JP2963076B2 - 回転円板を有する醸造機械の洗浄装置 - Google Patents
回転円板を有する醸造機械の洗浄装置Info
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- JP2963076B2 JP2963076B2 JP1551698A JP1551698A JP2963076B2 JP 2963076 B2 JP2963076 B2 JP 2963076B2 JP 1551698 A JP1551698 A JP 1551698A JP 1551698 A JP1551698 A JP 1551698A JP 2963076 B2 JP2963076 B2 JP 2963076B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、回転円盤製麹装
置，回転式麹ストッカ等、回転円板を有する醸造機械の
洗浄装置に関する。
置，回転式麹ストッカ等、回転円板を有する醸造機械の
洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】回転円盤製麹装置の洗浄装置について
は、種々の構造が提案され実施されている。例えば、加
圧エアー又は高圧洗浄水の噴射によって残留麹を除去す
るタイプとして、円板(培養床)の上下に多数のノズル
が設けられたもの(実公昭53-40560号)とか、円板の半
径方向に移動するノズルを取付けた例(実公昭60-21999
号)がある。また、円板の残留物を吸引除去するタイプ
として、吸引ポートを設けた例(特開平1-191677号、
同1-196288号)などを挙げることができる。
は、種々の構造が提案され実施されている。例えば、加
圧エアー又は高圧洗浄水の噴射によって残留麹を除去す
るタイプとして、円板(培養床)の上下に多数のノズル
が設けられたもの(実公昭53-40560号)とか、円板の半
径方向に移動するノズルを取付けた例(実公昭60-21999
号)がある。また、円板の残留物を吸引除去するタイプ
として、吸引ポートを設けた例(特開平1-191677号、
同1-196288号)などを挙げることができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、のよ
うな構造であると、円板上下のノズルが多数であるため
高圧を維持するために設備費がかかる。また、のよう
な構造にすると、半径方向に移動する装置が必要で、内
周側と外周側の円板の単位面積当りのエアー量を均一に
するには外周側より内周側の速度を速くするなど移動速
度の変更が必要である。さらに、のような吸引するタ
イプの場合は風量が多く必要なため設備費がかかり、吸
引ポート及び配管内を洗浄する必要もあるなどの難点を
それぞれが有していた。そこで、本発明では装置が複雑
でなく、安価で、維持費も安く、しかも洗浄機能に優れ
た装置の提供を目的としたのである。
うな構造であると、円板上下のノズルが多数であるため
高圧を維持するために設備費がかかる。また、のよう
な構造にすると、半径方向に移動する装置が必要で、内
周側と外周側の円板の単位面積当りのエアー量を均一に
するには外周側より内周側の速度を速くするなど移動速
度の変更が必要である。さらに、のような吸引するタ
イプの場合は風量が多く必要なため設備費がかかり、吸
引ポート及び配管内を洗浄する必要もあるなどの難点を
それぞれが有していた。そこで、本発明では装置が複雑
でなく、安価で、維持費も安く、しかも洗浄機能に優れ
た装置の提供を目的としたのである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の課題を検討した結
果、円板を加圧エアー又は高圧洗浄水によって洗浄する
装置において、円板の上方又は下方に多数個のノズルを
設け、ノズルを１又は複数個のノズルからなる複数のユ
ニットに分割し、各ユニットの噴射を電磁弁等の開閉に
より制御し、ユニット毎の運転、間欠運転、エアーと水
との切換え等を行なうことにより上記課題を解決し得る
ことを見出したのである。
果、円板を加圧エアー又は高圧洗浄水によって洗浄する
装置において、円板の上方又は下方に多数個のノズルを
設け、ノズルを１又は複数個のノズルからなる複数のユ
ニットに分割し、各ユニットの噴射を電磁弁等の開閉に
より制御し、ユニット毎の運転、間欠運転、エアーと水
との切換え等を行なうことにより上記課題を解決し得る
ことを見出したのである。
【０００５】円板は回転することで内筒側と側壁側で周
速が異なるが、ノズルの配設間隔を変化させるとか、あ
るいはノズルの配設間隔は一定にして複数のノズルをユ
ニットに分割し各ユニットの噴射時間を変化させること
により、円板の単位面積当りのエアー量又は洗浄水量が
ほぼ同等となり、均一な洗浄が可能である。また、ノズ
ルの加圧系統を複数に分割したために各ユニット毎の噴
射が可能となり、洗浄圧力を高めることができる。これ
らにより、洗浄効果が高められる。
速が異なるが、ノズルの配設間隔を変化させるとか、あ
るいはノズルの配設間隔は一定にして複数のノズルをユ
ニットに分割し各ユニットの噴射時間を変化させること
により、円板の単位面積当りのエアー量又は洗浄水量が
ほぼ同等となり、均一な洗浄が可能である。また、ノズ
ルの加圧系統を複数に分割したために各ユニット毎の噴
射が可能となり、洗浄圧力を高めることができる。これ
らにより、洗浄効果が高められる。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下図面によって本発明の実施の
形態を詳細に説明する。図１は本発明の洗浄装置におい
てノズルが等間隔で４本宛ユニット化された例の平面図
であり、図２は同側面図である。
形態を詳細に説明する。図１は本発明の洗浄装置におい
てノズルが等間隔で４本宛ユニット化された例の平面図
であり、図２は同側面図である。
【０００７】多孔円板７の上部で円板の半径方向に設け
られているスクリュー６にはそれと平行にスクレーパ12
が設けられ、その近傍で多孔円板７のほぼ半径方向に多
数本のノズル１を設けている。このノズル１はノズル取
付ヘッダー２が軸受５で軸支されているため、不使用時
には回動させて図２中２点鎖線のように後退させること
ができる。そのためにシリンダ４がスクレーパ保持フレ
ーム10上に設けられており、シリンダ４のロッド先端と
ノズル取付ヘッダー２から突出した連結アーム14とを連
結している。ノズル取付ヘッダー２にはノズル１が等間
隔で４本宛ユニット13となって取付けられており、各ユ
ニット13にはホース３から加圧エアー又は高圧洗浄水が
供給可能となっている。この例ではノズル１が等間隔で
設けられているため、各ユニット13a〜13eの噴射時間を
変化させて、例えば、内筒８側のユニット13aから順次
側壁９側のユニット13eへいくに従って噴射時間を長く
することにより、多孔円板７が外周にいくほど周速度が
大なことに対応して、多孔円板７に同等の噴射作用を及
ぼすことができる。ユニット毎の噴射を間欠的にする
と、全体の同時噴射より噴射圧力を高めることができ
る。
られているスクリュー６にはそれと平行にスクレーパ12
が設けられ、その近傍で多孔円板７のほぼ半径方向に多
数本のノズル１を設けている。このノズル１はノズル取
付ヘッダー２が軸受５で軸支されているため、不使用時
には回動させて図２中２点鎖線のように後退させること
ができる。そのためにシリンダ４がスクレーパ保持フレ
ーム10上に設けられており、シリンダ４のロッド先端と
ノズル取付ヘッダー２から突出した連結アーム14とを連
結している。ノズル取付ヘッダー２にはノズル１が等間
隔で４本宛ユニット13となって取付けられており、各ユ
ニット13にはホース３から加圧エアー又は高圧洗浄水が
供給可能となっている。この例ではノズル１が等間隔で
設けられているため、各ユニット13a〜13eの噴射時間を
変化させて、例えば、内筒８側のユニット13aから順次
側壁９側のユニット13eへいくに従って噴射時間を長く
することにより、多孔円板７が外周にいくほど周速度が
大なことに対応して、多孔円板７に同等の噴射作用を及
ぼすことができる。ユニット毎の噴射を間欠的にする
と、全体の同時噴射より噴射圧力を高めることができ
る。
【０００８】また、図２中ノズル１が実線位置で加圧エ
アーを噴射して多孔円板７上の残留麹を排出口11へと移
動させて排出し、多孔円板７にノズルが垂直の位置つま
り２点鎖線位置で高圧洗浄水を噴射して多孔円板７の麹
による目づまりを解消するように使用することもでき
る。
アーを噴射して多孔円板７上の残留麹を排出口11へと移
動させて排出し、多孔円板７にノズルが垂直の位置つま
り２点鎖線位置で高圧洗浄水を噴射して多孔円板７の麹
による目づまりを解消するように使用することもでき
る。
【０００９】図３はノズル１の配設間隔を変化させた例
を側面図で示している。この例では主として多孔円板７
の目づまりを解消することを目的としており、通常平面
的に上部洗浄ノズルと下部洗浄ノズルは位置をずらして
いる。この例では内筒８側より順次側壁９側へいくに従
ってノズル１の間隔及び各ノズルの噴射角がこのように
調整されて設けられているため、各ユニット13a〜13cは
噴射時間が一定でも、多孔円板が外周にいくほど周速度
が大なことに対応して、多孔円板７に同等の噴射作用を
及ぼすことができるのである。
を側面図で示している。この例では主として多孔円板７
の目づまりを解消することを目的としており、通常平面
的に上部洗浄ノズルと下部洗浄ノズルは位置をずらして
いる。この例では内筒８側より順次側壁９側へいくに従
ってノズル１の間隔及び各ノズルの噴射角がこのように
調整されて設けられているため、各ユニット13a〜13cは
噴射時間が一定でも、多孔円板が外周にいくほど周速度
が大なことに対応して、多孔円板７に同等の噴射作用を
及ぼすことができるのである。
【００１０】
【発明の効果】本発明の回転円板を有する醸造機械の洗
浄装置は以上のような構造及び作用であるから、加圧エ
アー設備(コンプレッサー等)又は高圧洗浄水のポンプが
小規模で洗浄可能であり、装置が複雑でなく、安価で、
維持費も安く、しかも洗浄機能に優れた装置の提供を可
能とした。
浄装置は以上のような構造及び作用であるから、加圧エ
アー設備(コンプレッサー等)又は高圧洗浄水のポンプが
小規模で洗浄可能であり、装置が複雑でなく、安価で、
維持費も安く、しかも洗浄機能に優れた装置の提供を可
能とした。
【図１】本発明の洗浄装置におけるノズルが等間隔でユ
ニット化された例の平面図である。
ニット化された例の平面図である。
【図２】同側面図である。
【図３】ノズルの配設間隔を変化させた例の側面図であ
る。
る。
１ ノズル ２ ヘッダー ３ ホース ４ シリンダ ５ 軸受 ６ スクリュー ７ 多孔円板 ８ 内筒 ９ 側壁 11 排出口 12 スクレーパ 13 ユニット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−215377（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−191677（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−196288（ＪＰ，Ａ) 実開 昭57−125300（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭49−138195（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭46−29793（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭46−21795（ＪＰ，Ｂ２) 実公 昭60−21999（ＪＰ，Ｙ２) 実公 昭53−40560（ＪＰ，Ｙ１) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C12M 1/16
Claims (1)
- 【請求項１】 円板を加圧エアー又は高圧洗浄水によっ
て洗浄する装置において、円板の上方又は下方に多数個
のノズルを設け、ノズルを１又は複数個のノズルからな
る複数のユニットに分割し、各ユニットの噴射を電磁弁
等の開閉により制御し、ユニット毎の運転、間欠運転、
エアーと水との切換え等を行なうことを特徴とする回転
円板を有する醸造機械の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1551698A JP2963076B2 (ja) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | 回転円板を有する醸造機械の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1551698A JP2963076B2 (ja) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | 回転円板を有する醸造機械の洗浄装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1274049A Division JP2776586B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 回転円板を有する醸造機械の洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10174580A JPH10174580A (ja) | 1998-06-30 |
| JP2963076B2 true JP2963076B2 (ja) | 1999-10-12 |
Family
ID=11890993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1551698A Expired - Fee Related JP2963076B2 (ja) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | 回転円板を有する醸造機械の洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2963076B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110424032A (zh) * | 2019-09-10 | 2019-11-08 | 江苏师范大学 | 一种用于压力机主轴修复的射流电沉积装置及其方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4629793B2 (ja) | 2007-03-29 | 2011-02-09 | 富士通株式会社 | 情報処理装置、エラー処理方法 |
-
1998
- 1998-01-28 JP JP1551698A patent/JP2963076B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4629793B2 (ja) | 2007-03-29 | 2011-02-09 | 富士通株式会社 | 情報処理装置、エラー処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10174580A (ja) | 1998-06-30 |
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