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JP2017162547A - Organic el element and manufacturing method of the same - Google Patents

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JP2017162547A
JP2017162547A JP2014154797A JP2014154797A JP2017162547A JP 2017162547 A JP2017162547 A JP 2017162547A JP 2014154797 A JP2014154797 A JP 2014154797A JP 2014154797 A JP2014154797 A JP 2014154797A JP 2017162547 A JP2017162547 A JP 2017162547A
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JP
Japan
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organic
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filler
electrode
region
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JP2014154797A
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Japanese (ja)
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真吾 寳角
Shingo Takarazumi
真吾 寳角
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Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
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Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a long-life organic EL element with flexibility.SOLUTION: An organic EL element 10 comprises: a first substrate 100 and a second substrate 110, both having flexibility, which are arranged to face each other; an organic light-emitting part 120, arranged between the first substrate 100 and the second substrate 110, which includes a first electrode 121, an organic layer 122 including a luminous layer, and a second electrode 123 that are sequentially laminated on the first substrate 100; and a filler 130 which is arranged between the first substrate 100 and the second substrate 110 so as to cover the organic light-emitting part 120. The filler 130 has a hollow buffer space 140 provided in a predetermined region in a plan view.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、有機EL(Electro−Luminescence)素子及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an organic EL (Electro-Luminescence) element and a manufacturing method thereof.

有機EL素子は、低電圧、低電流で駆動可能な発光素子であり、供給電力に対して発光輝度が大きく、発光効率が良いという利点がある。このため、近年、有機EL素子を用いた様々なデバイス、例えば、有機EL素子を用いた照明装置及び表示装置などが開発されている。   An organic EL element is a light-emitting element that can be driven at a low voltage and a low current, and has advantages in that light emission luminance is large with respect to supplied power and light emission efficiency is good. For this reason, in recent years, various devices using organic EL elements, such as lighting devices and display devices using organic EL elements, have been developed.

例えば、特許文献1には、密封封止構造の有機ELディスプレイパネルが開示されている。特許文献1に記載の有機ELディスプレイパネルでは、有機EL発光素子が設けられた基板と、カラーフィルタ素子が設けられた基板とが貼り合わせられており、これらの2つの基板の間に樹脂系充填材によって有機EL発光素子を封止する。これにより、有機EL発光素子を水分などから保護し、寿命を延ばすことができる。   For example, Patent Document 1 discloses an organic EL display panel having a hermetically sealed structure. In the organic EL display panel described in Patent Document 1, a substrate provided with an organic EL light emitting element and a substrate provided with a color filter element are bonded together, and a resin-based filling is provided between these two substrates. The organic EL light emitting element is sealed with a material. Thereby, the organic EL light emitting element can be protected from moisture and the life can be extended.

特開2008−235089号公報JP 2008-235089 A

しかしながら、上記従来の有機ELディスプレイパネルを曲げた場合、基板間に充填された充填材が破壊される恐れがある。充填材が破壊された場合には、発光層の封止性が損なわれるので、水分などの影響で発光層の劣化が進み、有機ELディスプレイパネルの寿命が短くなる。   However, when the conventional organic EL display panel is bent, the filler filled between the substrates may be destroyed. When the filler is destroyed, the sealing property of the light emitting layer is impaired, so that the deterioration of the light emitting layer is advanced due to the influence of moisture and the life of the organic EL display panel is shortened.

また、有機ELディスプレイパネルを曲げたときに充填材が破壊されないように、充填材の硬度を調整して、例えば、充填材を軟化させることもできる。しかしながら、軟化させた充填材は、低分子材料を多く含む。この場合、充填材に含まれる低分子材料が発光層に浸透して、発光層の劣化を進め、有機ELディスプレイパネルの寿命が短くなる。   In addition, the filler can be softened by adjusting the hardness of the filler so that the filler is not destroyed when the organic EL display panel is bent. However, the softened filler contains a lot of low-molecular materials. In this case, the low molecular weight material contained in the filler penetrates into the light emitting layer, promotes deterioration of the light emitting layer, and shortens the life of the organic EL display panel.

そこで、本発明は、屈曲性を有する長寿命な有機EL素子及びその製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a long-life organic EL element having flexibility and a method for manufacturing the same.

上記目的を達成するため、本発明の一態様に係る有機EL素子は、対向配置された可撓性を有する第1基板及び第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた有機発光部であって、前記第1基板に順に積層された第1電極、発光層を含む有機層、及び、第2電極を含む有機発光部と、前記有機発光部を覆うように前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた充填材とを備え、前記充填材には、平面視における所定の領域に、中空の緩衝空間が設けられている。   In order to achieve the above object, an organic EL element according to one embodiment of the present invention includes a flexible first substrate and a second substrate that are arranged to face each other, and the first substrate and the second substrate. An organic light emitting unit provided, the first electrode stacked in order on the first substrate, an organic layer including a light emitting layer, an organic light emitting unit including a second electrode, and so as to cover the organic light emitting unit A filler provided between the first substrate and the second substrate is provided, and the filler is provided with a hollow buffer space in a predetermined region in plan view.

本発明によれば、屈曲性を有する長寿命な有機EL素子及びその製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a long-life organic EL element having flexibility and a manufacturing method thereof.

本発明の実施の形態1に係る有機EL素子の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the organic EL element which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る複数の緩衝空間の配置パターンの一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the arrangement pattern of the some buffer space which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る複数の緩衝空間の配置パターンの別の一例を示す平面図である。It is a top view which shows another example of the arrangement pattern of the some buffer space which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る有機EL素子の製造方法における有機発光部の形成工程を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the formation process of the organic light emission part in the manufacturing method of the organic EL element which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る有機EL素子の製造方法における充填材材料の塗布工程を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the application | coating process of the filler material in the manufacturing method of the organic EL element which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る有機EL素子の製造方法における基板の貼合工程を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the bonding process of the board | substrate in the manufacturing method of the organic EL element which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る充填材材料の塗布パターンの一例を示す概観斜視図である。It is a general | schematic perspective view which shows an example of the application pattern of the filler material which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る充填材材料の塗布パターンの別の一例を示す概観斜視図である。It is a general-view perspective view which shows another example of the application pattern of the filler material which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る有機EL素子を曲げたときの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing when the organic EL element which concerns on Embodiment 1 of this invention is bent. 本発明の実施の形態2に係る有機EL素子の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the organic EL element which concerns on Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態2に係る有機EL素子を曲げたときの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing when the organic EL element which concerns on Embodiment 2 of this invention is bent. 本発明の実施の形態2に係る充填材材料の塗布パターンの一例を示す概観斜視図である。It is a general | schematic perspective view which shows an example of the application pattern of the filler material which concerns on Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態3に係る有機EL素子の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the organic EL element which concerns on Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態3に係る有機EL素子を曲げたときの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing when the organic EL element which concerns on Embodiment 3 of this invention is bent. 本発明の実施の形態3に係る有機EL素子の製造方法における充填材材料の塗布工程を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the application | coating process of the filler material in the manufacturing method of the organic EL element which concerns on Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態3に係る有機EL素子の製造方法における基板の貼合工程を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the bonding process of the board | substrate in the manufacturing method of the organic EL element which concerns on Embodiment 3 of this invention.

以下では、本発明の実施の形態に係る有機EL素子及びその製造方法について、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、いずれも本発明の好ましい一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置及び接続形態などは、一例であり、本発明を限定する趣旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本発明の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。   Below, the organic EL element and its manufacturing method which concern on embodiment of this invention are demonstrated in detail using drawing. Note that each of the embodiments described below shows a preferred specific example of the present invention. Therefore, the numerical values, shapes, materials, components, component arrangements, connection forms, and the like shown in the following embodiments are merely examples, and are not intended to limit the present invention. Therefore, among the constituent elements in the following embodiments, constituent elements that are not described in the independent claims showing the highest concept of the present invention are described as optional constituent elements.

また、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、各図において、同じ構成部材については同じ符号を付している。   Each figure is a mimetic diagram and is not necessarily illustrated strictly. Moreover, in each figure, the same code | symbol is attached | subjected about the same structural member.

(実施の形態1)
[有機EL素子]
まず、実施の形態1に係る有機EL素子について、図1を用いて説明する。図1は、本実施の形態に係る有機EL素子10の概略断面図である。
(Embodiment 1)
[Organic EL device]
First, the organic EL element according to Embodiment 1 will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an organic EL element 10 according to the present embodiment.

図1に示すように、有機EL素子10は、第1基板100と、第2基板110と、有機発光部120と、充填材130とを備える。充填材130には、複数の緩衝空間140が設けられている。   As shown in FIG. 1, the organic EL element 10 includes a first substrate 100, a second substrate 110, an organic light emitting unit 120, and a filler 130. The filler 130 is provided with a plurality of buffer spaces 140.

なお、図示しないが、有機EL素子10は、例えば、平面視形状が略矩形の平面発光体である。具体的には、第1基板100、第2基板110及び有機発光部120の平面視形状は、略矩形である。有機EL素子10は、例えば、図1において紙面上下方向に略矩形の面状に発光する。   Although not shown, the organic EL element 10 is, for example, a planar light emitter having a substantially rectangular shape in plan view. Specifically, the planar view shapes of the first substrate 100, the second substrate 110, and the organic light emitting unit 120 are substantially rectangular. For example, the organic EL element 10 emits light in a substantially rectangular plane in the vertical direction of the drawing in FIG.

[基板]
第1基板100及び第2基板110は、対向配置されている。具体的には、第1基板100と第2基板110とは、所定の距離を離間して互いに対向するように配置されている。例えば、第1基板100と第2基板110との距離は、10μm〜100μmであり、一例として30μmである。第1基板100と第2基板110とは、充填材130によって接着されている。
[substrate]
The first substrate 100 and the second substrate 110 are disposed to face each other. Specifically, the first substrate 100 and the second substrate 110 are arranged to face each other with a predetermined distance apart. For example, the distance between the first substrate 100 and the second substrate 110 is 10 μm to 100 μm, and is 30 μm as an example. The first substrate 100 and the second substrate 110 are bonded by a filler 130.

第1基板100及び第2基板110は、可撓性を有する。言い換えると、第1基板100及び第2基板110は、屈曲性を有し、外部から力が加えられた場合に曲げられる。   The first substrate 100 and the second substrate 110 have flexibility. In other words, the first substrate 100 and the second substrate 110 are flexible and are bent when a force is applied from the outside.

例えば、第1基板100及び第2基板110は、薄型ガラス又はバリアフィルムである。具体的には、第1基板100及び第2基板110は、ソーダガラス、無アルカリガラスなどの薄型ガラス基板である。あるいは、第1基板100及び第2基板110は、ポリカーボネート、アクリル樹脂又はポリエチレンテレフタレートなどの樹脂性の基材に、防湿膜を形成したバリアフィルムでもよい。防湿膜は、例えば、金属薄膜などである。   For example, the first substrate 100 and the second substrate 110 are thin glass or barrier films. Specifically, the first substrate 100 and the second substrate 110 are thin glass substrates such as soda glass and non-alkali glass. Alternatively, the first substrate 100 and the second substrate 110 may be a barrier film in which a moisture-proof film is formed on a resinous base material such as polycarbonate, acrylic resin, or polyethylene terephthalate. The moisture-proof film is, for example, a metal thin film.

第1基板100及び第2基板110の少なくとも一方は、透光性を有し、可視光の少なくとも一部を透過する。これにより、有機発光部120から発せられた光を一方向、あるは、両方向に取り出すことができる。第1基板100及び第2基板110としては、例えば、厚さが0.03mm〜1.2mm、一例として0.7mmの板状の透明基板を用いることができる。   At least one of the first substrate 100 and the second substrate 110 has a light-transmitting property and transmits at least part of visible light. Thereby, the light emitted from the organic light emitting unit 120 can be extracted in one direction or both directions. As the first substrate 100 and the second substrate 110, for example, plate-shaped transparent substrates having a thickness of 0.03 mm to 1.2 mm, for example, 0.7 mm can be used.

なお、第2基板110は、例えば、光反射性を有してもよい。具体的には、第2基板110は、ステンレス、アルミニウムなどの金属材料から構成されてもよい。   Note that the second substrate 110 may have light reflectivity, for example. Specifically, the second substrate 110 may be made of a metal material such as stainless steel or aluminum.

[有機発光部]
有機発光部120は、第1基板100と第2基板110との間に設けられ、電圧が印加された場合に平面状に発光する。有機発光部120は、第1電極121と、有機層122と、第2電極123とを備える。第1電極121と、有機層122と、第2電極123とは、この順で第1基板100に積層されている。
[Organic light emitting part]
The organic light emitting unit 120 is provided between the first substrate 100 and the second substrate 110 and emits light in a planar shape when a voltage is applied. The organic light emitting unit 120 includes a first electrode 121, an organic layer 122, and a second electrode 123. The first electrode 121, the organic layer 122, and the second electrode 123 are stacked on the first substrate 100 in this order.

第1電極121は、発光面側に設けられた電極であり、例えば、第1基板100上に設けられる。第1電極121は、例えば、陽極であり、有機EL素子10の発光時には、第2電極123よりも高い電位になる。   The first electrode 121 is an electrode provided on the light emitting surface side, and is provided on the first substrate 100, for example. The first electrode 121 is, for example, an anode, and has a higher potential than the second electrode 123 when the organic EL element 10 emits light.

第1電極121は、透光性を有する導電性材料から構成される。例えば、第1電極121は、可視光の少なくとも一部を透過する透明の導電性材料から構成される。第1電極121は、例えば、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)などから構成される。   The first electrode 121 is made of a light-transmitting conductive material. For example, the first electrode 121 is made of a transparent conductive material that transmits at least part of visible light. The first electrode 121 is made of, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide doped with aluminum (AZO), or the like.

なお、第1電極121は、光を透過できる程度に薄膜の銀、アルミニウムなどの金属薄膜でもよい。あるいは、Agナノワイヤ又はAg粒子を分散させてもよい。あるいは、第1電極121としては、PEDOT、ポリアニリンなどの導電性高分子、若しくは、任意のアクセプタなどでドープした導電性高分子、又は、カーボンナノチューブなどの導電性光透過性材料を用いることもできる。   The first electrode 121 may be a thin metal film such as silver or aluminum that can transmit light. Alternatively, Ag nanowires or Ag particles may be dispersed. Alternatively, as the first electrode 121, a conductive polymer such as PEDOT or polyaniline, a conductive polymer doped with any acceptor, or a conductive light-transmitting material such as a carbon nanotube can be used. .

例えば、第1電極121は、蒸着法、塗布法、スパッタリング法又はイオンビームアシスト法などによって透明導電膜を第1基板100上に成膜し、成膜した透明導電膜をパターニングすることで形成される。例えば、第1電極121の膜厚は、60nm〜200nmであり、一例として、100nmである。   For example, the first electrode 121 is formed by forming a transparent conductive film on the first substrate 100 by vapor deposition, coating, sputtering, ion beam assist, or the like, and patterning the formed transparent conductive film. The For example, the film thickness of the first electrode 121 is 60 nm to 200 nm, and is 100 nm as an example.

有機層122は、第1電極121及び第2電極123の間に設けられる。有機層122は、発光層を含み、第1電極121及び第2電極123の間に電圧が印加されることで、面状に発光する。   The organic layer 122 is provided between the first electrode 121 and the second electrode 123. The organic layer 122 includes a light emitting layer, and emits light in a planar shape when a voltage is applied between the first electrode 121 and the second electrode 123.

具体的には、有機層122は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層(有機EL層)、電子輸送層及び電子注入層を含んでいる。発光層などの有機層122は、例えば、ジアミン、アントラセン、金属錯体などの有機材料から構成される。有機層122を構成する各層は、蒸着法、スピンコート法、キャスト法、又は、イオンビームアシスト法などにより形成される。例えば、有機層122の膜厚は、150nm〜350nmであり、一例として、210nmである。   Specifically, the organic layer 122 includes a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer (organic EL layer), an electron transport layer, and an electron injection layer. The organic layer 122 such as a light emitting layer is made of an organic material such as diamine, anthracene, or metal complex. Each layer constituting the organic layer 122 is formed by an evaporation method, a spin coating method, a casting method, an ion beam assist method, or the like. For example, the thickness of the organic layer 122 is 150 nm to 350 nm, and is 210 nm as an example.

例えば、発光色が白色の場合には、有機層122は、発光層中に赤色、緑色、青色の3色のドーパント色素をドーピングして形成される。あるいは、有機層122は、青色正孔輸送性発光層と緑色電子輸送性発光層と赤色電子輸送性発光層との積層構造を有してもよい。また、有機層122は、赤色、緑色、青色の発光ユニットが光透過性及び導電性を有する中間層を介して積層され、電気的に直接的に接続したマルチユニット構造にしてもよい。   For example, when the emission color is white, the organic layer 122 is formed by doping the emission layer with dopant pigments of three colors of red, green, and blue. Alternatively, the organic layer 122 may have a stacked structure of a blue hole transporting light emitting layer, a green electron transporting light emitting layer, and a red electron transporting light emitting layer. The organic layer 122 may have a multi-unit structure in which red, green, and blue light-emitting units are stacked via an intermediate layer having light transmission and conductivity, and are electrically connected directly.

第2電極123は、発光面とは反対側に設けられた電極であり、例えば、有機層122上に設けられる。第2電極123は、例えば、陰極であり、有機EL素子10の発光時には、第1電極121よりも低い電位になる。   The second electrode 123 is an electrode provided on the side opposite to the light emitting surface, and is provided on the organic layer 122, for example. The second electrode 123 is, for example, a cathode, and has a lower potential than the first electrode 121 when the organic EL element 10 emits light.

第2電極123は、光反射性を有する導電性材料から構成される。第2電極123は、有機層122から発せられた光を反射し、発光面側に出射させる。第2電極123は、例えば、アルミニウム、銀若しくはマグネシウム、又は、これらの少なくとも1種類を含む合金などの金属材料から構成される。例えば、第2電極123は、蒸着法、塗布法、スパッタリング法、イオンビームアシスト法又はGCIB(Gas Cluster Ion Beam)蒸着などによって導電膜を有機層122上に成膜することで形成される。例えば、第2電極123の膜厚は、20nm〜200nmであり、一例として、100nmである。   The second electrode 123 is made of a conductive material having light reflectivity. The second electrode 123 reflects the light emitted from the organic layer 122 and emits it to the light emitting surface side. The second electrode 123 is made of, for example, a metal material such as aluminum, silver, or magnesium, or an alloy containing at least one of these. For example, the second electrode 123 is formed by depositing a conductive film on the organic layer 122 by vapor deposition, coating, sputtering, ion beam assist, GCIB (Gas Cluster Ion Beam) vapor deposition, or the like. For example, the thickness of the second electrode 123 is 20 nm to 200 nm, and is 100 nm as an example.

なお、金属材料は水分透過率が低いので、第2電極123は、有機層122を水分から保護することができる。第2電極123は、例えば、導電性の樹脂材料から構成されてもよい。   Note that since the moisture permeability of the metal material is low, the second electrode 123 can protect the organic layer 122 from moisture. The second electrode 123 may be made of, for example, a conductive resin material.

また、第2電極123は、透光性を有する導電性材料から構成されてもよい。例えば、第2電極123としては、第1電極121と同じ材料を利用することができる。この場合、第2基板110も光透過性材料で構成されていれば、有機EL素子10は、両面発光型の照明装置として、例えば、建物又は車両の窓などに利用することができる。   The second electrode 123 may be made of a light-transmitting conductive material. For example, the same material as the first electrode 121 can be used for the second electrode 123. In this case, if the 2nd board | substrate 110 is also comprised with the light transmissive material, the organic EL element 10 can be utilized for a window of a building or a vehicle as a double-sided light emitting type lighting device, for example.

なお、図示しないが、例えば、第1基板100上に、第1電極121及び第2電極123に給電するための引出電極が設けられる。具体的には、第1基板100の周端部分であって、充填材130より外方の部分に、第1電極121に電気的に接続された第1引出電極と、第2電極123に電気的に接続された第2引出電極とが設けられる。第1引出電極及び第2引出電極としては、例えば、第1電極121又は第2電極123と同じ材料を用いることができる。   Although not shown, for example, an extraction electrode for supplying power to the first electrode 121 and the second electrode 123 is provided on the first substrate 100. Specifically, a first lead electrode electrically connected to the first electrode 121 and a second electrode 123 are electrically connected to the peripheral end portion of the first substrate 100 and outside the filler 130. Connected to the second extraction electrode. As the first extraction electrode and the second extraction electrode, for example, the same material as that of the first electrode 121 or the second electrode 123 can be used.

[充填材]
充填材130は、有機発光部120を覆うように第1基板100と第2基板110との間に設けられる。具体的には、充填材130は、第1基板100と第2基板110との間に充填されて硬化した樹脂材料である。
[Filler]
The filler 130 is provided between the first substrate 100 and the second substrate 110 so as to cover the organic light emitting unit 120. Specifically, the filler 130 is a resin material that is filled and cured between the first substrate 100 and the second substrate 110.

例えば、充填材130としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、又は、シリコーン樹脂などの光硬化性、熱硬化性又は二液硬化性の接着性樹脂を用いることができる。あるいは、充填材130としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの酸変性物からなる熱可塑性の接着性樹脂などを用いてもよい。   For example, as the filler 130, a photocurable, thermosetting, or two-component curable adhesive resin such as an epoxy resin, an acrylic resin, or a silicone resin can be used. Alternatively, as the filler 130, a thermoplastic adhesive resin made of an acid-modified product such as polyethylene or polypropylene may be used.

充填材130は、樹脂材料からなる充填材材料を塗布し、硬化することで形成される。例えば、充填材材料の粘度及び膜厚に応じて、ロールコート、スピンコート、スクリーン印刷、スプレーコート、スリットコート、スキージ塗布などの印刷法、又は、ディスペンサによる液滴、又は、描画塗布などによって充填材材料が塗布される。充填材材料の塗布の詳細については、後で説明する。   The filler 130 is formed by applying and curing a filler material made of a resin material. For example, depending on the viscosity and film thickness of the filler material, it can be filled by printing methods such as roll coating, spin coating, screen printing, spray coating, slit coating, squeegee coating, droplets with a dispenser, or drawing coating. A material material is applied. Details of the application of the filler material will be described later.

なお、充填材130を囲むようにシール材が設けられてもよい。言い換えると、充填材130は、第1基板100の外周に沿った枠状のシール材であって、第1基板100と第2基板110とを接続するシール材の内部に設けられている。例えば、シール材は、充填材130よりも粘度の高い材料から構成され、充填材130を塗布する際のダム材として利用することができる。   Note that a sealing material may be provided so as to surround the filler 130. In other words, the filler 130 is a frame-shaped sealing material along the outer periphery of the first substrate 100, and is provided inside the sealing material that connects the first substrate 100 and the second substrate 110. For example, the sealing material is made of a material having a higher viscosity than that of the filler 130 and can be used as a dam material when the filler 130 is applied.

[緩衝空間]
緩衝空間140は、充填材130の平面視における所定の領域に設けられた中空の空間である。緩衝空間140は、図1に示すように、充填材130を積層方向に貫通している。
[Buffer space]
The buffer space 140 is a hollow space provided in a predetermined region in the plan view of the filler 130. As shown in FIG. 1, the buffer space 140 penetrates the filler 130 in the stacking direction.

充填材130には、図1に示すように、複数の緩衝空間140が設けられている。複数の緩衝空間140は、互いに独立して閉じた空間である。具体的には、緩衝空間140は、充填材130と第2電極123と第2基板110とによって囲まれた空間である。   As shown in FIG. 1, the filler 130 is provided with a plurality of buffer spaces 140. The plurality of buffer spaces 140 are spaces that are closed independently of each other. Specifically, the buffer space 140 is a space surrounded by the filler 130, the second electrode 123, and the second substrate 110.

緩衝空間140が設けられる所定の領域は、例えば、所定の配置パターンに従って決定された領域である。言い換えると、緩衝空間140は、予め定められた配置パターンに従って配置されている。配置パターンは、例えば、緩衝空間140の平面視内における配置を表す。   The predetermined area where the buffer space 140 is provided is, for example, an area determined according to a predetermined arrangement pattern. In other words, the buffer space 140 is arranged according to a predetermined arrangement pattern. The arrangement pattern represents, for example, the arrangement of the buffer space 140 in a plan view.

図2A及び図2Bは、本実施の形態に係る複数の緩衝空間140の配置パターンの一例を示す平面図である。   2A and 2B are plan views showing an example of an arrangement pattern of the plurality of buffer spaces 140 according to the present embodiment.

緩衝空間140は、例えば、有機EL素子10が曲げられる形状が予め定められている場合に、当該形状に有機EL素子10を曲げたときに、所定の応力以上の引張応力がかかる平面視における領域に設けられる。例えば、所定の応力は、充填材130が破壊される応力(破壊応力)、又は、当該破壊応力の80%以上の値などである。簡単に言い換えると、有機EL素子10を曲げたときに、充填材130が破壊されやすい部分に緩衝空間140を設ける。   The buffer space 140 is, for example, a region in a plan view in which a tensile stress greater than or equal to a predetermined stress is applied when the organic EL element 10 is bent in a predetermined shape when the organic EL element 10 is bent. Is provided. For example, the predetermined stress is a stress at which the filler 130 is destroyed (fracture stress) or a value of 80% or more of the fracture stress. In other words, the buffer space 140 is provided in a portion where the filler 130 is easily broken when the organic EL element 10 is bent.

例えば、図2Aに示すように、複数の緩衝空間140は、略均一な大きさであり、具体的には、その平面視形状は、略円形である。つまり、複数の緩衝空間140は、積層方向に軸を有する略円柱状の空間である。緩衝空間140の平面視における最大幅(具体的には、略円形の直径)は、例えば、10μm以上20μm以下である。   For example, as shown in FIG. 2A, the plurality of buffer spaces 140 have a substantially uniform size, and specifically, the planar view shape is a substantially circular shape. That is, the plurality of buffer spaces 140 are substantially cylindrical spaces having axes in the stacking direction. The maximum width (specifically, substantially circular diameter) of the buffer space 140 in plan view is, for example, not less than 10 μm and not more than 20 μm.

複数の緩衝空間140は、例えば、充填材130内に行列状に等間隔で配置されている。なお、図2Aでは、5行×5列の行列状に25個の緩衝空間140が配置された例を示しているが、行方向及び列方向の個数は一例であって、これに限らない。   The plurality of buffer spaces 140 are, for example, arranged in a matrix in the filler 130 at regular intervals. 2A shows an example in which 25 buffer spaces 140 are arranged in a matrix of 5 rows × 5 columns, the numbers in the row direction and the column direction are merely examples, and the present invention is not limited to this.

なお、緩衝空間140は、略円柱形状ではなく、略球状の空間でもよい。具体的には、緩衝空間140は、径が10μm以上20μm以下の略球状の空間でもよい。例えば、緩衝空間140は、第1基板100と第2基板110とを貼り合わせた際に、充填材130内に閉じ込められた気泡である。   The buffer space 140 may be a substantially spherical space instead of a substantially cylindrical shape. Specifically, the buffer space 140 may be a substantially spherical space having a diameter of 10 μm to 20 μm. For example, the buffer space 140 is a bubble confined in the filler 130 when the first substrate 100 and the second substrate 110 are bonded together.

また、図2Bに示すように、複数の緩衝空間140は、略均一な大きさであり、具体的には、その平面視形状は、角が丸い略矩形である。複数の緩衝空間140は、第1方向(紙面上下方向)に長い柱状の空間である。なお、第1方向は、有機EL素子10の曲げ方向である第2方向(紙面左右方向)に、平面視において直交する方向である。つまり、第1方向は、緩衝空間140の長手方向であり、第2方向は、緩衝空間140の短手方向である。   As shown in FIG. 2B, the plurality of buffer spaces 140 have a substantially uniform size, and specifically, the planar view shape is a substantially rectangular shape with rounded corners. The plurality of buffer spaces 140 are columnar spaces that are long in the first direction (the vertical direction on the paper surface). The first direction is a direction orthogonal to the second direction (the left-right direction on the paper surface), which is the bending direction of the organic EL element 10, in a plan view. That is, the first direction is the longitudinal direction of the buffer space 140, and the second direction is the short direction of the buffer space 140.

複数の緩衝空間140は、例えば、平面視において、緩衝空間140の短手方向に並んでいる。言い換えると、複数の緩衝空間140は、互いに平行になるように配置されている。なお、図2Bでは、4個の緩衝空間140が互いに平行に配置されているが、その配置及び個数は、これに限らない。   The plurality of buffer spaces 140 are arranged in the short direction of the buffer space 140 in a plan view, for example. In other words, the plurality of buffer spaces 140 are arranged so as to be parallel to each other. In FIG. 2B, four buffer spaces 140 are arranged in parallel to each other, but the arrangement and the number thereof are not limited to this.

[製造方法]
続いて、本実施の形態に係る有機EL素子10の製造方法について、図3A〜図4Bを用いて説明する。
[Production method]
Then, the manufacturing method of the organic EL element 10 which concerns on this Embodiment is demonstrated using FIG. 3A-FIG. 4B.

図3A〜図3Cはそれぞれ、本実施の形態に係る有機EL素子10の製造方法における有機発光部120の形成工程、充填材材料131の塗布工程及び基板の貼合工程を示す概略断面図である。図4A及び図4Bは、本実施の形態に係る充填材材料131の塗布パターンの一例を示す概観斜視図である。   FIG. 3A to FIG. 3C are schematic cross-sectional views illustrating the formation process of the organic light emitting unit 120, the coating process of the filler material 131, and the bonding process of the substrate in the method for manufacturing the organic EL element 10 according to the present embodiment. . 4A and 4B are schematic perspective views showing an example of an application pattern of the filler material 131 according to the present embodiment.

まず、図3Aに示すように、第1基板100を準備し、第1基板100上に有機発光部120を形成する。具体的には、第1基板100上に、第1電極121と、有機層122と、第2電極123とをこの順で積層する。このとき、第1引出電極、第2引出電極、及び、第1電極121と第2電極123とを絶縁する絶縁層などを形成してもよい。   First, as shown in FIG. 3A, the first substrate 100 is prepared, and the organic light emitting unit 120 is formed on the first substrate 100. Specifically, the first electrode 121, the organic layer 122, and the second electrode 123 are stacked in this order on the first substrate 100. At this time, a first extraction electrode, a second extraction electrode, an insulating layer that insulates the first electrode 121 and the second electrode 123, and the like may be formed.

なお、有機発光部120の各層の形成は、例えば、真空チャンバを有する蒸着装置を用いて行われる。つまり、第1電極121、有機層122及び第2電極123は、真空下で形成される。このときの真空は、例えば、10−3〜10−6Pa以下の圧力である。 In addition, formation of each layer of the organic light emission part 120 is performed using the vapor deposition apparatus which has a vacuum chamber, for example. That is, the first electrode 121, the organic layer 122, and the second electrode 123 are formed under vacuum. The vacuum at this time is, for example, a pressure of 10 −3 to 10 −6 Pa or less.

次に、図3Bに示すように、ディスペンサ150を用いて、第1基板100上に充填材材料131を塗布する。具体的には、第2電極123上に、所定の塗布パターンに従って充填材材料131を塗布する。充填材材料131は、例えば、所定の間隔dを空けて塗布される。   Next, as shown in FIG. 3B, a filler material 131 is applied onto the first substrate 100 using a dispenser 150. Specifically, the filler material 131 is applied on the second electrode 123 according to a predetermined application pattern. For example, the filler material 131 is applied with a predetermined interval d.

例えば、有機EL素子10が曲げられる形状が予め定められている場合に、当該形状に有機EL素子10を曲げたときに、上述した所定の応力(例えば、破壊応力)以上の引張応力がかかる平面視における領域に、間隔dを空けて充填材材料131を塗布する。例えば、有機EL素子10を曲げたときに、充填材130が破壊されやすい部分を、当該部分の両側に間隔dを空けて充填材材料131を塗布する。   For example, when the shape in which the organic EL element 10 is bent is determined in advance, when the organic EL element 10 is bent into the shape, a plane on which a tensile stress equal to or higher than the predetermined stress (for example, a breaking stress) described above is applied. The filler material 131 is applied to the region in view with a gap d. For example, when the organic EL element 10 is bent, the filler material 131 is applied to the portion where the filler 130 is easily broken at intervals d on both sides of the portion.

例えば、図4Aに示すように、点状に等間隔で充填材材料131を塗布する。所定の間隔dは、充填材材料131の1点当たりの塗布量(すなわち、滴下量)と、第1基板100及び第2基板110の間の距離(すなわち、基板間距離)とに基づいて設定される。例えば、所定の間隔dは、0.5mm〜6.0mmであり、一例として、2mmである。   For example, as shown in FIG. 4A, the filler material 131 is applied at regular intervals in the form of dots. The predetermined interval d is set based on the application amount (that is, the dripping amount) per point of the filler material 131 and the distance between the first substrate 100 and the second substrate 110 (that is, the inter-substrate distance). Is done. For example, the predetermined distance d is 0.5 mm to 6.0 mm, and is 2 mm as an example.

あるいは、図4Bに示すように、線状に等間隔で充填材材料131を塗布してもよい。この場合の所定の間隔dは、充填材材料131の1ライン当たりの塗布量と、基板間距離とに基づいて設定される。例えば、所定の間隔dは、図4Aの場合と同様に、0.5mm〜6.0mmであり、一例として、2mmである。   Alternatively, as shown in FIG. 4B, the filler material 131 may be applied linearly at equal intervals. The predetermined interval d in this case is set based on the coating amount per line of the filler material 131 and the inter-substrate distance. For example, the predetermined distance d is 0.5 mm to 6.0 mm as in the case of FIG. 4A, and is 2 mm as an example.

なお、充填材材料131の塗布工程は、例えば、続いて実行される基板の貼合工程と同じ圧力下で行われる。あるいは、有機発光部120の形成工程と同じ圧力下で行われてもよい。例えば、塗布工程及び貼合工程の圧力を調節することで、緩衝空間140の大きさを調節することができる。   In addition, the application | coating process of the filler material 131 is performed under the same pressure as the bonding process of the board | substrate performed subsequently, for example. Alternatively, it may be performed under the same pressure as the step of forming the organic light emitting unit 120. For example, the size of the buffer space 140 can be adjusted by adjusting the pressure in the coating process and the bonding process.

なお、充填材材料131を第1基板100に塗布したが、第2基板110に塗布してもよい。   Although the filler material 131 is applied to the first substrate 100, it may be applied to the second substrate 110.

次に、図3Cに示すように、第1基板100と第2基板110とを貼り合わせる。具体的には、大気圧より低い減圧下で第1基板100と第2基板110とを貼り合わせた後、大気圧に開放する。充填材材料131が第1基板100と第2基板110とを接続することで、隣り合う充填材材料131間に緩衝空間140が形成される。   Next, as shown in FIG. 3C, the first substrate 100 and the second substrate 110 are bonded together. Specifically, the first substrate 100 and the second substrate 110 are bonded together under a reduced pressure lower than the atmospheric pressure, and then released to the atmospheric pressure. When the filler material 131 connects the first substrate 100 and the second substrate 110, a buffer space 140 is formed between the adjacent filler materials 131.

このように、充填材材料131が有機発光部120を覆うように第1基板100と第2基板110とを貼り合わせることで、充填材材料131の平面視における所定の領域に中空の緩衝空間140を形成する。具体的には、隣り合う充填材材料131の間隔の中央部分を中心とする緩衝空間140が形成される。簡単に言い換えると、充填材材料131が塗布されていない部分に緩衝空間140が形成される。   In this way, by bonding the first substrate 100 and the second substrate 110 so that the filler material 131 covers the organic light emitting unit 120, a hollow buffer space 140 is formed in a predetermined region in a plan view of the filler material 131. Form. Specifically, the buffer space 140 is formed around the central portion of the interval between the adjacent filler materials 131. In other words, the buffer space 140 is formed in a portion where the filler material 131 is not applied.

このとき、貼り合わせ時の圧力と、貼り合わせの荷重とを調整することにより、緩衝空間140の大きさを調節する。   At this time, the size of the buffer space 140 is adjusted by adjusting the pressure at the time of bonding and the load at the time of bonding.

例えば、緩衝空間140内の圧力は、貼り合わせ時の減圧された圧力である。このため、緩衝空間140は、大気圧に開放されたときに、充填材材料131によって押されて小さくなる。このとき、例えば、貼り合わせ時の圧力から大気圧まで段階的に圧力を上昇させることで、基板間にかかる荷重を徐々に増加させることができる。これにより、緩衝空間140の潰れる程度、すなわち、緩衝空間140の大きさを調節することができる。   For example, the pressure in the buffer space 140 is a pressure reduced at the time of bonding. For this reason, when the buffer space 140 is opened to atmospheric pressure, it is pushed by the filler material 131 and becomes small. At this time, for example, by gradually increasing the pressure from the pressure at the time of bonding to the atmospheric pressure, the load applied between the substrates can be gradually increased. Thereby, the extent to which the buffer space 140 is crushed, that is, the size of the buffer space 140 can be adjusted.

例えば、第1基板100と第2基板110とを貼り合わせた時の圧力は、約1Pa以上の圧力である。なお、減圧下で第1基板100と第2基板110とを貼り合わせなくてもよく、例えば、大気圧下で貼り合わせてもよい。具体的には、第1基板100及び第2基板110を治具などに固定し、例えば、第2基板110の上面の一方の端部から他方の端部まで、ローラー状の押圧部を押し当てることで、第1基板100と第2基板110とを貼り合わせてもよい。   For example, the pressure when the first substrate 100 and the second substrate 110 are bonded together is a pressure of about 1 Pa or more. Note that the first substrate 100 and the second substrate 110 do not have to be bonded under reduced pressure, and may be bonded, for example, under atmospheric pressure. Specifically, the first substrate 100 and the second substrate 110 are fixed to a jig or the like, and for example, a roller-shaped pressing portion is pressed from one end portion of the upper surface of the second substrate 110 to the other end portion. Thus, the first substrate 100 and the second substrate 110 may be bonded together.

第1基板100と第2基板110とを貼り合わせた後、光照射などにより充填材材料131を硬化させることで、図1に示す有機EL素子10を形成することができる。   After bonding the first substrate 100 and the second substrate 110, the filler material 131 is cured by light irradiation or the like, whereby the organic EL element 10 shown in FIG. 1 can be formed.

[まとめ]
以上のように、本実施の形態に係る有機EL素子10は、対向配置された可撓性を有する第1基板100及び第2基板110と、第1基板100と第2基板110との間に設けられた有機発光部120であって、第1基板100に順に積層された第1電極121、発光層を含む有機層122、及び、第2電極123を含む有機発光部120と、有機発光部120を覆うように第1基板100と第2基板110との間に設けられた充填材130とを備え、充填材130には、平面視における所定の領域に、中空の緩衝空間140が設けられている。
[Summary]
As described above, the organic EL element 10 according to the present embodiment includes the flexible first substrate 100 and the second substrate 110 that are disposed to face each other, and between the first substrate 100 and the second substrate 110. An organic light emitting unit 120 provided, the first electrode 121 sequentially stacked on the first substrate 100, the organic layer 122 including the light emitting layer, and the organic light emitting unit 120 including the second electrode 123, and the organic light emitting unit 120 is provided with a filler 130 provided between the first substrate 100 and the second substrate 110 so as to cover 120, and the filler 130 is provided with a hollow buffer space 140 in a predetermined region in plan view. ing.

ここで、図5は、本実施の形態に係る有機EL素子10を曲げたときの概略断面図である。   Here, FIG. 5 is a schematic cross-sectional view when the organic EL element 10 according to the present embodiment is bent.

有機EL素子10を曲げたとき、図5に示すように、緩衝空間140が設けられているので、充填材130にかかる応力を分散し、充填材130が破壊されにくくすることができる。つまり、充填材130が破壊されずに、曲げやすくなる。したがって、有機EL素子10に屈曲性を持たせることができる。   When the organic EL element 10 is bent, as shown in FIG. 5, since the buffer space 140 is provided, the stress applied to the filler 130 can be dispersed and the filler 130 can be made difficult to break. That is, it becomes easy to bend without the filler 130 being destroyed. Therefore, the organic EL element 10 can be flexible.

また、本実施の形態によれば、緩衝空間140が応力を分散するので、充填材130の硬度を調節する必要はない。つまり、必要以上に軟性の高い充填材を用いなくて済むので、充填材130が有機発光部120の発光層を破壊することを抑制することができる。   Further, according to the present embodiment, since the buffer space 140 disperses the stress, it is not necessary to adjust the hardness of the filler 130. That is, since it is not necessary to use a filler that is softer than necessary, it is possible to prevent the filler 130 from destroying the light emitting layer of the organic light emitting unit 120.

なお、例えば、従来、密封封止構造を形成する際に充填材材料が封止空間内に適切に広がらずに、端部に空間が形成される場合がある。つまり、従来は充填材の端部に空間が設けられているのに対して、本実施の形態では、充填材130内に緩衝空間140が形成されている。例えば、図1に示すように、緩衝空間140は、充填材130によって囲まれており、積層方向のみが第2基板110及び第2電極123によって覆われている。   In addition, for example, conventionally, when forming a hermetic sealing structure, a space may be formed at the end portion of the filler material without appropriately spreading in the sealing space. That is, a space is provided in the end portion of the filler in the related art, whereas in the present embodiment, the buffer space 140 is formed in the filler 130. For example, as shown in FIG. 1, the buffer space 140 is surrounded by the filler 130, and only the stacking direction is covered by the second substrate 110 and the second electrode 123.

以上のように、本実施の形態では、所定の領域に緩衝空間140を設けることで、例えば、当該領域で有機EL素子10を屈曲させることができる。言い換えると、屈曲させようとする領域に緩衝空間140を形成することができる。   As described above, in the present embodiment, by providing the buffer space 140 in a predetermined region, for example, the organic EL element 10 can be bent in the region. In other words, the buffer space 140 can be formed in the region to be bent.

また、例えば、緩衝空間140は、予め定められた配置パターンに従って設けられていてもよい。   For example, the buffer space 140 may be provided according to a predetermined arrangement pattern.

これにより、例えば、規則正しく複数の緩衝空間140を配置することができ、有機EL素子10を曲げたときの応力をより適切に分散させることができる。つまり、有機EL素子10の屈曲性をより高めることができる。   Thereby, for example, the plurality of buffer spaces 140 can be regularly arranged, and the stress when the organic EL element 10 is bent can be more appropriately dispersed. That is, the flexibility of the organic EL element 10 can be further improved.

また、例えば、所定の領域は、有機EL素子10が曲げられる形状が予め定められている場合に、当該形状に有機EL素子10を曲げたときに、所定の応力以上の引張応力がかかる領域である。   Further, for example, the predetermined region is a region where a tensile stress equal to or greater than a predetermined stress is applied when the organic EL element 10 is bent into the shape when the shape in which the organic EL element 10 is bent is predetermined. is there.

これにより、有機EL素子10を所定の形状に曲げたときに引張応力がかかり、充填材130内の破壊されやすい部分に緩衝空間140を設けることができる。したがって、緩衝空間140によって応力を分散させて、充填材130を破壊されにくくすることができる。   Thereby, a tensile stress is applied when the organic EL element 10 is bent into a predetermined shape, and the buffer space 140 can be provided in a portion of the filler 130 that is easily broken. Therefore, the stress can be dispersed by the buffer space 140 and the filler 130 can be made difficult to break.

例えば、有機EL素子10は、所定の曲面に取り付けられることが予め定められて製造されることがある。具体的には、有機EL素子10が曲げられる形状が予め定められているので、当該形状の有機EL素子、すなわち、曲面を有する有機EL素子を製造することが考えられる。   For example, the organic EL element 10 may be manufactured by being predetermined to be attached to a predetermined curved surface. Specifically, since the shape in which the organic EL element 10 is bent is determined in advance, it is conceivable to manufacture an organic EL element having the shape, that is, an organic EL element having a curved surface.

しかしながら、曲面を有する有機EL素子は、例えば、均一な膜厚の発光層を形成するのが難しいという問題がある。また、運搬のしやすさなどの観点からも平面を有する有機EL素子を製造し、取り付け時に屈曲させることが好ましい。   However, an organic EL element having a curved surface has a problem that it is difficult to form a light emitting layer having a uniform thickness, for example. Moreover, it is preferable to manufacture an organic EL element having a flat surface from the viewpoint of ease of transportation and to bend it at the time of attachment.

これに対して、本実施の形態に係る有機EL素子10は、平面を有するので、製造及び運搬を容易に行うことができる。また、有機EL素子10が曲げられる形状に応じて緩衝空間140が配置されているので、屈曲させたときに破壊されにくくすることができる。   On the other hand, since the organic EL element 10 according to the present embodiment has a flat surface, it can be easily manufactured and transported. In addition, since the buffer space 140 is arranged according to the shape in which the organic EL element 10 is bent, it can be made difficult to be destroyed when bent.

また、例えば、緩衝空間140は、有機EL素子10の曲げ方向である第2方向に平面視において直交する第1方向に長い柱状の空間であってもよい。   Further, for example, the buffer space 140 may be a columnar space that is long in a first direction orthogonal to the second direction, which is the bending direction of the organic EL element 10, in a plan view.

これにより、有機EL素子10の曲げ方向を横断するように緩衝空間140が設けられているので、引張応力を緩衝空間140によって適切に分散させることができる。   Thereby, since the buffer space 140 is provided so as to cross the bending direction of the organic EL element 10, the tensile stress can be appropriately dispersed by the buffer space 140.

また、例えば、緩衝空間140の第2方向における最大幅は、10μm以上20μm以下であってもよい。あるいは、例えば、緩衝空間140は、径が10μm以上20μm以下の略球状の空間であってもよい。   For example, the maximum width in the second direction of the buffer space 140 may be 10 μm or more and 20 μm or less. Alternatively, for example, the buffer space 140 may be a substantially spherical space having a diameter of 10 μm to 20 μm.

ここで、緩衝空間140を大きくするほど、又は、緩衝空間140の数を増やすほど、有機発光部120の封止性は損なわれて発光層の劣化が進む場合があるので、封止性の観点からは、緩衝空間140は小さく、かつ、少ないことが好ましい。したがって、緩衝空間140の最大幅を10μm以上20μm以下にすることで、引張応力の分散を行うことができ、かつ、有機発光部120の封止性を損なうことを抑制することができる。   Here, as the buffer space 140 is increased or the number of the buffer spaces 140 is increased, the sealing property of the organic light emitting unit 120 may be impaired and the deterioration of the light emitting layer may progress. Therefore, it is preferable that the buffer space 140 is small and small. Therefore, by setting the maximum width of the buffer space 140 to 10 μm or more and 20 μm or less, it is possible to disperse the tensile stress and to suppress the sealing performance of the organic light emitting unit 120 from being impaired.

また、例えば、本実施の形態に係る有機EL素子10の製造方法は、第1電極121と、発光層を含む有機層122と、第2電極123とを含む有機発光部120を備える有機EL素子10の製造方法であって、第1基板100上に、第1電極121と、有機層122と、第2電極123とをこの順で積層する積層工程と、第1基板100及び第2基板110の少なくとも一方に充填材材料131を、平面視において所定の間隔を空けて塗布する塗布工程と、充填材材料131が有機発光部120を覆うように第1基板100と第2基板110とを貼り合わせることで、充填材材料131に中空の緩衝空間140を形成する貼合工程とを含む。   In addition, for example, the method of manufacturing the organic EL element 10 according to the present embodiment includes an organic EL element including the organic light emitting unit 120 including the first electrode 121, the organic layer 122 including the light emitting layer, and the second electrode 123. 10, a stacking process in which the first electrode 121, the organic layer 122, and the second electrode 123 are stacked in this order on the first substrate 100, and the first substrate 100 and the second substrate 110. And applying the first substrate 100 and the second substrate 110 so that the filler material 131 covers the organic light emitting unit 120 at a predetermined interval in a plan view. And a bonding step of forming a hollow buffer space 140 in the filler material 131.

これにより、上述したように、屈曲性を有し、かつ、長寿命な有機EL素子10を提供することができる。   Thereby, as described above, the organic EL element 10 having flexibility and a long lifetime can be provided.

具体的には、本実施の形態では、所定の間隔を空けて充填材材料131を塗布することで、緩衝空間140が形成される。つまり、予め充填材材料131に気泡などを含ませるのではなく、充填材材料131の塗布位置及び塗布量などによって、基板を貼り合わせた際に緩衝空間140が形成される。したがって、緩衝空間140の大きさなどを容易に調節することができ、引張応力を効果的に分散することができる。   Specifically, in the present embodiment, the buffer space 140 is formed by applying the filler material 131 at a predetermined interval. That is, the buffer material 140 is formed when the substrates are bonded to each other depending on the application position and the application amount of the filler material 131 instead of including bubbles in the filler material 131 in advance. Therefore, the size of the buffer space 140 can be easily adjusted, and the tensile stress can be effectively dispersed.

また、例えば、塗布工程では、予め定められた塗布パターンに従って充填材材料131を塗布してもよい。   Further, for example, in the application process, the filler material 131 may be applied according to a predetermined application pattern.

これにより、充填材材料131の配置及びその間隔を調整することで、緩衝空間140の大きさを調節することができる。言い換えると、充填材材料131の塗布位置を調節することで、所望の位置に所望の大きさの緩衝空間140を形成することができる。したがって、例えば、求められる屈曲性の程度に応じて、容易に緩衝空間140の大きさを調節することができる。   Thereby, the magnitude | size of the buffer space 140 can be adjusted by adjusting arrangement | positioning and the space | interval of the filler material 131. FIG. In other words, by adjusting the application position of the filler material 131, the buffer space 140 having a desired size can be formed at a desired position. Therefore, for example, the size of the buffer space 140 can be easily adjusted according to the required degree of flexibility.

また、例えば、塗布工程では、有機EL素子10が曲げられる形状が予め定められている場合に、当該形状に有機EL素子10を曲げたときに、所定の応力以上の引張応力がかかる平面視における領域に、上記間隔を空けて充填材材料131を塗布する。   Further, for example, in a coating process, when a shape in which the organic EL element 10 is bent is determined in advance, when the organic EL element 10 is bent into the shape, a tensile stress greater than a predetermined stress is applied in a plan view. The filler material 131 is applied to the region at the above interval.

これにより、有機EL素子10を所定の形状に曲げたときに引張応力がかかり、充填材130内の破壊されやすい部分に緩衝空間140を設けることができる。したがって、屈曲性を有し、かつ、長寿命な有機EL素子10を提供することができる。   Thereby, a tensile stress is applied when the organic EL element 10 is bent into a predetermined shape, and the buffer space 140 can be provided in a portion of the filler 130 that is easily broken. Therefore, it is possible to provide the organic EL element 10 having flexibility and long life.

(実施の形態2)
続いて、実施の形態2に係る有機EL素子について図面を用いて説明する。
(Embodiment 2)
Next, the organic EL element according to Embodiment 2 will be described with reference to the drawings.

図6は、本実施の形態に係る有機EL素子20の概略断面図である。   FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of the organic EL element 20 according to this embodiment.

実施の形態1では、複数の緩衝空間140を等間隔で設けたのに対して、本実施の形態では、予め定められた形状に有機EL素子20を曲げた場合に、最大の引張応力がかかる部分を含む第1領域に、当該第1領域とは異なる第2領域よりも多くの緩衝空間240が設けられる。つまり、有機EL素子20を曲げたときに、最も充填材230が破壊されやすい第1領域に、多くの緩衝空間240を設けている。   In the first embodiment, the plurality of buffer spaces 140 are provided at equal intervals, whereas in the present embodiment, the maximum tensile stress is applied when the organic EL element 20 is bent into a predetermined shape. More buffer spaces 240 are provided in the first region including the portion than in the second region different from the first region. That is, many buffer spaces 240 are provided in the first region where the filler 230 is most easily destroyed when the organic EL element 20 is bent.

例えば、有機EL素子20の曲げられる形状が予め定められている場合、有機EL素子20を曲げたときに、最も引張応力がかかり、最も破壊されやすい第1領域が予め決められる。第1領域に多くの緩衝空間240を配置するように、配置パターンは定められる。   For example, when the bent shape of the organic EL element 20 is determined in advance, the first region where the tensile stress is most applied and is most easily destroyed when the organic EL element 20 is bent is determined in advance. The arrangement pattern is determined so that many buffer spaces 240 are arranged in the first region.

図7は、本実施の形態に係る有機EL素子20を曲げたときの概略断面図である。   FIG. 7 is a schematic cross-sectional view when the organic EL element 20 according to the present embodiment is bent.

例えば、平面状の有機EL素子20を所定の円柱体の側面に取り付ける場合を考える。具体的には、発光面である第1基板100側に凸になるように、有機EL素子20は曲げられる。   For example, consider a case where the planar organic EL element 20 is attached to the side surface of a predetermined cylindrical body. Specifically, the organic EL element 20 is bent so as to protrude toward the first substrate 100 side which is a light emitting surface.

この場合、引張応力は、有機EL素子20の曲げ方向における中央部分に近い程、大きく、有機EL素子20の端部に近い程、小さくなる。そして、有機EL素子20の曲げ方向における中央部分で、最大の引張応力がかかる。   In this case, the tensile stress is larger as it is closer to the central portion in the bending direction of the organic EL element 20 and is smaller as it is closer to the end of the organic EL element 20. The maximum tensile stress is applied at the central portion of the organic EL element 20 in the bending direction.

具体的には、図7に示すように、有機EL素子20の曲げ方向における中央領域260では、引張応力が大きく、端部領域261では、引張応力が小さくなる。なお、中央領域260は、第1領域の一例であり、有機EL素子20を曲げたときに所定の応力以上の引張応力がかかる領域である。中央領域260は、最大の引張応力がかかる部分、具体的には、有機EL素子20の曲げ方向における中心部分を含んでいる。また、端部領域261は、第2領域の一例であり、有機EL素子20を曲げたときに所定の応力より小さい引張応力がかかる領域である。   Specifically, as shown in FIG. 7, the tensile stress is large in the central region 260 in the bending direction of the organic EL element 20, and the tensile stress is small in the end region 261. The central region 260 is an example of a first region, and is a region where a tensile stress greater than a predetermined stress is applied when the organic EL element 20 is bent. The central region 260 includes a portion where the maximum tensile stress is applied, specifically, a central portion in the bending direction of the organic EL element 20. The end region 261 is an example of a second region, and is a region where a tensile stress smaller than a predetermined stress is applied when the organic EL element 20 is bent.

本実施の形態では、図6に示すように、中央領域260に、端部領域261よりも多くの緩衝空間240が設けられている。これにより、中央領域260にかかる大きな引張応力を効果的に分散させることができる。   In the present embodiment, as shown in FIG. 6, more buffer space 240 is provided in the central region 260 than in the end region 261. Thereby, the big tensile stress concerning the center area | region 260 can be disperse | distributed effectively.

また、本実施の形態に係る有機EL素子20の製造方法は、例えば、塗布工程では、有機EL素子20が曲げられる形状が予め定められている場合に、当該形状に有機EL素子20を曲げたときに、最大の引張応力がかかる平面視における第1領域に、当該第1領域とは異なる第2領域よりも少ない量の充填材材料231を塗布する。   Moreover, in the manufacturing method of the organic EL element 20 according to the present embodiment, for example, in the coating process, when the shape in which the organic EL element 20 is bent is predetermined, the organic EL element 20 is bent into the shape. Sometimes, a smaller amount of the filler material 231 is applied to the first region in plan view where the maximum tensile stress is applied than in the second region different from the first region.

図8は、本実施の形態に係る充填材材料231の塗布パターンの一例を示す概観斜視図である。   FIG. 8 is a schematic perspective view showing an example of an application pattern of the filler material 231 according to the present embodiment.

図8に示すように、本実施の形態では、第1基板100に充填材材料231を線状に塗布する。なお、具体的には、第1基板100に積層された第2電極123上に充填材材料231を塗布する。   As shown in FIG. 8, in the present embodiment, a filler material 231 is applied to the first substrate 100 in a linear shape. Specifically, the filler material 231 is applied on the second electrode 123 stacked on the first substrate 100.

このとき、例えば、充填材材料231は、長手方向が有機EL素子20の曲げ方向に垂直になるように塗布される。さらに、中央領域260に塗布する充填材材料231の塗布量は、端部領域261に塗布する充填材材料231の塗布量よりも少なくする。なお、このときの塗布量は、単位面積当たりの塗布量である。   At this time, for example, the filler material 231 is applied so that the longitudinal direction is perpendicular to the bending direction of the organic EL element 20. Furthermore, the application amount of the filler material 231 applied to the central region 260 is made smaller than the application amount of the filler material 231 applied to the end region 261. In addition, the application amount at this time is an application amount per unit area.

例えば、図8に示すように、中央領域260には、間隔d1で充填材材料231を線状に塗布する。端部領域261には、間隔d1及びd2(<d1)で充填材材料231を塗布する。間隔d1で充填材材料231を塗布することで、実施の形態1と同様に、緩衝空間240を形成することができる。一方、間隔d2で充填材材料231を塗布することで、基板を貼り合わせたときに隣り合う充填材材料231がくっついて緩衝空間240は形成されない。   For example, as shown in FIG. 8, the filler material 231 is linearly applied to the central region 260 at the interval d1. A filler material 231 is applied to the end region 261 at intervals d1 and d2 (<d1). By applying the filler material 231 at the interval d1, the buffer space 240 can be formed as in the first embodiment. On the other hand, by applying the filler material 231 at the interval d2, the adjacent filler material 231 adheres when the substrates are bonded together, and the buffer space 240 is not formed.

これにより、図6に示すように、中央領域260には4個の緩衝空間240が形成され、端部領域261にはそれぞれ1個の緩衝空間240が形成される。つまり、中央領域260に、端部領域261よりも多くの緩衝空間240を形成することができる。これにより、有機EL素子20を予め定められた形状に曲げたときに効果的に引張応力を分散することができる。   As a result, as shown in FIG. 6, four buffer spaces 240 are formed in the central region 260, and one buffer space 240 is formed in each of the end regions 261. That is, more buffer spaces 240 can be formed in the central region 260 than in the end region 261. Thereby, when the organic EL element 20 is bent into a predetermined shape, the tensile stress can be effectively dispersed.

(実施の形態3)
続いて、実施の形態3に係る有機EL素子について図面を用いて説明する。
(Embodiment 3)
Next, the organic EL element according to Embodiment 3 will be described with reference to the drawings.

図9は、本実施の形態に係る有機EL素子30の概略断面図である。   FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of the organic EL element 30 according to the present embodiment.

本実施の形態に係る有機EL素子30では、図9に示すように、緩衝空間340は、充填材330の内部に設けられている。具体的には、緩衝空間340の全方位が充填材330に囲まれている。言い換えると、緩衝空間340は、充填材330のみによって囲まれて閉じた空間である。   In the organic EL element 30 according to the present embodiment, the buffer space 340 is provided inside the filler 330 as shown in FIG. Specifically, all the directions of the buffer space 340 are surrounded by the filler 330. In other words, the buffer space 340 is a closed space surrounded only by the filler 330.

図10は、本実施の形態に係る有機EL素子30を曲げたときの概略断面図である。   FIG. 10 is a schematic cross-sectional view when the organic EL element 30 according to the present embodiment is bent.

有機EL素子30を曲げたとき、図10に示すように、充填材330の内部に緩衝空間340が設けられているので、充填材330にかかる応力を分散し、充填材330が破壊されにくくすることができる。つまり、緩衝空間340が応力を分散するので、充填材330が破壊されずに、曲げやすくなる。したがって、有機EL素子30に屈曲性を持たせることができる。   When the organic EL element 30 is bent, as shown in FIG. 10, since the buffer space 340 is provided inside the filler 330, the stress applied to the filler 330 is dispersed and the filler 330 is not easily destroyed. be able to. That is, since the buffer space 340 disperses the stress, the filler 330 is not broken and is easily bent. Therefore, the organic EL element 30 can be flexible.

また、有機発光部120は、充填材330によって完全に覆われている。言い換えると、有機発光部120は、緩衝空間340に露出していない。このため、実施の形態1及び2と比較して、有機発光部120の封止性をより高めることができる。   The organic light emitting unit 120 is completely covered with the filler 330. In other words, the organic light emitting unit 120 is not exposed to the buffer space 340. For this reason, compared with Embodiment 1 and 2, the sealing performance of the organic light emission part 120 can be improved more.

次に、本実施の形態に係る有機EL素子30の製造方法について、図11A及び図11Bを用いて説明する。図11A及び図11Bは、本実施の形態に係る有機EL素子30の製造方法における充填材材料331及び332の塗布工程、並びに、基板の貼合工程を示す概略断面図である。   Next, a method for manufacturing the organic EL element 30 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 11A and 11B. FIG. 11A and FIG. 11B are schematic cross-sectional views illustrating a coating process of filler materials 331 and 332 and a substrate bonding process in the method of manufacturing organic EL element 30 according to the present embodiment.

本実施の形態では、まず、図3Aに示す有機発光部120の形成工程を行う。次に、図11Aに示すように、ディスペンサ150を用いて、第1基板100及び第2基板110の両方に充填材材料331及び332をそれぞれ塗布する。   In the present embodiment, first, the formation process of the organic light emitting unit 120 shown in FIG. 3A is performed. Next, as shown in FIG. 11A, filler materials 331 and 332 are applied to both the first substrate 100 and the second substrate 110 using the dispenser 150, respectively.

具体的には、第1基板100上に充填材材料331を塗布する。例えば、第2電極123上に所定の塗布パターンに従って充填材材料331を塗布する。充填材材料331は、所定の間隔dを空けて塗布される。   Specifically, a filler material 331 is applied on the first substrate 100. For example, the filler material 331 is applied on the second electrode 123 according to a predetermined application pattern. The filler material 331 is applied with a predetermined interval d.

さらに、第2基板110上に充填材材料332を塗布する。充填材材料331と充填材材料332とは、同じ樹脂材料である。また、充填材材料331の塗布パターンと、充填材材料332の塗布パターンとは同じである。したがって、第1基板100と第2基板110とを貼り合わせるために対向させた場合、充填材材料331と充填材材料332とは互いに対向する。なお、充填材材料331及び332は、例えば、図4A及び図4Bに示すように、点状又は線状に塗布される。   Further, a filler material 332 is applied on the second substrate 110. The filler material 331 and the filler material 332 are the same resin material. The application pattern of the filler material 331 and the application pattern of the filler material 332 are the same. Therefore, when the first substrate 100 and the second substrate 110 face each other for bonding, the filler material 331 and the filler material 332 face each other. The filler materials 331 and 332 are applied in a dotted or linear manner, for example, as shown in FIGS. 4A and 4B.

次に、図11Bに示すように、第1基板100と第2基板110とを貼り合わせる。充填材材料331と充填材材料332とは、互いに接触して、それぞれが第2電極123又は第2基板110の表面に沿って流動する。充填材材料331が第2電極123の表面を覆い、充填材材料332が第2基板110の表面を覆うことで、緩衝空間340に第2電極123及び第2基板110を露出させない。   Next, as shown in FIG. 11B, the first substrate 100 and the second substrate 110 are bonded together. The filler material 331 and the filler material 332 are in contact with each other, and each flow along the surface of the second electrode 123 or the second substrate 110. The filler material 331 covers the surface of the second electrode 123, and the filler material 332 covers the surface of the second substrate 110, so that the second electrode 123 and the second substrate 110 are not exposed to the buffer space 340.

第1基板100と第2基板110との貼り合わせが完了した後、充填材材料331及び332を光照射などによって硬化させることで、充填材330内に緩衝空間340を形成する。   After the bonding of the first substrate 100 and the second substrate 110 is completed, the buffer material 331 and 332 are cured by light irradiation or the like to form the buffer space 340 in the filler 330.

(その他)
以上、本発明に係る有機EL素子及びその製造方法について、上記実施の形態に基づいて説明したが、本発明は、上記の実施の形態に限定されるものではない。
(Other)
As mentioned above, although the organic EL element concerning this invention and its manufacturing method were demonstrated based on the said embodiment, this invention is not limited to said embodiment.

例えば、上記の実施の形態では、複数の緩衝空間140が整然と並んで配置された例について示したが、ランダムに配置されてもよい。   For example, in the above-described embodiment, an example in which the plurality of buffer spaces 140 are arranged in an orderly manner has been described. However, the buffer spaces 140 may be randomly arranged.

また、例えば、上記の実施の形態では、複数の緩衝空間140を設ける例について示したが、1個のみの緩衝空間140を設けてもよい。1個のみの緩衝空間140の平面視形状は、略円形又は略矩形でもよく、あるいは、環状又は格子状に設けられてもよい。   For example, in the above embodiment, an example in which a plurality of buffer spaces 140 are provided has been described, but only one buffer space 140 may be provided. The planar view shape of only one buffer space 140 may be a substantially circular shape or a substantially rectangular shape, or may be provided in a ring shape or a lattice shape.

また、例えば、上記の実施の形態では、緩衝空間140に第2電極123及び第2基板110の両方が露出している例について示したが、第2電極123及び第2基板110のいずれか一方のみが露出していてもよい。   Further, for example, in the above-described embodiment, an example in which both the second electrode 123 and the second substrate 110 are exposed in the buffer space 140 has been described, but either the second electrode 123 or the second substrate 110 is shown. Only may be exposed.

また、例えば、上記の実施の形態では、第2基板110上に充填材130を設けたが、第2基板110上に保護膜が設けられてもよい。例えば、保護膜は、シリコン窒化膜などの水分透過率が低い膜である。保護膜は、蒸着法、塗布法、スパッタリング法、イオンビームアシスト法、GCIB(Gas Cluster Ion Beam)蒸着及びCVD法(ALD(Atomic Layer Deposition)又はプラズマCVDなど比較的低温かつ低ダメージ条件による)などによって形成される。   For example, in the above embodiment, the filler 130 is provided on the second substrate 110, but a protective film may be provided on the second substrate 110. For example, the protective film is a film having a low moisture permeability such as a silicon nitride film. The protective film includes a vapor deposition method, a coating method, a sputtering method, an ion beam assist method, a GCIB (Gas Cluster Ion Beam) vapor deposition method and a CVD method (with relatively low temperature and low damage conditions such as ALD (Atomic Layer Deposition) or plasma CVD). Formed by.

また、例えば、上記の実施の形態では、第1電極121が陽極で、第2電極123が陰極である例について示したが、逆でもよい。すなわち、第1電極121が陰極で、第2電極123が陽極でもよい。   Further, for example, in the above embodiment, an example in which the first electrode 121 is an anode and the second electrode 123 is a cathode is shown, but the reverse may be possible. That is, the first electrode 121 may be a cathode and the second electrode 123 may be an anode.

また、例えば、上記の実施の形態では、有機EL素子10の平面視形状が矩形である例について示したが、これに限らない。例えば、有機EL素子10の平面視形状は、多角形、円形又は楕円形などの、直線若しくは曲線で描かれた閉じた形状でもよい。   Further, for example, in the above-described embodiment, the example in which the planar view shape of the organic EL element 10 is rectangular has been described, but the present invention is not limited thereto. For example, the planar view shape of the organic EL element 10 may be a closed shape drawn by a straight line or a curve, such as a polygon, a circle, or an ellipse.

また、例えば、上記の実施の形態では、第1基板100側に発光するボトムエミッション型の有機EL素子10について示したが、第2基板110側に発光するトップエミッション型でもよい。この場合は、例えば、第1電極121が光反射性を有する材料から構成され、第2電極123及び第2基板110が透光性を有する材料から構成される。   Further, for example, in the above-described embodiment, the bottom emission type organic EL element 10 that emits light toward the first substrate 100 is shown, but a top emission type that emits light toward the second substrate 110 may be used. In this case, for example, the first electrode 121 is made of a light reflective material, and the second electrode 123 and the second substrate 110 are made of a light transmissive material.

その他、各実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。   In addition, the embodiment can be realized by arbitrarily combining the components and functions in each embodiment without departing from the scope of the present invention, or a form obtained by subjecting each embodiment to various modifications conceived by those skilled in the art. Forms are also included in the present invention.

10、20、30 有機EL素子
100 第1基板
110 第2基板
120 有機発光部
121 第1電極
122 有機層
123 第2電極
130、230、330 充填材
131、231、331、332 充填材材料
140、240、340 緩衝空間
260 中央領域(第1領域)
261 端部領域(第2領域)
10, 20, 30 Organic EL element 100 First substrate 110 Second substrate 120 Organic light emitting unit 121 First electrode 122 Organic layer 123 Second electrodes 130, 230, 330 Fillers 131, 231, 331, 332 Filler material 140, 240, 340 Buffer space 260 Central region (first region)
261 end region (second region)

Claims (13)

対向配置された可撓性を有する第1基板及び第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた有機発光部であって、前記第1基板に順に積層された第1電極、発光層を含む有機層、及び、第2電極を含む有機発光部と、
前記有機発光部を覆うように前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた充填材とを備え、
前記充填材には、平面視における所定の領域に、中空の緩衝空間が設けられている
有機EL素子。
A flexible first substrate and a second substrate disposed opposite to each other;
An organic light emitting unit provided between the first substrate and the second substrate, comprising a first electrode, an organic layer including a light emitting layer, and a second electrode sequentially stacked on the first substrate. An organic light emitting part;
A filler provided between the first substrate and the second substrate so as to cover the organic light emitting unit;
An organic EL element in which the filler is provided with a hollow buffer space in a predetermined region in plan view.
前記緩衝空間は、予め定められた配置パターンに従って設けられている
請求項1に記載の有機EL素子。
The organic EL element according to claim 1, wherein the buffer space is provided according to a predetermined arrangement pattern.
前記所定の領域は、前記有機EL素子が曲げられる形状が予め定められている場合に、当該形状に前記有機EL素子を曲げたときに、所定の応力以上の引張応力がかかる領域である
請求項1又は2に記載の有機EL素子。
The predetermined region is a region to which a tensile stress greater than or equal to a predetermined stress is applied when the organic EL element is bent into the shape when a shape in which the organic EL element is bent is predetermined. 3. The organic EL device according to 1 or 2.
前記充填材には、複数の前記緩衝空間が設けられ、
前記所定の領域は、
前記有機EL素子が曲げられる形状が予め定められている場合に、当該形状に前記有機EL素子を曲げたときに、最大の引張応力がかかる部分を含む第1領域と、
前記第1領域とは異なる第2領域とを含み、
前記第1領域には、前記第2領域よりも多くの前記緩衝空間が設けられる
請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機EL素子。
The filler is provided with a plurality of buffer spaces,
The predetermined area is:
When a shape in which the organic EL element is bent is predetermined, a first region including a portion where the maximum tensile stress is applied when the organic EL element is bent into the shape;
A second region different from the first region,
The organic EL element according to any one of claims 1 to 3, wherein the first region is provided with more buffer spaces than the second region.
前記緩衝空間は、前記有機EL素子の曲げ方向である第2方向に平面視において直交する第1方向に長い柱状の空間である
請求項1〜4のいずれか1項に記載の有機EL素子。
The organic EL element according to claim 1, wherein the buffer space is a columnar space that is long in a first direction orthogonal to the second direction, which is a bending direction of the organic EL element, in a plan view.
前記緩衝空間の前記第2方向における最大幅は、10μm以上20μm以下である
請求項5に記載の有機EL素子。
The organic EL element according to claim 5, wherein a maximum width of the buffer space in the second direction is not less than 10 μm and not more than 20 μm.
前記緩衝空間は、径が10μm以上20μm以下の略球状の空間である
請求項1〜4のいずれか1項に記載の有機EL素子。
The organic EL device according to claim 1, wherein the buffer space is a substantially spherical space having a diameter of 10 μm to 20 μm.
前記緩衝空間は、前記充填材を積層方向に貫通する空間である
請求項1〜7のいずれか1項に記載の有機EL素子。
The organic EL element according to claim 1, wherein the buffer space is a space that penetrates the filler in the stacking direction.
前記緩衝空間は、前記充填材の内部に設けられている
請求項1〜7のいずれか1項に記載の有機EL素子。
The organic EL element according to claim 1, wherein the buffer space is provided inside the filler.
第1電極と、発光層を含む有機層と、第2電極とを含む有機発光部を備える有機EL素子の製造方法であって、
第1基板上に、前記第1電極と、前記有機層と、前記第2電極とをこの順で積層する積層工程と、
前記第1基板及び前記第2基板の少なくとも一方に充填材材料を、平面視において所定の間隔を空けて塗布する塗布工程と、
前記充填材材料が前記有機発光部を覆うように前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせることで、前記充填材材料に中空の緩衝空間を形成する貼合工程とを含む
有機EL素子の製造方法。
A method for manufacturing an organic EL device comprising an organic light emitting unit including a first electrode, an organic layer including a light emitting layer, and a second electrode,
A laminating step of laminating the first electrode, the organic layer, and the second electrode in this order on the first substrate;
An application step of applying a filler material to at least one of the first substrate and the second substrate at a predetermined interval in a plan view;
A bonding step of forming a hollow buffer space in the filler material by bonding the first substrate and the second substrate so that the filler material covers the organic light-emitting portion; Manufacturing method.
前記塗布工程では、予め定められた塗布パターンに従って前記充填材材料を塗布する
請求項10に記載の有機EL素子の製造方法。
The method for manufacturing an organic EL element according to claim 10, wherein, in the application step, the filler material is applied according to a predetermined application pattern.
前記塗布工程では、前記有機EL素子が曲げられる形状が予め定められている場合に、当該形状に前記有機EL素子を曲げたときに、所定の応力以上の引張応力がかかる平面視における領域に、前記間隔を空けて前記充填材材料を塗布する
請求項10又は11に記載の有機EL素子の製造方法。
In the coating step, when a shape in which the organic EL element is bent is determined in advance, when the organic EL element is bent into the shape, a region in plan view where a tensile stress equal to or higher than a predetermined stress is applied, The method for manufacturing an organic EL element according to claim 10, wherein the filler material is applied with the space therebetween.
前記塗布工程では、前記有機EL素子が曲げられる形状が予め定められている場合に、当該形状に前記有機EL素子を曲げたときに、最大の引張応力がかかる平面視における第1領域に、当該第1領域とは異なる第2領域よりも少ない量の前記充填材材料を塗布する
請求項10〜12のいずれか1項に記載の有機EL素子の製造方法。
In the application step, when a shape in which the organic EL element is bent is determined in advance, when the organic EL element is bent into the shape, The method for manufacturing an organic EL element according to claim 10, wherein a smaller amount of the filler material is applied than in a second region different from the first region.
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