JP2023051786A - 表示装置用積層体および表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】
本開示は、低反射性を有し、かつ、優れた屈曲耐性と耐摩耗性を有する表示装置用積層体を提供することを主目的とする。
【解決手段】
本開示は、フッ素含有層と、第１の無機化合物層と、第２の無機化合物層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、上記第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ１が０．７０以上１．２０以下であり、上記第２の無機化合物層は、高屈折率材料である第２の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ２が０．５０以上１．００未満であり、上記表示装置用積層体の上記フッ素含有層側の面に入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である、表示装置用積層体を提供する。
【選択図】図１

Description

本開示は、表示装置用積層体および表示装置に関する。

一般に、表示を目的とするディスプレイ等の表示装置は、太陽光及び蛍光灯等の外光の表示画面への写り込みを防止したり、文字や画像の視認性改善のため、表面の低反射率化が求められている。また、表示装置には、傷が付きにくいように耐摩耗性が求められる。

特許文献１には、樹脂フィルムと、ハードコート層と、無機酸化物層とを少なくとも有する反射防止積層体であって、積層体の鉛筆硬度が４Ｈ以上で剛性が８．０Ｎ・ｍｍ以上でヌープ硬度が１５０～３００ｍＮ／ｍｍ^２である反射防止積層体が開示されており、ディスプレイ表面に貼合することで、ディスプレイ表面の映り込みを効果的に抑えながら充分な耐擦傷性を付与することができることが記載されている。

最近では、フォルダブルディスプレイ、ローラブルディスプレイ、ベンダブルディスプレイ等のフレキシブル表示装置が注目されており、フレキシブル表示装置の表面に配置される積層体の開発が盛んに進められている。

ＷＯ２０１８－１７９７５７号公報

上述したように、表示装置の表面に配置される積層体には、高い耐摩耗性が求められる。しかし、積層体の硬度を高くすると傷は付きにくくなるが、曲げに対して脆くなり、積層体の製造時や搬送時に、割れ（クラック）が生じる場合がある。特に、フレキシブル表示装置には、繰り返し屈曲させても表示不良が発生しないことが求められ、フレキシブル表示装置の表面に配置される積層体には、繰り返し屈曲させたときにクラックや剥がれが生じない屈曲耐性が求められる。一方、表示装置用の積層体を低硬度化すると、耐摩耗性が悪化する場合がある。
このように、表示装置用の積層体には、低反射性を維持した状態で、屈曲耐性と耐摩耗性を両立することができないという問題がある。

本開示は、上記問題に鑑みてなされたものであり、低反射性を有し、かつ、優れた屈曲耐性と耐摩耗性を有する表示装置用積層体を提供することを主目的とする。

本開示の一実施形態は、フッ素原子を含有するフッ素含有層と、第１の無機化合物層と、第２の無機化合物層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、上記第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ１が０．７０以上１．２０以下であり、上記第２の無機化合物層は、高屈折率材料である第２の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ２が０．５０以上１．００未満であり、上記表示装置用積層体の上記フッ素含有層側の面に入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である、表示装置用積層体を提供する。

本開示の一実施形態は、フッ素原子を含有するフッ素含有層と、第１の無機化合物層と、第２の無機化合物層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、上記第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物を有し、フッ素原子の含有比率が６．５原子％以下であり、上記第２の無機化合物層は、高屈折率材料である第２の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ２が０．５０以上１．００未満であり、上記表示装置用積層体の上記フッ素含有層側の面に入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である、表示装置用積層体を提供する。

本開示の一実施形態は、フッ素原子を含有するフッ素含有層と、第１の無機化合物層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、上記第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ１が０．７０以上１．２０以下であり、上記第１の無機化合物層と上記基材層との間に、高屈折率を有する無機化合物粒子がバインダー樹脂に分散された高屈折率分散層を有し、上記高屈折率分散層の相対膜密度Ｄ４が０．１０以上０．７０以下であり、上記表示装置用積層体の上記フッ素含有層側の面に入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である、表示装置用積層体を提供する。

本開示の他の実施形態は、表示パネルと、上記表示パネルの観察者側に配置された、上述の表示装置用積層体と、を備える、表示装置を提供する。

本開示は、低反射性を有し、かつ、優れた屈曲耐性と耐摩耗性を有する表示装置用積層体を提供することができる。

本開示における第１実施形態および第２実施形態の表示装置用積層体の一例を示す概略断面図である。 本開示における第１実施形態および第２実施形態の表示装置用積層体の他の一例を示す概略断面図である。 本開示における第１実施形態および第２実施形態の表示装置用積層体の他の一例を示す概略断面図である。 第１の無機化合物層のフッ素原子の含有比率の違いを説明する第１の無機化合物層およびフッ素含有層の断面模式図である。 本開示における第３実施形態の表示装置用積層体の一例を示す概略断面図である。 本開示の表示装置の一例を示す概略断面図である。 動的屈曲試験の方法を説明するための図である。

下記に、図面等を参照しながら本開示の実施の形態を説明する。ただし、本開示は多くの異なる態様で実施することが可能であり、下記に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の形態に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表わされる場合があるが、あくまで一例であって、本開示の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

本明細書において、ある部材の上に他の部材を配置する態様を表現するにあたり、単に「上に」、あるいは「下に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある部材に接するように、直上、あるいは直下に他の部材を配置する場合と、ある部材の上方、あるいは下方に、さらに別の部材を介して他の部材を配置する場合との両方を含むものとする。また、本明細書において、ある部材の面に他の部材を配置する態様を表現するにあたり、単に「面側に」または「面に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある部材に接するように、直上、あるいは直下に他の部材を配置する場合と、ある部材の上方、あるいは下方に、さらに別の部材を介して他の部材を配置する場合との両方を含むものとする。

本発明者らは、表示装置の表面に配置される積層体において、低反射性を発現する無機化合物層の屈曲耐性が低い場合があることを知見した。そこで、無機化合物層の応力変化に対する耐性について検討を重ねたところ、無機化合物層の相対膜密度をパラメータとして用いることで、材料毎に、応力変化に対する耐性をどの程度有するかを判断することが可能であることを知見した。具体的には、無機化合物層の膜密度の実測値が文献値に近い（すなわち、相対膜密度が約１である）場合には、材料の違いによる屈曲耐性の差はほぼ無いことを知見した。さらに、膜密度の文献値が高い材料であっても、膜密度が文献値に対して低い場合（すなわち、相対膜密度が低い）には、無機化合物層の屈曲耐性が向上することを知見した。

このように相対膜密度が低い場合に、無機化合物層の屈曲耐性が向上するのは、相対膜密度が低い場合は、各元素の周囲にある程度の空隙が存在し、屈曲された際に各元素の移動の自由度が上がることが原因であることが推定される。

そこで、本発明者らは、表示装置の表面に配置される積層体について、低反射性を維持しながら、屈曲耐性と耐摩耗性を向上させるために検討を重ねたところ、以下の第１実施形態、第２実施形態および第３実施形態の表示装置用積層体の構成であれば、屈曲耐性と耐摩耗性を向上させることができることを見出した。

Ａ．表示装置用積層体
Ｉ．第１実施形態
本発明者らは、表示装置の表面に配置される積層体について、低反射性を維持しながら、屈曲耐性と耐摩耗性を向上させるために検討を重ねたところ、積層体の低反射率化を実現する低屈折率層と高屈折率層に、それぞれ所定の相対膜密度を有する無機化合物層を用い、さらに、表示装置用積層体の一方の面にフッ素原子を含有するフッ素含有層を配置することにより、屈曲耐性と耐摩耗性を向上させることができることを見出した。

具体的には、表示装置用積層体の一方の面に上記フッ素含有層を配置し、かつ、上記フッ素含有層側の無機化合物層である第１の無機化合物層（低屈折率層）の相対膜密度を所定の範囲とすることで、耐摩耗性が得られることを見出した。さらに、第２の無機化合物層（高屈折率層）の相対膜密度を所定の低い範囲とすることで、応力変化に対する耐性が強く、屈曲耐性が良好な表示装置用積層体となることを見出し、本発明を完成させた。以下、本実施形態の表示装置用積層体について、詳細に説明する。

図１は、本実施形態における表示装置用積層体の一例を示す概略断面図である。図１に示すように、本実施形態の表示装置用積層体１ａは、フッ素含有層２と、第１の無機化合物層３と、第２の無機化合物層４と、基材層５と、をこの順に有する。本実施形態において、第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物を含み、相対膜密度Ｄ１が０．７０以上１．２０以下である。さらに、第２の無機化合物層は、第１の無機化合物よりも屈折率が高い第２の無機化合物を含み、相対膜密度Ｄ２が０．５０以上１．００未満である。さらに、本実施形態における表示装置用積層体１ａは、フッ素含有層２側の面１Ａに入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である。

本実施形態における表示装置用積層体は、一方の表面にフッ素含有層を有し、さらに、第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１が所定の範囲であることにより、優れた耐摩耗性を有するものとなる。さらに、第２の無機化合物層の相対膜密度Ｄ２が所定の低い範囲であることにより、優れた屈曲耐性を有するものとなる。また、本実施形態における表示装置用積層体は、低屈折率層である第１の無機化合物層と高屈折率層である第２の無機化合物層を含むことにより、所定の視感反射率を有するものとなる。
従って、低反射性を有し、かつ、優れた屈曲耐性と耐摩耗性を有する表示装置用積層体となる。以下、本実施形態の表示装置用積層体における各構成について、詳細に説明する。

１．第１の無機化合物層
（１）第１の無機化合物
第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物から構成される。本明細書において、無機化合物層とは、無機化合物を主体とする層であり、バインダー樹脂に無機化合物粒子が分散された層等とは区別される。第１の無機化合物層を構成する第１の無機化合物としては、第２の無機化合物層を構成する第２の無機化合物よりも屈折率が低い無機化合物であれば特に限定されないが、好ましくは、ケイ素酸化物、ガリウム酸化物等の無機酸化物、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム等が挙げられる。本実施形態においては、中でも、ケイ素酸化物が屈折率や汎用性の観点から好ましい。

なお、無機酸化物の平均組成は、例えば、ＭＯｘ（ただし、式中、Ｍは金属元素を表し、ｘの値は、金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。）で表される。例えばケイ素酸化物の平均組成はＳｉＯｘで表され、式中、ｘは、０＜ｘ≦２をとることができ、１≦ｘ≦２が好ましく、より好ましくは、ＳｉＯ_２となる。本実施形態においては、無機酸化物の平均組成は、上述したように化学量論的に最適なものに限定されるものではない。

本実施形態において、第１の無機化合物層は、蒸着膜であることが好ましい。特に、ケイ素酸化物（シリカ）蒸着膜であることが好ましい。

また、第１の無機化合物層中に含まれる無機化合物は１種類が好ましいが、複数種類の無機化合物が含まれていてもよい。
なお、このように複数種類の無機化合物が含まれる場合においては、後述する膜密度（文献値）としては、複数種類の無機化合物の含有比率に応じて計算された膜密度が採用される。

（２）屈折率
第１の無機化合物層の屈折率は、１．６０以下であることが好ましく、１．５０以下であることがより好ましい。一方、例えば、１．３０以上であり、１．４０以上であってもよい。

なお、本明細書において、各層の屈折率とは、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率をいう。屈折率の測定方法は、エリプソメーターを用いて測定する方法を挙げることができる。エリプソメーターとしては、例えばジョバンーイーボン社製「ＵＶＳＥＬ」やテクノ・シナジー社製「ＤＦ１０３０Ｒ」等が挙げられる。

（３）相対膜密度Ｄ１
本実施形態においては、低屈折率層である第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１は、０．７０以上１．２０以下である。第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１は、好ましくは０．７５以上であり、更に好ましくは０．８０以上である。一方、好ましくは１．１７以下であり、更に好ましくは１．１５以下である。相対膜密度Ｄ１が高すぎると、屈曲耐性に劣り、第１の無機化合物層にクラックが発生する場合がある。相対膜密度Ｄ１が低すぎると、耐摩耗性に劣る場合がある。

本明細書において、無機化合物層の相対膜密度は、以下の式により算出される。
相対膜密度＝膜密度（実測値）／膜密度（文献値）

膜密度の実測値は、下記測定装置および下記測定条件にてラザフォード後方散乱分析（ＲＢＳ:Rutherford Backscattering Spectrometry）により測定した面密度、および透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により測定した膜厚から求めることができる。ラザフォード後方散乱分析は、ヘリウム（Ｈｅ）等の軽元素イオンを高いエネルギーで試料に照射した際、後方に散乱される軽元素イオンのエネルギー値を検出することで、試料中に含まれる元素の種類や存在量を測定する方法である。

ＲＢＳ分析から得られた面密度（ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２）と透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等により測定した膜厚（ｃｍ）から、原子数密度（ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３）を算出し、ＲＢＳで決定した組成情報に基づいて換算することで、無機化合物層の密度（ｇ／ｃｍ^３）を算出する。

・測定装置：高分解能ＲＢＳ分析装置（Ｐｅｌｌｅｔｒｏｎ ３ＳＤＨ（Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製））
・測定条件
入射エネルギー： ２３００ｋｅＶ
入射イオン： Ｈｅ^＋＋
入射角： 測定面の法線から７５°
検出イオン： 散乱Ｈｅ
散乱角： １６０°

無機化合物層の膜密度（文献値）は、理論膜密度であり、代表的な無機化合物層の膜密度の値としては、以下の通りである。
・ＳｉＯ_２（２．２ｇ／ｃｍ^３）
・ＺｒＯ_２（５．９ｇ／ｃｍ^３）
・Ｎｂ_２Ｏ_５（４．６ｇ／ｃｍ^３）
・Ａｌ_２Ｏ_３（４．０ｇ／ｃｍ^３）
・ＴｉＯ_２（４．３ｇ／ｃｍ^３）
・ＺｎＯ（５．５ｇ／ｃｍ^３）
・ＳｎＯ_２（６．９ｇ／ｃｍ^３）
その他の無機化合物層の膜密度（文献値）は、フィラーデータ活用ブック（著者：相馬勲）等の文献やＣｈｅｍｉｃａｌＢｏｏｋ等のリソースプラットフォームに記載の値を採用することができる。

なお、実際の無機化合物層の組成が、例えばＳｉＯｘ（０＜ｘ＜２）の場合であっても、文献値としては、ｘが２の化学量論組成であるＳｉＯ_２の膜密度（文献値）を採用する。

第１の無機化合物層の相対膜密度を上述の範囲に調整する方法としては、例えば、第１の無機化合物層の成膜速度を調整する方法が挙げられる。成膜速度を上げることにより、相対膜密度を下げることができる。また、第１の無機化合物層の組成を変更する方法も挙げられる。

第１の無機化合物層は、フッ素含有層に由来するフッ素原子を含有していてもよい。一方、第１の無機化合物層のフッ素原子の含有比率は低い方が好ましい。フッ素原子の含有比率が低いことで、第２実施形態で詳述する理由により、第１の無機化合物層の軟化を抑制することができ、耐摩耗性が向上するためである。第１の無機化合物層におけるフッ素原子の含有比率は、後述する第２実施形態に記載の値と同様の値とすることができる。

（４）厚み
第１の無機化合物層の厚みとしては、特に限定されないが、３０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。
ここで、本明細書において、各層の厚さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）により観察される表示装置用積層体の厚さ方向の断面から測定して得られた任意の１０箇所の厚さの平均値とすることができる。

（５）形成方法
第１の無機化合物層は、例えば、低屈折率粒子の中から所望の屈折率を有する粒子を選び、真空蒸着法、スパッタリング法、及びイオンプレーティング法等の物理気相成長法（Physical Vapor Deposition法、PVD法）等により形成することができる。これらの中でも、生産性（蒸着速度）の観点から真空蒸着法が好ましい。

第１の無機化合物層は、フッ素含有層と直接接していることが好ましい。また、第１の無機化合物層は、第２の無機化合物層と直接接していることが好ましい。

２．第２の無機化合物層
（１）第２の無機化合物
第２の無機化合物層は、第１の無機化合物よりも高屈折率材料である第２の無機化合物から構成される。第２の無機化合物層を構成する第２の無機化合物としては、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、ハフニウム酸化物、タンタル酸化物、セリウム酸化物、チタン酸化物、亜鉛酸化物、スズ酸化物、マグネシウム酸化物、イットリウム酸化物、ニオブ酸化物等の無機酸化物、フッ化ランタン、フッ化セリウム等が挙げられる。

アルミニウム酸化物の平均組成はＡｌＯｘで表され、式中、ｘは、０＜ｘ≦１．５をとることができ、好ましくは、Ａｌ_２Ｏ_３である。ジルコニウム酸化物の平均組成はＺｒＯｘで表され、式中、ｘは、０＜ｘ≦２をとることができ、好ましくは、ＺｒＯ_２である。ニオブ酸化物の平均組成はＮｂＯｘで表され、式中、ｘは、０＜ｘ≦２．５をとることができ、好ましくは、Ｎｂ_２Ｏ_５である。

第２の無機化合物層は、蒸着膜であることが好ましい。特に、アルミニウム酸化物（アルミナ）蒸着膜、ジルコニウム酸化物蒸着膜、チタン酸化物蒸着膜、亜鉛酸化物蒸着膜、スズ酸化物蒸着膜、およびニオブ酸化物蒸着膜のいずれかであることが好ましい。

また、第２の無機化合物層中に含まれる無機化合物は１種類が好ましいが、複数種類の無機化合物が含まれていてもよい。

（２）屈折率
第２の無機化合物層の屈折率は、１．６０以上であることが好ましく、１．８０以上であることがより好ましい。一方、例えば３．００以下であり、２．５０以下であってもよい。

（３）相対膜密度Ｄ２
高屈折率層である第２の無機化合物層の相対膜密度Ｄ２は、０．５０以上１．００未満である。本実施形態における相対膜密度Ｄ２は、好ましくは、０．６０以上であり、更に好ましくは０．７０以上である。一方、好ましくは０．９５以下であり、更に好ましくは０．９０以下である。
相対膜密度Ｄ２が高すぎると、屈曲耐性に劣り、第２の無機化合物層にクラックが発生する場合がある。相対膜密度Ｄ２が低すぎると、屈曲後に第２の無機化合物層に剥がれが発生する場合があり、視認性が悪化する場合がある。これは、第２の無機化合物層の密着性が不充分で屈曲時にかかる応力に耐えられなくなるためである。

第２の無機化合物層の相対膜密度を上述の範囲に調整する方法としては、例えば、第２の無機化合物層の成膜速度を調整する方法が挙げられる。成膜速度を上げることにより、相対膜密度を下げることができる。また、第２の無機化合物層の組成を変更する方法も挙げられる。この場合、無機化合物層中の無機化合物の元素比（無機化合物層中の無機酸化物の元素比）を、化学量論的に最適な比率からずらすことにより、相対膜密度を下げることができる。

（４）厚み
第２の無機化合物層の厚みとしては、特に限定されないが、１０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上、１７０ｎｍ以下であることがより好ましい。

（５）形成方法
第２の無機化合物層は、例えば、高屈折率粒子の中から所望の屈折率を有する粒子を選び、真空蒸着法、スパッタリング法、及びイオンプレーティング法等の物理気相成長法（Physical Vapor Deposition法、PVD法）等により形成することができる。これらの中でも、生産性（蒸着速度）の観点から真空蒸着法が好ましい。

第２の無機化合物層は、第１の無機化合物層と直接接していることが好ましい。また、第２の無機化合物層は、後述する基材層、ハードコート層および、介在層、第３の無機化合物層のいずれかと直接接していることが好ましい。

３．フッ素含有層
本実施形態におけるフッ素含有層は、第１の無機化合物層の第２の無機化合物層側の面とは反対の面側に配置され、中でも、表示装置用積層体において、フッ素含有層が最表面に配置されていることが好ましい。フッ素含有層は、フッ素原子を含有するものであればよく、フッ素原子を含有することにより、表示装置用積層体に耐摩耗性を付与することができる。具体的には、表示装置用積層体のフッ素含有層側の表面の動摩擦係数を所定の範囲とすることができる。本実施形態における表示装置用積層体のフッ素含有層側の表面の動摩擦係数は、０．０１以上０．３０以下であることが好ましく、さらに好ましくは０．０３以上０．２０以下である。動摩擦係数が上記値以下であれば、表面の滑り性が向上し、耐摩耗性がより優れるものとなる。

動摩擦係数はＪＩＳ Ｋ７１２５：１９９９（摩擦係数試験方法）に準拠した方法により測定することができる。動摩擦係数の測定方法は、例えば、荷重変動型摩擦摩耗試験システム（新東科学（株）社製 ＨＥＩＤＯＮ Ｔｙｐｅ ＨＨＳ２０００）を用いて、２ｃｍ×２ｃｍのカシミアフェルトを用い、荷重２００ｇ、速度５ｍｍ／ｓｅｃの条件で測定することができる。動摩擦係数の値は、表示装置用積層体のフッ素含有層側の表面において、異なる位置で５点測定し、当該測定値の平均値とする。

なお、本実施形態において、フッ素含有層の厚さは、比較的薄いことから、薄膜干渉には影響しないものと推量される。フッ素含有層の厚さは、例えば、１ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることがより好ましく、３ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

フッ素含有層としては、フッ素原子を含有するものであれば特に限定されない。フッ素含有層は、例えば、フッ素化合物を含有していてもよく、フッ素化合物および樹脂を含有していてもよく、フッ素樹脂を含有していてもよい。フッ素化合物としては、例えば、フッ素系防汚剤、フッ素系レベリング剤、フッ素系界面活性剤等として知られているものを用いることができる。フッ素化合物としては、例えば、有機フッ素化合物を挙げることができ、具体的には、パーフルオロ化合物が挙げられる。パーフルオロ化合物としては、例えば、パーフルオロポリエーテル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキル基等を有するパーフルオロ化合物が挙げられる。パーフルオロアルキレン基およびパーフルオロアルキル基は、直鎖でも分岐鎖でもよい。フッ素化合物は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。

また、フッ素化合物は、樹脂成分と結合していることが好ましい。フッ素化合物が樹脂成分と結合していることにより、フッ素化合物のブリードアウトを抑制することができ、耐摩耗性や防汚性を長期に渡って持続することができる。

フッ素化合物としては、樹脂成分と結合していることが好ましいことから、反応性官能基を有するフッ素化合物が好ましく用いられる。すなわち、フッ素含有層は、反応性官能基を有するフッ素化合物と後述の重合性化合物とを含む樹脂組成物の硬化物を含有することが好ましい。反応性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基や、エポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。

フッ素化合物が有する反応性官能基の数は、１以上であればよく、好ましくは２以上である。２以上の反応性官能基を有するフッ素化合物を用いることにより、耐摩耗性を高めることができる。

また、フッ素化合物は、ケイ素を含んでいてもよい。すなわち、フッ素含有層は、フッ素およびケイ素を含有していてもよい。ケイ素を含むフッ素化合物としては、例えば、分子内にシロキサン結合を有するフッ素化合物を挙げることができる。シロキサン結合を有するフッ素化合物を用いることにより、滑り性を向上させることができ、耐摩耗性を高めることができる。

フッ素化合物は、例えば、反応性官能基を有するフッ素化合物や、反応性官能基およびケイ素を含むフッ素化合物であることが好ましい。

反応性官能基を有するフッ素化合物としては、例えば、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマー、主鎖にフルオロアルキレン基を有するフッ素含有ポリマーもしくはオリゴマー、主鎖および側鎖にフルオロアルキレン基もしくはフルオロアルキル基を有するフッ素含有ポリマーもしくはオリゴマー等が挙げられる。反応性官能基を有するフッ素化合物については、例えば、特開２０１７－１９２４７号公報を参照することができる。

反応性官能基およびケイ素を含むフッ素化合物としては、例えば、上記の反応性官能基を有するフッ素化合物に、反応性官能基を分子中に有する有機シリコーンを反応させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体等が挙げられる。

また、反応性官能基およびケイ素を含むフッ素化合物としては、例えば、反応官能基およびパーフルオロポリエーテル基を有するフッ素化合物、中でも反応性官能基を有するシラン単位、およびパーフルオロポリエーテル基を有するシラン単位を含むフッ素化合物も好ましく用いられる。このようなフッ素化合物については、例えば、国際公開第２０１２／１５７６８２号を参照することができる。

本実施形態においては、上記フッ素含有層は、フッ素化合物および樹脂を含有する層であってもよい。フッ素含有層がフッ素化合物および樹脂を含有する場合、樹脂としては、例えば、重合性化合物の硬化物が挙げられる。重合性化合物の硬化物は、重合性化合物を、必要に応じて重合開始剤を用い、公知の方法で重合反応させることにより得ることができる。重合性化合物は、分子内に重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。重合性化合物としては、例えば、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物の少なくとも１種を用いることができる。

また、フッ素含有層がフッ素樹脂を含有する場合、フッ素樹脂としては、例えば、フッ素を含有する重合性化合物の硬化物が挙げられる。フッ素を含有する重合性化合物の硬化物は、フッ素を含有する重合性化合物を、必要に応じて重合開始剤を用い、公知の方法で重合反応させることにより得ることができる。

フッ素を含有する重合性化合物は、分子内に重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。フッ素を含有する重合性化合物としては、例えば、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物の少なくとも１種を用いることができる。また、フッ素を含有する重合性化合物としては、例えば、フッ素含有モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれも用いることができる。

フッ素含有層は、必要に応じて、例えば無機粒子、有機粒子、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、防眩剤、レベリング剤、界面活性剤、易滑剤、各種増感剤、難燃剤、接着付与剤、重合禁止剤、表面改質剤等の添加剤を含有することができる。

本実施形態において、フッ素含有層は、単層であってもよく、多層であってもよい。
また、フッ素含有層の形成方法としては、材料に応じ適宜選択され、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、上記第１の無機化合物層上にフッ素含有層用組成物を塗布し、硬化させる方法等が挙げられる。

フッ素含有層は、第１の無機化合物層と直接接していることが好ましい。

４．基材層
本実施形態における基材層は、第２の無機化合物層、第１の無機化合物層およびフッ素含有層を支持する部材である。基材層としては、透明性を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、樹脂基材、ガラス基材等が挙げられる。

（１）樹脂基材
樹脂基材を構成する樹脂としては、透明性を有する樹脂基材を得ることができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。ポリイミド系樹脂としては、例えば、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。

（２）ガラス基材
ガラス基材を構成するガラスとしては、透明性を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ケイ酸塩ガラス、シリカガラス等が挙げられる。中でも、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、アルミノホウケイ酸ガラスが好ましく、無アルカリガラスがより好ましい。ガラス基材の市販品としては、例えば、日本電気硝子社の超薄板ガラスＧ－Ｌｅａｆや、松浪硝子工業社の極薄膜ガラス等が挙げられる。

また、ガラス基材を構成するガラスは、化学強化ガラスであることも好ましい。化学強化ガラスは機械的強度に優れており、その分薄くできる点で好ましい。化学強化ガラスは、典型的には、ガラスの表面近傍について、ナトリウムをカリウムに代える等、イオン種を一部交換することで、化学的な方法によって機械的物性を強化したガラスであり、表面に圧縮応力層を有する。

化学強化ガラス基材を構成するガラスとしては、例えば、アルミノケイ酸塩ガラス、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、鉛ガラス、アルカリバリウムガラス、アルミノホウケイ酸ガラス等が挙げられる。

化学強化ガラス基材の市販品としては、例えば、コーニング社のＧｏｒｉｌｌａ Ｇｌａｓｓ（ゴリラガラス）、ＡＧＣ社のＤｒａｇｏｎｔｒａｉｌ（ドラゴントレイル）、ショット社の化学強化ガラス等が挙げられる。

（３）基材層の構成
基材層の厚さとしては、柔軟性を有することが可能な厚さであれば特に限定されるものではなく、基材層の種類等に応じて適宜選択される。

樹脂基材の厚さは、例えば、１０μｍ以上、１００μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以上、８０μｍ以下であることがより好ましい。樹脂基材の厚さが上記範囲内であることにより、良好な柔軟性を得ることができるともに、十分な硬度を得ることができる。また、表示装置用積層体のカールを抑制することもできる。さらに、表示装置用積層体の軽量化の面で好ましい。

ガラス基材の厚さは、例えば、２００μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上、１００μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以上、９０μｍ以下であることがさらに好ましく、２５μｍ以上、８０μｍ以下であることが特に好ましい。ガラス基材の厚さが上記範囲内であることにより、良好な柔軟性を得ることができるともに、十分な硬度
を得ることができる。また、表示装置用積層体のカールを抑制することもできる。さらに、表示装置用積層体の軽量化の面で好ましい。

５．表示装置用積層体
（１）視感反射率
本実施形態における表示装置用積層体は、フッ素含有層側から、フッ素含有層の表面に対して垂直に入射する光の入射角を０°として、入射角５°で光を入射させた際に、この入射光の正反射光の視感反射率が２．０％以下である。好ましくは１．７％以下であり、更に好ましくは１．５％以下である。視感反射率が高すぎると、表示領域に観察者自身が映り込むのを抑制することができない。

ここで、視感反射率は、ＪＩＳ Ｚ８７２２：２００９に準拠して求めることができる。視感反射率は、表示装置用積層体のフッ素含有層側の面に、３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の波長範囲の光を入射させて得られた反射スペクトルから、標準の光Ｃでの２度視野において、ＸＹＺ表色系における三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを求め、そのＹの値が視感反射率となる。すなわち、視感反射率は、ＣＩＥ１９３１標準表色系のＹ値のことをいう。視感反射率の測定においては、下記の条件とすることができる。

（測定条件）
・視野：２°
・イルミナント：Ｃ
・光源：タングステンハロゲンランプ
・測定波長：３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の範囲を０．５ｎｍ間隔
・スキャン速度：高速
・スリット幅：５．０ｎｍ
・Ｓ／Ｒ切替：標準
・オートゼロ：ベースラインのスキャン後５５０ｎｍにて実施

なお、表示装置用積層体の視感反射率の測定に際しては、裏面反射を防止するために、測定スポット面積よりも大きな幅の黒色ビニールテープ（例えば、製品名「ヤマトビニールテープＮＯ２００－１９－２１」、ヤマト社製、１９ｍｍ幅）を表示装置用積層体の基材層側の面に貼り付けてから測定するものとする。視感反射率の測定装置としては、例えば分光光度計を用いることができ、具体的には島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ－２６００」を用いることができる。

（２）動的屈曲耐性
本実施形態における表示装置用積層体は、屈曲耐性を有する。具体的には、表示装置用積層体に対して、下記に説明する動的屈曲試験を行った場合に、表示装置用積層体に割れ、または破断が生じないことが好ましい。

動的屈曲試験は、以下のようにして行われる。まず、２０ｍｍ×１００ｍｍの大きさの表示装置用積層体を準備する。そして、動的屈曲試験においては、図７（ａ）に示すように、表示装置用積層体１の短辺部１Ｃと、短辺部１Ｃと対向する短辺部１Ｄとを、平行に配置された固定部５１でそれぞれ固定する。また、図７（ａ）に示すように、固定部５１は水平方向にスライド移動可能になっている。次に、図７（ｂ）に示すように、固定部５１を互いに近接するように移動させることで、表示装置用積層体１を折りたたむように変形させ、更に、図７（ｃ）に示すように、表示装置用積層体１の固定部５１で固定された対向する２つの短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄが所定の値となる位置まで固定部５１を移動させた後、固定部５１を逆方向に移動させて表示装置用積層体１の変形を解消させる。図７（ａ）～（ｃ）に示すように固定部５１を移動させることで、表示装置用積層体１を１８０°折りたたむことができる。また、表示装置用積層体１の屈曲部１Ｅが固定部５１の下端からはみ出さないように動的屈曲試験を行い、かつ固定部５１が最接近したときの間隔を制御することで、表示装置用積層体１の対向する２つの短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄを所定の値にできる。例えば、短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄが１０ｍｍである場合、屈曲部１Ｅの外径を１０ｍｍとみなす。

本実施形態における表示装置用積層体においては、表示装置用積層体１の対向する短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄが１０ｍｍとなるように１８０°折りたたむ動的屈曲試験を、２０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましく、５０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことがより好ましい。中でも、表示装置用積層体の対向する短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄが６ｍｍとなるように１８０°折りたたむ動的屈曲試験を２０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましい。動的屈曲試験では、フッ素含有層が外側となるように表示装置用積層体を折りたたんでもよく、あるいは、フッ素含有層が内側となるように表示装置用積層体を折りたたんでもよいが、いずれの場合であっても、表示装置用積層体に割れまたは破断が生じないことが好ましい。

（３）全光線透過率およびヘイズ
本実施形態における表示装置用積層体は、全光線透過率が、例えば８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。このように全光線透過率が高いことにより、透明性が良好な表示装置用積層体とすることができる。

ここで、表示装置用積層体の全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１－１：１９９９に準拠して測定することができ、例えば村上色彩技術研究所製のヘイズメーターＨＭ１５０により測定することができる。

本実施形態における表示装置用積層体のヘイズは、例えば５％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。このようにヘイズが低いことにより、透明性が良好な表示装置用積層体とすることができる。

ここで、表示装置用積層体のヘイズは、ＪＩＳ Ｋ－７１３６：２０００に準拠して測定することができ、例えば村上色彩技術研究所製のヘイズメーターＨＭ１５０により測定することができる。

６．その他構成
図２は、本実施形態における表示装置用積層体の別の一例を示す概略断面図である。図２に示すように、本実施形態の表示装置用積層体１ａは、フッ素含有層２と、第１の無機化合物層３と、第２の無機化合物層４と、基材層５に加え、さらに、他の無機化合物層６（例えば第３の無機化合物層）と、ハードコート層７とを有することが好ましい。

図３は、本実施形態における表示装置用積層体の好ましい態様の一例を示す概略断面図である。図３に示すように、本実施形態の表示装置用積層体１ａは、フッ素含有層２と、第１の無機化合物層３と、第２の無機化合物層４と、基材層５に加え、第２の無機化合物層４と基材層５との間に、相対膜密度Ｄ３が０．１０以上０．７０以下の介在層９を有することが好ましい。また、図３に示すように、基材層５と介在層９との間に、ハードコート層７を有することが好ましい。

（１）他の無機化合物層
本実施形態における表示装置用積層体は、第２の無機化合物層と基材層との間に、１つまたは複数の他の無機化合物層を有することができる。他の無機化合物層を配置することにより、より低い反射率が得られる。他の無機化合物層は、本実施形態における表示装置用積層体がハードコート層を有する場合には、第２の無機化合物層とハードコート層との間に配置される。本明細書においては、他の無機化合物層を、第２の無機化合物層側から、第３の無機化合物層、第４の無機化合物層、等と称する。

他の無機化合物層を配置することにより、本実施形態における表示装置用積層体は、屈折率の異なる多層膜を有するものとなり、この多層膜の層構成としては、基材層側からフッ素含有層側に向かって、高屈折率層（第４の無機化合物層）／中屈折率層（第３の無機化合物層）／高屈折率層（第２の無機化合物層）／低屈折率層（第１の無機化合物層）の構造を採ることができる。
この場合において、第３の無機化合物層の屈折率は、例えば、１．４０以上２．５０以下であり、第４の無機化合物層の屈折率は、例えば、１．６０以上３．００以下である。

また、多層膜の他の層構成としては、基材層側からフッ素含有層側に向かって、中屈折率層（第３の無機化合物層）／高屈折率層（第２の無機化合物層）／低屈折率層（第１の無機化合物層）等の構造を採ることができる。この場合において、第３の無機化合物層の屈折率は、例えば、１．４０以上２．５０以下である。

他の無機化合物層に含まれる無機化合物としては、ケイ素酸化物、ガリウム酸化物、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、ハフニウム酸化物、タンタル酸化物、セリウム酸化物、チタン酸化物、亜鉛酸化物、スズ酸化物、マグネシウム酸化物、イットリウム酸化物、ニオブ酸化物、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化ランタンおよびフッ化セリウム等が挙げられる。

１つの他の無機化合物層の厚みとしては、特に限定されないが、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上１７０ｎｍ以下であることがより好ましい。

また、本実施形態においては、本実施形態における表示装置用積層体に含まれる全ての無機化合物層の合計厚みが、５００ｎｍ以下であることが好ましく、４００ｎｍ以下であることが更に好ましい。一方、例えば、５０ｎｍ以上であってもよく、８０ｎｍ以上であってもよい。合計厚みが厚すぎると、表示装置用積層体の屈曲耐性が悪化する場合がある。

（２）ハードコート層
本実施形態における表示装置用積層体は、第２の無機化合物層と、基材層との間にハードコート層を有していてもよい。ハードコート層が配置されていることにより、無機化合物層の密着性を向上させることができる。また、ハードコート層が配置されていることにより、耐摩耗性を向上させることができる。特に、上記基材層が樹脂基材である場合には、ハードコート層が配置されていることにより、耐摩耗性を効果的に向上させることができる。

ハードコート層の材料としては、例えば、有機材料、無機材料、有機無機複合材料等を用いることができる。中でも、ハードコート層の材料は有機材料であることが好ましい。具体的には、ハードコート層は、重合性化合物を含む樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。重合性化合物を含む樹脂組成物の硬化物は、重合性化合物を、必要に応じて重合開始剤を用い、公知の方法で重合反応させることにより得ることができる。

なお、重合性化合物は、分子内に重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。重合性化合物としては、例えば、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物の少なくとも１種を用いることができる。

ラジカル重合性化合物とは、ラジカル重合性基を有する化合物である。ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、特に限定されないが、例えば、炭素－炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられ、具体的には、ビニル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。なお、ラジカル重合性化合物が２個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。

ラジカル重合性化合物が１分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の表面硬度が高くなり耐擦傷性が向上する点から、２つ以上であることが好ましく、さらに３つ以上であることが好ましい。

ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、中でも（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、ポリフルオロアルキル（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等と称される分子内に数個の（メタ）アクリロイル基を有する分子量が数百から数千の多官能（メタ）アクリレートモノマー及びオリゴマーを好ましく使用でき、またアクリレートポリマーの側鎖に（メタ）アクリロイル基を２個以上有する多官能（メタ）アクリレートポリマーも好ましく使用できる。中でも、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマーを好ましく使用できる。ハードコート層が、多官能（メタ）アクリレートモノマーの硬化物を含むことにより、ハードコート層の表面硬度を高めることができ、耐擦傷性を向上させることができる。さらに密着性を向上させることもできる。また、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートオリゴマー又はポリマーも好ましく使用できる。ハードコート層が、多官能（メタ）アクリレートオリゴマー又はポリマーの硬化物を含むことにより、ハードコート層の表面硬度を高めることができ、耐擦傷性を向上させることができる。さらに屈曲耐性および密着性を向上させることもできる。

なお、本明細書において、（メタ）アクリロイルとは、アクリロイル及びメタクリロイルの各々を表し、（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの各々を表す。

多官能（メタ）アクリレートモノマーの具体例については、例えば特開２０１９－１３２９３０号公報に記載のものを挙げることができる。中でも、反応性が高く、ハードコート層の表面硬度が高くなり耐擦傷性が向上する点から、１分子中に３個以上６個以下の（メタ）アクリロイル基を有するものが好ましい。このような多官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート等を好ましく用いることができる。特に、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレートから選ばれる少なくとも１種が好ましい。

また、ラジカル重合性化合物を用いる場合、分子構造内の柔軟性基によって耐擦傷性が低下することがある。そのため、柔軟性成分（ソフトセグメント）による耐擦傷性の低下を抑制するために、ラジカル重合性化合物は、分子構造に柔軟性基が導入されていないものを用いることが好ましい。具体的には、ＥＯまたはＰＯ変性されていないラジカル重合性化合物を用いることが好ましい。このようなラジカル重合性化合物を用いることにより、架橋点を増やし、耐擦傷性を向上させることができる。

ハードコート層は、硬度や粘度調整、密着性の向上等のために、ラジカル重合性化合物として、単官能（メタ）アクリレートモノマーを含んでいてもよい。単官能（メタ）アクリレートモノマーの具体例については、例えば特開２０１９－１３２９３０号公報に記載のものを挙げることができる。

カチオン重合性化合物とは、カチオン重合性基を有する化合物である。カチオン重合性化合物が有するカチオン重合性基としては、カチオン重合反応を生じ得る官能基であればよく、特に限定されないが、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基などが挙げられる。なお、カチオン重合性化合物が２個以上のカチオン重合性基を有する場合、これらのカチオン重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。

カチオン重合性化合物が１分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の表面硬度が高くなり耐擦傷性が向上する点から、２つ以上であることが好ましく、さらに３つ以上であることが好ましい。

また、カチオン重合性化合物としては、中でも、カチオン重合性基としてエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも１種を有する化合物が好ましく、エポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも１種を１分子中に２個以上有する化合物がより好ましい。エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さいという点から好ましい。また、環状エーテル基のうちエポキシ基を有する化合物は多様な構造の化合物が入手し易く、得られたハードコート層の耐久性に悪影響を与えず、ラジカル重合性化合物との相溶性もコントロールし易いという利点がある。また、環状エーテル基のうちオキセタニル基は、エポキシ基と比較して重合度が高い、低毒性であり、得られたハードコート層を、エポキシ基を有する化合物と組み合わせた際に塗膜中でのカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。

エポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂が挙げられる。また、脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル（メタ）アクリレートのホモポリマー、コポリマーなどの脂肪族エポキシ樹脂が挙げられる。また、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦや水添ビスフェノールＡ等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。

脂環族エポキシ樹脂、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、および、オキセタニル基を有するカチオン重合性化合物の具体例については、例えば特開２０１８－１０４６８２号公報に記載のものを挙げることができる。

ハードコート層は、必要に応じて重合開始剤を含有していてもよい。

また、ハードコート層は、帯電防止剤を含有していてもよい。表示装置用積層体に帯電防止性を付与することができる。ハードコート層は、必要に応じて、添加剤をさらに含有することができる。添加剤としては、ハードコート層に付与する機能に応じて適宜選択され、特に限定されないが、例えば、無機粒子、有機粒子、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、防汚剤、防眩剤、レベリング剤、界面活性剤、易滑剤、各種増感剤、難燃剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、光安定化剤、表面改質剤等が挙げられる。

また、本実施形態においては、ハードコート層の材料としては、より優れた屈曲耐性を得るため、ウレタン（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートモノマーのうち少なくとも１つを有するラジカル重合性化合物と、ラジカル重合性化合物と共有結合が形成可能な反応性官能基を有する反応性無機粒子とを併用した有機無機材料が好ましく、添加剤として接着付与剤を併用することが更に好ましい。反応性無機粒子としては、反応性官能基を有するシリカ等が挙げられる。また、反応性官能基としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基、エポキシ基、およびシラノール基等が挙げられる。

ハードコート層の厚さは、ハードコート層が有する機能及び表示装置用積層体の用途により適宜選択されればよい。ハードコート層の厚さは、例えば、０．５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、１．０μｍ以上４０μｍ以下であることがより好ましく、１．５μｍ以上３０μｍ以下であることがさらに好ましく、２．０μｍ以上２０μｍ以下であることが特に好ましい。ハードコート層の厚さが上記範囲内であれば、ハードコート層として十分な硬度を得ることができる。

ハードコート層の形成方法としては、例えば、上記基材層上に上記重合性化合物等を含むハードコート層用樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。

（３）貼付用接着層
本実施形態における表示装置用積層体は、基材層の第２の無機化合物層とは反対側の面に貼付用接着層を有することができる。貼付用接着層を介して、表示装置用積層体を例えば表示パネル等に貼り合わせることができる。

貼付用接着層に用いられる接着剤としては、透明性を有し、表示装置用積層体を表示パネル等に接着することが可能な接着剤であれば特に限定されるものではなく、例えば、熱硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、２液硬化型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧接着剤（いわゆる粘着剤）等を挙げることができる。

貼付用接着層の厚さは、例えば、１０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２５μｍ以上８０μｍ以下、さらに好ましくは４０μｍ以上６０μｍ以下とすることができる。貼付用接着層の厚さが薄すぎると、表示装置用積層体と表示パネル等とを十分に接着することができないおそれがある。一方、貼付用接着層の厚さが厚すぎると、フレキシブル性が損なわれる場合がある。

貼付用接着層としては、例えば接着フィルムを用いてもよい。また、例えば支持体または基材層等の上に接着剤組成物を塗布して、貼付用接着層を形成してもよい。

貼付用接着層は、表示装置の表示パネルと貼り合わせた後に剥離が可能な程度の密着性を有する層であってもよいし、剥離を目的とせずに高い密着性を有する層であってもよい。

（４）層間接着層
本実施形態における表示装置用積層体においては、各層の間に層間接着層が配置されていてもよい。層間接着層に用いられる接着剤としては、上記貼付用接着層に用いられる接着剤と同様とすることができる。

（５）介在層
本実施形態における表示装置用積層体は、第２の無機化合物層４と基材層５との間に、相対膜密度Ｄ３が０．１０以上０．７０以下の介在層９を有することが好ましい。このような介在層を配置することにより、屈曲耐性が更に向上する。
本実施形態において、介在層を配置した表示装置用積層体は、表示装置用積層体１の対向する短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄが５ｍｍとなるように１８０°折りたたむ動的屈曲試験を、２０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましく、５０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことがより好ましい。中でも、表示装置用積層体の対向する短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄが４ｍｍとなるように１８０°折りたたむ動的屈曲試験を２０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましい。動的屈曲試験では、フッ素含有層が外側となるように表示装置用積層体を折りたたんでもよく、あるいは、フッ素含有層が内側となるように表示装置用積層体を折りたたんでもよいが、いずれの場合であっても、表示装置用積層体に割れまたは破断が生じないことが好ましい。

（ｉ）相対膜密度
本実施形態における介在層は、相対膜密度Ｄ３が０．１０以上０．７０以下であり、好ましくは０．２０以上０．６０以下である。

介在層は、無機化合物粒子がバインダー樹脂に分散された分散層であることが好ましい。相対膜密度を上記範囲としやすいためである。また、介在層は、第１の無機化合物層および第２の無機化合物層以外の、他の無機化合物層であってもよい。

なお、介在層が分散層である場合、相対膜密度は、以下の式により算出される。
分散層の相対膜密度＝分散層の膜密度（実測値）／膜密度（文献値）
介在層の相対膜密度を算出するための上記膜密度（文献値）としては、無機化合物粒子に含まれる無機化合物を主体とする無機化合物層の膜密度（文献値）を採用する。

本態様においては、第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１、第２の無機化合物層の相対膜密度Ｄ２および介在層の相対膜密度Ｄ３が、Ｄ３＜Ｄ２＜Ｄ１の関係を満たすことが好ましい。上記関係を満たすことにより、隣接する各層の相対膜密度の差を小さくすることができ、応力集中を抑制することができる。そのため、屈曲耐性がより向上し、クラックや剥がれを抑制することができる。

また、本態様においては、第２の無機化合物層の相対膜密度Ｄ２および介在層の相対膜密度Ｄ３が、１．０≦Ｄ２／Ｄ３≦７．０を満たすことが好ましい。Ｄ２／Ｄ３が１．０以上であると、屈曲試験において第１の無機化合物層および第２の無機化合物層の界面での剥がれを効果的に抑制することができる。一方、Ｄ２／Ｄ３が７．０以下であると、屈曲試験において、介在層および第２の無機化合物層の界面での剥がれを効果的に抑制することができる。

また、本態様においては、第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１および介在層の相対膜密度Ｄ３が、１．０≦Ｄ１／Ｄ３≦１２．０を満たすことが好ましい。Ｄ１／Ｄ３が１．０以上であると、耐摩耗性がより向上する傾向にある。一方、Ｄ１／Ｄ３が１２．０以下であると、屈曲耐性がより向上し、分散層へのクラックの発生を抑制することができる。

（ｉｉ）構成
（ｉｉ－１）分散層
上述したように、介在層は、無機化合物粒子がバインダー樹脂に分散された分散層であることが好ましい。分散層は、無機化合物粒子およびバインダー樹脂を含有する。

（ａ）無機化合物粒子
無機化合物粒子としては、特に限定されないが、ケイ素酸化物、ガリウム酸化物、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、ハフニウム酸化物、タンタル酸化物、セリウム酸化物、チタン酸化物、亜鉛酸化物、スズ酸化物、マグネシウム酸化物、イットリウム酸化物、ニオブ酸化物、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化ランタンおよびフッ化セリウム等が挙げられる。中でも、第１の無機化合物よりも高屈折率を有する無機化合物粒子が好ましい。このような無機化合物粒子としては、具体的には、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、ニオブ酸化物、亜鉛酸化物、スズ酸化物、チタン酸化物等が挙げられる。分散層における無機化合物粒子の含有量としては、介在層の相対膜密度Ｄ３が上記値となる量であれば特に限定されない。

（ｂ）バインダー樹脂
バインダー樹脂としては、重合性化合物の硬化物であることが好ましい。重合性化合物については、第１実施形態の表示装置用積層体のハードコート層の項に記載したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

（ｃ）屈折率
分散層の屈折率は、１．６０以上が好ましく、１．６５以上がより好ましい。一方、例えば２．００以下であり、１．８０以下であってもよい。

（ｄ）厚み
分散層の厚みとしては、特に限定されないが、１０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下がより好ましい。

（ｅ）形成方法
分散層の形成方法としては、例えば、基材層または後述するハードコート層上に、無機化合物粒子および重合性化合物を含む分散層用樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。

（ｉｉ－２）無機化合物層
上述したように、介在層は、他の無機化合物層であってもよい。
（ａ）無機化合物
介在層としての無機化合物層に含まれる無機化合物としては、ケイ素酸化物、ガリウム酸化物、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、ハフニウム酸化物、タンタル酸化物、セリウム酸化物、チタン酸化物、亜鉛酸化物、スズ酸化物、マグネシウム酸化物、イットリウム酸化物、ニオブ酸化物、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化ランタンおよびフッ化セリウム等が挙げられる。中でも、第１の無機化合物よりも高屈折率材料であることが好ましい。このような無機化合物としては、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、ハフニウム酸化物、タンタル酸化物、セリウム酸化物、チタン酸化物、亜鉛酸化物、スズ酸化物、マグネシウム酸化物、イットリウム酸化物、ニオブ酸化物等の無機酸化物、フッ化ランタン、フッ化セリウム等が挙げられる。

（ｂ）屈折率
介在層としての無機化合物層の屈折率は、１．６０以上が好ましく、１．６５以上がより好ましい。一方、例えば２．００以下であり、１．８０以下であってもよい。

（ｃ）厚み
介在層としての無機化合物層の厚みとしては、特に限定されないが、１０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下がより好ましい。

（ｄ）形成方法
介在層としての無機化合物層の形成方法としては、上述の第１の無機化合物層および第２の無機化合物層の形成方法と同様の方法を用いることができる。

７．用途
本実施形態における表示装置用積層体は、表示装置において、表示パネルよりも観察者側に配置される前面板として用いることができる。本実施形態における表示装置用積層体は、優れた屈曲耐性と耐摩耗性を有するため、フォルダブルディスプレイ、ローラブルディスプレイ、ベンダブルディスプレイ等のフレキシブル表示装置における前面板に好適に用いることができる。特に、本実施形態における表示装置用積層体は、屈曲耐性を向上させることができることから、フォルダブルディスプレイにおける前面板に好適に用いることができる。

本実施形態における表示装置用積層体の厚さは、例えば、１０μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上４００μｍ以下であることがより好ましく、３０μｍ以上３００μｍ以下であることがさらに好ましい。表示装置用積層体の厚さが上記範囲であれば、フレキシブル性を高めることができる。

また、本実施形態における表示装置用積層体は、例えば、スマートフォン、タブレット端末、ウェアラブル端末、パーソナルコンピュータ、テレビジョン、デジタルサイネージ、パブリックインフォメーションディスプレイ（ＰＩＤ）、車載ディスプレイ等の表示装置における前面板に用いることができる。

ＩＩ．第２実施形態
本発明者らは、表示装置の表面に配置される積層体について、低反射性を維持しながら、屈曲耐性と耐摩耗性を向上させるために検討を重ねたところ、表示装置用積層体の一方の面にフッ素原子を含有するフッ素含有層を配置し、積層体の低反射率化を実現する低屈折率層には所定のフッ素含有比率を有する無機化合物層を用い、積層体の低反射率化を実現する高屈折率層には所定の相対膜密度を有する無機化合物層を用いることにより、屈曲耐性と耐摩耗性を向上させることができることを見出した。

具体的には、表示装置用積層体の一方の面に上記フッ素含有層を配置し、かつ、上記フッ素含有層側の無機化合物層である第１の無機化合物層（低屈折率層）のフッ素含有比率を所定の範囲とすることで、耐摩耗性が得られることを見出した。さらに、第２の無機化合物層（高屈折率層）の相対膜密度を所定の低い範囲とすることで、応力変化に対する耐性が強く、屈曲耐性が良好な表示装置用積層体となることを見出し、本発明を完成させた。

すなわち、本実施形態は、フッ素原子を含有するフッ素含有層と、第１の無機化合物層と、第２の無機化合物層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、上記第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物を有し、フッ素原子の含有比率が６．５原子％以下であり、上記第２の無機化合物層は、高屈折率材料である第２の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ２が０．５０以上１．００未満であり、上記表示装置用積層体の上記フッ素含有層側の面に入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である、表示装置用積層体を提供する。
以下、本実施形態の表示装置用積層体について、詳細に説明する。

図１は、本実施形態における表示装置用積層体の一例を示す概略断面図である。図１に示すように、本実施形態の表示装置用積層体１ｂは、フッ素原子を含有するフッ素含有層２と、第１の無機化合物層３と、第２の無機化合物層４と、基材層５と、をこの順に有する。本実施形態において、第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物を含み、フッ素原子の含有比率が６．５原子％以下である。さらに、第２の無機化合物層は、第１の無機化合物よりも屈折率が高い第２の無機化合物を含み、相対膜密度Ｄ２が０．５０以上１．００未満である。さらに、本実施形態における表示装置用積層体１ｂは、フッ素含有層２側の面１Ａに入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である。

本実施形態における表示装置用積層体は、一方の表面にフッ素含有層を有し、さらに、第１の無機化合物層のフッ素原子の含有比率が所定の範囲であることにより、優れた耐摩耗性を有するものとなる。これは、以下の理由によるものと推察される。図４（ａ）に、第１の無機化合物層３のフッ素原子の含有比率が低い場合、図４（ｂ）に、第１の無機化合物層３のフッ素原子の含有比率が高い場合の第１の無機化合物層３およびフッ素含有層２の断面模式図を示す。図４（ｂ）に示すように、第１の無機化合物層３のフッ素原子の含有比率が高い場合、第１の無機化合物層３上にフッ素含有層２を形成する際に、フッ素原子（フッ素化合物）が第１の無機化合物層３中に混入したものと推測される。そのため、第１の無機化合物層３が軟化し、耐摩耗性が悪化する。一方、図４（ａ）に示すように、第１の無機化合物層３のフッ素原子の含有比率が低い場合、第１の無機化合物層３上にフッ素含有層２を形成する際、フッ素原子（フッ素化合物）の第１の無機化合物層３中への混入が抑制されたものと推測される。そのため、第１の無機化合物層の軟化が抑制され、耐摩耗性に優れたものとなる。

さらに、本実施形態における表示装置用積層体は、第２の無機化合物層の相対膜密度Ｄ２が所定の低い範囲であることにより、優れた屈曲耐性を有するものとなる。また、本実施形態における表示装置用積層体は、低屈折率層である第１の無機化合物層と高屈折率層である第２の無機化合物層を含むことにより、所定の視感反射率を有するものとなる。
従って、低反射性を有し、かつ、優れた屈曲耐性と耐摩耗性を有する表示装置用積層体となる。以下、本実施形態の表示装置用積層体における各構成について、詳細に説明する。

１．第１の無機化合物層
（１）第１の無機化合物
本実施形態における第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物から構成される。本実施形態における第１の無機化合物層を構成する第１の無機化合物としては、第１実施形態における第１の無機化合物と同様のものが挙げられる。本実施形態においては、中でも、ケイ素酸化物が屈折率や汎用性の観点から好ましい。また、第１の無機化合物層中に含まれる無機化合物は１種類が好ましいが、複数種類の無機化合物が含まれていてもよい。

本実施形態において、第１の無機化合物層は、蒸着膜であることが好ましい。特に、ケイ素酸化物（シリカ）蒸着膜であることが好ましい。

（２）フッ素原子の含有比率
本実施形態における第１の無機化合物層は、フッ素原子の含有比率が６．５原子％以下である。フッ素原子の含有比率は、６．３原子％以下が好ましく、５．０原子％以下がより好ましい。フッ素原子の含有比率が上記範囲であれば、優れた耐摩耗性を有するものとなる。本実施形態における第１の無機化合物層は、フッ素原子比率が低い方が好ましい。すなわち、第１の無機化合物層は、フッ素原子を含まなくてもよく、フッ素原子の含有比率の下限は０％である。

第１の無機化合物層におけるフッ素原子の含有比率は、上述した測定装置および測定条件にてラザフォード後方散乱分析（ＲＢＳ:Rutherford Backscattering Spectrometry）により、第１の無機化合物層を測定して得られる全元素（例えば、珪素等の無機元素、酸素、フッ素等）の合計量を１００原子％とした際のフッ素原子の比率である。

第１の無機化合物層のフッ素原子の含有比率を上述の範囲に調整する方法としては、第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１を、後述する範囲に調整する方法が挙げられる。

（３）屈折率
本実施形態における第１の無機化合物層の屈折率は、第１実施形態における第１の無機化合物層の屈折率と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。

（４）相対膜密度Ｄ１
本実施形態においては、低屈折率層である第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１は、０．７０以上１．２０以下であることが好ましい。第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１は、より好ましくは０．７５以上であり、特に好ましくは０．８０以上である。相対膜密度Ｄ１が低すぎると、フッ素含有比率が高くなり、耐摩耗性に劣る場合がある。一方、より好ましくは１．１７以下であり、特に好ましくは１．１５以下である。相対膜密度Ｄ１が高すぎると、屈曲耐性に劣り、第１の無機化合物層にクラックが発生する場合がある。

無機化合物層の相対膜密度の算出方法は、第１実施形態で記載した方法と同様であるため、ここでの説明は省略する。
なお、本実施形態における第１の無機化合物層がフッ素原子を含有する場合でも、後述する膜密度（文献値）としては、第１の無機化合物から構成される無機化合物層の理論膜密度を採用する。

第１の無機化合物層の相対膜密度を上述の範囲に調整する方法としては、第１実施形態で記載した方法と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。

（５）厚み
本実施形態における第１の無機化合物層の厚みとしては、第１実施形態における第１の無機化合物層の厚みと同様であるため、ここでの説明は省略する。

（６）形成方法
本実施形態における第１の無機化合物層の形成方法としては、第１実施形態における第１の無機化合物層の形成方法と同様であるため、ここでの説明は省略する。

２．第２の無機化合物層
本実施形態における第２の無機化合物層としては、第１実施形態における第２の無機化合物層の内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。

３．フッ素含有層
本実施形態におけるフッ素含有層としては、第１実施形態におけるフッ素含有層の内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。

４．基材層
本実施形態における基材層としては、第１実施形態における基材層の内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。

５．表示装置用積層体
本実施形態における表示装置用積層体の視感反射率、動的屈曲耐性、全光線透過率およびヘイズについては、第１実施形態の内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。

６．その他構成
本実施形態における表示装置用積層体は、上述した、フッ素含有層２と、第１の無機化合物層３と、第２の無機化合物層４と、基材層５に加え、他の層を有していてもよい。
他の層としては、他の無機化合物層、介在層、ハードコート層、貼付用接着層および層間接着層が挙げられる。

図２は、本実施形態における表示装置用積層体の別の一例を示す概略断面図である。図２に示すように、本実施形態の表示装置用積層体１ｂは、フッ素含有層２と、第１の無機化合物層３と、第２の無機化合物層４と、基材層５に加え、さらに、他の無機化合物層６（例えば第３の無機化合物層）と、ハードコート層７とを有することが好ましい。

図３は、本実施形態における表示装置用積層体の好ましい態様の一例を示す概略断面図である。図３に示すように、本実施形態の表示装置用積層体１ｂは、フッ素含有層２と、第１の無機化合物層３と、第２の無機化合物層４と、基材層５に加え、第２の無機化合物層４と基材層５との間に、相対膜密度Ｄ３が０．１０以上０．７０以下の介在層９を有することが好ましい。また、図３に示すように、基材層５と介在層９との間に、ハードコート層７を有することが好ましい。

他の無機化合物層、介在層、ハードコート層、貼付用接着層および層間接着層としては、第１実施形態に記載したものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。

７．用途
本実施形態における表示装置用積層体の用途としては、第１実施形態に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。

ＩＩＩ．第３実施形態
本発明者らは、表示装置の表面に配置される積層体について、低反射性を維持しながら、屈曲耐性と耐摩耗性を向上させるために検討を重ねたところ、表示装置用積層体の一方の面にフッ素原子を含有するフッ素含有層を配置し、積層体の低反射率化を実現する低屈折率層には、所定の相対膜密度を有する無機化合物層を用い、積層体の低反射率化を実現する高屈折率層には、所定の相対膜密度を有し、高屈折率を有する無機化合物粒子の分散層（高屈折率分散層）を用いることにより、屈曲耐性と耐摩耗性を向上させることができることを見出した。

具体的には、表示装置用積層体の一方の面に上記フッ素含有層を配置し、かつ、第１の無機化合物層（低屈折率層）の相対膜密度を所定の範囲とすることで、耐摩耗性が得られることを見出した。さらに、基材層と第１の無機化合物層との間に、相対膜密度が所定の低い範囲である、高屈折率を有する無機化合物粒子の分散層（高屈折率分散層）を配置することで、応力変化に対する耐性が強く、屈曲耐性が良好な表示装置用積層体となることを見出し、本発明を完成させた。

すなわち、本実施形態は、フッ素原子を含有するフッ素含有層と、第１の無機化合物層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、上記第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ１が０．７０以上１．２０以下であり、上記第１の無機化合物層と上記基材層との間に、高屈折率を有する無機化合物粒子がバインダー樹脂に分散された高屈折率分散層を有し、上記高屈折率分散層の相対膜密度Ｄ４が０．１０以上０．７０以下であり、上記表示装置用積層体の上記フッ素含有層側の面に入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である、表示装置用積層体を提供する。
以下、本実施形態の表示装置用積層体について、詳細に説明する。

図５は、本実施形態における表示装置用積層体の一例を示す概略断面図である。図５に示すように、本実施形態の表示装置用積層体１ｃは、フッ素原子を含有するフッ素含有層２と、第１の無機化合物層３と、高屈折率分散層１０と、基材層５と、をこの順に有する。本実施形態において、第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物を含み、相対膜密度Ｄ１が０．７０以上１．２０以下である。さらに、本実施形態における表示装置用積層体は、基材層と第１の無機化合物層との間に、高屈折率を有する無機化合物粒子がバインダー樹脂に分散された高屈折率分散層が配置されており、この高屈折率分散層の相対膜密度Ｄ４が０．１０以上０．７０以下である。さらに、本実施形態における表示装置用積層体１ｃは、フッ素含有層２側の面１Ａに入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である。

本実施形態における表示装置用積層体は、一方の表面にフッ素含有層を有し、さらに、第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１が所定の範囲であることにより、優れた耐摩耗性を有するものとなる。さらに、基材層と第１の無機化合物層との間に、高屈折率を有する無機化合物粒子がバインダー樹脂に分散された高屈折率分散層が配置されており、この高屈折率分散層の相対膜密度Ｄ４が所定の低い範囲であることにより、優れた屈曲耐性を有するものとなる。なお、高屈折率分散層は、無機化合物層とは異なり、バインダー樹脂を含むため柔軟性が高い。そのため、第１実施形態や第２実施形態における第２無機化合物層よりも低い相対膜密度の範囲においても、優れた屈曲耐性を有すると推察される。
さらに、本実施形態における表示装置用積層体は、低屈折率層である第１の無機化合物層と高屈折率粒子である無機化合物粒子が分散された高屈折率分散層を含むことにより、所定の視感反射率を有するものとなる。
従って、低反射性を有し、かつ、優れた屈曲耐性と耐摩耗性を有する表示装置用積層体となる。以下、本実施形態の表示装置用積層体における各構成について、詳細に説明する。

１．第１の無機化合物層
本実施形態における第１の無機化合物層としては、第１実施形態における第１の無機化合物層の内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。

２．高屈折率分散層
本実施形態において、高屈折率分散層は、第１の無機化合物層と基材層との間に配置され、高屈折率を有する無機化合物粒子およびバインダー樹脂を含有する。

（１）無機化合物粒子およびバインダー樹脂
上記無機化合物粒子およびバインダー樹脂については、第１実施形態における「介在層」の項の「（ａ）無機化合物粒子」および「（ｂ）バインダー樹脂」で説明したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。

（２）相対膜密度
高屈折率分散層の相対膜密度Ｄ４は、０．１０以上０．７０以下であり、好ましくは０．２０以上０．６０以下である。
高屈折率分散層の相対膜密度の算出方法としては、上述した第１実施形態における分散層の相対膜密度と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。

本実施形態においては、第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１および高屈折率分散層の相対膜密度Ｄ４が、１．０≦Ｄ１／Ｄ４≦１２．０を満たすことが好ましい。Ｄ１／Ｄ４が１．０以上であると、耐摩耗性が向上する傾向にある。一方、Ｄ１／Ｄ４が１２．０以下であれば、屈曲耐性がより向上し、高屈折率分散層へのクラックの発生を抑制することができる。

（３）屈折率
本実施形態における高屈折率分散層の屈折率は、１．６０以上が好ましく、１．６５以上がより好ましい。一方、例えば２．００以下であり、１．８０以下であってもよい。

（４）厚み
高屈折率分散層の厚みとしては、特に限定されないが、１０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下がより好ましい。

（５）形成方法
本実施形態における高屈折率分散層の形成方法としては、例えば、基材層または後述するハードコート層上に、高屈折率を有する無機化合物粒子および重合性化合物を含む高屈折率分散層用樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。

３．フッ素含有層
本実施形態におけるフッ素含有層としては、第１実施形態におけるフッ素含有層の内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。

４．基材層
本実施形態における基材層としては、第１実施形態における基材層の内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。

５．表示装置用積層体
（１）視感反射率
本実施形態における表示装置用積層体は、フッ素含有層側から、フッ素含有層の表面に対して垂直に入射する光の入射角を０°として、入射角５°で光を入射させた際に、この入射光の正反射光の視感反射率が２．０％以下である。好ましくは１．７％以下であり、更に好ましくは１．５％以下である。視感反射率が高すぎると、表示領域に観察者自身が映り込むのを抑制することができない。

ここで、上記視感反射率は、第１実施形態に記載した測定方法により測定された値である。

（２）動的屈曲耐性
本実施形態における表示装置用積層体は、屈曲耐性を有する。具体的には、表示装置用積層体に対して、第１実施形態で説明した動的屈曲試験を行った場合に、表示装置用積層体に割れ、または破断が生じないことが好ましい。

本実施形態における表示装置用積層体においては、表示装置用積層体１の対向する短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄが５ｍｍとなるように１８０°折りたたむ動的屈曲試験を、２０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましく、５０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことがより好ましい。中でも、表示装置用積層体の対向する短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄが４ｍｍとなるように１８０°折りたたむ動的屈曲試験を２０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましい。動的屈曲試験では、フッ素含有層が外側となるように表示装置用積層体を折りたたんでもよく、あるいは、フッ素含有層が内側となるように表示装置用積層体を折りたたんでもよいが、いずれの場合であっても、表示装置用積層体に割れまたは破断が生じないことが好ましい。

（３）全光線透過率およびヘイズ
本実施形態における表示装置用積層体は、全光線透過率が、例えば８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。このように全光線透過率が高いことにより、透明性が良好な表示装置用積層体とすることができる。本実施形態における表示装置用積層体のヘイズは、例えば５％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。このようにヘイズが低いことにより、透明性が良好な表示装置用積層体とすることができる。

ここで、表示装置用積層体の全光線透過率およびヘイズは、第１実施形態で説明した測定方法により測定された値である。

６．その他構成
本実施形態における表示装置用積層体は、上述した、フッ素含有層２と、第１の無機化合物層３と、高屈折率分散層１０と、基材層５に加え、他の層を有していてもよい。
他の層としては、ハードコート層、貼付用接着層および層間接着層が挙げられる。具体的には、本実施形態における表示装置用積層体は、高屈折率分散層と基材層との間にハードコート層を有することが好ましい。また、基材層の高屈折率分散層側の面とは反対の面側に、貼付用接着層を有することが好ましい。

ハードコート層、貼付用接着層および層間接着層としては、第１実施形態に記載したものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。

７．用途
本実施形態における表示装置用積層体の用途としては、第１実施形態に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。

Ｂ．表示装置
本開示における表示装置は、表示パネルと、上記表示パネルの観察者側に配置された、上述の第１実施形態、第２実施形態および第３実施形態のうちのいずれかの表示装置用積層体と、を備える。

図６は、本開示における表示装置の一例を示す概略断面図である。図６（ａ）および図６（ｂ）に示すように、表示装置２０ａ～２０ｃは、表示パネル２１と、表示パネル２１の観察者側に配置された第１実施形態の表示装置用積層体１ａ、第２実施形態の表示装置用積層体１ｂ、または第３実施形態の表示装置用積層体１ｃと、を備える。表示装置２０ａ～２０ｃにおいては、表示装置用積層体１ａ、１ｂ、１ｃと表示パネル２１とは、例えば表示装置用積層体１の貼付用接着層８を介して貼り合わせることができる。

本開示におけるフレキシブル表示装置は、低反射性を有する表示装置用積層体を備えるため、視認性が向上したものとなる。さらに、表示装置用積層体が優れた屈曲耐性と耐摩耗性を有するため、傷がつきにくく、繰り返し屈曲させても表示不良が抑制されたものとなる。

本開示における表示装置用積層体を表示装置の表面に配置する場合には、フッ素含有層が外側、基材層が内側になるように配置される。

本開示における表示装置用積層体を表示装置の表面に配置する方法としては、特に限定されないが、例えば接着層を介する方法等が挙げられる。

本開示における表示パネルとしては、例えば、有機ＥＬ表示装置、液晶表示装置等の表示装置に用いられる表示パネルを挙げることができる。

本開示における表示装置は、表示パネルと表示装置用積層体との間にタッチパネル部材を有することができる。

本開示における表示装置は、中でも、フォルダブルディスプレイ、ローラブルディスプレイ、ベンダブルディスプレイ等のフレキシブル表示装置であることが好ましい。

また、本開示における表示装置は、折りたたみ可能であることが好ましい。すなわち、本開示における表示装置は、フォルダブルディスプレイであることが好ましい。

以下に実施例および比較例を示し、本開示をさらに詳細に説明する。

＜第１実施形態＞
（実施例１－１～１－１１、比較例１－３～１－１０）
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用樹脂組成物を得た。

（ハードコート層用樹脂組成物の組成）
・ペンタエリスリトールアクリレート（製品名「Ａ-９５５０」、新中村化学社製）：８７質量部
・ペンタエリスリトールアクリレート（製品名「Ａ-ＴＭＭ-３Ｌ」、新中村化学社製）：１３質量部
・重合開始剤（１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）：４質量部
・シリカ粒子（平均一次粒子径１２ｎｍ、日産化学工業社製）：４０質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン：２１０質量部

（ハードコート層の形成）
次に、基材層として、厚さ５０μｍのポリアミドイミドフィルム（製品名「ＣＰＩ」、コーロン社製）を用い、基材層上にバーコーターで上記ハードコート層用樹脂組成物を塗布して、塗膜を形成した。そして、この塗膜に対して、８０℃、１分間加熱することにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を酸素濃度が１００ｐｐｍ以下にて積算光量が３００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させ、厚さ３．５μｍのハードコート層を形成した。

（無機化合物層の形成）
次いで、ハードコート層上に、第２の無機化合物層、第１の無機化合物層、をこの順に形成した。なお、第１の無機化合物層および第２の無機化合物層は、表１に示す構成材料を用い、表１に示す成膜速度で真空蒸着法により形成した。第１の無機化合物層および第２の無機化合物層の構成材料、厚み、成膜速度および屈折率を表１、表２に示す。

（フッ素含有層の形成）
次に、第１の無機化合物層上に出力１００Ｗで４０秒間プラズマ処理をし、フッ素化合物（ダイキン工業社製、製品名「オプツールＵＤ１２０」）を成膜速度０．１ｎｍ／秒で真空蒸着することにより、厚さ７ｎｍのフッ素含有層を形成した。このようにして基材層、ハードコート層、第２の無機化合物層、第１の無機化合物層、フッ素含有層をこの順に有する積層体を得た。

（実施例１－１２～１－１６、比較例１－１１～１－１４）
基材層上に、ハードコート層、第３の無機化合物層、第２の無機化合物層、第１の無機化合物層、およびフッ素含有層（厚み７ｎｍ）をこの順に形成した。第１の無機化合物層～第３の無機化合物層の構成材料、厚み、成膜速度および屈折率を表１、表２に示す。なお、用いた基材層、ハードコート層およびフッ素含有層の形成方法は、上記実施例１－１と同様である。

（実施例１－１７～１－１９、比較例１－１５～１－１６）
基材層上に、ハードコート層、第４の無機化合物層、第３の無機化合物層、第２の無機化合物層、第１の無機化合物層、およびフッ素含有層（厚み７ｎｍ）をこの順に形成した。第１の無機化合物層～第４の無機化合物層の構成材料、厚み、成膜速度および屈折率を表１、表２に示す。なお、用いた基材層、ハードコート層およびフッ素含有層の形成方法は、実施例１－１と同様である。

（比較例１－１）
基材層上に、ハードコート層、第１の無機化合物層、およびフッ素含有層（厚み７ｎｍ）をこの順に形成した。第１の無機化合物層の構成材料、厚み、成膜速度および屈折率を表２に示す。なお、用いた基材層、ハードコート層およびフッ素含有層の形成方法は、実施例１－１と同様である。

（比較例１－２）
基材層上に、ハードコート層、第２の無機化合物層、およびフッ素含有層（厚み７ｎｍ）をこの順に形成した。第２の無機化合物層の構成材料、厚み、成膜速度および屈折率を表２に示す。なお、用いた基材層、ハードコート層およびフッ素含有層の形成方法は、実施例１－１と同様である。

［相対膜密度］
実施例１－１～１－１９および比較例１－１～１－１６で得られた表示装置用積層体の第１の無機化合物層と第２の無機化合物層の相対膜密度を、「Ａ．表示装置用積層体 Ｉ．第１実施形態 １．第１の無機化合物層 （３）相対膜密度Ｄ１」に記載の方法により測定した。結果を表３および表４に示す。

［評価］
（動摩擦係数）
実施例１－１～１－１９および比較例１－１～１－１６で得られた表示装置用積層体のフッ素含有層側の表面の動摩擦係数を、「Ａ．表示装置用積層体 Ｉ．第１実施形態 ３．フッ素含有層」に記載の方法により測定した。結果を表３および表４に示す。

（耐摩耗性評価）
実施例１－１～１－１９および比較例１－１～１－１６で得られた表示装置用積層体の耐摩耗性を、以下の評価方法および評価基準により評価した。
・評価方法
テスター産業社製の学振型摩擦堅牢度試験機ＡＢ－３０１を用い、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさの積層体を、ガラス板上に折れやシワがないようセロハンテープ（登録商標）で固定した。次いで、＃００００のスチールウール（日本スチールウール社製のボンスター＃００００）を用い、スチールウールを１ｃｍ×１ｃｍの治具に固定して、荷重７５０ｇ／ｃｍ^２、移動速度１００ｍｍ／秒、移動距離５０ｍｍの条件で、表示装置用積層体の防汚層（フッ素含有層）側の面を１００往復擦った。そして、耐摩耗試験を行った積層体において、移動速度が不安定な両端１０ｍｍの範囲を除く中心３０ｍｍの範囲における表面を蛍光灯下で透過観察し、傷の有無と状態を評価した。
・評価基準
Ａ：合格（傷が生じていない）
Ｂ：合格（長さ５ｍｍ以下の傷が５本未満）
Ｃ：不合格（上記Ａ、Ｂ以外）

（動的屈曲性評価）
実施例１－１～１－１９および比較例１－１～１－１６で得られた表示装置用積層体の屈曲性について、動的屈曲試験を行い、下記評価基準により評価した。
以下、動的屈曲試験の方法について、図７を参照して説明する。
積層体に対して、下記の動的屈曲試験を行い、屈曲耐性を評価した。まず、２０ｍｍ×１００ｍｍの大きさの積層体を準備し、耐久試験機（製品名「ＤＬＤＭＬＨ－ＦＳ」、ユアサシステム機器社製）に対し、図７（ａ）に示すように、表示装置用積層体１の短辺部１Ｃと、短辺部１Ｃと対向する短辺部１Ｄとを、平行に配置された固定部５１でそれぞれ固定した。次に、図７（ｂ）に示すように、固定部５１を互いに近接するように移動させることで、表示装置用積層体１を折りたたむように変形させ、更に、図７（ｃ）に示すように、表示装置用積層体１の固定部５１で固定された対向する２つの短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄが所定の値となる位置まで固定部５１を移動させた後、固定部５１を逆方向に移動させて表示装置用積層体１の変形を解消させた。図７（ａ）～（ｃ）に示すように固定部５１を移動させることで、表示装置用積層体１を１８０°折りたたむ動作を繰り返し行った。この際、表示装置用積層体１の対向する２つの短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄは６ｍｍ（φ６ｍｍ動的屈曲試験）、または、１０ｍｍ（φ１０ｍｍ動的屈曲試験）とした。また、積層体は、フッ素含有層が外側になるように屈曲させた。動的屈曲試験の結果は、下記の基準で評価した。

・評価基準
Ａ：合格（積層体のフッ素含有層側を外側にしたφ６ｍｍの動的屈曲試験において、２０万回屈曲を繰り返しても破断せず、且つクラックが生じていない）
Ｂ：合格（積層体のフッ素含有層側を外側にしたφ１０ｍｍの動的屈曲試験において、２０万回屈曲を繰り返しても破断せず、且つクラックが生じていない）
Ｃ：不合格（積層体のフッ素含有層側を外側にしたφ１０ｍｍの動的屈曲試験において、２０万回屈曲を繰り返す間に、破断する、又はクラックが生じている）

（屈曲試験後の屈曲部の視認性）
上記動的屈曲試験実施後の表示装置用積層体を、画面表示させたタブレットディスプレイに貼り合わせて、蛍光灯下で屈曲部の視認性を確認し、以下の評価基準により評価した。
・評価基準
Ａ：合格（１０人中１０人が問題なく視認できた）
Ｂ：合格（１０人中７～９人が問題なく視認できた）
Ｃ：不合格（１０人中４～６人が問題なく視認できた）
Ｄ：不合格（１０人中、問題なく視認できたのは４人未満であった）

（視感反射率）
実施例１－１～１－１９および比較例１－１～１－１６で得られた表示装置用積層体の視感反射率を、「Ａ．表示装置用積層体 Ｉ．第１実施形態 ５．表示装置用積層体 （１）視感反射率」に記載の方法により測定した。結果を表３および表４に示す。

表３および表４から、実施例１－１～１－１９の表示装置用積層体は、低反射性を維持しつつ、優れた屈曲耐性と耐摩耗性を有することが確認された。一方、第１の無機化合物層の相対膜密度が０．７０未満である場合には（比較例１－３および比較例１－７）、耐摩耗性に劣ることが確認された。また、第１の無機化合物層の相対膜密度が１．２０より大きい場合には（比較例１－４および比較例１－８）、屈曲耐性に劣ることが確認された。第２の無機化合物層の相対膜密度が０．５０未満である場合（比較例１－５、比較例１－９、比較例１－１１～比較例１－１２および比較例１－１５）、および第２の無機化合物層の相対膜密度が１．０以上である場合（比較例１－６、１－１０、１－１３、１－１４および比較例１－１６）には、屈曲耐性に劣ることが確認された。また、比較例１－１および比較例１－２は、無機化合物層が一層のみであり、視感反射率が高いことが確認された。

（実施例２－１～２－２４、比較例２－１～２－８）
実施例１－１と同様の方法で、基材層上にハードコート層を形成した。

次に、下記の組成で、無機化合物粒子および重合性化合物（脂肪族ウレタンアクリレート）を含む分散層用樹脂組成物を得た。この際、表５および表６に示す種類の無機化合物粒子を用い、無機化合物粒子の配合量を変えた。

（分散層用樹脂組成物の組成）
・脂肪族ウレタンアクリレート（製品名「ＥＢＥＣＲＹＬ２２５」、ダイセルオルネクス社製）：７４質量部
・ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）アクリレート（製品名「ＰＥＴＩＡ」、ダイセルオルネクス社製）：２６質量部
・重合開始剤（１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）：４質量部
・無機化合物粒子（平均一次粒子径１０ｎｍ、レジノカラー社製）：無機化合物粒子の種類と配合量（質量部（固形分１００％換算値））は表５および表６に示す
・メチルイソブチルケトン：３００質量部

ハードコート層上に上記分散層用樹脂組成物を塗布して、塗膜を形成した。そして、この塗膜を乾燥、硬化させ、表５および表６に示す厚さおよび屈折率の分散層を形成した。

次に、分散層上に、第２の無機化合物層、第１の無機化合物層、をこの順に形成した。
第２の無機化合物層は、表５および表６に示す構成材料を用い、表５および表６に示す成膜速度で真空蒸着法により形成した。第２の無機化合物層の厚さおよび屈折率を表５および表６に示す。第１の無機化合物層は、表５および表６に示す構成材料を用い、表５および表６に示す成膜速度で真空蒸着法により形成した。第１の無機化合物層の厚さおよび屈折率を表５および表６に示す。
次に、実施例１－１と同様の方法で、第１の無機化合物層上に厚さ７ｎｍのフッ素含有層を形成した。このようにして基材層、ハードコート層、分散層、第２の無機化合物層、第１の無機化合物層、フッ素含有層をこの順に有する積層体を得た。

［相対膜密度］
得られた表示装置用積層体の第１の無機化合物層Ｄ１、第２の無機化合物層Ｄ２および分散層の相対膜密度Ｄ３を、「Ａ．表示装置用積層体 Ｉ．第１実施形態 １．第１の無機化合物層 （３）相対膜密度Ｄ１」および「Ａ．表示装置用積層体 Ｉ．第１実施形態 ６．その他構成 （５）介在層 （ｉ）相対膜密度」に記載の方法により測定した。

（動摩擦係数および視感反射率）
動摩擦係数および視感反射率を実施例１－１と同様に測定した。

（耐摩耗性評価）
表示装置用積層体の耐摩耗性を、上述した評価方法および評価基準により評価した。

（動的屈曲性評価）
上記動的屈曲試験において、表示装置用積層体１の対向する２つの短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄを３ｍｍ（φ３ｍｍ動的屈曲試験）、または、４ｍｍ（φ４ｍｍ動的屈曲試験）とし、積層体のフッ素含有層側を内側として試験を行い、下記評価基準により動的屈曲性を評価した。また、表示装置用積層体１の対向する２つの短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄを４ｍｍ（φ４ｍｍ動的屈曲試験）、または、５ｍｍ（φ５ｍｍ動的屈曲試験）とし、積層体のフッ素含有層側を外側として試験を行い、下記評価基準により動的屈曲性を評価した。

・評価基準（積層体のフッ素含有層側を内側にした試験）
Ａ：合格（積層体のフッ素含有層側を内側にしたφ３ｍｍの動的屈曲試験において、２０万回屈曲を繰り返しても破断せず、且つクラックが生じていない）
Ｂ：合格（積層体のフッ素含有層側を内側にしたφ４ｍｍの動的屈曲試験において、２０万回屈曲を繰り返しても破断せず、且つクラックが生じていない）
Ｃ：不合格（積層体のフッ素含有層側を内側にしたφ４ｍｍの動的屈曲試験において、２０万回屈曲を繰り返す間に、破断する、又はクラックが生じている）

・評価基準（積層体のフッ素含有層側を外側にした試験）
Ａ：合格（積層体のフッ素含有層側を外側にしたφ４ｍｍの動的屈曲試験において、２０万回屈曲を繰り返しても破断せず、且つクラックが生じていない）
Ｂ：合格（積層体のフッ素含有層側を外側にしたφ５ｍｍの動的屈曲試験において、２０万回屈曲を繰り返しても破断せず、且つクラックが生じていない）
Ｃ：不合格（積層体のフッ素含有層側を外側にしたφ５ｍｍの動的屈曲試験において、２０万回屈曲を繰り返す間に、破断する、又はクラックが生じている）

（屈曲試験後の屈曲部の視認性）
上記のフッ素含有層側を外側にした動的屈曲試験実施後の表示装置用積層体を、画面表示させたタブレットディスプレイに貼り合わせて、蛍光灯下で屈曲部の視認性を確認し、以下の評価基準により評価した。

・評価基準
Ａ：合格（１０人中１０人が問題なく視認できた）
Ｂ：合格（１０人中７～９人が問題なく視認できた）
Ｃ：不合格（１０人中４～６人が問題なく視認できた）
Ｄ：不合格（１０人中、問題なく視認できたのは４人未満であった）

表７および表８から、実施例２－１～２－２４の表示装置用積層体は、比較例２－１～比較例２－８と比較し、低反射性を維持しつつ、優れた屈曲耐性と耐摩耗性を有することが確認された。また、実施例２－１～２－２４の表示装置用積層体は、実施例１－１２～１－１９および後述する実施例３－１～３－７よりも厳しい評価基準でも、優れた屈曲性を有することが確認された。

＜第２実施形態＞
（実施例３－１～３－６、比較例３－１）
実施例１－１と同様の方法で、基材層上にハードコート層を形成した。次に、ハードコート層上に、第３の無機化合物層、第２の無機化合物層、第１の無機化合物層、をこの順に形成した。
第３の無機化合物層は、構成材料としてＺｒＯ_２を用い、成膜速度０．２６ｎｍ／秒で真空蒸着法により形成した。第３の無機化合物層の厚さは４５ｎｍ、屈折率は２．００であった。第２の無機化合物層は、構成材料としてＮｂ_２Ｏ_５を用い、成膜速度０．２６ｎｍ／秒で真空蒸着法により形成した。第２の無機化合物層の厚さは７５ｎｍ、屈折率は２．３０であった。第１の無機化合物層は、構成材料としてＳｉＯ_２を用い、表９に示す成膜速度で真空蒸着法により形成した。第１の無機化合物層の厚さは８０ｎｍ、屈折率は１．４７であった。
次に、実施例１と同様の方法で、第１の無機化合物層上に厚さ７ｎｍのフッ素含有層を形成した。このようにして基材層、ハードコート層、第３の無機化合物層、第２の無機化合物層、第１の無機化合物層、フッ素含有層をこの順に有する積層体を得た。

（実施例３－７、比較例３－２）
ハードコート層の形成に、下記帯電防止剤含有ハードコート層用樹脂組成物を用いた以外は、実施例３－１と同様の方法で、積層体を得た。

（帯電防止剤含有ハードコート層用樹脂組成物の組成）
・ペンタエリスリトールアクリレート（製品名「Ａ-９５５０」、新中村化学社製）：８７質量部
・ペンタエリスリトールアクリレート（製品名「Ａ-ＴＭＭ-３Ｌ」、新中村化学社製）：１３質量部
・重合開始剤（１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）：４質量部
・シリカ粒子（平均一次粒子径１２ｎｍ、日産化学工業社製）：４０質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン：１９０質量部
・帯電防止剤（製品名「ＭＴ-２」、荒川化学工業社製）：３質量部（固形分１００％換算値）

［相対膜密度およびフッ素原子含有比率］
得られた表示装置用積層体の第１の無機化合物層と第２の無機化合物層の相対膜密度を、「Ａ．表示装置用積層体 Ｉ．第１実施形態 １．第１の無機化合物層 （３）相対膜密度Ｄ１」に記載の方法により測定した。また、第１の無機化合物層のフッ素原子の含有比率を、「Ａ．表示装置用積層体 ＩＩ．第２実施形態 １．第１の無機化合物層 （２）フッ素原子の含有比率」に記載の方法により測定した。第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１およびフッ素原子の含有比率の測定結果を表９に示す。第２の無機化合物層の相対膜密度Ｄ２は０．５８であった。

［評価］
（クラック伸度）
まず、積層体を３ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出し、試験片を作製した。次に、テンシロン万能試験機オリエンテック社製「ＳＴＡ－１１５０」）を用い、クランプ間距離（つかみ具間距離）を５０ｍｍとして上記試験片をたわみが無いように設置し、温度２３±５℃、湿度３０％ＲＨ以上７０％ＲＨ以下にて、１０ｍｍ／ｍｉｎの引張速度で積層体にクラックが生じるまで引っ張り続け、積層体にクラックが生じた時点での引張長さを測定した。クラックの有無は、試験片にＬＥＤを照射して目視で判断した。続いて、以下の式によりクラック伸度を算出した。
クラック伸度（％）＝１００×引張長さ（ｍｍ）／つかみ具間距離（ｍｍ）

（耐摩耗性評価および動的屈曲性評価）
積層体の耐摩耗性および動的屈曲性を、上述した実施例１－１～１－１９および比較例１－１～１－１６における評価方法および評価基準により評価した。なお、積層体のフッ素含有層側を外側にしたφ６ｍｍの動的屈曲試験において、５０万回屈曲を繰り返しても破断せず、且つクラックが生じなかった場合は、評価基準をＡ’：合格とした。

（表面抵抗値測定）
まず、積層体を１００ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出し、試験片を作製した。次に、抵抗率計（製品名「ハイレスタＵＸ ＭＣＰ－ＨＴ型」、株式会社三菱ケミカルアナリテック製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ６９１１：１９９５に従って、印加電圧を１０００Ｖにするとともに、レジテーブルに積層体のフッ素含有層側とは反対側の面を接触させて折れやシワがないようセロハンテープ（登録商標）で固定し、抵抗率計のＵＲＳプローブを積層体のフッ素含有層側の面に接触させることにより表面抵抗値を測定した。表面抵抗値は、積層体のフッ素含有層側の面の表面抵抗値をランダムにそれぞれ１０箇所測定し、測定した１０箇所の表面抵抗値の算術平均値とした。

なお、表中の表面抵抗値の「－」は、装置限界（上限）を超えたことを意味する。

表９に示されるように、第１の無機化合物層のフッ素原子の含有比率が６．５原子％以下の場合（実施例３－１～実施例３－６）、耐摩耗性および屈曲耐性に優れることが確認された。なお、帯電防止剤を含むハードコート層材料を用いた場合にも、耐摩耗性および屈曲耐性に優れることが確認された（実施例３－７）。一方、比較例３－１および比較例３－２は、動的屈曲性およびクラック伸度が良好であるものの、第１の無機化合物層のフッ素原子の含有比率が高いため、耐摩耗性に劣ることが確認された。

＜第３実施形態＞
（実施例４－１～４－３、比較例４－１）
実施例１－１と同様の方法で、基材層上にハードコート層を形成した。

次に、無機化合物粒子および上記重合性化合物を含む分散層用樹脂組成物を得た。この際、表１０に示す種類の無機化合物粒子を用い、無機化合物粒子の配合量を変えた。

ハードコート層上に上記分散層用樹脂組成物を塗布して、塗膜を形成した。そして、この塗膜を乾燥、硬化させ、厚さ１００ｎｍの分散層を形成した。

次に、分散層上に第１の無機化合物層を形成した。第１の無機化合物層は、表１０に示す構成材料を用い、表１０に示す成膜速度で真空蒸着法により形成した。第１の無機化合物層の厚さおよび屈折率を表１０に示す。
次に、実施例１－１と同様の方法で、第１の無機化合物層上に厚さ７ｎｍのフッ素含有層を形成した。このようにして基材層、ハードコート層、高屈折率分散層、第１の無機化合物層、フッ素含有層をこの順に有する積層体を得た。

［相対膜密度］
得られた表示装置用積層体の第１の無機化合物層Ｄ１および高屈折率分散層の相対膜密度Ｄ４を、「Ａ．表示装置用積層体 Ｉ．第１実施形態 １．第１の無機化合物層 （３）相対膜密度Ｄ１」および「Ａ．表示装置用積層体 Ｉ．第１実施形態 ６．その他構成 （５）介在層 （ｉ）相対膜密度」に記載の方法により測定した。

（動摩擦係数および視感反射率）
動摩擦係数および視感反射率を実施例１－１と同様に測定した。

（耐摩耗性評価、動的屈曲性評価、屈曲試験後の屈曲部の視認性）
表示装置用積層体の耐摩耗性、動的屈曲性および屈曲試験後の屈曲部の視認性を、上述した実施例２－１～２－２４および比較例２－１～２－８における評価方法および評価基準により評価した。

表１１から、高屈折率分散層の相対膜密度Ｄ４が０．１０以上０．７０以下である実施例４－１～４－３は、比較例４－１に対して、耐摩耗性および屈曲耐性に優れることが確認された。

すなわち、本開示においては、以下の発明を提供できる。

［１］
フッ素原子を含有するフッ素含有層と、第１の無機化合物層と、第２の無機化合物層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、
前記第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ１が０．７０以上１．２０以下であり、
前記第２の無機化合物層は、高屈折率材料である第２の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ２が０．５０以上１．００未満であり、
前記表示装置用積層体の前記フッ素含有層側の面に入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である、表示装置用積層体。

［２］
前記表示装置用積層体の前記フッ素含有層側の表面の動摩擦係数が、０．０１以上０．３０以下である、［１］に記載の表示装置用積層体。

［３］
前記第１の無機化合物が、ケイ素酸化物である、［１］または［２］に記載の表示装置用積層体。

［４］
前記第２の無機化合物が、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタン酸化物、亜鉛酸化物、スズ酸化物およびニオブ酸化物のいずれかである、［１］から［３］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［５］
前記第１の無機化合物層の厚みが、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、［１］から［４］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［６］
前記第２の無機化合物層の厚みが、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、［１］から［５］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［７］
前記第２の無機化合物層と前記基材層との間に、１つまたは複数の他の無機化合物層を有する、［１］から［６］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［８］
前記表示装置用積層体に含まれる全ての無機化合物層の合計厚みが、５００ｎｍ以下である、［１］から［７］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［９］
前記第２の無機化合物層と前記基材層との間に、介在層を有し、
前記介在層の相対膜密度Ｄ３が０．１０以上０．７０以下である、［１］から［８］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［１０］
前記介在層が、無機化合物粒子がバインダー樹脂に分散された分散層である、［９］に記載の表示装置用積層体。

［１１］
前記介在層が、他の無機化合物層である、［９］または［１０］に記載の表示装置用積層体。

［１２］
前記第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１、前記第２の無機化合物層の相対膜密度Ｄ２および前記介在層の相対膜密度Ｄ３が、Ｄ３＜Ｄ２＜Ｄ１の関係を満たす、［９］から［１１］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［１３］
前記第２の無機化合物層の相対膜密度Ｄ２および前記介在層の相対膜密度Ｄ３が、１．０≦Ｄ２／Ｄ３≦７．０を満たす、［９］から［１２］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［１４］
前記第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１および前記介在層の相対膜密度Ｄ３が、１．０≦Ｄ１／Ｄ３≦１２．０を満たす、［９］から［１３］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［１５］
前記第２の無機化合物層と前記基材層との間にハードコート層を有する、［１］から［１４］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［１６］
前記基材層の前記第２の無機化合物層側の面とは反対の面側に、貼付用接着層を有する、［１］から［１５］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［１７］
フッ素原子を含有するフッ素含有層と、第１の無機化合物層と、第２の無機化合物層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、
前記第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物を有し、フッ素原子の含有比率が６．５原子％以下であり、
前記第２の無機化合物層は、高屈折率材料である第２の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ２が０．５０以上１．００未満であり、
前記表示装置用積層体の前記フッ素含有層側の面に入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である、表示装置用積層体。

［１８］
前記表示装置用積層体の前記フッ素含有層側の表面の動摩擦係数が、０．０１以上０．３０以下である、［１７］に記載の表示装置用積層体。

［１９］
前記第１の無機化合物が、ケイ素酸化物である、［１７］または［１８］に記載の表示装置用積層体。

［２０］
前記第２の無機化合物が、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタン酸化物、亜鉛酸化物、スズ酸化物およびニオブ酸化物のいずれかである、［１７］から［１９］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［２１］
前記第１の無機化合物層の厚みが、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、［１７］から［２０］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［２２］
前記第２の無機化合物層の厚みが、１０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下である、［１７］から［２１］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［２３］
前記第２の無機化合物層と前記基材層との間に、１つまたは複数の他の無機化合物層を有する、［１７］から［２２］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［２４］
前記表示装置用積層体に含まれる全ての無機化合物層の合計厚みが、５００ｎｍ以下である、［１７］から［２３］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［２５］
前記第２の無機化合物層と前記基材層との間にハードコート層を有する、［１７］から［２４］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［２６］
前記基材層の前記第２の無機化合物層側の面とは反対の面側に、貼付用接着層を有する、［１７］から［２５］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［２７］
フッ素原子を含有するフッ素含有層と、第１の無機化合物層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、
前記第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ１が０．７０以上１．２０以下であり、
前記第１の無機化合物層と前記基材層との間に、高屈折率を有する無機化合物粒子がバインダー樹脂に分散された高屈折率分散層を有し、
前記高屈折率分散層の相対膜密度Ｄ４が０．１０以上０．７０以下であり、
前記表示装置用積層体の前記フッ素含有層側の面に入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である、表示装置用積層体。

［２８］
前記第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１および前記高屈折率分散層の相対膜密度Ｄ４が、１．０≦Ｄ１／Ｄ４≦１２．０を満たす、［２７］に記載の表示装置用積層体。

［２９］
前記表示装置用積層体の前記フッ素含有層側の表面の動摩擦係数が、０．０１以上０．３０以下である、［２７］または［２８］に記載の表示装置用積層体。

［３０］
前記第１の無機化合物が、ケイ素酸化物である、［２７］から［２９］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［３１］
前記無機化合物粒子が、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、ニオブ酸化物、亜鉛酸化物、スズ酸化物およびチタン酸化物のいずれかである、［２７］から［３０］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［３２］
前記高屈折率分散層と前記基材層との間にハードコート層を有する、［２７］から［３１］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［３３］
前記基材層の前記高屈折率分散層側の面とは反対の面側に、貼付用接着層を有する、［２７］から［３２］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。

［３４］
表示パネルと、
前記表示パネルの観察者側に配置された、［１］から［３３］までのいずれかに記載の表示装置用積層体と、を備える、表示装置。

１ａ，１ｂ，１ｃ … 表示装置用積層体
２ … フッ素含有層
３ … 第１の無機化合物層
４ … 第２の無機化合物層
５ … 基材層
６ … 第３の無機化合物層
７ … ハードコート層
８ … 貼付用接着層
９ … 介在層
１０ … 高屈折率分散層
２０ａ，２０ｂ，２０ｃ … フレキシブル表示装置
２１ … 表示パネル

Claims (34)

1. フッ素原子を含有するフッ素含有層と、第１の無機化合物層と、第２の無機化合物層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、
   前記第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ１が０．７０以上１．２０以下であり、
   前記第２の無機化合物層は、高屈折率材料である第２の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ２が０．５０以上１．００未満であり、
   前記表示装置用積層体の前記フッ素含有層側の面に入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である、表示装置用積層体。
2. 前記表示装置用積層体の前記フッ素含有層側の表面の動摩擦係数が、０．０１以上０．３０以下である、請求項１に記載の表示装置用積層体。
3. 前記第１の無機化合物が、ケイ素酸化物である、請求項１に記載の表示装置用積層体。
4. 前記第２の無機化合物が、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタン酸化物、亜鉛酸化物、スズ酸化物およびニオブ酸化物のいずれかである、請求項１に記載の表示装置用積層体。
5. 前記第１の無機化合物層の厚みが、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、請求項１に記載の表示装置用積層体。
6. 前記第２の無機化合物層の厚みが、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、請求項１に記載の表示装置用積層体。
7. 前記第２の無機化合物層と前記基材層との間に、１つまたは複数の他の無機化合物層を有する、請求項１に記載の表示装置用積層体。
8. 前記表示装置用積層体に含まれる全ての無機化合物層の合計厚みが、５００ｎｍ以下である、請求項１に記載の表示装置用積層体。
9. 前記第２の無機化合物層と前記基材層との間に、介在層を有し、
   前記介在層の相対膜密度Ｄ３が０．１０以上０．７０以下である、請求項１に記載の表示装置用積層体。
10. 前記介在層が、無機化合物粒子がバインダー樹脂に分散された分散層である、請求項９に記載の表示装置用積層体。
11. 前記介在層が、他の無機化合物層である、請求項９に記載の表示装置用積層体。
12. 前記第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１、前記第２の無機化合物層の相対膜密度Ｄ２および前記介在層の相対膜密度Ｄ３が、Ｄ３＜Ｄ２＜Ｄ１の関係を満たす、請求項９に記載の表示装置用積層体。
13. 前記第２の無機化合物層の相対膜密度Ｄ２および前記介在層の相対膜密度Ｄ３が、１．０≦Ｄ２／Ｄ３≦７．０を満たす、請求項９に記載の表示装置用積層体。
14. 前記第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１および前記介在層の相対膜密度Ｄ３が、１．０≦Ｄ１／Ｄ３≦１２．０を満たす、請求項９に記載の表示装置用積層体。
15. 前記第２の無機化合物層と前記基材層との間にハードコート層を有する、請求項１に記載の表示装置用積層体。
16. 前記基材層の前記第２の無機化合物層側の面とは反対の面側に、貼付用接着層を有する、請求項１に記載の表示装置用積層体。
17. フッ素原子を含有するフッ素含有層と、第１の無機化合物層と、第２の無機化合物層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、
    前記第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物を有し、フッ素原子の含有比率が６．５原子％以下であり、
    前記第２の無機化合物層は、高屈折率材料である第２の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ２が０．５０以上１．００未満であり、
    前記表示装置用積層体の前記フッ素含有層側の面に入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である、表示装置用積層体。
18. 前記表示装置用積層体の前記フッ素含有層側の表面の動摩擦係数が、０．０１以上０．３０以下である、請求項１７に記載の表示装置用積層体。
19. 前記第１の無機化合物が、ケイ素酸化物である、請求項１７に記載の表示装置用積層体。
20. 前記第２の無機化合物が、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタン酸化物、亜鉛酸化物、スズ酸化物およびニオブ酸化物のいずれかである、請求項１７に記載の表示装置用積層体。
21. 前記第１の無機化合物層の厚みが、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、請求項１７に記載の表示装置用積層体。
22. 前記第２の無機化合物層の厚みが、１０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下である、請求項１７に記載の表示装置用積層体。
23. 前記第２の無機化合物層と前記基材層との間に、１つまたは複数の他の無機化合物層を有する、請求項１７に記載の表示装置用積層体。
24. 前記表示装置用積層体に含まれる全ての無機化合物層の合計厚みが、５００ｎｍ以下である、請求項１７に記載の表示装置用積層体。
25. 前記第２の無機化合物層と前記基材層との間にハードコート層を有する、請求項１７に記載の表示装置用積層体。
26. 前記基材層の前記第２の無機化合物層側の面とは反対の面側に、貼付用接着層を有する、請求項１７に記載の表示装置用積層体。
27. フッ素原子を含有するフッ素含有層と、第１の無機化合物層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、
    前記第１の無機化合物層は、低屈折率材料である第１の無機化合物を有し、相対膜密度Ｄ１が０．７０以上１．２０以下であり、
    前記第１の無機化合物層と前記基材層との間に、高屈折率を有する無機化合物粒子がバインダー樹脂に分散された高屈折率分散層を有し、
    前記高屈折率分散層の相対膜密度Ｄ４が０．１０以上０．７０以下であり、
    前記表示装置用積層体の前記フッ素含有層側の面に入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である、表示装置用積層体。
28. 前記第１の無機化合物層の相対膜密度Ｄ１および前記高屈折率分散層の相対膜密度Ｄ４が、１．０≦Ｄ１／Ｄ４≦１２．０を満たす、請求項２７に記載の表示装置用積層体。
29. 前記表示装置用積層体の前記フッ素含有層側の表面の動摩擦係数が、０．０１以上０．３０以下である、請求項２７に記載の表示装置用積層体。
30. 前記第１の無機化合物が、ケイ素酸化物である、請求項２７に記載の表示装置用積層体。
31. 前記無機化合物粒子が、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、ニオブ酸化物、亜鉛酸化物、スズ酸化物およびチタン酸化物のいずれかである、請求項２７に記載の表示装置用積層体。
32. 前記高屈折率分散層と前記基材層との間にハードコート層を有する、請求項２７に記載の表示装置用積層体。
33. 前記基材層の前記高屈折率分散層側の面とは反対の面側に、貼付用接着層を有する、請求項２７に記載の表示装置用積層体。
34. 表示パネルと、
    前記表示パネルの観察者側に配置された、請求項１から請求項３３までのいずれかの請求項に記載の表示装置用積層体と、を備える、表示装置。

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