれぞれ形成され、熱緩衝板１０４ａ，１０４ｂ上には、ＩＧＢＴ１０５ａ，１０５ｂがそれぞれ形成されている。各ＩＧＢＴ１０５ａ，１０５ｂは、ベアチップＩＧＢT（ベアチップトランジスタ）である。 Conventionally, as this type of semiconductor module, for example, one shown in FIG. 17 is known (see Patent Document 1). FIG. 17 is a schematic cross-sectional view of an example of a conventional semiconductor module.
A semiconductor module 100 shown in FIG. 17 includes a metal substrate 101, a resin 102 provided on the bottom flat surface of the recess of the substrate 101, and a plurality of copper foils (wiring patterns) 103a formed on the resin 102. 103b, 103c, and 103d. A groove 109 is formed between the copper foil 103a and the copper foil 103c and the copper foil 103d. Thermal buffer plates 104a and 104b are respectively formed on the copper foils 103a and 103b among the plurality of copper foils 103a, 103b, 103c and 103d, and IGBTs 105a and 105b are formed on the thermal buffer plates 104a and 104b. Each is formed. Each IGBT 105a, 105b is a bare chip IGBT (bare chip transistor).

そして、ＩＧＢＴ１０５ａのエミッタと銅箔１０３ｂとがワイヤで構成される配線１０６ａで接続され、また、ＩＧＢＴ１０５ｂのエミッタと銅箔１０３ｃとが同じくワイヤで構成される配線１０６ｂで接続されている。
また、樹脂１０２、銅箔１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃ、熱緩衝板１０４ａ，１０４ｂ、ＩＧＢＴ１０５ａ，１０５ｂ、及び配線１０６ａ，１０６ｂは、ゲル１０７によって封入されている。また、基板１０１の凹部を覆う蓋１０８が基板１０１の上部に固定されている。 The emitter of the IGBT 105a and the copper foil 103b are connected by a wiring 106a made of a wire, and the emitter of the IGBT 105b and the copper foil 103c are connected by a wiring 106b also made of a wire.
Further, the resin 102, the copper foils 103a, 103b, and 103c, the thermal buffer plates 104a and 104b, the IGBTs 105a and 105b, and the wirings 106a and 106b are sealed with a gel 107. A lid 108 that covers the recess of the substrate 101 is fixed to the upper portion of the substrate 101.

また、従来の半導体モジュールの他の例として、図１８に示すもの（特許文献２参照）も知られている。図１８は、従来の半導体モジュールの他の例を示す断面図である。
図１８に示す半導体モジュール２００において、アルミニウムなどからなる放熱用ベース板２０１上に絶縁基板２０２が半田接続されている。そして、絶縁基板２０２上に形成された金属薄板に、ＩＧＢT２０３のコレクタ電極２０５が半田接続されている。 As another example of a conventional semiconductor module, the one shown in FIG. 18 (see Patent Document 2) is also known. FIG. 18 is a cross-sectional view showing another example of a conventional semiconductor module.
In the semiconductor module 200 shown in FIG. 18, an insulating substrate 202 is soldered on a heat dissipation base plate 201 made of aluminum or the like. A collector electrode 205 of the IGBT 203 is soldered to a metal thin plate formed on the insulating substrate 202.

一方、半導体モジュール２００において、配線部材２０６は、銅等の高導電性金属材料からなる平板部材で、ＩＧＢＴ２０３のエミッタ電極２０４に対向する電極対向部２０６Ａと、電極対向部２０６Ａから上方に折り曲げて立ち上がる立ち上げ部２０６Ｂとこの立ち上げ部２０６Ｂから延びる導出部２０６Ｃとを備えている。この導出部２０６Ｃは、図示しない外部接続端子に接続される。そして、導出部２０６Ｃには、波状の折り曲げ部２０６が設けられている。この折り曲げ部２０６は、当該配線部材２０２と、放熱用ベース板２０１との間の熱膨張差を吸収し、熱応力を緩和する応力緩和部として機能する。   On the other hand, in the semiconductor module 200, the wiring member 206 is a flat plate member made of a highly conductive metal material such as copper, and rises by being bent upward from the electrode facing portion 206A facing the emitter electrode 204 of the IGBT 203 and the electrode facing portion 206A. A rising portion 206B and a lead-out portion 206C extending from the rising portion 206B are provided. The lead-out portion 206C is connected to an external connection terminal (not shown). The lead-out portion 206C is provided with a wave-like bent portion 206. The bent portion 206 functions as a stress relaxation portion that absorbs a difference in thermal expansion between the wiring member 202 and the heat radiating base plate 201 and relaxes thermal stress.

そして、配線部材２０６の電極対向部２０６ＡとＩＧＢＴ２０３のエミッタ電極２０４とは、導電性樹脂２０７によって接続されるようになっている。この導電性樹脂２０７は、半田等の接合用導電材料に比べて弾性率が高いため、熱応力を効果的に緩和することができる。
更に、従来の半導体モジュールの更に他の例として、例えば、図１９に示すものも知られている（特許文献３参照）。図１９は、従来の半導体モジュールの更に他の例を示す平面模式図である。 The electrode facing portion 206A of the wiring member 206 and the emitter electrode 204 of the IGBT 203 are connected by a conductive resin 207. Since the conductive resin 207 has a higher elastic modulus than the bonding conductive material such as solder, the thermal stress can be effectively relieved.
Furthermore, as another example of a conventional semiconductor module, for example, the one shown in FIG. 19 is known (see Patent Document 3). FIG. 19 is a schematic plan view showing still another example of a conventional semiconductor module.

図１９に示す半導体モジュール３００において、基板（図示せず）上には複数の導電パッド３０１，３０２が形成されている。そして、複数の導電パッド３０１，３０２のうちの一つの導電パッド３０１上にはＭＯＳチップ３０３が半田接続されている。また、ＭＯＳチップ３０３の上面には、複数のソース電極３０５及び単一のゲート電極３０４が形成され、ＭＯＳチップ２０３の下面には図示しないドレイン電極が形成されている。   In the semiconductor module 300 shown in FIG. 19, a plurality of conductive pads 301 and 302 are formed on a substrate (not shown). A MOS chip 303 is soldered on one of the plurality of conductive pads 301 and 302. A plurality of source electrodes 305 and a single gate electrode 304 are formed on the upper surface of the MOS chip 303, and a drain electrode (not shown) is formed on the lower surface of the MOS chip 203.

そして、ＭＯＳチップ３０３のソース電極３０５と、基板上に形成された複数の導電パッド３０１，３０２のうちの他の導電パッド３０２とがリード３１０によって相互接続されている。リード３１０は、金属板を打抜き及び曲げ加工する、即ちプレス成形ことによって形成される。リード３１０は、図１９に示すＸ方向及びＹ方向（水平方向）に延びる矩形平板状のソース電極接続部３１１と、Ｘ方向及びＹ方向に延びる平板状の電極接続部３１２と、ソース電極接続部３１１と電極接続部３１２とを繋ぐＺ方向（上下方向）に傾斜した連結部３１３とを備えている。ここで、ソース電極接続部３１１は、ＭＯＳチップ３０３のソース電極３０５に半田接続され、また、電極接続部３１２は、基板上の複数の導電パッド３０１，３０２のうちの他の導電パッド３０２に半田接続されるようになっている。他の導電パッド３０２は、１対設けられ、電極接続部３１２は、これら１対の導電パッド３０２に接続するように１対の脚部形状を有している。
そして、ソース電極接続部３１１のＸ方向の幅ａは複数のソース電極３０５のＸ方向の幅ｂ以上になっている。これにより、ソース電極３０５における不均一な半田濡れと当該半田のリフローによる当該ソース電極３０５に対する位置ずれを防止することができる。 The source electrode 305 of the MOS chip 303 and the other conductive pad 302 among the plurality of conductive pads 301 and 302 formed on the substrate are interconnected by leads 310. The lead 310 is formed by stamping and bending a metal plate, that is, press forming. The lead 310 includes a rectangular plate-like source electrode connection portion 311 extending in the X direction and the Y direction (horizontal direction) shown in FIG. 19, a plate-like electrode connection portion 312 extending in the X direction and the Y direction, and a source electrode connection portion. A connecting portion 313 inclined in the Z direction (vertical direction) connecting 311 and the electrode connecting portion 312. Here, the source electrode connection portion 311 is solder-connected to the source electrode 305 of the MOS chip 303, and the electrode connection portion 312 is soldered to the other conductive pad 302 among the plurality of conductive pads 301 and 302 on the substrate. Connected. A pair of other conductive pads 302 are provided, and the electrode connection portion 312 has a pair of leg shapes so as to be connected to the pair of conductive pads 302.
The width a in the X direction of the source electrode connection portion 311 is greater than or equal to the width b in the X direction of the plurality of source electrodes 305. Accordingly, uneven solder wetting in the source electrode 305 and misalignment with respect to the source electrode 305 due to reflow of the solder can be prevented.

特開２００４−３３５７２５号公報JP 2004-335725 A 特開２０００−１２４３９８号公報JP 2000-124398 A 特開２００７−９５９８４号公報JP 2007-95984 A

しかしながら、これら従来の図１７に示した半導体モジュール１００、図１８に示した半導体モジュール２００、及び図１９に示した半導体モジュール３００にあっては、以下の問題点があった。
即ち、図１７に示した半導体モジュール１００の場合、ＩＧＢＴ１０５ａのエミッタと銅箔１０３ｂとの接続及びＩＧＢＴ１０５ｂのエミッタと銅箔１０３ｃとの接続につき、ワイヤで構成される配線１０６ａ，１０６ｂを用いて接続している。このワイヤを用いた接続は、ワイヤボンディング装置（図示せず）を使用して行われるため、配線１０６ａ，１０６ｂを実装する作業が、ＩＧＢＴ１０５ａ，１０５ｂやその他の表面実装部品を基板上の配線パターン上に実装する際に行われる半田実装作業とは別の製造工程でワイヤボンディングを行う必要があり、製造タクトが長くなるとともに、ワイヤボンディングの専用設備が必要になり、製造コストが高くなってしまうという問題点があった。 However, these conventional semiconductor module 100 shown in FIG. 17, semiconductor module 200 shown in FIG. 18, and semiconductor module 300 shown in FIG. 19 have the following problems.
That is, in the case of the semiconductor module 100 shown in FIG. 17, the connection between the emitter of the IGBT 105a and the copper foil 103b and the connection between the emitter of the IGBT 105b and the copper foil 103c are performed using the wirings 106a and 106b made of wires. ing. Since the connection using the wire is performed by using a wire bonding apparatus (not shown), the operation of mounting the wirings 106a and 106b is performed by placing the IGBTs 105a and 105b and other surface mounting components on the wiring pattern on the substrate. It is necessary to perform wire bonding in a manufacturing process different from the solder mounting work that is performed when mounting on the wire, which increases manufacturing tact time and requires dedicated equipment for wire bonding, which increases manufacturing costs. There was a problem.

また、図１８に示した半導体モジュール２００においては、配線部材２０６の電極対向部２０６ＡをＩＧＢＴ２０３のエミッタ電極２０４に接続する際に、その配線部材２０３の自立性については一切触れられていない。従って、リフロー炉などで配線部材２０６の電極対向部２０６ＡをＩＧＢＴ２０３のエミッタ電極２０４に接続する際に、配線部材２０６が転倒してしまうおそれがあった。特に、配線部材２０６においては、その導出部２０６Ｃに応力緩和部としての波状の折り曲げ部２０６Ｄを設けてあり、ＩＧＢＴ２０３上において配線部材２０６のバランスが悪く、転倒し易い形状となっている。また、半導体モジュールにおいては、近年、小型化の要求があり、その小型化のためにＩＧＢＴ２０３及び配線部材２０６の小型化も要求される。ＩＧＢＴ２０３及び配線部材２０６の小型化が進むと、組立性の向上が求められるが、配線部材２０６の自立性に問題があると、組立性が向上しない。   In the semiconductor module 200 shown in FIG. 18, when the electrode facing portion 206A of the wiring member 206 is connected to the emitter electrode 204 of the IGBT 203, the self-supporting property of the wiring member 203 is not mentioned at all. Therefore, when the electrode facing portion 206A of the wiring member 206 is connected to the emitter electrode 204 of the IGBT 203 in a reflow furnace or the like, the wiring member 206 may fall over. In particular, in the wiring member 206, a wavy bent portion 206D as a stress relaxation portion is provided in the lead-out portion 206C, and the wiring member 206 has a poor balance on the IGBT 203, and has a shape that easily falls. In recent years, there is a demand for miniaturization of semiconductor modules, and the miniaturization of the IGBT 203 and the wiring member 206 is also demanded for the miniaturization. As the size of the IGBT 203 and the wiring member 206 is reduced, an improvement in assemblability is required. However, if there is a problem in the self-supporting property of the wiring member 206, the assemblability is not improved.

一方、図１９に示した半導体モジュール３００の場合には、リード３１０のソース電極接続部３１１のＸ方向の幅ａは複数のソース電極３０５のＸ方向の幅ｂ以上になっており広い形状である。その一方、導電パッド３０２に半田接続されるリード３１０の電極接続部３１２は、１対の脚部形状を有している。このため、リード３１０は比較的バランスのよい形状をしているので、リード３１０をＭＯＳチップ３０３及び基板上にリフローによる半田接続をする際に、リード３１０が転倒してしまうおそれは少ない。   On the other hand, in the case of the semiconductor module 300 shown in FIG. 19, the width a in the X direction of the source electrode connection portion 311 of the lead 310 is larger than the width b in the X direction of the plurality of source electrodes 305 and has a wide shape. . On the other hand, the electrode connection portion 312 of the lead 310 solder-connected to the conductive pad 302 has a pair of leg shape. For this reason, since the lead 310 has a relatively well-balanced shape, when the lead 310 is solder-connected to the MOS chip 303 and the substrate by reflow, there is little possibility that the lead 310 falls down.

しかしながら、リード３１０のソース電極接続部３１１のＸ方向の幅ａは複数のソース電極３０５のＸ方向の幅ｂ以上になっており広い形状であるので、プレス成形によって捩れると、ソース電極接続部３１１がソース電極３０５対して適切な位置で接触せず、半田接続における位置精度が非常に悪くなっていた。このため、半田接続されたソース電極接続部３１１とソース電極３０５の接続信頼性も低くなるという、問題点があった。   However, since the width a in the X direction of the source electrode connection portion 311 of the lead 310 is equal to or larger than the width b in the X direction of the plurality of source electrodes 305, the source electrode connection portion 311 is twisted by press molding. 311 did not contact the source electrode 305 at an appropriate position, and the position accuracy in solder connection was very poor. For this reason, there is a problem in that the connection reliability between the source electrode connection portion 311 and the source electrode 305 which are solder-connected is lowered.

従って、本発明はこれら問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、ベアチップトランジスタの電極と基板上の配線パターンとの接続を銅コネクタを用いた半田実装作業で行うようにして、ベアチップトランジスタやその他の表面実装部品を基板上の配線パターン上に実装する際に行われる半田実装作業と同一の工程で行うことを可能とするとともに、銅コネクタの半田実装作業における自立性を確実に確保した上で半田接続における銅コネクタの配置位置精度を良好にすることができる半導体モジュールを提供することにある。   Accordingly, the present invention has been made to solve these problems, and its purpose is to perform the connection of the bare chip transistor electrode and the wiring pattern on the substrate by a solder mounting operation using a copper connector. It is possible to perform in the same process as the solder mounting work performed when mounting bare chip transistors and other surface mount components on the wiring pattern on the board, and ensure the independence of the copper connector solder mounting work Another object of the present invention is to provide a semiconductor module that can improve the placement position accuracy of a copper connector in solder connection.

上記課題を解決するため、本発明のある態様に係る半導体モジュールは、金属製の基板と、該基板の上に形成された絶縁層と、該絶縁層上に形成された複数の配線パターンと、該複数の配線パターンのうち一つの配線パターン上に半田を介して実装されるベアチップトランジスタと、該ベアチップトランジスタの上面に形成された電極上と前記複数の配線パターンのうち他の配線パターン上とを半田を介して接続する、銅板で構成される銅コネクタとを備え、前記銅コネクタは、前記ベアチップトランジスタの電極に接続される電極接続部と、該電極接続部に対して一方向において対向するように配置され、前記複数の配線パターンのうち他の配線パターンに接続される基板接続部とを備え、前記電極接続部の前記一方向と直交する方向の幅は、前記基板接続部の前記一方向と直交する方向の幅よりも狭いことを特徴としている。   In order to solve the above problems, a semiconductor module according to an aspect of the present invention includes a metal substrate, an insulating layer formed on the substrate, a plurality of wiring patterns formed on the insulating layer, A bare chip transistor mounted on one wiring pattern of the plurality of wiring patterns via solder, an electrode formed on an upper surface of the bare chip transistor, and another wiring pattern among the plurality of wiring patterns A copper connector composed of a copper plate connected via solder, the copper connector facing an electrode connection portion connected to the electrode of the bare chip transistor in one direction with respect to the electrode connection portion And a substrate connecting portion connected to another wiring pattern among the plurality of wiring patterns, and a width in a direction orthogonal to the one direction of the electrode connecting portion It is characterized in that narrower than the width in the direction perpendicular to the direction of the board connecting portion.

この半導体モジュールによれば、ベアチップトランジスタの電極と基板上の配線パターンとの接続を、銅板で構成される銅コネクタを用いることにより、半田実装作業で行えるので、ベアチップトランジスタの電極と基板上の配線パターンとの接続をベアチップトランジスタやその他の表面実装部品を基板上の配線パターン上に実装する際に行われる半田実装作業と同一の工程で同時に行うことができる。このため、半導体モジュールの製造タクトを短くすることができるとともに、ワイヤボンディングの専用設備が不要になり、半導体モジュールの製造コストを安価にすることができる。そして、銅コネクタにおける電極接続部の一方向と直交する方向の幅は、基板接続部の一方向と直交する方向の幅よりも狭いので、銅コネクタを、幅狭の電極接続部側における１点と、幅広の基板接続部側における２点の合計３点で、ベアチップトランジスタ及び基板の上面で自立することができる。このため、銅コネクタをベアチップトランジスタ及び基板上にリフローによる半田接続をする際に、銅コネクタが転倒してしまうおそれを少なくすることができる。更に、銅コネクタは、幅狭の電極接続部側における１点と、幅広の基板接続部側における２点の合計３点で、ベアチップトランジスタ及び基板上で自立することができるので、プレス成形によって捩れても、電極接続部がベアチップトランジスタの電極に対して適切な位置で接触し、半田接続における位置精度が良好になる。このため、半田接続された電極接続部とベアチップトランジスタの電極の接続信頼性を高く維持することができる。なお、ベアチップトランジスタの小型化のためにはその上面に形成される電極を小さくすることが好ましい。電極接続部の幅を基板接続部の幅よりも狭くしても、ベアチップトランジスタに形成される電極が小さい場合、接続の信頼性に問題はない。   According to this semiconductor module, the connection between the bare chip transistor electrode and the wiring pattern on the substrate can be performed by solder mounting work by using a copper connector made of a copper plate. The connection with the pattern can be simultaneously performed in the same process as the solder mounting operation performed when the bare chip transistor or other surface mount component is mounted on the wiring pattern on the substrate. For this reason, the manufacturing tact of the semiconductor module can be shortened, and dedicated equipment for wire bonding is not required, and the manufacturing cost of the semiconductor module can be reduced. And since the width | variety of the direction orthogonal to one direction of the electrode connection part in a copper connector is narrower than the width | variety of the direction orthogonal to one direction of a board | substrate connection part, a copper connector is one point in the narrow electrode connection part side. In addition, the bare chip transistor and the upper surface of the substrate can be self-supported at a total of three points, ie, two points on the wide substrate connection side. For this reason, when the copper connector is solder-connected to the bare chip transistor and the substrate by reflow, the risk of the copper connector falling down can be reduced. Furthermore, the copper connector can be self-supported on the bare chip transistor and the substrate at one point on the narrow electrode connecting part side and two points on the wide substrate connecting part side. However, the electrode connection portion contacts the electrode of the bare chip transistor at an appropriate position, and the positional accuracy in the solder connection is improved. For this reason, it is possible to maintain high connection reliability between the electrode connection portion connected by soldering and the electrode of the bare chip transistor. In order to reduce the size of the bare chip transistor, it is preferable to reduce the electrode formed on the upper surface thereof. Even if the width of the electrode connection portion is narrower than the width of the substrate connection portion, there is no problem in connection reliability when the electrode formed in the bare chip transistor is small.

また、この半導体モジュールにおいて、前記電極接続部は、前記基板接続部の前記一方向と直交する幅方向の略中央部に位置することが好ましい。
この半導体モジュールによれば、電極接続部は、基板接続部の一方向と直交する幅方向の略中央部に位置するので、幅の狭い電線接続部が基板接続部の幅方向に対してバランスがよい位置に位置する。このため、銅コネクタが幅狭の電極接続部側における１点と、幅広の基板接続部側における２点の合計３点で、ベアチップトランジスタ及び基板上で自立するときに、電極接続部の位置のバランスがよいため、銅コネクタの自立性を向上させることができる。 Moreover, in this semiconductor module, it is preferable that the electrode connection portion is located at a substantially central portion in the width direction orthogonal to the one direction of the substrate connection portion.
According to this semiconductor module, since the electrode connecting portion is located at a substantially central portion in the width direction orthogonal to one direction of the substrate connecting portion, the narrow wire connecting portion is balanced against the width direction of the substrate connecting portion. Located in a good position. For this reason, when the copper connector self-supports on the bare chip transistor and the substrate at one point on the narrow electrode connecting portion side and two points on the wide substrate connecting portion side, the position of the electrode connecting portion is Since the balance is good, the independence of the copper connector can be improved.

更に、この半導体モジュールにおいて、前記電極接続部と前記基板接続部との間に応力緩和部を設けることが好ましい。
この半導体モジュールによれば、応力緩和部により、ベアチップトランジスタと銅コネクタとの線膨張係数の差、基板と銅コネクタとの線膨張係数との差、ベアチップトランジスタと基板との線膨張係数の差を吸収することができ、ベアチップトランジスタと銅コネクタとの半田付け部及び銅コネクタと基板との半田付け部に対する熱応力を緩和することができ、銅コネクタのベアチップトランジスタ及び基板に対する接続信頼性を確保することができる。そして、電極接続部と基板接続部との間に応力緩和部を設けると、応力緩和部は波形等からなるのが一般的で銅コネクタは自立し難い形状となる。しかし、銅コネクタにおける電極接続部の一方向と直交する方向の幅を、基板接続部の一方向と直交する方向の幅よりも狭くすることにより、銅コネクタを、幅狭の電極接続部側における１点と、幅広の基板接続部側における２点の合計３点で、ベアチップトランジスタ及び基板上で自立させるようにできるので、銅コネクタの自立性は保証される。 Furthermore, in this semiconductor module, it is preferable to provide a stress relaxation portion between the electrode connection portion and the substrate connection portion.
According to this semiconductor module, due to the stress relaxation portion, the difference between the linear expansion coefficient between the bare chip transistor and the copper connector, the difference between the linear expansion coefficient between the substrate and the copper connector, and the difference between the linear expansion coefficients between the bare chip transistor and the substrate are reduced. The thermal stress on the soldered portion between the bare chip transistor and the copper connector and the soldered portion between the copper connector and the substrate can be relieved, and the connection reliability of the copper connector to the bare chip transistor and the substrate is ensured. be able to. When a stress relaxation portion is provided between the electrode connection portion and the substrate connection portion, the stress relaxation portion is generally formed of a waveform or the like, and the copper connector has a shape that is difficult to stand on its own. However, the width of the copper connector in the direction perpendicular to the one direction of the electrode connecting portion is made narrower than the width in the direction perpendicular to the one direction of the board connecting portion, so that the copper connector is connected to the narrow electrode connecting portion side. Since a total of three points, one point and two points on the wide substrate connection side, can be made to stand on the bare chip transistor and the substrate, the copper connector is guaranteed to be self-supporting.

また、この半導体モジュールにおいて、前記応力緩和部は、平板部と、該平板部の一端から立ち下がるように折り曲げられた第１連結部と、前記平板部の他端から立ち下がるように折り曲げられた第２連結部とを備えて上方に向けたコの字状のブリッジを構成し、前記電極接続部が前記第１連結部から折り曲げられて外方に延び、前記基板接続部が前記第２連結部から折り曲げられて外方に延びるように形成されていることが好ましい。
この半導体モジュールによれば、応力緩和部は、上方に向けたコの字状のブリッジを構成しているので、応力緩和部としての機能を十分に発揮することができる。 Further, in this semiconductor module, the stress relaxation portion is bent so as to fall from the flat plate portion, the first connecting portion bent so as to fall from one end of the flat plate portion, and the other end of the flat plate portion. And a second U-shaped bridge, and the electrode connecting portion is bent from the first connecting portion and extends outward, and the substrate connecting portion is the second connecting portion. It is preferably formed so as to be bent from the portion and extend outward.
According to this semiconductor module, since the stress relaxation portion constitutes a U-shaped bridge directed upward, the function as the stress relaxation portion can be sufficiently exhibited.

更に、この半導体モジュールにおいて、前記第１連結部は、前記平板部から前記電極接続部に至るまで徐々に幅が細くなるテーパ状に形成され、前記電極接続部の曲げ基点を前記第１連結部の最も細い部位とすることが好ましい。
この半導体モジュールによれば、電極接続部の曲げ基点がテーパ状の第１連結部の最も細い部位であるから、変形し易い。このため、半田接続等において、ベアチップトランジスタと銅コネクタとの線膨張係数の差、基板と銅コネクタとの線膨張係数との差、ベアチップトランジスタと基板との線膨張係数の差によって銅コネクタが変形した際に、電極接続部の曲げ基点が容易に変形することができる。これにより、電極接続部のベアチップトランジスタの電極に対する接続信頼性を確保することができる。 Furthermore, in this semiconductor module, the first connecting portion is formed in a tapered shape that gradually decreases in width from the flat plate portion to the electrode connecting portion, and the bending connecting point of the electrode connecting portion is defined as the first connecting portion. The thinnest part is preferable.
According to this semiconductor module, since the bending base point of the electrode connecting portion is the thinnest portion of the tapered first connecting portion, it is easily deformed. For this reason, in solder connection etc., the copper connector is deformed due to the difference in linear expansion coefficient between the bare chip transistor and the copper connector, the difference in linear expansion coefficient between the substrate and the copper connector, and the difference in linear expansion coefficient between the bare chip transistor and the substrate. In this case, the bending base point of the electrode connecting portion can be easily deformed. Thereby, the connection reliability with respect to the electrode of the bare chip transistor of an electrode connection part is securable.

また、この半導体モジュールにおいて、前記ベアチップトランジスタが、上面にソース電極及び該ソース電極よりも接続面積の小さいゲート電極を形成したベアチップＦＥＴであり、前記銅コネクタは、該銅コネクタの電極接続部が前記ゲート電極に接続されるゲート電極用銅コネクタであることが好ましい。
この半導体モジュールによれば、面積の小さいゲート電極に幅の狭い電極接続部を接続するので、銅コネクタをゲート電極用銅コネクタとするのが効果的である。 Further, in this semiconductor module, the bare chip transistor is a bare chip FET in which a source electrode and a gate electrode having a smaller connection area than the source electrode are formed on an upper surface, and the copper connector has an electrode connection portion of the copper connector. A copper connector for a gate electrode connected to the gate electrode is preferable.
According to this semiconductor module, since the narrow electrode connecting portion is connected to the gate electrode having a small area, it is effective to use the copper connector as the copper connector for the gate electrode.

また、本発明に係る別の態様に係る半導体モジュールは、銅コネクタが幅狭の電極接続部側における１点と、幅広の基板接続部側における２点の合計３点で、ベアチップトランジスタ及び基板の上面で自立し、ベアチップトランジスタ及び基板上にリフローによる半田接続をする際に、銅コネクタの転倒を回避できることを特徴とする。   In addition, the semiconductor module according to another aspect of the present invention includes a bare chip transistor and a substrate having a total of three points: one point on the side of the electrode connecting portion where the copper connector is narrow and two points on the side of the wide substrate connecting portion. It is characterized in that the copper connector can be prevented from overturning when it is self-supporting on the upper surface and solder connection is performed on the bare chip transistor and the substrate by reflow.

更に、この半導体モジュールにおいて、板厚部は、前記基板接続部と、前記電極接続部の２箇所に設けることが好ましい。板厚部により、銅コネクタの重心を下げることにより自立性の改善を行い、銅コネクタが幅狭の電極接続部側における１点と、幅広の基板接続部側における２点の合計３点で、ベアチップトランジスタ及び基板の上面での自立性を安定する方向に改善され、ベアチップトランジスタ及び基板上にリフローによる半田接続をする際に、銅コネクタの転倒を確実に回避でき、半田の溶着を安定して行えることを特徴とする。   Furthermore, in this semiconductor module, it is preferable that the plate thickness portion is provided at two locations, the substrate connection portion and the electrode connection portion. The plate thickness part improves the self-supporting property by lowering the center of gravity of the copper connector, and the copper connector has one point on the narrow electrode connection part side and two points on the wide board connection part side, a total of three points. The self-supporting property on the top surface of the bare chip transistor and the substrate has been improved in a stable direction, and when the solder connection by reflow is performed on the bare chip transistor and the substrate, the copper connector can be reliably prevented from overturning and the solder welding can be stably performed. It can be done.

本発明に係る半導体モジュールによれば、ベアチップトランジスタの電極と基板上の配線パターンとの接続を、銅板で構成される銅コネクタを用いることにより、半田実装作業で行えるので、ベアチップトランジスタの電極と基板上の配線パターンとの接続をベアチップトランジスタやその他の表面実装部品を基板上の配線パターン上に実装する際に行われる半田実装作業と同一の工程で同時に行うことができる。このため、半導体モジュールの製造タクトを短くすることができるとともに、ワイヤボンディングの専用設備が不要になり、半導体モジュールの製造コストを安価にすることができる。   According to the semiconductor module of the present invention, the connection between the bare chip transistor electrode and the wiring pattern on the substrate can be performed by solder mounting work by using a copper connector made of a copper plate. The connection with the upper wiring pattern can be performed simultaneously in the same process as the solder mounting operation performed when the bare chip transistor or other surface-mounted component is mounted on the wiring pattern on the substrate. For this reason, the manufacturing tact of the semiconductor module can be shortened, and dedicated equipment for wire bonding is not required, and the manufacturing cost of the semiconductor module can be reduced.

また、銅コネクタにおける電極接続部の一方向と直交する方向の幅は、基板接続部の一方向と直交する方向の幅よりも狭いので、銅コネクタを、幅狭の電極接続部側における１点と、幅広の基板接続部側における２点の合計３点で、ベアチップトランジスタ及び基板の上面で自立することができる。このため、銅コネクタをベアチップトランジスタ及び基板上にリフローによる半田接続をする際に、銅コネクタが転倒してしまうおそれを少なくすることができる。   In addition, since the width of the copper connector in the direction orthogonal to the one direction of the electrode connecting portion is narrower than the width of the direction of the substrate connecting portion orthogonal to the one direction, In addition, the bare chip transistor and the upper surface of the substrate can be self-supported at a total of three points, ie, two points on the wide substrate connection side. For this reason, when the copper connector is solder-connected to the bare chip transistor and the substrate by reflow, the risk of the copper connector falling down can be reduced.

更に、銅コネクタは、幅狭の電極接続部側における１点と、幅広の基板接続部側における２点の合計３点で、ベアチップトランジスタと基板との間で自立することができるので、プレス成形によって捩れても、電極接続部がベアチップトランジスタの電極に対して適切な位置で接触し、半田接続における位置精度が良好になる。このため、半田接続された電極接続部とベアチップトランジスタの電極の接続信頼性を高く維持することができる。   Furthermore, the copper connector can be self-supported between the bare chip transistor and the substrate at one point on the narrow electrode connection portion side and two points on the wide substrate connection portion side. Even if twisted, the electrode connection portion contacts the bare chip transistor electrode at an appropriate position, and the positional accuracy in the solder connection is improved. For this reason, it is possible to maintain high connection reliability between the electrode connection portion connected by soldering and the electrode of the bare chip transistor.

また、銅コネクタは、前記基板接続部と、前記電極接続部の２箇所の板厚を厚くした板厚部により、銅コネクタの重心を更に下げることにより、自立性が向上した結果、ベアチップトランジスタ及び基板の上面での自立性を安定する方向に改善され、ベアチップトランジスタ及び基板上にリフローによる半田接続をする際に、銅コネクタの転倒を確実に回避でき半田の溶着を安定して確保できることを特徴とする。   In addition, the copper connector further reduces the center of gravity of the copper connector by the plate thickness portion obtained by increasing the thickness of the two portions of the substrate connection portion and the electrode connection portion. It is improved in the direction to stabilize the independence on the upper surface of the board, and when connecting the solder by reflow on the bare chip transistor and the board, it is possible to reliably avoid the falling of the copper connector and to secure the welding of the solder stably. And

本発明に係る半導体モジュールが用いられる電動パワーステアリング装置の基本構造を示す図である。It is a figure which shows the basic structure of the electric power steering apparatus with which the semiconductor module which concerns on this invention is used. 図１に示す電動パワーステアリング装置のコントローラの制御系を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the control system of the controller of the electric power steering apparatus shown in FIG. 図１に示す電動パワーステアリング装置の半導体モジュールを含むコントローラの分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the controller containing the semiconductor module of the electric power steering apparatus shown in FIG. 図３に示す半導体モジュールの平面図である。FIG. 4 is a plan view of the semiconductor module shown in FIG. 3. 図３及び図４に示す半導体モジュールにおいて、ベアチップトランジスタを構成するベアチップＦＥＴの電極と基板上の配線パターンとの接続状態を説明するための模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a connection state between an electrode of a bare chip FET constituting a bare chip transistor and a wiring pattern on a substrate in the semiconductor module shown in FIGS. 3 and 4. ベアチップＦＥＴの概略平面図である。It is a schematic plan view of a bare chip FET. ゲート電極用銅コネクタを示し、（Ａ）はゲート電極用銅コネクタを左側面斜め上方から見た状態の斜視図、（Ｂ）はゲート電極用銅コネクタを右側面斜め上方から見た状態の斜視図である。（Ｃ）はゲート電極用銅コネクタの板厚部を左側面斜め上方から見た状態の斜視図、（Ｄ）はゲート電極用銅コネクタの板厚部を右側面斜め上方から見た状態の斜視図である。The copper connector for gate electrodes is shown, (A) is the perspective view of the state which looked at the copper connector for gate electrodes from the left side diagonally upward, (B) is the perspective view of the state which looked at the copper connector for gate electrode from diagonally upward on the right side FIG. (C) is a perspective view of a state in which the plate thickness portion of the gate electrode copper connector is viewed from the upper left side obliquely, (D) is a perspective view of the state in which the plate thickness portion of the gate electrode copper connector is viewed from the upper right side obliquely. FIG. ゲート電極用銅コネクタを示し、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は正面図、（Ｃ）は右側面図、（Ｄ）は左側面図である。The copper connector for gate electrodes is shown, (A) is a top view, (B) is a front view, (C) is a right side view, and (D) is a left side view. 半導体モジュールの製造工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of a semiconductor module. ゲート電極用銅コネクタの第１変形例を示し、（Ａ）は左側面図、（Ｂ）は平面図である。The 1st modification of the copper connector for gate electrodes is shown, (A) is a left view, (B) is a top view. ゲート電極用銅コネクタの第２変形例を示し、（Ａ）は左側面図、（Ｂ）は平面図である。The 2nd modification of the copper connector for gate electrodes is shown, (A) is a left view, (B) is a top view. ゲート電極用銅コネクタの第３変形例を示し、（Ａ）は左側面図、（Ｂ）は平面図である。The 3rd modification of the copper connector for gate electrodes is shown, (A) is a left view, (B) is a top view. 図８に示すゲート電極用銅コネクタ及び図１０乃至図１２に示されるゲート電極用銅コネクタの第１変形例乃至第３変形例に適用される応力緩和部の第１変形例を示すものである。FIG. 19 shows a first modification of the stress relaxation portion applied to the first to third modifications of the gate electrode copper connector shown in FIG. 8 and the gate electrode copper connector shown in FIGS. 10 to 12. . 図８に示すゲート電極用銅コネクタ及び図１０乃至図１２に示されるゲート電極用コネクタの第１変形例乃至第３変形例に適用される応力緩和部の第２変形例を示すものである。11 shows a second modification of the stress relaxation portion applied to the first to third modifications of the gate electrode copper connector shown in FIG. 8 and the gate electrode connector shown in FIGS. 10 to 12. 図８に示すゲート電極用銅コネクタ及び図１０乃至図１２に示されるゲート電極用銅コネクタの第１変形例乃至第３変形例に適用される応力緩和部の第３変形例を示すものである。9 shows a third modification of the stress relaxation portion applied to the first to third modifications of the gate electrode copper connector shown in FIG. 8 and the gate electrode copper connector shown in FIGS. . 図８に示すゲート電極用銅コネクタ及び図１０乃至図１２に示されるゲート電極用銅コネクタの第１変形例乃至第３変形例に適用される応力緩和部の第４変形例を示すものである。FIG. 15 shows a fourth modification of the stress relaxation portion applied to the first to third modifications of the gate electrode copper connector shown in FIG. 8 and the gate electrode copper connector shown in FIGS. 10 to 12. . 従来の半導体モジュールの一例の断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of an example of the conventional semiconductor module. 従来の半導体モジュールの他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of the conventional semiconductor module. 従来の半導体モジュールの更に他の例を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows the other example of the conventional semiconductor module.

以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。図１は、本発明に係る半導体モジュールが用いられる電動パワーステアリング装置の基本構造を示す図である。図２は、図１に示す電動パワーステアリング装置のコントローラの制御系を示すブロック図である。図３は、図１に示す電動パワーステアリング装置の半導体モジュールを含むコントローラの分解斜視図である。図４は、図３に示す半導体モジュールの平面図である。図５は、図３及び図４に示す半導体モジュールにおいて、ベアチップトランジスタを構成するベアチップＦＥＴの電極と基板上の配線パターンとの接続状態を説明するための模式図である。図６は、ベアチップＦＥＴの概略平面図である。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a basic structure of an electric power steering apparatus in which a semiconductor module according to the present invention is used. FIG. 2 is a block diagram showing a control system of the controller of the electric power steering apparatus shown in FIG. FIG. 3 is an exploded perspective view of a controller including the semiconductor module of the electric power steering apparatus shown in FIG. FIG. 4 is a plan view of the semiconductor module shown in FIG. FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a connection state between the electrode of the bare chip FET constituting the bare chip transistor and the wiring pattern on the substrate in the semiconductor module shown in FIGS. 3 and 4. FIG. 6 is a schematic plan view of a bare chip FET.

図１には、本発明に係る半導体モジュールが用いられる電動パワーステアリング装置の基本構造が示されており、電動パワーステアリング装置において、操向ハンドル１のコラム軸２は、減速ギア３、ユニバーサルジョイント４Ａ及び４Ｂ、ピニオンラック機構５を経て操向車輪のタイロッド６に連結されている。コラム軸２には、操向ハンドル１の操舵トルクを検出するトルクセンサ７が設けられており、操向ハンドル１の操舵力を補助する電動モータ８が減速ギア３を介してコラム軸２に連結されている。電動パワーステアリング装置を制御するコントローラ１０には、バッテリー（図示せず）から電力が供給されるとともに、イグニションキー（図示せず）を経てイグニションキー信号ＩＧＮ（図２参照）が入力される。コントローラ１０は、トルクセンサ７で検出された操舵トルクＴｓと車速センサ９で検出された車速Ｖとに基づいて、アシスト（操舵補助）指令となる操舵補助指令値の演算を行い、演算された操舵補助指令値に基づいて電動モータ８に供給する電流を制御する。   FIG. 1 shows a basic structure of an electric power steering apparatus in which a semiconductor module according to the present invention is used. In the electric power steering apparatus, a column shaft 2 of a steering handle 1 includes a reduction gear 3 and a universal joint 4A. And 4B, via a pinion rack mechanism 5 and connected to a tie rod 6 of a steered wheel. The column shaft 2 is provided with a torque sensor 7 that detects the steering torque of the steering handle 1, and an electric motor 8 that assists the steering force of the steering handle 1 is connected to the column shaft 2 via the reduction gear 3. Has been. Electric power is supplied from a battery (not shown) to the controller 10 that controls the electric power steering device, and an ignition key signal IGN (see FIG. 2) is input via an ignition key (not shown). The controller 10 calculates a steering assist command value serving as an assist (steering assist) command based on the steering torque Ts detected by the torque sensor 7 and the vehicle speed V detected by the vehicle speed sensor 9, and the calculated steering is performed. The current supplied to the electric motor 8 is controlled based on the auxiliary command value.

コントローラ１０は、主としてマイクロコンピュータで構成されるが、その制御装置の機構及び構成を示すと図２に示すようになる。
トルクセンサ７で検出された操舵トルクＴｓ及び車速センサ９で検出された車速Ｖは制御演算部としての制御演算装置１１に入力され、制御演算装置１１で演算された電流指令値をゲート駆動回路１２に入力する。ゲート駆動回路１２で、電流指令値等に基づいて形成されたゲート駆動信号はＦＥＴのブリッジ構成で成るモータ駆動部１３に入力され、モータ駆動部１３は非常停止用の遮断装置１４を経て３相ブラシレスモータで構成される電動モータ８を駆動する。３相ブラシレスモータの各相電流は電流検出回路１５で検出され、検出された３相のモータ電流ｉａ〜ｉｃは制御演算装置１１にフィードバック電流として入力される。また、３相ブラシレスモータには、ホールセンサ等の回転センサ１６が取り付けられており、回転センサ１６からの回転信号ＲＴがロータ位置検出回路１７に入力され、検出された回転位置θが制御演算装置１１に入力される。 The controller 10 is mainly composed of a microcomputer, and the mechanism and configuration of the control device are as shown in FIG.
The steering torque Ts detected by the torque sensor 7 and the vehicle speed V detected by the vehicle speed sensor 9 are input to the control arithmetic unit 11 as a control arithmetic unit, and the current command value calculated by the control arithmetic unit 11 is used as the gate drive circuit 12. To enter. In the gate drive circuit 12, a gate drive signal formed based on a current command value or the like is input to a motor drive unit 13 having a FET bridge configuration, and the motor drive unit 13 passes through an emergency stop interrupting device 14 for three phases. An electric motor 8 composed of a brushless motor is driven. Each phase current of the three-phase brushless motor is detected by the current detection circuit 15, and the detected three-phase motor currents ia to ic are input to the control arithmetic device 11 as feedback currents. In addition, a rotation sensor 16 such as a hall sensor is attached to the three-phase brushless motor, and a rotation signal RT from the rotation sensor 16 is input to the rotor position detection circuit 17, and the detected rotation position θ is a control arithmetic unit. 11 is input.

また、イグニションキーからのイグニション信号ＩＧＮはイグニション電圧モニタ部１８及び電源回路部１９に入力され、電源回路部１９から電源電圧Ｖｄｄが制御演算装置１１に入力されるとともに、装置停止用となるリセット信号Ｒｓが制御演算装置１１に入力される。そして、遮断装置１４は、２相を遮断するリレー接点１４１及び１４２で構成されている。   Further, the ignition signal IGN from the ignition key is input to the ignition voltage monitor unit 18 and the power supply circuit unit 19, and the power supply voltage Vdd is input from the power supply circuit unit 19 to the control arithmetic unit 11 and a reset signal for stopping the apparatus. Rs is input to the control arithmetic unit 11. And the interruption | blocking apparatus 14 is comprised by the relay contacts 141 and 142 which interrupt | block two phases.

また、モータ駆動部１３の回路構成について説明すると、電源ライン８１に対し、直列に接続されたＦＥＴＴｒ１及びＴｒ２、ＦＥＴＴｒ３及びＴｒ４、及びＦＥＴＴｒ５及びＴｒ６が直列に接続されている。そして、電源ライン８１に対して、並列に接続されたＦＥＴＴｒ１及びＴｒ３、ＦＥＴＴｒ５及びＴｒ２、及びＦＥＴＴｒ４及びＴｒ６が接地ライン８２に接続されている。これにより、インバータを構成する。ここで、ＦＥＴＴｒ１及びＴｒ２は、ＦＥＴＴｒ１のソース電極ＳとＦＥＴＴｒ２のドレイン電極Ｄとが直列に接続され、３相モータのｃ相アームを構成し、ｃ相出力ライン９１ｃにて電流が出力される。また、ＦＥＴＴｒ３及びＴｒ４は、ＦＥＴＴｒ３のソース電極ＳとＦＥＴＴｒ４のドレイン電極Ｄとが直列に接続され、３相モータのａ相アームを構成し、ａ相出力ライン９１ａにて電流が出力される。更に、ＦＥＴＴｒ５及びＴｒ６は、ＦＥＴＴｒ５のソース電極ＳとＦＥＴＴｒ６のドレイン電極Ｄとが直列に接続され、３相モータのｂ相アームを構成し、ｂ相出力ライン９１ｂにて電流が出力される。   The circuit configuration of the motor drive unit 13 will be described. FETTr1 and Tr2, FETTr3 and Tr4, and FETTr5 and Tr6 connected in series to the power supply line 81 are connected in series. Further, FETTr1 and Tr3, FETTr5 and Tr2, and FETTr4 and Tr6 connected in parallel to the power supply line 81 are connected to the ground line 82. This constitutes an inverter. Here, the FETTr1 and Tr2 are configured such that the source electrode S of the FETTr1 and the drain electrode D of the FETTr2 are connected in series to form a c-phase arm of a three-phase motor, and a current is output from the c-phase output line 91c. In addition, the FETTr3 and Tr4 are configured such that the source electrode S of the FETTr3 and the drain electrode D of the FETTr4 are connected in series to form an a-phase arm of a three-phase motor, and a current is output from the a-phase output line 91a. Further, the FETTr5 and Tr6 are configured such that the source electrode S of the FETTr5 and the drain electrode D of the FETTr6 are connected in series to form a b-phase arm of a three-phase motor, and a current is output from the b-phase output line 91b.

次に、図３は、図１に示す電動パワーステアリング装置の半導体モジュールを含むコントローラ１０の分解斜視図であり、コントローラ１０は、ケース２０と、モータ駆動部１３を含むパワーモジュールとしての半導体モジュール３０と、放熱用シート３９と、制御演算装置１１及びゲート駆動回路１２を含む制御回路基板４０と、電力及び信号用コネクタ５０と、３相出力用コネクタ６０と、カバー７０とを備えている。
ここで、ケース２０は、略矩形状に形成され、半導体モジュール３０を載置するための平板状の半導体モジュール載置部２１と、半導体モジュール載置部２１の長手方向端部に設けられた、電力及び信号用コネクタ５０を実装するための電力及び信号用コネクタ実装部２２と、半導体モジュール載置部２１の幅方向端部に設けられた、３相出力用コネクタ６０を実装するための３相出力用コネクタ実装部２３とを備えている。 Next, FIG. 3 is an exploded perspective view of the controller 10 including the semiconductor module of the electric power steering apparatus shown in FIG. 1, and the controller 10 is a semiconductor module 30 as a power module including the case 20 and the motor drive unit 13. A heat dissipation sheet 39, a control circuit board 40 including the control arithmetic device 11 and the gate drive circuit 12, a power and signal connector 50, a three-phase output connector 60, and a cover 70.
Here, the case 20 is formed in a substantially rectangular shape, and is provided on the flat-plate-shaped semiconductor module mounting portion 21 for mounting the semiconductor module 30 and the longitudinal end portion of the semiconductor module mounting portion 21. Three-phase for mounting a power and signal connector mounting portion 22 for mounting the power and signal connector 50 and a three-phase output connector 60 provided at the end in the width direction of the semiconductor module mounting portion 21 And an output connector mounting portion 23.

そして、半導体モジュール載置部２１には、半導体モジュール３０を取り付けるための取付けねじ３８がねじ込まれる複数のねじ孔２１ａが形成されている。また、半導体モジュール載置部２１及び電力及び信号用コネクタ実装部２２には、制御回路基板４０を取り付けるための複数の取付けポスト２４が立設され、各取付けポスト２４には、制御回路基板４０を取り付けるための取付けねじ４１がねじ込まれるねじ孔２４ａが形成されている。更に、３相出力用コネクタ実装部２３には、３相出力用コネクタ６０を取り付けるための取付けねじ６１がねじ込まれる複数のねじ孔２３ａが形成されている。   A plurality of screw holes 21 a into which mounting screws 38 for mounting the semiconductor module 30 are screwed are formed in the semiconductor module mounting portion 21. A plurality of mounting posts 24 for mounting the control circuit board 40 are erected on the semiconductor module mounting portion 21 and the power and signal connector mounting portion 22, and the control circuit board 40 is mounted on each mounting post 24. A screw hole 24a into which a mounting screw 41 for mounting is screwed is formed. Further, the three-phase output connector mounting portion 23 is formed with a plurality of screw holes 23a into which mounting screws 61 for attaching the three-phase output connector 60 are screwed.

また、半導体モジュール３０は、前述したモータ駆動部１３の回路構成を有し、図４に示すように、基板３１に、６個のＦＥＴＴｒ１〜Ｔｒ６、電源ライン８１に接続された正極端子８１ａ、及び接地ライン８２に接続された負極端子８２ａが実装されている。また、基板３１には、ａ相出力ライン９１ａに接続されたａ相出力端子９２ａ、ｂ相出力ライン９１ｂに接続されたｂ相出力端子９２ｂ、及びｃ相出力ライン９１ｃに接続されたｃ相出力端子９２ｃを含む３相出力部９０が実装されている。また、基板３１上には、コンデンサを含むその他の表面実装部品３７が実装されている。更に、半導体モジュール３０の基板３１には、半導体モジュール３０を取り付けるための取付けねじ３８が挿通する複数の貫通孔３１ａが設けられている。   The semiconductor module 30 has the circuit configuration of the motor drive unit 13 described above. As shown in FIG. 4, the substrate 31 has six FETs Tr <b> 1 to Tr <b> 6, a positive terminal 81 a connected to the power supply line 81, and A negative terminal 82a connected to the ground line 82 is mounted. Further, the substrate 31 has a phase output terminal 92a connected to the phase a output line 91a, phase b output terminal 92b connected to the phase b output line 91b, and phase c output connected to the phase c output line 91c. A three-phase output unit 90 including a terminal 92c is mounted. On the substrate 31, other surface mount components 37 including a capacitor are mounted. Further, the substrate 31 of the semiconductor module 30 is provided with a plurality of through holes 31a through which mounting screws 38 for mounting the semiconductor module 30 are inserted.

ここで、この半導体モジュール３０において、６個のＦＥＴＴｒ１〜Ｔｒ６の基板３１上への実装について説明する。各ＦＥＴＴｒ１〜Ｔｒ６は、ベアチップＦＥＴ（ベアチップトランジスタ）３５で構成され、図６に示すように、ベアチップＦＥＴ３５上にソース電極Ｓとゲート電極Ｇとを備え、また、ベアチップＦＥＴ３５の下面には図示しないドレイン電極を備えている。   Here, in the semiconductor module 30, mounting of the six FETs Tr1 to Tr6 on the substrate 31 will be described. Each of the FETs Tr1 to Tr6 is configured by a bare chip FET (bare chip transistor) 35, and as shown in FIG. It has an electrode.

このベアチップＦＥＴ３５の上面に形成されたゲート電極Ｇとソース電極Ｓとは、図６に示すように、図６における上下方向に沿って直列にストレート配置されている。ゲート電極Ｇは、図６における上下方向に沿って延びる短辺及びこの短辺と直交する長辺を有する長方形状に形成されている。また、ソース電極Ｓは、図６における上下方向に沿って延びる短辺及びこの短辺と直交する長辺を有する長方形状に形成されている。ソース電極Ｓの短辺及び長辺は、ゲート電極Ｇの短辺及び長辺よりも大きく、ソース電極Ｓの面積はゲート電極Ｇの面積よりも大きくなっている。   As shown in FIG. 6, the gate electrode G and the source electrode S formed on the upper surface of the bare chip FET 35 are straightly arranged in series along the vertical direction in FIG. The gate electrode G is formed in a rectangular shape having a short side extending in the vertical direction in FIG. 6 and a long side orthogonal to the short side. The source electrode S is formed in a rectangular shape having a short side extending in the vertical direction in FIG. 6 and a long side perpendicular to the short side. The short side and long side of the source electrode S are larger than the short side and long side of the gate electrode G, and the area of the source electrode S is larger than the area of the gate electrode G.

半導体モジュール３０は、図５に示すように、金属製の基板３１を備え、基板３１の上には、絶縁層３２が形成されている。基板３１は、アルミニウムなどの金属製である。また、この絶縁層３２上には、複数の配線パターン３３ａ〜３３ｄが形成されている。各配線パターン３３ａ〜３３ｄは、銅やアルミニウムなどの金属、又はこの金属を含む合金で構成される。そして、複数の配線パターン３３ａ〜３３ｄのうち一つの配線パターン３３ａ上には半田３４ａを介して各ＦＥＴＴｒ１〜Ｔｒ６を構成するベアチップＦＥＴ３５が実装されている。ベアチップＦＥＴ３５の下面に形成されたドレイン電極が半田３４ａを介して配線パターン３３ａに接続される。そして、ベアチップＦＥＴ３５のソース電極Ｓ上と複数の配線パターン３３ａ〜３３ｄのうち他の配線パターン３３ｂ上とがソース電極用銅コネクタ３６ａでそれぞれ半田３４ｅ，３４ｂを介して接続される。また、ベアチップＦＥＴ３５のゲート電極Ｇ上と複数の配線パターン３３ａ〜３３ｄのうち更に他の配線パターン３３ｃ上とがゲート電極用銅コネクタ３６ｂでそれぞれ半田３４ｆ，３４ｃを介して接合される。   As shown in FIG. 5, the semiconductor module 30 includes a metal substrate 31, and an insulating layer 32 is formed on the substrate 31. The substrate 31 is made of a metal such as aluminum. A plurality of wiring patterns 33 a to 33 d are formed on the insulating layer 32. Each wiring pattern 33a-33d is comprised with metals, such as copper and aluminum, or the alloy containing this metal. A bare chip FET 35 constituting each of the FETs Tr1 to Tr6 is mounted on one wiring pattern 33a among the plurality of wiring patterns 33a to 33d via solder 34a. The drain electrode formed on the lower surface of the bare chip FET 35 is connected to the wiring pattern 33a via the solder 34a. Then, the source electrode S of the bare chip FET 35 and the other wiring pattern 33b among the plurality of wiring patterns 33a to 33d are connected by the source electrode copper connector 36a via solders 34e and 34b, respectively. Further, the gate electrode G of the bare chip FET 35 and the other wiring pattern 33c among the plurality of wiring patterns 33a to 33d are joined by the gate electrode copper connector 36b via solders 34f and 34c, respectively.

ここで、ソース電極用銅コネクタ３６ａは、銅板を打抜き及び曲げ加工、すなわちプレス成形によって形成されるものであり、図５に示すように、平板部３６ａａと、平板部３６ａａの一端から延び、半田３４ｅを介してベアチップＦＥＴ３５のソース電極Ｓに接続される電極接続部３６ａｂと、平板部３６ａａの他端から延び、半田３４ｂを介して配線パターン３３ｂに接続される基板接続部３６ａｃとを備えている。基板接続部３６ａｃは、電極接続部３６ａｂに対して一方向（図５における左右方向）において対向するように配置されている。   Here, the source electrode copper connector 36a is formed by punching and bending a copper plate, that is, press forming, and extends from one end of the flat plate portion 36aa and the flat plate portion 36aa as shown in FIG. An electrode connection portion 36ab connected to the source electrode S of the bare chip FET 35 via 34e, and a substrate connection portion 36ac extending from the other end of the flat plate portion 36aa and connected to the wiring pattern 33b via the solder 34b. . The board connecting portion 36ac is disposed so as to face the electrode connecting portion 36ab in one direction (left and right direction in FIG. 5).

一方、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂは、銅板を打抜き及び曲げ加工、すなわちプレス成形によって形成されるものであり、図５に示すように、半田３４ｆを介してベアチップＦＥＴ３５のゲート電極Ｇに接合される電極接続部３６ｂｂと、半田３４ｃを介して配線パターン３３ｃに接合される基板接続部３６ｂｃとを備えている。基板接続部３６ｂｃは、電極接続部３６ｂｂに対して一方向（図５における左右方向）において対向するように配置されている。
ここで、図８（Ａ）に示すように、電極接続部３６ｂｂの前記一方向と直交する方向の幅Ｗ１は、基板接続部３６ｂｃの前記一方向と直交する方向の幅Ｗ２よりも狭くなっている。 On the other hand, the gate electrode copper connector 36b is formed by punching and bending a copper plate, that is, press forming, and is joined to the gate electrode G of the bare chip FET 35 via the solder 34f as shown in FIG. An electrode connection portion 36bb and a substrate connection portion 36bc joined to the wiring pattern 33c via the solder 34c are provided. The board connecting part 36bc is arranged so as to face the electrode connecting part 36bb in one direction (left and right direction in FIG. 5).
Here, as shown in FIG. 8A, the width W1 of the electrode connection portion 36bb in the direction orthogonal to the one direction is smaller than the width W2 of the substrate connection portion 36bc in the direction orthogonal to the one direction. Yes.

このように、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂにおける電極接続部３６ｂｂの一方向と直交する方向の幅Ｗ１を、基板接続部３６ｂｃの一方向と直交する方向の幅Ｗ２よりも狭くすることにより、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂを、幅狭の電極接続部３６ｂｂ側における１点と、幅広の基板接続部３６ｂｃ側における２点（基板接続部３６ｂｃの幅方向両端近傍の２点）の合計３点で、ベアチップＦＥＴ３５及び基板３１の上面で自立することができる。このため、後述するように、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂをベアチップＦＥＴ３５及び基板３１上にリフローによる半田接合をする際に、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂが転倒してしまうおそれを少なくすることができる。これにより、ベアチップＦＥＴ３５及びゲート電極用銅コネクタ３６ｂを小型化しても、その組立性を良好なものとすることができる。   As described above, the gate electrode can be obtained by narrowing the width W1 of the gate electrode copper connector 36b in the direction perpendicular to one direction of the electrode connection portion 36bb to be smaller than the width W2 in the direction perpendicular to one direction of the substrate connection portion 36bc. The copper connector 36b is a bare chip with a total of three points: one point on the narrow electrode connection part 36bb side and two points on the wide substrate connection part 36bc side (two points near both ends in the width direction of the board connection part 36bc). The FET 35 and the upper surface of the substrate 31 can stand on their own. Therefore, as will be described later, when the gate electrode copper connector 36b is soldered to the bare chip FET 35 and the substrate 31 by reflow soldering, the risk of the gate electrode copper connector 36b falling over can be reduced. Thereby, even if the bare chip FET 35 and the gate electrode copper connector 36b are reduced in size, the assemblability can be improved.

また、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂは、幅狭の電極接続部３６ｂｂ側における１点と、幅広の基板接続部３６ｂｃ側における２点の合計３点で、ベアチップＦＥＴ３５及び基板３１上で自立することができるので、プレス成形によって捩れても、電極接続部３６ｂｂがベアチップＦＥＴのゲート電極Ｇに対して適切な位置で接触し、半田接合における配置位置精度が良好になる。このため、半田接合された電極接続部３６ｂｂとベアチップＦＥＴ３５のゲート電極Ｇの接続信頼性を高く維持することができる。なお、ベアチップＦＥＴ３５の小型化のためにはその上面に形成されるゲート電極Ｇを小さくすることが好ましい。電極接続部３６ｂｂの幅を基板接続部３６ｂｃの幅よりも狭くしても、ベアチップＦＥＴ３５に形成されるゲート電極Ｇが小さい場合、接続の信頼性に問題はない。   Also, the gate electrode copper connector 36b can stand on the bare chip FET 35 and the substrate 31 at a total of three points, one point on the narrow electrode connection part 36bb side and two points on the wide substrate connection part 36bc side. Therefore, even if it is twisted by press molding, the electrode connecting portion 36bb comes into contact with the gate electrode G of the bare chip FET at an appropriate position, and the placement position accuracy in solder bonding is improved. For this reason, it is possible to maintain high connection reliability between the soldered electrode connection portion 36bb and the gate electrode G of the bare chip FET 35. In order to reduce the size of the bare chip FET 35, it is preferable to reduce the gate electrode G formed on the upper surface thereof. Even if the width of the electrode connection portion 36bb is narrower than the width of the substrate connection portion 36bc, there is no problem in connection reliability when the gate electrode G formed on the bare chip FET 35 is small.

なお、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂにおいて、電極接続部３６ｂｂ及び基板接続部３６ｂｃの双方を幅狭とし、幅狭の電極接続部３６ｂｂ側における１点と、幅狭の基板接続部３６ｂｃ側における１点の合計２点で、ベアチップＦＥＴ３５及び基板３１上で自立させる場合には、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂは非常に転倒し易い。
また、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂにおける電極接続部３６ｂｂは、基板接続部３６ｂｃの前記一方向と直交する幅方向の略中央部に位置している。これにより、幅の狭い電線接続部３６ｂｂが基板接続部３６ｂｃの幅方向に対してバランスがよい位置に位置する。このため、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂが幅狭の電極接続部３６ｂｂ側における１点と、幅広の基板接続部３６ｂｃ側における２点の合計３点で、ベアチップＦＥＴ３５と基板３１上で自立するときに、電極接続部３６ｂｂの位置のバランスがよいため、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂの自立性を向上させることができる。 In addition, in the gate electrode copper connector 36b, both the electrode connection portion 36bb and the substrate connection portion 36bc are narrow, and one point on the narrow electrode connection portion 36bb side and one point on the narrow substrate connection portion 36bc side. In the case of self-supporting on the bare chip FET 35 and the substrate 31, the gate electrode copper connector 36b is very easy to fall.
In addition, the electrode connection portion 36bb in the gate electrode copper connector 36b is located at a substantially central portion in the width direction orthogonal to the one direction of the substrate connection portion 36bc. As a result, the narrow wire connecting portion 36bb is positioned at a good balance with respect to the width direction of the substrate connecting portion 36bc. For this reason, when the gate electrode copper connector 36b is self-supporting on the bare chip FET 35 and the substrate 31 at one point on the narrow electrode connection portion 36bb side and two points on the wide substrate connection portion 36bc side. Since the position of the electrode connecting portion 36bb is well balanced, the self-supporting property of the gate electrode copper connector 36b can be improved.

また、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂにおいては、図７（Ａ）,(Ｂ)及び図８（Ａ）,（Ｂ），（Ｃ），（Ｄ）に示すように、電極接続部３６ｂｂと基板接続部３６ｂｃとの間に応力緩和部３６ｂｊを設けてある。この応力緩和部３６ｂｊは、平板部３６ｂａと、平板部３６ｂａの一端から第１屈曲部３６ｂｆを介して立ち下がるように折り曲げられた第１連結部３６ｂｄと、平板部３６ｂａの他端から第３屈曲部３６ｂｈを介して立ち下がるように折り曲げられた第２連結部３６ｂｅとを備えて上方に向けたコの字状のブリッジを構成している。そして、電極接続部３６ｂｂが第１連結部３６ｂｄから第２屈曲部３６ｂｇを介して折り曲げられて外方に延び、基板接続部３６ｂｃが第２連結部３６ｂｅから第４屈曲部３６ｂｉを介して折り曲げられて外方に延びるように形成されている。   In addition, in the gate electrode copper connector 36b, as shown in FIGS. 7A and 7B and FIGS. 8A, 8B, 8C, and 8D, the electrode connecting portion 36bb is connected to the substrate. A stress relaxation part 36bj is provided between the part 36bc and the part 36bc. The stress relieving portion 36bj includes a flat plate portion 36ba, a first connecting portion 36bd bent from one end of the flat plate portion 36ba via the first bent portion 36bf, and a third bent portion from the other end of the flat plate portion 36ba. A U-shaped bridge facing upward is provided with the second connecting portion 36be bent so as to fall through the portion 36bh. The electrode connecting portion 36bb is bent outward from the first connecting portion 36bd via the second bent portion 36bg, and the substrate connecting portion 36bc is bent from the second connecting portion 36be via the fourth bent portion 36bi. Are formed to extend outward.

このように、電極接続部３６ｂｂと基板接続部３６ｂｃとの間に応力緩和部３６ｂｊを設けることにより、ベアチップＦＥＴ３５とゲート電極用銅コネクタ３６ｂとの線膨張係数の差、基板３１とゲート電極用銅コネクタ３６ｂとの線膨張係数との差、ベアチップＦＥＴ３５と基板３１との線膨張係数の差を吸収することができる。このため、ベアチップＦＥＴ３５とゲート電極用銅コネクタ３６ｂとの半田付け部及びゲート電極用銅コネクタ３６ｂと基板３１、即ち配線パターン３３ｃとの半田付け部に対する熱応力を緩和することができ、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂのベアチップＦＥＴ３５及び基板３１に対する接続信頼性を確保することができる。ちなみに、基板３１はアルミ材でその線膨張係数は２３．６×１０−６／℃程度、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂの線膨張係数は１６．８×１０−６／℃程度、ベアチップＦＥＴはシリコンでその線膨張係数は２．５×１０−６／℃程度である。 Thus, by providing the stress relaxation portion 36bj between the electrode connection portion 36bb and the substrate connection portion 36bc, the difference in linear expansion coefficient between the bare chip FET 35 and the gate electrode copper connector 36b, the substrate 31 and the gate electrode copper The difference between the linear expansion coefficient with the connector 36b and the difference between the linear expansion coefficients between the bare chip FET 35 and the substrate 31 can be absorbed. For this reason, it is possible to relieve the thermal stress on the soldered portion between the bare chip FET 35 and the gate electrode copper connector 36b and the soldered portion between the gate electrode copper connector 36b and the substrate 31, that is, the wiring pattern 33c. The connection reliability of the copper connector 36b to the bare chip FET 35 and the substrate 31 can be ensured. Incidentally, the substrate 31 is made of an aluminum material, and its linear expansion coefficient is about 23.6 × 10 −6 / ° C., the linear expansion coefficient of the gate electrode copper connector 36b is about 16.8 × 10 −6 / ° C., and the bare chip FET is made of silicon. The coefficient of linear expansion is about 2.5 × 10 −6 / ° C.

一方、電極接続部３６ｂｂと基板接続部３６ｂｃとの間に応力緩和部３６ｂｊを設けると、応力緩和部は波形等からなる（本実施形態ではブリッジ形状である）のが一般的でゲート電極用銅コネクタ３６ｂは自立し難い形状となる。しかし、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂにおける電極接続部３６ｂｂの一方向と直交する方向の幅Ｗ１を、基板接続部３６ｂｃの一方向と直交する方向の幅Ｗ２よりも狭くすることにより、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂを、幅狭の電極接続部３６ｂｂ側における１点と、幅広の基板接続部３６ｂｃ側における２点の合計３点で、ベアチップＦＥＴ３５及び基板３１上で自立させるようにできるので、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂの自立性は保証される。   On the other hand, when the stress relaxation portion 36bj is provided between the electrode connection portion 36bb and the substrate connection portion 36bc, the stress relaxation portion is generally formed of a waveform or the like (in this embodiment, a bridge shape), and the copper for the gate electrode The connector 36b has a shape that is difficult to stand on its own. However, by making the width W1 in the direction orthogonal to one direction of the electrode connection portion 36bb in the copper connector for gate electrode 36b smaller than the width W2 in the direction orthogonal to one direction of the substrate connection portion 36bc, The connector 36b can be self-supported on the bare chip FET 35 and the substrate 31 at one point on the narrow electrode connecting portion 36bb side and two points on the wide substrate connecting portion 36bc side, so that it can be used for the gate electrode. Independence of the copper connector 36b is guaranteed.

また、応力緩和部３６ｂｊを上方に向けたコの字状のブリッジで構成したので、応力緩和部としての機能を十分に発揮することができる。
更に、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂにおける第１連結部３６ｂｄは、図７（Ａ）及び図８（Ｄ）に良く示すように、平板部３６ｂａから電極接続部３６ｂｂに至るまで徐々に幅が細くなるテーパ状に形成され、電極接続部３６ｂｂの曲げ基点、即ち第２屈曲部３６ｂｇの基点を第１連結部３６ｂｄの最も細い部位としてある。 In addition, since the stress relaxation portion 36bj is configured by a U-shaped bridge facing upward, the function as the stress relaxation portion can be sufficiently exhibited.
Further, the first connecting portion 36bd in the gate electrode copper connector 36b gradually narrows from the flat plate portion 36ba to the electrode connecting portion 36bb, as well shown in FIGS. 7A and 8D. It is formed in a taper shape, and the bending base point of the electrode connection part 36bb, that is, the base point of the second bent part 36bg is the narrowest part of the first coupling part 36bd.

このように、電極接続部３６ｂｂの曲げ基点がテーパ状の第１連結部３６ｂｄの最も細い部位であるから、変形し易い。このため、半田接合等において、ベアチップＦＥＴ３５とゲート電極用銅コネクタ３６ｂとの線膨張係数の差、基板３１とゲート電極用銅コネクタ３６ｂとの線膨張係数との差、ベアチップＦＥＴ３５と基板３１との線膨張係数の差によってゲート電極用銅コネクタ３６ｂが変形した際に、電極接続部３６ｂｂの曲げ基点が容易に変形することができる。これにより、電極接続部３６ｂｂのゲート電極Ｇに対する接続信頼性を確保することができる。   Thus, since the bending base point of the electrode connection part 36bb is the thinnest part of the tapered first coupling part 36bd, it is easily deformed. Therefore, in solder bonding or the like, the difference in linear expansion coefficient between the bare chip FET 35 and the gate electrode copper connector 36b, the difference in linear expansion coefficient between the substrate 31 and the gate electrode copper connector 36b, the bare chip FET 35 and the substrate 31 When the gate electrode copper connector 36b is deformed due to the difference in linear expansion coefficient, the bending base point of the electrode connecting portion 36bb can be easily deformed. Thereby, the connection reliability with respect to the gate electrode G of the electrode connection part 36bb is securable.

更に、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂにおいては、図７（Ｃ）及び（Ｄ）に示すように、電極接続部３６ｂｂと基板接続部３６ｂｃの２箇所に板厚を増した板厚部を設けてある。この板厚部３６ｂｋにより、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂの重心位置を下げることにより、自立性の改善を行い、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂが幅狭の電極接続部３６ｂｂ側における１点と、幅広の基板接続部３６ｂｃ側における２点の合計３点で、ベアチップトランジスタ及び基板の上面での自立性を安定する方向に改善され、ベアチップトランジスタ及び基板上にリフローによる半田接合をする際に、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂの転倒を確実に回避でき、半田の溶着の信頼性を向上させることができる。   Further, in the copper connector for gate electrode 36b, as shown in FIGS. 7C and 7D, plate thickness portions with increased plate thickness are provided at two locations of the electrode connection portion 36bb and the substrate connection portion 36bc. . The plate thickness portion 36bk reduces the center of gravity of the gate electrode copper connector 36b, thereby improving the self-supporting property. The gate electrode copper connector 36b has one point on the narrow electrode connection portion 36bb side and a wide width. The total of three points on the substrate connection part 36bc side is improved to stabilize the self-supporting property on the bare chip transistor and the upper surface of the substrate. When solder bonding is performed on the bare chip transistor and the substrate by reflow, The fall of the copper connector 36b can be reliably avoided, and the reliability of solder welding can be improved.

なお、図５に示す半導体モジュール３０において、絶縁層３２上に形成された複数の配線パターン３３ａ〜３３ｄのうち更にもう一つ他の配線パターン３３ｄ上には半田３４ｄを介してコンデンサなどの他の表面実装部品３７が実装される。
このように構成された半導体モジュール３０は、図３に示すように、ケース２０の半導体モジュール載置部２１上に複数の取付けねじ３８により取り付けられる。半導体モジュール３０の基板３１には、取付けねじ３８が挿通する複数の貫通孔３１ａが形成されている。 In the semiconductor module 30 shown in FIG. 5, another wiring pattern 33 d among the plurality of wiring patterns 33 a to 33 d formed on the insulating layer 32 is placed on another wiring pattern 33 d via another solder 34 d. A surface mounting component 37 is mounted.
As shown in FIG. 3, the semiconductor module 30 configured as described above is attached to the semiconductor module mounting portion 21 of the case 20 by a plurality of mounting screws 38. The substrate 31 of the semiconductor module 30 is formed with a plurality of through holes 31a through which the mounting screws 38 are inserted.

なお、半導体モジュール３０を半導体モジュール載置部２１上に取り付けるに際しては、放熱用シート３９を半導体モジュール載置部２１上に取付け、その放熱用シート３９の上から半導体モジュール３０を取り付ける。この放熱用シート３９により、半導体モジュール３０で発生した熱が放熱用シート３９を介してケース２０に放熱される。
また、制御回路基板４０は、基板上に複数の電子部品を実装して制御演算装置１１及びゲート駆動回路１２を含む制御回路を構成するものである。制御回路基板４０は、半導体モジュール３０を半導体モジュール載置部２１上に取り付けた後、半導体モジュール３０の上方から半導体モジュール載置部２１及び電力及び信号用コネクタ実装部２２に立設された複数の取付けポスト２４上に複数の取付けねじ４１により取り付けられる。制御回路基板４０には、取付けねじ４１が挿通する複数の貫通孔４０ａが形成されている。 When mounting the semiconductor module 30 on the semiconductor module mounting portion 21, the heat dissipation sheet 39 is mounted on the semiconductor module mounting portion 21, and the semiconductor module 30 is mounted on the heat dissipation sheet 39. The heat generated by the semiconductor module 30 is radiated to the case 20 through the heat dissipation sheet 39 by the heat dissipation sheet 39.
The control circuit board 40 constitutes a control circuit including the control arithmetic device 11 and the gate drive circuit 12 by mounting a plurality of electronic components on the board. After the semiconductor module 30 is mounted on the semiconductor module mounting portion 21, the control circuit board 40 has a plurality of standing uprights on the semiconductor module mounting portion 21 and the power and signal connector mounting portion 22 from above the semiconductor module 30. A plurality of mounting screws 41 are mounted on the mounting post 24. The control circuit board 40 has a plurality of through holes 40a through which the mounting screws 41 are inserted.

また、電力及び信号用コネクタ５０は、バッテリー（図示せず）からの直流電源を半導体モジュール３０に、トルクセンサ１２や車速センサ９からの信号を含む各種信号を制御回路基板４０に入力するために用いられる。電力及び信号用コネクタ５０は、半導体モジュール載置部２１に設けられた電力及び信号用コネクタ実装部２２に複数の取付けねじ５１により取り付けられる。   Further, the power and signal connector 50 is used to input a DC power source from a battery (not shown) to the semiconductor module 30 and various signals including signals from the torque sensor 12 and the vehicle speed sensor 9 to the control circuit board 40. Used. The power and signal connector 50 is attached to the power and signal connector mounting portion 22 provided on the semiconductor module mounting portion 21 with a plurality of mounting screws 51.

そして、３相出力用コネクタ６０は、ａ相出力端子９２ａ、ｂ相出力端子９２ｂ、及びｃ相出力端子９２ｃからの電流を出力するために用いられる。３相出用コネクタ６０は、半導体モジュール載置部２１の幅方向端部に設けられた３相出力用コネクタ実装部２３に複数の取付けねじ６１により取り付けられる。３相出力コネクタ６０には、取付けねじ６１が挿通する複数の貫通孔６０ａが形成されている。
更に、カバー７０は、半導体モジュール３０、制御回路基板４０、電力及び信号用コネクタ５０、及び３相出力用コネクタ６０が取り付けられたケース２０に対し、制御回路基板４０の上方から当該制御回路基板４０を覆うように取り付けられる。 The three-phase output connector 60 is used to output current from the a-phase output terminal 92a, the b-phase output terminal 92b, and the c-phase output terminal 92c. The three-phase output connector 60 is attached to the three-phase output connector mounting portion 23 provided at the end in the width direction of the semiconductor module mounting portion 21 by a plurality of mounting screws 61. The three-phase output connector 60 is formed with a plurality of through holes 60a through which the mounting screws 61 are inserted.
Further, the cover 70 covers the case 20 to which the semiconductor module 30, the control circuit board 40, the power and signal connector 50, and the three-phase output connector 60 are attached from above the control circuit board 40. It is attached to cover.

次に、半導体モジュール３０の製造工程について図９を参照して説明する。
半導体モジュール３０の製造に際し、図９（Ａ）に示すように、先ず、金属製の基板３１の一方の主面上に絶縁層３２を形成する（絶縁層形成工程）。
次いで、図９（Ａ）に示すように、絶縁層３２上に複数の配線パターン３３ａ〜３３ｄを形成する（配線パターン形成工程）。
その後、図９（Ｂ）に示すように、複数の配線パターン３３ａ〜３３ｄ上にそれぞれ半田ペースト（半田３４ａ〜３４ｄ）を塗布する（半田ペースト塗布工程）。 Next, the manufacturing process of the semiconductor module 30 will be described with reference to FIG.
In manufacturing the semiconductor module 30, as shown in FIG. 9A, first, the insulating layer 32 is formed on one main surface of the metal substrate 31 (insulating layer forming step).
Next, as shown in FIG. 9A, a plurality of wiring patterns 33a to 33d are formed on the insulating layer 32 (wiring pattern forming step).
Thereafter, as shown in FIG. 9B, solder paste (solders 34a to 34d) is applied on the plurality of wiring patterns 33a to 33d, respectively (solder paste applying step).

そして、図９（Ｃ）に示すように、複数の配線パターン３３ａ〜３３ｄのうち一つの配線パターン３３ａ上に塗布された半田ペースト（半田３４ａ）上にベアチップＦＥＴ３５の一つを搭載するとともに（ベアチップＦＥＴ搭載工程）、他の配線パターン３３ｄ上に塗布された半田ペースト（半田３４ｄ）上にその他の表面実装部品３７を搭載する。その他のベアチップＦＥＴ３５についても、配線パターン３３ａと同一あるいは別個の配線パターン上に搭載する。   Then, as shown in FIG. 9C, one bare chip FET 35 is mounted on the solder paste (solder 34a) applied on one wiring pattern 33a among the plurality of wiring patterns 33a to 33d (bare chip). FET mounting step) Other surface mounting components 37 are mounted on the solder paste (solder 34d) applied on the other wiring pattern 33d. Other bare chip FETs 35 are also mounted on the same or separate wiring pattern as the wiring pattern 33a.

次いで、図９（Ｄ）に示すように、ベアチップＦＥＴ３５の上面に形成されたソース電極Ｓ及びゲート電極Ｇ上に半田ペースト（半田３４ｅ，３４ｆ）を塗布する（半田ペースト塗布工程）。
その後、図９（Ｅ）に示すように、ベアチップＦＥＴ３５のソース電極Ｓ上に塗布された半田ペースト（半田３４ｅ）上及び複数の配線パターン３３ａ〜３３ｄのうちベアチップＦＥＴ３５が搭載された配線パターン３３ａ以外の他の配線パターン３３ｂ上に塗布された半田ペースト（半田３４ｂ）上に、ソース電極用銅コネクタ３６ａを搭載する（ソース電極用銅コネクタ搭載工程）。 Next, as shown in FIG. 9D, a solder paste (solder 34e, 34f) is applied on the source electrode S and the gate electrode G formed on the upper surface of the bare chip FET 35 (solder paste applying step).
Thereafter, as shown in FIG. 9E, on the solder paste (solder 34e) applied on the source electrode S of the bare chip FET 35 and the wiring pattern 33a other than the wiring pattern 33a on which the bare chip FET 35 is mounted among the plurality of wiring patterns 33a to 33d. The source electrode copper connector 36a is mounted on the solder paste (solder 34b) applied on the other wiring pattern 33b (source electrode copper connector mounting step).

また、図９（Ｅ）に示すように、ベアチップＦＥＴ３５のゲート電極Ｇ上に塗布された半田ペースト（半田３４ｆ）上、及び複数の配線パターン３３ａ〜３３ｄのうちベアチップＦＥＴ３５が搭載された配線パターン３３ａ及びソース電極用銅コネクタ３６ａが搭載された配線パターン３３ｂ以外の更に他の配線パターン３３ｃ上に塗布された半田ペースト（半田３４ｃ）上に、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂを搭載する（ゲート電極用銅コネクタ搭載工程）。これにより、半導体モジュール中間組立体が構成される。   Further, as shown in FIG. 9E, on the solder paste (solder 34f) applied on the gate electrode G of the bare chip FET 35 and the wiring pattern 33a on which the bare chip FET 35 is mounted among the plurality of wiring patterns 33a to 33d. The gate electrode copper connector 36b is mounted on the solder paste (solder 34c) applied on the other wiring pattern 33c other than the wiring pattern 33b on which the source electrode copper connector 36a is mounted (gate electrode copper). Connector mounting process). Thereby, the semiconductor module intermediate assembly is configured.

そして、以上の工程により構成された半導体モジュール中間組立体をリフロー炉（図示せず）に入れて、複数の配線パターン３３ａ〜３３ｄのうち一つの配線パターン３３ａとベアチップＦＥＴ３５との半田３４ａを介しての接合、配線パターン３３ｄとその他の表面実装部品３７との半田３４ｄを介しての接合、ベアチップＦＥＴ３５の上面に形成されたソース電極Ｓとソース電極用銅コネクタ３６ａとの半田３４ｅを介しての接合、複数の配線パターン３３ａ〜３３ｄのうち他の配線パターン３３ｂとソース電極用銅コネクタ３６ａとの接合、ベアチップＦＥＴ３５の上面に形成されたゲート電極Ｇとゲート電極用銅コネクタ３６ｂとの半田３４ｆを介しての接合、及び複数の配線パターン３３ａ〜３３ｄのうち更に他の配線パターン３３ｃとゲート電極用銅コネクタ２６ｂとの半田３４ｃを介しての接合を一括して行う（接合工程）。
これにより、半導体モジュール３０は完成する。 Then, the semiconductor module intermediate assembly constituted by the above steps is put in a reflow furnace (not shown), and the solder 34a between one wiring pattern 33a and the bare chip FET 35 among the plurality of wiring patterns 33a to 33d. Bonding, wiring pattern 33d and other surface mount component 37 via solder 34d, source electrode S formed on the top surface of bare chip FET 35 and source electrode copper connector 36a via solder 34e The other wiring pattern 33b of the plurality of wiring patterns 33a to 33d is joined to the source electrode copper connector 36a, and the gate electrode G formed on the top surface of the bare chip FET 35 and the gate electrode copper connector 36b via the solder 34f. All the other wiring patterns 3 among the plurality of wiring patterns 33a to 33d. The bonding via the solder 34c of the c and the gate electrode for copper connectors 26b collectively performed (bonding step).
Thereby, the semiconductor module 30 is completed.

ここで、ベアチップＦＥＴ３５のソース電極Ｓと基板３１上の配線パターン３３ｂとの接続をソース電極用銅コネクタ３６ａを用い、ベアチップＦＥＴ３５のゲート電極Ｇと基板３１上の別の配線パターン３３ｃとの接続をゲート電極用銅コネクタ３６ｂを用いることにより、半田実装作業で行えるので、ベアチップＦＥＴ３５のソース電極Ｓと基板３１上の配線パターン３３ｂとの接続及びベアチップＦＥＴ３５のゲート電極Ｇと基板３１上の別の配線パターン３３ｃとの接続を、ベアチップＦＥＴ３５やその他の表面実装部品３７を基板３１上の配線パターン３３ａ，３３ｄ上に実装する際に行われる半田実装作業と同一の工程で同時に行うことができる。このため、半導体モジュール３０の製造タクトを短くすることができるとともに、ワイヤボンディングの専用設備が不要になり、半導体モジュール３０の製造コストを安価にすることができる。   Here, the source electrode S of the bare chip FET 35 and the wiring pattern 33b on the substrate 31 are connected by using the source electrode copper connector 36a, and the connection of the gate electrode G of the bare chip FET 35 and another wiring pattern 33c on the substrate 31 is connected. Since the gate electrode copper connector 36b can be used for solder mounting, the connection between the source electrode S of the bare chip FET 35 and the wiring pattern 33b on the substrate 31 and another wiring on the substrate 31 of the gate electrode G of the bare chip FET 35 and the substrate 31 are possible. The connection with the pattern 33c can be simultaneously performed in the same process as the solder mounting operation performed when the bare chip FET 35 and other surface mounting components 37 are mounted on the wiring patterns 33a and 33d on the substrate 31. For this reason, the manufacturing tact of the semiconductor module 30 can be shortened, and dedicated equipment for wire bonding is not required, and the manufacturing cost of the semiconductor module 30 can be reduced.

また、リフロー炉における接合工程において、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂにおける電極接続部３６ｂｂの一方向と直交する方向の幅Ｗ１は、基板接続部３６ｂｃの一方向と直交する方向の幅Ｗ２よりも狭くなっており、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂは、幅狭の電極接続部３６ｂｂ側における１点と、幅広の基板接続部３６ｂｃ側における２点（基板接続部３６ｂｃの幅方向両端近傍の２点）の合計３点で、ベアチップＦＥＴ３５及び基板３１の上面で自立することができる。このため、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂをベアチップＦＥＴ３５及び基板３１上にリフローによる半田接合をする際に、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂが転倒してしまうおそれを少なくすることができる。これにより、ベアチップＦＥＴ３５及びゲート電極用銅コネクタ３６ｂを小型化しても、その組立性を良好なものとすることができる。   In the joining process in the reflow furnace, the width W1 of the gate electrode copper connector 36b in the direction orthogonal to the one direction of the electrode connection portion 36bb is smaller than the width W2 of the substrate connection portion 36bc in the direction orthogonal to the one direction. The gate electrode copper connector 36b is a sum of one point on the narrow electrode connecting portion 36bb side and two points on the wide substrate connecting portion 36bc side (two points near both ends in the width direction of the substrate connecting portion 36bc). It is possible to stand on the top surfaces of the bare chip FET 35 and the substrate 31 at three points. Therefore, when the gate electrode copper connector 36b is soldered to the bare chip FET 35 and the substrate 31 by reflow soldering, the risk of the gate electrode copper connector 36b falling over can be reduced. Thereby, even if the bare chip FET 35 and the gate electrode copper connector 36b are reduced in size, the assemblability can be improved.

次に、図１０を参照してゲート電極用銅コネクタの第１変形例を説明する。
図１０に示すゲート電極用銅コネクタ３６ｂ１は、図８に示すゲート電極用銅コネクタ３６ｂと基本構成は同様であるが、基板接続部３６ｂｃ、第２連結部３６ｂｅ、平板部、第１連結部３６ｂｄ、及び電極接続部３６ｂｂにかけての形状が異なっている。
即ち、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ１においては、プレス成形におけるブランク時において、基板接続部３６ｂｃ、第２連結部３６ｂｅ、平板部、第１連結部３６ｂｄ、及び電極接続部３６ｂｂにかけて両側から均等に幅が狭くなるテーパ形状に成形し、その後折り曲げてゲート電極用銅コネクタ３６ｂ１を構成するものである。 Next, a first modification of the gate electrode copper connector will be described with reference to FIG.
The gate electrode copper connector 36b1 shown in FIG. 10 has the same basic configuration as the gate electrode copper connector 36b shown in FIG. 8, but the substrate connection portion 36bc, the second connection portion 36be, the flat plate portion, and the first connection portion 36bd. And the shape over the electrode connecting portion 36bb is different.
In other words, the gate electrode copper connector 36b1 has a uniform width from both sides over the substrate connecting portion 36bc, the second connecting portion 36be, the flat plate portion, the first connecting portion 36bd, and the electrode connecting portion 36bb when blanking in press molding. The gate electrode copper connector 36b1 is formed by forming it into a narrower taper shape and then bending it.

このゲート電極用銅コネクタ３６ｂ１においても、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ１における電極接続部３６ｂｂの一方向と直交する方向の幅は、基板接続部３６ｂｃの一方向と直交する方向の幅よりも狭くなっており、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ１は、幅狭の電極接続部３６ｂｂ側における１点と、幅広の基板接続部３６ｂｃ側における２点（基板接続部３６ｂｃの幅方向両端近傍の２点）の合計３点で、ベアチップＦＥＴ３５及び基板３１の上面で自立することができる。このため、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ１をベアチップＦＥＴ３５及び基板３１上にリフローによる半田接合をする際に、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ１が転倒してしまうおそれを少なくすることができる。これにより、ベアチップＦＥＴ３５及びゲート電極用銅コネクタ３６ｂを小型化しても、その組立性を良好なものとすることができる。   Also in this copper electrode connector 36b1, the width of the gate electrode copper connector 36b1 in the direction perpendicular to one direction of the electrode connection portion 36bb is smaller than the width in the direction perpendicular to one direction of the substrate connection portion 36bc. The gate electrode copper connector 36b1 has a total of three points: one point on the narrow electrode connecting portion 36bb side and two points on the wide substrate connecting portion 36bc side (two points near both ends in the width direction of the substrate connecting portion 36bc). In this respect, the bare chip FET 35 and the upper surface of the substrate 31 can stand on their own. Therefore, when the gate electrode copper connector 36b1 is solder-bonded to the bare chip FET 35 and the substrate 31 by reflow, the risk of the gate electrode copper connector 36b1 falling over can be reduced. Thereby, even if the bare chip FET 35 and the gate electrode copper connector 36b are reduced in size, the assemblability can be improved.

また、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ１における電極接続部３６ｂｂは、基板接続部３６ｂｃの前記一方向と直交する幅方向の略中央部に位置している。これにより、幅の狭い電線接続部３６ｂｂが基板接続部３６ｂｃの幅方向に対してバランスがよい位置に位置する。このため、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ１が幅狭の電極接続部３６ｂｂ側における１点と、幅広の基板接続部３６ｂｃ側における２点の合計３点で、ベアチップＦＥＴ３５と基板３１上で自立するときに、電極接続部３６ｂｂの位置のバランスがよいため、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ１の自立性を向上させることができる。   In addition, the electrode connection portion 36bb in the gate electrode copper connector 36b1 is located at a substantially central portion in the width direction orthogonal to the one direction of the substrate connection portion 36bc. As a result, the narrow wire connecting portion 36bb is positioned at a good balance with respect to the width direction of the substrate connecting portion 36bc. Therefore, when the gate electrode copper connector 36b1 is self-supporting on the bare chip FET 35 and the substrate 31 at one point on the narrow electrode connection portion 36bb side and two points on the wide substrate connection portion 36bc side. Since the position of the electrode connecting portion 36bb is well balanced, the self-supporting property of the gate electrode copper connector 36b1 can be improved.

次に、図１１を参照してゲート電極用銅コネクタの第２変形例を説明する。
図１１に示すゲート電極用銅コネクタ３６ｂ２は、図８に示すゲート電極用銅コネクタ３６ｂと基本構成は同様であるが、第１連結部３６ｂｄの形状及び電極接続部３６ｂｂの位置が異なっている。
即ち、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ２においては、第１連結部３６ｂｄが、図１１（Ａ）に示すように、その一側縁が平板部３６ｂａの一側縁に沿って直線状の延び、他の側縁が第１連結部３６ｂｄの幅が徐々に狭くなるように前記一側縁に向けて斜めに延びている。そして、電極接続部３６ｂｂは、基板接続部３６ｂｃの幅方向の前記一側縁よりに位置している。 Next, a second modification of the gate electrode copper connector will be described with reference to FIG.
The gate electrode copper connector 36b2 shown in FIG. 11 has the same basic configuration as the gate electrode copper connector 36b shown in FIG. 8, but the shape of the first connecting portion 36bd and the position of the electrode connecting portion 36bb are different.
That is, in the gate electrode copper connector 36b2, as shown in FIG. 11 (A), the first connecting portion 36bd has a one-side edge extending linearly along one side edge of the flat plate portion 36ba. The side edges extend obliquely toward the one side edge so that the width of the first connecting portion 36bd gradually decreases. And electrode connection part 36bb is located from the said one side edge of the width direction of board | substrate connection part 36bc.

このゲート電極用銅コネクタ３６ｂ２においても、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ２における電極接続部３６ｂｂの一方向と直交する方向の幅は、基板接続部３６ｂｃの一方向と直交する方向の幅よりも狭くなっており、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ２は、幅狭の電極接続部３６ｂｂ側における１点と、幅広の基板接続部３６ｂｃ側における２点（基板接続部３６ｂｃの幅方向両端近傍の２点）の合計３点で、ベアチップＦＥＴ３５及び基板３１の上面で自立することができる。このため、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ２をベアチップＦＥＴ３５及び基板３１上にリフローによる半田接合をする際に、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ２が転倒してしまうおそれを少なくすることができる。これにより、ベアチップＦＥＴ３５及びゲート電極用銅コネクタ３６ｂを小型化しても、その組立性を良好なものとすることができる。   Also in this copper electrode connector 36b2, the width of the gate electrode copper connector 36b2 in the direction perpendicular to one direction of the electrode connection portion 36bb is smaller than the width in the direction perpendicular to one direction of the substrate connection portion 36bc. The gate electrode copper connector 36b2 has a total of three points: one point on the narrow electrode connection portion 36bb side and two points on the wide substrate connection portion 36bc side (two points near both ends in the width direction of the substrate connection portion 36bc). In this respect, the bare chip FET 35 and the upper surface of the substrate 31 can stand on their own. Therefore, when the gate electrode copper connector 36b2 is soldered to the bare chip FET 35 and the substrate 31 by reflow soldering, the risk of the gate electrode copper connector 36b2 falling over can be reduced. Thereby, even if the bare chip FET 35 and the gate electrode copper connector 36b are reduced in size, the assemblability can be improved.

また、前述したように、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ２における電極接続部３６ｂｂは、基板接続部３６ｂｃの幅方向の前記一側縁よりに位置しており、バランスは悪い。しかしゲート電極用銅コネクタ３６ｂ２の自立性のバランスは、平板部３６ｂａの幅（重量）で調整する。これにより、幅の狭い電線接続部３６ｂｂが基板接続部３６ｂｃの幅方向に対してバランスがよくなり、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ２が幅狭の電極接続部３６ｂｂ側における１点と、幅広の基板接続部３６ｂｃ側における２点の合計３点で、ベアチップＦＥＴ３５と基板３１上で自立するときに、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ２の自立性を向上させることができる。   Further, as described above, the electrode connection portion 36bb in the gate electrode copper connector 36b2 is located closer to the one side edge in the width direction of the substrate connection portion 36bc, and the balance is poor. However, the balance of the self-supporting property of the gate electrode copper connector 36b2 is adjusted by the width (weight) of the flat plate portion 36ba. As a result, the narrow wire connection portion 36bb is well balanced with respect to the width direction of the substrate connection portion 36bc, and the gate electrode copper connector 36b2 has one point on the narrow electrode connection portion 36bb side and a wide substrate connection. The self-supporting property of the gate electrode copper connector 36b2 can be improved when the self-supporting is performed on the bare chip FET 35 and the substrate 31 at the total of three points on the part 36bc side.

更に、図１２を参照してゲート電極用銅コネクタの第３変形例を説明する。
図１２に示すゲート電極用銅コネクタ３６ｂ３は、図８に示すゲート電極用銅コネクタ３６ｂと基本構成は同様であるが、基板接続部３６ｂｃ、第２連結部３６ｂｅ、平板部、第１連結部３６ｂｄ、及び電極接続部３６ｂｂにかけての形状が異なっている。
即ち、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ３においては、プレス成形におけるブランク時において、基板接続部３６ｂｃ、第２連結部３６ｂｅ、平板部、第１連結部３６ｂｄ、及び電極接続部３６ｂｂにかけて片側から一方的に幅が狭くなるテーパ形状に成形し、その後折り曲げてゲート電極用銅コネクタ３６ｂ３を構成するものである。 Furthermore, with reference to FIG. 12, the 3rd modification of the copper connector for gate electrodes is demonstrated.
The gate electrode copper connector 36b3 shown in FIG. 12 has the same basic configuration as the gate electrode copper connector 36b shown in FIG. 8, but the substrate connection portion 36bc, the second connection portion 36be, the flat plate portion, and the first connection portion 36bd. And the shape over the electrode connecting portion 36bb is different.
In other words, the gate electrode copper connector 36b3 is unilaterally widened from one side to the substrate connecting part 36bc, the second connecting part 36be, the flat plate part, the first connecting part 36bd, and the electrode connecting part 36bb during blanking in press molding. The gate electrode copper connector 36b3 is formed by forming it into a tapered shape that is narrowed and then bending.

このゲート電極用銅コネクタ３６ｂ３においても、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ３における電極接続部３６ｂｂの一方向と直交する方向の幅は、基板接続部３６ｂｃの一方向と直交する方向の幅よりも狭くなっており、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ３は、幅狭の電極接続部３６ｂｂ側における１点と、幅広の基板接続部３６ｂｃ側における２点（基板接続部３６ｂｃの幅方向両端近傍の２点）の合計３点で、ベアチップＦＥＴ３５及び基板３１の上面で自立することができる。このため、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ３をベアチップＦＥＴ３５及び基板３１上にリフローによる半田接合をする際に、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ２が転倒してしまうおそれを少なくすることができる。これにより、ベアチップＦＥＴ３５及びゲート電極用銅コネクタ３６ｂを小型化しても、その組立性を良好なものとすることができる。
また、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂ３における電極接続部３６ｂｂは、基板接続部３６ｂｃの幅方向の一側縁よりに位置しているが、テーパ状の第１連結部３６ｂｄで平板部３６ｂａに接続されており、比較的バランスはよいものとなっている。 Also in this gate electrode copper connector 36b3, the width of the gate electrode copper connector 36b3 in the direction perpendicular to one direction of the electrode connection portion 36bb is smaller than the width in the direction perpendicular to one direction of the substrate connection portion 36bc. The gate electrode copper connector 36b3 has a total of 3 points, one point on the narrow electrode connection part 36bb side and two points on the wide substrate connection part 36bc side (two points near both ends in the width direction of the substrate connection part 36bc). In this respect, the bare chip FET 35 and the upper surface of the substrate 31 can stand on their own. Therefore, when the gate electrode copper connector 36b3 is solder-bonded to the bare chip FET 35 and the substrate 31 by reflow, the risk of the gate electrode copper connector 36b2 falling over can be reduced. Thereby, even if the bare chip FET 35 and the gate electrode copper connector 36b are reduced in size, the assemblability can be improved.
In addition, the electrode connection portion 36bb in the gate electrode copper connector 36b3 is located at one side edge in the width direction of the substrate connection portion 36bc, but is connected to the flat plate portion 36ba by the tapered first connecting portion 36bd. The balance is relatively good.

次に、図１３を参照して、図８に示すゲート電極用銅コネクタ及び図１０乃至図１２に示されるゲート電極用銅コネクタの第１変形例乃至第３変形例に適用される応力緩和部の第１変形例を説明する。
図１３に示すゲート電極用銅コネクタ３６ｂの応力緩和部３６ｂｊの形状は、図８に示すゲート電極用銅コネクタ３６ｂ及び図１０乃至図１２に示されるゲート電極用銅コネクタの第１変形例乃至第３変形例３６ｂ１、３６ｂ２、３６ｂ３のいずれにも適用可能であり、応力緩和部３６ｂｊは、上方が凸となるように湾曲した湾曲形状に形成されている。そして、電極接続部３６ｂｂが応力緩和部３６ｂｊの一端部から折り曲げられて外方に延び、基板接続部３６ｂｃが応力緩和部３６ｂｊの他端部から折り曲げられて外方に延びるように形成されている。
このように応力緩和部３６ｂｊを上方が凸となるように湾曲した湾曲形状に形成しても、ベアチップＦＥＴ３５とゲート電極用銅コネクタ３６ｂとの線膨張係数の差、基板３１とゲート電極用銅コネクタ３６ｂとの線膨張係数との差、ベアチップＦＥＴ３５と基板３１との線膨張係数の差を吸収することができる。 Next, referring to FIG. 13, stress relaxation portions applied to the first to third modifications of the gate electrode copper connector shown in FIG. 8 and the gate electrode copper connector shown in FIGS. 10 to 12. The first modified example will be described.
The shape of the stress relieving portion 36bj of the gate electrode copper connector 36b shown in FIG. 13 is the same as that of the first modification of the gate electrode copper connector 36b shown in FIG. 8 and the gate electrode copper connector shown in FIGS. The present invention is applicable to any of the three modified examples 36b1, 36b2, and 36b3, and the stress relaxation portion 36bj is formed in a curved shape that is curved so that the upper side is convex. The electrode connection portion 36bb is bent from one end portion of the stress relaxation portion 36bj and extends outward, and the substrate connection portion 36bc is bent from the other end portion of the stress relaxation portion 36bj and extends outward. .
Thus, even if the stress relaxation part 36bj is formed in a curved shape so that the upper part is convex, the difference in linear expansion coefficient between the bare chip FET 35 and the gate electrode copper connector 36b, the substrate 31 and the gate electrode copper connector The difference between the linear expansion coefficient and the linear expansion coefficient between the bare chip FET 35 and the substrate 31 can be absorbed.

また、図１４を参照して、図８に示すゲート電極用銅コネクタ及び図１０乃至図１２に示されるゲート電極用銅コネクタの第１変形例乃至第３変形例に適用される応力緩和部の第２変形例を説明する。
図１４に示すゲート電極用銅コネクタ３６ｂの応力緩和部３６ｂｊの形状は、図８に示すゲート電極用銅コネクタ３６ｂ及び図１０乃至図１２に示されるゲート電極用銅コネクタの第１変形例乃至第３変形例３６ｂ１、３６ｂ２、３６ｂ３のいずれにも適用可能であり、応力緩和部３６ｂｊは、上方が凸となる三角形状をなしている。電極接続部３６ｂｂが応力緩和部３６ｂｊの傾斜が緩い一片の端部から折り曲げられて外方に延び、基板接続部３６ｂｃが応力緩和部３６ｂｊの傾斜が急な一片の端部から折り曲げられて外方に延びるように形成されている。 Further, referring to FIG. 14, the stress relaxation portion applied to the first to third modified examples of the gate electrode copper connector shown in FIG. 8 and the gate electrode copper connector shown in FIGS. A second modification will be described.
The shape of the stress relaxation portion 36bj of the gate electrode copper connector 36b shown in FIG. 14 is the same as that of the first modification of the gate electrode copper connector 36b shown in FIG. 8 and the first modification of the gate electrode copper connector shown in FIGS. The present invention can be applied to any of the three modified examples 36b1, 36b2, and 36b3, and the stress relieving portion 36bj has a triangular shape with an upward projection. The electrode connection portion 36bb is bent outward from one end portion of the stress relaxation portion 36bj having a gentle inclination, and the substrate connection portion 36bc is bent outward from the one end portion of the stress relaxation portion 36bj having a steep inclination. It is formed to extend.

このように応力緩和部３６ｂｊを上方が凸となる三角形状に形成しても、ベアチップＦＥＴ３５とゲート電極用銅コネクタ３６ｂとの線膨張係数の差、基板３１とゲート電極用銅コネクタ３６ｂとの線膨張係数との差、ベアチップＦＥＴ３５と基板３１との線膨張係数の差を吸収することができる。
更に、図１５を参照して、図８に示すゲート電極用銅コネクタ及び図１０乃至図１２に示されるゲート電極用銅コネクタの第１変形例乃至第３変形例に適用される応力緩和部の第３変形例を説明する。 Thus, even if the stress relaxation portion 36bj is formed in a triangular shape with a convex upward, the difference in linear expansion coefficient between the bare chip FET 35 and the gate electrode copper connector 36b, the line between the substrate 31 and the gate electrode copper connector 36b, The difference between the expansion coefficient and the difference between the linear expansion coefficients of the bare chip FET 35 and the substrate 31 can be absorbed.
Further, referring to FIG. 15, the stress relaxation portion applied to the first to third modified examples of the gate electrode copper connector shown in FIG. 8 and the gate electrode copper connector shown in FIGS. A third modification will be described.

図１５に示すゲート電極用銅コネクタ３６ｂの応力緩和部３６ｂｊの形状は、図８に示すゲート電極用銅コネクタ３６ｂ及び図１０乃至図１２に示されるゲート電極用銅コネクタの第１変形例乃至第３変形例３６ｂ１、３６ｂ２、３６ｂ３のいずれにも適用可能であり、応力緩和部３６ｂｊは、斜め上方に傾斜する直線状に形成されている。そして、電極接続部３６ｂｂが応力緩和部３６ｂｊの上側の一端部から折り曲げられて外方に延び、基板接続部３６ｂｃが応力緩和部３６ｂｊの下側の他端部から折り曲げられて外方に延びるように形成されている。
このように応力緩和部３６ｂｊを斜め上方に傾斜する直線状に形成しても、ベアチップＦＥＴ３５とゲート電極用銅コネクタ３６ｂとの線膨張係数の差、基板３１とゲート電極用銅コネクタ３６ｂとの線膨張係数との差、ベアチップＦＥＴ３５と基板３１との線膨張係数の差を吸収することができる。 The shape of the stress relaxation portion 36bj of the gate electrode copper connector 36b shown in FIG. 15 is the same as that of the gate electrode copper connector 36b shown in FIG. 8 and the first modification to the first modification of the gate electrode copper connector shown in FIGS. The present invention is applicable to any of the three modified examples 36b1, 36b2, and 36b3, and the stress relaxation portion 36bj is formed in a linear shape that is inclined obliquely upward. The electrode connecting portion 36bb is bent from one upper end portion of the stress relaxing portion 36bj and extends outward, and the substrate connecting portion 36bc is bent from the other lower end portion of the stress relaxing portion 36bj and extends outward. Is formed.
Thus, even if the stress relaxation portion 36bj is formed in a straight line inclined obliquely upward, the difference in linear expansion coefficient between the bare chip FET 35 and the gate electrode copper connector 36b, the line between the substrate 31 and the gate electrode copper connector 36b, The difference between the expansion coefficient and the difference between the linear expansion coefficients of the bare chip FET 35 and the substrate 31 can be absorbed.

また、図１６を参照して、図８に示すゲート電極用銅コネクタ及び図１０乃至図１２に示されるゲート電極用銅コネクタの第１変形例乃至第３変形例に適用される応力緩和部の第４変形例を説明する。
図１６に示すゲート電極用銅コネクタ３６ｂの応力緩和部３６ｂｊの形状は、図８に示すゲート電極用銅コネクタ３６ｂ及び図１０乃至図１２に示されるゲート電極用銅コネクタの第１変形例乃至第３変形例３６ｂ１、３６ｂ２、３６ｂ３のいずれにも適用可能であり、応力緩和部３６ｂｊは、上方が凸となる三角形状をなしている。図１５に示す応力緩和形状３６ｂｊと異なり、電極接続部３６ｂｂが応力緩和部３６ｂｊの傾斜が急な一片の端部から折り曲げられて外方に延び、基板接続部３６ｂｃが応力緩和部３６ｂｊの傾斜が緩い一片の端部から折り曲げられて外方に延びるように形成されている。
このように応力緩和部３６ｂｊを上方が凸となる三角形状に形成しても、ベアチップＦＥＴ３５とゲート電極用銅コネクタ３６ｂとの線膨張係数の差、基板３１とゲート電極用銅コネクタ３６ｂとの線膨張係数との差、ベアチップＦＥＴ３５と基板３１との線膨張係数の差を吸収することができる。 Referring to FIG. 16, the stress relaxation portion applied to the first to third modifications of the gate electrode copper connector shown in FIG. 8 and the gate electrode copper connector shown in FIGS. A fourth modification will be described.
The shape of the stress relaxation portion 36bj of the gate electrode copper connector 36b shown in FIG. 16 is the same as that of the first modification of the gate electrode copper connector 36b shown in FIG. 8 and the gate electrode copper connector shown in FIGS. The present invention can be applied to any of the three modified examples 36b1, 36b2, and 36b3, and the stress relieving portion 36bj has a triangular shape with an upward projection. Unlike the stress relaxation shape 36bj shown in FIG. 15, the electrode connection portion 36bb is bent from one end portion where the inclination of the stress relaxation portion 36bj is steep and extends outward, and the substrate connection portion 36bc is inclined to the stress relaxation portion 36bj. It is formed to be bent from the end of a loose piece and extend outward.
Thus, even if the stress relaxation portion 36bj is formed in a triangular shape with a convex upward, the difference in linear expansion coefficient between the bare chip FET 35 and the gate electrode copper connector 36b, the line between the substrate 31 and the gate electrode copper connector 36b, The difference between the expansion coefficient and the difference between the linear expansion coefficients of the bare chip FET 35 and the substrate 31 can be absorbed.

以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明はこれに限定されずに種々の変更、改良を行うことができる。
例えば、半導体モジュール３０においてベアチップＦＥＴ３５を用いているが、ベアチップＦＥＴ３５に限らず、ベアチップＩＧＢTなどの他のベアチップトランジスタを用いてもよい。そして、その他のベアチップトランジスタを用いる場合には、銅コネクタにより、ベアチップトランジスタの上面に形成された電極上と複数の配線パターンのうちベアチップトランジスタが接続された配線パターン以外の他の配線パターン上とを半田を介して接合すればよい。これにより、ベアチップトランジスタの電極と基板上の配線パターンとの接続をベアチップトランジスタやその他の表面実装部品を基板上の配線パターン上に実装する際に行われる半田実装作業と同一の工程で行うことができる。 As mentioned above, although embodiment of this invention has been described, this invention is not limited to this, A various change and improvement can be performed.
For example, although the bare chip FET 35 is used in the semiconductor module 30, other bare chip transistors such as the bare chip IGBT may be used instead of the bare chip FET 35. When other bare chip transistors are used, the copper connector is used to connect the electrodes formed on the top surface of the bare chip transistor and other wiring patterns other than the wiring pattern to which the bare chip transistor is connected among the plurality of wiring patterns. What is necessary is just to join via solder. As a result, the connection between the bare chip transistor electrode and the wiring pattern on the substrate can be performed in the same process as the solder mounting operation performed when the bare chip transistor or other surface-mounted component is mounted on the wiring pattern on the substrate. it can.

そして、ベアチップトランジスタとしてベアチップＩＧＢＴを用いる場合、ベアチップＩＧＢＴ上に形成されたエミッタ電極及びゲート電極を、それぞれ、銅コネクタを用いて基板上の配線パターンに半田を介して接合することが好ましい。
このように、ベアチップＩＧＢＴを用い、ベアチップＩＧＢＴ上に形成されたエミッタ電極及びゲート電極を、それぞれ、銅コネクタを用いて基板上の配線パターンに半田を介して接合する場合には、ベアチップＩＧＢＴのエミッタ電極と基板上の配線パターンとの接続及びベアチップＩＧＢＴのゲート電極と基板上の別の配線パターンとの接続をベアチップＩＧＢＴやその他の表面実装部品を基板上の配線パターン上に実装する際に行われる半田実装作業と同一の工程で行うことができる。 And when using bare chip IGBT as a bare chip transistor, it is preferable to join the emitter electrode and gate electrode which were formed on bare chip IGBT to the wiring pattern on a board | substrate via solder, respectively using a copper connector.
As described above, when the bare chip IGBT is used and the emitter electrode and the gate electrode formed on the bare chip IGBT are respectively joined to the wiring pattern on the substrate using the copper connector via the solder, the emitter of the bare chip IGBT is used. The connection between the electrode and the wiring pattern on the substrate and the connection between the gate electrode of the bare chip IGBT and another wiring pattern on the substrate are performed when the bare chip IGBT or other surface-mounted component is mounted on the wiring pattern on the substrate. It can be performed in the same process as the solder mounting operation.

また、ゲート電極用銅コネクタ３６ｂに本発明の銅コネクタを適用した例を示したが、本発明の銅コネクタは、ソース電極用銅コネクタ３６ａに適用してもよい。
更に、本発明が適用されるゲート電極用銅コネクタ３６ｂは、電極接続部３６ｂｂの一方向と直交する方向の幅Ｗ１が基板接続部３６ｂｃの一方向と直交する方向の幅Ｗ２よりも狭ければよく、図８、図１０乃至図１２、及び図１３乃至図１６に示した例に限られない。更に、半導体モジュール３０において、ゲート電極用銅コネクタは１種類であり、ソース電極用銅コネクタは、ゲート電極用銅コネクタに対して１８０°ストレート配置とする第１ソース電極用銅コネクタと、ゲート電極用銅コネクタに対して９０°直角配置とする第２ソース電極用銅コネクタとの２種類であり、１つのベアチップＦＥＴにおいて、１種類のゲート電極用銅コネクタと、２種類の第１ソース電極用銅コネクタ及び第２ソース電極用銅コネクタのうちから選択されたいずれか一方のソース電極用銅コネクタとを組み合わせて使用すると良い。なおゲート電極用銅コネクタに対する第１ソース電極用銅コネクタの配置（ゲート電極用銅コネクタと第１ソース電極用銅コネクタのなす角度）は９５°〜２６５°とする事が好ましく、１６０°〜２００°とすることがより好ましく、１７５°〜１８５°とすることがさらに好ましく、１８０°とすることが最も好ましい。また、ゲート電極用銅コネクタに対する第２ソース電極用銅コネクタの配置（ゲート電極用銅コネクタと第２ソース電極用銅コネクタのなす角度）は５°〜１７５°とする事が好ましく、７０°〜１２０°とすることがより好ましく、８５°〜９５°とすることがさらに好ましく、９０°とすることが最も好ましい。この本導体モジュールによれば、前述の半導体モジュール３０と同様に、基板上に実装されるベアチップトランジスタの配置に自由度が生まれ、基板上の配線の設計の自由度が増大し、基板上における半導体モジュールのレイアウトをコンパクトにすることができる。さらに、基板上における３相モータの各相の経路の長さを同一にすることを容易に行うことができる。これにより、３相モータの各特性、特に各相のインピーダンス特性を容易に一致させることができ、トルクや速度等のリップル精度を向上させることが可能になる。 Moreover, although the example which applied the copper connector of this invention to the copper connector 36b for gate electrodes was shown, you may apply the copper connector of this invention to the copper connector 36a for source electrodes.
Furthermore, the gate electrode copper connector 36b to which the present invention is applied has a width W1 in a direction orthogonal to one direction of the electrode connection portion 36bb smaller than a width W2 in a direction orthogonal to one direction of the substrate connection portion 36bc. The examples are not limited to those shown in FIGS. 8, 10 to 12, and 13 to 16. Furthermore, in the semiconductor module 30, there is one type of copper connector for the gate electrode, and the source electrode copper connector is a first source electrode copper connector that is 180 ° straight with respect to the gate electrode copper connector, and the gate electrode. There are two types of copper connectors for the second source electrode, which are arranged at a right angle of 90 ° with respect to the copper connector for the gate. In one bare chip FET, one type of copper connector for the gate electrode and two types of copper connector for the first source electrode Any one of the copper connector and the second source electrode copper connector selected from the copper connectors may be used in combination. The arrangement of the first source electrode copper connector relative to the gate electrode copper connector (angle formed by the gate electrode copper connector and the first source electrode copper connector) is preferably 95 ° to 265 °, and preferably 160 ° to 200 °. More preferably, it is set to 175 °, more preferably 175 ° to 185 °, and most preferably 180 °. In addition, the second source electrode copper connector (angle formed by the gate electrode copper connector and the second source electrode copper connector) with respect to the gate electrode copper connector is preferably 5 ° to 175 °, preferably 70 ° to 120 ° is more preferable, 85 ° to 95 ° is further preferable, and 90 ° is most preferable. According to this conductor module, like the semiconductor module 30 described above, a degree of freedom is provided in the arrangement of the bare chip transistors mounted on the substrate, the degree of freedom in designing the wiring on the substrate is increased, and the semiconductor on the substrate is increased. The module layout can be made compact. Furthermore, it is possible to easily make the length of each phase path of the three-phase motor on the substrate the same. As a result, the characteristics of the three-phase motor, particularly the impedance characteristics of each phase, can be easily matched, and the ripple accuracy such as torque and speed can be improved.

１ 操向ハンドル
２ コラム軸
３ 減速ギア３
４Ａ，４Ｂ ユニバーサルジョイント
５ ピニオンラック機構
６ タイトロッド
７ トルクセンサ
８ 電動モータ
９ 車速センサ
１０ コントローラ
１１ 制御演算装置
１２ ゲート駆動回路
１３ モータ駆動部
１４ 非常停止用の遮断装置
１５ 電流検出回路
１６ 回転センサ
１７ ロータ位置検出回路
１８ ＩＧＮ電圧モニタ部
１９ 電源回路部
２０ ケース
２１ 半導体モジュール載置部
２１ａ ねじ孔
２２ 電力及び信号用コネクタ実装部
２３ ３相出力用コネクタ実装部
２３ａ ねじ孔
２４ 取付けポスト
２４ａ ねじ孔
３０ 半導体モジュール
３１ 基板
３１ａ 貫通孔
３２ 絶縁層
３３ａ〜３３ｄ 配線パターン
３４ａ〜３４ｄ 半田
３５ ベアチップＦＥＴ（ベアチップトランジスタ）
３６ａ ソース電極用銅コネクタ
３６ａａ 平板部
３６ａｂ 電極接続部
３６ａｃ 基板接続部
３６ｂ ゲート電極用銅コネクタ
３６ｂａ 平板部
３６ｂｂ 電極接続部
３６ｂｃ 基板接続部
３６ｂｄ 第１連結部
３６ｂｅ 第２連結部
３６ｂｆ 第１屈曲点
３６ｂｇ 第２屈曲点
３６ｂｈ 第３屈曲点
３６ｂｉ 第４屈曲点
３６ｂｊ 応力緩和部
３６ｂｋ 板厚部
３６ｂ１ ゲート電極用銅コネクタ（第１変形例）
３６ｂ２ ゲート電極用銅コネクタ（第２変形例）
３６ｂ３ ゲート電極用銅コネクタ（第３変形例）
３７ 表面実装部品
３８ 取付けねじ
３９ 放熱用シート
４０ 制御回路基板
４０ａ 貫通孔
４１ 取付けねじ
５０ 電力及び信号用コネクタ
５１ 取付けねじ
６０ ３相出力用コネクタ
６０ａ 貫通孔
６１ 取付けねじ
７０ カバー
８１電源ライン
８１ａ 正極端子
８２ 接地ライン
８２ａ 負極端子
９０ ３相出力部
９１ａ ａ相出力ライン
９１ｂ ｂ相出力ライン
９１ｃ ｃ相出力ライン
Ｇ ゲート電極（電極）
Ｓ ソース電極（電極） 1 Steering handle 2 Column shaft 3 Reduction gear 3
4A, 4B Universal joint 5 Pinion rack mechanism 6 Tight rod 7 Torque sensor 8 Electric motor 9 Vehicle speed sensor 10 Controller 11 Control arithmetic unit 12 Gate drive circuit 13 Motor drive unit 14 Emergency stop cutoff device 15 Current detection circuit 16 Rotation sensor 17 Rotor position detection circuit 18 IGN voltage monitor unit 19 power supply circuit unit 20 case 21 semiconductor module mounting unit 21a screw hole 22 power and signal connector mounting unit 23 three-phase output connector mounting unit 23a screw hole 24 mounting post 24a screw hole 30 Semiconductor module 31 Substrate 31a Through hole 32 Insulating layer 33a to 33d Wiring pattern 34a to 34d Solder 35 Bare chip FET (bare chip transistor)
36a Copper connector for source electrode 36aa Flat plate portion 36ab Electrode connection portion 36ac Substrate connection portion 36b Copper connector for gate electrode 36ba Flat plate portion 36bb Electrode connection portion 36bc Substrate connection portion 36bd First connection portion 36be Second connection portion 36bf First bending point 36bg Second bending point 36bh Third bending point 36bi Fourth bending point 36bj Stress relaxation part 36bk Plate thickness part 36b1 Copper connector for gate electrode (first modification)
36b2 Copper connector for gate electrode (second modification)
36b3 Gate electrode copper connector (third modification)
37 Surface Mounted Parts 38 Mounting Screw 39 Heat Dissipation Sheet 40 Control Circuit Board 40a Through Hole 41 Mounting Screw 50 Power and Signal Connector 51 Mounting Screw 60 Three-Phase Output Connector 60a Through Hole 61 Mounting Screw 70 Cover 81 Power Supply Line 81a Positive Terminal 82 Ground line 82a Negative terminal 90 Three-phase output part 91a A-phase output line 91b b-phase output line 91c c-phase output line G Gate electrode (electrode)
S Source electrode (electrode)

Claims (7)

金属製の基板と、該基板の上に形成された絶縁層と、該絶縁層上に形成された複数の配線パターンと、該複数の配線パターンのうち一つの配線パターン上に半田を介して実装されるベアチップトランジスタと、該ベアチップトランジスタの上面に形成された電極上と前記複数の配線パターンのうち他の配線パターン上とを半田を介して接合する、銅板で構成される銅コネクタとを備え、
前記銅コネクタは、前記ベアチップトランジスタの電極に接続される電極接続部と、該電極接続部に対して一方向において対向するように配置され、前記複数の配線パターンのうち他の配線パターンに接続される基板接続部とを備え、
前記電極接続部の前記一方向と直交する方向の幅は、前記基板接続部の前記一方向と直交する方向の幅よりも狭いことを特徴とする半導体モジュール。 A metal substrate, an insulating layer formed on the substrate, a plurality of wiring patterns formed on the insulating layer, and solder mounted on one wiring pattern among the plurality of wiring patterns A bare chip transistor, and a copper connector composed of a copper plate that joins the electrode formed on the top surface of the bare chip transistor and another wiring pattern among the plurality of wiring patterns via solder,
The copper connector is disposed so as to face an electrode connection portion connected to the electrode of the bare chip transistor in one direction with respect to the electrode connection portion, and is connected to another wiring pattern among the plurality of wiring patterns. And a board connecting part
The width of the electrode connection portion in the direction orthogonal to the one direction is narrower than the width of the substrate connection portion in the direction orthogonal to the one direction. 前記電極接続部は、前記基板接続部の前記一方向と直交する幅方向の略中央部に位置することを特徴とする請求項１記載の半導体モジュール。   2. The semiconductor module according to claim 1, wherein the electrode connection portion is located at a substantially central portion in a width direction orthogonal to the one direction of the substrate connection portion. 前記電極接続部と前記基板接続部との間に応力緩和部を設けたことを特徴とする請求項１又は２記載の半導体モジュール。   The semiconductor module according to claim 1, wherein a stress relaxation portion is provided between the electrode connection portion and the substrate connection portion. 前記応力緩和部は、平板部と、該平板部の一端から立ち下がるように折り曲げられた第１連結部と、前記平板部の他端から立ち下がるように折り曲げられた第２連結部とを備えて上方に向けたコの字状のブリッジを構成し、前記電極接続部が前記第１連結部から折り曲げられて外方に延び、前記基板接続部が前記第２連結部から折り曲げられて外方に延びるように形成されていることを特徴とする請求項３記載の半導体モジュール。   The stress relaxation portion includes a flat plate portion, a first connecting portion bent so as to fall from one end of the flat plate portion, and a second connecting portion bent so as to fall from the other end of the flat plate portion. And the electrode connecting portion is bent from the first connecting portion and extends outward, and the substrate connecting portion is bent from the second connecting portion to the outside. The semiconductor module according to claim 3, wherein the semiconductor module is formed so as to extend. 前記第１連結部は、前記平板部から前記電極接続部に至るまで徐々に幅が細くなるテーパ状に形成され、前記電極接続部の曲げ基点を前記第１連結部の最も細い部位とすることを特徴とする請求項４記載の半導体モジュール。   The first connecting portion is formed in a tapered shape that gradually decreases in width from the flat plate portion to the electrode connecting portion, and the bending base point of the electrode connecting portion is the thinnest portion of the first connecting portion. The semiconductor module according to claim 4. 前記ベアチップトランジスタが、上面にソース電極及び該ソース電極よりも接続面積の小さいゲート電極を形成したベアチップＦＥＴであり、前記銅コネクタは、該銅コネクタの電極接続部が前記ゲート電極に接続されるゲート電極用銅コネクタであることを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか一項に記載の半導体モジュール。   The bare chip transistor is a bare chip FET in which a source electrode and a gate electrode having a smaller connection area than the source electrode are formed on an upper surface, and the copper connector is a gate in which an electrode connection portion of the copper connector is connected to the gate electrode. The semiconductor module according to claim 1, wherein the semiconductor module is an electrode copper connector. 前記基板接続部と電極接続部の板厚を増した板厚にしたことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか一項に記載の半導体モジュール。   7. The semiconductor module according to claim 1, wherein the board connecting portion and the electrode connecting portion have a thickness increased.
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