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JP4760223B2 - Liquid crystal device and electronic device - Google Patents

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JP4760223B2
JP4760223B2 JP2005245556A JP2005245556A JP4760223B2 JP 4760223 B2 JP4760223 B2 JP 4760223B2 JP 2005245556 A JP2005245556 A JP 2005245556A JP 2005245556 A JP2005245556 A JP 2005245556A JP 4760223 B2 JP4760223 B2 JP 4760223B2
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crystal device
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明秀 春山
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Epson Imaging Devices Corp
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Description

本発明は、液晶装置および電子機器に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal device and an electronic apparatus.

特に液晶テレビジョン等に代表される液晶装置の分野においては、近年、動画の画質向上を目的として応答速度の速いOCB(Optical Compensated Bend)モードの液晶装置が脚光を浴びている。OCBモードにおいて、初期状態では液晶分子が2枚の基板間でスプレイ状に開いたスプレイ配向となっており、表示動作時には液晶分子が弓なりに曲がった状態(ベンド配向)になっている必要がある。すなわち、表示動作時にベンド配向の曲がりの度合いで透過率を変調することで高速応答性を実現している。   In particular, in the field of liquid crystal devices represented by liquid crystal televisions and the like, in recent years, an OCB (Optical Compensated Bend) mode liquid crystal device having a high response speed has been spotlighted for the purpose of improving the quality of moving images. In the OCB mode, in the initial state, the liquid crystal molecules are in a splay alignment that is opened in a splay shape between two substrates, and the liquid crystal molecules must be bent in a bow (bend alignment) during display operation. . That is, high-speed response is realized by modulating the transmittance with the degree of bending of the bend orientation during the display operation.

このようにOCBモードの液晶装置の場合、電源遮断時に液晶はスプレイ配向であるため、電源投入時にある閾値電圧以上の電圧を液晶に印加することによって初期のスプレイ配向から表示動作時のベンド配向に液晶の配向状態を転移させる、いわゆる初期転移操作が必要となる。ここで、初期転移が十分になされないと表示不良が生じたり、所望の高速応答性が得られなかったりする。   As described above, in the case of the OCB mode liquid crystal device, since the liquid crystal is in the splay alignment when the power is shut off, by applying a voltage higher than a certain threshold voltage to the liquid crystal when the power is turned on, the initial splay alignment is changed to the bend alignment in the display operation. A so-called initial transition operation is required to shift the alignment state of the liquid crystal. Here, if the initial transition is not sufficiently performed, display failure may occur or desired high-speed response may not be obtained.

そこで特許文献1には、半透過型液晶表示装置における透過表示用電極の表面に、電圧印加時に液晶分子がスプレイ配向からベンド配向へ転移するのをアシストするための配向転移手段としての突起を形成する技術が提案されている。この半透過型液晶表示装置では、透過表示領域の液晶分子がベンド配向であるときに、反射表示領域の液晶分子はその長軸を反射表示用電極の表面に垂直に向けたハイブリッド配向になるように制御される。従って、パネル駆動時には、透過表示領域はOCBモード、反射表示領域はR−OCB(Reflective-Optical Compensated Bend)モードとなる。
特開2002−207227号公報
Therefore, in Patent Document 1, a protrusion as an alignment transition means is formed on the surface of the transmissive display electrode in the transflective liquid crystal display device to assist the transition of the liquid crystal molecules from the splay alignment to the bend alignment when a voltage is applied. Techniques to do this have been proposed. In this transflective liquid crystal display device, when the liquid crystal molecules in the transmissive display region are in bend alignment, the liquid crystal molecules in the reflective display region are in a hybrid alignment with the long axis perpendicular to the surface of the reflective display electrode. Controlled. Accordingly, when the panel is driven, the transmissive display area is in the OCB mode, and the reflective display area is in the R-OCB (Reflective-Optical Compensated Bend) mode.
JP 2002-207227 A

しかしながら、特許文献1に記載された技術では、表示動作時に、透過表示領域に形成された突起の周辺で配向不良が発生するという問題がある。また、その突起の形成領域を遮光層で覆うと開口率が低下することになる。しかも、反射表示領域の液晶配向状態をハイブリッド配向とするため、反射表示領域の配向膜のみを光配向処理などで垂直配向にする必要があり、製造プロセスが増加するという問題もある。   However, the technique described in Patent Document 1 has a problem that alignment failure occurs around the protrusions formed in the transmissive display region during the display operation. Further, if the formation region of the protrusion is covered with a light shielding layer, the aperture ratio is reduced. In addition, since the liquid crystal alignment state in the reflective display region is set to hybrid alignment, it is necessary to make only the alignment film in the reflective display region vertical alignment by photo-alignment processing or the like, which increases the manufacturing process.

本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、表示品質の低下を最小限に抑えつつ、OCBモードの初期転移動作を円滑に行うことが可能な、液晶装置の提供を目的とする。
また、表示品質に優れた電子機器の提供を目的とする。
The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal device capable of smoothly performing the initial transition operation in the OCB mode while minimizing deterioration in display quality. And
Another object is to provide an electronic device with excellent display quality.

上記目的を達成するため、本発明に係る液晶装置は、互いに対向配置され液晶層を挟持する一対の基板と、前記一対の基板上に配置された配向膜と、前記一対の基板のうち一方の前記基板上にマトリクス状に配置され前記液晶層に電圧を印加する電極と、前記電極への通電制御を行うスイッチング素子と、前記スイッチング素子に対して走査信号を供給する走査線と、前記走査線と交差するように配置され画像信号を供給するデータ線と、前記一対の基板のうち一方の前記基板に設けられ他方の前記基板側から入射した光を反射する反射膜と、反射表示領域における前記液晶層の厚さを透過表示領域における前記液晶層の厚さよりも小さくして、前記反射表示領域および前記透過表示領域における前記液晶層のリタデーションを略同一にする液晶層厚調整層とを有し、少なくとも前記透過表示領域における前記液晶層の動作モードがOCBモードである液晶装置であって、前記反射表示領域と前記透過表示領域との間に設けられた前記液晶層厚調整層の傾斜部の形成領域に、前記液晶層の初期転移構造が設けられ、前記傾斜部と平面的に重なる領域に、前記走査線が配置され、前記配向膜は、前記データ線と交差する方向にラビング処理が施されていることを特徴とする。 In order to achieve the above object, a liquid crystal device according to the present invention includes a pair of substrates that face each other and sandwich a liquid crystal layer, an alignment film that is disposed on the pair of substrates, and one of the pair of substrates. Electrodes arranged in a matrix on the substrate for applying a voltage to the liquid crystal layer, switching elements for controlling energization of the electrodes, scanning lines for supplying scanning signals to the switching elements, and the scanning lines A data line that is arranged so as to intersect with the image line and supplies an image signal; a reflective film that is provided on one of the pair of substrates and reflects light incident from the other substrate side; and smaller than the thickness of the liquid crystal layer thickness of the liquid crystal layer in the transmissive display region, the retardation of the liquid crystal layer in the reflective display region and the transmissive display region in substantially the same A liquid crystal device in which an operation mode of the liquid crystal layer in at least the transmissive display region is an OCB mode, wherein the liquid crystal device is provided between the reflective display region and the transmissive display region. An initial transition structure of the liquid crystal layer is provided in a formation region of the inclined portion of the liquid crystal layer thickness adjusting layer, the scanning line is arranged in a region overlapping the inclined portion in a plane, and the alignment film is formed of the data line A rubbing process is performed in a direction intersecting with.

また、参考発明に係る液晶装置は、互いに対向配置され液晶層を挟持する一対の基板と、前記一対の基板のうち一方の前記基板に設けられ他方の前記基板側から入射した光を反射する反射膜と、反射表示領域における前記液晶層の厚さを透過表示領域における前記液晶層の厚さよりも小さくする液晶層厚調整層とを有し、少なくとも前記透過表示領域における前記液晶層の動作モードがOCBモードである液晶装置であって、前記反射表示領域と前記透過表示領域との間に設けられた前記液晶層厚調整層の傾斜部の形成領域に、前記液晶層の初期転移構造が設けられていることを特徴とする。
初期転移構造を設けて、初期転移電圧の印加によりディスクリネーションを発生させれば、そのディスクリネーションが転移核となって初期転移が周辺に進行する。したがって、初期転移動作を円滑に行うことができる。
一般に液晶層厚調整層の傾斜部では、液晶分子が傾斜配向し斜め電界が発生するので、平坦部に比べて配向状態が乱れやすい。すなわち、液晶層厚調整層の傾斜部は、表示動作時における表示品質の向上に寄与していない。そこで、その液晶層厚調整層の傾斜部に初期転移構造を設けることにより、その初期転移構造の周辺にディスクリネーションが残っても、表示動作時における表示品質の低下を最小限に抑えることができる。そして、そのような傾斜部に初期転移構造を設けることにより、他の部分に初期転移構造を設ける場合と比べて、ディスクリネーションを発生させることが容易になる。したがって、初期転移動作を円滑に行うことができる。
In addition, the liquid crystal device according to the reference invention includes a pair of substrates arranged to face each other and sandwiching a liquid crystal layer, and a reflection that reflects light incident on one of the pair of substrates and incident from the other substrate side. A liquid crystal layer thickness adjusting layer that makes the thickness of the liquid crystal layer in the reflective display region smaller than the thickness of the liquid crystal layer in the transmissive display region, and at least an operation mode of the liquid crystal layer in the transmissive display region is In the liquid crystal device in OCB mode, an initial transition structure of the liquid crystal layer is provided in a formation region of an inclined portion of the liquid crystal layer thickness adjusting layer provided between the reflective display region and the transmissive display region. It is characterized by.
If an initial transition structure is provided and disclination is generated by applying an initial transition voltage, the disclination becomes a transition nucleus and the initial transition proceeds to the periphery. Therefore, the initial transition operation can be performed smoothly.
In general, in the inclined portion of the liquid crystal layer thickness adjusting layer, liquid crystal molecules are inclined and an oblique electric field is generated, so that the alignment state is more likely to be disturbed than in the flat portion. That is, the inclined portion of the liquid crystal layer thickness adjusting layer does not contribute to the improvement of display quality during the display operation. Therefore, by providing an initial transition structure in the inclined portion of the liquid crystal layer thickness adjustment layer, even if disclination remains around the initial transition structure, it is possible to minimize the deterioration in display quality during display operation. it can. By providing the initial transition structure in such an inclined portion, it becomes easier to generate disclination than in the case of providing the initial transition structure in other portions. Therefore, the initial transition operation can be performed smoothly.

また前記反射表示領域における前記液晶層の動作モードは、OCBモードであってもよい。
この構成によれば、反射表示領域と透過表示領域との間で液晶分子の配向膜を作り分ける必要がないので、製造コストを低減することができる。
The operation mode of the liquid crystal layer in the reflective display region may be an OCB mode.
According to this configuration, it is not necessary to separately form an alignment film of liquid crystal molecules between the reflective display region and the transmissive display region, so that the manufacturing cost can be reduced.

また前記反射表示領域における前記液晶層の動作モードは、R−OCBモードであってもよい。
この構成によれば、反射表示領域の初期転移動作が不要になるので、初期転移動作を円滑に行うことができる。
The operation mode of the liquid crystal layer in the reflective display region may be an R-OCB mode.
According to this configuration, since the initial transition operation of the reflective display area is not necessary, the initial transition operation can be performed smoothly.

また前記初期転移構造は、前記液晶層に電圧を印加する電極に形成されたスリットおよび/または切り欠きであってもよい。
この構成によれば、初期転移電圧の印加により様々な方向の斜め電界を発生させることが可能になる。これにより、傾斜部の表面にディスクリネーションを発生させることが可能になり、初期転移動作を円滑に行うことができる。
The initial transition structure may be a slit and / or a notch formed in an electrode for applying a voltage to the liquid crystal layer.
According to this configuration, oblique electric fields in various directions can be generated by applying the initial transition voltage. Thereby, it is possible to generate disclination on the surface of the inclined portion, and the initial transfer operation can be performed smoothly.

また前記初期転移構造は、前記液晶層に電圧を印加する電極の表面、または電極の下に形成された突起であってもよい。
この構成によれば、初期の液晶分子を様々な方向に傾斜配向させることが可能になり、また初期転移電圧の印加により様々な方向の斜め電界を発生させることが可能になる。これにより、傾斜部の表面にディスクリネーションを発生させることが可能になり、初期転移動作を円滑に行うことができる。
The initial transition structure may be a surface of an electrode for applying a voltage to the liquid crystal layer, or a protrusion formed under the electrode.
According to this configuration, initial liquid crystal molecules can be tilted in various directions, and oblique electric fields in various directions can be generated by applying an initial transition voltage. Thereby, it is possible to generate disclination on the surface of the inclined portion, and the initial transfer operation can be performed smoothly.

また前記傾斜部は、前記反射表示領域に設けられていてもよい。
一般に液晶層厚調整層の傾斜部では、液晶分子の配向状態が乱れやすく、表示品質が低下しやすい。そこで、傾斜部を反射表示領域に配置することにより、透過表示を重視した液晶装置を提供することができる。
The inclined portion may be provided in the reflective display area.
In general, in the inclined portion of the liquid crystal layer thickness adjusting layer, the alignment state of the liquid crystal molecules tends to be disturbed, and the display quality tends to deteriorate. Therefore, by disposing the inclined portion in the reflective display region, it is possible to provide a liquid crystal device that places importance on transmissive display.

また前記傾斜部は、前記透過表示領域に設けられていてもよい。
この構成によれば、反射表示を重視した液晶装置を提供することができる。
The inclined portion may be provided in the transmissive display area.
According to this configuration, it is possible to provide a liquid crystal device that places importance on reflective display.

また前記傾斜部と平面的に重なる領域に、遮光膜が形成されていることが望ましい。
この構成によれば、初期転移構造の周辺にディスクリネーションが残っても、そのディスクリネーションに起因する光漏れを防止することができる。したがって、表示品質の低下を最小限に抑えることができる。
Further, it is desirable that a light shielding film is formed in a region overlapping the inclined portion in a plan view.
According to this configuration, even if disclination remains around the initial transition structure, light leakage due to the disclination can be prevented. Therefore, it is possible to minimize the deterioration of display quality.

また前記傾斜部と平面的に重なる領域に、前記液晶層を駆動する信号線が形成されていることが望ましい。
この構成によれば、信号線の周囲に発生した電界を傾斜部に及ぼすことが可能になり、傾斜部にディスクリネーションを発生させることが容易になる。したがって、初期転移動作を円滑に行うことができる。また、初期転移構造の周辺にディスクリネーションが残っても、そのディスクリネーションに起因する光漏れを防止することができる。したがって、表示品質の低下を最小限に抑えることができる。
Further, it is desirable that a signal line for driving the liquid crystal layer is formed in a region overlapping the inclined portion in a plan view.
According to this configuration, an electric field generated around the signal line can be applied to the inclined portion, and it is easy to generate disclination in the inclined portion. Therefore, the initial transition operation can be performed smoothly. Even if disclination remains around the initial transition structure, light leakage due to the disclination can be prevented. Therefore, it is possible to minimize the deterioration of display quality.

一方、本発明に係る電子機器は、上述した液晶装置を備えたことを特徴とする。
上述した液晶装置は、表示品質の低下を最小限に抑えつつ、OCBモードの初期転移動作を円滑に行うことができるので、表示品質に優れた電子機器を提供することができる。
On the other hand, an electronic apparatus according to the present invention includes the above-described liquid crystal device.
The liquid crystal device described above can smoothly perform the initial transition operation in the OCB mode while minimizing the deterioration in display quality, and thus can provide an electronic device with excellent display quality.

以下、本発明の実施形態および参考形態につき、図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。
なお本明細書では、液晶装置の各構成部材における液晶層側を内側と呼び、その反対側を外側と呼ぶことにする。また、画像表示の最小単位となる表示領域を「ドット領域」と呼び、各色カラーフィルタを備えた複数のドット領域の集合を「画素領域」と呼ぶ。また、ドット領域の内部において、液晶装置の表示面側から入射する光を利用した表示が可能な領域を「反射表示領域」と呼び、液晶装置の背面側(前記表示面と反対側)から入射する光を利用した表示が可能な領域を「透過表示領域」と呼ぶ。また、「非選択電圧印加時」および「選択電圧印加時」とは、それぞれ「液晶層への印加電圧が液晶のしきい値電圧近傍である時」および「液晶層への印加電圧が液晶のしきい値電圧に比べて十分高い時」を意味しているものとする。
Hereinafter, embodiments and reference embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In each drawing used for the following description, the scale of each member is appropriately changed to make each member a recognizable size.
In the present specification, the liquid crystal layer side of each component of the liquid crystal device is referred to as an inner side, and the opposite side is referred to as an outer side. In addition, a display area that is a minimum unit of image display is referred to as a “dot area”, and a set of a plurality of dot areas including each color filter is referred to as a “pixel area”. In the dot area, an area that can display using light incident from the display surface side of the liquid crystal device is called a “reflective display region” and is incident from the back side of the liquid crystal device (the side opposite to the display surface). An area that can be displayed using the light is referred to as a “transparent display area”. “When a non-selection voltage is applied” and “when a selection voltage is applied” are respectively “when the applied voltage to the liquid crystal layer is close to the threshold voltage of the liquid crystal” and “the applied voltage to the liquid crystal layer is It means “when sufficiently high compared to the threshold voltage”.

(第1参考形態)
最初に、本発明の第1参考形態に係る液晶装置につき、図1ないし図3を用いて説明する。第1参考形態に係る液晶装置100は、図2に示すように、スイッチング素子として薄膜ダイオード(Thin Film Diode;以下「TFD」という。)素子13を採用したアクティブマトリクス型の液晶装置である。また図3に示すように、観察者側に配置されたTFDアレイ基板(以下「素子基板」という。)10と、光源側に配置された対向基板20と、素子基板10および対向基板20に挟持された液晶層50と、対向基板20側に設けられ素子基板10側から入射した光を反射する反射膜27と、その反射膜27が存在する反射表示領域Rにおける液晶層50の厚さを、反射膜27が存在しない透過表示領域Tにおける液晶層50の厚さよりも小さくするための液晶層厚調整層24とを有する、半透過反射型の液晶装置である。
(First reference form)
First, a liquid crystal device according to a first reference embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 2, the liquid crystal device 100 according to the first reference embodiment is an active matrix type liquid crystal device that employs a thin film diode (hereinafter referred to as “TFD”) element 13 as a switching element. 3, the TFD array substrate (hereinafter referred to as “element substrate”) 10 disposed on the observer side, the counter substrate 20 disposed on the light source side, and the element substrate 10 and the counter substrate 20 are sandwiched. The thickness of the liquid crystal layer 50 in the reflective display region R in which the liquid crystal layer 50 is provided, the reflective film 27 provided on the counter substrate 20 side and reflecting the light incident from the element substrate 10 side, and the reflective film 27 exists. This is a transflective liquid crystal device having a liquid crystal layer thickness adjusting layer 24 for reducing the thickness of the liquid crystal layer 50 in the transmissive display region T where no reflective film 27 is present.

(等価回路)
図1は、TFD素子を用いた液晶装置の等価回路図である。この液晶装置100には、走査信号駆動回路104により駆動される複数の走査線8と、データ信号駆動回路101により駆動される複数のデータ線9とが、格子状に配置されている。その各走査線8と各データ線9との交点付近には、それぞれTFD素子13および液晶表示要素(液晶層)50が配置されている。これらの各TFD素子13および各液晶層50は、各走査線8と各データ線9との間に直列接続されている。
(Equivalent circuit)
FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of a liquid crystal device using a TFD element. In the liquid crystal device 100, a plurality of scanning lines 8 driven by the scanning signal driving circuit 104 and a plurality of data lines 9 driven by the data signal driving circuit 101 are arranged in a grid pattern. A TFD element 13 and a liquid crystal display element (liquid crystal layer) 50 are disposed in the vicinity of the intersection of each scanning line 8 and each data line 9. Each TFD element 13 and each liquid crystal layer 50 are connected in series between each scanning line 8 and each data line 9.

(平面構造)
図2は、TFD素子を用いた液晶装置の表示領域の部分斜視図である。本参考形態の液晶装置100は、観察者側に配置された素子基板10と、光源側に配置された対向基板20と、一対の基板10,20の間に挟持された図示略の液晶層とを主体として構成されている。なお観察者側に対向基板20を配置し、光源側に素子基板10を配置してもよい。
(Planar structure)
FIG. 2 is a partial perspective view of a display area of a liquid crystal device using a TFD element. The liquid crystal device 100 of this reference embodiment includes an element substrate 10 disposed on the viewer side, a counter substrate 20 arranged on the light source side, and the clamping has been not shown liquid crystal layer between a pair of substrates 10 and 20 Is the main constituent. The counter substrate 20 may be disposed on the observer side, and the element substrate 10 may be disposed on the light source side.

素子基板10は、ガラスやプラスチック、石英等の透光性材料からなる基板本体11を備えている。その基板本体11の内側(図示下側)には、複数の走査線8がストライプ状に設けられている。またITO(インジウム錫酸化物)等の透明導電材料からなる複数の画素電極15がマトリクス状に配列形成され、それぞれTFD素子13を介して前記走査線8に接続されている。   The element substrate 10 includes a substrate body 11 made of a translucent material such as glass, plastic, or quartz. A plurality of scanning lines 8 are provided in stripes on the inner side (lower side in the figure) of the substrate body 11. A plurality of pixel electrodes 15 made of a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide) are arranged in a matrix and are connected to the scanning lines 8 through the TFD elements 13.

一方の対向基板20も、ガラスやプラスチック、石英等の透光性材料からなる基板本体21を備えている。その基板本体21の内側(図示上側)には、異なる色光を透過する複数のカラーフィルタ(以下「CF」という。)22B,22G,22Rを備えたCF層22が形成されている。なおCF層22は、素子基板10に形成してもよい。そのCF層22を覆うように、帯状電極25が形成されている。この帯状電極25は、上述したデータ線として機能するものであり、前記素子基板10の走査線8と交差する方向に延在している。なお対向基板20の帯状電極25を走査線として機能させ、素子基板10の走査線8をデータ線として機能させてもよい。   One counter substrate 20 also includes a substrate body 21 made of a translucent material such as glass, plastic, or quartz. A CF layer 22 including a plurality of color filters (hereinafter referred to as “CF”) 22 </ b> B, 22 </ b> G, and 22 </ b> R that transmit different color lights is formed inside the substrate body 21 (upper side in the drawing). The CF layer 22 may be formed on the element substrate 10. A strip electrode 25 is formed so as to cover the CF layer 22. The strip electrode 25 functions as the data line described above, and extends in a direction intersecting the scanning line 8 of the element substrate 10. The strip electrode 25 of the counter substrate 20 may function as a scanning line, and the scanning line 8 of the element substrate 10 may function as a data line.

(断面構造)
図3は第1参考形態に係る液晶装置の説明図であり、図3(a)は図3(b)のB−B線に沿う断面図であり、図3(b)は図3(a)のA−A線に沿う平面図である。
図3(a)に示すように、対向基板20の内側には、表面に凹凸を有する樹脂層26が設けられている。この樹脂層26は、画像表示単位となるドット領域の長手方向の一方端部に形成されている。その樹脂層26の表面には、AlやAg等の高反射率の金属材料からなる反射膜27が形成されている。この反射膜27の表面には凹凸が形成されるので、素子基板10側からの入射光を散乱しつつ反射しうるようになっている。その反射膜27が形成された対向基板20の内側には、ドット領域ごとに異なる色光を透過するカラーフィルタを備えたCF層22が設けられている。
(Cross-section structure)
FIG. 3 is an explanatory diagram of the liquid crystal device according to the first reference embodiment, FIG. 3A is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 3B, and FIG. 3B is FIG. It is a top view which follows the AA line of ().
As shown in FIG. 3A, a resin layer 26 having an uneven surface is provided inside the counter substrate 20. The resin layer 26 is formed at one end portion in the longitudinal direction of the dot region serving as an image display unit. On the surface of the resin layer 26, a reflective film 27 made of a highly reflective metal material such as Al or Ag is formed. Since unevenness is formed on the surface of the reflection film 27, incident light from the element substrate 10 side can be scattered and reflected. A CF layer 22 including a color filter that transmits different color light for each dot region is provided inside the counter substrate 20 on which the reflective film 27 is formed.

カラーフィルタは、ドット領域内で色度の異なる2種類の領域に区画されている構成とすることが好ましい。具体例を挙げると、透過表示領域Tの平面領域に対応して第1の色材領域が設けられ、反射表示領域Rの平面領域に対応して第2の色材領域が設けられており、第1の色材領域の色度が、第2の色材領域の色度より大きいものとされている構成を採用できる。また、反射表示領域Rの一部に非着色領域を設ける構成としてもよい。このような構成とすることで、カラーフィルタを表示光が1回のみ透過する透過表示領域Tと、2回透過する反射表示領域Rとの間で表示光の色度が異なるのを防止でき、反射表示と透過表示の見映えを揃えて表示品質を向上させることができる。   The color filter is preferably divided into two types of regions having different chromaticities in the dot region. As a specific example, a first color material region is provided corresponding to the planar region of the transmissive display region T, and a second color material region is provided corresponding to the planar region of the reflective display region R. A configuration in which the chromaticity of the first color material region is larger than the chromaticity of the second color material region can be employed. Moreover, it is good also as a structure which provides a non-colored area | region in a part of reflective display area | region R. FIG. By adopting such a configuration, it is possible to prevent the chromaticity of the display light from being different between the transmissive display region T where the display light is transmitted only once through the color filter and the reflective display region R where the display light is transmitted twice. The display quality can be improved by aligning the appearance of the reflective display and the transmissive display.

また、反射膜27の形成領域に対応するCF層22の表面には、液晶層厚調整層24が形成されている。半透過反射型の液晶装置では、反射表示領域Rへの入射光は液晶層50を2回透過するが、透過表示領域Tへの入射光は液晶層50を1回しか透過しない。これにより反射表示領域Rと透過表示領域Tとの間で液晶層50のリタデーションが異なると、光透過率に差異を生じて均一な画像表示が得られないことになる。そこで液晶層厚調整層24を設けることにより、反射表示領域Rにおける液晶層50の層厚(例えば2μm程度)が、透過表示領域Tにおける液晶層50の層厚(例えば4μm程度)の半分程度に設定されて、反射表示領域Rおよび透過表示領域Tにおける液晶層50のリタデーションが略同一に設定されている。このように、液晶層厚調整層24によりマルチギャップ構造が実現されて、反射表示領域Rおよび透過表示領域Tにおいて均一な画像表示を得ることができるようになっている。   A liquid crystal layer thickness adjusting layer 24 is formed on the surface of the CF layer 22 corresponding to the formation region of the reflective film 27. In the transflective liquid crystal device, incident light to the reflective display region R passes through the liquid crystal layer 50 twice, but incident light to the transmissive display region T passes through the liquid crystal layer 50 only once. As a result, if the retardation of the liquid crystal layer 50 is different between the reflective display region R and the transmissive display region T, a difference in light transmittance occurs, and a uniform image display cannot be obtained. Therefore, by providing the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24, the layer thickness (for example, about 2 μm) of the liquid crystal layer 50 in the reflective display region R is about half of the layer thickness (for example, about 4 μm) of the liquid crystal layer 50 in the transmissive display region T. Thus, the retardation of the liquid crystal layer 50 in the reflective display region R and the transmissive display region T is set to be substantially the same. In this way, a multi-gap structure is realized by the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24, and uniform image display can be obtained in the reflective display region R and the transmissive display region T.

反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界領域には、液晶層厚調整層24の傾斜部70が形成されている。これにより、反射表示領域Rから透過表示領域Tにかけて液晶層50の層厚が連続的に変化するようになっている。この傾斜部の傾斜角は10°〜30°程度である。一般に液晶層厚調整層24の傾斜部70では、液晶分子の配向状態が乱れやすく、表示品質が低下しやすい。そこで第1参考形態の液晶装置は、傾斜部70を透過表示領域Tに配置することにより、反射表示を重視した構成になっている。 In the boundary region between the reflective display region R and the transmissive display region T, an inclined portion 70 of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24 is formed. Thereby, the layer thickness of the liquid crystal layer 50 continuously changes from the reflective display region R to the transmissive display region T. The inclination angle of the inclined portion is about 10 ° to 30 °. In general, in the inclined portion 70 of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24, the alignment state of liquid crystal molecules is likely to be disturbed, and the display quality is likely to deteriorate. Therefore the liquid crystal device according to the first reference embodiment, by arranging the inclined portion 70 in the transmissive display region T, has a structure with an emphasis on reflective display.

この液晶層厚調整層24の構成材料として、アクリル樹脂等の電気絶縁性および感光性を有する材料を採用することが望ましい。感光性材料を採用することにより、フォトリソグラフィを用いたパターニングが可能になり、液晶層厚調整層24を精度よく形成することができる。この液晶層厚調整層24は、素子基板10に設けてもよく、また素子基板10および対向基板20の両方に設けてもよい。   As a constituent material of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24, it is desirable to employ a material having electrical insulation and photosensitivity such as acrylic resin. By adopting the photosensitive material, patterning using photolithography is possible, and the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24 can be formed with high accuracy. The liquid crystal layer thickness adjusting layer 24 may be provided on the element substrate 10 or on both the element substrate 10 and the counter substrate 20.

その液晶層厚調整層24が形成された対向基板20の内側には、上述した帯状電極25が形成されている。その帯状電極25の表面には、ポリイミド等からなる配向膜29が形成されている。また素子基板10に形成された画素電極15の表面にも、ポリイミド等からなる配向膜19が形成されている。これらの配向膜19,29には、液晶層50の厚さ方向の中央に対して液晶分子の配向が上下対称となるように、パララビング処理が施されている。そのラビング処理は、図3(b)に矢印19aで示すように、走査線8の延在方向(すなわち、画素電極15の長手方向)に沿って施されている。   On the inner side of the counter substrate 20 on which the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24 is formed, the above-described band-like electrode 25 is formed. An alignment film 29 made of polyimide or the like is formed on the surface of the strip electrode 25. An alignment film 19 made of polyimide or the like is also formed on the surface of the pixel electrode 15 formed on the element substrate 10. These alignment films 19 and 29 are subjected to a para-rubbing process so that the alignment of the liquid crystal molecules is vertically symmetric with respect to the center of the liquid crystal layer 50 in the thickness direction. The rubbing process is performed along the extending direction of the scanning line 8 (that is, the longitudinal direction of the pixel electrode 15) as indicated by an arrow 19a in FIG.

そして、図3(a)に示す素子基板10および対向基板20の周縁部がシール材(不図示)によって貼り合わされ、そのシール材の内側に液晶層50が封入されている。本参考形態では、透過表示領域Tおよび反射表示領域Rともに水平配向膜が形成されて、透過表示領域Tおよび反射表示領域Rの液晶層50が、ともにOCBモードで動作するようになっている。 The peripheral portions of the element substrate 10 and the counter substrate 20 shown in FIG. 3A are bonded together by a sealing material (not shown), and the liquid crystal layer 50 is sealed inside the sealing material. In this preferred embodiment, the transmissive display region T and the reflective display region R together horizontal alignment film is formed, the liquid crystal layer 50 in the transmissive display region T and the reflective display region R, is adapted to operate in both OCB mode.

図4は、OCBモードの液晶装置における液晶分子の配向状態の説明図である。OCBモードでは、図4(b)に示す初期状態には、液晶分子51がスプレイ状に開いたスプレイ配向となっている。また図4(a)に示す表示動作時には、液晶分子51が弓なりに曲がった状態(ベンド配向)になっている。そして、表示動作時にベンド配向の曲がりの度合いで透過率を変調することにより、表示動作の高速応答性を実現しうるようになっている。   FIG. 4 is an explanatory diagram of the alignment state of liquid crystal molecules in the OCB mode liquid crystal device. In the OCB mode, in the initial state shown in FIG. 4B, the liquid crystal molecules 51 are in a splay alignment in which they are opened in a splay shape. In the display operation shown in FIG. 4A, the liquid crystal molecules 51 are bent like a bow (bend alignment). In addition, high-speed response of the display operation can be realized by modulating the transmittance with the degree of bending of the bend orientation during the display operation.

図3(a)に戻り、一対の基板10,20の外側には、それぞれ偏光板36,37が設けられている。これらの偏光板36,37は、特定方向に振動する直線偏光のみを透過させるものである。偏光板36の透過軸および偏光板37の透過軸は、相互に略直交するように配置されるとともに、配向膜19,29のラビング方向と略45°で交差するように配置されている。   Returning to FIG. 3A, polarizing plates 36 and 37 are provided outside the pair of substrates 10 and 20, respectively. These polarizing plates 36 and 37 transmit only linearly polarized light that vibrates in a specific direction. The transmission axis of the polarizing plate 36 and the transmission axis of the polarizing plate 37 are arranged so as to be substantially orthogonal to each other, and are arranged so as to intersect the rubbing direction of the alignment films 19 and 29 at about 45 °.

なお偏光板36および偏光板37の内側に、必要に応じて位相差板31および位相差板32を配置してもよい。位相差板31,32として、可視光の波長に対して略1/4波長の位相差を持つλ/4板を使用すれば、偏光板36,37とともに円偏光板を構成することができる。またλ/2板およびλ/4板を組み合わせて使用すれば、広帯域円偏光板を構成することができる。   In addition, you may arrange | position the phase difference plate 31 and the phase difference plate 32 inside the polarizing plate 36 and the polarizing plate 37 as needed. If a λ / 4 plate having a phase difference of approximately ¼ wavelength with respect to the wavelength of visible light is used as the phase difference plates 31 and 32, a circularly polarizing plate can be configured together with the polarizing plates 36 and 37. If a λ / 2 plate and a λ / 4 plate are used in combination, a broadband circularly polarizing plate can be configured.

さらに、偏光板36および/または偏光板37の内側に、必要に応じて光学補償フィルムを配置してもよい。光学補償フィルムを配置することにより、液晶装置を正面視ないし斜視した場合の液晶層の位相差を補償することが可能になり、光漏れを減少させてコントラストを増加させることができる。光学補償フィルムとして、屈折率異方性が負のディスコティック液晶分子等をハイブリッド配向させてなる負の一軸性媒体(例えば、富士フィルム製のWVフィルム)を使用することが可能である。また、屈折率異方性が正のネマチック液晶分子等をハイブリッド配向させてなる正の一軸性媒体(例えば、日本石油製のNHフィルム)を使用することも可能である。さらに、負の一軸性媒体と正の一軸性媒体とを組み合わせて使用することも可能である。その他、各方向の屈折率がnx>ny>nzとなる二軸性媒体や、負のC-Plate等を使用してもよい。   Furthermore, you may arrange | position an optical compensation film inside the polarizing plate 36 and / or the polarizing plate 37 as needed. By disposing the optical compensation film, it is possible to compensate for the phase difference of the liquid crystal layer when the liquid crystal device is viewed from the front or from the perspective, and it is possible to reduce light leakage and increase contrast. As the optical compensation film, it is possible to use a negative uniaxial medium (for example, WV film made by Fuji Film) formed by hybrid alignment of discotic liquid crystal molecules having negative refractive index anisotropy. It is also possible to use a positive uniaxial medium (for example, NH film manufactured by Nippon Petroleum) formed by hybrid alignment of nematic liquid crystal molecules having a positive refractive index anisotropy. Further, a negative uniaxial medium and a positive uniaxial medium can be used in combination. In addition, a biaxial medium in which the refractive index in each direction satisfies nx> ny> nz, a negative C-Plate, or the like may be used.

さらに、対向基板20の外側には、光源、リフレクタ、導光板などを有するバックライト(照明手段)60が設置されている。   Further, a backlight (illuminating means) 60 having a light source, a reflector, a light guide plate, and the like is installed outside the counter substrate 20.

(初期転移構造)
上述したように、OCBモードの液晶装置の場合、電源遮断時の液晶はスプレイ配向であるため、電源投入時にある閾値電圧以上の電圧を液晶に印加することによって、図4(b)に示す初期のスプレイ配向から、図4(a)に示す表示動作時のベンド配向に液晶の配向状態を転移させる、いわゆる初期転移操作が必要となる。ここで、初期転移が十分になされないと表示不良が生じたり、所望の高速応答性が得られなかったりする。
(Initial transition structure)
As described above, in the case of the OCB mode liquid crystal device, the liquid crystal when the power is shut off is in the splay alignment. Therefore, by applying a voltage higher than a certain threshold voltage to the liquid crystal when the power is turned on, the initial state shown in FIG. From this splay alignment, a so-called initial transition operation is required to transfer the alignment state of the liquid crystal to the bend alignment during the display operation shown in FIG. Here, if the initial transition is not sufficiently performed, display failure may occur or desired high-speed response may not be obtained.

初期転移操作としては、図2に示すデータ線25にバイアス電圧を印加した状態で、走査線8に適当な矩形電圧を印加する。なお、初期転移電圧の所定時間の印加と停止とを繰り返すことにより、初期転移の進行を促進することができる。また、初期転移電圧の印加により、ドット領域に液晶分子のディスクリネーションを発生させれば、そのディスクリネーションが転移核となって初期転移が周辺に進行する。これにより、初期転移動作を円滑に行うことができる。   As an initial transfer operation, an appropriate rectangular voltage is applied to the scanning line 8 with a bias voltage applied to the data line 25 shown in FIG. The progress of the initial transition can be promoted by repeatedly applying and stopping the initial transition voltage for a predetermined time. In addition, if a disclination of liquid crystal molecules is generated in the dot region by applying an initial transition voltage, the disclination becomes a transition nucleus and the initial transition proceeds to the periphery. Thereby, the initial transition operation can be performed smoothly.

参考形態では、ドット領域にディスクリネーションを発生させるため、図3(a)に示す液晶層厚調整層24の傾斜部70に初期転移構造を形成する。初期転移構造として、傾斜部70の表面に配置された帯状電極25に、スリットおよび/または切り欠きを形成する。また初期転移構造として、傾斜部70の表面に配置された帯状電極25の表面や下に、突起を形成してもよい。 In this reference embodiment, in order to generate disclination in the dot region, an initial transition structure is formed in the inclined portion 70 of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24 shown in FIG. As an initial transition structure, slits and / or notches are formed in the strip electrode 25 disposed on the surface of the inclined portion 70. Further, as an initial transition structure, protrusions may be formed on or below the surface of the strip electrode 25 disposed on the surface of the inclined portion 70.

図5は、初期転移構造として傾斜部の帯状電極に形成可能なスリットおよび/または切り欠きの平面図である。スリットおよび/または切り欠きとして、初期転移電圧の印加により傾斜部の表面に様々な方向の斜め電界を発生させるものを形成する。図5(a)では、クランク状に繰り返し折れ曲がった複数のスリット71aが形成されている。図5(b)および(c)では、渦巻状のスリット71bが1個または複数個形成されている。図5(d)では、蛇腹状のスリット71cおよび切り欠き71dが形成されている。図5(e)では、稲妻状の複数のスリット71eが形成されている。なお、スリットおよび/または切り欠きを上記以外の形状とすることも可能である。   FIG. 5 is a plan view of slits and / or notches that can be formed in the strip-shaped electrode of the inclined portion as the initial transition structure. As the slit and / or notch, one that generates oblique electric fields in various directions on the surface of the inclined portion by applying an initial transition voltage is formed. In FIG. 5A, a plurality of slits 71a bent repeatedly in a crank shape are formed. 5B and 5C, one or a plurality of spiral slits 71b are formed. In FIG. 5D, a bellows-like slit 71c and a notch 71d are formed. In FIG. 5 (e), a plurality of lightning-like slits 71e are formed. In addition, it is also possible to make a slit and / or a notch into shapes other than the above.

このように、様々な方向に折れ曲がったスリットおよび/または切り欠きを形成すれば、初期転移電圧の印加により、傾斜部の帯状電極の表面に、様々な方向の斜め電界を発生させることが可能になる。これに伴って、誘電率異方性が正の液晶分子は、様々な方向に回動しつつ、電界方向に沿って再配向しようとする。これにより、傾斜部の表面にディスクリネーションを発生させることができる。そして、全てのドット領域の傾斜部にディスクリネーションを発生させることにより、全てのドット領域における液晶の配向状態を初期転移させることが可能になる。したがって、初期転移動作を円滑に行うことができる。   In this way, if slits and / or notches bent in various directions are formed, oblique electric fields in various directions can be generated on the surface of the strip-shaped electrode in the inclined portion by applying the initial transition voltage. Become. Along with this, liquid crystal molecules having positive dielectric anisotropy try to reorient along the electric field direction while rotating in various directions. Thereby, disclination can be generated on the surface of the inclined portion. Then, by generating disclination in the inclined portions of all the dot areas, it is possible to initially transfer the alignment state of the liquid crystals in all the dot areas. Therefore, the initial transition operation can be performed smoothly.

図6は、初期転移構造として傾斜部の帯状電極の表面、または帯状電極下に形成可能な突起の平面図である。突起として、初期の液晶分子を様々な方向に傾斜配向させるとともに、初期転移電圧の印加により傾斜部の表面に様々な方向の斜め電界を発生させるものを形成する。図6(a)では、島状の複数の突起72aが帯状電極表面に形成されている。この島状突起72aは、例えば高さ1.2μm、直径10μmに形成されている。また図6(b)では、稲妻状の複数の突起(突条)72bが形成されている。また図6(c)では、直線状の突起72cが幅方向両端部に形成されている。これらの突起の構成材料として、ノボラック系のポジ型フォトレジストを採用することが可能である。そのレジストの現像後に約220℃でポストベイクを実施することにより、なだらかな突起形状を得ることができる。   FIG. 6 is a plan view of a protrusion that can be formed on the surface of the inclined band-like electrode or under the band-like electrode as the initial transition structure. As the protrusions, those in which initial liquid crystal molecules are tilted and oriented in various directions and an oblique electric field in various directions is generated on the surface of the tilted portion by applying an initial transition voltage are formed. In FIG. 6A, a plurality of island-shaped protrusions 72a are formed on the surface of the belt-like electrode. The island-shaped protrusion 72a is formed with a height of 1.2 μm and a diameter of 10 μm, for example. In FIG. 6B, a plurality of lightning-like protrusions (projections) 72b are formed. Moreover, in FIG.6 (c), the linear protrusion 72c is formed in the width direction both ends. As a constituent material of these protrusions, it is possible to employ a novolac positive photoresist. By performing post-baking at about 220 ° C. after the development of the resist, a gentle protrusion shape can be obtained.

このような突起を形成すれば、初期の液晶分子を様々な方向に傾斜配向させることが可能になり、また初期転移電圧の印加により傾斜部の帯状電極の表面に様々な方向の斜め電界を発生させることが可能になる。これに伴って、誘電率異方性が正の液晶分子は、様々な方向から様々な方向に回動しつつ、電界方向に沿って再配向しようとする。これにより、傾斜部の表面にディスクリネーションを発生させることができる。したがって、初期転移動作を円滑に行うことができる。   By forming such protrusions, initial liquid crystal molecules can be tilted and aligned in various directions, and oblique electric fields in various directions are generated on the surface of the strip-shaped electrode in the inclined portion by applying an initial transition voltage. It becomes possible to make it. Along with this, liquid crystal molecules having positive dielectric anisotropy try to reorient along the electric field direction while rotating in various directions from various directions. Thereby, disclination can be generated on the surface of the inclined portion. Therefore, the initial transition operation can be performed smoothly.

なお、図3(a)に示す液晶層厚調整層24の傾斜部70に初期転移構造を形成することにより、初期転移動作が完了した後の表示動作時にも、傾斜部70の表面にディスクリネーションが残る場合がある。しかしながら、一般に液晶層厚調整層の傾斜部では、液晶分子が傾斜配向し斜め電界が発生するので、平坦部に比べて配向状態が乱れやすい。すなわち、液晶層厚調整層の傾斜部は、開口率やコントラスト等の表示品質の向上に寄与していない。そこで、その液晶層厚調整層24の傾斜部70に初期転移構造を設けることにより、その初期転移構造の周辺にディスクリネーションが残っても、表示動作時における表示品質の低下を最小限に抑えることができる。そして、そのような傾斜部70に初期転移構造を設けることにより、他の部分に初期転移構造を設ける場合と比べて、ディスクリネーションを発生させることが容易になるのである。   In addition, by forming the initial transition structure in the inclined portion 70 of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24 shown in FIG. 3A, the surface of the inclined portion 70 can be discriminated even during the display operation after the initial transition operation is completed. Nation may remain. However, in general, in the inclined portion of the liquid crystal layer thickness adjusting layer, liquid crystal molecules are inclined and an oblique electric field is generated, so that the alignment state is more easily disturbed than in the flat portion. That is, the inclined portion of the liquid crystal layer thickness adjusting layer does not contribute to improvement in display quality such as aperture ratio and contrast. Therefore, by providing an initial transition structure in the inclined portion 70 of the liquid crystal layer thickness adjustment layer 24, even if disclination remains around the initial transition structure, a decrease in display quality during display operation is minimized. be able to. By providing the initial transition structure in such an inclined portion 70, it becomes easier to generate disclination than in the case where the initial transition structure is provided in other portions.

(第2参考形態)
次に、第2参考形態に係る液晶装置につき、図7ないし図9を用いて説明する。
第2参考形態に係る液晶装置は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;以下「TFT」という。)素子を採用したアクティブマトリクス型の液晶装置である点で、TFD素子を採用した第1参考形態とは異なっている。そして図9(a)に矢印19aで示すように、配向膜のラビング処理が信号線の延在方向と交差する方向に施されている点で、信号線の延在方向と平行に施されている第1参考形態と異なっている。なお第1参考形態と同様の構成となる部分については、その詳細な説明を省略する。
(Second reference form)
Next, a liquid crystal device according to a second reference embodiment will be described with reference to FIGS.
The liquid crystal device according to the second reference embodiment is an active matrix type liquid crystal device that employs a thin film transistor (hereinafter referred to as “TFT”) element as a switching element, and therefore the first reference embodiment adopting a TFD element. Is different. Then, as shown by an arrow 19a in FIG. 9A, the alignment film is rubbed in a direction intersecting with the extending direction of the signal line, and is applied in parallel with the extending direction of the signal line. This is different from the first reference embodiment. Note that detailed description of portions having the same configuration as the first reference embodiment is omitted.

図7(a)は液晶装置を各構成要素とともに対向基板の側から見た平面図であり、図7(b)は図7(a)のH−H’線に沿う側面断面図である。
図7に示すように、本参考形態の液晶装置100では、TFTアレイ基板(以下「素子基板」という。)10と対向基板20とがシール材52によって貼り合わされ、このシール材52によって区画された領域内に液晶層50が封入されている。シール材52の外側の周辺回路領域には、データ信号駆動回路101および外部回路実装端子102が素子基板10の一辺に沿って形成されており、この一辺に隣接する2辺に沿って走査信号駆動回路104が形成されている。また、対向基板20の角部においては、素子基板10と対向基板20との間で電気的導通をとるための基板間導通材106が配設されている。
FIG. 7A is a plan view of the liquid crystal device as viewed from the counter substrate side together with each component, and FIG. 7B is a side sectional view taken along the line HH ′ of FIG.
As shown in FIG. 7, in the liquid crystal device 100 of this reference embodiment, TFT array substrate (hereinafter referred to as "device substrate".) And 10 and a counter substrate 20 are bonded together by a sealing material 52, defined by the sealant 52 A liquid crystal layer 50 is sealed in the region. In the peripheral circuit area outside the sealing material 52, a data signal driving circuit 101 and an external circuit mounting terminal 102 are formed along one side of the element substrate 10, and scanning signal driving is performed along two sides adjacent to the one side. A circuit 104 is formed. In addition, an inter-substrate conductive material 106 for providing electrical continuity between the element substrate 10 and the counter substrate 20 is disposed at a corner portion of the counter substrate 20.

(等価回路)
図8は、TFT素子を用いた液晶装置の等価回路図である。液晶装置の画像表示領域には、データ線6aおよびゲート線3aが格子状に配置され、両者の交点付近には、画像表示単位であるドットが配置されている。マトリクス状に配置された複数のドットには、それぞれ画素電極15が形成されている。その画素電極15の側方には、当該画素電極15への通電制御を行うためのスイッチング素子であるTFT素子13が形成されている。このTFT素子13のソースには、データ線6aが電気的に接続されている。各データ線6aには画像信号S1、S2、‥、Snが供給される。
(Equivalent circuit)
FIG. 8 is an equivalent circuit diagram of a liquid crystal device using TFT elements. In the image display area of the liquid crystal device, data lines 6a and gate lines 3a are arranged in a lattice pattern, and dots, which are image display units, are arranged in the vicinity of their intersections. Pixel electrodes 15 are respectively formed on the plurality of dots arranged in a matrix. A TFT element 13 which is a switching element for performing energization control to the pixel electrode 15 is formed on the side of the pixel electrode 15. A data line 6 a is electrically connected to the source of the TFT element 13. Image signals S1, S2,..., Sn are supplied to each data line 6a.

またTFT素子13のゲートには、ゲート線(走査線)3aが電気的に接続されている。ゲート線3aには、所定のタイミングでパルス的に走査信号G1、G2、‥、Gnが供給される。またTFT素子13のドレインには、画素電極15が電気的に接続されている。そして、ゲート線3aから供給された走査信号G1、G2、‥、Gnにより、スイッチング素子であるTFT素子13を一定期間だけオン状態にすると、データ線6aから供給された画像信号S1、S2、‥、Snが、各画素の液晶に所定のタイミングで書き込まれるようになっている。   A gate line (scanning line) 3 a is electrically connected to the gate of the TFT element 13. The gate lines 3a are supplied with scanning signals G1, G2,..., Gn in a pulsed manner at a predetermined timing. The pixel electrode 15 is electrically connected to the drain of the TFT element 13. When the TFT element 13 serving as a switching element is turned on for a certain period by the scanning signals G1, G2,..., Gn supplied from the gate line 3a, the image signals S1, S2,. , Sn are written to the liquid crystal of each pixel at a predetermined timing.

液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、‥、Snは、画素電極15と後述する共通電極との間に形成される液晶容量で一定期間保持される。なお、保持された画像信号S1、S2、‥、Snがリークするのを防止するため、画素電極15と容量線3bとの間に蓄積容量7が形成され、液晶容量と並列に配置されている。そして、上記のように液晶に電圧信号が印加されると、印加された電圧レベルにより液晶分子の配向状態が変化する。これにより、液晶に入射した光が変調されて階調表示が可能となっている。   Image signals S1, S2,..., Sn written at a predetermined level on the liquid crystal are held for a certain period by a liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 15 and a common electrode described later. In order to prevent leakage of the held image signals S1, S2,..., Sn, a storage capacitor 7 is formed between the pixel electrode 15 and the capacitor line 3b, and is arranged in parallel with the liquid crystal capacitor. . When a voltage signal is applied to the liquid crystal as described above, the alignment state of the liquid crystal molecules changes according to the applied voltage level. As a result, light incident on the liquid crystal is modulated to enable gradation display.

(平面構造、断面構造)
図9は第2参考形態に係る液晶装置の説明図であり、図9(a)は図9(b)のF−F線に沿う平面図であり、図9(b)は図9(a)のE−E線に沿う断面図である。図9(b)に示すように、本参考形態の液晶装置100は、光源側に配置された素子基板10と、観察者側に配置された対向基板20と、素子基板10および対向基板20に挟持された液晶層50と、素子基板10側に設けられ対向基板20側から入射した光を反射する反射膜(反射電極)15rと、その反射膜15rが存在する反射表示領域Rにおける液晶層50の厚さを、反射膜15rが存在しない透過表示領域Tにおける液晶層50の厚さよりも小さくするための液晶層厚調整層24とを有する、半透過反射型の液晶装置である。
(Planar structure, cross-sectional structure)
Figure 9 is an explanatory view of a liquid crystal device according to a second referential embodiment, FIG. 9 (a) is a plan view taken along line F-F of FIG. 9 (b), FIG. 9 (b) Fig. 9 (a It is sectional drawing which follows the EE line | wire of (). As shown in FIG. 9 (b), the liquid crystal device 100 of this reference embodiment includes an element substrate 10 disposed on the light source side, a counter substrate 20 which are disposed on the viewer's side, the element substrate 10 and the counter substrate 20 The sandwiched liquid crystal layer 50, a reflection film (reflection electrode) 15r that is provided on the element substrate 10 side and reflects light incident from the counter substrate 20 side, and the liquid crystal layer 50 in the reflection display region R where the reflection film 15r exists. Is a transflective liquid crystal device having a liquid crystal layer thickness adjusting layer 24 for making the thickness of the liquid crystal layer 50 smaller than the thickness of the liquid crystal layer 50 in the transmissive display region T where the reflective film 15r does not exist.

図9(a)に示すように、矩形状の画素電極15の長手方向に沿って上述したデータ線6aが配置され、画素電極15の短手方向に沿って上述したゲート線3aおよび容量線3bが配置されている。そのデータ線6aとゲート線3aとの交点付近には、TFT素子13が形成されている。そのTFT素子13のドレインは、コンタクトホール14を介して、画素電極15に接続されている。   As shown in FIG. 9A, the data line 6a described above is arranged along the longitudinal direction of the rectangular pixel electrode 15, and the gate line 3a and the capacitor line 3b described above along the short direction of the pixel electrode 15. Is arranged. A TFT element 13 is formed near the intersection of the data line 6a and the gate line 3a. The drain of the TFT element 13 is connected to the pixel electrode 15 through the contact hole 14.

図9(b)に示すように、素子基板10の基板本体11の内側には、上述したデータ線やゲート線、容量線、TFT素子等を含む素子形成層12が配置されている。その素子形成層12の内側において、画像表示単位となるドット領域の長手方向の一方端部には、表面に凹凸を有する樹脂層16が形成されている。その樹脂層16の表面には、AlやAg等の高反射率の金属材料からなる反射電極(反射膜)15rが形成されている。またドット領域の長手方向の残部には、ITO等の透明導電性材料からなる透明電極15tが形成されている。これらの反射電極15rおよび透明電極15tが導通接続されて、画素電極15が形成されている。そして、反射電極15rの形成領域が反射表示領域Rとなり、透明電極15tの形成領域が透過表示領域Tとなっている。   As shown in FIG. 9B, the element forming layer 12 including the above-described data line, gate line, capacitor line, TFT element and the like is disposed inside the substrate body 11 of the element substrate 10. Inside the element forming layer 12, a resin layer 16 having irregularities on the surface is formed at one end in the longitudinal direction of a dot region serving as an image display unit. A reflective electrode (reflective film) 15r made of a highly reflective metal material such as Al or Ag is formed on the surface of the resin layer 16. A transparent electrode 15t made of a transparent conductive material such as ITO is formed on the remaining portion of the dot region in the longitudinal direction. The reflective electrode 15r and the transparent electrode 15t are conductively connected to form the pixel electrode 15. The formation area of the reflective electrode 15r is the reflective display area R, and the formation area of the transparent electrode 15t is the transmissive display area T.

一方、対向基板20の基板本体21の内側には、CF層22が形成されている。なおCF層22は、素子基板10に形成してもよい。そのCF層22の内側には、反射表示領域Rにおける液晶層50の厚さを透過表示領域Tにおける液晶層50の厚さよりも小さくするための液晶層厚調整層24が設けられている。また反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界領域には、液晶層厚調整層24の傾斜部70が形成されている。一般に液晶層厚調整層24の傾斜部70では、液晶分子の配向状態が乱れやすく表示品質が低下しやすい。
そこで第2参考形態の液晶装置は、傾斜部70を反射表示領域Rに配置することにより、透過表示を重視した構成になっている。なお液晶層厚調整層24は、素子基板10に設けてもよく、また素子基板10および対向基板20の両方に設けてもよい。液晶層厚調整層24が形成された対向基板20の内側には、略全面に共通電極25が形成されている。
On the other hand, a CF layer 22 is formed inside the substrate body 21 of the counter substrate 20. The CF layer 22 may be formed on the element substrate 10. Inside the CF layer 22, a liquid crystal layer thickness adjusting layer 24 for making the thickness of the liquid crystal layer 50 in the reflective display region R smaller than the thickness of the liquid crystal layer 50 in the transmissive display region T is provided. In addition, an inclined portion 70 of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24 is formed in a boundary region between the reflective display region R and the transmissive display region T. In general, in the inclined portion 70 of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24, the alignment state of the liquid crystal molecules is likely to be disturbed, and the display quality is likely to be deteriorated.
Therefore, the liquid crystal device according to the second reference embodiment has a configuration in which the transmissive display is emphasized by arranging the inclined portion 70 in the reflective display region R. The liquid crystal layer thickness adjusting layer 24 may be provided on the element substrate 10 or on both the element substrate 10 and the counter substrate 20. A common electrode 25 is formed on substantially the entire inner surface of the counter substrate 20 on which the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24 is formed.

その共通電極25の表面には、ポリイミド等からなる配向膜29が形成されている。また素子基板10に形成された画素電極15の表面にも、ポリイミド等からなる配向膜19が形成されている。これらの配向膜19,29には、ラビング処理が施されている。そのラビング処理は、図9(a)に矢印19aで示すように、データ線6aの延在方向(すなわち、画素電極15の長手方向)と交差する方向に施されている。   An alignment film 29 made of polyimide or the like is formed on the surface of the common electrode 25. An alignment film 19 made of polyimide or the like is also formed on the surface of the pixel electrode 15 formed on the element substrate 10. The alignment films 19 and 29 are rubbed. The rubbing process is performed in a direction intersecting with the extending direction of the data line 6a (that is, the longitudinal direction of the pixel electrode 15) as indicated by an arrow 19a in FIG.

そして図9(b)に示すように、素子基板10と対向基板20との間に、OCBモードで動作する液晶層50が挟持されている。本参考形態では、透過表示領域Tおよび反射表示領域Rともに水平配向膜が形成されて、透過表示領域Tおよび反射表示領域Rの液晶層50が、ともにOCBモードで動作するようになっている。
また、液晶層50の厚さ(セルギャップ)を規制するため、フォトスペーサ59が形成されている。
As shown in FIG. 9B, a liquid crystal layer 50 that operates in the OCB mode is sandwiched between the element substrate 10 and the counter substrate 20. In this preferred embodiment, the transmissive display region T and the reflective display region R together horizontal alignment film is formed, the liquid crystal layer 50 in the transmissive display region T and the reflective display region R, is adapted to operate in both OCB mode.
In addition, a photo spacer 59 is formed in order to regulate the thickness (cell gap) of the liquid crystal layer 50.

(初期転移構造)
第2参考形態における初期転移操作としては、ゲート線を線順次にONしつつ、画素電極15と共通電極25との間に15V程度のパルス電圧を印加する。この初期転移電圧の印加によりドット領域にディスクリネーションを発生させれば、初期転移動作を円滑に行うことができる。そのため第2参考形態でも、液晶層厚調整層24の傾斜部70に初期転移構造を形成する。
(Initial transition structure)
As an initial transition operation in the second reference embodiment, a pulse voltage of about 15 V is applied between the pixel electrode 15 and the common electrode 25 while the gate lines are turned on line-sequentially. If the disclination is generated in the dot area by applying the initial transition voltage, the initial transition operation can be performed smoothly. Therefore, also in the second reference embodiment, an initial transition structure is formed in the inclined portion 70 of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24.

初期転移構造として、図9(b)に示す傾斜部70の共通電極25に、スリットおよび/または切り欠きを形成する。このスリットおよび/または切り欠きとして、初期転移電圧の印加により傾斜部70の表面に様々な方向の斜め電界を発生させるものを形成する。具体的には、図5に示すように、様々な方向に折れ曲がったスリットおよび/または切り欠きを形成すればよい。これにより、傾斜部の表面にディスクリネーションを発生させることが可能になり、初期転移動作を円滑に行うことができる。   As an initial transition structure, slits and / or notches are formed in the common electrode 25 of the inclined portion 70 shown in FIG. As the slits and / or notches, those which generate oblique electric fields in various directions on the surface of the inclined portion 70 by applying an initial transition voltage are formed. Specifically, as shown in FIG. 5, slits and / or notches bent in various directions may be formed. Thereby, it is possible to generate disclination on the surface of the inclined portion, and the initial transfer operation can be performed smoothly.

また初期転移構造として、図9(b)に示す傾斜部70の共通電極25の表面に、突起を形成してもよい。この突起として、初期の液晶分子を様々な方向に傾斜配向させるとともに、初期転移電圧の印加により傾斜部70の表面に様々な方向の斜め電界を発生させるものを形成する。具体的には、図6に示すように、第1参考形態と同様の突起を形成すればよい。これにより、傾斜部の表面にディスクリネーションを発生させることができる。
そして、全てのドット領域の傾斜部にディスクリネーションを発生させることにより、全てのドット領域における液晶の配向状態を転移させることが可能になる。したがって、初期転移動作を円滑に行うことができる。
Further, as an initial transition structure, a protrusion may be formed on the surface of the common electrode 25 of the inclined portion 70 shown in FIG. As the protrusions, those in which initial liquid crystal molecules are tilted and oriented in various directions and an oblique electric field in various directions is generated on the surface of the inclined portion 70 by application of an initial transition voltage are formed. Specifically, as shown in FIG. 6, the same protrusions as those in the first reference embodiment may be formed. Thereby, disclination can be generated on the surface of the inclined portion.
Then, by generating disclination in the inclined portions of all the dot areas, it becomes possible to transfer the alignment state of the liquid crystals in all the dot areas. Therefore, the initial transition operation can be performed smoothly.

また図9(a)に示すように、第2参考形態では、配向膜のラビング処理が、データ線等の信号線の延在方向と交差する方向(矢印19aの方向)に施されている。このラビング方向に沿って初期転移電圧の印加前の液晶分子が配向している。データ線に初期転移電圧が印加されると、画素電極の短手方向に沿った横電界が発生する。初期転移構造による斜め電界に加えて、この横電界の影響により、誘電率異方性が正の液晶分子は、より様々な方向に回動しつつ再配向しようとする。これにより、傾斜部の表面にディスクリネーションを発生させることが容易になり、初期転移動作をより円滑に行うことができる。一例を挙げれば、200ms以下で初期転移を完了させることが可能になる。 Further, as shown in FIG. 9A, in the second reference embodiment, the alignment film is rubbed in the direction intersecting the extending direction of the signal lines such as the data lines (the direction of the arrow 19a). The liquid crystal molecules before application of the initial transition voltage are aligned along the rubbing direction. When the initial transition voltage is applied to the data line, a lateral electric field is generated along the short direction of the pixel electrode. In addition to the oblique electric field due to the initial transition structure, liquid crystal molecules having positive dielectric anisotropy tend to be reoriented while rotating in more various directions due to the influence of the transverse electric field. Thereby, it becomes easy to generate disclination on the surface of the inclined portion, and the initial transition operation can be performed more smoothly. For example, the initial transition can be completed in 200 ms or less.

また第2参考形態では、図9(b)に示すように、液晶層厚調整層24の傾斜部70と平面的に重なるCF層22の内部に、遮光膜23を形成している。この構成によれば、初期転移動作が完了した後の表示動作時において、初期転移構造の周辺にディスクリネーションが残っても、そのディスクリネーションに起因する光漏れを防止することが可能になる。これにより、表示動作時における表示品質の低下を防止することができる。 In the second reference embodiment, as shown in FIG. 9B, the light shielding film 23 is formed inside the CF layer 22 that planarly overlaps the inclined portion 70 of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24. According to this configuration, even when disclination remains around the initial transition structure during display operation after the initial transition operation is completed, it is possible to prevent light leakage due to the disclination. . Thereby, it is possible to prevent the display quality from being lowered during the display operation.

(第3参考形態)
次に、第3参考形態に係る液晶装置につき、図10を用いて説明する。
図10(a)および図10(b)は、図9(a)のE−E線に相当する部分における側面断面図である。なお図10には、理解を容易にするため、液晶層50に近接する機能層のみを記載している。第3参考形態に係る液晶装置100は、透過表示領域TがOCBモードで動作し反射表示領域RがR−OCBモードで動作する点で、透過表示領域Tおよび反射表示領域RともにOCBモードで動作する第2参考形態とは異なっている。なお上記各参考形態と同様の構成となる部分については、その詳細な説明を省略する。
(3rd reference form)
Next, a liquid crystal device according to a third reference embodiment will be described with reference to FIG.
10 (a) and 10 (b) are side cross-sectional views of the portion corresponding to the line EE in FIG. 9 (a). In FIG. 10, only the functional layer adjacent to the liquid crystal layer 50 is shown for easy understanding. The liquid crystal device 100 according to the third reference embodiment operates in both the transmissive display area T and the reflective display area R in the OCB mode in that the transmissive display area T operates in the OCB mode and the reflective display area R operates in the R-OCB mode. This is different from the second reference embodiment. Note that detailed description of portions having the same configuration as each of the reference embodiments is omitted.

図10(a)に示す液晶装置では、対向基板20の内側全体に水平配向膜29が形成されているのに対して、素子基板10の内側には、透過表示領域Tに水平配向膜19tが形成され、反射表示領域Rに垂直配向膜19rが形成されている。この配向膜19を形成するには、まず素子基板10の内側全体に垂直配向膜を形成する。次に、素子基板10の外側から紫外線を照射する。その際、反射膜15rをマスクとして、透過表示領域Tのみに紫外線を照射することにより、透過表示領域Tの配向膜19tを水平配向膜に変化させる。また、素子基板10の内側全体に水平配向膜を形成し、反射表示領域Rに対して選択的に光配向処理を行うことにより、反射表示領域Rの配向膜19rを垂直配向膜に変化させてもよい。   In the liquid crystal device shown in FIG. 10A, the horizontal alignment film 29 is formed on the entire inner side of the counter substrate 20, whereas the horizontal alignment film 19t is formed in the transmissive display region T on the inner side of the element substrate 10. The vertical alignment film 19r is formed in the reflective display region R. In order to form the alignment film 19, first, a vertical alignment film is formed on the entire inner side of the element substrate 10. Next, ultraviolet rays are irradiated from the outside of the element substrate 10. At this time, the alignment film 19t in the transmissive display region T is changed to a horizontal alignment film by irradiating only the transmissive display region T with ultraviolet rays using the reflective film 15r as a mask. Further, by forming a horizontal alignment film on the entire inner side of the element substrate 10 and selectively performing an optical alignment process on the reflective display region R, the alignment film 19r in the reflective display region R is changed to a vertical alignment film. Also good.

この場合、透過表示領域Tの液晶層50は、両基板に水平配向膜19t,29が形成されているので、OCBモードで動作する。これに対して、反射表示領域Rでは、対向基板20に水平配向膜29が形成され素子基板10に垂直配向膜19rが形成されているので、対向基板20から素子基板10にかけて液晶分子の配向状態が水平配向から垂直配向に変化している。すなわち、液晶分子の傾斜角度が連続的に変化するハイブリッド配向(Hybrid-Aligned Nematic;HAN)となっている。これにより、反射表示領域Rの液晶層50はR−OCBモードで動作する。R−OCBモードの配向状態は、OCBモードにおけるベンド配向の上半部または下半部に相当するので、ベンド配向の曲がりの度合いで透過率を変調することにより、表示動作の高速応答性を実現することができる。しかもOCBモードとは異なり、初期転移動作を経ることなく表示動作に入ることができる。   In this case, the liquid crystal layer 50 in the transmissive display region T operates in the OCB mode because the horizontal alignment films 19t and 29 are formed on both substrates. On the other hand, in the reflective display region R, since the horizontal alignment film 29 is formed on the counter substrate 20 and the vertical alignment film 19r is formed on the element substrate 10, the alignment state of liquid crystal molecules from the counter substrate 20 to the element substrate 10 is achieved. Changes from horizontal alignment to vertical alignment. That is, it is a hybrid-aligned nematic (HAN) in which the tilt angle of the liquid crystal molecules changes continuously. Thereby, the liquid crystal layer 50 in the reflective display region R operates in the R-OCB mode. The alignment state of the R-OCB mode corresponds to the upper half or the lower half of the bend alignment in the OCB mode. Therefore, high-speed response of display operation is realized by modulating the transmittance with the degree of bending of the bend alignment. can do. Moreover, unlike the OCB mode, the display operation can be started without going through the initial transition operation.

一方、図10(b)に示す液晶装置では、素子基板10の内側全体に水平配向膜19が形成されているのに対して、対向基板20の内側には、透過表示領域Tに水平配向膜29tが形成され、反射表示領域Rに垂直配向膜29rが形成されている。この場合も、透過表示領域TがOCBモードで動作するのに対して、反射表示領域RはR−OCBモードで動作する。ただし、図10(b)に示す液晶装置の反射表示領域Rでは、図10(a)の場合とは逆に、素子基板10から対向基板20にかけて液晶分子の配向状態が水平配向から垂直配向に変化するハイブリッド配向となっている。   On the other hand, in the liquid crystal device shown in FIG. 10B, the horizontal alignment film 19 is formed on the entire inner side of the element substrate 10, whereas the horizontal alignment film is formed in the transmissive display region T on the inner side of the counter substrate 20. 29t is formed, and a vertical alignment film 29r is formed in the reflective display region R. Also in this case, the transmissive display area T operates in the OCB mode, whereas the reflective display area R operates in the R-OCB mode. However, in the reflective display region R of the liquid crystal device shown in FIG. 10B, the alignment state of the liquid crystal molecules changes from the horizontal alignment to the vertical alignment from the element substrate 10 to the counter substrate 20, contrary to the case of FIG. The hybrid orientation is changing.

そして第3参考形態でも、液晶層厚調整層24の傾斜部70に初期転移構造が設けられている。これにより、OCBモードで動作する透過表示領域の初期転移動作を円滑に行うことができるようになっている。 Also in the third reference embodiment, the initial transition structure is provided in the inclined portion 70 of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24. Thus, the initial transition operation of the transmissive display area that operates in the OCB mode can be smoothly performed.

なお第3参考形態では、透過表示領域TがOCBモードで動作し反射表示領域がR−OCBモードで動作するので、素子基板または対向基板において、透過表示領域に水平配向膜を形成し反射表示領域に垂直配向膜を形成する必要がある。これに対して、第1および第2参考形態では、透過表示領域Tおよび反射表示領域Rの液晶層50がともにOCBモードで動作するので、透過表示領域Tと反射表示領域Rとの間で配向膜を作り分ける必要がない。 In the third reference embodiment, since the transmissive display area T operates in the OCB mode and the reflective display area operates in the R-OCB mode, a horizontal alignment film is formed in the transmissive display area on the element substrate or the counter substrate. It is necessary to form a vertical alignment film. On the other hand, in the first and second reference embodiments, the liquid crystal layers 50 in the transmissive display area T and the reflective display area R both operate in the OCB mode, so that the alignment between the transmissive display area T and the reflective display area R is achieved. There is no need to make separate membranes.

(第4実施形態)
次に、第4実施形態に係る液晶装置につき、図11を用いて説明する。
図11は第4実施形態に係る液晶装置の説明図であり、図11(a)は図11(b)のN−N線に沿う平面図であり、図11(b)は図11(a)のM−M線に沿う断面図である。図11(b)に示すように、第4実施形態に係る液晶装置100は、液晶層厚調整層24の傾斜部70と平面的に重なるようにゲート線3aが配置されている点で、ドット領域の外側にゲート線が配置されている第2参考形態とは異なっている。なお上記各参考形態と同様の構成となる部分については、その詳細な説明を省略する。
(Fourth embodiment)
Next, a liquid crystal device according to a fourth embodiment will be described with reference to FIG.
11A and 11B are explanatory views of the liquid crystal device according to the fourth embodiment. FIG. 11A is a plan view taken along the line NN in FIG. 11B, and FIG. It is sectional drawing which follows the MM line | wire of (). As shown in FIG. 11B, the liquid crystal device 100 according to the fourth embodiment has dots in that the gate line 3a is arranged so as to overlap the inclined portion 70 of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24 in a plane. It is different from the second referential embodiment the gate line is disposed outside the region. Note that detailed description of portions having the same configuration as each of the reference embodiments is omitted.

図11(b)に示すように、第4実施形態では、素子基板10に液晶層厚調整層24が設けられている。そして、その液晶層厚調整層24の傾斜部70に初期転移構造が設けられている。また、その傾斜部70と平面的に重なるように、素子基板10における素子形成層12にゲート線3aが配置されている。
図11(a)に示すように、そのゲート線3aは、画素電極15を横断するように配置されている。そのゲート線3aとデータ線6aとの交点付近に画素電極15の切り欠き部が形成され、その切り欠き部にTFT素子13が形成されている。そのTFT素子13のドレインは、コンタクトホール14を介して、画素電極15に接続されている。
As shown in FIG. 11B, in the fourth embodiment, a liquid crystal layer thickness adjusting layer 24 is provided on the element substrate 10. An initial transition structure is provided in the inclined portion 70 of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24. Further, the gate line 3 a is arranged on the element formation layer 12 in the element substrate 10 so as to overlap the inclined portion 70 in a plan view.
As shown in FIG. 11A, the gate line 3 a is disposed so as to cross the pixel electrode 15. A notch portion of the pixel electrode 15 is formed near the intersection of the gate line 3a and the data line 6a, and a TFT element 13 is formed in the notch portion. The drain of the TFT element 13 is connected to the pixel electrode 15 through the contact hole 14.

なお図11(b)に示すように、ゲート線3aと並んで反射膜17の外側に容量線3bを配置し、容量線3bおよび反射膜17の間に蓄積容量を形成してもよい。この場合、液晶装置100の観察者からみて、反射膜17の背面に容量線3bを隠すことができるので、容量線3bの存在に起因する開口率の低下を防止することができる。   As shown in FIG. 11B, the capacitor line 3b may be arranged outside the reflective film 17 along with the gate line 3a, and a storage capacitor may be formed between the capacitor line 3b and the reflective film 17. In this case, as viewed from the observer of the liquid crystal device 100, the capacitance line 3b can be concealed on the back surface of the reflective film 17, so that a decrease in the aperture ratio due to the presence of the capacitance line 3b can be prevented.

上記のように配置されたゲート線3aをONにすると、その周囲に発生する電界が傾斜部70に及ぶ。この電界の影響により、誘電率異方性が正の液晶分子は、より様々な方向に回動しつつ再配向しようとする。これにより、傾斜部70の表面にディスクリネーションを発生させることが容易になり、初期転移動作をより円滑に行うことができる。   When the gate line 3 a arranged as described above is turned on, an electric field generated around the gate line 3 a reaches the inclined portion 70. Due to the influence of this electric field, the liquid crystal molecules having positive dielectric anisotropy tend to be reoriented while rotating in more various directions. Thereby, it becomes easy to generate disclination on the surface of the inclined portion 70, and the initial transfer operation can be performed more smoothly.

また、液晶層厚調整層24の傾斜部70と平面的に重なるようにゲート線3aを配置したので、初期転移動作が完了した後の表示動作時において、初期転移構造の周辺にディスクリネーションが残っても、そのディスクリネーションに起因する光漏れを防止することが可能になる。これにより、表示動作時におけるコントラストの低下を防止することができる。   In addition, since the gate line 3a is arranged so as to overlap the inclined portion 70 of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 24, disclination is generated around the initial transition structure in the display operation after the initial transition operation is completed. Even if it remains, light leakage due to the disclination can be prevented. Thereby, it is possible to prevent a decrease in contrast during the display operation.

(電子機器)
図12は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視図である。図12に示す携帯電話1300は、本発明の液晶装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。本発明の液晶装置は、表示品質の低下を最小限に抑えつつ、OCBモードの初期転移動作を円滑に行うことができるので、表示品質に優れた携帯電話1300を提供することができる。
(Electronics)
FIG. 12 is a perspective view showing an example of an electronic apparatus according to the present invention. A cellular phone 1300 illustrated in FIG. 12 includes the liquid crystal device of the present invention as a small-sized display portion 1301, and includes a plurality of operation buttons 1302, an earpiece 1303, and a mouthpiece 1304. Since the liquid crystal device of the present invention can smoothly perform the initial transition operation in the OCB mode while minimizing the deterioration in display quality, the mobile phone 1300 with excellent display quality can be provided.

上記各実施の形態の表示装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、明るく、高コントラストの表示が可能になっている。   The display device of each of the above embodiments is not limited to the mobile phone, but is an electronic book, a personal computer, a digital still camera, a liquid crystal television, a viewfinder type or a monitor direct view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, and an electronic notebook. , Calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, devices equipped with touch panels, etc., can be suitably used as image display means, and any electronic device can display bright and high-contrast images. Yes.

なお、本発明の技術範囲は、上述した各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した各実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、各実施形態で挙げた具体的な材料や構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。   The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and includes various modifications made to the above-described embodiments without departing from the spirit of the present invention. That is, the specific materials and configurations described in the embodiments are merely examples, and can be changed as appropriate.

TFD素子を用いた液晶装置の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram of a liquid crystal device using a TFD element. TFD素子を用いた液晶装置の表示領域の部分斜視図である。It is a fragmentary perspective view of the display area of the liquid crystal device using a TFD element. 第1参考形態に係る液晶装置の説明図である。It is explanatory drawing of the liquid crystal device which concerns on a 1st reference form. OCBモードの液晶装置における液晶分子の配向状態の説明図である。It is explanatory drawing of the orientation state of the liquid crystal molecule in the liquid crystal device of OCB mode. 初期転移構造として形成可能なスリットや切り欠きの平面図である。It is a top view of the slit and notch which can be formed as an initial stage transition structure. 初期転移構造として形成可能な突起の平面図である。It is a top view of the protrusion which can be formed as an initial stage transition structure. 液晶装置の平面図および側面断面図である。It is the top view and side sectional drawing of a liquid crystal device. TFT素子を用いた液晶装置の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram of a liquid crystal device using a TFT element. 第2参考形態に係る液晶装置の説明図である。It is explanatory drawing of the liquid crystal device which concerns on a 2nd reference form. 第3参考形態に係る液晶装置の説明図である。It is explanatory drawing of the liquid crystal device which concerns on a 3rd reference form. 第4実施形態に係る液晶装置の説明図である。It is explanatory drawing of the liquid crystal device which concerns on 4th Embodiment. 携帯電話の斜視図である。It is a perspective view of a mobile phone.

符号の説明Explanation of symbols

R‥反射表示領域 T‥透過表示領域 3a‥信号線 10‥素子基板 20‥対向基板 23‥遮光膜 24‥液晶層厚調整層 25‥電極 50‥液晶層 70‥傾斜部 71‥スリット 72‥突起 100‥液晶装置   R ... Reflection display area T ... Transmission display area 3a ... Signal line 10 ... Element substrate 20 ... Counter substrate 23 ... Light-shielding film 24 ... Liquid crystal layer thickness adjustment layer 25 ... Electrode 50 ... Liquid crystal layer 70 ... Inclined part 71 ... Slit 72 ... Projection 100 Liquid crystal device

Claims (8)

互いに対向配置され液晶層を挟持する一対の基板と、前記一対の基板上に配置された配向膜と、前記一対の基板のうち一方の前記基板上にマトリクス状に配置され前記液晶層に電圧を印加する電極と、前記電極への通電制御を行うスイッチング素子と、前記スイッチング素子に対して走査信号を供給する走査線と、前記走査線と交差するように配置され画像信号を供給するデータ線と、前記一対の基板のうち一方の前記基板に設けられ他方の前記基板側から入射した光を反射する反射膜と、反射表示領域における前記液晶層の厚さを透過表示領域における前記液晶層の厚さよりも小さくして、前記反射表示領域および前記透過表示領域における前記液晶層のリタデーションを略同一にする液晶層厚調整層とを有し、
少なくとも前記透過表示領域における前記液晶層の動作モードがOCBモードである液晶装置であって、
前記反射表示領域と前記透過表示領域との間に設けられた前記液晶層厚調整層の傾斜部の形成領域に、前記液晶層の初期転移構造が設けられ
前記傾斜部と平面的に重なる領域に、前記走査線が配置され、
前記配向膜は、前記データ線と交差する方向にラビング処理が施されていることを特徴とする液晶装置。
A pair of substrates arranged opposite to each other and sandwiching the liquid crystal layer, an alignment film disposed on the pair of substrates, and a voltage applied to the liquid crystal layer disposed in a matrix on one of the pair of substrates. An electrode to be applied, a switching element that controls energization to the electrode, a scanning line that supplies a scanning signal to the switching element, and a data line that is arranged to intersect the scanning line and supplies an image signal a reflective film which reflects light incident from the substrate side of the other is provided in the substrate of one of said pair of substrates, the thickness of the liquid crystal layer in the transmissive display region the thickness of the liquid crystal layer in the reflective display region And a liquid crystal layer thickness adjusting layer that makes the retardation of the liquid crystal layer substantially the same in the reflective display region and the transmissive display region ,
An operation mode of the liquid crystal layer in at least the transmissive display region is an OCB mode,
An initial transition structure of the liquid crystal layer is provided in a formation region of the inclined portion of the liquid crystal layer thickness adjusting layer provided between the reflective display region and the transmissive display region ,
The scanning line is arranged in a region overlapping the inclined portion in a plane,
The liquid crystal device , wherein the alignment film is rubbed in a direction crossing the data line .
前記反射表示領域における前記液晶層の動作モードは、OCBモードであることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein an operation mode of the liquid crystal layer in the reflective display region is an OCB mode. 前記反射表示領域における前記液晶層の動作モードは、R−OCBモードであることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein an operation mode of the liquid crystal layer in the reflective display region is an R-OCB mode. 前記初期転移構造は、前記電極に形成されたスリットおよび/または切り欠きであることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の液晶装置。 The initial transition structure, the liquid crystal device according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it lacks before Symbol collector slits and / or cut formed in the electrode. 前記初期転移構造は、前記電極の表面、または前記電極の下に形成された突起であることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の液晶装置。 The initial transition structure, the liquid crystal device according to any one of claims 1 to 3, characterized in that a projection formed below the previous SL conductive surface of electrode or the electrode. 前記傾斜部は、前記反射表示領域に設けられていることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein the inclined portion is provided in the reflective display region. 前記傾斜部は、前記透過表示領域に設けられていることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein the inclined portion is provided in the transmissive display area. 請求項1ないし請求項のいずれかに記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。 An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to any one of claims 1 to 7.
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