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JP2015216110A - Contact connection structure - Google Patents

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JP2015216110A
JP2015216110A JP2015083258A JP2015083258A JP2015216110A JP 2015216110 A JP2015216110 A JP 2015216110A JP 2015083258 A JP2015083258 A JP 2015083258A JP 2015083258 A JP2015083258 A JP 2015083258A JP 2015216110 A JP2015216110 A JP 2015216110A
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Japan
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contact
oxide film
connection structure
terminal
protrusion
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JP2015083258A
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Japanese (ja)
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準弥 篠原
Junya Shinohara
準弥 篠原
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Yazaki Corp
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Yazaki Corp
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Abstract

【課題】端子を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる接点接続構造を提供する。
【解決手段】インデント部4が突設された弾性撓み部3と、タブ部11とを有し、弾性撓み部3のインデント部4がタブ部11の接触面上を摺動し、端子挿入完了位置では、インデント部4がタブ部11に接触する接点接続構造であって、弾性撓み部3の接触面側には、タブ部11がインデント部4よりも先に摺動する位置に、酸化膜除去部5が設けられた。
【選択図】図1
Provided is a contact connection structure capable of reducing contact resistance without increasing the size of a terminal or making it as complex as possible.
An indented portion (4) is provided with an elastic bent portion (3) projecting and a tab portion (11), and the indented portion (4) of the elastic bent portion (3) slides on the contact surface of the tab portion (11) to complete terminal insertion. In the position, the indented portion 4 has a contact connection structure in which the tab portion 11 comes into contact with the contact portion side of the elastic deflecting portion 3, and the tab portion 11 slides before the indented portion 4 in the oxide film. A removal unit 5 was provided.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、端子の電気的接続を行う接点接続構造に関する。   The present invention relates to a contact connection structure for electrical connection of terminals.

図9〜11には、従来のメス端子とオス端子が示されている(類似技術として特許文献1参照)。   9 to 11 show a conventional female terminal and a male terminal (see Patent Document 1 as a similar technique).

図9〜11に示すように、メス端子51は、四角形状の箱部52と、この箱部52に一体に設けられ、箱部52内に配置された弾性撓み部53とを有する。   As shown in FIGS. 9 to 11, the female terminal 51 includes a rectangular box portion 52 and an elastic deflecting portion 53 provided integrally with the box portion 52 and disposed in the box portion 52.

弾性撓み部53には、底面側に向かって突出するインデント部54が設けられている。   The elastic bending portion 53 is provided with an indent portion 54 that protrudes toward the bottom surface side.

インデント部54は、その外周面がほぼ球面形状であり、中心の頂点が最下方に位置している。   The indented portion 54 has a substantially spherical outer peripheral surface, and the center vertex is located at the lowest position.

また、メス端子51には、高温環境下での接続信頼性の向上、腐金環境下での耐食性の向上等の観点から錫メッキが施されている。   The female terminal 51 is tin-plated from the viewpoints of improving connection reliability in a high temperature environment and improving corrosion resistance in a corrosive environment.

オス端子60は、平板状のタブ部61を有する。オス端子60には、高温環境下での接続信頼性の向上、腐金環境下での耐食性の向上等の観点から錫メッキが施されている。   The male terminal 60 has a flat tab portion 61. The male terminal 60 is tin-plated from the viewpoint of improving connection reliability in a high temperature environment and improving corrosion resistance in a corrosive environment.

図9に示すように、オス端子60のタブ部61をメス端子51の箱部52に挿入すると、弾性撓み部53が撓み変形してタブ部61の挿入が許容される。   As shown in FIG. 9, when the tab portion 61 of the male terminal 60 is inserted into the box portion 52 of the female terminal 51, the elastic bending portion 53 is deformed and the insertion of the tab portion 61 is allowed.

タブ部61の挿入過程では、タブ部61が弾性撓み部53のインデント部54上を摺動し、端子挿入完了位置では、図10、図11に示すように、弾性撓み部53のインデント部54とタブ部61の面が接触する。   In the insertion process of the tab part 61, the tab part 61 slides on the indent part 54 of the elastic bending part 53, and in the terminal insertion completion position, as shown in FIGS. 10 and 11, the indent part 54 of the elastic bending part 53 is shown. And the surface of the tab part 61 contact.

この従来例では、弾性撓み部53の撓み復帰力を接触荷重として、メス端子51のインデント部54とオス端子60のタブ部61の接触面とが電気的に接触する。そして、この接触面を電流が流れることによってメス端子51とオス端子60間が通電する。   In this conventional example, the indented portion 54 of the female terminal 51 and the contact surface of the tab portion 61 of the male terminal 60 are in electrical contact with each other using the bending return force of the elastic bending portion 53 as a contact load. A current flows through the contact surface to energize the female terminal 51 and the male terminal 60.

ところで、箱部52とタブ部61等の外面には、全域に亘って錫メッキ処理されている。錫メッキし、その後にリフロー処理を行うと、次のような構造となる。   By the way, the outer surfaces of the box portion 52 and the tab portion 61 are tin-plated over the entire area. When tin plating is performed and then reflow treatment is performed, the following structure is obtained.

図12に示すように、銅合金材の母材層52a,61aの外面側に銅/錫合金層52b,61b、錫メッキ層52c,61cが形成されると共に錫メッキ層52c,61cの外面に酸化膜52d,61dが形成される。   As shown in FIG. 12, copper / tin alloy layers 52b and 61b and tin plating layers 52c and 61c are formed on the outer surfaces of the copper alloy base material layers 52a and 61a, and on the outer surfaces of the tin plating layers 52c and 61c. Oxide films 52d and 61d are formed.

酸化膜52d,61dは、錫や銅に較べて電気比抵抗が非常に高い。そのため、接触抵抗の低減を図るために、酸化膜52d,61dを破壊して錫メッキ層52c,62c同士の接触面(オーミック点)を多く作る必要がある。   The oxide films 52d and 61d have a very high electrical resistivity as compared with tin and copper. Therefore, in order to reduce the contact resistance, it is necessary to destroy the oxide films 52d and 61d and to make many contact surfaces (ohmic points) between the tin plating layers 52c and 62c.

特開2007−280825号公報JP 2007-280825 A

しかしながら、前記従来例の構造では、酸化膜52d,61dの破壊を促進させるためには、接点部間の接点圧力を大きくすることが考えられるが、端子51,60が大型化したり、複雑化したりするという問題があった。   However, in the structure of the conventional example, in order to promote the destruction of the oxide films 52d and 61d, it is conceivable to increase the contact pressure between the contact portions. However, the terminals 51 and 60 are enlarged or complicated. There was a problem to do.

そこで、本発明は、前記した課題を解決すべくなされたものであり、端子を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる接点接続構造を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a contact connection structure capable of reducing contact resistance without increasing the size of a terminal or making it as complex as possible.

上記の課題を解決するために、請求項1記載の発明では、インデント部が突設された第1接点部と、第2接点部とを有し、前記第1接点部の前記インデント部が前記第2接点部の接触面上を摺動し、端子挿入完了位置では、前記インデント部が前記第2接点部に接触する接点接続構造であって、前記第1接点部の接触面側には、前記第2接点部が前記インデント部よりも先に摺動する位置に、酸化膜除去部が設けられたことを特徴とする。   In order to solve the above-mentioned problem, in the invention according to claim 1, the first contact portion having an indent portion projecting therefrom and a second contact portion are provided, and the indent portion of the first contact portion is the It slides on the contact surface of the second contact part, and at the terminal insertion completion position, the indent part is a contact connection structure in contact with the second contact part, and on the contact surface side of the first contact part, An oxide film removing portion is provided at a position where the second contact portion slides before the indent portion.

請求項2記載の発明では、請求項1記載の接点接続構造であって、前記酸化膜除去部は、突部であることを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the contact connection structure according to the first aspect, the oxide film removing portion is a protrusion.

請求項3記載の発明では、請求項1又は2記載の接点接続構造であって、前記インデント部は、端子挿入方向の直交方向に延びる頂部を有し、前記酸化膜除去部は、端子挿入方向の直交方向に間隔を置いて複数設けられた部分を有することを特徴とする。   The invention according to claim 3 is the contact connection structure according to claim 1 or 2, wherein the indent portion has a top portion extending in a direction orthogonal to the terminal insertion direction, and the oxide film removal portion is in the terminal insertion direction. And a plurality of portions provided at intervals in the orthogonal direction.

請求項4記載の発明は、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の接点接続構造であって、 前記酸化膜除去部は、端子挿入方向の直交方向の前記第1接点部の両端部にわたって連続して設けられた部分を有することを特徴とする。   Invention of Claim 4 is the contact connection structure of any one of Claim 1 thru | or 3, Comprising: The said oxide film removal part is the both ends of the said 1st contact part of the orthogonal direction of a terminal insertion direction It has the part provided continuously over, It is characterized by the above-mentioned.

請求項5記載の発明は、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の接点接続構造であって、前記酸化膜除去部は、前記第1接点部の接触面と反対側に凹まされた凹部の角部を有することを特徴とする。   A fifth aspect of the present invention is the contact connection structure according to any one of the first to fourth aspects, wherein the oxide film removing portion is recessed on the side opposite to the contact surface of the first contact portion. It has the corner | angular part of a recessed part, It is characterized by the above-mentioned.

請求項6記載の発明は、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の接点接続構造であって、前記酸化膜除去部は、前記第1接点部の接触面側に向けて折り曲げられた折曲部の端部を有することを特徴とする。   A sixth aspect of the present invention is the contact connection structure according to any one of the first to fifth aspects, wherein the oxide film removal portion is bent toward the contact surface side of the first contact portion. It has an end portion of a bent portion.

請求項1記載の発明によれば、端子摺動過程で、第1接点部の接触面側の酸化膜除去部が第2接点部の接触面側に生成された酸化膜を除去するため、酸化膜の破壊が促進され、メッキ面との接触が得られる。また、接触面が酸化膜の削除によって分断され、複数の接触面ができる。以上より、端子を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる。   According to the first aspect of the present invention, in the terminal sliding process, the oxide film removing portion on the contact surface side of the first contact portion removes the oxide film generated on the contact surface side of the second contact portion. Breakage of the film is promoted and contact with the plated surface is obtained. Further, the contact surface is divided by the removal of the oxide film, and a plurality of contact surfaces are formed. As described above, the contact resistance can be reduced without increasing the size of the terminal or making it as complex as possible.

請求項2記載の発明によれば、端子摺動過程で、第1接点部の接触面側の酸化膜除去部としての突部が第2接点部の接触面側に生成された酸化膜を削るため、酸化膜の破壊が促進され、メッキ面との接触が得られる。また、接触面が酸化膜の削除によって分断され、複数の接触面ができる。以上より、端子を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる。   According to the second aspect of the present invention, in the terminal sliding process, the protrusion as the oxide film removing portion on the contact surface side of the first contact portion scrapes the oxide film generated on the contact surface side of the second contact portion. Therefore, the destruction of the oxide film is promoted and contact with the plated surface is obtained. Further, the contact surface is divided by the removal of the oxide film, and a plurality of contact surfaces are formed. As described above, the contact resistance can be reduced without increasing the size of the terminal or making it as complex as possible.

請求項3記載の発明によれば、請求項1又は2と同様の効果を得ることができる。   According to the invention of claim 3, the same effect as that of claim 1 or 2 can be obtained.

請求項4記載の発明によれば、酸化膜除去部の第1接点部の両端部にわたって連続して設けられた部分により、第1接点部の接触面の全域で第2接点部に生成された酸化膜を除去することができ、インデント部と第2接点部との接触抵抗をさらに低減できる。   According to invention of Claim 4, it was produced | generated by the 2nd contact part in the whole contact surface of the 1st contact part by the part provided continuously over the both ends of the 1st contact part of an oxide film removal part. The oxide film can be removed, and the contact resistance between the indent portion and the second contact portion can be further reduced.

請求項5記載の発明によれば、第1接点部の接触面と反対側に凹まされた凹部の角部を酸化膜除去部とするので、容易に酸化膜除去部を設けることができ、複雑化を抑制することができる。   According to the fifth aspect of the present invention, since the corner portion of the concave portion recessed on the opposite side to the contact surface of the first contact portion is used as the oxide film removing portion, the oxide film removing portion can be easily provided and complicated. Can be suppressed.

請求項6記載の発明によれば、第1接点部の接触面側に折り曲げられた折曲部の端部を酸化膜除去部とするので、容易に酸化膜除去部を設けることができ、複雑化を抑制することができる。   According to the sixth aspect of the present invention, since the end of the bent portion that is bent toward the contact surface of the first contact portion is used as the oxide film removing portion, the oxide film removing portion can be easily provided and complicated. Can be suppressed.

本発明の第1実施形態を示し、端子接続前のメス端子とオス端子の断面図である。It is sectional drawing of the female terminal and male terminal which show 1st Embodiment of this invention and does not connect a terminal. 本発明の第1実施形態を示し、端子接続状態のメス端子とオス端子の断面図である。It is sectional drawing of the female terminal and male terminal of a terminal connection state which show 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態を示し、弾性撓み部の斜視図である。It is a perspective view of an elastic bending part which shows 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態を示し、(a)は端子接続前の弾性撓み部とタブ部の側面図、(b)は端子摺動過程における弾性撓み部とタブ部の側面図、(c)は端子接続状態の弾性撓み部とタブ部の側面図である。1A and 1B show a first embodiment of the present invention, in which FIG. 1A is a side view of an elastic deflection portion and a tab portion before terminal connection, FIG. 2B is a side view of an elastic deflection portion and a tab portion in a terminal sliding process, and FIG. FIG. 4 is a side view of an elastic bending portion and a tab portion in a terminal connection state. 本発明の第1実施形態を示し、(a)はタブ部の要部平面図、(b)は(a)のA−A線に沿う断面図である。The 1st Embodiment of this invention is shown, (a) is a principal part top view of a tab part, (b) is sectional drawing which follows the AA line of (a). 本発明の第2実施形態を示し、(a)は弾性撓み部の平面図、(b)は(a)のB−B線に沿う断面図、(c)は弾性撓み部の斜視図である。The 2nd Embodiment of this invention is shown, (a) is a top view of an elastic bending part, (b) is sectional drawing in alignment with the BB line of (a), (c) is a perspective view of an elastic bending part. . 本発明の第3実施形態を示し、(a)は弾性撓み部の斜視図、(b)は酸化膜除去部の断面図である。3A and 3B show a third embodiment of the present invention, in which FIG. 5A is a perspective view of an elastic deflection portion, and FIG. 5B is a cross-sectional view of an oxide film removal portion. 本発明の第4実施形態を示し、(a)はメス端子の断面図、(b)は酸化膜除去部の断面図である。4A and 4B show a fourth embodiment of the present invention, in which FIG. 4A is a cross-sectional view of a female terminal, and FIG. 4B is a cross-sectional view of an oxide film removing unit. 従来例を示し、端子接続前のメス端子とオス端子の断面図である。It is a sectional view of a female terminal and a male terminal before showing a conventional example and connecting a terminal. 従来例を示し、端子接続状態のメス端子とオス端子の断面図である。It is a sectional view of a female terminal and a male terminal in a terminal connected state, showing a conventional example. 従来例を示し、接点部の要部側面図である。It is a principal part side view of a contact part which shows a prior art example. 従来例を示し、箱部やタブ部のメッキ層の構成図である。It is a block diagram which shows a prior art example and is a plating layer of a box part or a tab part.

以下、本発明の実施形態について、図1〜図8を用いて詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS.

〔第1実施形態〕
図1〜図5を用いて本実施形態の接点接続構造について説明する。
[First Embodiment]
The contact connection structure of this embodiment is demonstrated using FIGS.

図1及び図2に示すように、メス端子1は、メス側コネクタハウジング(図示せず)内の端子収容室に配置されている。   As shown in FIG.1 and FIG.2, the female terminal 1 is arrange | positioned in the terminal accommodating chamber in the female side connector housing (not shown).

メス端子1は、所定形状に打ち抜かれた導電性金属(例えば銅合金)を折り曲げ加工して形成されており、第1接点部である箱部2を有する。   The female terminal 1 is formed by bending a conductive metal (for example, copper alloy) punched into a predetermined shape, and has a box portion 2 that is a first contact portion.

箱部2は、前方が開口された方形状である。箱部2内には、箱部2の上面部より折り曲げられた弾性撓み部3が配置されている。   The box part 2 has a rectangular shape with an opening at the front. In the box part 2, an elastic bending part 3 bent from the upper surface part of the box part 2 is arranged.

弾性撓み部3には、底面側に向かって突出するインデント部4が設けられている。   The elastic bending portion 3 is provided with an indent portion 4 protruding toward the bottom surface side.

インデント部4は、端子挿入方向の直交方向に延びる頂部4aを有し、半円筒形状に形成されている。インデント部4は、弾性撓み部3の撓み変形によって上方に変移できる。   The indent portion 4 has a top portion 4a extending in a direction orthogonal to the terminal insertion direction, and is formed in a semi-cylindrical shape. The indent portion 4 can be shifted upward by the bending deformation of the elastic bending portion 3.

弾性撓み部3と固定面部である箱部2の底面部2aは、間隔を置いて配置されている。弾性撓み部3と箱部2の底面部2aの間に、オス端子10が挿入される。   The elastic deflecting portion 3 and the bottom surface portion 2a of the box portion 2 which is a fixed surface portion are arranged with an interval therebetween. A male terminal 10 is inserted between the elastic bending portion 3 and the bottom surface portion 2 a of the box portion 2.

弾性撓み部3の接触面側には、後述するタブ部11がインデント部4よりも先に摺動する位置に、四角錐状の突部5が設けられている。突部5は、端子挿入方向の直交方向に間隔を置いて複数、例えば3つ設けられている。   On the contact surface side of the elastic bending portion 3, a quadrangular pyramid-shaped protrusion 5 is provided at a position where a tab portion 11 described later slides before the indent portion 4. A plurality of, for example, three protrusions 5 are provided at intervals in a direction orthogonal to the terminal insertion direction.

この突部5は、タブ部11がインデント部4と摺動する前に、タブ部11と摺動し、後述するタブ部11の接触面に生成された酸化膜13を除去する酸化膜除去部となっている。以下では、酸化膜除去部を突部5として説明する。   The protrusion 5 slides with the tab portion 11 before the tab portion 11 slides with the indent portion 4, and removes the oxide film 13 generated on the contact surface of the tab portion 11 described later. It has become. Hereinafter, the oxide film removing portion will be described as the protrusion 5.

また、メス端子1の外面には、導電性金属のメッキ層6が形成されている。メッキ層6の外面には酸化膜7が形成される。   A conductive metal plating layer 6 is formed on the outer surface of the female terminal 1. An oxide film 7 is formed on the outer surface of the plating layer 6.

オス端子10は、オス側コネクタハウジング(図示せず)内の端子収容室に配置されている。オス端子10は、所定形状に打ち抜かれた導電性金属(例えば銅合金)を折り曲げ加工して形成されており、第2接点部であるタブ部11を有する。   The male terminal 10 is disposed in a terminal accommodating chamber in a male connector housing (not shown). The male terminal 10 is formed by bending a conductive metal (for example, copper alloy) punched into a predetermined shape, and has a tab portion 11 as a second contact portion.

タブ部11は、フラットな板形状である。また、オス端子10の外面には、導電性金属のメッキ層12が形成されている。メッキ層12の外面には酸化膜13が形成される。   The tab portion 11 has a flat plate shape. A conductive metal plating layer 12 is formed on the outer surface of the male terminal 10. An oxide film 13 is formed on the outer surface of the plating layer 12.

次に、タブ部11のメッキ層12について説明する。メッキ層12は、図5(b)に示すように、銅合金の母材層12aの上に形成されている。   Next, the plating layer 12 of the tab portion 11 will be described. As shown in FIG. 5B, the plating layer 12 is formed on a copper alloy base material layer 12a.

銅合金材の母材層12aの外面側には、銅/錫合金層12b及び錫メッキ層12cが形成されると共には、錫メッキ層12cの外面に酸化膜13が形成される。また、弾性撓み部3のメッキ層6も同様に構成されている。   A copper / tin alloy layer 12b and a tin plating layer 12c are formed on the outer surface side of the base layer 12a of the copper alloy material, and an oxide film 13 is formed on the outer surface of the tin plating layer 12c. Moreover, the plating layer 6 of the elastic bending part 3 is also comprised similarly.

上記構成において、メス側コネクタハウジング(図示せず)とオス側コネクタハウジング(図示せず)間を嵌合すると、その嵌合過程ではオス端子10のタブ部11がメス端子1の箱部2に挿入される。   In the above configuration, when the female connector housing (not shown) and the male connector housing (not shown) are fitted, the tab portion 11 of the male terminal 10 is connected to the box portion 2 of the female terminal 1 in the fitting process. Inserted.

すると、先ず図4(a)に示すように、タブ部11の先端が弾性撓み部3に接近する。その後、図4(b)に示すように、タブ部11の先端が弾性撓み部3に当接し、タブ部11の接触面上に弾性撓み部3の接触面側の突部5が摺動することにより、タブ部11の接触面側に生成された酸化膜13が削られて、オス端子10の挿入方向に沿うV字溝14が形成されると共に、メッキ面12の錫メッキ層12cが露出する。   Then, first, as shown in FIG. 4A, the tip of the tab portion 11 approaches the elastic bending portion 3. Thereafter, as shown in FIG. 4B, the tip of the tab portion 11 abuts on the elastic bending portion 3, and the protrusion 5 on the contact surface side of the elastic bending portion 3 slides on the contact surface of the tab portion 11. As a result, the oxide film 13 generated on the contact surface side of the tab portion 11 is scraped to form a V-shaped groove 14 along the insertion direction of the male terminal 10, and the tin plating layer 12c of the plating surface 12 is exposed. To do.

次いで、この当接箇所より更にタブ部11の挿入が進むと、図4(c)に示すように、タブ部11の接触面上にインデント部4の頂部4aが摺動し、弾性撓み部3が撓み変形してタブ部11の挿入が許容される。   Next, when the insertion of the tab portion 11 further proceeds from this contact portion, the top portion 4a of the indent portion 4 slides on the contact surface of the tab portion 11 as shown in FIG. Is deformed and insertion of the tab portion 11 is allowed.

タブ部11の挿入過程では、インデント部4がタブ部11の接触部11aに接触し、端子挿入完了位置に達する(図2、図3参照)。   In the insertion process of the tab part 11, the indent part 4 contacts the contact part 11a of the tab part 11, and reaches a terminal insertion completion position (refer FIG. 2, FIG. 3).

以上説明したように、本実施形態の接点接続構造では、突部5が酸化膜除去部として機能することにより、端子摺動過程において、弾性撓み部3の接触面側の突部5がタブ部11の表面に生成された酸化膜13を削るため、図5(a),(b)に示すように、酸化膜13の破壊が促進され、メッキ層12の錫メッキ層12cとの接触が得られる。   As described above, in the contact connection structure of the present embodiment, the protrusion 5 functions as the oxide film removing portion, so that the protrusion 5 on the contact surface side of the elastic bending portion 3 is the tab portion in the terminal sliding process. As shown in FIGS. 5A and 5B, destruction of the oxide film 13 is promoted and contact between the plating layer 12 and the tin plating layer 12c is obtained. It is done.

また、接触面が酸化膜13の削除によって分断され、複数の接触面ができる。以上より、メス端子1やオス端子10を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる。   Further, the contact surface is divided by the removal of the oxide film 13 to form a plurality of contact surfaces. As described above, the contact resistance can be reduced without increasing the size of the female terminal 1 or the male terminal 10 or making it as complex as possible.

本実施形態では、端子挿入方向の直交方向に間隔を置いて複数設けられた突部5で、タブ部11の表面の酸化膜13を削ることにより、複数の箇所で接触面が分断されるため、多くの接触面を確実に得ることができる。   In the present embodiment, the contact surface is divided at a plurality of locations by scraping the oxide film 13 on the surface of the tab portion 11 with a plurality of protrusions 5 provided at intervals in the direction orthogonal to the terminal insertion direction. Many contact surfaces can be obtained reliably.

〔第2実施形態〕
次に、図6を用いて本発明の第2実施形態を示す。なお、第1実施形態と同様の構成については説明を省略する。また、本実施の形態においては、後述する突部9が酸化膜除去部として機能する。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In addition, description is abbreviate | omitted about the structure similar to 1st Embodiment. In the present embodiment, a protrusion 9 described later functions as an oxide film removing unit.

図6(a)、(b)、(c)に示すように、本実施形態の接点接続構造は、弾性撓み部3の接触面側には、インデント部8が形成されると共に、タブ部11がインデント部8よりも先に摺動する位置に、突部9が設けられている点において、第1実施形態と相違している。   As shown in FIGS. 6A, 6 </ b> B, and 6 </ b> C, in the contact connection structure of the present embodiment, an indent portion 8 is formed on the contact surface side of the elastic deflecting portion 3, and a tab portion 11. Is different from the first embodiment in that the protrusion 9 is provided at a position where the protrusion 9 slides before the indent 8.

インデント部8は、その外周面がほぼ球面形状であり、中心の頂点が最下方に位置している。   The indented portion 8 has a substantially spherical outer peripheral surface, and the center vertex is located at the lowest position.

突部9は、半円柱形状に形成され、頂点が最下方に位置している。なお、突部9の外径は、インデント部8の外径より小さく設定されている。   The protrusion 9 is formed in a semi-cylindrical shape, and the apex is located at the lowest position. In addition, the outer diameter of the protrusion 9 is set smaller than the outer diameter of the indent 8.

この第2実施形態においても、前述した第1実施形態と同様に、端子摺動過程において、弾性撓み部3の接触面側の突部9が酸化膜除去部として機能することにより、タブ部11の表面に生成された酸化膜13を削るため、酸化膜13の破壊が促進され、メッキ層12の錫メッキ層12cとの接触が得られる。   Also in the second embodiment, as in the first embodiment described above, the protrusion 9 on the contact surface side of the elastic deflecting portion 3 functions as an oxide film removing portion in the terminal sliding process, whereby the tab portion 11. Since the oxide film 13 formed on the surface of the film is cut away, the destruction of the oxide film 13 is promoted, and the contact of the plating layer 12 with the tin plating layer 12c is obtained.

また、接触面が酸化膜13の削除によって分断され、複数の接触面ができる。以上より、メス端子1やオス端子10を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる。   Further, the contact surface is divided by the removal of the oxide film 13 to form a plurality of contact surfaces. As described above, the contact resistance can be reduced without increasing the size of the female terminal 1 or the male terminal 10 or making it as complex as possible.

〔第3実施形態〕
図7を用いて本発明の第3実施形態を示す。なお、他の実施形態と同様の構成については説明を省略する。また、本実施の形態においては、後述する突部15が酸化膜除去部として機能する。
[Third Embodiment]
A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In addition, description is abbreviate | omitted about the structure similar to other embodiment. In the present embodiment, a protrusion 15 described later functions as an oxide film removing unit.

本実施の形態に係る接点接続構造は、突部15が、端子挿入方向の直交方向の第1接点部である箱部2の弾性撓み部3の両端部にわたって連続して設けられている。   In the contact connection structure according to the present embodiment, the protrusion 15 is continuously provided across both ends of the elastic bending portion 3 of the box portion 2 which is the first contact portion in the direction orthogonal to the terminal insertion direction.

また、突部15は、弾性撓み部3の接触面と反対側に凹まされた凹部17の角部19を有する。   Further, the protrusion 15 has a corner 19 of a recess 17 that is recessed on the side opposite to the contact surface of the elastic bending portion 3.

図7に示すように、突部15は、タブ部11の挿入方向と直交する弾性撓み部3の幅方向の両端部にわたって連続して設けられている。   As shown in FIG. 7, the protrusion 15 is provided continuously across both end portions in the width direction of the elastic deflection portion 3 orthogonal to the insertion direction of the tab portion 11.

この突部15は、弾性撓み部3の接触面と反対側、すなわちインデント部4の頂部4aの突出方向と反対側に向けて凹まされた凹部17の角部19となっている。   The protrusion 15 is a corner 19 of a recess 17 that is recessed toward the side opposite to the contact surface of the elastic bending portion 3, that is, the side opposite to the protruding direction of the top 4 a of the indent portion 4.

このような突部15では、タブ部11が箱部2内に挿入されると、凹部17の角部19がタブ部11の接触面上を摺動し、タブ部11の接触面側に生成された酸化膜13が削られて、メッキ面12の錫メッキ層12cが露出する。   In such a protrusion 15, when the tab portion 11 is inserted into the box portion 2, the corner portion 19 of the recess 17 slides on the contact surface of the tab portion 11 and is generated on the contact surface side of the tab portion 11. The oxidized film 13 is removed, and the tin plating layer 12c on the plating surface 12 is exposed.

このとき、突部15(凹部17の角部19)は、弾性撓み部3の幅方向にわたって設けられているので、タブ部11の接触面において、弾性撓み部3の幅方向全域分の生成された酸化膜13が削られる。   At this time, since the protrusion 15 (the corner 19 of the recess 17) is provided across the width direction of the elastic deflection portion 3, the entire area in the width direction of the elastic deflection portion 3 is generated on the contact surface of the tab portion 11. The oxidized film 13 is shaved.

このため、インデント部がどのような形状(例えば、第1実施形態に示すインデント部4や第2実施形態に示すインデント部8など)であっても、インデント部は、メッキ面12の錫メッキ層12cが露出したタブ部11の接触面に接触することができる。   For this reason, whatever shape the indent portion is (for example, the indent portion 4 shown in the first embodiment or the indent portion 8 shown in the second embodiment), the indent portion is the tin plating layer of the plating surface 12. 12c can contact the exposed contact surface of the tab portion 11.

この第3実施形態においても、前述した各実施形態と同様に、端子摺動過程において、弾性撓み部3の接触面側の突部15が酸化膜除去部として機能することにより、タブ部11の表面に生成された酸化膜13を削るため、酸化膜13の破壊が促進され、メッキ層12の錫メッキ層12cとの接触が得られる。   In the third embodiment as well, in the terminal sliding process, the protrusion 15 on the contact surface side of the elastic deflecting portion 3 functions as an oxide film removing portion in the terminal sliding process. Since the oxide film 13 generated on the surface is cut, the destruction of the oxide film 13 is promoted, and the contact of the plating layer 12 with the tin plating layer 12c is obtained.

また、突部15は、端子挿入方向の直交方向の弾性撓み部3の両端部にわたって連続して設けられているので、弾性撓み部3の接触面の全域でタブ部11に生成された酸化膜13を削ることができ、インデント部4とタブ部11との接触抵抗をさらに低減できる。   Further, since the protrusion 15 is provided continuously across both ends of the elastic bending portion 3 in the direction orthogonal to the terminal insertion direction, the oxide film generated on the tab portion 11 over the entire contact surface of the elastic bending portion 3. 13, the contact resistance between the indented portion 4 and the tab portion 11 can be further reduced.

さらに、突部15は、タブ部11の接触面と反対側に凹まされた凹部17の角部19であるので、容易に突部15を設けることができ、複雑化を抑制することができる。以上より、メス端子1やオス端子10を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる。   Furthermore, since the protrusion 15 is the corner portion 19 of the recess 17 that is recessed on the opposite side to the contact surface of the tab portion 11, the protrusion 15 can be easily provided, and complication can be suppressed. As described above, the contact resistance can be reduced without increasing the size of the female terminal 1 or the male terminal 10 or making it as complex as possible.

〔第4実施形態〕
図8を用いて本発明の第4実施形態を示す。なお、他の実施形態と同様の構成については説明を省略する。また、本実施の形態においては、後述する突部21が酸化膜除去部として機能する。
[Fourth Embodiment]
A fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In addition, description is abbreviate | omitted about the structure similar to other embodiment. In the present embodiment, a protrusion 21 described later functions as an oxide film removing unit.

本実施の形態に係る接点接続構造は、突部21が、第1接点部である箱部2の弾性撓み部23の接触面側に向けて折り曲げられた折曲部25の端部27を有する。   In the contact connection structure according to the present embodiment, the protrusion 21 has an end portion 27 of a bent portion 25 that is bent toward the contact surface side of the elastic deflecting portion 23 of the box portion 2 that is the first contact portion. .

ここで、図8に示すように、本実施の形態に係る接点接続構造においては、弾性撓み部23が、箱部2の底壁が上壁側に向けて切り起こされて形成されている。   Here, as shown in FIG. 8, in the contact connection structure according to the present embodiment, the elastic bending portion 23 is formed by cutting and raising the bottom wall of the box portion 2 toward the upper wall side.

この弾性撓み部23の接触面である上面側には、上面側に向けて突出するインデント部29が設けられている。なお、インデント部29の形状は、半円筒状や半球状など、どのような形状であってもよい。   An indent portion 29 that protrudes toward the upper surface side is provided on the upper surface side that is a contact surface of the elastic bending portion 23. The indented portion 29 may have any shape such as a semi-cylindrical shape or a hemispherical shape.

このインデント部29は、箱部2の上壁と弾性撓み部23の接触面との間にタブ部11が挿入されると、弾性撓み部23の撓み変形によって下方へ変移する。   When the tab portion 11 is inserted between the upper wall of the box portion 2 and the contact surface of the elastic deflecting portion 23, the indent portion 29 changes downward due to the deformation of the elastic deflecting portion 23.

このようなインデント部29が設けられた弾性撓み部23には、タブ部11がインデント部29よりも先に摺動する位置に、突部21が設けられている。   The elastic deflecting portion 23 provided with such an indented portion 29 is provided with a protruding portion 21 at a position where the tab portion 11 slides before the indented portion 29.

図8に示すように、突部21は、弾性撓み部23の自由端が接触面側、すなわちインデント部29の突出方向と同一方向に向けて折り曲げられた折曲部25の端部27となっている。   As shown in FIG. 8, the protruding portion 21 becomes an end portion 27 of the bent portion 25 in which the free end of the elastic deflecting portion 23 is bent toward the contact surface side, that is, in the same direction as the protruding direction of the indented portion 29. ing.

なお、突部21は、タブ部11の挿入方向と直交する弾性撓み部23の幅方向の両端部にわたって連続して設けられている。   In addition, the protrusion 21 is provided continuously across both ends in the width direction of the elastic deflection portion 23 orthogonal to the insertion direction of the tab portion 11.

この突部21では、タブ部11が箱部2内に挿入されると、折曲部25の端部27がタブ部11の接触面上を摺動し、タブ部11の接触面側に生成された酸化膜13が削られて、メッキ面12の錫メッキ層12cが露出する。   In the protrusion 21, when the tab portion 11 is inserted into the box portion 2, the end portion 27 of the bent portion 25 slides on the contact surface of the tab portion 11 and is generated on the contact surface side of the tab portion 11. The oxidized film 13 is removed, and the tin plating layer 12c on the plating surface 12 is exposed.

この第4実施形態においても、前述した各実施形態と同様に、端子摺動過程において、弾性撓み部3の接触面側の突部21が酸化膜除去部として機能することにより、タブ部11の表面に生成された酸化膜13を削るため、酸化膜13の破壊が促進され、メッキ層12の錫メッキ層12cとの接触が得られる。   In the fourth embodiment as well, in the terminal sliding process, the protrusion 21 on the contact surface side of the elastic bending portion 3 functions as an oxide film removing portion in the terminal sliding process. Since the oxide film 13 generated on the surface is cut, the destruction of the oxide film 13 is promoted, and the contact of the plating layer 12 with the tin plating layer 12c is obtained.

また、突部21は、弾性撓み部23の自由端側を接触面側に向けて折り曲げられた折曲部25の端部27であるので、容易に突部21を設けることができ、複雑化を抑制することができる。以上より、メス端子1やオス端子10を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる。   Further, since the protrusion 21 is the end portion 27 of the bent portion 25 that is bent with the free end side of the elastic deflecting portion 23 facing the contact surface side, the protrusion 21 can be easily provided and complicated. Can be suppressed. As described above, the contact resistance can be reduced without increasing the size of the female terminal 1 or the male terminal 10 or making it as complex as possible.

なお、上記第1実施形態では四角錐状の突部5を設けて、上記第2実施形態では半円柱状の突部9を設けたが、本発明はこれに限定されず、突部をインデント部より外径が小さく設定された形状であればよい。   In the first embodiment, the quadrangular pyramidal protrusion 5 is provided, and in the second embodiment, the semi-cylindrical protrusion 9 is provided. However, the present invention is not limited to this, and the protrusion is indented. Any shape may be used as long as the outer diameter is set smaller than the portion.

また、突部の表面に細かな凹凸部を設けて摩擦係数の向上を図ることもできる。これによって、突部でメッキ層の酸化膜を強く擦ることができるので、酸化膜をより確実に破壊することができる。   Further, it is possible to improve the friction coefficient by providing a fine uneven portion on the surface of the protrusion. Thus, the oxide film of the plating layer can be rubbed strongly with the protrusion, so that the oxide film can be more reliably destroyed.

さらに、第3,第4実施形態では、突部が端子挿入方向の直交方向の第1接点部の両端部にわたって連続して設けられているが、本発明はこれに限定されず、凹部の角部や折曲部の端部を端子挿入方向の直交方向に間隔を置いて複数設けてもよい。   Furthermore, in 3rd, 4th embodiment, although the protrusion is continuously provided over the both ends of the 1st contact part of the orthogonal direction with respect to a terminal insertion direction, this invention is not limited to this, The corner of a recessed part A plurality of ends and bent portions may be provided at intervals in the direction orthogonal to the terminal insertion direction.

また、酸化膜除去部としての突部は、第1,第2実施形態では端子挿入方向の直交方向に間隔を置いて複数設けられたのみ、第3,第4実施形態では端子挿入方向の直交方向の第1接点部の両端部にわたって連続して設けられたのみであるが、本発明はこれに限定されるものではない。   Further, in the first and second embodiments, a plurality of protrusions as oxide film removing portions are provided at intervals in the direction orthogonal to the terminal insertion direction. In the third and fourth embodiments, the protrusion is orthogonal to the terminal insertion direction. Although it was only provided continuously over the both ends of the 1st contact part of a direction, this invention is not limited to this.

例えば、第1接点部の接触面側の第2接点部がインデント部よりも先に摺動する位置において、まず、端子挿入方向の直交方向に間隔を置いて複数設けられた酸化膜除去部を1列設け、次に、端子挿入方向の直交方向の第1接点部の両端部にわたって連続して設けられた酸化膜除去部を1列設けるなど、端子挿入方向の直交方向に沿った酸化膜除去部を端子挿入方向に複数列配置させ、全体として酸化膜除去部としてもよい。   For example, at a position where the second contact portion on the contact surface side of the first contact portion slides ahead of the indent portion, first, a plurality of oxide film removal portions provided at intervals in the direction orthogonal to the terminal insertion direction are provided. Oxide film removal along the direction orthogonal to the terminal insertion direction, such as providing one row, and then providing one row of oxide film removal portions provided continuously across both ends of the first contact portion in the direction orthogonal to the terminal insertion direction The portions may be arranged in a plurality of rows in the terminal insertion direction to form an oxide film removal portion as a whole.

さらに、酸化膜除去部として機能する突部は、四角錐状の突部のみ、半円柱形状の突部のみ、凹部の角部のみ、折曲部の端部のみで構成されなくともよく、第1接点部の接触面側において、第2接点部がインデント部よりも先に摺動する位置であれば、例えば、四角錐状の突部と折曲部の端部とで突部を構成するなど、複数の組み合わせで突部を構成してもよい。   Further, the protrusion functioning as the oxide film removing portion may not be constituted by only a quadrangular pyramidal protrusion, only a semi-cylindrical protrusion, only a corner of a recess, or only an end of a bent portion. If the second contact portion is in a position where the second contact portion slides before the indent portion on the contact surface side of the one contact portion, for example, a protrusion is constituted by a quadrangular pyramid-like protrusion and an end of the bent portion. For example, the protrusion may be configured by a plurality of combinations.

また、酸化膜除去部は、突部となっているが、これに限らず、例えば、第1接点部のメッキ層内に、第2接点部のメッキ層に混入させた金属と同種の金属を混入させ、金属間結合の結合力によって酸化膜を除去するような部分としてもよく、酸化膜を除去できる構成であればどのようなものであってもよい。   In addition, the oxide film removal portion is a protrusion, but is not limited thereto. For example, the same kind of metal as the metal mixed in the plating layer of the second contact portion is included in the plating layer of the first contact portion. The portion may be mixed and the oxide film may be removed by the bonding force of the metal-to-metal bond, and any structure may be used as long as the oxide film can be removed.

1 メス端子(第1端子)
2 箱部(第1接点部)
3、23 弾性撓み部(第1接点部)
4、8、29 インデント部
4a 頂部
5、9、15、21 突部(酸化膜除去部)
10 オス端子(第2端子)
11 タブ部(第2接点部)
12 メッキ層
13 酸化膜
17 凹部
19 角部
25 折曲部
27 端部
1 Female terminal (1st terminal)
2 Box part (first contact part)
3, 23 Elastic deflection part (first contact part)
4, 8, 29 Indent 4a Top 5, 9, 15, 21 Protrusion (oxide removal part)
10 Male terminal (second terminal)
11 Tab part (second contact part)
12 Plating layer 13 Oxide film 17 Concave part 19 Corner part 25 Bending part 27 End part

Claims (6)

インデント部が突設された第1接点部と、第2接点部とを有し、
前記第1接点部の前記インデント部が前記第2接点部の接触面上を摺動し、
端子挿入完了位置では、前記インデント部が前記第2接点部に接触する接点接続構造であって、
前記第1接点部の接触面側には、前記第2接点部が前記インデント部よりも先に摺動する位置に、酸化膜除去部が設けられたことを特徴とする接点接続構造。
A first contact portion with a projecting indent, and a second contact portion;
The indented portion of the first contact portion slides on the contact surface of the second contact portion;
In the terminal insertion completion position, the indent portion is a contact connection structure in contact with the second contact portion,
A contact connection structure, characterized in that an oxide film removing portion is provided on the contact surface side of the first contact portion at a position where the second contact portion slides before the indent portion.
請求項1記載の接点接続構造であって、
前記酸化膜除去部は、突部であることを特徴とする接点接続構造。
The contact connection structure according to claim 1,
The contact connection structure, wherein the oxide film removing portion is a protrusion.
請求項1又は2記載の接点接続構造であって、
前記インデント部は、端子挿入方向の直交方向に延びる頂部を有し、
前記酸化膜除去部は、端子挿入方向の直交方向に間隔を置いて複数設けられた部分を有することを特徴とする接点接続構造。
The contact connection structure according to claim 1 or 2,
The indent portion has a top portion extending in a direction orthogonal to the terminal insertion direction,
2. The contact connection structure according to claim 1, wherein the oxide film removing section includes a plurality of portions provided at intervals in a direction orthogonal to the terminal insertion direction.
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の接点接続構造であって、
前記酸化膜除去部は、端子挿入方向の直交方向の前記第1接点部の両端部にわたって連続して設けられた部分を有することを特徴とする接点接続構造。
The contact connection structure according to any one of claims 1 to 3,
The said oxide film removal part has a part provided continuously over the both ends of the said 1st contact part of the orthogonal direction of a terminal insertion direction, The contact connection structure characterized by the above-mentioned.
請求項1乃至4のいずれか1項に記載の接点接続構造であって、
前記酸化膜除去部は、前記第1接点部の接触面と反対側に凹まされた凹部の角部を有することを特徴とする接点接続構造。
The contact connection structure according to any one of claims 1 to 4,
The contact connection structure according to claim 1, wherein the oxide film removing portion has a concave corner that is recessed on the opposite side of the contact surface of the first contact portion.
請求項1乃至5のいずれか1項に記載の接点接続構造であって、
前記酸化膜除去部は、前記第1接点部の接触面側に向けて折り曲げられた折曲部の端部を有することを特徴とする接点接続構造。
The contact connection structure according to any one of claims 1 to 5,
The contact connection structure according to claim 1, wherein the oxide film removing portion has an end portion of a bent portion that is bent toward a contact surface side of the first contact portion.
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