JP2019207912A5 - シャワーヘッドの製造方法、上部電極アセンブリ、処理装置、及び上部電極アセンブリの製造方法 - Google Patents

Description

本開示の一の態様によれば、プラズマ処理装置で使用するシャワーヘッドの製造方法であって、ａ）プレートを準備する工程と、ｂ）前記プレートに複数の貫通孔を形成する工程であり、各貫通孔は第１部分と第２部分とを有し、前記第２部分は漏斗形状又はベル形状を有する、工程と、ｃ）前記貫通孔の内面に対し、前記内面が約４０μｍ削れるようにケミカルポリッシュ処理を行う工程と、を有する、シャワーヘッドの製造方法が提供される。

Claims (14)

1. プラズマ処理装置で使用するシャワーヘッドの製造方法であって、
   ａ）プレートを準備する工程と、
   ｂ）前記プレートに複数の貫通孔を形成する工程であり、各貫通孔は第１部分と第２部分とを有し、前記第２部分は漏斗形状又はベル形状を有する、工程と、
   ｃ）前記貫通孔の内面に対し、前記内面が約４０μｍ削れるようにケミカルポリッシュ処理を行う工程と、
   を有する、シャワーヘッドの製造方法。
2. 前記貫通孔の前記第２部分の側面は、前記貫通孔に沿った方向に対して３０°〜６０°の範囲内の角度の傾きを有する、請求項１に記載のシャワーヘッドの製造方法。
3. 前記貫通孔の前記第２部分の側面は、前記貫通孔に沿った方向に対して４５°傾いている、請求項１に記載のシャワーヘッドの製造方法。
4. 前記プレートは、シリコン、石英、シリコンカーバイト、及びそれらの組み合わせからなる群から選択された材料により形成される、請求項１〜３のいずれか一項に記載のシャワーヘッドの製造方法。
5. 板状部材と、
   前記板状部材に形成された複数のガス穴とを有し、
   前記複数のガス穴のそれぞれは、
   前記ガス穴の開口部が漏斗形状又はベル形状に形成され、
   前記開口部の端部が丸く形成されている、
   上部電極アセンブリ。
6. 前記複数のガス穴のそれぞれは、ケミカルポリッシュ処理により加工されている、請求項５に記載の上部電極アセンブリ。
7. 前記複数のガス穴のそれぞれは、
   前記開口部に繋がる貫通穴を有し、
   前記開口部の直径は、前記貫通穴の直径の１．６倍〜２．０倍の範囲内に形成されている、請求項５又は６に記載の上部電極アセンブリ。
8. 前記複数のガス穴のそれぞれは、
   前記開口部に繋がる貫通穴を有し、
   前記貫通穴の側面に対する前記開口部の側面の傾きは、３０°〜６０°の範囲内の角度に形成されている、請求項５〜７のいずれか一項に記載の上部電極アセンブリ。
9. 前記貫通穴の側面に対する前記開口部の側面の傾きは、４５°の角度に形成されている、
   請求項８に記載の上部電極アセンブリ。
10. 前記上部電極アセンブリは、シリコン、石英、シリコンカーバイトのいずれかを含む、
    請求項５〜９のいずれか一項に記載の上部電極アセンブリ。
11. 処理容器と、
    前記処理容器内に配置され、基板を載置する載置台と、
    前記載置台に対向する上部電極アセンブリを含む上部電極と、を有し、
    前記上部電極アセンブリは、
    板状部材と、
    前記板状部材に形成された複数のガス穴とを有し、
    前記複数のガス穴のそれぞれは、
    前記ガス穴の開口部が漏斗形状又はベル形状に形成され、
    前記開口部の端部が丸く形成されている、
    処理装置。
12. 複数のガス穴を有する板状部材の上部電極アセンブリを製造する方法であって、
    前記複数のガス穴のそれぞれを作製する工程は、
    前記板状部材に漏斗形状又はベル形状の開口部を形成する工程と、
    前記開口部に繋がる貫通穴を形成する工程と、
    前記開口部の端部を丸く形成する工程と、
    を含む上部電極アセンブリの製造方法。
13. 前記開口部の端部を丸く形成する工程は、
    前記複数のガス穴をケミカルポリッシュ処理により加工する、
    請求項１２に記載の上部電極アセンブリの製造方法。
14. 前記開口部に繋がる貫通穴を形成する工程は、前記板状部材に漏斗形状又はベル形状の開口部を形成する工程の後に行われる、
    請求項１２又は１３に記載の処理装置。