JP2023075748A - 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】高い耐光性および耐久性を有する位相差層付偏光板を提供すること。【解決手段】本発明の実施形態の位相差層付偏光板は、偏光子を含む偏光板と、位相差層と、を有し、矩形である。該位相差層付偏光板の長辺方向と、該位相差層の遅相軸方向は平行である。【選択図】図１

Description

本発明は、位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置に関する。

近年、液晶表示装置およびエレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置）に代表される画像表示装置が急速に普及している。画像表示装置には、代表的には偏光板および位相差板が用いられている。実用的には、偏光板と位相差板とを一体化した位相差層付偏光板が広く用いられている（例えば、特許文献１）。画像表示装置の薄型化への要望が強くなるに伴い、位相差層付偏光板についても薄型化の要望が強まっている。位相差層付偏光板の薄型化を目的として、位相差フィルムの薄型化が進んでいる。また、位相差フィルムの耐久性を評価するため、作製された位相差フィルムは様々な評価試験に供される。薄型の位相差フィルムでは、耐久性（例えば、耐光性）の低下が問題となる場合がある。したがって、高い耐光性および耐久性を備えた位相差層付偏光板が求められている。

特許第３３２５５６０号公報

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、高い耐光性および耐久性を有する薄型位相差層付偏光板を提供することにある。

本発明の位相差層付偏光板は、偏光子を含む偏光板と、位相差層と、を有する矩形の位相差層付偏光板であって、該位相差層付偏光板の長辺方向と該位相差層の遅相軸方向とが平行である。
１つの実施形態において、上記偏光子のホウ酸含有量は２５重量％以下である。
１つの実施形態において、上記偏光子の吸収軸と上記位相差層付偏光板の長辺方向とがなす角度は３５°～５５°である。
１つの実施形態において、上記位相差層付偏光板の長辺の長さと短辺の長さの比は１．１～２．２である。
１つの実施形態において、上記位相差層は円偏光機能または楕円偏光機能を有する液晶化合物の配向固化層である。
１つの実施形態において、上位相差層付偏光板の５０℃、５０％ＲＨ条件下でキセノン光を１００時間照射したときの短辺方向の寸法収縮率が０．０７６％以上である。
１つの実施形態において、上記位相差層付偏光板の総厚みは６０μｍ以下である。
本発明の別の局面においては、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記位相差層付偏光板を備える。
１つの実施形態においては、上記画像表示装置は、有機エレクトロルミネセンス表示装置または無機エレクトロルミネセンス表示装置である。

本発明の実施形態によれば、高い耐光性および耐久性を有する薄型の位相差層付偏光板を提供することができる。

本発明の１つの実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。

以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。

（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）角度
本明細書において角度に言及するときは、当該角度は基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。したがって、例えば「４５°」は±４５°を意味する。

Ａ．位相差層付偏光板の全体構成
図１は、本発明の１つの実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。図示例の位相差層付偏光板１００は、偏光板１０と位相差層２０と粘着剤層３０とを視認側からこの順に有する。偏光板１０は、代表的には、偏光子１１と、偏光子１１の視認側に配置された保護層１２と、を含む。目的に応じて、偏光子１１の視認側と反対側（偏光子１１の保護層１２が積層されていない面）に別の保護層（図示せず）が設けられてもよい。位相差層２０は、代表的には、円偏光機能または楕円偏光機能を有する液晶化合物の配向固化層（以下、単に液晶配向固化層と称する場合がある）である。位相差層付偏光板は粘着剤層３０が最外層として設けられ、画像表示装置（実質的には、画像表示セル）に貼り付け可能とされている。実用的には、粘着剤層３０の表面には、偏光板が使用に供されるまで、はく離ライナーが仮着されていることが好ましい。はく離ライナーを仮着することにより、粘着剤層を適切に保護することができる。

本発明の実施形態の位相差層付偏光板は矩形であり、短辺と長辺とを有する。位相差層付偏光板の長辺の長さと短辺の長さとの比（長辺の長さ／短辺の長さ）は、例えば１を超える値であり、好ましくは１．１～３．０であり、より好ましくは１．３～２．７であり、さらに好ましくは１．５～２．５である。位相差層付偏光板の長辺の長さと短辺の長さとの比が上記範囲であることにより、太陽光による位相差の低下等の劣化を抑制し、高い耐光性および耐久性を有する位相差層付偏光板を提供することができる。

本発明の実施形態において、位相差層付偏光板１００の長辺方向と、位相差層２０の遅相軸方向とは平行である。上記のとおり、位相差層付偏光板ではキセノン光照射試験の条件下において位相差層付偏光板の寸法収縮が生じ得る。この寸法収縮は短辺方向でより大きくなる傾向があり、収縮に伴い位相差層も短辺方向により大きく収縮し得る。そのため、位相差が低下し、信頼性が低下するおそれがある。位相差層付偏光板１００の長辺方向と位相差層２０の遅相軸方向とが平行であることにより、位相差層付偏光板の収縮に伴い位相差層は一軸性が上昇する方向へと収縮し、位相差が上昇し得る。そのため、寸法収縮による位相差の低下と一軸性の上昇に伴う位相差の向上とが均衡し得る。その結果、キセノン光照射試験による位相差の低下等の劣化を抑制し、高い耐光性および耐久性を有する位相差層付偏光板を提供することができる。本明細書において「平行」とは完全に平行である場合だけではなく、位相差層付偏光板の長辺方向と位相差層の遅相軸方向とがなす角度が略平行、例えば－５°～５°である場合を含む。

偏光子１１の吸収軸と位相差層付偏光板１００の長辺方向とがなす角度は、好ましくは３５°～５５°であり、より好ましくは４０°～５０°であり、さらに好ましくは４２°～４８°であり、特に好ましくは約４５°である。偏光子１１の吸収軸と位相差層付偏光板１００の長辺方向とがなす角度が上記範囲であることにより、太陽光による位相差の低下等の劣化をさらに抑制し、高い耐光性および耐久性を有する位相差層付偏光板を提供することができる。

位相差層付偏光板の５５℃、５０％ＲＨ条件下でキセノン光を１００時間照射したときの短辺方向の寸法収縮率は好ましくは０．０７６％以上であり、より好ましくは０．０９０％以上であり、さらに好ましくは０．１２％以上である。短辺方向の寸法収縮は、例えば、０．１６％以下である。短辺方向の寸法収縮が上記範囲であることにより、寸法収縮による位相差の低下と一軸性の上昇に伴う位相差の向上とが均衡し得る。その結果、キセノン光照射試験による位相差の低下等の劣化を抑制し、高い耐光性および耐久性を有する位相差層付偏光板を提供することができる。本明細書において、短辺方向の寸法収縮率とは、位相差層付偏光板に対し、ブラックパネル温度５５℃、湿度５５％ＲＨの条件下で１００時間キセノン光を照射した後位相差層付偏光板の短辺方向の収縮距離（ｍｍ）をＸＹ測長機で測定し、該収縮距離を用いて下記式から算出したキセノン光照射試験前後での位相差層付偏光板の短辺方向の収縮率をいう。

短辺方向の収縮率＝（短辺方向の収縮距離）／（キセノン光照射前の短辺の長さ）×１００

位相差層２０は好ましくは液晶配向固化層である。位相差層２０は、単一層であってもよく、第１の液晶配向固化層と第２の液晶配向固化層との積層構造を有していてもよい。

位相差層付偏光板は、位相差層２０とは別の位相差層ならびに／あるいは導電層または導電層付等方性基材がさらに設けられてもよい（いずれも図示せず）。別の位相差層は、代表的には、位相差２０と粘着剤層３０との間（すなわち、位相差層２０の外側）に設けられる。別の位相差層は、代表的には、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す。導電層または導電層付等方性基材は、代表的には、位相差層２０と粘着剤層３０との間に設けられる。別の位相差層ならびに導電層または導電層付等方性基材は、代表的には、位相差層２０側からこの順に設けられる。別の位相差層ならびに導電層または導電層付等方性基材は、必要に応じて設けられる任意の層であり、いずれか一方または両方が省略されてもよい。導電層または導電層付等方性基材が設けられる場合、位相差層付偏光板は、画像表示セル（例えば、有機ＥＬセル）と偏光板との間にタッチセンサが組み込まれた、いわゆるインナータッチパネル型入力表示装置に適用され得る。

別の位相差層の光学的特性（例えば、屈折率特性、面内位相差、Ｎｚ係数、光弾性係数）、厚み、配置位置等は、目的に応じて適切に設定され得る。

位相差層付偏光板の総厚みは、好ましくは１００μｍ以下であり、より好ましくは６０μｍ以下であり、さらに好ましくは５５μｍ以下であり、さらにより好ましくは５０μｍ以下であり、特に好ましくは４０μｍ以下である。総厚みは、例えば２８μｍで以上あり得る。本発明の実施形態によれば、このようにきわめて薄い位相差層付偏光板を実現することができる。また、このような位相差層付偏光板は、きわめて優れた可撓性および折り曲げ耐久性を有し得る。したがって、このような位相差層付偏光板は、湾曲した画像表示装置および／または折り曲げもしくは折り畳み可能な画像表示装置に特に好適に適用され得る。なお、位相差層付偏光板の総厚みとは、偏光板、位相差層（別の位相差層が存在する場合には、位相差層および別の位相差層）およびこれらを積層するための接着剤層または粘着剤層の厚みの合計をいう（すなわち、位相差層付偏光板の総厚みは、導電層または導電層付等方性基材、ならびに、粘着剤層３０およびその表面に仮着され得るはく離ライナーの厚みを含まない）。

以下、位相差層付偏光板の構成要素について、より詳細に説明する。

Ｂ．偏光板
Ｂ－１．偏光子
偏光子は、代表的には、二色性物質を含むポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルムで構成される。偏光子の厚みは、好ましくは１μｍ～８μｍであり、より好ましくは１μｍ～７μｍであり、さらに好ましくは２μｍ～５μｍである。偏光子の厚みがこのような範囲であれば、位相差層付偏光板の薄型化に大きく貢献し得る。さらに、このような偏光子を用いる薄型の位相差層付偏光板において、本発明の効果が顕著である。

偏光子のホウ酸含有量は、好ましくは２５重量％以下であり、より好ましくは１１重量％～２５重量％であり、さらに好ましくは１２重量％～２５重量％である。偏光子のホウ酸含有量がこのような範囲であれば、キセノン光照射試験による位相差の低下等の劣化を抑制することができ、高い耐光性および耐久性を有する位相差層付偏光板を提供することができる。また、貼り合わせ時のカール調整の容易性を良好に維持し、かつ、加熱時のカールを良好に抑制しつつ、加熱時の外観耐久性を改善することができる。ホウ酸含有量は、例えば、中和法から下記式を用いて、単位重量当たりの偏光子に含まれるホウ酸量として算出することができる。

偏光子のヨウ素含有量は、好ましくは２重量％以上であり、より好ましくは２重量％～１０重量％である。偏光子のヨウ素含有量がこのような範囲であれば、上記のホウ酸含有量との相乗的な効果により、貼り合わせ時のカール調整の容易性を良好に維持し、かつ、加熱時のカールを良好に抑制しつつ、加熱時の外観耐久性を改善することができる。本明細書において「ヨウ素含有量」とは、偏光子（ＰＶＡ系樹脂フィルム）中に含まれるすべてのヨウ素の量を意味する。より具体的には、偏光子中においてヨウ素はヨウ素イオン（Ｉ^－）、ヨウ素分子（Ｉ_２）、ポリヨウ素イオン（Ｉ_３ ^－、Ｉ_５ ^－）等の形態で存在するところ、本明細書におけるヨウ素含有量は、これらの形態をすべて包含したヨウ素の量を意味する。ヨウ素含有量は、例えば、蛍光Ｘ線分析の検量線法により算出することができる。なお、ポリヨウ素イオンは、偏光子中でＰＶＡ－ヨウ素錯体を形成した状態で存在している。このような錯体が形成されることにより、可視光の波長範囲において吸収二色性が発現し得る。具体的には、ＰＶＡと三ヨウ化物イオンとの錯体（ＰＶＡ・Ｉ_３ ^－）は４７０ｎｍ付近に吸光ピークを有し、ＰＶＡと五ヨウ化物イオンとの錯体（ＰＶＡ・Ｉ_５ ^－）は６００ｎｍ付近に吸光ピークを有する。結果として、ポリヨウ素イオンは、その形態に応じて可視光の幅広い範囲で光を吸収し得る。一方、ヨウ素イオン（Ｉ^－）は２３０ｎｍ付近に吸光ピークを有し、可視光の吸収には実質的には関与しない。したがって、ＰＶＡとの錯体の状態で存在するポリヨウ素イオンが、主として偏光子の吸収性能に関与し得る。

偏光子は、好ましくは、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率Ｔｓは、好ましくは４０％～４８％であり、より好ましくは４１％～４６％である。偏光子の偏光度Ｐは、好ましくは９７．０％以上であり、より好ましくは９９．０％以上であり、さらに好ましくは９９．９％以上である。上記単体透過率は、代表的には、紫外可視分光光度計を用いて測定し、視感度補正を行なったＹ値である。上記偏光度は、代表的には、紫外可視分光光度計を用いて測定して視感度補正を行なった平行透過率Ｔｐおよび直交透過率Ｔｃに基づいて、下記式により求められる。
偏光度（％）＝｛（Ｔｐ－Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝^１／２×１００

偏光子は、代表的には、二層以上の積層体を用いて作製され得る。積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とすること；により作製され得る。延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材／偏光子の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２－７３５８０号公報、特許第６４７０４５５号に記載されている。これらの公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。

偏光子の製造方法は、代表的には、長尺状の熱可塑性樹脂基材の片側に、ハロゲン化物とポリビニルアルコール系樹脂とを含むポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層体とすること、および、上記積層体に、空中補助延伸処理と、染色処理と、水中延伸処理と、長手方向に搬送しながら加熱することにより幅方向に２％以上収縮させる乾燥収縮処理と、をこの順に施すことを含む。これにより、非常に薄型で、優れた光学特性を有するとともに光学特性のバラつきが抑制された偏光子が提供され得る。すなわち、補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂上にＰＶＡを塗布する場合でも、ＰＶＡの結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成することが可能となる。また、同時にＰＶＡの配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、ＰＶＡの配向性の低下や溶解などの問題を防止することができ、高い光学特性を達成することが可能になる。さらに、ＰＶＡ系樹脂層を液体に浸漬した場合において、ＰＶＡ系樹脂層がハロゲン化物を含まない場合に比べて、ポリビニルアルコール分子の配向の乱れ、および配向性の低下が抑制され得る。これにより、染色処理および水中延伸処理など、積層体を液体に浸漬して行う処理工程を経て得られる偏光子の光学特性を向上し得る。さらに、乾燥収縮処理により積層体を幅方向に収縮させることにより、光学特性を向上させることができる。

Ｂ－２．保護層
保護層１２は、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１－３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ－メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。

位相差層付偏光板は、後述するように代表的には画像表示装置の視認側に配置され、保護層１２は、代表的にはその視認側に配置される。したがって、保護層１２には、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。さらに／あるいは、保護層１２には、必要に応じて、偏光サングラスを介して視認する場合の視認性を改善する処理（代表的には、（楕）円偏光機能を付与すること、超高位相差を付与すること）が施されていてもよい。このような処理を施すことにより、偏光サングラス等の偏光レンズを介して表示画面を視認した場合でも、優れた視認性を実現することができる。したがって、位相差層付偏光板は、屋外で用いられ得る画像表示装置にも好適に適用され得る。

保護層の厚みは、好ましくは１０μｍ～５０μｍ、より好ましくは１０μｍ～３０μｍである。なお、表面処理が施されている場合、外側保護層の厚みは、表面処理層の厚みを含めた厚みである。

Ｃ．位相差層
上記のとおり、位相差層２０は代表的には円偏光機能または楕円偏光機能を有する。位相差層は、代表的には、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係を示す。位相差層は、代表的には偏光板に反射防止特性を付与するために設けられ、位相差層が単一層である場合にはλ／４板として機能し得る。この場合、位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ～１９０ｎｍ、より好ましくは１１０ｎｍ～１７０ｎｍ、さらに好ましくは１３０ｎｍ～１６０ｎｍである。なお、ここで「ｎｙ＝ｎｚ」はｎｙとｎｚが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ｎｙ＞ｎｚまたはｎｙ＜ｎｚとなる場合があり得る。位相差層は、好ましくは円偏光機能または楕円偏光機能を有する液晶化合物の配向固化層である。

位相差層２０が単一層で構成される場合、その厚みは好ましくは０．５μｍ～７μｍであり、より好ましくは１μｍ～５μｍである。液晶化合物を用いることにより、樹脂フィルムよりも格段に薄い厚みで樹脂フィルムと同等の面内位相差を実現することができる。

位相差層のＮｚ係数は、好ましくは０．９～１．５であり、より好ましくは０．９～１．３である。このような関係を満たすことにより、得られる位相差層付偏光板を画像表示装置に用いた場合に、非常に優れた反射色相を達成し得る。

位相差層は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。１つの実施形態においては、位相差層は、逆分散波長特性を示す。この場合、位相差層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０．８以上１未満であり、より好ましくは０．８以上０．９５以下である。このような構成であれば、非常に優れた反射防止特性を実現することができる。

位相差層２０の遅相軸と偏光子１１の吸収軸とのなす角度θは、好ましくは４０°～５０°であり、より好ましくは４２°～４８°であり、さらに好ましくは約４５°である。角度θがこのような範囲であれば、上記のように位相差層をλ／４板とすることにより、非常に優れた円偏光特性（結果として、非常に優れた反射防止特性）を有する位相差層付偏光板が得られ得る。

別の実施形態においては、位相差層２０は、第１の液晶配向固化層と第２の液晶配向固化層との積層構造を有し得る。この場合、第１の液晶配向固化層および第２の液晶配向固化層のいずれか一方がλ／４板として機能し、他方がλ／２板として機能し得る。したがって、第１の液晶配向固化層および第２の液晶配向固化層の厚みは、λ／４板またはλ／２板の所望の面内位相差が得られるよう調整され得る。例えば、第１の液晶配向固化層がλ／２板として機能し、第２の液晶配向固化層がλ／４板として機能する場合、第１の液晶配向固化層の厚みは例えば２．０μｍ～３．０μｍであり、第２の液晶配向固化層の厚みは例えば１．０μｍ～２．０μｍである。この場合、第１の液晶配向固化層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは２００ｎｍ～３００ｎｍであり、より好ましくは２３０ｎｍ～２９０ｎｍであり、さらに好ましくは２５０ｎｍ～２８０ｎｍである。第２の液晶配向固化層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、単一層に関して上記で説明したとおりである。

第１の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは１０°～２０°であり、より好ましくは１２°～１８°であり、さらに好ましくは約１５°である。第２の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは７０°～８０°であり、より好ましくは７２°～７８°であり、さらに好ましくは約７５°である。このような構成であれば、理想的な逆波長分散特性に近い特性を得ることが可能であり、結果として、非常に優れた反射防止特性を実現することができる。

上記のとおり、位相差層２０は好ましくは液晶化合物の配向固化層である。液晶化合物を用いることにより、得られる位相差層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための位相差層の厚みを格段に小さくすることができる。その結果、位相差層付偏光板のさらなる薄型化を実現することができる。本明細書において「液晶配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、後述のように液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。

液晶化合物の配向固化層である位相差層は、重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成され得る。本明細書において組成物に含まれる重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物をいう。重合性基は、重合反応に関与する基を意味し、好ましくは光重合性基である。ここで、光重合性基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基をいう。

液晶性の発現は、サーモトロピックであってもよく、リオトロピックであってもよい。また、液晶相の構成としてはネマチック液晶であってもよく、スメクチック液晶であってもよい。製造の容易さという観点から、液晶性はサーモトロピックのネマチック液晶が好ましい。

１つの実施形態において、単一層である位相差層は、下記式（１）で表される液晶化合物を含む組成物を用いて形成される。
Ｌ^１－ＳＰ^１－Ａ^１－Ｄ^３－Ｇ^１－Ｄ^１－Ａｒ－Ｄ^２－Ｇ^２－Ｄ^４－Ａ^２－ＳＰ^２－Ｌ^２ （１）

Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立して、１価の有機基を表し、Ｌ^１およびＬ^２の少なくとも一方は重合性基を表す。１価の有機基としては任意の適切な基が含まれる。Ｌ^１およびＬ^２の少なくとも一方が示す重合性基としては、ラジカル重合性基（ラジカル重合可能な基）が挙げられる。ラジカル重合性基としては、任意の適切なラジカル重合性基を用いることができる。好ましくはアクリロイル基またはメタクリロイル基である。重合速度が速く、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましい。メタクリロイル基も高複屈折性液晶の重合性基として同様に使用できる。

ＳＰ^１およびＳＰ^２は、それぞれ独立して、単結合、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、または、炭素数１～１４の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－に置換された２価の連結基を表す。炭素数１～１４の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基としては、好ましくは、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基およびへキシレン基が挙げられる。

Ａ^１およびＡ^２は、それぞれ独立して、脂環式炭化水素基または芳香族環置換基を表す。Ａ^１およびＡ^２は好ましくは炭素数６以上の芳香族環置換基または炭素数６以上のシクロアルキレン環である。

Ｄ^１、Ｄ^２、Ｄ^３およびＤ^４は、それぞれ独立して、単結合または二価の連結基を表す。具体的には、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｄ^３およびＤ^４は、単結合、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＲ^３Ｒ^４－、－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＮＲ^１－ＣＲ^２Ｒ^３－、または、－ＣＯ－ＮＲ^１－を表す。ただし、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｄ^３およびＤ^４の少なくとも一つは－Ｏ－ＣＯ－を表す。なかでも、Ｄ^３が－Ｏ－ＣＯ－であることが好ましく、Ｄ^３およびＤ^４が－Ｏ－ＣＯ－であることがより好ましい。Ｄ¹およびＤ^２は、好ましくは、単結合である。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。

Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立して、単結合または脂環式炭化水素基を表す。具体的には、Ｇ^１およびＧ^２は無置換または置換された炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表してもよい。また、脂環式炭化水素基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－または－ＮＨ－で置換されていてもよい。Ｇ^１およびＧ^２は、好ましくは単結合を表す。

Ａｒは、芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表す。Ａｒは、例えば、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－６）で表される基からなる群より選択される芳香族環を表す。なお、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－６）中、＊１はＤ^１との結合位置を表し、＊２はＤ^２との結合位置を表す。

式（Ａｒ－１）中、Ｑ^１は、ＮまたはＣＨを表し、Ｑ^２は、－Ｓ－、－Ｏ－、または、－Ｎ（Ｒ^５）－を表す。Ｒ^５は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表す。

式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－６）中、Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＮＲ^６Ｒ^７、または、－ＳＲ^８を表す。Ｒ^６～Ｒ^８は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｚ^１およびＺ^２は、互いに結合して環を形成してもよい。環は、脂環式、複素環、および、芳香族環のいずれであってもよく、好ましくは芳香環である。形成される環には、置換基が置換していてもよい。

式（Ａｒ－２）および（Ａｒ－３）中、Ａ^３およびＡ^４は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^９）－、－Ｓ－、および、－ＣＯ－からなる群より選択される基を表し、Ｒ^９は、水素原子または置換基を表す。Ｒ^９が示す置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。

式（Ａｒ－２）中、Ｘは、水素原子もしくは無置換または置換基を有する第１４族～第１６族の非金属原子を表す。Ｘが表す第１４族～第１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、無置換または置換基を有する窒素原子、無置換または置換基を有する炭素原子が挙げられる。置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。

式（Ａｒ－３）中、Ｄ^５およびＤ^６は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＲ^３Ｒ^４－、－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＮＲ^１－ＣＲ^２Ｒ^３－、または、－ＣＯ－ＮＲ^１－を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、上記のとおりである。

式（Ａｒ－３）中、ＳＰ^３およびＳＰ^４は、それぞれ独立して、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、重合性基を表す。

式（Ａｒ－３）中、Ｌ^３およびＬ^４は、それぞれ独立して、１価の有機基を表し、Ｌ^３およびＬ^４ならびに上記式（１）中のＬ^１およびＬ^２の少なくとも１つが重合性基を表す。

式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－６）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香族環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－６）中、Ａｘは、好ましくは、芳香族複素環を有し、より好ましくはベンゾチアゾール環を有する。式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－６）中、Ａｙは、水素原子、無置換または置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選択される少なくとも１つの芳香族環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－６）中、Ａｙは、好ましくは水素原子を表す。

式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－６）中、Ｑ^３は、水素原子、または、無置換または置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－６）中、Ｑ^３は、好ましくは水素原子を表す。

このようなＡｒのなかでは、好ましくは、上記式（Ａｒ－４）または上記式（Ａｒ－６）で表される基（原子団）が挙げられる。

式（１）で表される液晶化合物の具体例は国際公開第２０１８／１２３５５１号公報に開示されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。これらの化合物は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

液晶化合物を含む組成物は、好ましくは重合開始剤を含む。重合開始剤としては、任意の適切な重合剤が用いられる。好ましくは紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤である。光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、米国特許第２３６７６７０号の明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、米国特許第２９５１７５８号の明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報、特開平１０－２９９９７号公報記載）が挙げられる。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。重合開始剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

液晶化合物を含む組成物は、位相差層を形成する作業性の観点から、溶媒を含むことが好ましい。溶媒としては任意の適切な溶媒を用いることができ、好ましくは有機溶媒が用いられる。

液晶化合物を含む組成物は、任意の適切な他の成分をさらに含む。例えば、フェノール系酸化防止剤などの酸化防止剤、上記以外の液晶化合物、レベリング剤、界面活性剤、チルト角制御剤、配向助剤、可塑剤、および、架橋剤などが挙げられる。

液晶配向固化層は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む組成物（塗工液）を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。１つの実施形態においては、基材は任意の適切な樹脂フィルムであり、当該基材上に形成された液晶配向固化層は、偏光板の表面に転写され得る。

上記配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。

液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。

配向状態の固定は、１つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性モノマーまたは架橋性モノマーである場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。

配向固化層の形成方法の詳細は、特開２００６－１６３３４３号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。

Ｄ．別の位相差層
別の位相差層は、上記のとおり、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す、いわゆるポジティブＣプレートであり得る。別の位相差層としてポジティブＣプレートを用いることにより、斜め方向の反射を良好に防止することができ、反射防止機能の広視野角化が可能となる。この場合、別の位相差層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは－５０ｎｍ～－３００ｎｍ、より好ましくは－７０ｎｍ～－２５０ｎｍ、さらに好ましくは－９０ｎｍ～－２００ｎｍ、特に好ましくは－１００ｎｍ～－１８０ｎｍである。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。すなわち、別の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は１０ｎｍ未満であり得る。

ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を有する別の位相差層は、任意の適切な材料で形成され得る。別の位相差層は、好ましくは、ホメオトロピック配向に固定された液晶材料を含むフィルムからなる。ホメオトロピック配向させることができる液晶材料（液晶化合物）は、液晶モノマーであっても液晶ポリマーであってもよい。当該液晶化合物および当該位相差層の形成方法の具体例としては、特開２００２－３３３６４２号公報の［００２０］～［００２８］に記載の液晶化合物および当該位相差層の形成方法が挙げられる。この場合、別の位相差層の厚みは、好ましくは０．５μｍ～１０μｍであり、より好ましくは０．５μｍ～８μｍであり、さらに好ましくは０．５μｍ～５μｍである。

Ｅ．粘着剤層
粘着剤層３０を構成する粘着剤としては、任意の適切な粘着剤を用いることができる。粘着剤としては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤などが挙げられる。これら粘着剤のなかでも、光学的透明性に優れ、適宜な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく使用される。このような特徴を示すものとしてアクリル系粘着剤が好ましく使用される。

Ｆ．導電層または導電層付等方性基材
導電層は、任意の適切な成膜方法（例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法等）により、任意の適切な基材上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム－スズ複合酸化物、スズ－アンチモン複合酸化物、亜鉛－アルミニウム複合酸化物、インジウム－亜鉛複合酸化物が挙げられる。なかでも好ましくは、インジウム－スズ複合酸化物（ＩＴＯ）である。

導電層が金属酸化物を含む場合、該導電層の厚みは、好ましくは５０ｎｍ以下であり、より好ましくは３５ｎｍ以下である。導電層の厚みの下限は、好ましくは１０ｎｍである。

導電層は、上記基材から位相差層（存在する場合には別の位相差層）に転写されて導電層単独で位相差層付偏光板の構成層とされてもよく、基材との積層体（導電層付基材）として位相差層（存在する場合には別の位相差層）に積層されてもよい。好ましくは、上記基材は光学的に等方性であり、したがって、導電層は導電層付等方性基材として位相差層付偏光板に用いられ得る。

光学的に等方性の基材（等方性基材）としては、任意の適切な等方性基材を採用し得る。等方性基材を構成する材料としては、例えば、ノルボルネン系樹脂やオレフィン系樹脂などの共役系を有さない樹脂を主骨格としている材料、ラクトン環やグルタルイミド環などの環状構造をアクリル系樹脂の主鎖中に有する材料などが挙げられる。このような材料を用いると、等方性基材を形成した際に、分子鎖の配向に伴う位相差の発現を小さく抑えることができる。等方性基材の厚みは、好ましくは５０μｍ以下であり、より好ましくは３５μｍ以下である。等方性基材の厚みの下限は、例えば２０μｍである。

上記導電層および／または上記導電層付等方性基材の導電層は、必要に応じてパターン化され得る。パターン化によって、導通部と絶縁部とが形成され得る。結果として、電極が形成され得る。電極は、タッチパネルへの接触を感知するタッチセンサ電極として機能し得る。パターニング方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。パターニング方法の具体例としては、ウエットエッチング法、スクリーン印刷法が挙げられる。

Ｇ．位相差層付偏光板の製造方法
本発明の実施形態の位相差層付偏光板は任意の適切な方法で製造することができる。１つの実施形態において、位相差層付偏光板は設計したサイズの矩形に切断した偏光板と位相差層とを、該矩形の長辺方向と位相差層の遅相軸方向とが平行となるように任意の適切な接着剤を介して積層することにより作製され得る。偏光版と位相差層とを積層する際、偏光子の吸収軸と位相差層の遅相軸とが所定の角度となるよう積層され得る。

１つの実施形態において、位相差層付偏光板は大形（例えば、長尺状）の偏光板と位相差層とを偏光子の吸収軸と位相差層の遅相軸とが所定の角度となるよう任意の適切な接着剤を介して積層し、次いで得られる位相差層付偏光板の長辺方向と位相差層の遅相軸とが平行となるよう、設計したサイズの矩形に切断することにより、作製され得る。

Ｈ．画像表示装置
上記Ａ項からＦ項に記載の位相差層付偏光板は、画像表示装置に適用され得る。したがって、本発明の実施形態は、そのような位相差層付偏光板を用いた画像表示装置を包含する。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置）が挙げられる。本発明の実施形態による画像表示装置は、その視認側に上記Ａ項からＦ項に記載の位相差層付偏光板を備える。位相差層付偏光板は、位相差層が画像表示セル（例えば、液晶セル、有機ＥＬセル、無機ＥＬセル）側となるように（偏光子が視認側となるように）積層されている。１つの実施形態においては、画像表示装置は、湾曲した形状（実質的には、湾曲した表示画面）を有し、および／または、折り曲げもしくは折り畳み可能である。

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。各特性の測定方法は以下の通りである。なお、特に明記しない限り、実施例および比較例における「部」および「％」は重量基準である。

（１）厚み
１０μｍ以下の厚みは、干渉膜厚計（大塚電子社製、製品名「ＭＣＰＤ－３０００」）を用いて測定した。１０μｍを超える厚みは、デジタルマイクロメーター（アンリツ社製、製品名「ＫＣ－３５１Ｃ」）を用いて測定した。

（２）位相差低下
実施例および比較例で得られた位相差層付偏光板の粘着剤層を厚さ０．５ｍｍのガラス板（８０ｍｍ×１５０ｍｍ）に貼り合わせ積層し、位相差測定装置（王子計測機器社製、製品名：ＫＯＢＲＡ）で位相差値（初期位相差値）を測定した。次いで、キセノン対候性試験機（東洋精機製作所社製、製品名：アトラス・ウエザオメータ Ｃｉ４４００、インナーフィルター：ボロシリケート タイプＳ、アウターフィルター：ソーダライム）を用いて、ＢＰ（ブラックパネル）温度５５℃、湿度５５％ＲＨの条件下で、波長４２０ｎｍで０．８Ｗ／ｍ^２の条件でキセノンを１００時間照射した。次いで、同様に位相差層付偏光板の位相差値を測定し、初期位相差値との差を算出し、位相差低下量とした。

（３）寸法収縮
実施例および比較例で得られた位相差層付偏光板の粘着剤層を厚さ０．５ｍｍのガラス板（８０ｍｍ×１５０ｍｍ）に貼り合わせ積層した。次いで、キセノン対候性試験機（東洋精機製作所社製、製品名：アトラス・ウエザオメータ Ｃｉ４４００、インナーフィルター：ボロシリケート タイプＳ、アウターフィルター：ソーダライム）を用いて、ＢＰ（ブラックパネル）温度５５℃、湿度５５％ＲＨの条件下で、波長４２０ｎｍで０．８Ｗ／ｍ^２の条件でキセノンを１００時間照射した。次いで、ＸＹ測長機（ミツトヨ社製、製品名：画像測定機 ＱＶＡ１５１７－ＰＲＯ ＡＥＩＭ（ＳＰ））を用いて位相差層付偏光板の短辺側の寸法収縮を測定した。収縮量が最も大きい部分を位相差層付偏光板の寸法収縮量とした。また、測定した寸法収縮量から下記式を用いて収縮率を算出した。

短辺方向の収縮率＝（短辺方向の収縮距離）／（キセノン光照射前の短辺の長さ）×１００

［実施例１］
［製造例１：偏光板の作製］
１．偏光子の作製
熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、吸水率０．７５％、Ｔｇ約７５℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：１００μｍ）を用いた。樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）およびアセトアセチル変性ＰＶＡ（日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマーＺ４１０」）を９：１で混合したＰＶＡ系樹脂１００重量部に、ヨウ化カリウム１３重量部を添加したものを水に溶かし、ＰＶＡ水溶液（塗布液）を調製した。
樹脂基材のコロナ処理面に、上記ＰＶＡ水溶液を塗布して６０℃で乾燥することにより、厚み１３μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、１３０℃のオーブン内で周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に２．４倍に自由端一軸延伸した（空中補助延伸処理）。
次いで、積層体を、液温４０℃の不溶化浴（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（不溶化処理）。
次いで、液温３０℃の染色浴（水１００重量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを１：７の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液）に、最終的に得られる偏光子の単体透過率（Ｔｓ）が４３．０％以上となるように濃度を調整しながら６０秒間浸漬させた（染色処理）。
次いで、液温４０℃の架橋浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを３重量部配合し、ホウ酸を５重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（架橋処理）。
その後、積層体を、液温７０℃のホウ酸水溶液（ホウ酸濃度３．７重量％、ヨウ化カリウム濃度５重量％）に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に総延伸倍率が５．５倍となるように一軸延伸を行った（水中延伸処理）。
その後、積層体を液温２０℃の洗浄浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを４重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させた（洗浄処理）。
その後、９０℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が７５℃に保たれたＳＵＳ製の加熱ロールに約２秒接触させた（乾燥収縮処理）。乾燥収縮処理による積層体の幅方向の収縮率は５．２％であった。
このようにして、樹脂基材上に厚み５μｍの偏光子（ホウ酸含有量２０重量％）を形成した。

２．偏光板の作製
上記で得られた偏光子の表面（樹脂基材とは反対側の面）に、保護層としてＨＣ－ＣＯＰフィルムを、紫外線硬化型接着剤を介して貼り合せた。具体的には、硬化型接着剤の総厚みが１．０μｍになるように塗工し、ロール機を使用して貼り合わせた。その後、ＵＶ光線を保護層側から照射して接着剤を硬化させた。なお、ＨＣ－ＣＯＰフィルムは、シクロオレフィン（ＣＯＰ）フィルム（日本ゼオン社製、製品名「ＺＦ１２」、厚み２５μｍ）にハードコート（ＨＣ）層（厚み２μｍ）が形成されたフィルムであり、ＣＯＰフィルムが偏光子側となるようにして貼り合わせた。次いで、樹脂基材を剥離し、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子の構成を有する偏光板を得た。

［製造例２：位相差層の作製］
式（Ｉ）で示される化合物５５重量部と、式（ＩＩ）で示される化合物２５重量部と、式（ＩＩＩ）で示される化合物２０重量部とを、シクロペンタノン（ＣＰＮ）４００重量部に加えた後、６０℃に加温、撹拌して溶解させた。その後、上記した化合物の溶液を室温に戻し、上記した化合物の溶液に、イルガキュア９０７（ＢＡＳＦジャパン社製）３重量部と、メガファックＦ－５５４（ＤＩＣ社製）０．２重量部と、ｐ－メトキシフェノール（ＭＥＨＱ）０．１重量部とを加えて、さらに撹拌した。撹拌後の溶液は、透明で均一であった。得られた溶液を０．２０μｍのメンブランフィルターでろ過し、重合性組成物を得た。
また、配向膜用ポリイミド溶液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得た。得られた塗膜を、市販のラビング装置によってラビング処理し、配向膜を形成した。
次いで、基材（実質的には、配向膜）に、上記で得られた重合性組成物をスピンコート法で塗布し、１００℃で２分乾燥した。得られた塗布膜を室温まで冷却した後、高圧水銀ランプを用いて、３０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で３０秒間紫外線を照射して、液晶化合物の配向固化層である位相差層を得た。位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は１３０ｎｍであった。また、位相差層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８５１であり、逆分散波長特性を示した。位相差層は、λ／４板として機能し得る。

［製造例３：別の位相差層の作製］
下記化学式（式中の数字６５および３５はモノマーユニットのモル％を示し、便宜的にブロックポリマー体で表している：重量平均分子量５０００）で示される側鎖型液晶ポリマー２０重量部、ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２）８０重量部および光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製：商品名イルガキュア９０７）５重量部をシクロペンタノン２００重量部に溶解して液晶塗工液を調製した。そして、垂直配向処理を施したＰＥＴ基材に当該塗工液をバーコーターにより塗工した後、８０℃で４分間加熱乾燥することによって液晶を配向させた。この液晶層に紫外線を照射し、液晶層を硬化させることにより、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示す第２の位相差層（厚み３μｍ）を基材上に形成した。

製造例１で得られた偏光板の偏光子表面に、製造例２で得られた位相差層と製造例３で得られた別の位相差層をこの順に転写した。このとき、偏光子の吸収軸と製造例２で得られた位相差層の遅相軸とのなす角度が４５°になるようにして転写（貼り合わせ）を行った。なお、それぞれの転写（貼り合わせ）は、製造例１で用いた紫外線硬化型接着剤（厚み１．０μｍ）を介して行った。このようにして、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子／接着剤層／位相差層／接着剤層／別の位相差層の構成を有する積層体を作製した。次いで、位相差層付偏光板の長辺方向と位相差層の遅相軸とが平行になるよう、長辺１３０ｍｍ、短辺６６ｍｍの矩形に積層体を切断した。

次いで、別の位相差層表面に粘着剤層（厚み５μｍ）を設け、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子／保護層（トリアセチルセルロースフィルム）／接着剤層／位相差層／接着剤層／別の位相差層／粘着剤層の構成を有する位相差層付偏光板を得た。得られた位相差層付偏光板の総厚みは１００μｍであった。得られた位相差層付偏光板を上記（２）および（３）の評価に供した。結果を表１に示す。

［実施例２～４］
偏光子の作製工程において、架橋処理工程で用いるホウ酸水溶液の濃度を変更して、表１に記載のホウ酸含有量の偏光子を得たこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

（比較例１）
実施例１と同様にして、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子／接着剤層／位相差層（位相差層／接着剤層／別の位相差層）の構成を有する積層体を作製した。次いで、位相差層付偏光板の長辺方向と位相差層の遅相軸とが直交するよう、長辺１３０ｍｍ、短辺６６ｍｍの矩形に積層体を切断した。

次いで、別の位相差層表面に粘着剤層（厚み１５μｍ）を設け、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子／接着剤層／位相差層／接着剤層／別の位相差層／粘着剤層の構成を有する位相差層付偏光板を得た。得られた位相差層付偏光板の総厚みは３９．５μｍであった。得られた位相差層付偏光板を上記（２）および（３）の評価に供した。結果を表１に示す。

（比較例２～６）
偏光子の作製工程において、架橋処理工程で用いるホウ酸水溶液の濃度を変更して、表１に記載のホウ酸含有量の偏光子を得たこと以外は比較例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［評価］
表１から明らかなように、本発明の実施例の位相差層付偏光板は、対候性試験に供された場合であっても位相差の低下が抑制され、高い耐光性および耐久性を有するものであった。

本発明の位相差層付偏光板は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置および無機ＥＬ表示装置用の円偏光板として好適に用いられる。

１０ 偏光板
１１ 偏光子
１２ 保護層
２０ 位相差層
３０ 粘着剤層
１００ 位相差層付偏光板

Claims (9)

1. 偏光子を含む偏光板と、位相差層と、を有する矩形の位相差層付偏光板であって、
   該位相差層付偏光板の長辺方向と該位相差層の遅相軸方向とが平行である、位相差層付偏光板。
2. 前記偏光子のホウ酸含有量が２５重量％以下である、請求項１に記載の位相差層付偏光板。
3. 前記偏光子の吸収軸と前記位相差層付偏光板の長辺方向とがなす角度が３５°～５５°である、請求項１または２に記載の位相差層付偏光板。
4. 前記位相差層付偏光板の長辺の長さと短辺の長さの比が１．１～３．０である、請求項１から３のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
5. 前記位相差層が円偏光機能または楕円偏光機能を有する液晶化合物の配向固化層である、請求項１から４のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
6. 前記位相差層付偏光板の５５℃、５０％ＲＨ条件下でキセノン光を１００時間照射したときの短辺方向の寸法収縮率が０．０７６％以上である、請求項１から５のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
7. 総厚みが６０μｍ以下である、請求項１から６のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
8. 請求項１から７のいずれかに記載の位相差層付偏光板を備える、画像表示装置。
9. 有機エレクトロルミネセンス表示装置または無機エレクトロルミネセンス表示装置である、請求項８に記載の画像表示装置。

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