JP2019196462A - Method for producing particle used as constituent component of sealing epoxy resin composition, core-shell particle used as constituent component of sealing epoxy resin composition and sealing epoxy resin composition - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、封止用エポキシ樹脂組成物の構成成分として用いられる粒子の製造方法、封止用エポキシ樹脂組成物の構成成分として用いられるコアシェル粒子、および、封止用エポキシ樹脂組成物に関する。 The present invention relates to a method for producing particles used as a constituent of an epoxy resin composition for sealing, a core-shell particle used as a constituent of an epoxy resin composition for sealing, and an epoxy resin composition for sealing.
半導体装置は、封止用のエポキシ樹脂組成物を用いて封止されるのが主流となっている。半導体装置の小型化、薄型化、構造の複雑化などに伴い、封止用エポキシ樹脂組成物の開発が継続されている。
封止用エポキシ樹脂組成物の開発においては、組成物の組成のみならず、製法についても盛んに検討されている。
Semiconductor devices are mainly sealed using an epoxy resin composition for sealing. With the downsizing, thinning, and complicated structure of semiconductor devices, development of epoxy resin compositions for sealing has been continued.
In the development of an epoxy resin composition for sealing, not only the composition of the composition but also the production method has been actively studied.
例えば、特許文献1には、微粒子量の少ない顆粒状半導体封止用エポキシ樹脂成形材料を効率良く供給するための製造方法が記載されている。
具体的には、エポキシ樹脂等の各成分を配合、混練、冷却および粉砕してなる粉粒体状組成物を、攪拌翼を具えた攪拌槽に供給して撹拌しつつ、輻射熱により加熱を行うことにより、顆粒状エポキシ樹脂成形材料を製造することが記載されている。
For example,
Specifically, a granular composition formed by blending, kneading, cooling and pulverizing each component such as an epoxy resin is heated by radiant heat while being supplied to a stirring vessel equipped with a stirring blade and stirred. Thus, it is described that a granular epoxy resin molding material is produced.
また、特許文献2には、樹脂成分及び無機充填材を混練した後に粉砕して得られる粉砕物に、特定のシロキサン化合物を添加して、それを造粒することを特徴とする、粒状半導体封止材料の製造方法が記載されている。
上記の特許文献1および2に示されているように、封止用エポキシ樹脂組成物またはその中間原料の製造においては、しばしば、原料成分を混練したり、原料成分を造粒したりする。
混練や造粒の具体的なやり方の巧拙により、得られる封止用エポキシ樹脂組成物またはその中間原料の性能が変わることは容易に想像できる。また、安定して均質な封止用エポキシ樹脂組成物またはその中間原料を得ることが工業的に重要であることは言うまでもない。
しかし、本発明者の知見によれば、均質な封止用エポキシ樹脂組成物またはその中間原料(具体的には、封止用エポキシ樹脂組成物の構成成分として用いられる粒子)を得ることについては、なお改良の余地があった。
As shown in
It can be easily imagined that the performance of the resulting epoxy resin composition for sealing or an intermediate raw material thereof changes depending on the skill of specific methods of kneading and granulation. It goes without saying that it is industrially important to obtain a stable and homogeneous epoxy resin composition for sealing or an intermediate raw material thereof.
However, according to the knowledge of the present inventor, with regard to obtaining a homogeneous sealing epoxy resin composition or an intermediate raw material thereof (specifically, particles used as a constituent component of the sealing epoxy resin composition) There was still room for improvement.
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものである。本発明は、封止用エポキシ樹脂組成物の構成成分として用いられる粒子を製造する際に、その粒子の均質性を向上させることを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances. An object of the present invention is to improve the homogeneity of particles used in the production of particles used as a constituent component of an epoxy resin composition for sealing.
本発明者らは、検討の結果、封止用エポキシ樹脂組成物の構成成分として用いられる粒子の製造方法において、各成分を混合しつつ加熱して造粒する際の混合のプロセス条件などに着目することにより、以下に提供される発明を完成させた。そして、上記課題を達成できることを見出した。 As a result of the study, the inventors of the present invention focused on the mixing process conditions when granulating by heating while mixing each component in the method for producing particles used as a constituent component of the epoxy resin composition for sealing. As a result, the invention provided below was completed. And it discovered that the said subject could be achieved.
本発明によれば、
封止用エポキシ樹脂組成物の構成成分として用いられる粒子の製造方法であって、
エポキシ樹脂と硬化剤との溶融混合物(A)を得る溶融混合工程と、
前記溶融混合物(A)と、無機充填剤(B)と、着色剤およびイオン捕捉剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の材料(C)とを、攪拌羽根を備えた攪拌装置に投入する投入工程と、
前記投入工程の後に、前記攪拌装置に投入された成分を、前記攪拌羽根を先端の線速度0.1m/s以上の速さで駆動させて混合しつつ加熱して110℃以上とし、前記無機充填剤(B)および前記材料(C)を含むコアの外側に前記溶融混合物(A)を含むシェルを備えたコアシェル粒子を得る造粒工程と
を含む粒子の製造方法
が提供される。
According to the present invention,
A method for producing particles used as a constituent of an epoxy resin composition for sealing,
A melt mixing step for obtaining a melt mixture (A) of an epoxy resin and a curing agent;
A charging step of charging the molten mixture (A), the inorganic filler (B), and at least one material (C) selected from the group consisting of a colorant and an ion scavenger into a stirrer equipped with a stirring blade. When,
After the charging step, the components charged in the stirrer are heated to 110 ° C. or higher by mixing and driving the stirring blade at a linear velocity of 0.1 m / s or more at the tip, and the inorganic There is provided a method for producing particles including a core shell particle having a shell containing the molten mixture (A) outside a core containing a filler (B) and the material (C).
また、本発明によれば、
無機充填剤(B)と、着色剤およびイオン捕捉剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の材料(C)とを含むコアの外側に、エポキシ樹脂および硬化剤を含むシェルを備えた、封止用エポキシ樹脂組成物の構成成分として用いられるコアシェル粒子
が提供される。
Moreover, according to the present invention,
For sealing, provided with a shell containing an epoxy resin and a curing agent on the outside of a core containing an inorganic filler (B) and at least one material (C) selected from the group consisting of a colorant and an ion scavenger Core-shell particles used as a constituent of an epoxy resin composition are provided.
本発明によれば、封止用エポキシ樹脂組成物の構成成分として用いられる粒子を製造する際に、その粒子の均質性を向上させることができる。
なお、「粒子が均質である」とは、例えば、粒子がコアシェル粒子である場合にシェルの厚みが略均一であること、かつ/または、粒径分布が比較的狭いこと、などをいう。
According to the present invention, when producing particles used as a constituent component of an epoxy resin composition for sealing, the homogeneity of the particles can be improved.
Note that “particles are homogeneous” means, for example, that when the particles are core-shell particles, the thickness of the shell is substantially uniform and / or the particle size distribution is relatively narrow.
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ、詳細に説明する。
すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
煩雑さを避けるため、(i)同一図面内に同一の構成要素が複数ある場合には、その1つのみに符号を付し、全てには符号を付さない場合や、(ii)特に図2以降において、図1と同様の構成要素に改めては符号を付さない場合がある。
すべての図面はあくまで説明用のものである。図面中の各部材の形状や寸法比などは、必ずしも現実の物品と対応するものではない。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
In all the drawings, the same components are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.
In order to avoid complications, (i) when there are a plurality of identical components in the same drawing, only one of them is given a reference, and all are not attached, or (ii) 2 and later, the same components as in FIG. 1 may not be denoted again.
All drawings are for illustrative purposes only. The shape and dimensional ratio of each member in the drawings do not necessarily correspond to an actual article.
本明細書中、「略」という用語は、特に明示的な説明の無い限りは、製造上の公差や組立て上のばらつき等を考慮した範囲を含むことを表す。
本明細書中、数値範囲の説明における「a〜b」との表記は、特に断らない限り、a以上b以下のことを表す。例えば、「1〜5質量%」とは「1質量%以上5質量%以下」の意である。
In this specification, the term “substantially” means that it includes a range that takes into account manufacturing tolerances, assembly variations, and the like, unless otherwise specified.
In the present specification, the notation “ab” in the description of the numerical range represents a range from a to b unless otherwise specified. For example, “1 to 5% by mass” means “1 to 5% by mass”.
本明細書における基(原子団)の表記において、置換か無置換かを記していない表記は、置換基を有しないものと置換基を有するものの両方を包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有しないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本明細書における「(メタ)アクリル」との表記は、アクリルとメタクリルの両方を包含する概念を表す。「(メタ)アクリレート」等の類似の表記についても同様である。
本明細書における「電子デバイス」の語は、半導体チップ、半導体素子、プリント配線基板、電気回路ディスプレイ装置、情報通信端末、発光ダイオード、物理電池、化学電池など、電子工学の技術が適用された素子、デバイス、最終製品等を包含する意味で用いられる。
In the notation of a group (atomic group) in this specification, the notation which does not describe substitution or non-substitution includes both those having no substituent and those having a substituent. For example, the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
The notation “(meth) acryl” in the present specification represents a concept including both acrylic and methacrylic. The same applies to similar notations such as “(meth) acrylate”.
In this specification, the term “electronic device” means an element to which an electronic technology is applied, such as a semiconductor chip, a semiconductor element, a printed wiring board, an electric circuit display device, an information communication terminal, a light emitting diode, a physical battery, and a chemical battery. , Device, final product and the like.
本明細書における各種粒子の「粒径」は、特に断りが無い限り、例えば、レーザ回折/散乱式粒子径分布測定装置(例えば、株式会社堀場製作所製の湿式粒度分布測定機LA−950)により体積基準の粒子径分布のデータを取得し、そのデータを処理することで求めることができる。
例えば、「平均粒径」は、得られた粒子径分布のデータの算術平均により求めることができる。また、粒子径分布のデータから、累積10%値(D10)、累積50%値(メディアン径、D50)、累積90%値(D90)などを求めることもできる。
Unless otherwise specified, the “particle size” of various particles in the present specification is determined by, for example, a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring device (for example, a wet particle size distribution measuring device LA-950 manufactured by Horiba, Ltd.). It can be obtained by acquiring volume-based particle size distribution data and processing the data.
For example, the “average particle size” can be obtained by arithmetic average of the obtained particle size distribution data. Further, from the particle size distribution data, a cumulative 10% value (D10), a cumulative 50% value (median diameter, D50), a cumulative 90% value (D90), and the like can be obtained.
<粒子の製造方法>
本実施形態の粒子の製造方法は、封止用エポキシ樹脂組成物の構成成分として用いられる粒子(コアシェル粒子)の製造方法である。そして、
・エポキシ樹脂と硬化剤との溶融混合物(A)を得る溶融混合工程と、
・溶融混合物(A)と、無機充填剤(B)と、着色剤およびイオン捕捉剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の材料(C)とを、攪拌羽根を備えた攪拌装置に投入する投入工程と、
・投入工程の後に、攪拌装置に投入された成分を、攪拌羽根を先端の線速度0.1m/s以上の速さで駆動させて混合しつつ加熱して110℃以上とし、無機充填剤(B)および材料(C)を含むコアの外側に溶融混合物(A)を含むシェルを備えたコアシェル粒子を得る造粒工程と
を含む。
<Method for producing particles>
The method for producing particles of the present embodiment is a method for producing particles (core-shell particles) used as a constituent component of the sealing epoxy resin composition. And
A melt mixing step for obtaining a melt mixture (A) of an epoxy resin and a curing agent;
A charging step of charging the molten mixture (A), the inorganic filler (B), and at least one material (C) selected from the group consisting of a colorant and an ion scavenger into a stirrer equipped with a stirring blade. When,
After the charging step, the components charged into the stirring device are heated while being mixed by driving the stirring blade at a linear velocity of 0.1 m / s or more at the tip, and the temperature is set to 110 ° C. or higher. And B) and a granulation step of obtaining core-shell particles having a shell containing the molten mixture (A) outside the core containing the material (C).
詳細なメカニズムは不明であるが、造粒工程において、110℃以上という温度で適度に軟化した溶融混合物(A)が、一定速度以上での撹拌(攪拌羽根の回転)により大きなせん断力を受けることで、無機充填剤(B)および材料(C)を含むコアの表面に薄く均一にコーティングされやすくなると考えられる。そして、シェルの厚みが略均一であるコアシェル粒子が得られるものと考えられる。 Although the detailed mechanism is unknown, in the granulation process, the molten mixture (A) moderately softened at a temperature of 110 ° C. or higher is subjected to a large shearing force due to stirring (rotation of the stirring blade) at a constant speed or higher. Therefore, it is considered that the surface of the core containing the inorganic filler (B) and the material (C) is easily thinly and uniformly coated. And it is thought that the core-shell particle | grains with the substantially uniform thickness of a shell are obtained.
また、一定速度以上での撹拌での大きなせん断力により、無機充填剤(B)および材料(C)が適度に混合される。その結果、無機充填剤(B)および材料(C)の「両方」を含むコアの周りに、溶融混合物のシェルを形成することができる。つまり、本実施形態の粒子の製造方法でコアシェル粒子を製造すると、1つの粒子中に、封止用エポキシ樹脂組成物の成分をバランスよく含めやすくなると考えられる。このことは、粒子の均質性だけでなく成分の分布の均質性という面からも好ましい。 Further, the inorganic filler (B) and the material (C) are appropriately mixed by a large shearing force by stirring at a constant speed or higher. As a result, a shell of the molten mixture can be formed around the core containing “both” of the inorganic filler (B) and the material (C). That is, when core-shell particles are manufactured by the particle manufacturing method of the present embodiment, it is considered that the components of the epoxy resin composition for sealing can be easily included in one particle. This is preferable from the viewpoint of not only the homogeneity of the particles but also the homogeneity of the distribution of the components.
上記の各工程、各工程で用いられる素材、任意に含んでもよい工程などについて説明する。 Each process described above, materials used in each process, processes that may optionally be included, and the like will be described.
(溶融混合工程)
溶融混合工程では、エポキシ樹脂と硬化剤とを用い、適当な方法によりこれらの溶融混合物(A)を得る。
溶融混合の方法は特に限定されない。例えば、(1)まず、エポキシ樹脂および硬化剤を適当な容器(加熱混合できる容器、例えば加熱釜)に入れ、(2)次に、それらを加熱混合し、(3)その後、冷却、粉砕工程を経て粉砕物とする3段階の方法で、粉砕物(顆粒状または粒子状)である溶融混合物(A)を得ることができる。なお、(1)の前に、予備混合を行ってもよい。
(Melting and mixing process)
In the melt mixing step, an epoxy resin and a curing agent are used to obtain these melt mixtures (A) by an appropriate method.
The method of melt mixing is not particularly limited. For example, (1) First, an epoxy resin and a curing agent are put in a suitable container (a container that can be heated and mixed, such as a heating pot), (2) next, they are heated and mixed, and (3) are then cooled and pulverized. The molten mixture (A) which is a pulverized product (granular or particulate) can be obtained by a three-stage method through the above. In addition, you may pre-mix before (1).
上記(2)の加熱混合は、例えば、加熱釜にジャケットを設けて熱媒体油を循環させたうえで、攪拌羽根による攪拌機を用いるなどして、120〜180℃で1〜60分の条件で行うことができる。
上記(3)の冷却、粉砕工程は、例えば、上記(2)で得られた混合物を40℃以下(好ましくは10℃以下)まで冷却し、その後、公知の粉砕装置(グラニュレーター)を用いるなどして行うことができる。なお、粉砕工程後、粗大粒子や微小すぎる粒子を除いて粒度を揃える工程(例えば、ふるい等を用いた分級工程)を行ってもよい。
In the heating and mixing in (2) above, for example, a jacket is provided in a heating kettle to circulate the heat medium oil, and a stirrer with a stirring blade is used, for example, at 120 to 180 ° C. for 1 to 60 minutes. It can be carried out.
In the cooling and pulverizing step (3), for example, the mixture obtained in (2) is cooled to 40 ° C. or lower (preferably 10 ° C. or lower), and then a known pulverizer (granulator) is used. Can be done. In addition, you may perform the process (For example, the classification process using a sieve etc.) which arranges a particle size except a coarse particle and a particle | grain too fine after a grinding | pulverization process.
粉砕物(顆粒状または粒子状)である溶融混合物(A)の平均粒径は、好ましくは5mm以下、より好ましくは0.1〜2mmである。溶融混合物(A)の平均粒径をある程度小さくすることで、後述の造粒工程で、シェルの厚みをより均一にしやすくなる傾向がある。 The average particle size of the molten mixture (A) which is a pulverized product (granular or particulate) is preferably 5 mm or less, more preferably 0.1 to 2 mm. By making the average particle size of the molten mixture (A) small to some extent, it tends to make the shell thickness more uniform in the granulation step described later.
溶融混合工程で使用可能なエポキシ樹脂は、特に限定されず、例えば、封止用エポキシ樹脂組成物の分野で公知のエポキシ樹脂を用いることができる。つまり、エポキシ樹脂としては、1分子内にエポキシ基を2個以上有するモノマー、オリゴマー、ポリマー全般を用いることができ、その分子量や分子構造は特に限定されない。
エポキシ樹脂については、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
The epoxy resin that can be used in the melt mixing step is not particularly limited, and for example, a known epoxy resin in the field of the epoxy resin composition for sealing can be used. That is, as the epoxy resin, monomers, oligomers, and polymers in general having two or more epoxy groups in one molecule can be used, and the molecular weight and molecular structure are not particularly limited.
About an epoxy resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
エポキシ樹脂の具体例としては、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂等の結晶性エポキシ樹脂;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂;フェニレン骨格含有フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニレン骨格含有フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、フェニレン骨格含有ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂等のフェノールアラルキル型エポキシ樹脂;トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂等の3官能型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂、テルペン変性フェノール型エポキシ樹脂等の変性フェノール型エポキシ樹脂;トリアジン核含有エポキシ樹脂等の複素環含有エポキシ樹脂等が挙げられる。 Specific examples of epoxy resins include biphenyl type epoxy resins, bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, stilbene type epoxy resins, hydroquinone type epoxy resins and the like; cresol novolac type epoxy resins, phenol novolak type Novolak type epoxy resins such as epoxy resins and naphthol novolak type epoxy resins; Phenol aralkyl type epoxy resins such as phenylene skeleton-containing phenol aralkyl type epoxy resins, biphenylene skeleton containing phenol aralkyl type epoxy resins, phenylene skeleton containing naphthol aralkyl type epoxy resins; Trifunctional epoxy resins such as phenol methane type epoxy resin and alkyl-modified triphenol methane type epoxy resin; dicyclopentadiene modification Phenol epoxy resins, modified phenol type epoxy resins such as terpene-modified phenol type epoxy resins; heterocycle-containing epoxy resins such as triazine nucleus-containing epoxy resins.
溶融混合工程で使用可能な硬化剤は、特に限定されず、例えば、封止用エポキシ樹脂組成物の分野で公知の硬化剤を用いることができる。硬化剤は、エポキシ樹脂と反応して、エポキシ樹脂を硬化させるものであれば特に限定されない。
硬化剤については、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
The curing agent that can be used in the melt mixing step is not particularly limited, and for example, a known curing agent in the field of the epoxy resin composition for sealing can be used. The curing agent is not particularly limited as long as it reacts with the epoxy resin and cures the epoxy resin.
About a hardening | curing agent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
硬化剤として具体的には、アミン系硬化剤(アミノ基を有する硬化剤)、フェノール系硬化剤などを挙げることができる。
アミン系硬化剤としては、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等の炭素数2〜20の直鎖脂肪族ジアミン、メタフェニレンジアミン、パラフェニレンジアミン、パラキシレンジアミン、4,4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフェニルプロパン、4,4'−ジアミノジフェニルエーテル、4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、4,4'−ジアミノジシクロヘキサン、ビス(4−アミノフェニル)フェニルメタン、1,5−ジアミノナフタレン、メタキシレンジアミン、パラキシレンジアミン、1,1−ビス(4−アミノフェニル)シクロヘキサン、ジシアノジアミド等を挙げることができる。
フェノール系硬化剤としては、アニリン変性レゾール樹脂やジメチルエーテルレゾール樹脂等のレゾール型フェノール樹脂;フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、tert−ブチルフェノールノボラック樹脂、ノニルフェノールノボラック樹脂等のノボラック型フェノール樹脂;フェニレン骨格含有フェノールアラルキル樹脂、ビフェニレン骨格含有フェノールアラルキル樹脂等のフェノールアラルキル樹脂;ナフタレン骨格やアントラセン骨格のような縮合多環構造を有するフェノール樹脂などを挙げることができる。
Specific examples of the curing agent include amine-based curing agents (curing agents having amino groups) and phenol-based curing agents.
Examples of amine curing agents include linear aliphatic diamines having 2 to 20 carbon atoms such as ethylenediamine, trimethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, metaphenylenediamine, paraphenylenediamine, paraxylenediamine, 4,4 ′. -Diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodicyclohexane, bis (4-aminophenyl) phenylmethane, , 5-diaminonaphthalene, metaxylenediamine, paraxylenediamine, 1,1-bis (4-aminophenyl) cyclohexane, dicyanodiamide and the like.
Examples of the phenolic curing agent include resol type phenol resins such as aniline-modified resole resin and dimethyl ether resole resin; Examples thereof include phenol aralkyl resins such as aralkyl resins and biphenylene skeleton-containing phenol aralkyl resins; phenol resins having a condensed polycyclic structure such as naphthalene skeleton and anthracene skeleton.
その他、硬化剤として、ポリパラオキシスチレン等のポリオキシスチレン;ヘキサヒドロ無水フタル酸(HHPA)、メチルテトラヒドロ無水フタル酸(MTHPA)などの脂環族酸無水物、無水トリメリット酸(TMA)、無水ピロメリット酸(PMDA)、ベンゾフェノンテトラカルボン酸(BTDA)などの芳香族酸無水物などを含む酸無水物等;ポリサルファイド、チオエステル、チオエーテルなどのポリメルカプタン化合物;イソシアネートプレポリマー、ブロック化イソシアネートなどのイソシアネート化合物;カルボン酸含有ポリエステル樹脂などの有機酸類等を挙げることができる。 Other curing agents include polyoxystyrenes such as polyparaoxystyrene; alicyclic acid anhydrides such as hexahydrophthalic anhydride (HHPA) and methyltetrahydrophthalic anhydride (MTHPA), trimellitic anhydride (TMA), pyro anhydride Acid anhydrides including aromatic acid anhydrides such as merit acid (PMDA) and benzophenone tetracarboxylic acid (BTDA); polymercaptan compounds such as polysulfide, thioester, thioether; isocyanate compounds such as isocyanate prepolymer and blocked isocyanate An organic acid such as a carboxylic acid-containing polyester resin.
これらの内、半導体封止材料に用いる硬化剤としては、耐湿性、信頼性等の点から、1分子内に少なくとも2個のフェノール性水酸基を有する化合物が好ましい。より具体的には、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、tert−ブチルフェノールノボラック樹脂、ノニルフェノールノボラック樹脂等のノボラック型フェノール樹脂;レゾール型フェノール樹脂;ポリパラオキシスチレン等のポリオキシスチレン;フェニレン骨格含有フェノールアラルキル樹脂、ビフェニレン骨格含有フェノールアラルキル樹脂等が好ましく挙げられる。 Of these, the curing agent used for the semiconductor sealing material is preferably a compound having at least two phenolic hydroxyl groups in one molecule from the viewpoint of moisture resistance, reliability, and the like. More specifically, phenol novolac resin, cresol novolak resin, tert-butylphenol novolak resin, novolak type phenol resin such as nonylphenol novolak resin; resol type phenol resin; polyoxystyrene such as polyparaoxystyrene; phenylene skeleton-containing phenol aralkyl resin Preferred examples include biphenylene skeleton-containing phenol aralkyl resins.
溶融混合工程における、エポキシ樹脂と硬化剤との混合比(質量比)は、特に限定されないが、好ましくは、エポキシ樹脂と硬化剤の合計量を100質量部としたとき、エポキシ樹脂50〜90質量部、硬化剤10〜50質量部の割合とすることができる。
エポキシ樹脂と硬化剤との混合比を適切に調整することで、後述の造粒工程において、コアの外側に溶融混合物のシェルがより均一にコーティングされると考えらえる。また、最終的に得られるコアシェル粒子を用いた封止用エポキシ樹脂組成物の、封止材料そのものとしての性能を良化させることができると考えられる。
The mixing ratio (mass ratio) of the epoxy resin and the curing agent in the melt mixing step is not particularly limited, but preferably, when the total amount of the epoxy resin and the curing agent is 100 parts by mass, the epoxy resin is 50 to 90 masses. Parts, and a ratio of 10 to 50 parts by mass of the curing agent.
By appropriately adjusting the mixing ratio of the epoxy resin and the curing agent, it can be considered that the shell of the molten mixture is more uniformly coated on the outside of the core in the granulation step described later. Moreover, it is thought that the performance as the sealing material itself of the epoxy resin composition for sealing using the core-shell particle finally obtained can be improved.
溶融混合工程では、原料として少なくともエポキシ樹脂と硬化剤とを用いて溶融混合物(A)を得るが、これら以外の原料を追加で用いてもよい。
追加で用いることのできる原料としては、例えば、カップリング剤(シランカップリング剤等)、離型剤(天然ワックス、合成ワックス、高級脂肪酸もしくはその金属塩類、パラフィン、酸化ポリエチレン等)、低応力剤(シリコーンオイル、シリコーンゴム等)を挙げることができる。
これら原料を用いる場合、その量は、エポキシ樹脂および硬化剤の合計量を100質量部としたとき、例えば0.1〜10質量部程度の量とすることができる。
In the melt mixing step, at least an epoxy resin and a curing agent are used as raw materials to obtain a molten mixture (A), but other raw materials may be additionally used.
Additional raw materials that can be used include, for example, coupling agents (silane coupling agents, etc.), mold release agents (natural waxes, synthetic waxes, higher fatty acids or their metal salts, paraffin, polyethylene oxide, etc.), and low stress agents. (Silicone oil, silicone rubber, etc.).
When these raw materials are used, the amount thereof can be, for example, about 0.1 to 10 parts by mass when the total amount of the epoxy resin and the curing agent is 100 parts by mass.
なお、原材料の劣化抑制や経時安定性などの観点から、溶融混合物(A)は、好ましくは、硬化触媒(エポキシ樹脂の硬化触媒)を含有しない。 In addition, from the viewpoints of suppressing deterioration of raw materials and stability over time, the molten mixture (A) preferably does not contain a curing catalyst (an epoxy resin curing catalyst).
(投入工程)
投入工程では、少なくとも、上述の溶融混合物(A)と、無機充填剤(B)と、着色剤およびイオン捕捉剤、からなる群より選ばれる少なくとも一種の材料(C)とを、攪拌羽根を備えた攪拌装置に投入する。なお、これら以外に、さらに追加で、難燃剤(水酸化アルミニウム等)や、酸化防止剤等を投入してもよい。
なお、以下では、着色剤およびイオン捕捉剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の材料(C)を、単に「材料(C)」とも表記する。
(Input process)
In the charging step, at least one material (C) selected from the group consisting of the above-mentioned molten mixture (A), inorganic filler (B), colorant and ion scavenger is provided with a stirring blade. Into the stirring device. In addition to these, a flame retardant (such as aluminum hydroxide) or an antioxidant may be added in addition.
Hereinafter, at least one material (C) selected from the group consisting of a colorant and an ion scavenger is also simply referred to as “material (C)”.
攪拌羽根を備えた攪拌装置(以下、単に「攪拌装置」とも表記する)は、溶融混合物(A)、無機充填剤(B)および材料(C)を撹拌できる攪拌羽根(しばしば「攪拌翼」とも呼ばれる)を備え、また、攪拌羽根を駆動させたときに、羽根先端の線速度を0.1m/s以上の速さとすることができるものであれば、特に限定されない(羽根先端の線速度については追って詳述する)。なお、後述する造粒工程において減圧する場合があるため、攪拌装置は減圧下での攪拌が可能であることが好ましい。 A stirrer equipped with a stirring blade (hereinafter also simply referred to as “stirring device”) is a stirring blade (often referred to as “stirring blade”) that can stir the molten mixture (A), the inorganic filler (B), and the material (C). Provided that the linear velocity at the tip of the blade can be made 0.1 m / s or more when the stirring blade is driven (the linear velocity at the tip of the blade). Will be detailed later). In addition, since it may reduce pressure in the granulation process mentioned later, it is preferable that the stirring apparatus can be stirred under reduced pressure.
攪拌装置については、例えば、図1、図2(i)、図2(ii)等を示すことができる。これらの図は、攪拌装置の例を模式的に示す図(断面図)である。
攪拌装置1は、攪拌羽根2、軸3および槽本体4を備える。また、図示していないが、攪拌羽根2および軸3を回転させるためのモーター、モーターの回転を攪拌に適した回転数に減速するための減速機、密閉状態で攪拌するための蓋、減圧または加圧のための機器、温度調節のための機器(ヒーター、冷却装置、温度計など)、その他必要な機器を備えることができる。
About a stirring apparatus, FIG.1, FIG.2 (i), FIG.2 (ii) etc. can be shown, for example. These drawings are diagrams (cross-sectional views) schematically showing examples of the stirring device.
The stirring
攪拌羽根2の形状は、図1、図2(i)および図2(ii)に示された形状のものに限られず、アンカー形状、ヘリカルリボン形状、プロペラ形状、ディスクタービン形状、傾斜パドル形状、エッジドタービン形状など、攪拌装置の分野で知られている種々のものを用いることができる。
The shape of the
投入工程で使用可能な無機充填剤(B)は、特に限定されない。例えば、封止用エポキシ樹脂組成物の分野で公知の無機充填剤を用いることができる。
無機充填剤(B)として具体的には、溶融破砕シリカ、溶融球状シリカ、結晶シリカ、2次凝集シリカ等のシリカ;アルミナ;チタンホワイト;水酸化アルミニウム;タルク;クレー;マイカ;ガラス繊維等が挙げられる。これらの中でも、特に溶融球状シリカが好ましい。
無機充填剤(B)の粒子形状は、略真球状であることが好ましい。
無機充填剤(B)の平均粒径は、特に限定されないが、典型的には1〜100μm、好ましくは1〜50μm、より好ましくは1〜20μmである。平均粒径が適当であることにより、後述の造粒工程において、溶融混合物(A)を含むシェルがより均一にコーティングされる等の効果が得られると考えられる。また、最終的に得られたコアシェル粒子を半導体封止材として使用するときに、金型キャビティ内での半導体素子周辺への充填性を高めることができる。
The inorganic filler (B) that can be used in the charging step is not particularly limited. For example, a well-known inorganic filler can be used in the field of the epoxy resin composition for sealing.
Specific examples of the inorganic filler (B) include fused crushed silica, fused spherical silica, crystalline silica, secondary agglomerated silica and the like; alumina; titanium white; aluminum hydroxide; talc; clay; mica; Can be mentioned. Among these, fused spherical silica is particularly preferable.
The particle shape of the inorganic filler (B) is preferably substantially spherical.
The average particle diameter of the inorganic filler (B) is not particularly limited, but is typically 1 to 100 μm, preferably 1 to 50 μm, more preferably 1 to 20 μm. When the average particle size is appropriate, it is considered that an effect such as more uniform coating of the shell containing the molten mixture (A) is obtained in the granulation step described later. In addition, when the finally obtained core-shell particles are used as a semiconductor sealing material, the filling property around the semiconductor element in the mold cavity can be improved.
投入工程で使用可能な着色剤は、特に限定されない。例えば、カーボンブラックを用いることができる。着色剤を用いる場合、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
投入工程で使用可能なイオン捕捉剤(イオンキャッチャー、イオントラップ剤などとも表記される)は、特に限定されない。例えば、ハイドロタルサイトを用いることができる。また、ビスマス酸化物やイットリウム酸化物などもイオン捕捉剤として知られている。イオン捕捉剤を用いる場合、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
The colorant that can be used in the charging step is not particularly limited. For example, carbon black can be used. When using a coloring agent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
There are no particular limitations on the ion scavenger (also referred to as ion catcher, ion trap agent, etc.) that can be used in the charging step. For example, hydrotalcite can be used. Bismuth oxide and yttrium oxide are also known as ion scavengers. When using an ion scavenger, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
投入工程で使用可能な難燃剤は特に限定されず、無機系難燃剤(例えば水酸化アルミニウム等の水和金属系化合物)、ハロゲン系難燃剤、リン系難燃剤、有機金属塩系難燃剤などを挙げることができる。難燃剤を使用する場合、1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
投入工程で使用可能な酸化防止剤は特に限定されず、例えば、フェノール系酸化防止剤(ジブチルヒドロキシトルエン等)、イオウ系酸化防止剤(メルカプトプロピオン酸誘導体等)、リン系酸化防止剤(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド等)などが挙げられる。酸化防止剤を使用する場合、1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
Flame retardants that can be used in the charging process are not particularly limited, and include inorganic flame retardants (for example, hydrated metal compounds such as aluminum hydroxide), halogen flame retardants, phosphorus flame retardants, and organic metal salt flame retardants. Can be mentioned. When using a flame retardant, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
Antioxidants that can be used in the charging process are not particularly limited. For example, phenolic antioxidants (dibutylhydroxytoluene, etc.), sulfur antioxidants (mercaptopropionic acid derivatives, etc.), phosphorus antioxidants (9, 9) 10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide etc.). When using antioxidant, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
投入工程において装置内に投入される溶融混合物(A)、無機充填剤(B)および材料(C)の量比を適切に調整することで、粒子の均質性(シェルの厚みの均一性など)を一層高めることができる。 By adjusting the quantity ratio of the molten mixture (A), the inorganic filler (B), and the material (C) to be introduced into the apparatus in the charging step, the uniformity of the particles (such as the uniformity of the shell thickness) Can be further enhanced.
例えば、投入工程で攪拌装置1に投入される全成分中の溶融混合物(A)の割合を、好ましくは15質量%以下、より好ましくは0.1〜10質量%、さらに好ましくは0.1〜5質量%とすることで、粒子の均質性(シェルの厚みの均一性など)を一層高めることができる。
投入される無機充填剤(B)の量は、投入工程で攪拌装置1に投入される全成分中、好ましくは85〜99.9質量%である。
投入される材料(C)の量は、投入工程で攪拌装置1に投入される全成分中、好ましくは0.1〜3質量%、より好ましくは0.1〜1質量%である。
For example, the ratio of the molten mixture (A) in all components charged into the stirring
The amount of the inorganic filler (B) to be charged is preferably 85 to 99.9% by mass in all the components charged into the stirring
The amount of the material (C) to be added is preferably 0.1 to 3% by mass, and more preferably 0.1 to 1% by mass in all the components to be added to the
(造粒工程)
上記の投入工程の後の造粒工程では、投入工程で攪拌装置1に投入された成分を、攪拌羽根2を駆動させて混合しつつ加熱して110℃以上とする。この温度は、好ましくは110〜180℃、より好ましくは120〜170℃である。温度が110℃以上であることで溶融混合物(A)が適度に軟化し、均一なシェルをコーティングしやすくなる。また、温度が180℃以下であることで原材料の劣化等が抑えられ、最終的に得られるコアシェル粒子およびそれを用いた封止用エポキシ樹脂組成物の性能をより高めることができる。
念のため述べておくと、「投入工程で攪拌装置1に投入された成分を110℃以上とする」とは、投入工程で攪拌装置1に投入された成分自体(最終的には造粒される成分自体)が110℃以上になることを意味する。このことは、例えば、造粒工程を一時中断して攪拌装置1内の内容物の温度を測定することで確認することができる。または、攪拌装置1として覗き窓があるものを用い、その覗き窓から放射温度計で温度測定することで確認してもよい。
(Granulation process)
In the granulation step after the charging step, the components charged into the stirring
As a precaution, “the component charged into the stirring
造粒工程では、攪拌羽根2の先端の線速度が0.1m/s以上の速さとなるように、ある程度大きな回転数で軸3および攪拌羽根2を回転させる。これにより、適度に軟化した溶融混合物(A)が、高速度での撹拌により大きなせん断力を受ける。そして、無機充填剤(B)および材料(C)を含むコアの外側に、溶融混合物(A)を含むシェル(厚みが略均一)を備えたコアシェル粒子を得ることができると考えられる。また、大きなせん断力により、無機充填剤(B)および材料(C)が適度に混合され、その結果、無機充填剤(B)および材料(C)の「両方」を含むコアの周りに、溶融混合物のシェルを形成することができると考えられる。
In the granulation step, the
「攪拌羽根2の先端」について補足しておく。
攪拌羽根2の先端とは、典型的には、攪拌羽根2が回転したときに、単位時間あたりの移動距離が一番大きい部分のことである。換言すると、攪拌羽根2が回転したときに一番速く動く部分(一番速い線速度を示す部分)と表現することもできる。
図1の攪拌羽根2では、その両端(右端および左端の部分)が「先端」になる。
図2(i)の場合は、形式上、3つの攪拌羽根2があるが、回転半径が一番大きい、図中の一番下の攪拌羽根2の先端が「攪拌羽根2の先端」に該当する。
図2(ii)の場合、図に示された攪拌羽根2には、軸3を基準として左右対称に5つずつの突出部が存在しているが、このうち、一番下の突出部の先端(回転したときに移動距離が一番大きい)が「攪拌羽根2の先端」に該当する。
It supplements about "the front-end | tip of the
The tip of the
In the
In the case of FIG. 2 (i), there are three
In the case of FIG. 2 (ii), the agitating
また、「攪拌羽根2の先端の線速度」について補足しておく。
攪拌羽根2の先端の線速度とは、典型的には、槽本体4(槽本体4は通常固定されている)に対する、攪拌羽根2の先端の相対速度の最大値のことをいう。
回転軸が1つである場合には、攪拌羽根2の直径(回転直径)をD(m)、回転数をN(rpm)として、πND/60の式により求められる値が、攪拌羽根2の先端の線速度(m/s)となる。ここで、πは円周率である。
例えばプラネタリーミキサーのように、攪拌羽根が自転および公転する場合には、上記のような単純な式で羽根先端の線速度を求めることはできないが、自転速度と公転速度とを適切に合成するなどして、攪拌羽根の先端の相対速度の最大値を求めればよい。または、羽根先端の線速度は、計算ではなく実測で求めてもよい。例えば、材料を入れずに攪拌装置1を駆動させて羽根先端の動きを動画撮影するなどし、その動画を解析することで求めてもよい。
In addition, a supplementary explanation will be given for the “linear velocity at the tip of the
The linear velocity at the tip of the
When there is only one rotating shaft, the value obtained by the equation of πND / 60, where D (m) is the diameter (rotating diameter) of the
For example, when a stirring blade rotates and revolves like a planetary mixer, the linear velocity at the tip of the blade cannot be obtained by the above simple formula, but the rotation speed and the revolving speed are appropriately combined. For example, the maximum value of the relative speed at the tip of the stirring blade may be obtained. Alternatively, the linear velocity at the blade tip may be obtained by actual measurement instead of calculation. For example, it may be obtained by analyzing the moving image by driving the
攪拌羽根2の先端の線速度は、0.1m/s以上であればよいが、好ましくは0.4m/s以上、より好ましくは1.0m/s以上である。線速度の上限は特に無いが、装置の制約等の観点から、例えば好ましくは10m/s以下、より好ましくは8m/s以下、さらに好ましくは5m/s以下、である。
The linear velocity at the tip of the
攪拌羽根2の先端と槽本体4との間には、通常、クリアランス(すき間)が存在する。図1、図2(i)および図2(ii)では、このクリアランスの大きさをaと明記している。詳細は不明だが、適度なクリアランスがあることで、造粒工程の際、攪拌羽根2と衝突した成分がクリアランスのほうに適度に逃げ、これが造粒を一層促進すると推定される。これにより、粒子の粒径分布を一層揃えることができると考えられる。
具体的には、クリアランスの大きさは、好ましくは0.5〜10mm、より好ましくは1〜8mmである。
There is usually a clearance (clearance) between the tip of the
Specifically, the size of the clearance is preferably 0.5 to 10 mm, more preferably 1 to 8 mm.
造粒工程において、攪拌装置1に投入された成分を110℃以上とする時間(成分を110℃以上に保つ時間)は、好ましくは5〜200分であり、より好ましくは10〜180分、さらに好ましくは20〜150分ある。この時間を10分以上とすることで、十分な厚みのシェルを形成しやすくなる、シェルの厚みを一層均一にすることができる、等の効果がある。また、この時間を200分以下とすることで、素材の劣化等が抑えられる。よって、このコアシェル粒子を封止用エポキシ樹脂組成物に適用した場合、各種性能を一層良化させることができる。
In the granulation step, the time when the component charged in the
造粒工程の一部または全部は、好ましくは、減圧下で行われる。具体的には、造粒工程の一部または全部は、好ましくは30kPa以下の減圧下、より好ましくは0.01〜20kPaの減圧下、さらに好ましくは0.05〜15kPaの減圧下、特に好ましくは0.1〜10kPaの減圧下で行われる。
減圧は、例えば、攪拌時の減圧が可能な攪拌装置1を用いることで、減圧下で造粒工程を行うことができる。
減圧は、好ましくは、造粒工程の全時間中の少なくとも半分以上の時間で行われることが好ましい。
Part or all of the granulation step is preferably performed under reduced pressure. Specifically, part or all of the granulation step is preferably under a reduced pressure of 30 kPa or less, more preferably under a reduced pressure of 0.01 to 20 kPa, even more preferably under a reduced pressure of 0.05 to 15 kPa, particularly preferably. It is performed under a reduced pressure of 0.1 to 10 kPa.
The granulation process can be performed under reduced pressure by using, for example, the stirring
The decompression is preferably performed for at least half of the total time of the granulation step.
造粒工程の一部または全部が減圧下で行われることで、攪拌装置1に投入された成分に含まれる水分が一層低減されると考えられる。より具体的には、減圧(および110℃以上での加熱)により、投入された無機充填剤(B)等に付着する水分の多くが除去されると考えられる。これにより、無機充填剤(B)や材料(C)のコアの一部分のみに溶融混合物(A)が固まる等の事態が一層抑えられ、より均一な厚みのシェルを形成できるものと考えられる。
特に、無機充填剤(B)がシリカである場合、シリカはその性質上、水を吸着しやすいから、減圧(脱気)による水分除去が好ましいと考えられる。
It is considered that the moisture contained in the components charged into the stirring
In particular, when the inorganic filler (B) is silica, it is considered that water removal by reduced pressure (degassing) is preferable because silica easily adsorbs water due to its properties.
念のため付言しておくと、造粒工程では、投入された成分を110℃以上で加熱するため、減圧せずともある程度の水分は除去される。つまり、減圧は造粒工程において必須ではない。ただし、水分を一層低減する観点からは減圧を行うことが好ましい。 As a precaution, in the granulation step, the charged components are heated at 110 ° C. or higher, so that some moisture is removed without reducing the pressure. That is, decompression is not essential in the granulation process. However, it is preferable to perform pressure reduction from the viewpoint of further reducing moisture.
なお、「水分を除去する」という観点からは、無機充填剤(B)等が含む水分を低減させる水分低減工程を設けてもよい。上記の「減圧」は、この水分除去工程に該当しうるが、減圧とは別のやり方で、無機充填剤(B)等が含む水分を低減させてもよい。
例えば、投入工程の前に、無機充填剤(B)や、場合によっては材料(C)などを加熱して、水分を十分に乾燥させてから投入することが考えられる。また、投入工程の前に、無機充填剤(B)や材料(C)などを脱気処理して、付着する水分を低減させてもよい。
ただし、製造工程の簡略化やコスト削減等の観点からは、造粒工程において減圧することで水分を低減させることが好ましい。
In addition, from the viewpoint of “removing moisture”, a moisture reducing step for reducing moisture contained in the inorganic filler (B) or the like may be provided. The above “reduced pressure” may correspond to this moisture removal step, but the moisture contained in the inorganic filler (B) or the like may be reduced by a method different from the reduced pressure.
For example, it may be possible to heat the inorganic filler (B) or, in some cases, the material (C), etc. before the charging step to sufficiently dry the water before charging. Further, before the charging step, the inorganic filler (B), the material (C) and the like may be deaerated to reduce the attached moisture.
However, from the viewpoint of simplification of the manufacturing process and cost reduction, it is preferable to reduce moisture by reducing the pressure in the granulation process.
(冷却攪拌工程)
本実施形態の粒子の製造方法は、好ましくは、造粒工程の後に、攪拌羽根2を回転させて、攪拌装置内の成分を攪拌しつつ冷却する冷却攪拌工程を含む。これにより、上述の造粒工程で得られたコアシェル粒子が、冷却時に凝集する(塊状になる)ことが一層抑えられ、好ましい。
(Cooling and stirring process)
The method for producing particles according to the present embodiment preferably includes a cooling and stirring step of cooling the
冷却攪拌工程における攪拌羽根2を回転させる速さは、特に限定されないが、攪拌羽根2の先端の線速度として、例えば0.01〜10m/s、好ましくは0.1〜5m/sの範囲で適宜設定することができる。
冷却攪拌工程の時間は、特に限定されず、適宜設定することができる。例えば、10〜200分であり、好ましくは20〜180分、よりに好ましくは30〜150分ある。
Although the speed which rotates the
The time of the cooling and stirring step is not particularly limited and can be set as appropriate. For example, it is 10 to 200 minutes, preferably 20 to 180 minutes, more preferably 30 to 150 minutes.
コアシェル粒子は、冷却攪拌工程により、溶融混合物(A)の軟化点以下の温度まで冷却されることが好ましい。典型的には、コアシェル粒子は、冷却攪拌工程により60℃以下まで冷却されることが好ましく、55℃以下まで冷却されることがより好ましく、50℃以下まで冷却されることがさらに好ましく、室温まで冷却されることが特に好ましい。 The core-shell particles are preferably cooled to a temperature not higher than the softening point of the molten mixture (A) by the cooling and stirring step. Typically, the core-shell particles are preferably cooled to 60 ° C. or lower, more preferably 55 ° C. or lower, further preferably 50 ° C. or lower, further preferably to room temperature, by the cooling and stirring step. It is particularly preferred that it be cooled.
冷却攪拌工程においても、造粒工程と同様、その一部または全部で減圧が行われてもよい。減圧の際の圧力としては、例えば20kPa以下、好ましくは0.01〜20kPa、より好ましくは0.05〜15kPaである。冷却時にも減圧することで、水分の低減や水分の再付着が抑えられ、結果、粒子の凝集等を一層低減できると考えられる。 In the cooling and stirring step, as in the granulation step, part or all of the pressure may be reduced. The pressure at the time of depressurization is, for example, 20 kPa or less, preferably 0.01 to 20 kPa, more preferably 0.05 to 15 kPa. By reducing the pressure also during cooling, it is considered that moisture reduction and moisture reattachment can be suppressed, and as a result, particle aggregation and the like can be further reduced.
(粉砕工程)
本実施形態において造粒された粒子が、もし凝集している(2つ以上のコアシェル粒子がくっついている)場合などには、その凝集物を粉砕するための粉砕工程を行ってもよい。
粉砕の具体的なやり方は、特に限定されないが、例えば、ハンマーミル等の衝撃式のもの用いて行うことができる。原料供給速度は1〜1000kg/hの条件とすることができる。
また、粉砕に際しては、振動ボールミル、連続式回転ボールミル、バッチ式ボールミル等のボールミル;湿式ポットミル、遊星ポットミル等のポットミル;ローラーミル等を用いてもよい。
(Crushing process)
If the particles granulated in the present embodiment are aggregated (two or more core-shell particles are adhered), a pulverization step for pulverizing the aggregate may be performed.
Although the specific method of grinding is not particularly limited, for example, an impact type such as a hammer mill can be used. The raw material supply rate can be 1 to 1000 kg / h.
In pulverization, a ball mill such as a vibration ball mill, a continuous rotary ball mill, or a batch ball mill; a pot mill such as a wet pot mill or a planetary pot mill; a roller mill or the like may be used.
上記の各工程を経て最終的に得られるコアシェル粒子のシェルの厚みは、例えば0.1〜10μm、好ましくは0.5〜5μm、さらに好ましくは1〜3μmである。なお、シェルの厚みや、シェルの厚みの均一性は、例えば、コアシェル粒子を樹脂包埋したものを切断機で切断し、その切断面を研磨して、その研磨された切断面に現れているコアシェル粒子(粒子の切断面が観察できるもの)の断面を観察することで評価することができる。観察には、拡大鏡、光学顕微鏡、電子顕微鏡(例えば走査型電子顕微鏡)などを用いることができる。 The thickness of the shell of the core-shell particles finally obtained through the above steps is, for example, 0.1 to 10 μm, preferably 0.5 to 5 μm, and more preferably 1 to 3 μm. In addition, the thickness of the shell and the uniformity of the thickness of the shell appear, for example, by cutting a resin-embedded core-shell particle with a cutting machine and polishing the cut surface. It can be evaluated by observing the cross section of the core-shell particle (that can observe the cut surface of the particle). For the observation, a magnifying glass, an optical microscope, an electron microscope (for example, a scanning electron microscope) or the like can be used.
また、最終的に得られるコアシェル粒子におけるコアの平均粒径は、例えば2〜55μm、好ましくは4〜50μm、さらに好ましくは10〜45μmである。
また、最終的に得られるコアシェル粒子の平均粒径は、例えば3〜60μm、好ましくは5〜50μm、さらに好ましくは10〜45μmである。
Moreover, the average particle diameter of the core in the finally obtained core-shell particles is, for example, 2 to 55 μm, preferably 4 to 50 μm, and more preferably 10 to 45 μm.
Moreover, the average particle diameter of the core-shell particles finally obtained is, for example, 3 to 60 μm, preferably 5 to 50 μm, and more preferably 10 to 45 μm.
<コアシェル粒子および封止用エポキシ樹脂組成物>
本実施形態のコアシェル粒子は、封止用エポキシ樹脂組成物の構成成分として用いられる。そして、無機充填剤(B)と、着色剤およびイオン捕捉剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の材料(C)とを含むコアの外側に、エポキシ樹脂および硬化剤を含むシェルを備える。
コアシェル粒子の平均粒径、コアの平均粒径、シェルの厚み等は、上述のとおりである。
本実施形態のコアシェル粒子は、典型的には、上述の<粒子の製造方法>に記載の方法により製造することができる。
<Core-shell particle and epoxy resin composition for sealing>
The core-shell particle of this embodiment is used as a component of the sealing epoxy resin composition. And the shell containing an epoxy resin and a hardening | curing agent is provided in the outer side of the core containing an inorganic filler (B) and at least 1 type of material (C) chosen from the group which consists of a coloring agent and an ion-trapping agent.
The average particle diameter of the core-shell particles, the average particle diameter of the core, the thickness of the shell, and the like are as described above.
The core-shell particles of the present embodiment can be typically produced by the method described in <Particle production method> above.
ここで、本実施形態のコアシェル粒子が「封止用エポキシ樹脂組成物の構成成分として用いられる」とは、以下の両方を含む。
(i)本実施形態のコアシェル粒子を単独で封止用エポキシ樹脂組成物として用いること
(ii)実施形態のコアシェル粒子と、その他の成分とを混合および/または混練して用いること
Here, the phrase “used as a constituent of the epoxy resin composition for sealing” of the core-shell particles of the present embodiment includes both of the following.
(I) Using the core-shell particles of this embodiment alone as an epoxy resin composition for sealing (ii) Mixing and / or kneading and using the core-shell particles of the embodiment and other components
上記(ii)の場合の「その他の成分」としては、例えば、前述の溶融混合工程で説明した溶融混合物(A)、前述の投入工程で説明した無機充填剤(B)、着色剤、および/またはイオン捕捉剤などを挙げることができる。
また、カップリング剤(シランカップリング剤等)、硬化触媒(イミダゾール類、有機ホスフィン類、アミン類など)、離型剤(天然ワックス、合成ワックス、高級脂肪酸もしくはその金属塩類、パラフィン、酸化ポリエチレン等)、低応力剤(シリコーンオイル、シリコーンゴム等)、難燃剤(水酸化アルミニウム等)、酸化防止剤等も挙げることができる。
As the “other components” in the case of (ii), for example, the molten mixture (A) described in the above-described melt mixing step, the inorganic filler (B) described in the above-described charging step, a colorant, and / or Or an ion-trapping agent can be mentioned.
Coupling agents (silane coupling agents, etc.), curing catalysts (imidazoles, organic phosphines, amines, etc.), mold release agents (natural wax, synthetic wax, higher fatty acids or metal salts thereof, paraffin, polyethylene oxide, etc. ), Low stress agents (silicone oil, silicone rubber, etc.), flame retardants (aluminum hydroxide, etc.), antioxidants and the like.
上記(i)(ii)いずれの場合であっても、本実施形態のコアシェル粒子(または、コアシェル粒子とその他の成分との混合/混練物)は、封止用エポキシ樹脂組成物として実用に供される際に、適切な形態に打錠されてもよい。 In any case of the above (i) and (ii), the core-shell particles of the present embodiment (or a mixture / kneaded product of the core-shell particles and other components) are practically used as an epoxy resin composition for sealing. When done, it may be tableted into an appropriate form.
本実施形態の封止用エポキシ樹脂組成物(上述のコアシェル粒子を含む)は、電子デバイス等の封止の為に好ましく適用することができる。例えば、本実施形態の封止用エポキシ樹脂組成物をモールド樹脂として用いて硬化成形することにより、半導体素子等の電子デバイスを封止することができる。硬化成形の方法としては、トランスファーモールド法、コンプレッションモールド法、インジェクションモールド等の公知の方法を挙げることができる。 The sealing epoxy resin composition (including the above-described core-shell particles) of the present embodiment can be preferably applied for sealing electronic devices and the like. For example, an electronic device such as a semiconductor element can be sealed by curing using the sealing epoxy resin composition of the present embodiment as a mold resin. Examples of the curing molding method include known methods such as a transfer molding method, a compression molding method, and an injection molding method.
封止対象となる電子デバイスに特に限定は無いが、例えば、SIP(Single Inline Package)、HSIP(SIP with Heatsink)、ZIP(Zig−zag Inline Package)、DIP(Dual Inline Package)、SDIP(Shrink Dual Inline Package)、SOP(Small Outline Package)、SSOP(Shrink Small Outline Package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、SOJ(Small Outline J−leaded Package)、QFP(Quad Flat Package)、QFP(FP)(QFP
Fine Pitch)、TQFP(Thin Quad Flat Package)、QFJ(PLCC)(Quad Flat J−leaded Package)、BGA(Ball Grid Array)等のパッケージを挙げることができる。
The electronic device to be sealed is not particularly limited. For example, SIP (Single Inline Package), HSIP (SIP with Heathink), ZIP (Zig-zag Inline Package), DIP (Dual Inline Package), SDIP (Shrink Dusk) Inline Package), SOP (Small Small Package), SSOP (Shrink Small Outline Package), TSOP (Thin Small Outline Package), SOJ (Small Outline J-leaded Package), QF P
Examples of such packages include Fine Pitch), TQFP (Thin Quad Flat Package), QFJ (PLCC) (Quad Flat J-leaded Package), and BGA (Ball Grid Array).
以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することができる。また、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described, these are illustrations of this invention and can employ | adopt various structures other than the above. Further, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and modifications, improvements, and the like within the scope that can achieve the object of the present invention are included in the present invention.
本発明の実施態様を、実施例および比較例に基づき詳細に説明する。なお、本発明は実施例に限定されるものではない。 Embodiments of the present invention will be described in detail based on examples and comparative examples. In addition, this invention is not limited to an Example.
<実施例1>
以下1.〜5.の工程により、コアシェル粒子を得た。
1.溶融混合工程
まず、以下の原料を準備した。
・エポキシ樹脂:フェニレン骨格含有フェノールアラルキル型エポキシ樹脂(日本化薬社製、NC−3000、軟化点58℃、エポキシ当量277) 80質量部
・硬化剤:ビフェニレン骨格含有フェノールアラルキル樹脂(明和化成社製、MEH7851S) 19質量部
・カルナバワックス 0.5質量部
・シランカップリング剤:γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製、KBM−803) 0.5質量部
<Example 1>
1. ~ 5. The core-shell particles were obtained by this process.
1. Melt mixing process First, the following raw materials were prepared.
Epoxy resin: Phenol aralkyl type epoxy resin containing phenylene skeleton (Nippon Kayaku Co., Ltd., NC-3000, softening point 58 ° C., epoxy equivalent 277) 80 parts by mass Curing agent: Phenol aralkyl resin containing biphenylene skeleton (Maywa Kasei Co. , MEH7851S) 19 parts by mass, carnauba wax 0.5 parts by mass, silane coupling agent: γ-mercaptopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-803) 0.5 parts by mass
次に、上記のエポキシ樹脂、硬化剤およびカルナバワックスを加熱釜中に投入し、150℃の熱媒体油により加温した。材料温度が100℃を超えたところで攪拌羽根での攪拌を開始し、また、材料温度が120℃を超えたところで上記のカップリング剤を添加し、その後5分攪拌した。
攪拌終了後、混合物を別の容器に移し替え、10℃で冷却した。材料温度が20℃以下となるまで冷却し、その後ハンマーミルで粉砕した。
以上により、平均粒径700μmの、溶融混合物の粉砕物を得た。
Next, the above epoxy resin, curing agent and carnauba wax were charged into a heating kettle and heated with a heat medium oil at 150 ° C. When the material temperature exceeded 100 ° C., stirring with a stirring blade was started, and when the material temperature exceeded 120 ° C., the above coupling agent was added, and then stirred for 5 minutes.
After completion of the stirring, the mixture was transferred to another container and cooled at 10 ° C. It cooled until material temperature became 20 degrees C or less, and pulverized with the hammer mill after that.
Thus, a pulverized molten mixture having an average particle diameter of 700 μm was obtained.
2.投入工程
攪拌装置の槽本体の中に、以下の成分を投入した。
・上記1.で得られた溶融混合物の粉砕物 1.0質量部
・無機充填剤:溶融球状シリカ1(電気化学工業社製、FB−950、メジアン径D50:23μm) 75質量部
・無機充填剤:溶融球状シリカ2(アドマテックス社製、SO−25R、メジアン径D50:0.5μm) 10質量部
・着色剤:カーボンブラック(三菱化学社製、#5) 0.3質量部
・イオン捕捉剤:ハイドロタルサイト(協和化学社製、DHT−4H) 0.3質量部
2. Input process The following components were charged into the tank body of the agitator.
・ The above 1. 1.0 parts by mass of the pulverized product of the molten mixture obtained in the above: Inorganic filler: fused spherical silica 1 (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., FB-950, median diameter D50: 23 μm) 75 parts by mass: Inorganic filler: fused spherical Silica 2 (manufactured by Admatechs, SO-25R, median diameter D50: 0.5 μm) 10 parts by mass / coloring agent: carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical, # 5) 0.3 part by mass / ion scavenger: hydrotal Site (Kyowa Chemical Co., Ltd., DHT-4H) 0.3 parts by mass
なお、攪拌装置としては、クリアランス(攪拌羽根の先端と槽本体との距離)が3.0mmであるものを用いた。この攪拌装置は、攪拌のためのモーターや速度調整器、密閉状態で攪拌するための蓋、減圧の為のポンプ、温度調節のためのヒーター、覗き窓などを備えていた。 In addition, as a stirring apparatus, the clearance (distance between the front-end | tip of a stirring blade and a tank main body) is 3.0 mm. This stirring device was equipped with a motor and speed regulator for stirring, a lid for stirring in a sealed state, a pump for decompression, a heater for temperature adjustment, a viewing window, and the like.
3.造粒工程
上記2.で槽本体内に投入した成分を、先端の線速度が1.0m/sとなるように攪拌羽根を回転させて混ぜつつ、攪拌装置が備えるヒーターにより加熱した。槽本体内の内容物の温度が120℃となるように維持して、30分間、常圧下で、攪拌羽根の回転を続けた。なお、槽本体内の内容物の温度は、攪拌装置が備える覗き窓から放射温度計で確認した。
これにより、無機充填剤、着色剤およびイオン捕捉剤を含むコアの外側に、溶融混合物を含むシェルを備えたコアシェル粒子を造粒した。
3.
Thereby, the core-shell particle | grains provided with the shell containing a molten mixture on the outer side of the core containing an inorganic filler, a coloring agent, and an ion-trapping agent were granulated.
4.冷却攪拌工程
上記3.の工程後、ヒーターの加熱を弱めたうえで、先端の線速度が1.0m/sとなるように攪拌羽根を回転させて、コアシェル粒子の温度が45℃以下になるまで120分冷却した。
4). Cooling and stirring
5.粉砕工程
コアシェル粒子の一部凝集が確認された場合には、上記4.で冷却されたコアシェル粒子をハンマーミルに投入して処理した。
5. Grinding step When partial aggregation of the core-shell particles is confirmed, the above 4. The core-shell particles cooled in (1) were put into a hammer mill and processed.
<実施例2〜4および比較例>
造粒工程および冷却攪拌工程の際の条件を、下表のように変更した以外は、実施例1と同様にして、コアシェル粒子を製造した。
特に、実施例4では、造粒工程の際、槽本体内の圧力を10kPaに減圧した。
<Examples 2 to 4 and Comparative Examples>
Core-shell particles were produced in the same manner as in Example 1 except that the conditions during the granulation step and the cooling and stirring step were changed as shown in the table below.
In particular, in Example 4, the pressure in the tank body was reduced to 10 kPa during the granulation step.
<評価>
[コアシェル粒子の平均粒径]および[粒径分布の均一性]
堀場製作所製の湿式粒度分布測定機LA−950を用いて粒子径分布のデータを取得した。
平均粒径については、このデータを算術平均することで算出した。
また、データから、累積10%値(D10)および累積90%値(D90)を求め、D90/D10の値を計算して、粒径分布の「広さ」の指標とした(D90/D10の値が小さいほど、粒径分布が狭く、コアシェル粒子が均一に造粒されていることを表す)。今回は、評価基準として、D90/D10の値が15未満の場合を○(良い)、15以上の場合を×(悪い)とした。
<Evaluation>
[Average particle size of core-shell particles] and [Uniformity of particle size distribution]
Data of particle size distribution was acquired using a wet particle size distribution analyzer LA-950 manufactured by Horiba.
The average particle size was calculated by arithmetically averaging this data.
Further, a cumulative 10% value (D10) and a cumulative 90% value (D90) are obtained from the data, and the value of D90 / D10 is calculated and used as an index of the “width” of the particle size distribution (of D90 / D10 The smaller the value, the narrower the particle size distribution, indicating that the core-shell particles are uniformly granulated). This time, as an evaluation standard, a case where the value of D90 / D10 is less than 15 is (good), and a case where it is 15 or more is x (bad).
[シェルの厚み均一性]
コアシェル粒子の切断面を走査型電子顕微鏡で観察した。なお、コアシェル粒子の断面は、前述のように、コアシェル粒子を樹脂包埋したものを切断機で切断するなどして得た。
コアの外周が全面的に略均一にコートされていれば○(良い)、一部コートされていなければ△(普通)、ほとんどまたは全くコートされていいなければ×(悪い)とした。
[Shell thickness uniformity]
The cut surface of the core-shell particles was observed with a scanning electron microscope. The cross-section of the core-shell particles was obtained by cutting the core-shell particles embedded in the resin with a cutting machine as described above.
If the outer periphery of the core was coated almost uniformly on the whole surface, it was rated as “good”, if not partially coated, “△” (normal), and if almost or not coated, “x” (bad).
[材料混合の均一性]
得られたコアシェル粒子を目視で観察した。
カーボンブラックが均一に分散された結果として各コアシェルが均一の色目であれば○(良い)、カーボンブラックの分散性が悪く、黒点が認められる場合は×(悪い)とした。
[Uniformity of material mixing]
The obtained core-shell particles were visually observed.
As a result of the uniform dispersion of carbon black, each core shell had a uniform color (circle) (good). When the dispersibility of carbon black was poor and black spots were observed, it was marked with x (bad).
[粒子の凝集に関して]
得られたコアシェル粒子100質量部を、目開き1mmの篩で篩って、篩の上に残留する凝集粒子の割合を測定した。残留量が1質量部未満であれば○(良い)、1質量部以上であれば×(悪い)とした。
[Regarding particle aggregation]
100 parts by mass of the obtained core-shell particles were sieved with a sieve having an opening of 1 mm, and the proportion of aggregated particles remaining on the sieve was measured. If the residual amount was less than 1 part by mass, it was rated as ◯ (good), and if it was 1 part by mass or more, x (bad).
表2に示されるとおり、溶融混合工程、投入工程および造粒工程(攪拌羽根の先端の線速度が0.1m/s以上)の各工程を経て得られた実施例1〜4のコアシェル粒子は、シェルの厚み均一性、材料混合の均一性、粒子の凝集、粒径分布の均一性などが良好であった。つまり、本実施形態の粒子の製造方法により、封止用エポキシ樹脂組成物の構成成分として用いられる粒子の均質性を向上させることができた。
特に、造粒工程での攪拌羽根の先端の線速度が1.0m/s以上であることで、シェルの厚みの均一性がより良化することがわかった。
As shown in Table 2, the core-shell particles of Examples 1 to 4 obtained through each step of the melt mixing step, the charging step, and the granulation step (the linear velocity at the tip of the stirring blade is 0.1 m / s or more) The shell thickness uniformity, the material mixing uniformity, the particle aggregation, the particle size distribution uniformity and the like were good. That is, the homogeneity of the particles used as the constituent component of the sealing epoxy resin composition could be improved by the method for producing particles of the present embodiment.
In particular, it was found that the uniformity of the thickness of the shell is further improved when the linear velocity at the tip of the stirring blade in the granulation step is 1.0 m / s or more.
一方、造粒工程における攪拌羽根の先端の線速度が0.05m/sの条件で得られた比較例のコアシェル粒子は、シェルの厚み均一性、材料混合の均一性、粒子の凝集および粒径分布の均一性の全てにおいて、実施例1〜4よりも劣る結果であった。一定速度以上での攪拌による大きなせん断力が粒子の均質性向上に関係していることが推定される。 On the other hand, the core-shell particles of the comparative example obtained under the condition that the linear velocity at the tip of the stirring blade in the granulation step is 0.05 m / s, the shell thickness uniformity, the material mixing uniformity, the particle aggregation and the particle size It was a result inferior to Examples 1-4 in all of the uniformity of distribution. It is presumed that a large shearing force due to stirring at a certain speed or more is related to the improvement of the homogeneity of the particles.
<封止用エポキシ樹脂組成物の調製など>
(i)実施例1で得られたコアシェル粒子86.6質量部と、(ii)上記1.溶融混合工程で得られた溶融混合物の粉砕物12.2質量部 と、(iii)別途調製した、エポキシ樹脂硬化剤1.0質量部およびエポキシ硬化触媒0.2質量部を含有する粒子を準備した。これらを、混合、ハンマーミルで微粉砕するなどして封止用エポキシ樹脂組成物を得た。この組成物を半導体装置の封止に適用したところ、封止を行うことができた。
<Preparation of epoxy resin composition for sealing, etc.>
(I) 86.6 parts by mass of the core-shell particles obtained in Example 1, and (ii) the
1 攪拌装置
2 攪拌羽根
3 軸
4 槽本体
1 Stirring
Claims (11)
エポキシ樹脂と硬化剤との溶融混合物(A)を得る溶融混合工程と、
前記溶融混合物(A)と、無機充填剤(B)と、着色剤およびイオン捕捉剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の材料(C)とを、攪拌羽根を備えた攪拌装置に投入する投入工程と、
前記投入工程の後に、前記攪拌装置に投入された成分を、前記攪拌羽根を先端の線速度0.1m/s以上の速さで駆動させて混合しつつ加熱して110℃以上とし、前記無機充填剤(B)および前記材料(C)を含むコアの外側に前記溶融混合物(A)を含むシェルを備えたコアシェル粒子を得る造粒工程と
を含む粒子の製造方法。 A method for producing particles used as a constituent of an epoxy resin composition for sealing,
A melt mixing step for obtaining a melt mixture (A) of an epoxy resin and a curing agent;
A charging step of charging the molten mixture (A), the inorganic filler (B), and at least one material (C) selected from the group consisting of a colorant and an ion scavenger into a stirrer equipped with a stirring blade. When,
After the charging step, the components charged in the stirrer are heated to 110 ° C. or higher by mixing and driving the stirring blade at a linear velocity of 0.1 m / s or more at the tip, and the inorganic A granulation step of obtaining core-shell particles having a shell containing the molten mixture (A) outside a core containing the filler (B) and the material (C).
前記造粒工程において、前記攪拌装置に投入された成分を110℃以上とする時間が、5〜200分である、粒子の製造方法。 A method for producing the particles according to claim 1,
In the granulation step, the method for producing particles, wherein the time for which the component charged in the stirring device is 110 ° C. or more is 5 to 200 minutes.
前記造粒工程の後に、前記攪拌羽根を回転させて、前記攪拌装置内の成分を攪拌しつつ冷却する冷却攪拌工程を含む、粒子の製造方法。 It is a manufacturing method of Claim 1 or 2, Comprising:
The manufacturing method of particle | grains including the cooling stirring process which rotates the said stirring blade after the said granulation process and cools, stirring the component in the said stirring apparatus.
前記造粒工程の一部または全部が、30kPa以下の減圧下で行われる、粒子の製造方法。 It is a manufacturing method given in any 1 paragraph of Claims 1-3,
A method for producing particles, wherein part or all of the granulation step is performed under a reduced pressure of 30 kPa or less.
前記無機充填剤(B)が含む水分を低減させる水分低減工程を含む、粒子の製造方法。 The manufacturing method according to any one of claims 1 to 4,
The manufacturing method of particle | grains including the moisture reduction process which reduces the moisture which the said inorganic filler (B) contains.
前記コアシェル粒子の凝集体を粉砕する粉砕工程を含む、粒子の製造方法。 It is a manufacturing method given in any 1 paragraph of Claims 1-5,
A method for producing particles, comprising a pulverization step of pulverizing the aggregate of the core-shell particles.
前記投入工程で前記攪拌装置に投入される全成分中の、前記溶融混合物(A)の割合が、15質量%以下である、粒子の製造方法。 The manufacturing method according to any one of claims 1 to 6,
The manufacturing method of particle | grains whose ratio of the said molten mixture (A) in all the components thrown into the said stirring apparatus at the said addition process is 15 mass% or less.
前記コアシェル粒子のシェルの厚みが、0.1〜5μmである、粒子の製造方法。 It is a manufacturing method of any one of Claims 1-7,
The manufacturing method of particle | grains whose shell thickness of the said core-shell particle | grain is 0.1-5 micrometers.
前記シェルの厚みが、0.1〜5μmであるコアシェル粒子。 The core-shell particle according to claim 9, wherein
Core-shell particles having a thickness of the shell of 0.1 to 5 μm.
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