JP2017162547A - Organic el element and manufacturing method of the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、有機EL(Electro−Luminescence)素子及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an organic EL (Electro-Luminescence) element and a manufacturing method thereof.
有機EL素子は、低電圧、低電流で駆動可能な発光素子であり、供給電力に対して発光輝度が大きく、発光効率が良いという利点がある。このため、近年、有機EL素子を用いた様々なデバイス、例えば、有機EL素子を用いた照明装置及び表示装置などが開発されている。 An organic EL element is a light-emitting element that can be driven at a low voltage and a low current, and has advantages in that light emission luminance is large with respect to supplied power and light emission efficiency is good. For this reason, in recent years, various devices using organic EL elements, such as lighting devices and display devices using organic EL elements, have been developed.
例えば、特許文献1には、密封封止構造の有機ELディスプレイパネルが開示されている。特許文献1に記載の有機ELディスプレイパネルでは、有機EL発光素子が設けられた基板と、カラーフィルタ素子が設けられた基板とが貼り合わせられており、これらの2つの基板の間に樹脂系充填材によって有機EL発光素子を封止する。これにより、有機EL発光素子を水分などから保護し、寿命を延ばすことができる。 For example, Patent Document 1 discloses an organic EL display panel having a hermetically sealed structure. In the organic EL display panel described in Patent Document 1, a substrate provided with an organic EL light emitting element and a substrate provided with a color filter element are bonded together, and a resin-based filling is provided between these two substrates. The organic EL light emitting element is sealed with a material. Thereby, the organic EL light emitting element can be protected from moisture and the life can be extended.
しかしながら、上記従来の有機ELディスプレイパネルを曲げた場合、基板間に充填された充填材が破壊される恐れがある。充填材が破壊された場合には、発光層の封止性が損なわれるので、水分などの影響で発光層の劣化が進み、有機ELディスプレイパネルの寿命が短くなる。 However, when the conventional organic EL display panel is bent, the filler filled between the substrates may be destroyed. When the filler is destroyed, the sealing property of the light emitting layer is impaired, so that the deterioration of the light emitting layer is advanced due to the influence of moisture and the life of the organic EL display panel is shortened.
また、有機ELディスプレイパネルを曲げたときに充填材が破壊されないように、充填材の硬度を調整して、例えば、充填材を軟化させることもできる。しかしながら、軟化させた充填材は、低分子材料を多く含む。この場合、充填材に含まれる低分子材料が発光層に浸透して、発光層の劣化を進め、有機ELディスプレイパネルの寿命が短くなる。 In addition, the filler can be softened by adjusting the hardness of the filler so that the filler is not destroyed when the organic EL display panel is bent. However, the softened filler contains a lot of low-molecular materials. In this case, the low molecular weight material contained in the filler penetrates into the light emitting layer, promotes deterioration of the light emitting layer, and shortens the life of the organic EL display panel.
そこで、本発明は、屈曲性を有する長寿命な有機EL素子及びその製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a long-life organic EL element having flexibility and a method for manufacturing the same.
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係る有機EL素子は、対向配置された可撓性を有する第1基板及び第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた有機発光部であって、前記第1基板に順に積層された第1電極、発光層を含む有機層、及び、第2電極を含む有機発光部と、前記有機発光部を覆うように前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた充填材とを備え、前記充填材には、平面視における所定の領域に、中空の緩衝空間が設けられている。 In order to achieve the above object, an organic EL element according to one embodiment of the present invention includes a flexible first substrate and a second substrate that are arranged to face each other, and the first substrate and the second substrate. An organic light emitting unit provided, the first electrode stacked in order on the first substrate, an organic layer including a light emitting layer, an organic light emitting unit including a second electrode, and so as to cover the organic light emitting unit A filler provided between the first substrate and the second substrate is provided, and the filler is provided with a hollow buffer space in a predetermined region in plan view.
本発明によれば、屈曲性を有する長寿命な有機EL素子及びその製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a long-life organic EL element having flexibility and a manufacturing method thereof.
以下では、本発明の実施の形態に係る有機EL素子及びその製造方法について、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、いずれも本発明の好ましい一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置及び接続形態などは、一例であり、本発明を限定する趣旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本発明の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。 Below, the organic EL element and its manufacturing method which concern on embodiment of this invention are demonstrated in detail using drawing. Note that each of the embodiments described below shows a preferred specific example of the present invention. Therefore, the numerical values, shapes, materials, components, component arrangements, connection forms, and the like shown in the following embodiments are merely examples, and are not intended to limit the present invention. Therefore, among the constituent elements in the following embodiments, constituent elements that are not described in the independent claims showing the highest concept of the present invention are described as optional constituent elements.
また、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、各図において、同じ構成部材については同じ符号を付している。 Each figure is a mimetic diagram and is not necessarily illustrated strictly. Moreover, in each figure, the same code | symbol is attached | subjected about the same structural member.
(実施の形態1)
[有機EL素子]
まず、実施の形態1に係る有機EL素子について、図1を用いて説明する。図1は、本実施の形態に係る有機EL素子10の概略断面図である。
(Embodiment 1)
[Organic EL device]
First, the organic EL element according to Embodiment 1 will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an
図1に示すように、有機EL素子10は、第1基板100と、第2基板110と、有機発光部120と、充填材130とを備える。充填材130には、複数の緩衝空間140が設けられている。
As shown in FIG. 1, the
なお、図示しないが、有機EL素子10は、例えば、平面視形状が略矩形の平面発光体である。具体的には、第1基板100、第2基板110及び有機発光部120の平面視形状は、略矩形である。有機EL素子10は、例えば、図1において紙面上下方向に略矩形の面状に発光する。
Although not shown, the
[基板]
第1基板100及び第2基板110は、対向配置されている。具体的には、第1基板100と第2基板110とは、所定の距離を離間して互いに対向するように配置されている。例えば、第1基板100と第2基板110との距離は、10μm〜100μmであり、一例として30μmである。第1基板100と第2基板110とは、充填材130によって接着されている。
[substrate]
The
第1基板100及び第2基板110は、可撓性を有する。言い換えると、第1基板100及び第2基板110は、屈曲性を有し、外部から力が加えられた場合に曲げられる。
The
例えば、第1基板100及び第2基板110は、薄型ガラス又はバリアフィルムである。具体的には、第1基板100及び第2基板110は、ソーダガラス、無アルカリガラスなどの薄型ガラス基板である。あるいは、第1基板100及び第2基板110は、ポリカーボネート、アクリル樹脂又はポリエチレンテレフタレートなどの樹脂性の基材に、防湿膜を形成したバリアフィルムでもよい。防湿膜は、例えば、金属薄膜などである。
For example, the
第1基板100及び第2基板110の少なくとも一方は、透光性を有し、可視光の少なくとも一部を透過する。これにより、有機発光部120から発せられた光を一方向、あるは、両方向に取り出すことができる。第1基板100及び第2基板110としては、例えば、厚さが0.03mm〜1.2mm、一例として0.7mmの板状の透明基板を用いることができる。
At least one of the
なお、第2基板110は、例えば、光反射性を有してもよい。具体的には、第2基板110は、ステンレス、アルミニウムなどの金属材料から構成されてもよい。
Note that the
[有機発光部]
有機発光部120は、第1基板100と第2基板110との間に設けられ、電圧が印加された場合に平面状に発光する。有機発光部120は、第1電極121と、有機層122と、第2電極123とを備える。第1電極121と、有機層122と、第2電極123とは、この順で第1基板100に積層されている。
[Organic light emitting part]
The organic
第1電極121は、発光面側に設けられた電極であり、例えば、第1基板100上に設けられる。第1電極121は、例えば、陽極であり、有機EL素子10の発光時には、第2電極123よりも高い電位になる。
The
第1電極121は、透光性を有する導電性材料から構成される。例えば、第1電極121は、可視光の少なくとも一部を透過する透明の導電性材料から構成される。第1電極121は、例えば、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)などから構成される。
The
なお、第1電極121は、光を透過できる程度に薄膜の銀、アルミニウムなどの金属薄膜でもよい。あるいは、Agナノワイヤ又はAg粒子を分散させてもよい。あるいは、第1電極121としては、PEDOT、ポリアニリンなどの導電性高分子、若しくは、任意のアクセプタなどでドープした導電性高分子、又は、カーボンナノチューブなどの導電性光透過性材料を用いることもできる。
The
例えば、第1電極121は、蒸着法、塗布法、スパッタリング法又はイオンビームアシスト法などによって透明導電膜を第1基板100上に成膜し、成膜した透明導電膜をパターニングすることで形成される。例えば、第1電極121の膜厚は、60nm〜200nmであり、一例として、100nmである。
For example, the
有機層122は、第1電極121及び第2電極123の間に設けられる。有機層122は、発光層を含み、第1電極121及び第2電極123の間に電圧が印加されることで、面状に発光する。
The
具体的には、有機層122は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層(有機EL層)、電子輸送層及び電子注入層を含んでいる。発光層などの有機層122は、例えば、ジアミン、アントラセン、金属錯体などの有機材料から構成される。有機層122を構成する各層は、蒸着法、スピンコート法、キャスト法、又は、イオンビームアシスト法などにより形成される。例えば、有機層122の膜厚は、150nm〜350nmであり、一例として、210nmである。
Specifically, the
例えば、発光色が白色の場合には、有機層122は、発光層中に赤色、緑色、青色の3色のドーパント色素をドーピングして形成される。あるいは、有機層122は、青色正孔輸送性発光層と緑色電子輸送性発光層と赤色電子輸送性発光層との積層構造を有してもよい。また、有機層122は、赤色、緑色、青色の発光ユニットが光透過性及び導電性を有する中間層を介して積層され、電気的に直接的に接続したマルチユニット構造にしてもよい。
For example, when the emission color is white, the
第2電極123は、発光面とは反対側に設けられた電極であり、例えば、有機層122上に設けられる。第2電極123は、例えば、陰極であり、有機EL素子10の発光時には、第1電極121よりも低い電位になる。
The
第2電極123は、光反射性を有する導電性材料から構成される。第2電極123は、有機層122から発せられた光を反射し、発光面側に出射させる。第2電極123は、例えば、アルミニウム、銀若しくはマグネシウム、又は、これらの少なくとも1種類を含む合金などの金属材料から構成される。例えば、第2電極123は、蒸着法、塗布法、スパッタリング法、イオンビームアシスト法又はGCIB(Gas Cluster Ion Beam)蒸着などによって導電膜を有機層122上に成膜することで形成される。例えば、第2電極123の膜厚は、20nm〜200nmであり、一例として、100nmである。
The
なお、金属材料は水分透過率が低いので、第2電極123は、有機層122を水分から保護することができる。第2電極123は、例えば、導電性の樹脂材料から構成されてもよい。
Note that since the moisture permeability of the metal material is low, the
また、第2電極123は、透光性を有する導電性材料から構成されてもよい。例えば、第2電極123としては、第1電極121と同じ材料を利用することができる。この場合、第2基板110も光透過性材料で構成されていれば、有機EL素子10は、両面発光型の照明装置として、例えば、建物又は車両の窓などに利用することができる。
The
なお、図示しないが、例えば、第1基板100上に、第1電極121及び第2電極123に給電するための引出電極が設けられる。具体的には、第1基板100の周端部分であって、充填材130より外方の部分に、第1電極121に電気的に接続された第1引出電極と、第2電極123に電気的に接続された第2引出電極とが設けられる。第1引出電極及び第2引出電極としては、例えば、第1電極121又は第2電極123と同じ材料を用いることができる。
Although not shown, for example, an extraction electrode for supplying power to the
[充填材]
充填材130は、有機発光部120を覆うように第1基板100と第2基板110との間に設けられる。具体的には、充填材130は、第1基板100と第2基板110との間に充填されて硬化した樹脂材料である。
[Filler]
The
例えば、充填材130としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、又は、シリコーン樹脂などの光硬化性、熱硬化性又は二液硬化性の接着性樹脂を用いることができる。あるいは、充填材130としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの酸変性物からなる熱可塑性の接着性樹脂などを用いてもよい。
For example, as the
充填材130は、樹脂材料からなる充填材材料を塗布し、硬化することで形成される。例えば、充填材材料の粘度及び膜厚に応じて、ロールコート、スピンコート、スクリーン印刷、スプレーコート、スリットコート、スキージ塗布などの印刷法、又は、ディスペンサによる液滴、又は、描画塗布などによって充填材材料が塗布される。充填材材料の塗布の詳細については、後で説明する。
The
なお、充填材130を囲むようにシール材が設けられてもよい。言い換えると、充填材130は、第1基板100の外周に沿った枠状のシール材であって、第1基板100と第2基板110とを接続するシール材の内部に設けられている。例えば、シール材は、充填材130よりも粘度の高い材料から構成され、充填材130を塗布する際のダム材として利用することができる。
Note that a sealing material may be provided so as to surround the
[緩衝空間]
緩衝空間140は、充填材130の平面視における所定の領域に設けられた中空の空間である。緩衝空間140は、図1に示すように、充填材130を積層方向に貫通している。
[Buffer space]
The
充填材130には、図1に示すように、複数の緩衝空間140が設けられている。複数の緩衝空間140は、互いに独立して閉じた空間である。具体的には、緩衝空間140は、充填材130と第2電極123と第2基板110とによって囲まれた空間である。
As shown in FIG. 1, the
緩衝空間140が設けられる所定の領域は、例えば、所定の配置パターンに従って決定された領域である。言い換えると、緩衝空間140は、予め定められた配置パターンに従って配置されている。配置パターンは、例えば、緩衝空間140の平面視内における配置を表す。
The predetermined area where the
図2A及び図2Bは、本実施の形態に係る複数の緩衝空間140の配置パターンの一例を示す平面図である。
2A and 2B are plan views showing an example of an arrangement pattern of the plurality of
緩衝空間140は、例えば、有機EL素子10が曲げられる形状が予め定められている場合に、当該形状に有機EL素子10を曲げたときに、所定の応力以上の引張応力がかかる平面視における領域に設けられる。例えば、所定の応力は、充填材130が破壊される応力(破壊応力)、又は、当該破壊応力の80%以上の値などである。簡単に言い換えると、有機EL素子10を曲げたときに、充填材130が破壊されやすい部分に緩衝空間140を設ける。
The
例えば、図2Aに示すように、複数の緩衝空間140は、略均一な大きさであり、具体的には、その平面視形状は、略円形である。つまり、複数の緩衝空間140は、積層方向に軸を有する略円柱状の空間である。緩衝空間140の平面視における最大幅(具体的には、略円形の直径)は、例えば、10μm以上20μm以下である。
For example, as shown in FIG. 2A, the plurality of
複数の緩衝空間140は、例えば、充填材130内に行列状に等間隔で配置されている。なお、図2Aでは、5行×5列の行列状に25個の緩衝空間140が配置された例を示しているが、行方向及び列方向の個数は一例であって、これに限らない。
The plurality of
なお、緩衝空間140は、略円柱形状ではなく、略球状の空間でもよい。具体的には、緩衝空間140は、径が10μm以上20μm以下の略球状の空間でもよい。例えば、緩衝空間140は、第1基板100と第2基板110とを貼り合わせた際に、充填材130内に閉じ込められた気泡である。
The
また、図2Bに示すように、複数の緩衝空間140は、略均一な大きさであり、具体的には、その平面視形状は、角が丸い略矩形である。複数の緩衝空間140は、第1方向(紙面上下方向)に長い柱状の空間である。なお、第1方向は、有機EL素子10の曲げ方向である第2方向(紙面左右方向)に、平面視において直交する方向である。つまり、第1方向は、緩衝空間140の長手方向であり、第2方向は、緩衝空間140の短手方向である。
As shown in FIG. 2B, the plurality of
複数の緩衝空間140は、例えば、平面視において、緩衝空間140の短手方向に並んでいる。言い換えると、複数の緩衝空間140は、互いに平行になるように配置されている。なお、図2Bでは、4個の緩衝空間140が互いに平行に配置されているが、その配置及び個数は、これに限らない。
The plurality of
[製造方法]
続いて、本実施の形態に係る有機EL素子10の製造方法について、図3A〜図4Bを用いて説明する。
[Production method]
Then, the manufacturing method of the
図3A〜図3Cはそれぞれ、本実施の形態に係る有機EL素子10の製造方法における有機発光部120の形成工程、充填材材料131の塗布工程及び基板の貼合工程を示す概略断面図である。図4A及び図4Bは、本実施の形態に係る充填材材料131の塗布パターンの一例を示す概観斜視図である。
FIG. 3A to FIG. 3C are schematic cross-sectional views illustrating the formation process of the organic
まず、図3Aに示すように、第1基板100を準備し、第1基板100上に有機発光部120を形成する。具体的には、第1基板100上に、第1電極121と、有機層122と、第2電極123とをこの順で積層する。このとき、第1引出電極、第2引出電極、及び、第1電極121と第2電極123とを絶縁する絶縁層などを形成してもよい。
First, as shown in FIG. 3A, the
なお、有機発光部120の各層の形成は、例えば、真空チャンバを有する蒸着装置を用いて行われる。つまり、第1電極121、有機層122及び第2電極123は、真空下で形成される。このときの真空は、例えば、10−3〜10−6Pa以下の圧力である。
In addition, formation of each layer of the organic
次に、図3Bに示すように、ディスペンサ150を用いて、第1基板100上に充填材材料131を塗布する。具体的には、第2電極123上に、所定の塗布パターンに従って充填材材料131を塗布する。充填材材料131は、例えば、所定の間隔dを空けて塗布される。
Next, as shown in FIG. 3B, a
例えば、有機EL素子10が曲げられる形状が予め定められている場合に、当該形状に有機EL素子10を曲げたときに、上述した所定の応力(例えば、破壊応力)以上の引張応力がかかる平面視における領域に、間隔dを空けて充填材材料131を塗布する。例えば、有機EL素子10を曲げたときに、充填材130が破壊されやすい部分を、当該部分の両側に間隔dを空けて充填材材料131を塗布する。
For example, when the shape in which the
例えば、図4Aに示すように、点状に等間隔で充填材材料131を塗布する。所定の間隔dは、充填材材料131の1点当たりの塗布量(すなわち、滴下量)と、第1基板100及び第2基板110の間の距離(すなわち、基板間距離)とに基づいて設定される。例えば、所定の間隔dは、0.5mm〜6.0mmであり、一例として、2mmである。
For example, as shown in FIG. 4A, the
あるいは、図4Bに示すように、線状に等間隔で充填材材料131を塗布してもよい。この場合の所定の間隔dは、充填材材料131の1ライン当たりの塗布量と、基板間距離とに基づいて設定される。例えば、所定の間隔dは、図4Aの場合と同様に、0.5mm〜6.0mmであり、一例として、2mmである。
Alternatively, as shown in FIG. 4B, the
なお、充填材材料131の塗布工程は、例えば、続いて実行される基板の貼合工程と同じ圧力下で行われる。あるいは、有機発光部120の形成工程と同じ圧力下で行われてもよい。例えば、塗布工程及び貼合工程の圧力を調節することで、緩衝空間140の大きさを調節することができる。
In addition, the application | coating process of the
なお、充填材材料131を第1基板100に塗布したが、第2基板110に塗布してもよい。
Although the
次に、図3Cに示すように、第1基板100と第2基板110とを貼り合わせる。具体的には、大気圧より低い減圧下で第1基板100と第2基板110とを貼り合わせた後、大気圧に開放する。充填材材料131が第1基板100と第2基板110とを接続することで、隣り合う充填材材料131間に緩衝空間140が形成される。
Next, as shown in FIG. 3C, the
このように、充填材材料131が有機発光部120を覆うように第1基板100と第2基板110とを貼り合わせることで、充填材材料131の平面視における所定の領域に中空の緩衝空間140を形成する。具体的には、隣り合う充填材材料131の間隔の中央部分を中心とする緩衝空間140が形成される。簡単に言い換えると、充填材材料131が塗布されていない部分に緩衝空間140が形成される。
In this way, by bonding the
このとき、貼り合わせ時の圧力と、貼り合わせの荷重とを調整することにより、緩衝空間140の大きさを調節する。
At this time, the size of the
例えば、緩衝空間140内の圧力は、貼り合わせ時の減圧された圧力である。このため、緩衝空間140は、大気圧に開放されたときに、充填材材料131によって押されて小さくなる。このとき、例えば、貼り合わせ時の圧力から大気圧まで段階的に圧力を上昇させることで、基板間にかかる荷重を徐々に増加させることができる。これにより、緩衝空間140の潰れる程度、すなわち、緩衝空間140の大きさを調節することができる。
For example, the pressure in the
例えば、第1基板100と第2基板110とを貼り合わせた時の圧力は、約1Pa以上の圧力である。なお、減圧下で第1基板100と第2基板110とを貼り合わせなくてもよく、例えば、大気圧下で貼り合わせてもよい。具体的には、第1基板100及び第2基板110を治具などに固定し、例えば、第2基板110の上面の一方の端部から他方の端部まで、ローラー状の押圧部を押し当てることで、第1基板100と第2基板110とを貼り合わせてもよい。
For example, the pressure when the
第1基板100と第2基板110とを貼り合わせた後、光照射などにより充填材材料131を硬化させることで、図1に示す有機EL素子10を形成することができる。
After bonding the
[まとめ]
以上のように、本実施の形態に係る有機EL素子10は、対向配置された可撓性を有する第1基板100及び第2基板110と、第1基板100と第2基板110との間に設けられた有機発光部120であって、第1基板100に順に積層された第1電極121、発光層を含む有機層122、及び、第2電極123を含む有機発光部120と、有機発光部120を覆うように第1基板100と第2基板110との間に設けられた充填材130とを備え、充填材130には、平面視における所定の領域に、中空の緩衝空間140が設けられている。
[Summary]
As described above, the
ここで、図5は、本実施の形態に係る有機EL素子10を曲げたときの概略断面図である。
Here, FIG. 5 is a schematic cross-sectional view when the
有機EL素子10を曲げたとき、図5に示すように、緩衝空間140が設けられているので、充填材130にかかる応力を分散し、充填材130が破壊されにくくすることができる。つまり、充填材130が破壊されずに、曲げやすくなる。したがって、有機EL素子10に屈曲性を持たせることができる。
When the
また、本実施の形態によれば、緩衝空間140が応力を分散するので、充填材130の硬度を調節する必要はない。つまり、必要以上に軟性の高い充填材を用いなくて済むので、充填材130が有機発光部120の発光層を破壊することを抑制することができる。
Further, according to the present embodiment, since the
なお、例えば、従来、密封封止構造を形成する際に充填材材料が封止空間内に適切に広がらずに、端部に空間が形成される場合がある。つまり、従来は充填材の端部に空間が設けられているのに対して、本実施の形態では、充填材130内に緩衝空間140が形成されている。例えば、図1に示すように、緩衝空間140は、充填材130によって囲まれており、積層方向のみが第2基板110及び第2電極123によって覆われている。
In addition, for example, conventionally, when forming a hermetic sealing structure, a space may be formed at the end portion of the filler material without appropriately spreading in the sealing space. That is, a space is provided in the end portion of the filler in the related art, whereas in the present embodiment, the
以上のように、本実施の形態では、所定の領域に緩衝空間140を設けることで、例えば、当該領域で有機EL素子10を屈曲させることができる。言い換えると、屈曲させようとする領域に緩衝空間140を形成することができる。
As described above, in the present embodiment, by providing the
また、例えば、緩衝空間140は、予め定められた配置パターンに従って設けられていてもよい。
For example, the
これにより、例えば、規則正しく複数の緩衝空間140を配置することができ、有機EL素子10を曲げたときの応力をより適切に分散させることができる。つまり、有機EL素子10の屈曲性をより高めることができる。
Thereby, for example, the plurality of
また、例えば、所定の領域は、有機EL素子10が曲げられる形状が予め定められている場合に、当該形状に有機EL素子10を曲げたときに、所定の応力以上の引張応力がかかる領域である。
Further, for example, the predetermined region is a region where a tensile stress equal to or greater than a predetermined stress is applied when the
これにより、有機EL素子10を所定の形状に曲げたときに引張応力がかかり、充填材130内の破壊されやすい部分に緩衝空間140を設けることができる。したがって、緩衝空間140によって応力を分散させて、充填材130を破壊されにくくすることができる。
Thereby, a tensile stress is applied when the
例えば、有機EL素子10は、所定の曲面に取り付けられることが予め定められて製造されることがある。具体的には、有機EL素子10が曲げられる形状が予め定められているので、当該形状の有機EL素子、すなわち、曲面を有する有機EL素子を製造することが考えられる。
For example, the
しかしながら、曲面を有する有機EL素子は、例えば、均一な膜厚の発光層を形成するのが難しいという問題がある。また、運搬のしやすさなどの観点からも平面を有する有機EL素子を製造し、取り付け時に屈曲させることが好ましい。 However, an organic EL element having a curved surface has a problem that it is difficult to form a light emitting layer having a uniform thickness, for example. Moreover, it is preferable to manufacture an organic EL element having a flat surface from the viewpoint of ease of transportation and to bend it at the time of attachment.
これに対して、本実施の形態に係る有機EL素子10は、平面を有するので、製造及び運搬を容易に行うことができる。また、有機EL素子10が曲げられる形状に応じて緩衝空間140が配置されているので、屈曲させたときに破壊されにくくすることができる。
On the other hand, since the
また、例えば、緩衝空間140は、有機EL素子10の曲げ方向である第2方向に平面視において直交する第1方向に長い柱状の空間であってもよい。
Further, for example, the
これにより、有機EL素子10の曲げ方向を横断するように緩衝空間140が設けられているので、引張応力を緩衝空間140によって適切に分散させることができる。
Thereby, since the
また、例えば、緩衝空間140の第2方向における最大幅は、10μm以上20μm以下であってもよい。あるいは、例えば、緩衝空間140は、径が10μm以上20μm以下の略球状の空間であってもよい。
For example, the maximum width in the second direction of the
ここで、緩衝空間140を大きくするほど、又は、緩衝空間140の数を増やすほど、有機発光部120の封止性は損なわれて発光層の劣化が進む場合があるので、封止性の観点からは、緩衝空間140は小さく、かつ、少ないことが好ましい。したがって、緩衝空間140の最大幅を10μm以上20μm以下にすることで、引張応力の分散を行うことができ、かつ、有機発光部120の封止性を損なうことを抑制することができる。
Here, as the
また、例えば、本実施の形態に係る有機EL素子10の製造方法は、第1電極121と、発光層を含む有機層122と、第2電極123とを含む有機発光部120を備える有機EL素子10の製造方法であって、第1基板100上に、第1電極121と、有機層122と、第2電極123とをこの順で積層する積層工程と、第1基板100及び第2基板110の少なくとも一方に充填材材料131を、平面視において所定の間隔を空けて塗布する塗布工程と、充填材材料131が有機発光部120を覆うように第1基板100と第2基板110とを貼り合わせることで、充填材材料131に中空の緩衝空間140を形成する貼合工程とを含む。
In addition, for example, the method of manufacturing the
これにより、上述したように、屈曲性を有し、かつ、長寿命な有機EL素子10を提供することができる。
Thereby, as described above, the
具体的には、本実施の形態では、所定の間隔を空けて充填材材料131を塗布することで、緩衝空間140が形成される。つまり、予め充填材材料131に気泡などを含ませるのではなく、充填材材料131の塗布位置及び塗布量などによって、基板を貼り合わせた際に緩衝空間140が形成される。したがって、緩衝空間140の大きさなどを容易に調節することができ、引張応力を効果的に分散することができる。
Specifically, in the present embodiment, the
また、例えば、塗布工程では、予め定められた塗布パターンに従って充填材材料131を塗布してもよい。
Further, for example, in the application process, the
これにより、充填材材料131の配置及びその間隔を調整することで、緩衝空間140の大きさを調節することができる。言い換えると、充填材材料131の塗布位置を調節することで、所望の位置に所望の大きさの緩衝空間140を形成することができる。したがって、例えば、求められる屈曲性の程度に応じて、容易に緩衝空間140の大きさを調節することができる。
Thereby, the magnitude | size of the
また、例えば、塗布工程では、有機EL素子10が曲げられる形状が予め定められている場合に、当該形状に有機EL素子10を曲げたときに、所定の応力以上の引張応力がかかる平面視における領域に、上記間隔を空けて充填材材料131を塗布する。
Further, for example, in a coating process, when a shape in which the
これにより、有機EL素子10を所定の形状に曲げたときに引張応力がかかり、充填材130内の破壊されやすい部分に緩衝空間140を設けることができる。したがって、屈曲性を有し、かつ、長寿命な有機EL素子10を提供することができる。
Thereby, a tensile stress is applied when the
(実施の形態2)
続いて、実施の形態2に係る有機EL素子について図面を用いて説明する。
(Embodiment 2)
Next, the organic EL element according to Embodiment 2 will be described with reference to the drawings.
図6は、本実施の形態に係る有機EL素子20の概略断面図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of the
実施の形態1では、複数の緩衝空間140を等間隔で設けたのに対して、本実施の形態では、予め定められた形状に有機EL素子20を曲げた場合に、最大の引張応力がかかる部分を含む第1領域に、当該第1領域とは異なる第2領域よりも多くの緩衝空間240が設けられる。つまり、有機EL素子20を曲げたときに、最も充填材230が破壊されやすい第1領域に、多くの緩衝空間240を設けている。
In the first embodiment, the plurality of
例えば、有機EL素子20の曲げられる形状が予め定められている場合、有機EL素子20を曲げたときに、最も引張応力がかかり、最も破壊されやすい第1領域が予め決められる。第1領域に多くの緩衝空間240を配置するように、配置パターンは定められる。
For example, when the bent shape of the
図7は、本実施の形態に係る有機EL素子20を曲げたときの概略断面図である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view when the
例えば、平面状の有機EL素子20を所定の円柱体の側面に取り付ける場合を考える。具体的には、発光面である第1基板100側に凸になるように、有機EL素子20は曲げられる。
For example, consider a case where the planar
この場合、引張応力は、有機EL素子20の曲げ方向における中央部分に近い程、大きく、有機EL素子20の端部に近い程、小さくなる。そして、有機EL素子20の曲げ方向における中央部分で、最大の引張応力がかかる。
In this case, the tensile stress is larger as it is closer to the central portion in the bending direction of the
具体的には、図7に示すように、有機EL素子20の曲げ方向における中央領域260では、引張応力が大きく、端部領域261では、引張応力が小さくなる。なお、中央領域260は、第1領域の一例であり、有機EL素子20を曲げたときに所定の応力以上の引張応力がかかる領域である。中央領域260は、最大の引張応力がかかる部分、具体的には、有機EL素子20の曲げ方向における中心部分を含んでいる。また、端部領域261は、第2領域の一例であり、有機EL素子20を曲げたときに所定の応力より小さい引張応力がかかる領域である。
Specifically, as shown in FIG. 7, the tensile stress is large in the
本実施の形態では、図6に示すように、中央領域260に、端部領域261よりも多くの緩衝空間240が設けられている。これにより、中央領域260にかかる大きな引張応力を効果的に分散させることができる。
In the present embodiment, as shown in FIG. 6,
また、本実施の形態に係る有機EL素子20の製造方法は、例えば、塗布工程では、有機EL素子20が曲げられる形状が予め定められている場合に、当該形状に有機EL素子20を曲げたときに、最大の引張応力がかかる平面視における第1領域に、当該第1領域とは異なる第2領域よりも少ない量の充填材材料231を塗布する。
Moreover, in the manufacturing method of the
図8は、本実施の形態に係る充填材材料231の塗布パターンの一例を示す概観斜視図である。
FIG. 8 is a schematic perspective view showing an example of an application pattern of the
図8に示すように、本実施の形態では、第1基板100に充填材材料231を線状に塗布する。なお、具体的には、第1基板100に積層された第2電極123上に充填材材料231を塗布する。
As shown in FIG. 8, in the present embodiment, a
このとき、例えば、充填材材料231は、長手方向が有機EL素子20の曲げ方向に垂直になるように塗布される。さらに、中央領域260に塗布する充填材材料231の塗布量は、端部領域261に塗布する充填材材料231の塗布量よりも少なくする。なお、このときの塗布量は、単位面積当たりの塗布量である。
At this time, for example, the
例えば、図8に示すように、中央領域260には、間隔d1で充填材材料231を線状に塗布する。端部領域261には、間隔d1及びd2(<d1)で充填材材料231を塗布する。間隔d1で充填材材料231を塗布することで、実施の形態1と同様に、緩衝空間240を形成することができる。一方、間隔d2で充填材材料231を塗布することで、基板を貼り合わせたときに隣り合う充填材材料231がくっついて緩衝空間240は形成されない。
For example, as shown in FIG. 8, the
これにより、図6に示すように、中央領域260には4個の緩衝空間240が形成され、端部領域261にはそれぞれ1個の緩衝空間240が形成される。つまり、中央領域260に、端部領域261よりも多くの緩衝空間240を形成することができる。これにより、有機EL素子20を予め定められた形状に曲げたときに効果的に引張応力を分散することができる。
As a result, as shown in FIG. 6, four
(実施の形態3)
続いて、実施の形態3に係る有機EL素子について図面を用いて説明する。
(Embodiment 3)
Next, the organic EL element according to Embodiment 3 will be described with reference to the drawings.
図9は、本実施の形態に係る有機EL素子30の概略断面図である。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of the
本実施の形態に係る有機EL素子30では、図9に示すように、緩衝空間340は、充填材330の内部に設けられている。具体的には、緩衝空間340の全方位が充填材330に囲まれている。言い換えると、緩衝空間340は、充填材330のみによって囲まれて閉じた空間である。
In the
図10は、本実施の形態に係る有機EL素子30を曲げたときの概略断面図である。
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view when the
有機EL素子30を曲げたとき、図10に示すように、充填材330の内部に緩衝空間340が設けられているので、充填材330にかかる応力を分散し、充填材330が破壊されにくくすることができる。つまり、緩衝空間340が応力を分散するので、充填材330が破壊されずに、曲げやすくなる。したがって、有機EL素子30に屈曲性を持たせることができる。
When the
また、有機発光部120は、充填材330によって完全に覆われている。言い換えると、有機発光部120は、緩衝空間340に露出していない。このため、実施の形態1及び2と比較して、有機発光部120の封止性をより高めることができる。
The organic
次に、本実施の形態に係る有機EL素子30の製造方法について、図11A及び図11Bを用いて説明する。図11A及び図11Bは、本実施の形態に係る有機EL素子30の製造方法における充填材材料331及び332の塗布工程、並びに、基板の貼合工程を示す概略断面図である。
Next, a method for manufacturing the
本実施の形態では、まず、図3Aに示す有機発光部120の形成工程を行う。次に、図11Aに示すように、ディスペンサ150を用いて、第1基板100及び第2基板110の両方に充填材材料331及び332をそれぞれ塗布する。
In the present embodiment, first, the formation process of the organic
具体的には、第1基板100上に充填材材料331を塗布する。例えば、第2電極123上に所定の塗布パターンに従って充填材材料331を塗布する。充填材材料331は、所定の間隔dを空けて塗布される。
Specifically, a
さらに、第2基板110上に充填材材料332を塗布する。充填材材料331と充填材材料332とは、同じ樹脂材料である。また、充填材材料331の塗布パターンと、充填材材料332の塗布パターンとは同じである。したがって、第1基板100と第2基板110とを貼り合わせるために対向させた場合、充填材材料331と充填材材料332とは互いに対向する。なお、充填材材料331及び332は、例えば、図4A及び図4Bに示すように、点状又は線状に塗布される。
Further, a
次に、図11Bに示すように、第1基板100と第2基板110とを貼り合わせる。充填材材料331と充填材材料332とは、互いに接触して、それぞれが第2電極123又は第2基板110の表面に沿って流動する。充填材材料331が第2電極123の表面を覆い、充填材材料332が第2基板110の表面を覆うことで、緩衝空間340に第2電極123及び第2基板110を露出させない。
Next, as shown in FIG. 11B, the
第1基板100と第2基板110との貼り合わせが完了した後、充填材材料331及び332を光照射などによって硬化させることで、充填材330内に緩衝空間340を形成する。
After the bonding of the
(その他)
以上、本発明に係る有機EL素子及びその製造方法について、上記実施の形態に基づいて説明したが、本発明は、上記の実施の形態に限定されるものではない。
(Other)
As mentioned above, although the organic EL element concerning this invention and its manufacturing method were demonstrated based on the said embodiment, this invention is not limited to said embodiment.
例えば、上記の実施の形態では、複数の緩衝空間140が整然と並んで配置された例について示したが、ランダムに配置されてもよい。
For example, in the above-described embodiment, an example in which the plurality of
また、例えば、上記の実施の形態では、複数の緩衝空間140を設ける例について示したが、1個のみの緩衝空間140を設けてもよい。1個のみの緩衝空間140の平面視形状は、略円形又は略矩形でもよく、あるいは、環状又は格子状に設けられてもよい。
For example, in the above embodiment, an example in which a plurality of
また、例えば、上記の実施の形態では、緩衝空間140に第2電極123及び第2基板110の両方が露出している例について示したが、第2電極123及び第2基板110のいずれか一方のみが露出していてもよい。
Further, for example, in the above-described embodiment, an example in which both the
また、例えば、上記の実施の形態では、第2基板110上に充填材130を設けたが、第2基板110上に保護膜が設けられてもよい。例えば、保護膜は、シリコン窒化膜などの水分透過率が低い膜である。保護膜は、蒸着法、塗布法、スパッタリング法、イオンビームアシスト法、GCIB(Gas Cluster Ion Beam)蒸着及びCVD法(ALD(Atomic Layer Deposition)又はプラズマCVDなど比較的低温かつ低ダメージ条件による)などによって形成される。
For example, in the above embodiment, the
また、例えば、上記の実施の形態では、第1電極121が陽極で、第2電極123が陰極である例について示したが、逆でもよい。すなわち、第1電極121が陰極で、第2電極123が陽極でもよい。
Further, for example, in the above embodiment, an example in which the
また、例えば、上記の実施の形態では、有機EL素子10の平面視形状が矩形である例について示したが、これに限らない。例えば、有機EL素子10の平面視形状は、多角形、円形又は楕円形などの、直線若しくは曲線で描かれた閉じた形状でもよい。
Further, for example, in the above-described embodiment, the example in which the planar view shape of the
また、例えば、上記の実施の形態では、第1基板100側に発光するボトムエミッション型の有機EL素子10について示したが、第2基板110側に発光するトップエミッション型でもよい。この場合は、例えば、第1電極121が光反射性を有する材料から構成され、第2電極123及び第2基板110が透光性を有する材料から構成される。
Further, for example, in the above-described embodiment, the bottom emission type
その他、各実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。 In addition, the embodiment can be realized by arbitrarily combining the components and functions in each embodiment without departing from the scope of the present invention, or a form obtained by subjecting each embodiment to various modifications conceived by those skilled in the art. Forms are also included in the present invention.
10、20、30 有機EL素子
100 第1基板
110 第2基板
120 有機発光部
121 第1電極
122 有機層
123 第2電極
130、230、330 充填材
131、231、331、332 充填材材料
140、240、340 緩衝空間
260 中央領域(第1領域)
261 端部領域(第2領域)
10, 20, 30
261 end region (second region)
Claims (13)
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた有機発光部であって、前記第1基板に順に積層された第1電極、発光層を含む有機層、及び、第2電極を含む有機発光部と、
前記有機発光部を覆うように前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた充填材とを備え、
前記充填材には、平面視における所定の領域に、中空の緩衝空間が設けられている
有機EL素子。 A flexible first substrate and a second substrate disposed opposite to each other;
An organic light emitting unit provided between the first substrate and the second substrate, comprising a first electrode, an organic layer including a light emitting layer, and a second electrode sequentially stacked on the first substrate. An organic light emitting part;
A filler provided between the first substrate and the second substrate so as to cover the organic light emitting unit;
An organic EL element in which the filler is provided with a hollow buffer space in a predetermined region in plan view.
請求項1に記載の有機EL素子。 The organic EL element according to claim 1, wherein the buffer space is provided according to a predetermined arrangement pattern.
請求項1又は2に記載の有機EL素子。 The predetermined region is a region to which a tensile stress greater than or equal to a predetermined stress is applied when the organic EL element is bent into the shape when a shape in which the organic EL element is bent is predetermined. 3. The organic EL device according to 1 or 2.
前記所定の領域は、
前記有機EL素子が曲げられる形状が予め定められている場合に、当該形状に前記有機EL素子を曲げたときに、最大の引張応力がかかる部分を含む第1領域と、
前記第1領域とは異なる第2領域とを含み、
前記第1領域には、前記第2領域よりも多くの前記緩衝空間が設けられる
請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機EL素子。 The filler is provided with a plurality of buffer spaces,
The predetermined area is:
When a shape in which the organic EL element is bent is predetermined, a first region including a portion where the maximum tensile stress is applied when the organic EL element is bent into the shape;
A second region different from the first region,
The organic EL element according to any one of claims 1 to 3, wherein the first region is provided with more buffer spaces than the second region.
請求項1〜4のいずれか1項に記載の有機EL素子。 The organic EL element according to claim 1, wherein the buffer space is a columnar space that is long in a first direction orthogonal to the second direction, which is a bending direction of the organic EL element, in a plan view.
請求項5に記載の有機EL素子。 The organic EL element according to claim 5, wherein a maximum width of the buffer space in the second direction is not less than 10 μm and not more than 20 μm.
請求項1〜4のいずれか1項に記載の有機EL素子。 The organic EL device according to claim 1, wherein the buffer space is a substantially spherical space having a diameter of 10 μm to 20 μm.
請求項1〜7のいずれか1項に記載の有機EL素子。 The organic EL element according to claim 1, wherein the buffer space is a space that penetrates the filler in the stacking direction.
請求項1〜7のいずれか1項に記載の有機EL素子。 The organic EL element according to claim 1, wherein the buffer space is provided inside the filler.
第1基板上に、前記第1電極と、前記有機層と、前記第2電極とをこの順で積層する積層工程と、
前記第1基板及び前記第2基板の少なくとも一方に充填材材料を、平面視において所定の間隔を空けて塗布する塗布工程と、
前記充填材材料が前記有機発光部を覆うように前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせることで、前記充填材材料に中空の緩衝空間を形成する貼合工程とを含む
有機EL素子の製造方法。 A method for manufacturing an organic EL device comprising an organic light emitting unit including a first electrode, an organic layer including a light emitting layer, and a second electrode,
A laminating step of laminating the first electrode, the organic layer, and the second electrode in this order on the first substrate;
An application step of applying a filler material to at least one of the first substrate and the second substrate at a predetermined interval in a plan view;
A bonding step of forming a hollow buffer space in the filler material by bonding the first substrate and the second substrate so that the filler material covers the organic light-emitting portion; Manufacturing method.
請求項10に記載の有機EL素子の製造方法。 The method for manufacturing an organic EL element according to claim 10, wherein, in the application step, the filler material is applied according to a predetermined application pattern.
請求項10又は11に記載の有機EL素子の製造方法。 In the coating step, when a shape in which the organic EL element is bent is determined in advance, when the organic EL element is bent into the shape, a region in plan view where a tensile stress equal to or higher than a predetermined stress is applied, The method for manufacturing an organic EL element according to claim 10, wherein the filler material is applied with the space therebetween.
請求項10〜12のいずれか1項に記載の有機EL素子の製造方法。 In the application step, when a shape in which the organic EL element is bent is determined in advance, when the organic EL element is bent into the shape, The method for manufacturing an organic EL element according to claim 10, wherein a smaller amount of the filler material is applied than in a second region different from the first region.
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