JP2703930B2 - 複屈折回折格子型偏光子 - Google Patents
複屈折回折格子型偏光子Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1833—Diffraction gratings comprising birefringent materials
-
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体レーザを利用した各種光装置に使用
する複屈折偏光板、特に偏光方向によって回折効率の異
なる格子型偏光板に関する。
する複屈折偏光板、特に偏光方向によって回折効率の異
なる格子型偏光板に関する。
(従来の技術) 偏光素子、特に偏光ビームスプリッタは、直交する偏
光間で光の伝搬方向を異ならしめることによって特定の
偏光を得る素子である。このような素子は、光ファイバ
通信用光源モジュールや光ディスク用光ヘッドなどに、
光アイソレータや光サーキュレータを構成する部品とし
て使われている。
光間で光の伝搬方向を異ならしめることによって特定の
偏光を得る素子である。このような素子は、光ファイバ
通信用光源モジュールや光ディスク用光ヘッドなどに、
光アイソレータや光サーキュレータを構成する部品とし
て使われている。
従来、偏光ビームスプリッタとしては、グラントムソ
ンプリズムやロッションプリズムなど、複屈折の大きな
結晶の光反射面における偏光による透過ないしは全反射
の違いを利用し光路を分離するもの、またはガラスなど
の等方性光学媒質でできた全反射プリズム反射面に誘電
体多層膜を設け、この誘電体多層膜の偏光による屈折率
の違いを利用して、光を全反射ないしは透過させるもの
が多く使用されている。しかしながら、これらの素子は
大型であること、生産性が低いこと、値段が高いことな
どの欠点がある。
ンプリズムやロッションプリズムなど、複屈折の大きな
結晶の光反射面における偏光による透過ないしは全反射
の違いを利用し光路を分離するもの、またはガラスなど
の等方性光学媒質でできた全反射プリズム反射面に誘電
体多層膜を設け、この誘電体多層膜の偏光による屈折率
の違いを利用して、光を全反射ないしは透過させるもの
が多く使用されている。しかしながら、これらの素子は
大型であること、生産性が低いこと、値段が高いことな
どの欠点がある。
一方、複屈折回折格子型偏光子は光学的異方性をもつ
結晶の光学軸と平行な主面に、周期的なイオン交換領域
を設け、かつイオン交換を施した領域上に誘電体膜を形
成したものであり、偏光による回折効率の違いを利用し
て光路を分離するものである。この複屈折回折格子型偏
光子は従来の偏光素子に比べて、小型であること、生産
性が高いこと、安価であることなどの利点がある。例え
ば、ニオブ酸リチウムの主面に周期的にプロトンイオン
交換を施すと、プロトンイオン交換を施した領域では波
長1.3μmの異常光線に対する屈折率が約0.09増加し、
常光線に対する屈折率が約0.04減少する。従って、プロ
トンイオン交換を施した領域の誘電体膜厚を、プロトン
イオン交換を施していない領域の誘電体膜厚に比位べて
厚くし、プロトンイオン交換を施した領域の常光線に対
する屈折率の減少を相殺することによって、常光線の1
次以上の回折効率及び異常光線の0次の回折効率を共に
零にすることができ、偏光子になる。
結晶の光学軸と平行な主面に、周期的なイオン交換領域
を設け、かつイオン交換を施した領域上に誘電体膜を形
成したものであり、偏光による回折効率の違いを利用し
て光路を分離するものである。この複屈折回折格子型偏
光子は従来の偏光素子に比べて、小型であること、生産
性が高いこと、安価であることなどの利点がある。例え
ば、ニオブ酸リチウムの主面に周期的にプロトンイオン
交換を施すと、プロトンイオン交換を施した領域では波
長1.3μmの異常光線に対する屈折率が約0.09増加し、
常光線に対する屈折率が約0.04減少する。従って、プロ
トンイオン交換を施した領域の誘電体膜厚を、プロトン
イオン交換を施していない領域の誘電体膜厚に比位べて
厚くし、プロトンイオン交換を施した領域の常光線に対
する屈折率の減少を相殺することによって、常光線の1
次以上の回折効率及び異常光線の0次の回折効率を共に
零にすることができ、偏光子になる。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、複屈折回折格子型偏光子の表面は結晶
基板と誘電体膜という二つの異なった物質によって構成
されているため、反射防止膜を作成する際に、二種類の
屈折率の膜をそれぞれ異なった厚さで誘電体膜上及び結
晶基板上に付ける必要があり、製作行程が複雑になると
いう問題点があった。
基板と誘電体膜という二つの異なった物質によって構成
されているため、反射防止膜を作成する際に、二種類の
屈折率の膜をそれぞれ異なった厚さで誘電体膜上及び結
晶基板上に付ける必要があり、製作行程が複雑になると
いう問題点があった。
本発明の目的は、複屈折回折格子型偏光子において、
反射防止膜の製作行程を簡素化し、安価で低挿入損失の
複屈折回折格子型偏光子を提供することにある。
反射防止膜の製作行程を簡素化し、安価で低挿入損失の
複屈折回折格子型偏光子を提供することにある。
(課題を解決するための手段) 本発明は、光学的異方性を持つ結晶板の主面に、周期
を有するイオン交換領域の光学的回折格子を形成し、か
つイオン交換を施した領域上に誘電体膜を設けた複屈折
回折格子型偏光子において、上記誘電体膜として屈折率
が結晶基板の屈折率に近いものを用い、さらにこの格子
の表面全体に均一な厚さの反射防止膜を形成したことを
特徴とする複屈折回折格子型偏光子である。
を有するイオン交換領域の光学的回折格子を形成し、か
つイオン交換を施した領域上に誘電体膜を設けた複屈折
回折格子型偏光子において、上記誘電体膜として屈折率
が結晶基板の屈折率に近いものを用い、さらにこの格子
の表面全体に均一な厚さの反射防止膜を形成したことを
特徴とする複屈折回折格子型偏光子である。
(作用) 本発明においては、複屈折回折格子型偏光子の誘電体
膜として上記の屈折率を持つものを用いることにより、
結晶基板と誘電体膜の間の反射をほぼ零にしている。こ
れにより、格子の表面は光学的には単一の物質で構成さ
れているのと等価になる。従って、結晶基板と空気の間
の通常の反射防止膜を一様に付けるだけで偏光子全体の
反射防止膜とすることができ、反射防止膜の製作行程が
大幅に簡素化される。
膜として上記の屈折率を持つものを用いることにより、
結晶基板と誘電体膜の間の反射をほぼ零にしている。こ
れにより、格子の表面は光学的には単一の物質で構成さ
れているのと等価になる。従って、結晶基板と空気の間
の通常の反射防止膜を一様に付けるだけで偏光子全体の
反射防止膜とすることができ、反射防止膜の製作行程が
大幅に簡素化される。
(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。第2図は本発明の複屈折回折格子型偏光子の実施例
の斜視図である。1は光学的異方性を持つ結晶基板であ
り、本実施例ではニオブ酸リチウムのY板を用いてい
る。2はプロトンイオン交換領域であり、この交換領域
を周期的に形成してある。さらに、このプロトンイオン
交換領域上には、屈折率が基板1の屈折率に近い誘電体
膜3が設けてあり、光学的回折格子を形成している。こ
のような屈折率を持つ誘電体としては、例えばニオブ酸
リチウム(LiNbO3),酸化ニオブ(Nb2O5),酸化ジル
コニウム(ZrO2),酸化テルル(TeO2)などがある。こ
の回折格子には第1図の断面図で示すように反射防止膜
4が基板1上及び誘電体膜3上に同じ厚さだけ付けられ
ている。この反射防止膜4は、屈折率が基板1の屈折率
の平方根に近いものを用い、膜厚は光の波長を反射防止
膜4の屈折率の4倍で除した値にする。このような屈折
率を持つものとしては、石英(SiO2)、ふっ化マグネシ
ウム(MgF2)などがある。このようにすると、よく知ら
れているように空気と基板1の間の反射率は零になるの
で、誘電体膜3がない部分からの反射はなくすことがで
きる。また、基板1と誘電体3の屈折率がほぼ等しいの
で、基板1と誘電体3の境界での反射はほぼ零になり、
さらに誘電体膜3と空気の境界での反射も、基板1と空
気の間と同じ反射防止膜4によってほぼ零にすることが
できる。従って、単一の膜厚の反射防止膜4を一様に付
けるだけで、基板1と誘電体膜3の二つの異なった物質
によって構成されている偏光子表面からの反射を同時に
なくすことができる。この反射防止膜4は等価な位相変
化を与える多層膜で構成してもよい。また、格子の表面
が空気以外の物質と接している場合には反射防止膜4の
屈折率をその物質の屈折率と基板1の屈折率の積の平方
根に近い値にすればよい。
る。第2図は本発明の複屈折回折格子型偏光子の実施例
の斜視図である。1は光学的異方性を持つ結晶基板であ
り、本実施例ではニオブ酸リチウムのY板を用いてい
る。2はプロトンイオン交換領域であり、この交換領域
を周期的に形成してある。さらに、このプロトンイオン
交換領域上には、屈折率が基板1の屈折率に近い誘電体
膜3が設けてあり、光学的回折格子を形成している。こ
のような屈折率を持つ誘電体としては、例えばニオブ酸
リチウム(LiNbO3),酸化ニオブ(Nb2O5),酸化ジル
コニウム(ZrO2),酸化テルル(TeO2)などがある。こ
の回折格子には第1図の断面図で示すように反射防止膜
4が基板1上及び誘電体膜3上に同じ厚さだけ付けられ
ている。この反射防止膜4は、屈折率が基板1の屈折率
の平方根に近いものを用い、膜厚は光の波長を反射防止
膜4の屈折率の4倍で除した値にする。このような屈折
率を持つものとしては、石英(SiO2)、ふっ化マグネシ
ウム(MgF2)などがある。このようにすると、よく知ら
れているように空気と基板1の間の反射率は零になるの
で、誘電体膜3がない部分からの反射はなくすことがで
きる。また、基板1と誘電体3の屈折率がほぼ等しいの
で、基板1と誘電体3の境界での反射はほぼ零になり、
さらに誘電体膜3と空気の境界での反射も、基板1と空
気の間と同じ反射防止膜4によってほぼ零にすることが
できる。従って、単一の膜厚の反射防止膜4を一様に付
けるだけで、基板1と誘電体膜3の二つの異なった物質
によって構成されている偏光子表面からの反射を同時に
なくすことができる。この反射防止膜4は等価な位相変
化を与える多層膜で構成してもよい。また、格子の表面
が空気以外の物質と接している場合には反射防止膜4の
屈折率をその物質の屈折率と基板1の屈折率の積の平方
根に近い値にすればよい。
この回折格子の0次の回折光強度は、COS2{π[ΔnT
p+(nd−1)Td]/λ}で与えられる。但し、λは光
の波長、Δnはプロトンイオン交換領域3の屈折率変
化、Tpはプロトンイオン交換領域2の深さ、ndは誘電体
膜3の屈折率、Tdは誘電体膜4の厚さである。光の波長
を1.3μmとすると、基板1の屈折率は約2.2、プロトン
イオン交換による屈折率の変化は、異常光線に対しては
約+0.09であり、常光線に対しては約−0.04であるか
ら、この回折格子の0次の回折光強度が、異常光線に対
して0、常光線に対して1になり偏光子として動作する
ためには、プロトン交換領域2の深さを5μm、誘電体
膜3の厚さを0.16μm程度にすればよい。
p+(nd−1)Td]/λ}で与えられる。但し、λは光
の波長、Δnはプロトンイオン交換領域3の屈折率変
化、Tpはプロトンイオン交換領域2の深さ、ndは誘電体
膜3の屈折率、Tdは誘電体膜4の厚さである。光の波長
を1.3μmとすると、基板1の屈折率は約2.2、プロトン
イオン交換による屈折率の変化は、異常光線に対しては
約+0.09であり、常光線に対しては約−0.04であるか
ら、この回折格子の0次の回折光強度が、異常光線に対
して0、常光線に対して1になり偏光子として動作する
ためには、プロトン交換領域2の深さを5μm、誘電体
膜3の厚さを0.16μm程度にすればよい。
本偏光子は薄いニオブ酸リチウム結晶板にバッチプロ
セスによって大量に形成できるため、薄型で安価な偏光
子を得ることができる。
セスによって大量に形成できるため、薄型で安価な偏光
子を得ることができる。
(発明の効果) 以上に述べたように、本発明によれば高消光比低挿入
損失の薄型偏光素子を得ることができ、さらにはバッチ
処理により大量安価な偏光素子とすることができる。
損失の薄型偏光素子を得ることができ、さらにはバッチ
処理により大量安価な偏光素子とすることができる。
第1図は本発明の複屈折回折格子型偏光子の実施例の断
面図であり、第2図は斜視図である。 1……ニオブ酸リチウム結晶基板、2……プロトンイオ
ン交換領域、3……誘電体膜、4……反射防止膜
面図であり、第2図は斜視図である。 1……ニオブ酸リチウム結晶基板、2……プロトンイオ
ン交換領域、3……誘電体膜、4……反射防止膜
Claims (1)
- 【請求項1】光学的異方性を持つ結晶板の主面に、周期
を有するイオン交換領域の光学的回折格子を形成し、か
つイオン交換を施した領域上に誘電体膜を設けた複屈折
回折格子型偏光子において、上記誘電体膜として屈折率
が結晶基板の屈折率に近いものを用い、さらにこの格子
の表面全体に反射防止膜を形成したことを特徴とする複
屈折回折格子型偏光子。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63164049A JP2703930B2 (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 複屈折回折格子型偏光子 |
| DE68918012T DE68918012T2 (de) | 1988-06-29 | 1989-06-13 | Doppelbrechender Gitterpolarisator. |
| EP89305943A EP0349144B1 (en) | 1988-06-29 | 1989-06-13 | Birefringence diffraction grating type polarizer |
| US07/371,899 US4991937A (en) | 1988-06-29 | 1989-06-27 | Birefringence diffraction grating type polarizer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63164049A JP2703930B2 (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 複屈折回折格子型偏光子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0212106A JPH0212106A (ja) | 1990-01-17 |
| JP2703930B2 true JP2703930B2 (ja) | 1998-01-26 |
Family
ID=15785825
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63164049A Expired - Lifetime JP2703930B2 (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 複屈折回折格子型偏光子 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4991937A (ja) |
| EP (1) | EP0349144B1 (ja) |
| JP (1) | JP2703930B2 (ja) |
| DE (1) | DE68918012T2 (ja) |
Families Citing this family (61)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5272685A (en) * | 1989-12-22 | 1993-12-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical system for an information processing apparatus |
| JPH04174404A (ja) * | 1990-11-07 | 1992-06-22 | Pioneer Electron Corp | 偏光ビームスプリッタ |
| GB9110277D0 (en) * | 1991-05-11 | 1991-07-03 | The Technology Partnership Ltd | Surface relief optical polariser |
| US5245471A (en) * | 1991-06-14 | 1993-09-14 | Tdk Corporation | Polarizers, polarizer-equipped optical elements, and method of manufacturing the same |
| US5367403A (en) * | 1992-04-08 | 1994-11-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical element and method of fabricating the same |
| EP0911822B1 (en) * | 1993-02-16 | 2005-12-07 | Nec Corporation | Optical head device and birefringent diffraction grating polarizer and polarizing hologram element used therein |
| JP2658818B2 (ja) * | 1993-02-24 | 1997-09-30 | 日本電気株式会社 | 複屈折回折格子型偏光子及び光ヘッド装置 |
| DE4338680C1 (de) * | 1993-11-12 | 1995-03-23 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Längen- oder Winkelmeßeinrichtung |
| US5585968A (en) * | 1993-12-01 | 1996-12-17 | International Business Machines Corporation | Optical elements having regions of different indices of refraction and method of fabricating the same |
| CN1134677C (zh) * | 1994-04-14 | 2004-01-14 | 株式会社三协精机制作所 | 偏振光束分束器及使用偏振光束分束器的光探头 |
| US5475772A (en) * | 1994-06-02 | 1995-12-12 | Honeywell Inc. | Spatial filter for improving polarization extinction ratio in a proton exchange wave guide device |
| GB2293021A (en) * | 1994-09-09 | 1996-03-13 | Sharp Kk | Polarisation dependent refractive device |
| US5914811A (en) * | 1996-08-30 | 1999-06-22 | University Of Houston | Birefringent grating polarizing beam splitter |
| JP2850878B2 (ja) * | 1996-09-06 | 1999-01-27 | 日本電気株式会社 | 偏光ビームスプリッタおよびその製造方法 |
| US6072629A (en) | 1997-02-26 | 2000-06-06 | Reveo, Inc. | Polarizer devices and methods for making the same |
| JP3445120B2 (ja) * | 1997-09-30 | 2003-09-08 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
| JPH11237503A (ja) * | 1997-12-03 | 1999-08-31 | Canon Inc | 回折光学素子及びそれを有する光学系 |
| US5920663A (en) * | 1997-12-24 | 1999-07-06 | Lucent Technologies Inc. | Optical waveguide router with controlled transmission characteristics |
| JPH11242118A (ja) * | 1998-02-25 | 1999-09-07 | Seiko Epson Corp | 偏光分離素子、偏光変換素子および投写型表示装置 |
| US6108131A (en) | 1998-05-14 | 2000-08-22 | Moxtek | Polarizer apparatus for producing a generally polarized beam of light |
| US6208463B1 (en) | 1998-05-14 | 2001-03-27 | Moxtek | Polarizer apparatus for producing a generally polarized beam of light |
| US6288840B1 (en) | 1999-06-22 | 2001-09-11 | Moxtek | Imbedded wire grid polarizer for the visible spectrum |
| US6122103A (en) * | 1999-06-22 | 2000-09-19 | Moxtech | Broadband wire grid polarizer for the visible spectrum |
| US7306338B2 (en) | 1999-07-28 | 2007-12-11 | Moxtek, Inc | Image projection system with a polarizing beam splitter |
| US6666556B2 (en) | 1999-07-28 | 2003-12-23 | Moxtek, Inc | Image projection system with a polarizing beam splitter |
| US6447120B2 (en) | 1999-07-28 | 2002-09-10 | Moxtex | Image projection system with a polarizing beam splitter |
| US6234634B1 (en) | 1999-07-28 | 2001-05-22 | Moxtek | Image projection system with a polarizing beam splitter |
| US6243199B1 (en) | 1999-09-07 | 2001-06-05 | Moxtek | Broad band wire grid polarizing beam splitter for use in the visible wavelength region |
| DE10025214C2 (de) * | 2000-05-22 | 2003-07-17 | Zeiss Carl | Littrow-Gitter sowie Verwendungen eines Littrow-Gitters |
| US7375887B2 (en) | 2001-03-27 | 2008-05-20 | Moxtek, Inc. | Method and apparatus for correcting a visible light beam using a wire-grid polarizer |
| US6909473B2 (en) | 2002-01-07 | 2005-06-21 | Eastman Kodak Company | Display apparatus and method |
| US7061561B2 (en) | 2002-01-07 | 2006-06-13 | Moxtek, Inc. | System for creating a patterned polarization compensator |
| JP4078527B2 (ja) * | 2002-03-26 | 2008-04-23 | 日本電気株式会社 | 1次元フォトニック結晶への反射防止膜の構造およびその形成方法 |
| US6785050B2 (en) | 2002-05-09 | 2004-08-31 | Moxtek, Inc. | Corrosion resistant wire-grid polarizer and method of fabrication |
| US7113335B2 (en) * | 2002-12-30 | 2006-09-26 | Sales Tasso R | Grid polarizer with suppressed reflectivity |
| US7570424B2 (en) | 2004-12-06 | 2009-08-04 | Moxtek, Inc. | Multilayer wire-grid polarizer |
| US20080055721A1 (en) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Perkins Raymond T | Light Recycling System with an Inorganic, Dielectric Grid Polarizer |
| US7800823B2 (en) | 2004-12-06 | 2010-09-21 | Moxtek, Inc. | Polarization device to polarize and further control light |
| US20080055720A1 (en) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Perkins Raymond T | Optical Data Storage System with an Inorganic, Dielectric Grid Polarizer |
| US20080055722A1 (en) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Perkins Raymond T | Optical Polarization Beam Combiner/Splitter with an Inorganic, Dielectric Grid Polarizer |
| US7961393B2 (en) | 2004-12-06 | 2011-06-14 | Moxtek, Inc. | Selectively absorptive wire-grid polarizer |
| US7630133B2 (en) | 2004-12-06 | 2009-12-08 | Moxtek, Inc. | Inorganic, dielectric, grid polarizer and non-zero order diffraction grating |
| US20080055549A1 (en) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Perkins Raymond T | Projection Display with an Inorganic, Dielectric Grid Polarizer |
| JP2007328128A (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-20 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 光学素子及びその製造方法 |
| US20070296921A1 (en) * | 2006-06-26 | 2007-12-27 | Bin Wang | Projection display with a cube wire-grid polarizing beam splitter |
| US20070297052A1 (en) * | 2006-06-26 | 2007-12-27 | Bin Wang | Cube wire-grid polarizing beam splitter |
| US8755113B2 (en) | 2006-08-31 | 2014-06-17 | Moxtek, Inc. | Durable, inorganic, absorptive, ultra-violet, grid polarizer |
| US7789515B2 (en) | 2007-05-17 | 2010-09-07 | Moxtek, Inc. | Projection device with a folded optical path and wire-grid polarizer |
| US20080316599A1 (en) * | 2007-06-22 | 2008-12-25 | Bin Wang | Reflection-Repressed Wire-Grid Polarizer |
| US20100103517A1 (en) * | 2008-10-29 | 2010-04-29 | Mark Alan Davis | Segmented film deposition |
| US8467128B2 (en) | 2008-11-19 | 2013-06-18 | Shanghai Lexvu Opto Microelectronics Technology Co., Ltd. | Polarizing cube and method of fabricating the same |
| US8248696B2 (en) | 2009-06-25 | 2012-08-21 | Moxtek, Inc. | Nano fractal diffuser |
| US8611007B2 (en) | 2010-09-21 | 2013-12-17 | Moxtek, Inc. | Fine pitch wire grid polarizer |
| US8913321B2 (en) | 2010-09-21 | 2014-12-16 | Moxtek, Inc. | Fine pitch grid polarizer |
| US8873144B2 (en) | 2011-05-17 | 2014-10-28 | Moxtek, Inc. | Wire grid polarizer with multiple functionality sections |
| US8913320B2 (en) | 2011-05-17 | 2014-12-16 | Moxtek, Inc. | Wire grid polarizer with bordered sections |
| DE102012101555B4 (de) * | 2012-02-27 | 2013-12-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Beugungsgitter und Verfahren zu dessen Herstellung |
| US8922890B2 (en) | 2012-03-21 | 2014-12-30 | Moxtek, Inc. | Polarizer edge rib modification |
| CN103149621A (zh) * | 2013-03-11 | 2013-06-12 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 反射式相位延迟片 |
| US9348076B2 (en) | 2013-10-24 | 2016-05-24 | Moxtek, Inc. | Polarizer with variable inter-wire distance |
| CN107356954A (zh) * | 2017-06-26 | 2017-11-17 | 同济大学 | 一种具有方向性发光的光子晶体闪烁体器件 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5588009A (en) * | 1978-12-26 | 1980-07-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Double refractive polarizing prism |
| US4228449A (en) * | 1978-12-26 | 1980-10-14 | Hughes Aircraft Company | Semiconductor diode array liquid crystal device |
| EP0024876B1 (en) * | 1979-08-21 | 1984-02-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor stripe filter |
| US4333983A (en) * | 1980-04-25 | 1982-06-08 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Optical article and method |
| US4359260A (en) * | 1980-06-25 | 1982-11-16 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Optical polarizer |
| US4609267A (en) * | 1980-12-22 | 1986-09-02 | Seiko Epson Corporation | Synthetic resin lens and antireflection coating |
| JPS5964802A (ja) * | 1982-10-05 | 1984-04-12 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 円偏光盤 |
| US4619501A (en) * | 1985-01-08 | 1986-10-28 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Charge isolation in a spatial light modulator |
| US4655554A (en) * | 1985-03-06 | 1987-04-07 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Spatial light modulator having a capacitively coupled photoconductor |
| US4881110A (en) * | 1985-07-25 | 1989-11-14 | Hughes Aircraft Company | Double-Schottky diode liquid crystal light valve |
| US4842376A (en) * | 1985-07-25 | 1989-06-27 | Hughes Aircraft Company | Double-schottky diode liquid crystal light valve |
| JPH0685002B2 (ja) * | 1986-02-18 | 1994-10-26 | ミノルタ株式会社 | プラスチツク光学部品の反射防止膜 |
| JP2742683B2 (ja) * | 1986-08-08 | 1998-04-22 | 東洋通信機株式会社 | 透過型回折格子の製造方法 |
| US4826300A (en) * | 1987-07-30 | 1989-05-02 | Hughes Aircraft Company | Silicon-on-sapphire liquid crystal light valve and method |
| JP2503538B2 (ja) * | 1987-10-20 | 1996-06-05 | 日本電気株式会社 | 回折格子型偏光板の製造方法 |
-
1988
- 1988-06-29 JP JP63164049A patent/JP2703930B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-06-13 DE DE68918012T patent/DE68918012T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-13 EP EP89305943A patent/EP0349144B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-27 US US07/371,899 patent/US4991937A/en not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 昭和63年電子情報通信学会春季全国大会 講演論文集C−431 複屈折回折格子型偏光子を用いた光アイソレータ(1−136) |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4991937A (en) | 1991-02-12 |
| JPH0212106A (ja) | 1990-01-17 |
| EP0349144B1 (en) | 1994-09-07 |
| EP0349144A2 (en) | 1990-01-03 |
| DE68918012D1 (de) | 1994-10-13 |
| EP0349144A3 (en) | 1991-05-29 |
| DE68918012T2 (de) | 1995-03-30 |
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