JP2025037353A

JP2025037353A - Laser processing machine

Info

Publication number: JP2025037353A
Application number: JP2023144233A
Authority: JP
Inventors: 寛和小林; Hirokazu Kobayashi; 紘一井上; Koichi Inoue; 建治安在; Kenji Anzai; 淳梁瀬; Atsushi Yanase; 栄朗三浦; Shigeaki Miura
Original assignee: Amada Co Ltd
Current assignee: Amada Co Ltd
Priority date: 2023-09-06
Filing date: 2023-09-06
Publication date: 2025-03-18
Anticipated expiration: 2043-09-06
Also published as: JP7558359B1; WO2025052772A1

Abstract

To provide a laser beam machine that can suppress heat generation of a galvanometer mirror and vibrate the galvanometer mirror at high frequency.SOLUTION: A first galvanometer mirror 32a has a reflective coating applied to a first incident plane on which a laser beam is incident, and reflects the laser beam incident on the first incident plane. A second galvanometer mirror 32b has a reflective coating applied to a second incident plane on which the laser beam is incident, and reflects the laser beam incident on the second incident plane. The first galvanometer mirror 32a and the second galvanometer mirror 32b are formed of a glass material that transmits a portion of the laser beam that is incident on the first and second incident planes and is not reflected by the reflective coating but is transmitted through the reflective coating and penetrates into an interior. A first damper 41 and a second damper 42 absorb the laser beam transmitted through the first galvanometer mirror 32a and the second galvanometer mirror 32b.SELECTED DRAWING: Figure 15

Description

本発明は、レーザ加工機に関する。 The present invention relates to a laser processing machine.

特許文献１～３には、加工ヘッドから射出されるレーザビームをガルバノスキャナユニットのガルバノミラーによって振動させて、被加工材を加工するレーザ加工機が記載されている。 Patent documents 1 to 3 describe a laser processing machine that processes a workpiece by vibrating a laser beam emitted from a processing head using a galvanometer mirror in a galvanometer scanner unit.

特許第５３８８９４８号公報Patent No. 5388948 特許第６２７２５８７号公報Patent No. 6272587 特許第６７４８１５０号公報Patent No. 6748150

レーザビームを高周波数で振動させるためには、ガルバノミラーを、その剛性を高めることができるケイ素（Ｓｉ）または炭化ケイ素（ＳｉＣ）を材料として形成するのが一般的である。ガルバノミラーの表面には反射コーティングが施されており、入射するレーザビームを反射する。近年、レーザ発振器が射出するレーザビームは高出力化している。反射コーティングによるレーザビームの反射率が例えば９９．９％であったとしても、ケイ素または炭化ケイ素の光吸収率はほぼ１００％であるので、反射コーティングで反射されずに透過する高出力のレーザビームによってガルバノミラーが発熱する。ガルバノミラーを大型化すれば、ガルバノミラーの発熱を抑えることができる。 To make the laser beam oscillate at a high frequency, the galvanometer mirror is generally made of silicon (Si) or silicon carbide (SiC), which can increase its rigidity. The surface of the galvanometer mirror is coated with a reflective coating to reflect the incident laser beam. In recent years, the laser beams emitted by laser oscillators have become increasingly powerful. Even if the reflectivity of the laser beam due to the reflective coating is, for example, 99.9%, the light absorption rate of silicon or silicon carbide is nearly 100%, so the galvanometer mirror will generate heat due to the high-power laser beam that passes through without being reflected by the reflective coating. If the galvanometer mirror is made larger, the heat generation of the galvanometer mirror can be reduced.

一方で、ガルバノミラーの振動周波数を１ｋＨｚ以上の高周波数とすることが要求されることがある。ガルバノミラーを大型化するとイナーシャが大きくなるから、要求される高周波数でガルバノミラーを振動させることが困難となる。そこで、ガルバノミラーの発熱を抑えることができ、ガルバノミラーを高周波数で振動させることができるレーザ加工機の登場が望まれている。 On the other hand, there is a demand for the vibration frequency of the galvanometer mirror to be high, at 1 kHz or more. Increasing the size of the galvanometer mirror increases the inertia, making it difficult to vibrate the galvanometer mirror at the required high frequency. Therefore, there is a demand for a laser processing machine that can suppress heat generation in the galvanometer mirror and vibrate the galvanometer mirror at a high frequency.

１またはそれ以上の実施形態の一態様は、発散光のレーザビームをコリメート光に変換するコリメーションレンズと、前記コリメーションレンズより射出されたレーザビームが入射され、加工対象の被加工材に照射されるレーザビームを振動させるガルバノスキャナユニットと、前記ガルバノスキャナユニットより射出されたレーザビームを集束させて、前記被加工材に照射する集束レンズを有する加工ヘッドとを備え、前記ガルバノスキャナユニットは、レーザビームが入射する第１の入射平面に反射コーティングが施されており、前記第１の入射平面に入射したレーザビームを反射させる第１のガルバノミラーと、前記第１のガルバノミラーを回転させるよう駆動する第１のガルバノモータと、レーザビームが入射する第２の入射平面に反射コーティングが施されており、前記第２の入射平面に入射したレーザビームを反射させる第２のガルバノミラーと、前記第２のガルバノミラーを回転させるよう駆動する第２のガルバノモータとを有し、前記第１及び第２のガルバノミラーは、それぞれ、前記第１及び第２の入射平面に入射したレーザビームのうち、前記反射コーティングで反射せず、前記反射コーティングを透過して内部へと侵入したレーザビームを透過させる硝材で形成され、前記第１及び第２のガルバノミラーを透過したレーザビームを吸収する第１及び第２のダンパをさらに備えるレーザ加工機を提供する。 One aspect of one or more embodiments includes a collimation lens that converts a diverging laser beam into collimated light, a galvanometer scanner unit that receives the laser beam emitted from the collimation lens and vibrates the laser beam to be irradiated onto a workpiece to be processed, and a processing head having a focusing lens that focuses the laser beam emitted from the galvanometer scanner unit and irradiates the workpiece, and the galvanometer scanner unit has a first incident plane on which the laser beam is incident and a first galvanometer mirror that reflects the laser beam incident on the first incident plane, and a focusing lens that rotates the first galvanometer mirror. The laser processing machine includes a first galvanometer motor that drives the first galvanometer mirror, a second incident plane on which the laser beam is incident is coated with a reflective coating, a second galvanometer mirror that reflects the laser beam that is incident on the second incident plane, and a second galvanometer motor that drives to rotate the second galvanometer mirror, the first and second galvanometer mirrors are each made of a glass material that transmits a laser beam that is not reflected by the reflective coating and penetrates the reflective coating and enters the inside of the first and second incident planes, and the laser processing machine further includes a first and second damper that absorbs the laser beam that is transmitted through the first and second galvanometer mirrors.

１またはそれ以上の実施形態に係るレーザ加工機によれば、ガルバノミラーの発熱を抑えることができ、ガルバノミラーを高周波数で振動させることができる。 The laser processing machine according to one or more of the embodiments can suppress heat generation in the galvanometer mirror and can vibrate the galvanometer mirror at a high frequency.

図１は、１またはそれ以上の実施形態に係るレーザ加工機を示す図である。FIG. 1 is a diagram illustrating a laser processing machine according to one or more embodiments. 図２は、１またはそれ以上の実施形態に係るレーザ加工機が備えるガルバノスキャナユニットを示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a galvano scanner unit included in the laser processing machine according to one or more embodiments. 図３は、第１の構成例のガルバノミラーを背面から見た斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of the galvanometer mirror of the first configuration example as seen from behind. 図４は、第１の構成例のガルバノミラーの正面図である。FIG. 4 is a front view of the galvanometer mirror of the first configuration example. 図５は、第１の構成例のガルバノミラーの背面図である。FIG. 5 is a rear view of the galvanometer mirror of the first configuration example. 図６Ａは、直方体のサファイアガラス板から第１の構成例のガルバノミラーを形成するための４つの角部の面取りを示す平面図である。FIG. 6A is a plan view showing the chamfering of four corners for forming a galvanometer mirror of the first configuration example from a rectangular sapphire glass plate. 図６Ｂは、直方体のサファイアガラス板から第１の構成例のガルバノミラーを形成するための部分的な厚みの面取りを示す側面図である。FIG. 6B is a side view showing partial thickness chamfering for forming the galvanometer mirror of the first configuration example from a rectangular sapphire glass plate. 図７は、第１の構成例のガルバノミラーのガルバノモータの軸への取り付け構造を示す斜視図である。FIG. 7 is a perspective view showing a mounting structure of a galvanometer mirror to a shaft of a galvanometer motor in the first configuration example. 図８は、第２の構成例のガルバノミラーを背面から見た斜視図である。FIG. 8 is a perspective view of the galvanometer mirror of the second configuration example as seen from behind. 図９は、第２の構成例のガルバノミラーの正面図である。FIG. 9 is a front view of the galvanometer mirror of the second configuration example. 図１０は、第２の構成例のガルバノミラーの背面図である。FIG. 10 is a rear view of the galvanometer mirror of the second configuration example. 図１１は、直方体の合成石英板から第２の構成例のガルバノミラーを形成するための部分的な厚みの面取りを示す側面図である。FIG. 11 is a side view showing partial thickness chamfering for forming a galvanometer mirror of the second configuration example from a rectangular parallelepiped synthetic quartz plate. 図１２は、第２の構成例の変形例のガルバノミラーを背面から見た斜視図である。FIG. 12 is a perspective view of a galvanometer mirror according to a modification of the second configuration example, as viewed from behind. 図１３は、第２の構成例の変形例のガルバノミラーの変形例の正面図である。FIG. 13 is a front view of a modified galvanometer mirror according to the second configuration example. 図１４は、第２の構成例の変形例のガルバノミラーの変形例の背面図である。FIG. 14 is a rear view of a modified galvanometer mirror according to the second configuration example. 図１５は、第１実施形態に係るレーザ加工機が備えるコリメータユニットの詳細な構成例を示す断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view showing a detailed configuration example of the collimator unit included in the laser processing machine according to the first embodiment. 図１６は、第２実施形態に係るレーザ加工機が備えるコリメータユニットの詳細な構成例を示す断面図である。FIG. 16 is a cross-sectional view showing a detailed configuration example of a collimator unit provided in the laser processing machine according to the second embodiment. 図１７は、第２実施形態に係るレーザ加工機が備えるコリメータユニットの詳細な構成例を示す上面図である。FIG. 17 is a top view showing a detailed configuration example of a collimator unit included in the laser processing machine according to the second embodiment.

以下、１またはそれ以上の実施形態に係るレーザ加工機について、添付図面を参照して説明する。まず、１またはそれ以上の実施形態に係るレーザ加工機の全体的な構成例を説明する。図１において、レーザ加工機１００は、レーザ発振器１０、プロセスファイバ１２、レーザ加工ユニット２０、ＮＣ装置５０、アシストガス供給装置８０を備える。 A laser processing machine according to one or more embodiments will be described below with reference to the accompanying drawings. First, an example of the overall configuration of a laser processing machine according to one or more embodiments will be described. In FIG. 1, the laser processing machine 100 includes a laser oscillator 10, a process fiber 12, a laser processing unit 20, an NC device 50, and an assist gas supply device 80.

レーザ発振器１０はレーザビームを生成して射出し、プロセスファイバ１２はレーザ発振器１０より射出されたレーザビームをレーザ加工ユニット２０へと伝送する。典型的には、レーザ発振器１０は、波長１０６０ｎｍ～１０８０ｎｍのレーザビームを射出するファイバレーザ発振器である。レーザ発振器１０はファイバレーザ発振器に限定されない。ＮＣ装置５０は、レーザ加工機１００の各部を制御する制御装置の一例である。 The laser oscillator 10 generates and emits a laser beam, and the process fiber 12 transmits the laser beam emitted from the laser oscillator 10 to the laser processing unit 20. Typically, the laser oscillator 10 is a fiber laser oscillator that emits a laser beam with a wavelength of 1060 nm to 1080 nm. The laser oscillator 10 is not limited to a fiber laser oscillator. The NC device 50 is an example of a control device that controls each part of the laser processing machine 100.

レーザ加工ユニット２０は、加工対象の被加工材である板金Ｗを載せる加工テーブル２１、門型のＸ軸キャリッジ２２、Ｙ軸キャリッジ２３、Ｙ軸キャリッジ２３に固定されたコリメータユニット３０、加工ヘッド３５を有する。Ｘ軸キャリッジ２２は、加工テーブル２１上でＸ軸方向に移動自在に構成されている。Ｙ軸キャリッジ２３は、Ｘ軸キャリッジ２２上でＸ軸に垂直なＹ軸方向に移動自在に構成されている。Ｘ軸キャリッジ２２及びＹ軸キャリッジ２３は、加工ヘッド３５を板金Ｗの面に沿って、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、または、Ｘ軸方向とＹ軸方向との任意の合成方向に移動させる移動機構として機能する。 The laser processing unit 20 has a processing table 21 on which the sheet metal W, which is the workpiece to be processed, is placed, a gate-shaped X-axis carriage 22, a Y-axis carriage 23, a collimator unit 30 fixed to the Y-axis carriage 23, and a processing head 35. The X-axis carriage 22 is configured to be freely movable in the X-axis direction on the processing table 21. The Y-axis carriage 23 is configured to be freely movable in the Y-axis direction perpendicular to the X-axis on the X-axis carriage 22. The X-axis carriage 22 and the Y-axis carriage 23 function as a movement mechanism that moves the processing head 35 along the surface of the sheet metal W in the X-axis direction, Y-axis direction, or any composite direction of the X-axis direction and the Y-axis direction.

加工ヘッド３５を板金Ｗの面に沿って移動させる代わりに、加工ヘッド３５は位置が固定されていて、板金Ｗが移動するように構成されていてもよい。レーザ加工機１００は、板金Ｗの面に対して加工ヘッド３５を相対的に移動させる移動機構を備えていればよい。 Instead of moving the processing head 35 along the surface of the metal sheet W, the processing head 35 may be configured to be fixed in position and the metal sheet W may move. The laser processing machine 100 may be provided with a movement mechanism that moves the processing head 35 relative to the surface of the metal sheet W.

加工ヘッド３５には、先端部に円形の開口３６ａを有し、開口３６ａよりレーザビームを射出するノズル３６が取り付けられている。ノズル３６の開口３６ａより射出されたレーザビームは板金Ｗに照射される。アシストガス供給装置８０は、アシストガスとして窒素または酸素等を加工ヘッド３５に供給する。板金Ｗの加工時に、アシストガスは開口３６ａより板金Ｗへと吹き付けられる。 The processing head 35 is fitted with a nozzle 36 that has a circular opening 36a at its tip and emits a laser beam from the opening 36a. The laser beam emitted from the opening 36a of the nozzle 36 is irradiated onto the metal sheet W. The assist gas supply device 80 supplies nitrogen, oxygen, or the like as an assist gas to the processing head 35. When the metal sheet W is processed, the assist gas is sprayed onto the metal sheet W from the opening 36a.

図２に示すように、コリメータユニット３０は、コリメーションレンズ３０１、ガルバノスキャナユニット３０２、ベンドミラー３０３を備える。コリメーションレンズ３０１は、プロセスファイバ１２より射出された発散光のレーザビームを平行光（コリメート光）に変換する。ガルバノスキャナユニット３０２は、ガルバノミラー３２ａ（第１のガルバノミラー）及びガルバノミラー３２ｂ（第２のガルバノミラー）をそれぞれ所定の角度の範囲で回転させるよう駆動するガルバノモータ３３ａ（第１のガルバノモータ）及びガルバノモータ３３ｂ（第２のガルバノモータ）を有する。 As shown in FIG. 2, the collimator unit 30 includes a collimation lens 301, a galvanometer scanner unit 302, and a bend mirror 303. The collimation lens 301 converts the divergent laser beam emitted from the process fiber 12 into parallel light (collimated light). The galvanometer scanner unit 302 includes a galvanometer motor 33a (first galvanometer motor) and a galvanometer motor 33b (second galvanometer motor) that drive the galvanometer mirror 32a (first galvanometer mirror) and the galvanometer mirror 32b (second galvanometer mirror) to rotate within a predetermined angle range, respectively.

ガルバノミラー３２ａには、コリメーションレンズ３０１より射出されたコリメート光のレーザビームが入射して、入射するレーザビームを反射させる。ガルバノミラー３２ｂにはガルバノミラー３２ａで反射したレーザビームが入射して、入射するレーザビームを反射させる。ガルバノミラー３２ｂで反射したレーザビームはベンドミラー３０３に入射する。ベンドミラー３０３は、ガルバノスキャナユニット３０２より射出されたレーザビームをＸ軸及びＹ軸に垂直なＺ軸方向下方に向けて反射させる。 The collimated laser beam emitted from the collimation lens 301 is incident on the galvanometer mirror 32a, which reflects the incident laser beam. The laser beam reflected by the galvanometer mirror 32a is incident on the galvanometer mirror 32b, which reflects the incident laser beam. The laser beam reflected by the galvanometer mirror 32b is incident on the bend mirror 303. The bend mirror 303 reflects the laser beam emitted from the galvanometer scanner unit 302 downward in the Z-axis direction, which is perpendicular to the X-axis and Y-axis.

図２において、ガルバノモータ３３ａ及び３３ｂは、図示を省略している支持部材に固定され、ガルバノミラー３２ａ及び３２ｂのコリメータユニット３０の空間内の位置が設定されている。ガルバノミラー３２ａ及び３２ｂをガルバノミラー３２と総称し、ガルバノモータ３３ａ及び３３ｂをガルバノモータ３３と総称することがある。コリメータユニット３０の詳細な構成については後述する。 In FIG. 2, the galvanometer motors 33a and 33b are fixed to a support member (not shown), and the positions of the galvanometer mirrors 32a and 32b in the space of the collimator unit 30 are set. The galvanometer mirrors 32a and 32b may be collectively referred to as the galvanometer mirror 32, and the galvanometer motors 33a and 33b may be collectively referred to as the galvanometer motor 33. The detailed configuration of the collimator unit 30 will be described later.

加工ヘッド３５は、ベンドミラー３０３で反射したレーザビームを集束させて、板金Ｗに照射する集束レンズ３０４を備える。 The processing head 35 is equipped with a focusing lens 304 that focuses the laser beam reflected by the bend mirror 303 and irradiates it onto the metal sheet W.

レーザ加工機１００は、ノズル３６の開口３６ａより射出されるレーザビームが開口３６ａの中心に位置するように芯出しされている。基準の状態では、レーザビームは、開口３６ａの中心より射出する。ガルバノスキャナユニット３０２は、加工ヘッド３５内を進行して開口３６ａより射出されるレーザビームを、開口３６ａ内で振動させるビーム振動機構として機能する。ＮＣ装置５０は、ガルバノミラー３２ａを回転させるようガルバノモータ３３ａを制御し、ガルバノミラー３２ｂを回転させるようガルバノモータ３３ｂを制御する。 The laser processing machine 100 is centered so that the laser beam emitted from the opening 36a of the nozzle 36 is located at the center of the opening 36a. In the standard state, the laser beam is emitted from the center of the opening 36a. The galvanometer scanner unit 302 functions as a beam vibration mechanism that vibrates the laser beam, which travels through the processing head 35 and is emitted from the opening 36a, within the opening 36a. The NC device 50 controls the galvanometer motor 33a to rotate the galvanometer mirror 32a, and controls the galvanometer motor 33b to rotate the galvanometer mirror 32b.

ガルバノスキャナユニット３０２は、ＮＣ装置５０による制御に従って、板金Ｗに照射されるレーザビームを、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、またはＸ軸方向とＹ軸方向との任意の合成方向に変位させることができる。これにより、ガルバノスキャナユニット３０２は、レーザビームを、加工ヘッド３５（レーザビーム）の進行方向と平行方向に振動させたり、直交方向に振動させたり、ビームスポットが円を描くように振動させたりすることができる。 The galvano scanner unit 302, under the control of the NC device 50, can displace the laser beam irradiated onto the metal sheet W in the X-axis direction, the Y-axis direction, or any combined direction of the X-axis and Y-axis directions. This allows the galvano scanner unit 302 to vibrate the laser beam in a direction parallel to the traveling direction of the processing head 35 (laser beam), in a direction perpendicular to the traveling direction, or to vibrate the beam spot so that it draws a circle.

次に、ガルバノミラー３２の構成例を詳細に説明する。ガルバノミラー３２の第１の構成例は、硝材をサファイアガラスとしてガルバノミラー３２が形成されている。第１の構成例であるサファイアガラスで形成されたガルバノミラー３２をガルバノミラー３２Ｓと称することとする。ガルバノミラー３２の第２の構成例は、硝材を合成石英としてガルバノミラー３２が形成されている。第２の構成例である合成石英で形成されたガルバノミラー３２をガルバノミラー３２Ｑ（または３２Ｑ’）と称することとする。図２におけるガルバノミラー３２ａ及び３２ｂとして、ガルバノミラー３２Ｓ、３２Ｑ、３２Ｑ’のうちのいずれかが用いられる。ガルバノミラー３２Ｓ、３２Ｑ、３２Ｑ’を順に詳細に説明する。 Next, a detailed description will be given of an example of the configuration of the galvanometer mirror 32. In a first example of the configuration of the galvanometer mirror 32, the galvanometer mirror 32 is formed using sapphire glass as the glass material. The first example of the configuration of the galvanometer mirror 32 formed using sapphire glass will be referred to as the galvanometer mirror 32S. In a second example of the configuration of the galvanometer mirror 32, the galvanometer mirror 32 is formed using synthetic quartz as the glass material. The second example of the configuration of the galvanometer mirror 32 formed using synthetic quartz will be referred to as the galvanometer mirror 32Q (or 32Q'). Any of the galvanometer mirrors 32S, 32Q, and 32Q' is used as the galvanometer mirrors 32a and 32b in FIG. 2. The galvanometer mirrors 32S, 32Q, and 32Q' will be described in detail in order.

＜第１の構成例＞
図３～図５は、それぞれ、ガルバノミラー３２Ｓを背面から見た斜視図、正面図、背面図である。サファイアガラスは、高純度の酸化アルミニウムを人工的に大きく結晶化することによって形成される。ガルバノミラー３２Ｓは、後述するように直方体のサファイアガラス板の複数の面を面取りすることによって、図３～図５に示すような形状とされている。 <First Configuration Example>
3 to 5 are respectively a perspective view, a front view, and a rear view of the galvanometer mirror 32S as seen from the back. Sapphire glass is formed by artificially crystallizing high-purity aluminum oxide to a large size. The galvanometer mirror 32S is shaped as shown in Figs. 3 to 5 by chamfering multiple faces of a rectangular sapphire glass plate, as described later.

図３～図５において、入射平面Ｓ１１にはレーザビームが入射する。入射平面Ｓ１１には所定の波長帯域のレーザビームを反射する、誘電体多層膜よりなる反射コーティングが施されている。入射平面Ｓ１１は、波長１０４０ｎｍ～１１５０ｎｍのレーザビームの反射率が９９．５％以上である。よって、入射平面Ｓ１１は入射したレーザビームを９９．５％以上反射させる。 In Figures 3 to 5, a laser beam is incident on the plane of incidence S11. The plane of incidence S11 is coated with a reflective coating made of a dielectric multilayer film that reflects a laser beam in a predetermined wavelength band. The plane of incidence S11 has a reflectance of 99.5% or more for laser beams with wavelengths of 1040 nm to 1150 nm. Therefore, the plane of incidence S11 reflects 99.5% or more of the incident laser beam.

後述するように、図３におけるガルバノミラー３２Ｓの下端部は、ガルバノモータ３３の軸３３１（図７参照）の先端部と連結される端部である。下端部側に位置する第１の端面３２１は、入射平面Ｓ１１と連結している。軸３３１の方向に沿った第１の端面３２１とは反対側に位置する第２の端面３２２も、入射平面Ｓ１１と連結している。第１の端面３２１と第２の端面３２２とを結ぶ方向を長さ方向とする。 As described later, the lower end of the galvanometer mirror 32S in FIG. 3 is the end that is connected to the tip of the shaft 331 (see FIG. 7) of the galvanometer motor 33. The first end face 321 located on the lower end side is connected to the incident plane S11. The second end face 322 located on the opposite side of the first end face 321 along the direction of the shaft 331 is also connected to the incident plane S11. The direction connecting the first end face 321 and the second end face 322 is defined as the length direction.

図４に示すように、第１の端面３２１から第２の端面３２２までの長さはＬ３２である。最幅広部３２ＷＰは、長さ方向と直交する幅方向に最も幅が広い部分である。最幅広部３２ＷＰの幅はＷ３２である。長さＬ３２と幅Ｗ３２とは、Ｌ３２＞Ｗ３２の関係を有する。一例として、長さＬ３２は３３ｍｍ程度であり、幅Ｗ３２は２２ｍｍ程度である。最幅広部３２ＷＰは、ガルバノミラー３２Ｓの長さＬ３２の中央よりも第２の端面３２２側に位置している。最幅広部３２ＷＰの長さ方向の全範囲が、長さＬ３２の中央よりも第２の端面３２２側に位置している。 As shown in FIG. 4, the length from the first end face 321 to the second end face 322 is L32. The widest part 32WP is the part that is widest in the width direction perpendicular to the length direction. The width of the widest part 32WP is W32. The length L32 and the width W32 have a relationship of L32>W32. As an example, the length L32 is about 33 mm, and the width W32 is about 22 mm. The widest part 32WP is located on the second end face 322 side of the center of the length L32 of the galvanometer mirror 32S. The entire range of the widest part 32WP in the length direction is located on the second end face 322 side of the center of the length L32.

図３～図５において、第１の側端面３２３及び第２の側端面３２４は、それぞれ、第１の端面３２１の幅方向の両端と最幅広部３２ＷＰの幅方向の両端とを連結する。第１の側端面３２３及び第２の側端面３２４は、第１の端面３２１から最幅広部３２ＷＰに向かうに従って幅方向の互いの間隔が広がっていく。第３の側端面３２５及び第４の側端面３２６は、それぞれ、第２の端面３２２の幅方向の両端と最幅広部３２ＷＰの幅方向の両端とを連結する。第３の側端面３２５及び第４の側端面３２６は、第２の端面３２２から最幅広部３２ＷＰに向かうに従って幅方向の互いの間隔が広がっていく。 In Figures 3 to 5, the first side end surface 323 and the second side end surface 324 respectively connect both ends in the width direction of the first end surface 321 to both ends in the width direction of the widest portion 32WP. The first side end surface 323 and the second side end surface 324 are spaced apart in the width direction from each other as they move from the first end surface 321 toward the widest portion 32WP. The third side end surface 325 and the fourth side end surface 326 respectively connect both ends in the width direction of the second end surface 322 to both ends in the width direction of the widest portion 32WP. The third side end surface 325 and the fourth side end surface 326 are spaced apart in the width direction from each other as they move from the second end surface 322 toward the widest portion 32WP.

ガルバノミラー３２Ｓの幅方向の中央部には、最も板厚の厚い最板厚部３２７が設けられている。一例として、最板厚部３２７の板厚は３ｍｍである。ガルバノミラー３２Ｓにおいては、最板厚部３２７は第１の端面３２１から第２の端面３２２までの全範囲に形成されている。最板厚部３２７の表面は平面Ｓ１２となっている。第１の側方部３２８及び第２の側方部３２９は、最板厚部３２７の幅方向の両側方に設けられている。第１の側方部３２８及び第２の側方部３２９は、最板厚部３２７から幅方向の両端に向かうに従って板厚が薄くなっていく。第１の側方部３２８及び第２の側方部３２９それぞれの表面は平面Ｓ１３及びＳ１４となっている。 The thickest part 327, which has the greatest thickness, is provided in the center of the width of the galvanometer mirror 32S. As an example, the thickness of the thickest part 327 is 3 mm. In the galvanometer mirror 32S, the thickest part 327 is formed over the entire range from the first end face 321 to the second end face 322. The surface of the thickest part 327 is a flat surface S12. The first side part 328 and the second side part 329 are provided on both sides of the thickest part 327 in the width direction. The first side part 328 and the second side part 329 are thinner from the thickest part 327 toward both ends in the width direction. The surfaces of the first side part 328 and the second side part 329 are flat surfaces S13 and S14, respectively.

以上のような形状を有するガルバノミラー３２Ｓは、図６Ａに示すように、直方体のサファイアガラス板３２０Ｓのハッチングを付している４つの角部Ｃ１～Ｃ４を面取りし、図６Ｂに示すように、サファイアガラス板３２０Ｓのハッチングを付している領域Ｔ１及びＴ２を厚み方向に面取りすることによって形成することができる。 The galvanometer mirror 32S having the above-mentioned shape can be formed by chamfering the four hatched corners C1 to C4 of the rectangular sapphire glass plate 320S as shown in FIG. 6A, and by chamfering the hatched areas T1 and T2 of the sapphire glass plate 320S in the thickness direction as shown in FIG. 6B.

入射平面Ｓ１１に入射したレーザビームのうち、反射コーティングで反射しなかったわずかなレーザビームは、反射コーティングを透過してガルバノミラー３２Ｓの内部へと侵入する。ガルバノミラー３２Ｓを形成する硝材であるサファイアガラスの光吸収率は１％未満であるので、ガルバノミラー３２Ｓは内部へと侵入したレーザビームを９９％以上透過させる。よって、ガルバノミラー３２Ｓは、反射コーティングで反射されずに透過するレーザビームによってほとんど発熱しない。従って、コリメーションレンズ３０１より射出されるコリメート光のビーム径を細くしても発熱が抑えられるから、ガルバノミラー３２Ｓを大型化する必要はなく、最小限の大きさとすることができる。 Of the laser beams incident on the incident plane S11, a small portion that is not reflected by the reflective coating passes through the reflective coating and enters the inside of the galvanometer mirror 32S. Since the light absorption rate of sapphire glass, the glass material that forms the galvanometer mirror 32S, is less than 1%, the galvanometer mirror 32S transmits more than 99% of the laser beam that enters the inside. Therefore, the galvanometer mirror 32S hardly generates heat due to the laser beam that passes through without being reflected by the reflective coating. Therefore, since heat generation is suppressed even if the beam diameter of the collimated light emitted from the collimation lens 301 is narrowed, there is no need to enlarge the galvanometer mirror 32S, and it can be made as small as possible.

平面Ｓ１２～Ｓ１４に、誘電体多層膜よりなる反射防止コーティングが施されているとよい。反射防止コーティングが施されている平面Ｓ１２～Ｓ１４は、波長１０４０ｎｍ～１１５０ｎｍのレーザビームの透過率が９８％以上である。 The flat surfaces S12 to S14 are preferably coated with an anti-reflective coating made of a dielectric multilayer film. The flat surfaces S12 to S14 on which the anti-reflective coating is applied have a transmittance of 98% or more for laser beams with wavelengths of 1040 nm to 1150 nm.

図７に示すように、ガルバノモータ３３の軸３３１の先端部には、ガルバノミラー３２Ｓの第１の端面３２１側の端部を固定するための固定部３３２が設けられている。ガルバノミラー３２Ｓは、第１の端面３２１側の端部が固定部３３２の一対の突出壁の間に挿入され、かつ接着剤によって接着されることによって、固定部３３２に固定される。このようにして、ガルバノミラー３２Ｓはガルバノモータ３３の軸３３１と連結されて、軸３３１の回転によりガルバノミラー３２Ｓが一体的に回転する。 As shown in FIG. 7, a fixing part 332 for fixing the end part of the galvanometer mirror 32S on the first end face 321 side is provided at the tip part of the shaft 331 of the galvanometer motor 33. The end part of the galvanometer mirror 32S on the first end face 321 side is inserted between a pair of protruding walls of the fixing part 332 and is fixed to the fixing part 332 by being adhered with an adhesive. In this way, the galvanometer mirror 32S is connected to the shaft 331 of the galvanometer motor 33, and the galvanometer mirror 32S rotates integrally with the shaft 331 due to the rotation of the shaft 331.

ガルバノミラー３２Ｓによれば、４つの角部Ｃ１～Ｃ４の面取り及び領域Ｔ１及びＴ２の厚み方向の面取りによって、直方体のサファイアガラス板３２０Ｓにおけるイナーシャと比較してイナーシャを大幅に小さくすることができる。ガルバノミラー３２Ｓによれば、発熱を抑えることができるからガルバノミラー３２Ｓを小型化することができ、小型化に伴ってイナーシャを小さくすることができる。よって、レーザ加工機１００は、ガルバノミラー３２としてガルバノミラー３２Ｓを用いれば、ガルバノミラー３２を高周波数で振動させることができる。なお、高周波数とは例えば１ｋＨｚ以上である。 The galvanometer mirror 32S can significantly reduce inertia compared to that of the rectangular sapphire glass plate 320S by chamfering the four corners C1 to C4 and the thickness direction of the regions T1 and T2. The galvanometer mirror 32S can reduce heat generation, making it possible to miniaturize the galvanometer mirror 32S, which in turn reduces inertia. Therefore, if the laser processing machine 100 uses the galvanometer mirror 32S as the galvanometer mirror 32, it can vibrate the galvanometer mirror 32 at a high frequency. Note that a high frequency is, for example, 1 kHz or higher.

ところで、ガルバノミラー３２Ｓをガルバノモータ３３によって所定の角度の範囲で回転させるとき、ガルバノミラー３２Ｓの振動によってガルバノミラー３２Ｓが変形すると、ガルバノミラー３２Ｓから射出されるレーザビームのビームプロファイルが悪化する。レーザビームのビームプロファイルが悪化すると、板金Ｗの表面でのレーザビームの輝度が低くなる。ガルバノモータ３３がガルバノミラー３２Ｓを駆動していない状態でガルバノミラー３２Ｓから射出されたレーザビームが板金Ｗに照射されたときの、板金Ｗの表面でのレーザビームの輝度を１００％とする。最板厚部３２７の板厚を、ガルバノモータ３３がガルバノミラー３２Ｓを駆動してガルバノミラー３２Ｓが変形した状態でガルバノミラー３２Ｓから射出されたレーザビームが板金Ｗに照射されたとき、少なくとも９８％の輝度が得られるような板厚とすることが好ましい。 When the galvanometer mirror 32S is rotated by the galvanometer motor 33 within a predetermined angle range, if the galvanometer mirror 32S is deformed by the vibration of the galvanometer mirror 32S, the beam profile of the laser beam emitted from the galvanometer mirror 32S deteriorates. If the beam profile of the laser beam deteriorates, the brightness of the laser beam on the surface of the sheet metal W decreases. The brightness of the laser beam on the surface of the sheet metal W is set to 100% when the laser beam emitted from the galvanometer mirror 32S is irradiated onto the sheet metal W in a state in which the galvanometer motor 33 is not driving the galvanometer mirror 32S. It is preferable that the thickness of the thickest part 327 is set to a thickness such that a brightness of at least 98% is obtained when the laser beam emitted from the galvanometer mirror 32S is irradiated onto the sheet metal W in a state in which the galvanometer motor 33 drives the galvanometer mirror 32S and the galvanometer mirror 32S is deformed.

ガルバノミラー３２Ｓは４つの角部Ｃ１～Ｃ４及び厚み方向の領域Ｔ１及びＴ２を面取りした形状であるので、直方体のサファイアガラス板３２０Ｓと比較すれば変形しやすい。最板厚部３２７の板厚を上記のように９８％以上のレーザビームの最高輝度が得られるような板厚とすれば、ガルバノミラー３２Ｓの変形は実質的には問題とならない。 The galvanometer mirror 32S has a shape in which the four corners C1 to C4 and the areas T1 and T2 in the thickness direction are chamfered, so it is more susceptible to deformation than the rectangular sapphire glass plate 320S. If the thickness of the thickest part 327 is set to a thickness that can obtain the maximum brightness of the laser beam of 98% or more as described above, deformation of the galvanometer mirror 32S is not substantially a problem.

＜第２の構成例＞
図８～図１０は、それぞれ、ガルバノミラー３２Ｑを背面から見た斜視図、正面図、背面図である。ガルバノミラー３２Ｑは、後述するように直方体の合成石英板の複数の面を面取りすることによって、図８～図１０に示すような形状とされている。第２の構成例において、第１の構成例と実質的に同一の部分には同一の符号を付し、その説明を省略することがある。 <Second Configuration Example>
8 to 10 are respectively a perspective view, a front view, and a rear view of the galvanometer mirror 32Q as seen from the rear. The galvanometer mirror 32Q is shaped as shown in Figs. 8 to 10 by chamfering a plurality of faces of a rectangular parallelepiped synthetic quartz plate, as described below. In the second configuration example, parts that are substantially the same as those in the first configuration example are given the same reference numerals, and their description may be omitted.

図８～図１０において、入射平面Ｓ２１にはレーザビームが入射する。入射平面Ｓ２１には所定の波長帯域のレーザビームを反射する、誘電体多層膜よりなる反射コーティングが施されている。入射平面Ｓ２１は、波長１０４０ｎｍ～１１５０ｎｍのレーザビームの反射率が９９．５％以上である。よって、入射平面Ｓ２１は入射したレーザビームを９９．５％以上反射させる。第１の端面３２１及び第２の端面３２２は、入射平面Ｓ２１と連結している。 In Figures 8 to 10, a laser beam is incident on the incident plane S21. The incident plane S21 is coated with a reflective coating made of a dielectric multilayer film that reflects a laser beam in a predetermined wavelength band. The incident plane S21 has a reflectance of 99.5% or more for laser beams with wavelengths of 1040 nm to 1150 nm. Therefore, the incident plane S21 reflects 99.5% or more of the incident laser beam. The first end face 321 and the second end face 322 are connected to the incident plane S21.

図９に示すように、第１の端面３２１から第２の端面３２２までの長さはＬ３２であり、最幅広部３２ＷＰの幅はＷ３２である。ガルバノミラー３２Ｓと同様に、長さＬ３２と幅Ｗ３２とは、Ｌ３２＞Ｗ３２の関係を有する。一例として、長さＬ３２は３３ｍｍ程度であり、幅Ｗ３２は２２ｍｍ程度である。最幅広部３２ＷＰは、ガルバノミラー３２Ｑの長さＬ３２の中央よりも第２の端面３２２側に位置している。 As shown in FIG. 9, the length from the first end face 321 to the second end face 322 is L32, and the width of the widest part 32WP is W32. As with the galvanometer mirror 32S, the length L32 and the width W32 have a relationship of L32>W32. As an example, the length L32 is about 33 mm, and the width W32 is about 22 mm. The widest part 32WP is located closer to the second end face 322 than the center of the length L32 of the galvanometer mirror 32Q.

図８～図１０において、第１の側端面３２３及び第２の側端面３２４は、それぞれ、第１の端面３２１の幅方向の両端と最幅広部３２ＷＰの幅方向の両端とを連結する。第１の側端面３２３及び第２の側端面３２４は、第１の端面３２１から最幅広部３２ＷＰに向かうに従って幅方向の互いの間隔が広がっていく。第３の側端面３２５及び第４の側端面３２６は、それぞれ、第２の端面３２２の幅方向の両端と最幅広部３２ＷＰの幅方向の両端とを連結する。第３の側端面３２５及び第４の側端面３２６は、第２の端面３２２から最幅広部３２ＷＰに向かうに従って幅方向の互いの間隔が広がっていく。 8 to 10, the first side end surface 323 and the second side end surface 324 respectively connect both ends in the width direction of the first end surface 321 to both ends in the width direction of the widest portion 32WP. The first side end surface 323 and the second side end surface 324 are spaced apart in the width direction from the first end surface 321 toward the widest portion 32WP. The third side end surface 325 and the fourth side end surface 326 respectively connect both ends in the width direction of the second end surface 322 to both ends in the width direction of the widest portion 32WP. The third side end surface 325 and the fourth side end surface 326 are spaced apart in the width direction from the second end surface 322 toward the widest portion 32WP.

ガルバノミラー３２Ｑの幅方向の中央部には、最も板厚の厚い最板厚部３２７が設けられている。一例として、最板厚部３２７の板厚は４．４ｍｍ程度である。ガルバノミラー３２Ｑにおいては、最板厚部３２７は第１の端面３２１から第２の端面３２２までの全範囲ではなく、第１の端面３２１から第２の端面３２２までの範囲のうち、第１の端面３２１から最幅広部３２ＷＰまでの範囲に形成されている。最板厚部３２７の第２の端面３２２側の端部は、最幅広部３２ＷＰの長さ方向の所定の位置に位置している。最板厚部３２７の表面は平面Ｓ２２となっている。 The thickest part 327 is provided in the center of the width of the galvanometer mirror 32Q. As an example, the thickness of the thickest part 327 is about 4.4 mm. In the galvanometer mirror 32Q, the thickest part 327 is not formed in the entire range from the first end face 321 to the second end face 322, but in the range from the first end face 321 to the second end face 322, from the first end face 321 to the widest part 32WP. The end of the thickest part 327 on the second end face 322 side is located at a predetermined position in the length direction of the widest part 32WP. The surface of the thickest part 327 is a flat surface S22.

第１の側方部３２８及び第２の側方部３２９は、最板厚部３２７の幅方向の両側方に設けられている。第１の側方部３２８及び第２の側方部３２９は、最板厚部３２７から幅方向の両端に向かうに従って板厚が薄くなっていく。第１の側方部３２８及び第２の側方部３２９それぞれの表面は平面Ｓ２３及びＳ２４となっている。 The first side portion 328 and the second side portion 329 are provided on both sides in the width direction of the thickest portion 327. The thickness of the first side portion 328 and the second side portion 329 decreases from the thickest portion 327 toward both ends in the width direction. The surfaces of the first side portion 328 and the second side portion 329 are planes S23 and S24, respectively.

ガルバノミラー３２Ｑにおいては、第２の端面３２２側に傾斜先端部３３０が形成されている。傾斜先端部３３０は、最板厚部３２７の第２の端面３２２側の端部から第２の端面３２２に向かうに従って板厚が薄くなっていく。傾斜先端部３３０の表面は平面Ｓ２５となっている。 In the galvanometer mirror 32Q, an inclined tip portion 330 is formed on the second end face 322 side. The thickness of the inclined tip portion 330 becomes thinner from the end of the thickest portion 327 on the second end face 322 side toward the second end face 322. The surface of the inclined tip portion 330 is a flat surface S25.

以上のような形状を有するガルバノミラー３２Ｑは、図１１に示す直方体の合成石英板３２０Ｑを、図６Ａ及び図６Ｂに示すサファイアガラス板３２０Ｓと同様に面取りし、さらに、ハッチングを付している領域Ｔ３を厚み方向に面取りすることによって形成することができる。即ち、ガルバノミラー３２Ｑは、直方体の合成石英板３２０Ｑの４つの角部Ｃ１～Ｃ４及び厚み方向の領域Ｔ１～Ｔ３を面取りすることによって形成することができる。 The galvanometer mirror 32Q having the above-mentioned shape can be formed by chamfering the rectangular parallelepiped synthetic quartz plate 320Q shown in FIG. 11 in the same manner as the sapphire glass plate 320S shown in FIGS. 6A and 6B, and further chamfering the hatched area T3 in the thickness direction. In other words, the galvanometer mirror 32Q can be formed by chamfering the four corners C1 to C4 of the rectangular parallelepiped synthetic quartz plate 320Q and the areas T1 to T3 in the thickness direction.

入射平面Ｓ２１に入射したレーザビームのうち、反射コーティングで反射しなかったわずかなレーザビームは、反射コーティングを透過してガルバノミラー３２Ｑの内部へと侵入する。ガルバノミラー３２Ｑを形成する硝材である合成石英の光吸収率はほぼ０％であるので、ガルバノミラー３２Ｑは内部へと侵入したレーザビームをほぼ１００％透過させる。よって、ガルバノミラー３２Ｑは、反射コーティングで反射されずに透過するレーザビームによってほとんど発熱しない。従って、ガルバノミラー３２Ｑを大型化する必要はなく、最小限の大きさでよい。 Of the laser beams incident on the incident plane S21, a small portion that is not reflected by the reflective coating passes through the reflective coating and enters the inside of the galvanometer mirror 32Q. Since the optical absorption rate of synthetic quartz, the glass material that forms the galvanometer mirror 32Q, is nearly 0%, the galvanometer mirror 32Q transmits nearly 100% of the laser beam that enters the inside. Therefore, the galvanometer mirror 32Q generates almost no heat due to the laser beam that passes through without being reflected by the reflective coating. Therefore, there is no need to enlarge the galvanometer mirror 32Q, and a minimum size is sufficient.

平面Ｓ２２～Ｓ２５に、誘電体多層膜よりなる反射防止コーティングが施されているとよい。反射防止コーティングが施されている平面Ｓ２２～Ｓ２５は、波長１０４０ｎｍ～１１５０ｎｍのレーザビームの透過率が９８％以上である。 The flat surfaces S22 to S25 are preferably coated with an anti-reflective coating made of a dielectric multilayer film. The flat surfaces S22 to S25 on which the anti-reflective coating is applied have a transmittance of 98% or more for laser beams with wavelengths of 1040 nm to 1150 nm.

ガルバノミラー３２Ｑのガルバノモータ３３の軸３３１への取り付け構造は、図７に示すガルバノミラー３２Ｓのガルバノモータ３３の軸３３１への取り付け構造と同じである。ガルバノミラー３２Ｑは、第１の端面３２１側の端部が固定部３３２の一対の突出壁の間に挿入され、かつ接着剤によって接着されることによって、固定部３３２に固定される。ガルバノミラー３２Ｑは、ガルバノモータ３３の軸３３１と連結されて、軸３３１の回転によりガルバノミラー３２Ｑが一体的に回転する。 The attachment structure of the galvanometer mirror 32Q to the shaft 331 of the galvanometer motor 33 is the same as the attachment structure of the galvanometer mirror 32S to the shaft 331 of the galvanometer motor 33 shown in FIG. 7. The galvanometer mirror 32Q is fixed to the fixed part 332 by inserting the end on the first end face 321 side between a pair of protruding walls of the fixed part 332 and adhering with an adhesive. The galvanometer mirror 32Q is connected to the shaft 331 of the galvanometer motor 33, and the rotation of the shaft 331 rotates the galvanometer mirror 32Q as a unit.

ガルバノミラー３２Ｑによれば、４つの角部Ｃ１～Ｃ４の面取り及び領域Ｔ１～Ｔ３の厚み方向の面取りによって、直方体の合成石英板３２０Ｑにおけるイナーシャと比較してイナーシャを大幅に小さくすることができる。ガルバノミラー３２Ｑによれば、発熱を抑えることができるからガルバノミラー３２Ｑを小型化することができ、小型化に伴ってイナーシャを小さくすることができる。よって、レーザ加工機１００は、ガルバノミラー３２としてガルバノミラー３２Ｑを用いれば、ガルバノミラー３２を高周波数で振動させることができる。なお、高周波数とは例えば１ｋＨｚ以上である。 The galvanometer mirror 32Q can significantly reduce the inertia compared to that of the rectangular synthetic quartz plate 320Q by chamfering the four corners C1 to C4 and the thickness direction of the regions T1 to T3. The galvanometer mirror 32Q can reduce heat generation, making it possible to miniaturize the galvanometer mirror 32Q, which in turn reduces the inertia. Therefore, if the laser processing machine 100 uses the galvanometer mirror 32Q as the galvanometer mirror 32, it can vibrate the galvanometer mirror 32 at a high frequency. Note that a high frequency is, for example, 1 kHz or higher.

ガルバノミラー３２Ｑにおいても、ガルバノモータ３３がガルバノミラー３２Ｑを駆動していない状態でガルバノミラー３２Ｑから射出されたレーザビームが板金Ｗに照射されたときの、板金Ｗの表面でのレーザビームの輝度を１００％とする。最板厚部３２７の板厚を、ガルバノモータ３３がガルバノミラー３２Ｑを駆動してガルバノミラー３２Ｑが変形した状態でガルバノミラー３２Ｑから射出されたレーザビームが板金Ｗに照射されたとき、少なくとも９８％の輝度が得られるような板厚とすることが好ましい。 In the case of the galvanometer mirror 32Q, when the laser beam emitted from the galvanometer mirror 32Q is irradiated onto the metal sheet W while the galvanometer motor 33 is not driving the galvanometer mirror 32Q, the brightness of the laser beam on the surface of the metal sheet W is set to 100%. It is preferable that the thickness of the thickest part 327 is set to a thickness that provides a brightness of at least 98% when the laser beam emitted from the galvanometer mirror 32Q is irradiated onto the metal sheet W while the galvanometer motor 33 is driving the galvanometer mirror 32Q and the galvanometer mirror 32Q is deformed.

ところで、硝材を合成石英としたガルバノミラー３２Ｑにおいて、領域Ｔ３を厚み方向に面取りした傾斜先端部３３０を設けているのは、次の理由による。ガルバノミラー３２を振動させると、硝材をサファイアガラスとしたガルバノミラー３２Ｓよりも硝材を合成石英としたガルバノミラー３２Ｑの方が変形しやすい。そこで、ガルバノミラー３２Ｓよりもガルバノミラー３２Ｑの方が、最板厚部３２７の板厚を厚くする必要がある場合がある。ガルバノミラー３２Ｑの最板厚部３２７の板厚をガルバノミラー３２Ｓの最板厚部３２７の板厚よりも厚くした場合には、イナーシャをより小さくするために傾斜先端部３３０を設けることが好ましい。 The reason why the galvanometer mirror 32Q, whose glass material is synthetic quartz, has an inclined tip 330 that is chamfered in the thickness direction in the region T3 is as follows. When the galvanometer mirror 32 is vibrated, the galvanometer mirror 32Q, whose glass material is synthetic quartz, is more likely to deform than the galvanometer mirror 32S, whose glass material is sapphire glass. Therefore, there are cases where the thickness of the thickest part 327 of the galvanometer mirror 32Q needs to be made thicker than that of the galvanometer mirror 32S. When the thickness of the thickest part 327 of the galvanometer mirror 32Q is made thicker than that of the thickest part 327 of the galvanometer mirror 32S, it is preferable to provide the inclined tip 330 in order to reduce the inertia.

＜第２の構成例の変形例＞
図１２～図１４は、ガルバノミラー３２Ｑの変形例であるガルバノミラー３２Ｑ’を示している。図１２～図１４は、それぞれ、ガルバノミラー３２Ｑ’を背面から見た斜視図、正面図、背面図である。ガルバノミラー３２Ｑ’において、ガルバノミラー３２Ｑと実質的に同一の部分には同一の符号を付し、その説明を省略することがある。 <Modification of the second configuration example>
12 to 14 show a galvanometer mirror 32Q', which is a modified example of the galvanometer mirror 32Q. 12 to 14 are a perspective view, a front view, and a rear view, respectively, of the galvanometer mirror 32Q' as seen from the rear. In the galvanometer mirror 32Q', parts that are substantially the same as those in the galvanometer mirror 32Q are given the same reference numerals, and descriptions thereof may be omitted.

図１２及び図１４に示すように、ガルバノミラー３２Ｑ’においては、幅方向の中央部に位置する最板厚部を台形状の最板厚部３２７’としている。最板厚部３２７’の表面は台形状の平面Ｓ２２’となっている。ガルバノミラー３２Ｑにおける長方形状の最板厚部３２７及び平面Ｓ２２を台形状の最板厚部３２７’及び平面Ｓ２２’に変更することに伴って、第１の側方部３２８及び第２の側方部３２９はそれぞれ第１の側方部３２８’及び第２の側方部３２９’とされ、傾斜先端部３３０は傾斜先端部３３０’とされている。第１の側方部３２８’及び第２の側方部３２９’それぞれの表面は平面Ｓ２３’及びＳ２４’となっており、傾斜先端部３３０’の表面は平面Ｓ２５’となっている。 As shown in Figures 12 and 14, in the galvanometer mirror 32Q', the thickest part located in the center of the width direction is a trapezoidal thickest part 327'. The surface of the thickest part 327' is a trapezoidal flat surface S22'. By changing the rectangular thickest part 327 and flat surface S22 in the galvanometer mirror 32Q to the trapezoidal thickest part 327' and flat surface S22', the first side part 328 and the second side part 329 are respectively a first side part 328' and a second side part 329', and the inclined tip part 330 is an inclined tip part 330'. The surfaces of the first side part 328' and the second side part 329' are flat surfaces S23' and S24', respectively, and the surface of the inclined tip part 330' is a flat surface S25'.

以上のような形状を有するガルバノミラー３２Ｑ’は、ガルバノミラー３２Ｑと同様に直方体の合成石英板３２０Ｑの４つの角部を面取りし、第１の側方部３２８’、第２の側方部３２９’、及び傾斜先端部３３０’を形成するよう部分的な厚みを面取りすることによって形成することができる。ガルバノミラー３２Ｑ’のガルバノモータ３３の軸３３１への取り付け構造は、ガルバノミラー３２Ｑのガルバノモータ３３の軸３３１への取り付け構造と同じである。 The galvanometer mirror 32Q' having the above-mentioned shape can be formed by chamfering the four corners of the rectangular parallelepiped synthetic quartz plate 320Q in the same manner as the galvanometer mirror 32Q, and by chamfering the partial thickness to form the first side portion 328', the second side portion 329', and the inclined tip portion 330'. The attachment structure of the galvanometer mirror 32Q' to the shaft 331 of the galvanometer motor 33 is the same as the attachment structure of the galvanometer mirror 32Q to the shaft 331 of the galvanometer motor 33.

ガルバノミラー３２Ｑ’によれば、長さＬ３２、幅Ｗ３２、及び最板厚部３２７’の板厚がガルバノミラー３２Ｑにおける長さＬ３２、幅Ｗ３２、及び最板厚部３２７の板厚と同じであるとき、ガルバノミラー３２Ｑにおけるイナーシャよりもイナーシャを小さくすることができる。 When the length L32, width W32, and thickness of the thickest portion 327' of the galvanometer mirror 32Q are the same as the length L32, width W32, and thickness of the thickest portion 327 of the galvanometer mirror 32Q, the inertia can be made smaller than that of the galvanometer mirror 32Q.

ところで、硝材をサファイアガラスとしたガルバノミラー３２Ｓにおいては領域Ｔ３を厚み方向に面取りした傾斜先端部３３０を設けていないが、イナーシャをさらに小さくするために傾斜先端部３３０を設けてもよい。また、硝材を合成石英としたガルバノミラー３２Ｑまたは３２Ｑ’において、傾斜先端部３３０または３３０’を設けない構成としてもよい。 Incidentally, the galvanometer mirror 32S, whose glass material is sapphire glass, does not have the inclined tip 330, which is chamfered in the thickness direction in the region T3, but the inclined tip 330 may be provided to further reduce the inertia. Also, the galvanometer mirror 32Q or 32Q', whose glass material is synthetic quartz, may be configured without the inclined tip 330 or 330'.

次に、図１５～図１７を用いて、レーザ加工機１００が備えるコリメータユニット３０の詳細な構成例を説明する。図１５は、第１実施形態に係るレーザ加工機１００が備えるコリメータユニット３０を示し、図１６及び図１７は、第２実施形態に係るレーザ加工機が備えるコリメータユニット３０を示している。図１５～図１７においては、ガルバノミラー３２としてガルバノミラー３２Ｓを用いた場合を示している。 Next, a detailed configuration example of the collimator unit 30 equipped in the laser processing machine 100 will be described with reference to Figures 15 to 17. Figure 15 shows the collimator unit 30 equipped in the laser processing machine 100 according to the first embodiment, and Figures 16 and 17 show the collimator unit 30 equipped in the laser processing machine according to the second embodiment. Figures 15 to 17 show the case where the galvanometer mirror 32S is used as the galvanometer mirror 32.

＜第１実施形態＞
図１５において、コリメータユニット３０は、ベース３０Ｃ上に固定された筐体３０Ｂと、筐体３０Ｂと連結された筐体３０Ａとを有する。筐体３０Ａ、３０Ｂ、及びベース３０Ｃは、アルミニウムまたは銅等の金属によって形成されている。筐体３０Ａは、プロセスファイバ１２を連結し、筐体３０Ｂ側の端部にコリメーションレンズ３０１を収納している。コリメーションレンズ３０１は、コリメーションレンズ取付部３１１に取り付けられている。筐体３０Ａには、円筒状のレーザビーム進行路３０Ａ１が形成されている。プロセスファイバ１２より射出された発散光のレーザビームは、レーザビーム進行路３０Ａ１を通ってコリメーションレンズ３０１に入射する。 First Embodiment
15, the collimator unit 30 has a housing 30B fixed on a base 30C and a housing 30A connected to the housing 30B. The housings 30A, 30B, and the base 30C are made of metal such as aluminum or copper. The housing 30A connects the process fiber 12 and houses a collimation lens 301 at the end on the housing 30B side. The collimation lens 301 is attached to a collimation lens attachment portion 311. A cylindrical laser beam path 30A1 is formed in the housing 30A. The divergent laser beam emitted from the process fiber 12 passes through the laser beam path 30A1 and enters the collimation lens 301.

筐体３０Ｂは、ガルバノスキャナユニット３０２を収納している。筐体３０Ｂには、コリメーションレンズ３０１より射出して、ガルバノミラー３２ａの入射平面Ｓ１１（第１の入射平面）に入射し、入射平面Ｓ１１で反射してガルバノミラー３２ｂの入射平面Ｓ１１（第２の入射平面）で反射するレーザビームを進行させるレーザビーム進行路３０Ｂ１が形成されている。筐体３０Ｂの上方には、モータホルダ３３ｈによってガルバノモータ３３ａが取り付けられており、ガルバノミラー３２ａはレーザビーム進行路３０Ｂ１内に位置している。筐体３０Ｂの側方には、モータホルダ３３ｈによってガルバノモータ３３ｂが取り付けられており、ガルバノミラー３２ｂはレーザビーム進行路３０Ｂ１内に位置している。 The housing 30B houses the galvanometer scanner unit 302. The housing 30B is formed with a laser beam path 30B1 that propagates the laser beam that is emitted from the collimation lens 301, enters the incident plane S11 (first incident plane) of the galvanometer mirror 32a, is reflected by the incident plane S11, and is reflected by the incident plane S11 (second incident plane) of the galvanometer mirror 32b. A galvanometer motor 33a is attached to the top of the housing 30B by a motor holder 33h, and the galvanometer mirror 32a is located within the laser beam path 30B1. A galvanometer motor 33b is attached to the side of the housing 30B by a motor holder 33h, and the galvanometer mirror 32b is located within the laser beam path 30B1.

レーザビーム進行路３０Ｂ１には、ガルバノミラー３２ａを透過したレーザビームを筐体３０Ｂの外部へと向けて進行させる第１の透過光進行路３０Ｂ２と、ガルバノミラー３２ｂを透過したレーザビームを筐体３０Ｂの外部へと向けて進行させる第２の透過光進行路３０Ｂ３が連結されている。 Connected to the laser beam path 30B1 are a first transmitted light path 30B2 that guides the laser beam transmitted through the galvanometer mirror 32a toward the outside of the housing 30B, and a second transmitted light path 30B3 that guides the laser beam transmitted through the galvanometer mirror 32b toward the outside of the housing 30B.

筐体３０Ｂの外面には、第１の透過光進行路３０Ｂ２の終端を塞ぐように第１のダンパ４１が取り付けられ、第２の透過光進行路３０Ｂ３の終端を塞ぐように第２のダンパ４２が取り付けられている。第１のダンパ４１及び第２のダンパ４２は、アルミニウムまたは銅の金属板に黒色めっきを施すことによって形成することができる。黒色めっきとしては、例えば黒色Ｎｉめっきまたは黒色Ｃｒめっきを用いることができる。第１のダンパ４１及び第２のダンパ４２は、レーザビームの波長帯で７０％以上の吸収率を有するとよい。 A first damper 41 is attached to the outer surface of the housing 30B so as to close the end of the first transmitted light path 30B2, and a second damper 42 is attached to close the end of the second transmitted light path 30B3. The first damper 41 and the second damper 42 can be formed by black plating an aluminum or copper metal plate. For example, black Ni plating or black Cr plating can be used as the black plating. The first damper 41 and the second damper 42 should have an absorptivity of 70% or more in the wavelength band of the laser beam.

第１のダンパ４１は、ガルバノミラー３２ａを透過したレーザビームを吸収して熱に変換する。第２のダンパ４２は、ガルバノミラー３２ｂを透過したレーザビームを吸収して熱に変換する。第１のダンパ４１及び第２のダンパ４２には、それぞれ、放熱シートまたは放熱ゲルを介して第１のヒートシンク４３及び第２のヒートシンク４４が取り付けられている。第１のヒートシンク４３及び第２のヒートシンク４４は、それぞれ、第１のダンパ４１及び第２のダンパ４２に接触または近接している。第１のヒートシンク４３及び第２のヒートシンク４４は、それぞれ、第１のダンパ４１及び第２のダンパ４２で発生した熱を放熱する。 The first damper 41 absorbs the laser beam transmitted through the galvanometer mirror 32a and converts it into heat. The second damper 42 absorbs the laser beam transmitted through the galvanometer mirror 32b and converts it into heat. The first damper 41 and the second damper 42 are respectively attached with a first heat sink 43 and a second heat sink 44 via a heat dissipation sheet or heat dissipation gel. The first heat sink 43 and the second heat sink 44 are in contact with or close to the first damper 41 and the second damper 42, respectively. The first heat sink 43 and the second heat sink 44 dissipate the heat generated in the first damper 41 and the second damper 42, respectively.

第１のダンパ４１と第１のヒートシンク４３とが一体化されていてもよく、第２のダンパ４２と第２のヒートシンク４４とが一体化されていてもよい。即ち、コリメータユニット３０は、第１のダンパ４１及び第２のダンパ４２それぞれと別体または一体の第１のヒートシンク４３及び第２のヒートシンク４４を備える。 The first damper 41 and the first heat sink 43 may be integrated, and the second damper 42 and the second heat sink 44 may be integrated. That is, the collimator unit 30 includes the first heat sink 43 and the second heat sink 44, which are separate from or integrated with the first damper 41 and the second damper 42, respectively.

ベンドミラー３０３はベンドミラー取付板３１３に取り付けられており、ベンドミラー取付板３１３は筐体３０Ｂに固定されている。集束レンズ３０４は、集束レンズ取付部３１４に取り付けられている。 The bend mirror 303 is attached to a bend mirror mounting plate 313, which is fixed to the housing 30B. The focusing lens 304 is attached to a focusing lens mounting portion 314.

図１５に示す構成を備えるレーザ加工機１００によれば、ガルバノミラー３２が反射コーティングを透過して内部へと侵入したレーザビームを透過させる硝材で形成されているから、ガルバノミラー３２の発熱を抑えることができる。ガルバノミラー３２を透過したレーザビームは第１のダンパ４１及び第２のダンパ４２で吸収され、第１のダンパ４１及び第２のダンパ４２は第１のヒートシンク４３及び第２のヒートシンク４４によって空冷されるから、ガルバノミラー３２を透過したレーザビームによる発熱が問題となることはない。 According to the laser processing machine 100 having the configuration shown in FIG. 15, the galvanometer mirror 32 is formed of a glass material that transmits the laser beam that has penetrated the reflective coating and entered the interior, so heat generation by the galvanometer mirror 32 can be suppressed. The laser beam that has passed through the galvanometer mirror 32 is absorbed by the first damper 41 and the second damper 42, and the first damper 41 and the second damper 42 are air-cooled by the first heat sink 43 and the second heat sink 44, so heat generation by the laser beam that has passed through the galvanometer mirror 32 does not become a problem.

ガルバノミラー３２の発熱を抑えることができるからガルバノミラー３２を小型化することができる。よって、レーザ加工機１００はガルバノミラー３２を高周波数で振動させることができる。 The heat generated by the galvanometer mirror 32 can be suppressed, so the galvanometer mirror 32 can be made smaller. Therefore, the laser processing machine 100 can vibrate the galvanometer mirror 32 at a high frequency.

＜第２実施形態＞
図１６及び図１７において、図１５と同一部分には同一符号を付し、その説明を省略することがある。図１６において、筐体３０Ｂには、レーザビーム進行路３０Ｂ１、第１の透過光進行路３０Ｂ２、及び第２の透過光進行路３０Ｂ３に代えて、レーザビーム進行路３０Ｂ４が形成されている。ガルバノミラー３２ａ及び３２ｂは、レーザビーム進行路３０Ｂ４内に位置している。 Second Embodiment
In Fig. 16 and Fig. 17, the same parts as in Fig. 15 are given the same reference numerals, and their explanation may be omitted. In Fig. 16, a laser beam path 30B4 is formed in the housing 30B, instead of the laser beam path 30B1, the first transmitted light path 30B2, and the second transmitted light path 30B3. The galvanometer mirrors 32a and 32b are located in the laser beam path 30B4.

レーザビーム進行路３０Ｂ４は、ガルバノミラー３２ａの平面Ｓ１２～Ｓ１４側のガルバノミラー３２ａと所定の距離だけ離れた位置に、第１の終端面Ｂ４１を有する。第１の終端面Ｂ４１は、ガルバノミラー３２ａを透過したレーザビームの進行を妨げる。また、レーザビーム進行路３０Ｂ４は、ガルバノミラー３２ｂの平面Ｓ１２～Ｓ１４側のガルバノミラー３２ｂと所定の距離だけ離れた位置に、第２の終端面Ｂ４２を有する。第２の終端面Ｂ４２は、ガルバノミラー３２ｂを透過したレーザビームの進行を妨げる。 The laser beam path 30B4 has a first end face B41 at a position a predetermined distance away from the galvanometer mirror 32a on the plane S12-S14 side of the galvanometer mirror 32a. The first end face B41 prevents the laser beam that has passed through the galvanometer mirror 32a from traveling. The laser beam path 30B4 also has a second end face B42 at a position a predetermined distance away from the galvanometer mirror 32b on the plane S12-S14 side of the galvanometer mirror 32b. The second end face B42 prevents the laser beam that has passed through the galvanometer mirror 32b.

少なくとも第１の終端面Ｂ４１及び第２の終端面Ｂ４２には、黒色めっきが施されている。第１実施形態と同様に、黒色めっきとしては、例えば黒色Ｎｉめっきまたは黒色Ｃｒめっきを用いることができる。第１の終端面Ｂ４１及び第２の終端面Ｂ４２に黒色めっきが施されていることにより、第１の終端面Ｂ４１及び第２の終端面Ｂ４２はレーザビームを吸収する第１及び第２のダンパとして機能する。第１の終端面Ｂ４１及び第２の終端面Ｂ４２は、レーザビームの波長帯で７０％以上の吸収率を有するとよい。なお、第１の終端面Ｂ４１及び第２の終端面Ｂ４２のみに黒色めっきを施すことは容易ではないので、筐体３０Ｂの全体に黒色めっきを施してもよい。 At least the first end face B41 and the second end face B42 are black plated. As in the first embodiment, black Ni plating or black Cr plating can be used as the black plating. By black plating the first end face B41 and the second end face B42, the first end face B41 and the second end face B42 function as first and second dampers that absorb the laser beam. The first end face B41 and the second end face B42 preferably have an absorption rate of 70% or more in the wavelength band of the laser beam. Note that since it is not easy to black plate only the first end face B41 and the second end face B42, the entire housing 30B may be black plated.

図１７に示すように、筐体３０Ｂには、第１の終端面Ｂ４１及び第２の終端面Ｂ４２の近傍に、第１の終端面Ｂ４１及び第２の終端面Ｂ４２を冷却する水路４５が通されている。水路４５には、冷却水を流すチューブ４６ａ及び４６ｂがそれぞれ菅継手４７ａ及び４７ｂによって接続されている。冷却水は、筐体３０Ｂの一方の側のチューブ（例えばチューブ４６ａ）から水路４５を通り、他方の側のチューブ（例えばチューブ４６ｂ）へと流れる。 As shown in FIG. 17, a water passage 45 for cooling the first end face B41 and the second end face B42 is provided in the vicinity of the first end face B41 and the second end face B42 of the housing 30B. Tubes 46a and 46b through which cooling water flows are connected to the water passage 45 by pipe joints 47a and 47b, respectively. The cooling water flows from a tube on one side of the housing 30B (e.g., tube 46a) through the water passage 45 to a tube on the other side (e.g., tube 46b).

図１６及び図１７に示す構成を備えるレーザ加工機１００によれば、ガルバノミラー３２が反射コーティングを透過して内部へと侵入したレーザビームを透過させる硝材で形成されているから、ガルバノミラー３２の発熱を抑えることができる。ガルバノミラー３２を透過したレーザビームは、第１及び第２のダンパとして機能する第１の終端面Ｂ４１及び第２の終端面Ｂ４２で吸収される。第１の終端面Ｂ４１及び第２の終端面Ｂ４２は、水路４５を流れる冷却水によって水冷されるから、ガルバノミラー３２を透過したレーザビームによる発熱が問題となることはない。 According to the laser processing machine 100 having the configuration shown in Figures 16 and 17, the galvanometer mirror 32 is formed of a glass material that transmits the laser beam that has penetrated the reflective coating and entered the interior, so heat generation by the galvanometer mirror 32 can be suppressed. The laser beam that has passed through the galvanometer mirror 32 is absorbed by the first end face B41 and the second end face B42, which function as the first and second dampers. The first end face B41 and the second end face B42 are water-cooled by the cooling water flowing through the water passage 45, so heat generation by the laser beam that has passed through the galvanometer mirror 32 does not become a problem.

図１６及び図１７に示す構成を備えるレーザ加工機１００においても、ガルバノミラー３２の発熱を抑えることができるからガルバノミラー３２を小型化することができる。よって、レーザ加工機１００はガルバノミラー３２を高周波数で振動させることができる。 Even in the laser processing machine 100 having the configuration shown in Figures 16 and 17, the heat generation of the galvanometer mirror 32 can be suppressed, so the galvanometer mirror 32 can be made smaller. Therefore, the laser processing machine 100 can vibrate the galvanometer mirror 32 at a high frequency.

本発明は以上説明した１またはそれ以上の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。 The present invention is not limited to one or more of the embodiments described above, and various modifications are possible without departing from the spirit of the present invention.

１０レーザ発振器
１２プロセスファイバ
２０レーザ加工ユニット
２１加工テーブル
２２Ｘ軸キャリッジ
２３Ｙ軸キャリッジ
３０コリメータユニット
３０Ａ，３０Ｂ筐体
３０Ｃベース
３５加工ヘッド
３２ａ，３２ｂ，３２Ｑ，３２Ｑ’，３２Ｓガルバノミラー
３２ＷＰ最幅広部
３３ａ，３３ｂガルバノモータ
３６ノズル
３６ａ開口
４１第１のダンパ４１
４２第２のダンパ
４３第１のヒートシンク
４４第２のヒートシンク
４５水路
４６ａ，４６ｂチューブ
４７ａ，４７ｂ菅継手
５０ＮＣ装置
８０アシストガス供給装置
１００レーザ加工機
３０１コリメーションレンズ
３０２ガルバノスキャナユニット
３０３ベンドミラー
３０４集束レンズ
３２１第１の端面
３２２第２の端面
３２３第１の側端面
３２４第２の側端面
３２５第３の側端面
３２６第４の側端面
３２７，３２７’ 最板厚部
３２８，３２８’ 第１の側方部
３２９，３２９’ 第２の側方部
３３０，３３０’ 傾斜先端部
Ｓ１１，Ｓ２１入射平面
Ｓ１２～Ｓ１４，Ｓ２２～Ｓ２５，Ｓ２２’～Ｓ２５’ 平面
Ｗ板金（被加工材） REFERENCE SIGNS LIST 10 Laser oscillator 12 Process fiber 20 Laser processing unit 21 Processing table 22 X-axis carriage 23 Y-axis carriage 30 Collimator unit 30A, 30B Housing 30C Base 35 Processing head 32a, 32b, 32Q, 32Q', 32S Galvanometer mirror 32WP Widest portion 33a, 33b Galvanometer motor 36 Nozzle 36a Opening 41 First damper 41
Description of the Reference Signs 42 Second damper 43 First heat sink 44 Second heat sink 45 Water passage 46a, 46b Tube 47a, 47b Pipe joint 50 NC device 80 Assist gas supply device 100 Laser processing machine 301 Collimation lens 302 Galvano scanner unit 303 Bend mirror 304 Focusing lens 321 First end face 322 Second end face 323 First side end face 324 Second side end face 325 Third side end face 326 Fourth side end face 327, 327' Thickest part 328, 328' First side part 329, 329' Second side part 330, 330' Inclined tip part S11, S21 Incident plane S12~S14, S22~S25, S22'~S25' Plane W Sheet metal (work material)

Claims

a collimation lens for converting a diverging laser beam into a collimated beam;
a galvano scanner unit that receives the laser beam emitted from the collimation lens and vibrates the laser beam to be irradiated onto a workpiece to be processed;
a processing head having a focusing lens for focusing the laser beam emitted from the galvano scanner unit and irradiating the laser beam onto the workpiece;
Equipped with
The galvano scanner unit includes:
a first galvanometer mirror having a first incident plane on which a laser beam is incident and having a reflective coating applied thereto, the first galvanometer mirror reflecting the laser beam incident on the first incident plane;
a first galvanometer motor that drives the first galvanometer mirror to rotate;
a second galvanometer mirror having a second incident plane on which the laser beam is incident and having a reflective coating applied thereto, the second galvanometer mirror reflecting the laser beam incident on the second incident plane;
a second galvanometer motor that drives the second galvanometer mirror to rotate;
having
the first and second galvanometer mirrors are formed of a glass material that transmits a laser beam that is incident on the first and second incident planes and is not reflected by the reflective coating but penetrates the reflective coating to enter inside the mirror,
The laser processing machine further comprises first and second dampers that absorb the laser beam transmitted through the first and second galvanometer mirrors.

The housing for accommodating the galvano scanner unit includes:
a laser beam path for propagating a laser beam that exits the collimation lens, enters the first incident plane, is reflected by the first incident plane, enters the second incident plane, and is reflected by the second incident plane;
first and second transmitted light paths connected to the laser beam path and configured to cause the laser beam transmitted through the first and second galvanometer mirrors to travel toward the outside of the housing;
is formed,
2. The laser processing machine according to claim 1, wherein the first and second dampers are attached to an outer surface of the housing so as to close terminal ends of the first and second transmitted light paths, respectively.

The laser processing machine according to claim 2, further comprising first and second heat sinks separate from or integral with the first and second dampers, respectively.

A housing that houses the galvano scanner unit has a laser beam traveling path along which a laser beam travels, the laser beam being emitted from the collimation lens, incident on the first incident plane, reflected by the first incident plane, incident on the second incident plane, and reflected by the second incident plane;
the laser beam path has first and second end faces that impede the propagation of the laser beam transmitted through the first and second galvanometer mirrors, respectively;
2. The laser processing machine according to claim 1, wherein at least the first and second end faces are black-plated, so that the first and second end faces function as the first and second dampers.

The laser processing machine according to claim 4, wherein the housing has water passages near the first and second end faces for cooling the first and second end faces.