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JP4161855B2 - 固体撮像装置、駆動制御方法及び駆動制御装置 - Google Patents

固体撮像装置、駆動制御方法及び駆動制御装置 Download PDF

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Description

本発明は、複数の単位構成要素が配列されてなる半導体装置並びにその単位構成要素の駆動制御方法および装置に関する。より詳細には、たとえば、光や放射線などの外部から入力される電磁波に対して感応性をする単位構成要素(たとえば単位画素)がマトリクス状に配列されてなり、単位構成要素によって電気信号に変換された物理量分布を電気信号として読み出す物理量分布検知半導体装置(たとえば固体撮像装置)における消費電力の低減化やダイナミックレンジの拡大化の技術に関する。
光や放射線などの外部から入力される電磁波に対して感応性をする単位構成要素(たとえば画素)をライン状もしくはマトリクス状に複数個配列してなる物理量分布検知半導体装置が様々な分野で使われている。たとえば、映像機器の分野では、物理量のうちの光を検知するCCD(Charge Coupled Device )型あるいはMOS(Metal Oxide Semiconductor )やCMOS(Complementary Metal-oxide Semiconductor )型の固体撮像装置が使われている。これらは、単位構成要素(固体撮像装置にあっては画素)によって電気信号に変換された物理量分布を電気信号として読み出す。
また、固体撮像装置の中には、電荷生成部で生成された信号電荷に応じた画素信号を生成する画素信号生成部に増幅用の駆動トランジスタを有する増幅型固体撮像素子(APS;Active Pixel Sensor /ゲインセルともいわれる)構成の画素を備えた増幅型固体撮像装置がある。たとえば、CMOS型固体撮像装置の多くはそのような構成をなしている。このような増幅型固体撮像装置において画素信号を外部に読み出すには、複数の単位画素が配列されている画素部に対してアドレス制御をし、個々の単位画素からの信号を任意に選択して読み出すようにしている。つまり、増幅型固体撮像装置は、アドレス制御型の固体撮像装置の一例である。
たとえば、単位画素がマトリクス状に配されたX−Yアドレス型固体撮像素子の一種である増幅型固体撮像素子(APS;Active Pixel Sensor /ゲインセルともいわれる)は、画素そのものに増幅機能を持たせるために、MOS構造などの能動素子(MOSトランジスタ)を用いて画素を構成している。すなわち、光電変換素子であるフォトダイオードに蓄積された信号電荷(光電子)を前記能動素子で増幅し、画像情報として読み出す。
この種のX−Yアドレス型固体撮像素子では、たとえば、画素トランジスタが2次元行列状に多数配列されて画素部が構成され、ライン(行)ごとあるいは画素ごとに入射光に対応する信号電荷の蓄積が開始され、その蓄積された信号電荷に基づく電流または電圧の信号がアドレス指定によって各画素から順に読み出される。
<単位画素の構成;4TRタイプ>
ここで、一般にCMOS(Complementary Metal-oxide Semiconductor )型のセンサでは、CCD(Charge Coupled Device )に比べノイズの低減を行なうため単位画素の構成が複雑化する傾向がある。たとえば、CMOSセンサとして汎用的なものとして、図8(A)に示すように、寄生容量を持った拡散層であるフローティングディフュージョン(FDA;Floating Diffusion Amp)構成を採りつつ、単位画素3部分に4つのトランジスタ(TRansistor)を有する4トランジスタ型画素構成(以下4TR構成とも言う)のものがよく知られている。
このような4TR構成では、電荷蓄積部の一例であるフローティングディフュージョン38は単位信号生成部の一例である増幅用トランジスタ42のゲートに接続されているので、増幅用トランジスタ42はフローティングディフュージョン38の電位(以下FD電位ともいう)に対応した信号(この例では電圧信号)を、画素線51を介して出力信号線の一例である垂直信号線53に出力する。リセットトランジスタ36は、フローティングディフュージョン38をリセットする。
電荷転送部としての転送ゲートトランジスタ(読出選択用トランジスタ)34は、電荷生成部32にて生成された信号電荷をフローティングディフュージョン38に転送する。垂直信号線53には多数の画素が接続されているが、画素を選択するのには、選択画素のみ垂直選択用トランジスタ40をオンする。すると選択画素のみが垂直信号線53と接続され、垂直信号線53には選択画素の信号が出力される。
このように、単位画素3は、光電変換素子(たとえばフォトダイオードPD)と4つのトランジスタで構成され、画素を選択する目的で垂直選択用トランジスタ40を備えている構成が一般的であり、現在のほとんどのCMOSセンサにおける単位画素3は、選択トランジスタを持っている。そのため、CCDに比べ高画素化の点で不利である。
<単位画素の構成;3TRタイプ>
これに対して、性能を落とさない範囲で素子数を少なくするべく、単位画素3におけるトランジスタが占める面積を少なくすることで画素サイズを小さくする技術として、図8(B)に示すように、光電変換素子(たとえばフォトダイオードPD)と3つのトランジスタで単位画素3を構成する3トランジスタ型画素構成(以下3TR構成とも言う)が提案されている(たとえば特許文献1参照)。
特許第2708455号公報
この3TR構成の単位画素3は、光電変換を行なうことで受光した光に対応する信号電荷を生成する電荷生成部32(たとえばフォトダイオード)と、電荷生成部32により生成された信号電荷に対応する信号電圧を増幅するための、ドレイン線(DRN)に接続された増幅用トランジスタ42と、電荷生成部32をリセットするためのリセットトランジスタ36とを、それぞれ有している。また、図示しない垂直走査回路内に設けられている垂直シフトレジスタより転送ゲート配線(TRG)55を介して走査される読出選択用トランジスタ(転送ゲート部)34が、電荷生成部32と増幅用トランジスタ42のゲートとの間に設けられている。つまり、3TR構成の単位画素3では、電荷生成部32の他に、転送、リセット、および増幅の3つのトランジスタが設けられている。
増幅用トランジスタ42のゲートおよびリセットトランジスタ36のソースは転送ゲートトランジスタ(読出選択用トランジスタ)34を介して電荷生成部32に、リセットトランジスタ36のドレインおよび増幅用トランジスタ42のドレインはドレイン線に、それぞれ接続されている。また、増幅用トランジスタ42のソースは垂直信号線53に接続されている。転送ゲートトランジスタ34は、転送ゲート配線55を介して転送駆動バッファ150により駆動される。リセットトランジスタ36は、ゲート(制御入力)に接続されたリセットゲート配線56を介してリセット駆動バッファ152により駆動される。
転送駆動バッファ150、リセット駆動バッファ152とも基準電圧である0Vと、電源電圧の2値で動作する。特に、この画素における従来例の転送ゲートトランジスタ34のゲートに供給されるローレベル電圧は0Vである。
水平方向の同じ列の画素は、3つの信号線、転送ゲート配線(TRG)55、リセットゲート配線(RST)56、および垂直ドレイン線(DRN)57と共通に接続されるようになっている。転送ゲート配線55は、画素の電荷生成部32(たとえばフォトダイオード)から垂直方向の同じ行の画素は、共通の垂直信号線(読出信号線)53に接続されている。増幅用トランジスタ42は各垂直信号線53に接続されており、また垂直信号線53は垂直列ごとに図示しない負荷トランジスタ部に接続されており、信号読出し時には、各増幅用トランジスタ42に接続された負荷MOSによって、予め決められた定電流を流し続けるようになっている。
各垂直信号線53は、図示しないカラム回路に接続されており、このカラム回路でCDS(Correlated Double Sampling ;相関2重サンプリング)処理などを利用したノイズ除去などの処理が施され、処理後の画素信号は、さらに図示しない水平走査回路の駆動に従ってカラム回路から読み出され増幅回路(出力アンプ)を経て外部に出力される。
また、図示しない垂直走査回路は、水平方向の一列に並んだ画素に対し適当なタイミングで転送ゲート配線(TRG)55、リセットゲート配線(RST)56、および垂直ドレイン線(DRN)57を駆動する。水平走査回路は読出し時、CDS処理部を順番に1行ずつオンにするように信号を入力する。こうすることで、各垂直信号線(読出信号線)53に読み出されている信号がアンプへと順々に送られていくことになる。
この第2例の単位画素3においては、第1例と同様に、フローティングディフュージョン38は増幅用トランジスタ42のゲートに接続されているので、増幅用トランジスタ42はフローティングディフュージョン38の電位に対応した信号を垂直信号線53に出力する。
リセットトランジスタ36は、リセットゲート配線(RST)56が行方向に延びており、ドレイン線(DRN)57は殆どの画素に共通になっている。このドレイン線(DRN)57は、ドレイン駆動バッファ(以下DRN駆動バッファという)140により駆動される。リセットトランジスタ36はリセット駆動バッファ152により駆動され、フローティングディフュージョン38の電位を制御する。
ここで、特許文献1に記載の技術では、ドレイン線57が行方向に分離されているが、このドレイン線57は1行分の画素の信号電流を流さなければならないので、実際には列方向に電流を流せるように、全行共通の配線となる。
電荷生成部32(光電変換素子)にて生成された信号電荷は転送ゲートトランジスタ34によりフローティングディフュージョン38に転送される。
ここで、3TR構成の単位画素3には、4TR構成とは異なり、増幅用トランジスタ42と直列に接続される垂直選択用トランジスタ40が設けられていない。垂直信号線53には多数の画素が接続されているが、画素の選択は、選択トランジスタではなく、FD電位の制御により行なう。
このため、垂直ドレイン線57のレベル制御が画素選択に関わり、事実上、垂直ドレイン線(DRN)57が第1例の垂直選択線(SELV)52と同様の目的で画素選択線(SEL)として使用され、またリセットトランジスタ36および増幅用トランジスタ42の各ドレインを駆動する垂直ドレイン線57用のパルス信号が、第1例の選択パルスSELと同様の機能をなすようになる。以下、垂直ドレイン線57用のパルス信号をDRN制御パルスSELという。
たとえば通常は、垂直ドレイン線(DRN)57をロー(Low)にすることで、FD電位をロー(Low)レベルにしている。画素を選択するときは、垂直ドレイン線(DRN)57をハイ(High)レベルにするとともに選択行のリセットトランジスタ36をオンさせることで選択画素のFD電位をハイレベルにし、選択画素の信号を垂直信号線53に出す。その後、垂直ドレイン線(DRN)57をローレベルに戻すことで、選択画素のFD電位をローレベルに戻す。この操作は1行分の画素に対して同時に行なわれる。
このようにFD電位を制御するためには、1)選択行FD電位をハイレベルにするときに、ドレイン線57をハイレベルにし、選択行のリセットトランジスタ36を通して、そのFD電位をハイレベルにする、2)選択行FD電位をローレベルに戻すときに、ドレイン線57をローレベルにし、選択行のリセットトランジスタ36を通して、そのFD電位をローレベルにする、という動作を行なう。
図9は、3TR構成の単位画素3を駆動する駆動パルスのタイミングチャートの一例である。転送ゲート配線55、リセットゲート配線56、および画素共通配線である垂直ドレイン線57を制御すると、フローティングディフュージョン38の電圧が変化し、それに応じて垂直信号線53の電圧も変化する。
たとえば、先ず、DRN駆動バッファ140によりドレイン駆動パルスDRN(ハイレベル)を垂直ドレイン線57に印加して、垂直ドレイン線57が電源電圧(ハイ)の状態でリセットパルスRST(ハイレベル)をリセットトランジスタ36に印加してリセットゲート配線56を立ち上げると(t1)、フローティングディフュージョン38は電源電圧につながる。この後リセットゲート配線56を立ち下げると(t2)、リセットトランジスタ36のゲート(リセットゲート)とフローティングディフュージョン38の間の容量結合C1(第1の結合容量)によりフローティングディフュージョン38の電圧が下がる。
この変化が増幅用トランジスタ42を介して垂直信号線53に現われるので、垂直信号線53の電圧も下がり、垂直信号線53と増幅用トランジスタ42のゲートの間の容量結合C2(第2の結合容量)によって、さらにフローティングディフュージョン38の電圧が下がる。
これらの効果で、フローティングディフュージョン38の電圧(FD電圧)は、電源電圧よりも低くなる(t2〜t3)。このFD電圧に対応している垂直信号線53の電圧(リセットレベル)を、垂直信号線53に接続されている次段回路で取り込む。
この後、転送ゲートパルスTRG(ハイレベル)を転送ゲートトランジスタ34に印加すると(t3〜t4)、電荷生成部32からフローティングディフュージョン38に信号電荷(光電子)が転送され、フローティングディフュージョン38の電圧が下がり、垂直信号線53の電圧も連動して下がる(t4〜t5)。この垂直信号線53の電圧(信号レベル)を再び次段回路で取り込む。
次に、垂直ドレイン線57をローレベルにして、リセットパルスRSTをリセットトランジスタ36に印加すると(t5〜t6))、フローティングディフュージョン38はローレベルレベルに復帰する(t5以降)。次段回路は、リセットレベルと信号レベルの差を取って画素信号として出力する。
しかしながら、このような駆動を行なうと、容量結合C1,C2によって、リセット後のフローティングディフュージョン38の電圧が下がるので(t2〜t3)、その分だけ高い電源電圧が必要であり(すなわち低電圧化ができない)、このため低消費電力化ができないという問題や、ダイナミックレンジが取れない、という問題が生じる。
増幅用トランジスタ42と直列に垂直選択用トランジスタ40がある4TR構成の単位画素3では、たとえば特開2003−87662に開示されている方法を用いることで、フローティングディフュージョン38の電圧を昇圧して低電圧化することが考えられる。
しかしながら、このような選択用トランジスタがない3TR構成の単位画素3では、その方法を採用することができない。
また、選択用トランジスタが単位画素3内にある4TR構成であっても、さらに低消費電力化や広ダイナミックレンジ化が図れれば、より好ましい。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、単位画素が3TR構成であるのか4TR構成であるのかに拘らず、すなわち選択用トランジスタの有無に拘らず、低消費電力化や広ダイナミックレンジ化を図ることのできる仕組みを提供することを目的とする。
本発明に係る駆動制御方法および装置並びに半導体装置においては、入射された電磁波に対応する信号電荷を生成する電荷生成部、電荷生成部により生成された信号電荷を蓄積する電荷蓄積部、電荷蓄積部に蓄積されている信号電荷に応じた信号電圧を増幅し、出力信号線を介して出力する単位信号生成部、制御入力側に制御パルスの一例であるリセットパルスを供給することで電荷蓄積部をリセットするリセット部、リセット部の制御入力側と電荷蓄積部との間に形成された第1の結合容量、および増幅部の入力側と出力側との間に形成された第2の結合容量を、単位構成要素内に含む信号取得部を備えている固体撮像装置を対象として、電荷蓄積部をリセットレベルにする処理に関わる制御パルスによる駆動を、電荷蓄積部に蓄積し得る電荷量を多くする方向で行なうようにした。
なお、単位構成要素内には、電荷生成部により生成された信号電荷を電荷蓄積部に転送させる電荷転送部を含む構成のものであってよい。また電荷転送部に加えて、信号取得部内の何れかの単位信号生成部を選択切替えするための選択切替部を単位信号生成部の出力信号線側もしくはこの出力信号線とは反対側の電源線側に備えている構成のものであってもよい。
電荷蓄積部をリセットレベルにする処理に関わる制御パルスとしては、単位構成要素内のトランジスタ数に拘わらず、先ず、少なくとも、リセット部を駆動するためのリセットパルスを含むものとする。そして、単位構成要素内における単位信号生成部の出力信号線とは反対側の電源線側に選択切替部を備える構成の場合には、リセットパルスに加えて、選択切替部を駆動するための選択パルスも対象とする。
電荷蓄積部に蓄積し得る電荷量を多くする方向で駆動を行なうには、具体的には、先ず、制御パルスと関連した所定の時間幅が、リセットパルスの駆動に対応して単位信号生成部の出力信号線に現れる信号の追随時間(出力信号線の追随時間)よりも有意に(十分に)短かくなるように駆動する手法を採ることができる。
たとえば1/2以下、好ましくは1/5以下、あるいは駆動制御部が用いるマスタークロックの1クロック以下、好ましくは半クロック以下、あるいは40ns(ナノ秒)以下、好ましくは20ns以下とするとよい。
ここで、制御パルスと関連した所定の時間幅は、単位構成要素内のトランジスタ数に拘わらず、制御パルスそのもののパルス幅とすることができる。
また、信号取得部内の何れかの単位信号生成部を選択切替えするための選択切替部を備えている構成のものにおいて、特に選択切替部を単位信号生成部の出力信号線とは反対側の電源線側に備えている構成においては、選択パルスにより選択切替部をオンさせる時点からリセットパルスによりリセット部をオフさせるまでの時間幅、すなわち両パルスがともにアクティブな期間の重なり時間幅とすることができる。
選択切替部を単位信号生成部の電源線側に備えている構成の場合には、選択パルスにより選択切替部をオンさせると同時にリセットパルスによりリセット部をオフさせると、制御パルスと関連した所定の時間幅がゼロとなり、制御パルスと関連した所定の時間幅が、出力信号線の追随時間に対して最も短くなる。
電荷蓄積部に蓄積し得る電荷量を多くする方向で駆動を行なう他の手法としては、リセットパルスをアクティブとしたときにリセット部が所定の電圧範囲内(たとえば電源電圧−0.5Vと電源電圧の間)で閾値落ちするように駆動する手法を採ることができる。
この場合、制御パルスと関連した所定の時間幅は従来通りある程度長くてもかまわない。制御パルスと関連した所定の時間幅は、前述のように、単位構成要素内のトランジスタ数に拘わらず、制御パルスそのもののパルス幅とすることができ、また特に選択切替部を電源線側に備えている構成の場合には、リセットパルスと選択パルスがともにアクティブな期間の重なり時間幅とすることができる。
本発明に依れば、入射された電磁波に対応する信号電荷を生成する電荷生成部と、電荷生成部により生成された信号電荷を蓄積する電荷蓄積部と、電荷蓄積部に蓄積されている信号電荷に応じた信号電圧を増幅し、出力信号線を介して出力する単位信号生成部と、電荷蓄積部における信号電荷をリセットするリセット部と、リセット部の制御入力側と電荷蓄積部との間に形成された第1の結合容量と、増幅部の入力側と出力側との間に形成された第2の結合容量とを単位構成要素内に含む構成において、電荷蓄積部をリセットレベルにする処理に関わる制御パルスによる駆動を、電荷蓄積部に蓄積し得る電荷量を多くする方向で行なうようにした。
これにより、電荷蓄積部のレンジを広く取ることができるので、従来と同じダイナミックレンジにする場合には電源電圧を下げることで消費電力を低減することができ、また電源電圧を従来と同じに維持する場合には、ダイナミックレンジを広げることができるようになった。単位構成要素自体は従来のものと同じでよく、駆動タイミングを従来のものと変えることで上記効果を実現できるので、その適用が容易であり、本発明の効果は非常に大きい。
たとえば、先ず、第1の駆動手法として、電荷蓄積部をリセットレベルにする処理に関わる制御パルスによる駆動を、当該制御パルスの駆動に伴う垂直信号線の追随時間(応答時間)よりも有意に短くなるようにリセット部を駆動するようにした。
フローティングディフュージョンなどの電荷蓄積部が電源電圧に達してから、単位信号生成部の出力信号線(垂直信号線)がまだ追随する前に、リセットを前記のように有意に立ち下げると、電荷蓄積部がリセット部との容量結合で電圧降下するのは従来と同じだが、出力信号線がまだ立ち上がっているので、出力信号線すなわち単位信号生成部の出力側と単位信号生成部の入力側の容量結合で、電荷蓄積部が昇圧される。これにより、従来例の駆動手法よりも、電荷蓄積部の電圧が高くなり対応するリセットレベルも高くなる。この結果、消費電力を低減することや、ダイナミックレンジを広げることができる。
また、第2の駆動手法として、リセット部がオン状態のときに、リセット部が閾値落ちしている状態となるように駆動すれば、リセットをハイレベルにすると、電荷蓄積部は素早く追随するが、出力信号線はゆっくりと追随する。このため、リセット部をオン状態にした直後に電荷蓄積部は閾値落ちした電圧になるが、その後、出力信号線が追随するに従って、出力信号線すなわち単位信号生成部の出力側と単位信号生成部の入力側の容量結合によって、電荷蓄積部が昇圧される。
この結果、第1の駆動手法と同様に、電荷蓄積部の電圧が高くなり対応するリセットレベルも高くなるので、消費電力を低減することができ、また、ダイナミックレンジを広げることができる。
なお、この第1および第2の駆動手法は、選択切替部を単位信号生成部の出力信号線側もしくはこの出力信号線とは反対側の電源線側に備えている構成のものにおいても同様に適用し得るもので、同様の効果を享受し得るものである。
また、選択切替部を単位信号生成部の電源線側に備えている構成において、リセットパルスによりリセット部を先にオンさせ、選択パルスにより選択切替部を後でオンさせ、両パルスのアクティブ期間の重なりが十分短い状態であると言える程度で駆動すれば、前記の第1の駆動手法と同様に、出力信号線が追随しながら、それと出力信号線すなわち単位信号生成部の出力側と単位信号生成部の入力側の容量結合によって電荷蓄積部が昇圧される。
この結果、前記の第1の駆動手法と同様に、電荷蓄積部の電圧が高くなり対応するリセットレベルも高くなるので、消費電力を低減することができ、また、ダイナミックレンジを広げることができる。
また、選択切替部を単位信号生成部の電源線側に備えている構成において、電荷蓄積部に対するリセット処理を、リセット部が閾値落ちをする状態で行なうようにすれば、前記の第2の駆動手法と同様に、電荷蓄積部はリセット部に素早く追随するが、出力信号線はゆっくり追随するため、電荷蓄積部がリセット部のチャネルで決まる値から昇圧される。
これにより、前記の第2の駆動手法と同様に、電荷蓄積部の電圧が高くなり対応するリセットレベルも高くなるので、消費電力を低減することができ、また、ダイナミックレンジを広げることができる。
以下、図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、以下においては、X−Yアドレス型の固体撮像装置の一例である、CMOS撮像素子をデバイスとして使用した場合を例に説明する。また、CMOS撮像素子は、全ての画素がNMOSよりなるものであるとして説明する。ただしこれは一例であって、対象となるデバイスはMOS型の撮像デバイスに限らない。光や放射線などの外部から入力される電磁波に対して感応性をする単位構成要素をライン状もしくはマトリクス状に複数個配列してなる物理量分布検知半導体装置の全てに、後述する全ての実施形態が同様に適用できる。
<固体撮像装置の構成;第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態に係るCMOS固体撮像装置の概略構成図である。この固体撮像装置1は、入射光量に応じた信号を出力する受光素子(電荷生成部の一例)を含む複数個の画素が行および列に配列された(すなわち2次元マトリクス状の)画素部を有し、各画素からの信号出力が電圧信号であって、CDS(Correlated Double Sampling ;相関2重サンプリング)処理機能部やデジタル変換部などが列ごとに設けられたカラム型のものである。
すなわち、図1(A)に示すように、固体撮像装置1は、複数の単位画素3が行および列に配列された画素部(撮像部)10と、画素部10の外側に設けられた駆動制御部7と、カラム処理部26とを備えている。駆動制御部7としては、たとえば、水平走査回路12と、垂直走査回路14とを備えている。
図1では、簡単のため行および列の一部を省略して示しているが、現実には、各行や各列には、数十から数千の画素が配置される。単位画素3は、図1(B)に示すように、背景技術の項にて図8(B)に示した3トランジスタ構成のものと同様となっている。ドレイン線57は、画素部10の大部分の画素に共通で、列方向に延びて画素部10の端で共通になっているか、または、電荷生成部32の上では穴が開いた格子状の配線である。
また、固体撮像装置1は、駆動制御部7の他の構成要素として、水平走査回路12、垂直走査回路14、および通信・タイミング制御部20が設けられている。これらの駆動制御部7の各要素は、画素部10とともに、半導体集積回路製造技術と同様の技術を用いて単結晶シリコンなどの半導体領域に一体的に形成され、半導体システムの一例である固体撮像素子(撮像デバイス)として構成される。
単位画素3は、垂直列選択のための、垂直制御線15を介して垂直走査回路14と、垂直信号線19を介して、カラムAD回路が列ごとに設けられているカラム処理部26と、それぞれ接続されている。ここで、垂直制御線15は垂直走査回路14から画素に入る配線全般を示す。
水平走査回路12や垂直走査回路14は、後述のようにデコーダを含んで構成され、通信・タイミング制御部20から与えられる駆動パルスに応答してシフト動作(走査)を開始するようになっている。このため、垂直制御線15には、単位画素3を駆動するための種々のパルス信号(たとえば、リセットパルスRST、転送パルスTRG、DRN制御パルスDRNなど)が含まれる。
通信・タイミング制御部20は、図示しないが、各部の動作に必要なクロックや所定タイミングのパルス信号をパルス信号生成部を含み、たとえば、水平走査回路12、垂直走査回路14、およびカラム処理部26に所定タイミングのパルス信号を供給する機能ブロック(駆動制御装置の一例)と、入力クロックや動作モードなどを指令するデータを受け取り、また固体撮像装置1の情報を含むデータを出力する通信インタフェースの機能ブロックとを備える。たとえば、水平アドレス信号を水平デコーダ12aへ、また垂直アドレス信号を垂直デコーダ14aへ出力し、各デコーダ12a,14aは、それを受けて対応する行もしくは列を選択する。
また、本実施形態の通信・タイミング生成部20では、端子5aを介して入力される入力クロック(マスタークロック)CLK0と同じ周波数のクロックCLK1や、それを2分周したクロックやより分周した低速のクロックをデバイス内の各部、たとえば水平走査回路12、垂直走査回路14、カラム処理部26、あるいは出力回路28に供給する。以下、2分周したクロックやそれ以下の周波数のクロック全般を纏めて、低速クロックCLK2という。
たとえばVGA(約30万画素)クラスの固体撮像素子で、入力クロック周波数は24MHz、内部回路は24MHzのクロックCLK1や、12MHzの低速クロックCLK2で動作させフレームレートを30fps(frame/s)として出力する。なお、VGAとは、“Video Graphics Array”の略称であり、グラフィックス・モードや表示解像度を定義したものである。
垂直走査回路14は、画素部の行を選択し、その行に必要なパルスを供給するものである。たとえば、垂直方向の読出行を規定する(画素部10の行を選択する)垂直デコーダ14aと、垂直デコーダ14aにて規定された読出アドレス上(行方向)の単位画素3に対する制御線にパルスを供給して駆動する垂直駆動回路14bとを有する。なお、垂直デコーダ14aは、信号を読み出す行の他に、電子シャッタ用の行なども選択する。
水平走査回路12は、低速クロックに同期してカラム処理部26のカラムAD回路を順番に選択し、その信号を水平信号線18に導くものである。たとえば、水平方向の読出列を規定する(カラム処理部26内の個々のカラム回路を選択する)水平デコーダ12aと、水平デコーダ12aにて規定された読出アドレスに従って、カラム処理部26の各信号を水平信号線18に導く水平駆動回路12bとを有する。なお、水平信号線18は、たとえばカラムAD回路が取り扱うビット数n(nは正の整数)分、たとえば10(=n)ビットならば、そのビット数分に対応して10本配置される。
このような構成の固体撮像装置1において、単位画素3から出力された画素信号(この例では電圧信号)は、垂直列ごとに、垂直信号線19を介して、カラム処理部26のカラムAD回路に供給される。カラム処理部26の各カラムAD回路は、1列分の画素の信号を受けて、その信号を処理する。たとえば、通信・タイミング制御部20から与えられるサンプルパルスSHPとサンプルパルスSHDといった2つのサンプルパルスに基づいて、垂直信号線19を介して入力された電圧モードの画素信号に対して、画素リセット直後の信号レベル(リセットレベル)と信号レベルとの差分をとる処理を行なう。これにより、固定パターンノイズ(FPN;Fixed Pattern Noise )やリセットノイズといわれるノイズ信号成分を取り除く。なお、カラム処理部26の後段には、必要に応じて信号増幅機能を持つAGC(Auto Gain Control) 回路などをカラム処理部26と同一の半導体領域に設けることも可能である。
また、各カラムAD回路は、処理済みのアナログ信号を、たとえば低速クロックCLK2を用いて10ビットのデジタルデータに変換するADC(Analog Digital Converter)回路を持つ。ここでデジタル化された画素データは、水平走査回路12からの水平選択信号により駆動される図示しない水平選択スイッチを介して水平信号線18に伝達され、さらに出力回路28に入力される。なお、10ビットは一例であって、10ビット未満(たとえば8ビット)や10ビットを超えるビット数(たとえば14ビット)など、その他のビット数としてもよい。
出力回路28は、水平信号線18の信号を処理して、出力端子5cを介して画像データ(撮像データ)として外部回路に出力する。たとえば、出力回路28は、バッファリングだけする場合もあるし、その前に黒レベル調整、列ばらつき補正、信号増幅、色関係処理などを行なうこともある。
なお、ここではAD変換機能をカラム回路ごとに持たせて垂直列ごとにデジタルデータ化する構成としているが、このAD変換機能は、カラム回路部分に限らず、その他の箇所に設けることもできる。たとえば、画素部の各画素に対して個々に設ける(多数設ける)構成としてもよいし、水平信号線18までアナログで画素信号を出力して、その後にAD変換を行ない出力回路28に渡すような構成としてもよい。
何れの構成であっても、電荷生成部としての受光素子が行列状に配された画素部10からは、行ごとに各垂直列について画素信号が順次出力される。そして、受光素子が行列状に配された画素部10に対応する1枚分の画像すなわちフレーム画像が、画素部10全体の画素信号の集合で示されることとなる。
このような構成の固体撮像装置1における画素信号の読出しのための駆動タイミングは、図9に示した従来の3トランジスタ構成用のものと似通っている。しかしながら、本実施形態では、フローティングディフュージョン38電荷蓄積部の一例であるフローティングディフュージョン38をリセットレベルにする処理に関わる制御パルスによる駆動を、この制御パルスの駆動に伴う垂直信号線53の追随時間(応答時間)よりも有意に短くする点で異なる。
なお、第1実施形態では、単位画素3を3トランジスタ構成のものとしており、前記フローティングディフュージョン38をリセットレベルにする処理に関わる制御パルスとしては、リセットトランジスタ36を駆動するリセットパルスRSTが該当し、フローティングディフュージョン38に蓄積し得る電荷量を多くする方向となるように、このリセットパルスRSTを十分短くする点に特徴を有する。
<3TR構成の駆動手法;第1例>
図2は、第1実施形態の構成における、信号電荷読出し時の駆動手法の第1例を示すタイミングチャートである。ここで、図2は、特に読出期間中の転送ゲート配線(TRG)55、リセットゲート配線(RST)56、および垂直ドレイン線(DRN)57に対する駆動パルスの波形パターンを示している。何れも、ローレベル“L”のときはディセーブル(インアクティブ)で、ハイレベル“H”のときにイネーブル(アクティブ)であるものとする。
従来は、図9に示したように、リセットパルスRSTのパルス幅は、垂直信号線53の追随時間を考慮して、ほぼ追随可能な幅にされていた。これに対して、この第1実施形態では、図2にt1〜t2で示すように、垂直信号線53の追随時間よりもリセットパルスRSTの幅を短くする。これにより、選択トランジスタがなくフローティングディフュージョン38の電位を制御して単位画素3を選択する3TR構成の単位画素3においても、フローティングディフュージョン38を昇圧することができるようになる。その原理について、図2のタイミングチャートに基づいて、具体的に説明する。
先ず、従来例と同様にリセットパルスRSTを立ち上げると(t1)、フローティングディフュージョン38の電圧は十分早く、たとえば数ns(ナノ秒)程度で電源電圧に達する。つまり電荷蓄積部としてのフローティングディフュージョン38が十分にリセットされる。これに対して、垂直信号線53の追随は長く、たとえば100ns以上掛る。
ここで、フローティングディフュージョン38が電源電圧に達してから、垂直信号線53がまだ追随する前に、リセットパルスRSTを立ち下げると(t2)、フローティングディフュージョン38がリセットトランジスタ36のゲート(リセットゲート)との容量結合(図1(B)のC1)で電圧降下する。この点は、従来と同じである。
ただし、垂直信号線53が未だ立ち上がっている途中段階にあるので、垂直信号線53と増幅用トランジスタ42との間の容量結合(図1(B)のC2)で、フローティングディフュージョン38が昇圧される。これにより、従来例よりも、フローティングディフュージョン38の電圧が高くなる。よって、これに対応するリセットレベルも高くなる。これにより、フローティングディフュージョン38に蓄積し得る電荷量を多くできる。
リセットパルスRSTのパルス幅は、制御パルスとしてのリセットパルスRSTの駆動に伴う垂直信号線53の追随時間(応答時間)よりも有意に短いと言える程度であればよい。ここで「有意に」とは、フローティングディフュージョン38に蓄積し得る電荷量を多くできる方向であって、現実的なレベルで、垂直信号線53の追随時間よりもリセットパルスRSTの駆動幅の方が十分に短いと言える程度を意味する。垂直信号線53の追随時間は、分布容量(図1(B)の容量結合C1,C2)に依存するので、この点も考慮しなければならない。
なお、垂直信号線53の追随時間としては、たとえば、90%追随時間を採用するとよい。ここで、90%追随時間とは、通常のパルス信号における過渡応答の規定の仕方と同様に、初期値(完全ローレベル)から最終値(完全ハイレベル)までの間を100%とした場合において、パルス印加後から90%レベルに達するまでの時間を意味する。
「リセットパルスRSTの駆動に伴う垂直信号線53の追随時間よりも有意に短い時間でリセットトランジスタ36を駆動する」際の定義手法としては、通常の駆動手法におけるリセットパルスRSTのパルス幅に対する割合(倍数)で規定する方法や、画素数(より具体的には駆動周期やマスタークロック)との対応における割合で規定する方法、あるいはデバイスを特定し、そのデバイスにおける垂直信号線53の追随時間に対しする割合や、リセットパルスRSTのパルス幅そのもので定義する手法、など様々な定義手法が考えられる。
何れにしても、高い電源電圧が必要であり(すなわち低電圧化ができない)、このため低消費電力化ができないという問題や、ダイナミックレンジが取れない、という問題を改善し得る駆動状態とすればよい。
なお、この際には、リセットパルスRSTがアクティブ(本例ではハイレベル)の期間内すなわちリセットトランジスタ36がオンの期間内に、フローティングディフュージョン38が電源電圧までリセットされるように、つまり電荷蓄積部としてのフローティングディフュージョン38が十分にリセットされるようにすることが望ましい。
リセットパルスRSTのパルス幅が極端に狭くなり、アクティブ期間内に、フローティングディフュージョン38が電源電圧までリセットされない状態になると、リセットパルスRSTにフローティングディフュージョン38が早く追随しているときの大きなばらつきが載る場合があるからである。フローティングディフュージョン38を十分にリセットするには、リセットトランジスタ36のゲート電圧を昇圧するか、リセットトランジスタ36を深いディプレション型のトランジスタにすることが好ましい。
たとえば、垂直信号線53の追随に100ns程度要するデバイス構造の場合、その半分(50%)の50ns程度で効果がある。もちろん、それ以下でもよい。これらの所定幅のパルス信号としては、たとえば、マスタークロックCLK0が25MHzの場合、40nsが1クロックの幅であり、20nsは半クロックの幅であり、それらをそのまま使うことができる。また、それ以下のパルス幅のものは、たとえばディレイ回路などを用いて生成することができる。
図3は、3TR構成の実在のあるデバイスについて、第1例の駆動手法を適用した場合のシミュレーション結果を示している。図中、“◆@”の“@”はパルス幅を示す。デバイスとしては、約30万画素(640×480ピクセル)のVGA規格に準じるCMOSセンサを使用した。単位画素3は、3トランジスタ構成のもので、画素ピッチは4.1μmである。入力クロック周波数は24MHzである。デバイスの電源電圧は2.6Vである。また、垂直信号線53の90%追随時間は約130nsだった。
図3から分かるように、リセットパルスRSTのパルス幅が垂直信号線53の追随時間130ns以下で昇圧効果が現われ、その半分(1/2)の65ns程度から顕著な昇圧効果が現われている。さらに、1/5(26ns)以下で極めて大きな昇圧効果が得られている。たとえば20nsでは約200mVの昇圧効果が、また10nsでは約300mVの昇圧効果がある。因みに、リセットパルスRSTのパルス幅が10nsでも、そのパルスの間にフローティングディフュージョン38は、ほぼ電源電圧に達していた。
シミュレーション対象のデバイスにおいては、マスタークロックCLK0が24MHzであり、約40nsが1クロックの幅であり、20nsは半クロックの幅である。よって、リセットパルスRSTのパルス幅で見た場合、1クロック(40ns)以下で顕著な昇圧効果が現われ、半クロック(20ns)以下で極めて大きな昇圧効果が得られている。
以上のことから分かるように、この第1実施形態の第1例の駆動方法を利用すれば、選択トランジスタがなくフローティングディフュージョン38の電位を制御して単位画素を選択する3TR構成の単位画素においては、前述の昇圧効果によって、フローティングディフュージョン38に蓄積し得る電荷量を多くすることができ、電源電圧を下げること(低電圧化)や、動作マージンを広く取ることができる。
これにより、消費電力を低減することができる。また、電源電圧を従来と同じに維持する場合、フローティングディフュージョン38のレンジを広く取ることができ、ダイナミックレンジを広げることができる。また、ダイナミックレンジを広く取ることができるので、たとえば多画素化やチップサイズを小さくするため画素サイズを小さく必要がある場合であっても(以下画素サイズシュリンクともいう)、十分な信号レベルの撮像信号を得ることができる。低電圧化や画素サイズシュリンクに対して、フローティングディフュージョン38のダイナミックレンジを確保する手法として、非常に有効な技術である。
<3TR構成の駆動手法;第2例>
図4は、第1実施形態の構成における、信号電荷読出し時の駆動手法の第2例を説明する図である。この図4は、第2例の駆動手法における電圧ポテンシャル図を示している。
この第2例の駆動手法は、フローティングディフュージョン38に対するリセット処理を、リセットトランジスタ36が閾値落ちをする状態で行なうことによって、リセットパルスRSTのパルス幅が長い場合であっても、フローティングディフュージョン38を昇圧する点に特徴を有する。以下具体的に説明する。
たとえば、駆動パルスが従来例の図9と同じ場合、最初のリセットハイの期間(t1〜t2)、第1例の駆動手法では、フローティングディフュージョン38が増幅用トランジスタ42のドレインの電源電圧とつながっていた。これに対して、この第2例の駆動手法では、リセットトランジスタ36がオン状態のときに、このリセットトランジスタ36が閾値落ちする状態となるように駆動条件を設定する。
たとえば、図4に示すように、リセットをハイレベルにすると、フローティングディフュージョン38は素早く追随するが、垂直信号線53はゆっくりと追随する。このため、リセットをハイレベルにした直後にフローティングディフュージョン38は閾値落ちした電圧になるが、その後、垂直信号線53が追随するに従って、増幅用トランジスタ42と垂直信号線53の容量結合C2によって、フローティングディフュージョン38が昇圧される。この昇圧されたFD電圧は、電源電圧より低いこともあるが、高いこともある。
ここで、「リセットパルスRSTがハイレベルすなわちリセットトランジスタ36がオン状態のときに、リセットトランジスタ36が閾値落ちしている状態とする」際の好ましい状態は、フローティングディフュージョン38に蓄積し得る電荷量を閾値落ちしていない場合よりも多くできる範囲である。このとき、リセットトランジスタ36のチャネル電圧は、リセットトランジスタ36のドレインの電源電圧とこれよりも低い第2の電圧との間となる。ここで、「第2の電圧」は、たとえば電源電圧よりも若干低い程度、たとえば電源電圧よりも0.3〜0.7V(さらに好ましくは0.5V程度)低い電圧である。もちろん、リセットトランジスタ36が閾値落ちしていれば、この範囲ではなくとも昇圧効果による恩恵をこうむっている。
この効果は、垂直選択用トランジスタがない画素において、垂直信号線53につながる全画素のフローティングディフュージョン38が事前にローレベルされていることと、さらに選択行をリセットするまで垂直信号線もローレベルにされていることの両方がそろって実現されているものである。
その後、リセットをローレベルに戻すと(t2)、リセットトランジスタ36のゲート(リセットゲート)とフローティングディフュージョン38の間の容量結合C1によりフローティングディフュージョン38の電圧が下がるが、これは従来と同じである。
第1例の駆動手法のように、閾値落ちをしないリセットでは、容量結合C1でフローティングディフュージョン38が昇圧されようとしても、フローティングディフュージョン38が電源電圧にある増幅用トランジスタ42のドレインとつながっているので、昇圧されない。
図5は、3TR構成のデバイスについて、第2例の駆動手法を適用した場合における、実際の画素による測定結果を示している。対象デバイスは、図3のシミュレーションと同様に、約30万画素(640×480ピクセル)のVGA規格に準じるCMOSセンサを使用した。単位画素3は、3トランジスタ構成のもので、画素ピッチは4.1μmである。入力クロック周波数は24MHzである。デバイスの電源電圧は2.6Vである。
この図5に示す測定結果は、リセットをオンする電圧を変えながら、十分長いリセットパルス内で垂直信号線53に出てくる電圧をプロットしたものである。リセットのハイ(High)レベルを変化させると、約2.68V以上では閾値落ちがない状態になる。
リセットのハイレベルを2.68V以下に下げると閾値落ちする状態に移行し、垂直信号線53の電圧も下がると思われていたのだが、ここでは第2例の駆動手法における昇圧効果があるので、図中に大きな丸で囲んでいるように、約2.2V(電源電圧2.6V−〜0.5V)〜約2.68V(電源電圧2.6V+0.08V)の範囲で、逆にリセットレベルが上に出ている。
よって、この範囲に設計すれば、選択トランジスタがなくフローティングディフュージョン38の電位を制御して単位画素を選択する3TR構成の単位画素において、リセットのハイレベルが2.68V以上の場合よりも、電源電圧を下げること(低電圧化)や、動作マージンを広く取ることができる。よって、第1例の駆動手法と同様に、消費電力を低減することができ、また、電源電圧を従来と同じに維持する場合には、ダイナミックレンジを広げることができる。
<単位画素の構成;第2実施形態とその駆動手法;第1例>
図6は、第2実施形態の固体撮像装置1を構成する単位画素3の一構成例を示した図である。固体撮像装置1の全体構成としては、図1に示した第1実施形態のものと同様でよい。ここで、第2実施形態の単位画素3の構成としては、少なくとも、フローティングディフュージョン38と4つのトランジスタとを備えて構成されたものとする。
すなわち、入射光を信号電荷に変換し蓄積する光電変換素子(フォトダイオード)を含んで構成された電荷生成部32、フローティングディフュージョン38、フローティングディフュージョン38にゲートがつながれた増幅トランジスタ42、ドレイン側が増幅トランジスタのドレイン側と接続されたリセットトランジスタ36、電荷生成部32で生成された信号電荷をフローティングディフュージョン38に転送する転送ゲート用の転送ゲートトランジスタ34、および垂直列を選択する垂直選択用トランジスタ40を含むものとする。つまり、増幅用トランジスタ42と直列に挿入された選択用トランジスタを含んで画素を選択する4TR構成の画素である。
ここで、図6(A)に示す単位画素3は、増幅用トランジスタ42と垂直選択用トランジスタ40のうち、垂直選択用トランジスタ40の方が垂直信号線53側にあるタイプである。これに対して、図6(B)に示す単位画素3は、増幅用トランジスタ42と垂直選択用トランジスタ40のうち、増幅用トランジスタ42の方が垂直信号線53側にあるタイプであって、図8(A)に示したものと同様である。
ここで、図6(A)および図6(B)の何れの構成においても、リセットトランジスタ36のドレイン側を固定電源とするのではなく、3TR構成と同様にして駆動可能な構成とすれば、上記第1実施形態における第1例や第2例と同様の駆動手法を適用することができる。この場合でも、リセットトランジスタ36のドレイン側をローレベルに駆動して、フローティングディフュージョン38をローレベルにセットして、垂直選択用トランジスタ40がオンしている状態で、上記第1実施形態の第1例や第2例と同様に駆動すればよい。
<4TR構成の駆動手法;第2例>
図7は、第2実施形態の構成における、信号電荷読出し時の駆動手法の第2例を示すタイミングチャートである。なお、この第2例の駆動手法を適用できるのは、単位画素3が、図6(B)に示したように、増幅用トランジスタ42の方が垂直信号線53側にあるタイプのもの、換言すれば、垂直選択用トランジスタ40が増幅用トランジスタ42のドレイン側にあるタイプのものである。
この第2実施形態の第2例では、4TR構成の単位画素3を対象としており、電荷蓄積部の一例であるフローティングディフュージョン38をリセットレベルにする処理に関わる制御パルスとしては、リセットトランジスタ36を駆動するリセットパルスRSTと垂直選択用トランジスタ40を駆動する選択パルスSELとが該当する。そして、フローティングディフュージョン38に蓄積し得る電荷量を多くする方向となるように、選択切替部の一例である垂直選択用トランジスタ40をオンさせると同時にリセットトランジスタ36をオフさせるか、または垂直選択用トランジスタ40がオンしてから垂直信号線53の追随時間よりも有意に短い時間後にリセットトランジスタ36をオフさせる点に特徴を有する。以下具体的に説明する。
先ず図7は、特に読出期間中の転送ゲート配線(TRG)55、リセットゲート配線(RST)56、および垂直選択線(SELV)52に対する駆動パルスの波形パターンを示している。何れも、ローレベル“L”のときはディセーブル(インアクティブ)で、ハイレベル“H”のときにイネーブル(アクティブ)であるものとする。
垂直選択用トランジスタ40が増幅用トランジスタ42のドレイン側にあるタイプのものでは、リセットトランジスタ36のドレイン側の配線を駆動しなくても、上記第1実施形態の第1例や第2例に準じた駆動手法を適用することがきる。
リセットパルスRSTのハイレベル時に閾値落ちせずにフローティングディフュージョン38が電源電圧までリセットされる場合、図7のようにすればよい。先ず、選択パルスSELをオンするよりも先にリセットトランジスタ36をオンさせる(t0)。次に垂直選択用トランジスタ40をオンさせ(t1)、これとほぼ同時か十分短い時間後(t2)に、リセットトランジスタ36をオフさせる。
ここで「十分短い時間」とは、垂直信号線53が追随する時間に対して、有意に短ければよい。ここで「有意に」とは、制御パルス(ここではリセットパルスRSTと選択パルスSEL)と関連した所定の時間幅を、選択パルスSELにより垂直選択用トランジスタ40をオンさせる時点からリセットパルスRSTによりリセットトランジスタ36をオフさせるまでの時間幅つまり両パルスのアクティブ期間の重なりの時間幅とし、現実的なレベルで、両パルスのアクティブ期間の重なりが十分短い状態であると言える程度を意味する。
垂直信号線53の追随時間よりもリセットパルスRSTのオフの方が十分に先である状態、つまり、リセットパルスRSTによりリセットトランジスタ36を先にオンさせ、選択パルスSELにより垂直選択用トランジスタ40を後でオンさせ、両パルスのアクティブ期間の重なりが十分短い状態であると言える程度でもよい。また、垂直選択用トランジスタ40をオンさせるのとほぼ同時にリセットトランジスタ36をオフさせると、実質的に、両パルスのアクティブ期間の重なりがゼロとなる。
この第2実施形態の第2例の駆動手法は、第1実施形態の第1例の駆動手法と同質のもので、垂直信号線53が追随しながら、それと増幅用トランジスタ42のカップリングによって、フローティングディフュージョン38が昇圧される。
よって、「リセットトランジスタ36を先にオンさせ、垂直選択用トランジスタ40を後でオンさせ、両パルスのアクティブ期間の重なりが十分短い状態となるように駆動する」際の定義手法も、第1実施形態の第1例の定義手法と同様に考えればよい。
たとえば、垂直信号線53の追随に100ns程度要するデバイス構造の場合、100ns以下ならば効果が現われ、その半分(50%)の50ns程度以下なら顕著に効果が現われる。もちろん、それ以下でもよい。たとえば20ns以下ならばほぼ最大に効果を発揮できる。
よって、垂直選択用トランジスタ40が増幅用トランジスタ42のドレイン側にある構成の4TR構成の単位画素3であっても、この第2実施形態の第2例の駆動手法を適用することで、第1実施形態の第1例の駆動手法と同様に、電源電圧を下げること(低電圧化)や、動作マージンを広く取ることができる。よって、第1実施形態の第1例の駆動手法と同様に、消費電力を低減することができ、また、電源電圧を従来と同じに維持する場合には、ダイナミックレンジを広げることができる。
<4TR構成の駆動手法;第3例>
なお、図6(B)に示したように、垂直選択用トランジスタ40が増幅用トランジスタ42のドレイン側にある構成の4TR構成の単位画素3では、リセットパルスRSTのハイレベル時にフローティングディフュージョン38が閾値落ちした電圧になる場合、リセットパルスRSTと選択パルスSELの各アクティブ期間の重なりが長くてもかまわない。つまり、駆動タイミングとしては、図7(A)と同じく、リセットトランジスタ36を先にオンさせ(t0)、次に垂直選択用トランジスタ40をオンさせ(t1)、これとほぼ同時かその後に(t2)に、リセットトランジスタ36をオフさせる。このときの両パルスRST,SELのアクティブ期間の重なりが長くてもよいと言うことである。
その理由は、第1実施形態の第2例の駆動手法と同じく、フローティングディフュージョン38はリセットトランジスタ36(リセットゲート)に素早く追随するが、垂直信号線53はゆっくり追随するため、フローティングディフュージョン38がリセットのチャネルで決まる値から昇圧されるからである。閾値落ちしていない場合は、フローティングディフュージョン38が昇圧されようとしても、ドレインから電子が流れ込んで昇圧されない。
よって、第1実施形態の第2例の駆動手法と同様に、「リセットパルスRSTがハイレベルのときに、リセットトランジスタ36が閾値落ちしている状態」とすればよい。その際のより好ましい状態の定義手法も、同様に、リセットトランジスタ36のドレインの電源電圧とこれよりも低い第2の電圧で規定すればよい。
したがって、垂直選択用トランジスタ40が増幅用トランジスタ42のドレイン側にある構成の4TR構成の単位画素3であっても、この第2実施形態の第3例の駆動手法を適用することで、第1実施形態の第2例の駆動手法と同様に、電源電圧を下げること(低電圧化)や、動作マージンを広く取ることができる。よって、第1実施形態の第1例の駆動手法と同様に、消費電力を低減することができ、また、電源電圧を従来と同じに維持する場合には、ダイナミックレンジを広げることができる。
以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。発明の要旨を逸脱しない範囲で上記実施形態に多様な変更または改良を加えることができ、そのような変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
また、上記の実施形態は、クレーム(請求項)にかかる発明を限定するものではなく、また実施形態の中で説明されている特徴の組合せの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。前述した実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜の組合せにより種々の発明を抽出できる。実施形態に示される全構成要件から幾つかの構成要件が削除されても、効果が得られる限りにおいて、この幾つかの構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。
たとえば、上記で詳細に説明した駆動手法は、発明に関わる特徴部分だけである。実際には、たとえば図2では垂直ドレイン線(DRN)57は通常ハイレベルで、画素読み出し後ローレベルのパルスが入っているが、これを通常ローレベルとして、画素読み出し期間だけハイレベルにする駆動となっていても上記で詳細に説明した内容は全く変わらない。また、画素読出し以外の部分でも、実際には、電子シャッタ動作など、説明してない他の動作も入り、いろいろ変形されるものである。ここでは、その変形の具体的手法については、当業者であれば容易に理解し得るものであるので説明を割愛する。
また、たとえば、上記の各実施形態では、電荷注入部の一例であるフローティングディフュージョンを電荷蓄積部として利用したFDA構成の画素信号生成部5を一例に説明したが、画素信号生成部5は、必ずしもFDA構成のものでなくてもよい。たとえば、転送電極の下の基板に電荷注入部の一例であるフローティングゲートFG(Floating Gate )を設け、フローティングゲートFG下のチャネルを通過する信号電荷の量でフローティングゲートFGの電位変化が生じることを利用した検出方式の構成としてもよい。
また、上記の各実施形態では、転送電極を備えた構成のものとして説明したが、転送電極を持たないバーチャルゲートVG(Virtual Gate)構造のものとしてもよい。
また、電荷生成部とフローティングディフュージョンと3つもしくは4つのMOSトランジスタとを備えて構成された単位画素を備えている固体撮像装置を例に説明したが、上記において説明した構成および手法に関しては、フォトダイオードなどの電荷生成部とフローティングディフュージョンなどの電荷蓄積部とが電荷転送手段で分離されていればよく、たとえばJFETを用いて同様の機能を実現するなどの変形も可能である。
また、上記実施形態では、行および列状に配列された画素からの信号出力が電圧信号であって、CDS処理機能部が垂直列ごとに設けられたカラム型を一例として説明したが、カラム型のものに限らず、1系統になった撮像信号に対してオフセット性の固定パターンノイズを抑制する回路構成を採ってもよい。
本発明の第1実施形態に係るCMOS固体撮像装置の概略構成図である。 第1実施形態の構成における、信号電荷読出し時の駆動手法の第1例を示すタイミングチャートである。 3TR構成のデバイスについて、第1例の駆動手法を適用した場合のシミュレーション結果を示す図である。 第1実施形態の構成における、信号電荷読出し時の駆動手法の第2例を説明する図である。 3TR構成のデバイスについて、第2例の駆動手法を適用した場合における、実際の画素による測定結果を示す図である。 第2実施形態の固体撮像装置を構成する単位画素の一構成例を示した図である。 第2実施形態の構成における、信号電荷読出し時の駆動手法の第2例を示すタイミングチャートである。 CMOSセンサの単位画素の構成例を示す図である。 3TR構成の単位画素を駆動する駆動パルスのタイミングチャートの一例である。
符号の説明
1…固体撮像装置、3…単位画素、5…画素信号生成部、7…駆動制御部、10…画素部、12…水平走査回路、14…垂直走査回路、15…垂直制御線、18…水平信号線、19…垂直信号線、20…通信・タイミング制御部、26…カラム処理部、28…出力回路、32…電荷生成部、34…転送ゲートトランジスタ、36…リセットトランジスタ、38…フローティングディフュージョン、40…垂直選択用トランジスタ、42…増幅用トランジスタ、51…画素線、52…垂直選択線、53…垂直信号線、55…転送ゲート配線、56…リセットゲート配線、57…垂直ドレイン線、140…DRN駆動バッファ、150…転送駆動バッファ、152…リセット駆動バッファ、154…選択駆動バッファ

Claims (21)

  1. 入射された電磁波に対応する信号電荷を生成する電荷生成部、前記電荷生成部により生成された信号電荷を蓄積する電荷蓄積部、前記電荷蓄積部に蓄積されている前記信号電荷に応じた信号電圧を増幅し、出力信号線を介して出力する単位信号生成部、制御入力側に制御パルスの一例であるリセットパルスを供給することで前記電荷蓄積部をリセットするリセット部、前記リセット部の制御入力側と前記電荷蓄積部との間に形成された第1の結合容量、および前記増幅部の入力側と出力側との間に形成された第2の結合容量を、単位構成要素内に含む信号取得部と、
    前記電荷蓄積部をリセットレベルにする処理に関わる制御パルスによる駆動を、前記電荷蓄積部に蓄積し得る電荷量を多くする方向で行なう駆動制御部と
    を備えたことを特徴とする固体撮像装置。
  2. 記駆動制御部は、前記制御パルスと関連した所定の時間幅が、当該リセットパルスの駆動に対応して前記単位信号生成部の出力信号線に現れる信号の追随時間よりも有意に短かくなるように駆動する
    ことを特徴とする請求項1に記載の固体撮像装置。
  3. 前記駆動制御部は、前記制御パルスと関連した所定の時間幅を、前記制御パルスのパルス幅として前記駆動を行なう
    ことを特徴とする請求項2に記載の固体撮像装置。
  4. 前記単位構成要素は、前記信号取得部内の何れかの前記単位信号生成部を選択切替えするための選択切替部を前記単位信号生成部の出力信号線とは反対側の電源線側に備え、
    前記制御パルスは、前記リセット部を駆動するためのリセットパルスと前記選択切替部を駆動するための選択パルスとを含み、
    前記駆動制御部は、前記制御パルスと関連した所定の時間幅を、前記選択パルスにより前記選択切替部をオンさせる時点から前記リセットパルスにより前記リセット部をオフさせるまでの時間幅として前記駆動を行なう
    ことを特徴とする請求項2に記載の固体撮像装置。
  5. 前記駆動制御部は、前記選択パルスにより前記選択切替部をオンさせると同時に前記リセットパルスにより前記リセット部をオフさせる
    ことを特徴とする請求項4に記載の固体撮像装置。
  6. 前記駆動制御部は、前記制御パルスと関連した所定の時間幅が、当該リセットパルスの駆動に対応して前記単位信号生成部の出力信号線に現れる信号の追随時間の1/2以下となるように駆動する
    ことを特徴とする請求項2に記載の固体撮像装置。
  7. 前記駆動制御部は、前記制御パルスと関連した所定の時間幅が、当該リセットパルスの駆動に対応して前記単位信号生成部の出力信号線に現れる信号の追随時間の1/5以下となるように駆動する
    ことを特徴とする請求項6に記載の固体撮像装置。
  8. 前記駆動制御部は、前記制御パルスと関連した所定の時間幅が、当該駆動制御部が用いるマスタークロックの1クロック以下となるように駆動する
    ことを特徴とする請求項2に記載の固体撮像装置。
  9. 前記駆動制御部は、前記制御パルスと関連した所定の時間幅が、当該駆動制御部が用いるマスタークロックの半クロック以下となるように駆動する
    ことを特徴とする請求項8に記載の固体撮像装置。
  10. 前記駆動制御部は、前記制御パルスと関連した所定の時間幅が、40ns(ナノ秒)以下となるように駆動する
    ことを特徴とする請求項2に記載の固体撮像装置。
  11. 前記駆動制御部は、前記制御パルスと関連した所定の時間幅が、20ns(ナノ秒)以下となるように駆動する
    ことを特徴とする請求項10に記載の固体撮像装置。
  12. 前記駆動制御部は、前記制御パルスと関連した所定の時間幅内に、前記リセットパルスの駆動に対応して前記電荷蓄積部が十分にリセットされるように駆動する
    ことを特徴とする請求項2に記載の固体撮像装置。
  13. 前記制御パルスは、前記リセット部を駆動するためのリセットパルスを含み、
    前記駆動制御部は、前記リセットパルスをアクティブとしたときに前記リセット部が所定の電圧範囲内で閾値落ちするように駆動する
    ことを特徴とする請求項1に記載の固体撮像装置。
  14. 前記駆動制御部は、前記所定の電圧範囲内が、電源電圧−0.5Vと電源電圧の間となるように駆動する
    ことを特徴とする請求項13に記載の固体撮像装置。
  15. 前記単位構成要素は、前記信号取得部内の何れかの前記単位信号生成部を選択切替えするための選択切替部を前記単位信号生成部の出力信号線とは反対側の電源線側に備え、
    前記制御パルスは、前記リセット部を駆動するためのリセットパルスと前記選択切替部を駆動するための選択パルスとを含み、
    前記駆動制御部は、前記選択パルスにより前記選択切替部をオンさせるよりも前に前記リセットパルスにより前記リセット部をオンさせ、この後、前記選択パルスにより前記選択切替部をオンさせると同時もしくはそのオン後に前記リセットパルスにより前記リセット部をオフさせる
    ことを特徴とする請求項13に記載の固体撮像装置。
  16. 入射された電磁波に対応する信号電荷を生成する電荷生成部と、前記電荷生成部により生成された信号電荷を蓄積する電荷蓄積部と、前記電荷蓄積部に蓄積されている前記信号電荷に応じた信号電圧を増幅し、出力信号線を介して出力する単位信号生成部と、制御入力側に制御パルスの一例であるリセットパルスを供給することで前記電荷蓄積部をリセットするリセット部と、前記リセット部の前記制御入力側と前記電荷蓄積部との間に形成された第1の結合容量と、前記増幅部の入力側と出力側との間に形成された第2の結合容量とを、単位構成要素内に含む固体撮像装置の前記単位構成要素を駆動する駆動制御方法であって、
    前記電荷蓄積部をリセットレベルにする処理に関わる制御パルスによる駆動を、前記電荷蓄積部に蓄積し得る電荷量を多くする方向で行なう
    ことを特徴とする駆動制御方法。
  17. 記制御パルスと関連した所定の時間幅が、当該リセットパルスの駆動に対応して前記単位信号生成部の出力信号線に現れる信号の追随時間よりも有意に短かくなるように駆動する
    ことを特徴とする請求項16に記載の駆動制御方法。
  18. 記リセットパルスをアクティブとしたときに前記リセット部が所定の電圧範囲内で閾値落ちするように駆動する
    ことを特徴とする請求項16に記載の駆動制御方法。
  19. 入射された電磁波に対応する信号電荷を生成する電荷生成部と、前記電荷生成部により生成された信号電荷を蓄積する電荷蓄積部と、前記電荷蓄積部に蓄積されている前記信号電荷に応じた信号電圧を増幅し、出力信号線を介して出力する単位信号生成部と、制御入力側に制御パルスの一例であるリセットパルスを供給することで前記電荷蓄積部をリセットするリセット部と、前記リセット部の前記制御入力側と前記電荷蓄積部との間に形成された第1の結合容量と、前記増幅部の入力側と出力側との間に形成された第2の結合容量とを、単位構成要素内に含む固体撮像装置の前記単位構成要素を駆動する駆動制御装置であって、
    前記電荷蓄積部をリセットレベルにする処理に関わる制御パルスによる駆動を、前記電荷蓄積部に蓄積し得る電荷量を多くする方向で行なう駆動制御部
    を備えたことを特徴とする駆動制御装置。
  20. 前記駆動制御部は、
    前記リセット部を駆動するためのリセットパルスを前記制御パルスの1つとして生成するパルス信号生成部を有し、
    前記制御パルスと関連した所定の時間幅が、前記リセットパルスの駆動に対応して前記単位信号生成部の出力信号線に現れる信号の追随時間よりも有意に短かくなるように駆動する
    ことを特徴とする請求項19に記載の駆動制御装置。
  21. 前記駆動制御部は、
    前記リセット部を駆動するためのリセットパルスを前記制御パルスの1つとして生成するパルス信号生成部を有し、
    前記リセットパルスをアクティブとしたときに前記リセット部が所定の電圧範囲内で閾値落ちするように駆動する
    ことを特徴とする請求項19に記載の駆動制御装置。
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EP11005165.3A EP2378764B1 (en) 2003-09-10 2004-09-08 A camera
US10/936,127 US7176462B2 (en) 2003-09-10 2004-09-08 Semiconductor device, and control method and device for driving unit component of semiconductor device
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TW093127359A TWI258311B (en) 2003-09-10 2004-09-10 Semiconductor device, and control method and device for driving unit component of semiconductor device
KR1020040072435A KR101143641B1 (ko) 2003-09-10 2004-09-10 고체 촬상 장치와, 그 구동 제어 방법 및 장치
CN2008100992533A CN101304471B (zh) 2003-09-10 2004-09-10 半导体器件
CNB2004100900139A CN100444395C (zh) 2003-09-10 2004-09-10 半导体器件及驱动其单元组件的控制方法和装置
US11/467,397 US7511275B2 (en) 2003-09-10 2006-08-25 Semiconductor device, and control method and device for driving unit component of semiconductor device
KR1020110122087A KR101186734B1 (ko) 2003-09-10 2011-11-22 고체 촬상 장치, 카메라 및 그 구동 방법

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Families Citing this family (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7443427B2 (en) * 2002-08-23 2008-10-28 Micron Technology, Inc. Wide dynamic range linear-and-log active pixel
JP4161855B2 (ja) * 2003-09-10 2008-10-08 ソニー株式会社 固体撮像装置、駆動制御方法及び駆動制御装置
US7652704B2 (en) * 2004-08-25 2010-01-26 Aptina Imaging Corporation Pixel for boosting pixel reset voltage
KR100680471B1 (ko) * 2004-11-24 2007-02-08 매그나칩 반도체 유한회사 보색 컬러 필터를 채택한 SoC 카메라 시스템
JP4625685B2 (ja) * 2004-11-26 2011-02-02 株式会社東芝 固体撮像装置
US7446807B2 (en) 2004-12-03 2008-11-04 Micron Technology, Inc. Imager pixel with capacitance for boosting reset voltage
JP4536540B2 (ja) * 2005-02-03 2010-09-01 浜松ホトニクス株式会社 固体撮像装置
KR20070108875A (ko) * 2005-02-22 2007-11-13 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 고체 촬상장치의 구동방법 및 고체 촬상장치
JP5178994B2 (ja) * 2005-05-26 2013-04-10 ソニー株式会社 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法および撮像装置
JP4713997B2 (ja) * 2005-10-28 2011-06-29 株式会社東芝 固体撮像装置
JP4155996B2 (ja) * 2006-03-03 2008-09-24 シャープ株式会社 増幅型固体撮像装置
US7619671B2 (en) * 2006-07-18 2009-11-17 Aptina Imaging Corporation Method, apparatus and system for charge injection suppression in active pixel sensors
JP4872779B2 (ja) * 2007-04-24 2012-02-08 ソニー株式会社 転送パルス供給回路及び固体撮像装置
KR100851495B1 (ko) 2007-05-14 2008-08-08 매그나칩 반도체 유한회사 Jfet 및 수직적으로 집적된 리셋 다이오드를 갖는이미지 센서의 소형 픽셀
KR100851494B1 (ko) * 2007-05-14 2008-08-08 매그나칩 반도체 유한회사 수직적으로 집적된 세트 및 리셋 다이오드를 갖는 cmos이미지 센서를 위한 소형 픽셀
JP4425950B2 (ja) 2007-06-01 2010-03-03 シャープ株式会社 固体撮像装置および電子情報機器
JP2009059811A (ja) * 2007-08-30 2009-03-19 Sharp Corp 固体撮像装置および電子情報機器
US7995124B2 (en) * 2007-09-14 2011-08-09 Omnivision Technologies, Inc. Image sensor apparatus and method for improved dynamic range with multiple readout circuit paths
JP5164531B2 (ja) * 2007-11-13 2013-03-21 キヤノン株式会社 固体撮像装置
JP5183184B2 (ja) * 2007-12-13 2013-04-17 富士フイルム株式会社 撮像装置
JP5127536B2 (ja) * 2008-03-31 2013-01-23 キヤノン株式会社 固体撮像装置の駆動方法及び撮像システム
JP2009278241A (ja) * 2008-05-13 2009-11-26 Canon Inc 固体撮像装置の駆動方法および固体撮像装置
JP5258416B2 (ja) 2008-06-27 2013-08-07 パナソニック株式会社 固体撮像装置
JP5124368B2 (ja) * 2008-07-03 2013-01-23 富士フイルム株式会社 撮像装置及び固体撮像素子の駆動方法
JP4686582B2 (ja) 2008-08-28 2011-05-25 株式会社東芝 固体撮像装置
JP2010068433A (ja) 2008-09-12 2010-03-25 Toshiba Corp 固体撮像装置およびその駆動方法
JP5212022B2 (ja) * 2008-10-30 2013-06-19 ソニー株式会社 固体撮像装置、撮像装置、画素駆動電圧適正化装置、画素駆動電圧適正化方法
JP5313766B2 (ja) 2009-05-21 2013-10-09 シャープ株式会社 固体撮像装置および電子情報機器
JP2011044879A (ja) * 2009-08-20 2011-03-03 Toshiba Corp 固体撮像装置およびその駆動方法
JP5238673B2 (ja) * 2009-11-09 2013-07-17 株式会社東芝 固体撮像装置
CN104979369B (zh) 2010-03-08 2018-04-06 株式会社半导体能源研究所 半导体器件及其制造方法
JP5126291B2 (ja) * 2010-06-07 2013-01-23 株式会社ニコン 固体撮像素子
JP5511541B2 (ja) * 2010-06-24 2014-06-04 キヤノン株式会社 固体撮像装置及び固体撮像装置の駆動方法
JP5456652B2 (ja) * 2010-12-06 2014-04-02 本田技研工業株式会社 固体撮像装置、撮像方法及び2足歩行ロボット
CN103886826B (zh) * 2012-12-21 2018-08-07 上海天马微电子有限公司 一种有机发光二极管显示阵列
US9491386B2 (en) * 2014-12-03 2016-11-08 Omnivision Technologies, Inc. Floating diffusion reset level boost in pixel cell
DE102016122831A1 (de) * 2015-11-26 2017-06-01 Odos Imaging Ltd. Bildgebendes System, Abstandsmessvorrichtung, Verfahren zum Betreiben des bildgebenden Systems und der Abstandsmessvorrichtung
JP6719958B2 (ja) * 2016-04-22 2020-07-08 キヤノン株式会社 撮像装置及び撮像装置の駆動方法
US10110783B2 (en) * 2017-03-27 2018-10-23 Omnivision Technologies, Inc. Image sensor precharge boost
CN110915199B (zh) * 2017-04-12 2022-03-29 普里露尼库斯新加坡私人有限公司 固态摄像装置、固态摄像装置的驱动方法、以及电子设备
JP2020020675A (ja) * 2018-08-01 2020-02-06 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 計測装置
TWI874430B (zh) * 2019-08-29 2025-03-01 日商索尼半導體解決方案公司 測距感測器及其驅動方法、與測距模組
JP2021141516A (ja) * 2020-03-09 2021-09-16 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 固体撮像素子、撮像装置、および、固体撮像素子の制御方法
KR102631193B1 (ko) * 2023-10-23 2024-01-31 주식회사 뷰웍스 방사선 검출기의 리프레시 장치 및 방법

Family Cites Families (57)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5619445A (en) * 1970-12-28 1997-04-08 Hyatt; Gilbert P. Analog memory system having a frequency domain transform processor
US4782394A (en) * 1985-06-03 1988-11-01 Canon Kabushiki Kaisha Image pickup apparatus having saturation prevention control modes
JP2708455B2 (ja) 1988-03-25 1998-02-04 株式会社日立製作所 固体撮像装置
US4973833A (en) * 1988-09-28 1990-11-27 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Image sensor including logarithmic converters
KR950002084A (ko) * 1993-06-22 1995-01-04 오가 노리오 전하전송장치
US5471515A (en) * 1994-01-28 1995-11-28 California Institute Of Technology Active pixel sensor with intra-pixel charge transfer
US6166768A (en) * 1994-01-28 2000-12-26 California Institute Of Technology Active pixel sensor array with simple floating gate pixels
US6021172A (en) * 1994-01-28 2000-02-01 California Institute Of Technology Active pixel sensor having intra-pixel charge transfer with analog-to-digital converter
JPH08149376A (ja) * 1994-11-18 1996-06-07 Olympus Optical Co Ltd 固体撮像装置
US5898168A (en) * 1997-06-12 1999-04-27 International Business Machines Corporation Image sensor pixel circuit
US5891145A (en) * 1997-07-14 1999-04-06 Sdgi Holdings, Inc. Multi-axial screw
JP3814379B2 (ja) 1997-09-01 2006-08-30 キヤノン株式会社 光電変換装置
JPH11274454A (ja) * 1998-03-19 1999-10-08 Canon Inc 固体撮像装置及びその形成方法
JP4127732B2 (ja) * 1998-07-10 2008-07-30 オリンパス株式会社 撮像装置
JP3415775B2 (ja) * 1998-07-17 2003-06-09 シャープ株式会社 固体撮像装置
US6140630A (en) * 1998-10-14 2000-10-31 Micron Technology, Inc. Vcc pump for CMOS imagers
US6388242B1 (en) * 1998-10-14 2002-05-14 Photobit Corporation Micro power micro-sized CMOS active pixel
US6850278B1 (en) * 1998-11-27 2005-02-01 Canon Kabushiki Kaisha Solid-state image pickup apparatus
US6825878B1 (en) * 1998-12-08 2004-11-30 Micron Technology, Inc. Twin P-well CMOS imager
JP2000253315A (ja) * 1999-03-01 2000-09-14 Kawasaki Steel Corp Cmosイメージセンサ
US6376868B1 (en) * 1999-06-15 2002-04-23 Micron Technology, Inc. Multi-layered gate for a CMOS imager
US6310366B1 (en) * 1999-06-16 2001-10-30 Micron Technology, Inc. Retrograde well structure for a CMOS imager
US6654057B1 (en) * 1999-06-17 2003-11-25 Micron Technology, Inc. Active pixel sensor with a diagonal active area
US6326652B1 (en) * 1999-06-18 2001-12-04 Micron Technology, Inc., CMOS imager with a self-aligned buried contact
JP4397105B2 (ja) * 1999-06-28 2010-01-13 富士通株式会社 固体撮像装置
US6252462B1 (en) * 1999-06-30 2001-06-26 Raytheon Company Capacitor transimpedance amplifier ( CTIA) with shared load
JP4296638B2 (ja) * 1999-07-12 2009-07-15 ソニー株式会社 固体撮像素子およびカメラシステム
US6204524B1 (en) * 1999-07-14 2001-03-20 Micron Technology, Inc. CMOS imager with storage capacitor
US6333205B1 (en) * 1999-08-16 2001-12-25 Micron Technology, Inc. CMOS imager with selectively silicided gates
JP4179719B2 (ja) * 1999-10-07 2008-11-12 株式会社東芝 固体撮像装置
US6727946B1 (en) * 1999-12-14 2004-04-27 Omnivision Technologies, Inc. APS soft reset circuit for reducing image lag
US6407440B1 (en) * 2000-02-25 2002-06-18 Micron Technology Inc. Pixel cell with high storage capacitance for a CMOS imager
JP2001285717A (ja) 2000-03-29 2001-10-12 Toshiba Corp 固体撮像装置
JP3750502B2 (ja) * 2000-08-03 2006-03-01 ソニー株式会社 固体撮像装置およびカメラシステム
US6952228B2 (en) * 2000-10-13 2005-10-04 Canon Kabushiki Kaisha Image pickup apparatus
JP4040261B2 (ja) * 2001-03-22 2008-01-30 富士フイルム株式会社 固体撮像装置とその駆動方法
US6937278B2 (en) * 2001-04-02 2005-08-30 Micron Technology, Inc. Row driver circuit for a sensor including a shared row-reset bus and a charge pump boosting circuit
US6917027B2 (en) * 2001-04-04 2005-07-12 Micron Technology Inc. Method and apparatus for reducing kTC noise in an active pixel sensor (APS) device
US7224389B2 (en) * 2001-07-16 2007-05-29 Cypress Semiconductor Corporation (Belgium) Bvba Method to adjust the signal level of an active pixel and corresponding active pixel
JP4434530B2 (ja) 2001-09-17 2010-03-17 ソニー株式会社 固体撮像装置
JP3846572B2 (ja) * 2001-09-20 2006-11-15 ソニー株式会社 固体撮像装置
EP1475962B1 (en) * 2002-02-12 2010-04-07 Sony Corporation Solid state imager and camera system
JP3854887B2 (ja) * 2002-04-05 2006-12-06 キヤノン株式会社 光電変換装置
KR100537704B1 (ko) * 2002-07-12 2005-12-20 도시바 마쯔시따 디스플레이 테크놀로지 컴퍼니, 리미티드 표시 장치
US7375748B2 (en) * 2002-08-29 2008-05-20 Micron Technology, Inc. Differential readout from pixels in CMOS sensor
JP4403687B2 (ja) * 2002-09-18 2010-01-27 ソニー株式会社 固体撮像装置およびその駆動制御方法
US6888573B2 (en) * 2002-10-31 2005-05-03 Motorola, Inc. Digital pixel sensor with anti-blooming control
US7489352B2 (en) * 2002-11-15 2009-02-10 Micron Technology, Inc. Wide dynamic range pinned photodiode active pixel sensor (APS)
US7078746B2 (en) * 2003-07-15 2006-07-18 Micron Technology, Inc. Image sensor with floating diffusion gate capacitor
US7417677B2 (en) * 2003-08-08 2008-08-26 Micron Technology, Inc. Lag cancellation in CMOS image sensors
US7456885B2 (en) * 2003-08-22 2008-11-25 Micron Technology, Inc. Per column one-bit ADC for image sensors
JP4161855B2 (ja) * 2003-09-10 2008-10-08 ソニー株式会社 固体撮像装置、駆動制御方法及び駆動制御装置
JP4534466B2 (ja) * 2003-11-18 2010-09-01 富士ゼロックス株式会社 携帯端末装置
US7652704B2 (en) * 2004-08-25 2010-01-26 Aptina Imaging Corporation Pixel for boosting pixel reset voltage
US20060092316A1 (en) * 2004-11-03 2006-05-04 Gazeley William G Boost signal interface method and apparatus
US7446807B2 (en) * 2004-12-03 2008-11-04 Micron Technology, Inc. Imager pixel with capacitance for boosting reset voltage
JP4420913B2 (ja) 2006-08-01 2010-02-24 アルメタックス株式会社 複層板状部材のシール部構造

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