JP4229497B2 - 基板処理装置および基板の処理方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板処理装置に関し、特に、半導体ウェーハ等の電子部品製造用の基板の処理を行う基板処理装置であってクリーンルーム内で使用される基板処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図２に、従来のこのような基板処理装置の概略断面図を示す。
【０００３】
近年においては、クリーンルーム上方にレール等を配し、複数の半導体ウェーハを収容するカセットを天井部で各装置間を搬送する天井カセット搬送ＡＧＶ（Automated Guided Vehicle）が１２インチウェーハにおいて主流になりつつあり、これに対応するため、半導体ウェーハの処理を行う基板処理装置１１０は、その前面が全てカセット搬送領域４０となっている。また、このように前面が全てカセット搬送領域４０となっているため、その部分をカセット収容スペースとして使用することができず、カセット収納数に制限ができている。例えば、従来においては、図２に示すように、カセットを搬入／搬出するＩ／Ｏステージ４１が基板処理装置１１０の前面の下部に形成されており、天井搬送ＡＧＶ８とこのＩ／Ｏステージ４１との間でカセット（プロセス用カセット６およびダミー用またはモニタ用カセット７）を搬送するので、基板処理装置１１０の前面が全てカセット搬送領域４０となっており、この部分をカセット収容スペースとして使用することができない。また、ＡＧＶにより、プロセス用、ダミー用、モニタ用と全てのカセットの搬送を行うための各々のカセットが何用かを認識することが難しい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、天井搬送ＡＧＶ対応の基板処理装置における問題点である、カセットの運用が難しいこと、およびカセット収納数が低下することを解決し、カセット運用を容易にし、カセット収容数の低下を防止できる基板処理装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、基板の処理を行う基板処理装置であって、前記基板処理装置の一方の側に設けられ基板を処理する反応炉と、前記基板処理装置の前記一方の側とは反対側の他方の側に設けられたカセット室と、前記カセット室の側部であって前記基板処理装置の前記他方の側の前記側部の上端部に設けられカセットを搬入又は搬出する上側のＩ／Ｏステージと、前記カセット室の前記側部の下部に設けられカセットを搬入又は搬出する下側のＩ／Ｏステージと、前記反応炉と前記上側のＩ／Ｏステージとの間の前記カセット室に設けられた第１のカセット収容部と、前記カセット室の側部であって前記上側のＩ／Ｏステージと前記下側のＩ／Ｏステージとの間に設けられた第２のカセット収容部と、前記カセット室の前記第１のカセット収容部と前記第２のカセット収容部との間に設けられたカセット移載機であって、少なくとも前記第１のカセット収容部と前記上側のＩ／Ｏステージとの間および前記第２のカセット収容部と前記下側のＩ／Ｏステージとの間でカセットを搬送可能に設けられた前記カセット移載機と、を備えていることを特徴とする基板処理装置が提供される。
また、本発明によれば、基板の処理を行う基板処理装置であって、前記基板処理装置の一方の側に設けられた反応炉であって、ボートに搭載した基板を処理する前記反応炉と、前記基板処理装置の前記一方の側とは反対側の他方の側に設けられたカセット室と、前記カセット室の側部であって前記基板処理装置の前記他方の側の前記側部の上端部に設けられカセットを搬入又は搬出する上側のＩ／Ｏステージと、前記カセット室の前記側部の下部に設けられカセットを搬入又は搬出する下側のＩ／Ｏステージと、前記反応炉と前記上側のＩ／Ｏステージとの間の前記カセット室に設けられた第１のカセット収容部と、前記カセット室の前記側部であって前記上側のＩ／Ｏステージと前記下側のＩ／Ｏステージとの間に設けられた第２のカセット収容部と、前記カセット室の前記第１のカセット収容部と前記第２のカセット収容部との間に設けられたカセット移載機であって、少なくとも前記第１のカセット収容部と前記上側のＩ／Ｏステージとの間および前記第２のカセット収容部と前記下側のＩ／Ｏステージとの間でカセットを搬送可能に設けられた前記カセット移載機と、を備えている基板処理装置を用いて基板を処理する基板の処理方法であって、前記カセットと前記ボートとの間で基板を移載する工程と、前記反応炉内に基板を搭載した前記ボートを挿入する工程と、前記反応炉内で基板を処理する工程とを有することを特徴とする基板の処理方法が提供される。
【０００６】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。
【０００７】
図１は、本実施の形態の半導体ウェーハ処理装置を示す概略断面図である。
【０００８】
本実施の形態の半導体ウェーハ処理装置１０は、１２インチのＳｉウェーハに好適に適用されるものであり、クリーンルーム上方にレール等を配し、複数の半導体ウェーハを収容するカセットを天井部において各装置間を搬送する天井カセット搬送ＡＧＶ（Automated Guided Vehicle）を備えるクリーンルーム内で好適に使用される。
【０００９】
この半導体ウェーハ処理装置１０においては、その後方の上方に反応炉１１が設けられ、反応炉１１の下にはロードロック室１２が設けられ、前方にはカセット室１４が設けられ、カセット室１４とロードロック室１２との間には窒素雰囲気室１３が設けられている。
反応炉１１はヒータ３３とその内部に設けられた反応管３２とを備えており、複数の半導体ウェーハ２０を垂直方向に積層して搭載したボート３１を反応管３２内に挿入して、半導体ウェーハ２０の処理を行う。
【００１０】
反応炉１１とロードロック室１２との間は、ゲートバルブ１７で仕切られており、反応炉１１内での処理前および処理後にゲートバルブ１７を開いて複数の半導体ウェーハ２０を搭載したボート３１をこれらの間で移動させる。
【００１１】
ロードロック室１２と窒素雰囲気室１３との間にはゲートバルブ１５が設けられている。窒素雰囲気室１３内には、ウェーハ移載機１６が設けられており、これによってロードロック室１２内のボート３１とプロセス用カセット６やダミー用またはモニタ用カセット７との間でウェーハ２０の移載を行う
カセット室１４の前方には、２つのＩ／Ｏステージ１、４が設けられている。Ｉ／Ｏステージ１は上部に設けられ、Ｉ／Ｏステージ４は下部に設けられている。
【００１２】
カセット室１４の前方の２つのＩ／Ｏステージ１、４間には、ダミーまたはモニタ用カセット棚５が設けられている。カセット室１４の後方には、回転カセット棚２が設けられている。
【００１３】
複数のプロセス用のウェーハ２０を収容するプロセス用カセット６は、天井カセット搬送ＡＧＶ８によりＩ／Ｏステージ１に置かれる。その後、プロセス用カセット６は、回転カセット棚２にカセットハンド３で搬送される。また、プロセス用カセット６は、回転カセット棚２からカセットハンド３でＩ／Ｏステージ１に搬送され、その後、天井カセット搬送ＡＧＶ８によりクリーンルーム内の他の基板処理装置に搬送される。
【００１４】
また、Ｉ／Ｏステージ４には手動または既存の床上を移動するＡＧＶ（図示せず。）にて、ダミー用またはモニタ用カセット７を置き、その後、ダミー用またはモニタ用カセット７は、カセットハンド３でダミーまたはモニタ用カセット棚５に搬送される。また、ダミー用またはモニタ用カセット７は、ダミー用またはモニタ用カセット棚５からカセットハンド３でＩ／Ｏステージ４に搬送され、その後、手動または既存の床上を移動するＡＧＶにて搬送される。
【００１５】
このように、プロセス用カセット、ダミー、モニタ用カセットを別々に運用することでスループットが向上し、カセット運用管理がわかりやすくなる。
【００１６】
また、下部のＩ／Ｏステージ４を設けたことにより、天井カセット搬送ＡＧＶが異常時に、マニュアルでのプロセスカセットの投入が可能となる。
【００１７】
さらに、上下２つのＩ／Ｏステージ１、４間にダミーまたはモニタ用カセット棚５を設けることができるので、カセット収納数が低下することが防止できる。
【００１８】
このように、本実施の形態では、プロセス用カセット、ダミー、モニタ用カセットを別々に投入することにより、カセット運用が容易となる。また、本実施の形態の半導体ウェーハ処理装置１０は、量産工場での天井カセット搬送ＡＧＶに好適に対応可能である。
【００１９】
なお、上記本発明の一実施の形態では、基板処理装置で処理する基板として、半導体ウェーハを例にとって説明したが、液晶表示素子製造用のガラス基板等を処理する場合にも、本発明が好適に適用できる。
【００２０】
【発明の効果】
本発明においては、カセットを搬入／搬出するＩ／Ｏステージが上下に２ヶ所あり、上側のＩ／Ｏステージは、天井カセット搬送ＡＧＶに対応しておりプロセス用カセット用として使用し、下側のＩ／Ｏステージは、ダミー用カセット用および／またはモニタ用カセット用として使用するので、カセットが何用であるかの識別が容易であり、その結果、カセット運用が容易となる。
【００２１】
また、上側のＩ／Ｏステージ間にもカセット収容部が確保でき、カセット収納数が低下すること防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の半導体ウェーハ処理装置を示す概略断面図である。
【図２】従来の半導体ウェーハ処理装置を示す概略断面図である。
【符号の説明】
１、４…Ｉ／Ｏステージ
２…回転カセット棚
３…カセットハンド（カセット移載機）
５…ダミーカセット棚
６…プロセス用カセット
７…ダミー用またはモニタ用カセット
８…天井搬送ＡＧＶ
１０…半導体ウェーハ処理装置
１１…反応炉
１２…ロードロック室
１３…窒素雰囲気室
１４…カセット室
１６…ウェーハ移載機
２０…半導体ウェーハ
３１…ボート
Claims (2)
- 基板の処理を行う基板処理装置であって、
前記基板処理装置の一方の側に設けられ基板を処理する反応炉と、
前記基板処理装置の前記一方の側とは反対側の他方の側に設けられたカセット室と、
前記カセット室の側部であって前記基板処理装置の前記他方の側の前記側部の上端部に設けられカセットを搬入又は搬出する上側のＩ／Ｏステージと、
前記カセット室の前記側部の下部に設けられカセットを搬入又は搬出する下側のＩ／Ｏステージと、
前記反応炉と前記上側のＩ／Ｏステージとの間の前記カセット室に設けられた第１のカセット収容部と、
前記カセット室の前記側部であって前記上側のＩ／Ｏステージと前記下側のＩ／Ｏステージとの間に設けられた第２のカセット収容部と、
前記カセット室の前記第１のカセット収容部と前記第２のカセット収容部との間に設けられたカセット移載機であって、少なくとも前記第１のカセット収容部と前記上側のＩ／Ｏステージとの間および前記第２のカセット収容部と前記下側のＩ／Ｏステージとの間でカセットを搬送可能に設けられた前記カセット移載機と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 基板の処理を行う基板処理装置であって、
前記基板処理装置の一方の側に設けられた反応炉であって、ボートに搭載した基板を処理する前記反応炉と、
前記基板処理装置の前記一方の側とは反対側の他方の側に設けられたカセット室と、
前記カセット室の側部であって前記基板処理装置の前記他方の側の前記側部の上端部に設けられカセットを搬入又は搬出する上側のＩ／Ｏステージと、
前記カセット室の前記側部の下部に設けられカセットを搬入又は搬出する下側のＩ／Ｏステージと、
前記反応炉と前記上側のＩ／Ｏステージとの間の前記カセット室に設けられた第１のカセット収容部と、
前記カセット室の前記側部であって前記上側のＩ／Ｏステージと前記下側のＩ／Ｏステージとの間に設けられた第２のカセット収容部と、
前記カセット室の前記第１のカセット収容部と前記第２のカセット収容部との間に設けられたカセット移載機であって、少なくとも前記第１のカセット収容部と前記上側のＩ／Ｏステージとの間および前記第２のカセット収容部と前記下側のＩ／Ｏステージとの間でカセットを搬送可能に設けられた前記カセット移載機と、を備えている基板処理装置を用いて基板を処理する基板の処理方法であって、
前記カセットと前記ボートとの間で基板を移載する工程と、
前記反応炉内に基板を搭載した前記ボートを挿入する工程と、
前記反応炉内で基板を処理する工程とを有することを特徴とする基板の処理方法。
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| JP26895798A JP4229497B2 (ja) | 1998-09-07 | 1998-09-07 | 基板処理装置および基板の処理方法 |
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