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JP3116844B2 - Color plasma display panel and method of manufacturing the same - Google Patents

Color plasma display panel and method of manufacturing the same

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JP3116844B2
JP3116844B2 JP08322024A JP32202496A JP3116844B2 JP 3116844 B2 JP3116844 B2 JP 3116844B2 JP 08322024 A JP08322024 A JP 08322024A JP 32202496 A JP32202496 A JP 32202496A JP 3116844 B2 JP3116844 B2 JP 3116844B2
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JP
Japan
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insulating layer
layer
color filter
display panel
pigment
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哲治 岡島
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Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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    • H01J9/20Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
    • H01J9/205Applying optical coatings or shielding coatings to the vessel of flat panel displays, e.g. applying filter layers, electromagnetic interference shielding layers, anti-reflection coatings or anti-glare coatings
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    • H01J11/00Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J11/10AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma
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    • H01J11/20Constructional details
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    • H01J2211/444Means for improving contrast or colour purity, e.g. black matrix or light shielding means

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は情報表示端末や平面
型テレビなどに用いられるカラープラズマディスプレイ
パネルの、特に高コントラスト、高輝度、高発光効率化
のためのパネル構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color plasma display panel used for an information display terminal, a flat panel television, and the like, and particularly to a panel structure for high contrast, high luminance, and high luminous efficiency.

【0002】[0002]

【従来の技術】カラープラズマディスプレイパネルは、
ガス放電によって発生した紫外線によって、蛍光体を励
起発光させ、表示動作させるディスプレイである。放電
の形態からAC型とDC型に分けることができる。この
中でAC型は輝度、発光効率、寿命の点でDC型より優
れており、AC型の中でも反射型AC面放電型が輝度、
発光効率の点で優れている。
2. Description of the Related Art A color plasma display panel is
This is a display that performs a display operation by exciting and emitting a phosphor by ultraviolet light generated by gas discharge. The discharge type can be classified into an AC type and a DC type. Among them, the AC type is superior to the DC type in terms of luminance, luminous efficiency, and life, and among the AC types, the reflective AC surface discharge type has the luminance,
It is excellent in terms of luminous efficiency.

【0003】図14に従来の反射型AC面放電カラープ
ラズマディスプレイパネルの一例の断面を示す。表示面
側となる透明なガラス板である前面基板1上には、透明
電極2が形成される。この透明電極は紙面に平行な方向
に帯状に複数形成されている。この隣り合う透明電極2
の間に、数十kHzから数百kHzのパルス状AC電圧
を印加し表示放電を得る。
FIG. 14 shows a cross section of an example of a conventional reflection type AC surface discharge color plasma display panel. A transparent electrode 2 is formed on a front substrate 1 which is a transparent glass plate on the display surface side. A plurality of the transparent electrodes are formed in a band shape in a direction parallel to the paper surface. This adjacent transparent electrode 2
During this period, a pulsed AC voltage of several tens kHz to several hundreds kHz is applied to obtain a display discharge.

【0004】透明電極2には酸化錫(SnO2 )やイン
ジウムチンオキサイド(ITO)などが使用されるが、
低抵抗化のためにクロム/銅/クロムの多層薄膜やアル
ミニウム薄膜などの金属薄膜、あるいは銀などの金属厚
膜によるバス電極が沿設された電極が採用されている。
銀の厚膜で形成する場合、若干の黒色顔料を混合させる
ことが多い。ただし図14ではバス電極を省略してあ
る。
For the transparent electrode 2, tin oxide (SnO 2 ) or indium tin oxide (ITO) is used.
In order to reduce the resistance, a metal thin film such as a multilayer thin film of chromium / copper / chromium or an aluminum thin film, or an electrode provided with a bus electrode formed of a thick metal film such as silver is used.
When a thick silver film is formed, a slight amount of black pigment is often mixed. However, the bus electrode is omitted in FIG.

【0005】この透明電極2の上を、透明絶縁層17で
被覆する。この透明絶縁層17はAC型プラズマディス
プレイ特有の電流制限の機能を有している。絶縁耐圧や
製造の容易さのために、透明絶縁層17は通常低融点鉛
ガラスを主成分とするペーストを塗布し、軟化温度以上
の高温で焼成しリフローさせることによって形成する。
これによって内部に気泡などが含まない平滑な20ミク
ロン〜40ミクロン程度の厚さの透明絶縁層17が得ら
れる。この上に黒色のブラックマトリクス層30を形成
する。これは表示面の外光反射を低減する役割を果たす
と共に、隣接する放電セル間の、誤放電や光学的なクロ
ストークを防ぐ効果もある。このブラックマトリクス3
0も、通常は鉄、クロム、ニッケル等の金属酸化物粉末
と低融点鉛ガラスなどからなるペーストを、厚膜印刷な
どで形成することにより形成される。
The transparent electrode 2 is covered with a transparent insulating layer 17. This transparent insulating layer 17 has a current limiting function peculiar to the AC plasma display. The transparent insulating layer 17 is usually formed by applying a paste mainly composed of a low-melting-point lead glass, baking it at a high temperature equal to or higher than the softening temperature, and reflowing it for the purpose of withstand voltage and ease of manufacture.
As a result, a smooth transparent insulating layer 17 having a thickness of about 20 μm to 40 μm and containing no bubbles or the like is obtained. On this, a black matrix layer 30 of black color is formed. This has the effect of reducing external light reflection on the display surface and also has the effect of preventing erroneous discharge and optical crosstalk between adjacent discharge cells. This black matrix 3
0 is usually formed by forming a paste made of a metal oxide powder such as iron, chromium, nickel or the like and a low melting point lead glass by thick film printing or the like.

【0006】次に、透明絶縁層17やブラックマトリク
ス層30などの全体を被覆するように、保護層16を形
成する。保護層16は、蒸着やスパッタによって形成さ
れるMgOの薄膜又は印刷やスプレー法等によって形成
されるMgOの厚膜である。膜厚は0.5ミクロンから
2ミクロン程度である。この保護層の役割は放電電圧の
低減と表面スパッタの防止である。
Next, a protective layer 16 is formed so as to cover the whole of the transparent insulating layer 17 and the black matrix layer 30. The protective layer 16 is a thin film of MgO formed by vapor deposition or sputtering, or a thick film of MgO formed by printing, spraying, or the like. The film thickness is about 0.5 to 2 microns. The role of this protective layer is to reduce discharge voltage and prevent surface spatter.

【0007】一方、ガラス板である後面基板8上には、
表示データを書き込むデータ電極9が形成されている。
図14では紙面に垂直方向にデータ電極9が伸び、これ
が各放電セル18〜20毎に形成されている。すなわち
データ電極9は、ガラス板である前面基板1上に形成さ
れた透明電極2と直交している。このデータ電極9を、
低融点鉛ガラスと白色の顔料とを混合した厚膜ペースト
を印刷焼成して形成した白色絶縁層7で被覆する。白色
の顔料には通常酸化チタン粉末やアルミナ粉末が用いら
れる。この白色絶縁層7の上に白色隔壁6を通常厚膜印
刷やサンドブラスト法で形成し、更に放電セル18、放
電セル19及び放電セル20に、それぞれのセルの発光
色に対応する蛍光体(赤)10、蛍光体(緑)11及び
蛍光体(青)12を塗布する。各蛍光体は蛍光体塗布面
積を増やし高輝度を得るために、白色隔壁6の側面にも
形成される。各蛍光体の成膜には通常スクリーン印刷を
用いる。
On the other hand, on a rear substrate 8 which is a glass plate,
A data electrode 9 for writing display data is formed.
In FIG. 14, the data electrodes 9 extend in the direction perpendicular to the paper surface, and are formed for each of the discharge cells 18 to 20. That is, the data electrode 9 is orthogonal to the transparent electrode 2 formed on the front substrate 1 which is a glass plate. This data electrode 9 is
A thick film paste in which a low melting point lead glass and a white pigment are mixed is covered with a white insulating layer 7 formed by printing and baking. As the white pigment, titanium oxide powder or alumina powder is usually used. A white partition 6 is formed on the white insulating layer 7 by a normal thick film printing or a sand blast method, and a discharge cell 18, a discharge cell 19 and a discharge cell 20 are provided with a phosphor (red) corresponding to the emission color of each cell. ) 10, phosphor (green) 11 and phosphor (blue) 12 are applied. Each phosphor is also formed on the side surface of the white partition wall 6 in order to increase the phosphor application area and obtain high luminance. Normally, screen printing is used for forming each phosphor.

【0008】前述の前面基板1上に形成したブラックマ
トリクス層30のパターンと後面基板8上に形成した白
色隔壁6とが重なるように張り合わせ気密封止し、各放
電セル18〜20内部に放電可能なガス、例えばHeと
NeとXeとの混合ガスを500torr程度の圧力で
封入する。
The above-mentioned pattern of the black matrix layer 30 formed on the front substrate 1 and the white partition 6 formed on the rear substrate 8 are bonded and hermetically sealed so as to be overlapped with each other, so that the discharge inside the discharge cells 18 to 20 can be performed. A gas such as a mixed gas of He, Ne and Xe is sealed at a pressure of about 500 torr.

【0009】図14において、各放電セル18〜20に
は透明電極2が2本ずつ配置され、この透明電極間で面
放電が発生し、放電セル(赤)18、放電セル(緑)1
9及び放電セル(青)20内にプラズマが生じる。この
とき発生する紫外光で蛍光体(赤)10、蛍光体(緑)
11及び蛍光体(青)12を励起し、可視光を発生さ
せ、前面基板1を通して表示発光を得る。
In FIG. 14, two transparent electrodes 2 are arranged in each of the discharge cells 18 to 20, and a surface discharge occurs between the transparent electrodes, and a discharge cell (red) 18 and a discharge cell (green) 1
9 and the discharge cell (blue) 20 generate plasma. The phosphor (red) 10 and the phosphor (green) are generated by ultraviolet light generated at this time.
Excitation of the phosphor 11 (blue) 12 generates visible light, and display light emission is obtained through the front substrate 1.

【0010】面放電を発生させる隣り合う透明電極2の
一組は、それぞれ走査電極と維持電極の役目を受け持っ
ている。実際のパネル駆動において、走査電極と維持電
極との間には、維持パルスが印加されている。書き込み
放電を発生させるときは、走査電極とデータ電極9との
間に電圧を印加して対向放電を発生させ、この放電が引
き続き印加される維持パルスによって面放電電極間に維
持放電が発生する。
[0010] A pair of adjacent transparent electrodes 2 for generating a surface discharge serve as a scanning electrode and a sustaining electrode, respectively. In actual panel driving, a sustain pulse is applied between the scan electrode and the sustain electrode. When a write discharge is generated, a voltage is applied between the scan electrode and the data electrode 9 to generate a counter discharge, and a sustain pulse is applied between the scan electrode and the data electrode 9 to generate a sustain discharge between the surface discharge electrodes.

【0011】また、図5に別の従来例を示す。これは図
14のブラックマトリクス30の膜厚をより高くし、隔
壁状の黒色隔壁5としたものである。基本的プロセスは
図14と同じである。黒色隔壁5は通常スクリーン印刷
やサンドブラスト法によって形成される。材料は低融点
鉛ガラス、アルミナ等のフィラー材料、そして黒色の顔
料である。黒色の顔料はブラックマトリクス30と同様
のものを用いる。この構造は図14の構造よりも蛍光体
塗布面積が減るので、若干輝度が低下するが、白色隔壁
6の頂部の蛍光体が前面基板1に沿って発生する面放電
からある程度の距離がとれるので、長時間点灯による輝
度変化が少ない長所がある。
FIG. 5 shows another conventional example. This is a configuration in which the thickness of the black matrix 30 in FIG. The basic process is the same as in FIG. The black partition 5 is usually formed by screen printing or sandblasting. The material is a low melting point lead glass, a filler material such as alumina, and a black pigment. The same black pigment as the black matrix 30 is used. In this structure, the phosphor application area is smaller than in the structure of FIG. 14, so that the brightness is slightly lowered. However, since the phosphor at the top of the white partition wall 6 has a certain distance from the surface discharge generated along the front substrate 1. Another advantage is that there is little change in luminance due to long-time lighting.

【0012】カラープラズマディスプレイパネルで用い
られる蛍光体は、反射率が非常に高い白色の粉末であ
る。上述した図14もしくは図5の従来のカラープラズ
マディスプレイパネルでは、室内や屋外の光(外光)が
パネルに入射すると、ブラックマトリクスまたは黒色隔
壁やバス電極部で外光が吸収されるが、30%〜50%
程度は反射され、コントラストや色純度が著しく損なわ
れる。このためパネル面に透過率40〜80%程度のN
Dフィルターを配置する方法もあるが、パネルの発光も
遮るため、パネル輝度が低下するという欠点がある。
The phosphor used in the color plasma display panel is a white powder having a very high reflectance. In the conventional color plasma display panel of FIG. 14 or FIG. 5 described above, when indoor (outdoor) light (outside light) enters the panel, the outside light is absorbed by the black matrix or black partition or the bus electrode portion. % To 50%
The degree is reflected and the contrast and color purity are significantly impaired. For this reason, a panel surface having a transmittance of about 40 to 80% of N
Although there is a method of arranging a D filter, there is a drawback that panel luminance is reduced because light emission of the panel is also blocked.

【0013】パネル輝度をできるだけ減らさずに、外光
の反射を押さえる方法として、マイクロカラーフィルタ
ーを用いる方法がある。これは赤、緑、青の各放電セル
からの発光色に対応して、表示面側に赤、緑、青の光を
透過するカラーフィルターを形成するものである。プラ
ズマディスプレイのマイクロカラーフィルターは、直接
ガラス基板表面に形成する方法とAC型プラズマディス
プレイの絶縁層を着色されたガラス層で構成する方法が
知られている。後者の方法を用いたカラープラズマディ
スプレイパネルの従来例の断面を図15に示す。これは
放電セル(赤)18、放電セル(緑)19及び放電セル
(青)20の発光色を通すカラーフィルターを透明電極
上2に形成したものである。図14との構造上の違いは
放電電極を被覆する透明絶縁層17を、着色された低融
点鉛ガラス層からなるカラーフィルター(赤)13、カ
ラーフィルター(緑)14及びカラーフィルター(青)
15に置き換えた点である。この構造は例えば特開平4
−36930号公報で知られている。これにより各放電
セル18〜20が発した光の減衰は最小限に押さえら
れ、かつ外光の反射も抑え、コントラストが向上する。
As a method for suppressing the reflection of external light without reducing the panel luminance as much as possible, there is a method using a micro color filter. This is to form a color filter that transmits red, green, and blue light on the display surface side corresponding to the emission colors from the red, green, and blue discharge cells. As a micro color filter of a plasma display, a method of directly forming a micro color filter on a glass substrate surface and a method of forming an insulating layer of an AC type plasma display with a colored glass layer are known. FIG. 15 shows a cross section of a conventional example of a color plasma display panel using the latter method. In this example, a color filter that allows the emission colors of the discharge cells (red) 18, the discharge cells (green) 19, and the discharge cells (blue) 20 to be formed on the transparent electrode 2. 14 differs from FIG. 14 in that the transparent insulating layer 17 covering the discharge electrode is provided with a color filter (red) 13, a color filter (green) 14, and a color filter (blue) composed of a colored low melting point lead glass layer.
15 is replaced. This structure is described in, for example,
No. 36930. As a result, the attenuation of the light emitted from each of the discharge cells 18 to 20 is minimized, the reflection of external light is suppressed, and the contrast is improved.

【0014】カラーフィルター13〜15は、通常低融
点鉛ガラス粉末と顔料粉末とを混合し、それに有機溶剤
とバインダーとを混ぜたフィルターペーストを、スクリ
ーン印刷で各色ごとに印刷し、焼成することにより、着
色された低融点鉛ガラスの絶縁層として形成される。な
お、顔料粉末は高温(500℃〜600℃)の焼成プロ
セスに耐える必要があるため、無機の材料が選ばれる。
代表的な顔料粉末を次に示す。
The color filters 13 to 15 are usually prepared by mixing a low melting point lead glass powder and a pigment powder, printing a filter paste containing an organic solvent and a binder for each color by screen printing, and baking. , Formed as an insulating layer of colored low melting point lead glass. In addition, since the pigment powder needs to withstand a firing process at a high temperature (500 ° C. to 600 ° C.), an inorganic material is selected.
Representative pigment powders are shown below.

【0015】 赤:Fe2 3 系 緑:CoO−Al2 3 −TiO2 −Cr2 3 系 青:CoO−Al2 3 系 上記フィルターペーストは赤、緑、青の3色に対応して
3回に分けて印刷を行なうことにより全体のカラーフィ
ルター層を形成する。
Red: Fe 2 O 3 system Green: CoO—Al 2 O 3 —TiO 2 —Cr 2 O 3 system Blue: CoO—Al 2 O 3 system The above filter paste corresponds to three colors of red, green and blue. Then, printing is performed three times to form the entire color filter layer.

【0016】同様な構造でブラックマトリクス30の代
わりに、黒色隔壁5を形成した場合を図6に示す。
FIG. 6 shows a case where a black partition 5 is formed in place of the black matrix 30 with the same structure.

【0017】このカラーフィルター層は十分な絶縁耐圧
を有する絶縁層としても機能させるために厚さも20ミ
クロン以上必要となり、カラーフィルター各色ごとの継
ぎ目に窪みや盛り上がりの段差ができてしまう。これは
絶縁破壊や、後工程のブラックマトリクスや黒色隔壁の
プロセスにも悪影響を与える。
This color filter layer needs to have a thickness of 20 μm or more in order to function as an insulating layer having a sufficient withstand voltage, so that dents and bulges are formed at seams for each color of the color filter. This also has an adverse effect on dielectric breakdown and a process of a black matrix and a black partition wall in a later process.

【0018】上記の様な悪影響を避けるために、特開平
7−21924号公報では図7の様に着色された低融点
鉛ガラスのカラーフィルター13〜15の上を更に透明
絶縁層4で被覆してカラーフィルターの表面全体を平滑
化する方法が知られている。また、図15や図6の構造
を実現するため、特開平4−249032号公報では、
各色の着色顔料を塗り分けて配置した後、低融点鉛ガラ
スペーストを全面に印刷し、焼成することによりガラス
層内に顔料を拡散分散させる方法が開示されている。
In order to avoid the above-mentioned adverse effects, Japanese Patent Laid-Open Publication No. Hei 7-21924 discloses that a transparent insulating layer 4 further covers the colored filters 13 to 15 of low melting point lead glass colored as shown in FIG. There is known a method for smoothing the entire surface of a color filter. Further, in order to realize the structure shown in FIGS. 15 and 6, in Japanese Patent Application Laid-Open No. H4-249032,
A method is disclosed in which a low-melting-point lead glass paste is printed on the entire surface after the coloring pigments of each color are separately applied and baked to diffuse and disperse the pigment in the glass layer.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】従来の顔料粉末を低融
点鉛ガラスの中に分散させて構成されたカラーフィルタ
ー層は、顔料と低融点鉛ガラスの屈折率が異なるため
に、光の散乱を生じる。このためフィルターの平行光線
透過率が悪くなると言う欠点があった。ここで言う平行
光線透過率とは、フィルターをほぼ直線的に透過する光
の透過率で、フィルターによって散乱される光の成分は
含まない。この様にカラーフィルター層の散乱性が大き
いので、外光が後方散乱される。このためにカラーフィ
ルターとしての効果を損なってしまう。即ち、白濁した
画面表示となり、またカラーフィルター自身の色がより
強く見えるため、特に黒表示の場合など違和感を与えて
しまう欠陥があった。また、放電セルからの発光色もカ
ラーフィルターによる散乱のため減じられてしまい、輝
度が低下する問題があった。また、使用する材料やプロ
セス条件により、均一に顔料が低融点鉛ガラス膜中に分
散せず凝集してしまうことも多く、カラーフィルターと
しての性能が極端に悪化する場合もあった。また、着色
顔料が低融点鉛ガラスに分散された場合、ガラスとの反
応により、退色を生じたり、色が変化してしまう問題も
あった。
A conventional color filter layer formed by dispersing a pigment powder in a low-melting-point lead glass has a problem that light is scattered because the pigment and the low-melting-point lead glass have different refractive indices. Occurs. For this reason, there is a disadvantage that the parallel light transmittance of the filter is deteriorated. The term “parallel light transmittance” as used herein refers to a transmittance of light that passes through a filter almost linearly, and does not include a component of light scattered by the filter. Since the color filter layer has a large scattering property, the external light is backscattered. For this reason, the effect as a color filter is impaired. In other words, the screen becomes cloudy and the color of the color filter itself looks more intense. Further, there is a problem that the emission color from the discharge cell is reduced due to scattering by the color filter, and the luminance is reduced. Further, depending on the materials used and the process conditions, the pigment is often not uniformly dispersed in the low-melting-point lead glass film and aggregates, and the performance as a color filter may be extremely deteriorated. Further, when the color pigment is dispersed in the low melting point lead glass, there is a problem that the color is changed or the color is changed due to the reaction with the glass.

【0020】更に、詳細に実験した結果では、顔料によ
りITOやネサ膜からなる透明電極と顔料が高温での焼
成時に反応しカラーフィルター性能を損なう場合もあっ
た。例えば、青色の顔料として優れているCoO−Al
2 3 系の顔料では焼成工程により、波長400nm付近
で光の吸収が生じ、青のフィルターとしての透過率が大
幅に下がり、パネル輝度の低下や、色バランスの崩れを
招いてしまうという問題があった。また、Fe2 3
の顔料を用いる赤フィルターペーストにおいても透明電
極との反応により、大幅な退色が起きるという問題があ
り、カラーフィルターの機能が減殺されていた。これら
の現象は直接的な反応か、透明導電膜材料の触媒的作用
なのかは不明であるが、良好なカラーフィルターの実現
には解決すべき問題である。
Further, as a result of a detailed experiment, the transparent electrode made of ITO or Nesa film reacts with the pigment at the time of firing at a high temperature, and the color filter performance may be impaired. For example, CoO-Al which is excellent as a blue pigment
In the case of 2 O 3 pigments, the baking process causes light absorption at a wavelength of about 400 nm, which significantly reduces the transmittance as a blue filter, which leads to a reduction in panel luminance and a loss of color balance. there were. Further, the red filter paste using the Fe 2 O 3 pigment also has a problem that a large amount of discoloration occurs due to the reaction with the transparent electrode, and the function of the color filter is reduced. It is unknown whether these phenomena are a direct reaction or a catalytic action of the transparent conductive film material, but it is a problem to be solved to realize a good color filter.

【0021】上述のようにカラーフィルターとしての性
能低下以外に、着色顔料を低融点鉛ガラスに分散させる
構成では、焼成によるリフローを伴うことになるため、
微細なカラーフィルターパターンがずれたり、所定の画
素から周りに広がってしまったりする問題も生じた。
As described above, in addition to the performance degradation as a color filter, in a configuration in which a coloring pigment is dispersed in a low-melting-point lead glass, reflow by firing is involved.
There also arise problems that the fine color filter pattern shifts or spreads from a predetermined pixel to the periphery.

【0022】これらの課題のため、良好なカラーフィル
ターの付いた表示性能の良いカラープラズマディスプレ
イパネルが実用化されていなかった。
Due to these problems, a color plasma display panel with a good display performance and a good color filter has not been put to practical use.

【0023】以上述べたように本発明の目的は、カラー
フィルターの平行光線透過率を高め画面の白濁感等の違
和感を低減させる事や、顔料粉末と透明電極材料、又は
顔料粉末と低融点鉛ガラスとの反応による透過スペクト
ルの変化を防止し、良好な特性のカラーフィルターを実
現させることにある。
As described above, an object of the present invention is to increase the parallel light transmittance of a color filter to reduce discomfort such as white turbidity on a screen, or to use a pigment powder and a transparent electrode material, or a pigment powder and a low melting point lead. An object of the present invention is to prevent a change in transmission spectrum due to reaction with glass and realize a color filter having good characteristics.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】本発明に係るAC型カラ
ープラズマディスプレイパネルは、絶縁層に被覆された
透明電極を有し、前記絶縁層が前記透明電極を直接被覆
するバッファー層とカラーフィルタの機能を有する絶縁
層とが積層された少なくとも2層構造を有する。
An AC type color plasma display panel according to the present invention has a transparent electrode coated on an insulating layer, and the insulating layer directly covers the transparent electrode with a buffer layer and a color filter. It has at least a two-layer structure in which an insulating layer having a function is stacked.

【0025】本発明に係るAC型カラープラズマディス
プレイパネルは、前記バッファー層が低融点鉛ガラス、
もしくはアルミナ、もしくは酸化珪素からなる。
In the AC type color plasma display panel according to the present invention, the buffer layer may be a low melting point lead glass,
Alternatively, it is made of alumina or silicon oxide.

【0026】本発明に係るAC型カラープラズマディス
プレイパネルは、前記透明電極が酸化錫、もしくはIT
Oからなる。
In the AC type color plasma display panel according to the present invention, the transparent electrode is preferably made of tin oxide or IT.
Consists of O.

【0027】本発明に係るAC型カラープラズマディス
プレイパネルは、前記カラーフィルターの機能を有する
絶縁層が低融点鉛ガラスと顔料粉末とを混合した混合物
を印刷して形成される。
In the AC type color plasma display panel according to the present invention, the insulating layer having the function of the color filter is formed by printing a mixture of a low melting point lead glass and a pigment powder.

【0028】本発明に係るAC型カラープラズマディス
プレイパネルは、前記カラーフィルターの機能を有する
絶縁層が顔料粉末を先に印刷焼成しこの上を透明な低融
点鉛ガラスで被覆焼成して形成される。
In the AC type color plasma display panel according to the present invention, the insulating layer having the function of the color filter is formed by printing and firing a pigment powder first, and coating and firing a transparent low melting point lead glass thereon. .

【0029】本発明に係るAC型カラープラズマディス
プレイパネルは、前記カラーフィルターの機能を有する
絶縁層が顔料粉末と感光性材料とを混合した混合物をフ
ォトリソグラフィー法によりパターン形成した後、透明
な低融点鉛ガラスで被覆焼成して形成される。
In the AC type color plasma display panel according to the present invention, the insulating layer having the function of the color filter is formed by patterning a mixture of a pigment powder and a photosensitive material by photolithography, and then forming a transparent low melting point. It is formed by coating and firing with lead glass.

【0030】本発明に係るAC型カラープラズマディス
プレイパネルは、表示面側となる前面基板に少なくとも
放電電極と絶縁層を有し、前記絶縁層に接するか、ある
いは前記絶縁層の内部に、顔料微粒子を主成分とする薄
いカラーフィルター層が形成されている。
An AC type color plasma display panel according to the present invention has at least a discharge electrode and an insulating layer on a front substrate which is a display surface side, and has pigment fine particles in contact with the insulating layer or inside the insulating layer. Is formed as a thin color filter layer.

【0031】本発明に係るAC型カラープラズマディス
プレイパネルは、前記絶縁層上に前記顔料微粒子を主成
分とする薄いカラーフィルター層が形成されている。
In the AC type color plasma display panel according to the present invention, a thin color filter layer containing the pigment fine particles as a main component is formed on the insulating layer.

【0032】本発明に係るAC型カラープラズマディス
プレイパネルは、放電電極上を含む基板上に前記顔料微
粒子を主成分とする薄いカラーフィルター層が形成され
た後、前記絶縁層がカラーフィルター層を覆って形成さ
れている。
In the AC color plasma display panel according to the present invention, after a thin color filter layer mainly composed of the pigment fine particles is formed on a substrate including a discharge electrode, the insulating layer covers the color filter layer. It is formed.

【0033】本発明に係るAC型カラープラズマディス
プレイパネルは、放電電極上を含む基板上に前記絶縁層
を形成した後、前記顔料微粒子を主成分とする薄いカラ
ーフィルター層が形成され、更に前記カラーフィルター
層を覆って絶縁層が形成されている。
In the AC type color plasma display panel according to the present invention, after the insulating layer is formed on the substrate including the discharge electrode, a thin color filter layer containing the pigment fine particles as a main component is formed. An insulating layer is formed to cover the filter layer.

【0034】本発明に係るAC型カラープラズマディス
プレイパネルは、前記絶縁層が少なくとも2層以上の絶
縁層構成物からなり、且つ前記顔料微粒子を主成分とす
る薄いカラーフィルター層の少なくとも一方の面に接す
る絶縁層構成物の軟化点が、他の絶縁層構成物の内の少
なくとも一層の絶縁層構成物の軟化点より高い。
In the AC type color plasma display panel according to the present invention, the insulating layer comprises at least two or more insulating layer components, and is provided on at least one surface of the thin color filter layer containing the pigment fine particles as a main component. The softening point of the contacting insulating layer component is higher than the softening point of at least one of the other insulating layer components.

【0035】本発明に係るAC型カラープラズマディス
プレイパネルは、前記顔料微粒子を主成分とする薄いカ
ラーフィルター層の厚さが0.5〜5ミクロンである。
In the AC color plasma display panel according to the present invention, the thin color filter layer containing the pigment fine particles as a main component has a thickness of 0.5 to 5 μm.

【0036】本発明に係るAC型カラープラズマディス
プレイパネルは、前記顔料微粒子を主成分とする薄いカ
ラーフィルター層の厚さが0.5〜3ミクロンである。
In the AC type color plasma display panel according to the present invention, the thin color filter layer mainly composed of the pigment fine particles has a thickness of 0.5 to 3 μm.

【0037】本発明に係るAC型カラープラズマディス
プレイパネルは、前記顔料微粒子を主成分とする薄いカ
ラーフィルター層が平均粒径0.01〜0.15ミクロ
ンの顔料粉末で形成されている。
In the AC type color plasma display panel according to the present invention, the thin color filter layer containing the pigment fine particles as a main component is formed of pigment powder having an average particle size of 0.01 to 0.15 μm.

【0038】本発明に係るカラープラズマディスプレイ
パネルの製造方法は、前記絶縁層が少なくとも2層以上
から構成され、前記カラーフィルター層を直接上から覆
う絶縁層を前記カラーフィルター層に悪影響を与えない
温度で焼成を行う第一の焼成工程と、他の絶縁層の内の
少なくとも一層の焼成温度を前記第一の焼成工程より高
くした第二の焼成工程との少なくとも二つの焼成工程を
含む。
[0038] In the method of manufacturing a color plasma display panel according to the present invention, the insulating layer is formed of at least two layers, and the insulating layer directly covering the color filter layer from above does not adversely affect the color filter layer. And a second firing step in which the firing temperature of at least one of the other insulating layers is higher than that of the first firing step.

【0039】[0039]

【発明の実施の形態】 (第一の実施形態)本発明の第一の発明の実施の形態の
カラープラズマディスプレイパネルの断面構造を図8に
示し、説明する。後面基板は従来例で示した図14に全
く同じであり、後面基板8に、データ電極9、や白色隔
壁6、蛍光体(赤)10、蛍光体(緑)11、蛍光体
(青)12などが順次作成され、各発光色の放電セル1
8、19、20となる空間を形成した。白色隔壁6は例
えば350ミクロンピッチとし、白色隔壁6の幅は約8
0ミクロンである。前面基板1上には透明電極2と、こ
の上に低抵抗化のための金属バス電極を形成した(図示
せず)。次に、低融点鉛ガラスのペーストをスクリーン
印刷し、約580℃で焼成することにより、約25ミク
ロンの厚さの溶融したガラス層からなる透明絶縁層17
を形成した。この基板上に、各色のカラーフィルター層
を以下の工程により形成した。酸化鉄を主成分とする赤
色の微粒子顔料にバインダーと溶剤を調合したペースト
を1.05mmピッチ、幅約390ミクロンのストライプ
状にスクリーン印刷し、約150℃で溶剤を蒸発させ乾
燥した。引き続き、コバルト、クロム、アルミニウム、
チタンの酸化物を主成分とする緑色の微粒子顔料にバイ
ンダーと溶剤を調合したペーストを用い、既に印刷され
ている赤色顔料パターンから350ミクロン平行移動し
た位置に隣接してスクリーン印刷し、乾燥した。最後
に、コバルトとアルミニウムの酸化物微粒子を主成分と
する青色の顔料とバインダー、溶剤からなるペーストを
同様の方法で印刷、乾燥した。この3回の着色顔料の印
刷により、表示部に相当する部分を全面各色の顔料で覆
ったのち、約520℃で焼成した。この工程により、顔
料微粒子層(赤)25、顔料微粒子層(緑)26、顔料
微粒子層(青)27が形成される。
(First Embodiment) A cross-sectional structure of a color plasma display panel according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The rear substrate is exactly the same as that of the conventional example shown in FIG. 14, and the rear substrate 8 has a data electrode 9, a white partition 6, a phosphor (red) 10, a phosphor (green) 11, a phosphor (blue) 12 Are sequentially created, and the discharge cells 1 of each emission color are formed.
8, 19, and 20 spaces were formed. The white partition 6 has a pitch of, for example, 350 microns, and the width of the white partition 6 is about 8
0 microns. A transparent electrode 2 was formed on a front substrate 1, and a metal bus electrode for lowering the resistance was formed thereon (not shown). Next, the paste of the low melting point lead glass is screen-printed and baked at about 580 ° C. to form a transparent insulating layer 17 made of a molten glass layer having a thickness of about 25 μm.
Was formed. On this substrate, a color filter layer of each color was formed by the following steps. A paste prepared by mixing a binder and a solvent with a red fine particle pigment containing iron oxide as a main component was screen-printed in a stripe shape having a pitch of 1.05 mm and a width of about 390 μm, and the solvent was evaporated at about 150 ° C. and dried. Subsequently, cobalt, chromium, aluminum,
Using a paste prepared by mixing a binder and a solvent with a green fine particle pigment mainly composed of titanium oxide, screen printing was performed adjacent to a position shifted 350 microns in parallel from the already printed red pigment pattern, and dried. Finally, a paste composed of a blue pigment mainly containing cobalt and aluminum oxide fine particles, a binder, and a solvent was printed and dried by the same method. By printing the coloring pigment three times, a portion corresponding to the display portion was entirely covered with pigments of each color, and then baked at about 520 ° C. By this step, a pigment fine particle layer (red) 25, a pigment fine particle layer (green) 26, and a pigment fine particle layer (blue) 27 are formed.

【0040】低融点鉛ガラスの透明絶縁層17形成時の
焼成温度は、低融点鉛ガラスを溶融させ、内部に気泡の
無い、平滑で透明な絶縁層とするために高い温度で焼成
される。これに対し、絶縁層上の顔料微粒子層の焼成
は、低融点鉛ガラス層があまりリフローしない温度が選
ばれる。この焼成温度を高くした場合は、下地の低融点
鉛ガラスの絶縁層が流動することにより、良好な形状で
印刷された顔料層のパターンが変形したり、ひび割れが
生じる問題や、低融点鉛ガラス層と顔料微粒子層が相互
に拡散することにより、散乱性が強くなったり、低融点
鉛ガラスとの反応によって透過スペクトルの変化を生
じ、カラーフィルターとしての良好な性能が損なわれて
しまう問題を生じる。従って、本発明の顔料微粒子を主
成分とする薄いカラーフィルター層を実現するために
は、顔料ペーストに含まれているバインダー成分が十分
分解、焼失する温度以上で、殆ど絶縁層がリフローしな
い温度以下とされた。本実施の形態では、絶縁層に使用
した低融点鉛ガラスの軟化点より約10℃高い520℃
の焼成温度とした。この温度では、顔料微粒子層のパタ
ーンを変形させる流動や拡散は生じないが、絶縁層表面
も少し軟化するために顔料微粒子層を強く固着させる効
果があった。焼成後のカラーフィルター層の厚さは約1
ミクロンから2ミクロンとした。もちろん、顔料微粒子
そのものはこの温度で溶融するものではないので、従来
のカラーフィルターのようにリフローによってパターン
が崩れることはない。
The firing temperature at the time of forming the transparent insulating layer 17 of the low-melting-point lead glass is a high temperature in order to melt the low-melting-point lead glass and to form a smooth and transparent insulating layer having no bubbles inside. On the other hand, for baking the pigment fine particle layer on the insulating layer, a temperature at which the low melting point lead glass layer does not reflow much is selected. If the firing temperature is increased, the underlying low-melting-point lead glass insulating layer flows, causing the pattern of the pigment layer printed in a good shape to be deformed or cracking. When the layer and the pigment fine particle layer are mutually diffused, the scattering property becomes strong, and the reaction with the low melting point lead glass causes a change in the transmission spectrum, thereby causing a problem that the good performance as a color filter is impaired. . Therefore, in order to realize a thin color filter layer containing the pigment fine particles of the present invention as a main component, the temperature is higher than the temperature at which the binder component contained in the pigment paste is sufficiently decomposed and burned, and lower than the temperature at which the insulating layer hardly reflows. And it was. In this embodiment, at 520 ° C., which is about 10 ° C. higher than the softening point of the low melting point lead glass used for the insulating layer.
Sintering temperature. At this temperature, no flow or diffusion that deforms the pattern of the pigment fine particle layer occurs, but the surface of the insulating layer is slightly softened, so that the effect of strongly fixing the pigment fine particle layer was obtained. The thickness of the color filter layer after firing is about 1
Micron to 2 microns. Of course, the pigment fine particles themselves are not melted at this temperature, so that the pattern does not collapse due to reflow unlike a conventional color filter.

【0041】次に、このカラーフィルター層の上に直接
MgO膜の保護層16を真空蒸着することにより、前面
基板を完成した。使用した無機顔料微粒子の粒径は0.
01から0.15ミクロン程度と非常に細かく、緻密な
層になっており、直接MgO膜を蒸着しても剥がれるこ
とはなかった。最後に、後面基板と組み合わせ封着、排
気、放電ガスの封入を行い、カラーフィルター付きのプ
ラズマディスプレイパネルを完成した。
Next, a front substrate was completed by vacuum-depositing a protective layer 16 of an MgO film directly on the color filter layer. The particle size of the used inorganic pigment fine particles is 0.
It was a very fine and dense layer of about 01 to 0.15 microns, and did not peel off even when the MgO film was directly deposited. Finally, combined with the rear substrate, sealing, exhausting, and sealing of discharge gas were performed to complete a plasma display panel with a color filter.

【0042】なお、大面積のプラズマディスプレイパネ
ルの場合、スクリーン印刷精度が不十分になることがあ
る。この時、隣接する顔料微粒子層パターン間に隙間が
生じると、著しく表示面がむら状になり品位が損なわれ
るために、本実施の形態では隣接する他の色の顔料微粒
子層とは約40ミクロン重なるように形成した。この重
なり部分は発光しない隔壁部上に来るため、重ねること
による不都合を生じないばかりか、かえって強く着色し
たブラックマトリクスとなるため外光下でのコントラス
ト改善に寄与した。勿論、製造の都合で各色の顔料微粒
子層を重ねないで形成しても良い。
In the case of a large-area plasma display panel, the screen printing accuracy may be insufficient. At this time, if a gap is formed between the adjacent pigment fine particle layer patterns, the display surface becomes significantly uneven and the quality is impaired. It formed so that it might overlap. Since the overlapping portion is located on the partition wall portion that does not emit light, not only does not cause any inconvenience due to the overlapping, but also a strongly colored black matrix contributes to the improvement of contrast under external light. Of course, the pigment fine particle layers of each color may be formed without overlapping for convenience of manufacture.

【0043】本実施の形態のプラズマディスプレイパネ
ルでは、カラーフィルター層が低融点鉛ガラスの絶縁層
内に分散されていないため、低融点鉛ガラスとの反応劣
化や散乱の発生がなく、また非常に微細粒径の顔料微粒
子を主成分とする薄い層となっているため平行透過率の
高い良好なカラーフィルター特性が得られた。
In the plasma display panel of the present embodiment, since the color filter layer is not dispersed in the low melting point lead glass insulating layer, there is no reaction deterioration or scattering with the low melting point lead glass, and very little. Because of the thin layer composed mainly of fine pigment particles having a fine particle diameter, good color filter characteristics with high parallel transmittance were obtained.

【0044】(第二の実施形態)上記の構造では、顔料
微粒子からなるカラーフィルター層の機械的強度は強く
ないために、後面基板との組立時の接触により、カラー
フィルター層が剥げ落ちたりする問題があった。また、
カラーフィルター形成後にブラックマトリクス層などの
形成が困難であった。そこで、第二の実施の形態とし
て、図9に透明絶縁層を形成する前にカラーフィルター
層を形成した例を示し説明する。前面基板1に、透明電
極2と金属バス電極(図示せず)を形成した後、各色の
カラーフィルター層を第一の実施形態と同様の方法で形
成した。酸化鉄を主成分とする赤色の微粒子顔料にバイ
ンダーと溶剤を調合したペーストを1.05mmピッチ、
幅約340ミクロンのストライプ状にスクリーン印刷
し、乾燥した。引き続き、コバルト、クロム、アルミニ
ウム、チタンの酸化物を主成分とする緑色の微粒子顔料
にバインダーと溶剤を調合したペーストを用い、既に印
刷されている赤色顔料パターンから350ミクロン平行
移動した位置に隣接してスクリーン印刷し、乾燥した。
最後に、コバルトとアルミニウムの酸化物微粒子を主成
分とする青色の顔料とバインダー、溶剤からなるペース
トを同様の方法で印刷、乾燥後、焼成しバインダを飛ば
し固着させた。この3回の着色顔料の印刷により、表示
部に相当する部分全面が約2ミクロンの厚さの赤、緑、
青の顔料微粒子層25、26、27で覆われる。この基
板上に、低融点鉛ガラスのペーストをスクリーン印刷、
乾燥後、焼成し第一の絶縁層28を形成した。更にこの
上に別の低融点鉛ガラスペーストを塗布し再び乾燥、焼
成を行い第二の絶縁層29を形成した。
(Second Embodiment) In the above structure, the color filter layer made of pigment fine particles does not have high mechanical strength, so that the color filter layer peels off due to contact during assembly with the rear substrate. There was a problem. Also,
It was difficult to form a black matrix layer and the like after forming the color filter. Therefore, as a second embodiment, an example in which a color filter layer is formed before forming a transparent insulating layer is described with reference to FIG. After a transparent electrode 2 and a metal bus electrode (not shown) were formed on the front substrate 1, color filter layers of each color were formed in the same manner as in the first embodiment. A paste prepared by mixing a binder and a solvent with a red fine particle pigment containing iron oxide as a main component, at a pitch of 1.05 mm,
It was screen-printed into a stripe of about 340 microns wide and dried. Subsequently, using a paste prepared by mixing a binder and a solvent with a green fine particle pigment mainly containing oxides of cobalt, chromium, aluminum, and titanium, and adjacent to a position shifted 350 μm from the already printed red pigment pattern. Screen printed and dried.
Lastly, a paste composed of a blue pigment mainly composed of cobalt and aluminum oxide fine particles, a binder, and a solvent was printed, dried, and fired in the same manner, and the binder was blown off and fixed. By printing the color pigments three times, the entire surface corresponding to the display portion has a red, green,
It is covered with blue pigment fine particle layers 25, 26, 27. A low-melting lead glass paste is screen-printed on this substrate,
After drying, firing was performed to form a first insulating layer 28. Further, another low melting point lead glass paste was applied thereonto, dried and fired again to form a second insulating layer 29.

【0045】この顔料微粒子層上の低融点鉛ガラスから
なる第一及び第二の絶縁層の形成には特に注意を要し
た。即ち、低融点鉛ガラス層の焼成温度が高い場合は、
焼成時に顔料微粒子がガラス層内に拡散したり、流動に
より顔料層のパターンが乱れてしまう。また、大きく流
動しない場合でもカラーフィルター層に亀裂が発生し
た。非常に幅の狭い亀裂の場合は実質的な影響は少ない
が、50ミクロンもの亀裂が発生する場合があった。こ
の亀裂部は透明であるためにフィルター機能を著しく低
下させる。亀裂の発生し易さには、顔料材料や粒径依存
性がみられ、特に、緑色の顔料や0.01ミクロン以下
の非常に細かい微粒子顔料の方が顕著であった。
The formation of the first and second insulating layers made of a low melting point lead glass on the pigment fine particle layer requires special attention. That is, when the firing temperature of the low melting point lead glass layer is high,
At the time of firing, the pigment fine particles are diffused into the glass layer, and the pattern of the pigment layer is disturbed by the flow. In addition, cracks occurred in the color filter layer even when it did not flow significantly. In the case of a very narrow crack, the effect is substantially small, but a crack as large as 50 microns may occur. Since the cracks are transparent, they significantly reduce the filter function. Dependence of the occurrence of cracks on the pigment material and particle size was observed. In particular, a green pigment and a very fine particle pigment of 0.01 μm or less were more remarkable.

【0046】本実施の形態では、この問題にも対処する
ために、低融点鉛ガラスの絶縁層を2層構造とした。即
ち、顔料微粒子層25〜27を直接覆う第一の絶縁層2
8には、第二の絶縁層29より軟化点の高い低融点鉛ガ
ラス粉末を使用した。実施の形態では、520℃の軟化
点のガラス粉末を原料としたペーストを顔料微粒子層上
に塗布し、乾燥後、535℃で焼成し、約7ミクロン程
度の薄い第一の絶縁層28を、顔料微粒子層を覆うよう
に形成した。この工程では、第一の絶縁層の焼成温度と
軟化点温度の差が少ないために、焼成時の低融点鉛ガラ
スの流動性が少なく顔料微粒子層のひび割れや、凝集、
ガラス層への分散、拡散などの悪影響を及ぼさない。し
かし、焼成温度が低いために、この第一の絶縁層28の
表面の平滑性はあまり良くなく、細かいうねりがあっ
た。また、微細なピンホールなどの欠陥も残っており、
絶縁層としての絶縁耐圧はあまり良いものではなかっ
た。そこで、第一の絶縁層28を形成後、軟化点の低い
低融点鉛ガラスからなるペーストを印刷、乾燥、焼成
し、第二の絶縁層29を形成した。焼成温度は、リフロ
ーし平滑な表面と、ピンホールや気泡のない耐圧の高い
絶縁層となる温度が選ばれている。実施の形態では軟化
点が490℃の低融点鉛ガラス材料を用い、570℃で
焼成を行った。カラーフィルター層となる顔料微粒子層
が既に軟化点温度の高い第一の絶縁層28で覆われてい
るため、第二の絶縁層29の焼成時においても、顔料の
拡散などが生じず、薄い顔料層の形状を維持していた。
また、流動に伴う顔料パターンの変形やひび割れも生じ
なかった。
In the present embodiment, in order to cope with this problem, the insulating layer of low melting point lead glass has a two-layer structure. That is, the first insulating layer 2 directly covering the pigment fine particle layers 25 to 27
For No. 8, a low melting point lead glass powder having a higher softening point than the second insulating layer 29 was used. In the embodiment, a paste made of glass powder having a softening point of 520 ° C. as a raw material is applied on the pigment fine particle layer, dried, and fired at 535 ° C. to form a thin first insulating layer 28 of about 7 μm. It was formed so as to cover the pigment fine particle layer. In this step, since the difference between the sintering temperature and the softening point temperature of the first insulating layer is small, the flowability of the low-melting lead glass during sintering is low and the pigment fine particle layer has cracks, aggregation,
Does not adversely affect the glass layer, such as dispersion and diffusion. However, since the firing temperature is low, the smoothness of the surface of the first insulating layer 28 is not so good, and there is fine waviness. Also, defects such as fine pinholes remain,
The dielectric strength as an insulating layer was not very good. Therefore, after forming the first insulating layer 28, a paste made of a low melting point lead glass having a low softening point was printed, dried, and fired to form the second insulating layer 29. The firing temperature is selected to be a temperature at which a reflowed and smooth surface and a high pressure-resistant insulating layer free of pinholes and bubbles are formed. In the embodiment, a low-melting-point lead glass material having a softening point of 490 ° C. is used, and firing is performed at 570 ° C. Since the pigment fine particle layer serving as the color filter layer is already covered with the first insulating layer 28 having a high softening point temperature, even when the second insulating layer 29 is fired, diffusion of the pigment does not occur, and a thin pigment layer is formed. The shape of the layer was maintained.
In addition, neither deformation nor cracking of the pigment pattern due to the flow occurred.

【0047】最後にMgO膜の保護層16を蒸着し前面
基板を完成した。後面基板と組み合わせ、放電ガスを封
入することにより、プラズマディスプレイパネルを完成
した。
Finally, a protective layer 16 of an MgO film was deposited to complete a front substrate. A plasma display panel was completed by combining with a rear substrate and filling a discharge gas.

【0048】(第三の実施形態)第3の発明の実施の形
態として、図10に電極上にまず透明な絶縁層であるバ
ッファー層3を形成してから、顔料微粒子層を形成し、
更に透明絶縁層を形成した例を示す。ガラス板である前
面基板1上に、透明電極2を形成し、さらにこの上に金
属バス電極(図10では省略)を形成した後、全面に低
融点鉛ガラスペーストを塗布し、乾燥、焼成することに
より、透明電極や金属電極を透明な絶縁層であるバッフ
ァー層3で覆う。このバッファー層3はこの後の顔料微
粉末層を形成する上での下地の役目を果たす。バッファ
ー層形成後、第2の実施の形態と同様の方法で、各色の
顔料微粒子層を形成した。即ち、顔料微粒子にバインダ
ーと溶剤を調合したペーストを1.05mmピッチ、幅約
340ミクロンのストライプ状にスクリーン印刷、乾燥
する工程を3色で繰り返し全面にパターン化された顔料
微粒子層25、26、27を形成した。この上から再び
低融点鉛ガラスペーストのスクリーン印刷塗布、乾燥、
焼成を2回行い、第一の絶縁層28と第二の絶縁層29
を形成した。ここで、顔料微粒子層に先だって形成した
下地層となるバッファー層3としては軟化点が520℃
のものを用い、570℃で焼成し十分リフローさせた。
顔料微粒子層を直接覆うように形成する第一の絶縁層2
8も軟化点が520℃の同じものを使用したが、焼成温
度は535℃とし、あまり流動しない状態の焼成とし
た。更にその上に形成した第二の絶縁層29は490℃
と軟化点の低い低融点鉛ガラスを使用し、焼成温度も5
70℃と高くした。この様にすることにより、第2の実
施の形態と同様に耐圧が十分高く、表面平滑性の良い絶
縁層を得ると共に、絶縁層形成に伴うカラーフィルター
特性の劣化を回避した。
(Third Embodiment) As an embodiment of the third invention, a buffer layer 3 which is a transparent insulating layer is first formed on an electrode in FIG. 10, and then a pigment fine particle layer is formed.
An example in which a transparent insulating layer is further formed will be described. After a transparent electrode 2 is formed on a front substrate 1 which is a glass plate, and a metal bus electrode (omitted in FIG. 10) is further formed thereon, a low-melting-point lead glass paste is applied to the entire surface, dried and fired. Thereby, the transparent electrode or the metal electrode is covered with the buffer layer 3 which is a transparent insulating layer. The buffer layer 3 serves as a base for forming the subsequent pigment fine powder layer. After the formation of the buffer layer, a pigment fine particle layer of each color was formed in the same manner as in the second embodiment. That is, a paste in which a binder and a solvent are mixed with pigment fine particles is screen-printed in a stripe shape having a pitch of 1.05 mm and a width of about 340 microns, and a process of drying is repeated in three colors. 27 was formed. From above, screen printing application of low melting point lead glass paste, drying,
The firing is performed twice, and the first insulating layer 28 and the second insulating layer 29 are formed.
Was formed. Here, the buffer layer 3 serving as an underlayer formed prior to the pigment fine particle layer has a softening point of 520 ° C.
Was fired at 570 ° C. and sufficiently reflowed.
First insulating layer 2 formed to directly cover pigment fine particle layer
8, the same softening point of 520 ° C. was used. Further, the second insulating layer 29 formed thereon has a temperature of 490 ° C.
And low-melting lead glass with a low softening point and a firing temperature of 5
The temperature was increased to 70 ° C. In this manner, similarly to the second embodiment, an insulating layer having a sufficiently high withstand voltage and excellent surface smoothness was obtained, and deterioration of the color filter characteristics due to the formation of the insulating layer was avoided.

【0049】本実施の形態と第2の実施の形態の主な相
違は、顔料微粒子層を形成する前に下地となる絶縁層を
形成することにある。この処理の効果として、まず第一
には均一性の向上があった。第2の実施の形態の場合で
は顔料微粒子層は異なる3種類の構成物(ガラス板、I
TOまたは酸化錫などの透明導電膜、バス電極の金属
膜)の表面を覆うために、印刷厚さむらや焼成工程で下
地材料と顔料材料の組み合わせによっては反応や凝集が
生じ不均一になる場合があった。特に、赤色顔料や青色
顔料でこの傾向が強かった。本実施の形態で示すよう
に、下地となるバッファー層3でガラス板部、透明電極
部、金属電極部を前面覆ってしまうことにより、上述の
問題は発生せず、良好なカラーフィルター層を得ること
ができた。この下地となるバッファー層は3ミクロン程
度の薄さでも十分下地効果を発揮した。勿論十分絶縁耐
圧を高くするために20ミクロン以上の厚い層としても
良い。この場合は本実施の形態の第2の絶縁層29を省
略し、実質的な耐圧特性を下地となるバッファー層に担
わせることもできる。
The main difference between this embodiment and the second embodiment is that an insulating layer serving as a base is formed before forming a pigment fine particle layer. First of all, as an effect of this treatment, uniformity was improved. In the case of the second embodiment, the pigment fine particle layer has three different types of components (glass plate, I
In order to cover the surface of a transparent conductive film such as TO or tin oxide, or the metal film of the bus electrode), when the printing thickness becomes uneven or the reaction or agglomeration occurs due to the combination of the base material and the pigment material in the firing process, resulting in unevenness. was there. In particular, this tendency was strong for red pigments and blue pigments. As described in the present embodiment, the above-described problem does not occur and a good color filter layer is obtained by covering the front surface of the glass plate portion, the transparent electrode portion, and the metal electrode portion with the buffer layer 3 serving as a base. I was able to. The buffer effect as the underlayer exerted a sufficient underlayer effect even with a thickness of about 3 microns. Of course, a thick layer of 20 microns or more may be used in order to sufficiently increase the withstand voltage. In this case, the second insulating layer 29 of the present embodiment can be omitted, and a substantial withstand voltage characteristic can be given to the buffer layer serving as a base.

【0050】図10には、MgO膜の保護層16を蒸着
する前に、各色のカラーフィルター層間に薄いブラック
マトリクス30を形成した例を図示した。ブラックマト
リクス30は発光しない白色隔壁部6を覆い隠すと共
に、着色顔料層のパターンずれなども隠すことができる
ために、コントラストと表示面の均一性に寄与した。
FIG. 10 shows an example in which a thin black matrix 30 is formed between the color filter layers of each color before the protective layer 16 of the MgO film is deposited. The black matrix 30 can cover the non-light-emitting white partition 6 and also hide the pattern shift of the color pigment layer, thereby contributing to the contrast and the uniformity of the display surface.

【0051】ここで上述した、焼成工程における顔料材
料と、顔料層を形成するときの下地材料との、組み合わ
せによって生じる反応について、詳しく説明する。ここ
で問題となる下地材料は、透明電極の材料である酸化錫
や、ITO(インジウムチンオキサイド)である。この
反応は顔料微粉末層を形成した場合でも発生することが
あるが、特に顔料粉末と低融点鉛ガラスを混合したペー
ストを透明電極上に印刷乾燥焼成したときに発生しやす
い。以下、顔料粉末を低融点鉛ガラスと混合して印刷乾
燥焼成した場合を例にとって、詳細に説明する。
Here, the reaction caused by the combination of the pigment material in the baking step and the base material for forming the pigment layer will be described in detail. The underlying material that poses a problem here is tin oxide or ITO (indium tin oxide), which is a material for the transparent electrode. Although this reaction may occur even when a pigment fine powder layer is formed, it is particularly likely to occur when a paste in which a pigment powder and a low melting point lead glass are mixed is printed on a transparent electrode and dried and fired. Hereinafter, the case where the pigment powder is mixed with a low melting point lead glass and printed, dried and fired will be described in detail as an example.

【0052】図1は本発明の第三の実施形態のもう一つ
の例である。この図1と対応する従来例は図7であり、
同じ部材は同じ符号で説明する。
FIG. 1 shows another example of the third embodiment of the present invention. FIG. 7 shows a conventional example corresponding to FIG.
The same members will be described with the same reference numerals.

【0053】図1のAC型カラープラズマディスプレイ
パネルと図7で示した従来のAC型カラープラズマディ
スプレイパネルとは、透明電極2を被覆する絶縁層の構
造が相異している。すなわち、図1のAC型カラープラ
ズマディスプレイパネルは、透明電極2の上にバッファ
ー層3を形成し、この上にカラーフィルター(赤)1
3、カラーフィルター(緑)14及びカラーフィルター
(青)15を放電セル(赤)18、放電セル(緑)1
9、放電セル(青)20の発光色に対応して形成し、そ
の上に透明絶縁層4を被覆する。
The structure of the insulating layer covering the transparent electrode 2 is different between the AC color plasma display panel of FIG. 1 and the conventional AC color plasma display panel shown in FIG. That is, in the AC type color plasma display panel of FIG. 1, a buffer layer 3 is formed on a transparent electrode 2 and a color filter (red) 1 is formed thereon.
3, the color filter (green) 14 and the color filter (blue) 15 are connected to the discharge cell (red) 18 and the discharge cell (green) 1
9. Formed corresponding to the emission color of the discharge cell (blue) 20, and cover the transparent insulating layer 4 thereon.

【0054】この時カラーフィルター(赤)13、カラ
ーフィルター(緑)14及びカラーフィルター(青)1
5は、通常低融点鉛ガラス粉末と顔料粉末とを混合し、
それに有機溶剤とバインダーとを混ぜたフィルターペー
ストをスクリーン印刷で各色ごとに印刷乾燥焼成して形
成される。顔料粉末の材料は上述の実施の形態で説明し
てきたものと同じでよい。従って顔料粉末は低融点鉛ガ
ラスの絶縁層の中に分散された形であり、顔料微粒子層
(赤)25、顔料微粒子層(緑)26、顔料微粒子層
(青)27とは全く別物で、記号の上でも区別して記載
した。
At this time, the color filter (red) 13, the color filter (green) 14, and the color filter (blue) 1
5 is usually a mixture of a low melting point lead glass powder and a pigment powder,
Then, a filter paste obtained by mixing an organic solvent and a binder is formed by printing, drying and baking for each color by screen printing. The material of the pigment powder may be the same as that described in the above embodiment. Accordingly, the pigment powder is in a form dispersed in an insulating layer of low melting point lead glass, and is completely different from the pigment fine particle layer (red) 25, the pigment fine particle layer (green) 26, and the pigment fine particle layer (blue) 27. Also distinguished and described on the symbols.

【0055】この構造ではバッファー層3があるため、
透明電極2とカラーフィルター13、14及び15とが
直接接触することはない。従って透明電極2の原料であ
る酸化錫(SnO2 ) 又はITOと、カラーフィルター
の主成分である無機顔料との間の反応を防ぐことができ
る。
In this structure, since the buffer layer 3 is provided,
There is no direct contact between the transparent electrode 2 and the color filters 13, 14, and 15. Therefore, it is possible to prevent a reaction between tin oxide (SnO 2 ) or ITO, which is a raw material of the transparent electrode 2, and an inorganic pigment, which is a main component of the color filter.

【0056】一方、バッファー層3を用いないで透明電
極2の上に直接カラーフィルターを形成したとすると、
透明電極2の中の酸化錫(SnO2 )又はITOとカラ
ーフィルターの主成分である無機顔料との間で反応が生
じる。この反応の詳細なメカニズムはまだ明らかにされ
てはいない。この反応によってカラーフィルターの透過
スペクトルがどの様に変化するかを以下に説明する。
On the other hand, if a color filter is formed directly on the transparent electrode 2 without using the buffer layer 3,
A reaction occurs between tin oxide (SnO 2 ) or ITO in the transparent electrode 2 and the inorganic pigment which is a main component of the color filter. The detailed mechanism of this reaction has not yet been elucidated. How the transmission spectrum of the color filter changes due to this reaction will be described below.

【0057】図3のグラフ中、符号21は従来例に従い
青い顔料を用いたカラーフィルター(青)15を酸化錫
(SnO2 )上に焼成したときの、透過スペクトル曲線
を示し、22は本発明の実施の形態に従い青い顔料を用
いたカラーフィルターを、低融点鉛ガラスのバッファー
層3上に焼成したときの透過スペクトル曲線を示す。カ
ラーフィルターペーストの焼成温度は550℃である。
In the graph of FIG. 3, reference numeral 21 indicates a transmission spectrum curve when a color filter (blue) 15 using a blue pigment is baked on tin oxide (SnO 2 ) according to the conventional example, and 22 indicates the present invention. 7 shows a transmission spectrum curve when a color filter using a blue pigment is baked on a buffer layer 3 of low melting point lead glass according to the embodiment of FIG. The firing temperature of the color filter paste is 550 ° C.

【0058】曲線21と22を較べてみると、曲線21
では400nm付近の波長の光がより強く吸収されている
ことが分かる。
When comparing the curves 21 and 22, the curve 21
It can be seen that light having a wavelength near 400 nm is more strongly absorbed.

【0059】青の蛍光体が発する光の波長は455nm付
近であるため上記吸収の影響を受け、SnO2 上に青フ
ィルターを焼成した場合には透過率が大幅に落ちる。図
3はその場合の透過率の変化を示すが、ITO上に焼成
した場合にもほぼ同様な透過スペクトルの変化が見られ
る。
Since the wavelength of the light emitted from the blue phosphor is around 455 nm, it is affected by the above-mentioned absorption, and when the blue filter is baked on SnO 2 , the transmittance is greatly reduced. FIG. 3 shows the change in the transmittance in that case, and almost the same change in the transmission spectrum can be seen when firing on ITO.

【0060】図4において、曲線23は従来例に従い赤
い顔料を用いたカラーフィルター(赤)13を酸化錫
(SnO2 )上に焼成したときの透過スペクトルを示
し、曲線24は本発明の実施の形態に従い赤フィルター
ペーストを低融点鉛ガラスのバッファー層3の上に焼成
したときの透過スペクトルを示す。ここでもカラーフィ
ルターペーストは550℃で焼成した。
In FIG. 4, a curve 23 shows a transmission spectrum when a color filter (red) 13 using a red pigment is baked on tin oxide (SnO 2 ) according to a conventional example, and a curve 24 shows an embodiment of the present invention. The transmission spectrum when the red filter paste is baked on the buffer layer 3 of low melting point lead glass according to the form is shown. Again, the color filter paste was fired at 550 ° C.

【0061】赤の蛍光体が発する光は610nm付近の波
長を有する。曲線24から分かるように、バッファー層
上に赤い顔料を用いたカラーフィルターを焼成したとき
は、610nm付近から短波長側の透過率が低下し、カラ
ーフィルターとしての機能を果たすが、酸化錫(SnO
2 )上に赤顔料を用いたカラーフィルターを焼成した場
合には曲線23に示されるように著しく退色し、400
nm付近までほとんど透過率が変化せずフィルターとして
の機能を果たせない。図4は酸化錫(SnO2)の透明
電極の場合の透過率の変化を示すが、ITOの上でもほ
ぼ同様な透過率の変化が見られる。
The light emitted by the red phosphor has a wavelength near 610 nm. As can be seen from the curve 24, when a color filter using a red pigment is baked on the buffer layer, the transmittance on the short wavelength side decreases from around 610 nm and the color filter functions as a color filter.
2 ) When a color filter using a red pigment was fired thereon, the color was remarkably faded as shown by curve 23,
The transmittance hardly changes up to around nm, and the filter cannot function as a filter. FIG. 4 shows a change in transmittance in the case of a transparent electrode of tin oxide (SnO 2 ), and almost the same change in transmittance is observed on ITO.

【0062】なお、緑のカラーフィルターに関しては、
透明電極上に焼成しても透過スペクトルの変化が認めら
れなかった。
As for the green color filter,
No change in the transmission spectrum was observed even after firing on the transparent electrode.

【0063】つまり図1のカラープラズマディスプレイ
パネルは、透明電極2とカラーフィルター13、14、
15とが直接接触しないように、透明電極2上にバッフ
ァー層3を形成することにより、透明電極2の原料であ
る酸化錫(SnO2 )又はITOとカラーフィルターの
主成分である無機顔料との反応を防ぎ、透過率の変化を
防いでいる。
That is, the color plasma display panel of FIG. 1 has the transparent electrode 2 and the color filters 13, 14,
By forming the buffer layer 3 on the transparent electrode 2 so that the transparent electrode 15 does not come into direct contact with the transparent electrode 2, tin oxide (SnO 2 ) or ITO as a raw material of the transparent electrode 2 and an inorganic pigment which is a main component of a color filter are formed. The reaction is prevented and the change in transmittance is prevented.

【0064】本実施の形態は、透明電極上に直接形成し
たカラーフィルターの透過スペクトルが変化する、とい
う全く新しい知見に基づいて成されたものである。
This embodiment is based on a completely new finding that the transmission spectrum of a color filter formed directly on a transparent electrode changes.

【0065】図2は本実施形態に係るAC型カラープラ
ズマディスプレイパネルの別の例の断面である。
FIG. 2 is a cross section of another example of the AC type color plasma display panel according to the present embodiment.

【0066】このカラープラズマディスプレイパネル
は、図7に示す従来のAC型カラープラズマディスプレ
イパネルと同様な基本的構造を有するが、カラーフィル
ター層13、14及び15の表面を平滑化するための透
明絶縁層4を取り去り、透明電極2と低融点鉛ガラス中
に顔料粉末を分散させているカラーフィルター層13、
14及び15との間にバッファー層3を挿入している点
で異なる。この場合にも、透明電極2とカラーフィルタ
ー層13〜15とが直接接触しないので透過率の変化が
生じない。
This color plasma display panel has a basic structure similar to that of the conventional AC type color plasma display panel shown in FIG. 7, but has a transparent insulating layer for smoothing the surfaces of the color filter layers 13, 14, and 15. The color filter layer 13 in which the layer 4 is removed and the pigment powder is dispersed in the transparent electrode 2 and the low melting point lead glass,
14 and 15 in that the buffer layer 3 is inserted. Also in this case, since the transparent electrode 2 does not directly contact the color filter layers 13 to 15, the transmittance does not change.

【0067】ここで説明した実施の形態におけるカラー
フィルター層は顔料と低融点鉛ガラスの混合物を印刷し
たものである。既に述べたように、顔料粉末だけを先に
印刷し、これを透明な低融点鉛ガラスで被覆して焼成す
ることによっても同様な効果が得られる。また顔料粉末
に感光性材料を混合して、フォトリソグラフィー法によ
ってカラーフィルター層を形成し透明な低融点鉛ガラス
で被覆して焼成することによっても同様な効果が得られ
る。
The color filter layer in the embodiment described here is obtained by printing a mixture of a pigment and a low melting point lead glass. As described above, a similar effect can be obtained by printing only the pigment powder first, coating this with a transparent low-melting-point lead glass, and firing. A similar effect can be obtained by mixing a photosensitive material with the pigment powder, forming a color filter layer by photolithography, coating with a transparent low-melting-point lead glass, and firing.

【0068】図1、図2、及び図10におけるバッファ
ー層3の材質として最も適しているのは低融点鉛ガラス
である。しかしこの他にもバッファー層3として、例え
ばアルミナを真空蒸着により1〜3μm 程度成膜するよ
うにしてもよい。これによってもバッファー層の効果は
十分にある。
The most suitable material for the buffer layer 3 in FIGS. 1, 2 and 10 is a low melting point lead glass. However, besides this, as the buffer layer 3, for example, alumina may be formed to a thickness of about 1 to 3 μm by vacuum evaporation. This also has a sufficient effect of the buffer layer.

【0069】さらに別の材質をあげれば、SiO2等も
可能である。SiO2をスパッター成膜又はディップ成
膜してバッファー層とすることも可能である。上記以外
の材質でも同様な効果が得られることが多い。
If another material is used, SiO2 or the like can be used. It is also possible to form a buffer layer by sputtering or dipping SiO2. Similar effects are often obtained with materials other than the above.

【0070】つまり低融点鉛ガラスのバッファー層とほ
ぼ同等の効果が期待できる。しかしながら、プロセスと
の整合性やコスト等を考えると、低融点鉛ガラスのバッ
ファー層が最適といえる。
That is, an effect almost equivalent to that of the buffer layer made of low melting point lead glass can be expected. However, considering the compatibility with the process, the cost, and the like, it can be said that the buffer layer of low melting point lead glass is optimal.

【0071】(第四の実施形態)第2の実施の形態では
低融点鉛ガラスからなる絶縁層を軟化点の異なる2層構
造としたが、製造工程のマージンは少なくなるものの、
焼成条件だけで制御することもできる。第4の実施形態
として以下に説明する。参照する図は第二の実施形態と
同じく図9である。第二の実施形態と同様の方法で、
赤、緑、青の顔料微粒子からなるカラーフィルター層
(顔料微粒子層25、26、27)を形成した後、軟化
点が470℃の低融点鉛ガラス粉末を主成分とするペー
ストを印刷し、乾燥、500℃で焼成し、約8ミクロン
の厚さの第一の絶縁層28を形成した。次に、同じ低融
点鉛ガラスのペーストを印刷し、乾燥後、550℃で焼
成を再び行い第二の絶縁層29を形成した。この様に、
顔料微粒子層を被覆する絶縁層を2層に分け、顔料微粒
子層を覆っている第一のガラス層を低い温度で一度焼成
することにより、その上に再度印刷された低融点鉛ガラ
スペーストをより高い温度で焼成しても、顔料微粒子層
への影響は回避することができた。勿論、焼成温度が高
い場合は顔料微粒子層が拡散、凝集、ひび割れ、流動に
よるパターン変形が生じる。焼成温度が低い場合は、絶
縁耐圧の低下や気泡の残留などの問題を生じるために、
第2の実施の形態に比較し工程マージンは少ないが、焼
成温度を変えて、2層の絶縁層を別々に焼成することに
より、良好な特性を有するカラーフィルターが得られ
た。この場合は複数の絶縁層を同じペースト印刷で形成
することができ、プロセスコストの低減が図られた。な
お、この方法は第三の実施形態の構造にも適用すること
ができる。
(Fourth Embodiment) In the second embodiment, the insulating layer made of low melting point lead glass has a two-layer structure having different softening points. However, although the manufacturing process margin is reduced,
It can also be controlled only by the firing conditions. A fourth embodiment will be described below. The figure referred to is FIG. 9 as in the second embodiment. In the same way as in the second embodiment,
After forming a color filter layer (pigment fine particle layers 25, 26, 27) composed of red, green, and blue pigment fine particles, a paste mainly composed of a low melting point lead glass powder having a softening point of 470 ° C. is printed and dried. And baked at 500 ° C. to form a first insulating layer 28 having a thickness of about 8 μm. Next, the same low-melting-point lead glass paste was printed, dried, and fired again at 550 ° C. to form the second insulating layer 29. Like this
The insulating layer covering the pigment fine particle layer is divided into two layers, and the first glass layer covering the pigment fine particle layer is baked once at a low temperature so that the low-melting-point lead glass paste reprinted on the first glass layer can be further cured. Even at a high temperature, the effect on the pigment fine particle layer could be avoided. Of course, when the firing temperature is high, the pigment fine particle layer is diffused, aggregated, cracked, and deformed due to flow. If the firing temperature is low, problems such as a decrease in dielectric strength and the retention of bubbles may occur.
Although the process margin was smaller than that of the second embodiment, a color filter having good characteristics was obtained by separately firing the two insulating layers while changing the firing temperature. In this case, a plurality of insulating layers can be formed by the same paste printing, thereby reducing the process cost. Note that this method can also be applied to the structure of the third embodiment.

【0072】この焼成温度だけで良好な顔料微粒子層が
絶縁層に覆われたパネルを実現するためには、絶縁層に
使用する低融点鉛ガラス材料により最適な焼成温度はこ
となるが、顔料微粒子層を直接覆う最初の焼成温度と次
の高温の焼成温度の差として、20℃から80℃程度に
することが好ましかった。
In order to realize a panel in which a fine pigment fine particle layer is covered with an insulating layer only by this firing temperature, the optimum firing temperature depends on the low melting point lead glass material used for the insulating layer. The difference between the first firing temperature directly covering the layer and the next higher firing temperature was preferably between 20 ° C and 80 ° C.

【0073】上述した第一から第四の実施形態で用いた
顔料微粒子の平均粒径及び顔料微粒子層の膜厚は、カラ
ーフィルターの特性に大きな影響を与える。顔料微粒子
の平均粒径は、絶縁焼成時の顔料微粒子層のひび割れ
や、透過スペクトルに関係し、平均粒径0.01〜0.
15ミクロンで、ひび割れがなく選択透過特性に優れた
カラーフィルターを得ることができた。図11に示すよ
うに、顔料微粒子の平均粒径が大きくなると0.15ミ
クロンあたりから散乱光が増加し平行光線透過率が減少
する。このため、平均粒径が増大するとカラーフィルタ
ーの透過率の減少と外光散乱により白濁した表示面とな
るためコントラストが低下した。一方、平均粒径を小さ
くし0.01ミクロン以下にすると、凝集力が大きくな
るためか、顔料微粒子層にひび割れが生じやすくなっ
た。図12にその一例を示す。縦軸の顔料微粒子層ひび
割れギャップとは、顔料微粒子層に生じるひび割れのギ
ャップ幅である。このひび割れがあると、白色透過光量
が増加しカラーフィルターの選択透過特性が減少する不
具合が生じる。以上のことから、本実施の形態では前述
の顔料微粒子の最適平均粒径範囲内の平均粒子径0.0
3ミクロン程度の顔料微粒子を主に用いた。
The average particle size of the pigment fine particles and the thickness of the pigment fine particle layer used in the first to fourth embodiments have a great influence on the characteristics of the color filter. The average particle size of the pigment fine particles is related to the cracking of the pigment fine particle layer during the insulating firing and the transmission spectrum, and the average particle size is from 0.01 to 0.1.
A color filter having a size of 15 microns and having no cracks and excellent in selective transmission characteristics could be obtained. As shown in FIG. 11, when the average particle size of the pigment fine particles increases, the scattered light increases from around 0.15 μm and the parallel light transmittance decreases. For this reason, when the average particle size increases, the transmittance of the color filter decreases and the display surface becomes cloudy due to scattering of external light, so that the contrast decreases. On the other hand, if the average particle size is reduced to 0.01 μm or less, cracks are likely to occur in the pigment fine particle layer, probably because the cohesive force increases. FIG. 12 shows an example. The crack gap of the pigment fine particle layer on the vertical axis is a gap width of a crack generated in the pigment fine particle layer. When the cracks are present, the amount of transmitted white light increases and the selective transmission characteristics of the color filter decrease. From the above, in the present embodiment, the average particle size of 0.0
Pigment fine particles of about 3 microns were mainly used.

【0074】また、顔料微粒子層の平行光線透過率の膜
厚依存性を図13に示す。図13の特性は、赤、青、緑
の各蛍光体の発光のピークである波長610nm、515
nm、455nmにおける透過率と、カラーフィルターの吸
収のピーク555nm、618nm、585nmにおける透過
率の値をプロットしたものである。ただし赤のフィルタ
ーはエッジフィルター状の透過スペクトルなので、55
5nmを吸収ピークの波長とした。
FIG. 13 shows the dependence of the parallel light transmittance of the pigment fine particle layer on the film thickness. The characteristics of FIG. 13 show that the wavelengths of 610 nm and 515 which are the emission peaks of the red, blue, and green
9 is a plot of transmittance at 455 nm, 455 nm, and transmittance at 555 nm, 618 nm, and 585 nm of the absorption peak of the color filter. However, the red filter has a transmission spectrum similar to that of an edge filter.
5 nm was taken as the wavelength of the absorption peak.

【0075】より高いコントラストを得ることのできる
カラーフィルター特性は図13で蛍光体の発光波長であ
る丸いプロットと、フィルターの吸収波長である四角い
プロットの差が大きいことである。つまり、発光色、
赤、青、緑を選択的に透過し、それ以外の波長の光を遮
蔽する特性を有することが必要である。図13から、顔
料微粒子層の膜厚が厚すぎると全体的な透過率が下がっ
てくるため、丸印のプロットと四角いプロットの差が無
くなる透過特性が得られる。これから、最適な顔料微粒
子層の膜厚範囲は5μm 以下にあることを得た。
The color filter characteristic that can obtain higher contrast is that the difference between the round plot, which is the emission wavelength of the phosphor, and the square plot, which is the absorption wavelength of the filter, is large in FIG. That is, the emission color,
It is necessary to have a property of selectively transmitting red, blue, and green and blocking light of other wavelengths. From FIG. 13, if the thickness of the pigment fine particle layer is too thick, the overall transmittance decreases, so that there is obtained a transmission characteristic in which there is no difference between the circle plot and the square plot. From this, it was found that the optimum range of the thickness of the pigment fine particle layer was 5 μm or less.

【0076】また顔料粒子層の膜厚が薄すぎると、透過
スペクトルの波長依存性が弱くなり、全体的になだらか
なスペクトルとなり選択透過特性が無くなってくる。こ
れは、顔料ペーストの顔料微粒子の割合が極端に減る
と、カラーフィルター層としての光学濃度の減少と共
に、顔料微粒子同士の凝集力によって分散が著しく悪く
なり、白色透過光量が増加するためである。これから、
最適な顔料微粒子層の膜厚は0.5μm 以上にあること
を得た。
If the thickness of the pigment particle layer is too small, the wavelength dependence of the transmission spectrum is weakened, and the spectrum becomes gentle as a whole, and the selective transmission characteristics are lost. This is because if the ratio of the pigment fine particles in the pigment paste is extremely reduced, the optical density of the color filter layer is reduced, and the dispersion is significantly deteriorated due to the cohesive force between the pigment fine particles. from now on,
The optimum thickness of the pigment fine particle layer was found to be 0.5 μm or more.

【0077】以上のことから、高いコントラストのカラ
ーフィルター特性を得るための最適顔料微粒子層の最適
膜厚が0.5〜5μm であることを得た。ただし、図1
3より判る通り、顔料微粒子層の膜厚が3ミクロンを越
えると蛍光体の発光波長の透過率が明らかに下がり出
す。発光輝度を重視する観点からは顔料微粒子層の膜厚
は0.5ミクロンから3ミクロンの範囲がより好ましい
と言える。
From the above, it has been found that the optimum thickness of the optimum pigment fine particle layer for obtaining high contrast color filter characteristics is 0.5 to 5 μm. However, FIG.
As can be seen from FIG. 3, when the thickness of the pigment fine particle layer exceeds 3 microns, the transmittance of the phosphor at the emission wavelength clearly decreases. From the viewpoint of emphasizing light emission luminance, it can be said that the thickness of the pigment fine particle layer is more preferably in the range of 0.5 μm to 3 μm.

【0078】また、絶縁層として使用される低融点の鉛
ガラスの比誘電率は13程度とかなり大きいが、顔料微
粒子の比誘電率は多くの場合、低融点鉛ガラスに比較し
て小さい。また、顔料微粒子層内には粒子間に非常に小
さい隙間が残るためか実質的な誘電率は更に小さくなっ
ていた。このため顔料微粒子層の挿入により放電電圧が
上昇する傾向があった。非常に薄い場合は、放電電圧の
上昇は無視できる程度であるが、顔料微粒子層が5ミク
ロン以上の厚さでは10V以上も放電電圧が高くなり、
パネル駆動の点でも不利になった。本実施の形態では、
赤、青、緑のカラーフィルターの膜厚を、この最適膜厚
範囲内の1〜2ミクロンとした。
The relative dielectric constant of lead glass having a low melting point used as an insulating layer is considerably large, such as about 13, but the relative dielectric constant of pigment fine particles is often smaller than that of lead glass having a low melting point. In addition, the dielectric constant was further reduced probably because very small gaps remained between the particles in the pigment fine particle layer. Therefore, the insertion of the pigment fine particle layer tends to increase the discharge voltage. When the thickness is very small, the increase in the discharge voltage is negligible, but when the pigment fine particle layer has a thickness of 5 μm or more, the discharge voltage increases by 10 V or more,
It was disadvantageous in terms of panel drive. In the present embodiment,
The thicknesses of the red, blue, and green color filters were set to 1 to 2 microns within this optimum thickness range.

【0079】尚、この最適膜厚は顔料微粒子層を低融点
鉛ガラスで被覆するAC型構造のプラズマディスプレイ
パネルだけではなく、放電空間内に顔料微粒子層が直接
露出している構造のプラズマディスプレイパネルでも同
様である。
The optimum film thickness is not limited to an AC type plasma display panel in which a pigment fine particle layer is coated with a low melting point lead glass, but a plasma display panel having a structure in which the pigment fine particle layer is directly exposed in a discharge space. But the same is true.

【0080】なお、上記の実施の形態では赤、緑、青の
3色についてすべて顔料微粒子層からなるカラーフィル
ター層を形成した例を示したが、工程の簡略化や発光色
のバランスのために2色あるいは1色だけに本発明の顔
料微粒子層を形成しても良い。
In the above embodiment, an example is shown in which a color filter layer composed of a pigment fine particle layer for all three colors of red, green, and blue is formed. The pigment fine particle layer of the present invention may be formed for only two colors or one color.

【0081】また上述の実施の形態では、AC面放電型
の構造のパネルに関してのみ記述したが、対向2電極型
のAC型プラズマディスプレイなどにおいても、全く同
様に本発明を適用できることは言うまでもない。
In the above-described embodiment, only the panel having the AC surface discharge type structure has been described. However, it goes without saying that the present invention can be applied to an opposed two-electrode type AC plasma display or the like.

【0082】[0082]

【発明の効果】従来の着色顔料粉末をガラス層の絶縁層
に分散させるのではなく、非常に微細粒径の顔料微粒子
を主成分とする薄い層をカラーフィルターとすることに
より、高温の焼成工程においても反応劣化が少ない。こ
れは、顔料微粒子が非常に密な層状態にあるため、全体
としてガラス材料と接触し反応する量が少ないためであ
る。低融点鉛ガラスの絶縁層に接して焼成されることに
より、低融点鉛ガラスが軟化するために、相互浸透が生
じるが、顔料粒子が非常に微細であるため、比較的強く
お互いに固着しており、顔料微粒子が低融点鉛ガラス層
に拡散していく量は少なく、また、顔料微粒子間の隙間
が非常に小さいためにガラス物質が逆に顔料層内に浸透
していく量も非常に少ない。このため、同一の顔料微粒
子を用いたとしてもガラス層内に分散させた場合に比較
して、屈折率差に起因する散乱が少なく透過性の良いカ
ラーフィルターが得られた。また、カラーフィルター層
に接している絶縁層を軟化点の高い材料とすることによ
り、上述の反応や相互浸透がより効果的に防止されると
共に、リフローによる流動変形、顔料粒子の凝集や顔料
層のひび割れなどが低減でき、均一で微細なパターンの
カラーフィルターが実現された。
According to the present invention, instead of dispersing the conventional colored pigment powder in the insulating layer of the glass layer, a thin layer mainly composed of pigment fine particles having a very fine particle diameter is used as a color filter, so that a high-temperature sintering process is performed. And the reaction deterioration is small. This is because the pigment fine particles are in a very dense layer state, and the amount of contact and reaction with the glass material as a whole is small. When baked in contact with the insulating layer of low-melting lead glass, the low-melting lead glass softens, causing interpenetration. However, since the pigment particles are very fine, they adhere relatively strongly to each other. The amount of pigment particles that diffuse into the low-melting lead glass layer is small, and the amount of glass material that penetrates into the pigment layer is very small because the gap between the pigment particles is very small. . For this reason, even if the same pigment fine particles were used, a color filter with less scattering caused by the difference in refractive index and good transmittance was obtained as compared with the case where the pigment particles were dispersed in the glass layer. In addition, by making the insulating layer in contact with the color filter layer a material having a high softening point, the above-described reaction and mutual penetration can be more effectively prevented, flow deformation due to reflow, aggregation of pigment particles, and pigment layer Cracks and the like were reduced, and a color filter with a uniform and fine pattern was realized.

【0083】以上、説明した本発明の顔料微粒子層を組
み込んだパネルを採用することにより、外光の反射を押
さえ、明るい場所でも高いコントラストのカラープラズ
マディスプレイパネルを実現することができた。また、
放電ガスの可視発光や蛍光体の不要な発光を有効に遮断
することができるため色純度の改善にも効果があった。
顔料微粒子層はAC型プラズマディスプレイパネルの前
面基板を製造する際に、絶縁層の形成に追加した工程で
容易に作成することができ、カラーフィルター層の形成
に伴うコストも大きくはなく工業的にも容易に採用する
ことができる。
By employing the panel incorporating the pigment fine particle layer of the present invention described above, it was possible to suppress the reflection of external light and realize a color plasma display panel having high contrast even in a bright place. Also,
Visible light emission of the discharge gas and unnecessary light emission of the phosphor can be effectively cut off, which is also effective in improving color purity.
The pigment fine particle layer can be easily formed by the process added to the formation of the insulating layer when manufacturing the front substrate of the AC type plasma display panel, and the cost associated with the formation of the color filter layer is not great and industrially. Can also be easily adopted.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第3の実施の形態に係るカラープラズ
マディスプレイパネルのパネル構造の断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of a panel structure of a color plasma display panel according to a third embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第3の実施の形態に係るカラープラズ
マディスプレイパネルのパネル構造の断面図である。
FIG. 2 is a sectional view of a panel structure of a color plasma display panel according to a third embodiment of the present invention.

【図3】青色カラーフィルターの透過スペクトルの変化
を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing a change in a transmission spectrum of a blue color filter.

【図4】赤色カラーフィルターの透過スペクトルの変化
を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing a change in a transmission spectrum of a red color filter.

【図5】従来のカラープラズマディスプレイパネルの断
面図である。
FIG. 5 is a sectional view of a conventional color plasma display panel.

【図6】従来のカラープラズマディスプレイパネルの断
面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of a conventional color plasma display panel.

【図7】従来のカラープラズマディスプレイパネルの断
面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view of a conventional color plasma display panel.

【図8】本発明の第1の実施の形態に係るカラープラズ
マディスプレイパネルのパネルの断面図である。
FIG. 8 is a sectional view of the panel of the color plasma display panel according to the first embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第2の実施の形態に係るカラープラズ
マディスプレイパネルのパネルの断面図である。
FIG. 9 is a sectional view of a panel of a color plasma display panel according to a second embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第2及び第3の実施の形態に係るカ
ラープラズマディスプレイパネルのパネルの断面図であ
る。
FIG. 10 is a sectional view of a panel of a color plasma display panel according to second and third embodiments of the present invention.

【図11】顔料平均粒径と平行光線透過率の関係を示す
グラフである。
FIG. 11 is a graph showing a relationship between a pigment average particle diameter and a parallel light transmittance.

【図12】顔料平均粒径と顔料微粉末層ひび割れギャッ
プの関係を示すグラフである。
FIG. 12 is a graph showing a relationship between an average pigment particle size and a crack gap of a pigment fine powder layer.

【図13】顔料微粒子層膜厚と平行光線透過率の関係を
示すグラフである。
FIG. 13 is a graph showing the relationship between the pigment fine particle layer thickness and the parallel light transmittance.

【図14】従来のカラープラズマディスプレイパネルの
断面図である。
FIG. 14 is a sectional view of a conventional color plasma display panel.

【図15】従来のカラープラズマディスプレイパネルの
断面図である。
FIG. 15 is a sectional view of a conventional color plasma display panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 前面基板 2 透明電極 3 バッファー層 4 透明絶縁層 5 黒色隔壁 6 白色隔壁 7 白色絶縁層 8 後面基板 9 データ電極 10 蛍光体(赤) 11 蛍光体(緑) 12 蛍光体(青) 13 カラーフィルター(赤) 14 カラーフィルター(緑) 15 カラーフィルター(青) 16 保護層 17 透明絶縁層 18 放電セル(赤) 19 放電セル(緑) 20 放電セル(青) 25 顔料微粒子層(赤) 26 顔料微粒子層(緑) 27 顔料微粒子層(青) 28 第一の絶縁層 29 第二の絶縁層 30 ブラックマトリクス REFERENCE SIGNS LIST 1 front substrate 2 transparent electrode 3 buffer layer 4 transparent insulating layer 5 black partition 6 white partition 7 white insulating layer 8 rear substrate 9 data electrode 10 phosphor (red) 11 phosphor (green) 12 phosphor (blue) 13 color filter (Red) 14 Color filter (Green) 15 Color filter (Blue) 16 Protective layer 17 Transparent insulating layer 18 Discharge cell (Red) 19 Discharge cell (Green) 20 Discharge cell (Blue) 25 Pigment fine particle layer (Red) 26 Pigment fine particle Layer (green) 27 Pigment fine particle layer (blue) 28 First insulating layer 29 Second insulating layer 30 Black matrix

Claims (16)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 絶縁層に被覆された透明電極を有するカ
ラープラズマディスプレイパネルにおいて、前記絶縁層
が前記透明電極を直接被覆するバッファー層とカラーフ
ィルタの機能を有する絶縁層とが積層された少なくとも
2層構造を有し、かつ前記カラーフィルターの機能を有
する絶縁層は顔料粉末をパターン形成した後、透明な低
融点鉛ガラスを被覆焼成して形成されてなることを特徴
とするカラープラズマディスプレイパネル。
1. A color plasma display panel having a transparent electrode coated on an insulating layer, wherein the insulating layer is formed by laminating a buffer layer directly covering the transparent electrode and an insulating layer having a color filter function. A color plasma display panel, wherein the insulating layer having a layer structure and having the function of the color filter is formed by patterning a pigment powder and coating and firing a transparent low melting point lead glass.
【請求項2】 絶縁層に被覆された透明電極を有するカ
ラープラズマディスプレイパネルにおいて、前記絶縁層
が前記透明電極を直接被覆するバッファー層とカラーフ
ィルタの機能を有する絶縁層とが積層された少なくとも
2層構造を有し、かつ前記カラーフィルターの機能を有
する絶縁層は顔料粉末と感光性材料とを混合した混合物
をパターン形成した後、透明な低融点鉛ガラスを被覆焼
成して形成されてなることを特徴とすることを特徴とす
るカラープラズマディスプレイパネル。
2. A color plasma display panel having a transparent electrode coated on an insulating layer, wherein the insulating layer is formed by laminating a buffer layer directly covering the transparent electrode and an insulating layer having a color filter function. The insulating layer having a layer structure, and having the function of the color filter, is formed by patterning a mixture of a pigment powder and a photosensitive material, and then coating and firing a transparent low melting point lead glass. A color plasma display panel characterized by the following.
【請求項3】 前記バッファー層はアルミナからなるこ
とを特徴とする請求項1又は2に記載のカラープラズマ
ディスプレイパネル。
3. The buffer layer is made of alumina.
The color plasma according to claim 1 or 2, wherein
Display panel.
【請求項4】 前記バッファー層は酸化珪素からなるこ
とを特徴とする請求項1又は2に記載のカラープラズマ
ディスプレイパネル。
4. The buffer layer is made of silicon oxide.
The color plasma according to claim 1 or 2, wherein
Display panel.
【請求項5】 前記透明電極は酸化錫からなることを特
徴とする請求項1からのいずれか1項に記載のカラー
プラズマディスプレイパネル。
5. The color plasma display panel as claimed in any one of claims 1 to 4 wherein the transparent electrode is characterized by comprising tin oxide.
【請求項6】 前記透明電極はインジウムチンオキサイ
ドからなることを特徴とする請求項1からのいずれか
1項に記載のカラープラズマディスプレイパネル。
Wherein said color plasma display panel according to claim 1, any one of 4 transparent electrodes, characterized in that the indium tin oxide.
【請求項7】 表示面側となる前面基板上に少なくとも
放電電極と絶縁層が形成されたプラズマディスプレイパ
ネルにおいて、前記絶縁層は前記放電電極上に形成さ
れ、前記絶縁層とは独立して形成された顔料微粒子を主
成分とする薄いカラーフィルター層が、前記絶縁層と前
記基板上に形成された前記放電電極との間に形成されて
いることを特徴とするカラープラズマディスプレイパネ
ル。
7. A plasma display panel having at least a discharge electrode and an insulating layer formed on a front substrate serving as a display surface side, wherein the insulating layer is formed on the discharge electrode and formed independently of the insulating layer. A color plasma display panel, characterized in that a thin color filter layer containing the fine pigment particles as a main component is formed between the insulating layer and the discharge electrode formed on the substrate.
【請求項8】 前記放電電極と前記絶縁層とは独立して
形成された顔料微粒子を主成分とする薄いカラーフィル
ター層との間に絶縁層が形成されていることを特徴とす
る請求項記載のカラープラズマディスプレイパネル。
8. claims, characterized in that the insulating layer is formed between the thin color filter layer mainly composed of the discharge electrodes and the pigment particles formed independently of the insulating layer 7 The color plasma display panel according to the above.
【請求項9】 放電電極上に形成された第1の絶縁層と
前記第1の絶縁層上に形成された顔料微粒子を主成分と
する薄いカラーフィルター層と前記顔料微粒子を主成分
とする薄いカラーフィルター層上に形成された第2の絶
縁層を有し、前記第1の絶縁層の軟化点が、第2の絶縁
層の軟化点より高いことを特徴とする請求項8記載のカ
ラープラズマディスプレイパネル。
9. A first insulating layer formed on a discharge electrode, a thin color filter layer mainly composed of pigment fine particles formed on the first insulating layer, and a thin color filter layer mainly composed of the pigment fine particles. The color plasma according to claim 8, further comprising a second insulating layer formed on the color filter layer, wherein a softening point of the first insulating layer is higher than a softening point of the second insulating layer. Display panel.
【請求項10】 絶縁層に被覆された透明電極を有する
カラープラズマディスプレイパネルの製造方法におい
て、顔料微粒子を主成分とする薄いカラーフィルター層
を形成後前記顔料微粒子を主成分とする薄いカラーフィ
ルター層と接する軟化点を有する絶縁膜の焼成温度が前
記軟化点よりも高く且つ、前記顔料が前記絶縁層に分散
されない温度で焼成されることを特徴とするカラープラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。
10. A method of manufacturing a color plasma display panel having a transparent electrode covered with an insulating layer, wherein a thin color filter layer mainly composed of pigment fine particles is formed and then a thin color filter layer mainly composed of said pigment fine particles is formed. A firing temperature of an insulating film having a softening point in contact with the insulating layer is higher than the softening point, and firing is performed at a temperature at which the pigment is not dispersed in the insulating layer.
【請求項11】 絶縁層に被覆された透明電極を有する
カラープラズマディスプレイパネルの製造方法におい
て、第1の絶縁層を焼成後、顔料微粒子を主成分とする
薄いカラーフィルター層を形成した後、第2の絶縁層を
形成し、前記第2の絶縁層の焼成を前記第2の絶縁層の
軟化点よりも高く、前記顔料が前記絶縁層に分散されな
い温度で焼成されることを特徴とするカラープラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法。
11. A method of manufacturing a color plasma display panel having a transparent electrode coated on an insulating layer, wherein the first insulating layer is fired, and then a thin color filter layer containing pigment fine particles as a main component is formed. Forming a second insulating layer and firing the second insulating layer at a temperature higher than the softening point of the second insulating layer and at a temperature at which the pigment is not dispersed in the insulating layer. A method for manufacturing a plasma display panel.
【請求項12】 絶縁層に被覆された透明電極を有する
カラープラズマディスプレイパネルの製造方法におい
て、第1の絶縁層を焼成後、顔料微粒子を主成分とする
薄いカラーフィルター層を形成した後、第2の絶縁層
後、前記第2の絶縁層の軟化温度よりも低くい第3の絶
縁層を形成し、前記第1及び第2の絶縁層の焼成を前記
第1の絶縁層の軟化点よりも高く、前記顔料が前記絶縁
層に分散されない温度で焼成後前記第3の絶縁膜が焼成
により平坦化される温度で焼成したことを特徴とするカ
ラープラズマディスプレイパネルの製造方法。
12. A method for manufacturing a color plasma display panel having a transparent electrode covered with an insulating layer, wherein the first insulating layer is fired, and then a thin color filter layer containing pigment fine particles as a main component is formed. After the second insulating layer, a third insulating layer lower than the softening temperature of the second insulating layer is formed, and the first and second insulating layers are fired from the softening point of the first insulating layer. And baking at a temperature at which the pigment is not dispersed in the insulating layer and then baking at a temperature at which the third insulating film is flattened by the baking.
【請求項13】 前記顔料微粒子を主成分とする薄いカ
ラーフィルター層の厚さが0.5〜5ミクロンであるこ
とを特徴とする請求項1から12のいずれか1項に記載
のカラープラズマディスプレイパネル。
13. The color plasma display according to claim 1, wherein the thickness of the thin color filter layer containing pigment fine particles as a main component is 0.5 to 5 μm. panel.
【請求項14】 前記顔料微粒子を主成分とする薄いカ
ラーフィルター層の厚さが0.5〜3ミクロンであるこ
とを特徴とする請求項1から12のいずれか1項に記載
のカラープラズマディスプレイパネル。
14. A thin film containing the pigment fine particles as a main component.
The thickness of the color filter layer should be 0.5 to 3 microns.
13. The method according to claim 1, wherein:
Color plasma display panel.
【請求項15】 前記顔料微粒子を主成分とする薄いカ
ラーフィルター層が平均粒径0.01〜0.15ミクロ
ンの顔料粉末で形成されていることを特徴とする請求項
1から12のいずれかに1項に記載のカラープラズマデ
ィスプレイパネル。
15. The method according to claim 1, wherein the thin color filter layer containing the pigment fine particles as a main component is formed of pigment powder having an average particle diameter of 0.01 to 0.15 μm. 2. The color plasma display panel according to item 1.
【請求項16】 前記顔料微粒子層を主成分とする薄い
カラーフィルター層とこれを覆う絶縁層を有するカラー
プラズマディスプレイパネルの製造方法において、前記
絶縁層が少なくとも2層以上から構成され、前記カラー
フィルター層を直接上から覆う絶縁層を前記カラーフィ
ルター層に悪影響を与えない温度で焼成を行う第一の焼
成工程と、他の絶縁層の内の少なくとも一層の焼成温度
を前記第一の焼成工程より高くした第二の焼成工程との
少なくとも二つの焼成工程を含むことを特徴とするカラ
ープラズマディスプレイパネルの製造方法。
16. A thin film containing the pigment fine particle layer as a main component.
A color having a color filter layer and an insulating layer covering the color filter layer
In the method for manufacturing a plasma display panel,
An insulating layer comprising at least two or more layers;
The insulating layer covering the filter layer directly from above is
First baking at a temperature that does not adversely affect the luster layer
Forming step and the firing temperature of at least one of the other insulating layers
With the second baking step which is higher than the first baking step
A color comprising at least two firing steps
-Manufacturing method of plasma display panel.
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