JP3154350B2 - Printed wiring board and its manufacturing method - Google Patents
Printed wiring board and its manufacturing methodInfo
- Publication number
- JP3154350B2 JP3154350B2 JP17905392A JP17905392A JP3154350B2 JP 3154350 B2 JP3154350 B2 JP 3154350B2 JP 17905392 A JP17905392 A JP 17905392A JP 17905392 A JP17905392 A JP 17905392A JP 3154350 B2 JP3154350 B2 JP 3154350B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- hole
- blind via
- wiring layer
- laminate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、ブラインドバイアホ
ールを有する多層構造のプリント配線板およびその製造
方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed wiring board having a multilayer structure having blind via holes and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年の電子機器の配線密度の高度化に伴
い、プリント配線板としては複数の配線層を積層させた
多層構造の配線板が使用されるようになっている。この
ような多層プリント配線板には、一般に、上下の外層の
配線層間を接続するスルーホールが形成されているが、
近年では配線密度を向上させるために、内層の配線層間
あるいは内層と外層の配線層間を接続するブラインドバ
イアホールが形成されるようになり、その重要性が増し
ている。2. Description of the Related Art With the recent increase in the wiring density of electronic devices, multilayer printed wiring boards in which a plurality of wiring layers are stacked have been used as printed wiring boards. In such a multilayer printed wiring board, through holes are generally formed to connect upper and lower outer wiring layers.
In recent years, in order to improve the wiring density, blind via holes connecting between the inner wiring layers or between the inner and outer wiring layers have been formed, and their importance has increased.
【0003】従来より、ブラインドバイアホールを有す
る多層プリント配線板の製造方法としては、複数の配線
層を積層後ドリル加工することによりブラインドバイア
ホール用の孔とスルーホール用の孔とを開け、孔内をメ
ッキする方法がとられている。例えば、図5に示したよ
うに、まずガラスクロス等の入った絶縁層1の両面に銅
箔2が形成されている両面基板3(同図(a))をコア
材とし、これに対して内層回路2aを形成し(同図
(b))、その両面にBステージプリプレグ(絶縁層4
となる)を介して外層とする銅箔2を積層し(同図
(c))、その後ドリルによりブラインドバイアホール
用のブラインド孔Bhとスルーホール用のスルーホール
孔Shとをあけ(同図(d))、それらの孔に同時にメ
ッキ層5を形成し(同図(e))、外部回路を形成して
(同図(f))製品とする。Conventionally, as a method of manufacturing a multilayer printed wiring board having blind via holes, a plurality of wiring layers are laminated and drilled to form holes for blind via holes and holes for through holes. The inside is plated. For example, as shown in FIG. 5, a double-sided board 3 (FIG. 5A) in which copper foils 2 are formed on both sides of an insulating layer 1 containing glass cloth or the like is used as a core material. An inner layer circuit 2a is formed (FIG. 4B), and a B-stage prepreg (insulating layer 4) is formed on both surfaces thereof.
The copper foil 2 serving as an outer layer is laminated (see FIG. 3C), and then a blind hole Bh for a blind via hole and a through-hole hole Sh for a through-hole are formed by drilling (FIG. d)), a plating layer 5 is simultaneously formed in these holes (FIG. 7E), and an external circuit is formed (FIG. 7F) to obtain a product.
【0004】また、ブラインドバイアホールを有する多
層プリント配線板の他の製造方法としては、ブラインド
バイアホールを形成した積層板をさらに積層し、スルー
ホールを形成する方法も知られている。例えば、図7に
示したように、絶縁層1の両面に銅箔2が形成されてい
る両面基板3X、3Y(同図(a))をコア材とし、こ
れに対してそれぞれドリルによりブラインド孔Bhを形
成し(同図(b))、さらにメッキ層5aを形成し(同
図(c))、内層回路2aを形成する(同図(d))。
その後Bステージプリプレグ(絶縁層4となる)を介し
てそれらを積層し(同図(e))、スルーホール孔Sh
を貫通させ、メッキ層5bを形成し(同図(g))、外
部回路を形成して(同図(h))製品とする。As another method of manufacturing a multilayer printed wiring board having blind via holes, a method of further laminating a laminate having blind via holes and forming through holes is also known. For example, as shown in FIG. 7, double-sided substrates 3X and 3Y (FIG. 7A) in which copper foils 2 are formed on both surfaces of an insulating layer 1 are used as a core material, and blind holes are formed by drilling the core materials. Bh is formed (FIG. 2B), and a plating layer 5a is further formed (FIG. 2C), and an inner layer circuit 2a is formed (FIG. 2D).
Thereafter, they are laminated via a B-stage prepreg (which becomes the insulating layer 4) (FIG. 3E), and the through-holes Sh are formed.
To form a plating layer 5b (FIG. 9 (g)) and form an external circuit (FIG. 9 (h)) to obtain a product.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図5に
示したように、複数の配線層を積層後ドリル加工により
ブラインド孔とスルーホール孔とを開け、メッキする方
法においては、図6に示したように一般にドリルの刃先
の頂角θが角度115〜130°となっており、さらに
内層回路2aや絶縁層4の厚みが薄いために、ドリルの
刃先を配線板の深さ方向に位置制御することが難しい。
そのためドリルのビット形状を考慮すると、絶縁層が厚
さ0.2mm以下の配線板を製造することが困難になる
という問題がある。However, as shown in FIG. 5, a method of forming a blind hole and a through hole hole by drilling after laminating a plurality of wiring layers and plating, as shown in FIG. 5, is shown in FIG. In general, the apex angle θ of the drill bit is an angle of 115 to 130 ° and the thickness of the inner layer circuit 2a and the insulating layer 4 is thin, so that the position of the drill bit is controlled in the depth direction of the wiring board. It is difficult.
Therefore, considering the bit shape of the drill, there is a problem that it is difficult to manufacture a wiring board having an insulating layer having a thickness of 0.2 mm or less.
【0006】なお、フラットなドリルビットを使用すれ
ばドリルの刃先の位置制御の困難性を緩和することがで
きるが、そのようなドリルは径が0.5mm以下では折
れてしまうので使用できず、径の太いものしか使用でき
ない。したがって、ブラインドバイアホールを小径化す
ることができず、配線板の高密度化の要請に応えること
ができなくなる。[0006] The use of a flat drill bit can alleviate the difficulty of controlling the position of the cutting edge of the drill, but such a drill cannot be used if the diameter is 0.5 mm or less because it breaks. Only large diameters can be used. Therefore, the diameter of the blind via hole cannot be reduced, and it is not possible to meet the demand for higher density of the wiring board.
【0007】一方、図7に示したように、ブラインドバ
イアホールを形成した積層板をさらに積層し、スルーホ
ールを形成する方法においては、ブラインド孔Bhのメ
ッキとスルホール孔Shのメッキとを別個に行わなくて
はならず、メッキ工程が増え製造コストが高くなるとい
う問題がある。また、外層回路を形成するにあたりエッ
チングすべき最外層にメッキ層5aとメッキ層5bが重
なり、合計のメッキ厚が厚くなってしまい(通常80μ
m以上)、ファインパターンの形成が困難になるという
問題もある。さらに、ブラインドバイアホールを形成し
た積層板の積層時に(図7(e))、図8に示したよう
にブラインド孔BhからBステージプリプレグの樹脂4
Bが外層にまで染み出し、染み出した樹脂の除去作業が
別途必要になるという問題がある。On the other hand, as shown in FIG. 7, in a method of further laminating a laminated plate having a blind via hole and forming a through hole, plating of a blind hole Bh and plating of a through hole Sh are separately performed. However, there is a problem that the number of plating steps increases and the manufacturing cost increases. Further, the plating layer 5a and the plating layer 5b overlap with the outermost layer to be etched in forming the outer layer circuit, so that the total plating thickness is increased (usually 80 μm).
m or more), there is a problem that formation of a fine pattern becomes difficult. Further, at the time of laminating the laminate having the blind via hole formed therein (FIG. 7E), the resin 4 of the B-stage prepreg passes through the blind hole Bh as shown in FIG.
There is a problem that B exudes to the outer layer, and the work of removing the exuded resin is required separately.
【0008】プリント配線板の製造方法としては、この
他、ドリルを使用することなく、薬品あるいはレーザ加
工によりブラインド孔をあけ、ブラインドバイアホール
を形成する方法も検討されている。しかし、プリント配
線板の絶縁層は、通常、寸法安定性を高くするために、
ガラスクロス、ガラスフィラー、アラミド繊維等の補強
材とイミド樹脂等との複合構成となっているために、薬
品やレーザによる加工は困難となる。これに対して補強
材を使用することなくイミド樹脂のみから絶縁層を形成
すれば、加工は比較的容易となるが、絶縁性や機械的強
度を向上させることができなくなる。As a method for manufacturing a printed wiring board, a method of forming a blind via hole by forming a blind hole by chemical or laser processing without using a drill has been studied. However, the insulating layer of a printed wiring board is usually used to increase dimensional stability.
Since it has a composite structure of a glass cloth, a glass filler, a reinforcing material such as aramid fiber, and an imide resin or the like, it is difficult to process with a chemical or laser. On the other hand, if the insulating layer is formed only from the imide resin without using the reinforcing material, the processing becomes relatively easy, but the insulating property and the mechanical strength cannot be improved.
【0009】この発明は以上のような従来技術の課題を
解決しようとするものであり、ブラインドバイアホール
を有する多層プリント配線板の製造方法において、メッ
キ工程を減らして生産性を向上させ、製造コストを低下
させること、かつ信頼性高く細密なパターン形成ができ
るようにすることを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art. In a method of manufacturing a multilayer printed wiring board having blind via holes, the number of plating steps is reduced to improve productivity, and the manufacturing cost is reduced. And to form a highly reliable and fine pattern.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】この発明者は、第1の知
見として、ブラインドバイアホール用の孔を貫通させた
積層板をさらにコア材と積層させるに際し、孔を貫通さ
せた積層板とコア材との間に介在させるプリプレグとし
て、Bステージプリプレグを使用することなくCステー
ジプリプレグを使用すれば孔から染み出す樹脂を大きく
削減できること、この場合、Cステージプリプレグと積
層板との接着性を、Bステージプリプレグを使用した場
合と同等またはそれ以上とするには接着剤を使用すれば
よいこと、さらに孔を貫通させた積層板のコア材側の面
に、予め、加熱性、加圧性、耐薬品性に優れた永久マス
ク層を設けたうえでコア材と積層すれば、積層時に永久
マスク層の厚みが僅かながらも染み出した接着剤や樹脂
の樹脂溜まりとして機能するので、染み出した樹脂が外
層へ溢れ出ることを防止できることを見出した。また、
このようにしてブラインドバイアホール用の孔を貫通さ
せた積層板とコア材とを積層させた後、スルーホール用
の孔を貫通させ、その後にメッキすれば、ブラインドバ
イアホール用のメッキとスルーホール用のメッキとを同
一工程で行えるので、メッキ工程を減らすことができる
こと、さらに、ブラインドバイアホールの孔内の全面が
メッキ層で覆われるので、ブラインドバイアホールが湿
度等の外気の影響を受け難くなり、半田付時のデラミネ
ーションも解消できることを見出した。As a first finding, the present inventors have found that, when a laminate having a hole for a blind via hole penetrated therethrough is further laminated with a core material, the laminate having the hole penetrated and a core are formed. If the C-stage prepreg is used as the prepreg to be interposed between the material and the C-stage prepreg without using the B-stage prepreg, the resin that seeps out of the holes can be greatly reduced. It is necessary to use an adhesive to make it equal to or more than the case of using the B-stage prepreg. In addition, heat resistance, pressure resistance, If a permanent mask layer with excellent chemical properties is provided and laminated with the core material, the layer of adhesive or resin that has slightly exuded the thickness of the permanent mask layer at the time of lamination will become a pool of resin. Since the function, exuding resin has been found that it is possible to prevent the overflow to the outer layer. Also,
After laminating the laminate and the core material through the holes for the blind via holes in this way, penetrate the holes for the through holes, and then plating, the plating and the through holes for the blind via holes Plating can be performed in the same process, so the plating process can be reduced.In addition, since the entire surface of the blind via hole is covered with a plating layer, the blind via hole is less affected by external air such as humidity. It has been found that delamination during soldering can be eliminated.
【0011】また、この発明者は、第2の知見として、
ブラインドバイアホール用の孔を貫通させた積層板をさ
らにコア材と積層させるに際し、孔を貫通させた積層板
とコア材との間に介在させるプリプレグとして、Bステ
ージプリプレグを使用することなく絶縁材、特に剛直な
絶縁材を使用すれば、第一の知見においてCステージプ
リプレグを使用するのと同様の効果が得られることを見
出した。Further, the present inventors have made a second finding that
When laminating a laminated plate with holes for blind via holes to be further laminated with a core material, as a prepreg interposed between the laminated plate and the core material with the holes penetrated, an insulating material without using a B-stage prepreg In particular, it has been found in the first finding that the use of a rigid insulating material provides the same effect as the use of the C-stage prepreg.
【0012】更に、この発明者は、第3の知見として、
ブラインドバイアホール用の孔を貫通させた積層板をさ
らにコア材と積層させるに際し、孔を貫通させた積層板
とコア材との間に介在させるプリプレグとして、樹脂流
れの小さいBステージプリプレグを使用すれば、第一の
知見においてCステージプリプレグを使用するのと同様
の効果が得られ、しかもそのプリプレグに接着性を保持
させられることも見出した。Further, the inventor of the present invention has, as a third finding,
When laminating a laminated plate with holes for blind via holes to be further laminated with a core material, a B-stage prepreg with a small resin flow is used as a prepreg to be interposed between the laminated plate and the core material with the holes penetrated. For example, it has also been found that the same effect as the use of the C-stage prepreg in the first finding can be obtained, and that the prepreg can maintain the adhesiveness.
【0013】この発明は、以上のようなこの発明者の知
見に基づくものである。即ち、第1のこの発明は、少な
くとも第1の配線層、絶縁層およびパターン形成された
第2の配線層からなる積層板の該第2の配線層上に永久
マスク層を積層し、得られた積層体にブラインドバイア
ホール用の孔を貫通させることにより孔の永久マスク層
の厚み部分を樹脂溜りとして機能させ、さらにその積層
体の永久マスク層上に接着剤を介して少なくともCステ
ージプリプレグを加熱圧着してブラインドバイアホール
用の孔の一端を閉塞し、該ブラインドバイアホール用の
孔を含む部分にメッキ層を形成することにより第1の配
線層と第2の配線層とを導通させるブラインドバイアホ
ールを形成する工程を含むことを特徴とするプリント配
線板の製造方法を提供する。The present invention is based on the findings of the present inventors as described above. That is, the first invention is obtained by laminating a permanent mask layer on the second wiring layer of a laminate comprising at least a first wiring layer, an insulating layer, and a patterned second wiring layer. holes permanent mask holes layer by Rukoto passed through the blind via hole in the stacked body was
The thickness portion of the blind via hole is made to function as a resin reservoir, and at least one C-stage prepreg is heated and pressed on the permanent mask layer of the laminate via an adhesive to close one end of the blind via hole. Forming a plated layer in a portion including a hole for use to form a blind via hole for conducting between the first wiring layer and the second wiring layer. provide.
【0014】また、第2のこの発明は、少なくとも第1
の配線層、絶縁層およびパターン形成された第2の配線
層からなる積層板の該第2の配線層上に永久マスク層を
積層し、得られた積層体にブラインドバイアホール用の
孔を貫通させることにより孔の永久マスク層の厚み部分
を樹脂溜りとして機能させ、さらにその積層体の永久マ
スク層上に接着剤を介して絶縁材を加熱圧着してブライ
ンドバイアホール用の孔の一端を閉塞し、そして該ブラ
インドバイアホール用の孔を含む部分にメッキ層を形成
することにより第1の配線層と第2の配線層とを導通さ
せるブラインドバイアホールを形成する工程を含むこと
を特徴とするプリント配線板の製造方法を提供する。Further, the second invention provides at least the first invention
A permanent mask layer is laminated on the second wiring layer of the laminated board including the wiring layer, the insulating layer, and the patterned second wiring layer, and the obtained laminate is passed through a hole for a blind via hole. thickness portion of the permanent mask layer is allowed hole by Rukoto
Function as a resin reservoir , and further heat-press the insulating material on the permanent mask layer of the laminate via an adhesive to close one end of the hole for the blind via hole, and close the hole for the blind via hole. A method for manufacturing a printed wiring board, comprising the step of forming a blind via hole for conducting a first wiring layer and a second wiring layer by forming a plating layer in a portion including the printed wiring board.
【0015】更に、第3のこの発明は、少なくとも第1
の配線層、絶縁層およびパターン形成された第2の配線
層からなる積層板の該第2の配線層上に永久マスク層を
積層し、得られた積層体にブラインドバイアホール用の
孔を貫通させることにより孔の永久マスク層の厚み部分
を樹脂溜りとして機能させ、さらにその積層体の永久マ
スク層上に樹脂流れの小さいBステージプリプレグを加
熱圧着してブラインドバイアホール用の孔の一端を閉塞
し、該ブラインドバイアホール用の孔を含む部分にメッ
キ層を形成することにより第1の配線層と第2の配線層
とを導通させるブラインドバイアホールを形成する工程
を含むことを特徴とするプリント配線板の製造方法を提
供する。Further, a third aspect of the present invention provides at least the first aspect.
A permanent mask layer is laminated on the second wiring layer of the laminated board including the wiring layer, the insulating layer, and the patterned second wiring layer, and the obtained laminate is passed through a hole for a blind via hole. thickness portion of the permanent mask layer is allowed hole by Rukoto
Function as a resin reservoir , and further heat-press-bond a B-stage prepreg with a small resin flow on the permanent mask layer of the laminate to close one end of the blind via hole hole and include the blind via hole hole A method for manufacturing a printed wiring board is provided, which comprises a step of forming a blind via hole for conducting a first wiring layer and a second wiring layer by forming a plating layer in a portion.
【0016】また、この発明は上述した方法により製造
したプリント配線板を提供する。The present invention also provides a printed wiring board manufactured by the above method.
【0017】以下、この発明のプリント配線板の製造方
法を図面に基づいて詳細に説明する。なお、前述の従来
技術を表した図も含めて、同一符号は同一または同等の
構成要素を表している。Hereinafter, a method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, the same reference numerals indicate the same or equivalent components even in the drawings showing the above-described prior art.
【0018】図1は、第1のこの発明によるプリント配
線板の製造工程例の説明図である。同図に示したよう
に、この製造工程においてはまず絶縁層1の両面に銅箔
2が形成されている両面基板3に対して(同図
(a))、一方の銅箔2を第1の配線層L1とし、他方
の銅箔を第2の配線層L2とし、この第2の配線層L2
にパターン形成して内層回路を形成する(同図
(b))。FIG. 1 is an explanatory diagram of an example of a manufacturing process of a printed wiring board according to the first invention. As shown in the drawing, in this manufacturing process, first, one copper foil 2 is placed on a double-sided substrate 3 having copper foils 2 formed on both surfaces of an insulating layer 1 (FIG. 2A). And the other copper foil is a second wiring layer L2, and the second wiring layer L2
To form an inner layer circuit (FIG. 1B).
【0019】この場合、使用する両面基板3としては、
一般には、絶縁層1が厚さ50〜300μmのエポキシ
樹脂が含浸したガラス布からなり、第1の配線層L1と
する銅箔2が厚さ35μm以下で、第2の配線層L2と
する銅箔2が厚さ20〜70μmのものを使用するのが
好適である。絶縁層2の厚さが50μm未満であると、
第1の配線層L1と第2の配線層L2との間の絶縁信頼
性が低下し、逆に絶縁層2の厚さが300μmを超える
と、後に行うブラインド孔のメッキ時にメッキ液が第2
の配線層L2にまで十分に到達せず、良好なブラインド
バイアホールを形成し難くなるので好ましくない。ま
た、第1の配線層L1とする銅箔2の厚さが35μmよ
りも厚いと、後に行うメッキのために第1の配線層L1
のパターン形成時にはそのエッチングすべき厚さが80
μm以上となるので、ファインパターンを形成し難くな
るので好ましくない。In this case, the double-sided substrate 3 used is
In general, the insulating layer 1 is made of a glass cloth impregnated with an epoxy resin having a thickness of 50 to 300 μm, and the copper foil 2 serving as the first wiring layer L1 has a thickness of 35 μm or less and copper serving as the second wiring layer L2. It is preferable to use the foil 2 having a thickness of 20 to 70 μm. When the thickness of the insulating layer 2 is less than 50 μm,
If the insulation reliability between the first wiring layer L1 and the second wiring layer L2 is reduced, and if the thickness of the insulating layer 2 exceeds 300 μm, the plating solution will not be applied during the plating of the blind holes to be performed later.
The wiring layer L2 is not sufficiently reached, and it is difficult to form a good blind via hole. Further, if the thickness of the copper foil 2 serving as the first wiring layer L1 is greater than 35 μm, the first wiring layer L1 is used for plating performed later.
When the pattern is formed, the thickness to be etched is 80
Since it is more than μm, it is difficult to form a fine pattern, which is not preferable.
【0020】また、第2の配線層L2のパターン形成方
法は一般的な方法によることができ、例えば、銅箔2に
エッチングレジストとしてドライフィルムを張り合わ
せ、フォトツールを介して露光し、現像、エッチング、
ドライフィルム剥離を順次行って所望の回路パターンを
得る写真法が使用できる。また、エッチングレジストの
パターン形成方法としては、スクリーン印刷法を使用す
ることもできる。The pattern forming method of the second wiring layer L2 can be performed by a general method. For example, a dry film is laminated on the copper foil 2 as an etching resist, exposed through a photo tool, developed, etched, and etched. ,
A photographic method of sequentially performing dry film peeling to obtain a desired circuit pattern can be used. Further, as a method of forming a pattern of the etching resist, a screen printing method can be used.
【0021】このように第2の配線層L2にパターン形
成した後は、この第2の配線層L2上に永久マスク層6
を積層し、積層体7を得る(同図(c))。ここで、永
久マスク層6とは、加熱性、加圧性、耐薬品性に優れ、
プリント配線板の製造工程において、格別にドリル等に
より加工しない限り、変形、破壊または剥離しない層を
いう。この永久マスク層6は、この後の積層工程で樹脂
溜まりとして機能させるため、その厚さは10μm以上
とするのが好ましい。After the pattern is formed on the second wiring layer L2 in this manner, the permanent mask layer 6 is formed on the second wiring layer L2.
Are laminated to obtain a laminate 7 (FIG. 3C). Here, the permanent mask layer 6 is excellent in heatability, pressurization, and chemical resistance,
In the manufacturing process of a printed wiring board, it means a layer that does not deform, break or peel unless it is specially processed by a drill or the like. This permanent mask layer 6 preferably has a thickness of 10 μm or more in order to function as a resin pool in the subsequent laminating step.
【0022】このような永久マスク層6の形成方法とし
ては、例えば、ソルダーレジストをスクリーン印刷によ
り塗布する方法、ドライフィルムをラミネーターで貼り
合わせる方法、ソルダーレジストインクをスプレーで吹
き付ける方法等を使用できる。As a method of forming such a permanent mask layer 6, for example, a method of applying a solder resist by screen printing, a method of bonding a dry film with a laminator, a method of spraying a solder resist ink with a spray, and the like can be used.
【0023】次に、積層体7にブラインドバイアホール
とするブラインド孔Bhを貫通させる(同図(d))。
このブラインド孔Bhは、通常はドリル(ドリル径0.
2〜0.4mm程度)で開ければよいが、金型を用いて
パンチで開けてもよく、またレーザー光で開けてもよ
い。Next, a blind hole Bh serving as a blind via hole is made to penetrate the laminated body 7 (FIG. 4D).
The blind hole Bh is usually provided with a drill (drill diameter: 0. 1).
(About 2 to 0.4 mm), but it may be opened by a punch using a mold or by a laser beam.
【0024】ブラインド孔Bhを形成した後は、永久マ
スク層6上に接着剤を介して少なくともCステージプリ
プレグを加熱圧着してそのブラインド孔Bhの一端を閉
塞するが、この場合プリント配線板の他の配線層を同時
に積層することができる。例えば、同図(e)に示した
ように、永久マスク層6上に接着剤8、Cステージプリ
プレグ4C、Bステージプリプレグ4B、第3の配線層
L3と第4の配線層L4を絶縁層1の両面に形成した積
層板9、Bステージプリプレグ4B、Cステージプリプ
レグ4C、接着剤8、および積層体10を順次積層し、
加熱圧着して積層体11を得る(同図(f))。ここ
で、積層体10は、前記積層体7と同様に、第5の配線
層L5と第6の配線層L6を有する基板に永久マスク層
6とブラインド孔Bhを形成したものである。After forming the blind hole Bh, at least one end of the blind hole Bh is closed by heating and pressing at least a C-stage prepreg on the permanent mask layer 6 with an adhesive through an adhesive. Can be simultaneously laminated. For example, as shown in FIG. 3E, the adhesive 8, the C-stage prepreg 4C, the B-stage prepreg 4B, the third wiring layer L3 and the fourth wiring layer L4 are formed on the permanent mask layer 6 by the insulating layer 1. The laminated plate 9, the B-stage prepreg 4B, the C-stage prepreg 4C, the adhesive 8, and the laminate 10 formed on both sides of the
The laminate 11 is obtained by thermocompression bonding (FIG. 1F). Here, similarly to the laminate 7, the laminate 10 is obtained by forming a permanent mask layer 6 and a blind hole Bh on a substrate having a fifth wiring layer L5 and a sixth wiring layer L6.
【0025】この場合、永久マスク層6上に接着剤8を
介して積層するプリプレグ4Cとして、Bステージプリ
プレグを使用すると、加熱圧着時にそのプリプレグ自身
が溶融してブラインドバイアホール用の孔Bhを塞いで
しまうので、Cステージプリプレグを使用することが必
要である。In this case, if a B-stage prepreg is used as the prepreg 4C to be laminated on the permanent mask layer 6 with the adhesive 8 interposed therebetween, the prepreg itself melts at the time of heating and pressing to close the holes Bh for the blind via holes. Therefore, it is necessary to use a C-stage prepreg.
【0026】また、接着剤8は、Cステージプリプレグ
4Cが単に加熱圧着するだけでは永久マスク層6と接着
し難いために使用する。この接着剤8としては、例えば
エポキシ樹脂に酸無水物、アミン、イミダゾール化合物
等の硬化剤を加えた加熱硬化型の接着剤、あるいはアク
リル酸エステル等の紫外線硬化型接着剤を好ましく使用
できる。また、その使用方法としては、例えば、加熱圧
着前に、Cステージプリプレグ4Cに塗布し、溶剤を飛
ばして乾燥状態もしくは半硬化状態とし、指触乾燥させ
ておくことが好ましい。この場合、塗布量は1〜50g
/m2が好適である。1g/m2未満であると、通常C
ステージプリプレグ4Cと永久マスク層6との間に十分
な密着力が得られない。一方、50g/m2を超えると
加熱圧着時に余分な接着剤が溶融し、永久マスク層6の
樹脂溜まりから溢れ出てブラインド孔Bhを塞ぎ易くな
るので好ましくない。The adhesive 8 is used because it is difficult for the C-stage prepreg 4C to adhere to the permanent mask layer 6 simply by heat and pressure. As the adhesive 8, for example, a heat-curable adhesive obtained by adding a curing agent such as an acid anhydride, an amine or an imidazole compound to an epoxy resin, or an ultraviolet-curable adhesive such as an acrylate ester can be preferably used. In addition, as a method of using it, for example, it is preferable to apply it to the C-stage prepreg 4C before heating and pressing, remove the solvent to make it dry or semi-cured, and dry it by touch. In this case, the application amount is 1 to 50 g.
/ M 2 is preferred. When it is less than 1 g / m 2 ,
Sufficient adhesion between the stage prepreg 4C and the permanent mask layer 6 cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 50 g / m 2 , excess adhesive is melted at the time of heating and pressing, so that it overflows from the resin pool of the permanent mask layer 6 and tends to close the blind hole Bh, which is not preferable.
【0027】なお、Cステージプリプレグと共に加熱圧
着する他の配線層やBステージプリプレグ等の積層材料
は、従来のプリント配線板に使用されているものと同様
のものを用いることができる。The same material as that used for a conventional printed wiring board can be used as a laminate material such as another wiring layer and a B-stage prepreg that are heated and pressed together with the C-stage prepreg.
【0028】次に、この積層体11にスルーホール孔S
hを貫通させ(同図(g))、ブラインド孔Bhおよび
スルーホール孔Shを含む部分に同時にメッキ層5を形
成する(同図(h))。このメッキ層5の形成は、常法
により、無電解メッキにより行うか、無電解メッキと電
解メッキを併用して行い、ブラインド孔Bhの孔内の全
面をメッキ層5が覆うようにすることが好ましい。これ
によりブラインドバイアホールの耐湿性を向上させるこ
とが可能となる。Next, a through hole S
h (see (g) in the figure), and a plating layer 5 is simultaneously formed on the portion including the blind hole Bh and the through hole Sh (see (h) in the figure). The formation of the plating layer 5 may be performed by electroless plating or by using both electroless plating and electrolytic plating in a usual manner, so that the plating layer 5 covers the entire surface of the blind hole Bh. preferable. Thereby, the moisture resistance of the blind via hole can be improved.
【0029】メッキ層5を形成した後、さらに外層回路
を形成し(同図(i))、製品とする。After the formation of the plating layer 5, an outer layer circuit is further formed (FIG. 1 (i)) to obtain a product.
【0030】なお、以上のようにプリント基板を製造す
るにあたり、その製造設備は既存のプリント基板配線板
設備で足り、特殊な設備は不要である。また、特殊な材
料も不要である。したがって、信頼性の確立した設備と
材料を使用してプリント基板を製造できるので、得られ
るプリント基板の信頼性も高いものとなる。In manufacturing the printed circuit board as described above, the existing manufacturing equipment for the printed circuit board is sufficient, and no special equipment is required. Also, no special material is required. Therefore, a printed circuit board can be manufactured using equipment and materials with established reliability, and the reliability of the obtained printed circuit board is also high.
【0031】図2は、第2のこの発明によるプリント配
線板の製造工程例の説明図である。同図(a)〜(d)
に関しては、図1(a)〜(d)で説明したとおりであ
る。FIG. 2 is an explanatory diagram of an example of a manufacturing process of a printed wiring board according to the second invention. Figures (a) to (d)
Is as described in FIGS. 1A to 1D.
【0032】図2(d)において、ブラインド孔Bhを
形成した後は、永久マスク層6上に接着剤を介して剛直
な絶縁材を加熱圧着してそのブラインド孔Bhの一端を
閉塞するが、この場合も図1に示したプリント配線板の
製造工程と同様に、プリント配線板の他の配線層を同時
に積層することができる。例えば、同図(e)に示した
ように、永久マスク層6上に接着剤8、剛直な絶縁材4
D、Bステージプリプレグ4B、第3の配線層L3と第
4の配線層L4を絶縁層1の両面に形成した積層板9、
Bステージプリプレグ4B、剛直な絶縁材4D、接着剤
8、および積層体10を順次積層し、加熱圧着して積層
体11を得る(同図(f))。ここで、積層体10は、
前記積層体7と同様に、第5の配線層L5と第6の配線
層L6を有する基板に永久マスク層6とブラインド孔B
hを形成したものである。In FIG. 2D, after the blind hole Bh is formed, a rigid insulating material is heated and pressed on the permanent mask layer 6 via an adhesive to close one end of the blind hole Bh. Also in this case, other wiring layers of the printed wiring board can be simultaneously laminated, similarly to the manufacturing process of the printed wiring board shown in FIG. For example, as shown in FIG. 1E, an adhesive 8 and a rigid insulating material 4 are provided on a permanent mask layer 6.
D, B-stage prepreg 4B, laminated board 9 having third wiring layer L3 and fourth wiring layer L4 formed on both sides of insulating layer 1,
The B-stage prepreg 4B, the rigid insulating material 4D, the adhesive 8, and the laminated body 10 are sequentially laminated, and then heat-pressed to obtain a laminated body 11 (FIG. 6F). Here, the laminate 10
Similarly to the laminate 7, the permanent mask layer 6 and the blind holes B are provided on the substrate having the fifth wiring layer L5 and the sixth wiring layer L6.
h.
【0033】この場合、永久マスク層6上に接着剤8を
介して積層するプリプレグとして、Bステージプリプレ
グを使用すると、加熱圧着時にそのプリプレグ自身が溶
融してブラインドバイアホール用の孔Bhを塞いでしま
うので、剛直な絶縁材を使用することが必要である。In this case, when a B-stage prepreg is used as a prepreg to be laminated on the permanent mask layer 6 with the adhesive 8 interposed therebetween, the prepreg itself melts at the time of thermocompression bonding to close the holes Bh for blind via holes. Therefore, it is necessary to use a rigid insulating material.
【0034】第2のこの発明で使用する剛直な絶縁材と
しては、加熱圧着時に変形もしくは溶融してブラインド
バイアホール用の孔Bhを塞いでしまうことのない程度
に十分な耐熱性、剛性を有する電気絶縁材を使用する。
例えばエポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、
ポリイミド樹脂、尿素樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリエ
ーテル、エーテルケトン、ポリエーテルサルホン、ポイ
フェニレネーテル等の170℃以上の融点を有する熱可
塑性樹脂のシートを好ましく使用することができる。The rigid insulating material used in the second aspect of the present invention has sufficient heat resistance and rigidity to such an extent that it does not deform or melt during heating and compression to close the blind via hole Bh. Use electrical insulation.
For example, epoxy resin, melamine resin, phenol resin,
A sheet of a thermosetting resin such as a polyimide resin or a urea resin, or a sheet of a thermoplastic resin having a melting point of 170 ° C. or more such as polyether, ether ketone, polyether sulfone, and poiphenylenetel can be preferably used.
【0035】また、剛直な絶縁材として、図5(e)に
示すように、パターン化された片面銅張積層板を用いる
ことがより好ましい。即ち、剛直な絶縁材4D上に第7
の配線層L7または第8の配線層L8を形成することが
より好ましい。これにより、他の積層板と熱膨張率を合
わせやすくなり、完成したプリント配線板の寸法安定性
が増し、反りにくくなる。更に、プリント配線板そのも
ののトータルの厚みを小さくすくことができるようにな
る。例えば、コア材9を用いなくても6層板を製造する
ことができる。このような片面銅張積層板としては従来
から用いられているものを使用することができ、その絶
縁材が、、例えばエポキシ樹脂含浸ガラス布、ポリイミ
ド含浸布、ビスマレイミドトリアジン含浸ガラス布等の
リジット板や、好ましくはポリイミド等のフレキシブル
板を用いることができる。As a rigid insulating material, it is more preferable to use a patterned single-sided copper-clad laminate as shown in FIG. That is, the seventh insulation material 4D
It is more preferable to form the wiring layer L7 or the eighth wiring layer L8. This makes it easier to match the coefficient of thermal expansion with other laminated boards, increases the dimensional stability of the completed printed wiring board, and makes it less likely to warp. Further, the total thickness of the printed wiring board itself can be reduced. For example, a six-layer plate can be manufactured without using the core material 9. As such a single-sided copper-clad laminate, those conventionally used can be used, and the insulating material thereof is, for example, a rigid material such as an epoxy resin impregnated glass cloth, a polyimide impregnated cloth, a bismaleimide triazine impregnated glass cloth, or the like. A plate or, preferably, a flexible plate such as polyimide can be used.
【0036】また、接着剤8は、剛直な絶縁材4Dが単
に加熱圧着するだけでは永久マスク層6と接着し難いた
めに使用する。この接着剤8としては、図1に示したプ
リント配線板と同様に例えばエポキシ樹脂に酸無水物、
アミン、イミダゾール化合物等の硬化剤を加えた加熱硬
化型の接着剤、あるいはアクリル酸エステル等の紫外線
硬化型接着剤を好ましく使用できる。また、その使用方
法としては、例えば、加熱圧着前に、剛直な絶縁材4D
に塗布し、溶剤を飛ばして乾燥状態もしくは半硬化状態
とし、指触乾燥させておくことが好ましい。この場合、
塗布量は1〜50g/m2が好適である。1g/m2未
満であると、通常、剛直な絶縁材4Dと永久マスク層6
との間に十分な密着力が得られない。一方、50g/m
2を超えると加熱圧着時に余分な接着剤が溶融し、永久
マスク層6の樹脂溜まりから溢れ出てブラインド孔Bh
を塞ぎ易くなるので好ましくない。The adhesive 8 is used because it is difficult for the rigid insulating material 4D to adhere to the permanent mask layer 6 simply by heat and pressure. The adhesive 8 may be, for example, an acid anhydride or an epoxy resin, as in the printed wiring board shown in FIG.
A heat-curable adhesive to which a curing agent such as an amine or an imidazole compound is added, or an ultraviolet-curable adhesive such as an acrylate ester can be preferably used. In addition, as a method of use, for example, the rigid insulating material 4D
It is preferable that the solvent is removed and the solvent is removed to obtain a dry or semi-cured state, and then dried by touch. in this case,
The coating amount is preferably from 1 to 50 g / m 2 . If it is less than 1 g / m 2 , the rigid insulating material 4D and the permanent mask layer 6
And sufficient adhesion cannot be obtained. On the other hand, 50 g / m
If it exceeds 2 , the excess adhesive melts at the time of thermocompression bonding and overflows from the resin pool of the permanent mask layer 6 to form the blind hole Bh.
This is not preferable because it makes it easier to close.
【0037】なお、剛直な絶縁材Cと共に加熱圧着する
他の配線層やBステージプリプレグ等の積層材料は、従
来のプリント配線板に使用されているものと同様のもの
を用いることができる。As the other wiring layers to be heated and pressed together with the rigid insulating material C and the laminated material such as the B-stage prepreg, the same materials as those used for the conventional printed wiring board can be used.
【0038】この後に続く工程、即ち図2(g)〜
(i)に関しては、図1(g)〜(i)で説明したとお
りである。The subsequent process, that is, FIG.
(I) is as described in FIGS. 1 (g) to (i).
【0039】図3は、第3のこの発明によるプリント配
線板の製造工程例の説明図である。同図(a)〜(d)
に関しては、図1(a)〜(d)で説明したとおりであ
る。FIG. 3 is an explanatory view of an example of a manufacturing process of a printed wiring board according to the third invention. Figures (a) to (d)
Is as described in FIGS. 1A to 1D.
【0040】図3(d)において、ブラインド孔Bhを
形成した後は、永久マスク層6上に樹脂流れの小さいB
ステージプリプレグを加熱圧着してそのブラインド孔B
hの一端を閉塞するが、この場合も図1あるいは図2に
示したプリント配線板の製造工程と同様に、プリント配
線板の他の配線層を同時に積層することができる。例え
ば、同図(e)に示したように、永久マスク層6上に、
樹脂流れの小さいBステージプリプレグ4Bb、Bステ
ージプリプレグ4B、第3の配線層L3と第4の配線層
L4を絶縁層1の両面に形成した積層板9、Bステージ
プリプレグ4B、樹脂流れの小さいBステージプリプレ
グ4Bb、および積層体10を順次積層し、加熱圧着し
て積層体11を得る(同図(f))。ここで、積層体1
0は、前記積層体7と同様に、第5の配線層L5と第6
の配線層L6を有する基板に永久マスク層6とブライン
ド孔Bhを形成したものである。In FIG. 3D, after the blind holes Bh are formed, the resin flow on the permanent mask layer 6 is small.
The stage prepreg is heat-pressed and its blind hole B
Although one end of h is closed, other wiring layers of the printed wiring board can be simultaneously laminated in this case as in the manufacturing process of the printed wiring board shown in FIG. 1 or FIG. For example, as shown in FIG.
B-stage prepreg 4Bb with small resin flow, B-stage prepreg 4B, laminated board 9 having third wiring layer L3 and fourth wiring layer L4 formed on both surfaces of insulating layer 1, B-stage prepreg 4B, B with small resin flow The stage prepreg 4Bb and the laminated body 10 are sequentially laminated, and then heat-pressed to obtain a laminated body 11 (FIG. 6F). Here, the laminate 1
0, the fifth wiring layer L5 and the sixth
The permanent mask layer 6 and the blind holes Bh are formed on the substrate having the wiring layer L6.
【0041】この場合、永久マスク層6上に接着剤8を
介して積層するプリプレグとして、樹脂流れの小さいB
ステージプリプレグではなく通常のBステージプリプレ
グを使用すると、加熱圧着時にそのプリプレグ自身が溶
融してブラインドバイアホール用の孔Bhを塞いでしま
う。従って、樹脂流れの小さいBステージプリプレグを
使用することが必要である。In this case, as a prepreg to be laminated on the permanent mask layer 6 via the adhesive 8, B
If a normal B-stage prepreg is used instead of the stage prepreg, the prepreg itself melts and closes the blind via hole Bh at the time of heating and pressing. Therefore, it is necessary to use a B-stage prepreg having a small resin flow.
【0042】第3のこの発明において使用する樹脂流れ
の小さいBステージプリプレグとしては、加熱圧着時に
永久マスクを十分な強度で接着でき、しかも加熱圧着し
た際にBステージプリプレグがブラインドバイアホール
用の孔Bhに流入して孔Bhを塞がないものを使用す
る。即ち加圧圧着時に流動性がほとんどなく、接着剤と
しての接着性を示すものを使用する。このような樹脂流
れの小さいBステージプリプレグの樹脂流れの程度は、
JIS C 6487による樹脂流れの数値が0.01
〜10%、好ましくは0.1〜1%で表される程度であ
る。0.01%より小さい場合は、プリプレグの硬化が
進み過ぎ、永久マスクとの接着が所望の強度で行うこと
ができない。また、10%を超えると、加熱圧着条件を
変化させても、例えば、加圧の圧力を低下させても、ブ
ラインドバイホール用の孔を塞いでしまう。As the B-stage prepreg having a small resin flow used in the third invention, a permanent mask can be adhered with sufficient strength at the time of thermocompression bonding, and the B-stage prepreg can be used as a hole for a blind via hole at the time of thermocompression bonding. A material that flows into Bh and does not block the hole Bh is used. That is, a material having almost no fluidity at the time of pressure bonding and showing adhesiveness as an adhesive is used. The degree of resin flow of such a B-stage prepreg having a small resin flow is as follows.
The value of resin flow according to JIS C 6487 is 0.01
-10%, preferably 0.1-1%. If it is less than 0.01%, the curing of the prepreg proceeds too much, and the adhesion with the permanent mask cannot be performed with the desired strength. On the other hand, if it exceeds 10%, the blind-by-hole hole will be closed even if the heating and pressing conditions are changed, for example, even if the pressure is reduced.
【0043】第3のこの発明で使用する樹脂流れの小さ
いBステージプリプレグは、通常のBステージプリプレ
グ(樹脂流れ約10〜60%)を加熱することにより得
ることができる。The B-stage prepreg having a small resin flow used in the third invention can be obtained by heating a normal B-stage prepreg (resin flow of about 10 to 60%).
【0044】なお、樹脂流れの小さいBステージプリプ
レグと共に加熱圧着する他の配線層やBステージプリプ
レグ等の積層材料は、従来のプリント配線板に使用され
ているものと同様のものを用いることができる。It is to be noted that the same material as that used for the conventional printed wiring board can be used as the other wiring layer or the B-stage prepreg to be heated and pressed together with the B-stage prepreg having a small resin flow. .
【0045】この後に続く工程、即ち図3(g)〜
(i)に関しては、図1(g)〜(i)で説明したとお
りである。The subsequent process, that is, FIG.
(I) is as described in FIGS. 1 (g) to (i).
【0046】[0046]
【作用】この発明のプリント配線板の製造方法において
は、第1の配線層と第2の配線層とを接続するブライン
ドバイアホールを形成するに際し、第1の配線層と第2
の配線層が積層した積層板に対して、第2の配線層上に
予め、加熱性、加圧性、耐薬品性に優れた永久マスク層
を積層し、次いでその積層体にブラインドバイアホール
用の孔を貫通させ、その後他の配線層等を加熱圧着して
積層する。According to the method of manufacturing a printed wiring board of the present invention, when forming a blind via hole connecting the first wiring layer and the second wiring layer, the first wiring layer and the second wiring layer are formed.
On the laminated board on which the wiring layers are laminated, a permanent mask layer having excellent heat resistance, pressurization property and chemical resistance is laminated on the second wiring layer in advance, and then the laminate is used for blind via holes. The holes are made to penetrate, and then another wiring layer or the like is laminated by thermocompression bonding.
【0047】このため、加熱圧着時にブラインドバイア
ホール用の孔から接着剤や樹脂が染み出しても、その染
み出した接着剤や樹脂は永久マスク層の厚み部分に溜ま
るので、染み出した接着剤や樹脂が、ブラインドバイア
ホール用の孔に露出しているる第1の配線層を覆った
り、外層へ溢れ出たりすることを防止できる。For this reason, even if the adhesive or the resin exudes from the holes for the blind via holes at the time of thermocompression bonding, the exuded adhesive or the resin accumulates in the thick portion of the permanent mask layer. Or resin can be prevented from covering the first wiring layer exposed in the blind via hole or overflowing to the outer layer.
【0048】また、ブラインドバイアホール用の孔を貫
通させた積層体の永久マスク層上に他の配線層等を加熱
圧着する際に、その永久マスク層と他の配線層等との間
に介在させるプリプレグとして、Cステージプリプレ
グ、剛直な絶縁材または樹脂流れの小さいBステージプ
リプレグを使用するので、加熱圧着時にブラインドバイ
アホール用の孔から染み出す樹脂の量を大きく削減でき
る。Further, when another wiring layer or the like is heat-pressed on the permanent mask layer of the laminated body through which the hole for the blind via hole is penetrated, there is an interposition between the permanent mask layer and the other wiring layer or the like. As the prepreg to be used, a C-stage prepreg, a rigid insulating material, or a B-stage prepreg with a small resin flow is used, so that the amount of the resin that seeps out of the blind via hole during the thermocompression bonding can be greatly reduced.
【0049】したがって、この発明のプリント基板の製
造方法においては、第1の配線層と第2の配線層とを接
続するブラインドバイアホール用の孔を貫通させた積層
体と他の配線層等とを加熱圧着しても、そのブラインド
バイアホール用の孔から染み出す接着剤や樹脂は僅かで
あり、しかもその僅かながらも染み出した接着剤や樹脂
は永久マスク層の厚み部分に溜まるので、ブラインドバ
イアホール用の孔が実質的に塞がれることがない。この
ため、このような加熱圧着後に行うブラインドバイアホ
ール用の孔内のメッキにより、第1の配線層と第2の配
線層とは確実に接続される。また、ブラインドバイアホ
ール用の孔から樹脂が外層へ溢れ出ることもないので、
メッキ工程に先立ってそのような樹脂の除去作業をする
ことも不要となる。さらに、このようにして形成される
メッキ層は、ブラインドバイアホールの孔内の全面を覆
うので、ブラインドバイアホールが湿度等の外気の影響
を受け難くなり、半田付時のデラミネーションを解消す
ることが可能となる。Therefore, in the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention, a laminate having a blind via hole connecting the first wiring layer and the second wiring layer penetrated with another wiring layer and the like are provided. The adhesive and resin that exude from the blind via-holes are small even when heat-pressed, and the adhesive and resin that exudes even though the slightest accumulates in the thickness of the permanent mask layer. The hole for the via hole is not substantially closed. Therefore, the first wiring layer and the second wiring layer are reliably connected by plating in the holes for the blind via holes performed after such heat compression bonding. Also, the resin does not overflow to the outer layer from the blind via hole,
It is not necessary to perform such a resin removing operation prior to the plating step. Furthermore, since the plating layer formed in this manner covers the entire surface of the blind via hole, the blind via hole is less susceptible to external air such as humidity and eliminates delamination during soldering. Becomes possible.
【0050】また、この発明のプリント配線板の製造方
法においては、ブラインドバイアホールと共にスルーホ
ールを形成することができ、その場合には、ブラインド
バイアホール用の孔を貫通させた積層体に他の配線層等
を積層させた後、スルーホール用の孔を貫通させ、その
後にメッキすることが好ましい。これにより、ブライン
ドバイアホール用のメッキとスルーホール用のメッキと
を同一工程で行えるので、メッキ工程を減し、生産性を
向上させ、製造コストを低下させることが可能となる。
また、このようにスルーホールを形成しても、そのプリ
ント基板の最外層の配線層上のメッキは1層であり、最
外層の厚さを比較的薄く形成できるので、最外層にファ
インパターンを形成することが可能となる。In the method of manufacturing a printed wiring board according to the present invention, a through hole can be formed together with a blind via hole. In this case, another laminated body having the blind via hole penetrated therethrough is formed. After laminating the wiring layers and the like, it is preferable to pass through holes for through holes and then to perform plating. As a result, plating for blind via holes and plating for through holes can be performed in the same step, so that the number of plating steps can be reduced, productivity can be improved, and manufacturing costs can be reduced.
Even when the through holes are formed in this manner, the plating on the outermost wiring layer of the printed circuit board is one layer, and the outermost layer can be formed relatively thin, so that the fine pattern is formed on the outermost layer. It can be formed.
【0051】[0051]
【実施例】以下、この発明を実施例に基づいて具体的に
説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below based on embodiments.
【0052】実施例1 図1に示した製造工程に従ってプリント配線板を製造し
た。この場合、コア材とする両面基板としては、東芝ケ
ミカル社製、TLC−W−551、厚さ0.2mm、銅
箔厚さL1/L2=35μm/35μmを使用した。Example 1 A printed wiring board was manufactured according to the manufacturing process shown in FIG. In this case, a TLC-W-551, 0.2 mm thick, copper foil thickness L1 / L2 = 35 μm / 35 μm, manufactured by Toshiba Chemical Co., Ltd., was used as the double-sided substrate as the core material.
【0053】この基板の第2の導電層L2とする銅箔へ
内層回路を写真法により図4(b)のようにパターン形
成した(図1(b))。すなわち、まず第1の導電層L
1および第2の導電層L2とする銅箔の表面を硫酸とブ
ラシ掛けにより整面し、第1の導電層L1および第2の
導電層L2とする銅箔の全面にそれぞれドライフィルム
(旭化成工業製、サンフォートAQ5044)を貼り合
わせた。次に、パターンフィルムを介して露光し(オー
ク社製、露光機HMW−551D)、3%炭酸ソーダで
現像し、塩化第2鉄溶液でエッチングし、3%苛性ソー
ダでドライフィルムを剥離して第2の導電層L2のパタ
ーン形成をした。また、第1の導電層L1とする面には
全面に露光し、全面に銅箔が残るようにした。An inner layer circuit was patterned by a photographic method as shown in FIG. 4B on a copper foil serving as the second conductive layer L2 of this substrate (FIG. 1B). That is, first, the first conductive layer L
The surfaces of the copper foil serving as the first and second conductive layers L2 are smoothed with sulfuric acid and brushed, and a dry film (Asahi Kasei Kogyo Kogyo Kogyo Kogyo Kogyo Co., Ltd.) Manufactured by Sunfort AQ5044). Next, the film is exposed through a pattern film (manufactured by Oak Co., Ltd., exposing machine HMW-551D), developed with 3% sodium carbonate, etched with a ferric chloride solution, and dried with 3% caustic soda to remove the dry film. A pattern of the second conductive layer L2 was formed. Further, the entire surface of the surface to be the first conductive layer L1 was exposed so that the copper foil remained on the entire surface.
【0054】次に同図(c)のように永久マスク層6を
形成した。この永久マスク層6の形成は、熱硬化性ソル
ダーレジストインク(太陽インキ工業製、S−222)
をスクリーン印刷法により、パターン形成した第2の導
電層L2に塗布し、ボックスオーブンで160℃、30
分加熱しインクを硬化させることにより行った。なお、
スクリーン印刷用の印刷装置はニューロング工業製LS
−50、スクリーン版はテトロンメッシュ200、乳剤
厚みは20μmとし、これにより得られた硬化後のイン
クの厚さは30μmであった。Next, a permanent mask layer 6 was formed as shown in FIG. This permanent mask layer 6 is formed by a thermosetting solder resist ink (manufactured by Taiyo Ink Industries, S-222).
Is applied to the patterned second conductive layer L2 by a screen printing method, and is heated at 160 ° C. and 30 ° C. in a box oven.
This was performed by heating the ink for a minute to cure the ink. In addition,
The printing device for screen printing is LS manufactured by Neurong Industries
-50, the screen plate was Tetron mesh 200, the emulsion thickness was 20 μm, and the thickness of the cured ink thus obtained was 30 μm.
【0055】次に同図(d)のようにブラインド孔Bh
を開けた。このブラインド孔は、NCドリルマシーン
(日立精工社製、H−MARK90J)に、径0.25
mmのドリルを装着して開けた。Next, as shown in FIG.
Was opened. This blind hole has a diameter of 0.25 mm in an NC drill machine (H-MARK90J, manufactured by Hitachi Seiko Co., Ltd.).
It was opened with a drill of mm.
【0056】次に同図(e)のように積層体を形成し
た。この場合、Bステージプリプレグ4Bとしては、東
芝ケミカル社製TLP551(厚さ0.05mm)を使
用し、Cステージプリプレグ4Cとしては、同様のBス
テージプリプレグ(厚さ0.1mm)を180℃、30
Kg/cm2、90分で硬化させたものを使用した。ま
た、Cステージプリプレグ4Cと永久マスク層6とを接
着する接着剤8としては、大洋インキ工業製S−222
を使用し、この接着剤をCステージプリプレグ4C上に
18g/m2塗布し、120℃で2分加熱して指触乾燥
させた。指触乾燥後の接着剤8の厚さは15μmであっ
た。Next, a laminate was formed as shown in FIG. In this case, TLP551 ( 0.05 mm in thickness) manufactured by Toshiba Chemical Co., Ltd. is used as the B-stage prepreg 4B, and the same B-stage prepreg (0.1 mm in thickness) is used as the C-stage prepreg 4C at 180 ° C. 30
A cured product of Kg / cm 2 for 90 minutes was used. Further, as the adhesive 8 for bonding the C-stage prepreg 4C and the permanent mask layer 6, S-222 manufactured by Taiyo Ink Industry Co., Ltd.
This adhesive was applied to C-stage prepreg 4C at 18 g / m 2 and heated at 120 ° C. for 2 minutes to dry the touch. The thickness of the adhesive 8 after touch drying was 15 μm.
【0057】第3の配線層L3と第4の配線層L4を有
する積層体9は、第1の配線層L1と第2の配線層L2
を形成した両面基板と同様のものを使用し、それに写真
法によりパターン形成することにより形成した。The laminated body 9 having the third wiring layer L3 and the fourth wiring layer L4 is composed of the first wiring layer L1 and the second wiring layer L2.
Was formed by using a substrate similar to the double-sided substrate on which was formed, and forming a pattern thereon by a photographic method.
【0058】次いで、積層プレス(北川精機製、真空積
層プレス装置VH2−1315)を使用して、全体を1
80℃、40Kg/cm2、100分で加熱圧着し、積
層体11を得た(同図(f))。Then, using a laminating press (Vacuum laminating press VH2-1315, manufactured by Kitagawa Seiki), the whole was 1
The laminate was heated and pressed at 80 ° C. and 40 Kg / cm 2 for 100 minutes to obtain a laminate 11 (FIG. 6F).
【0059】この積層体11に、同図(g)のようにス
ルーホール孔Shを、ブラインドバイアホール孔Bhと
同様にNCドリルマシーンを用いて貫通させ、その後、
同図(h)のようにメッキした。この場合、まず無電界
メッキにより積層体全体に薄くメッキを行い、つづいて
電界メッキにより厚さ25μmのメッキを形成した。As shown in FIG. 3G, through holes 11 are made to penetrate through the laminated body 11 using an NC drill machine in the same manner as the blind via holes Bh.
The plating was performed as shown in FIG. In this case, first, the entire laminated body was thinly plated by electroless plating, and subsequently, plating having a thickness of 25 μm was formed by electrolytic plating.
【0060】そして、最外層となっている第1の配線層
L1と第6の配線層L6にパターン形成し、第1の配線
層L1のパターンとして図4(a)のようなパターンを
得た。Then, a pattern is formed on the first wiring layer L1 and the sixth wiring layer L6 which are the outermost layers, and a pattern as shown in FIG. 4A is obtained as the pattern of the first wiring layer L1. .
【0061】実施例2 実施例1のプリント配線板の製造において、永久マスク
層6を形成するにあたり、熱硬化性ソルダーレジストイ
ンク(太陽インキ工業製、S−222)をスクリーン印
刷したのに代えて、永久ドライフィルムレジスト(日立
化成工業フォテックSR−2200G−75、厚さ75
μm)を写真法により形成した以外は実施例1と同様に
してプリント配線板を製造した。Example 2 In the manufacture of the printed wiring board of Example 1, when the permanent mask layer 6 was formed, a thermosetting solder resist ink (manufactured by Taiyo Ink Kogyo, S-222) was used instead of screen printing. , Permanent Dry Film Resist (Hitachi Kasei Kogyo Fotoc SR-2200G-75, Thickness 75
μm) was formed by a photographic method, and a printed wiring board was manufactured in the same manner as in Example 1.
【0062】比較例1 永久マスク層6を形成しない以外は実施例1と同様にし
てプリント配線板を製造した。Comparative Example 1 A printed wiring board was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the permanent mask layer 6 was not formed.
【0063】比較例2 実施例1のプリント配線板の製造において、積層体の形
成時(図1(e))に、Cステージプリプレグに代えて
Bステージプリプレグ(東芝ケミカル社製TLP55
1、厚さ0.1mm)を使用する以外は実施例1と同様
にしてプリント配線板を製造した。Comparative Example 2 In the manufacture of the printed wiring board of Example 1, when forming the laminate (FIG. 1E), instead of the C-stage prepreg, a B-stage prepreg (TLP55 manufactured by Toshiba Chemical Corporation) was used.
1. A printed wiring board was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 0.1 mm.
【0064】実施例3 図2に示した製造工程に従ってプリント配線板を製造し
た。具体的操作は、図1(e)で説明した工程で使用し
たCステージプリプレグの代りに、剛直な絶縁材4D
(東芝ケミカル社製、TLC−551、0.1mm厚、
銅箔35μm厚)を使用する以外は実施例1と同様とし
た。Example 3 A printed wiring board was manufactured according to the manufacturing process shown in FIG. The specific operation is that instead of the C-stage prepreg used in the process described with reference to FIG.
(Toshiba Chemical Co., TLC-551, 0.1mm thickness,
It was the same as Example 1 except that a copper foil (35 μm thick) was used.
【0065】実施例4 実施例3のプリント配線板の製造において、永久マスク
層6を形成するにあたり、熱硬化性ソルダーレジストイ
ンク(太陽インキ工業製、S−222)をスクリーン印
刷したのに代えて、永久ドライフィルムレジスト(日立
化成工業フォテックSR−2200G−75、厚さ75
μm)を写真法により形成した以外は実施例3と同様に
してプリント配線板を製造した。Example 4 In the manufacture of the printed wiring board of Example 3, in forming the permanent mask layer 6, instead of screen-printing a thermosetting solder resist ink (manufactured by Taiyo Ink Kogyo, S-222). , Permanent Dry Film Resist (Hitachi Kasei Kogyo Fotoc SR-2200G-75, Thickness 75
μm) was formed by a photographic method, and a printed wiring board was manufactured in the same manner as in Example 3.
【0066】比較例3 永久マスク層6を形成しない以外は実施例3と同様にし
てプリント配線板を製造した。Comparative Example 3 A printed wiring board was manufactured in the same manner as in Example 3 except that the permanent mask layer 6 was not formed.
【0067】実施例5 図3に示した製造工程に従ってプリント配線板を製造し
た。具体的操作は、図1(e)で説明した工程で使用し
たBステージプリプレグ4Bの厚さを0.05mmと
し、更にCステージプリプレグの代りに、樹脂流れの小
さいBステージプリプレグ4Bb(0.1mm厚、JI
S C 6487により樹脂流れ1.5%)を使用し、
そして接着剤を使用しない以外は実施例1と同様とし
た。なお、樹脂流れの小さいBステージプリプレグは、
Bステージプリプレグ(東芝ケミカル社製TLP55
1、厚さ0.1mm)を150℃で5分間、ボックスオ
ーブンで加熱することにより得た。Example 5 A printed wiring board was manufactured according to the manufacturing process shown in FIG. Specifically, the thickness of the B-stage prepreg 4B used in the process described with reference to FIG. 1E was set to 0.05 mm, and the C-stage prepreg was replaced with a B-stage prepreg 4Bb (0.1 mm) having a small resin flow. Thick, JI
Using a resin flow of 1.5% according to SC 6487),
And it carried out similarly to Example 1 except not using an adhesive agent. In addition, B stage prepreg with small resin flow,
B stage prepreg (TLP55 manufactured by Toshiba Chemical Corporation)
1, thickness 0.1 mm) by heating in a box oven at 150 ° C. for 5 minutes.
【0068】実施例6 実施例5のプリント配線板の製造において、永久マスク
層6を形成するにあたり、熱硬化性ソルダーレジストイ
ンク(太陽インキ工業製、S−222)をスクリーン印
刷したのに代えて、永久ドライフィルムレジスト(日立
化成工業フォテックSR−2200G−75、厚さ75
μm)を写真法により形成した以外は実施例5と同様に
してプリント配線板を製造した。Example 6 In the manufacture of the printed wiring board of Example 5, in forming the permanent mask layer 6, instead of screen-printing a thermosetting solder resist ink (manufactured by Taiyo Ink Kogyo, S-222). , Permanent Dry Film Resist (Hitachi Kasei Kogyo Fotoc SR-2200G-75, Thickness 75
μm) was formed by a photographic method, and a printed wiring board was manufactured in the same manner as in Example 5.
【0069】比較例4 永久マスク層6を形成しない以外は実施例5と同様にし
てプリント配線板を製造した。Comparative Example 4 A printed wiring board was manufactured in the same manner as in Example 5 except that the permanent mask layer 6 was not formed.
【0070】比較例5 実施例5のプリント配線板の製造において、積層体の形
成時(図3(e))に、樹脂流れの小さいBステージプ
リプレグに代えて通常のBステージプリプレグ(東芝ケ
ミカル社製TLP551、厚さ0.1mm)を使用する
以外は実施例3と同様にしてプリント配線板を製造し
た。Comparative Example 5 In the manufacture of the printed wiring board of Example 5, when forming the laminate (FIG. 3E), a normal B-stage prepreg (Toshiba Chemical Co., Ltd.) was used instead of the B-stage prepreg with a small resin flow. A printed wiring board was manufactured in the same manner as in Example 3 except that TLP551 (manufactured by TLP551, thickness: 0.1 mm) was used.
【0071】評価 (ブラインドバイアホール部分の顕微鏡観察)実施例1
〜6、比較例1〜5で得たプリント配線板のブラインド
バイアホール部分の断面を顕微鏡観察した。その結果、
実施例1〜6のプリント配線板ではメッキ層が良好に形
成されていたが、比較例1〜5のプリント配線板ではブ
ラインドバイアホールの孔内に樹脂が染みだし、第1の
導電層L1と第2の導電層L2はメッキ層により接続さ
れていなかった。Evaluation (Microscopic Observation of Blind Via Hole) Example 1
To 6, and the cross sections of the blind via holes of the printed wiring boards obtained in Comparative Examples 1 to 5 were observed with a microscope. as a result,
In the printed wiring boards of Examples 1 to 6, the plated layer was formed well, but in the printed wiring boards of Comparative Examples 1 to 5, the resin permeated into the holes of the blind via holes, and the first conductive layer L1 The second conductive layer L2 was not connected by the plating layer.
【0072】 (第1の導電層L1と第2の導電層L2の導体抵抗)ま
た、実施例1〜6について、90孔のブラインドバイア
ホールにより接続された第1の導電層L1と第2の導電
層L2の導体抵抗(図4(a)のA点とB点の間の導体
抵抗)をそれぞれ測定したところ、いずれも0.6オー
ムであった。(Conductor Resistance of First Conductive Layer L1 and Second Conductive Layer L2) Further, in Examples 1 to 6, the first conductive layer L1 and the second conductive layer L2 connected by a 90-hole blind via hole were used. When the conductor resistance (conductor resistance between points A and B in FIG. 4A) of the conductive layer L2 was measured, each was 0.6 ohm.
【0073】(熱衝撃試験)実施例1〜6のプリント配
線板各々10枚に対し、JIS C 5012に従って
熱衝撃試験を20サイクル行い、上記と同様に第1の導
電層L1と第2の導電層L2の導体抵抗を測定した。そ
の結果、導体抵抗はいずれも1オーム以下の良好な数値
を示した。(Thermal Shock Test) A thermal shock test was performed on each of the ten printed wiring boards of Examples 1 to 6 in accordance with JIS C 5012 for 20 cycles, and the first conductive layer L1 and the second conductive The conductor resistance of the layer L2 was measured. As a result, each of the conductor resistances showed a good value of 1 ohm or less.
【0074】[0074]
【発明の効果】この発明のプリント配線板の製造方法に
よれば、ブラインドバイアホールを有する多層プリント
配線板の製造に必要とされるメッキ工程を減らして生産
性を向上させ、製造コストを低下させることが可能とな
り、かつ信頼性高く細密なパターン形成をすることも可
能となる。According to the method for manufacturing a printed wiring board of the present invention, the number of plating steps required for manufacturing a multilayer printed wiring board having blind via holes is reduced, thereby improving productivity and reducing manufacturing costs. This makes it possible to form a highly reliable and fine pattern.
【図1】第1のこの発明による多層プリント配線板の製
造工程の説明図である。FIG. 1 is an explanatory view of a manufacturing process of a multilayer printed wiring board according to a first invention.
【図2】第2のこの発明による多層プリント配線板の製
造工程の説明図である。FIG. 2 is an explanatory view of a manufacturing process of a multilayer printed wiring board according to a second invention.
【図3】第3のこの発明による多層プリント配線板の製
造工程の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of a manufacturing process of the multilayer printed wiring board according to the third invention.
【図4】実施例の多層プリント配線板の第1の配線層と
第2の配線層の配線パターンの平面図である。FIG. 4 is a plan view of a wiring pattern of a first wiring layer and a second wiring layer of the multilayer printed wiring board of the example.
【図5】従来法による多層プリント配線板の製造工程の
説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of a manufacturing process of a multilayer printed wiring board according to a conventional method.
【図6】従来法の多層プリント配線板のドリルによるブ
ラインド孔の穴開け工程の説明図である。FIG. 6 is an explanatory view of a conventional method of forming a blind hole by drilling a multilayer printed wiring board.
【図7】従来法による多層プリント配線板の製造工程の
説明図である。FIG. 7 is an explanatory view of a manufacturing process of a multilayer printed wiring board according to a conventional method.
【図8】従来法によるブラインドバイアホールを形成し
た積層板の積層工程の説明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram of a laminating step of a laminated plate having a blind via hole formed by a conventional method.
【符号の説明】 Bh ブラインド孔 Sh スルーホール孔 L1〜L8 第1の配線層〜第8の配線層 1 絶縁層 2 銅箔 2a 内層回路 3 両面基板 4 絶縁層 4B Bステージプリプレグ 4Bb 樹脂流れの小さいBステージプリプレグ 4C Cステージプリプレグ 4D 剛直な絶縁材 5 メッキ層 6 永久マスク層 7 積層体 8 接着剤 9 積層板 10 積層体 11 積層体[Description of Signs] Bh Blind hole Sh Through hole hole L1 to L8 First wiring layer to Eighth wiring layer 1 Insulating layer 2 Copper foil 2a Inner layer circuit 3 Double-sided board 4 Insulating layer 4B B-stage prepreg 4Bb Resin flow is small B-stage prepreg 4C C-stage prepreg 4D Rigid insulating material 5 Plating layer 6 Permanent mask layer 7 Laminate 8 Adhesive 9 Laminate 10 Laminate 11 Laminate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭51−22065(JP,A) 特開 昭61−135738(JP,A) 特開 平2−39486(JP,A) 特開 平1−37084(JP,A) 特開 平2−181997(JP,A) 特公 昭54−35671(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/00 - 3/46 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-51-2265 (JP, A) JP-A-61-135738 (JP, A) JP-A-2-39486 (JP, A) JP-A-1- 37084 (JP, A) JP-A-2-181997 (JP, A) JP-B-54-35671 (JP, B2) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H05K 3/00-3 / 46
Claims (14)
パターン形成された第2の配線層からなる積層板の該第
2の配線層上に永久マスク層を積層し、得られた積層体
にブラインドバイアホール用の孔を貫通させることによ
り孔の永久マスク層の厚み部分を樹脂溜りとして機能さ
せ、さらにその積層体の永久マスク層上に接着剤を介し
て少なくともCステージプリプレグを加熱圧着してブラ
インドバイアホール用の孔の一端を閉塞し、該ブライン
ドバイアホール用の孔を含む部分にメッキ層を形成する
ことにより第1の配線層と第2の配線層とを導通させる
ブラインドバイアホールを形成する工程を含むことを特
徴とするプリント配線板の製造方法。1. A permanent mask layer is laminated on a second wiring layer of a laminate comprising at least a first wiring layer, an insulating layer and a patterned second wiring layer. to Rukoto is passed through the hole for the blind via holes
The thickness of the permanent mask layer in the hole functions as a resin reservoir
Was further via its adhesive laminate of a permanent mask layer by closing one end of at least C-stage prepreg thermocompression bonding to the hole for the blind via holes, plated portion including the hole for the blind via hole A method for manufacturing a printed wiring board, comprising a step of forming a layer to form a blind via hole for electrically connecting a first wiring layer and a second wiring layer.
せた積層体の永久マスク層上に接着剤を介してCステー
ジプリプレグ、Bステージプリプレグおよび第3の配線
層を含む積層板を順次積層して加熱圧着し、得られた積
層体にスルーホール用の孔を貫通させ、その後ブライン
ドバイアホール用の孔およびスルーホール用の孔を含む
部分に同時にメッキ層を形成して第1の配線層と第2の
配線層とを導通させるブラインドバイアホールを形成す
ると共にスルーホールを形成する請求項1に記載のプリ
ント配線板の製造方法。2. A laminate including a C-stage prepreg, a B-stage prepreg, and a third wiring layer is sequentially laminated via an adhesive on a permanent mask layer of a laminate having a blind via hole penetrated therethrough. The resulting laminate is passed through a hole for a through hole, and then a plating layer is simultaneously formed on a portion including a hole for a blind via hole and a hole for a through hole to form a first wiring layer and a second wiring layer. 2. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein a blind via hole for conducting the second wiring layer and a through hole are formed.
はドライフィルムである請求項1又は2記載のプリント
配線板の製造方法。 3. The method according to claim 1, wherein the permanent mask layer is a solder resist layer or
The print according to claim 1 or 2, wherein is a dry film.
Manufacturing method of wiring board.
より製造したプリント配線板。4. A printed wiring board was prepared by the method of any one of claims 1-3.
パターン形成された第2の配線層からなる積層板の該第
2の配線層上に永久マスク層を積層し、得られた積層体
にブラインドバイアホール用の孔を貫通させることによ
り孔の永久マスク層の厚み部分を樹脂溜りとして機能さ
せ、さらにその積層体の永久マスク層上に接着剤を介し
て絶縁材を加熱圧着してブラインドバイアホール用の孔
の一端を閉塞し、そして該ブラインドバイアホール用の
孔を含む部分にメッキ層を形成することにより第1の配
線層と第2の配線層とを導通させるブラインドバイアホ
ールを形成する工程を含むことを特徴とするプリント配
線板の製造方法。5. A permanent mask layer is laminated on a second wiring layer of a laminate comprising at least a first wiring layer, an insulating layer and a patterned second wiring layer. to Rukoto is passed through the hole for the blind via holes
The thickness of the permanent mask layer in the hole functions as a resin reservoir
Was further its stack of permanent mask layer through an adhesive thermocompression bonding an insulating material closing the one end of the holes for blind via holes, and plating layer in a portion including a hole for the blind via hole Forming a blind via hole for electrically connecting the first wiring layer and the second wiring layer.
れた銅張積層板である請求項5記載のプリント配線板の
製造方法。6. The method of claim 5, wherein the printed circuit board insulating material is a copper-clad laminate formed of at least pattern.
れたフレキシブル銅張積層板である請求項5記載のプリ
ント配線板の製造方法。7. The method according to claim 5, wherein the insulating material is a flexible copper-clad laminate on which at least a pattern is formed.
せた積層体の永久マスク層上に接着剤を介して絶縁材、
Bステージプリプレグおよび第3の配線層を含む積層板
を順次積層して加熱圧着し、得られた積層体にスルーホ
ール用の孔を貫通させ、その後ブラインドバイアホール
用の孔およびスルーホール用の孔を含む部分に同時にメ
ッキ層を形成して第1の配線層と第2の配線層とを導通
させるブラインドバイアホールを形成すると共にスルー
ホールを形成する請求項5に記載のプリント配線板の製
造方法。8. An insulating material via an adhesive on a permanent mask layer of a laminate having a blind via hole penetrated therethrough,
A laminate including a B-stage prepreg and a third wiring layer are sequentially laminated and heat-pressed, and the obtained laminate is passed through holes for through holes, and then holes for blind via holes and holes for through holes. 6. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 5 , wherein a plating layer is simultaneously formed on a portion including the first wiring layer, a blind via hole for electrically connecting the first wiring layer and the second wiring layer is formed, and a through hole is formed. .
はドライフィルムである請求項5〜8のいずれかに記載
のプリント配線板の製造方法。 9. The method according to claim 9, wherein the permanent mask layer is a solder resist layer or
Is a dry film.
Manufacturing method of printed wiring board.
により製造したプリント配線板。10. A printed wiring board manufactured by the method according to claim 5 .
びパターン形成された第2の配線層からなる積層板の該
第2の配線層上に永久マスク層を積層し、得られた積層
体にブラインドバイアホール用の孔を貫通させることに
より孔の永久マスク層の厚み部分を樹脂溜りとして機能
させ、さらにその積層体の永久マスク層上に樹脂流れの
小さいBステージプリプレグを加熱圧着してブラインド
バイアホール用の孔の一端を閉塞し、該ブラインドバイ
アホール用の孔を含む部分にメッキ層を形成することに
より第1の配線層と第2の配線層とを導通させるブライ
ンドバイアホールを形成する工程を含むことを特徴とす
るプリント配線板の製造方法。11. A laminate comprising at least a first wiring layer, an insulating layer, and a patterned second wiring layer, a permanent mask layer is laminated on the second wiring layer, and the resultant laminate is obtained. the Rukoto passed through the hole of the blind via hole
The thickness of the perforated permanent mask layer functions as a resin reservoir
Is not further their small B-stage prepreg having a resin flow in the permanent mask layer of the laminate was heated and pressed to close one end of the hole for a blind via hole, the plated layer in the portion including the hole for the blind via hole A method for manufacturing a printed wiring board, comprising the step of forming a blind via hole that forms a conductive layer between a first wiring layer and a second wiring layer.
させた積層体の永久マスク層上に樹脂流れの小さいBス
テージプリプレグ、Bステージプリプレグおよび第3の
配線層を含む積層板を順次積層して加熱圧着し、得られ
た積層体にスルーホール用の孔を貫通させ、その後ブラ
インドバイアホール用の孔およびスルーホール用の孔を
含む部分に同時にメッキ層を形成して第1の配線層と第
2の配線層とを導通させるブラインドバイアホールを形
成すると共にスルーホールを形成する請求項11記載の
プリント配線板の製造方法。12. A laminated board including a B-stage prepreg, a B-stage prepreg, and a third wiring layer with a small resin flow are sequentially laminated and heated on a permanent mask layer of a laminated body penetrating a blind via hole. The resulting laminate is passed through a hole for a through hole, and then a plating layer is simultaneously formed on a portion including a hole for a blind via hole and a hole for a through hole to form a first wiring layer and a second wiring layer. 12. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 11, wherein a blind via hole for conducting with the wiring layer is formed and a through hole is formed.
又はドライフィルムである請求項11又は12記載のプ
リント配線板の製造方法。 13. The method according to claim 13, wherein the permanent mask layer is a solder resist layer.
Or a dry film.
Manufacturing method of lint wiring board.
方法により製造したプリント配線板。14. A printed wiring board manufactured by the method according to claim 11 .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17905392A JP3154350B2 (en) | 1991-10-24 | 1992-06-11 | Printed wiring board and its manufacturing method |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3-305212 | 1991-10-24 | ||
| JP30521291 | 1991-10-24 | ||
| JP17905392A JP3154350B2 (en) | 1991-10-24 | 1992-06-11 | Printed wiring board and its manufacturing method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05191052A JPH05191052A (en) | 1993-07-30 |
| JP3154350B2 true JP3154350B2 (en) | 2001-04-09 |
Family
ID=26499026
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17905392A Expired - Fee Related JP3154350B2 (en) | 1991-10-24 | 1992-06-11 | Printed wiring board and its manufacturing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3154350B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102958292B (en) * | 2011-08-25 | 2015-10-07 | 深南电路有限公司 | Manufacturing method of multi-layer circuit board |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5435671B2 (en) | 2012-03-29 | 2014-03-05 | Necインフロンティア株式会社 | Mobile terminal and control method thereof |
-
1992
- 1992-06-11 JP JP17905392A patent/JP3154350B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5435671B2 (en) | 2012-03-29 | 2014-03-05 | Necインフロンティア株式会社 | Mobile terminal and control method thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05191052A (en) | 1993-07-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6664127B2 (en) | Method of manufacturing multi-layer printed wiring board | |
| JP4075673B2 (en) | Copper-clad laminate for multilayer printed wiring board, multilayer printed wiring board, and method for manufacturing multilayer printed wiring board | |
| JP2001168481A (en) | Copper-clad laminate, and circuit substrate for printed wiring board and manufacturing method therefor | |
| WO1998056220A1 (en) | Single-sided circuit board and method for manufacturing the same | |
| JP4043115B2 (en) | Multi-layer printed wiring board | |
| JPH1154934A (en) | Multilayered printed wiring board and its manufacture | |
| US20060210780A1 (en) | Circuit board and production method therefor | |
| JPH1013028A (en) | Single-sides circuit board for multilayered printed wiring board and multilayered printed wiring board and its manufacture | |
| JP2001015913A (en) | One-sided circuit board and its production, and production of multilayered wiring board | |
| JPH07106728A (en) | Rigid flex printed wiring board and manufacturing method thereof | |
| JP3154350B2 (en) | Printed wiring board and its manufacturing method | |
| JP3173249B2 (en) | Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same | |
| JP2000269647A (en) | Single-side circuit board, multilayer printed wiring board and manufacture thereof | |
| JP3092117B2 (en) | Printed wiring board and its manufacturing method | |
| JPH098458A (en) | Printed wiring board and manufacturing method thereof | |
| JP2001015919A (en) | Multilayer printed wiring board, circuit-board therefor and its manufacture | |
| JP3253886B2 (en) | Single-sided circuit board for multilayer printed wiring board, method for manufacturing the same, and multilayer printed wiring board | |
| JP4292905B2 (en) | Circuit board, multilayer board, method for manufacturing circuit board, and method for manufacturing multilayer board | |
| JPH09181452A (en) | Multilayer printed wiring board manufacturing method | |
| JP3594765B2 (en) | Manufacturing method of multilayer printed wiring board | |
| JP2000183528A (en) | Manufacture of multilayer printed wiring board | |
| JPH08139425A (en) | Circuit forming substrate and method for manufacturing circuit forming substrate | |
| JP2000232268A (en) | Single-sided circuit board and manufacture thereof | |
| JPH0573360B2 (en) | ||
| JP2005026548A (en) | Method for manufacturing multi-wire wiring board |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080202 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090202 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100202 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |