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JP4909166B2 - Planarizing sheet and color filter manufacturing method using the same - Google Patents

Planarizing sheet and color filter manufacturing method using the same Download PDF

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JP4909166B2 JP2007123366A JP2007123366A JP4909166B2 JP 4909166 B2 JP4909166 B2 JP 4909166B2 JP 2007123366 A JP2007123366 A JP 2007123366A JP 2007123366 A JP2007123366 A JP 2007123366A JP 4909166 B2 JP4909166 B2 JP 4909166B2
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Abstract

A planar sheet having sequentially laminated layer including a mold releasing layer, a substrate layer and a elastic layer, wherein the surface tension of contacting region of the mold releasing layer (23 DEG C) is smaller than or equal to 30 mN/m and the arithmetic mean roughness of the mold releasing layer in roughness curves Ra is smaller than or equal to 20 nm. The arithmetic mean roughness of the substrate layer adjacent to the mold releasing layer Ra is smaller than or equal to 50 nm. The elastic ratio of the elastic layer (23 DEG C) is between 0. 5 MPa to 20 MPa and the thickness of the elastic layer is between 0. 1mm to 0. 5 mm. The planar sheet is used to planarize a transparent resin layer and prevent transparent ink forming the transparent resin layer from transferring back during printing such that it is difficult for the transparent resin layer to have defect du to the mixing of particles. A fabricating method for color filter using the planar sheet is also provided.

Description

本発明は、基板上に形成された、少なくとも一部が着色された透明樹脂層の表面上で転動させることによって、前記表面を平坦化してカラーフィルタを製造するために用いられるローラの外周面に巻き付けられて、前記ローラの、透明樹脂層の表面に直接に接触する接触面を構成する平坦化シートと、前記平坦化シートを用いたカラーフィルタの製造方法とに関するものである。   The present invention provides an outer peripheral surface of a roller used for producing a color filter by rolling on the surface of a transparent resin layer formed on a substrate and colored at least in part to flatten the surface. The present invention relates to a flattening sheet that forms a contact surface of the roller that is in direct contact with the surface of a transparent resin layer, and a method of manufacturing a color filter using the flattening sheet.

液晶ディスプレイ(LCD)等の、フラットパネルディスプレイに使用するカラーフィルタは、透明な基板上に、前記液晶ディスプレイ等を構成する、赤(R)、緑(G)、および青(B)の各画素に対応した、前記各色に着色された透明インキからなるストライプパターンを、画素ごとに規則正しく配列させて印刷して、透明樹脂層を形成することによって製造される。   A color filter used in a flat panel display such as a liquid crystal display (LCD) has red (R), green (G), and blue (B) pixels constituting the liquid crystal display on a transparent substrate. A stripe pattern made of transparent ink colored in each color corresponding to the above is printed by regularly arranging each pixel to form a transparent resin layer.

しかし、前記各色に着色された透明インキを、各種印刷法によって印刷して形成した、各色のストライプパターンは、それぞれ、透明インキの表面張力によって、その表面が、ストライプの両端側で低く、中央部で高い突出形状に形成されるため、各色のストライプパターンの集合体としての透明樹脂層の表面は、前記ストライプパターンの突出形状に対応した凹凸形状となり、前記凹凸によって光が乱反射されて、表示のコントラストが低下したり、例えばLCDの場合は、液晶の応答ムラが生じたりするという問題があった。そこで、基板上に形成された透明樹脂層の表面を平坦化するために、様々な、技術的な検討が行われてきた。   However, the transparent ink colored in each color is formed by printing by various printing methods. The stripe pattern of each color has a low surface at both ends of the stripe due to the surface tension of the transparent ink. Therefore, the surface of the transparent resin layer as an aggregate of stripe patterns of each color has an uneven shape corresponding to the protruded shape of the stripe pattern, and light is diffusely reflected by the unevenness. There has been a problem that the contrast is lowered, and in the case of an LCD, for example, liquid crystal response unevenness occurs. Therefore, various technical studies have been conducted in order to flatten the surface of the transparent resin layer formed on the substrate.

例えば、特許文献1、2には、前記ストライプパターンのもとになる透明インキとして、電子線硬化型、紫外線硬化型等の透明インキを使用するすると共に、前記透明インキを用いて、各色のストライプパターンを印刷して形成した透明樹脂層の上に、フィルムやガラス基板等の、平板状の押圧部材を重ね合わせてプレスすることによって、前記透明樹脂層の表面を平坦化した状態で、電子線または紫外線を照射して透明インキを硬化させた後、前記押圧部材を剥離することが記載されている。   For example, in Patent Documents 1 and 2, transparent inks such as an electron beam curable type and an ultraviolet curable type are used as the transparent ink that is the basis of the stripe pattern, and each color stripe is formed using the transparent ink. In a state where the surface of the transparent resin layer is flattened by superimposing and pressing a flat pressing member such as a film or a glass substrate on the transparent resin layer formed by printing a pattern, the electron beam Alternatively, it is described that after the transparent ink is cured by irradiating ultraviolet rays, the pressing member is peeled off.

また、特許文献3には、ストライプパターンを、熱硬化性の透明インキによって形成して熱硬化させた後、前記各色のストライプパターンからなる透明樹脂層の上に、押圧部材としてのフィルムを重ね合わせた状態で、前記フィルムを、空気圧によって、均一に加圧することで、前記透明樹脂層の表面を平坦化することが記載されている。
一方、特許文献4には、基板の表面に、平版オフセット印刷法によってストライプパターンを印刷するために用いた、外周面にオフセットブランケットを巻き付けたローラの、前記オフセットブランケットの表面であるローラの接触面を、印刷後の透明樹脂層の表面に接触させた状態で、前記ローラを、前記透明樹脂層の表面上で転動させることによって、透明樹脂層の表面を平坦化することが記載されている。
In Patent Document 3, a stripe pattern is formed with a thermosetting transparent ink and thermally cured, and a film as a pressing member is superimposed on the transparent resin layer composed of the stripe pattern of each color. In this state, the surface of the transparent resin layer is flattened by uniformly pressing the film with air pressure.
On the other hand, in Patent Document 4, a roller contact surface, which is a surface of the offset blanket, of a roller used for printing a stripe pattern on the surface of a substrate by a lithographic offset printing method and having an offset blanket wound around the outer peripheral surface. In this state, the surface of the transparent resin layer is flattened by rolling the roller on the surface of the transparent resin layer in a state where it is in contact with the surface of the transparent resin layer after printing. .

また、特許文献5には、前記透明樹脂層の上に、着色剤を含有しない透明インキを印刷した後、接触面としての外周面に離型処理を施した金属ローラを用いて、前記と同様にして平坦化することが記載されている。さらに、特許文献6には、接触面としての外周面に離型処理を施したローラの、前記接触面に、ストライプパターンのもとになる透明インキを、直接に供給しながら、前記ローラを、基板上で転動させることによって、供給された透明インキを、基板の表面に印刷してストライプパターンを形成するのと同時に、平坦化することが記載されている。
特開昭62−280804号公報 特開平3−156419号公報 特開平3−154003号公報 特開平2−297502号公報 特開平8−75914号公報 特開平8−234013号公報
Further, in Patent Document 5, after a transparent ink not containing a colorant is printed on the transparent resin layer, a metal roller in which a peripheral surface as a contact surface is subjected to a release treatment is used, as described above. And flattening. Further, in Patent Document 6, a roller having a release treatment applied to an outer peripheral surface as a contact surface, while the transparent ink that is the basis of a stripe pattern is directly supplied to the contact surface, the roller is It is described that, by rolling on a substrate, the supplied transparent ink is printed on the surface of the substrate to form a stripe pattern, and at the same time it is flattened.
JP 62-280804 A Japanese Patent Laid-Open No. 3-156419 JP-A-3-154003 JP-A-2-297502 JP-A-8-75914 Japanese Patent Laid-Open No. 8-234013

特許文献1〜3に記載された、平板状の押圧部材を用いて平坦化する方法では、前記押圧部材を、透明樹脂層の表面に重ね合わせる際に、両者の間に気泡が残留しやすく、残留した気泡を除去せずに平坦化の処理を行なった際には、平坦化後の透明樹脂層の表面に、気泡の跡が欠陥として残るという問題がある。
そのため、例えば特許文献2では、気泡が残留しないように、押圧部材としてのガラス基板を、透明樹脂層の表面に重ね合わせる手順を細かく規定しているが、前記手順を実施するためには、特許文献2の図に記載されているような専用の装置を使用して、慎重な作業を行わなければならないため、カラーフィルタの生産性が低くなり、コストが高くつくという問題がある。これに対し、特許文献4〜6に記載された、ローラを用いて平坦化する方法では、前記ローラを、透明樹脂層上で、順次、転動させながら前記透明樹脂層の表面を平坦化させることができるので、気泡の残留による欠陥の問題は生じにくい。
In the method of flattening using a flat plate-shaped pressing member described in Patent Documents 1 to 3, when the pressing member is superimposed on the surface of the transparent resin layer, bubbles are likely to remain between the two. When the planarization process is performed without removing the remaining bubbles, there is a problem that the traces of the bubbles remain as defects on the surface of the transparent resin layer after the planarization.
Therefore, for example, in Patent Document 2, a procedure for superposing a glass substrate as a pressing member on the surface of the transparent resin layer is finely defined so that bubbles do not remain. There is a problem that the productivity of the color filter is lowered and the cost is increased because a dedicated apparatus such as that described in the diagram of Document 2 must be used carefully. On the other hand, in the method of flattening using a roller described in Patent Documents 4 to 6, the surface of the transparent resin layer is flattened while sequentially rolling the roller on the transparent resin layer. Therefore, the problem of defects due to remaining bubbles is less likely to occur.

しかし、ローラとして、特許文献4に記載された、平版オフセット印刷法によるストライプパターンの印刷に使用したのと同じオフセットブランケットを巻き付けたものを使用した場合には、前記オフセットブランケットが、版から、透明インキを良好に受容して、基板の表面に良好に転写できることを考慮して、ローラの接触面となる表面の、透明インキに対する濡れ性や、全体としての柔軟性等の特性が設定されていることから、平坦化の際に、透明樹脂層を形成する透明インキが、オフセットブランケットの表面に逆転写して、透明樹脂層に、凹部等の欠陥を生じたり、透明樹脂層が破壊されたりしやすい上、透明樹脂層の全体を、均一に平坦化するのが難しいという問題があった。   However, when a roller having the same offset blanket as that used for printing a stripe pattern by the planographic offset printing method described in Patent Document 4 is used as the roller, the offset blanket is transparent from the plate. Considering that ink can be well received and transferred to the surface of the substrate, the surface of the roller contact surface has characteristics such as wettability to transparent ink and overall flexibility. Therefore, when flattening, the transparent ink forming the transparent resin layer is reversely transferred to the surface of the offset blanket, and the transparent resin layer is likely to cause defects such as recesses or the transparent resin layer is easily destroyed. In addition, there is a problem that it is difficult to uniformly flatten the entire transparent resin layer.

また、特許文献5、6に記載された、接触面を離型処理した金属ローラ等を使用した場合には、前記金属ローラ等が、逆に硬すぎて、透明樹脂層の厚みのばらつき等に柔軟に対応できないため、やはり透明樹脂層の全体を、均一に平坦化するのが難しいという問題があった。また、前記金属ローラ等は、接触面の離型処理が劣化して、透明樹脂層を形成する透明インキが、前記接触面に逆転写しやすくなった際には、全体を交換しなければならないという問題もあった。   In addition, in the case where a metal roller or the like whose contact surface is released as described in Patent Documents 5 and 6 is used, the metal roller or the like is conversely too hard, resulting in variations in the thickness of the transparent resin layer. Since it cannot respond flexibly, there is a problem that it is difficult to uniformly flatten the entire transparent resin layer. In addition, the metal roller or the like has to be replaced when the release process of the contact surface is deteriorated and the transparent ink forming the transparent resin layer is easily reverse-transferred to the contact surface. There was also a problem.

そこで、発明者は、ローラの接触面を構成すると共に、前記接触面が、透明樹脂層を形成する透明インキの逆転写を防止する特性に優れており、しかも、全体として、前記透明樹脂層を平坦化するのに適した適度な柔軟性を有する平坦化シートを、前記ローラの外周面に、交換可能に巻き付けて、平坦化に使用することを検討した。
しかし、前記平坦化シートとして、従来のオフセットブランケットと同様の構成を有すると共に、ローラの接触面となる表面の、透明インキに対する濡れ性や、全体としての柔軟性等の特性を微調整しただけのものを使用した場合には、特に、ローラの外周面に平坦化シートを巻き付けて固定する際に、両者の間に異物が挟まる等した際に、前記異物の形状が、平坦化シートの表面に突起として顕在化して、平坦化した透明樹脂層に、前記突起に対応した凹部等の欠陥が生じやすいことが判明した。
Therefore, the inventor configures the contact surface of the roller, and the contact surface is excellent in the property of preventing the reverse transfer of the transparent ink forming the transparent resin layer, and the transparent resin layer is formed as a whole. It was examined that a flattened sheet having an appropriate flexibility suitable for flattening is wound around the outer peripheral surface of the roller in a replaceable manner and used for flattening.
However, the flattening sheet has the same configuration as that of the conventional offset blanket, and only finely adjusts the characteristics such as the wettability with respect to the transparent ink and the flexibility as a whole of the surface serving as the contact surface of the roller. In particular, when a flattened sheet is wound around and fixed to the outer peripheral surface of the roller, when the foreign object is sandwiched between the two, the shape of the foreign object is changed to the surface of the flattened sheet. It has been found that defects such as recesses corresponding to the protrusions are likely to occur in the transparent resin layer that has been manifested and flattened as protrusions.

本発明の目的は、透明樹脂層の全体を均一に平坦化できると共に、前記透明樹脂層を形成する透明インキが逆転写するのを防止することができる上、異物の混入による透明樹脂層の欠陥を生じにくい平坦化シートを提供することにある。また、本発明の目的は、前記平坦化シートを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することにある。   The object of the present invention is to uniformly flatten the entire transparent resin layer, to prevent the transparent ink forming the transparent resin layer from being reversely transferred, and to prevent defects in the transparent resin layer due to the inclusion of foreign matter. An object of the present invention is to provide a flattened sheet that is less likely to cause the problem. Moreover, the objective of this invention is providing the manufacturing method of the color filter using the said planarization sheet | seat.

本発明の平坦化シートは、ローラの接触面を構成する外側面から、前記ローラの外周面に接する内側面へ向けて、順に、離型層と基材層と弾性層とを一体に形成してなり、前記接触面となる離型層の表面の表面張力(23℃)が30mN/m以下で、かつ、粗さ曲線の算術平均粗さRaが20nm以下、基材層の、離型層側の面の、粗さ曲線の算術平均粗さRaが50nm以下であると共に、前記弾性層の弾性率(23℃)が0.5〜20MPa、厚みが0.1〜5mmの範囲内であることを特徴とするものである。 The planarizing sheet of the present invention integrally forms a release layer, a base material layer, and an elastic layer in order from the outer surface constituting the contact surface of the roller to the inner surface contacting the outer peripheral surface of the roller. The release layer of the base material layer has a surface tension (23 ° C.) of 30 mN / m or less and an arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve of 20 nm or less. The arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve of the side surface is 50 nm or less, and the elastic modulus (23 ° C.) of the elastic layer is in the range of 0.5 to 20 MPa and the thickness is in the range of 0.1 to 5 mm. It is characterized by this.

本発明によれば、ローラの接触面を構成する外側面から、前記ローラの外周面に接する内側面へ向けて、順に積層した各層のうち、離型層の、ローラの接触面となる表面の表面張力(23℃)を、前記の範囲内とすることによって、透明樹脂層を形成する透明インキが逆転写するのを防止することができる。また、基材層の、離型層側の面の、粗さ曲線の算術平均粗さRaを、前記範囲内とすると共に、前記面上に形成される離型層の、ローラの接触面となる表面の、粗さ曲線の算術平均粗さRaを、前記範囲内とすることによって、前記離型層の表面の平滑性を向上して、平坦化される透明樹脂層の表面の、平滑性を向上することができる。 According to the present invention, of the layers stacked in order from the outer surface constituting the contact surface of the roller to the inner surface contacting the outer peripheral surface of the roller, the surface of the release layer of the surface that becomes the contact surface of the roller By setting the surface tension (23 ° C.) within the above range, it is possible to prevent reverse transfer of the transparent ink forming the transparent resin layer. Further, the substrate layer, a surface of the release layer side, an arithmetic mean roughness R a of a roughness curve, as well as the above range, the release layer formed on the surface, the contact surface of the roller and a surface formed, the arithmetic mean roughness R a of a roughness curve, by the above range, to improve the surface smoothness of the releasing layer, the surface of the transparent resin layer is planarized, Smoothness can be improved.

しかも、本発明によれば、弾性層の弾性率(23℃)と厚みとを、前記の範囲内とすることによって、平坦化シートの全体に、透明樹脂層を平坦化するのに適した適度な柔軟性を付与することができると共に、ローラの外周面に平坦化シートを巻き付けて固定する際に、両者の間に異物が挟まる等した場合に、前記異物の形状を吸収して、平坦化シートの表面に突起として顕在化するのを抑制して、平坦化される透明樹脂層に、前記突起に対応した凹部等の欠陥が生じるのを防止することができる。   Moreover, according to the present invention, by setting the elastic modulus (23 ° C.) and thickness of the elastic layer within the above-mentioned ranges, the appropriate level suitable for flattening the transparent resin layer on the entire flattening sheet. When a flattening sheet is wound around and fixed to the outer peripheral surface of the roller and the foreign matter is caught between the two, the shape of the foreign matter is absorbed and flattened. It is possible to prevent the surface of the sheet from appearing as protrusions and to prevent defects such as recesses corresponding to the protrusions from occurring in the flattened transparent resin layer.

離型層は、厚みが30μm以下であるのが好ましい。離型層の厚みが前記範囲内であれば、平坦化シートの全体に、透明樹脂層を平坦化するのに適した適度な柔軟性を付与する効果を、さらに向上することができる。また、基材層は、引張弾性率(23℃)が100MPa以上、厚みが50〜500μmであるのが好ましい。
基材層の引張弾性率(23℃)が前記範囲内であれば、平坦化シートの、面方向の引張強さを向上して、前記平坦化シートを、ローラの外周面に、一定の張力をかけながら巻き付けて固定する際等に、離型層が、面方向の伸びに追従できずに剥離したり、クラックを生じたりするのを防止することができる。また、基材層の厚みが前記範囲内であれば、平坦化シートに、ローラの外周面に巻き付けるための適度な追従性と、簡単に折れ曲がったりしないための適度なコシとを付与することができる。
The release layer preferably has a thickness of 30 μm or less. If the thickness of the release layer is within the above range, the effect of imparting appropriate flexibility suitable for flattening the transparent resin layer to the entire flattening sheet can be further improved. The base material layer preferably has a tensile modulus (23 ° C.) of 100 MPa or more and a thickness of 50 to 500 μm.
If the tensile elastic modulus (23 ° C.) of the base material layer is within the above range, the tensile strength in the surface direction of the flattened sheet is improved, and the flattened sheet is applied to the outer peripheral surface of the roller with a certain tension. It is possible to prevent the release layer from peeling off without being able to follow the elongation in the surface direction or causing a crack when being wound and fixed while applying. Further, if the thickness of the base material layer is within the above range, the flattening sheet can be provided with an appropriate followability for winding around the outer peripheral surface of the roller and an appropriate stiffness for not easily bending. it can.

本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上に、少なくとも一部が着色された透明樹脂層を形成する工程と、請求項1〜3のいずれかに記載の平坦化シートを巻き付けたローラの、平坦化シートの表面によって構成される接触面を、前記透明樹脂層の表面に接触させた状態で、前記ローラを、前記表面上で転動させることによって、前記表面を平坦化する工程とを含むことを特徴とするものである。   The method for producing a color filter of the present invention includes a step of forming a transparent resin layer colored at least partially on a substrate, and a roller around which the flattened sheet according to any one of claims 1 to 3 is wound, And a step of flattening the surface by rolling the roller on the surface in a state where a contact surface constituted by the surface of the flattening sheet is in contact with the surface of the transparent resin layer. It is characterized by this.

本発明によれば、透明樹脂層を平坦化するために、前記本発明の平坦化シートを巻き付けて、基板上に形成された透明樹脂層の表面と接触させる接触面を構成したローラを用いているため、透明樹脂層を形成する透明インキが逆転写したり、異物の混入による透明樹脂層の欠陥を生じたりすることなしに、透明樹脂層の全体を均一に平坦化することができる。そのため、前記欠陥等のない、表面が平滑な透明樹脂層を備えたカラーフィルタを製造することができる。   According to the present invention, in order to flatten the transparent resin layer, a roller having a contact surface wound around the flattened sheet of the present invention and brought into contact with the surface of the transparent resin layer formed on the substrate is used. Therefore, the entire transparent resin layer can be uniformly flattened without causing reverse transfer of the transparent ink forming the transparent resin layer or causing a defect in the transparent resin layer due to foreign matters. Therefore, it is possible to manufacture a color filter having a transparent resin layer having a smooth surface and free from the defects.

本発明によれば、透明樹脂層の全体を均一に平坦化できると共に、前記透明樹脂層を形成する透明インキが逆転写するのを防止することができる上、異物の混入による透明樹脂層の欠陥を生じにくい平坦化シートを提供することができる。また、本発明によれば、前記平坦化シートを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することができる。   According to the present invention, the entire transparent resin layer can be uniformly flattened, and the transparent ink forming the transparent resin layer can be prevented from being reversely transferred, and a defect in the transparent resin layer due to contamination by foreign matters can be prevented. Can be provided. Moreover, according to this invention, the manufacturing method of the color filter using the said planarization sheet can be provided.

本発明の平坦化シートは、基板上に形成された、少なくとも一部が着色された透明樹脂層の表面上で転動させることによって、前記表面を平坦化してカラーフィルタを製造するために用いられるローラの外周面に巻き付けられて、前記ローラの、透明樹脂層の表面に直接に接触する接触面を構成するためのものであって、前記接触面を構成する外側面から、ローラの外周面に接する内側面へ向けて、順に、離型層と基材層と弾性層とを一体に形成したものであるThe planarization sheet of the present invention is used for producing a color filter by planarizing the surface by rolling on the surface of a transparent resin layer formed on a substrate and colored at least partially. It is wound around the outer peripheral surface of the roller to form a contact surface of the roller that directly contacts the surface of the transparent resin layer, from the outer surface constituting the contact surface to the outer peripheral surface of the roller The release layer, the base material layer, and the elastic layer are integrally formed in order toward the inner side surface that comes into contact therewith.

前記各層のうち、離型層は、ローラの接触面を構成するための層であって、前記接触面となる離型層の表面の表面張力(23℃)が30mN/m以下である必要がある。表面張力が前記範囲を超える場合には、離型層の、透明樹脂層からの離型性が低下して、平坦化の際に、透明樹脂層を形成する透明インキが、前記離型層の表面に逆転写して、透明樹脂層に、凹部等の欠陥を生じたり、透明樹脂層が破壊されたりするという問題を生じる。 Of the above layers, the release layer is a layer for forming the contact surface of the roller, and the surface tension (23 ° C.) of the release layer serving as the contact surface must be 30 mN / m or less. is there. When the surface tension exceeds the above range, the release layer has a releasability from the transparent resin layer, and the transparent ink that forms the transparent resin layer at the time of flattening is the release layer . Reverse transfer to the surface causes a problem that a defect such as a concave portion is generated in the transparent resin layer or the transparent resin layer is destroyed.

なお、離型層の、基材層への密着性を確保して、前記離型層が、剥離によって早期に失われてしまうのを抑制して、平坦化シートの長寿命化を図ると共に、透明樹脂層の逆転写の発生を、より一層、確実に防止することを考慮すると、離型層の表面張力(23℃)は、前記範囲内でも5〜25mN/m、特に10〜20mN/mであるのが好ましい。
離型層の表面張力γ(23℃)は、Fowkes理論の拡張としてのOwens and Wendt法によって求めた値でもって表すこととする。すなわち、温度23℃の測定環境下、測定対象としての離型層の表面に、表面張力γと、前記表面張力の分散成分γ と、極性成分γ とが既知である溶剤の液滴を滴下して、協和界面科学(株)製の全自動接触角計DM700を用いて測定した、前記溶剤の接触角θ(°)と、前記表面張力γ、分散成分γ 、および極性成分γ とから、式(1):
γ(1+Cosθ)=2(γ γ 1/2+2(γ γ 1/2 (1)
によって、前記離型層の表面の表面張力γの分散成分γ と、極性成分γ とを求め、前記分散成分γ と、極性成分γ とから、さらに、式(2):
γ=γ +γ (2)
によって、離型層の表面張力γ(23℃)を求める。
In addition, while securing the adhesiveness of the release layer to the base material layer, the release layer is prevented from being lost at an early stage by peeling, and the life of the flattening sheet is extended, In consideration of more reliably preventing the occurrence of reverse transfer of the transparent resin layer, the surface tension (23 ° C.) of the release layer is 5 to 25 mN / m, particularly 10 to 20 mN / m even within the above range. Is preferred.
The surface tension γ S (23 ° C.) of the release layer is expressed by a value obtained by the Owens and Wendt method as an extension of the Fowkes theory. That is, in a measurement environment at a temperature of 23 ° C., a surface tension γ L , a dispersion component γ L d of the surface tension, and a polar component γ L p are known on the surface of the release layer as a measurement target. A droplet was dropped and measured using a fully automatic contact angle meter DM700 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., the contact angle θ (°) of the solvent, the surface tension γ L , the dispersion component γ L d , And the polar component γ L p , the formula (1):
γ L (1 + Cos θ) = 2 (γ S d γ L d ) 1/2 +2 (γ S p γ L p ) 1/2 (1)
To determine the dispersion component γ S d and the polar component γ S p of the surface tension γ S on the surface of the release layer, and from the dispersion component γ S d and the polar component γ S p , 2):
γ S = γ S d + γ S p (2)
To obtain the surface tension γ S (23 ° C.) of the release layer.

離型層は、前記表面張力の範囲を満足する層を形成しうる、種々の材料によって形成することができるが、特にシリコーン樹脂やフッ素樹脂等の、表面エネルギーの小さい樹脂によって形成するのが、前記離型層の耐久性を向上して、平坦化シートの長寿命化を図る上で好ましい。離型層は、前記樹脂またはその前駆体を含む塗布液を、基材層の片面に塗布した後、乾燥させたり、前駆体を含む場合は、前記前駆体を反応させて樹脂を生成させたりする、いわゆる塗布法によって形成することができる。   The release layer can be formed of various materials that can form a layer that satisfies the range of the surface tension. Particularly, the release layer is formed of a resin having a small surface energy, such as a silicone resin or a fluororesin. It is preferable for improving the durability of the release layer and extending the life of the flattened sheet. The release layer is coated with a coating solution containing the resin or its precursor on one side and then dried, or when the precursor is contained, the precursor is reacted to produce a resin. It can be formed by a so-called coating method.

また、離型層は、ローラの接触面となる表面の、日本工業規格JIS B0601:2001「製品の幾何特性仕様(GPS)−表面性状:輪郭曲線方式−用語,定義及び表面性状パラメータ」に規定された、粗さ曲線の算術平均粗さRaが20nm以下である必要がある。算術平均粗さRaが前記範囲を超える場合には、離型層の表面の平滑性が低下するため、前記表面を押し付けて平坦化される透明樹脂層の表面に、離型層の表面形状が転写されることで、透明樹脂層の厚みにムラを生じる。そのため、前記透明樹脂層を有するカラーフィルタを、例えばLCD等に組み込んだ際には、透明樹脂層の厚みのムラに応じて、表示に濃度のムラが発生して、画質が低下するという問題を生じる。 In addition, the release layer is stipulated in Japanese Industrial Standard JIS B0601: 2001 “Product Geometric Characteristic Specification (GPS) —Surface Properties: Contour Curve Method—Terminology, Definitions, and Surface Property Parameters” of the surface to be the contact surface of the roller been, arithmetic mean roughness R a of a roughness curve is required to be 20nm or less. If the arithmetic mean roughness R a exceeds the above range, since the smoothness of the surface of the release layer is lowered, the surface of the transparent resin layer is planarized by pressing the said surface, the surface shape of the release layer Is transferred, thereby causing unevenness in the thickness of the transparent resin layer. For this reason, when the color filter having the transparent resin layer is incorporated in, for example, an LCD or the like, there is a problem in that unevenness in density occurs in the display according to the unevenness in the thickness of the transparent resin layer, resulting in a reduction in image quality. Arise.

なお、透明樹脂層の厚みのムラをできるだけ小さくして、LCD等の表示の画質を、さらに向上することを考慮すると、離型層の表面の算術平均粗さRaは、前記範囲内でも15nm以下、特に10nm以下であるのが好ましい。また、前記効果を、より一層、向上することを考慮すると、算術平均粗さRaは、小さければ小さいほど好ましく、その下限は0nmまでをも含みうる。 Incidentally, as small as possible unevenness of thickness of the transparent resin layer, the display quality, such as LCD, considering that further improved, the arithmetic mean roughness R a of the surface of the release layer, 15 nm even in the above range Hereinafter, it is particularly preferably 10 nm or less. In consideration of further improving the effect, the arithmetic average roughness Ra is preferably as small as possible, and the lower limit may include up to 0 nm.

しかし、塗布法によって形成される離型層の表面の算術平均粗さRaは、下地である基材層の、離型層を形成する面の表面状態の影響を受けること、前記基材層の、離型層を形成する面を、粗さ曲線の算術平均粗さRaが0nmの、凹凸のない平滑面に仕上げることが、実質的に困難であること等を考慮すると、離型層の表面の算術平均粗さRaは、前記範囲内でも3nm以上、特に5nm以上であるのが好ましい。 However, the arithmetic mean roughness R a of the surface of the release layer formed by the coating method, the subject of the substrate layer is a base, the influence of the surface state of the surface to form a releasing layer, the base layer In consideration of the fact that it is substantially difficult to finish the surface on which the release layer is formed into a smooth surface having no roughness, the arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve is 0 nm. arithmetic mean roughness R a of the surface of, 3 nm or more even in the above range, and particularly preferably between 5nm or more.

塗布法によって形成される離型層の表面の算術平均粗さRaを、前記範囲に調整するためには、前記のように、離型層の表面の表面状態が、下地である基材層の、離型層を形成する面の表面状態の影響を受けることから、前記基材層の面を、できるだけ平滑に仕上げることが肝要である。また、塗布法によって離型層を形成する際に、例えば、その外周面が研磨仕上げされた塗布棒を用いたバーコート法や、スプレーコート法等の、できるだけ表面が平滑な塗膜を形成することができる塗布方法を採用することや、必要に応じて、形成後の離型層の表面を研磨して仕上げたりすることも重要である。離型層の表面の算術平均粗さRaは、カラー3Dレーザー顕微鏡〔(株)キーエンス製のVK−9700〕を用いて、非接触3次元測定して得た結果から、先に説明したJIS規格に準拠して算出した値でもって表すこととする。 The arithmetic mean roughness R a of the surface of the release layer formed by a coating method, in order to adjust the range, as described above, the surface state of the surface of the release layer, the substrate layer is a base Therefore, it is important to finish the surface of the base material layer as smoothly as possible because it is affected by the surface state of the surface on which the release layer is formed. Further, when the release layer is formed by a coating method, for example, a coating film whose surface is as smooth as possible is formed, such as a bar coating method using a coating rod whose outer peripheral surface is polished and a spray coating method. It is also important to adopt a coating method that can be applied and, if necessary, to polish and finish the surface of the release layer after formation. Arithmetic mean roughness R a of the surface of the release layer, using a color 3D laser microscope [KEYENCE manufactured VK-9700], from the results obtained by measuring non-contact 3D, previously described JIS It shall be expressed by a value calculated according to the standard.

離型層の厚みは30μm以下、特に15μm以下であるのが好ましい。厚みが前記範囲を超える場合には、平坦化シートの全体が軟らかくなって、平坦化の際に、透明樹脂層に、均一な圧を加えることができないため、前記透明樹脂層を、均一に平坦化することができない。また、平坦化の際に、離型層が、せん断方向に動くことによって、その表面の平滑性が低下して、透明樹脂層の厚みにムラを生じたり、場合によっては、前記透明樹脂層を形成する透明インキが、離型層の表面に逆転写したりするおそれがある。   The thickness of the release layer is preferably 30 μm or less, particularly preferably 15 μm or less. When the thickness exceeds the above range, the entire flattening sheet becomes soft and uniform pressure cannot be applied to the transparent resin layer at the time of flattening. Can not be converted. Further, during the planarization, the release layer moves in the shearing direction, so that the smoothness of the surface is lowered, and the thickness of the transparent resin layer is uneven. There is a possibility that the transparent ink to be formed is reversely transferred to the surface of the release layer.

なお、離型層の厚みは、前記範囲内でも0.5μm以上、特に1μm以上であるのが好ましい。厚みが前記範囲未満である場合には、離型層を設けたことによる、透明樹脂層を形成する透明インキが逆転写するのを防止する効果が十分に得られないおそれがあるためである。離型層の厚みは、前記離型層の一部を、アセトンを用いて溶かして剥離して、剥離していない部分との間で段差を生じさせた状態で、前記段差の高さを、先に説明したカラー3Dレーザー顕微鏡〔(株)キーエンス製のVK−9700〕を用いて、非接触3次元測定して得た値でもって表すこととする。   Note that the thickness of the release layer is preferably 0.5 μm or more, particularly 1 μm or more, even within the above range. This is because when the thickness is less than the above range, the effect of preventing reverse transfer of the transparent ink forming the transparent resin layer due to the provision of the release layer may not be sufficiently obtained. The thickness of the release layer is a state in which a part of the release layer is melted and peeled off using acetone, and a step is formed between the part that is not peeled off, The color 3D laser microscope described above (VK-9700 manufactured by Keyence Co., Ltd.) is used to represent the values obtained by non-contact three-dimensional measurement.

基材層は、その上下の離型層および弾性層を支持して、主として、平坦化シートの全体の、面方向の引張強さを向上すると共に、前記平坦化シートに、ローラの外周面に巻き付けるための適度な追従性と、簡単に折れ曲がったりしないための適度なコシとを付与するための層であって、前記基材層の引張弾性率(23℃)は100MPa以上、特に200MPa以上であるのが好ましい。   The base material layer supports the upper and lower release layers and the elastic layer to mainly improve the tensile strength in the surface direction of the entire flattened sheet, and to the flattened sheet on the outer peripheral surface of the roller. It is a layer for imparting an appropriate followability for winding and an appropriate stiffness for preventing bending easily, and the tensile elastic modulus (23 ° C.) of the base material layer is 100 MPa or more, particularly 200 MPa or more. Preferably there is.

引張弾性率(23℃)が前記範囲未満では、平坦化シートの、面方向の引張強さが不足して、前記平坦化シートを、ローラの外周面に、一定の張力をかけながら巻き付けて固定する際等に、離型層が、面方向の伸びに追従できずに剥離したり、クラックを生じたりするおそれがある。なお、引張弾性率(23℃)の上限は、特に限定されないが、ローラの外周面に巻き付けるための適度な追従性を維持するためには、基材層の引っ張り弾性率(23℃)は、前記範囲内でも10GPa以下、特に5GPa以下であるのが好ましい。基材層の引張弾性率は、温度23℃の測定環境下、日本工業規格JIS K6251:2004「加硫ゴム及び熱可塑性ゴム−引張特性の求め方」に則って測定した値でもって表すこととする。 If the tensile modulus (23 ° C.) is less than the above range, the flattened sheet has insufficient tensile strength in the surface direction, and the flattened sheet is wound around the outer peripheral surface of the roller and fixed with a constant tension. When doing so, the release layer may not be able to follow the elongation in the surface direction and may peel off or cause cracks. The upper limit of the tensile elastic modulus (23 ° C.) is not particularly limited, but the tensile elastic modulus (23 ° C.) of the base material layer is set to maintain an appropriate followability for winding around the outer peripheral surface of the roller. Even within the above range, it is preferably 10 GPa or less, particularly 5 GPa or less. The tensile elastic modulus of the base material layer is expressed as a value measured in accordance with Japanese Industrial Standard JIS K6251: 2004 “Vulcanized rubber and thermoplastic rubber-Determination of tensile properties” in a measurement environment at a temperature of 23 ° C. To do.

基材層は、前記引張弾性率(23℃)の範囲を満足する層を形成しうる、種々の材料によって形成することができるが、前記基材層としては、特にポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステル系樹脂のフィルムや、ナイロン等のポリアミド系樹脂のフィルム、カプトン(登録商標)等の全芳香族ポリイミド樹脂のフィルム等の、いわゆるエンジニアリングプラスチックのフィルムが好適に使用される。また、基材層としては、アルミニウム、ニッケル、ステンレス鋼、鉄、銅等の金属の箔ないし薄板も使用可能である。   The base material layer can be formed of various materials that can form a layer satisfying the range of the tensile elastic modulus (23 ° C.). As the base material layer, in particular, polyethylene terephthalate (PET) or the like can be used. A so-called engineering plastic film such as a polyester resin film, a polyamide resin film such as nylon, or a wholly aromatic polyimide resin film such as Kapton (registered trademark) is preferably used. Further, as the base material layer, a metal foil or thin plate of aluminum, nickel, stainless steel, iron, copper or the like can be used.

基材層の厚みは50〜500μm、特に75〜350μmであるのが好ましい。厚みが前記範囲未満では、平坦化シートに、簡単に折れ曲がったりしないための適度なコシを付与することができず、前記範囲を超える場合には、平坦化シートに、ローラの外周面に巻き付けるための適度な追従性を付与することができないため、このいずれの場合にも、前記平坦化シートを、ローラの外周面に、一定の張力をかけながら巻き付けて固定する際等の取扱性が低下するおそれがある。基材層の厚みは、マイクロメータ〔例えば、(株)ミツトヨ製の防水形デジタルマイクロメータ「クーラントプルーフマイクロメータ」等〕を用いて測定した値でもって表すこととする。   The thickness of the base material layer is preferably 50 to 500 μm, particularly preferably 75 to 350 μm. If the thickness is less than the above range, the flattening sheet cannot be imparted with an appropriate stiffness to prevent bending, and if it exceeds the above range, the flattening sheet is wound around the outer peripheral surface of the roller. In any of these cases, the flatness sheet is wound around the outer peripheral surface of the roller while being fixed with a certain tension, and the handleability is lowered. There is a fear. The thickness of the base material layer is expressed by a value measured using a micrometer (for example, a waterproof digital micrometer “Coolant Proof Micrometer” manufactured by Mitutoyo Corporation).

基材層の、離型層側の面の、日本工業規格JIS B0601:2001「製品の幾何特性仕様(GPS)−表面性状:輪郭曲線方式−用語,定義及び表面性状パラメータ」に規定された、粗さ曲線の算術平均粗さRaは50nm以下である必要がある。算術平均粗さRaが前記範囲を超える場合には、その表面に、塗布法によって形成される離型層の、ローラの接触面となる表面の算術平均粗さRaが、先に説明した20nm以下の範囲を超えるため、LCD等の画質が低下するという問題を生じる。 Specified in Japanese Industrial Standard JIS B0601: 2001 “Product Geometrical Specification (GPS) —Surface Properties: Contour Curve Method—Terminology, Definitions, and Surface Property Parameters” of the surface of the release layer side of the base material layer, arithmetic mean roughness R a of a roughness curve is required to be 50nm or less. If the arithmetic mean roughness R a exceeds the above range, on the surface, the release layer formed by a coating method, an arithmetic mean roughness R a of the surface comprising the contact surface of the roller, described above Since it exceeds the range of 20 nm or less, there arises a problem that the image quality of an LCD or the like is lowered.

なお、離型層の表面の算術平均粗さRaを、先に説明した好適な範囲内とすることを考慮すると、基材層の、離型層側の面の算術平均粗さRaは、前記範囲内でも15nm以下、特に10nm以下であるのが好ましい。また、離型層の表面の算術平均粗さRaを、できるだけ小さくすることを考慮すると、基材層の、離型層側の面の算術平均粗さRaは、小さければ小さいほど好ましく、その下限は0nmまでをも含みうる。 Incidentally, the arithmetic mean roughness R a of the surface of the release layer, considering that within the preferred range described above, the base layer, the arithmetic average roughness of the surface of the release layer side R a is Even within the above range, it is preferably 15 nm or less, particularly 10 nm or less. Further, the arithmetic mean roughness R a of the surface of the release layer, considering that as small as possible, the base layer, the arithmetic average roughness R a of the surface of the release layer side, the smaller Preferably, The lower limit may include up to 0 nm.

しかし、先に説明したように、基材層の、離型層を形成する面を、粗さ曲線の算術平均粗さRaが0nmの、凹凸のない平滑面に仕上げることは、基材層の生産性等を考慮すると、実質的に困難であり、前記生産性等を考慮すると、算術平均粗さRaは、前記範囲内でも3nm以上、特に5nm以上であるのが好ましい。基材層の、離型層を形成する面の算術平均粗さRaを、前記範囲内に調整するためには、例えば、前記基材層が金属の箔ないし薄板等である場合には、その表面を研磨する等して平滑に仕上げればよい。また、基材層が、いわゆるエンジニアリングプラスチックのフィルム等である場合は、例えば、押出成形や延伸等の、フィルムを製造する各工程での条件を調整したり、製造したフィルムの表面を研磨したりして、平滑に仕上げればよい。基材層の、離型層を形成する面の算術平均粗さRaは、先に説明したカラー3Dレーザー顕微鏡〔(株)キーエンス製のVK−9700〕を用いて、非接触3次元測定して得た結果から、先に説明したJIS規格に準拠して算出した値でもって表すこととする。 However, as described above, the substrate layer, a surface forming a release layer, the arithmetic average roughness R a of 0nm of the roughness curve, to finish the no irregularities smooth surface, the substrate layer In view of the productivity and the like, it is substantially difficult, and in consideration of the productivity and the like, the arithmetic average roughness Ra is preferably 3 nm or more, particularly 5 nm or more even within the above range. Of the base layer, the arithmetic average roughness R a of the surface forming the release layer, in order to adjust within the range, for example, if the base layer is a foil or thin sheet like metals, The surface may be polished to a smooth finish. In addition, when the base material layer is a so-called engineering plastic film, for example, the conditions in each step of manufacturing the film, such as extrusion molding or stretching, are adjusted, or the surface of the manufactured film is polished. Then, it may be finished smoothly. Of the base layer, the arithmetic average roughness R a of the surface forming a release layer, by using a color 3D laser microscope as described previously [KEYENCE manufactured VK-9700], measured non-contact 3D From the results obtained in this way, it is expressed by a value calculated according to the JIS standard described above.

弾性層は、クッション層として、平坦化の際に、透明樹脂層に均一な圧を加えると共に、ローラの外周面に平坦化シートを巻き付けて固定する際に、両者の間に異物が挟まる等した場合に、前記異物の形状を吸収して、平坦化シートの表面に突起として顕在化するのを抑制して、平坦化される透明樹脂層に、前記突起に対応した凹部等の欠陥が生じるのを防止するための層であって、弾性率(23℃)が0.5〜20MPa、厚みが0.1〜5mmの範囲内である必要がある。   The elastic layer, as a cushion layer, applied uniform pressure to the transparent resin layer during flattening, and when the flattened sheet was wrapped around and fixed to the outer peripheral surface of the roller, foreign matter was sandwiched between them. In this case, the shape of the foreign matter is absorbed and the surface of the flattening sheet is suppressed from appearing as a protrusion, and a defect such as a recess corresponding to the protrusion is generated in the transparent resin layer to be flattened. The elastic modulus (23 ° C.) needs to be within a range of 0.5 to 20 MPa and a thickness of 0.1 to 5 mm.

弾性層の弾性率(23℃)が前記範囲未満であるか、もしくは、厚みが前記範囲を超える場合には、平坦化シートの全体が軟らかくなりすぎて、平坦化の際に、透明樹脂層に、均一な圧を加えることができないため、前記透明樹脂層を、均一に平坦化することができない。一方、弾性率(23℃)が前記範囲を超えるか、もしくは、厚みが前記範囲未満では、ローラの外周面に平坦化シートを巻き付けて固定する際に、両者の間に異物が挟まる等した場合に、前記異物の形状を十分に吸収することができず、前記異物の形状が、平坦化シートの表面に突起として顕在化して、平坦化した透明樹脂層に、前記突起に対応した凹部等の欠陥が発生する。   If the elastic modulus (23 ° C.) of the elastic layer is less than the above range, or if the thickness exceeds the above range, the entire flattening sheet becomes too soft, and the flattening resin layer becomes Since the uniform pressure cannot be applied, the transparent resin layer cannot be flattened uniformly. On the other hand, when the elastic modulus (23 ° C.) exceeds the above range or the thickness is less than the above range, when a foreign object is caught between the two when the flattened sheet is wound around and fixed to the outer peripheral surface of the roller. In addition, the shape of the foreign matter cannot be sufficiently absorbed, and the shape of the foreign matter is manifested as a protrusion on the surface of the flattening sheet, and the flattened transparent resin layer has a recess or the like corresponding to the protrusion. Defects occur.

なお、平坦化シートの全体に適度な柔軟性を付与して、平坦化の際に、透明樹脂層に均一な圧を加えることと、異物が挟まる等した際に、前記異物の形状を十分に吸収して、平坦化シートの表面に突起として顕在化するのを抑制することとのバランスを考慮して、欠陥がなく、しかも均一に平坦化された透明樹脂層を形成することを考慮すると、弾性層の弾性率(23℃)は、先に説明した範囲内でも0.8〜15MPaであるのが好ましく、厚みは0.125〜0.35mmであるのが好ましい。   It should be noted that appropriate flexibility is imparted to the entire flattening sheet, and when the flattening, uniform pressure is applied to the transparent resin layer, and when the foreign matter is caught, the shape of the foreign matter is sufficiently Taking into account the balance between absorbing and suppressing the appearance of protrusions on the surface of the flattened sheet, considering forming a transparent resin layer that is flat and uniformly free of defects, The elastic modulus (23 ° C.) of the elastic layer is preferably 0.8 to 15 MPa and the thickness is preferably 0.125 to 0.35 mm even within the range described above.

弾性層は、前記特性を満足する、種々の材料によって形成することができ、特に、発泡または非発泡のゴムや軟質樹脂によって形成するのが好ましい。弾性層の弾性率は、温度23℃の測定環境下、先に説明した、日本工業規格JIS K6251:2004「加硫ゴム及び熱可塑性ゴム−引張特性の求め方」に則って測定した値でもって表すこととする。また、厚みは、これも先に説明した、マイクロメータ〔例えば、(株)ミツトヨ製の防水形デジタルマイクロメータ「クーラントプルーフマイクロメータ」等〕を用いて測定した値でもって表すこととする。   The elastic layer can be formed of various materials that satisfy the above characteristics, and is particularly preferably formed of foamed or non-foamed rubber or soft resin. The elastic modulus of the elastic layer is a value measured in accordance with the Japanese Industrial Standard JIS K6251: 2004 “Vulcanized rubber and thermoplastic rubber-Determination of tensile properties” described above in a measurement environment at a temperature of 23 ° C. Let's represent. The thickness is expressed by a value measured using a micrometer (for example, a waterproof digital micrometer “Coolant Proof Micrometer” manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.) described above.

本発明の平坦化シートは、前記離型層、基材層、および弾性層の3層のみで形成してもよいが、前記各層間に、例えば接着層等を介在させてもよい。また、離型層、基材層、および弾性層の各層を、それぞれ、先に説明した各特性を満足する2層以上の層からなる、積層構造に形成してもよい。前記3層のみからなる平坦化シートは、例えば、基材層の片面に、離型層のもとになる塗布液を塗布した後、先に説明したように乾燥ないし反応させて離型層を形成すると共に、前記基材層の反対面に、弾性層のもとになる、ゴムまたは軟質樹脂を溶剤で溶いた、液状ないしペースト状の糊剤を塗布して乾燥させ、さらに必要に応じて硬化反応させて弾性層を形成することによって製造される。 The planarizing sheet of the present invention may be formed of only three layers of the release layer, the base material layer, and the elastic layer, but an adhesive layer or the like may be interposed between the layers. In addition, each of the release layer, the base material layer, and the elastic layer may be formed in a laminated structure including two or more layers that satisfy the above-described characteristics. The flattened sheet consisting of only the three layers, for example, after applying the coating liquid that becomes the release layer on one surface of the base material layer, the release layer is dried or reacted as described above. Applying and drying a liquid or paste-like paste that dissolves rubber or soft resin in a solvent, which is the base of the elastic layer, on the opposite surface of the base material layer , and further if necessary It is manufactured by forming a resilient layer through a curing reaction.

図1、2は、前記本発明の平坦化シートを用いた、本発明のカラーフィルタの製造方法の、工程の一例を示す断面図である。図1を参照して、この例の製造方法では、まず、ガラス基板等の基板1上に、赤(R)、緑(G)、および青(B)の各画素に対応した、前記各色に着色された透明インキからなるストライプパターン2〜4を、画素ごとに規則正しく配列させて印刷して、透明樹脂層5を形成する。次に、図2を参照して、外周面に本発明の平坦化シート6を巻き付けたローラ7の、前記平坦化シート6の表面であるローラ7の接触面を、印刷後の透明樹脂層5の表面に接触させた状態で、前記ローラ7を、図中に実線の矢印、および白矢印で示すように、前記透明樹脂層5の表面上で転動させることによって、透明樹脂層5の表面を平坦化すると、カラーフィルタが製造される。   1 and 2 are cross-sectional views showing an example of steps in the method for producing a color filter of the present invention using the flattened sheet of the present invention. Referring to FIG. 1, in the manufacturing method of this example, first, the respective colors corresponding to the red (R), green (G), and blue (B) pixels are formed on a substrate 1 such as a glass substrate. Stripe patterns 2 to 4 made of colored transparent ink are regularly arranged and printed for each pixel to form the transparent resin layer 5. Next, referring to FIG. 2, the contact surface of the roller 7, which is the surface of the flattening sheet 6, of the roller 7 in which the flattening sheet 6 of the present invention is wound around the outer circumferential surface is printed on the transparent resin layer 5 The surface of the transparent resin layer 5 is rolled by rolling the roller 7 on the surface of the transparent resin layer 5 as indicated by solid arrows and white arrows in the figure. Is flattened, a color filter is manufactured.

図1の工程において、基板1上にストライプパターン2〜4を印刷するための印刷法としては、例えば凹版オフセット印刷法、平版オフセット印刷法、スクリーン印刷法等の、従来公知の、種々の印刷法が、いずれも採用可能であり、特に凹版オフセット印刷法が好適に採用される。凹版オフセット印刷法においては、ストライプパターンの形状に対応した凹部を有する凹版と、外周面にオフセットブランケットを巻き付けたローラとを備えた凹版オフセット印刷機が使用される。   In the process of FIG. 1, as printing methods for printing the stripe patterns 2 to 4 on the substrate 1, various conventionally known printing methods such as an intaglio offset printing method, a lithographic offset printing method, and a screen printing method are used. However, both can be employed, and intaglio offset printing is particularly preferably employed. In the intaglio offset printing method, an intaglio offset printing machine including an intaglio having a recess corresponding to the shape of the stripe pattern and a roller having an offset blanket wound around the outer peripheral surface thereof is used.

そして、前記凹版の凹部に、前記各色に着色された透明インキを充填した後、オフセットブランケットの表面であるローラの接触面を、凹版の表面に接触させた状態で、前記ローラを、前記凹版の表面上で転動させることによって、凹部内の透明インキを、オフセットブランケットの表面に、ストライプパターンとして転写させた後、前記表面を、基板の表面に接触させた状態で、前記ローラを、前記基板の表面上で転動させることによって、前記ストライプパターンを、基板の表面に転写させると、前記基板の表面に、凹版の凹部に対応したストライプパターンを印刷することができる。   Then, after filling the concave portions of the intaglio with the transparent ink colored in each color, the roller is the surface of the offset blanket, the roller contact surface is in contact with the surface of the intaglio, The transparent ink in the recesses is transferred as a stripe pattern to the surface of the offset blanket by rolling on the surface, and then the roller is placed in the state where the surface is in contact with the surface of the substrate. When the stripe pattern is transferred onto the surface of the substrate by rolling on the surface of the substrate, a stripe pattern corresponding to the concave portion of the intaglio can be printed on the surface of the substrate.

前記凹版オフセット印刷法によれば、凹版の表面に、例えばフォトリソグラフ法等によって形成した、高精度のパターンに対応した、透明インキからなるストライプパターンを、基板の表面に、再現性よく印刷できるという利点がある。凹版オフセット印刷機と、本発明の平坦化シートとを用いて、印刷後の透明樹脂層を平坦化するためには、凹版オフセット印刷機に、前記オフセットブランケットを巻き付けたローラの他に、平坦化シートを巻き付けたローラを装着して、前者のローラによる印刷の工程と、後者のローラによる平坦化の工程とを交互に実施するようにしてもよい。また、ローラは1本のみとして、印刷工程終了後のローラにオフセットブランケットに代えて、本発明の平坦化シートを巻き付けて平坦化工程を実施するようにしてもよい。   According to the intaglio offset printing method, a stripe pattern made of transparent ink corresponding to a high-precision pattern formed on the surface of the intaglio plate, for example, by a photolithographic method can be printed on the surface of the substrate with good reproducibility. There are advantages. In order to flatten the transparent resin layer after printing using the intaglio offset printing press and the flattening sheet of the present invention, in addition to the roller around which the offset blanket is wound, the flattening is performed. A roller around which a sheet is wound may be mounted, and the printing process using the former roller and the flattening process using the latter roller may be alternately performed. Further, the number of rollers may be only one, and the flattening step may be performed by winding the flattening sheet of the present invention around the roller after the printing step instead of the offset blanket.

《実施例1》
基材層として、その両面の、粗さ曲線の算術平均粗さRaが11.5nm、引張弾性率(23℃)が210MPa、厚みが100μmであるPETフィルム〔東レ(株)製のT60〕を用意した。次に、前記PETフィルムを、縦300mm×横400mmの矩形状に切り出し、その片面の、矩形の2長辺側の端縁に、それぞれ、メンディングテープを貼り付けると共に、PETフィルムを、前記片面を上にして平盤上に固定した状態で、前記メンディングテープを厚みのガイドとして利用して、直径12mmのステンレス製で、かつ外周面が研磨仕上げされた塗布棒を用いて、バーコート法によって、前記片面に、離型層のもとになるシリコーン樹脂系の塗布液〔信越化学工業(株)製の登録商標SEPA−COAT、単独硬化物の表面張力(23℃):16mN/m〕を塗布した後、クリーンオーブン内で100℃×10分間の加熱をして塗布液を乾燥させると共に、シリコーン樹脂を硬化反応させて離型層を形成した。前記離型層の、表面の表面張力(23℃)は16mN/m、粗さ曲線の算術平均粗さRaは8.7nm、厚みは1μmであった。
Example 1
As a base layer, the both sides, an arithmetic mean roughness R a of a roughness curve is 11.5 nm, the tensile modulus (23 ° C.) is 210 MPa, PET film thickness of 100μm [Toray Co., Ltd. T60] Prepared. Next, the PET film is cut into a rectangular shape having a length of 300 mm and a width of 400 mm, a mending tape is attached to each of the two long side edges of the rectangle, and the PET film is Bar coating method using a coating rod made of stainless steel having a diameter of 12 mm and having an outer peripheral surface polished, using the above-mentioned mending tape as a thickness guide while being fixed on a flat plate According to the above, on one side, a silicone resin-based coating liquid [registered trademark SEPA-COAT manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., surface tension of single cured product (23 ° C.): 16 mN / m] After coating, the coating liquid was dried in a clean oven at 100 ° C. for 10 minutes and the silicone resin was cured to form a release layer. Of the releasing layer, the surface tension of the surface (23 ° C.) is 16 mN / m, an arithmetic mean roughness R a of a roughness curve is 8.7 nm, the thickness was 1 [mu] m.

次に、前記PETフィルムを、離型層を形成した側と反対面を上にして、平盤上に載置し、矩形の4辺の端縁に、それぞれステンレス棒を置いて、高さ500μmの土手を形成すると共に、PETフィルムを平盤上に固定した状態で、前記ステンレス棒を厚みのガイドとして利用して、直径12mmのステンレス製で、かつ外周面が研磨仕上げされた塗布棒を用いて、バーコート法によって、前記反対面に、弾性層のもとになる注型用ウレタン樹脂〔日立化成工業(株)製のKU−5550−9、単独硬化物の弾性率(23℃):5.3MPa〕を塗布した後、クリーンオーブン内で40℃×5分間の加熱をしてウレタン樹脂を硬化させて弾性層を形成して、実施例1の平坦化シートを製造した。前記弾性層の弾性率(23℃)は5.3MPa、厚みは0.65mmであった。   Next, the PET film was placed on a flat plate with the surface opposite to the side on which the release layer was formed facing up, and stainless steel bars were placed on the edges of the four sides of the rectangle, respectively, and the height was 500 μm. In addition to forming a bank, and using a stainless steel rod having a thickness of 12 mm and a polished outer peripheral surface, the stainless steel rod is used as a thickness guide while the PET film is fixed on a flat plate. Then, by the bar coating method, the casting urethane resin [KU-5550-9 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., the elastic modulus of the single cured product (23 ° C.): 5.3 MPa] was applied, followed by heating at 40 ° C. for 5 minutes in a clean oven to cure the urethane resin to form an elastic layer, and the flattened sheet of Example 1 was manufactured. The elastic layer had an elastic modulus (23 ° C.) of 5.3 MPa and a thickness of 0.65 mm.

《実施例2》
離型層のもとになるシリコーン樹脂系の塗布液として、信越化学工業(株)製の登録商標SEPA−COATと、同社製のKS−830(単独硬化物の表面張力(23℃):38mN/m)とを、重量比で40:60の割合で配合したものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、実施例2の平坦化シートを製造した。前記離型層の、表面の表面張力(23℃)は28mN/m、粗さ曲線の算術平均粗さRaは8.7nm、厚みは1μmであった。
Example 2
As a silicone resin-based coating solution for the release layer, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. registered trademark SEPA-COAT and KS-830 manufactured by the same company (surface tension of single cured product (23 ° C.): 38 mN / M) was used in the same manner as in Example 1 except that a blending ratio of 40:60 by weight ratio was used, and a planarized sheet of Example 2 was produced. Of the releasing layer, the surface tension of the surface (23 ° C.) is 28 mN / m, an arithmetic mean roughness R a of a roughness curve is 8.7 nm, the thickness was 1 [mu] m.

《比較例1》
離型層のもとになるシリコーン樹脂系の塗布液として、信越化学工業(株)製の登録商標SEPA−COATと、同社製のKS−830とを、重量比で20:80の割合で配合したものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、比較例1の平坦化シートを製造した。前記離型層の、表面の表面張力(23℃)は32mN/m、粗さ曲線の算術平均粗さRaは8.7nm、厚みは1μmであった。
<< Comparative Example 1 >>
As a silicone resin-based coating solution for the release layer, the registered trademark SEPA-COAT manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. and KS-830 manufactured by the same company are blended in a weight ratio of 20:80. A flattened sheet of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the above was used. Of the releasing layer, the surface tension of the surface (23 ° C.) is 32 mN / m, an arithmetic mean roughness R a of a roughness curve is 8.7 nm, the thickness was 1 [mu] m.

《比較例2》
離型層のもとになるシリコーン樹脂系の塗布液として、信越化学工業(株)製のKS−830を用いたこと以外は実施例1と同様にして、比較例2の平坦化シートを製造した。前記離型層の、表面の表面張力(23℃)は38mN/m、粗さ曲線の算術平均粗さRaは10.5nm、厚みは1μmであった。
<< Comparative Example 2 >>
A flattened sheet of Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that KS-830 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used as the silicone resin-based coating solution for the release layer. did. Of the releasing layer, the surface tension of the surface (23 ° C.) is 38 mN / m, an arithmetic mean roughness R a of a roughness curve is 10.5 nm, the thickness was 1 [mu] m.

《実施例3》
離型層のもとになるシリコーン樹脂系の塗布液として、信越化学工業(株)製の登録商標SEPA−COATと、同社製のKS−837(単独硬化物の表面張力(23℃):16mN/m)とを、重量比で80:20の割合で配合したものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、実施例3の平坦化シートを製造した。前記離型層の、表面の表面張力(23℃)は16mN/m、粗さ曲線の算術平均粗さRaは18nm、厚みは1μmであった。
Example 3
As a silicone resin-based coating solution for the release layer, the registered trademark SEPA-COAT manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. and KS-837 manufactured by the same company (surface tension (23 ° C.) of single cured product: 16 mN) / M) was used in the same manner as in Example 1 except that a blending ratio of 80:20 by weight was used, and a planarized sheet of Example 3 was produced. Of the releasing layer, the surface tension of the surface (23 ° C.) is 16 mN / m, an arithmetic mean roughness R a of a roughness curve is 18 nm, the thickness was 1 [mu] m.

《比較例3》
基材層として、その両面の、粗さ曲線の算術平均粗さRaが66.8nm、引張弾性率(23℃)が230MPa、厚みが100μmであるPETフィルム〔帝人デュポンフィルム(株)製の登録商標メリネックスS〕を用いたこと以外は実施例1と同様にして、比較例3の平坦化シートを製造した。前記PETフィルム上に形成された離型層の表面の、粗さ曲線の算術平均粗さRaは39nmであった。
<< Comparative Example 3 >>
As a base layer, the both sides, an arithmetic mean roughness R a of a roughness curve is 66.8Nm, tensile modulus (23 ° C.) is 230 MPa, a thickness of 100 [mu] m PET film [Teijin DuPont Films Co. Ltd. A flattened sheet of Comparative Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the registered trademark Melinex S] was used. The PET film on the surface of the formed release layer, the arithmetic average roughness R a of a roughness curve was 39 nm.

《実施例4》
基材層として、その両面の、粗さ曲線の算術平均粗さRaが48nm、引張弾性率(23℃)が230MPa、厚みが100μmであるPETフィルム〔東レ(株)製のS10〕を用いたこと以外は実施例1と同様にして、実施例4の平坦化シートを製造した。前記PETフィルム上に形成された離型層の表面の、粗さ曲線の算術平均粗さRaは8.7nmであった。
Example 4
Use as a base layer, the both sides, an arithmetic mean roughness R a is 48nm of the roughness curve, the tensile modulus (23 ° C.) is 230 MPa, a PET film [Toray Industries (Inc.) S10 manufactured] a thickness of 100μm A flattened sheet of Example 4 was produced in the same manner as Example 1 except that it was. The PET film on the surface of the formed release layer, the arithmetic average roughness R a of a roughness curve was 8.7 nm.

《比較例4》
基材層として、その両面の、粗さ曲線の算術平均粗さRaが52nm、引張弾性率(23℃)が230MPa、厚みが100μmであるPETフィルム〔東レ(株)製のS15〕を用いたこと以外は実施例1と同様にして、比較例4の平坦化シートを製造した。前記PETフィルム上に形成された離型層の表面の、粗さ曲線の算術平均粗さRaは8.7nmであった。
<< Comparative Example 4 >>
Use as a base layer, the both sides, an arithmetic mean roughness R a is 52nm of the roughness curve, the tensile modulus (23 ° C.) is 230 MPa, a PET film [Toray Industries (Inc.) S15 manufactured] a thickness of 100μm A flattened sheet of Comparative Example 4 was produced in the same manner as Example 1 except that it was. The PET film on the surface of the formed release layer, the arithmetic average roughness R a of a roughness curve was 8.7 nm.

《実施例5》
弾性層のもとになる注型用ウレタン樹脂として、日立化成工業(株)製のKU−7002(単独硬化物の弾性率(23℃):0.07MPa)と、同社製のKU−7008(単独硬化物の弾性率(23℃):0.95MPa)とを、重量比で50:50の割合で配合したものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、実施例5の平坦化シートを製造した。前記弾性層の弾性率(23℃)は0.55MPaであった。
Example 5
As the urethane resin for casting used as the basis of the elastic layer, KU-7002 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. (modulus of single cured product (23 ° C.): 0.07 MPa) and KU-7008 manufactured by the same company ( The flattening of Example 5 was carried out in the same manner as in Example 1 except that a mixture of the elastic modulus of the single cured product (23 ° C .: 0.95 MPa) and a weight ratio of 50:50 was used. A sheet was produced. The elastic modulus (23 ° C.) of the elastic layer was 0.55 MPa.

《比較例5》
弾性層のもとになる注型用ウレタン樹脂として、日立化成工業(株)製のKU−7002と、同社製のKU−7008とを、重量比で40:60の割合で配合したものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、比較例5の平坦化シートを製造した。前記弾性層の弾性率(23℃)は0.45MPaであった。
<< Comparative Example 5 >>
As the urethane resin for casting, which is the basis of the elastic layer, KU-7002 made by Hitachi Chemical Co., Ltd. and KU-7008 made by the same company are blended at a weight ratio of 40:60. A flattened sheet of Comparative Example 5 was produced in the same manner as Example 1 except that it was. The elastic modulus (23 ° C.) of the elastic layer was 0.45 MPa.

《比較例6》
弾性層のもとになる注型用ウレタン樹脂として、日立化成工業(株)製のKU−7002を用いたこと以外は実施例1と同様にして、比較例6の平坦化シートを製造した。前記弾性層の弾性率(23℃)は0.07MPaであった。
《実施例6》
弾性層のもとになる注型用ウレタン樹脂として、日立化成工業(株)製のKU−5550−9と、同社製のU−801A/B(単独硬化物の弾性率(23℃):32MPa)とを、重量比で55:45の割合で配合したものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、実施例6の平坦化シートを製造した。前記弾性層の弾性率(23℃)は18MPaであった。
<< Comparative Example 6 >>
A flattened sheet of Comparative Example 6 was produced in the same manner as in Example 1 except that KU-7002 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. was used as the urethane resin for casting used as the basis of the elastic layer. The elastic modulus (23 ° C.) of the elastic layer was 0.07 MPa.
Example 6
As the urethane resin for casting which becomes the basis of the elastic layer, KU-5550-9 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. and U-801A / B manufactured by the same company (elastic modulus (23 ° C.) of single cured product: 32 MPa) ) Was used in the same manner as in Example 1 except that a blending ratio of 55:45 by weight ratio was used, and a planarized sheet of Example 6 was produced. The elastic modulus (23 ° C.) of the elastic layer was 18 MPa.

《比較例7》
弾性層のもとになる注型用ウレタン樹脂として、日立化成工業(株)製のKU−5550−9と、同社製のU−801A/Bとを、重量比で45:55の割合で配合したものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、比較例7の平坦化シートを製造した。前記弾性層の弾性率(23℃)は22MPaであった。
<< Comparative Example 7 >>
Mixing KU-5550-9 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. and U-801A / B manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. at a weight ratio of 45:55 A flattened sheet of Comparative Example 7 was produced in the same manner as in Example 1 except that the above was used. The elastic modulus (23 ° C.) of the elastic layer was 22 MPa.

《比較例8》
弾性層を、シリコーンレジン〔信越化学工業(株)製のSCR−1011A/B、単独硬化物の弾性率(23℃):1400MPa〕を用いて形成したこと以外は実施例1と同様にして、比較例8の平坦化シートを製造した。前記弾性層の弾性率(23℃)は1400MPaであった。
<< Comparative Example 8 >>
Except that the elastic layer was formed using a silicone resin [SCR-1011A / B manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., elastic modulus of single cured product (23 ° C.): 1400 MPa], the same as in Example 1, A planarized sheet of Comparative Example 8 was produced. The elastic modulus (23 ° C.) of the elastic layer was 1400 MPa.

《実施例7、8、比較例9〜11》
弾性層の厚みを0.11mm(実施例7)、4.8mm(実施例8)、0.08mm(比較例9)、5.2mm(比較例10)、6.5mm(比較例11)としたこと以外は実施例1と同様にして、実施例7、8、比較例9〜11の平坦化シートを製造した。
《比較例12》
弾性層を形成しなかったこと以外は実施例1と同様にして、比較例12の平坦化シートを製造した。
<< Examples 7 and 8, Comparative Examples 9 to 11 >>
The thickness of the elastic layer is 0.11 mm (Example 7), 4.8 mm (Example 8), 0.08 mm (Comparative Example 9), 5.2 mm (Comparative Example 10), and 6.5 mm (Comparative Example 11). Except that, flattened sheets of Examples 7 and 8 and Comparative Examples 9 to 11 were produced in the same manner as Example 1.
<< Comparative Example 12 >>
A planarized sheet of Comparative Example 12 was produced in the same manner as in Example 1 except that no elastic layer was formed.

《評価試験》
縦300mm×横400mmのガラス基板の表面に、平型凹版オフセット印刷機〔ナカン(株)製〕を用いて、凹版オフセット印刷法によって、凹版オフセット用CFインキにより、線幅100μmの、RGB3色のストライプパターンを、100μmピッチで、図1に示すように順に配列させて印刷することで、透明印刷層を形成した。凹版としては、ガラス製で、ストライプパターンの形状に対応した凹部の開口幅が110μm、深さが7μmであるものを用い、オフセットブランケットとしては、SRI研究開発(株)製の、総厚み0.9mmの精密印刷用シリコーンブランケットを用いた。
"Evaluation test"
Using a flat intaglio offset printing machine (manufactured by Nakan Co., Ltd.) on the surface of a glass substrate having a length of 300 mm and a width of 400 mm, an intaglio offset printing method and a CF ink for intaglio offset with a line width of 100 μm and three colors RGB The stripe pattern was printed with a 100 μm pitch arranged in order as shown in FIG. 1 to form a transparent print layer. The intaglio plate is made of glass and has an opening width of 110 μm and a depth of 7 μm corresponding to the shape of the stripe pattern. The offset blanket is made of SRI R & D Co., Ltd. with a total thickness of 0. A 9 mm precision printing silicone blanket was used.

また、凹版オフセット用CFインキとしては、アジピン酸とフタル酸とを等量ずつ配合して180℃で重合反応させて合成したポリエステル樹脂に、メラミン〔住友化学(株)製の登録商標スミマール〕を加えて、200℃に加温しながら、重量平均分子量Mwを2000〜20000の範囲内で任意に調整したバインダ樹脂と、下記いずれかの顔料と、分散剤〔味の素(株)製の登録商標アジスパーPB821〕と、溶剤としてのブチルカルビトールアセテートとを、表1に示す割合で配合し、3本ロールを用いて混合したものを用いた。   Also, as CF ink for intaglio offset, melamine (registered trademark Sumimar manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) is added to a polyester resin synthesized by blending equal amounts of adipic acid and phthalic acid at 180 ° C. In addition, a binder resin whose weight average molecular weight Mw is arbitrarily adjusted within the range of 2000 to 20000 while being heated to 200 ° C., one of the following pigments, and a dispersant [registered trademark Ajisper manufactured by Ajinomoto Co., Inc. PB821] and butyl carbitol acetate as a solvent were blended in the proportions shown in Table 1 and mixed using three rolls.

(顔料)
レッド:C.I.ピグメントレッド245(ジケトピロロピロール顔料)
グリーン:C.I.ピグメントグリーン36(ハロゲン化銅フタロシアニン顔料)
ブルー:C.I.ピグメントブルー15:6(銅フタロシアニン顔料)
(Pigment)
Red: C.I. I. Pigment Red 245 (diketopyrrolopyrrole pigment)
Green: C.I. I. Pigment Green 36 (copper halide phthalocyanine pigment)
Blue: C.I. I. Pigment Blue 15: 6 (copper phthalocyanine pigment)

Figure 0004909166
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次に、印刷機のローラからオフセットブランケットを取り外し、代わりに、実施例、比較例で製造した平坦化シートを巻き付けて固定した。そして、前記平坦化シートの表面であるローラの接触面を、前記透明樹脂層の表面に接触させた状態で、前記ローラを、前記表面上で転動させることによって、前記表面を平坦化した後、230℃×30分間の加熱をして、透明樹脂層を硬化させてカラーフィルタを製造した。   Next, the offset blanket was removed from the roller of the printing press, and instead, the flattened sheets produced in Examples and Comparative Examples were wound and fixed. After the surface of the flattening sheet is flattened by rolling the roller on the surface in a state where the contact surface of the roller is in contact with the surface of the transparent resin layer The color filter was manufactured by heating at 230 ° C. for 30 minutes to cure the transparent resin layer.

平坦化後の平坦化シートの表面を観察して、インキの逆転写が発生していないかを確認した。また、硬化後の透明樹脂層の表面を顕微鏡で観察して、平坦化前と表面の凹凸が変化していなかったものを平坦化不良として評価した。また、平坦化されたものについては、前記表面の、粗さ曲線の算術平均粗さRaを、段差・表面あらさ・微細形状測定装置〔ケーエルエー・テンコール(株)製のアルファステップ500〕を用いて測定して、前記算術平均粗さRaが20nmを超えるものを、透明樹脂層に厚みのムラあり、20nm以下のものをムラなし、平滑性良好として評価した。さらに、前記透明樹脂層の表面を顕微鏡で観察して、前記透明樹脂層に、凹部等の欠陥が発生していないかを確認した。結果を表2〜表7に示す。 The surface of the flattened sheet after flattening was observed to confirm whether reverse ink transfer occurred. Moreover, the surface of the transparent resin layer after hardening was observed with a microscope, and the surface unevenness before and after planarization was evaluated as poor planarization. As for those flattened, the surface arithmetic mean roughness R a of a roughness curve, stepped, surface roughness, fine shape measuring apparatus [KLA-Tencor Co. Alpha Step 500] using measured Te, those exceeding the arithmetic average roughness R a is 20 nm, there irregularity of thickness in the transparent resin layer, the following ones without unevenness 20 nm, was evaluated as smoothness good. Furthermore, the surface of the transparent resin layer was observed with a microscope, and it was confirmed whether or not defects such as recesses were generated in the transparent resin layer. The results are shown in Tables 2 to 7.

Figure 0004909166
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各表より、離型層の表面の表面張力(23℃)が30mN/mを超えた比較例1、2の平坦化シートを用いた場合には、インキの逆転写が発生していることが判った。また、基材層として、その表面の算術平均粗さRaが50nmを超えるものを用いたため、離型層の表面の算術平均粗さRaが20nmを超えた比較例3の平坦化シートを用いた場合には、透明樹脂層の表面の算術平均粗さRaが20nmを超えることから、前記透明樹脂層の厚みにムラを生じていることが判った。また、離型層の表面の算術平均粗さRaは20nm以下であったものの、基材層として、その表面の算術平均粗さRaが50nmを超えるものを用いた比較例4の平坦化シートを用いた場合には、やはり透明樹脂層の表面の算術平均粗さRaが20nmを超えることから、前記透明樹脂層の厚みにムラを生じていることが判った。 From each table, when using the flattened sheet of Comparative Examples 1 and 2 in which the surface tension (23 ° C.) of the surface of the release layer exceeded 30 mN / m, reverse transfer of ink occurred. understood. Further, as the substrate layer, since the arithmetic mean roughness R a of the surface was used in excess of 50 nm, Comparative Example 3 in which the arithmetic mean roughness R a of the surface of the release layer exceeds 20nm flattened sheet when used, since the arithmetic mean roughness R a of the surface of the transparent resin layer exceeds 20 nm, it was found that cause uneven thickness of the transparent resin layer. Although the arithmetical mean roughness R a of the surface of the release layer was 20nm or less, as a base layer, planarization of Comparative Example 4 an arithmetic mean roughness R a of the surface was used in excess of 50nm in the case of using the sheet, also since the arithmetic mean roughness R a of the surface of the transparent resin layer exceeds 20 nm, it was found that cause uneven thickness of the transparent resin layer.

また、弾性層の弾性率(23℃)が0.5MPa未満であった比較例5、6の平坦化シートや、弾性層の厚みが5mmを超えた比較例10、11の平坦化シートを用いた場合には、透明樹脂層を平坦化できないことが判った。さらに、弾性層の弾性率(23℃)が20MPaを超えた比較例7、8の平坦化シートや、弾性層を形成しなかった比較例12の平坦化シート、弾性層の厚みが0.1mm未満であった比較例9の平坦化シートを用いた場合には、透明樹脂層に、凹部等の欠陥が発生するのを防止できないことが判った。これに対し、実施例1〜8の平坦化シートを用いた場合には、いずれも、透明樹脂層の全体を均一に平坦化できると共に、前記透明樹脂層を形成する透明インキが逆転写するのを防止することができる上、透明樹脂層に、凹部等の欠陥が発生するのを防止できることが確認された。   Further, the flattened sheets of Comparative Examples 5 and 6 in which the elastic modulus (23 ° C.) of the elastic layer was less than 0.5 MPa, and the flattened sheets of Comparative Examples 10 and 11 in which the thickness of the elastic layer exceeded 5 mm were used. It was found that the transparent resin layer could not be flattened. Further, the flattened sheets of Comparative Examples 7 and 8 in which the elastic modulus (23 ° C.) of the elastic layer exceeded 20 MPa, the flattened sheet of Comparative Example 12 in which no elastic layer was formed, and the thickness of the elastic layer was 0.1 mm. It was found that when the flattened sheet of Comparative Example 9, which was less than the above, was used, it was not possible to prevent the occurrence of defects such as recesses in the transparent resin layer. On the other hand, when the flattened sheets of Examples 1 to 8 are used, the entire transparent resin layer can be uniformly flattened and the transparent ink forming the transparent resin layer is reversely transferred. It has been confirmed that defects such as recesses can be prevented from occurring in the transparent resin layer.

本発明の平坦化シートを用いた、本発明のカラーフィルタの製造方法の、工程の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the process of the manufacturing method of the color filter of this invention using the planarization sheet | seat of this invention. 図1の続きの工程の一例を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a continuation process of FIG. 1.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2、3、4 ストライプパターン
5 透明樹脂層
6 平坦化シート
7 ローラ
1 Substrate 2, 3, 4 Stripe pattern 5 Transparent resin layer 6 Flattening sheet 7 Roller

Claims (4)

基板上に形成された、少なくとも一部が着色された透明樹脂層の表面上で転動させることによって、前記表面を平坦化してカラーフィルタを製造するために用いられるローラの外周面に巻き付けられて、前記平坦化の工程において、透明樹脂層の表面に直接に接触するローラの接触面を構成する平坦化シートであって、前記接触面を構成する外側面から、ローラの外周面に接する内側面へ向けて、順に、離型層と基材層と弾性層とを一体に形成してなり、前記接触面となる離型層の表面の表面張力(23℃)が30mN/m以下で、かつ、粗さ曲線の算術平均粗さRaが20nm以下、基材層の、離型層側の面の、粗さ曲線の算術平均粗さRaが50nm以下であると共に、前記弾性層の弾性率(23℃)が0.5〜20MPa、厚みが0.1〜5mmの範囲内であることを特徴とする平坦化シート。 By rolling on the surface of the transparent resin layer formed on the substrate and colored at least partly, the surface is flattened and wound around the outer peripheral surface of a roller used for manufacturing a color filter. In the flattening step, a flattened sheet constituting the contact surface of the roller that directly contacts the surface of the transparent resin layer, the inner surface contacting the outer peripheral surface of the roller from the outer surface constituting the contact surface The release layer, the base material layer, and the elastic layer are integrally formed in order, and the surface tension (23 ° C.) of the surface of the release layer serving as the contact surface is 30 mN / m or less, and The arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve is 20 nm or less, the arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve of the surface of the base layer of the release layer is 50 nm or less, and the elastic modulus of the elastic layer ( 23 ° C.) is 0.5-20 MPa and the thickness is 0.1 Flattening sheet being in the range of 5 mm. 離型層の厚みが30μm以下である請求項1に記載の平坦化シート。   The planarization sheet according to claim 1, wherein the release layer has a thickness of 30 μm or less. 基材層の引張弾性率(23℃)が100MPa以上、厚みが50〜500μmである請求項1または2に記載の平坦化シート。 The planarized sheet according to claim 1 or 2 , wherein the base material layer has a tensile elastic modulus (23 ° C) of 100 MPa or more and a thickness of 50 to 500 µm. 基板上に、少なくとも一部が着色された透明樹脂層を形成する工程と、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の平坦化シートを巻き付けたローラの、平坦化シートの表面によって構成される接触面を、前記透明樹脂層の表面に接触させた状態で、前記ローラを、前記表面上で転動させることによって、前記表面を平坦化する工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 On a substrate, constituted by at least partially forming a transparent resin layer which is colored, of claims 1 to roller wrapped with flattened sheet according to any one of 3, the surface of the flattening sheets And a step of flattening the surface by rolling the roller on the surface in a state where the contact surface is in contact with the surface of the transparent resin layer. Production method.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5549495B2 (en) * 2010-09-13 2014-07-16 大日本印刷株式会社 Optical element, method for producing the same, and method for using the same
CN115057711B (en) * 2017-10-27 2023-07-14 日本碍子株式会社 Flat sheet
CN113467143B (en) * 2021-06-25 2022-05-06 惠科股份有限公司 Array substrate manufacturing method, array substrate and display panel
CN114030172B (en) * 2021-10-29 2024-08-27 珠海万通特种工程塑料有限公司 LCP film wrinkle-removing flattening device and technology

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0496003A (en) * 1990-08-14 1992-03-27 Toshiba Corp Color filter manufacturing method
JPH0686957A (en) * 1992-09-09 1994-03-29 Toshiba Corp Smoothing method for resin coating
JPH08152509A (en) * 1994-11-29 1996-06-11 Dainippon Printing Co Ltd Color filter manufacturing method
JPH08234013A (en) * 1995-02-27 1996-09-13 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Production of color filter
US5800953A (en) * 1995-11-22 1998-09-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for producing color filter using a silver halide color photosensitive material
JP3068005B2 (en) * 1996-06-03 2000-07-24 キヤノン株式会社 Interlayer bonding method and method of manufacturing elastic roller using the bonding method
JP4019627B2 (en) * 2000-11-14 2007-12-12 セイコーエプソン株式会社 COLOR FILTER SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURING METHOD, COLOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD
JP3668439B2 (en) * 2001-06-14 2005-07-06 ソニーケミカル株式会社 Adhesive film
JP2003015536A (en) * 2001-07-04 2003-01-17 Mitsui Chemicals Inc Filter for display and display element using the same
TWI233499B (en) * 2003-06-16 2005-06-01 Polyoptocom Corp An innovative fabrication method for color filter
JP4337761B2 (en) * 2005-03-29 2009-09-30 セイコーエプソン株式会社 Droplet ejection device, pattern forming method, identification code manufacturing method, electro-optical device manufacturing method

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