JP4217032B2 - 光学素子 - Google Patents
光学素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4217032B2 JP4217032B2 JP2002175568A JP2002175568A JP4217032B2 JP 4217032 B2 JP4217032 B2 JP 4217032B2 JP 2002175568 A JP2002175568 A JP 2002175568A JP 2002175568 A JP2002175568 A JP 2002175568A JP 4217032 B2 JP4217032 B2 JP 4217032B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic
- optical
- optical element
- inorganic
- refractive index
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 77
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 53
- 229910003471 inorganic composite material Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 34
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 27
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 18
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 10
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 5
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 16
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 11
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 9
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 9
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 5
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 5
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 5
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229920000592 inorganic polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 3
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L barium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ba+2] OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical compound [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical group 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical group COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005303 fluorophosphate glass Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- QRBAVICMCJULJS-UHFFFAOYSA-N methyl(tripentoxy)silane Chemical compound CCCCCO[Si](C)(OCCCCC)OCCCCC QRBAVICMCJULJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- ZGSOBQAJAUGRBK-UHFFFAOYSA-N propan-2-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] ZGSOBQAJAUGRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/16—Halogen-containing compounds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、屈折率波長分散特性が良好な光学特性を持つ材料を用い、成形手段により所定の形状に形成された光学素子に関し、例えば、レンズ、プリズム、フィルター、屈折光学素子、回折光学素子等の光学素子に関するものである。
【0002】
【従来技術】
従来より、屈折光学系ではその色収差を補正する方法として、屈折率波長分散特性の異なる光学材料を組み合わせる方法がある。光学設計上では、屈折率、屈折率波長分散特性の異なった多くの種類の光学材料から選択することによって、設計の自由度が高くなり、色収差のない高精度の光学系が設計しやすくなる。
このため、光学材料として用いられる光学ガラスには多くの種類があり、種々の屈折率および波長分散特性を有するものが開発されてきている。
【0003】
図1は、光学材料として提供されている光学ガラス、光学樹脂の屈折率と波長分散の関係を説明する図である。
光学ガラスについては、屈折率が1.43〜2程度、屈折率波長分散では分散特性を示すアッベ数νdが20〜95程度までのものがある。一方、光学材料として使用することができる合成樹脂は、図1に示すように種類が少なく、光学ガラスに比べて選択できる光学特性の幅が狭いため、合成樹脂を用いた光学設計は種々の制限を受けている。
【0004】
また、カメラなど撮影光学系の軽量、高精度化のために、光学素子の光学有効面の面形状が、従来の球面形状に代えて、非球面形状や自由曲面形状を有した光学素子が用いられるようになってきた。非球面光学素子の採用により、光学系でのレンズの使用枚数の減少による軽量化や球面収差の除去による高性能化が図られてきている。しかしながら、従来のガラスレンズ等の光学素子の加工方法である研削研磨方法では、非球面形状の形成が非常に困難であり、大量生産に適さない。このため、特開平6−32631号公報にみられるように、非球面など球面以外の形状形成は、成形面を鏡面に精密加工した型を用いて、光学ガラスについては精密プレス成形、合成樹脂については射出成形や注型成形等が採用されている。この場合でも、光学設計上、色収差などを補正する場合には、低分散すなわち可視域での波長低分散特性を表すアッベ数νdが大きなものを用いることが必要となり、特公平4−33740号公報、特開平7−172864号公報等にみられるように、種々の屈折率波長低分散性の光学ガラスが開発されてきた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、市販されている屈折率波長低分散性の光学ガラスは、フツリン酸塩系などのガラスであり、これをガラスが軟化する高温で精密プレス成形した場合、ガラス成分の影響で、精密加工した型の成形面の劣化が起こり、型の成形面の面精度を維持することが困難となり、高品質のものを大量生産することは困難であった。
また、前述のフツリン酸塩系ガラスは、低屈折率のものであるため、光学設計上では光学素子の光学有効面の曲率半径を小さく設計することになり、レンズの偏肉度が非常に大きくなるなど、成形加工上の難易度が高い形状になってしまう。例えば、ガラス精密プレス成形では、軟化しているガラスに対して型の成形面により急激な変形を与えるとガラスに割れなどが発生する危惧があるため、あまり大きな偏肉度を持つレンズ等は、成形加工はより大きな困難を伴うという問題がある。
【0006】
これに対して、合成樹脂は成形性に優れ、射出成形や注型成形では偏肉度が大きくなっても成形できることから、レンズ等の製造は容易となるが、図1に示したように合成樹脂は、光学特性の幅が狭いことに加えて、成形された光学素子は熱膨張率が大きいとともに、組成によっては吸湿による変形をして、光学収差を生じる、など環境安定性に劣るため、高性能な光学素子には適さないという問題がある。
よって、本発明は、光学特性の幅を広げる波長低分散領域の光学特性を有し、合成樹脂のように成形形状の自由度が高く、大量生産に好適な成形性を有すると共に、従来の光学用途に用いる合成樹脂よりも環境安定性に優れた光学材料を用いて、成形されて高性能を維持できるレンズ等の光学素子を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明の課題は、可視域での波長分散を示すアッベ数νdが80以上であり、大きさが400nmよりも小さい微粒子である第1の材料と、炭素−炭素結合を主鎖に有する有機高分子材料と無機成分とからなる有機無機複合材料である第2の材料を含有する組成物を成形してなる光学素子であって、前記第2の材料の有機高分子材料は、非晶質フッ素樹脂を含有する光学素子によって解決することができる。
第1の材料は、フッ化物である前記の光学素子である。
前記第2の材料の無機成分は、Si元素を含有する前記の光学素子である。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明は、有機高分子材料と無機成分とからなる有機無機複合材料と、所望の光学的特性を有する微粒子とを含有する組成物を用いたことを特徴としている。
有機無機複合材料は、有機成分中に微細化された無機成分が均質に分散されて複合化されたものであり、有機成分と無機成分とが分散し、いわゆる分子レベルもしくはナノスケールレベルで混合されて複合化されたものであり、両者に作用する相互作用によって単に有機高分子中に無機粒子を分散した組成物には見られない性質を有している。
そして、従来の光学ガラスや光学用樹脂を用いた光学素子の欠点を鑑みて、種々の考察検討を行った結果、有機成分と無機成分とを複合化した有機無機複合材料と、所望の屈折率波長分散性を示す第1の材料とを用い、光学特性を調整することにより、所望の分散特性をもった成形可能な組成物からなる低分散材料によって、成形により光学素子を作製できることを見出したものである。
【0009】
図2に有機無機複合材料を説明する図を示すように、有機無機複合材料1は、有機高分子鎖2の存在下に金属アルコキシドのゾルゲル反応によって生成した無機成分鎖3が、有機高分子鎖2と相互に絡み合い、互いのマトリックスへ貫入した貫入型(IPN)のもの(図2(A))、有機高分子成分4中に、ナノスケールの無機微粒子5が分散したコンポジット構造のもの(図2(B))、有機成分のモノマーもしくはオリゴマーと、無機成分を形成する無機元素を有するモノマーもしくはオリゴマーとが共重合し、有機成分6と無機成分7の共重合体(図2(C))、およびこれらの複数成分を含有した複合材料を挙げることができる。
【0010】
以下に、貫入型(IPN)の有機無機複合材料とコンポジット型の有機無機複合材料について詳細に説明する。
貫入型(IPN)の有機無機複合材料に用いる有機高分子としては、主に炭素−炭素結合を主鎖に有する有機骨格からなり、鎖状もしくは架橋された高分子物質であり、メチルメタクリレート樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリルニトリル−ブタジエン−スチレン共重合樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂およびこれらの共重合体からなる熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂、不飽和エステル樹脂、アクリレート樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂、アリール樹脂、ポリエーテル樹脂、シリコーン樹脂およびこれらの官能基の一部が変性された樹脂などの熱硬化性樹脂などが挙げられる。
【0011】
無機成分としては、Si、Ti、Zr、Al、Ba、Ta、Ge、Ga、Cu、Sc、Bi、ランタノイドなどを含有する金属アルコキシド、金属アセチルアセトネート、あるいは金属カルボキシレートから選ばれる有機金属化合物のゾル−ゲル反応で得られたメタロキサン骨格をもつ無機高分子やZn、Sn、In、Ge、Pbなどの金属元素を骨格に有する無機高分子などが挙げられる。また、分子鎖中には、イオウ、ホウ素、セレン、テルルなどを含むものであっても良い。
【0012】
コンポジット構造型の有機無機複合材料で用いる有機高分子成分としては、貫入型(IPN)の有機無機複合材料で挙げた熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂が挙げられる。無機成分としては、無機微粒子の大きさが可視光の波長より十分小さな100nm以下、より好ましくは数十nm程度の金属酸化物、金属硫化物、金属窒化物、金属炭化物、金属ハロゲン化物、あるいは金属単体などであり、これらに含有されている金属元素としては、Si、Ti、Zr、Al、Ba、Ta、Ge、ランタノイド、Zn、Sn、In、Y、Ni、Co、Cr、Au、Ag、Cu、Ca、Mg、Sc、Wなど各種金属元素を挙げることができ、具体的には、ケイ素酸化物、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、アルミニウム酸化物、硫化亜鉛、チタン酸バリウム、フッ化マグネシウム、酸化インジウム、酸化スズ、炭化ケイ素、c−BN等の微粒子を挙げることができる。また、これらの微粒子としては、金属元素の金属アルコキシドを加水分解後に縮合反応させたものからなる無機微粒子もしくは金属錯体を還元することで得られる金属単体からなる金属微粒子を無機成分として用いることもできる。
【0013】
これらの無機微粒子、金属微粒子は、分散性を向上させるために、カップリング剤、界面活性剤によって表面処理を施したものを用いても良い。
【0014】
また、有機無機複合材料を構成する無機成分としては、貫入型(IPN)構造の場合には、Si、Zr、Al、Tiを金属成分とする金属アルコキシドの加水分解物を用いることが好ましい。例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアセチキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアミロキシシラン、アルミニウムイソプロポキシド、チタニウムイソプロポキジド、ジルコニウムイソプロポキシド等が挙げられ、これらを単独で又は2種以上組み合わせて、塩酸、硫酸、酢酸等の酸、または水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、アミン類等のアルカリを添加して撹拌することにより得られる金属アルコキシドの加水分解生成物を用いることができる。
物質は、分子や原子により構成されているので、原子、分子構造によって振動子特性、密度などが決まってくる。d線における屈折率ndと可視光域の波長分散を示すアッベ数νdの分布をみると、図1に示したように、物質の原子、分子構成によって種々の光学特性が得られている。
【0015】
ところで、媒質中を伝搬する光波の振る舞いは、電磁気学のマックスウェルの4つの微分方程式から導き出され、空間的に分布のある屈折率を有する不均一媒質中での光波の振る舞いを考えると、物質の屈折率nと物質の分極率χ' の関係は式(1)のように表せる。
n2 =1+χ' 式(1)
本発明の光学素子では、大きさが可視光波長より小さい微粒子である第1の材料が第2の材料である有機無機複合材料の組成物に分散された構成の材料を用いていており、図3に示すような構造を有している。ここで、第1の材料である微粒子の大きさを2〜100nmとすると、微粒子は明確に有機無機複合材料に対し、界面を有しているので、その分極特性はバルク的な特性を示す。しかし、波長400〜750nmの可視光波長域の光への分極特性は図3のような構造を考えた場合、光学的に不均一性を無視できる大きさであるので、図3のような構造では式(2)のDrude理論により光学特性が示される。
n2 =1+χ1=1+T(n1 2−1) 式(2)
(n1 :第1の材料の屈折率、T:第1の材料の含有率で 0<T<1、n:全体の屈折率、χ1:第1の材料の分極率)
ここで、アッベ数は、式(3)のように示される。
νd=(nd −1)/(nF−nc) 式(3)
(nd:波長587nmでの屈折率、nF:波長486nmでの屈折率、 nc:波長656nmでの屈折率)
式(2)、(3)より、低分散性、すなわちアッベ数が大きい物質を第1の材料として加えることにより、全体を低分散とすることができることがわかる。
【0016】
低分散性の物質としては、フッ化マグネシウム(nd=1.377、νd=105)、フッ化カルシウム(nd=1.434、νd=95)、フッ化バリウム(nd =1.474、νd=82)などのフッ化物があるが、これらは結晶性で脆いなどのため、研削、研磨により光学素子の形状へ加工することが難しく、融点も高いため、ガラスのように精密プレス成形により非球面形状を形成することは困難であるが、本発明では、有機無機複合材料中へこれらのアッベ数が80以上の微粒子を混合させることにより低分散性を図ることが可能となり、式(4)により、混合物の屈折率が与えられる。
(n1:第1の材料の屈折率、n2:有機無機複合材料の屈折率、T:第1の材料の含有率で 0<T<1、χ2:有機無機複合材料の分散率)
ここで、第1の材料である微粒子の有機無機複合材料中への混合は、有機無機複合材料中で微粒子が可視光域の波長である400nmより十分に小さく、光散乱にほとんど寄与しない大きさで分散させられていれば、任意の方法で混合することができる。
【0017】
光散乱は、光の吸収によって光散乱が起こる微粒子の大きさが異なってくるため、光学素子で対象とされる光の波長域が400〜750nmの可視光域の範囲の場合、微粒子の大きさは2〜100nmが好ましい。また、800〜1600nm程度の赤外光は対象とした光学素子の場合には、微粒子の大きさが2〜400nmで光散乱は抑制できるので、微粒子の大きさは2〜400nmとすることができる。
低分散性を示す合成樹脂材料として、非晶質のフッ素樹脂(νd=90程度)があるが、フッ素樹脂は機械的特性として柔らかく(デュロメータ硬度 D45〜80程度)、線膨張係数も一般的な合成樹脂と同様の10-5オーダーである。したがって、このようなフッ素樹脂を単独で成形した光学素子とした場合、光学素子としては傷がつきやすく、熱膨張変化も大きいため、環境安定性に欠けてしまう。
本発明では、非晶質フッ素樹脂を有機無機複合材料の有機高分子材料、すなわち有機成分とした場合であっても、有機成分中に微細化された無機成分が均質に分散されて複合化された有機無機複合材料とすることにより、機械的特性を向上させ、熱膨張変化を小さくして環境安定性を得ている。
【0018】
有機無機複合材料における複合化の方法は光散乱を生じなければ、貫入型(IPN)、コンポジット型、共重合型のいずれの方法を採用することもできるが、本発明では、第1の材料として、微粒子を混合するので、第2の材料として、コンポジット型の有機無機複合材料を用いると、第1の材料である微粒子との干渉が起こり、配合量割合の範囲が小さくなる場合があるため、第2の材料は、貫入型(IPN)、もしくは共重合型の有機無機複合材料を用いることが好ましい。
【0019】
また、光学素子の形成用の組成物を屈折率波長低分散性とするには、式(3)、(4)に示すように、有機無機複合材料も屈折率波長低分散性であることが有利となる。屈折率波長低分散性の材料として、有機成分ではフッ素樹脂系の、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、ビニリデンフロライド等を含有する共重合体や、
【0020】
【化1】
【0021】
で示す、フッ素含有の繰り返し単位(1)または(2)の共重合体、あるいはこれらとテトラフルオロエチレンとの共重合体からなる非晶質フッ素樹脂(nd =1.28〜1.4、νd=85〜90)、アクリル系樹脂(nd =1.49、νd=58)、アモルファスポリオレフィン樹脂(nd =1.53、νd=57)等が挙げられる。
これらの成分に、アルキルトリアルコキシシランを加水分解重縮合して得られるシルセスキオキサンなどの無機高分子成分を複合化させることで、貫入型(IPN)の有機無機複合材料を得ることができる。
【0022】
また、アッベ数80以上の第1の材料としては、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム等のフッ化物が挙げられる。
これらの第1の材料の、大きさ100nm以下の微粒子を、第2の材料である有機無機複合材料に混合分散させることで、屈折率低分散性の光学材料を得ることができる。
【0023】
また、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、ビニリデンフロライド等の共重合により得られる非晶質フッ素樹脂、アクリル系樹脂、アモルファスポリオレフィン樹脂は熱可塑性を有しており、これらを無機材料と複合化した有機無機複合材料も同様に熱可塑性を示す。したがって、これらの材料からなる光学材料は、合成樹脂を単体で成形加工する場合と同じ成形方法、例えば圧縮成形、射出成形などにより、光学素子形状へ成形することができる。
また、アルキルトリアルコキシシランを加水分解重縮合させてゲル状態とし、これにアクリレートモノマーとラジカル重合開始剤を混合した重合性の粘稠液体を成形型へ流し込み、加熱もしくは光照射によりアクリレートモノマーをラジカル重合させることにより光学素子を成形することができる。
【0024】
【実施例】
以下、実施例、比較例を示して本発明を説明する。
実施例1
有機成分として、低級ケトン、エステル系溶剤に可溶なテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロパン−ビニリデンフロライドを共重合させたフッ素樹脂(ダイニオン社製THV220 融点110〜130℃)を、メチルエチルケトンに溶解させ10質量%濃度の溶液を調製した。
無機成分としてメチルトリメトキシシランとメタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランを8:2(モル比)で混合した溶液55.8重量部をアセトン30重量部に溶解し、メトキシ基に対して等量の水18.9重量部を加え、室温で24時間撹拌し、無機高分子成分の溶液を得た。この溶液の不揮発分質量に対してフッ素樹脂を1:9(質量比)で、この溶液とフッ素樹脂のメチルエチルケトン溶液を十分混合、撹拌して均質な有機無機複合材料の溶液を調製した。
さらにこの溶液に、平均粒径が50nmであるフッ化マグネシウム(nd=1.37,νd=105.5)微粉末を加え、十分に混合、撹拌した。フッ化マグネシウムは微粉末の加える割合は、有機無機複合材料溶液を乾燥して得られる有機無機複合材料の質量に対し、3:7(質量比)になる割合とした。
【0025】
この溶液をエバポレーターにより減圧下で加熱して溶液を濃縮し、粘稠液体を得た。これをシート形成用の型へ流し込み、残留する揮発成分を40℃に加熱して除去し、厚さ4mmの透明な板を得た。
この透明体の屈折率ndおよびアッベ数を測定したところ、nd=1.360、νd=85であった。また、表面の硬度は、デュロメータ硬度でD95であった。
この透明体板を用い、230℃の加熱下で、凹面、凸面を有する金型に挟み圧力を加えて圧縮成形を行った結果、直径20mm、中心肉厚2mm、中心と外周の肉厚比(偏肉度)3の凹メニス形状のレンズを成形することができた。
【0026】
本実施例で得られた透明体は、市販の低分散性とされるフツリン酸塩系ガラスのアッベ数(νd=81〜95)と同等の低分散性を示している。また、表面硬度は、本発明の光学素子の製造に用いたフッ素樹脂がデュロメータ硬度D45であったのに対し、アクリル樹脂(デュロメータ硬度D92)と同等以上まで硬くなっている。
また、加熱下での圧縮成形法によるレンズ形状の成形も可能であったので、これにより比較的口径の大きな低分散非球面形状レンズを得ることができるようになった。
また、フッ化マグネシウム微粒子と有機無機複合体材料との質量比を変化させた場合に得られる屈折率、アッベ数を表1に示す。
【0027】
【表1】
【0028】
表1に示したように、フッ化マグネシウム微粒子と有機無機複合材料との質量比を増減させることにより、屈折率、アッベ数が変化し、種々の光学特性のものが得られるため、光学設計上で、光学材料の選択幅を広げることができる。
【0029】
実施例2
実施例1におけるフッ化マグネシウムに代えて平均粒径70nmのフッ化カルシウム微粒子を用いた点以外は実施例1と同様にして厚さ4mmの透明板を得た。フッ化カルシウムの含有量を変化させた時の結果を下表に示した。
【0030】
【表2】
【0031】
この場合でも、屈折率波長低分散性の特性が得られた。これらについて、実施例1の場合と同様にして、厚さ4mmの透明板を230℃の加熱下で、凹面、凸面の金型により挟み込んで圧縮成形した結果、同形状の凹メニス形状のレンズを光学素子として成形できた。
【0032】
参考例1
メチルトリエトキシシランおよびメタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランを8:2(モル比)で混合した溶液55.8重量部に対し、アルコキシ基に対して等量の水18.9重量部を添加して、室温にて20時間攪拌して、アルコキシ基の重縮合を行った後、ヒドロキシエチルメタクリレートを5.7重量部添加し、エバポレーターにより40〜50℃で揮発分を除去して、無機成分溶液を調整した。次にメチルメタクリレートモノマーに光重合開始剤としてイルガキュア149を100:0.5(質量比)の割合で添加した溶液を作製し、これと同重量の無機成分溶液を混合し、有機無機複合体溶液を得た。
【0033】
この溶液50重量部に、平均粒径50nmのフッ化マグネシウム微粒子50重量部を加えて混合し、脱泡を行って透明な粘稠液体を得た。
この透明な粘稠液体を直角V字形を形成する簡易型へ流し込み、200W高圧水銀灯により紫外線を5分間照射して、光重合により硬化させた。この硬化物を用いて、屈折率およびアッベ数を測定した結果、nd=1.429、νd=70.7であった。
【0034】
次に、ホウケイ酸塩系光学ガラスにより作製された凹メニス形状のガラスレンズの凹面に調整した前記透明粘稠液体を供給し、その上から、非球面形状を有する金型を押し当てた。ガラスレンズ側より、200W高圧水銀灯により紫外線を5分間照射し、透明粘稠液体を光重合により硬化させて、金型をはずした。
これにより、ガラスレンズ面に低分散性の非球面形状を形成された。
また、フッ化マグネシウム微粒子の有機無機複合体中の含有量を変化させた結果を下記に示す。
【0035】
【表3】
【0036】
参考例2
参考例1において、フッ化マグネシウム微粒子に代えて平均粒径70nmのフッ化カルシウム微粒子を用いた点を除き、参考例1と同様にして、紫外線照射により硬化物を作製した結果、表4に示す光学特性が得られた。
【0037】
【表4】
【0038】
【発明の効果】
本発明によれば、アッベ数が59以上の屈折率波長低分散性で、成形により非球面など球面形状以外の光学面を形成できる光学素子を提供でき、光学系の高性能化や光学素子数を削減して軽量化や低コスト化が達成される。また、アッベ数が大きな微粒子の配合比率を調整することで、種々の光学特性を持つ材料が得られるようになるため、光学設計での材料選択の自由度を大幅に拡大することができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、光学ガラス、および光学用合成樹脂の屈折率、アッベ数の分布を説明する図である。
【図2】図2は、有機無機複合材料を説明する図である。
【図3】図3は、微粒子を分散した光学材料を説明する図である。
【符号の説明】
1…有機無機複合材料、2…有機高分子鎖、3…無機成分鎖、4…有機高分子成分、5…無機微粒子、6…有機成分、7…無機成分、8…光学材料、9…第1の材料、10…第2の材料
Claims (3)
- 光学素子において、可視域での波長分散を示すアッベ数νdが80以上であり、大きさが400nmよりも小さい微粒子である第1の材料と、炭素−炭素結合を主鎖に有する有機高分子材料と無機成分とからなる有機無機複合材料である第2の材料を含有する組成物を成形してなる光学素子であって、前記第2の材料の有機高分子材料は、非晶質フッ素樹脂を含有することを特徴とする光学素子。
- 第1の材料は、フッ化物であることを特徴とする請求項1記載の光学素子。
- 前記第2の材料の無機成分は、Si元素を含有することを特徴とする請求項1または2に記載の光学素子。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002175568A JP4217032B2 (ja) | 2002-06-17 | 2002-06-17 | 光学素子 |
| DE60307551T DE60307551T2 (de) | 2002-06-17 | 2003-06-16 | Optisches Element aus einem organischen/anorganischen Hybridmaterial und Feinpartikeln |
| EP03013652A EP1376157B1 (en) | 2002-06-17 | 2003-06-16 | Optical element comprising organic/inorganic hybrid material and fine particles |
| US10/462,604 US6917475B2 (en) | 2002-06-17 | 2003-06-17 | Optical element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002175568A JP4217032B2 (ja) | 2002-06-17 | 2002-06-17 | 光学素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004020912A JP2004020912A (ja) | 2004-01-22 |
| JP4217032B2 true JP4217032B2 (ja) | 2009-01-28 |
Family
ID=29717443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002175568A Expired - Fee Related JP4217032B2 (ja) | 2002-06-17 | 2002-06-17 | 光学素子 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6917475B2 (ja) |
| EP (1) | EP1376157B1 (ja) |
| JP (1) | JP4217032B2 (ja) |
| DE (1) | DE60307551T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013031173A1 (ja) * | 2011-08-26 | 2013-03-07 | パナソニック株式会社 | 光学材料及びこれを含む光学素子 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005316219A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Olympus Corp | 光学材料 |
| JP4464310B2 (ja) * | 2005-04-19 | 2010-05-19 | 株式会社小糸製作所 | 投射型自動車用前照灯 |
| JP4077508B2 (ja) * | 2005-08-29 | 2008-04-16 | 松下電器産業株式会社 | レンズの製造方法 |
| JP2007191687A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-08-02 | Sanyo Electric Co Ltd | 有機無機複合体形成用材料、有機無機複合体、その製造方法及び光学素子 |
| EP1978380A4 (en) | 2006-01-27 | 2014-07-09 | Asahi Glass Co Ltd | FLUOROPOLYMER FOR A CHROMATIC ERROR CORRECTION LENS AND CHROMATIC ERROR CORRECTION LENS |
| JP5424623B2 (ja) * | 2008-01-21 | 2014-02-26 | キヤノン株式会社 | 樹脂組成物およびそれにより成形された光学素子、回折光学素子及び積層型回折光学素子 |
| JP2009276726A (ja) * | 2008-04-17 | 2009-11-26 | Olympus Corp | 光学用の材料組成物およびそれを用いた光学素子 |
| JP5345379B2 (ja) * | 2008-12-22 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | 光学材料用樹脂組成物とその成形体、光学部品およびレンズ |
| CN107530733B (zh) * | 2014-06-17 | 2021-01-05 | 维帝安特光学有限公司 | 经校正光色散的消色差梯度折射率光学元件 |
| EP3191810A4 (en) * | 2014-09-09 | 2018-03-21 | The Government of the United States of America as represented by the Secretary of the Navy | Multispectral imaging system comprising new multispectral optics |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3750703T2 (de) * | 1986-03-25 | 1995-03-30 | Nippon Oils & Fats Co Ltd | Transparenter optischer Gegenstand und Verfahren zu seiner Herstellung. |
| JPS6483537A (en) | 1987-09-26 | 1989-03-29 | Hoya Corp | Fluorophosphate glass |
| JP3122236B2 (ja) | 1992-07-17 | 2001-01-09 | 株式会社住田光学ガラス | 精密プレス用光学ガラス |
| JP3117562B2 (ja) | 1992-10-22 | 2000-12-18 | 株式会社オハラ | 低分散光学ガラス |
| JP3086565B2 (ja) | 1993-04-30 | 2000-09-11 | シャープ株式会社 | 光学ガラス組成物 |
| WO1997010527A1 (en) * | 1995-09-14 | 1997-03-20 | The Regents Of The University Of California | Structured index optics and ophthalmic lenses for vision correction |
| EP1376224B1 (en) * | 1997-08-08 | 2010-10-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Structure for pattern formation, method for pattern formation, and application thereof |
| EP1754994B1 (en) * | 1998-09-22 | 2007-12-12 | FUJIFILM Corporation | Process for the preparation of an anti-reflection film |
| JP3517625B2 (ja) * | 1999-07-01 | 2004-04-12 | キヤノン株式会社 | 光学材料及びそれを用いた光学系 |
| JP2002048901A (ja) * | 2000-08-02 | 2002-02-15 | Olympus Optical Co Ltd | 有機無機複合材料を用いた光学素子 |
| US6797444B2 (en) * | 2001-07-18 | 2004-09-28 | Konica Corporation | Electrophotographic photoreceptor and production method of the same |
| JP4485717B2 (ja) * | 2001-09-04 | 2010-06-23 | 三井化学株式会社 | 熱可塑性材料組成物、及びそれを含んで構成される光学部品 |
| JP4485716B2 (ja) * | 2001-09-04 | 2010-06-23 | 三井化学株式会社 | 熱可塑性材料組成物、及びそれを含んで構成される光学部品 |
| JP2003073563A (ja) * | 2001-09-04 | 2003-03-12 | Mitsui Chemicals Inc | 熱可塑性材料組成物、及びそれを含んで構成される光学部品 |
-
2002
- 2002-06-17 JP JP2002175568A patent/JP4217032B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-06-16 DE DE60307551T patent/DE60307551T2/de not_active Expired - Fee Related
- 2003-06-16 EP EP03013652A patent/EP1376157B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-06-17 US US10/462,604 patent/US6917475B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013031173A1 (ja) * | 2011-08-26 | 2013-03-07 | パナソニック株式会社 | 光学材料及びこれを含む光学素子 |
| JP5214077B1 (ja) * | 2011-08-26 | 2013-06-19 | パナソニック株式会社 | 光学材料及びこれを含む光学素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE60307551T2 (de) | 2007-09-13 |
| US6917475B2 (en) | 2005-07-12 |
| DE60307551D1 (de) | 2006-09-28 |
| EP1376157B1 (en) | 2006-08-16 |
| EP1376157A2 (en) | 2004-01-02 |
| JP2004020912A (ja) | 2004-01-22 |
| EP1376157A3 (en) | 2004-09-01 |
| US20030231403A1 (en) | 2003-12-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Dislich | Plastics as optical materials | |
| JP4217032B2 (ja) | 光学素子 | |
| US8322869B2 (en) | Optical film, polarizing plate, and image display apparatus | |
| EP3513227B1 (en) | High refractive index nanocomposites | |
| JP5618510B2 (ja) | 光学材料および光学素子 | |
| JP2008081726A (ja) | 有機無機複合体形成用材料及び有機無機複合体並びにそれを用いた光学素子 | |
| JP5701474B2 (ja) | 無機微粒子分散液、有機無機複合組成物、成形体および光学部品 | |
| JPWO2009025127A1 (ja) | 光学用樹脂材料及び光学素子 | |
| JP2005316219A (ja) | 光学材料 | |
| JP5217644B2 (ja) | 光学レンズおよびその製造方法 | |
| CN1715980A (zh) | 非球面镜片及其制造方法 | |
| JP7327979B2 (ja) | 硬化物、硬化物を用いた光学素子、回折光学素子、光学機器および撮像装置 | |
| JP2007009187A (ja) | 透明樹脂成形体およびそれからなる眼鏡用レンズ | |
| JP7224834B2 (ja) | 回折光学素子、樹脂組成物、光学機器 | |
| JP2018045137A (ja) | 映像を投影可能な積層体、およびそれを備えた映像投影システム | |
| JP2005003772A (ja) | 光学材料用組成物および光学素子 | |
| WO2009025311A1 (en) | Optical lens, optical system unit and imaging apparatus | |
| JP2007191687A (ja) | 有機無機複合体形成用材料、有機無機複合体、その製造方法及び光学素子 | |
| US6927899B2 (en) | Optical element for use in connection with radiation in the infrared portion of the electromagnetic spectrum and method of making same | |
| JP2004126511A (ja) | 光学要素ユニットおよび光学系 | |
| JP2005036174A (ja) | 光学材料用樹脂組成物およびこれを用いた光学素子 | |
| US20050007681A1 (en) | Optical system | |
| JP4135072B2 (ja) | 高屈折率光学膜用分散液及び高屈折率光学膜とその製造方法 | |
| JP2006022291A (ja) | 光学材料用組成物及び光学材料 | |
| JP2004012950A (ja) | 光拡散素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050615 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080725 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080918 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081017 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081107 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4217032 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111114 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111114 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121114 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131114 Year of fee payment: 5 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |