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JP2023069716A - Method for manufacturing hologram laminate, hologram laminate, laminate for laser processing, and embedded body for laser processing - Google Patents

Method for manufacturing hologram laminate, hologram laminate, laminate for laser processing, and embedded body for laser processing Download PDF

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JP2023069716A
JP2023069716A JP2021181793A JP2021181793A JP2023069716A JP 2023069716 A JP2023069716 A JP 2023069716A JP 2021181793 A JP2021181793 A JP 2021181793A JP 2021181793 A JP2021181793 A JP 2021181793A JP 2023069716 A JP2023069716 A JP 2023069716A
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Japan
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hologram
fourier transform
laminate
thin film
laser processing
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Application number
JP2021181793A
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Japanese (ja)
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久美子 中崎
Kumiko Nakasaki
健太 杉江
Kenta Sugie
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

【課題】可変情報を付与することも可能であり、偽造防止の付加価値を上げることが可能なホログラム積層体の製造方法を提供する。【解決手段】本開示は、透明基材1と、上記透明基材の一方の面側に形成された金属薄膜2’とを有するレーザー加工用積層体10を製造するレーザー加工用積層体製造工程と、上記金属薄膜の一部領域にレーザー光Lを照射し透明な酸化薄膜に改質することにより、上記金属薄膜からなる遮光部2a、および上記透明な酸化薄膜からなるパターン状の光透過部2bを有する透過型フーリエ変換ホログラム層2を形成する透過型フーリエ変換ホログラム層形成工程と、を有し、上記透過型フーリエ変換ホログラム層は、点光源から入射した光がパターン状の上記光透過部を透過することにより光像に変換する透過型フーリエ変換ホログラム領域を有する、ホログラム積層体100の製造方法を提供する。【選択図】図1A method of manufacturing a hologram laminated body is provided, which is capable of adding variable information and increasing the added value of anti-counterfeiting. The present disclosure provides a laser processing laminate manufacturing process for manufacturing a laser processing laminate 10 having a transparent substrate 1 and a metal thin film 2' formed on one side of the transparent substrate. Then, a part of the metal thin film is irradiated with a laser beam L to transform it into a transparent oxide thin film, thereby forming a light shielding portion 2a made of the metal thin film and a patterned light transmitting portion made of the transparent oxide thin film. and a transmission Fourier transform hologram layer forming step of forming a transmission Fourier transform hologram layer 2 having 2b, wherein the transmission Fourier transform hologram layer has the light transmission portion in which light incident from a point light source is patterned. Provided is a method for manufacturing a hologram laminate 100 having a transmission type Fourier transform hologram region that converts into an optical image by transmitting . [Selection drawing] Fig. 1

Description

本開示は、ホログラム積層体の製造方法、ホログラム積層体、レーザー加工用積層体およびレーザー加工用埋め込み体に関する。 TECHNICAL FIELD The present disclosure relates to a method for manufacturing a hologram laminate, a hologram laminate, a laminate for laser processing, and an embedded body for laser processing.

近年、ホログラム積層体は、複製が比較的難しく、また外観が美しい等の利点から、偽造防止用途に多く用いられている。このようなホログラム積層体には、原画像を干渉縞として記録する方式や、ホログラムにより光像を表示する原理等に応じて、様々な種類がある。例えば、エンボスホログラム、体積型ホログラム、電子ホログラム、計算機合成ホログラムであるフーリエ変換ホログラム等が挙げられる。 In recent years, hologram laminates have been widely used for anti-counterfeiting purposes because they are relatively difficult to duplicate and have a beautiful appearance. There are various types of such hologram laminates, depending on the method of recording an original image as interference fringes, the principle of displaying a light image with a hologram, and the like. For example, embossed holograms, volume holograms, electronic holograms, and Fourier transform holograms, which are computer-generated holograms, can be used.

このようなホログラム積層体を用いることで、真正性の識別を図り、偽造防止機能やセキュリティ機能を向上させることができる。また、ホログラム積層体により表示される光像を利用して、意匠性を付与する試みもなされている。 By using such a hologram laminate, authenticity can be identified, and anti-counterfeiting and security functions can be improved. Attempts have also been made to impart designability using a light image displayed by a hologram laminate.

例えば、特許文献1には、反射型フーリエ変換ホログラム領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域を有するホログラム積層体であって、上記反射型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光が、表面に凹凸面を有する第1ホログラム層の上記凹凸面で反射した反射光を、第1光像に変換する領域であり、上記透過型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光が、パターン状に配置された第2ホログラム層を透過した透過光を、第2光像に変換する領域であることを特徴とするホログラム積層体が開示されており、点光源の照射方向に応じて、所定の光像を表示することが可能な、偽造防止性および意匠性に優れたホログラム積層体とすることができることが記載されている。 For example, Patent Document 1 discloses a hologram laminate having a reflective Fourier transform hologram region and a transmission Fourier transform hologram region, wherein the reflective Fourier transform hologram region has an uneven surface when light incident from a point light source is applied. It is an area that converts the reflected light reflected by the uneven surface of the first hologram layer having a surface into a first optical image, and the transmission Fourier transform hologram area is arranged in a pattern by light incident from a point light source. discloses a hologram laminate characterized by a region that converts the transmitted light transmitted through the second hologram layer into a second light image. It is described that a hologram laminate having excellent anti-counterfeiting properties and design properties can be displayed.

特開2018-173463号公報JP 2018-173463 A

しかしながら、上記特許文献1では、積層体中の透過型フーリエ変換ホログラム層は、目視で認識するための情報である光像に変換する構成として凹凸を有しており、この凹凸面を設けるためにはエンボス加工が必要となる。エンボス加工を施すことができる設備の整った施設は限られ、そしてエンボス加工用の凹凸は積層体が製造される途中の工程で施されなければならないため、最終工程の積層体の状態になった後で光像用の凹凸を形成することは困難となる。このため、上記特許文献1では、光像はあらかじめ決められた固定の情報となってしまう。 However, in Patent Document 1, the transmission type Fourier transform hologram layer in the laminate has unevenness as a configuration for converting into an optical image, which is information for visual recognition. requires embossing. There are limited facilities equipped for embossing, and the unevenness for embossing must be applied in the process of manufacturing the laminate, so the laminate is in the final process. It becomes difficult to form unevenness for the optical image later. Therefore, in Patent Document 1, the optical image becomes predetermined fixed information.

本開示は、上記課題に鑑みてなされたものであり、可変情報を付与することも可能であり、偽造防止の付加価値を上げることが可能なホログラム積層体の製造方法を提供することを主目的とする。 The present disclosure has been made in view of the above problems, and the main purpose thereof is to provide a method for manufacturing a hologram laminate that can add variable information and increase the added value of anti-counterfeiting. and

本開示の一実施形態は、透明基材と、上記透明基材の一方の面側に形成された金属薄膜とを有するレーザー加工用積層体を製造するレーザー加工用積層体製造工程と、上記金属薄膜の一部領域にレーザーを照射し透明な酸化薄膜に改質することにより、上記金属薄膜からなる遮光部、および上記透明な酸化薄膜からなるパターン状の光透過部を有する透過型フーリエ変換ホログラム層を形成する透過型フーリエ変換ホログラム層形成工程と、を有し、上記透過型フーリエ変換ホログラム層は、点光源から入射した光がパターン状の上記光透過部を透過することにより光像に変換する透過型フーリエ変換ホログラム領域を有する、ホログラム積層体の製造方法を提供する。 One embodiment of the present disclosure includes a laser processing laminate manufacturing process for manufacturing a laser processing laminate having a transparent substrate and a metal thin film formed on one surface side of the transparent substrate; A transmission type Fourier transform hologram having a light-shielding portion made of the metal thin film and a patterned light-transmitting portion made of the transparent oxide thin film by irradiating a part of the thin film with a laser to transform it into a transparent oxide thin film. and a transmission Fourier transform hologram layer forming step of forming a layer, wherein the transmission Fourier transform hologram layer converts light incident from a point light source into a light image by passing through the patterned light transmitting portions. A method for manufacturing a hologram laminate having a transmission Fourier transform hologram area that

本開示においては、前記レーザー加工用積層体は、上記透明基材の片方の表面に形成された凹凸構造と、上記凹凸構造側の表面に配置された前記金属薄膜と、を有することにより、反射型エンボスホログラムとして機能する反射型エンボスホログラム領域を有することが好ましい。 In the present disclosure, the laser processing laminate has an uneven structure formed on one surface of the transparent base material, and the metal thin film disposed on the surface of the uneven structure side. It is preferred to have a reflective embossed hologram region that functions as a embossed hologram.

本開示においては、上記透過型フーリエ変換ホログラム領域により再生される上記光像が表示する絵柄は、上記エンボスホログラム領域により表示される絵柄と関連性を有する絵柄であってもよい。 In the present disclosure, the pattern displayed by the optical image reproduced by the transmission Fourier transform hologram area may be a pattern having relevance to the pattern displayed by the embossed hologram area.

本開示においては、上記レーザー加工用積層体は、上記透明基材の片方の表面に形成された凹凸構造と、上記凹凸構造側の表面に配置された前記金属薄膜と、を有することにより、反射型フーリエ変換ホログラムとして機能する反射型フーリエ変換ホログラム領域を有することが好ましい。 In the present disclosure, the laser processing laminate has an uneven structure formed on one surface of the transparent base material, and the metal thin film disposed on the surface of the uneven structure side. It is preferred to have a reflective Fourier transform hologram region that functions as a Fourier transform hologram.

本開示においては、上記レーザー加工用積層体は、上記金属薄膜の上記透明基材側とは反対側に、第1接着層が配置されていることが好ましい。 In the present disclosure, the laminate for laser processing preferably has a first adhesive layer disposed on the side of the metal thin film opposite to the transparent substrate side.

またこの場合、上記レーザー加工用積層体は、上記透明基材の上記金属薄膜側とは反対側に、第2接着層が配置されていてもよい。 In this case, the laminate for laser processing may have a second adhesive layer disposed on the side of the transparent base material opposite to the metal thin film side.

本開示においては、上記レーザー加工用積層体製造工程後に、上記レーザー加工用積層体を、上記第1接着層を介して第1支持体に転写して転写体を製造し、その後、上記透過型フーリエ変換ホログラム層形成工程における上記レーザー照射を行ってもよい。 In the present disclosure, after the laser processing laminate manufacturing step, the laser processing laminate is transferred to a first support via the first adhesive layer to manufacture a transfer body, and then the transmissive type The laser irradiation may be performed in the Fourier transform hologram layer forming step.

本開示においては、上記レーザー加工用積層体製造工程後に、上記レーザー加工用積層体の上記第1接着層側に第1支持体を配置し、上記レーザー加工用積層体の上記第2接着層側に第2支持体を配置して、上記第1支持体および上記第2支持体を圧着させることにより、上記レーザー加工用積層体が上記第1支持体および上記第2支持体の間に埋め込まれた埋め込み体を製造し、その後、上記透過型フーリエ変換ホログラム層形成工程における上記レーザー照射を行ってもよい。 In the present disclosure, after the step of manufacturing the laminate for laser processing, a first support is arranged on the first adhesive layer side of the laminate for laser processing, and the second adhesive layer side of the laminate for laser processing is disposed. The laser processing laminate is embedded between the first support and the second support by arranging the second support and pressing the first support and the second support together. After manufacturing the embedded body, the laser irradiation in the transmission type Fourier transform hologram layer forming step may be performed.

本開示の一実施形態は、透明基材と、上記透明基材の片方の面側に配置され、金属薄膜からなる遮光部、および透明な酸化薄膜からなるパターン状の光透過部を有する透過型フーリエ変換ホログラム層と、を有し、上記透過型フーリエ変換ホログラム層は、点光源から入射した光がパターン状の上記光透過部を透過することにより光像に変換する透過型フーリエ変換ホログラム領域を有する、ホログラム積層体を提供する。 An embodiment of the present disclosure is a transmissive type having a transparent substrate, a light shielding portion made of a metal thin film, and a patterned light transmission portion made of a transparent oxide thin film, which are arranged on one side of the transparent substrate. and a Fourier transform hologram layer, wherein the transmission Fourier transform hologram layer has a transmission Fourier transform hologram region in which light incident from a point light source is converted into an optical image by passing through the patterned light transmitting portion. A hologram laminate is provided.

本開示における上記ホログラム積層体は、上記ホログラム積層体が、上記透明基材の片方の表面に形成された凹凸構造と、上記凹凸構造側の表面に配置された上記透過型フーリエ変換ホログラム層と、を有し、上記透過型フーリエ変換ホログラム層は、上記金属薄膜からなる遮光部が反射型エンボスホログラムとして機能する反射型エンボスホログラム領域を有するものであってもよい。 The hologram laminate in the present disclosure includes an uneven structure formed on one surface of the transparent base material, the transmission Fourier transform hologram layer disposed on the surface on the uneven structure side, and the transmission Fourier transform hologram layer may have a reflection embossed hologram region in which the light shielding portion made of the metal thin film functions as a reflection embossed hologram.

また、本開示における上記ホログラム積層体は、上記透過型フーリエ変換ホログラム領域により再生される上記光像が表示する絵柄は、上記反射型エンボスホログラム領域により表示される絵柄と関連性を有する絵柄であることが好ましい。 Further, in the hologram laminate in the present disclosure, the pattern displayed by the optical image reproduced by the transmission Fourier transform hologram area is a pattern having relevance to the pattern displayed by the reflection embossed hologram area. is preferred.

さらに、本開示における上記ホログラム積層体は、上記ホログラム積層体が、上記透明基材の片方の表面に形成された凹凸構造と、上記凹凸構造側の表面に配置された上記透過型フーリエ変換ホログラム層と、を有し、上記透過型フーリエ変換ホログラム層は、上記金属薄膜からなる遮光部が反射型フーリエ変換ホログラムとして機能する反射型フーリエ変換ホログラム領域を有するものであってもよい。 Further, the hologram laminate in the present disclosure includes a concave-convex structure formed on one surface of the transparent substrate, and the transmission Fourier transform hologram layer disposed on the surface on the concave-convex structure side. and the transmission Fourier transform hologram layer may have a reflection Fourier transform hologram region in which the light shielding portion made of the metal thin film functions as a reflection Fourier transform hologram.

本開示における上記ホログラム積層体は、上記透過型フーリエ変換ホログラム層の上記透明基材側とは反対側に第1接着層を有していてもよい。 The hologram laminate in the present disclosure may have a first adhesive layer on the side of the transmission Fourier transform hologram layer opposite to the transparent substrate side.

またこの場合、本開示における上記ホログラム積層体は、上記透過型フーリエ変換ホログラム層の上記透明基材側とは反対側に第1支持体を有していてもよい。 In this case, the hologram laminate in the present disclosure may have a first support on the side opposite to the transparent substrate side of the transmission Fourier transform hologram layer.

本開示における上記ホログラム積層体は、上記透明基材の上記透過型フーリエ変換ホログラム層側とは反対側に第2接着層を有していてもよい。 The hologram laminate in the present disclosure may have a second adhesive layer on the side of the transparent substrate opposite to the transmission Fourier transform hologram layer side.

またこの場合、本開示における上記ホログラム積層体は、上記透明基材の上記透過型フーリエ変換ホログラム層側とは反対側に第2支持体を有していてもよい。 In this case, the hologram laminate in the present disclosure may have a second support on the side of the transparent substrate opposite to the transmission Fourier transform hologram layer side.

本開示の一実施形態は、透明基材と、上記透明基材の一方の面側に形成された金属薄膜とを有し、透過型フーリエ変換ホログラム領域を形成するためにレーザー加工が施される、レーザー加工用積層体を提供する。 One embodiment of the present disclosure has a transparent substrate and a metal thin film formed on one side of the transparent substrate, and is subjected to laser processing to form a transmission Fourier transform hologram region. provides a laminate for laser processing.

本開示の一実施形態は、第2接着層と、透明基材と、金属薄膜と、第1接着層と、をこの順に有するレーザー加工用積層体が、第1支持体と第2支持体との間に埋め込まれた埋め込み体であり、透過型フーリエ変換ホログラム領域を形成するためにレーザー加工が施される、レーザー加工用埋め込み体を提供する。 In one embodiment of the present disclosure, a laminate for laser processing having a second adhesive layer, a transparent base material, a metal thin film, and a first adhesive layer in this order includes a first support and a second support. Provided is an embedding body for laser processing, which is an embedding body embedded between and subjected to laser processing to form a transmission type Fourier transform hologram region.

本開示においては、偽造防止効果および意匠性に優れ、可変情報の付与も可能なホログラム積層体の製造方法を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY In the present disclosure, it is possible to provide a method for manufacturing a hologram laminate that is excellent in anti-counterfeiting effect and design, and capable of imparting variable information.

本開示におけるホログラム積層体の製造方法を説明する概略断面図である。FIG. 4A is a schematic cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a hologram laminate in the present disclosure; 本開示におけるホログラム積層体を例示する概略断面図および平面図である。1 is a schematic cross-sectional view and a plan view illustrating a hologram laminate in the present disclosure; FIG. 本開示におけるホログラム積層体の製造方法を説明する概略断面図である。FIG. 4A is a schematic cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a hologram laminate in the present disclosure; 本開示におけるホログラム積層体の製造方法を説明する概略断面図である。FIG. 4A is a schematic cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a hologram laminate in the present disclosure; 本開示におけるホログラム積層体の製造方法におけるレーザー加工用積層体の概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a laminate for laser processing in a method for manufacturing a hologram laminate according to the present disclosure; FIG. 本開示におけるホログラム積層体の製造方法を説明する概略断面図である。FIG. 4A is a schematic cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a hologram laminate in the present disclosure; 本開示におけるホログラム積層体の製造方法を説明する概略断面図である。FIG. 4A is a schematic cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a hologram laminate in the present disclosure; 本開示におけるホログラム積層体の製造方法を説明する概略断面図である。FIG. 4A is a schematic cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a hologram laminate in the present disclosure; 本開示におけるホログラム積層体の製造方法を説明する概略断面図である。FIG. 4A is a schematic cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a hologram laminate in the present disclosure; 本開示におけるホログラム積層体を例示する概略断面図および平面図である。1 is a schematic cross-sectional view and a plan view illustrating a hologram laminate in the present disclosure; FIG. 本開示におけるホログラム積層体を例示する概略断面図および平面図である。1 is a schematic cross-sectional view and a plan view illustrating a hologram laminate in the present disclosure; FIG.

下記に、図面等を参照しながら本開示の実施の形態を説明する。ただし、本開示は多くの異なる態様で実施することが可能であり、下記に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の形態に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表わされる場合があるが、あくまで一例であって、本開示の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。 Embodiments of the present disclosure will be described below with reference to the drawings and the like. However, the present disclosure can be embodied in many different modes and should not be construed as limited to the description of the embodiments exemplified below. In addition, in order to make the description clearer, the drawings may schematically show the width, thickness, shape, etc. of each part compared to the actual form, but this is only an example and limits the interpretation of the present disclosure. not something to do. In addition, in this specification and each figure, the same reference numerals may be given to the same elements as those described above with respect to the existing figures, and detailed description thereof may be omitted as appropriate.

本明細書において、ある部材の上に他の部材を配置する態様を表現するにあたり、単に「上に」、あるいは「下に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある部材に接するように、直上、あるいは直下に他の部材を配置する場合と、ある部材の上方、あるいは下方に、さらに別の部材を介して他の部材を配置する場合との両方を含むものとする。また、本明細書において、ある部材の面に他の部材を配置する態様を表現するにあたり、単に「面に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある部材に接するように、直上、あるいは直下に他の部材を配置する場合と、ある部材の上方、あるいは下方に、さらに別の部材を介して他の部材を配置する場合との両方を含むものとする。 In this specification, when expressing a mode of arranging another member on top of a certain member, when simply describing “above” or “below”, unless otherwise specified, 2 includes both cases in which another member is arranged directly above or directly below, and cases in which another member is arranged above or below a certain member via another member. In addition, in this specification, when expressing a mode in which another member is arranged on the surface of a certain member, unless otherwise specified, when simply described as “on the surface”, it means directly above, so as to contact the certain member, unless otherwise specified. Alternatively, it includes both the case of arranging another member directly below and the case of arranging another member above or below a certain member via another member.

また、本明細書において、「シート」には、「フィルム」と呼ばれる部材も含まれる。また、「フィルム」には、「シート」と呼ばれる部材も含まれる。また、本明細書において、ホログラム層とは、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する機能を有するものを含み、当該機能を有するために、表面に凹凸構造を有するものに限定されるものではなく、1つの層で凹凸構造を有さない構成も含む。 In this specification, the term "sheet" also includes a member called "film". The term "film" also includes members called "sheets". Further, in this specification, the hologram layer includes a layer having a function of converting light incident from a point light source into a desired optical image, and is limited to a layer having an uneven structure on the surface in order to have the function. However, it also includes a single layer structure that does not have an uneven structure.

以下、本開示におけるホログラム積層体の製造方法について詳細に説明する。 A method for manufacturing a hologram laminate according to the present disclosure will be described in detail below.

A.ホログラム積層体の製造方法
図1に、本開示のホログラムの製造方法を説明するための概略断面図を示す。
本開示のホログラム積層体の製造方法は、少なくとも、透明基材1と上記透明基材1の一方の面側に形成された金属薄膜2′とを有するレーザー加工用積層体10を製造する工程(図1(A))と、上記金属薄膜2′の一部領域に、レーザー光Lを照射し透明な酸化薄膜に改質することにより、上記金属薄膜からなる遮光部2aおよび上記透明な酸化薄膜からなるパターン状の光透過部2bを有する透過型フーリエ変換ホログラム領域を有する透過型フーリエ変換ホログラム層を形成する工程(図1(B))と、を有し、上記透過型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光が、パターン状の上記光透過部を透過した透過光を、第1光像に変換する領域である、ことを特徴とする。
A. Method for Manufacturing Hologram Laminate FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view for explaining the method for manufacturing a hologram of the present disclosure.
The method for manufacturing a hologram laminate of the present disclosure comprises a step of manufacturing a laser processing laminate 10 having at least a transparent substrate 1 and a metal thin film 2' formed on one side of the transparent substrate 1 ( As shown in FIG. 1(A), a part of the metal thin film 2' is irradiated with a laser beam L to be modified into a transparent oxide thin film, thereby forming a light shielding portion 2a made of the metal thin film and the transparent oxide thin film. and a step of forming a transmission Fourier transform hologram layer having a transmission Fourier transform hologram region having a patterned light transmission portion 2b (FIG. 1(B)), wherein the transmission Fourier transform hologram region is and a region for converting light incident from a point light source and transmitted through the patterned light transmitting portion into a first light image.

本開示におけるホログラム積層体の製造方法によれば、レーザー加工用積層体を製造し、その後、レーザー照射によって透過型フーリエ変換ホログラム領域を形成するため、可変情報を付与することが可能であり、セキュリティ性が高く、偽造防止の付加価値を上げることが可能となる。特に、レーザー加工用積層体を、支持体に転写または埋め込めこみ、例えばカードとした後に、レーザー照射することにより、後から可変情報を付与することが可能となる。 According to the method for producing a hologram laminate in the present disclosure, a laminate for laser processing is produced, and then a transmission type Fourier transform hologram region is formed by laser irradiation, so variable information can be given, and security can be achieved. It is possible to increase the added value of anti-counterfeiting. In particular, variable information can be imparted afterward by transferring or embedding the laminate for laser processing into a support, for example, as a card, and then irradiating it with a laser.

図2は、本開示におけるホログラム積層体を説明するための説明図である。図2(A)に示すように、本開示におけるホログラム積層体100における透過型フーリエ変換ホログラム領域は、所定の絵柄が描画された原画像をフーリエ変換することで、フーリエ変換像が記録された領域である。観察者21とは反対側に配置された点光源22から入射した光を、透過型フーリエ変換ホログラム層2の遮光部2aにより遮光させて、透明な酸化膜層であるパターン状の光透過部2bを透過した光を、図2(B)に示すような光像Iaへ変換することができる。 FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining the hologram laminate in the present disclosure. As shown in FIG. 2A, the transmission Fourier transform hologram region in the hologram laminate 100 according to the present disclosure is a region in which a Fourier transform image is recorded by Fourier transforming an original image in which a predetermined pattern is drawn. is. Light incident from a point light source 22 arranged on the opposite side of the observer 21 is blocked by the light shielding portion 2a of the transmission Fourier transform hologram layer 2 to form a patterned light transmission portion 2b which is a transparent oxide film layer. can be converted into an optical image Ia as shown in FIG. 2(B).

本開示における「透過型フーリエ変換ホログラム層」は、金属薄膜からなる遮光部およびレーザー照射によって形成された透明な酸化薄膜からなる光透過部を有する透過型フーリエ変換ホログラム領域を有する層である。
このような透過型フーリエ変換ホログラム層は、表面凹凸構造により所望の光像へ変換する層(表面位相型の透過型フーリエ変換ホログラム層)とは異なり、光透過部および遮光部の透過率分布により所望の光像へ変換する透過型フーリエ変換ホログラム領域を有する層である。
A “transmission Fourier transform hologram layer” in the present disclosure is a layer having a transmission Fourier transform hologram region having a light shielding portion made of a metal thin film and a light transmitting portion made of a transparent oxide thin film formed by laser irradiation.
Such a transmission Fourier transform hologram layer is different from a layer (surface phase type transmission Fourier transform hologram layer) that converts a desired optical image by a surface uneven structure. It is a layer having a transmission type Fourier transform hologram region that transforms into a desired optical image.

1.レーザー加工用積層体製造工程
本工程は、少なくとも、透明基材と、透明基材の一方の面側に形成された金属薄膜とを有するレーザー加工用積層体を製造する工程である。以下、このような本工程について詳細に説明する。
1. Step of Manufacturing Laminate for Laser Processing This step is a step of manufacturing a laminate for laser processing having at least a transparent base material and a metal thin film formed on one side of the transparent base material. This step will be described in detail below.

(1)透明基材
まず、本工程に用いられる透明基材について説明する。本開示における透明基材は、可視光透過率が80%以上であることが好ましく、中でも90%以上であることが好ましい。透明基材の可視光透過率が上記範囲内であることにより、ホログラム積層体の透明基材が配置された側とは反対側から光を照射したときには、透過型フーリエ変換ホログラム領域により変換された光像を、透明基材を介して表示することができる。
なお、透明基材の可視光透過率については、例えば、JIS K7361-1に準拠したプラスチック-透明基材の全光透過率の試験方法により測定することができる。
(1) Transparent substrate First, the transparent substrate used in this step will be described. The transparent base material in the present disclosure preferably has a visible light transmittance of 80% or more, more preferably 90% or more. Since the visible light transmittance of the transparent substrate is within the above range, when light is irradiated from the opposite side of the hologram laminate to the side where the transparent substrate is arranged, the light is converted by the transmission type Fourier transform hologram area. A light image can be displayed through a transparent substrate.
The visible light transmittance of the transparent substrate can be measured, for example, by a test method for total light transmittance of plastic-transparent substrate conforming to JIS K7361-1.

本開示における透明基材は、ヘイズ値が比較的低いことが好ましい。具体的な透明基材のヘイズ値としては、例えば、0.01%以上5%以下の範囲内であることが好ましく、中でも0.01%以上3%以下の範囲内であることが好ましく、特に、0.01%以上1.5%以下の範囲内であることが好ましい。透明基材のヘイズ値が上記範囲内であることにより、透明基材を介して光像を、良好に表示することができる。
なお、透明基材のヘイズ値については、例えば、JIS K 7136に準拠して測定することができる。
The transparent substrate in the present disclosure preferably has a relatively low haze value. As a specific haze value of the transparent substrate, for example, it is preferably in the range of 0.01% or more and 5% or less, and more preferably in the range of 0.01% or more and 3% or less. , 0.01% or more and 1.5% or less. When the haze value of the transparent substrate is within the above range, an optical image can be satisfactorily displayed through the transparent substrate.
The haze value of the transparent substrate can be measured according to JIS K 7136, for example.

本開示における透明基材の材料としては、上述したような所定の可視光透過率およびヘイズ値を有する材料を選択することが好ましい。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリルスチレン樹脂等の樹脂フィルム、石英ガラス、パイレックス( 登録商標)、合成石英板等のガラスが挙げられる。本開示においては、軽量かつ破損等の危険性が低いという観点から、樹脂フィルムを用いることが好ましく、特に汎用性等の観点からポリエチレンテレフタレートを選択することがより好ましい。 As the material for the transparent substrate in the present disclosure, it is preferable to select a material having a predetermined visible light transmittance and haze value as described above. Specific examples include resin films such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic resin, cycloolefin resin, polyester resin, polystyrene resin, and acrylic styrene resin, and glass such as quartz glass, Pyrex (registered trademark), and synthetic quartz plate. In the present disclosure, it is preferable to use a resin film from the viewpoint of light weight and low risk of breakage, etc., and it is more preferable to select polyethylene terephthalate from the viewpoint of versatility.

本開示における透明基材は、紫外線吸収剤、熱線吸収剤等を含んでいても良い。ホログラム積層体に紫外線および熱線等が当たることにより、ホログラム層が劣化することを抑制することできる。 The transparent substrate in the present disclosure may contain ultraviolet absorbers, heat absorbers, and the like. It is possible to suppress deterioration of the hologram layer due to exposure of the hologram laminate to ultraviolet rays, heat rays, and the like.

本開示における透明基材の厚みは、ホログラム層を支持することができる程度の剛性および強度を有することができる程度の厚みであることが好ましい。透明基材の厚みは、例えば、5μm以上1mm以下の範囲内であることが好ましく、中でも5μm以上200μm以下の範囲内であることが好ましい。また、透明基材の形状については、本開示のホログラム積層体の使用形態等に応じて適宜変更することができる。
具体的には、図1等に示すように両方の面が平面であってもよいし、片方の面に凹凸構造が形成されたホログラム層であってもよい。
The thickness of the transparent substrate in the present disclosure is preferably such that it has sufficient rigidity and strength to support the hologram layer. The thickness of the transparent substrate is, for example, preferably in the range of 5 μm or more and 1 mm or less, and more preferably in the range of 5 μm or more and 200 μm or less. Further, the shape of the transparent base material can be appropriately changed according to the usage pattern of the hologram laminate of the present disclosure.
Specifically, both surfaces may be flat as shown in FIG. 1 and the like, or a hologram layer having an uneven structure formed on one surface may be used.

本開示における透明基材は、他の部材との密着性を向上させるために、表面処理を施し
ても良い。透明基材への表面処理としては、例えば、コロナ処理が挙げられる。
The transparent substrate in the present disclosure may be subjected to surface treatment in order to improve adhesion with other members. Examples of the surface treatment of the transparent substrate include corona treatment.

(2)金属薄膜
次に、透明基材の一方の面側に形成する金属薄膜について説明する。金属薄膜の材料としては、点光源から入射した光を遮光することができる金属材料であり、かつ、レーザー照射によって酸化し、透明な酸化物層に変質することが可能な金属材料であれば特に限定されるものではない。例えば、アルミニウム、亜鉛、インジウム、錫、チタン等が挙げられる。中でも、アルミニウムが好ましい。金属薄膜は、後述するように、エンボスホログラム領域や反射型フーリエ変換ホログラム領域の凹凸構造側の面に配置される反射層として機能することが好ましい。
(2) Metal thin film Next, the metal thin film formed on one side of the transparent substrate will be described. The material of the metal thin film is particularly a metal material that can block light incident from a point light source and that can be oxidized by laser irradiation and transformed into a transparent oxide layer. It is not limited. Examples include aluminum, zinc, indium, tin, and titanium. Among them, aluminum is preferable. As will be described later, the metal thin film preferably functions as a reflective layer arranged on the uneven structure side of the embossed hologram area and the reflection type Fourier transform hologram area.

金属薄膜の厚さとしては、例えば、10nm以上2μm以下であることが好ましく、20nm以上100nm以下が更に好ましい。金属薄膜の厚さが薄すぎると、金属薄膜の材料によっては金属薄膜の遮光部における特定波長の分光透過率が高くなり、点光源から入射した光を十分に遮光することができない場合がある。また、金属薄膜の厚さが厚すぎると、光透過部の形成が困難になる可能性がある。 The thickness of the metal thin film is, for example, preferably 10 nm or more and 2 μm or less, more preferably 20 nm or more and 100 nm or less. If the thickness of the metal thin film is too thin, depending on the material of the metal thin film, the spectral transmittance of the light shielding portion of the metal thin film may increase at a specific wavelength, and the light incident from the point light source may not be sufficiently shielded. Also, if the thickness of the metal thin film is too thick, it may become difficult to form the light transmitting portion.

透明基材の一方の面側に金属薄膜を形成する方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法等が挙げられる。薄膜は、色調、デザイン、用途等に応じて適切な条件を設定すればよい。 Methods for forming a metal thin film on one side of the transparent substrate include, for example, a vacuum deposition method and a sputtering method. Appropriate conditions for the thin film may be set according to the color tone, design, application, and the like.

(3)レーザー加工用積層体
レーザー加工用積層体は、次工程の透過型フーリエ変換ホログラム層形成工程においてレーザーの被照射体となる。レーザー加工用積層体は、そのまま次工程に供されてもよいが、後述する第1支持体に転写して転写体として、または、第1支持体および第2支持体の間に埋め込まれた埋め込み体として、次工程に供されてもよい。
(3) Layered product for laser processing The layered product for laser processing becomes an object to be irradiated with a laser in the next step of forming a transmission Fourier transform hologram layer. The laminate for laser processing may be subjected to the next step as it is, but may be transferred to a first support to be described later as a transfer body, or may be embedded between the first support and the second support. It may be supplied to the next step as a body.

本工程においては、レーザー加工用積層体として、少なくとも上記透明基材と上記透明基材の片方の面側に配置された金属薄膜とを有する積層体を製造するが、上記透明基材が、種々の機能を有する層を含むものとして製造してもよい。 In this step, a laminate having at least the transparent substrate and a metal thin film disposed on one side of the transparent substrate is produced as a laminate for laser processing. You may manufacture as what contains the layer which has the function of.

(a)反射型エンボスホログラム領域
本工程において製造するレーザー加工用積層体は、上記透明基材の片方の表面に形成された反射型エンボスホログラム用凹凸構造と、上記反射型エンボスホログラム用凹凸構造側の表面に配置された金属薄膜と、を有することにより、反射型エンボスホログラムとして機能する反射型エンボスホログラム領域を有するものであってもよい。
(a) Reflective embossed hologram region The laminate for laser processing manufactured in this step includes the uneven structure for the reflective embossed hologram formed on one surface of the transparent substrate and the uneven structure for the reflective embossed hologram formed on one surface of the transparent substrate. and a metal thin film disposed on the surface of the reflective embossed hologram region that functions as a reflective embossed hologram.

この場合における本工程の具体的方法としては、図3に示すように、透明基材1上に反射型エンボスホログラム用凹凸構造3(以下、単に凹凸構造3とする場合がある。)を形成し(図3(A))、凹凸構造3の表面に金属薄膜2´を形成することにより反射型エンボスホログラム領域とする(図3(B))。反射型エンボスホログラム領域については、後述する「B.ホログラム積層体 2.他のホログラム領域 (1)反射型エンボスホログラム領域」で説明する。
なお、本開示においては、上記反射型エンボスホログラム用凹凸構造と透明基材とが一体として形成されたものであってもよい。
As a specific method of this step in this case, as shown in FIG. (FIG. 3(A)), and a reflective embossed hologram area is formed by forming a metal thin film 2' on the surface of the uneven structure 3 (FIG. 3(B)). The reflective embossed hologram area will be described later in "B. Hologram laminate 2. Other hologram areas (1) Reflective embossed hologram area".
In the present disclosure, the concave-convex structure for a reflective embossed hologram and the transparent substrate may be integrally formed.

(b)反射型フーリエ変換ホログラム領域
本工程において製造するレーザー加工用積層体は、上記透明基材の片方の表面に形成された反射型フーリエ変換ホログラム用凹凸構造と、上記反射型フーリエ変換ホログラム用凹凸構造側の表面に配置された金属薄膜と、を有することにより、反射型フーリエ変換ホログラムとして機能する反射型フーリエ変換ホログラム領域を有していてもよい。
(b) Reflective Fourier transform hologram region The laminate for laser processing manufactured in this step includes a concave-convex structure for a reflective Fourier transform hologram formed on one surface of the transparent base material, and the uneven structure for a reflective Fourier transform hologram. and a metal thin film arranged on the surface on the side of the uneven structure to have a reflective Fourier transform hologram region that functions as a reflective Fourier transform hologram.

この場合における本工程の具体的方法としては、図4に示すように、透明基材1上に反射型フーリエ変換ホログラム用凹凸構造4(以下、単に凹凸構造4とする場合がある。)を形成し(図4(A))、上記凹凸構造4上に金属薄膜2´を形成することにより反射型フーリエ変換ホログラムとすることができる(図4(B))。反射型フーリエ変換ホログラム領域については、後述する「B.ホログラム積層体 2.他のホログラム層 (2)反射型フーリエ変換ホログラム領域」で説明する。 As a specific method of this step in this case, as shown in FIG. (FIG. 4(A)), and by forming a metal thin film 2' on the concave-convex structure 4, a reflection type Fourier transform hologram can be obtained (FIG. 4(B)). The reflective Fourier transform hologram area will be described later in "B. Hologram laminate 2. Other hologram layers (2) Reflective Fourier transform hologram area".

(c)第1接着層及び第2接着層
本工程において製造するレーザー加工用積層体は、図5(A)に示すように、金属薄膜2´の透明基材1側とは反対側に、第1接着層5aを有する積層体10Aであってもよい。即ち、積層体10Aは、透明基材1、金属薄膜2´、第1接着層5aをこの順に有する。このような積層体10Aは、後述する第1支持体に転写するための転写用積層体として用いることができる。なお、図5(A)においては、金属薄膜2´と第1接着層5aとの間に、プライマー層6が形成されている。
(c) First Adhesive Layer and Second Adhesive Layer As shown in FIG. The laminated body 10A having the first adhesive layer 5a may be used. That is, the laminate 10A has the transparent substrate 1, the metal thin film 2', and the first adhesive layer 5a in this order. Such a layered product 10A can be used as a transfer layered product for transferring to a first support which will be described later. In addition, in FIG. 5A, a primer layer 6 is formed between the metal thin film 2' and the first adhesive layer 5a.

また、レーザー加工用積層体は、図3(C1)に示すように、透明基材1、反射型エンボスホログラム用凹凸構造3、金属薄膜2’、第1接着層5aをこの順に有する積層体10Aであってもよい。 Further, as shown in FIG. 3C1, the laminate for laser processing is a laminate 10A having a transparent substrate 1, a reflective embossed hologram concavo-convex structure 3, a metal thin film 2', and a first adhesive layer 5a in this order. may be

また、レーザー加工用積層体は、図4(C1)に示すように、透明基材1、反射型フーリエ変換ホログラム用凹凸構造4、金属薄膜2’、および第1接着層5aをこの順に有する積層体10Aであってもよい。 Further, as shown in FIG. 4C1, the laminate for laser processing is a laminate having a transparent base material 1, a concave-convex structure 4 for a reflective Fourier transform hologram, a metal thin film 2', and a first adhesive layer 5a in this order. It may be the body 10A.

また、図5(B)に示すように、レーザー加工用積層体10は上記第1接着層5aに加え、透明基材1の金属薄膜2´側とは反対側に、第2接着層5bを有する積層体10Bであってもよい。即ち、積層体10Bは、第2接着層5b、透明基材1、金属薄膜2´、第1接着層5aをこの順に有する。このような積層体10Bは、後述する第1支持体と後述する第二支持体との間に埋め込むための埋め込み用積層体として用いることができる。なお、第2支持体の種類によっては、レーザー加工用積層体の透明基材との密着性に優れる場合には、第2接着層を配置する必要はない。 As shown in FIG. 5(B), in addition to the first adhesive layer 5a, the laser processing laminate 10 has a second adhesive layer 5b on the opposite side of the transparent substrate 1 to the metal thin film 2' side. The laminated body 10B may have. That is, the laminate 10B has the second adhesive layer 5b, the transparent substrate 1, the metal thin film 2', and the first adhesive layer 5a in this order. Such a laminate 10B can be used as an embedding laminate to be embedded between a first supporter described later and a second supporter described later. Depending on the type of the second support, the second adhesive layer need not be provided when the laminate for laser processing has excellent adhesion to the transparent substrate.

また、レーザー加工用積層体は、図3(C2)に示すように、第2接着層5b、透明基材1、反射型エンボスホログラム用凹凸構造3、金属薄膜2’、第1接着層5aをこの順に有する積層体10Bであってもよい。 Further, as shown in FIG. 3C2, the laminate for laser processing includes a second adhesive layer 5b, a transparent substrate 1, a reflective embossed hologram concavo-convex structure 3, a metal thin film 2', and a first adhesive layer 5a. The laminated body 10B may be arranged in this order.

また、レーザー加工用積層体は、図4(C2)に示すように、第2接着層5b、透明基材1、反射型フーリエ変換ホログラム用凹凸構造4、金属薄膜2’、および第1接着層5aをこの順に有する積層体10Bであってもよい。 Further, as shown in FIG. 4C2, the laminate for laser processing includes a second adhesive layer 5b, a transparent substrate 1, a concave-convex structure 4 for a reflective Fourier transform hologram, a metal thin film 2', and a first adhesive layer. A laminate 10B having 5a in this order may be used.

(d)その他の層
本工程におけるレーザー加工用積層体の他の層としては、特に限定されるものではなく、本実施態様のホログラム積層体の用途や製造方法に応じて所望の機能を有する構成を用いることができる。任意の構成としては、例えば、支持体、基材、保護層、接着層、プライマー層、レーザー発色層、透明反射層、ハードコート層、帯電防止層、印刷層、インキ受容層、離型層、着色層、セパレータ等が挙げられる。
(d) Other layers The other layers of the laminate for laser processing in this step are not particularly limited, and are configured to have desired functions according to the application and manufacturing method of the hologram laminate of this embodiment. can be used. Optional structures include, for example, a support, a base material, a protective layer, an adhesive layer, a primer layer, a laser coloring layer, a transparent reflective layer, a hard coat layer, an antistatic layer, a printing layer, an ink receiving layer, a release layer, A colored layer, a separator, and the like are included.

(e)転写用積層体及び埋め込み用積層体
上述したように、表面に第1接着層5aを有する積層体10Aは、転写用積層体として用いることができる。この場合には、本工程においてレーザー加工用積層体10Aを製造後(図6(A))、後述する第1支持体7aに、積層体10Aを第1接着層5aによって接着させて転写し、レーザー加工用転写体50とする(図6(B))。その後、次工程に供する(図6(C))。
(e) Laminate for Transfer and Laminate for Embedding As described above, the laminate 10A having the first adhesive layer 5a on its surface can be used as a laminate for transfer. In this case, after the laminate 10A for laser processing is manufactured in this step (FIG. 6A), the laminate 10A is adhered to the first support 7a described later with the first adhesive layer 5a and transferred, A transfer member 50 for laser processing is obtained (FIG. 6(B)). After that, it is subjected to the next step (FIG. 6(C)).

図6(B)に示すように、レーザー加工用転写体50は、第1支持体7aと、上記転写用積層体10Aと、を有する。具体的には、レーザー加工用転写体50は、第1支持体7aと、第1接着層5aと、金属薄膜2´と、透明基材1と、をこの順に有する。 As shown in FIG. 6B, the laser processing transfer body 50 has a first support 7a and the transfer layered body 10A. Specifically, the laser processing transfer body 50 has a first support 7a, a first adhesive layer 5a, a metal thin film 2', and a transparent substrate 1 in this order.

また、第1接着層5aおよび第2接着層5bを有する積層体10Bは、埋め込み用積層体として用いることができる。この場合には、本工程においてレーザー加工用積層体10Bを製造後(図7(A))、上記レーザー加工用積層体10Bの第1接着層5a側を第1支持体7a側として、レーザー加工用積層体10Bの第2接着層5b側を第2支持体7b側として、上記レーザー加工用積層体10Bを、第1支持体7aと第2支持体7bとの間に埋め込み、レーザー加工用埋め込み体51とする(図7(B))。その後、次工程に供する(図7(C))。 Moreover, the laminate 10B having the first adhesive layer 5a and the second adhesive layer 5b can be used as an embedding laminate. In this case, after the laminate for laser processing 10B is produced in this step (FIG. 7A), laser processing is performed with the first adhesive layer 5a side of the laminate for laser processing 10B as the side of the first support 7a. With the second adhesive layer 5b side of the laminate for laser processing 10B facing the second support 7b, the laminate for laser processing 10B is embedded between the first support 7a and the second support 7b. Let it be the body 51 (FIG. 7(B)). After that, it is subjected to the next step (FIG. 7(C)).

図7(B)に示すように、レーザー加工用埋め込み体51は、第1支持体7aと、上記埋め込み用積層体10Bと、第2支持体7bと、を有する。具体的には、埋め込み体51は、第1支持体7aと、第1接着層5aと、金属薄膜2´と、透明基材1と、第2接着層5b、第2支持体7bをこの順に有する。 As shown in FIG. 7B, the laser processing embedding body 51 has a first support 7a, the embedding laminate 10B, and a second support 7b. Specifically, the embedding member 51 includes a first support 7a, a first adhesive layer 5a, a metal thin film 2', a transparent substrate 1, a second adhesive layer 5b, and a second support 7b in this order. have.

第1支持体及び第2支持体は、例えば、カードのベースになる部材であり、コアシートが挙げられる。コアシートとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、非晶質ポリエチレンテレフタレート(PET-G)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリカーボネート(PC)等の樹脂シートや、これらの樹脂シートの積層体が挙げられる。コアシートの外形は、カードの外形と同じである。 The first support and the second support are, for example, members that serve as the base of the card, and include core sheets. Examples of the core sheet include resin sheets such as polyethylene terephthalate (PET), amorphous polyethylene terephthalate (PET-G), polyvinyl chloride (PVC), polycarbonate (PC), and laminates of these resin sheets. be done. The outline of the core sheet is the same as the outline of the card.

2.透過型フーリエ変換ホログラム層形成工程
本工程は、図1(B)に示すように、レーザー加工用積層体の金属薄膜の一部領域に、パターン状にレーザー光Lを照射し、透明な酸化薄膜に改質することにより、金属薄膜からなる遮光部2aおよび透明な酸化薄膜からなるパターン状の光透過部2bを有する透過型フーリエ変換ホログラム領域を有する透過型フーリエ変換ホログラム層2を形成する工程である。
2. Transmission type Fourier transform hologram layer forming process In this process, as shown in FIG. In the step of forming a transmission Fourier transform hologram layer 2 having a transmission Fourier transform hologram region having a light shielding portion 2a made of a metal thin film and a patterned light transmission portion 2b made of a transparent oxide thin film, by modifying the be.

なお、図1では、金属薄膜2´に対して透明基材1側とは反対側からレーザー光Lを照射しているが、透明基材1側からレーザー光Lを照射してもよい。 In FIG. 1, the metal thin film 2' is irradiated with the laser beam L from the side opposite to the transparent substrate 1 side, but the laser beam L may be irradiated from the transparent substrate 1 side.

レーザー加工用積層体が、反射型エンボスホログラム領域を有する場合においては、図8(A)~(B)に示すように、反射型エンボスホログラム用凹凸構造3側に配置されている金属薄膜2′が、金属薄膜からなる遮光部2aおよび透明な酸化薄膜からなるパターン状の光透過部2bを有する透過型フーリエ変換ホログラム層2となる。この場合、透過型フーリエ変換ホログラム層2の透過型フーリエ変換ホログラム領域では、反射型エンボスホログラムの機能を有する部分(2a、3)と、透過型フーリエ変換ホログラムの機能を有する部分(2b)とが混在している状態で存在するホログラム積層体となる。 When the laminate for laser processing has a reflective embossed hologram region, as shown in FIGS. becomes a transmission type Fourier transform hologram layer 2 having a light shielding portion 2a made of a metal thin film and a patterned light transmission portion 2b made of a transparent oxide thin film. In this case, in the transmission Fourier transform hologram region of the transmission Fourier transform hologram layer 2, the portions (2a, 3) having the function of the reflection embossed hologram and the portion (2b) having the function of the transmission Fourier transform hologram are provided. A hologram laminate that exists in a mixed state is obtained.

レーザー加工用積層体が、凹凸構造を有する反射型フーリエ変換ホログラム領域を有する場合においては、図9(A)~(B)に示すように、反射型フーリエ変換ホログラム用凹凸構造4側に配置されている金属薄膜2′が、金属薄膜からなる遮光部2aおよび透明な酸化薄膜からなるパターン状の光透過部2bを有する透過型フーリエ変換ホログラム層2となる。この場合、透過型フーリエ変換ホログラム層2の透過型フーリエ変換ホログラム領域では、反射型フーリエ変換ホログラムの機能を有する部分(2a、4)と、透過型フーリエ変換ホログラムの機能を有する部分(2b)とが混在している状態で存在するホログラム積層体となる。 When the laminate for laser processing has a reflective Fourier transform hologram region having an uneven structure, as shown in FIGS. The metal thin film 2' becomes a transmission type Fourier transform hologram layer 2 having a light shielding portion 2a made of the metal thin film and a patterned light transmission portion 2b made of a transparent oxide thin film. In this case, in the transmission Fourier transform hologram region of the transmission Fourier transform hologram layer 2, there are a portion (2a, 4) having a function of a reflection Fourier transform hologram and a portion (2b) having a function of a transmission Fourier transform hologram. It becomes a hologram laminate that exists in a mixed state.

透過型フーリエ変換ホログラム領域を得る方法としては、点光源からの光を透過させた際に所望の光像を表示することができるように、パターン状に遮光部および光透過部を配置するように、レーザー照射を行う。可変的なパターン形成を行うことができるため、偽造防止性が高く意匠性に優れたホログラム積層体を形成することができる。
レーザー照射により金属薄膜に透明な酸化薄膜からなる光透過部を形成する条件としては、使用するレーザーが金属と反応してマーキング可能なレーザーであることが挙げられる。例えば、YAGレーザー、YVOレーザー、ファイバーレーザー、グリーンレーザー、UVレーザーなどが挙げられる。
As a method for obtaining a transmission type Fourier transform hologram region, a light shielding portion and a light transmission portion are arranged in a pattern so that a desired optical image can be displayed when light from a point light source is transmitted. , perform laser irradiation. Since variable pattern formation can be performed, it is possible to form a hologram laminate having high anti-counterfeiting properties and excellent design.
As a condition for forming a light-transmitting portion made of a transparent oxide thin film on a metal thin film by laser irradiation, the laser used must be capable of marking by reacting with the metal. Examples include YAG laser, YVO laser, fiber laser, green laser, and UV laser.

(1)透過型フーリエ変換ホログラム領域
本開示における透過型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光を、透過型フーリエ変換ホログラム層の遮光部により遮光させて、透明な酸化膜層であるパターン状の光透過部を透過した光を、光像へ変換する領域である。すなわち、本開示における透過型フーリエ変換ホログラム領域は、フーリエ変換レンズとして機能する。なお、上記機能について、フーリエ変換レンズ機能と称して説明する場合がある。
(1) Transmission Fourier transform hologram region The transmission Fourier transform hologram region in the present disclosure is a pattern that is a transparent oxide film layer by blocking light incident from a point light source with a light blocking portion of the transmission Fourier transform hologram layer. It is an area that converts the light transmitted through the shaped light transmitting portion into a light image. That is, the transmission type Fourier transform hologram area in the present disclosure functions as a Fourier transform lens. Note that the above function may be referred to as a Fourier transform lens function and described.

本開示における透過型フーリエ変換ホログラム領域は、光像として表示される原画像のデータに基づいて多値化されたフーリエ変換像である。遮光部および光透過部は、通常、特定の方向に並列して延びる曲線状または直線状の多数のパターンから構成される。 A transmission type Fourier transform hologram area in the present disclosure is a Fourier transform image that is multi-valued based on data of an original image displayed as an optical image. The light-shielding portion and the light-transmitting portion are generally composed of a large number of curved or linear patterns extending in parallel in a specific direction.

なお、透過型フーリエ変換ホログラム領域の平面視サイズは、本開示のホログラム積層体の用途に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。透過型フーリエ変換ホログラム領域の具体的な平面視サイズは、例えば、5mm角以上50mm角以下の範囲内であることが好ましく、中でも5mm角以上30mm角以下の範囲内であることが好ましく、特に5mm角以上15mm角以下の範囲内であることが好ましい。透過型フーリエ変換ホログラム領域の平面視サイズが上記下限であることにより、透過型フーリエ変換ホログラム領域により変換される光像が視認しやすくなる。また、透過型フーリエ変換ホログラム領域により偽造防止性を向上させ、優れた意匠性を得ることができる。一方、透過型フーリエ変換ホログラム領域の平面視サイズが上記上限であることにより、本開示のホログラム積層体を低コストで製造することができる。また、透過型フーリエ変換ホログラム領域により変換される光像に、所定の画像を組み合わせて表示するための印刷層を容易に形成することができる。 The planar view size of the transmission Fourier transform hologram region is not particularly limited and can be appropriately adjusted according to the application of the hologram laminate of the present disclosure. A specific planar view size of the transmission Fourier transform hologram region is, for example, preferably within the range of 5 mm square or more and 50 mm square or less, more preferably within the range of 5 mm square or more and 30 mm square or less, particularly 5 mm. It is preferably within the range of 15 mm square or less. When the planar view size of the transmission Fourier transform hologram area is the above lower limit, the optical image converted by the transmission Fourier transform hologram area becomes easier to visually recognize. In addition, the transmissive Fourier transform hologram region can improve anti-counterfeiting properties and provide excellent design. On the other hand, the planar view size of the transmission type Fourier transform hologram area is the above upper limit, so that the hologram laminate of the present disclosure can be manufactured at low cost. In addition, it is possible to easily form a print layer for displaying a combination of a predetermined image with the optical image converted by the transmission type Fourier transform hologram area.

ここで、透過型フーリエ変換ホログラム領域の平面視サイズが5mm角以上であるとは、透過型フーリエ変換ホログラム領域が、5mm角の正方形の範囲を少なくとも含む平面視形状であることをいう。したがって、例えば、透過型フーリエ変換ホログラム領域が長方形である場合には、その短辺の長さが5mm以上であることをいい、一方、透過型フーリエ変換ホログラム領域が正方形である場合には、その1辺の長さが5mm以上であることをいう。 Here, the plane-view size of the transmission Fourier transform hologram region is 5 mm square or more means that the plane view size of the transmission Fourier transform hologram region includes at least a 5 mm square area. Therefore, for example, when the transmission Fourier transform hologram area is rectangular, it means that the short side has a length of 5 mm or more. It means that the length of one side is 5 mm or more.

本開示において、透過型フーリエ変換ホログラム領域の平面視形状は、本開示のホログラム積層体の用途等に応じて、任意の形状を適宜選択することができる。例えば、正方形、長方形等の矩形状、台形状、三角形状、五角形状、六角形状等の多角形状、円形状、楕円形状、星型形状、ハート型形状等が挙げられるが、容易に形成することができるといった観点から、矩形状であることが好ましい。 In the present disclosure, the planar view shape of the transmission Fourier transform hologram region can be appropriately selected as an arbitrary shape according to the application of the hologram laminate of the present disclosure. Examples include rectangular shapes such as squares and rectangles, polygonal shapes such as trapezoidal shapes, triangular shapes, pentagonal shapes, and hexagonal shapes, circular shapes, elliptical shapes, star shapes, and heart shapes. A rectangular shape is preferable from the viewpoint that it is possible to

(2)遮光部
本開示における透過型フーリエ変換領域は、金属薄膜からなる遮光部と、透明な酸化薄膜からなる光透過部とを有する。上記遮光部は、金属薄膜からなる。金属薄膜としては、「1.レーザー加工用積層体製造工程 (2)金属薄膜」に記載したため、ここでの説明は省略する。
(2) Light shielding part The transmission type Fourier transform region in the present disclosure has a light shielding part made of a metal thin film and a light transmission part made of a transparent oxide thin film. The light shielding portion is made of a metal thin film. The metal thin film has been described in "1. Laminate production process for laser processing (2) Metal thin film", so the description is omitted here.

透過型フーリエ変換ホログラム領域における遮光部は、点光源から入射した光をパターン状に遮光するという機能を有する。本開示においては、点光源から入射した光を、透過型フーリエ変換ホログラム層によりパターン状に遮光させて、光像へ変換する。ここで、「遮蔽する」とは、点光源から入射した光を完全に遮蔽する場合だけでなく、光像へ変換することができる程度に光を遮蔽する場合も含む。 The light shielding portion in the transmission Fourier transform hologram region has a function of pattern-wise shielding the light incident from the point light source. In the present disclosure, light incident from a point light source is blocked by a transmission Fourier transform hologram layer in a pattern and converted into a light image. Here, "shielding" includes not only the case of completely shielding the light incident from the point light source, but also the case of shielding the light to the extent that it can be converted into an optical image.

具体的には、遮光部における特定波長の分光透過率が、60%以下であることが好ましく、中でも40%以下であることが好ましく、特に10%以下であることが好ましい。 Specifically, the spectral transmittance of a specific wavelength in the light shielding portion is preferably 60% or less, more preferably 40% or less, and particularly preferably 10% or less.

ここで、特定波長は、透過型フーリエ変換ホログラム層の再生波長であり、可視光領域の一部の波長である。 Here, the specific wavelength is a reproduction wavelength of the transmission type Fourier transform hologram layer, and is a wavelength in a part of the visible light region.

なお、遮光部における特定波長の分光透過率とは、ホログラム積層体において、遮光部が配置されている領域での特定波長の分光透過率をいう。例えば、透明基材と透過型フーリエ変換ホログラム層とを有するホログラム積層体において、遮光部が配置されている領域での特定波長の分光透過率である。 The spectral transmittance of the specific wavelength in the light shielding portion means the spectral transmittance of the specific wavelength in the region where the light shielding portion is arranged in the hologram laminate. For example, in a hologram laminate having a transparent substrate and a transmission type Fourier transform hologram layer, it is the spectral transmittance of a specific wavelength in the region where the light shielding portion is arranged.

(3)光透過部
光透過部は、透明な酸化薄膜からなり、光を透過する。酸化薄膜の存在は、X線光電子分光法やエネルギー分散型蛍光X線分析装置において、酸化物(例えば、Al)が検出されることによって確認することができる。例えば、光透過部における酸化物(例えばAl)の割合は、80%以上であり、90%以上であってもよい。一方、未酸化の金属(例えば金属Al)の割合は、20%以下であり、10%以下であってもよい。
(3) Light-transmitting portion The light-transmitting portion is made of a transparent oxide thin film and transmits light. The presence of an oxide thin film can be confirmed by detecting an oxide (for example, Al 2 O 3 ) in an X-ray photoelectron spectroscopy or an energy dispersive X-ray fluorescence spectrometer. For example, the proportion of oxide (for example, Al 2 O 3 ) in the light transmitting portion is 80% or more, and may be 90% or more. On the other hand, the proportion of unoxidized metal (for example, metal Al) is 20% or less, and may be 10% or less.

透過型フーリエ変換ホログラム層の光透過部において、特定波長の分光透過率は、例えば、80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましく、95%以上であることがさらに好ましい。光透過部における特定波長の分光透過率が上記範囲であることにより、透過型フーリエ変換ホログラム層による再生像を観察しやすくすることができる。 In the light transmission portion of the transmission Fourier transform hologram layer, the spectral transmittance of the specific wavelength is, for example, preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and even more preferably 95% or more. . When the spectral transmittance of the specific wavelength in the light transmitting portion is within the above range, it is possible to facilitate observation of the reproduced image by the transmission type Fourier transform hologram layer.

なお、透過型フーリエ変換ホログラム層の光透過部における特定波長の分光透過率とは、透過型フーリエ変換ホログラム層の光透過部が配置されている領域での特定波長の分光透過率をいう。例えば、透明基材と透過型フーリエ変換ホログラム層とを有するホログラム積層体において、光透過部が配置されている領域での特定波長の分光透過率である。 The spectral transmittance of the specific wavelength in the light transmitting portion of the transmission Fourier transform hologram layer refers to the spectral transmittance of the specific wavelength in the region where the light transmitting portion of the transmission Fourier transform hologram layer is arranged. For example, in a hologram laminate having a transparent base material and a transmission type Fourier transform hologram layer, it is the spectral transmittance of a specific wavelength in the region where the light transmitting portion is arranged.

(4)第1光像
本開示における透過型フーリエ変換ホログラム領域により表示される光像は、例えば、文字、図形、記号、またはこれらの組み合わせ等が挙げられる。なお、図形には、例えば、多角形、円形、楕円形、星形等の単純な図形の他に、ストライプ、格子、絵柄、バーコード、二次元コード等も含まれる。
(4) First Optical Image The optical image displayed by the transmission Fourier transform hologram area in the present disclosure includes, for example, characters, figures, symbols, or combinations thereof. In addition to simple graphics such as polygons, circles, ellipses, and stars, the graphics include stripes, grids, patterns, bar codes, two-dimensional codes, and the like.

特に、氏名、ID、シリアル番号、バーコード、二次元コード等の可変情報をホログラム積層体毎に付与することができ、ホログラム積層体をバリアブルな情報記録媒体として用いることができる。 In particular, variable information such as name, ID, serial number, bar code, two-dimensional code, etc. can be given to each hologram laminate, and the hologram laminate can be used as a variable information recording medium.

(5)その他
本開示において、透過型フーリエ変換ホログラム領域に光を照射する点光源としては、例えば、スマートフォン端末のライト等を挙げることができる。
(5) Others In the present disclosure, as a point light source that irradiates the transmission Fourier transform hologram area with light, for example, a light of a smartphone terminal can be used.

点光源の波長は特に限定されず、透過型フーリエ変換ホログラム領域がフーリエ変換レンズ機能を良好に発揮できることが好ましい。具体的には、可視光を含む光を用いることができる。本開示においては、点光源の波長が、一波長の単色光であっても良く、多波長を含む光であっても良く、さらには白色光であっても良い。 The wavelength of the point light source is not particularly limited, and it is preferable that the transmission type Fourier transform hologram region can satisfactorily exhibit the Fourier transform lens function. Specifically, light including visible light can be used. In the present disclosure, the wavelength of the point light source may be monochromatic light with one wavelength, light including multiple wavelengths, or white light.

3.ホログラム積層体
本開示において製造されるホログラム積層体は、後述の「B.ホログラム積層体」で説明する。
3. Hologram Laminate The hologram laminate produced in the present disclosure will be described in "B. Hologram Laminate" below.

B.ホログラム積層体
図2は、本開示のホログラム積層体の概略断面図および得られる構造を説明するための説明図である。本開示のホログラム積層体100は、透明基材1と、上記透明基材1の一方の面側に配置され、金属薄膜からなる遮光部2aおよび透明な酸化薄膜からなるパターン状の光透過部2bを具備する透過型フーリエ変換ホログラム層2を有することを特徴とする。
B. Hologram Laminate FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining a schematic cross-sectional view of the hologram laminate of the present disclosure and the resulting structure. The hologram laminate 100 of the present disclosure includes a transparent substrate 1, and a light shielding portion 2a made of a metal thin film and a patterned light transmission portion 2b made of a transparent oxide thin film, which are arranged on one side of the transparent substrate 1. It is characterized by having a transmission type Fourier transform hologram layer 2 having a

このようなホログラム積層体であれば、偽造防止効果および意匠性に優れ、可変情報の付与も可能なホログラム積層体となる。例えば氏名、ID、シリアル番号、バーコード、二次元コード等の可変情報をホログラム積層体毎に付与することができ、ホログラム積層体をバリアブルな情報記録媒体として用いることができる。 With such a hologram laminate, the hologram laminate is excellent in anti-counterfeiting effect and designability, and capable of imparting variable information. For example, variable information such as name, ID, serial number, bar code, two-dimensional code, etc. can be given to each hologram laminate, and the hologram laminate can be used as a variable information recording medium.

1.透過型フーリエ変換ホログラム領域
本開示におけるホログラム積層体が有する透過型フーリエ変換ホログラム領域は、上記「A.ホログラム積層体の製造方法 2.透過型フーリエ変換ホログラム層形成工程」で詳述したため、ここでの説明は省略する。
1. Transmission Fourier Transform Hologram Area The transmission Fourier transform hologram area possessed by the hologram laminate in the present disclosure has been described in detail in the above "A. Hologram laminate manufacturing method 2. Transmission Fourier transform hologram layer forming step", so here is omitted.

2.他のホログラム領域
(1)反射型エンボスホログラム領域
本開示におけるホログラム積層体は、図10に示すように、透明基材1、反射型エンボスホログラム用凹凸構造3、および遮光部2aを有する反射型エンボスホログラム領域を有することが好ましい。
2. Other hologram regions (1) Reflective embossed hologram region As shown in FIG. 10, the hologram laminate in the present disclosure is a reflective embossed hologram having a transparent substrate 1, a reflective embossed hologram concavo-convex structure 3, and a light shielding portion 2a. It is preferred to have a hologram area.

このようなホログラム積層体100であれば、観察者21が正面から観察した際は、反射型エンボスホログラム領域の遮光部2aで反射され、第2光像Ibを確認することができる。 With such a hologram laminate 100, when the observer 21 observes it from the front, it is reflected by the light shielding portion 2a of the reflective embossed hologram area, and the second optical image Ib can be confirmed.

次に、観察者は、ホログラム積層体100の裏面側から点光源の光を入射させ、ホログラム積層体を正面から観察すると、透過型フーリエ変換ホログラム領域の透過部2bによりパターン状に透過され、変換された第1光像Iaを確認することができる(例えば、図2)。このように、所定の光像が確認できたことによって、観察者は、真偽を確認することができる。 Next, when an observer makes light from a point light source enter the hologram laminate 100 from the back side and observes the hologram laminate from the front, the light is transmitted in a pattern by the transmission portion 2b of the transmission type Fourier transform hologram region, and converted. The first optical image Ia thus obtained can be confirmed (eg, FIG. 2). By confirming the predetermined optical image in this way, the observer can confirm the authenticity.

本開示における反射型エンボスホログラム領域は、上述した透過型フーリエ変換ホログラム領域と、通常平面視上重なる領域である。本開示においては、反射型エンボスホログラム領域の全面が、透過型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なっていても良く、あるいは、反射型エンボスホログラム領域の一部が、透過型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なっていても良い。 The reflective embossed hologram area in the present disclosure is an area that generally overlaps with the above-described transmission Fourier transform hologram area in plan view. In the present disclosure, the entire surface of the reflective embossed hologram area may overlap the transmission Fourier transform hologram area in a plan view, or part of the reflective embossed hologram area may overlap the transmission Fourier transform hologram area in a plane. They may overlap visually.

また、このようにホログラム積層体100が反射型エンボスホログラム領域を有することにより、意匠性に優れるものとなる。さらに、透過型フーリエ変換ホログラム領域の少なくとも一部が、反射型エンボスホログラム領域と重複していることにより、反射型エンボスホログラム領域によって、透過型フーリエ変換ホログラム領域(即ち、レーザー加工を施した領域)が隠蔽されるため、存在が分かりにくくなる。この場合、透過型フーリエ変換ホログラム領域により再生される第1光像が表示する絵柄は、エンボスホログラム領域により表示される第2光像の絵柄の関連性のある絵柄とすることができる。
本開示において、「関連性のある絵柄」とは、例えば、(反射型エンボスホログラム領域により表示される絵柄、透過型フーリエ変換ホログラム領域により再生される絵柄)の組み合わせの具体例が、(ロゴ、IDナンバー)、(国旗、イニシャル)等が挙げられる。
Moreover, since the hologram laminate 100 has the reflective embossed hologram area in this way, the design is excellent. Furthermore, since at least a part of the transmission Fourier transform hologram area overlaps the reflection embossed hologram area, the reflection embossed hologram area causes the transmission Fourier transform hologram area (i.e., laser-processed area) to overlap. is hidden, making its existence difficult to understand. In this case, the pattern displayed by the first optical image reproduced by the transmissive Fourier transform hologram area can be a pattern related to the pattern of the second optical image displayed by the embossed hologram area.
In the present disclosure, "related pattern" means, for example, a specific example of a combination of (a pattern displayed by a reflective embossed hologram area and a pattern reproduced by a transmissive Fourier transform hologram area) is (logo, ID number), (national flag, initials), and the like.

本開示における反射型エンボスホログラム領域により表示される第2光像の絵柄は、例えば、パターン、線画、文字、図形、記号等とすることができ、ホログラム積層体の用途に応じて適宜選択することができる。本開示において、エンボスホログラム領域により表示される第2光像は、透過型フーリエ変換ホログラム領域により表示される第1光像と、同じ絵柄であっても良く、互いに相違する絵柄であっても良い。 The pattern of the second light image displayed by the reflective embossed hologram area in the present disclosure can be, for example, patterns, line drawings, characters, graphics, symbols, etc., and can be appropriately selected according to the application of the hologram laminate. can be done. In the present disclosure, the second optical image displayed by the embossed hologram area may have the same pattern as the first optical image displayed by the transmission Fourier transform hologram area, or may have different patterns. .

(2)反射型フーリエ変換ホログラム領域
本開示におけるホログラム積層体は、図11に示すように、透明基材1、反射型フーリエ変換ホログラム用凹凸構造4、および遮光部2aを有する反射型エンボスホログラム領域を有することが好ましい。
(2) Reflective Fourier transform hologram area As shown in FIG. 11, the hologram laminate in the present disclosure has a transparent substrate 1, a reflective Fourier transform hologram concavo-convex structure 4, and a reflective embossed hologram area having a light shielding part 2a. It is preferred to have

本開示のホログラム積層体100は、上述した透過型フーリエ変換ホログラム領域を有することにより、点光源からの光を透過させて第1光像Iaを表示することができるとともに(例えば、図2)、反射型フーリエ変換ホログラム領域を有することにより、点光源からの光を反射させて第3光像Icを表示することができる(図11(B))。したがって、点光源を観察者が視認する側から照射した場合には、点光源からの光は反射型フーリエ変換ホログラム領域により反射して観察者の目に入る。したがって、観察者は第3光像を視認することが可能となる。 The hologram laminate 100 of the present disclosure has the above-described transmission Fourier transform hologram region, so that the light from the point light source can be transmitted and the first optical image Ia can be displayed (for example, FIG. 2). By having the reflection type Fourier transform hologram area, the light from the point light source can be reflected to display the third optical image Ic (FIG. 11(B)). Therefore, when the point light source is irradiated from the side where the observer visually recognizes, the light from the point light source is reflected by the reflection type Fourier transform hologram area and enters the observer's eyes. Therefore, the observer can visually recognize the third optical image.

一方、点光源を観察者が視認する側とは反対側から照射した場合には、点光源からの光は透過型フーリエ変換ホログラム領域を透過して観察者の目に入る。したがって、観察者は第1光像を視認することが可能となる。このように、本開示のホログラム積層体は、観察者の照射方向に応じて、所定の光像を表示することが可能となる。 On the other hand, when the point light source is irradiated from the side opposite to the side viewed by the observer, the light from the point light source passes through the transmission type Fourier transform hologram area and enters the observer's eyes. Therefore, the observer can visually recognize the first optical image. In this way, the hologram laminate of the present disclosure can display a predetermined optical image according to the irradiation direction of the observer.

そのため、例えば、第1光像または第3光像が表示されることを知らない場合には、第1光像または第3光像を視認することは困難であり、こういった理由から、高い偽造防止性を発揮することができ、真贋判定に好適である。また、本開示のホログラム積層体は、第1光像および第3光像を表示することができる。
したがって、例えば、第1光像および第3光像が表示する絵柄により一つの意味合いをなす絵柄とする等、第1光像および第3光像が表示する絵柄をそれぞれ対応する絵柄とすることで、より高い偽造防止性を発揮することができ、真贋判定に好適なホログラム積層体とすることができる。
Therefore, for example, if the first optical image or the third optical image is not known to be displayed, it is difficult to visually recognize the first optical image or the third optical image. It can exhibit anti-counterfeiting properties and is suitable for authenticity determination. Further, the hologram laminate of the present disclosure can display the first optical image and the third optical image.
Therefore, for example, the patterns displayed by the first optical image and the pattern displayed by the third optical image are designed to have a single meaning. , the hologram laminate can exhibit higher anti-counterfeiting properties and is suitable for authenticity determination.

本開示における反射型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光が、上記凹凸構造4表面に配置された遮光部2aで反射した反射光を、第3光像に変換する領域である。 The reflective Fourier transform hologram region in the present disclosure is a region where light incident from a point light source is reflected by the light shielding portion 2a arranged on the surface of the concave-convex structure 4, and the reflected light is converted into a third light image.

本開示における反射型フーリエ変換ホログラム領域は、反射型フーリエ変換ホログラム用凹凸構造および金属薄膜により、点光源から入射した光を複数の方向に回折し、原画像に基づく所望の第3光像へと変換することができる。すなわち、本開示における反射型フーリエ変換ホログラム領域は、フーリエ変換レンズとして機能する。なお、上記機能について、フーリエ変換レンズ機能と称して説明する場合がある。 The reflective Fourier transform hologram region in the present disclosure diffracts light incident from a point light source in a plurality of directions due to the concave-convex structure for the reflective Fourier transform hologram and the metal thin film, and transforms it into a desired third light image based on the original image. can be converted. That is, the reflective Fourier transform hologram area in the present disclosure functions as a Fourier transform lens. Note that the above function may be referred to as a Fourier transform lens function and described.

反射型フーリエ変換ホログラム領域の平面視サイズは、本開示のホログラム積層体の用途に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。反射型フーリエ変換ホログラム領域の具体的な平面視サイズは、例えば、5mm角以上50mm角以下の範囲内であることが好ましく、中でも5mm角以上30mm角以下の範囲内であることが好ましく、特に5mm角以上15mm角以下の範囲内であることが好ましい。反射型フーリエ変換ホログラム領域の平面視サイズが上記下限であることにより、反射型フーリエ変換ホログラム領域により変換される第3光像が視認しやすくなる。また、反射型フーリエ変換ホログラム領域により偽造防止性を向上させ、優れた意匠性を得ることができる。一方、反射型フーリエ変換ホログラム領域の平面視サイズが上記上限であることにより、本開示のホログラム積層体を低コストで製造することができる。 The planar view size of the reflective Fourier transform hologram region can be appropriately adjusted according to the application of the hologram laminate of the present disclosure, and is not particularly limited. A specific planar view size of the reflective Fourier transform hologram region is, for example, preferably within the range of 5 mm square or more and 50 mm square or less, more preferably within the range of 5 mm square or more and 30 mm square or less, particularly 5 mm. It is preferably within the range of 15 mm square or less. When the planar view size of the reflective Fourier transform hologram area is the above lower limit, the third optical image converted by the reflective Fourier transform hologram area becomes easier to visually recognize. In addition, the reflective Fourier transform hologram region can improve anti-counterfeiting properties and provide excellent design. On the other hand, since the plane view size of the reflection type Fourier transform hologram region is the above upper limit, the hologram laminate of the present disclosure can be manufactured at low cost.

ここで、反射型フーリエ変換ホログラム領域の平面視サイズが5mm角以上であるとは、反射型フーリエ変換ホログラム領域が、5mm角の正方形の範囲を少なくとも含む平面視形状であることをいう。したがって、例えば、反射型フーリエ変換ホログラム領域が長方形である場合には、その短辺の長さが5mm以上であることをいい、一方、反射型フーリエ変換ホログラム領域が正方形である場合には、その1辺の長さが5mm以上であることをいう。本開示において、反射型フーリエ変換ホログラム領域の平面視形状は、本開示のホログラム積層体の用途等に応じて、任意の形状を適宜選択することができる。具体的な平面視形状としては、例えば、正方形、長方形等の矩形状、台形状、三角形状、五角形状、六角形状等の多角形状、円形状、楕円形状、星型形状、ハート型形状等が挙げられるが、容易に形成することができるといった観点から、矩形状であることが好ましい。 Here, the planar view size of the reflective Fourier transform hologram area of 5 mm square or more means that the reflective Fourier transform hologram area has a planar view shape including at least a 5 mm square area. Therefore, for example, when the reflective Fourier transform hologram area is rectangular, it means that the length of the short side is 5 mm or more. It means that the length of one side is 5 mm or more. In the present disclosure, the planar view shape of the reflective Fourier transform hologram region can be appropriately selected as an arbitrary shape according to the application of the hologram laminate of the present disclosure. Specific planar shapes include, for example, rectangular shapes such as squares and rectangles, polygonal shapes such as trapezoidal shapes, triangular shapes, pentagonal shapes, and hexagonal shapes, circular shapes, elliptical shapes, star shapes, heart shapes, and the like. However, a rectangular shape is preferable from the viewpoint that it can be easily formed.

本開示における反射型フーリエ変換ホログラム領域は、上述した透過型フーリエ変換ホログラム領域と、通常、平面視上重なる領域である。本開示においては、反射型フーリエ変換ホログラム領域の全面が、後述する透過型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なっていても良く、あるいは、反射型フーリエ変換ホログラム領域の一部が、後述する透過型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なっていても良い。 The reflective Fourier transform hologram region in the present disclosure is a region that generally overlaps with the above-described transmission Fourier transform hologram region in plan view. In the present disclosure, the entire surface of the reflective Fourier transform hologram region may overlap the later-described transmission Fourier transform hologram region in a plan view, or a part of the reflective Fourier transform hologram region may overlap the later-described transmission-type Fourier transform hologram region. It may overlap with the Fourier transform hologram area in plan view.

本開示における反射型フーリエ変換ホログラム領域に配置される凹凸構造は、第3光像として表示される原画像のデータに基づいて多値化されたフーリエ変換像である。 The concave-convex structure arranged in the reflective Fourier transform hologram region in the present disclosure is a Fourier transform image multi-valued based on the data of the original image displayed as the third optical image.

本開示における反射型フーリエ変換ホログラム領域を得る方法としては、例えば、次のような方法が挙げられる。すなわち、フーリエ変換像に対応した凹凸構造を有するマスター原版を形成する。次に、ポリエチレンテレフタレート等の基材上に、紫外線硬化樹脂等の樹脂材料を塗布して塗膜を形成し、次いで、上述したマスター原版の凹凸パターンを上記塗膜に凹凸構造を転写する方法が挙げられる。 Methods for obtaining the reflection-type Fourier transform hologram region in the present disclosure include, for example, the following methods. That is, a master original plate having an uneven structure corresponding to a Fourier transform image is formed. Next, there is a method of forming a coating film by applying a resin material such as an ultraviolet curable resin on a base material such as polyethylene terephthalate, and then transferring the concave-convex pattern of the master original plate to the coating film. mentioned.

また、上述したマスター原版の形成方法としては、例えば、次のような方法が挙げられる。すなわち、原画像の画像データを基に計算によりフーリエ変換像を形成する。次に、当該フーリエ変換像のデータを二値以上に多値化したデータを電子線描画用データへ変換し、当該電子線描画用データを所望の範囲まで配列させる。具体的には、電子線描画用データを縦および横方向に所定の数の電子線描画用データをそれぞれ配列させる。次いで、配列した電子線描画データを基に、電子線描画装置を用いてマスター原版を作成する方法が挙げられる。 Further, examples of the method for forming the master original plate described above include the following methods. That is, a Fourier transform image is formed by calculation based on the image data of the original image. Next, the data of the Fourier transform image is multi-valued into two or more values, converted into electron beam drawing data, and the electron beam drawing data is arranged within a desired range. Specifically, a predetermined number of electron beam drawing data are arranged vertically and horizontally. Next, based on the arrayed electron beam drawing data, there is a method of creating a master original using an electron beam drawing apparatus.

本開示においては、例えば、フーリエ変換像のデータを二値化したデータを電子線描画用データへ変換してマスター原版を作成した場合、当該マスター原版を用いて得られる凹凸構造は、図11(A)に示すように2段の凹凸形状となる。一方、フーリエ変換像のデータを四値化したデータを電子線描画用データへ変換してマスター原版を作成した場合、当該マスター原版を用いて得られる凹凸構造は、4段の凹凸形状となる。なお、4値化した場合であっても、部分的に1段や2段の凹凸形状を有する場合がある。本開示においては、フーリエ変換像のデータを多値化する場合、四値化以上とすることが好ましい。換言すると、反射型フーリエ変換ホログラム用凹凸構造が、4段以上であることが好ましい。より複雑な絵柄の第2光像を表示することができるからである。 In the present disclosure, for example, when the data obtained by binarizing the data of the Fourier transform image is converted into data for electron beam drawing to create a master plate, the concave-convex structure obtained using the master plate is shown in FIG. 11 ( As shown in A), it has a two-step uneven shape. On the other hand, when the data obtained by converting the data of the Fourier transform image into quaternarized data is converted into data for electron beam drawing to prepare a master plate, the concave-convex structure obtained using the master plate has a four-level concave-convex shape. It should be noted that even in the case of quaternarization, there are cases where a part has a one-step or two-step concave-convex shape. In the present disclosure, when the data of the Fourier transform image is multi-valued, it is preferable to use quaternarization or higher. In other words, it is preferable that the concave-convex structure for the reflection type Fourier transform hologram has four or more steps. This is because the second optical image with a more complicated pattern can be displayed.

本開示における反射型フーリエ変換ホログラム用凹凸構造の材料としては、例えば、一般的なレリーフ型ホログラムの形成に用いられる樹脂材料が挙げられる。具体的な樹脂材料としては、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等が挙げられる。 Examples of materials for the concave-convex structure for a reflection Fourier transform hologram in the present disclosure include resin materials used for forming general relief holograms. Specific resin materials include, for example, thermosetting resins, thermoplastic resins, ultraviolet curable resins, and ionizing radiation curable resins.

本開示における反射型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光を、反射型フーリエ変換ホログラム用凹凸構造の表面に形成された金属薄膜に反射させて、第3光像へ変換する領域である。 The reflective Fourier transform hologram region in the present disclosure is a region in which light incident from a point light source is reflected by a metal thin film formed on the surface of the concave-convex structure for a reflective Fourier transform hologram and converted into a third light image. .

本開示における反射型フーリエ変換ホログラム領域により表示される第3光像の絵柄は、例えば、パターン、線画、文字、図形、記号等とすることができ、ホログラム積層体の用途に応じて適宜選択することができる。本開示において、反射型フーリエ変換ホログラム領域により表示される第3光像は、透過型フーリエ変換ホログラム領域により表示される第1光像と、同じ絵柄であっても良く、互いに相違する絵柄であっても良い。 The pattern of the third light image displayed by the reflective Fourier transform hologram region in the present disclosure can be, for example, a pattern, line drawing, character, figure, symbol, etc., and is appropriately selected according to the application of the hologram laminate. be able to. In the present disclosure, the third optical image displayed by the reflection Fourier transform hologram area may have the same pattern as the first optical image displayed by the transmission Fourier transform hologram area, or may have different patterns. can be

3.その他の構成
(1)第1接着層および第2接着層
本開示におけるホログラム積層体は、透過型フーリエ変換ホログラム層の上記透明基材側とは反対側に第1接着層を有していてもよい。また、この場合、ホログラム積層体は、透明基材の上記透過型フーリエ変換ホログラム層側とは反対側に第2接着層を有していてもよい。具体的には、図10(A)に示すように、ホログラム積層体100は、透過型フーリエ変換ホログラム層2の反射型エンボスホログラム用凹凸構造3側とは反対側に、第1接着層5aを有していてもよく、さらに、透明基材1の反射型エンボスホログラム用凹凸構造3とは反対側に、第2接着層5bを有していてもよい。
また、図11(A)に示すように、ホログラム積層体100は、透過型フーリエ変換ホログラム層2の反射型フーリエ変換ホログラム用凹凸構造4側とは反対側に、第1接着層5aを有していてもよく、透明基材1の凹凸構造4とは反対側に、第2接着層5bを有していてもよい。
3. Other configurations (1) First adhesive layer and second adhesive layer The hologram laminate in the present disclosure may have the first adhesive layer on the side opposite to the transparent substrate side of the transmission Fourier transform hologram layer. good. In this case, the hologram laminate may have a second adhesive layer on the side of the transparent substrate opposite to the transmission Fourier transform hologram layer side. Specifically, as shown in FIG. 10A, the hologram laminate 100 includes a first adhesive layer 5a on the side of the transmission Fourier transform hologram layer 2 opposite to the uneven structure 3 for reflection embossed hologram. Further, the transparent base material 1 may have a second adhesive layer 5b on the side opposite to the concave-convex structure 3 for a reflective embossed hologram.
Further, as shown in FIG. 11A, the hologram laminate 100 has a first adhesive layer 5a on the side of the transmission Fourier transform hologram layer 2 opposite to the uneven structure 4 for the reflection Fourier transform hologram. Alternatively, the transparent substrate 1 may have a second adhesive layer 5b on the opposite side of the uneven structure 4. As shown in FIG.

第1接着層および第2接着層を構成する接着剤としては、ヒートシール剤が用いられる。 A heat sealing agent is used as the adhesive constituting the first adhesive layer and the second adhesive layer.

ヒートシール剤は、熱可塑性樹脂を含有する。熱可塑性樹脂としては、特に限定されるものではなく、接着する部材の種類等に応じて適宜選択される。熱可塑性樹脂としては、例えば、マレイン酸変性塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、エチレン-イソブチルアクリレート共重合体、ブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニルおよびその共重合体、アイオノマー樹脂、酸変性ポリオレフィン系樹脂、アクリル系やメタクリル系等の(メタ)アクリル系樹脂、アクリル酸エステル系樹脂、エチレン-(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリメチルメタクリレート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリプロピレン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ビニル系樹脂、マレイン酸樹脂、アルキッド樹脂、ポリエチレンオキサイド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、メラミン・アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ゴム系樹脂、スチレンブタジエンスチレンブロック共重合体(SBS)、スチレンイソプレンスチレンブロック共重合体(SIS)、スチレンエチレンブチレンスチレンブロック共重合体(SEBS)、スチレンエチレンプロピレンスチレンブロック共重合体(SEPS)等を挙げることができる。熱可塑性樹脂は、1種単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。 The heat sealant contains a thermoplastic resin. The thermoplastic resin is not particularly limited, and is appropriately selected according to the type of member to be adhered. Examples of thermoplastic resins include maleic acid-modified vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyamide resin, polyester resin, polyethylene resin, ethylene-isobutyl acrylate. Copolymers, butyral resins, polyvinyl acetate and its copolymers, ionomer resins, acid-modified polyolefin resins, (meth)acrylic resins such as acrylic and methacrylic resins, acrylic acid ester resins, ethylene-(meth) Acrylic acid copolymer, ethylene-(meth)acrylic acid ester copolymer, polymethyl methacrylate resin, cellulose resin, polyvinyl ether resin, polyurethane resin, polycarbonate resin, polypropylene resin, epoxy resin, phenolic resin, vinyl resin Resins, maleic acid resins, alkyd resins, polyethylene oxide resins, urea resins, melamine resins, melamine/alkyd resins, silicone resins, rubber resins, styrene-butadiene-styrene block copolymers (SBS), styrene-isoprene-styrene block copolymers ( SIS), styrene ethylene butylene styrene block copolymer (SEBS), styrene ethylene propylene styrene block copolymer (SEPS) and the like. The thermoplastic resin may be used singly or in combination of two or more.

ヒートシール剤には、添加剤が含まれていてもよい。添加剤としては、例えば、分散剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤等を挙げることができる。 The heat sealant may contain additives. Examples of additives include dispersants, fillers, plasticizers, antistatic agents, and the like.

第1接着層および第2接着層にヒートシール剤を用いる場合、第1接着層および第2接着層の厚さは、特に限定されるものではなく、接着する部材の種類等に応じて適宜選択されるが、例えば、0.3μm以上50μm以下であることが好ましく、0.5μm以上25μm以下であることがより好ましい。第1接着層および第2接着層の厚さが薄すぎると、接着性が不十分になる可能性がある。また、第1接着層および第2接着層の厚さが厚すぎると、転写時の加熱温度が高くなりすぎて、他の部材に損傷が生じる可能性がある。 When a heat sealant is used for the first adhesive layer and the second adhesive layer, the thickness of the first adhesive layer and the second adhesive layer is not particularly limited, and is appropriately selected according to the type of member to be adhered. However, for example, it is preferably 0.3 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 0.5 μm or more and 25 μm or less. If the thickness of the first adhesive layer and the second adhesive layer is too thin, the adhesion may be insufficient. Also, if the thicknesses of the first adhesive layer and the second adhesive layer are too thick, the heating temperature during transfer will be too high, and other members may be damaged.

第1接着層および第2接着層にヒートシール剤を用いる場合、第1接着層および第2接着層は、単層であってもよく、多層であってもよい。多層の場合、同一組成の層が積層されていてもよく、異なる組成の層が積層されていてもよい。 When the heat sealant is used for the first adhesive layer and the second adhesive layer, the first adhesive layer and the second adhesive layer may be a single layer or multiple layers. In the case of multiple layers, layers having the same composition may be laminated, or layers having different compositions may be laminated.

(2)第1支持体および第2支持体
本開示におけるホログラム積層体は、透過型フーリエ変換ホログラム層の透明基材側とは反対側に第1支持体を有するものとすることができる。具体的には、図10(A)に示すように、ホログラム積層体100は、透過型フーリエ変換ホログラム層2の反射型エンボスホログラム用凹凸構造3側とは反対側に、第1接着層5a、第1支持体7aをこの順に有していてもよく、さらに、透明基材1のエンボスホログラム層3とは反対側に、第2接着層5b、第2支持体7bをこの順を有していてもよい。
また、図11(A)に示すように、ホログラム積層体100は、透過型フーリエ変換ホログラム層2の反射型フーリエ変換ホログラム用凹凸構造4側とは反対側に、第1接着層5a、第1支持体7aをこの順に有していてもよく、透明基材1の凹凸構造4とは反対側に、第2接着層5b、第2支持体7bを有していてもよい。
(2) First Support and Second Support The hologram laminate in the present disclosure can have the first support on the opposite side of the transmission Fourier transform hologram layer from the transparent substrate side. Specifically, as shown in FIG. 10A, the hologram laminate 100 includes a first adhesive layer 5a, The first support 7a may be provided in this order, and the second adhesive layer 5b and the second support 7b are provided in this order on the opposite side of the transparent substrate 1 from the embossed hologram layer 3. may
Further, as shown in FIG. 11(A), the hologram laminate 100 includes a first adhesive layer 5a, a first adhesive layer 5a, and a first adhesive layer 5a on the side of the transmission Fourier transform hologram layer 2 opposite to the concave-convex structure 4 for the reflection Fourier transform hologram. The support 7a may be provided in this order, and the second adhesive layer 5b and the second support 7b may be provided on the opposite side of the transparent substrate 1 from the concave-convex structure 4. FIG.

この場合、例えば、第1支持体および第2支持体を上述したコアシートとすることで、ホログラム積層体100をカード等の情報記録媒体として用いることができる。 In this case, for example, the hologram laminate 100 can be used as an information recording medium such as a card by using the above-described core sheets as the first support and the second support.

(3)近赤外線吸収性基材層
本開示におけるホログラム積層体は、透過型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重ならない箇所に、近赤外線吸収性材料を含む近赤外線吸収層や、近赤外線吸収性材料を含む近赤外線吸収性基材層を含んでいてもよい。近赤外線吸収性材料は、セシウム酸化タングステン又は6ホウ化ランタンを含み、近赤外線吸収性基材の対象部分にレーザー光を当てることにより、対象部分の、少なくとも所定の波長範囲における近赤外線吸収性が低下し、近赤外線吸収性インキ層には赤外線カメラ等を用いて認識可能な、文字、画像等が形成されることとなる。
(3) Near-infrared absorbing substrate layer The hologram laminate in the present disclosure includes a near-infrared absorbing layer containing a near-infrared absorbing material and a near-infrared absorbing A near-infrared absorbing substrate layer containing material may be included. The near-infrared absorptive material includes cesium tungsten oxide or lanthanum hexaboride, and by applying laser light to a target portion of the near-infrared absorptive substrate, the near-infrared absorptivity of the target portion is increased at least in a predetermined wavelength range. characters, images, etc., which can be recognized using an infrared camera or the like, are formed on the near-infrared absorbing ink layer.

本開示における透過型フーリエ変換ホログラム層と、近赤外線吸収性基材層や近赤外線吸収層とを有するホログラム積層体は、共にレーザー加工によって記録された可変情報を有しているものであり、より一層セキュリティ性の高い積層体となる、という効果を有する。なお、透過型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なる位置に、クリアウィンドウを有していてもよい。クリアウィンドウは、PVC(ポリ塩化ビニル)、PET-G(非結晶性ポリエステル)、PC(ポリカーボネート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PP(ポリプロピレン)等の透明材料から作製される。例えば、基材層の一部をクリアウンドウの形状に合わせて一部開口させ、それにより生じた空間に、可視光透過性を有する透明樹脂を流しいれ、硬化させることにより作製することができる。 A hologram laminate having a transmission Fourier transform hologram layer and a near-infrared absorbing substrate layer or a near-infrared absorbing layer in the present disclosure has variable information recorded by laser processing. This has the effect of providing a laminate with even higher security. A clear window may be provided at a position that overlaps the transmission Fourier transform hologram area in plan view. Clear windows are made from transparent materials such as PVC (polyvinyl chloride), PET-G (amorphous polyester), PC (polycarbonate), PET (polyethylene terephthalate), PP (polypropylene). For example, it can be produced by partially opening a part of the base material layer according to the shape of the clear window, pouring a transparent resin having visible light transmittance into the space thus created, and curing the resin.

例えば、パスポート冊子体内に個人情報を記録する情報ページ(データページともいう)にクリアウィンドウ部を設ける。クリアウィンドウ部と平面視上重なる位置に金属薄膜を有するレーザー加工埋め込み体を配置することにより、クリアウィンドウ部に点光源から入射した光が透過した際に見える光像と、反射した際に見える光像とを異なるものとすることができる。また、透過した光像は所有者の固有(イニシャル等)情報を明示しても良い。 For example, a clear window portion is provided on an information page (also called a data page) for recording personal information in a passport booklet. By arranging a laser-processed embedding body with a metal thin film in a position that overlaps the clear window part in plan view, the light image seen when the light incident from the point light source is transmitted through the clear window part and the light seen when it is reflected. image can be different. In addition, the transmitted light image may indicate the unique (initials, etc.) information of the owner.

4.ホログラム積層体
本開示におけるホログラム積層体は、カード等の情報記録媒体、身分証明書等のID証等に利用できる。
4. Hologram Laminate The hologram laminate in the present disclosure can be used for information recording media such as cards, ID cards such as identification cards, and the like.

C.レーザー加工用積層体およびレーザー加工用埋め込み体
本開示においては、透明基材と、上記透明基材の一方の面側に形成された金属薄膜とを有し、透過型フーリエ変換ホログラム領域を形成するためにレーザー加工が施される、レーザー加工用積層体を提供する。
C. Laminate for laser processing and embedded body for laser processing In the present disclosure, a transparent substrate and a metal thin film formed on one surface side of the transparent substrate are provided to form a transmission Fourier transform hologram region. Provided is a laminate for laser processing, which is subjected to laser processing for the purpose of laser processing.

また、本開示においては、第2接着層と、透明基材と、金属薄膜と、第1接着層と、をこの順に有するレーザー加工用積層体が、第1支持体と第2支持体との間に埋め込まれた埋め込み体であり、透過型フーリエ変換ホログラム領域を形成するためにレーザー加工が施される、レーザー加工用埋め込み体を提供する。 Further, in the present disclosure, a laminate for laser processing having a second adhesive layer, a transparent base material, a metal thin film, and a first adhesive layer in this order is formed by connecting the first support and the second support. Provided is an embedding body for laser processing, which is an embedding body embedded in between and is subjected to laser processing to form a transmission Fourier transform hologram region.

図1(A)は、本開示におけるレーザー加工用積層体の概略断面図である。図7(B)は、本開示におけるレーザー加工用埋め込み体の概略断面図である。これらのレーザー加工用積層体およびレーザー加工用埋め込み体は、レーザーが照射されることにより、金属薄膜2′において、パターン状に透明な酸化薄膜に改質することにより、金属薄膜からなる遮光部2aおよび透明な酸化薄膜からなるパターン状の光透過部2bを有する透過型フーリエ変換ホログラム領域を有する透過型フーリエ変換ホログラム層2が形成されるものである。透明基材、金属薄膜、レーザー加工用積層体、接着層(第1接着層、第2接着層)、支持体(第1支持体、第2支持体)については、「A.ホログラム積層体の製造方法」、「B.ホログラム積層体」に記載したものと同様のものを用いることができる。
なお、図7(B)のレーザー加工用埋め込み体51にレーザー照射する際には、金属薄膜2′に対して透明基材1側とは反対側(第1支持体7a側)からレーザー光を照射してもよいし、透明基材1側(第2支持体7b側)からレーザー光を照射してもよい。
FIG. 1(A) is a schematic cross-sectional view of a laminate for laser processing according to the present disclosure. FIG. 7(B) is a schematic cross-sectional view of an embedding body for laser processing according to the present disclosure. In these laser processing laminated body and laser processing embedding body, the metal thin film 2' is reformed into a patterned transparent oxide thin film by laser irradiation, thereby forming a light shielding portion 2a made of a metal thin film. and a transmission Fourier transform hologram layer 2 having a transmission Fourier transform hologram region having a patterned light transmission portion 2b made of a transparent oxide thin film. For the transparent substrate, metal thin film, laminate for laser processing, adhesive layer (first adhesive layer, second adhesive layer), support (first support, second support), see "A. Hologram laminate Manufacturing method” and “B. Hologram laminate” can be used.
When irradiating the embedded body 51 for laser processing in FIG. 7(B) with laser light, the laser beam is applied to the metal thin film 2' from the side opposite to the transparent substrate 1 side (the side of the first support 7a). Alternatively, a laser beam may be irradiated from the side of the transparent substrate 1 (the side of the second support 7b).

なお、本開示は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本開示の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本開示の技術的範囲に包含される。 Note that the present disclosure is not limited to the above embodiments. The above embodiment is an example, and any device that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present disclosure and achieves the same effect is the present invention. It is included in the technical scope of the disclosure.

以下、実施例を挙げて本開示を具体的に説明する。 EXAMPLES The present disclosure will be specifically described below with reference to Examples.

透明基材として厚み16μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを準備し、透明基材の一方の面側に、厚さ約50nmのアルミニウム蒸着膜を形成した。次いで、金属薄膜の透明基材側とは反対側に、第1接着層を配置し、他方の面側に第2接着層を配置し、レーザー加工用積層体を得た。第1接着層及び第2接着層としては、ポリエステル系樹脂を主成分とするヒートシール接着剤を用いた。 A polyethylene terephthalate film having a thickness of 16 μm was prepared as a transparent substrate, and an aluminum deposition film having a thickness of about 50 nm was formed on one side of the transparent substrate. Next, a first adhesive layer was placed on the side of the metal thin film opposite to the transparent base material side, and a second adhesive layer was placed on the other side of the metal thin film to obtain a laminate for laser processing. As the first adhesive layer and the second adhesive layer, a heat-sealing adhesive containing a polyester-based resin as a main component was used.

次に、レーザー加工用積層体の第1接着層側に第1支持体を配置し、レーザー加工用積層体の第2接着層側に第2支持体を配置して、第1支持体および第2支持体を圧着させることにより、埋め込み体を製造した。第1支持体および第2支持体としては、ポリカーボネートを用いた。 Next, the first support is placed on the first adhesive layer side of the laminate for laser processing, the second support is placed on the second adhesive layer side of the laminate for laser processing, and the first support and the second support are placed. Implants were produced by crimping the two supports. Polycarbonate was used as the first support and the second support.

その後、埋め込み体に対し、第1支持体側から、以下の条件でレーザーを照射した。この際、埋め込み体に、事前に計算機で作成したパターンに従ってレーザーを照射した。これにより、レーザー照射部分のアルミニウム蒸着膜を透明な酸化薄膜に改質し、ホログラム積層体を得た。 After that, the embedded body was irradiated with a laser from the first support side under the following conditions. At this time, the implant was irradiated with a laser according to a pattern prepared in advance by a computer. As a result, the aluminum deposition film on the laser irradiated portion was modified into a transparent oxide thin film, and a hologram laminate was obtained.

(レーザー照射条件)
埋め込み体のアルミニウム蒸着部にUVレーザー出力2.5Wを用いて、スキャンスピード1000mm/sでレーザー照射を行い酸化アルミニウムに改変することで透過型フーリエ変換ホログラム層へと加工を行った。
(Laser irradiation conditions)
A UV laser output of 2.5 W was used on the aluminum-deposited portion of the embedding body, and laser irradiation was performed at a scanning speed of 1000 mm/s to convert the aluminum oxide into aluminum oxide, thereby forming a transmission type Fourier transform hologram layer.

[評価]
得られた本発明のホログラム構造体の透明基材に対して透過型フーリエ変換ホログラム層側(第1支持体側)に点光源を配置し、透明基材側(第2支持体側)から透過観察したところ透過型フーリエ変換ホログラム層による所定の光像を視認性良く観察することができた。この製造方法により、埋め込み体、例えばカードとした後に、レーザー照射することにより、後から可変情報を付与することが可能であることが示された。
[evaluation]
A point light source was placed on the transmission Fourier transform hologram layer side (first support side) with respect to the transparent base material of the obtained hologram structure of the present invention, and transmission observation was performed from the transparent base material side (second support side). By the way, it was possible to observe a predetermined optical image by the transmission type Fourier transform hologram layer with good visibility. It has been shown that this manufacturing method enables variable information to be added later by irradiating an embedded body, such as a card, with a laser.

1 … 透明基材
2 … 透過型フーリエ変換ホログラム層
2a … 遮光部
2b … 光透過部
3 … 反射型エンボスホログラム用凹凸構造
4 … 反射型フーリエ変換ホログラム用凹凸構造
5a… 第1接着層
5b… 第2接着層
6 … プライマー層
7a… 第1支持体
7b… 第2支持体
10… レーザー加工用積層体
50… レーザー加工用転写体
51… レーザー加工用埋め込み体
100… ホログラム積層体
REFERENCE SIGNS LIST 1 transparent substrate 2 transmission type Fourier transform hologram layer 2a light shielding part 2b light transmission part 3 uneven structure for reflective embossed hologram 4 uneven structure for reflective Fourier transform hologram 5a first adhesive layer 5b second 2 Adhesive layer 6 Primer layer 7a First support 7b Second support 10 Laminate for laser processing 50 Transfer body for laser processing 51 Embedding body for laser processing 100 Hologram laminate

Claims (18)

透明基材と、前記透明基材の一方の面側に形成された金属薄膜とを有するレーザー加工用積層体を製造するレーザー加工用積層体製造工程と、
前記金属薄膜の一部領域にレーザーを照射し透明な酸化薄膜に改質することにより、前記金属薄膜からなる遮光部、および前記透明な酸化薄膜からなるパターン状の光透過部を有する透過型フーリエ変換ホログラム層を形成する透過型フーリエ変換ホログラム層形成工程と、を有し、
前記透過型フーリエ変換ホログラム層は、点光源から入射した光がパターン状の前記光透過部を透過することにより光像に変換する透過型フーリエ変換ホログラム領域を有する、ホログラム積層体の製造方法。
a laser processing laminate manufacturing step for manufacturing a laser processing laminate having a transparent base material and a metal thin film formed on one side of the transparent base material;
A transmissive Fourier having a light-shielding portion made of the metal thin film and a patterned light-transmitting portion made of the transparent oxide thin film by irradiating a partial region of the metal thin film with a laser to transform it into a transparent oxide thin film. a transmission Fourier transform hologram layer forming step of forming a transform hologram layer;
The method for producing a hologram laminate, wherein the transmission Fourier transform hologram layer has a transmission Fourier transform hologram region in which light incident from a point light source is converted into an optical image by passing through the patterned light transmitting portion.
前記レーザー加工用積層体は、前記透明基材の片方の表面に形成された凹凸構造と、前記凹凸構造側の表面に配置された前記金属薄膜と、を有することにより、反射型エンボスホログラムとして機能する反射型エンボスホログラム領域を有する、請求項1に記載のホログラム積層体の製造方法。 The laminate for laser processing functions as a reflective embossed hologram by having an uneven structure formed on one surface of the transparent substrate and the metal thin film disposed on the surface on the uneven structure side. 2. The method for producing a hologram laminate according to claim 1, wherein the reflective embossed hologram area is formed by 前記透過型フーリエ変換ホログラム領域により再生される前記光像が表示する絵柄は、前記反射型エンボスホログラム領域により表示される絵柄と関連性を有する絵柄である、請求項2に記載のホログラム積層体の製造方法。 3. The hologram laminate according to claim 2, wherein the pattern displayed by the optical image reproduced by the transmission type Fourier transform hologram area is a pattern having relevance to the pattern displayed by the reflection type embossed hologram area. Production method. 前記レーザー加工用積層体は、前記透明基材の片方の表面に形成された凹凸構造と、前記凹凸構造側の表面に配置された前記金属薄膜と、を有することにより、反射型フーリエ変換ホログラムとして機能する反射型フーリエ変換ホログラム領域を有する、請求項1に記載のホログラム積層体の製造方法。 The layered body for laser processing has an uneven structure formed on one surface of the transparent substrate and the metal thin film arranged on the surface of the uneven structure side, so that the reflection type Fourier transform hologram 2. The method of manufacturing a hologram laminate according to claim 1, having a functioning reflective Fourier transform hologram region. 前記レーザー加工用積層体は、前記金属薄膜の前記透明基材側とは反対側に、第1接着層が配置されている、請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載のホログラム積層体の製造方法。 The laminate for laser processing according to any one of claims 1 to 4, wherein a first adhesive layer is arranged on the side of the metal thin film opposite to the transparent substrate side. A method for manufacturing a hologram laminate. 前記レーザー加工用積層体は、前記透明基材の前記金属薄膜側とは反対側に、第2接着層が配置されている、請求項5に記載のホログラム積層体の製造方法。 6. The method of manufacturing a hologram laminate according to claim 5, wherein the laminate for laser processing has a second adhesive layer disposed on a side of the transparent substrate opposite to the metal thin film. 前記レーザー加工用積層体製造工程後に、前記レーザー加工用積層体を、前記第1接着層を介して第1支持体に転写して転写体を製造し、その後、前記透過型フーリエ変換ホログラム層形成工程における前記レーザー照射を行う、請求項5に記載のホログラム積層体の製造方法。 After the step of manufacturing the laminate for laser processing, the laminate for laser processing is transferred to the first support via the first adhesive layer to manufacture a transfer body, and then the transmission type Fourier transform hologram layer is formed. 6. The method of manufacturing a hologram laminate according to claim 5, wherein the laser irradiation in the step is performed. 前記レーザー加工用積層体製造工程後に、前記レーザー加工用積層体の前記第1接着層側に第1支持体を配置し、前記レーザー加工用積層体の前記第2接着層側に第2支持体を配置して、前記第1支持体および前記第2支持体を圧着させることにより、前記レーザー加工用積層体が前記第1支持体および前記第2支持体の間に埋め込まれた埋め込み体を製造し、その後、前記透過型フーリエ変換ホログラム層形成工程における前記レーザー照射を行う、請求項6に記載ホログラム積層体の製造方法。 After the step of manufacturing the laminate for laser processing, a first support is arranged on the first adhesive layer side of the laminate for laser processing, and a second support is arranged on the second adhesive layer side of the laminate for laser processing. and pressing the first support and the second support to produce an embedded body in which the laser processing laminate is embedded between the first support and the second support 7. The method for manufacturing a hologram laminate according to claim 6, wherein the laser irradiation in the transmission type Fourier transform hologram layer forming step is performed thereafter. 透明基材と、前記透明基材の片方の面側に配置され、金属薄膜からなる遮光部、および透明な酸化薄膜からなるパターン状の光透過部を有する透過型フーリエ変換ホログラム層と、を有し、
前記透過型フーリエ変換ホログラム層は、点光源から入射した光がパターン状の前記光透過部を透過することにより光像に変換する透過型フーリエ変換ホログラム領域を有する、ホログラム積層体。
a transparent substrate; and a transmission type Fourier transform hologram layer disposed on one side of the transparent substrate and having a light-shielding portion made of a metal thin film and a patterned light-transmitting portion made of a transparent oxide thin film. death,
The transmission Fourier transform hologram layer has a transmission Fourier transform hologram region in which light incident from a point light source is transmitted through the patterned light transmitting portion and converted into a light image.
前記ホログラム積層体は、前記透明基材の片方の表面に形成された凹凸構造と、前記凹凸構造側の表面に配置された前記透過型フーリエ変換ホログラム層と、を有し、
前記透過型フーリエ変換ホログラム層は、前記金属薄膜からなる遮光部が反射型エンボスホログラムとして機能する反射型エンボスホログラム領域を有する、請求項9に記載のホログラム積層体。
The hologram laminate has an uneven structure formed on one surface of the transparent substrate, and the transmission Fourier transform hologram layer disposed on the surface on the uneven structure side,
10. The hologram laminate according to claim 9, wherein the transmission Fourier transform hologram layer has a reflective embossed hologram region in which the light shielding portion made of the metal thin film functions as a reflective embossed hologram.
前記透過型フーリエ変換ホログラム領域により再生される前記光像が表示する絵柄は、前記反射型エンボスホログラム領域により表示される絵柄と関連性を有する絵柄である、請求項10に記載のホログラム積層体。 11. The hologram laminate according to claim 10, wherein the picture displayed by said optical image reproduced by said transmission Fourier transform hologram area is a picture having relevance to the picture displayed by said reflection embossed hologram area. 前記ホログラム積層体は、前記透明基材の片方の表面に形成された凹凸構造と、前記凹凸構造側の表面に配置された前記透過型フーリエ変換ホログラム層と、を有し、
前記透過型フーリエ変換ホログラム層は、前記金属薄膜からなる遮光部が反射型フーリエ変換ホログラムとして機能する反射型フーリエ変換ホログラム領域を有する、請求項9に記載のホログラム積層体。
The hologram laminate has an uneven structure formed on one surface of the transparent substrate, and the transmission Fourier transform hologram layer disposed on the surface on the uneven structure side,
10. The hologram laminate according to claim 9, wherein said transmissive Fourier transform hologram layer has a reflective Fourier transform hologram region in which said light shielding portion made of said metal thin film functions as a reflective Fourier transform hologram.
前記ホログラム積層体は、前記透過型フーリエ変換ホログラム層の前記透明基材側とは反対側に第1接着層を有する、請求項9から請求項12までのいずれかの請求項に記載のホログラム積層体。 The hologram laminate according to any one of claims 9 to 12, wherein the hologram laminate has a first adhesive layer on the side of the transmission Fourier transform hologram layer opposite to the transparent substrate side. body. 前記ホログラム積層体は、前記透過型フーリエ変換ホログラム層の前記透明基材側とは反対側に第1支持体を有する、請求項13に記載のホログラム積層体。 14. The hologram laminate according to claim 13, wherein the hologram laminate has a first support on the side opposite to the transparent substrate side of the transmission Fourier transform hologram layer. 前記ホログラム積層体は、前記透明基材の前記透過型フーリエ変換ホログラム層側とは反対側に第2接着層を有する、請求項13または請求項14に記載のホログラム積層体。 15. The hologram laminate according to claim 13, wherein the hologram laminate has a second adhesive layer on the side of the transparent substrate opposite to the transmission Fourier transform hologram layer side. 前記ホログラム積層体は、前記透明基材の前記透過型フーリエ変換ホログラム層側とは反対側に第2支持体を有する、請求項15に記載のホログラム積層体。 16. The hologram laminate according to claim 15, wherein the hologram laminate has a second support on the side of the transparent substrate opposite to the transmission Fourier transform hologram layer side. 透明基材と、前記透明基材の一方の面側に形成された金属薄膜とを有し、透過型フーリエ変換ホログラム領域を形成するためにレーザー加工が施される、レーザー加工用積層体。 A laminate for laser processing, comprising a transparent base material and a metal thin film formed on one side of the transparent base material, and subjected to laser processing to form a transmission Fourier transform hologram region. 第2接着層と、透明基材と、金属薄膜と、第1接着層と、をこの順に有するレーザー加工用積層体が、第1支持体と第2支持体との間に埋め込まれた埋め込み体であり、透過型フーリエ変換ホログラム領域を形成するためにレーザー加工が施される、レーザー加工用埋め込み体。 An embedding body in which a laminate for laser processing having a second adhesive layer, a transparent substrate, a metal thin film, and a first adhesive layer in this order is embedded between a first support and a second support. and laser processed to form a transmission Fourier transform hologram region.
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