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JP4836085B2 - Stamp type film forming method - Google Patents

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JP4836085B2 JP2007196766A JP2007196766A JP4836085B2 JP 4836085 B2 JP4836085 B2 JP 4836085B2 JP 2007196766 A JP2007196766 A JP 2007196766A JP 2007196766 A JP2007196766 A JP 2007196766A JP 4836085 B2 JP4836085 B2 JP 4836085B2
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正信 淡野
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  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Description

本発明は、スタンプ面を利用したスタンプ式製膜法に関するものであり、更に詳しくは、金属もしくはセラミック材からなるコート剤を含浸したスタンプ面と、平面もしくは曲面、凹凸面を有し、金属もしくはセラミック材からなる多孔質基材表面を接触させることにより、基材表面の適切な箇所へ、均質かつ緻密なコート層を製膜することを可能とする新規製膜方法及びその製膜部材等に関するものである。 The present invention relates to a stamp-type film forming method using a stamp surface. More specifically, the present invention relates to a stamp surface impregnated with a coating agent made of a metal or a ceramic material, a flat surface or a curved surface, and an uneven surface. by contacting the porous substrate surface made of a ceramic material, to the appropriate location of the substrate surface, new casting method and film formation member or the like make it possible to film the homogeneous and緻dense coating layer It is about.

従来、多孔質セラミックスは、例えば、気相分離や排ガス浄化・浄水フィルター等の支持体として利用されている。中でも、中空管を集積したハニカム形状は、単位体積当たりのフィルター面積の増加が見込めるため、多孔質セラミックスの支持体形状として、広く利用されている。   Conventionally, porous ceramics are used as a support for, for example, gas phase separation, exhaust gas purification / water purification filters, and the like. Among these, a honeycomb shape in which hollow tubes are integrated is widely used as a support shape of porous ceramics because an increase in filter area per unit volume can be expected.

一般的に、多孔質セラミックス壁を利用したフィルター法では、約半分の目封じされていないハニカム孔へ不純物質を含んだ気相もしくは液相が供給され、多孔質壁にて不純物質を除去された気相もしくは液相が、目封じされていた残り半分のハニカム孔へ透過し、排出される。また、先行技術として、ガス分離膜を支持する支持体が不要であるハニカム型ガス分離膜として、ハニカム一体構造であり、ガス分離能を有する材料からなる緻密体を用いて、混合ガス中から特定ガスを分離又は供給するガス分離構造体が提案されている(特許文献1)   In general, in the filter method using a porous ceramic wall, a gas phase or a liquid phase containing an impurity is supplied to about half of the honeycomb pores that are not sealed, and the impurity is removed by the porous wall. The gas phase or liquid phase passes through the remaining half of the sealed honeycomb holes and is discharged. In addition, as a prior art, as a honeycomb type gas separation membrane that does not require a support for supporting the gas separation membrane, a honeycomb integrated structure is used, and a dense body made of a material having gas separation ability is used to identify from a mixed gas. A gas separation structure for separating or supplying gas has been proposed (Patent Document 1).

この種のガス分離膜において、分離能を向上させるためには、多孔質セラミックス壁の端面部からの不純物質を含んだ気相もしくは液相の進入を防ぐ必要があり、そのためには、ハニカム孔を目封じすることなく、ハニカム端面の多孔質セラミックス壁上へ緻密膜を形成する必要がある。   In order to improve the separation performance in this type of gas separation membrane, it is necessary to prevent the entry of a gas phase or liquid phase containing impurities from the end surface portion of the porous ceramic wall. It is necessary to form a dense film on the porous ceramic wall of the honeycomb end face without sealing.

また、同様の気相分離を利用したシステムとして、固体酸化物燃料電池(SOFC)が挙げられる。そして、該SOFCが作動するためには、電子伝導性のない緻密膜により、空気等の酸化ガスと水素等の燃料ガスを分離させる必要がある。   Moreover, a solid oxide fuel cell (SOFC) is mentioned as a system using the same gas phase separation. In order for the SOFC to operate, it is necessary to separate an oxidizing gas such as air and a fuel gas such as hydrogen by a dense film having no electron conductivity.

近年、求められているSOFCの高出力化の方法の一つに、マイクロSOFCの集積構造が挙げられる。マイクロSOFCの集積化方法として、主に、(1)金属もしくはセラミックスからなる多孔質集電用支持体による管状マイクロセルの集積、(2)金属もしくはセラミックスからなる多孔質ハニカム状集電体による管状チャンネルセルの集積、がある。しかし、両集積構造ともに、多孔質支持体の端面部にガス分離膜を形成する必要があり、平板型SOFC等の従来構造と比較して複雑な支持体形状を有しているため、より高度なガス分離膜形成技術が求められる。   In recent years, one of the methods for increasing the output of SOFC that has been demanded is an integrated structure of micro SOFC. As a method for integrating micro SOFCs, mainly, (1) accumulation of tubular microcells using a porous current collecting support made of metal or ceramics, and (2) tubular using a porous honeycomb current collector made of metals or ceramics. There is an accumulation of channel cells. However, in both integrated structures, it is necessary to form a gas separation membrane on the end face part of the porous support, and since it has a complicated support shape compared to a conventional structure such as a flat plate type SOFC, it is more sophisticated. A gas separation membrane forming technique is required.

現在、広く使用されている基材表面への製膜法としては、例えば、ディップ法、スクリーン印刷法、スプレーコート法、スピンコート法、インクジェット法、及び刷毛塗り等がある。   Currently, film forming methods on a substrate surface that are widely used include, for example, dipping, screen printing, spray coating, spin coating, ink jet, and brush coating.

ディップ法やスプレーコート法、及びスピンコート法は、平面や曲面等の比較的簡単な表面を有する基材表面に対し、非常に綺麗なコート層を形成することができる。しかしながら、ハニカム等の複雑形状を有する基材の場合、ハニカム孔内へ余分なコート剤が残留してしまい、ハニカムチャンネルを目封じしてしまうという問題があった。   The dip method, spray coating method, and spin coating method can form a very beautiful coating layer on the surface of a substrate having a relatively simple surface such as a flat surface or a curved surface. However, in the case of a base material having a complicated shape such as a honeycomb, there is a problem that an excessive coating agent remains in the honeycomb holes and plugs the honeycomb channels.

また、スクリーン印刷法では、印刷時に基材表面へ圧力付加がかかるため、脆い基材を用いることができない。刷毛塗りの場合、コート剤の乾燥による刷毛の固化を防ぐために、連続的な作業を行う必要があり、工業プロセスとしては制限されてしまう。   Further, in the screen printing method, since pressure is applied to the surface of the base material during printing, a brittle base material cannot be used. In the case of brush coating, in order to prevent the solidification of the brush due to drying of the coating agent, it is necessary to perform continuous work, which is limited as an industrial process.

それに対し、非接触かつパターン形成が可能な手法として、インクジェット製膜法がある。この手法は、オンデマンドにコート液を吐出し、製膜できる手法として、複雑表面を有する基材に対しても適用可能である。しかし、インクジェット製膜法では、基材形状が変更される度にパターン設定も変更する必要があり、かつ、基材には非常に高い形状精度が求められるため、汎用の分野を拡大するには依然として不利な手法である。   On the other hand, there is an ink-jet film forming method as a method capable of non-contact and pattern formation. This technique can be applied to a substrate having a complex surface as a technique for forming a film by discharging a coating liquid on demand. However, in the ink-jet film forming method, it is necessary to change the pattern setting whenever the substrate shape is changed, and the substrate is required to have very high shape accuracy. Still a disadvantageous approach.

特開2001−104742号公報JP 2001-104742 A

このような状況の中で、本発明者らは、上記従来技術に鑑みて、金属もしくはセラミック材からなるコート剤の金属もしくはセラミック材からなる多孔質基材表面への新規製膜法を開発することを目標として鋭意研究を積み重ねた結果、予め基材表面の形状計測をすることなく、複雑形状を有する基材表面上のみに高い精度で金属もしくはセラミック材の膜を形成する製膜法を開発することに成功し、本発明を完成するに至った。   Under such circumstances, the present inventors have developed a new film forming method on the surface of a porous substrate made of a metal or a ceramic material of a coating agent made of a metal or a ceramic material, in view of the above-described conventional technology. As a result of accumulating intensive research, we have developed a film-forming method that forms a metal or ceramic film with high accuracy only on the surface of a substrate having a complex shape without measuring the shape of the substrate surface in advance. The present invention has been completed successfully.

本発明は、平面や曲面上に製膜できるだけでなく、複雑形状を有するハニカム開口面等の多孔質基材面上に対しても、基材表面の形状計測をすることなく、マスキングを使わずに、ハニカムチャンネルを目封じすることなく、基材表面の適切な箇所に選択的にコート剤をコート層として形成することが可能な製膜法及びその製膜部材等を提供することを目的とするものである。   The present invention not only forms a film on a flat or curved surface, but also does not use masking without measuring the shape of the substrate surface even on a porous substrate surface such as a honeycomb opening having a complicated shape. In addition, an object of the present invention is to provide a film forming method capable of selectively forming a coating agent as a coating layer at an appropriate location on the surface of a substrate without sealing the honeycomb channel, and a film forming member thereof. To do.

上記課題を解決するための本発明は、以下の技術的手段から構成される。
(1)SOFC多孔質集電用支持体の製膜に使用できる製膜方法において、金属もしくはセラミック材からなる基材表面の適切な箇所へ、上記支持体の製膜に使用できる金属もしくはセラミック材からなるコート剤を緻密質の構造を有しているコート層として製膜する際に、上記コート剤を含浸したスタンプ面と、上記基材表面を接触させることにより、基材表面の適切な箇所へ、上記コート層を選択的に製膜する製膜方法であって、
1)上記基材が、多孔質で、その気孔率が1〜50%であり、その気孔径が、0超〜5ミクロンであり、2)上記コート剤が、コート膜の原料となる粒子状コート材を含んだスラリーコート剤か、コート膜の原料となる金属イオンが溶解した溶液コート剤であり、3)上記スタンプ表面が、曲面もしくは平面からなり、気孔率70〜90%のスポンジ状材質もしく綿状材質で構成されていて、上記スタンプを構成するスタンプ材の気孔径が、10〜100ミクロンの範囲内であり、4)上記基材表面の幾何学的形状を予め計測して該幾何学形状を上記スタンプ面に形成することなしに、スタンプ面と、基材表面を接触させることにより、基材表面へコート層を製膜することを特徴とする上記製膜方法。
(2)上記基材表面が、平面もしくは凹凸面、曲、又はハニカム形状を有する複雑面からなる、前記(1)に記載の製膜方法。
)上記基材表面に対し、応力負荷をかけることなく、スタンプ面と基材表面の接触により上記コート層を製膜する、前記(1)に記載の製膜方法。
前記(1)から(3)のいずれかに記載の製膜方法を使用して、セラミック材からなる基材表面の適切な箇所へ、上記支持体の製膜に使用できる金属もしくはセラミック材からなるコート剤を該コート剤を含浸したスタンプ面を介してコート層として製膜した製膜部材であって、
1)上記基材が、ハニカム多孔質基材で、その気孔率が1〜50%であり、その気孔径が、0超〜5ミクロンであり、2)上記コート剤が、コート膜の原料となる粒子状コート材を含んだスラリーコート剤か、コート膜の原料となる金属イオンが溶解した溶液コート剤であり、3)上記スタンプ表面が、曲面もしくは平面からなり、気孔率70〜90%のスポンジ状材質もしく綿状材質で構成されていて、上記スタンプを構成するスタンプ材の気孔径が、10〜100ミクロンの範囲内であり、4)上記コート層が緻密質の構造を有しているものであり、コート剤を含浸したスタンプ面の該コート剤が、基材表面の所定の箇所のみにコート層として選択的に製膜された製膜構造を有することを特徴とする製膜部材。
The present invention for solving the above-described problems comprises the following technical means.
(1) In a film-forming method that can be used for forming a SOFC porous current collecting support, a metal or ceramic material that can be used for forming the support to an appropriate location on the surface of a substrate made of a metal or ceramic material when forming a film as a coating layer coating agent having the structure of dense consisting a stamp surface impregnated with the coating agent, by contacting the substrate surface, where appropriate on the surface of the substrate to, a casting method selectively film the coating layer,
1) The substrate is porous, the porosity is 1 to 50%, the pore diameter is more than 0 to 5 microns, and 2) the coating agent is a particulate material that is a raw material for the coating film. It is a slurry coating agent containing a coating material or a solution coating agent in which metal ions as a raw material for the coating film are dissolved. It is made of a cotton-like material, and the pore diameter of the stamp material constituting the stamp is in the range of 10 to 100 microns. 4) The geometric shape of the substrate surface is measured in advance to The film forming method according to claim 1, wherein a coating layer is formed on the surface of the substrate by bringing the stamp surface and the substrate surface into contact with each other without forming a geometric shape on the stamp surface.
(2) the substrate surface is planar or irregular surface consists of a complex surface having a song surface, or a honeycomb shape, and a method of producing the film according to (1).
( 3 ) The film forming method according to (1), wherein the coat layer is formed by contact between the stamp surface and the substrate surface without applying a stress load to the substrate surface.
( 4 ) A metal or ceramic that can be used for film formation of the support to an appropriate location on the surface of a base material made of a ceramic material using the film formation method according to any one of (1) to (3). A film forming member formed by forming a coating agent made of a material as a coating layer through a stamp surface impregnated with the coating agent ,
1) The base material is a honeycomb porous base material, the porosity is 1 to 50%, the pore diameter is more than 0 to 5 microns, and 2) the coating agent is a raw material for the coating film. A slurry coating agent containing a particulate coating material or a solution coating agent in which metal ions as a raw material of the coating film are dissolved. 3) The stamp surface is a curved surface or a flat surface and has a porosity of 70 to 90%. It is made of a sponge-like material or a cotton-like material, and the pore diameter of the stamp material constituting the stamp is in the range of 10 to 100 microns. 4) The coat layer has a dense structure. A film-forming member having a film-forming structure in which the coating agent on the stamp surface impregnated with the coating agent is selectively formed as a coating layer only on a predetermined portion of the substrate surface .

次に、本発明について更に詳細に説明する。
本発明は、金属もしくはセラミック材からなる基材表面の適切な箇所へ、金属もしくはセラミック材からなるコート剤をコート層として製膜する製膜方法であって、上記コート剤を含浸したスタンプ面と、上記基材表面を接触させることにより、基材表面の適切な箇所へ、上記コート層を製膜することを特徴とするものである。
Next, the present invention will be described in more detail.
The present invention is a film forming method for forming a coating agent made of a metal or a ceramic material as a coating layer on an appropriate portion of a substrate surface made of a metal or a ceramic material, the stamp surface impregnated with the coating agent, The coating layer is formed on an appropriate portion of the substrate surface by bringing the substrate surface into contact therewith.

また、本発明は、金属もしくはセラミック材からなる基材表面の適切な箇所へ、金属もしくはセラミック材からなるコート剤をコート層として製膜した製膜部材であって、コート剤を含浸したスタンプ面の該コート剤が、基材表面の所定の箇所のみにコート層として製膜された製膜構造を有することを特徴とするものである。   Further, the present invention is a film forming member in which a coating agent made of a metal or a ceramic material is formed as a coating layer on an appropriate portion of the substrate surface made of a metal or a ceramic material, and the stamp surface impregnated with the coating agent This coating agent is characterized by having a film-forming structure in which a film is formed as a coating layer only at a predetermined location on the surface of the substrate.

また、本発明は、金属もしくはセラミック材からなる基材表面の適切な箇所へ、金属もしくはセラミック材からなるコート剤をコート層として製膜するためのスタンプであって、スタンプ表面が曲面もしくは平面からなり、気孔率が70〜90%の材質で構成されており、スタンプを構成するスタンプ材の気孔径が10〜100ミクロンの範囲内であることを特徴とするものである。   Further, the present invention is a stamp for forming a coating agent made of metal or ceramic material as a coating layer on an appropriate portion of the substrate surface made of metal or ceramic material, the stamp surface from a curved surface or a flat surface Thus, the porosity is 70 to 90%, and the pore diameter of the stamp material constituting the stamp is in the range of 10 to 100 microns.

本発明の製膜法は、金属もしくはセラミック材からなるコート剤を含浸したスタンプ面に多孔質基材表面を接触させ、該コート剤をコート層として製膜するための手法である。本発明では、多孔質基材としては、平面や曲面等の平滑面だけでなく、ハニカムに代表されるような複雑形状を有する複雑面を有している多孔質基材を用いることも可能であり、しかも、その表面の基材上にのみ製膜することが可能である。   The film forming method of the present invention is a method for forming a film as a coating layer by bringing the surface of a porous substrate into contact with a stamp surface impregnated with a coating agent made of a metal or a ceramic material. In the present invention, as the porous substrate, it is possible to use not only a smooth surface such as a flat surface or a curved surface, but also a porous substrate having a complicated surface having a complicated shape typified by a honeycomb. In addition, it is possible to form a film only on the substrate on the surface.

基材の材料としては、金属もしくはセラミックであればその種類に制限されることなく用いることが可能である。その具体例としては、好適には、例えば、Pt,Pd,Ag,Ba,Sr,Ca,Mg,K,Na,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Ti,Al,Ga,Nb,Ta,V,Laの元素を少なくとも1種類以上含む金属、もしくはこれらの元素を1種類以上含む酸化物、又は、これらの元素を1種類以上含む金属とこれらの元素を1種類以上含む酸化物との複合体又はサーメットが例示される。   As a material of the base material, any metal or ceramic can be used without limitation. As specific examples thereof, for example, Pt, Pd, Ag, Ba, Sr, Ca, Mg, K, Na, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ti, Al, Ga, Nb, A metal containing at least one element of Ta, V, La, or an oxide containing one or more of these elements, or a metal containing one or more of these elements and an oxide containing one or more of these elements; The complex or cermet is exemplified.

基材の気孔率としては、1〜70%が好ましく、好適には、10〜50%が望ましい。また、多孔質基材の気孔径としては、5ミクロン以下、すなわち0超〜5ミクロンであることが好ましい。   The porosity of the substrate is preferably 1 to 70%, and preferably 10 to 50%. The pore diameter of the porous substrate is preferably 5 microns or less, that is, more than 0 to 5 microns.

金属もしくはセラミック材からなるコート剤を含浸させるスタンプの材質としては、好適には、例えば、気孔率が70〜90%のスポンジ状材質もしくは綿状材質、あるいはそれらと同等もしくは類似の材質が例示される。そして、スタンプ表面は、平面もしくは曲面などの凹凸のない状態が好ましい。上記基材表面の幾何学的形状を予め計測して該幾何学形状を上記スタンプ面に形成する必要はない。   As a material for the stamp impregnated with a coating agent made of a metal or a ceramic material, for example, a sponge-like material or a cotton-like material having a porosity of 70 to 90%, or a material equivalent or similar thereto is exemplified. The The stamp surface is preferably free of irregularities such as a flat surface or a curved surface. It is not necessary to measure the geometric shape of the substrate surface in advance and form the geometric shape on the stamp surface.

上記スタンプ材の気孔径としては、10〜100ミクロンの範囲であることが好ましく、更には、後述のように、スタンプ材質と多孔質基材の毛細管現象の差を利用するために、10〜20ミクロンであることが好ましい。   The pore diameter of the stamp material is preferably in the range of 10 to 100 microns. Further, as will be described later, in order to utilize the difference in capillary action between the stamp material and the porous substrate, 10 to 20 microns. Preferably it is micron.

上記金属もしくはセラミック材からなるコート剤としては、(1)コート膜の原料となる粒子状コート材を含んだスラリーコート剤、(2)コート膜の原料となる金属イオンが溶解した溶液コート剤、のいずれも使用可能であるが、多孔質基材中へ多量のコート剤が浸透するのを防ぐためには、上記(1)のスラリーコート剤が好適に使用される。   As the coating agent made of the metal or ceramic material, (1) a slurry coating agent containing a particulate coating material as a raw material for the coating film, (2) a solution coating agent in which metal ions as the raw material for the coating film are dissolved, However, in order to prevent a large amount of the coating agent from penetrating into the porous substrate, the slurry coating agent of the above (1) is preferably used.

上記金属もしくはセラミック材からなるコート膜の材料としては、金属もしくはセラミック、具体例として、好適には、例えば、Pt,Pd,Ag,Ba,Sr,Ca,Mg,K,Na,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Ti,Al,Ga,Nb,Ta,V,La,Si,Bの元素を少なくとも1種類以上含む金属、もしくはこれらの元素を1種類以上含む酸化物、又は、これらの元素を1種類以上含む金属とこれらの元素を1種類以上含む酸化物との複合体又はサーメットが例示される。しかし、これらに限定されるものではない。   As the material of the coating film made of the metal or ceramic material, metal or ceramic, for example, preferably, for example, Pt, Pd, Ag, Ba, Sr, Ca, Mg, K, Na, Mn, Fe, A metal containing at least one element of Co, Ni, Cu, Zn, Ti, Al, Ga, Nb, Ta, V, La, Si, B, an oxide containing one or more of these elements, or these A complex or cermet of a metal containing one or more of these elements and an oxide containing one or more of these elements is exemplified. However, it is not limited to these.

上記金属もしくはセラミック材からなるコート剤の溶媒としては、基材を溶解させない条件を満たすものはその種類に制限されることなく使用可能であり、目的に応じて任意の溶媒を適宜選定して使用する。   As a solvent for the coating agent made of the above metal or ceramic material, any solvent that satisfies the condition that does not dissolve the base material can be used without limitation, and any solvent can be appropriately selected according to the purpose. To do.

ここで、多孔質基材の毛細管現象による保液効果は、以下の式1で表され、毛管半径に反比例して保液力は高まる。
ΔP=2σ cosα/r (式1)
ΔP:保液力、σ:コート液の表面張力、α:接触角、r:毛管半径
Here, the liquid retention effect due to the capillary phenomenon of the porous substrate is expressed by the following formula 1, and the liquid retention force increases in inverse proportion to the capillary radius.
ΔP = 2σ cos α / r (Formula 1)
ΔP: liquid holding power, σ: surface tension of coating liquid, α: contact angle, r: capillary radius

本発明は、スタンプを構成するスタンプ材の気孔径、すなわち毛管半径が10〜100ミクロンの範囲と比較して、多孔質基材の気孔径、すなわち毛管半径は約5ミクロン以下であるため、その毛管半径比によって、コート剤を含浸したスタンプ面と、上記基材表面を接触させることにより、多孔質基材の表面にコート剤がコート層として製膜されるという原理を利用している。コート膜の堆積厚みは、この毛管半径比及びコート剤の濃度、スタンプ面/多孔質基材間の接触時間によって、1〜50ミクロンの範囲で制御することが可能である。   In the present invention, since the pore diameter of the stamp material constituting the stamp, that is, the capillary radius is in the range of 10 to 100 microns, the pore diameter of the porous substrate, that is, the capillary radius is about 5 microns or less. The principle that the coating agent is formed as a coating layer on the surface of the porous substrate by bringing the stamp surface impregnated with the coating agent into contact with the surface of the substrate by the capillary radius ratio is utilized. The deposition thickness of the coating film can be controlled in the range of 1 to 50 microns by the capillary radius ratio, the coating agent concentration, and the contact time between the stamp surface and the porous substrate.

ハニカムなど凹凸のある基材表面への製膜に関しては、基材の凸部ピッチが約200ミクロン以上であることが好ましい。それは、前述の式1を用いて説明すると、本発明では、スタンプ材の気孔径、すなわち毛管半径が10〜100ミクロンの範囲であることと比較して、多孔質基材の凸部ピッチ、すなわち毛管半径は約200ミクロン以上であることから、そのため、その毛管半径比によって、多孔質基材の凹部へ不要なコート剤をコートすることなく、基材の表面のみにコート剤が製膜されるという原理を利用している。   With respect to film formation on an uneven substrate surface such as a honeycomb, it is preferable that the convex pitch of the substrate is about 200 microns or more. This can be explained by using the above-mentioned formula 1. In the present invention, compared with the case where the pore diameter of the stamp material, that is, the capillary radius is in the range of 10 to 100 microns, the convex pitch of the porous substrate, that is, Since the capillary radius is about 200 microns or more, the coating agent is formed only on the surface of the base material without coating an unnecessary coating agent on the concave portion of the porous base material depending on the capillary radius ratio. This principle is used.

本発明は、平面もしくは曲面、凹凸面を有し、金属もしくはセラミック材からなる多孔質基材表面に対し、金属もしくはセラミック材からなるコート層を製膜する方法として、金属もしくはセラミック材からなるコート剤を含浸したスタンプ面と、平面もしくは曲面、凹凸面を有し、金属もしくはセラミック材からなる多孔質基材表面を接触させることにより、基材表面の適切な箇所へ、均質かつ緻密なコート層を製膜する手法を確立し、提供するものである。 The present invention has flat or curved surface, an uneven surface, with respect to the porous substrate surface made of a metal or ceramic material, as a method for film formation of the coating layer made of metallic or ceramic material, made of a metallic or ceramic material It has a stamp surface that is impregnated with a coating agent, a plane or curved surface, an uneven surface, by contacting the porous substrate surface made of metal or ceramic material, to the appropriate location of the substrate surface, homogeneous and緻tight A method for forming a coating layer is established and provided.

更に、本発明は、金属もしくはセラミック材からなる基材表面の適切な箇所へ、金属もしくはセラミック材からなるコート剤をコート層として製膜するためのスタンプであって、スタンプ表面が曲面もしくは平面からなり、気孔率が70〜90%の材質で構成されており、スタンプを構成するスタンプ材の気孔径が10〜100ミクロンの範囲内である、金属もしくはセラミック材からなるコート剤による金属もしくはセラミック材からなる多孔質基材表面製膜用スタンプを提供するものである。   Furthermore, the present invention is a stamp for forming a coating agent made of a metal or a ceramic material as a coating layer on an appropriate portion of the surface of a base material made of a metal or a ceramic material. A metal or ceramic material with a coating agent made of a metal or ceramic material, wherein the porosity of the material is 70 to 90%, and the pore diameter of the stamp material constituting the stamp is in the range of 10 to 100 microns. A stamp for forming a film on the surface of a porous substrate is provided.

本発明により、次のような効果が得られる。
(1)金属もしくはセラミック材からなる多孔質基材表面の適切な箇所へ、金属もしくはセラミック材からなるコート剤をコート層として選択的に製膜することができる。
(2)基材表面の幾何学的形状を予め計測する必要性がない。
(3)基材に対する製膜時の応力負荷が小さいため、強度の低い多孔質基材についても適用することができる。
(4)例えば、ハニカム開口面等の多孔質基材上に対しても、ハニカムチャンネルを目封じすることなく、選択的にコート層を形成できるので、マスキングを必要とせず、製膜コストを削減することができる。
(5)金属もしくはセラミック材からなる基材表面の適切な箇所に、金属もしくはセラミック材からなるコート剤をコート層として高い精度で製膜することを可能とする多孔質基材表面への新規製膜技術及びその製品を提供することができる。
According to the present invention, the following effects can be obtained.
(1) A coating agent made of a metal or a ceramic material can be selectively formed as a coating layer on an appropriate location on the surface of the porous substrate made of a metal or a ceramic material.
(2) There is no need to measure the geometric shape of the substrate surface in advance.
(3) Since the stress load during film formation on the substrate is small, it can also be applied to a porous substrate having low strength.
(4) For example, a coating layer can be selectively formed on a porous substrate such as a honeycomb opening surface without sealing the honeycomb channels, so that masking is not required and film forming costs are reduced. can do.
(5) New production on the surface of a porous base material that enables high-precision film formation using a coating agent made of metal or ceramic material as a coating layer at an appropriate location on the surface of the base material made of metal or ceramic material Membrane technology and its products can be provided.

以下に、実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例によって何ら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples, but the present invention is not limited to the following examples.

本発明では、先ず、以下の手順に従って、セラミック材からなるコート剤を調製した。すなわちセラミック材料の一種である希土類安定化ジルコニア(以下、LnSZと記載する。)を、エタノール主溶媒とともにボールミル混合し、市販のPVBバインダー、界面活性剤を更に混合することによって、LnSZコート剤を調製した。   In the present invention, first, a coating agent made of a ceramic material was prepared according to the following procedure. That is, a rare earth-stabilized zirconia (hereinafter referred to as LnSZ), which is a kind of ceramic material, is ball milled together with an ethanol main solvent, and a commercial PVB binder and a surfactant are further mixed to prepare an LnSZ coating agent. did.

次に、多孔質基材として用いた、セラミック材からなるハニカム基材の調製について説明する。セラミック材料の一種であるマンガン酸ランタン(以下、LSMと記載する。)を、水及び市販のエチルセルロースと混練し、加圧押出して、ハニカム状成形体を得た。材料寸法としては、孔径800ミクロン、LSM壁厚み200ミクロンを選択した。ハニカム状成形体を適切な長さに切断し、1000℃にて仮焼することによって、LSMハニカム状多孔質基材を作製した。   Next, preparation of a honeycomb substrate made of a ceramic material used as a porous substrate will be described. Lanthanum manganate (hereinafter referred to as LSM), which is a kind of ceramic material, was kneaded with water and commercially available ethyl cellulose and pressure-extruded to obtain a honeycomb-shaped formed body. As material dimensions, a pore diameter of 800 microns and an LSM wall thickness of 200 microns were selected. The honeycomb-shaped formed body was cut to an appropriate length and calcined at 1000 ° C. to prepare an LSM honeycomb-shaped porous substrate.

調製したLnSZコート剤を含浸させた、気孔率が80%及び気孔径が10〜50ミクロンの範囲の綿状スタンプ材と、上述のLSMハニカム状多孔質基材表面を1秒間接触させ、これを引き離すことによって、ハニカム状多孔質基材の壁面のみにLnSZ層を製膜した。   A cotton-like stamp material impregnated with the prepared LnSZ coating agent and having a porosity of 80% and a pore diameter in the range of 10 to 50 microns is brought into contact with the above-mentioned LSM honeycomb porous substrate surface for 1 second. By separating, an LnSZ layer was formed only on the wall surface of the honeycomb-like porous substrate.

LnSZ層を製膜したLSMハニカム状多孔質基材を1300℃にて焼成して得られたサンプルの製膜状態を図1に示す。本発明の特徴であるスタンプ材と基材の毛細管現象の差を利用することによって、基材表面の凹凸を予め計測することなしに、基材表面に綺麗な製膜が行われていることが分かる。   FIG. 1 shows a film formation state of a sample obtained by firing an LSM honeycomb porous substrate having an LnSZ layer formed thereon at 1300 ° C. By utilizing the difference in capillary action between the stamp material and the base material, which is a feature of the present invention, it is possible to form a beautiful film on the base material surface without measuring irregularities on the base material surface in advance. I understand.

比較例1
比較例として、製膜法の1手法であるディップ法を試した結果について説明する。すなわち実施例1と同様の手法にて調製したLSMハニカム状多孔質基材を、実施例1と同様の手法にて調製したLnSZスラリー中へ、引き上げ速度1.5mm/sec条件にてディップコートを施した。
Comparative Example 1
As a comparative example, the result of trying a dip method which is one method of the film forming method will be described. That is, the LSM honeycomb porous substrate prepared by the same method as in Example 1 is dip-coated at a pulling rate of 1.5 mm / sec into the LnSZ slurry prepared by the same method as in Example 1. gave.

LnSZ層を塗布したLSMハニカム状多孔質基材を1300℃にて焼成して得られたサンプルの様子を図2に示す。LnSZコート剤は、ハニカム状多孔質基材表面を塗布するだけでなく、ハニカムチャンネルを目封じしてしまった様子が分かる。   FIG. 2 shows a sample obtained by firing the LSM honeycomb porous substrate coated with the LnSZ layer at 1300 ° C. FIG. It can be seen that the LnSZ coating agent not only applied the surface of the honeycomb-like porous substrate but also sealed the honeycomb channels.

比較例2
比較例の2例目として、製膜法の1手法であるスクリーン印刷法を試した結果について説明する。まず、LnSZを、ポリエチレングリコール溶媒及び市販のエチルセルロースバインダーとともにボールミル混合して、ペースト状のコート剤を調製した。これを、200メッシュスクリーンを用いて、実施例1と同様の手法にて調製したLSMハニカム状多孔質基材表面へスクリーン印刷した。
Comparative Example 2
As a second example of the comparative example, a result of trying a screen printing method which is one method of the film forming method will be described. First, LnSZ was ball milled together with a polyethylene glycol solvent and a commercially available ethyl cellulose binder to prepare a paste-like coating agent. This was screen-printed on the surface of the LSM honeycomb porous substrate prepared in the same manner as in Example 1 using a 200 mesh screen.

LnSZ層を塗布したLSMハニカム状多孔質基材を1300℃にて焼成して得られたサンプルの様子を図3に示す。LnSZコート剤は、ハニカム状多孔質基材表面の大半にコートされているものの、一部のハニカムチャンネルが目封じされ、また、一部のLSM多孔質基材表面には、LnSZ膜が存在しない様子が分かる。   FIG. 3 shows a sample obtained by firing the LSM honeycomb porous substrate coated with the LnSZ layer at 1300 ° C. FIG. Although the LnSZ coating agent is coated on most of the surface of the honeycomb-shaped porous substrate, some of the honeycomb channels are sealed, and no LnSZ film is present on the surface of some of the LSM porous substrates. I can see the situation.

これらは、脆いLSM多孔性基材表面には、スクリーン印刷時に圧力が付加される結果、一部のLSM多孔質基材が崩れてしまい、スクリーン側にこびり付いてしまうためであると考えられる。スクリーン印刷法によりLSM多孔質基材の一部が崩れ、スクリーン側へこびり付いた様子を図4に示す。ここで、黒色のパターンが、崩れたLSM多孔質基材である。また、図5に、スクリーン印刷法によりLSM多孔質基材表面へ製膜したLnSZコート膜の拡大図を示す。図5に示すように、スクリーン印刷時の圧力付加によって、LSM多孔質基材が崩れた様子が分かる。   These are considered to be because a part of the LSM porous substrate collapses and sticks to the screen side as a result of pressure being applied to the brittle LSM porous substrate surface during screen printing. FIG. 4 shows a state in which a part of the LSM porous substrate is broken by the screen printing method and stuck to the screen side. Here, the black pattern is a collapsed LSM porous substrate. FIG. 5 shows an enlarged view of the LnSZ coat film formed on the surface of the LSM porous substrate by the screen printing method. As shown in FIG. 5, it can be seen that the LSM porous substrate collapses due to the pressure applied during screen printing.

以上詳述したように、本発明は、非常に簡便な手法により金属もしくはセラミック材からなる多孔質基材面上へコート膜を形成することができる製膜法に係るものであり、本発明により、金属もしくはセラミック材からなるコート剤を含浸したスタンプ面と、平面もしくは曲面、凹凸面を有し、金属もしくはセラミック材からなる多孔質基材表面を接触させることにより、基材表面の適切な箇所へ、均質かつ緻密なコート層を製膜することが可能となる。本発明では、複雑形状を有するハニカム開口面などの多孔質基材面上に対しても、マスキングを使わずに、ハニカムチャンネルを目封じすることなく、コート層を製膜することが可能である。本発明は、気相分離や排ガス浄化・浄水フィルターの高性能化技術としてだけでなく、今後のSOFC開発に必要不可欠な製膜技術を提供するものとしても有用である。 As described above in detail, the present invention relates to a film forming method capable of forming a coat film on a porous substrate surface made of a metal or a ceramic material by a very simple method. By contacting a stamped surface impregnated with a coating agent made of a metal or a ceramic material, and a porous substrate surface made of a metal or a ceramic material having a flat surface, a curved surface, or an uneven surface, an appropriate location on the surface of the substrate to, it is possible to film the homogeneous and緻dense coating layer. In the present invention, it is possible to form a coating layer on a porous substrate surface such as a honeycomb opening surface having a complicated shape without masking and without sealing the honeycomb channel. . The present invention is useful not only as a technique for improving the performance of gas phase separation and exhaust gas purification / water purification filters, but also as a film forming technique that is indispensable for future SOFC development.

スタンプ法の手法により、LSM多孔質基材表面へ製膜したLnSZコート膜を示す。The LnSZ coat film formed on the surface of the LSM porous substrate by the stamp method is shown. ディップ法により、LSM多孔質基材表面へ製膜したLnSZコート膜を示す。The LnSZ coat film formed on the surface of the LSM porous substrate by the dip method is shown. スクリーン印刷法により、LSM多孔質基材表面へ製膜したLnSZコート膜を示す。The LnSZ coat film formed on the surface of the LSM porous substrate by the screen printing method is shown. スクリーン印刷圧により、LSM多孔質基材の一部が崩れ、スクリーン側へこびり付いた様子(黒色パターンがLSM)を示す。A part of the LSM porous substrate collapses due to the screen printing pressure and sticks to the screen side (black pattern is LSM). スタンプ法の手法により、LSM多孔質基材表面へ製膜したLnSZコート膜の拡大図を示す。The enlarged view of the LnSZ coat film formed into the LSM porous base material surface by the technique of a stamp method is shown.

Claims (4)

SOFC多孔質集電用支持体の製膜に使用できる製膜方法において、金属もしくはセラミック材からなる基材表面の適切な箇所へ、上記支持体の製膜に使用できる金属もしくはセラミック材からなるコート剤を緻密質の構造を有しているコート層として製膜する際に、上記コート剤を含浸したスタンプ面と、上記基材表面を接触させることにより、基材表面の適切な箇所へ、上記コート層を選択的に製膜する製膜方法であって、
1)上記基材が、多孔質で、その気孔率が1〜50%であり、その気孔径が、0超〜5ミクロンであり、2)上記コート剤が、コート膜の原料となる粒子状コート材を含んだスラリーコート剤か、コート膜の原料となる金属イオンが溶解した溶液コート剤であり、3)上記スタンプ表面が、曲面もしくは平面からなり、気孔率70〜90%のスポンジ状材質もしく綿状材質で構成されていて、上記スタンプを構成するスタンプ材の気孔径が、10〜100ミクロンの範囲内であり、4)上記基材表面の幾何学的形状を予め計測して該幾何学形状を上記スタンプ面に形成することなしに、スタンプ面と、基材表面を接触させることにより、基材表面へコート層を製膜することを特徴とする上記製膜方法。
In a film forming method that can be used for forming a SOFC porous current collecting support, a coating made of a metal or ceramic material that can be used for forming the support is applied to an appropriate location on the surface of the substrate made of a metal or ceramic material. agent in the course of film production of the as-coated layer having a structure of dense, a stamp surface impregnated with the coating agent, by contacting the substrate surface, to the appropriate location of the substrate surface, the a selectively film to that casting method a coating layer,
1) The substrate is porous, the porosity is 1 to 50%, the pore diameter is more than 0 to 5 microns, and 2) the coating agent is a particulate material that is a raw material for the coating film. It is a slurry coating agent containing a coating material or a solution coating agent in which metal ions as a raw material for the coating film are dissolved. It is made of a cotton-like material, and the pore diameter of the stamp material constituting the stamp is in the range of 10 to 100 microns. 4) The geometric shape of the substrate surface is measured in advance to The film forming method according to claim 1, wherein a coating layer is formed on the surface of the substrate by bringing the stamp surface and the substrate surface into contact with each other without forming a geometric shape on the stamp surface.
上記基材表面が、平面もしくは凹凸面、曲、又はハニカム形状を有する複雑面からなる、請求項1に記載の製膜方法。 The substrate surface, flat or irregular surface, consists of a complex surface having a song surface, or a honeycomb shape, film forming method according to claim 1. 上記基材表面に対し、応力負荷をかけることなく、スタンプ面と基材表面の接触により上記コート層を製膜する、請求項1に記載の製膜方法。   The film forming method according to claim 1, wherein the coating layer is formed by contact between the stamp surface and the substrate surface without applying a stress load to the substrate surface. 請求項1から3のいずれかに記載の製膜方法を使用して、セラミック材からなる基材表面の適切な箇所へ、上記支持体の製膜に使用できる金属もしくはセラミック材からなるコート剤を該コート剤を含浸したスタンプ面を介してコート層として製膜した製膜部材であって、
1)上記基材が、ハニカム多孔質基材で、その気孔率が1〜50%であり、その気孔径が、0超〜5ミクロンであり、2)上記コート剤が、コート膜の原料となる粒子状コート材を含んだスラリーコート剤か、コート膜の原料となる金属イオンが溶解した溶液コート剤であり、3)上記スタンプ表面が、曲面もしくは平面からなり、気孔率70〜90%のスポンジ状材質もしく綿状材質で構成されていて、上記スタンプを構成するスタンプ材の気孔径が、10〜100ミクロンの範囲内であり、4)上記コート層が緻密質の構造を有しているものであり、コート剤を含浸したスタンプ面の該コート剤が、基材表面の所定の箇所のみにコート層として選択的に製膜された製膜構造を有することを特徴とする製膜部材。
A coating agent made of a metal or a ceramic material that can be used for film formation of the support is applied to an appropriate location on the surface of the base material made of a ceramic material using the film forming method according to any one of claims 1 to 3. A film forming member formed as a coating layer through a stamp surface impregnated with the coating agent ,
1) The base material is a honeycomb porous base material, the porosity is 1 to 50%, the pore diameter is more than 0 to 5 microns, and 2) the coating agent is a raw material for the coating film. A slurry coating agent containing a particulate coating material or a solution coating agent in which metal ions as a raw material of the coating film are dissolved. 3) The stamp surface is a curved surface or a flat surface and has a porosity of 70 to 90%. It is made of a sponge-like material or a cotton-like material, and the pore diameter of the stamp material constituting the stamp is in the range of 10 to 100 microns. 4) The coat layer has a dense structure. A film-forming member having a film-forming structure in which the coating agent on the stamp surface impregnated with the coating agent is selectively formed as a coating layer only on a predetermined portion of the substrate surface .
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JP5648884B2 (en) * 2008-02-08 2015-01-07 独立行政法人産業技術総合研究所 Solid oxide fuel cell stack having channel cell integrated structure and method for manufacturing the same
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JP5736965B2 (en) * 2011-05-27 2015-06-17 日立金属株式会社 Positive electrode active material for lithium secondary battery and method for producing the same, positive electrode for lithium secondary battery, and lithium secondary battery

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02172511A (en) * 1988-12-26 1990-07-04 Ngk Insulators Ltd Tubular ceramic filter, method and device for sealing its end
JPH0977572A (en) * 1995-09-11 1997-03-25 Sumitomo Electric Ind Ltd Porous ceramic membrane member
JP2001316513A (en) * 2000-05-09 2001-11-16 Mitsubishi Pencil Co Ltd Method for producing liquid absorbing member having elasticity and liquid absorbing member having elasticity
JP2002210314A (en) * 2001-01-16 2002-07-30 Ngk Insulators Ltd Ceramic filter
JP2005219015A (en) * 2004-02-09 2005-08-18 Ngk Insulators Ltd Method of sealing end of porous structure, end sealing apparatus and end sealed porous structure
JP4748730B2 (en) * 2007-01-22 2011-08-17 日本碍子株式会社 Ceramic filter and end face sealing method thereof

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