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JP2025037490A - Method and control device for spatial light modulator, and exposure apparatus - Google Patents

Method and control device for spatial light modulator, and exposure apparatus Download PDF

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JP2025037490A
JP2025037490A JP2023144446A JP2023144446A JP2025037490A JP 2025037490 A JP2025037490 A JP 2025037490A JP 2023144446 A JP2023144446 A JP 2023144446A JP 2023144446 A JP2023144446 A JP 2023144446A JP 2025037490 A JP2025037490 A JP 2025037490A
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JP
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light
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channels
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JP2023144446A
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Japanese (ja)
Inventor
泰充 藤澤
Yasumitsu Fujisawa
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Screen Holdings Co Ltd
Original Assignee
Screen Holdings Co Ltd
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Publication date
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

To provide a technique for efficiently and accurately adjusting a parameter for driving each channel in a spatial light modulator.SOLUTION: In a state where a channel (1) and a channel (1+x) are turned on, and one or more intermediate channel positioned between the channel (1) and the channel (1+x) are turned off, a first light quantity of light corresponding to the channel (1+x) is measured. In a state where the channel (1+x) is turned on, and the channel (1) and the intermediate channel are turned off, a second light quantity of light corresponding to the channel (1+x) is measured. Then, a reference gap xs being a gap x between the channel (1) and the channel (1+x) when the first light quantity and the second light quantity match under a predetermined reference is determined. A parameter for driving a plurality of channels positioned at the reference gap xs is determined on the basis of a light quantity variation in a case where the plurality of channels are simultaneously turned on while a driving voltage is varied.SELECTED DRAWING: Figure 9

Description

本明細書で開示される主題は、空間光変調器の制御方法、制御装置および露光装置に関する。 The subject matter disclosed in this specification relates to a method for controlling a spatial light modulator, a control device, and an exposure apparatus.

例えば半導体ウエハやガラス基板などの基板にパターンを形成する方法として、光照射により描画を行う技術がある。この技術では、フォトレジストなどの感光層を形成した基板を描画対象物として、描画データに基づき変調された光を描画対象物に照射して感光層を露光する。このような光変調を行うための空間光変調器(SLM:Spatial Light Modulator)として、例えばGLV(Grating Light Valve、米国シリコンライトマシーンズ社の登録商標)などの回折格子型の光学素子(以下、「回折光学素子」という)や、DMD(Degital Mirror Device)が利用されている。空間光変調器は、数千ピクセルの露光ビームのオンオフ制御が可能であるという特徴から、直接描画装置に利用されている(例えば、特許文献1)。 For example, there is a technique for drawing by light irradiation as a method for forming a pattern on a substrate such as a semiconductor wafer or a glass substrate. In this technique, a substrate on which a photosensitive layer such as a photoresist is formed is treated as a drawing target, and light modulated based on drawing data is irradiated onto the drawing target to expose the photosensitive layer. As a spatial light modulator (SLM) for performing such light modulation, for example, a diffraction grating type optical element (hereinafter referred to as a "diffractive optical element") such as a GLV (Grating Light Valve, a registered trademark of Silicon Light Machines, Inc., USA) or a DMD (Digital Mirror Device) is used. Spatial light modulators are used in direct drawing devices because they are capable of controlling the on/off of an exposure beam of several thousand pixels (for example, Patent Document 1).

直接描画装置は、一般的に、光源と、照明光学系と、空間光変調器と、投影光学系と、描画パターンを空間光変調器上に表示させるデータ生成部およびデータ転送部を備えている。露光面における露光線幅の均一性は、主に、露光ビームの光量均一性と、露光ビームサイズの均一性に依存する。そして、露光面における光量均一性は、主に、照明光学系と空間光変調器の反射率とに応じた分布になっている。 Direct imaging devices generally include a light source, an illumination optical system, a spatial light modulator, a projection optical system, and a data generation unit and data transfer unit that display the imaging pattern on the spatial light modulator. The uniformity of the exposure line width on the exposure surface depends mainly on the uniformity of the light amount of the exposure beam and the uniformity of the exposure beam size. The uniformity of the light amount on the exposure surface is distributed mainly according to the reflectance of the illumination optical system and the spatial light modulator.

空間光変調器は、各ピクセルに対応するチャンネルに印加する電圧を調整することで、各チャンネルの反射率がコントロールされる。このため、空間光変調器においては、各チャンネルに付加する電圧が調整されることにより、露光面における光量分布を精密に調整することができる。 In a spatial light modulator, the reflectance of each channel is controlled by adjusting the voltage applied to the channel corresponding to each pixel. Therefore, in a spatial light modulator, the light distribution on the exposure surface can be precisely adjusted by adjusting the voltage applied to each channel.

直接描画装置において、回路パターンを露光するためには、各チャンネルについて、露光対象物を感光させる明るい側(オン側)の駆動電圧と、感光させない暗い側(オフ側)の駆動電圧とを決定する必要がある。そこで、2つの駆動電圧を決定するために、各チャンネルの駆動電圧に対する光量変化(以下、「光量電圧特性」と称する。)が取得される。具体的には、全チャンネルに対して、印加する駆動電圧を段階的に変化させて、各駆動電圧に対する露光面における光量分布がそれぞれ測定される。そして、各駆動道電圧の光量分布から、各チャンネルに対応する光量が取得されることにより、各チャンネルの光量電圧特性が取得される。そして、得られた光量電圧特性に基づいて、各チャンネルのオン側の駆動電圧とオフ側の駆動電圧とが決定される。 In a direct imaging device, in order to expose a circuit pattern, it is necessary to determine for each channel a drive voltage for the bright side (ON side) that exposes the exposed object to light, and a drive voltage for the dark side (OFF side) that does not expose the exposed object to light. Therefore, in order to determine the two drive voltages, the change in light amount relative to the drive voltage of each channel (hereinafter referred to as the "light amount-voltage characteristic") is obtained. Specifically, the drive voltage applied to all channels is changed in stages, and the light amount distribution on the exposed surface for each drive voltage is measured. Then, the light amount corresponding to each channel is obtained from the light amount distribution of each drive voltage, and the light amount-voltage characteristic of each channel is obtained. Then, based on the obtained light amount-voltage characteristic, the ON side drive voltage and the OFF side drive voltage of each channel are determined.

特開2016-133751号公報JP 2016-133751 A

しかしながら、上記方法の場合、全チャンネルに対して同時に駆動電圧が印加された状態で光量分布が測定される。このため、光量分布からある特定のチャンネルの位置に対応する光量を取得したとしても、当該取得された光量には、特定のチャンネルからの光量だけではなく、その周辺にあるチャンネルからの光量も含まれている場合がある。このような場合、各チャンネルの光量を正確に取得することが困難であるため、各チャンネルのオン側およびオフ側の駆動電圧を精度良く決定することが困難であった。 However, in the above method, the light intensity distribution is measured with a drive voltage applied to all channels simultaneously. Therefore, even if the light intensity corresponding to the position of a specific channel is obtained from the light intensity distribution, the obtained light intensity may include not only the light intensity from the specific channel, but also the light intensity from surrounding channels. In such cases, it is difficult to accurately obtain the light intensity of each channel, and therefore difficult to accurately determine the on-side and off-side drive voltages for each channel.

なお、全チャンネルを1つずつ駆動して光量測定を行えば、各チャンネルの光量電圧特性を精度良く取得することが可能である。しかしながら、この方法の場合、チャンネルの数だけ測定を繰り返す必要があるため、駆動電圧の決定に膨大な時間がかかってしまう。 It is possible to obtain the light intensity-voltage characteristics of each channel with high accuracy by driving all channels one by one and measuring the light intensity. However, with this method, it is necessary to repeat the measurement for each channel, so it takes a huge amount of time to determine the drive voltage.

本発明の目的は、空間光変調器における各チャンネルを駆動するためのパラメータを効率的かつ精度良く調整することができる技術を提供することにある。 The object of the present invention is to provide a technology that can efficiently and accurately adjust the parameters for driving each channel in a spatial light modulator.

上記課題を解決するため、第1態様は、入力されたパラメータに応じて光をチャンネル単位で空間的に変調することが可能な空間光変調器を制御する制御方法であって、第1チャンネルと第2チャンネルとをオンにし、かつ前記第1チャンネルと前記第2チャンネルの間に位置する1つ以上の中間チャンネルをオフにした状態で、前記第2チャンネルに対応する光の第1光量を測定するとともに、前記第2チャンネルをオンにし、かつ前記第1チャンネルと前記1つ以上の中間チャンネルとをオフにした状態で、前記第2チャンネルに対応する光の第2光量を測定する測定工程と、前記測定工程によって測定された前記第1光量と前記第2光量とが所定の基準下において一致するときの、前記第1チャンネルと前記第2チャンネルの間隔である基準間隔を決定する基準間隔決定工程と、前記基準間隔決定工程によって決定された前記基準間隔で位置する複数の前記チャンネルを、パラメータを変えつつ同時にオンにした場合の光量変化に基づいて、前記複数のチャンネルを駆動するためのパラメータを決定するパラメータ決定工程と、を含む。 To solve the above problem, the first aspect is a control method for controlling a spatial light modulator capable of spatially modulating light on a channel-by-channel basis according to input parameters, and includes a measurement step of measuring a first amount of light corresponding to the second channel while turning on a first channel and a second channel and turning off one or more intermediate channels located between the first channel and the second channel, and measuring a second amount of light corresponding to the second channel while turning on the second channel and turning off the first channel and the one or more intermediate channels; a reference interval determination step of determining a reference interval that is the interval between the first channel and the second channel when the first amount of light and the second amount of light measured by the measurement step match under a predetermined criterion; and a parameter determination step of determining parameters for driving the multiple channels based on the change in light amount when multiple channels located at the reference interval determined by the reference interval determination step are simultaneously turned on while changing parameters.

第2態様は、第1態様の空間光変調器の制御方法であって、前記チャンネルは、入力されたパラメータに応じて可動部材が固定部材に対して変位する回折格子型の素子である。 The second aspect is a method for controlling a spatial light modulator according to the first aspect, in which the channel is a diffraction grating type element in which a movable member is displaced relative to a fixed member in response to input parameters.

第3態様は、第1態様または第2態様の空間光変調器の制御方法であって、前記パラメータ決定工程は、各前記チャンネルについて、光量が最小となるパラメータを決定する工程を含む。 The third aspect is a method for controlling a spatial light modulator according to the first or second aspect, in which the parameter determination step includes a step of determining parameters that minimize the amount of light for each of the channels.

第4態様は、第1態様または第2態様の空間光変調器の制御方法であって、前記パラメータ決定工程は、各前記チャンネルについて、光量が最大となるパラメータを決定する工程を含む。 A fourth aspect is a method for controlling a spatial light modulator according to the first or second aspect, in which the parameter determination step includes a step of determining parameters that maximize the amount of light for each of the channels.

第5態様は、第1態様または第2態様の空間光変調器の制御方法であって、前記第2チャンネルを、前記第1チャンネルに対して第1方向の一方側に間隔をあけて位置するものとして、前記第1光量および前記第2光量が所定基準下で一致するときの前記間隔である第1基準間隔を決定する第1基準間隔決定工程と、前記第2チャンネルを、前記第1チャンネルに対して前記第1方向の他方側に間隔をあけて位置するものとして、前記第1光量および前記第2光量が所定基準下で一致するときの前記間隔である第2基準間隔を決定する第2基準間隔決定工程と、をさらに含み、前記基準間隔決定工程は、前記第1基準間隔および前記第2基準間隔を用いて前記基準間隔を決定する工程を含む、空間光変調器の制御方法。 The fifth aspect is a method for controlling a spatial light modulator according to the first or second aspect, further comprising: a first reference interval determination step for determining a first reference interval, which is the interval when the first light amount and the second light amount match under a predetermined criterion, with the second channel positioned at an interval on one side of the first direction relative to the first channel; and a second reference interval determination step for determining a second reference interval, which is the interval when the first light amount and the second light amount match under a predetermined criterion, with the second channel positioned at an interval on the other side of the first direction relative to the first channel, and the reference interval determination step includes a step of determining the reference interval using the first reference interval and the second reference interval.

第6態様は、入力されたパラメータに応じて光をチャンネル単位で空間的に変調することが可能な空間光変調器を制御する制御装置であって、第1チャンネルおよび第2チャンネルをオンにし、かつ前記第1チャンネルと前記第2チャンネルの間に位置する1つ以上の中間チャンネルとをオフにした状態で前記第2チャンネルに対応する光の第1光量を取得するとともに、第2チャンネルをオンにし、かつ前記第1チャンネルおよび前記1つ以上の中間チャンネルをオフにした状態で前記第2チャンネルに対応する光の第2光量を取得する光量取得部と、前記光量取得部によって取得された前記第1光量と前記第2光量が所定基準下で一致するときの、前記第1チャンネルと前記第2チャンネルの間隔である基準間隔を決定する基準間隔決定部と、前記基準間隔決定部によって決定された前記基準間隔で位置する複数のチャンネルを、パラメータを変えて同時にオンに場合の光量変化に基づいて、前記複数のチャンネルを制御するためのパラメータを決定するパラメータ決定部と、を備える。 The sixth aspect is a control device that controls a spatial light modulator capable of spatially modulating light on a channel-by-channel basis according to input parameters, and includes a light amount acquisition unit that acquires a first amount of light corresponding to the second channel while turning on a first channel and a second channel and turning off one or more intermediate channels located between the first channel and the second channel, and acquires a second amount of light corresponding to the second channel while turning on the second channel and turning off the first channel and the one or more intermediate channels; a reference interval determination unit that determines a reference interval that is the interval between the first channel and the second channel when the first amount of light and the second amount of light acquired by the light amount acquisition unit match under a predetermined criterion; and a parameter determination unit that determines parameters for controlling the multiple channels based on a change in light amount when multiple channels located at the reference interval determined by the reference interval determination unit are simultaneously turned on with parameters changed.

第7態様は、露光装置であって、光源と、光源からの光を空間変調する空間光変調器と、前記空間光変調器によって変調された光を対象物に照射する照射部と、前記空間光変調器を制御する第6態様の制御装置と、を備える。 The seventh aspect is an exposure device that includes a light source, a spatial light modulator that spatially modulates light from the light source, an irradiation unit that irradiates an object with the light modulated by the spatial light modulator, and a control device of the sixth aspect that controls the spatial light modulator.

第1態様から第5態様の空間光変調器の制御方法によれば、チャンネル間で光量が影響し合うことを回避できる基準間隔を特定し、この基準間隔毎に位置する複数のチャンネルを同時駆動する。これにより、同時に複数のチャンネルを駆動しつつ、かつ、各チャンネルからの光量を精度良く取得できる。したがって、各チャンネルについて、パラメータを精度良くかつ効率的に決定することができる。 According to the spatial light modulator control method of the first to fifth aspects, a reference interval that can prevent the light amount from affecting each other between channels is specified, and multiple channels located at each reference interval are simultaneously driven. This makes it possible to drive multiple channels simultaneously and obtain the light amount from each channel with high accuracy. Therefore, parameters for each channel can be determined with high accuracy and efficiency.

第2態様の空間光変調器の制御方法によれば、回折格子型のチャンネルを制御するためのパラメータを効率良く決定できる。 The second aspect of the spatial light modulator control method allows for efficient determination of parameters for controlling a diffraction grating type channel.

第3態様の空間光変調器の制御方法によれば、チャンネル毎に、光量が最小となるパラメータを適切に決定できる。 The spatial light modulator control method of the third aspect makes it possible to appropriately determine the parameters that minimize the amount of light for each channel.

第4態様の空間光変調器の制御方法によれば、チャンネル毎に、光量が最大となるパラメータを適切に決定できる。 The spatial light modulator control method of the fourth aspect makes it possible to appropriately determine the parameters that maximize the amount of light for each channel.

第5態様の空間光変調器の制御方法によれば、チャンネル間の光量の干渉に方向依存性がある場合でも、適切な基準測定間隔を決定することができる。 The spatial light modulator control method of the fifth aspect makes it possible to determine an appropriate reference measurement interval even when the interference in the amount of light between channels is directional.

第6態様からの空間光変調器の制御装置によれば、チャンネル間の干渉を回避できる基準間隔を特定し、この基準間隔毎に位置する複数のチャンネルを同時駆動することにより、各チャンネルを制御するためのパラメータを精度良くかつ効率的に決定できる。 The spatial light modulator control device of the sixth aspect identifies a reference interval that can avoid interference between channels, and simultaneously drives multiple channels located at each reference interval, thereby enabling accurate and efficient determination of parameters for controlling each channel.

実施形態に係る制御装置を備えた露光装置を模式的に示す正面図である。1 is a front view that shows a schematic diagram of an exposure apparatus that includes a control device according to an embodiment. 回折光学素子の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a diffractive optical element. 回折光学素子の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a diffractive optical element. 図1に示される露光装置の観察光学系の構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing the configuration of an observation optical system of the exposure apparatus shown in FIG. 1 . 図1に示される露光装置の制御装置を示すブロック図である。2 is a block diagram showing a control device of the exposure apparatus shown in FIG. 1 . 従来の適正駆動範囲の決定方法について説明する図である。1A and 1B are diagrams illustrating a conventional method for determining an appropriate driving range. 5チャンネルだけ離れたチャンネル(1)および(6)を駆動した場合の光量分布(シミュレーション)を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a light amount distribution (simulation) when channels (1) and (6) that are separated by five channels are driven. 17チャンネル離れたチャンネル(1)および(18)を駆動した場合の光量分布(シミュレーション)を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a light amount distribution (simulation) when channels (1) and (18) that are 17 channels apart are driven. 基準間隔を決定する処理フローを示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a process flow for determining a reference interval. チャンネル間の間隔に対する、第1光量と第2光量の比率の変化を示す図である。13 is a diagram showing a change in the ratio of a first light amount to a second light amount with respect to the interval between channels. FIG. 各チャンネルの適正駆動範囲を決定する処理フローを示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a process flow for determining an appropriate driving range for each channel. 図11に示されるステップS21(光量電圧特性取得処理)時に駆動されるチャンネルを示す図である。FIG. 12 is a diagram showing channels driven in step S21 (light amount-voltage characteristic acquisition process) shown in FIG. 11;

以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。なお、この実施形態に記載されている構成要素はあくまでも例示であり、本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。図面においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数が誇張又は簡略化して図示されている場合がある。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the attached drawings. Note that the components described in this embodiment are merely examples, and are not intended to limit the scope of the present invention to those components alone. In the drawings, the dimensions and numbers of each part may be exaggerated or simplified as necessary for ease of understanding.

<1. 実施形態>
図1は、実施形態に係る制御装置90を備えた露光装置100を模式的に示す正面図である。露光装置100は、レジストなどの感光性材料の層が形成された基板Wの上面に光を照射して、パターンを描画する装置である。基板Wは、例えば、半導体基板、プリント基板、カラーフィルタ用基板、気象表示装置やプラズマ表示装置に用いられるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板、または、光ディスク用基板である。
1. Embodiment
1 is a front view showing a schematic diagram of an exposure apparatus 100 including a control apparatus 90 according to an embodiment. The exposure apparatus 100 is an apparatus that draws a pattern by irradiating light onto an upper surface of a substrate W on which a layer of a photosensitive material such as a resist has been formed. The substrate W is, for example, a semiconductor substrate, a printed circuit board, a substrate for a color filter, a glass substrate for a flat panel display used in a weather display device or a plasma display device, or a substrate for an optical disk.

露光装置100は、本体フレーム101を備える。露光装置100は、本体フレーム101の内側に、処理領域102と、受け渡し領域103とを有する。処理領域102には、ステージ10と、ステージ移動機構20と、光学ユニットUと受け渡し領域103には、基板Wの搬入および搬出を行う搬送装置70が配置されている。 The exposure apparatus 100 includes a main body frame 101. Inside the main body frame 101, the exposure apparatus 100 includes a processing area 102 and a transfer area 103. The processing area 102 includes a stage 10, a stage movement mechanism 20, and an optical unit U, and the transfer area 103 includes a transport device 70 that loads and unloads the substrate W.

露光装置100は、制御装置90を備える。制御装置90は、露光装置100が備える各部と電気的に接続されており、各部の動作を制御する。制御装置90は、例えば、CPUなどのプロセッサと、当該プロセッサと電気的に接続されたRAMなどの記憶部99とを備えたコンピュータにより構成されている。プロセッサは、記憶部99に記憶されたプログラムを実行することによって、各種処理を実行する。 The exposure apparatus 100 includes a control device 90. The control device 90 is electrically connected to each part of the exposure apparatus 100 and controls the operation of each part. The control device 90 is configured, for example, by a computer including a processor such as a CPU and a storage unit 99 such as a RAM that is electrically connected to the processor. The processor executes various processes by running programs stored in the storage unit 99.

受け渡し領域103に隣接する位置には、カセットCを載置するためのカセット載置部104が配置されている。搬送装置70は、カセットCに収容された未処理の基板Wを取り出し、処理領域102へ搬入するとともに、処理領域102から処理済みの基板Wを搬出してカセットCに収容する。カセット載置部104に対するカセットCの受け渡しは、不図示の外部搬送装置によって行われる。搬送装置70による基板Wの搬入および搬出は、制御装置90の制御下で行われる。 A cassette placement section 104 for placing a cassette C is disposed adjacent to the transfer area 103. The transport device 70 removes unprocessed substrates W contained in the cassette C and transports them into the processing area 102, and also transports processed substrates W from the processing area 102 and stores them in the cassette C. The cassette C is transferred to and from the cassette placement section 104 by an external transport device (not shown). The transport device 70 transports substrates W in and out under the control of the control device 90.

ステージ10は、上面視において、四角形状を有する。ステージ10は、基板Wを保持する上面を有する。基板Wは、ステージ10の上面に水平姿勢にて載置される。ステージ10の上面には、複数の吸引孔が形成されている。ステージ10は、この吸引孔に負圧(吸引圧)を付与することによって、基板Wをステージ10の上面に固定することが可能である。 The stage 10 has a rectangular shape when viewed from above. The stage 10 has an upper surface that holds the substrate W. The substrate W is placed in a horizontal position on the upper surface of the stage 10. A number of suction holes are formed in the upper surface of the stage 10. The stage 10 is capable of fixing the substrate W to the upper surface of the stage 10 by applying negative pressure (suction pressure) to the suction holes.

ステージ移動機構20は、ステージ10を、主走査方向(Y軸方向)、副走査方向(X軸方向)、および回転方向(Z軸まわりの回転方向(θ軸方向))に移動させる機構である。ステージ移動機構20は、支持プレート22と、副走査機構23と、ベースプレート24と、主走査機構25とを有する。 The stage movement mechanism 20 is a mechanism that moves the stage 10 in the main scanning direction (Y-axis direction), the sub-scanning direction (X-axis direction), and the rotation direction (rotation direction around the Z axis (θ-axis direction)). The stage movement mechanism 20 has a support plate 22, a sub-scanning mechanism 23, a base plate 24, and a main scanning mechanism 25.

支持プレート22は、ステージ10を回転可能に支持する。ベースプレート24は、支持プレート22および副走査機構23を支持している。副走査機構23は、支持プレート22を副走査方向に移動させる。主走査機構25は、ベースプレート24を主走査方向に移動させる。副走査機構23および主走査機構25の動作は、制御装置90により制御される。副走査機構23および主走査機構25は、回転モータとボールねじとを備えたボールねじ機構、あるいは、リニアモータなどを含む。 The support plate 22 rotatably supports the stage 10. The base plate 24 supports the support plate 22 and the sub-scanning mechanism 23. The sub-scanning mechanism 23 moves the support plate 22 in the sub-scanning direction. The main scanning mechanism 25 moves the base plate 24 in the main scanning direction. The operations of the sub-scanning mechanism 23 and the main scanning mechanism 25 are controlled by a control device 90. The sub-scanning mechanism 23 and the main scanning mechanism 25 include a ball screw mechanism equipped with a rotary motor and a ball screw, or a linear motor, etc.

光学ユニットUは、1個または複数個の光学ヘッド4を有する。光学ヘッド4は、描画パターンに対応するストリップデータに基づいて、レーザ光を変調することが可能である。本例では、2個の光学ヘッド4が、X軸方向に沿って配列されている。 The optical unit U has one or more optical heads 4. The optical heads 4 are capable of modulating laser light based on strip data corresponding to the drawing pattern. In this example, two optical heads 4 are arranged along the X-axis direction.

光学ユニットUは、1個または複数個の光照射部5を有する。各光照射部5は、対応する光学ヘッド4にレーザ光を照射する。詳細には、光照射部5は、レーザ駆動部51と、レーザ発振器52と、照明光学系53とを有する。レーザ駆動部51の作動によりレーザ発振器52は、レーザ光を照明光学系53に出射する。照明光学系53は、入射したレーザ光の倍率変更および光量分布の均一化などを行う。照明光学系53から出射されたレーザ光は、光学ヘッド4に照射される。 The optical unit U has one or more light irradiation units 5. Each light irradiation unit 5 irradiates a corresponding optical head 4 with laser light. In detail, the light irradiation unit 5 has a laser driving unit 51, a laser oscillator 52, and an illumination optical system 53. When the laser driving unit 51 is operated, the laser oscillator 52 emits laser light to the illumination optical system 53. The illumination optical system 53 changes the magnification of the incident laser light and homogenizes the light amount distribution. The laser light emitted from the illumination optical system 53 is irradiated to the optical head 4.

光学ヘッド4は、空間光変調器を有する。空間光変調器は、光照射部5から照射されたレーザ光をチャンネル単位で空間的に変調する。光学ヘッド4は、変調されたレーザ光を、光学ヘッド4の直下で移動する基板Wに対して落射する。これによって、未処理の基板Wに描画パターンが露光される。光学ヘッド4は「照射部」の一例である。 The optical head 4 has a spatial light modulator. The spatial light modulator spatially modulates the laser light irradiated from the light irradiation unit 5 on a channel-by-channel basis. The optical head 4 reflects the modulated laser light onto the substrate W moving directly below the optical head 4. In this way, the drawing pattern is exposed onto the unprocessed substrate W. The optical head 4 is an example of an "irradiation unit."

空間変調器は、例えば、GLVなどの回折光学素子410を用いてレーザ光を変調する。図2は、回折光学素子410の断面図である。図3は、回折光学素子410の断面図である。 The spatial modulator modulates the laser light using a diffractive optical element 410 such as a GLV. Figure 2 is a cross-sectional view of the diffractive optical element 410. Figure 3 is a cross-sectional view of the diffractive optical element 410.

図2に示されるように、回折光学素子410は、ボトム電極411と、複数の固定リボン412と、複数の可動リボン413とを有する。ボトム電極411は、平板状である。固定リボン412および可動リボン413は、ボトム電極411上において、一方向に交互に配列されている。各固定リボン412および各可動リボン413は、ボトム電極411と対向している。固定リボン412および可動リボン413は、平面に仕上げられた、光を反射する固定反射面412Sおよび可動反射面413Sをそれぞれ有する。 As shown in FIG. 2, the diffractive optical element 410 has a bottom electrode 411, a plurality of fixed ribbons 412, and a plurality of movable ribbons 413. The bottom electrode 411 is flat. The fixed ribbons 412 and the movable ribbons 413 are arranged alternately in one direction on the bottom electrode 411. Each fixed ribbon 412 and each movable ribbon 413 faces the bottom electrode 411. The fixed ribbons 412 and the movable ribbons 413 each have a fixed reflecting surface 412S and a movable reflecting surface 413S, which are finished to a flat surface and reflect light.

固定リボン412は、ボトム電極411に対して、既定の距離だけ離れるように設けられている。可動リボン413は、印加される電圧(駆動電圧)に応じて、ボトム電極411に対し接近および離隔する方向に移動可能に設けられている。 The fixed ribbon 412 is arranged to be a predetermined distance away from the bottom electrode 411. The movable ribbon 413 is arranged to be movable in a direction toward and away from the bottom electrode 411 depending on the applied voltage (driving voltage).

可動リボン413の変位量は、駆動電圧によりボトム電極411との間に生じる電位差の大きさに依存する。図3に示されるように、回折光学素子410は、可動リボン413に駆動電圧が印加されない状態、つまり無印加状態の場合、固定反射面412Sと、可動反射面413Sとの高低差dは、ほぼゼロとなるように設計されている。高低差dがゼロの場合、固定反射面412Sにおいて反射した光と、可動反射面413Sにおいて反射した光とが、同位相であるため、これらの光が正反射光(0次回折光)L0として回折光学素子410から出射される。 The amount of displacement of the movable ribbon 413 depends on the magnitude of the potential difference generated between the movable ribbon 413 and the bottom electrode 411 by the driving voltage. As shown in FIG. 3, the diffractive optical element 410 is designed so that when no driving voltage is applied to the movable ribbon 413, that is, when no voltage is applied, the height difference d between the fixed reflecting surface 412S and the movable reflecting surface 413S is approximately zero. When the height difference d is zero, the light reflected by the fixed reflecting surface 412S and the light reflected by the movable reflecting surface 413S are in phase, and these lights are emitted from the diffractive optical element 410 as regular reflection light (zeroth-order diffracted light) L0.

なお、入射光Iの波長λとしたとき、可動反射面413Sで反射した光と、固定反射面412Sで反射した光の光路差(=2d)が、波長λの整数倍(=n×λ(nは、0以上の整数))となる場合、固定反射面412Sで反射した光と、可動反射面413Sで反射した光とが同位相となる。このため、この場合も、これらの光が正反射光L0として回折光学素子410から出射される。 When the wavelength of the incident light IL is λ, if the optical path difference (=2d) between the light reflected by the movable reflecting surface 413S and the light reflected by the fixed reflecting surface 412S is an integer multiple of the wavelength λ (=n×λ (n is an integer equal to or greater than 0)), the light reflected by the fixed reflecting surface 412S and the light reflected by the movable reflecting surface 413S will be in phase. Therefore, in this case as well, these lights are emitted from the diffractive optical element 410 as specularly reflected light L0.

また、図3に示されるように、可動反射面413Sで反射した光と、固定反射面412Sで反射した光の光路差(=2d)が、半波長(=λ/2)の奇数倍(=(2n+1)・λ/2)となる場合、固定反射面412Sで反射した光と、可動反射面413Sで反射した光とが互いに逆位相となって打ち消し合う。このため、垂直方向への反射光は出射されず、光路長差が異なる斜め方向への出射光、すなわち1次以上の回折光Lgが出射される。 Also, as shown in FIG. 3, when the optical path difference (= 2d) between the light reflected by the movable reflecting surface 413S and the light reflected by the fixed reflecting surface 412S is an odd multiple (= (2n + 1) · λ/2) of half the wavelength (= λ/2), the light reflected by the fixed reflecting surface 412S and the light reflected by the movable reflecting surface 413S are in opposite phase to each other and cancel each other out. Therefore, the reflected light in the vertical direction is not emitted, and light with a different optical path length difference is emitted in an oblique direction, that is, first-order or higher diffracted light Lg is emitted.

露光装置100は、回折光学素子410から出射される0次回折光を基板Wに照射して描画を行う。したがって、基板Wに向けて出射される露光ビームに限ってみれば、回折光学素子410の状態が、例えば、図2に示される状態(全反射の状態)であるときには露光ビームが出射され、図3に示される状態のときに露光ビームが出射されない。そこで、以後の説明では、光出射の状態を理解しやすくするために、図2に示される状態を「オン状態」、図3に示される状態を「オフ状態」と称する。オン状態は回折光学素子410から基板Wに向けて光が照射される状態、オフ状態は該光が照射されない状態である。これらは可動リボン413に印加される駆動電圧の大きさで区別される。 The exposure apparatus 100 performs drawing by irradiating the substrate W with the zero-order diffracted light emitted from the diffractive optical element 410. Therefore, in terms of the exposure beam emitted toward the substrate W, when the diffractive optical element 410 is in the state shown in FIG. 2 (total reflection state), for example, the exposure beam is emitted, and when the diffractive optical element 410 is in the state shown in FIG. 3, the exposure beam is not emitted. In the following description, in order to make it easier to understand the state of light emission, the state shown in FIG. 2 will be referred to as the "on state" and the state shown in FIG. 3 as the "off state". The on state is a state in which light is irradiated from the diffractive optical element 410 toward the substrate W, and the off state is a state in which the light is not irradiated. These are distinguished by the magnitude of the drive voltage applied to the movable ribbon 413.

駆動電圧は個々の可動リボン413に対し個別に設定可能である。このため、1つの可動リボン413とこれに隣接する固定リボン412とからなるリボン対ごとにオン状態とオフ状態とを現出させることができる。以下の説明では、一対により構成されるオンオフを制御する最小単位を「チャンネル」と称する。図面においては、「チャンネル」を「ch」と略記されている場合がある。また、複数のチャンネルを区別する場合には、「ch(1)」といったように、配列方向の一方から他方に向けて順につけられた1から始まる番号が、括弧付きで併記される。 The driving voltage can be set individually for each movable ribbon 413. Therefore, it is possible to produce an on state and an off state for each ribbon pair consisting of one movable ribbon 413 and an adjacent fixed ribbon 412. In the following explanation, the smallest unit for controlling on/off consisting of a pair is called a "channel". In the drawings, "channel" may be abbreviated to "ch". In addition, when distinguishing between multiple channels, numbers starting from 1 that are assigned sequentially from one side of the arrangement to the other are written in parentheses, such as "ch(1)".

光学ヘッド4において、回折光学素子410は、その反射面の法線が光軸OAに対して傾斜して配置されており、照明光学系53から射出された光は、回折光学素子410に照射される。そして、回折光学素子410の各チャンネルの状態が描画データに応じて制御装置90によって切り換えられ、これにより、回折光学素子410に入射したレーザ光が変調される。描画データにより表される1画素は、1つまたは複数のチャンネルに対応する。回折光学素子410への光の入射角に応じて駆動電圧を適宜チューニングして可動リボン413の変位量を調節することで、0次回折光が出射されるオン状態と出射されないオフ状態とを実現することができる。 In the optical head 4, the diffractive optical element 410 is arranged so that the normal of its reflecting surface is inclined with respect to the optical axis OA, and the light emitted from the illumination optical system 53 is irradiated onto the diffractive optical element 410. The state of each channel of the diffractive optical element 410 is then switched by the control device 90 according to the drawing data, thereby modulating the laser light incident on the diffractive optical element 410. One pixel represented by the drawing data corresponds to one or more channels. By appropriately tuning the driving voltage according to the angle of incidence of the light on the diffractive optical element 410 to adjust the amount of displacement of the movable ribbons 413, it is possible to realize an ON state in which the zeroth-order diffracted light is emitted and an OFF state in which it is not emitted.

回折光学素子410には、照明光学系53によって均一化されたレーザ光が照射される。つまり、レーザ発振器52から射出された光は、照明光学系53によって強度分布が均一な線状のラインビーム光(光束断面が線状の光)に整形されて、回折光学素子410の有効領域に照射される。ここで、有効領域は、回折光学素子410が入射光に対する変調を実行可能な領域である。またラインビーム光の長軸方向は、回折光学素子410におけるリボン配列方向であるR方向に設定されている。 The diffractive optical element 410 is irradiated with laser light that has been homogenized by the illumination optical system 53. In other words, the light emitted from the laser oscillator 52 is shaped by the illumination optical system 53 into a linear line beam light (light with a linear beam cross section) with a uniform intensity distribution, and is irradiated onto the effective area of the diffractive optical element 410. Here, the effective area is the area in which the diffractive optical element 410 can perform modulation on the incident light. The long axis direction of the line beam light is set to the R direction, which is the ribbon arrangement direction in the diffractive optical element 410.

図4は、図1に示される露光装置100の観察光学系80の構成を示す図である。図5に示されるように、ステージ10の側面には、観察光学系80が配置されている。観察光学系80は、光学ヘッド4から射出されるレーザ光を受光して、レーザ光の光を観察するための装置である。 Figure 4 is a diagram showing the configuration of the observation optical system 80 of the exposure device 100 shown in Figure 1. As shown in Figure 5, the observation optical system 80 is disposed on the side of the stage 10. The observation optical system 80 is a device for receiving the laser light emitted from the optical head 4 and observing the light of the laser light.

観察光学系80 は、ダミー基板801と、観察用カメラ803と、ケース804と、支持フレーム805と、ビームスプリッタ806と、光量検出器807とを有する。ダミー基板801は、例えば石英ガラスによって平板状に形成された光透過性を有する基板である。ダミー基板801は、ケース804の上部に載置されている。 The observation optical system 80 includes a dummy substrate 801, an observation camera 803, a case 804, a support frame 805, a beam splitter 806, and a light amount detector 807. The dummy substrate 801 is a light-transmitting substrate formed into a flat plate shape, for example, from quartz glass. The dummy substrate 801 is placed on top of the case 804.

ダミー基板801の下方には、ビームスプリッタ806を介して観察用カメラ803が配置されている。観察用カメラ803は、例えば、ダミー基板801からビームスプリッタ806を介して入射してきたレーザ光を撮像する。ダミー基板801および観察用カメラ803は、それぞれケース804に取り付けられて一体化されている。観察用カメラ803の光学系の焦点位置は、ダミー基板801の上面801Sに合わせられている。 An observation camera 803 is disposed below the dummy substrate 801 via a beam splitter 806. The observation camera 803 captures, for example, laser light incident from the dummy substrate 801 via the beam splitter 806. The dummy substrate 801 and the observation camera 803 are each attached to a case 804 and integrated together. The focal position of the optical system of the observation camera 803 is adjusted to the upper surface 801S of the dummy substrate 801.

ケース804は、支持プレート22に立設された支持フレーム805によって昇降自在に支持されている。ケース804の鉛直方向における移動は、制御装置90によって制御可能である。このように、観察光学系80およびダミー基板801は、水平方向(X方向及びY方向)へはステージ10と一体的に移動する一方、鉛直方向(Z方向)へはステージ10から独立して移動可能である。 The case 804 is supported by a support frame 805 erected on the support plate 22 so that it can be raised and lowered freely. The movement of the case 804 in the vertical direction can be controlled by the control device 90. In this way, the observation optical system 80 and the dummy substrate 801 move integrally with the stage 10 in the horizontal direction (X direction and Y direction), but can move independently of the stage 10 in the vertical direction (Z direction).

ダミー基板801を通過して観察光学系80に入射したレーザ光の一部は、ビームスプリッタ806により進路を変えられて、ケース804に設けられた光量検出器807に入射する。ビームスプリッタ806と光量検出器807との間には、集光光学系(不図示)が設けられている。集光光学系は、ビームスプリッタ806により分けられた光を集光して、光量検出器807に入射させる。 A portion of the laser light that passes through the dummy substrate 801 and enters the observation optical system 80 is redirected by the beam splitter 806 and enters the light amount detector 807 provided in the case 804. A focusing optical system (not shown) is provided between the beam splitter 806 and the light amount detector 807. The focusing optical system focuses the light split by the beam splitter 806 and makes it enter the light amount detector 807.

光量検出器807は、受光面に入射した光量に応じた電気信号を出力する。光量検出器807は、例えば、フォトダイオードなどを有する。光量検出器807は、後述する光量測定に用いられる。なお、光量検出器807がラインセンサで構成されている場合、ラインビーム光に沿った方向にステージ10を移動させることによって、ラインビーム光が光量検出器807によりスキャンされる。これにより、ラインビーム光における光量分布を測定することができる。 The light amount detector 807 outputs an electrical signal according to the amount of light incident on the light receiving surface. The light amount detector 807 has, for example, a photodiode. The light amount detector 807 is used for light amount measurement, which will be described later. When the light amount detector 807 is configured as a line sensor, the line beam light is scanned by the light amount detector 807 by moving the stage 10 in a direction along the line beam light. This makes it possible to measure the light amount distribution in the line beam light.

図5は、図1に示される露光装置100の制御装置90を示すブロック図である。制御装置90は、CPUなどのプロセッサと、プロセッサと電気的に接続されたRAMなどのメモリおよびハーディスクなどの記憶装置などで構成された記憶部99とを有する。プロセッサは、記憶部99記憶された制御プログラムを実行することにより、照明制御部91、ステージ制御部93、描画制御部95およびドライバ951として機能する。なお、制御装置90の機能の少なくとも一部は、専用回路によってハードウェア的に実現されてもよい。 Figure 5 is a block diagram showing the control device 90 of the exposure apparatus 100 shown in Figure 1. The control device 90 has a processor such as a CPU, and a storage unit 99 composed of a memory such as a RAM electrically connected to the processor and a storage device such as a hard disk. The processor functions as an illumination control unit 91, a stage control unit 93, a drawing control unit 95, and a driver 951 by executing a control program stored in the storage unit 99. Note that at least some of the functions of the control device 90 may be realized in hardware by a dedicated circuit.

照明制御部91は、光学ユニットUの光照射部5を制御して、光照射部5にラインビーム光を出射させる。ステージ制御部93は、ステージ移動機構20を制御することにより、ステージ10を光学ヘッド4に対し相対移動させる。描画制御部95は、記憶部99に記憶された描画レシピに基づいて、ドライバ951を制御することにより、ドライバ951から回折光学素子410の各可動リボン413に駆動電圧を印加させる。これにより、制御装置90は、回折光学素子410に、描画パターンに対応するようにラインビーム光を変調させる。また、描画制御部95は、後述するように、駆動電圧の適正な範囲(以下、「適正駆動範囲」と称する。)を決定する。 The illumination control unit 91 controls the light irradiation unit 5 of the optical unit U to cause the light irradiation unit 5 to emit a line beam of light. The stage control unit 93 controls the stage movement mechanism 20 to move the stage 10 relative to the optical head 4. The drawing control unit 95 controls the driver 951 based on the drawing recipe stored in the memory unit 99 to apply a driving voltage from the driver 951 to each movable ribbon 413 of the diffractive optical element 410. As a result, the control device 90 causes the diffractive optical element 410 to modulate the line beam of light so as to correspond to the drawing pattern. In addition, the drawing control unit 95 determines an appropriate range of the driving voltage (hereinafter referred to as the "appropriate driving range") as described below.

<回折光学素子の光量電圧特性について>
図6は、従来の適正駆動範囲の決定方法について説明する図である。図6(A)は、
複数の印加電圧V1~V5に対する光量分布を示す図である。図6(A)中、横軸は、露光面におけるピクセルの位置(各チャンネルの位置に対応)を示しており、縦軸は、光量(光強度)を示している。図6(B)は、図6(A)に示される特定位置Xに対応するチャンネルの、駆動電圧に対する光量変化(以下、「光量電圧特性」と称する。)を示す図である。
<Light intensity-voltage characteristics of diffractive optical elements>
6A and 6B are diagrams for explaining a conventional method for determining an appropriate driving range.
6A is a diagram showing the light quantity distribution for a plurality of applied voltages V1 to V5. In Fig. 6A, the horizontal axis indicates the pixel position (corresponding to the position of each channel) on the exposure surface, and the vertical axis indicates the light quantity (light intensity). Fig. 6B is a diagram showing the change in light quantity with respect to the drive voltage (hereinafter referred to as "light quantity-voltage characteristic") for the channel corresponding to the specific position X shown in Fig. 6A.

図6(A)に示されるように、各チャンネルの光量電圧特性を取得するため、回折光学素子410の全チャンネルに駆動電圧をV1からV5まで段階的に印加し、駆動電圧毎の光量分布がそれぞれ測定される。そして、得られた光量分布から、図6(B)に示されるように、チャンネル毎に、光量が最大となるとき(オン状態)の電圧Va、および、光量が最小となるとき(オフ状態)の電圧Vbが決定される。 As shown in FIG. 6(A), in order to obtain the light intensity voltage characteristics of each channel, driving voltages V1 to V5 are applied in stages to all channels of the diffractive optical element 410, and the light intensity distribution for each driving voltage is measured. Then, from the obtained light intensity distribution, the voltage Va when the light intensity is maximum (on state) and the voltage Vb when the light intensity is minimum (off state) are determined for each channel, as shown in FIG. 6(B).

しかしながらこの方法では、全チャンネルに対して駆動電圧が印加された状態で光量測定が行われるため、近くにあるチャンネル間で、光の干渉が起きることにより、光量が互いに影響し合う。このため、図6(A)の各光量分布から、各チャンネルの光量を精度良く取得することは困難である。したがって、図6(B)に示されるような、特定のチャンネルの光量電圧特性を取得したとしても、実際の光量電圧特性から乖離している場合が考えられる。 However, with this method, the light intensity is measured with a drive voltage applied to all channels, so that light interference occurs between nearby channels, causing the light intensity to affect each other. For this reason, it is difficult to accurately obtain the light intensity of each channel from the light intensity distribution in Figure 6 (A). Therefore, even if the light intensity-voltage characteristic of a specific channel is obtained, as shown in Figure 6 (B), it is possible that it may deviate from the actual light intensity-voltage characteristic.

図7は、5チャンネルだけ離れたチャンネル(1)および(6)を駆動した場合の光量分布(シミュレーション)を示す図である。図7中、カーブC11は、チャンネル(1)および(6)をオンにし、それ以外をオフにしたときの光量分布を示している。また、カーブC12は、チャンネル(1)をオフにし、チャンネル(6)のみをオンにしたときの光量分布を示している。 Figure 7 shows the light intensity distribution (simulation) when channels (1) and (6), which are five channels apart, are driven. In Figure 7, curve C11 shows the light intensity distribution when channels (1) and (6) are turned on and the others are turned off. Curve C12 shows the light intensity distribution when channel (1) is turned off and only channel (6) is turned on.

図7に示されるように、カーブC11およびC12から明らかなように、チャンネル(6)をオンにしつつ、チャンネル(1)をオンからオフに切り替えた場合、チャンネル(6)の光量が変動(ここでは、減少)している。これは、5チャンネル離れたチャンネル間では、互いに光量が影響し合うため、同時に駆動すると、各チャンネルの光量を精度良く測定することが困難であることを示している。 As shown in FIG. 7, as is clear from curves C11 and C12, when channel (6) is turned on and channel (1) is switched from on to off, the light intensity of channel (6) fluctuates (here, decreases). This shows that it is difficult to accurately measure the light intensity of each channel when they are driven simultaneously because the light intensity of channels that are five channels apart affects each other.

図8は、17チャンネル離れたチャンネル(1)および(18)を駆動した場合の光量分布(シミュレーション)を示す図である。図8中、カーブC21は、チャンネル(1)および(18)をオンにし、それ以外のチャンネルをオフにしたときの光量分布を示している。また、カーブC22は、チャンネル(1)をオフにし、チャンネル(18)のみをオンにした場合の光量分布を示している。 Figure 8 shows the light intensity distribution (simulation) when channels (1) and (18), which are 17 channels apart, are driven. In Figure 8, curve C21 shows the light intensity distribution when channels (1) and (18) are turned on and the other channels are turned off. Curve C22 shows the light intensity distribution when channel (1) is turned off and only channel (18) is turned on.

図8に示されるように、チャンネル(18)をオンにしつつ、チャンネル(1)をオンからオフに切り替えた場合、チャンネル(18)の光量はほとんど変化していない。これは、17チャンネル分だけ離れた2個のチャンネル間では、互いの光量がほぼ影響し合わないため、同時に駆動しても、各チャンネルの光量を精度良く測定できることを示している。 As shown in Figure 8, when channel (18) is turned on and channel (1) is switched from on to off, the amount of light in channel (18) hardly changes. This shows that the amount of light in two channels that are 17 channels apart hardly affects each other, so that the amount of light in each channel can be measured with high accuracy even when they are driven simultaneously.

以上のように、適切な間隔で複数のチャンネルを駆動することによって、各光量を精度良く測定できることができる。そこで、描画制御部95は、まず、同時に駆動しても光量が互いに影響し合わないチャンネル間の間隔(以下、「基準間隔」と称する。)を決定する。 As described above, by driving multiple channels at appropriate intervals, the amount of light for each channel can be measured with high accuracy. Therefore, the drawing control unit 95 first determines the interval between channels (hereinafter referred to as the "reference interval") at which the light amounts of the channels do not affect each other even when driven simultaneously.

図9は、基準間隔を決定する処理フローを示す図である。描画制御部95は、まず、全チャンネルをオフとする(ステップS11)。具体的には、描画制御部95は、ステップS11において、全チャンネルに対して、例えば、印加可能な最大電圧を印加することにより、全チャンネルからの光を暗くする。この状態から、描画制御部95は、チャンネル(1)と、チャンネル(1)から間隔xだけ離れたチャンネル(1+x)のみをオンにする(ステップS12)。なお、「x」は、2以上の整数である。描画制御部95は、チャンネル(1)とチャンネル(1+x)のみをオンにした状態で、光量測定を行う。これにより、そして、描画制御部95は、得られた光量分布からチャンネル(1+x)に対応する位置の第1光量(ピーク値)を取得する(ステップS13)。 Figure 9 is a diagram showing a process flow for determining the reference interval. First, the drawing control unit 95 turns off all channels (step S11). Specifically, in step S11, the drawing control unit 95 darkens the light from all channels by, for example, applying the maximum voltage that can be applied to all channels. From this state, the drawing control unit 95 turns on only channel (1) and channel (1+x) that is separated from channel (1) by an interval x (step S12). Note that "x" is an integer of 2 or more. The drawing control unit 95 performs light intensity measurement with only channel (1) and channel (1+x) turned on. As a result, the drawing control unit 95 obtains the first light intensity (peak value) at the position corresponding to channel (1+x) from the obtained light intensity distribution (step S13).

続いて、描画制御部95は、チャンネル(1)をオフにし、チャンネル(1+x)のみをオンにする(ステップS14)。そして、描画制御部95は、光量測定を行い、得られた光量分布から、チャンネル(1+x)に対応する位置の第2光量(ピーク値)を取得する(ステップS15)。 Then, the drawing control unit 95 turns off channel (1) and turns on only channel (1+x) (step S14). Then, the drawing control unit 95 performs light intensity measurement and obtains the second light intensity (peak value) at the position corresponding to channel (1+x) from the obtained light intensity distribution (step S15).

さらに、描画制御部95は、ステップS13およびS15によって取得された第1光量と第2光量とが、所定基準下で一致するか否かを判定する(ステップS16)。所定基準として、一致の基準を満たすために許容される最大の差または誤差を示す閾値が、あらかじめ設定される。また、判定の指標として、描画制御部95が第1光量の第2光量に対する比率R(=第1光量/第2光量)を算出するようにしてもよい。この場合、当該比率Rが1-α<R<1+α(αは、閾値)を満足する場合には一致、満足しない場合には不一致と判定される。あるいは、判定の指標として描画制御部95が第1光量と第2光量との差を算出するようにしてもよい。この場合、当該差が所定の閾値以下となる場合に一致、それ以外の場合には不一致と判定される。 Furthermore, the drawing control unit 95 determines whether the first light amount and the second light amount acquired in steps S13 and S15 match under a predetermined criterion (step S16). As the predetermined criterion, a threshold value indicating the maximum difference or error allowed to satisfy the match criterion is set in advance. In addition, the drawing control unit 95 may calculate a ratio R of the first light amount to the second light amount (=first light amount/second light amount) as an index for the determination. In this case, if the ratio R satisfies 1-α<R<1+α (α is a threshold), it is determined that there is a match, and if it does not, it is determined that there is a mismatch. Alternatively, the drawing control unit 95 may calculate a difference between the first light amount and the second light amount as an index for the determination. In this case, if the difference is equal to or less than a predetermined threshold, it is determined that there is a match, and otherwise it is determined that there is a mismatch.

第1光量と第2光量とが一致しなかった場合(ステップS16においてNo)、描画制御部95は、間隔xを1だけ大きくし(ステップS17)、再びステップS11~S15を実行する。一方、第1光量と第2光量が一致した場合(ステップS16においてYes)、描画制御部95は、その時点の間隔xを基準間隔xsとして、記憶部99に保存する(ステップS17)。このように、間隔xを1つずつ大きくして、第1光量と第2光量とが一致する間隔xを探索することにより、最小の基準間隔xsを決定することができる。 If the first light amount and the second light amount do not match (No in step S16), the drawing control unit 95 increases the interval x by 1 (step S17) and executes steps S11 to S15 again. On the other hand, if the first light amount and the second light amount match (Yes in step S16), the drawing control unit 95 stores the interval x at that point in time in the memory unit 99 as the reference interval xs (step S17). In this way, by increasing the interval x by 1 and searching for the interval x at which the first light amount and the second light amount match, the smallest reference interval xs can be determined.

図9に示される処理フローにおいて、チャンネル(1)は、「第1チャンネル」に相当し、チャンネル(1+x)は、「第2チャンネル」に相当し、チャンネル(1)とチャンネル(1+x)の間にあるチャンネルは、「中間チャンネル」に相当する。また、ステップS12~S15は、第1光量および第2光量を測定する「測定工程」に相当する。さらに、ステップS16は、基準間隔を決定する「基準間隔決定工程」に相当する。また、描画制御部95は、「光量取得部」および「基準間隔決定部」に相当する。 In the process flow shown in FIG. 9, channel (1) corresponds to the "first channel", channel (1+x) corresponds to the "second channel", and the channel between channel (1) and channel (1+x) corresponds to the "intermediate channel". Steps S12 to S15 correspond to a "measurement process" for measuring the first light amount and the second light amount. Step S16 corresponds to a "reference interval determination process" for determining the reference interval. The drawing control unit 95 corresponds to a "light amount acquisition unit" and a "reference interval determination unit".

図10は、チャンネル間の間隔xに対する、第1光量と第2光量の比率Rの変化を示す図である。図10中、横軸は間隔xを示しており、縦軸は比率Rを示している。図10に示される例では、間隔xが初期値である5から1ずつ大きくされ、各間隔xにおける比率Rが求められている。この例では、間隔xが17であるとき、比率Rがほぼ1となっている。このため、基準間隔は17に設定される。 Figure 10 is a diagram showing the change in the ratio R of the first light amount to the second light amount with respect to the distance x between channels. In Figure 10, the horizontal axis represents the distance x, and the vertical axis represents the ratio R. In the example shown in Figure 10, the distance x is increased by 1 from the initial value of 5, and the ratio R for each distance x is found. In this example, when the distance x is 17, the ratio R is approximately 1. For this reason, the reference distance is set to 17.

第1光量と第2光量が一致する場合、チャンネル(1)からの光が、チャンネル(1+x)の光量に影響しないことを意味する。したがって、基準間隔xsで離れた複数のチャンネルを同時に駆動しても、個々のチャンネルの光量を精度良く測定することができる。 When the first light amount and the second light amount are equal, it means that the light from channel (1) does not affect the light amount of channel (1+x). Therefore, even if multiple channels separated by a reference interval xs are driven simultaneously, the light amount of each channel can be measured with high accuracy.

図11は、各チャンネルの適正駆動範囲を決定する処理フローを示す図である。図11に示されるように、描画制御部95は、あらかじめ決定された基準間隔xsで位置する、複数チャンネル(チャンネル(m)、チャンネル(m+xs)、チャンネル(m+2xs)・・・(mは、1以上xs以下の整数。mの初期値は1。))の光量電圧特性をそれぞれ取得する(ステップS21)。すなわち、描画制御部95は、最小電圧(例えば、0V)から最大電圧まで駆動電圧をステップ状に変化させて、各駆動電圧下で光量分布の測定を行う。そして、描画制御部95は、各駆動電圧の光量分布から、基準間隔の複数チャンネルの光量を取得する。これにより、基準間隔の複数チャンネルの光量電圧特性が取得される。 Figure 11 is a diagram showing a process flow for determining the appropriate driving range of each channel. As shown in Figure 11, the drawing control unit 95 acquires the light intensity voltage characteristics of each of multiple channels (channel (m), channel (m + xs), channel (m + 2 xs) ... (m is an integer between 1 and xs. The initial value of m is 1)) located at a predetermined reference interval xs (step S21). That is, the drawing control unit 95 changes the driving voltage in steps from the minimum voltage (e.g., 0 V) to the maximum voltage and measures the light intensity distribution under each driving voltage. Then, the drawing control unit 95 acquires the light intensity of the multiple channels at the reference interval from the light intensity distribution of each driving voltage. This acquires the light intensity voltage characteristics of the multiple channels at the reference interval.

次に、描画制御部95は、全チャンネルについて光量電圧特性を取得したか否かを判定する(ステップS22)。全チャンネルの光量電圧特性が取得されていない場合(ステップS22においてNo)、描画制御部95は、mを1だけ大きくし(ステップS23)、ステップS21を再び実行する。これにより、先に光量電圧特性が取得された複数チャンネルに対して、1つ隣に位置する複数チャンネルの光量電圧特性が取得される。また、全チャンネルの光量電圧特性が取得された場合(ステップS22においてYes)、描画制御部95は、各チャンネルの適正駆動範囲が決定される(ステップS23)。すなわち、各チャンネルのオフ側の駆動電圧と、オン側の駆動電圧とがそれぞれ決定される。ステップS24は、各チャンネルを制御するためのパラメータを決定する「パラメータ決定工程」に相当する。また、描画制御部95は、「パラメータ決定部」に相当する。 Next, the drawing control unit 95 judges whether the light amount-voltage characteristics for all channels have been acquired (step S22). If the light amount-voltage characteristics for all channels have not been acquired (No in step S22), the drawing control unit 95 increments m by 1 (step S23) and executes step S21 again. This allows the light amount-voltage characteristics of the adjacent channels to be acquired from the channels whose light amount-voltage characteristics have been acquired earlier. If the light amount-voltage characteristics for all channels have been acquired (Yes in step S22), the drawing control unit 95 determines the appropriate driving range for each channel (step S23). That is, the off-side driving voltage and the on-side driving voltage for each channel are determined. Step S24 corresponds to a "parameter determination step" for determining parameters for controlling each channel. The drawing control unit 95 corresponds to a "parameter determination unit".

図12は、図11に示されるステップS21(光量電圧特性取得処理)時に駆動されるチャンネルを示す図である。なお、図12(A)は、1回目に実行されるステップS21において、駆動されるチャンネルを示す図であり、図12(B)は、2回目に実行されるステップS21において、駆動されるチャンネルを示している。基準間隔xsが17である場合、図12(A)に示されるように、1回目のステップS21では、チャンネル(1)から順に、チャンネル(18)、チャンネル(35)・・・が駆動されることにより、これらの電圧光量特性が取得される。また、図12(B)に示されるように、2回目のステップS21では、チャンネル(2)から順に、チャンネル(19)、チャンネル(36)・・・が駆動される。すなわち、2回目に駆動される複数のチャンネルは、1回目に駆動された各チャンネルに対して隣接するチャンネルとなっている。 12 is a diagram showing the channels driven in step S21 (light quantity voltage characteristic acquisition process) shown in FIG. 11. FIG. 12(A) shows the channels driven in step S21 executed the first time, and FIG. 12(B) shows the channels driven in step S21 executed the second time. When the reference interval xs is 17, as shown in FIG. 12(A), in the first step S21, channel (1) is driven in order, followed by channel (18), channel (35), etc., to acquire their voltage light quantity characteristics. Also, as shown in FIG. 12(B), in the second step S21, channel (19), channel (36), etc. are driven in order, followed by channel (2). In other words, the multiple channels driven the second time are adjacent to each channel driven the first time.

以上のように、本実施形態では、基準間隔xsずつ離れた複数のチャンネルを同時に駆動し、複数チャンネルの光量電圧特性(駆動電圧に対する光量変化)を取得する。これにより、チャンネル間における光量の影響を回避できるため、各チャンネルの光量電圧特性を精度良く取得できる。したがって、各チャンネルの適正駆動範囲を適切に決定できる。また、この場合、基準間隔xsと同じ回数だけ光量分布の測定を繰り返すことで、全チャンネルの光量電圧特性を取得できる。このため、個々のチャンネルを駆動して光量電圧特性を取得する場合よりも、測定回数を大幅に減らすことができる。例えば、チャンネルが8000個ある場合、個々のチャンネルを駆動する場合には、8000回の測定が必要となるが、本実施形態によれば、基準間隔xsが17である場合には17回の測定で済む。したがって、各チャンネルの適正駆動範囲を効率的に決定できる。 As described above, in this embodiment, multiple channels separated by a reference interval xs are driven simultaneously to obtain the light intensity voltage characteristics (change in light intensity with respect to drive voltage) of multiple channels. This makes it possible to avoid the influence of light intensity between channels, and therefore the light intensity voltage characteristics of each channel can be obtained with high accuracy. Therefore, the appropriate drive range of each channel can be appropriately determined. In addition, in this case, the light intensity voltage characteristics of all channels can be obtained by repeating the measurement of the light intensity distribution the same number of times as the reference interval xs. Therefore, the number of measurements can be significantly reduced compared to the case where the light intensity voltage characteristics are obtained by driving each channel. For example, when there are 8000 channels, 8000 measurements are required to drive each channel, but according to this embodiment, when the reference interval xs is 17, only 17 measurements are required. Therefore, the appropriate drive range of each channel can be efficiently determined.

<2. 変形例>
以上、実施形態について説明してきたが、本発明は上記のようなものに限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
2. Modified Examples
Although the embodiment has been described above, the present invention is not limited to the above, and various modifications are possible.

例えば、図9に示される処理フローでは、基準間隔xsを決定する際、一方のチャンネルをチャンネル(1)に固定しているが、チャンネル(1)以外のチャンネルであってもよい。 For example, in the process flow shown in FIG. 9, when determining the reference interval xs, one channel is fixed to channel (1), but it may be a channel other than channel (1).

また、図9に示される処理フローでは、第2チャンネルを、第1チャンネルであるチャンネル(1)に対して、配列方向(第1方向)の一方側に間隔xだけあけて位置するチャンネル(1+x)として、基準間隔xsを決定している。しかしながら、第2チャンネルを、第1チャンネルに対して配列方向の他方側に間隔xだけあけて位置するものとして、基準間隔xsを決定してもよい。例えば、第1チャンネルをチャンネル(8000)として、第2チャンネルをチャンネル(8000-x)としてもよい。 In the process flow shown in FIG. 9, the reference interval xs is determined by assuming that the second channel is channel (1+x) located at a distance x on one side of the arrangement direction (first direction) from the first channel, channel (1). However, the reference interval xs may also be determined by assuming that the second channel is located at a distance x on the other side of the arrangement direction from the first channel. For example, the first channel may be channel (8000) and the second channel may be channel (8000-x).

また、描画制御部95は、第2チャンネルを第1チャンネルに対して配列方向の一方側に位置するものとして、基準間隔xs1(第1基準間隔)を決定し、さらに、第2チャンネルを第1チャンネルに対して配列方向の他方側に位置するものとして基準間隔xs2(第2基準間隔)を決定してもよい。そして、描画制御部95は、基準間隔xs1、xs2を用いて、最終的な基準間隔xsを決定してもよい。例えば、描画制御部95は、基準間隔xs1とxs2の平均値を、最終的な基準間隔xsとしてもよい。 The drawing control unit 95 may also determine a reference interval xs1 (first reference interval) by assuming that the second channel is located on one side of the arrangement direction relative to the first channel, and may further determine a reference interval xs2 (second reference interval) by assuming that the second channel is located on the other side of the arrangement direction relative to the first channel. The drawing control unit 95 may then use the reference intervals xs1 and xs2 to determine the final reference interval xs. For example, the drawing control unit 95 may set the average of the reference intervals xs1 and xs2 as the final reference interval xs.

また、上記実施形態では、各チャンネルについて、0次回折光をオンオフする駆動電圧を決定しているが、0次回折光以外をオンオフする駆動電圧が決定されてよい。例えば、1次回折光をオンオフする駆動電圧が決定されてもよい。 In addition, in the above embodiment, a drive voltage for turning on and off the zeroth-order diffracted light is determined for each channel, but a drive voltage for turning on and off other than the zeroth-order diffracted light may be determined. For example, a drive voltage for turning on and off the first-order diffracted light may be determined.

また、上記実施形態では、空間光変調器が、GLVなどの回折光学素子を用いたものである場合について説明したが、DMDなど、その他のMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)を用いたものであってもよい。 In addition, in the above embodiment, the spatial light modulator is described as using a diffractive optical element such as a GLV, but it may also be using other MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) such as a DMD.

この発明は詳細に説明されたが、上記の説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。上記各実施形態及び各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせたり、省略したりすることができる。 Although this invention has been described in detail, the above description is merely illustrative in all respects and does not limit the invention. It is understood that countless variations not illustrated can be envisioned without departing from the scope of this invention. The configurations described in the above embodiments and variations can be combined or omitted as appropriate as long as they are not mutually contradictory.

4 光学ヘッド(照射部)
90 制御装置
95 描画制御部
100 露光装置
410 回折光学素子
412 固定リボン
413 可動リボン

4 Optical head (illumination unit)
90 Control device 95 Drawing control unit 100 Exposure device 410 Diffractive optical element 412 Fixed ribbon 413 Movable ribbon

Claims (7)

入力されたパラメータに応じて光をチャンネル単位で空間的に変調することが可能な空間光変調器を制御する制御方法であって、
第1チャンネルと第2チャンネルとをオンにし、かつ前記第1チャンネルと前記第2チャンネルの間に位置する1つ以上の中間チャンネルをオフにした状態で、前記第2チャンネルに対応する光の第1光量を測定するとともに、前記第2チャンネルをオンにし、かつ前記第1チャンネルと前記1つ以上の中間チャンネルをオフにした状態で、前記第2チャンネルに対応する光の第2光量を測定する測定工程と、
前記測定工程によって測定された前記第1光量と前記第2光量とが所定の基準下において一致するときの、前記第1チャンネルと前記第2チャンネルの間隔である基準間隔を決定する基準間隔決定工程と、
前記基準間隔決定工程によって決定された前記基準間隔で位置する複数の前記チャンネルを、パラメータを変えつつ同時にオンにした場合の光量変化に基づいて、前記複数のチャンネルを駆動するためのパラメータを決定するパラメータ決定工程と、
を含む、空間光変調器の制御方法。
A method for controlling a spatial light modulator capable of spatially modulating light on a channel-by-channel basis in accordance with input parameters, comprising:
a measuring step of measuring a first amount of light corresponding to the second channel while turning on a first channel and a second channel and turning off one or more intermediate channels located between the first channel and the second channel, and measuring a second amount of light corresponding to the second channel while turning on the second channel and turning off the first channel and the one or more intermediate channels;
a reference interval determination step of determining a reference interval between the first channel and the second channel when the first light amount and the second light amount measured in the measurement step match under a predetermined criterion;
a parameter determination step of determining parameters for driving the plurality of channels based on a change in light amount when the plurality of channels positioned at the reference interval determined by the reference interval determination step are simultaneously turned on while changing parameters;
A method for controlling a spatial light modulator, comprising:
請求項1に記載の空間光変調器の制御方法であって、
前記チャンネルは、入力されたパラメータに応じて可動部材が固定部材に対して変位する回折格子型の素子である、空間光変調器の制御方法。
2. A method for controlling a spatial light modulator according to claim 1, comprising the steps of:
A method for controlling a spatial light modulator, wherein the channel is a grating type element in which a movable member is displaced relative to a fixed member in response to input parameters.
請求項1または請求項2に記載の空間光変調器の制御方法であって、
前記パラメータ決定工程は、各前記チャンネルについて、光量が最小となるパラメータを決定する工程を含む、空間光変調器の制御方法。
A method for controlling a spatial light modulator according to claim 1 or 2, comprising the steps of:
A method for controlling a spatial light modulator, wherein the parameter determination step includes a step of determining, for each of the channels, a parameter that minimizes the amount of light.
請求項1または請求項2に記載の空間光変調器の制御方法であって、
前記パラメータ決定工程は、各前記チャンネルについて、光量が最大となるパラメータを決定する工程を含む、空間光変調器の制御方法。
A method for controlling a spatial light modulator according to claim 1 or 2, comprising the steps of:
A method for controlling a spatial light modulator, wherein the parameter determination step includes a step of determining, for each of the channels, a parameter that maximizes the amount of light.
請求項1または請求項2に記載の空間光変調器の制御方法であって、
前記第2チャンネルを、前記第1チャンネルに対して第1方向の一方側に間隔をあけて位置するものとして、前記第1光量および前記第2光量が所定基準下で一致するときの前記間隔である第1基準間隔を決定する第1基準間隔決定工程と、
前記第2チャンネルを、前記第1チャンネルに対して前記第1方向の他方側に間隔をあけて位置するものとして、前記第1光量および前記第2光量が所定基準下で一致するときの前記間隔である第2基準間隔を決定する第2基準間隔決定工程と、
をさらに含み、
前記基準間隔決定工程は、前記第1基準間隔および前記第2基準間隔を用いて前記基準間隔を決定する工程を含む、空間光変調器の制御方法。
A method for controlling a spatial light modulator according to claim 1 or 2, comprising the steps of:
a first reference interval determination step of determining a first reference interval, which is the interval when the first light amount and the second light amount are equal under a predetermined criterion, with the second channel being positioned at an interval on one side in a first direction with respect to the first channel;
a second reference interval determination step of determining a second reference interval, which is the interval when the first light amount and the second light amount are equal under a predetermined criterion, with the second channel being positioned at an interval on the other side in the first direction with respect to the first channel;
Further comprising:
A method for controlling a spatial light modulator, wherein the reference interval determination step includes a step of determining the reference interval using the first reference interval and the second reference interval.
入力されたパラメータに応じて光をチャンネル単位で空間的に変調することが可能な空間光変調器を制御する制御装置であって、
第1チャンネルおよび第2チャンネルをオンにし、かつ前記第1チャンネルと前記第2チャンネルの間に位置する1つ以上の中間チャンネルをオフにした状態で前記第2チャンネルに対応する光の第1光量を取得するとともに、第2チャンネルをオンにし、かつ前記第1チャンネルおよび前記1つ以上の中間チャンネルをオフにした状態で前記第2チャンネルに対応する光の第2光量を取得する光量取得部と、
前記光量取得部によって取得された前記第1光量と前記第2光量が所定基準下で一致するときの、前記第1チャンネルと前記第2チャンネルの間隔である基準間隔を決定する基準間隔決定部と、
前記基準間隔決定部によって決定された前記基準間隔で位置する複数のチャンネルを、パラメータを変えて同時にオンに場合の光量変化に基づいて、前記複数のチャンネルを制御するためのパラメータを決定するパラメータ決定部と、
を備える、制御装置。
A control device for controlling a spatial light modulator capable of spatially modulating light on a channel-by-channel basis in accordance with input parameters,
a light amount acquiring unit that acquires a first amount of light corresponding to the second channel while turning on a first channel and a second channel and while turning off one or more intermediate channels located between the first channel and the second channel, and acquires a second amount of light corresponding to the second channel while turning on the second channel and while turning off the first channel and the one or more intermediate channels;
a reference interval determination unit that determines a reference interval between the first channel and the second channel when the first light amount and the second light amount acquired by the light amount acquisition unit match under a predetermined criterion;
a parameter determination unit that determines parameters for controlling the plurality of channels based on a change in light amount when the plurality of channels positioned at the reference interval determined by the reference interval determination unit are simultaneously turned on while changing parameters;
A control device comprising:
露光装置であって、
光源と、
光源からの光を空間変調する空間光変調器と、
前記空間光変調器によって変調された光を対象物に照射する照射部と、
前記空間光変調器を制御する請求項6に記載の制御装置と、
を備える、露光装置。
An exposure apparatus comprising:
A light source;
a spatial light modulator that spatially modulates light from a light source;
an illumination unit that illuminates an object with the light modulated by the spatial light modulator;
A control device according to claim 6 for controlling the spatial light modulator;
An exposure apparatus comprising:
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