JP2023137179A - on-chip antenna - Google Patents
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Abstract
【課題】オンチップアンテナの信号放射量を増加させること。【解決手段】オンチップアンテナは、ハンドル層1と、ハンドル層1上に設けられた第1絶縁層2と、第1絶縁層2上に設けられたデバイス層3と、デバイス層3上に設けられた第2絶縁層4と、第2絶縁層4上に設けられたアンテナ5と、を有している。ハンドル層1と、第1絶縁層2と、デバイス層3はSOI基板を用いて構成されている。ハンドル層1とデバイス層3のうち、デバイス層3はグランドに接続され、ハンドル層1はフローティングにされている。【選択図】図1[Problem] To increase the amount of signal radiation of an on-chip antenna. [Solution] The on-chip antenna includes a handle layer 1, a first insulating layer 2 provided on the handle layer 1, a device layer 3 provided on the first insulating layer 2, and a device layer 3 provided on the device layer 3. and an antenna 5 provided on the second insulating layer 4. The handle layer 1, the first insulating layer 2, and the device layer 3 are constructed using an SOI substrate. Of the handle layer 1 and the device layer 3, the device layer 3 is connected to ground, and the handle layer 1 is floating. [Selection diagram] Figure 1
Description
本発明は、半導体集積回路チップとアンテナが一体化されたオンチップアンテナに関するものである。 The present invention relates to an on-chip antenna in which a semiconductor integrated circuit chip and an antenna are integrated.
小型化や低コスト化のために、半導体集積回路のチップ上にアンテナを設けて一体化したオンチップアンテナが知られている。 On-chip antennas are known in which an antenna is provided and integrated on a semiconductor integrated circuit chip in order to reduce size and cost.
非特許文献1には、Si基板上にミアンダダイポールアンテナを形成したオンチップアンテナが記載されている。 Non-Patent Document 1 describes an on-chip antenna in which a meander dipole antenna is formed on a Si substrate.
特許文献1には、オンチップコイルの直下に絶縁層を格子状に形成することが記載されている。これにより渦電流の発生を抑制して磁界放射量を向上させることが記載されている。 Patent Document 1 describes that an insulating layer is formed in a lattice shape directly under an on-chip coil. It is described that this suppresses the generation of eddy currents and improves the amount of magnetic field radiation.
特許文献2には、オンチップコイルの直下に空乏層を形成することが記載されている。これにより、特許文献1と同様に渦電流の発生を抑制することが記載されている。 Patent Document 2 describes that a depletion layer is formed directly under an on-chip coil. It is described that this suppresses the generation of eddy currents similarly to Patent Document 1.
非特許文献1のように、一般的なSi基板では、オンチップアンテナと混載される回路の動作のためにSi基板がグランドに接続される。そのため、オンチップアンテナの下面がグランド面となり、オンチップアンテナからの信号放射量が低下するという問題があった。 As in Non-Patent Document 1, in a general Si substrate, the Si substrate is connected to the ground for the operation of a circuit mounted together with an on-chip antenna. Therefore, there was a problem in that the lower surface of the on-chip antenna became a ground plane, and the amount of signal radiation from the on-chip antenna decreased.
また、特許文献1、2の方法は磁界放射型のアンテナには有効であるが、電界放射型のアンテナでは効果が得られにくい。 Furthermore, although the methods of Patent Documents 1 and 2 are effective for magnetic field emission type antennas, they are difficult to obtain effects for electric field emission type antennas.
そこで本発明の目的は、オンチップアンテナの信号放射量を増加させることである。 Therefore, an object of the present invention is to increase the amount of signal radiation of an on-chip antenna.
本発明は、Siからなるハンドル層と、前記ハンドル層上に設けられ、絶縁体からなる第1絶縁層と、前記第1絶縁層上に設けられ、Siからなるデバイス層と、前記デバイス層上に設けられ、絶縁体からなる第2絶縁層と、前記第2絶縁層上に設けられ、所定の平面パターンの導電体からなるアンテナと、を有し、前記ハンドル層と前記デバイス層の少なくとも一方はフローティングである、ことを特徴とするオンチップアンテナである。 The present invention includes a handle layer made of Si, a first insulating layer made of an insulator provided on the handle layer, a device layer made of Si provided on the first insulating layer, and a device layer made of Si provided on the device layer. a second insulating layer made of an insulator, and an antenna made of a conductor with a predetermined planar pattern and provided on the second insulating layer, and at least one of the handle layer and the device layer. is an on-chip antenna characterized by being floating.
本発明において、ハンドル層とデバイス層のうち薄い方がグランドに接続されていることが好ましい。 In the present invention, it is preferable that the thinner one of the handle layer and the device layer is connected to ground.
本発明において、ハンドル層がグランドに接続されていてもよい。 In the present invention, the handle layer may be connected to ground.
本発明において、ハンドル層およびデバイス層の抵抗率は10Ω・cm以下であることが好ましい。 In the present invention, the resistivity of the handle layer and the device layer is preferably 10 Ω·cm or less.
本発明において、アンテナは、電界放射型であってもよい。 In the present invention, the antenna may be of an electric field emission type.
本発明において、アンテナは、ミアンダアンテナであり、デバイス層は、Si発振回路を含んでいてもよい。 In the present invention, the antenna may be a meander antenna, and the device layer may include a Si oscillation circuit.
本発明によれば、オンチップアンテナの信号放射量を増加させることができる。 According to the present invention, the amount of signal radiation of the on-chip antenna can be increased.
以下、本発明の実施形態について図を参照に説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態のオンチップアンテナの構成を示した図である。図1のように、第1実施形態のオンチップアンテナは、ハンドル層1と、ハンドル層1上に設けられた第1絶縁層2と、第1絶縁層2上に設けられたデバイス層3と、デバイス層3上に設けられた第2絶縁層4と、第2絶縁層4上に設けられたアンテナ5と、を有している。ハンドル層1と、第1絶縁層2と、デバイス層3はSOI基板を用いて構成されている。
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of an on-chip antenna according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the on-chip antenna of the first embodiment includes a handle layer 1, a first insulating layer 2 provided on the handle layer 1, and a device layer 3 provided on the first insulating layer 2. , a second insulating layer 4 provided on the device layer 3, and an antenna 5 provided on the second insulating layer 4. The handle layer 1, the first insulating layer 2, and the device layer 3 are constructed using an SOI substrate.
ハンドル層1は、Siからなる層である。ハンドル層1の厚さは、たとえば100~1000μmである。ハンドル層1には伝導型制御のため不純物がドーピングされていてもよく、n型、真性、p型のいずれでもよい。 The handle layer 1 is a layer made of Si. The thickness of the handle layer 1 is, for example, 100 to 1000 μm. The handle layer 1 may be doped with impurities to control conduction type, and may be n-type, intrinsic, or p-type.
第1絶縁層2は、ハンドル層1上に設けられた絶縁体からなる層である。第1絶縁層2の材料は、ハンドル層1とデバイス層3とを十分に絶縁できる材料であれば任意であり、たとえばSiO2、などである。第1絶縁層2の厚さも、ハンドル層1とデバイス層3とを十分に絶縁できる範囲であればよい。たとえば、0.1~10μmである。 The first insulating layer 2 is a layer made of an insulator provided on the handle layer 1. The first insulating layer 2 may be made of any material as long as it can sufficiently insulate the handle layer 1 and the device layer 3, such as SiO 2 . The thickness of the first insulating layer 2 may also be within a range that can sufficiently insulate the handle layer 1 and the device layer 3. For example, it is 0.1 to 10 μm.
デバイス層3は、第1絶縁層2上に設けられたSiからなる層である。デバイス層3は、Siからなる半導体素子により構成される集積回路(図示しない)を含んでいる。集積回路は、たとえばSi発振回路を含む。デバイス層3の厚さは、たとえば1~100μmである。SOI基板では、通常、ハンドル層1よりもデバイス層3の方が薄い。デバイス層3には伝導型制御のため不純物がドーピングされていてもよく、n型、真性、p型のいずれでもよい。 The device layer 3 is a layer made of Si provided on the first insulating layer 2. The device layer 3 includes an integrated circuit (not shown) constituted by a semiconductor element made of Si. The integrated circuit includes, for example, a Si oscillation circuit. The thickness of the device layer 3 is, for example, 1 to 100 μm. In SOI substrates, the device layer 3 is typically thinner than the handle layer 1. The device layer 3 may be doped with impurities to control the conductivity type, and may be n-type, intrinsic, or p-type.
ハンドル層1およびデバイス層3の抵抗率は10Ω・cm以下が好ましい。ハンドル層1およびデバイス層3の抵抗率が10Ω・cm以下の場合、アンテナ5の直下にSi層が存在していることによるアンテナ5の信号放射量低下が顕著となるが、第1実施形態によれば信号放射量の低下を効果的に抑制できる。より好ましくは5Ω・cm以下、さらに好ましくは1Ω・cm以下である。 The resistivity of the handle layer 1 and the device layer 3 is preferably 10 Ω·cm or less. When the resistivity of the handle layer 1 and the device layer 3 is 10 Ω·cm or less, the signal radiation amount of the antenna 5 is significantly reduced due to the presence of the Si layer directly under the antenna 5. Accordingly, a decrease in signal radiation amount can be effectively suppressed. More preferably, it is 5 Ω·cm or less, and still more preferably 1 Ω·cm or less.
ハンドル層1とデバイス層3のうち、デバイス層3はグランドに接続され、ハンドル層1はフローティングにされている。逆に、ハンドル層1がグランドに接続され、デバイス層3がフローティングにされていてもよい(図2)。また、ハンドル層1とデバイス層3の両方をフローティングとしてもよい。 Of the handle layer 1 and the device layer 3, the device layer 3 is connected to ground, and the handle layer 1 is floating. Conversely, the handle layer 1 may be connected to ground and the device layer 3 may be floating (FIG. 2). Further, both the handle layer 1 and the device layer 3 may be floating.
グランドとの接続は、たとえば次のようにする。第1実施形態のオンチップアンテナを実装する実装基板にグランドパターンを形成し、そのグランドパターンと接続する配線を形成する。そして、ハンドル層1をグランドに接続する場合には、実装基板の配線とハンドル層1とが接するように第1実施形態のオンチップアンテナを実装基板に実装する。デバイス層3をグランドと接続する場合には、第2絶縁層4の一部を除去してデバイス層3を露出させ、第1実施形態のオンチップアンテナを実装基板に実装後、露出させたデバイス層3と実装基板の配線をワイヤボンディングで接続することでグランドと接続する。 For example, connect to ground as follows. A ground pattern is formed on a mounting board on which the on-chip antenna of the first embodiment is mounted, and wiring connected to the ground pattern is formed. When the handle layer 1 is connected to the ground, the on-chip antenna of the first embodiment is mounted on the mounting board so that the wiring of the mounting board and the handle layer 1 are in contact with each other. When connecting the device layer 3 to the ground, a part of the second insulating layer 4 is removed to expose the device layer 3, and after mounting the on-chip antenna of the first embodiment on the mounting board, the exposed device The layer 3 and the wiring of the mounting board are connected to the ground by wire bonding.
第2絶縁層4は、デバイス層3上に設けられた絶縁体からなる層である。第2絶縁層4の材料は、デバイス層3とアンテナ5とを十分に絶縁できる材料であれば任意であり、たとえばSiO2、などである。第1絶縁層2と第2絶縁層4は同一材料でもよい。また、第2絶縁層4の厚さも、デバイス層3とアンテナ5を十分に絶縁できる範囲であればよい。たとえば、1~500μmである。 The second insulating layer 4 is a layer made of an insulator provided on the device layer 3. The second insulating layer 4 may be made of any material as long as it can sufficiently insulate the device layer 3 and antenna 5, such as SiO 2 . The first insulating layer 2 and the second insulating layer 4 may be made of the same material. Further, the thickness of the second insulating layer 4 may be within a range that can sufficiently insulate the device layer 3 and the antenna 5. For example, it is 1 to 500 μm.
アンテナ5は、第2絶縁層4上に設けられ、所定の平面パターンに形成された導電体の膜である。導電体は、Al、Cu、Auなどである。アンテナ5は、デバイス層3の集積回路と接続されている。アンテナ5の位置は、集積回路の上方であってもよい。 The antenna 5 is a conductive film provided on the second insulating layer 4 and formed in a predetermined planar pattern. The conductor is Al, Cu, Au, or the like. The antenna 5 is connected to the integrated circuit of the device layer 3. The position of the antenna 5 may be above the integrated circuit.
アンテナ5の平面パターンは、電磁波の送受信可能な任意のパターンでよい。たとえば、線路をつづら折り状としたメアンダアンテナである(図3参照)。メアンダアンテナとすることでアンテナの帯域幅を広くすることができる。メアンダアンテナはデバイス層3がSi発振回路を含む場合に好適である。Si発振回路はトランジスタの特性ばらつきや温度特性によって周波数にばらつきを有するが、広帯域なメアンダアンテナを用いることで周波数がばらついても動作させることができる。メアンダアンテナの線路幅や折り返し回数などは、共進周波数や帯域幅に応じて設定される。メアンダアンテナ以外にも、正方形、長方形、円形のパッチアンテナなどでもよい。 The planar pattern of the antenna 5 may be any pattern capable of transmitting and receiving electromagnetic waves. For example, there is a meander antenna with a meandering line (see Fig. 3). By using a meander antenna, the antenna bandwidth can be widened. The meander antenna is suitable when the device layer 3 includes a Si oscillation circuit. Although Si oscillation circuits have variations in frequency due to variations in transistor characteristics and temperature characteristics, they can be operated even with variations in frequency by using a wideband meander antenna. The line width and number of turns of the meander antenna are set according to the co-progressive frequency and bandwidth. In addition to the meander antenna, a square, rectangular, or circular patch antenna may also be used.
また、アンテナ5は電界放射型であることが好ましい。従来のオンチップアンテナでは、電界放射型のアンテナの信号放射量を増加させることは困難であったが、第1実施形態のオンチップアンテナでは電界放射型のアンテナであっても信号放射量を増加させることができる。 Moreover, it is preferable that the antenna 5 is of an electric field emission type. With conventional on-chip antennas, it was difficult to increase the signal radiation amount of electric field emission type antennas, but with the on-chip antenna of the first embodiment, even with electric field emission type antennas, it was difficult to increase the signal radiation amount. can be done.
アンテナ5の共振周波数は特に限定されないが、デバイス層3の回路の動作周波数よりも高い周波数が好ましい。たとえば、回路の動作周波数が1~2GHzであれば、アンテナ5の共振周波数は2~3GHzが好ましい。 Although the resonant frequency of the antenna 5 is not particularly limited, a frequency higher than the operating frequency of the circuit of the device layer 3 is preferable. For example, if the operating frequency of the circuit is 1 to 2 GHz, the resonant frequency of the antenna 5 is preferably 2 to 3 GHz.
なお、第2絶縁層4上には、アンテナ5の他、デバイス層3の集積回路の各素子を接続する配線が設けられている(図示しない)。第2絶縁層4に空けられた孔を介してデバイス層3の素子と第2絶縁層4上の配線が接続される。第2絶縁層4と配線を交互に多層にした多層配線としてもよい。 Note that, in addition to the antenna 5, wiring for connecting each element of the integrated circuit of the device layer 3 is provided on the second insulating layer 4 (not shown). The elements of the device layer 3 and the wiring on the second insulating layer 4 are connected through the holes made in the second insulating layer 4 . It may also be a multilayer wiring in which the second insulating layer 4 and the wiring are alternately arranged in multiple layers.
第1実施形態のオンチップアンテナでは、従来のオンチップアンテナに比べて信号放射量を増加させることができる。その理由は以下の通りである。 The on-chip antenna of the first embodiment can increase the amount of signal radiation compared to the conventional on-chip antenna. The reason is as follows.
Siは導電性を有しているため、アンテナ5の下方に存在するグランドと接続されたSi層は、アンテナ5のグランド面として機能する。一般に、アンテナ5の下面にグランド面が存在すると信号放射量が低下してしまう。そこで第1実施形態のオンチップアンテナでは、ハンドル層1とデバイス層3のうち、一方のみをグランドに接続し、他方はフローティングとしている。これにより、グランドと接続されたSi層のトータルの厚さを薄くし、Si層のアンテナ5のグランド面としての機能を弱めている。その結果、第1実施形態のオンチップアンテナではアンテナ5の信号放射量を増加させることができる。 Since Si has conductivity, the Si layer connected to the ground located below the antenna 5 functions as a ground plane of the antenna 5. Generally, if a ground plane exists on the lower surface of the antenna 5, the amount of signal radiation will decrease. Therefore, in the on-chip antenna of the first embodiment, only one of the handle layer 1 and the device layer 3 is connected to the ground, and the other is made floating. As a result, the total thickness of the Si layer connected to the ground is reduced, and the function of the Si layer as a ground plane of the antenna 5 is weakened. As a result, in the on-chip antenna of the first embodiment, the amount of signal radiation of the antenna 5 can be increased.
上記理由からわかるように、ハンドル層1とデバイス層3のうち、薄い方をグランドに接続することが好ましい。通常、SOI基板ではハンドル層1よりもデバイス層3の方が薄いため、デバイス層3をグランドに接続することが好ましいことになる。 As can be seen from the above reasons, it is preferable to connect the thinner one of the handle layer 1 and the device layer 3 to the ground. Generally, in an SOI substrate, the device layer 3 is thinner than the handle layer 1, so it is preferable to connect the device layer 3 to ground.
以上、第1実施形態のオンチップアンテナでは、アンテナ5の信号放射量を向上させることができる。 As described above, in the on-chip antenna of the first embodiment, the amount of signal radiation of the antenna 5 can be improved.
次に、第1実施形態に関するシミュレーション結果について説明する。 Next, simulation results regarding the first embodiment will be explained.
第1実施形態のオンチップアンテナについて、アンテナ5を共振周波数3GHzのミアンダアンテナとしたものを2つ用意し、2つのオンチップアンテナをアンテナ5が5mm離間するように配置した。ハンドル層1とデバイス層3は、グランドに接続した状態とフローティングにした状態とで計4つの状態に変えた。ハンドル層1およびデバイス層3の抵抗率は、40Ω・cm、10Ω・cm、1Ω・cmの3通りとした。以下、ハンドル層1をグランドに接続してデバイス層3をフローティングにしたものを実施例1、デバイス層3をグランドに接続してハンドル層1をフローティングにしたものを実施例2、両方フローティングにしたものを実施例3、両方グランドに接続したものを比較例1とする。なお、アンテナ5はデバイス層3の回路と接続せずに、アンテナ5単体で評価した。 Regarding the on-chip antennas of the first embodiment, two antennas in which the antennas 5 were meander antennas with a resonance frequency of 3 GHz were prepared, and the two on-chip antennas were arranged so that the antennas 5 were separated by 5 mm. The handle layer 1 and the device layer 3 were changed into a total of four states: a grounded state and a floating state. The handle layer 1 and the device layer 3 had three resistivities: 40 Ω·cm, 10 Ω·cm, and 1 Ω·cm. Below, Example 1 is a case where the handle layer 1 is connected to the ground and the device layer 3 is made floating, Example 2 is a case where the device layer 3 is connected to the ground and the handle layer 1 is made floating, and both are made floating. Example 3 is the example in which the two are connected to ground, and Comparative Example 1 is the example in which both are connected to ground. Note that the antenna 5 was evaluated by itself without being connected to the circuit of the device layer 3.
図4~6は、アンテナ5間の信号伝搬量の周波数特性を示したグラフである。図4はハンドル層1およびデバイス層3の抵抗率を40Ω・cmとした場合、図5は10Ω・cmとした場合、図6は1Ω・cmとした場合である。図5、6のグラフを見ると、実施例3、実施例1、実施例2、比較例1の順で信号伝搬量が多いことがわかった。この結果、グランドと接続された層数が少ないほど、信号伝搬量が多くなることがわかった。また、ハンドル層1をグランドと接続した場合よりもデバイス層3をグランドと接続した場合の方が、信号伝搬量が多かったことから、グランドと接続されたSi層(ハンドル層1とデバイス層3)のトータルの厚さが薄いほど、信号伝搬量が多くなることがわかった。また、Si層の抵抗率が低いほど、グランドとの接続状態が信号伝搬量に影響することがわかり、抵抗率が10Ω・cm以下でそれが顕著となることがわかった。 4 to 6 are graphs showing the frequency characteristics of the amount of signal propagation between the antennas 5. FIG. 4 shows the case where the resistivity of the handle layer 1 and the device layer 3 is 40 Ω·cm, FIG. 5 shows the case when it is 10 Ω·cm, and FIG. 6 shows the case when the resistivity is 1 Ω·cm. Looking at the graphs in FIGS. 5 and 6, it was found that the amount of signal propagation was larger in the order of Example 3, Example 1, Example 2, and Comparative Example 1. As a result, it was found that the smaller the number of layers connected to the ground, the greater the amount of signal propagation. In addition, the amount of signal propagation was greater when device layer 3 was connected to ground than when handle layer 1 was connected to ground. ) It was found that the thinner the total thickness, the greater the amount of signal propagation. It was also found that the lower the resistivity of the Si layer, the more the connection state with the ground affects the amount of signal propagation, and it was found that this becomes noticeable when the resistivity is 10 Ω·cm or less.
本発明は各種通信に利用できる。 The present invention can be used for various communications.
1:ハンドル層
2:第1絶縁層
3:デバイス層
4:第2絶縁層
5:アンテナ
1: Handle layer 2: First insulating layer 3: Device layer 4: Second insulating layer 5: Antenna
Claims (6)
前記ハンドル層上に設けられ、絶縁体からなる第1絶縁層と、
前記第1絶縁層上に設けられ、Siからなるデバイス層と、
前記デバイス層上に設けられ、絶縁体からなる第2絶縁層と、
前記第2絶縁層上に設けられ、所定の平面パターンの導電体からなるアンテナと、
を有し、
前記ハンドル層と前記デバイス層の少なくとも一方はフローティングである、
ことを特徴とするオンチップアンテナ。 A handle layer made of Si,
a first insulating layer provided on the handle layer and made of an insulator;
a device layer provided on the first insulating layer and made of Si;
a second insulating layer provided on the device layer and made of an insulator;
an antenna provided on the second insulating layer and made of a conductor with a predetermined planar pattern;
has
at least one of the handle layer and the device layer is floating;
An on-chip antenna characterized by:
The on-chip antenna according to any one of claims 1 to 5, wherein the antenna is a meander antenna, and the device layer includes a Si oscillation circuit.
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| JP2003318626A (en) * | 2002-04-24 | 2003-11-07 | Ngk Spark Plug Co Ltd | Antenna |
| JP2008028691A (en) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Seiko Epson Corp | Antenna device |
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