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JP2871994B2 - Semiconductor wafer production method - Google Patents

Semiconductor wafer production method

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JP2871994B2
JP2871994B2 JP7592093A JP7592093A JP2871994B2 JP 2871994 B2 JP2871994 B2 JP 2871994B2 JP 7592093 A JP7592093 A JP 7592093A JP 7592093 A JP7592093 A JP 7592093A JP 2871994 B2 JP2871994 B2 JP 2871994B2
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洋一 富樫
幸弘 村岡
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェーハの生産
方法に関し、特に多くの加工工程を必要とする半導体ウ
ェーハ生産ラインの生産制御方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a semiconductor wafer, and more particularly to a method for controlling production of a semiconductor wafer production line which requires many processing steps.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

(1)まず複数の加工工程からなる半導体ウェーハ生産
ラインにおいて、各工程間での半導体ウェーハの流れに
ついて説明する。半導体ウェーハ生産ラインは、加工工
程数が300〜500工程と非常に多く、各工程の製造
装置が非常に高価なため、加工手順通りに装置を一列に
並べるようなことはせず、図3の記号C1から記号C8
に一例を示すように各工程の装置を繰り返し使用するこ
とによって加工進行させていく方式をとっている。
(1) First, the flow of a semiconductor wafer between each step in a semiconductor wafer production line including a plurality of processing steps will be described. The semiconductor wafer production line has a very large number of processing steps of 300 to 500 steps, and the manufacturing equipment for each step is very expensive. Therefore, the equipment is not arranged in a line according to the processing procedure. Symbol C1 to C8
As shown in FIG. 1, the process is performed by repeatedly using the equipment in each step.

【0003】また、各工程に製造装置における処理条件
が、加工工程の進行に応じて変わっていき、同じ製造装
置で処理する場合でも、1回目の処理と2回目の処理で
は、処理条件が異なる。
In addition, the processing conditions in the manufacturing apparatus change in each step according to the progress of the processing steps. Even when processing is performed in the same manufacturing apparatus, the processing conditions are different between the first processing and the second processing. .

【0004】加えて半導体ウェーハの品種が非常に多
く、品種毎で処理条件が異なり、1ロット当たりの半導
体ウェーハ処理枚数も異なる。
In addition, the types of semiconductor wafers are very large, and the processing conditions are different for each type, and the number of processed semiconductor wafers per lot is also different.

【0005】ここで、図3の記号C6を中心に自工程と
した場合、前後の工程を見ると、前工程は、記号C1,
記号C2および記号C5の工程であり、後工程と呼ばれ
る工程は、記号C2,記号C3,記号C4および記号C
7の工程である。これらの各工程が複雑に絡み合い加工
進行していくため、各工程間で半導体ウェーハ処理の同
期を取ることが困難である。従って、各工程が独立した
ジョブショップ形式で半導体ウェーハを処理しており、
自工程の処理が終了した時点で、後工程の仕掛り状態を
意識しないで半導体ウェーハを送り出す、後工程に対し
ての押し出し方式を行っていた。
[0005] Here, in the case where the own process is performed centering on the symbol C6 in FIG.
The process of symbol C2 and symbol C5, which is referred to as a post process, is symbol C2, symbol C3, symbol C4 and symbol C4.
This is the seventh step. Since these steps are complicatedly entangled and processed, it is difficult to synchronize the semiconductor wafer processing between the steps. Therefore, each process processes semiconductor wafers in an independent job shop format,
At the time when the process of the self-process is completed, the semiconductor wafer is sent out without being aware of the in-process state of the post-process, and the extrusion method for the post-process has been performed.

【0006】(2)次に各工程での半導体ウェーハの流
れについて説明する。図4の記号D1は、半導体ウェー
ハ保管棚と製造装置の間で、半導体ウェーハを搬送する
のに必要な時間であり、記号D2は、半導体ウェーハを
処理するために必要となる部材の準備や処理条件切り替
えおよび半導体ウェーハを製造装置に設置する場合に必
要となる時間であり、記号D3は、処理にかかる時間で
ある。また、記号D6は、半導体ウェーハの処理終了後
に、半導体ウェーハを製造装置から取り外したり半導体
ウェーハを冷やすために必要な時間であり、記号D7
は、半導体ウェーハを次工程に搬送するために必要とな
る時間である。自工程に仕掛っている複数のロットから
最優先に処理するロットを選択し、図4に示すように記
号L6のロットの処理が終了(記号D4)した後、人が
勘と経験を頼りに記号L7のロットの処理開始タイミン
グを測り処理を行っていた。
(2) Next, the flow of the semiconductor wafer in each step will be described. The symbol D1 in FIG. 4 is the time required to transport the semiconductor wafer between the semiconductor wafer storage shelf and the manufacturing apparatus, and the symbol D2 is the preparation and processing of the members required to process the semiconductor wafer. This is the time required for changing the conditions and installing the semiconductor wafer in the manufacturing apparatus, and the symbol D3 is the time required for processing. Symbol D6 is a time required for removing the semiconductor wafer from the manufacturing apparatus or cooling the semiconductor wafer after the processing of the semiconductor wafer is completed.
Is the time required to transport the semiconductor wafer to the next step. A lot to be processed with the highest priority is selected from a plurality of lots in process of the own process, and after the processing of the lot with the symbol L6 is completed as shown in FIG. 4 (the symbol D4), humans rely on intuition and experience. The processing was started by measuring the processing start timing of the lot indicated by symbol L7.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】前記の従来の半導体ウ
エーハの生産では、以下に示すような問題点があった。
(1)各工程が独立で半導体ウェーハを処理しており、
工程と工程の間で半導体ウェーハの処理の同期がとられ
ていないため、前工程から自工程に半導体ウェーハが何
時搬送されて来るか分からず、製造装置が空いてしま
う。従って、製造装置が高価であるにもかかわらず、稼
働率が低下してしまう。(2)半導体生産ラインの全て
の工程にある製造装置の処理能力が均等であり、同じ処
理時間で半導体ウェーハが処理できれば、各工程の仕掛
り状態は、常に一定であるため、後工程の仕掛り状態を
意識しなくても、特に問題にはならない。
The above-described conventional semiconductor wafer production has the following problems.
(1) Each process independently processes a semiconductor wafer,
Since the processing of the semiconductor wafer is not synchronized between the processes, it is not known when the semiconductor wafer is transferred from the previous process to the own process, and the manufacturing apparatus is vacant. Therefore, the operation rate is reduced even though the manufacturing apparatus is expensive. (2) If the processing capacity of the manufacturing equipment in all the processes of the semiconductor production line is equal and the semiconductor wafer can be processed in the same processing time, the in-process state of each process is always constant, so that the in-process There is no particular problem even if you are not aware of the state.

【0008】しかし、実際は、各工程にある製造装置の
処理能力が均等でなく処理時間も異なる。また、半導体
ウェーハの枚数により処理時間が異なる製造装置もあ
る。
However, in actuality, the processing capacity of the manufacturing apparatus in each process is not uniform and the processing time is different. Further, there is a manufacturing apparatus in which the processing time varies depending on the number of semiconductor wafers.

【0009】ここで、後工程の仕掛り状態を意識しない
で後工程に対して半導体ウェーハを搬送すると、自工程
と後工程の処理能力の差または、処理時間の差によっ
て、後工程での処理能力がオーバしても、後工程に半導
体ウェーハが搬送され、必要以上の仕掛りを持つことに
なる。
Here, if the semiconductor wafer is transported to the post-process without being aware of the state of the work-in-process in the post-process, the difference in processing capability between the self-process and the post-process or the difference in the processing time causes the processing in the post-process. Even if the capacity is exceeded, the semiconductor wafer is transferred to a subsequent process, and the semiconductor wafer has a work in progress more than necessary.

【0010】仕掛り数が増え続けると、この工程が半導
体ウェーハ生産ラインのネック工程となり、他の工程に
半導体ウェーハが搬送されないことになり、目標の生産
量を満たせない。(3)自工程に複数仕掛っている半導
体ウェーハの処理開始のタイミングにについても、人の
勘と経験によって定性的に行われている。
If the number of processes in process continues to increase, this process becomes a bottleneck process in a semiconductor wafer production line, and the semiconductor wafer is not transferred to another process, so that the target production amount cannot be satisfied. (3) The timing of starting the processing of a plurality of semiconductor wafers in the process is qualitatively determined by human intuition and experience.

【0011】また、一人の作業者が半導体ウェーハ処理
後の後段取り、次工程への搬送、棚からの製造装置まで
の搬送および処理前の段取りなどを行っている。
In addition, one worker performs post-processing after semiconductor wafer processing, transport to the next process, transport from a shelf to a manufacturing apparatus, and preparation before processing.

【0012】従って、図4の記号D4から記号D5のよ
うに半導体ウェーハ処理の間に空き時間が発生する。
Accordingly, idle time is generated during the processing of the semiconductor wafer as shown by symbols D4 to D5 in FIG.

【0013】また、上記(2)の問題の対策として、各
工程に十分な仕掛り数を得るために必要生産数以上に半
導体ウェーハを生産ラインに投入し、製造装置の稼働率
を維持していた。
As a countermeasure against the above problem (2), semiconductor wafers are put into a production line in an amount equal to or greater than the required number of productions in order to obtain a sufficient number of processes in each process, and the operation rate of the manufacturing apparatus is maintained. Was.

【0014】このため、半導体ウェーハ生産ラインの仕
掛り数が増加してしまい、半導体ウェーハの処理に時間
が掛り、半導体ウェーハが投入されてから入庫されるま
でのリードタイムが延びてしまう。
For this reason, the number of processes in progress on the semiconductor wafer production line increases, and it takes time to process the semiconductor wafer, and the lead time from when the semiconductor wafer is loaded until it is stored is extended.

【0015】本発明の目的は、半導体ウェーハ生産ライ
ンの無駄な仕掛りを削減し、半導体ウェーハ処理にかか
る搬送時間、段取り時間の短縮を行う仕組みを提供し、
生産効率を向上させ、かつ、リードタイムを短縮するこ
とにある。
An object of the present invention is to provide a mechanism for reducing useless work in a semiconductor wafer production line and for shortening the transport time and setup time required for semiconductor wafer processing.
It is to improve production efficiency and shorten lead time.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体ウェーハ
の生産方法は、搬送時間、製品処理時間、段取り時間を
過去の実績から定量的にとらえ、後工程からの要求をト
リガすることによって半導体ウェーハ処理開始時に、そ
の製造装置で半導体ウェーハ処理が完了する時刻をコン
ピュータによって自動で予測し、予測した半導体ウェー
ハ処理完了時刻までに、次にその製造装置で処理する半
導体ウェーハについて製造装置までの搬送時間、前
(外)段取り時間および前処理に必要な時間を、予測し
た半導体ウェーハ処理終了時刻から逆算することによっ
て搬送開始時刻を求め、半導体ウェーハ処理中に搬送
し、かつ、次に処理する半導体ウェーハの搬送や段取を
終了させることにより、処理終了と同時に次の半導体ウ
ェーハの処理が開始できるようににする。
According to the semiconductor wafer production method of the present invention, the transfer time, the product processing time, and the setup time are quantitatively determined from past results, and a request from a post-process is triggered. At the start of processing, the computer automatically predicts the time at which semiconductor wafer processing will be completed in the manufacturing equipment, and by the predicted semiconductor wafer processing completion time, the transfer time of the next semiconductor wafer to be processed by the manufacturing equipment to the manufacturing equipment. Calculates the transfer start time by calculating the previous (outer) setup time and the time required for the pre-process from the predicted semiconductor wafer process end time, and transfers the semiconductor wafer during the semiconductor wafer process and then processes the semiconductor wafer Of the next semiconductor wafer can be started at the same time as the end of the process To so.

【0017】[0017]

【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明の一実施例として記号K1工程と記号
K2工程の2工程間で同期をとり半導体ウェーハの処理
を行う方法を説明するための工程説明図である。図1に
示すように、記号A1にて記号K2工程処理装置からの
処理開始トリガに、その半導体ウェーハの処理終了時刻
(記号A6)を予測する。この処理時間の算出は、過去
の処理に要した時間(実績値)を基にコンピュータが行
う。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a process explanatory view for explaining a method of processing a semiconductor wafer by synchronizing two processes of a symbol K1 process and a symbol K2 process as one embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, a processing end trigger (symbol A6) of the semiconductor wafer is predicted by a processing start trigger from a processing apparatus with a symbol K2 at a symbol A1. The computer calculates this processing time based on the time (actual value) required for the past processing.

【0018】次に記号K2工程の前処理である記号K1
工程で処理開始が通知された製造装置で処理可能な半導
体ウェーハを検索する。その後、記号K1工程で半導体
ウェーハを処理するために必要となる棚からの搬送時間
(記号A2)、処理前の段取り(記号A3)、処理時間
(記号A4)、記号K2工程までの搬送時間(記号A
4)、記号K2工程での処理前の外段取りに要する合計
時間を求める。
Next, the symbol K1 which is a pre-process of the symbol K2 process
A search is made for a semiconductor wafer that can be processed by the manufacturing apparatus notified of the start of the process in the process. Thereafter, the transfer time from the shelf (symbol A2), the setup before processing (symbol A3), the processing time (symbol A4), and the transfer time to the symbol K2 step (symbol A2) required for processing the semiconductor wafer in the symbol K1 step ( Symbol A
4) The total time required for the external setup before the process in the symbol K2 process is determined.

【0019】このときに使用した、搬送、処理前内段取
り、処理および処理前外段取りの個々の時間もまた、過
去の処理に要した時間(実績値)を基にコンピュータが
計算する。ここで、予測した処理終了時刻(記号A6)
から、求めた合計時間を引いた値を搬送開始時刻とす
る。この搬送開始時刻で搬送を開始することで記号K2
工程の処理中に、記号K2工程の前処理である記号K1
工程の処理、搬送、段取りを終了させ、記号K2工程の
処理終了時刻(記号A6)に次半導体ウェーハの処理が
開始できるようにすることで、記号K2工程に余分な仕
掛りを持たなくても半導体ウェーハ生産が行える。
The computer also calculates individual times of transport, inner setup before processing, processing and outer setup before processing used at this time based on the time (actual value) required for past processing. Here, the predicted processing end time (symbol A6)
Then, a value obtained by subtracting the obtained total time from the above is set as the transfer start time. By starting the transfer at this transfer start time, the symbol K2
During the processing of the process, the symbol K1 which is a pre-process of the symbol K2
The process, transport, and setup of the process are completed, and the process of the next semiconductor wafer can be started at the process end time of the process of symbol K2 (symbol A6), so that the process of symbol K2 does not have an extra process. Semiconductor wafer production can be performed.

【0020】ここで、内段取りとは、製造装置を占有す
るため、内段取りと半導体ウェーハ処理は、同時に行え
ない段取りのことであり、また、外段取りとは、製造装
置を占有せずに行える、つまり、半導体ウェーハ処理と
同時に行える。
Here, the inner setup is a setup in which the manufacturing apparatus is occupied, so that the inner setup and the semiconductor wafer processing cannot be performed at the same time, and the outer setup can be performed without occupying the manufacturing apparatus. That is, it can be performed simultaneously with semiconductor wafer processing.

【0021】図2は本発明の他の実施例として搬送時間
が予測終了より長い場合の半導体ウェーハの流れを説明
するための図である。なお、処理内容の説明を簡略化す
るため段取り時間は、省略し説明する。ロットL1の処
理開始(記号B1)をトリガにし、処理終了時間(記号
B2)を予測する。その際、次ロットL2を決定する
が、ロットL2をすぐに搬送開始(記号B3)してもロ
ットL1の処理終了時間(記号B2)に問い合わない場
合は、ロットL2をそのまま搬送し、ロットL2の処理
終了時間(記号B2)に間に合うようにロットL3を搬
送開始(記号B3)する。ロットL2の処理開始(記号
B2)をトリガにし、ロットL3の処理終了時間(記号
B3)を予測し、ロットL3の処理終了時間(記号B
2)に間に合うようにロットL4を搬送開始(記号B
3)する。その後、処理開始をトリガに、次々半導体ウ
ェーハの搬送を行い、処理終了時間と同時に次の半導体
ウェーハの処理が行える。
FIG. 2 is a view for explaining a flow of a semiconductor wafer when a transfer time is longer than a predicted end as another embodiment of the present invention. In order to simplify the description of the processing contents, the setup time is omitted and described. The processing start time (symbol B2) of the lot L1 is used as a trigger to predict the processing end time (symbol B2). At this time, the next lot L2 is determined. If the lot L2 is immediately started to be conveyed (symbol B3) but the processing end time of the lot L1 is not inquired (symbol B2), the lot L2 is conveyed as it is. The transport of the lot L3 is started (symbol B3) in time for the processing end time of L2 (symbol B2). The processing start time (symbol B2) of the lot L2 is used as a trigger to predict the processing end time (symbol B3) of the lot L3, and the processing end time (symbol B) of the lot L3.
Start transporting lot L4 in time for 2) (symbol B
3) Yes. Thereafter, with the start of the process as a trigger, the semiconductor wafers are transferred one after another, and the next semiconductor wafer can be processed simultaneously with the processing end time.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上に説明したように、本発明によっ
て、以下の効果が得られる。(1)製造装置に適切に処
理されるロットが搬送されることによって製造装置の稼
働率を向上することができる。(2)半導体ウェーハ生
産ラインの特定工程に仕掛りが集中しないので、特定の
工程に半導体ウェーハが搬送されないということがなく
なり、各工程での必要処理数がこなせるため、目標の生
産量が満たせる。(3)製造装置における半導体ウェー
ハ処理の開始タイミングの適切化による、半導体ウェー
ハの待ち時間低減および仕掛り数の低減(本発明を全工
程に実施すれば、各工程の仕掛り数は、0にできる)に
よって、他の半導体ウェーハを処理することにより待た
される時間の短縮ができるため、半導体ウェーハの生産
リードタイム短縮ができる。
As described above, the following effects can be obtained by the present invention. (1) An operation rate of the manufacturing apparatus can be improved by transporting a lot to be properly processed to the manufacturing apparatus. (2) Since the processes are not concentrated on the specific process of the semiconductor wafer production line, the semiconductor wafer is not conveyed to the specific process, and the required number of processes in each process can be performed, so that the target production amount can be satisfied. (3) Reduction of the waiting time of semiconductor wafers and reduction of the number of processes in process by optimizing the start timing of semiconductor wafer processing in the manufacturing apparatus (If the present invention is applied to all processes, the number of processes in each process is reduced to zero. Can reduce the time spent waiting for processing another semiconductor wafer, thereby reducing the production lead time of the semiconductor wafer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例で2つの工程間で実施した場
合の例を示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an example of a case where an embodiment of the present invention is performed between two processes.

【図2】本発明の他の実施例で搬送時間が予測終了処理
時間より長い場合における対処方法を示す説明図であ
る。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a countermeasure in a case where a transport time is longer than a predicted end processing time in another embodiment of the present invention.

【図3】従来の半導体ウェーハ生産ラインにおける各工
程のつながりを示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a sequence of steps in a conventional semiconductor wafer production line.

【図4】従来の半導体ウェーハが加工工程を経て加工完
了するまでの流れを示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a flow of a conventional semiconductor wafer through a processing step until processing is completed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A1 処理時間 A2 搬送時間 A3 処理前内段取り時間 A4 処理時間 A5 処理前外段取り時間 A6 処理終了 A7 製品の流れ A8 実績時間 A9 予測時間 K1〜K2 工程 B1 処理開始 B2 処理終了 B3 搬送開始 B4 搬送時間 B5 処理時間 B6 空き時間 L1〜L5 ロット C1〜C8 工程 in1 投入 out1 入庫 D1 搬送時間 D2 処理前段取り時間 D3 処理時間 D4 処理終了 D5 処理開始 D6 処理後段取り時間 D7 次工程への搬送時間 D8 空き時間 L6〜L7 半導体ウェーハ A1 Processing time A2 Transport time A3 Inner setup time before processing A4 Processing time A5 Outer setup time before processing A6 Processing end A7 Product flow A8 Actual time A9 Estimated time K1 to K2 Process B1 Processing start B2 Processing end B3 Transport start B4 Transport time B5 processing time B6 idle time L1 to L5 lot C1 to C8 process in1 input out1 receiving D1 transport time D2 pre-processing setup time D3 processing time D4 processing end D5 processing start D6 processing setup time D7 empty time D8 empty time L6-L7 Semiconductor wafer

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】複数の加工工程からなる半導体ウェーハ生
産ラインにおいて、半導体ウェーハ処理開始時に、現
在、その製造装置で半導体ウェーハ処理が完了する時刻
を、過去の処理に要した時間(実績値)を基に予測し、
予測した半導体ウェーハ処理完了時刻までに、次にその
製造装置で処理する半導体ウェーハを製造装置まで搬送
し、かつ、処理前後に必要な段取りを完了させ、半導体
ウェーハ処理が終了すると同時に次の半導体ウェーハの
処理を行うことによって半導体ウェーハ生産ラインにお
ける半導体ウェーハの流れを最適に行うことを特徴とす
る半導体ウェーハの生産方法。
1. In a semiconductor wafer production line comprising a plurality of processing steps, at the start of semiconductor wafer processing, the time at which the semiconductor wafer processing is completed by the manufacturing apparatus is set to the time (actual value) required for the past processing. Predict based on
By the predicted semiconductor wafer processing completion time, the next semiconductor wafer to be processed by the manufacturing equipment is transported to the manufacturing equipment, and necessary setup before and after the processing is completed. A semiconductor wafer production method characterized by optimally performing a flow of a semiconductor wafer in a semiconductor wafer production line by performing the above-mentioned processing.
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