JP3158587B2 - Thin film transistor panel - Google Patents
Thin film transistor panelInfo
- Publication number
- JP3158587B2 JP3158587B2 JP35652591A JP35652591A JP3158587B2 JP 3158587 B2 JP3158587 B2 JP 3158587B2 JP 35652591 A JP35652591 A JP 35652591A JP 35652591 A JP35652591 A JP 35652591A JP 3158587 B2 JP3158587 B2 JP 3158587B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- pixel electrode
- pixel electrodes
- film transistor
- columns
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、アクティブマトリック
ス液晶表示素子に用いられる薄膜トランジスタパネルの
製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a thin film transistor panel used for an active matrix liquid crystal display device.
【0002】[0002]
【従来の技術】アクティブマトリックス液晶表示素子に
用いられる薄膜トランジスタパネル(以下、TFTパネ
ルという)は次のような構成となっている。2. Description of the Related Art A thin film transistor panel (hereinafter referred to as a TFT panel) used for an active matrix liquid crystal display device has the following structure.
【0003】図3および図4は従来のTFTパネルの一
部分の平面図およびその等価回路図であり、このTFT
パネルは、ガラスからなる透明基板1の上に、行方向お
よび列方向に配列された複数の透明画素電極2と、これ
ら画素電極2にそれぞれつながる複数の薄膜トランジス
タ3と、これら薄膜トランジスタ3につながる複数本の
ゲートラインGLおよびデータラインDLとを設けたも
ので、各ゲートラインGLは、各画素電極列の間にそれ
ぞれ配線され、各データラインDLは、各画素電極行の
間にそれぞれ配線されている。FIGS. 3 and 4 are a plan view of a part of a conventional TFT panel and an equivalent circuit diagram thereof.
The panel includes, on a transparent substrate 1 made of glass, a plurality of transparent pixel electrodes 2 arranged in a row direction and a column direction, a plurality of thin film transistors 3 respectively connected to the pixel electrodes 2, and a plurality of thin film transistors connected to the thin film transistors 3. The gate lines GL and the data lines DL are provided, each gate line GL is wired between each pixel electrode column, and each data line DL is wired between each pixel electrode row. .
【0004】上記薄膜トランジスタ3は、一般に逆スタ
ガー構造とされており、この薄膜トランジスタ3は、基
板1上に形成したゲートラインGLにつながるゲート電
極Gと、このゲート電極Gを覆うゲート絶縁膜4と、こ
のゲート絶縁膜4の上に形成された半導体層5と、この
半導体層5の上に形成されたソース,ドレイン電極S,
Dとからなっている。この薄膜トランジスタ3のゲート
絶縁膜4は、上記ゲートラインGLを覆って基板1のほ
ぼ全面に形成されている。The thin film transistor 3 generally has an inverted stagger structure. The thin film transistor 3 includes a gate electrode G connected to a gate line GL formed on the substrate 1, a gate insulating film 4 covering the gate electrode G, The semiconductor layer 5 formed on the gate insulating film 4 and the source and drain electrodes S,
D. The gate insulating film 4 of the thin film transistor 3 is formed on almost the entire surface of the substrate 1 so as to cover the gate line GL.
【0005】また、前記画素電極2とデータラインDL
は、上記ゲート絶縁膜(透明膜)4の上に形成されてお
り、上記薄膜トランジスタ3のソース電極Sは画素電極
2に接続され、ドレイン電極DはデータラインDLにつ
ながっている。The pixel electrode 2 and the data line DL
Are formed on the gate insulating film (transparent film) 4, the source electrode S of the thin film transistor 3 is connected to the pixel electrode 2, and the drain electrode D is connected to the data line DL.
【0006】そして、アクティブマトリックス液晶表示
素子は、上記TFTパネルと、透明基板上に対向電極
(透明電極)を形成するとともにその上に配向処理を施
した図示しない対向パネルとを枠状のシール材を介して
接着し、この両パネル間に液晶を封入して製造されてい
る。The active matrix liquid crystal display element comprises a frame-like sealing material comprising the above-mentioned TFT panel and a counter panel (not shown) in which a counter electrode (transparent electrode) is formed on a transparent substrate and an alignment process is performed thereon. And a liquid crystal is sealed between the panels.
【0007】ところで、上記アクティブマトリックス液
晶表示素子においては、非選択期間中の画素電極2に保
持される電位の変動を小さくするため、上記TFTパネ
ルに、全ての画素電極2にそれぞれストレージキャパシ
タCs を設けている。By the way, in the active matrix liquid crystal display device, in order to reduce the fluctuation of the potential held in the pixel electrode 2 during the non-selection period, a storage capacitor Cs is provided in each of the pixel electrodes 2 in the TFT panel. Provided.
【0008】図3および図4において、CLは上記スト
レージキャパシタCs を構成するためのキャパシタライ
ンであり、このキャパシタラインCLは、基板1上(ゲ
ート絶縁膜4の下)に、各行の画素電極の一側縁部にそ
れぞれ対向させて、ゲートラインGLと平行に形成され
ている。3 and 4, CL is a capacitor line for constituting the storage capacitor Cs. The capacitor line CL is provided on the substrate 1 (below the gate insulating film 4) for the pixel electrode of each row. It is formed in parallel with the gate line GL so as to face each one side edge.
【0009】そして、ストレージキャパシタCs は、上
記キャパシタラインCLと画素電極2およびその間のゲ
ート絶縁膜4とで構成されている。このストレージキャ
パシタは、画素電極2の選択時(薄膜トランジスタ3の
ON時)に画素電極2に印加される電荷を蓄積するもの
で、このストレージキャパシタにより非選択期間中の画
素電極2の電位が保持される。なお、上記キャパシタラ
インCLは基準電位(接地電位)に接続される。The storage capacitor Cs is composed of the capacitor line CL, the pixel electrode 2 and the gate insulating film 4 therebetween. The storage capacitor accumulates the electric charge applied to the pixel electrode 2 when the pixel electrode 2 is selected (when the thin film transistor 3 is turned on). The storage capacitor holds the potential of the pixel electrode 2 during the non-selection period. You. Note that the capacitor line CL is connected to a reference potential (ground potential).
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のTFTパネルは、各画素電極列ごとに1本ずつキャ
パシタラインCLを設けたものであるため、基板1上
に、画素電極列の数と同数のキャパシタラインCLを形
成しなければならないという問題をもっていた。However, in the above-mentioned conventional TFT panel, since one capacitor line CL is provided for each pixel electrode column, the same number of pixel electrode columns on the substrate 1 is provided. Has to be formed.
【0011】本発明は、画素電極列数のほぼ半数のキャ
パシタラインを形成するだけで、全ての画素電極にスト
レージキャパシタを形成することができるTFTパネル
を提供することを目的としたものである。An object of the present invention is to provide a TFT panel in which storage capacitors can be formed on all pixel electrodes by forming capacitor lines of almost half the number of pixel electrode columns.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明のTFTパネル
は、ゲートラインを画素電極2列おきの列間にそれぞれ
1本ずつ配線し、前記ゲートラインの両側の列の画素電
極の薄膜トランジスタをいずれも前記列間に配線された
ゲートラインにつなぐとともに、前記データラインは各
画素電極行の間にそれぞれ2本ずつ配線して、同じゲー
トラインにつながる前記薄膜トランジスタのうち、前記
ゲートラインの一側の列の画素電極の薄膜トランジスタ
は前記画素電極行の一側に隣接するデータラインに、他
側の列の画素電極の薄膜トランジスタは前記画素電極行
の他側に隣接するデータラインにつなぎ、かつ、異なる
ゲートラインに前記薄膜トランジスタを介してつながる
隣接した2列の画素電極間に対応させて、その両方の列
の画素電極にまたがる幅のキャパシタラインを設け、こ
のキャパシタラインと前記2列の画素電極との間にそれ
ぞれストレージキャパシタを形成したことを特徴とする
ものである。According to the TFT panel of the present invention, one gate line is provided between every two rows of pixel electrodes, and one thin film transistor of each of the pixel electrodes on both sides of the gate line is provided. The data lines are connected to the gate lines wired between the columns , and the data lines are wired two by two between each pixel electrode row. Of the thin film transistors connected to the same gate line, the data lines are connected to the gate lines. The thin film transistor of the pixel electrode in one column is connected to the data line adjacent to one side of the pixel electrode row, the thin film transistor of the pixel electrode in the other column is connected to the data line adjacent to the other side of the pixel electrode row, and Different
Connected to the gate line via the thin film transistor
Capacitor lines having a width spanning the pixel electrodes of both columns are provided corresponding to the pixel electrodes of the two adjacent columns, and storage capacitors are formed between the capacitor lines and the pixel electrodes of the two columns. It is characterized by the following.
【0013】[0013]
【作用】本発明のTFTパネルでは、ゲートラインを画
素電極2列おきの列間に配線して2列ずつの画素電極を
その間にゲートラインが介在しない状態で隣接させ、前
記2列の画素電極間に対応させてその両方の画素電極に
またがる幅のキャパシタラインを設けて、このキャパシ
タラインと前記2列の画素電極との間にそれぞれストレ
ージキャパシタを形成しているため、1本のキャパシタ
ラインを2列の画素電極のストレージキャパシタに共用
することができ、したがって、全ての画素電極にそれぞ
れストレージキャパシタを形成するのに必要なキャパシ
タライン数は、画素電極列の数のほぼ半分でよい。In the TFT panel of the present invention, a gate line is wired between every two columns of pixel electrodes, and two rows of pixel electrodes are arranged adjacent to each other without a gate line interposed therebetween. A capacitor line having a width extending over both of the pixel electrodes is provided correspondingly, and a storage capacitor is formed between the capacitor line and the two columns of pixel electrodes. It can be shared by the storage capacitors of two rows of pixel electrodes, and therefore, the number of capacitor lines required to form storage capacitors for all the pixel electrodes may be approximately half the number of pixel electrode rows.
【0014】このTFTパネルでは、ゲートラインが画
素電極2列おきの列間に1本ずつしかないが、上記のよ
うに、ゲートラインの両側の列の画素電極の薄膜トラン
ジスタをいずれも前記画素電極間のゲートラインにつな
ぐとともに、データラインを各画素電極行の間にそれぞ
れ2本ずつ配線して、同じゲートラインにつながる前記
薄膜トランジスタのうち、前記ゲートラインの一側の列
の画素電極の薄膜トランジスタを画素電極行の一側に隣
接するデータラインに、他側の列の画素電極の薄膜トラ
ンジスタを前記画素電極行の他側に隣接するデータライ
ンにつないでおけば、全ての画素電極の薄膜トランジス
タを駆動することができる。In this TFT panel, there is only one gate line between every two rows of pixel electrodes, but as described above, each of the thin film transistors of the pixel electrodes on both sides of the gate line is connected to the pixel electrode. Of the thin film transistors connected to the same gate line, and a thin film transistor of a pixel electrode in a column on one side of the gate line among the thin film transistors connected to the same gate line. If the thin film transistors of the pixel electrodes in the other column are connected to the data lines adjacent to one side of the electrode row and the data lines adjacent to the other side of the pixel electrode row, the thin film transistors of all the pixel electrodes are driven. Can be.
【0015】[0015]
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1および図2を
参照して説明する。図1はTFTパネルの一部分の平面
図、図2はその等価回路図である。なお、図1および図
2において、図3および図4に示した従来のTFTパネ
ルに対応するものには同符号を付し、従来のTFTパネ
ルと同じ部分についてはその説明を省略する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is a plan view of a part of a TFT panel, and FIG. 2 is an equivalent circuit diagram thereof. In FIGS. 1 and 2, those corresponding to the conventional TFT panel shown in FIGS. 3 and 4 are denoted by the same reference numerals, and the description of the same parts as those of the conventional TFT panel is omitted.
【0016】このTFTパネルでは、ゲートラインGL
を、画素電極2列おきの列間にそれぞれ1本ずつ配線し
て、前記2列ずつの画素電極2をその間にゲートライン
GLが介在しない状態で隣接させている。In this TFT panel, the gate line GL
Are arranged one by one between every two rows of pixel electrodes, and the two rows of pixel electrodes 2 are adjacent to each other without a gate line GL interposed therebetween.
【0017】前記ゲートラインGLは、その一側に隣接
する列の画素電極2の薄膜トランジスタ3と、他側に隣
接する列の画素電極2の薄膜トランジスタ3とに同時に
ゲート信号を供給する共用ラインとされている。The gate line GL is a common line for simultaneously supplying a gate signal to the thin film transistor 3 of the pixel electrode 2 in the adjacent column on one side and the thin film transistor 3 of the pixel electrode 2 in the adjacent column on the other side. ing.
【0018】そして、前記ゲートラインGLの両側の列
の画素電極2の薄膜トランジスタ3はそれぞれ、前記画
素電極2のゲートラインGL側の側部に、ゲートライン
GLの長さ方向に位置をずらして配置されており、前記
ゲートラインGLの一側の列の画素電極2にソース電極
Sを接続した薄膜トランジスタ3のゲート電極Gは、前
記ゲートラインDLの一側に形成され、前記ゲートライ
ンGLの他側の列の画素電極2にソース電極Sを接続し
た薄膜トランジスタ3のゲート電極Gは、前記ゲートラ
インDLの他側に形成されている。The thin film transistors 3 of the pixel electrodes 2 in the columns on both sides of the gate line GL are arranged on the side of the pixel electrode 2 on the side of the gate line GL so as to be shifted in the length direction of the gate line GL. The gate electrode G of the thin film transistor 3 in which the source electrode S is connected to the pixel electrode 2 in the column on one side of the gate line GL is formed on one side of the gate line DL and the other side of the gate line GL The gate electrode G of the thin film transistor 3 in which the source electrode S is connected to the pixel electrode 2 of the column is formed on the other side of the gate line DL.
【0019】また、データラインDLは、各画素電極行
の間にそれぞれ2本ずつ配線されており、同じゲートラ
インGLにつながる前記薄膜トランジスタ3,3のう
ち、前記ゲートラインDLの一側の列の画素電極2の薄
膜トランジスタ3のドレイン電極Dは、前記画素電極行
の一側に隣接するデータラインDLにつながり、前記ゲ
ートラインDLの他側の列の画素電極2の薄膜トランジ
スタ3のドレイン電極Dは、前記画素電極行の他側に隣
接するデータラインDLにつながっている。Further, two data lines DL are arranged between each pixel electrode row. Of the thin film transistors 3 and 3 connected to the same gate line GL, one data line DL is connected to one column of the gate line DL. The drain electrode D of the thin film transistor 3 of the pixel electrode 2 is connected to the data line DL adjacent to one side of the pixel electrode row, and the drain electrode D of the thin film transistor 3 of the pixel electrode 2 on the other side of the gate line DL is It is connected to a data line DL adjacent to the other side of the pixel electrode row.
【0020】一方、キャパシタラインCLは、前記2列
の画素電極2,2間に対応させて設けられている。この
キャパシタラインCLは、前記2列の画素電極2,2の
両方にまたがる幅に形成されており、前記2列の画素電
極2,2のうちの一方の列の画素電極2のストレージキ
ャパシタCs は、この画素電極2の側縁部と前記キャパ
シタラインCLの一半分の幅領域との間に形成され、他
方の列の画素電極2のストレージキャパシタCs は、こ
の画素電極2の側縁部と前記キャパシタラインCLの他
半分の幅領域との間に形成されている。On the other hand, the capacitor lines CL are provided between the two columns of the pixel electrodes 2 and 2. This capacitor line CL is formed to have a width that extends over both of the two columns of pixel electrodes 2, 2, and the storage capacitor Cs of the pixel electrode 2 of one of the two columns of pixel electrodes 2, 2 is Is formed between the side edge of the pixel electrode 2 and a half width region of the capacitor line CL. The storage capacitor Cs of the pixel electrode 2 in the other column is connected to the side edge of the pixel electrode 2 It is formed between the other half width region of the capacitor line CL.
【0021】なお、この実施例では上記キャパシタライ
ンCLの幅を、従来のTFTパネルにおけるキャパシタ
ライン幅のほぼ2倍にして、このキャパシタラインCL
と両方の列の画素電極2,2とをそれぞれ、従来のTF
Tパネルにおけるキャパシタラインと画素電極との対向
面積とほぼ同じ面積で対向させ、各画素電極2のストレ
ージキャパシタCs に、従来のTFTパネルのストレー
ジキャパシタとほぼ同じ容量をもたせている。In this embodiment, the width of the capacitor line CL is made almost twice as large as the width of the capacitor line in the conventional TFT panel.
And the pixel electrodes 2 and 2 of both columns, respectively,
The capacitor line and the pixel electrode in the T panel are opposed to each other with substantially the same area, and the storage capacitor Cs of each pixel electrode 2 has substantially the same capacity as the storage capacitor of the conventional TFT panel.
【0022】このTFTパネルでは、ゲートラインGL
を画素電極2列おきの列間にそれぞれ2本ずつ配線し、
前記2列の画素電極2,2のうち一方の列の画素電極2
の薄膜トランジスタ3を前記一方の列の画素電極2に隣
接するゲートラインGLにつなぎ、他方の列の画素電極
2の薄膜トランジスタ3を前記他方の列の画素電極2に
隣接するゲートラインGLにつなぐことによって、2列
ずつの画素電極2,2をその間にゲートラインGLが介
在しない状態で隣接させるとともに、前記2列の画素電
極間に対応させてその両方の画素電極2,2にまたがる
幅のキャパシタラインCLを設けて、このキャパシタラ
インCLと前記2列の画素電極2,2との間にそれぞれ
ストレージキャパシタCs を形成しているため、1本の
キャパシタラインCLを2列の画素電極2のストレージ
キャパシタCs に共用することができる。In this TFT panel, the gate line GL
Are wired two by two between every two rows of pixel electrodes,
The pixel electrode 2 in one of the two columns of the pixel electrodes 2
Is connected to the gate line GL adjacent to the pixel electrode 2 in the one column, and the thin film transistor 3 of the pixel electrode 2 in the other column is connected to the gate line GL adjacent to the pixel electrode 2 in the other column. A capacitor line having a width spanning both pixel electrodes 2, 2 corresponding to between the two columns of pixel electrodes, while adjoining pixel electrodes 2, 2 in two columns without a gate line GL interposed therebetween. CL is provided, and storage capacitors Cs are formed between the capacitor lines CL and the two columns of pixel electrodes 2 and 2 respectively. Therefore, one capacitor line CL is connected to the storage capacitors of the two columns of pixel electrodes 2. Can be shared by Cs.
【0023】したがって、上記TFTパネルによれば、
全ての画素電極2にそれぞれストレージキャパシタを形
成するのに必要なキャパシタライン数は、画素電極列の
数が偶数の場合で画素電極列数の1/2、奇数の場合で
画素電極列数の1/2+1でよいから、画素電極列数の
ほぼ半数のキャパシタラインを形成するだけで、全ての
画素電極2にそれぞれストレージキャパシタCs を形成
することができる。Therefore, according to the above TFT panel,
The number of capacitor lines required to form storage capacitors for all pixel electrodes 2 is 2 of the number of pixel electrode columns when the number of pixel electrode columns is even, and 1 when the number of pixel electrode columns is odd. Therefore, the storage capacitors Cs can be formed on all the pixel electrodes 2 only by forming capacitor lines of almost half the number of pixel electrode columns.
【0024】なお、このTFTパネルでは、データライ
ン数が従来のTFTパネル(同じ画素電極数のTFTパ
ネル)の2倍になるが、ゲートライン数は1/2である
ため、ゲートラインGLとデータラインDLとの総数は
従来のTFTパネルと同じである。In this TFT panel, the number of data lines is twice that of a conventional TFT panel (TFT panel having the same number of pixel electrodes). However, since the number of gate lines is 1 /, the gate line GL is The total number of lines DL is the same as the conventional TFT panel.
【0025】また、上記TFTパネルでは、ゲートライ
ンDLが画素電極2列おきの列間に1本ずつしかない
が、上記のように、ゲートラインDLを、その一側に隣
接する列の画素電極2の薄膜トランジスタ3と、他側に
隣接する列の画素電極2の薄膜トランジスタ3とに同時
にゲート信号を供給する共用ラインとして、このゲート
ラインDLの両側の列の画素電極2の薄膜トランジスタ
3をいずれも前記画素電極間のゲートラインDLにつな
ぐとともに、データラインDLを各画素電極行の間にそ
れぞれ2本ずつ配線して、同じゲートラインGLにつな
がる薄膜トランジスタのうち、ゲートラインGLの一側
の列の画素電極2の薄膜トランジスタ3を画素電極行の
一側に隣接するデータラインDLに、他側の列の画素電
極2の薄膜トランジスタ3を前記画素電極行の他側に隣
接するデータラインDLにつないでおけば、全ての画素
電極2の薄膜トランジスタ3を駆動することができる。In the above-mentioned TFT panel, there is only one gate line DL between every two columns of pixel electrodes. However, as described above, the gate line DL is connected to the pixel electrode of a column adjacent to one side thereof. 2 and the thin film transistor 3 of the pixel electrode 2 in the column on both sides of the gate line DL as a shared line for simultaneously supplying a gate signal to the thin film transistor 3 of the other column and the thin film transistor 3 of the pixel electrode 2 in the column adjacent to the other side. The thin film transistors connected to the same gate line GL are connected to the gate lines DL between the pixel electrodes, and two data lines DL are arranged between each pixel electrode row. The thin film transistor 3 of the pixel electrode 2 in the other column is connected to the thin film transistor 3 of the electrode 2 on the data line DL adjacent to one side of the pixel electrode row. If connect the data 3 to the data lines DL adjacent to the other side of the pixel electrode row, it is possible to drive the TFT 3 of all the pixel electrodes 2.
【0026】すなわち、上記TFTパネルを用いるアク
ティブマトリックス液晶表示素子は、各ゲートラインG
Lに順次ゲート信号(走査信号)を印加して薄膜トラン
ジスタ3を画素電極2列分ずつ同時にONさせ、これに
同期させて2本のデータラインDLに画素電極2列分の
データ信号をそれぞれ印加する駆動方法で時分割駆動す
ることができる。That is, the active matrix liquid crystal display device using the above-mentioned TFT panel is provided with each gate line G
L, a gate signal (scanning signal) is sequentially applied to turn on the thin film transistors 3 by two columns of pixel electrodes simultaneously, and in synchronization with this, data signals of two columns of pixel electrodes are applied to two data lines DL, respectively. Time-division driving can be performed by a driving method.
【0027】そして、このアクティブマトリックス液晶
表示素子は、上記のように1本のゲートラインGLで2
列の画素電極2の薄膜トランジスタ3を駆動できるた
め、駆動デューティを稼ぐことができ、したがってゲー
トライン数を多くできるから、大画面化が可能である。This active matrix liquid crystal display element has two gate lines GL as described above.
Since the thin film transistors 3 of the pixel electrodes 2 in a column can be driven, a drive duty can be increased, and the number of gate lines can be increased, so that a large screen can be realized.
【0028】[0028]
【発明の効果】本発明のTFTパネルによれば、ゲート
ラインを画素電極2列おきの列間にそれぞれ1本ずつ配
線し、前記ゲートラインの両側の列の画素電極の薄膜ト
ランジスタをいずれも前記画素電極間のゲートラインに
つなぐとともに、データラインは各画素電極行の間にそ
れぞれ2本ずつ配線して、同じゲートラインにつながる
前記薄膜トランジスタのうち、前記ゲートラインの一側
の列の画素電極の薄膜トランジスタは前記画素電極行の
一側に隣接するデータラインに、他側の列の画素電極の
薄膜トランジスタは前記画素電極行の他側に隣接するデ
ータラインにつなぎ、かつ、前記2列の画素電極間に対
応させて、その両方の列の画素電極にまたがる幅のキャ
パシタラインを設け、このキャパシタラインと前記2列
の画素電極との間にそれぞれストレージキャパシタを形
成しているため、画素電極列数のほぼ半数のキャパシタ
ラインを形成するだけで、全ての画素電極にストレージ
キャパシタを形成することができる。According to the TFT panel of the present invention, one gate line is wired between every two columns of pixel electrodes, and the thin film transistors of the pixel electrodes in the columns on both sides of the gate line are connected to the pixel. The data line is connected to the gate line between the electrodes, and two data lines are arranged between each pixel electrode row. Of the thin film transistors connected to the same gate line, the thin film transistor of the pixel electrode on one side of the gate line Is connected to the data line adjacent to one side of the pixel electrode row, the thin film transistor of the pixel electrode in the other side column is connected to the data line adjacent to the other side of the pixel electrode row, and between the pixel electrodes in the two columns. Correspondingly, a capacitor line having a width extending over the pixel electrodes in both columns is provided, and a capacitor line between the capacitor line and the pixel electrodes in the two columns is provided. Due to the respectively form a storage capacitor, only form a substantially half of the capacitor line of pixel electrode columns, it is possible to form the storage capacitor to all the pixel electrodes.
【図1】本発明の一実施例を示すTFTパネルの一部分
の平面図。FIG. 1 is a plan view of a part of a TFT panel showing one embodiment of the present invention.
【図2】上記TFTパネルの等価回路図。FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the TFT panel.
【図3】従来のTFTパネルの一部分の平面図。FIG. 3 is a plan view of a part of a conventional TFT panel.
【図4】従来のTFTパネルの等価回路図。FIG. 4 is an equivalent circuit diagram of a conventional TFT panel.
1…基板、2…画素電極、3…薄膜トランジスタ、GL
…ゲートライン、G…ゲート電極、4…ゲート絶縁膜、
5…半導体層、S…ソース電極、D…ドレイン電極、D
L…データライン、CL…キャパシタライン、Cs …ス
トレージキャパシタ。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 2 ... Pixel electrode, 3 ... Thin film transistor, GL
... gate line, G ... gate electrode, 4 ... gate insulating film,
5: semiconductor layer, S: source electrode, D: drain electrode, D
L: data line, CL: capacitor line, Cs: storage capacitor.
Claims (1)
された複数の画素電極と、これら画素電極にそれぞれつ
ながる複数の薄膜トランジスタと、これら薄膜トランジ
スタにつながる複数本のゲートラインおよびデータライ
ンと、前記画素電極との間にストレージキャパシタを形
成する複数本のキャパシタラインとを設けた薄膜トラン
ジスタパネルにおいて、 前記ゲートラインを画素電極2列おきの列間にそれぞれ
1本ずつ配線し、前記ゲートラインの両側の列の画素電
極の薄膜トランジスタをいずれも前記列間に配線された
ゲートラインにつなぐとともに、前記データラインは各
画素電極行の間にそれぞれ2本ずつ配線して、同じゲー
トラインにつながる前記薄膜トランジスタのうち、前記
ゲートラインの一側の列の画素電極の薄膜トランジスタ
は前記画素電極行の一側に隣接するデータラインに、他
側の列の画素電極の薄膜トランジスタは前記画素電極行
の他側に隣接するデータラインにつなぎ、かつ、異なる
ゲートラインに前記薄膜トランジスタを介してつながる
隣接した2列の画素電極間に対応させて、その両方の列
の画素電極にまたがる幅のキャパシタラインを設け、こ
のキャパシタラインと前記2列の画素電極との間にそれ
ぞれストレージキャパシタを形成したことを特徴とする
薄膜トランジスタパネル。A plurality of pixel electrodes arranged in a row direction and a column direction on a transparent substrate, a plurality of thin film transistors respectively connected to the pixel electrodes, a plurality of gate lines and data lines connected to the thin film transistors, In a thin film transistor panel provided with a plurality of capacitor lines forming a storage capacitor between the pixel electrode and the pixel electrode, one of the gate lines is wired between every two columns of the pixel electrode, and both sides of the gate line All of the thin film transistors of the pixel electrodes of the column are connected to the gate lines wired between the columns , and the data lines are wired two each between the pixel electrode rows, and are connected to the same gate line. Among the connected thin film transistors, a thin film transistor of a pixel electrode in a column on one side of the gate line. Njisuta the data line adjacent to one side of the pixel electrode row, the thin film transistor of the other side of the column of the pixel electrode connecting to the data line adjacent to the other side of the pixel electrode row, and different
Connected to the gate line via the thin film transistor
Capacitor lines having a width extending over the pixel electrodes of both columns are provided corresponding to the pixel electrodes of two adjacent columns, and storage capacitors are formed between the capacitor lines and the pixel electrodes of the two columns. A thin film transistor panel characterized by the above-mentioned.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35652591A JP3158587B2 (en) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | Thin film transistor panel |
| US08/336,015 US5457553A (en) | 1991-12-25 | 1994-11-08 | Thin-film transistor panel with reduced number of capacitor lines |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35652591A JP3158587B2 (en) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | Thin film transistor panel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05173188A JPH05173188A (en) | 1993-07-13 |
| JP3158587B2 true JP3158587B2 (en) | 2001-04-23 |
Family
ID=18449462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35652591A Expired - Fee Related JP3158587B2 (en) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | Thin film transistor panel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3158587B2 (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101152135B1 (en) | 2005-09-12 | 2012-06-15 | 삼성전자주식회사 | Liquid crystal display and driving method thereof |
| KR101319272B1 (en) * | 2006-03-14 | 2013-10-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | Liquid Crystal Display Device |
| JP2009092912A (en) * | 2007-10-09 | 2009-04-30 | Hitachi Displays Ltd | Liquid crystal display device |
| KR20100053949A (en) | 2008-11-13 | 2010-05-24 | 삼성전자주식회사 | Liquid crystal display |
| KR101925983B1 (en) * | 2011-12-14 | 2018-12-07 | 엘지디스플레이 주식회사 | Liquid crystal display device and method of fabricating thereof |
-
1991
- 1991-12-25 JP JP35652591A patent/JP3158587B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05173188A (en) | 1993-07-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5457553A (en) | Thin-film transistor panel with reduced number of capacitor lines | |
| JP3349935B2 (en) | Active matrix type liquid crystal display | |
| JP3069930B2 (en) | Liquid crystal display | |
| JPH05188395A (en) | Liquid crystal display element | |
| JPH06281959A (en) | Active matrix liquid crystal display | |
| JPH05303114A (en) | Liquid crystal display element | |
| US4772099A (en) | Capacitive electrode configuration for liquid crystal displays | |
| JPH0772509A (en) | Active matrix liquid crystal display device | |
| JP3158587B2 (en) | Thin film transistor panel | |
| JPH11352520A (en) | Active drive | |
| JP4198485B2 (en) | Electrode substrate for display device | |
| JPH0772506A (en) | Thin film transistor panel | |
| JP3724163B2 (en) | Liquid crystal display element and liquid crystal display device | |
| JPH09243999A (en) | Liquid crystal display | |
| JPH0784239A (en) | Liquid crystal display | |
| JPS63292114A (en) | Active matrix liquid crystal display device | |
| JP2523587B2 (en) | Active matrix type liquid crystal display device | |
| JP2541446B2 (en) | Active matrix panel | |
| JP3206666B2 (en) | Liquid crystal matrix display device | |
| JPS62278537A (en) | Display electrode array for active matrix display devices | |
| JP3405432B2 (en) | Liquid crystal display | |
| JPS62296123A (en) | Active-matrix type liquid-crystal display device | |
| JPH05173187A (en) | Thin film transistor panel | |
| JP2845487B2 (en) | Active matrix type liquid crystal display | |
| JP3270444B2 (en) | Liquid crystal matrix display device and driving method thereof |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |