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JP2015154044A - Method for manufacturing multilayer ceramic capacitor, and multilayer ceramic capacitor - Google Patents

Method for manufacturing multilayer ceramic capacitor, and multilayer ceramic capacitor Download PDF

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JP2015154044A
JP2015154044A JP2014029577A JP2014029577A JP2015154044A JP 2015154044 A JP2015154044 A JP 2015154044A JP 2014029577 A JP2014029577 A JP 2014029577A JP 2014029577 A JP2014029577 A JP 2014029577A JP 2015154044 A JP2015154044 A JP 2015154044A
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JP
Japan
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electrode
via hole
ceramic capacitor
multilayer ceramic
internal
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Pending
Application number
JP2014029577A
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Japanese (ja)
Inventor
幸川 進一
Shinichi Kokawa
進一 幸川
哲生 酒井
Tetsuo Sakai
哲生 酒井
尚文 池上
Naofumi Ikegami
尚文 池上
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer ceramic capacitor having a large capacity, though being small-sized.SOLUTION: A step of manufacturing a chip which includes: provided in a ceramic element body 10, first and second inner electrodes 11 and 12 which oppose each other with a ceramic portion interposed therebetween in a thickness direction; a first via hole electrode 17 which is connected to the first inner electrode 11 and spreads to a surface of the ceramic element body 10; and a second via hole electrode 18 which is connected to the second inner electrode 12 and spreads to the surface of the ceramic element body 10, each of the first and second inner electrodes 11 and 12 being exposed to first and second side surfaces and first and second end surfaces 10e and 10f, an etching step for removing exposed portions of the first and second inner electrodes 11 and 12 in the first and second side surfaces and the first and second end surfaces 10e and 10f, and a filling step for filling insulators into removal portions of the first and second inner electrodes 11 and 12, are performed.

Description

本発明は、積層セラミックコンデンサの製造方法及び積層セラミックコンデンサに関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor and a multilayer ceramic capacitor.

従来、種々の電子機器に積層セラミックコンデンサが用いられている。特許文献1には、積層セラミックコンデンサの一例が記載されている。特許文献1に記載の積層セラミックコンデンサは、直方体状のセラミック素体を有する。セラミック素体の内部には、第1の内部電極と第2の内部電極とが厚み方向に沿って交互に設けられている。第1の内部電極は、セラミック素体の第1の端面に露出している。第1の端面の上には第1の外部電極が設けられている。第1の内部電極は、第1の端面において第1の外部電極と電気的に接続されている。第2の内部電極は、セラミック素体の第2の端面に露出している。第2の端面の上には第2の外部電極がが設けられている。第2の内部電極は、第2の端面において第2の外部電極と電気的に接続されている。   Conventionally, multilayer ceramic capacitors are used in various electronic devices. Patent Document 1 describes an example of a multilayer ceramic capacitor. The multilayer ceramic capacitor described in Patent Document 1 has a rectangular parallelepiped ceramic body. In the ceramic body, first internal electrodes and second internal electrodes are alternately provided along the thickness direction. The first internal electrode is exposed at the first end face of the ceramic body. A first external electrode is provided on the first end face. The first internal electrode is electrically connected to the first external electrode at the first end face. The second internal electrode is exposed at the second end face of the ceramic body. A second external electrode is provided on the second end face. The second internal electrode is electrically connected to the second external electrode at the second end face.

積層セラミックコンデンサにおいては、第1の内部電極は、第2の外部電極と電気的に接続されてはならない。このため、第1の内部電極は、第2の端面から離間して設けられている。一方、第2の内部電極は、第1の外部電極と電気的に接続されてはならない。このため、第2の内部電極は、第1の端面から離間して設けられている。   In the multilayer ceramic capacitor, the first internal electrode should not be electrically connected to the second external electrode. Therefore, the first internal electrode is provided away from the second end surface. On the other hand, the second internal electrode should not be electrically connected to the first external electrode. For this reason, the second internal electrode is provided apart from the first end surface.

このような積層セラミックコンデンサは、例えば、以下のようにして製造される。まず、セラミック素体を構成するためのセラミックグリーンシートを作成する。セラミックグリーンシートの上に、第1又は第2の内部電極を構成するための導電層を印刷する。セラミックグリーンシート、第1の内部電極を構成するための導電層が印刷されたセラミックグリーンシート及び第2の内部電極を構成するための導電層が印刷されたセラミックグリーンシートを適宜積層し、プレスすることにより、マザー積層体を得る。マザー積層体を複数に分断し、生のセラミック素体を作製する。生のセラミック素体を焼成することによりセラミック素体を得る。その後、第1及び第2の外部電極を形成することにより積層セラミックコンデンサを完成させることができる。   Such a multilayer ceramic capacitor is manufactured as follows, for example. First, a ceramic green sheet for forming a ceramic body is created. A conductive layer for constituting the first or second internal electrode is printed on the ceramic green sheet. A ceramic green sheet, a ceramic green sheet printed with a conductive layer for constituting the first internal electrode, and a ceramic green sheet printed with a conductive layer for constituting the second internal electrode are appropriately laminated and pressed. Thus, a mother laminate is obtained. The mother laminated body is divided into a plurality of parts to produce a raw ceramic body. A ceramic body is obtained by firing a raw ceramic body. Thereafter, the multilayer ceramic capacitor can be completed by forming the first and second external electrodes.

特開2013−227219号公報JP 2013-227219 A

積層セラミックコンデンサには、容量を小さくすることなく小型化したいという要望がある。これを実現するためには、第1の内部電極と第2の内部電極とが対向している領域の面積を大きくすることが好ましい。よって、第1の内部電極と第2の端面との間の距離を短くすると共に、第2の内部電極と第1の端面との間の距離を短くすることが好ましい。しかしながら、特許文献1に記載の積層セラミックコンデンサでは、内部電極を構成するための導電層の形成ずれ、セラミックグリーンシートを積層するときのシート間の位置ずれ、マザー積層体をプレスした際の内部電極の位置ずれ等を考慮すると、第1の内部電極と第2の端面との間の距離、第2の内部電極と第1の端面との間の距離を十分に小さくすることが困難である。従って、特許文献1に記載の積層セラミックコンデンサでは、小型でありつつ大容量のコンデンサを実現することが困難であるという問題がある。   Multilayer ceramic capacitors have a desire to be miniaturized without reducing the capacitance. In order to realize this, it is preferable to increase the area of the region where the first internal electrode and the second internal electrode face each other. Therefore, it is preferable to shorten the distance between the first internal electrode and the second end face and shorten the distance between the second internal electrode and the first end face. However, in the multilayer ceramic capacitor described in Patent Document 1, a misalignment of the conductive layer for constituting the internal electrode, a misalignment between the sheets when the ceramic green sheets are laminated, and the internal electrode when the mother laminate is pressed In consideration of the positional deviation of the first, it is difficult to sufficiently reduce the distance between the first internal electrode and the second end face and the distance between the second internal electrode and the first end face. Therefore, the multilayer ceramic capacitor described in Patent Document 1 has a problem that it is difficult to realize a large-capacity capacitor while being small.

本発明の主な目的は、小型でありつつ大容量の積層セラミックコンデンサを提供することにある。   A main object of the present invention is to provide a monolithic ceramic capacitor having a small capacity and a large capacity.

本発明に係る積層セラミックコンデンサの製造方法では、長さ方向及び幅方向に沿って延びる第1及び第2の主面と、長さ方向及び厚み方向に沿って延びる第1及び第2の側面と、幅方向及び厚み方向に沿って延びる第1及び第2の端面とを有するセラミック素体と、セラミック素体内に設けられており、厚み方向においてセラミック部を介して対向している第1及び第2の内部電極と、第1の内部電極に接続されており、セラミック素体の表面に至る第1のビアホール電極と、第2の内部電極に接続されており、セラミック素体の表面に至る第2のビアホール電極とを有し、第1及び第2の内部電極のそれぞれが第1及び第2の側面並びに第1及び第2の端面のそれぞれに露出しているチップを作製する。第1及び第2の内部電極の第1及び第2の側面並びに第1及び第2の端面における露出部をエッチングにより除去するエッチング工程を行う。第1及び第2の内部電極の除去部に絶縁体を充填する充填工程を行う。   In the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to the present invention, first and second main surfaces extending along the length direction and the width direction, and first and second side surfaces extending along the length direction and the thickness direction, and , A ceramic body having first and second end faces extending in the width direction and the thickness direction, and the first and second ceramics provided in the ceramic body and facing each other through the ceramic portion in the thickness direction. The second internal electrode and the first internal electrode connected to the first internal electrode, the first via-hole electrode reaching the surface of the ceramic body, and the second internal electrode connected to the surface of the ceramic base body A chip having two via-hole electrodes and having the first and second internal electrodes exposed on the first and second side surfaces and the first and second end surfaces is manufactured. An etching process is performed to remove the exposed portions of the first and second side surfaces and the first and second end surfaces of the first and second internal electrodes by etching. A filling step of filling the removed portions of the first and second internal electrodes with an insulator is performed.

本発明に係る積層セラミックコンデンサの製造方法では、エッチング工程において、チップをエッチング液に浸漬することにより第1及び第2の内部電極の露出部をエッチングしてもよい。   In the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to the present invention, in the etching step, the exposed portions of the first and second internal electrodes may be etched by immersing the chip in an etching solution.

本発明に係る積層セラミックコンデンサの製造方法では、第1の内部電極は、第1の開口を有し、第2の内部電極は、第2の開口を有していてもよい。本発明に係る積層セラミックコンデンサの製造方法は、第2の開口内を通過して第1の主面から第2の主面に至る第1のビアホールと、第1の開口内を通過して第1の主面から第2の主面に至る第2のビアホールとをセラミック素体に形成する工程と、第1のビアホールに第1のビアホール電極を形成する工程と、第2のビアホールに第2のビアホール電極を形成する工程とをさらに備えていてもよい。   In the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to the present invention, the first internal electrode may have a first opening, and the second internal electrode may have a second opening. The method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to the present invention includes a first via hole that passes through the second opening and extends from the first main surface to the second main surface, and passes through the first opening. Forming a second via hole extending from the first main surface to the second main surface in the ceramic body, forming a first via hole electrode in the first via hole, and forming a second via hole in the second via hole. And a step of forming the via hole electrode.

本発明に係る積層セラミックコンデンサの製造方法は、充填工程の後に、セラミック素体の上に、第1のビアホール電極に接続された第1の外部電極と、第2のビアホール電極に接続された第2の外部電極とを形成する工程をさらに備えていてもよい。   In the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to the present invention, after the filling step, the first external electrode connected to the first via-hole electrode and the second via-hole electrode connected to the first via-hole electrode are formed on the ceramic body. The method may further include a step of forming two external electrodes.

本発明に係る積層セラミックコンデンサの製造方法では、第1及び第2の外部電極を、それぞれ、第1及び第2の主面の少なくとも一方の上に形成してもよい。   In the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to the present invention, the first and second external electrodes may be formed on at least one of the first and second main surfaces, respectively.

本発明に係る積層セラミックコンデンサの製造方法では、充填工程において、第1及び第2の内部電極の除去部に樹脂又はセラミックスを充填してもよい。   In the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to the present invention, the removal portion of the first and second internal electrodes may be filled with resin or ceramics in the filling step.

本発明に係る積層セラミックコンデンサは、セラミック素体と、第1及び第2の内部電極と、第1のビアホール電極と、第2のビアホール電極と、絶縁材とを備える。セラミック素体は、第1及び第2の主面と、第1及び第2の側面と、第1及び第2の端面とを有する。第1及び第2の主面は、長さ方向及び幅方向に沿って延びている。第1及び第2の側面は、長さ方向及び厚み方向に沿って延びている。第1及び第2の端面は、幅方向及び厚み方向に沿って延びている。第1及び第2の内部電極は、セラミック素体内において第1及び第2の側面並びに第1及び第2の端面から後退して設けられている。第1及び第2の内部電極は、厚み方向においてセラミック部を介して対向している。第1のビアホール電極は、第1の内部電極に接続されている。第1のビアホール電極は、セラミック素体の表面に至る。第2のビアホール電極は、第2の内部電極に接続されている。第2のビアホール電極は、セラミック素体の表面に至る。絶縁材は、第1及び第2の内部電極と第1及び第2の側面並びに第1及び第2の端面との間に充填されている。   A multilayer ceramic capacitor according to the present invention includes a ceramic body, first and second internal electrodes, a first via hole electrode, a second via hole electrode, and an insulating material. The ceramic body has first and second main surfaces, first and second side surfaces, and first and second end surfaces. The first and second main surfaces extend along the length direction and the width direction. The first and second side surfaces extend along the length direction and the thickness direction. The first and second end faces extend along the width direction and the thickness direction. The first and second internal electrodes are provided so as to recede from the first and second side surfaces and the first and second end surfaces in the ceramic body. The first and second internal electrodes are opposed to each other through the ceramic portion in the thickness direction. The first via hole electrode is connected to the first internal electrode. The first via hole electrode reaches the surface of the ceramic body. The second via hole electrode is connected to the second internal electrode. The second via hole electrode reaches the surface of the ceramic body. The insulating material is filled between the first and second internal electrodes, the first and second side surfaces, and the first and second end surfaces.

本発明に係る積層セラミックコンデンサでは、絶縁材が樹脂又はセラミックスにより構成されていてもよい。   In the multilayer ceramic capacitor according to the present invention, the insulating material may be made of resin or ceramics.

本発明によれば、小型でありつつ大容量の積層セラミックコンデンサを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a monolithic ceramic capacitor having a large capacity while being small.

本発明の一実施形態における第1のセラミックグリーンシートの模式的平面図である。It is a typical top view of the 1st ceramic green sheet in one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態における第2のセラミックグリーンシートの模式的平面図である。It is a typical top view of the 2nd ceramic green sheet in one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態におけるマザー積層体の模式的平面図である。It is a typical top view of the mother layered product in one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態におけるマザー積層体の模式的平面図である。It is a typical top view of the mother layered product in one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態におけるチップの模式的平面図である。It is a typical top view of the chip in one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態におけるチップの模式的側面図である。It is a typical side view of the chip in one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態におけるチップの模式的正面図である。It is a typical front view of the chip in one embodiment of the present invention. 図5の線VIII−VIIIにおける模式的断面図である。It is typical sectional drawing in line VIII-VIII of FIG. 本発明の一実施形態におけるエッチング後のチップの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the chip | tip after the etching in one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態におけるエッチング後のチップの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the chip | tip after the etching in one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態におけるセラミック素体の模式的断面図である。It is a typical sectional view of a ceramic body in one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態におけるセラミック素体の模式的断面図である。It is a typical sectional view of a ceramic body in one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態における積層セラミックコンデンサの模式的斜視図である。It is a typical perspective view of the multilayer ceramic capacitor in one embodiment of the present invention. 第1の変形例における積層セラミックコンデンサの模式的斜視図である。It is a typical perspective view of the multilayer ceramic capacitor in the 1st modification. 第2の変形例における積層セラミックコンデンサの模式的斜視図である。It is a typical perspective view of the multilayer ceramic capacitor in the 2nd modification. 第3の変形例における積層セラミックコンデンサの模式的斜視図である。It is a typical perspective view of the multilayer ceramic capacitor in the 3rd modification. 第4の変形例における積層セラミックコンデンサの模式的斜視図である。It is a typical perspective view of the multilayer ceramic capacitor in the 4th modification.

以下、本発明を実施した好ましい形態の一例について説明する。但し、下記の実施形態は、単なる例示である。本発明は、下記の実施形態に何ら限定されない。   Hereinafter, an example of the preferable form which implemented this invention is demonstrated. However, the following embodiment is merely an example. The present invention is not limited to the following embodiments.

また、実施形態等において参照する各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照することとする。また、実施形態等において参照する図面は、模式的に記載されたものである。図面に描画された物体の寸法の比率などは、現実の物体の寸法の比率などとは異なる場合がある。図面相互間においても、物体の寸法比率等が異なる場合がある。具体的な物体の寸法比率等は、以下の説明を参酌して判断されるべきである。   Moreover, in each drawing referred in embodiment etc., the member which has a substantially the same function shall be referred with the same code | symbol. The drawings referred to in the embodiments and the like are schematically described. A ratio of dimensions of an object drawn in a drawing may be different from a ratio of dimensions of an actual object. The dimensional ratio of the object may be different between the drawings. The specific dimensional ratio of the object should be determined in consideration of the following description.

本実施形態では、図1〜図12を参照しながら図13に示される積層セラミックコンデンサ1を製造する方法について説明する。   In the present embodiment, a method for manufacturing the multilayer ceramic capacitor 1 shown in FIG. 13 will be described with reference to FIGS.

まず、セラミックグリーンシート50(図1及び図2を参照)を作製する。セラミックグリーンシート50の作製方法は、特に限定されない。セラミックグリーンシート50は、例えば、誘電体セラミックスの粉末を含むスラリーをキャリアフィルムの上に印刷し、乾燥させることにより作製することができる。好ましく用いられる誘電体セラミックスの具体例としては、例えば、BaTiO、CaTiO、SrTiO、CaZrOなどが挙げられる。スラリーは、誘電体セラミックス粉末に加え、通常、有機溶剤、バインダー等を含んでいる。スラリーには、例えば、Mn化合物、Mg化合物、Si化合物、Fe化合物、Cr化合物、Co化合物、Ni化合物、希土類化合物などが添加されていてもよい。スラリーの塗布は、例えば、ダイコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター等を用いて行うことができる。 First, the ceramic green sheet 50 (refer FIG.1 and FIG.2) is produced. The method for producing the ceramic green sheet 50 is not particularly limited. The ceramic green sheet 50 can be produced, for example, by printing a slurry containing dielectric ceramic powder on a carrier film and drying it. Specific examples of dielectric ceramics preferably used include BaTiO 3 , CaTiO 3 , SrTiO 3 , CaZrO 3 and the like. The slurry usually contains an organic solvent, a binder and the like in addition to the dielectric ceramic powder. For example, a Mn compound, Mg compound, Si compound, Fe compound, Cr compound, Co compound, Ni compound, rare earth compound, or the like may be added to the slurry. The application of the slurry can be performed using, for example, a die coater, a gravure coater, a micro gravure coater, or the like.

次に、セラミックグリーンシート50の上に、後述する第1の内部電極11を構成するための第1の導電層51を形成し、図1に示される第1のセラミックグリーンシート50aを作製する。第1の導電層51には、複数の開口51aがマトリクス状に設けられている。この開口51aは、後述する第1の開口11aを構成するためのものである。   Next, on the ceramic green sheet 50, the 1st conductive layer 51 for comprising the 1st internal electrode 11 mentioned later is formed, and the 1st ceramic green sheet 50a shown by FIG. 1 is produced. In the first conductive layer 51, a plurality of openings 51a are provided in a matrix. The opening 51a is for constituting a first opening 11a described later.

また、セラミックグリーンシート50の上に、後述する第2の内部電極12を構成するための第2の導電層52を形成し、図2に示される第2のセラミックグリーンシート50bを作製する。第2の導電層52には、複数の開口52aがマトリクス状に設けられている。この開口52aは、後述する第2の開口12aを構成するためのものである。   Further, a second conductive layer 52 for constituting a second internal electrode 12 described later is formed on the ceramic green sheet 50, and the second ceramic green sheet 50b shown in FIG. 2 is produced. In the second conductive layer 52, a plurality of openings 52a are provided in a matrix. The opening 52a is for constituting a second opening 12a described later.

なお、第1及び第2の導電層51,52は、それぞれ、例えば、導電性粒子を含む導電性ペーストを塗布することにより形成することができる。導電性ペーストの塗布は、例えば、スクリーン印刷法、インクジェット法、グラビア印刷法等により行うことができる。また、第1及び第2の導電層51,52は、例えば、めっき法等により形成することもできる。   Note that the first and second conductive layers 51 and 52 can be formed by applying a conductive paste containing conductive particles, for example. The conductive paste can be applied by, for example, a screen printing method, an ink jet method, a gravure printing method, or the like. Further, the first and second conductive layers 51 and 52 can be formed by, for example, a plating method.

次に、導電層51,52が形成されていないセラミックグリーンシート50を少なくとも一枚積層した後に、第1のセラミックグリーンシート50aと第2のセラミックグリーンシート50bとを交互に積層し、さらに、導電層51,52が形成されていないセラミックグリーンシート50を少なくとも一枚積層することにより、図3に示されるマザー積層体60を作製する。セラミックグリーンシート50,50a、50bを積層した後に、プレスを行ってもよい。   Next, after laminating at least one ceramic green sheet 50 on which the conductive layers 51 and 52 are not formed, the first ceramic green sheets 50a and the second ceramic green sheets 50b are alternately laminated, A mother laminate 60 shown in FIG. 3 is produced by laminating at least one ceramic green sheet 50 on which the layers 51 and 52 are not formed. You may press after laminating | stacking the ceramic green sheets 50, 50a, and 50b.

次に、図4に示されるように、マザー積層体60に、複数の第1のビアホール61と、複数の第2のビアホール62とを形成する。第1及び第2のビアホール61,62は、それぞれ、マザー積層体60を厚み方向に貫通するように形成する。第1及び第2のビアホール61,62は、マザー積層体60の一方の主面と他方の主面とに跨がって形成する。   Next, as shown in FIG. 4, a plurality of first via holes 61 and a plurality of second via holes 62 are formed in the mother stacked body 60. The first and second via holes 61 and 62 are formed so as to penetrate the mother stacked body 60 in the thickness direction. The first and second via holes 61 and 62 are formed across one main surface and the other main surface of the mother laminated body 60.

第1のビアホール61は、第2の導電層52に形成された開口52aを通過し、第1の導電層51を貫通するように厚み方向に沿って形成する。一方、第2のビアホール62は、第1の導電層51に形成された開口51aを通過し、第2の導電層52を貫通するように厚み方向に沿って形成する。   The first via hole 61 is formed along the thickness direction so as to pass through the opening 52 a formed in the second conductive layer 52 and penetrate the first conductive layer 51. On the other hand, the second via hole 62 is formed along the thickness direction so as to pass through the opening 51 a formed in the first conductive layer 51 and penetrate the second conductive layer 52.

なお、第1及び第2のビアホール61,62は、例えば、レーザー光の照射等により形成することができる。   The first and second via holes 61 and 62 can be formed by, for example, laser light irradiation.

次に、第1のビアホール61に導電性粒子を含む導電性ペーストを充填することにより、第1のビアホール電極71を形成する。このため、第1のビアホール電極71は、第1の導電層51に接続されている。第1のビアホール電極71は、第2の導電層52に形成された開口52aを通過しており、第2の導電層52には接続されていない。   Next, a first via hole electrode 71 is formed by filling the first via hole 61 with a conductive paste containing conductive particles. For this reason, the first via hole electrode 71 is connected to the first conductive layer 51. The first via-hole electrode 71 passes through the opening 52 a formed in the second conductive layer 52 and is not connected to the second conductive layer 52.

第2のビアホール62に導電性粒子を含む導電性ペーストを充填することにより、第2のビアホール電極72を形成する。このため、第2のビアホール電極72は、第2の導電層52に接続されている。第2のビアホール電極72は、第1の導電層51の開口51aを通過しており、第1の導電層51には接続されていない。   By filling the second via hole 62 with a conductive paste containing conductive particles, a second via hole electrode 72 is formed. For this reason, the second via hole electrode 72 is connected to the second conductive layer 52. The second via hole electrode 72 passes through the opening 51 a of the first conductive layer 51 and is not connected to the first conductive layer 51.

次に、マザー積層体60をカットラインL1,L2に沿って切断する。これにより、マザー積層体60から、チップを複数作製する。そのチップを焼成することにより、図5〜図8に示されるチップ80を複数作製する。   Next, the mother laminated body 60 is cut along the cut lines L1 and L2. Thereby, a plurality of chips are produced from the mother laminate 60. A plurality of chips 80 shown in FIGS. 5 to 8 are manufactured by firing the chips.

図5〜図8に示されるように、チップ80は、セラミック素体10を備えている。セラミック素体10は、略直方体状である。セラミック素体10は、第1及び第2の主面10a、10bと、第1及び第2の側面10c、10dと、第1及び第2の端面10e、10fとを備えている。第1及び第2の主面10a、10bは、それぞれ、長さ方向L及び幅方向Wに沿って配されている。第1及び第2の側面10c、10dは、それぞれ、長さ方向L及び厚み方向Tに沿って配されている。第1及び第2の端面10e、10fは、それぞれ、幅方向W及び厚み方向Tに沿って配されている。なお、長さ方向、幅方向及び厚み方向Tは、それぞれ直交している。   As shown in FIGS. 5 to 8, the chip 80 includes a ceramic body 10. The ceramic body 10 has a substantially rectangular parallelepiped shape. The ceramic body 10 includes first and second main faces 10a and 10b, first and second side faces 10c and 10d, and first and second end faces 10e and 10f. The first and second main surfaces 10a and 10b are arranged along the length direction L and the width direction W, respectively. The first and second side surfaces 10c and 10d are arranged along the length direction L and the thickness direction T, respectively. The first and second end faces 10e and 10f are arranged along the width direction W and the thickness direction T, respectively. The length direction, the width direction, and the thickness direction T are orthogonal to each other.

図6〜図8に示されるように、セラミック素体10の内部には、複数の第1の内部電極11と、複数の第2の内部電極12とが設けられている。第1の内部電極11と第2の内部電極12とは、厚み方向Tにおいて交互に設けられている。図8に示されるように、厚み方向Tにおいて隣り合う第1の内部電極11と第2の内部電極12とは、セラミック部10gを介して対向している。   As shown in FIGS. 6 to 8, a plurality of first internal electrodes 11 and a plurality of second internal electrodes 12 are provided inside the ceramic body 10. The first internal electrodes 11 and the second internal electrodes 12 are provided alternately in the thickness direction T. As FIG. 8 shows, the 1st internal electrode 11 and the 2nd internal electrode 12 which adjoin in the thickness direction T have opposed through the ceramic part 10g.

複数の第1の内部電極11は、それぞれ、第1の開口11aを有する。複数の第1の内部電極11のそれぞれの第1の開口11aは、平面視において(厚み方向Tから視た際に)、実質的に同じ位置に設けられている。   Each of the plurality of first internal electrodes 11 has a first opening 11a. The first openings 11a of the plurality of first internal electrodes 11 are provided at substantially the same position in a plan view (when viewed from the thickness direction T).

複数の第2の内部電極12は、それぞれ、第2の開口12aを有する。複数の第2の内部電極12のそれぞれの第2の開口12aは、平面視において(厚み方向Tから視た際に)、実質的に同じ位置に設けられている。   Each of the plurality of second internal electrodes 12 has a second opening 12a. The second openings 12a of the plurality of second internal electrodes 12 are provided at substantially the same position in a plan view (when viewed from the thickness direction T).

図6及び図7に示されるように、第1及び第2の内部電極11,12は、それぞれ、第1及び第2の側面10c、10d並びに第1及び第2の端面10e、10fのそれぞれに露出している。   As shown in FIGS. 6 and 7, the first and second inner electrodes 11, 12 are respectively provided on the first and second side faces 10c, 10d and the first and second end faces 10e, 10f, respectively. Exposed.

図8に示されるように、セラミック素体10には、第1及び第2のビアホール15,16が設けられている。第1及び第2のビアホール15,16は、それぞれ、セラミック素体10を厚み方向Tにおいて貫通している。第1及び第2のビアホール15,16は、それぞれ、第1の主面10aと第2の主面10bとに跨がって設けられている。   As shown in FIG. 8, the ceramic body 10 is provided with first and second via holes 15 and 16. The first and second via holes 15 and 16 respectively penetrate the ceramic body 10 in the thickness direction T. The first and second via holes 15 and 16 are provided across the first main surface 10a and the second main surface 10b, respectively.

第1のビアホール15は、第1の内部電極11を貫通している。第1のビアホール15は、第2の内部電極12に設けられた第2の開口12aを通過している。このため、第1のビアホール15は、第2の開口12aを通過して第1の主面10aから第2の主面10bに至っている。第1のビアホール15内には、第1のビアホール電極17が設けられている。第1のビアホール電極17は、第1の内部電極11に接続されている。第1のビアホール電極17は、第2の内部電極12には接続されていない。   The first via hole 15 penetrates the first internal electrode 11. The first via hole 15 passes through the second opening 12 a provided in the second internal electrode 12. For this reason, the first via hole 15 passes through the second opening 12a and reaches the second main surface 10b from the first main surface 10a. A first via hole electrode 17 is provided in the first via hole 15. The first via hole electrode 17 is connected to the first internal electrode 11. The first via hole electrode 17 is not connected to the second internal electrode 12.

第2のビアホール16は、第2の内部電極12を貫通している。第2のビアホール16は、第1の内部電極11に設けられた第1の開口11aを通過している。第2のビアホール16は、第1の開口11aを通過して第1の主面10aから第2の主面10bに至っている。第2のビアホール16には、第2のビアホール電極18が設けられている。第2のビアホール電極18は、第2の内部電極12に接続されている。第2のビアホール電極18は、第1の内部電極11には接続されていない。   The second via hole 16 penetrates the second internal electrode 12. The second via hole 16 passes through the first opening 11 a provided in the first internal electrode 11. The second via hole 16 passes through the first opening 11a and extends from the first main surface 10a to the second main surface 10b. A second via hole electrode 18 is provided in the second via hole 16. The second via hole electrode 18 is connected to the second internal electrode 12. The second via hole electrode 18 is not connected to the first internal electrode 11.

次に、第1及び第2の内部電極11,12のそれぞれの第1及び第2の側面10c、10d並びに第1及び第2の端面10e、10fにおける露出部をエッチングにより除去する(エッチング工程)。図9及び図10に示されるように、エッチング後のチップ80aでは、第1及び第2の内部電極11,12は、それぞれ、第1及び第2の側面10c、10d並びに第1及び第2の端面10e、10fから後退した位置に位置している。セラミック素体10の第1及び第2の側面10c、10d並びに第1及び第2の端面10e、10fには、第1または第2の内部電極11,12に至る凹部により構成された除去部10hが形成される。   Next, the exposed portions of the first and second side surfaces 10c and 10d and the first and second end surfaces 10e and 10f of the first and second inner electrodes 11 and 12 are removed by etching (etching step). . As shown in FIGS. 9 and 10, in the chip 80a after etching, the first and second inner electrodes 11 and 12 are respectively connected to the first and second side faces 10c and 10d and the first and second side electrodes 10a and 10d. It is located at a position retracted from the end faces 10e, 10f. The first and second side surfaces 10c and 10d and the first and second end surfaces 10e and 10f of the ceramic body 10 have a removal portion 10h formed by a recess that reaches the first or second internal electrode 11 or 12. Is formed.

なお、チップ80aのエッチングは、チップ80aをエッチング液に浸漬したり、チップ80aの第1及び第2の側面10c、10d並びに第1及び第2の端面10e、10fにエッチング液を塗布することにより行うことができる。チップ80aをエッチング液に浸漬する場合は、第1及び第2の主面10a、10bのビアホール電極17,18が露出した部分を含む少なくとも一部を保護した状態でチップ80aをエッチング液に浸漬することが好ましい。また、エッチング液を攪拌しながらチップ80aをエッチング液に浸漬することが好ましい。   The chip 80a is etched by immersing the chip 80a in an etching solution or by applying an etching solution to the first and second side faces 10c and 10d and the first and second end faces 10e and 10f of the chip 80a. It can be carried out. When the chip 80a is immersed in the etching solution, the chip 80a is immersed in the etching solution with at least a part of the first and second main surfaces 10a and 10b including the exposed portions of the via-hole electrodes 17 and 18 protected. It is preferable. Further, it is preferable to immerse the chip 80a in the etching solution while stirring the etching solution.

本実施形態では、チップ80aのエッチング工程をチップ80の焼成後に行う例について説明する。但し、本発明は、これに限定されない。例えば、チップのエッチング工程を行った後にチップを焼成してもよい。   In the present embodiment, an example in which the etching process of the chip 80a is performed after the chip 80 is baked will be described. However, the present invention is not limited to this. For example, the chip may be fired after the chip etching process.

次に、図11及び図12に示されるように、除去部10hに、樹脂やセラミックス等からなる絶縁体を充填することにより、除去部10hに絶縁材19を設ける(充填工程)。   Next, as shown in FIGS. 11 and 12, an insulating material 19 is provided in the removal portion 10h by filling the removal portion 10h with an insulator made of resin, ceramics, or the like (filling step).

本実施形態では、絶縁材19が除去部10hにのみ設けられている。すなわち、絶縁材19は、内部電極11,12と側面10c、10d又は端面10e、10fとの間にのみ設けられている。但し、本発明は、この構成に限定されない。絶縁材19は、除去部10hに設けられていると共に、側面10c、10d及び端面10e、10fの少なくとも一部を覆っていてもよい。絶縁材19は、例えば、側面10c、10d及び端面10e、10fの実質的に全体を覆うように設けられていてもよい。   In this embodiment, the insulating material 19 is provided only in the removal part 10h. That is, the insulating material 19 is provided only between the internal electrodes 11 and 12 and the side surfaces 10c and 10d or the end surfaces 10e and 10f. However, the present invention is not limited to this configuration. The insulating material 19 may be provided in the removal portion 10h and may cover at least a part of the side surfaces 10c and 10d and the end surfaces 10e and 10f. The insulating material 19 may be provided so as to cover substantially the entire side surfaces 10c and 10d and end surfaces 10e and 10f, for example.

次に、図13に示されるように、セラミック素体10の上に、第1及び第2の外部電極13,14を形成することにより、積層セラミックコンデンサ1を完成させる。第1の外部電極13は、第1のビアホール電極17に接続されるように、少なくとも第1及び第2の主面10a、10bにおける第1のビアホール電極17の露出部を覆うように形成する。本実施形態では、具体的には、第1の外部電極13は、第1の端面10eから、第1及び第2の主面10a、10b並びに第1及び第2の側面10c、10dに至るように形成する。   Next, as shown in FIG. 13, the first and second external electrodes 13 and 14 are formed on the ceramic body 10 to complete the multilayer ceramic capacitor 1. The first external electrode 13 is formed so as to cover at least the exposed portion of the first via-hole electrode 17 on the first and second main surfaces 10 a and 10 b so as to be connected to the first via-hole electrode 17. In the present embodiment, specifically, the first external electrode 13 extends from the first end face 10e to the first and second main faces 10a and 10b and the first and second side faces 10c and 10d. To form.

第2の外部電極14は、第2のビアホール電極18に接続されるように、少なくとも第1及び第2の主面10a、10bにおける第2のビアホール電極18の露出部を覆うように形成する。本実施形態では、具体的には、第2の外部電極14は、第2の端面10fから、第1及び第2の主面10a、10b並びに第1及び第2の側面10c、10dに至るように形成する。   The second external electrode 14 is formed so as to cover at least the exposed portion of the second via-hole electrode 18 on the first and second main surfaces 10 a and 10 b so as to be connected to the second via-hole electrode 18. Specifically, in the present embodiment, the second external electrode 14 extends from the second end face 10f to the first and second main faces 10a and 10b and the first and second side faces 10c and 10d. To form.

第1及び第2の外部電極13,14は、それぞれ、例えば、導電性ペーストの塗布や、メッキ等により形成することができる。例えば、導電性ペースト層を形成し、焼き付けることにより焼成電極層を形成し、その上に1または複数のめっき層を形成することにより、第1及び第2の外部電極13,14を形成してもよい。   The first and second external electrodes 13 and 14 can be formed by, for example, applying a conductive paste or plating. For example, a conductive electrode layer is formed and baked to form a fired electrode layer, and one or a plurality of plating layers are formed thereon to form the first and second external electrodes 13 and 14. Also good.

なお、本実施形態のように、第1及び第2のビアホール電極17,18が、第1及び第2の主面10a、10bの少なくとも一方に露出している場合は、第1及び第2の外部電極13,14のそれぞれを、第1及び第2の主面10a、10bの少なくとも第1または第2のビアホール電極17,18の露出部の上に形成すればよい。例えば、図14に示されるように、第1及び第2の外部電極13,14のそれぞれを、第1及び第2の主面10a、10bの上にのみ形成してもよい。また、例えば、図15に示されるように、第1及び第2の外部電極13,14を、それぞれ、第1または第2の主面10a、10bから第1または第2の端面10e、10fに至るように設けてもよい。   If the first and second via-hole electrodes 17 and 18 are exposed on at least one of the first and second main surfaces 10a and 10b as in the present embodiment, the first and second Each of the external electrodes 13 and 14 may be formed on at least the exposed portions of the first or second via-hole electrodes 17 and 18 on the first and second main surfaces 10a and 10b. For example, as shown in FIG. 14, each of the first and second external electrodes 13 and 14 may be formed only on the first and second main surfaces 10a and 10b. Further, for example, as shown in FIG. 15, the first and second external electrodes 13 and 14 are moved from the first or second main surface 10a or 10b to the first or second end surface 10e or 10f, respectively. You may provide so that it may reach.

本実施形態において、セラミック素体10の長さ方向Lに沿った寸法は、例えば、0.4mm〜1.0mm程度とすることができる。セラミック素体10の幅方向Wに沿った寸法は、例えば、0.2mm〜0.3mm程度とすることができる。セラミック素体10の厚み方向Tに沿った寸法は、例えば、0.2mm〜0.5mm程度とすることができる。セラミック部10gの厚み方向Tに沿った寸法は、例えば、0.2mm〜0.5mm程度とすることができる。第1及び第2の内部電極11,12の厚みは、例えば、0.2mm〜1.0mm程度とすることができる。第1及び第2の内部電極11,12の枚数は、例えば、50枚〜1000枚程度とすることができる。ビアホール15,16の直径は、例えば、100μm〜150μm程度とすることができる。ビアホール電極17,18の直径は、例えば、30μm〜80μm程度とすることができる。ビアホール電極17,18から開口11aと開口12aが10μm以上離間していれば、ビアホール電極17,18と内部電極11と内部電極12とで絶縁抵抗が保てるが、静電容量を大きくするためには、30μm〜50μmとすることが好ましい。   In the present embodiment, the dimension along the length direction L of the ceramic body 10 can be, for example, about 0.4 mm to 1.0 mm. The dimension along the width direction W of the ceramic body 10 can be, for example, about 0.2 mm to 0.3 mm. The dimension along the thickness direction T of the ceramic body 10 can be, for example, about 0.2 mm to 0.5 mm. The dimension along the thickness direction T of the ceramic part 10g can be, for example, about 0.2 mm to 0.5 mm. The thickness of the 1st and 2nd internal electrodes 11 and 12 can be about 0.2 mm-1.0 mm, for example. The number of first and second internal electrodes 11 and 12 can be, for example, about 50 to 1000. The diameters of the via holes 15 and 16 can be, for example, about 100 μm to 150 μm. The diameter of the via-hole electrodes 17 and 18 can be set to, for example, about 30 μm to 80 μm. If the opening 11a and the opening 12a are separated from the via hole electrodes 17 and 18 by 10 μm or more, the insulation resistance can be maintained between the via hole electrodes 17 and 18, the internal electrode 11 and the internal electrode 12, but in order to increase the capacitance 30 μm to 50 μm is preferable.

以上説明したように、本実施形態では、第1及び第2の内部電極11,12を第1及び第2の側面10c、10d並びに第1及び第2の端面10e、10fに露出するように形成する。その後、第1及び第2の内部電極11,12の露出部をエッチングすることにより、第1及び第2の内部電極11,12を第1及び第2の側面10c、10d並びに第1及び第2の端面10e、10fから後退させる。このため、第1の内部電極11と第2の端面10fとの間の距離と、第2の内部電極12と第1の端面10eとの間の距離とを、短くすることができる。例えば、セラミックグリーンシートへの導電性ペースト層の印刷精度や、セラミックグリーンシートの積層時における位置精度等を考慮して、第1の内部電極と第2の端面との間の距離、及び第2の内部電極と第1の端面との間の距離を長くする必要が必ずしもない。このため、第1の内部電極11と第2の内部電極12とがセラミック部10gを介して対向する領域の面積を大きくすることができる。従って、小型でありつつ大容量の積層セラミックコンデンサ1を実現し得る。   As described above, in the present embodiment, the first and second inner electrodes 11 and 12 are formed so as to be exposed to the first and second side faces 10c and 10d and the first and second end faces 10e and 10f. To do. Thereafter, the exposed portions of the first and second internal electrodes 11 and 12 are etched to remove the first and second internal electrodes 11 and 12 from the first and second side surfaces 10c and 10d and the first and second sides. It is made to recede from the end faces 10e, 10f. For this reason, the distance between the 1st internal electrode 11 and the 2nd end surface 10f and the distance between the 2nd internal electrode 12 and the 1st end surface 10e can be shortened. For example, considering the printing accuracy of the conductive paste layer on the ceramic green sheet and the positional accuracy when the ceramic green sheet is laminated, the distance between the first internal electrode and the second end surface, and the second It is not always necessary to increase the distance between the internal electrode and the first end face. For this reason, the area of the area | region where the 1st internal electrode 11 and the 2nd internal electrode 12 oppose through the ceramic part 10g can be enlarged. Therefore, it is possible to realize a monolithic ceramic capacitor 1 having a small capacity and a large capacity.

また、第1及び第2の内部電極11,12の除去部10hに絶縁材19を設ける。この絶縁材19を設けることにより、内部電極11,12とセラミック素体10との間の隙間に水分が侵入することを効果的に抑制することができる。内部電極11,12とセラミック素体10との間の隙間に水分が侵入することをより効果的に抑制する観点からは、絶縁材19を、除去部10hに設けられていると共に、側面10c、10d及び端面10e、10fの少なくとも一部を覆うように設けることが好ましい。   Further, an insulating material 19 is provided in the removal portion 10 h of the first and second internal electrodes 11 and 12. By providing this insulating material 19, it is possible to effectively suppress moisture from entering the gap between the internal electrodes 11, 12 and the ceramic body 10. From the viewpoint of more effectively suppressing moisture from entering the gap between the internal electrodes 11 and 12 and the ceramic body 10, the insulating material 19 is provided in the removal portion 10h, and the side surface 10c, 10d and end surfaces 10e and 10f are preferably provided so as to cover at least a part thereof.

(その他の変形例)
図16は、第3の変形例における積層セラミックコンデンサの模式的斜視図である。図17は、第4の変形例における積層セラミックコンデンサの模式的斜視図である。
(Other variations)
FIG. 16 is a schematic perspective view of a multilayer ceramic capacitor according to a third modification. FIG. 17 is a schematic perspective view of the multilayer ceramic capacitor in the fourth modification.

図16に示されるように、ビアホール15,16及びビアホール電極17,18を第1または第2の端面10e、10fに露出するように設けてもよい。また、図17に示されるように、ビアホール15及びビアホール電極17を、第1の端面10eと、第1または第2の側面10c、10dとに露出するように設け、ビアホール16及びビアホール電極18を、第2の端面10fと、第1または第2の側面10c、10dとに露出するように設けてもよい。   As shown in FIG. 16, the via holes 15 and 16 and the via hole electrodes 17 and 18 may be provided so as to be exposed at the first or second end face 10 e or 10 f. Further, as shown in FIG. 17, the via hole 15 and the via hole electrode 17 are provided so as to be exposed on the first end face 10e and the first or second side face 10c, 10d, and the via hole 16 and the via hole electrode 18 are provided. The second end face 10f and the first or second side face 10c, 10d may be exposed.

1:積層セラミックコンデンサ
10:セラミック素体
10a:第1の主面
10b:第2の主面
10c:第1の側面
10d:第2の側面
10e:第1の端面
10f:第2の端面
10g:セラミック部
10h:除去部
11:第1の内部電極
11a:第1の開口
12:第2の内部電極
12a:第2の開口
13:第1の外部電極
14:第2の外部電極
15:第1のビアホール
16:第2のビアホール
17:第1のビアホール電極
18:第2のビアホール電極
19:絶縁材
50:セラミックグリーンシート
50a:第1のセラミックグリーンシート
50b:第2のセラミックグリーンシート
51:第1の導電層
52:第2の導電層
51a:開口
52:第2の導電層
52a:開口
60:マザー積層体
61:第1のビアホール
62:第2のビアホール
71:第1のビアホール電極
72:第2のビアホール電極
80:チップ
80a:エッチング後のチップ
L1,L2:カットライン
1: multilayer ceramic capacitor 10: ceramic body 10a: first main surface 10b: second main surface 10c: first side surface 10d: second side surface 10e: first end surface 10f: second end surface 10g: Ceramic part 10h: removal part 11: first internal electrode 11a: first opening 12: second internal electrode 12a: second opening 13: first external electrode 14: second external electrode 15: first Via hole 16: second via hole 17: first via hole electrode 18: second via hole electrode 19: insulating material 50: ceramic green sheet 50a: first ceramic green sheet 50b: second ceramic green sheet 51: first 1 conductive layer 52: second conductive layer 51a: opening 52: second conductive layer 52a: opening 60: mother laminated body 61: first via hole 62: second via hole 71: 1 of the via hole electrode 72: second via hole electrode 80: tip 80a: Chip L1 after etching, L2: cut line

Claims (8)

長さ方向及び幅方向に沿って延びる第1及び第2の主面と、長さ方向及び厚み方向に沿って延びる第1及び第2の側面と、幅方向及び厚み方向に沿って延びる第1及び第2の端面とを有するセラミック素体と、前記セラミック素体内に設けられており、厚み方向においてセラミック部を介して対向している第1及び第2の内部電極と、前記第1の内部電極に接続されており、前記セラミック素体の表面に至る第1のビアホール電極と、前記第2の内部電極に接続されており、前記セラミック素体の表面に至る第2のビアホール電極とを有し、前記第1及び第2の内部電極のそれぞれが第1及び第2の側面並びに第1及び第2の端面のそれぞれに露出しているチップを作製する工程と、
前記第1及び第2の内部電極の前記第1及び第2の側面並びに前記第1及び第2の端面における露出部をエッチングにより除去するエッチング工程と、
前記第1及び第2の内部電極の除去部に絶縁体を充填する充填工程と、
を備える、積層セラミックコンデンサの製造方法。
First and second main surfaces extending along the length direction and the width direction, first and second side surfaces extending along the length direction and the thickness direction, and first extending along the width direction and the thickness direction And a first ceramic body having a second end face, first and second internal electrodes that are provided in the ceramic body and are opposed to each other through a ceramic portion in a thickness direction, and the first internal body A first via-hole electrode connected to the electrode and reaching the surface of the ceramic body; and a second via-hole electrode connected to the second internal electrode and reaching the surface of the ceramic body. And producing a chip in which each of the first and second internal electrodes is exposed on each of the first and second side surfaces and the first and second end surfaces;
An etching step of removing the exposed portions of the first and second side surfaces and the first and second end surfaces of the first and second internal electrodes by etching;
A filling step of filling the removed portions of the first and second internal electrodes with an insulator;
A method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor.
前記エッチング工程において、前記チップをエッチング液に浸漬することにより前記第1及び第2の内部電極の露出部をエッチングする、請求項1に記載の積層セラミックコンデンサの製造方法。   2. The method of manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to claim 1, wherein in the etching step, the exposed portions of the first and second internal electrodes are etched by immersing the chip in an etching solution. 前記第1の内部電極は、第1の開口を有し、
前記第2の内部電極は、第2の開口を有し、
前記第2の開口内を通過して前記第1の主面から前記第2の主面に至る第1のビアホールと、前記第1の開口内を通過して前記第1の主面から前記第2の主面に至る第2のビアホールとを前記セラミック素体に形成する工程と、
前記第1のビアホールに前記第1のビアホール電極を形成する工程と、
前記第2のビアホールに前記第2のビアホール電極を形成する工程と、
をさらに備える、請求項1又は2に記載の積層セラミックコンデンサの製造方法。
The first internal electrode has a first opening;
The second internal electrode has a second opening;
A first via hole passing through the second opening and extending from the first main surface to the second main surface; and passing through the first opening and passing through the first main surface from the first main surface. Forming a second via hole reaching the main surface of the ceramic body,
Forming the first via hole electrode in the first via hole;
Forming the second via hole electrode in the second via hole;
The method for producing a multilayer ceramic capacitor according to claim 1, further comprising:
前記充填工程の後に、前記セラミック素体の上に、前記第1のビアホール電極に接続された第1の外部電極と、前記第2のビアホール電極に接続された第2の外部電極とを形成する工程をさらに備える、請求項1〜3のいずれか一項に記載の積層セラミックコンデンサの製造方法。   After the filling step, a first external electrode connected to the first via hole electrode and a second external electrode connected to the second via hole electrode are formed on the ceramic body. The manufacturing method of the multilayer ceramic capacitor as described in any one of Claims 1-3 further provided with a process. 前記第1及び第2の外部電極を、それぞれ、前記第1及び第2の主面の少なくとも一方の上に形成する、請求項4に記載の積層セラミックコンデンサの製造方法。   The method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to claim 4, wherein the first and second external electrodes are formed on at least one of the first and second main surfaces, respectively. 前記充填工程において、前記第1及び第2の内部電極の除去部に樹脂又はセラミックスを充填する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の積層セラミックコンデンサの製造方法。   The method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to claim 1, wherein in the filling step, a resin or a ceramic is filled in a removal portion of the first and second internal electrodes. 長さ方向及び幅方向に沿って延びる第1及び第2の主面と、長さ方向及び厚み方向に沿って延びる第1及び第2の側面と、幅方向及び厚み方向に沿って延びる第1及び第2の端面とを有するセラミック素体と、
前記セラミック素体内において前記第1及び第2の側面並びに前記第1及び第2の端面から後退して設けられており、厚み方向においてセラミック部を介して対向している第1及び第2の内部電極と、
前記第1の内部電極に接続されており、前記セラミック素体の表面に至る第1のビアホール電極と、
前記第2の内部電極に接続されており、前記セラミック素体の表面に至る第2のビアホール電極と、
前記第1及び第2の内部電極と前記第1及び第2の側面並びに前記第1及び第2の端面との間に充填された絶縁材と、
を備える、積層セラミックコンデンサ。
First and second main surfaces extending along the length direction and the width direction, first and second side surfaces extending along the length direction and the thickness direction, and first extending along the width direction and the thickness direction And a ceramic body having a second end face;
First and second interiors that are provided in the ceramic body so as to recede from the first and second side surfaces and the first and second end surfaces, and are opposed to each other with a ceramic portion in the thickness direction. Electrodes,
A first via hole electrode connected to the first internal electrode and reaching the surface of the ceramic body;
A second via hole electrode connected to the second internal electrode and reaching the surface of the ceramic body;
An insulating material filled between the first and second internal electrodes, the first and second side surfaces, and the first and second end surfaces;
A multilayer ceramic capacitor comprising:
前記絶縁材が樹脂又はセラミックスにより構成されている、請求項7に記載の積層セラミックコンデンサ。   The multilayer ceramic capacitor according to claim 7, wherein the insulating material is made of resin or ceramics.
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