JP4483384B2 - Photomask manufacturing information management system and photomask manufacturing information management method using the same - Google Patents
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Description
本発明は、半導体集積回路装置用のフォトマスクの製造工程に係るフォトマスクの製造情報の管理システム及びそれを用いたフォトマスクの製造情報の管理方法に関する。 The present invention relates to a photomask manufacturing information management system relating to a photomask manufacturing process for a semiconductor integrated circuit device, and a photomask manufacturing information management method using the photomask manufacturing information management system.
半導体集積回路装置の製造工程では、被転写基板であるウエハ上に多層に配線を形成するために、露光光を用いてフォトマスク上の集積回路パターンを前記ウエハに転写するフォトリソグラフィ工程が複数回繰り返されている。一方、半導体集積回路装置の製造期間の短縮等の改善が進められている。その手段として、種々の標準化や前記フォトマスクの製造の日数（工期）の短縮が図られている。特に、一つの半導体集積回路装置の製造工程は、複数のフォトマスクが必要であり、前記ウエハに転写するフォトリソグラフィ工程毎に、その順に所定のフォトマスクを供給することが重要となる。特に、このフォトマスクをタイムリーに供給できるか否かが半導体集積回路装置の製造の日数を決める重要な要因となっている。 In the manufacturing process of a semiconductor integrated circuit device, in order to form wiring in multiple layers on a wafer, which is a substrate to be transferred, a photolithographic process for transferring an integrated circuit pattern on a photomask to the wafer using exposure light is performed a plurality of times. It has been repeated. On the other hand, improvements such as shortening the manufacturing period of the semiconductor integrated circuit device are being promoted. As means for this, various standardizations and shortening of the number of days (construction period) for manufacturing the photomask are attempted. In particular, a manufacturing process of one semiconductor integrated circuit device requires a plurality of photomasks, and it is important to supply a predetermined photomask in that order for each photolithography process to be transferred to the wafer. In particular, whether or not this photomask can be supplied in a timely manner is an important factor that determines the number of days for manufacturing a semiconductor integrated circuit device.
半導体集積回路装置用の前記フォトマスクの製造工程では、透明基板上に遮光層、レジスト層を順次、積層する塗布工程と、前記レジスト層に電子描画装置を用いてパターニングする露光工程、必要とするパターン部のみが欠落した状態のレジストパターンを形成する現像処理工程と、前記レジストパターンをマスクとして前記遮光層をエッチングによってパターニングして、必要とするパターン部のみが欠落した状態の遮光パターンを形成するエッチング処理工程と、前記レジストパターンを剥離する剥膜処理工程を処理されてフォトマスクが製造される。前記フォトマスクは、予め計画された順番及びその完了日に従ってその順番に投入され、タイムリーに半導体集積回路装置の製造工程内に供給する方法で管理されている。 The manufacturing process of the photomask for a semiconductor integrated circuit device requires a coating process for sequentially stacking a light shielding layer and a resist layer on a transparent substrate, and an exposure process for patterning the resist layer using an electronic drawing apparatus. A development process for forming a resist pattern in which only the pattern portion is missing, and patterning the light shielding layer by etching using the resist pattern as a mask to form a light shielding pattern in which only the necessary pattern portion is missing. A photomask is manufactured by performing an etching process and a film removal process for removing the resist pattern. The photomasks are introduced in the order according to the planned order and the completion date, and are managed in a timely manner so as to be supplied into the manufacturing process of the semiconductor integrated circuit device.
フォトマスクの製造工程では、移動するフォトマスクをＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納してその工程間の運搬を行っている。前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤは、製造工程内に配置した装置への透明基板をロード及びアンロードする動作で、自動化可能なフォトマスクの収納容器であり、グローバルスタンダードの容器である。前記装置は、フォトマスク製造工程において使用されるあらゆる装置であり、例えば、成膜装置、塗布装置、電子線描画装置、現像処理装置、エッチング処理装置、剥膜処理装置、洗浄装置、検査装置等の製造装置と、自動化ライン装置、工程内待避ブース装置、等の自動搬送が含まれる。最近では、ＳＭＩＦ−ＰＯＤは、ＲＦ−ＩＤタグが具備されている。前記ＲＦ−ＩＤタグは、収容したフォトマスク、又は透明基板等に付与された特定する名称や製造進捗日時、又は完成予定日時等の項目の情報を管理・記録する用途のものである。前記ＲＦ−ＩＤタグは、透明基板の情報、例えば、基板厚、遮光膜の膜質、レジストの区分及び感度および製造履歴が記録されており、この情報をベースに、経由した前記製造装置毎に、製造実績のレシピを追加記録する。次に経由した装置では、該装置の記録したレシピを活用・判定し、その指示条件レシピに従って装置が処理する。前記レシピは、電子線描画装置のレシピ、例えば、照射量、近接効果補正係数であり、製造工程のプロセスレシピ、例えば、温度、時間、ガス又は薬液の流量、圧力、回転数等である。 In a photomask manufacturing process, a moving photomask is stored in a SMIF-POD and transported between the processes. The SMIF-POD is a photomask storage container that can be automated by loading and unloading a transparent substrate to and from a device arranged in a manufacturing process, and is a global standard container. The apparatus is any apparatus used in the photomask manufacturing process. For example, a film forming apparatus, a coating apparatus, an electron beam drawing apparatus, a development processing apparatus, an etching processing apparatus, a film removal processing apparatus, a cleaning apparatus, an inspection apparatus, etc. Manufacturing equipment, automated line equipment, in-process waiting booth equipment, and the like. Recently, SMIF-POD is equipped with an RF-ID tag. The RF-ID tag is used for managing and recording information of items such as a specified name, a manufacturing progress date and time, or a scheduled completion date and time given to a stored photomask or transparent substrate. In the RF-ID tag, information on the transparent substrate, for example, the substrate thickness, the film quality of the light shielding film, the classification and sensitivity of the resist, and the manufacturing history are recorded. Record additional manufacturing recipes. In the next routed device, the recipe recorded by the device is utilized / determined, and the device processes according to the instruction condition recipe. The recipe is a recipe for an electron beam drawing apparatus, for example, an irradiation amount, a proximity effect correction coefficient, and a process recipe for a manufacturing process, for example, temperature, time, gas or chemical flow rate, pressure, rotation speed, and the like.
前記ＲＦ−ＩＤタグに記録されている情報及びレシピを確認する手段は、装置にＲＦ−ＩＤリーダライタ（以下ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗと記す）が付設されており、ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／ＷがＲＦ−ＩＤタグに記録されている情報及びレシピを読み取ったり、逆にＲＦ−ＩＤタグに書き込んだりする技術システムが開発されている（特許文献１参照）。 The means for confirming the information and recipe recorded in the RF-ID tag is provided with an RF-ID reader / writer (hereinafter referred to as RF-ID / R / W) attached to the apparatus. A technical system has been developed in which W reads information and recipes recorded in an RF-ID tag, and conversely writes in an RF-ID tag (see Patent Document 1).
しかしながら、前記装置の全てにＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗが付設されているわけではない。その理由は、その製造装置のメーカの技術対応力の不足によりＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗを付与することができない場合もあれば、ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗを付与することはできてもそのために高額な付設費用を要する場合等がある。現状では、装置にＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗが付設されていない場合には、別途クリーンペーパ等に情報及びレシピを記入して、ＳＭＩＦ−ＰＯＤに貼付することで対処している。しかし、その方法では、以下の問題点がある。ＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納したフォトマスク、又は透明基板を自動的に識別することができない。透明基板が装置に投入されたか、否か等の進捗情報を得ることができない。前記情報及びレシピを記入したクリーンペーパ等から、事後に人手を介して登録しても、入力ミス等の人為的なミスにより不良が発生する恐れがある。さらに、紙等の貼付により発塵する問題がある。 However, not all of the devices are provided with RF-ID / R / W. The reason is that RF-ID · R / W may not be granted due to lack of technical capability of the manufacturer of the manufacturing apparatus, and RF-ID · R / W may be granted. In some cases, expensive installation costs are required. Under the present circumstances, when RF-ID * R / W is not attached to the apparatus, information and a recipe are separately written on a clean paper or the like and attached to the SMIF-POD. However, this method has the following problems. It is not possible to automatically identify the photomask or transparent substrate stored in the SMIF-POD. It is not possible to obtain progress information such as whether or not a transparent substrate has been introduced into the apparatus. Even if it is registered manually after the clean paper or the like in which the information and the recipe are entered, there is a possibility that a defect may occur due to an artificial error such as an input error. Furthermore, there is a problem that dust is generated by sticking paper or the like.
以下に公知文献を記す。
本発明の目的は、ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗが付設されていないＳＭＩＦ−ＰＯＤに対応する装置にて透明基板を処理する場合でも、ＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納された透明基板を特定する名称を自動的に識別し、該透明基板の情報及びレシピを読み取り、その進捗情報を得ることができ、逆に自動的に書き込むことにより、入力ミス等の人為的要因を排除し、さらに、人手を介して貼り紙等から発生する塵埃が透明基板に付着して製品不良となる原因を排除することができるフォトマスクの製造情報の管理システム及びその方法を提供することにある。 An object of the present invention is to automatically specify a name for identifying a transparent substrate accommodated in the SMIF-POD even when the transparent substrate is processed by a device corresponding to the SMIF-POD not provided with the RF-ID / R / W. to identify and read the information and recipes of the transparent substrate, the it is possible to obtain the progress information, by automatically writing it conversely, to eliminate the human factors such as input errors, further via the manual Another object of the present invention is to provide a photomask manufacturing information management system and method capable of eliminating the cause of dust generated from a sticker or the like adhering to a transparent substrate and causing a product defect.
本発明の請求項１に係る発明は、半導体集積回路装置用のフォトマスクの製造工程に適用し、各種の製造装置及びその装置間を連結する基板搬送装置より構成する生産ラインと、該生産ラインの製造進捗の日時情報及びレシピを管理する各種ワークステーションより構成する管理ラインとからなるフォトマスクの製造情報管理システムにおいて、前記生産ラインは、製造装置及び、透明基板を収納したＳＭＩＦ−ＰＯＤを前記製造装置の正面位置に付設したＳＭＩＦポートに搬送して載置する基板搬送装置から構成され、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤにはＲＦ−ＩＤタグを装着し、前記管理ラインは、前記製造装置内の情報の出入力部と配線で接続され前記製造装置の近傍に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタ及び、前記ＲＦ−ＩＤリーダライタを配線で接続して制御管理するワークステーション及び情報及びレシピの記録／出力が可能な生産管理データベースから構成され、前記ＲＦ−ＩＤリーダライタが非接触通信により、前記ＲＦ−ＩＤタグに前記透明基板の外形寸法及び板厚と金属薄膜の層構成の情報から成る管理情報を書き込み、又は、読み出し、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤに前記管理情報と合致する透明基板を収納し、前記製造装置のＳＭＩＦポートに前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤが載置されると前記ＲＦ−ＩＤタグに書き込まれた前記管理情報と前記製造装置のマスク製造仕様の情報を照合し、一致した場合に前記透明基板を前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤから取り出し、所定の処理を施した後に、待機させていた前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納し、前記ＲＦ−ＩＤタグには前記処理の終了時間を記録し、前記生産管理データベースには、少なくとも製造処理工程の情報と製造進捗日時の情報を記録することを特徴とするフォトマスクの製造情報管理システムである。
The invention according to
本発明の請求項２に係る発明は、請求項１記載のフォトマスクの製造情報管理システムを用いたフォトマスクの製造情報の管理方法において、少なくとも以下の工程を含むことを特徴とするフォトマスクの製造情報の管理方法である。
（ａ）ＳＭＩＦ−ＰＯＤに透明基板を収納し、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着されたＲＦ−ＩＤタグにＲＦ−ＩＤリーダライタが非接触通信により、前記透明基板の外形寸法及び板厚と金属薄膜の層構成の情報から成る管理情報を書き込む工程。
（ｂ）前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤを前記製造装置のＳＭＩＦポートに載置し、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤの前記ＲＦ−ＩＤタグに書き込まれた前記管理情報と前記製造装置の製造仕様の情報を照合する工程。
（ｃ）該照合結果が一致した場合に、前記ＲＦ−ＩＤリーダライタは、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着したＲＦ−ＩＤタグに前記製造装置の製造処理の開始時間を書き込み、前記透明基板を前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤから取り出し前記製造装置へ載置して前記製造装置が前記透明基板に所定の処理を施す工程。
（ｄ）該製造装置内の情報の出入力部より前記所定の処理の情報及びレシピを出力し該製造装置と配線で接続されたＲＦ−ＩＤリーダライタとワークステーションを経由して生産管理データベースへ記録する工程。
（ｅ）前記透明基板を待避中のＳＭＩＦ−ＰＯＤへ収納し、ＲＦ−ＩＤタグには該所定の処理の終了時間を記録し、生産管理データベースへ透明基板の処理の終了の情報及びレシピを記録する工程。
Invention, Te managing smell of manufacturing information of a photomask using the manufacturing information management system of the photomask according to
(A) A transparent substrate is accommodated in the SMIF-POD, and an RF-ID reader / writer is connected to the RF-ID tag attached to the SMIF-POD by non-contact communication, so that the outer dimensions and thickness of the transparent substrate and the metal thin film A process of writing management information composed of layer configuration information.
(B) A step of placing the SMIF-POD on the SMIF port of the manufacturing apparatus and collating the management information written in the RF-ID tag of the SMIF-POD with the manufacturing specification information of the manufacturing apparatus.
(C) If the collating results match, the RF-ID reader writer writes the starting time of the manufacturing process of the manufacturing apparatus in RF-ID tag attached to the SMIF-POD, the transparent substrate process the manufacturing apparatus performing a predetermined process on the transparent substrate is placed into the production apparatus was taken out from the SMIF-POD.
(D) Output the information and recipe of the predetermined processing from the information input / output unit in the manufacturing apparatus, and connect to the production management database via the RF-ID reader / writer and the workstation connected to the manufacturing apparatus by wiring . The process of recording.
(E) The transparent substrate is stored in the saving SMIF-POD, the end time of the predetermined processing is recorded in the RF-ID tag, and the processing end information and recipe of the transparent substrate are recorded in the production management database. Process.
本発明の方法、すなわち、製造装置とは別にオフラインでＲＦ−ＩＤリーダライタを付設したフォトマスクの製造情報の管理システム及びそれを用いたフォトマスクの製造情報の管理方法を用いることにより、ＲＦ−ＩＤリーダライタが付設されていないＳＭＩＦ−ＰＯＤ対応の製造装置で透明基板に所定の処理をする場合でも、ＳＭＩＦ−ＰＯＤに付設したＲＦ−ＩＤタグに情報及びレシピの書き込み（記録）や、読み取り（呼出）をすることができ、ＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納された透明基板の製造装置へのロード／アンロードの情報及びレシピによりその進捗情報を得ることができ、入力ミス等の人為的要因が排除でき、ＳＭＩＦ−ＰＯＤに紙等を貼付け等の人手の作業を排除し、発塵源を無くしたため、透明基板に塵埃が付着する品質不良を削減することができ、さらに、生産管理データベースに対して各々の製造装置の情報及びレシピをワークステーションに登録し、該ワークステーションの記録／呼出の機能によりフォトマスクの製造進捗日時の情報又は完了計画日時等を随時に提供できる。また、半導体集積回路装置の製造工程でのウエハに転写するフォトリソグラフィ工程毎に、所定のフォトマスクをタイムリーに供給できることにより、半導体集積回路装置の製造の日数を安定的に短縮する効果がある。 By using the method of the present invention, that is, the photomask manufacturing information management system and the photomask manufacturing information management method using the photomask manufacturing information management system in which an RF-ID reader / writer is provided offline separately from the manufacturing apparatus, the RF- Even when a predetermined processing is performed on a transparent substrate in a SMIF-POD compatible manufacturing apparatus without an ID reader / writer, information and recipe writing (recording) and reading (reading) are performed on an RF-ID tag attached to the SMIF-POD. And the progress information can be obtained from recipes for loading / unloading the transparent substrate stored in the SMIF-POD and the recipe, and human factors such as input errors can be eliminated. The quality that dust adheres to the transparent substrate is eliminated by eliminating manual work such as pasting paper etc. on SMIF-POD and eliminating the source of dust generation. In addition, the information and recipes of each manufacturing apparatus are registered in the workstation with respect to the production management database, and the photomask manufacturing progress date / time information or the recording / calling function of the workstation Completion plan date and time can be provided at any time. In addition, since a predetermined photomask can be supplied in a timely manner for each photolithography process to be transferred onto a wafer in the manufacturing process of the semiconductor integrated circuit device, there is an effect of stably reducing the number of days for manufacturing the semiconductor integrated circuit device. .
本発明のフォトマスクの製造情報管理システムを一実施形態に基づいて以下に説明する。図１ａ〜ｂは、本発明のフォトマスクの製造情報管理システムの一実施例を示す概念図である。図１ａに示すように、まず、半導体集積回路装置用のフォトマスクの製造工程では、各種の製造装置（２）と、その装置間を連結する基板搬送装置（３）とにより構成する生産ライン（４）と、該生産ラインの情報及びレシピの管理する各種ワークステーション（６、１６）より構成する管理ライン（７）とから構築されている。 A photomask manufacturing information management system of the present invention will be described below based on an embodiment. 1A and 1B are conceptual diagrams showing an embodiment of a photomask manufacturing information management system according to the present invention. As shown in FIG. 1a, first, in a photomask manufacturing process for a semiconductor integrated circuit device, a production line (2) and a production line (3) configured by connecting various devices (2) and a substrate transfer device (3) for connecting the devices. 4) and a management line (7) composed of various workstations (6, 16) for managing the production line information and recipes.
次に、本発明のフォトマスクの製造情報管理システム（１）の管理ライン（７）は、生産ラインにおいては、製造装置の製造装置側出入力（１２）と、その装置間を連結するＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）を具備した基板搬送装置と、該ＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納される特定する名称を付与した透明基板（１０）から構成され、管理ラインにおいては、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着したＲＦ−ＩＤタグ（１４）と、前記製造装置の近傍に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）と、該ＲＦ−ＩＤリーダライタを制御管理するワークステー
ション（１６）と、情報及びレシピの記録／出力する生産管理データベース（１７）から構成されている。
Next, the management line (7) of the photomask manufacturing information management system (1) according to the present invention is connected to the manufacturing apparatus side input / output (12) of the manufacturing apparatus and the SMIF- An RF-ID mounted on the SMIF-POD is composed of a substrate transfer device having a POD (13) and a transparent substrate (10) having a specific name stored in the SMIF-POD. Tag (14), RF-ID reader / writer (15) mounted in the vicinity of the manufacturing apparatus, workstation (16) for controlling and managing the RF-ID reader / writer, and production for recording / outputting information and recipes It consists of a management database (17).
次に、図１ｂは、ａ図の破線枠部の詳細図である。ｎ番目の装置Ｍｎのフォトマスクの製造情報管理システムを説明するもので、ＳＭＩＦポート（２３）へ特定する名称を付与した透明基板（１０）を収納したＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）が投入され、載置されている。製造装置の製造装置側出入力（１２）は、製造装置内の情報及びレシピ等の信号を出力、又は入力するものである。製造装置の近傍には、オフライン状態で、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）が付設され、該ＲＦ−ＩＤリーダライタは、製造装置側出入力（１２）よりの受信、又はＲＦ−ＩＤタグ（１４）との送受信、又はワークステーション（１６）との送受信を分担する。ワークステーション（１６）は、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）より受信したフォトマスクの製造の情報及びレシピ（５）を各製造装置間にネットワークされたワークステーション（６）を経由して、生産管理データベース（１７）に登録しデータベースを構築する。 Next, FIG. 1b is a detailed view of the broken-line frame part of FIG. The manufacturing information management system for the photomask of the n-th apparatus Mn will be described. A SMIF-POD (13) containing a transparent substrate (10) with a specific name assigned to the SMIF port (23) is inserted and mounted. Is placed. The manufacturing apparatus side input / output (12) of the manufacturing apparatus outputs or inputs signals such as information and recipes in the manufacturing apparatus. In the vicinity of the manufacturing apparatus, an RF-ID reader / writer (15) is attached in an off-line state, and the RF-ID reader / writer receives from the manufacturing apparatus side input / output (12) or receives an RF-ID tag (14). ) And transmission / reception with the workstation (16). The work station (16) manages the production information and the recipe (5) received from the RF-ID reader / writer (15) via the work station (6) networked between the manufacturing apparatuses. Register in the database (17) and build the database.
次に、以下に具体的な実施例に従って説明する。図２ａ〜ｂは、本発明のフォトマスクの製造情報の管理方法を説明するフロー図である。図１ａ〜ｂに示すフォトマスクの製造情報管理システム（１）を用いて、フォトマスクの製造情報の管理方法の手順を説明する。まず、特定する名称を付与した透明基板（１０）は、ＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）に収納する。透明基板には、予め特定する名称、例えばシリーズ名称、マスク品種番号、マスク名等を組み合わせた英数字からなる名称又はコード番号が付与され、該特定する名称により、製造関連仕様及び指示の情報及びレシピ、製造進捗日時の情報及びレシピ、製造装置の製造処理結果等の情報及びレシピ等を全て管理する方法及び手順が採用されたものである。ここで、生産ラインへの投入準備が終了する。 Next, a description will be given in accordance with specific examples. 2A and 2B are flowcharts for explaining a photomask manufacturing information management method according to the present invention. The procedure of the photomask manufacturing information management method will be described using the photomask manufacturing information management system (1) shown in FIGS. First, the transparent substrate (10) to which the specified name is assigned is stored in the SMIF-POD (13). The transparent substrate is given a name specified in advance, such as a series name, a mask type number, an alphanumeric name combined with a mask name, etc., or a code number. A method and procedure for managing all recipes, information on manufacturing progress date and time, recipes, information on manufacturing process results, manufacturing recipes, and the like are adopted. Here, preparation for input to the production line is completed.
図１を参照して、図２（ａ）〜（ｂ）に示すフロー図を説明する。まず（ａ）は、基板を製造装置へロード時の手順であり（１−ａ）では、製造装置にＳＭＩＦ−ＰＯＤを投入する。基板搬送装置（３）内には、各々の製造装置（２）の正面位置にＳＭＩＦポート（２３）が付設されている。該ＳＭＩＦポート（２３）に特定する名称を付与した透明基板（１０）を収納したＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）が載置されると、製造装置（２）では、前記透明基板に付与された特定する名称と、製造装置側で準備した製造処理の製造関連仕様及び指示の情報及びレシピの特定する名称とを照合し、一致すれば、製造装置での製造処理のための準備を開始する。その手順の（１−ｂ）は、製造装置側出入力（１２）より基板ロード可の信号が出力される。次に（１−ｃ）では、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）は、製造装置側出入力（１２）より出力した基板ロード可の信号を受信し、記録する。次に（１−ｄ）では、ＲＦ−ＩＤリーダライタは、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着したＲＦ−ＩＤタグ（１４）に基板ロード可の信号と、当該製造装置の製造処理の開始時間とを書き込む。すなわち、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）には、製造処理の開始時間を記録して、フォトマスクの製造進捗日時の実績情報としての履歴となり、製造進捗では、当該製造装置に投入中に時間区分される。次に（１−ｅ）では、同時並行により、特定する名称を付与した透明基板は、ＳＭＩＦ−ＰＯＤから製造装置へロードされる。ロード可の信号と同時に、特定する名称を付与した透明基板（１０）は、ＳＭＩＦ−ＰＯＤの扉を開放し、製造装置の移載装置を経由して装置内ステージまで移動する。前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤはＳＭＩＦポート（２３）に待避した状態のまま、当該製造処理が完了するまでその位置に止まる。また、ＳＭＩＦ−ＰＯＤの扉を開放した時刻を記録し、例えば、当該製造装置の製造処理の開始時間とする。以上で装置間の移動が完了した。次の（１−ｆ）では、当該製造装置では、特定する名称を付与した透明基板に所定の処理工程を施す。所定の処理工程では、特定する名称により登録された製造関連仕様及び指示の情報及びレシピより、必要な項目を抽出し、製造装置の製造処理レシピに条件設定した後、該レシピ、又は指示の情報に従って製造処理する。処理完了時、製造関連仕様及び指示の情報及びレシピに関連した情報及
びレシピを抽出し、該情報及びレシピを製造装置側出入力（１２）より出力する。次の（１−ｇ）では、製造装置の近傍に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）は、製造出入力（１２）より前記情報及びレシピを受信し、記録する。次の（１−ｈ）では、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）からワークステーション（１６）へ前記情報及びレシピを送信し、ワークステーション（１６）経由して、装置間のワークステーション（６）を介して生産管理データベース（１７）へ所定の処理工程の情報及びレシピを記録し、データベースを構築する。以上（１−ａ）〜（１−ｈ）の手順により、特定する名称を付与した透明基板（１０）が当該製造装置（２）へロードされた後、当該製造装置での所定の製造処理が完了する。又、同時に、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）には、フォトマスクの製造進捗日時の実績情報が書き込まれ、生産管理データベース（１７）には、フォトマスクの製造進捗日時と、情報及びレシピがデータベース化されて保存される。
With reference to FIG. 1, the flowchart shown to FIG. 2 (a)-(b) is demonstrated. First, (a) is a procedure for loading a substrate into the manufacturing apparatus. In (1-a), SMIF-POD is put into the manufacturing apparatus. In the substrate transfer device (3), a SMIF port (23) is attached to the front position of each manufacturing device (2). When the SMIF-POD (13) containing the transparent substrate (10) with the name specified for the SMIF port (23) is placed, the manufacturing apparatus (2) specifies the specified for the transparent substrate. The name is compared with the manufacturing specification and instruction information of the manufacturing process prepared on the manufacturing apparatus side and the name specified by the recipe, and if they match, preparation for the manufacturing process in the manufacturing apparatus is started. In the procedure (1-b), a signal indicating that the substrate can be loaded is output from the manufacturing apparatus side input / output (12). Next, in (1-c), the RF-ID reader / writer (15) receives and records the substrate load ready signal output from the manufacturing apparatus side input / output (12). Next, in (1-d), the RF-ID reader / writer writes a signal indicating that the substrate can be loaded and the start time of the manufacturing process of the manufacturing apparatus to the RF-ID tag (14) attached to the SMIF-POD. . That is, the RF-ID tag (14) records the start time of the manufacturing process and becomes a history as the actual information of the manufacturing progress date and time of the photomask, and the manufacturing progress is time-divided while being put into the manufacturing apparatus. The Next, in (1-e), the transparent substrate assigned the name to be specified is loaded from the SMIF-POD to the manufacturing apparatus in parallel. At the same time as the signal indicating that loading is possible, the transparent substrate (10) to which the specified name is assigned opens the SMIF-POD door, and moves to the in-device stage via the transfer device of the manufacturing device. The SMIF-POD remains in the SMIF port (23) and remains in that position until the manufacturing process is completed. Further, the time when the door of the SMIF-POD is opened is recorded, for example, as the start time of the manufacturing process of the manufacturing apparatus. This completes the movement between devices. In the next (1-f), the manufacturing apparatus performs a predetermined processing step on the transparent substrate to which the specified name is assigned. In a predetermined processing step, after extracting necessary items from the manufacturing-related specifications and instruction information and recipe registered by the specified name, and setting conditions for the manufacturing processing recipe of the manufacturing apparatus, the recipe or instruction information According to the manufacturing process. When the processing is completed, information related to manufacturing and instructions, information related to the recipe, and recipe are extracted, and the information and recipe are output from the manufacturing apparatus side input / output (12). In the next (1-g), the RF-ID reader / writer (15) mounted in the vicinity of the manufacturing apparatus receives and records the information and recipe from the manufacturing input / output (12). In the next (1-h), the information and recipe are transmitted from the RF-ID reader / writer (15) to the workstation (16), and the workstation (6) between the devices is transmitted via the workstation (16). The information on the predetermined processing steps and the recipe are recorded in the production management database (17), and the database is constructed. After the transparent substrate (10) given the name to be specified is loaded into the manufacturing apparatus (2) by the procedures (1-a) to (1-h), the predetermined manufacturing process in the manufacturing apparatus is performed. Complete. At the same time, the actual information of the photomask manufacturing progress date and time is written in the RF-ID tag (14), and the photomask manufacturing progress date and time, information and recipe are made into a database in the production management database (17). To be saved.
次の（ｂ）では、透明基板を製造装置から待避中のＳＭＩＦ−ＰＯＤへアンロードする時の手順を説明する。まず（２―ａ）では、製造装置側出入力（１２）より当該のＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）へ特定する名称を付与した透明基板（１０）をアンロードするアンロード可の信号が出力される。次の（２―ｂ）では、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）は、製造装置側出入力（１２）より基板アンロード可の信号を受信する。次の（２―ｃ）では、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）は、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）に基板アンロード可の信号を書き込む。次に（２―ｄ）では、同時並行により、特定する名称を付与した透明基板は、製造装置（２）より待避中のＳＭＩＦ−ＰＯＤへアンロードされる。次の（２―ｅ）では、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）は、製造装置側出入力（１２）より特定する名称を付与した透明基板のアンロードの処理工程の情報及びレシピを受信し、記録する。次の（２―ｆ）では、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）からワークステーション（１６）へ前記情報及びレシピを送信し、ワークステーション（１６）経由して、装置間のワークステーション（６）を介して生産管理データベース（１７）へ所定の処理工程の情報及びレシピを記録し、データベースを構築する。以上（２−ａ）〜（２−ｆ）の手順により、名称を付与した透明基板（１０）が当該製造装置での所定の製造処理を完了した後、当該製造装置（２）から待避中のＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）へアンロードするまで完了する。情報及びレシピを制御管理するワークステーションは、生産管理データベースへ透明基板のアンロードの処理工程の情報及びレシピを記録する。当該製造装置からＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）までのアンロードの終了時の時刻を終了時間として書き込みを行う。すなわち、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）には、ＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）へのアンロードの終了時間を記録して、フォトマスクの製造進捗日時の実績情報としての履歴となり、製造進捗では、当該製造装置より搬出済であり、当該製造装置の製造処理完了状態に時間区分される。又、同時に、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）には、フォトマスクの製造進捗日時の実績情報が書き込まれ、生産管理データベース（１７）には、フォトマスクの製造進捗日時と、情報及びレシピがデータベース化されて保存される。 In the next (b), a procedure for unloading the transparent substrate from the manufacturing apparatus to the saving SMIF-POD will be described. First, in (2-a), an unloadable signal for unloading the transparent substrate (10) assigned a specific name to the SMIF-POD (13) is output from the input / output (12) on the manufacturing apparatus side. . In the next (2-b), the RF-ID reader / writer (15) receives a signal indicating that the substrate can be unloaded from the input / output (12) on the manufacturing apparatus side. In the next (2-c), the RF-ID reader / writer (15) writes a signal indicating that the substrate can be unloaded to the RF-ID tag (14). Next, in (2-d), the transparent substrate assigned the name to be specified is unloaded from the manufacturing apparatus (2) to the SMIF-POD being saved at the same time in parallel. In the next (2-e), the RF-ID reader / writer (15) receives the information and recipe of the unloading process of the transparent substrate to which the name specified from the manufacturing apparatus side input / output (12) is given, Record. In the next (2-f), the information and the recipe are transmitted from the RF-ID reader / writer (15) to the workstation (16), and the workstation (6) between the devices is transmitted via the workstation (16). The information on the predetermined processing steps and the recipe are recorded in the production management database (17), and the database is constructed. After the transparent substrate (10) to which the name has been assigned has completed the predetermined manufacturing process in the manufacturing apparatus by the above procedures (2-a) to (2-f), it is being saved from the manufacturing apparatus (2). Complete until unloaded to SMIF-POD (13). A workstation that controls and manages information and recipes records information and recipes for processing steps for unloading transparent substrates in a production management database. Writing is performed using the time at the end of unloading from the manufacturing apparatus to SMIF-POD (13) as the end time. That is, in the RF-ID tag (14), the end time of unloading to the SMIF-POD (13) is recorded and becomes a history as actual information of the manufacturing progress date and time of the photomask. It has been unloaded from the apparatus and is time-divided into a manufacturing process completion state of the manufacturing apparatus. At the same time, the actual information of the photomask manufacturing progress date and time is written in the RF-ID tag (14), and the photomask manufacturing progress date and time, information and recipe are made into a database in the production management database (17). To be saved.
以上により、当該製造装置での製造処理は終了した。フォトマスクの製造進捗日時の履歴では、手順（１−ｅ）でのＳＭＩＦ−ＰＯＤから透明基板を投入開始した時刻が製造処理の開始時間とし、手順（２−ｄ）でのＳＭＩＦ−ＰＯＤへ透明基板を収納完了した時刻が製造処理の完了時間となる。フォトマスクの製造進捗日時では、開始時間〜完了時間までを当該製造装置の処理工程中と区分し、開始時間が未登録の場合は、当該製造装置未加工と区分し、開始時間及び完了時間が登録の場合に当該製造装置完了と区分し、随時、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）又は生産管理データベースから進捗情報を得ることができる。又、生産管理データベースから、簡単に当該工程内の滞留時間、次工程までの投入待ち滞留時間等が提供され、当該特定する名称を付与した透明基板（１０）の滞留履歴、又は全工程完了日時が提供され、工期短縮等の改善に寄与することができる。 Thus, the manufacturing process in the manufacturing apparatus is completed. In the history of the manufacturing progress date and time of the photomask, the time when the transparent substrate is started to be inserted from the SMIF-POD in the procedure (1-e) is the start time of the manufacturing process, and it is transparent to the SMIF-POD in the procedure (2-d). The time when the storage of the substrate is completed becomes the completion time of the manufacturing process. In the photomask manufacturing progress date and time, the start time to the completion time are classified as in the process of the manufacturing apparatus, and when the start time is not registered, the manufacturing apparatus is unprocessed and the start time and the completion time are classified. In the case of registration, it is classified as completion of the manufacturing apparatus, and progress information can be obtained from the RF-ID tag (14) or the production management database as needed. In addition, the production management database provides the residence time in the process, the waiting time until the next process, etc., and the residence history of the transparent substrate (10) given the specified name, or the completion date of all processes Can contribute to improvements such as shortening the construction period.
以下に本発明の一実施例により詳細に説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail.
図３は、本発明のフォトマスクの製造方法の管理方法を説明する実施例１のシステム図である。最初にフォトマスクの製造情報で、実施例１の管理システムについて説明する。 FIG. 3 is a system diagram of Example 1 for explaining the management method of the photomask manufacturing method of the present invention. First, the management system of Example 1 will be described with reference to photomask manufacturing information.
まず、フォトマスクの製造工程では、予め、一般仕様及び個別仕様から、描画用の設計ルール及びマスクデータとそのファイル名、マスクレイアウト及び描画手順を記述したＪＯＢと、透明基板の管理情報等を入力し、マスク製造仕様を予め作成する。前記マスク製造仕様は、フォトマスクに対応して一点一葉に作成され、マスク管理番号を用いて製造工程内で当該透明基板を流通するルールである。なお、マスク管理番号は数字と英文字の文字列から形成されている。以下、マスク管理番号のみを入力して、あらゆる管理情報を利用できる管理システムである。すなわち、マスク管理番号は、特定する名称に相当し、マスク管理番号を付与した透明基板は、本発明の特定する名称を付与した透明基板と同じものである。 First, in the photomask manufacturing process, from the general specifications and individual specifications, the drawing design rules and mask data, the file name, mask layout and drawing procedure, and transparent substrate management information are input. Then, a mask manufacturing specification is created in advance. The mask manufacturing specification is a rule that is created one by one corresponding to a photomask and distributes the transparent substrate in the manufacturing process using a mask management number. The mask management number is formed from a character string of numbers and English characters. In the following, the management system can use all management information by inputting only the mask management number. That is, the mask management number corresponds to the name to be specified, and the transparent substrate to which the mask management number is assigned is the same as the transparent substrate to which the name specified by the present invention is assigned.
製造工程では、複数の製造装置又は加工処理する部署があり、予め作成したマスク製造仕様に従って順番に加工されて製造物が完成する。一般には、最初に特定する名称（マスク管理番号）を付与した透明基板が、工程内に投入され当該製造仕様に従って製造が開始される。本発明では、マスク管理番号を付与した透明基板（１０）では、その収納するＳＭＩＦ−ＰＯＤにＲＦ−ＩＤタグ（１４）を取り付けて、該ＲＦ−ＩＤタグに所定の形式による製造情報が記録され、各製造装置（２）では、装置側出入力（１２）を経由し、ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗ（１５）より前記ＲＦ−ＩＤタグに対し製造情報を出力し、その情報を当該装置の所定の形式である製造条件パラメータに変換する手段（６１）や、該製造条件パラメータを出力する手段（６２）を用いて、製造条件パラメータとして有効に利用される。情報の一元管理と、情報の有効利用に効果のあるＲＦ−ＩＤ管理による処理システムであり、フォトマスクの製造情報管理システム外の外部管理システム（５０）及び外部データベース（５７）から必要な製造情報を入力し、生産管理データベースへ記録し、ＲＦ−ＩＤタグへ入力する手段とを有する手順管理方法であり、情報の入出力の簡略化と、入力ミスの防止に効果のある処理システムである。 In the manufacturing process, there are a plurality of manufacturing apparatuses or departments for processing, and the products are processed in order according to a mask manufacturing specification created in advance, thereby completing a product. In general, a transparent substrate to which a name (mask management number) to be specified first is assigned is put into a process and manufacturing is started according to the manufacturing specifications. In the present invention, in the transparent substrate (10) to which the mask management number is assigned, the RF-ID tag (14) is attached to the SMIF-POD stored therein, and manufacturing information in a predetermined format is recorded on the RF-ID tag. In each manufacturing device (2), the manufacturing information is output to the RF-ID tag from the RF-ID / R / W (15) via the device side input / output (12), and the information is sent to the device. The means (61) for converting the manufacturing condition parameter into a predetermined format and the means (62) for outputting the manufacturing condition parameter are effectively used as the manufacturing condition parameter. This is a processing system based on RF-ID management that is effective for central management of information and effective use of information, and necessary manufacturing information from an external management system (50) and an external database (57) outside the photomask manufacturing information management system. Is a procedure management method that includes means for inputting information, recording it in a production management database, and inputting it into an RF-ID tag, and is a processing system effective in simplifying input / output of information and preventing input errors.
図３右側には、生産ラインの製造装置（２）が配置され、該装置には装置側出入力（１２）が配置されている。又製造装置の近傍にオフラインのＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）が付設されている。ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）は、装置側出入力（１２）と内部配線され、所定の通信ルールにより双方向に情報及びレシピを出入力する。図左側には、当該工程の作業員エリアであり、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）を具備したＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）が基板搬送装置（３）のＳＭＩＦポート（２３）にあり、ＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）には、マスク管理番号付き透明基板（１０）が収納され、該透明基板に係る情報及びレシピの履歴がＲＦ−ＩＤタグ（１４）に記録されている。なお、図では、内部配線は、実線で、非接触通信は破線で結線状態を示す。ＲＦ−ＩＤタグ（１４）は、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）と非接触の通信方法により、所定の通信ルールにより双方向に情報及びレシピを出入力する。又図左端には、装置間のワークステーション（６）の端末としてＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）を制御管理するワークステーション（１６）が配置され、ワークステーション（１６）は、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）と内部配線され、所定の通信ルールにより双方向に情報及びレシピを出入力する。上述のように、マスク管理番号付き透明基板は、ＳＭＩＦ−ＰＯＤ内に収納され、当該透明基板に係る情報及びレシピは、当該ＲＦ−ＩＤタグに指示の工程順にオンラインに登録し、記録され、且つＳＭＩＦ−ＰＯＤ及び当該透明基板は一括グループで管理されている。ＲＦ−ＩＤタグは、最小限度の範囲で、当該工程の作業員により情報をワークステーション（１６）へ入力する手段もある。図下には、生産管理データベース（１７）があり、フォトマスク製造情報管理システム（１）の外部より外部情報及びレシピを取り込み、各々の手段によるデータの情報及びレシピを当該製造装置に出力送信する。装置間のワークステーション（６）及び生産管理データベース（１７）では、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）への出入力をする手段（７１）と、又はＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）を経由してＲＦ−ＩＤタグ（１４）へ入力をする手段（７２）とにより管理する。すなわち、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）では、当
該工程以前迄の情報及びレシピが入力済みであり、当該工程において必要なデータが自動的に追加入力されている。
On the right side of FIG. 3, a production apparatus (2) for a production line is arranged, and an apparatus input / output (12) is arranged on the apparatus. An offline RF-ID reader / writer (15) is attached near the manufacturing apparatus. The RF-ID reader / writer (15) is internally wired with the device side input / output (12), and inputs / outputs information and recipes bidirectionally according to a predetermined communication rule. On the left side of the figure is a worker area of the process, and a SMIF-POD (13) equipped with an RF-ID tag (14) is located in the SMIF port (23) of the substrate transfer device (3), and SMIF-POD ( 13) stores a transparent substrate (10) with a mask management number, and information related to the transparent substrate and recipe history are recorded in the RF-ID tag (14). In the figure, the internal wiring is indicated by a solid line, and the non-contact communication is indicated by a broken line. The RF-ID tag (14) inputs and outputs information and recipes bidirectionally according to a predetermined communication rule by a non-contact communication method with the RF-ID reader / writer (15). At the left end of the figure, a workstation (16) for controlling and managing the RF-ID reader / writer (15) is arranged as a terminal of the workstation (6) between the devices. The workstation (16) is the RF-ID reader / writer. (15) is internally wired and inputs and outputs information and recipes in both directions according to predetermined communication rules. As described above, the transparent substrate with the mask management number is stored in the SMIF-POD, and the information and recipe relating to the transparent substrate are registered and recorded online in the order of the instructions in the RF-ID tag, and The SMIF-POD and the transparent substrate are managed in a collective group. The RF-ID tag also has means for inputting information to the workstation (16) by the operator of the process within a minimum range. In the lower part of the figure, there is a production management database (17), which captures external information and recipes from outside the photomask manufacturing information management system (1), and outputs and transmits data information and recipes by each means to the manufacturing apparatus. . In the workstation between devices (6) and production management database (17) via a means (71) for the output and input to the RF-ID reader-writer (15), or a RF-ID reader-writer (15) It is managed by means (72) for inputting to the RF-ID tag (14). That is, in the RF-ID tag (14), information and recipes up to and including the process are already input, and data necessary for the process is automatically input.
ＳＭＩＦ−ＰＯＤにの端部に具備するＲＦ−ＩＤタグ（１４）は、Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ ＩＤｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎの略であり、電波を用いてデータの書き込み又は読み出しを行い、アンテナを介して通信を行う認識方法である。本発明では、フォトマスクの描画方法に必要な全ての情報及びレシピ等、又は、フォトマスクの製造進捗日時等を記録し、必要に応じて活用するものである。又、生産管理データベース（１７）でも同様な情報及びレシピ、製造進捗日時を提供することができる。 The RF-ID tag (14) provided at the end of the SMIF-POD is an abbreviation for Radio Frequency IDentification, and is a recognition method in which data is written or read using radio waves and communication is performed via an antenna. . In the present invention, all information and recipes necessary for the photomask drawing method, or the manufacturing progress date and time of the photomask, etc. are recorded and utilized as necessary. The production management database (17) can also provide similar information, recipes, and manufacturing progress dates.
図４は、生産管理データベースを説明する概念図である。生産管理データベース（１７）では、表の横方向にコード番号、情報名、ページ番号、スロット番号の順番に項目配置され、縦方向に１、から１１のコード番号が配置される表形式で構成されている。縦方向では、各々の製造装置で必要な情報を全て記録出来るように考慮された構成である。先頭の１項目（コード番号０００１）は、特定する名称であるマスク管理番号の入力エリアであり、１ページをエリアとし、データ形式は、８ワードである。２項目（コード番号０００２）は、製造処理工程、又は製造装置の入力エリアであり、２ページをエリアとし、データ形式は、８ワードである。３項目（コード番号０００３）は、製造進捗日時の履歴の入力エリアであり、３ページをエリアとし、データ形式は、８ワードである。次の４項目（コード番号０００３）〜１０項目（コード番号００１０）は、情報及びレシピ等を記録する入力エリアとして規定されている。例えば、自動移載装置の場合、４項目（コード番号０００４）は、透明基板管理情報の入力エリアであり、４ページをエリアとした。５項目（コード番号０００５）は、透明基板の管理ＩＤコード番号の入力エリアであり、５ページをエリアとした。６項目は、レジスト名の入力エリアであり、６ページをエリアとした。７項目は、レジスト塗布ロット番号の入力エリアであり、７ページをエリアとした。８項目は、金属薄膜の膜質情報（１８）の入力エリアであり、８ページをエリアとした。９項目は、透明基板の板厚情報（１９）の入力エリアであり、９ページをエリアとした。１０項目は、拡張用とし、１０ページから１６ページまで割り当てている。例えば、露光条件パラメータの入力エリアは、１０ページをエリアとした。露光ビームのスポットサイズの入力エリアは、１１ページをエリアとした。露光ビームの照射量の入力エリアは、１２ページをエリアとした。最後の１１項目（コード番号００１１）は、ＳＭＩＦ−ＰＯＤのシリアル番号の入力エリアであり、１７ページをエリアとした。
FIG. 4 is a conceptual diagram illustrating the production management database. In the production management database (17), items are arranged in the order of code numbers, information names, page numbers, and slot numbers in the horizontal direction of the table, and are configured in a table format in which
例えば、実施例１のフォトマスクの製造に係る製造装置（又は製造処理工程）が５装置である場合（又は５製造処理工程）では、生産管理データベースの５ファイルが割り当てられ、各々のファイルの先頭の１項目（コード番号０００１）にはマスク管理番号が記載され、各々のファイルの２項目（コード番号０００２）は、製造処理工程（又は製造装置）によりその製造装置を区分することになる。すなわち、先頭の１項目（コード番号０００１）及び２項目（コード番号０００２）により当該製造装置を規定する方法である。 For example, when the number of manufacturing apparatuses (or manufacturing process steps) for manufacturing the photomask of the first embodiment is 5 (or 5 manufacturing process steps), 5 files in the production management database are allocated, and the top of each file A mask management number is described in one item (code number 0001), and two items (code number 0002) in each file classify the manufacturing apparatus by a manufacturing process (or manufacturing apparatus). That is, the manufacturing apparatus is defined by the first item (code number 0001) and two items (code number 0002).
次に、実施例１のフォトマスクの製造情報の管理システムを用いたフォトマスクの製造方法について説明する。上述したように、実施例１の製造装置は、自動移載装置、描画装置、現像処理装置、エッチング処理装置、剥膜処理装置の順に、製造装置を経由して製造した。 Next, a photomask manufacturing method using the photomask manufacturing information management system according to the first embodiment will be described. As described above, the manufacturing apparatus of Example 1 was manufactured via the manufacturing apparatus in the order of the automatic transfer apparatus, the drawing apparatus, the development processing apparatus, the etching processing apparatus, and the film removal processing apparatus.
まず、透明基板では、透明基板の材質で区分し、さらに外形寸法と、その板厚によりより分別管理されている。前記透明基板の片側表面に０．０１ミクロンオーダー厚の金属薄
膜層が形成され、金属薄膜層の層構成の区分、すなわち、単層、２層、３層等と、金属薄膜の透過率により分別管理されている。その情報は、金属薄膜の膜質情報に記載されている。次に、前記金属薄膜上に０．１ミクロンオーダー厚のレジスト膜（３）で形成され、さらにレジスト名と、レジスト塗布ロット番号により分別管理されている。その情報は、レジスト塗布ロット番号の情報及びレシピに記載されている。透明基板を準備する自動移載装置では、ＳＭＩＦ−ＰＯＤがＳＭＩＦポートに載置されると、透明基板管理情報より透明基板の外形寸法及び板厚と、金属薄膜の層構成と、レジスト層の品種等条件と合致した透明基板を選別し、ＳＭＩＦ−ＰＯＤ内に前記透明基板を１枚収納した。
First, the transparent substrate is classified according to the material of the transparent substrate, and is further separately managed by the outer dimensions and the plate thickness. A metal thin film layer having an order of 0.01 microns is formed on one surface of the transparent substrate, and is classified according to the layer configuration of the metal thin film layer, that is, single layer, two layers, three layers, etc., according to the transmittance of the metal thin film. It is managed. The information is described in the film quality information of the metal thin film. Next, a resist film (3) having a thickness of 0.1 micron is formed on the metal thin film, and is separately managed by resist name and resist coating lot number. The information is described in the resist application lot number information and recipe. In an automatic transfer device that prepares a transparent substrate, when the SMIF-POD is mounted on the SMIF port, the transparent substrate management information indicates the outer dimensions and thickness of the transparent substrate, the layer configuration of the metal thin film, and the type of resist layer. A transparent substrate meeting the same conditions was selected, and one transparent substrate was stored in the SMIF-POD.
透明基板をＳＭＩＦ−ＰＯＤ内に収納するのと並行で、該透明基板に関わる全情報及びレシピがＲＦ−ＩＤタグ（１４）に記録されている。すなわち、透明基板の履歴と、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）内の情報及びレシピに記録対応し、それ以降の工程ではＲＦ−ＩＤタグ（１４）を読みとり認識する。なお、各々の生産管理データベースの１１項目には、当該ＳＭＩＦ−ＰＯＤのシリアル番号が付与されている。 In parallel with storing the transparent substrate in the SMIF-POD, all information and recipes related to the transparent substrate are recorded in the RF-ID tag (14). That is, it corresponds to the record of the history of the transparent substrate, the information in the RF-ID tag (14), and the recipe, and the RF-ID tag (14) is read and recognized in the subsequent processes. Note that the serial number of the SMIF-POD is assigned to 11 items of each production management database.
前記透明基板には、レジスト製造ロットから影響されるレジスト感度、および、設計ルールより引用した最小寸法の幅又は図形等により算出した値よりスポットサイズ別に最適化されたビーム照射量が設定され、レジスト塗布ロット番号毎に、露光条件のパラメータ用データベース上に登録されている。そのため、前記透明基板に付与する条件、すなわち、ビームスポットサイズ毎にビーム照射量等の露光条件のパラメータは、自動移載装置の製造装置側出入力（１２）より出力する。さらに、前記透明基板に関する管理情報のレジスト名と、レジスト塗布ロット番号と、金属薄膜の膜質情報と、透明基板の板厚情報との情報及びレシピを出力し、ＲＦ―ＩＤ・Ｒ／Ｗ（１５）と、ワークステーション（１６）を経由し、生産管理データベース（１７）に登録する。ＳＭＩＦ−ＰＯＤは、基板搬送装置（３）を経由し次の描画装置の工程のＳＭＩＦポートに搬送された。 The transparent substrate has a resist sensitivity that is influenced by the resist production lot, and a beam irradiation amount that is optimized for each spot size based on a value calculated based on the minimum dimension width or figure quoted from the design rule. Each application lot number is registered on the exposure condition parameter database. Therefore, the conditions to be applied to the transparent substrate, that is, the parameters of the exposure conditions such as the beam irradiation amount for each beam spot size are output from the manufacturing apparatus side input / output (12) of the automatic transfer apparatus. Further, information and a recipe of the resist name, resist coating lot number, metal thin film quality information, and transparent board thickness information of the management information related to the transparent substrate are output, and RF-ID · R / W (15 To the production management database (17) via the workstation (16). The SMIF-POD was transferred to the SMIF port of the next drawing device process via the substrate transfer device (3).
次工程の描画装置では、ＳＭＩＦ−ＰＯＤがＳＭＩＦポートに載置されると、マスク管理番号を入力後、前記透明基板に付与した管理情報と、マスク製造仕様の透明基板管理情報とを照合し、完全に一致した後、ロード可の信号を出力し、前記透明基板を露光装置に載置した。並行して、露光装置側では、マスク管理番号を入力後、ビームスポットサイズ毎にビーム照射量等の露光条件のパラメータを露光装置に出力し、描画処理の準備を行なった後、描画露光をした。描画露光処理後、当該露光条件の結果の情報及びレシピを出力し、ＲＦ―ＩＤリーダライタ（１５）と、ワークステーション（１６）を経由し、生産管理データベース（１７）に登録した。ＳＭＩＦ−ＰＯＤは、基板搬送装置（３）を経由し次の現像処理装置の工程のＳＭＩＦポートに搬送された。 In the next drawing apparatus, when the SMIF-POD is placed on the SMIF port, after inputting the mask management number, the management information given to the transparent substrate is compared with the transparent substrate management information of the mask manufacturing specification. After complete coincidence, a loadable signal was output and the transparent substrate was placed on the exposure apparatus. In parallel, on the exposure apparatus side, after inputting the mask management number, the exposure condition parameters such as the beam irradiation amount for each beam spot size are output to the exposure apparatus, and after performing the drawing processing, the drawing exposure is performed. . After the drawing exposure process, the information on the result of the exposure condition and the recipe were output and registered in the production management database (17) via the RF-ID reader / writer (15) and the workstation (16). The SMIF-POD was transferred to the SMIF port of the next development processing apparatus via the substrate transfer device (3).
以下の詳細説明は省略するが、フォトプロセス法により、現像処理装置を用いたレジストへの現像処理と、エッチング処理装置を用いた金属薄膜のエッチング処理と、剥膜処理装置を用いたレジストの剥膜処理等によりフォトマスクの金属薄膜のパターンが形成し、フォトマスクの工程は終了した。なお、ＳＭＩＦ−ＰＯＤが、ＳＭＩＦポートに載置後、ロードし、製造処理終了後、アンロードされ、ＳＭＩＦ−ＰＯＤが次の工程のＳＭＩＦポートに搬送されることが、繰り返し実行され、その製造処理終了後毎に、当該処理条件の結果の情報及びレシピを出力し、ＲＦ―ＩＤ・Ｒ／Ｗ（１５）と、ワークステーション（１６）を経由し、生産管理データベース（１７）に登録した。前記情報及びレシピは、ロード及びアンロード毎の時刻を入力し、製造進捗日時の履歴とし、フォトプロセスの薬液の組成、温度、粘度、流量、処理時間、回転数、品質レベル等をデータベース化した。 Although the following detailed description is omitted, the development process to the resist using the development processing apparatus, the etching process of the metal thin film using the etching processing apparatus, and the stripping of the resist using the stripping processing apparatus are performed by the photo process method. The pattern of the metal thin film of the photomask was formed by film processing or the like, and the photomask process was completed. The SMIF-POD is loaded after being placed on the SMIF port, loaded, unloaded after the completion of the manufacturing process, and the SMIF-POD is transported to the SMIF port in the next process, and the manufacturing process is repeated. Each time after the completion, information on the result of the processing conditions and the recipe were outputted and registered in the production management database (17) via the RF-ID · R / W (15) and the workstation (16). The information and recipe input the time for each load and unload, make the history of manufacturing progress date and time, and made the database of the chemical composition, temperature, viscosity, flow rate, processing time, rotation speed, quality level, etc. of the photo process .
生産ラインでの製造進捗日時の履歴及び現状を常時開示しながら、並行して、製造装置毎のライン内品質監視の評価も開示されている。進捗日時は計画日時に比べ異常となった場合、その対処等の警告がある。また、品質異常時は、前記と同様に対処等の警告があり
、製品不良の発生時では、即時に、現在の生産管理データベースの情報及びレシピを廃棄し、新しい透明基板の生産ライン投入が開始される。
While constantly displaying the history and current status of the manufacturing progress date and time on the production line, in-line quality monitoring evaluation for each manufacturing apparatus is also disclosed. If the progress date / time becomes abnormal compared to the planned date / time, there is a warning about how to deal with it. In addition, when quality is abnormal, there are warnings for countermeasures, etc. as described above. When a product defect occurs, the information and recipes in the current production management database are immediately discarded, and a new transparent substrate production line is started. Is done.
１…フォトマスクの製造情報管理システム
２…製造装置
３…基板搬送装置
４…生産ライン
５…（生産ラインの）情報及びレシピ
６…ワークステーション
７…管理ライン
１０…（ＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納される）特定する名称を付与した透明基板
１２…（製造）装置側出入力
１３…ＳＭＩＦ−ＰＯＤ（を具備した基板搬送装置）
１４…（ＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着した）ＲＦ−ＩＤタグ
１５…（製造装置の近傍に装着した）ＲＦ−ＩＤリーダライタ
１６…（ＲＦ−ＩＤリーダライタを制御管理する）ワークステーション
１７…（情報及びレシピの記録／呼出する）生産管理データベース
２３…ＳＭＩＦポート
５０…外部管理システム
５７…外部データベース
６１…（当該装置の所定の形式である）製造条件パラメータに変換する手段
６２…製造条件パラメータを出力する手段
７１…（ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗへの）出入力をする手段
７２…（ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗを経由して）ＲＦ−ＩＤタグへ入力をする手段
DESCRIPTION OF
14 ... RF-ID tag 15 (attached to the SMIF-POD) ... RF-ID reader / writer 16 (attached in the vicinity of the manufacturing apparatus) ... workstation 17 (controlling and managing the RF-ID reader / writer) (information and information) Recipe recording / calling)
Claims (2)
（ａ）ＳＭＩＦ−ＰＯＤに透明基板を収納し、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着されたＲＦ−ＩＤタグにＲＦ−ＩＤリーダライタが非接触通信により、前記透明基板の外形寸法及び板厚と金属薄膜の層構成の情報から成る管理情報を書き込む工程。
（ｂ）前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤを前記製造装置のＳＭＩＦポートに載置し、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤの前記ＲＦ−ＩＤタグに書き込まれた前記管理情報と前記製造装置の製造仕様の情報を照合する工程。
（ｃ）該照合結果が一致した場合に、前記ＲＦ−ＩＤリーダライタは、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着したＲＦ−ＩＤタグに前記製造装置の製造処理の開始時間を書き込み、前記透明基板を前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤから取り出し前記製造装置へ載置して前記製造装置が前記
透明基板に所定の処理を施す工程。
（ｄ）該製造装置内の情報の出入力部より前記所定の処理の情報及びレシピを出力し該製造装置と配線で接続されたＲＦ−ＩＤリーダライタとワークステーションを経由して生産管理データベースへ記録する工程。
（ｅ）前記透明基板を待避中のＳＭＩＦ−ＰＯＤへ収納し、ＲＦ−ＩＤタグには該所定の処理の終了時間を記録し、生産管理データベースへ透明基板の処理の終了の情報及びレシピを記録する工程。 Managing smell of manufacturing information of claim photomask using one manufacturing information management system of a photomask according Te, managing manufacturing information of the photomask, characterized in that it comprises at least the following steps.
(A) A transparent substrate is accommodated in the SMIF-POD, and an RF-ID reader / writer is connected to the RF-ID tag attached to the SMIF-POD by non-contact communication, so that the outer dimensions and thickness of the transparent substrate and the metal thin film A process of writing management information composed of layer configuration information.
(B) A step of placing the SMIF-POD on the SMIF port of the manufacturing apparatus and collating the management information written in the RF-ID tag of the SMIF-POD with the manufacturing specification information of the manufacturing apparatus.
(C) If the collating results match, the RF-ID reader writer writes the starting time of the manufacturing process of the manufacturing apparatus in RF-ID tag attached to the SMIF-POD, the transparent substrate process the manufacturing apparatus performing a predetermined process on the <br/> transparent substrate is placed into the production apparatus was taken out from the SMIF-POD.
(D) Output the information and recipe of the predetermined processing from the information input / output unit in the manufacturing apparatus, and connect to the production management database via the RF-ID reader / writer and the workstation connected to the manufacturing apparatus by wiring . The process of recording.
(E) The transparent substrate is stored in the saving SMIF-POD, the end time of the predetermined processing is recorded in the RF-ID tag, and the processing end information and recipe of the transparent substrate are recorded in the production management database. Process.
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