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JP5566861B2 - Portable radiography system - Google Patents

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JP5566861B2
JP5566861B2 JP2010258016A JP2010258016A JP5566861B2 JP 5566861 B2 JP5566861 B2 JP 5566861B2 JP 2010258016 A JP2010258016 A JP 2010258016A JP 2010258016 A JP2010258016 A JP 2010258016A JP 5566861 B2 JP5566861 B2 JP 5566861B2
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light
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irradiated
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晴康 中津川
直行 西納
直人 岩切
恭義 大田
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Fujifilm Corp
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Description

本発明は、照射された放射線により示される放射線画像を撮影する可搬型放射線撮影装置に関する。   The present invention relates to a portable radiographic apparatus that captures a radiographic image indicated by irradiated radiation.

近年、TFT(Thin Film Transistor)アクティブマトリクス基板上に放射線感応層を配置し、照射されたX線等の放射線を検出し、検出された放射線により表わされる放射線画像を示す電気信号を出力するFPD(Flat Panel Detector)等の放射線検出器が実用化されている。この放射線検出器は、従来のイメージングプレートに比べて、即時に画像を確認でき、動画も確認できるといったメリットがある。なお、放射線検出器には、放射線を変換する方式として、放射線をシンチレータで光に変換した後にフォトダイオード等の半導体層で電荷に変換する間接変換方式や、放射線をアモルファスセレン等の半導体層で電荷に変換する直接変換方式等があり、各方式でも半導体層に使用可能な材料が種々存在する。   In recent years, a radiation sensitive layer is disposed on a TFT (Thin Film Transistor) active matrix substrate, radiation such as irradiated X-rays is detected, and an electric signal indicating a radiation image represented by the detected radiation is output (FPD). Radiation detectors such as Flat Panel Detector have been put into practical use. This radiation detector has an advantage that an image can be confirmed immediately and a moving image can be confirmed as compared with a conventional imaging plate. Radiation detectors convert radiation into indirect conversion methods in which radiation is converted into light by a scintillator and then converted into charges in a semiconductor layer such as a photodiode, or radiation is charged in a semiconductor layer such as amorphous selenium. There are various types of materials that can be used for the semiconductor layer in each method.

この放射線検出器を内蔵し、放射線検出器から出力される放射線画像データを記憶する可搬型放射線撮影装置(以下、電子カセッテともいう)も実用化されている。手術では、患者に対して迅速かつ的確な処置を施すため、撮影後直ちに放射線画像を表示できることが重要である。電子カセッテは、速やかに画像の確認を行うことができ、この要望を満たすことができる。   A portable radiation imaging apparatus (hereinafter also referred to as an electronic cassette) that incorporates this radiation detector and stores radiation image data output from the radiation detector has been put into practical use. In surgery, it is important to be able to display a radiation image immediately after imaging in order to perform a quick and accurate treatment on a patient. The electronic cassette can quickly confirm the image and satisfy this demand.

この放射線検出器に関する技術として、特許文献1には、表裏両面から受光可能な光電変換部と、放射線を光電変換部により検出可能な蛍光に変換する第1及び第2のシンチレータとを備えた放射線検出器において、光電変換部を前記第1のシンチレータ上に一体的に形成し、第1のシンチレータ、光電変換部、第2のシンチレータを順次に積層した放射線検出器が記載されている。この特許文献1の技術によれば、撮影の際にシンチレータ側からX線が入射してシンチレータが発光すると共にシンチレータを透過したX線で蛍光体ガラスが発光し、光電変換部で蛍光体ガラス及びシンチレータで生じた光の両方を受光することにより高感度化できる。   As a technique related to this radiation detector, Patent Document 1 discloses radiation including a photoelectric conversion unit that can receive light from both front and back surfaces, and first and second scintillators that convert radiation into fluorescence that can be detected by the photoelectric conversion unit. In the detector, a radiation detector is described in which a photoelectric conversion unit is integrally formed on the first scintillator, and a first scintillator, a photoelectric conversion unit, and a second scintillator are sequentially stacked. According to the technique of this Patent Document 1, X-rays are incident from the scintillator side when the photographing is performed, the scintillator emits light, and the phosphor glass emits light by the X-rays transmitted through the scintillator. Sensitivity can be increased by receiving both light generated by the scintillator.

また、特許文献2には、照射された放射線を可視光に変換する2枚のシンチレータと、該2枚のシンチレータ間に配された、該シンチレータにより変換された可視光を電気信号に変換して出力する多数の固体光検出素子を基板上に形成してなる固体光検出器が開示されている。この特許文献2の技術によれば、固体光検出器を2枚のシンチレータの間に配する構成としたため、放射線検出器に照射された放射線により、放射線が照射される側に配された最初のシンチレータが発光すると共に反対側に配された後の他のシンチレータが発光するため固体光検出器における可視光の検出効率が向上する。   Patent Document 2 discloses that two scintillators that convert irradiated radiation into visible light, and visible light that is arranged between the two scintillators and converted by the scintillator are converted into electrical signals. There is disclosed a solid-state photodetector in which a large number of output solid-state photodetector elements are formed on a substrate. According to the technique of this Patent Document 2, since the solid-state photodetector is arranged between the two scintillators, the first radiation arranged on the radiation irradiation side by the radiation irradiated to the radiation detector. Since the scintillator emits light and other scintillators after being arranged on the opposite side emit light, the detection efficiency of visible light in the solid-state photodetector is improved.

特開平9−145845号公報JP-A-9-145845 特開平7−27865号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-27865

ところで、手術では、動画と静止画の切換が重要であったり、静止画の撮影を行ったところ、更なる高画質な画像が必要となる場合がある。   By the way, in surgery, switching between a moving image and a still image is important, or when a still image is taken, a higher quality image may be required.

電子カセッテは、動画と静止画を撮影が可能であるものの、内蔵した放射線検出器の構成によって感度や画質が異なり、また、動画と静止画でも撮影に好適な構成が異なり、例えば、照射する放射線量を増加させて、画質向上させることも可能ではあるものの、画質向上に限界があり、患者の被曝量が増加する。   Although electronic cassettes can shoot moving images and still images, the sensitivity and image quality differ depending on the configuration of the built-in radiation detector, and the configuration suitable for shooting also differs between moving images and still images. Although it is possible to improve the image quality by increasing the amount, there is a limit to the improvement of the image quality and the exposure dose of the patient increases.

このため、異なる特性の放射線画像の撮影を行うには、特性の異なる放射線検出器を内蔵した電子カセッテを複数用意する必要がある。   For this reason, in order to capture radiographic images having different characteristics, it is necessary to prepare a plurality of electronic cassettes incorporating radiation detectors having different characteristics.

なお、特許文献1及び特許文献2の技術は、特性の異なる放射線画像の撮影に関するものではない。   Note that the techniques of Patent Document 1 and Patent Document 2 are not related to radiographic imaging with different characteristics.

本発明は、上記の事情に鑑み、特性の異なる放射線画像の撮影を簡易に行える可搬型放射線撮影装置を提供することを目的とする。   In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a portable radiation imaging apparatus that can easily capture radiation images having different characteristics.

上記目的を達成するために、請求項1記載の発明の可搬型放射線撮影装置は、平板状に形成されると共に、当該平板状の一方の面側に放射線が照射された場合と当該平板状の他方の面側に放射線が照射された場合とで撮影される放射線画像の特性が異なり、放射線が照射されることにより光が発生する発光層、及び当該発光層に発生した光を受光することにより電荷が蓄積されると共に当該電荷を読み出すためのスイッチ素子が形成された基板が積層されて構成された放射線検出器が内蔵され、前記一方の面側及び前記他方の面側の何れにおいても照射された放射線による放射線画像を撮影可能とされている。 In order to achieve the above object, the portable radiographic imaging device according to claim 1 is formed in a flat plate shape, and when the radiation is irradiated to one surface side of the flat plate shape and Ri Do the different characteristics of the radiation image to be photographed in the case that radiation on the other surface is irradiated, the light emitting layer where light is generated by radiation is irradiated, and to receive the light generated in the light-emitting layer A radiation detector constructed by laminating a substrate on which a charge element is accumulated and a switch element for reading out the charge is stacked is built-in, and irradiation is performed on both the one surface side and the other surface side. It is possible to take a radiographic image of the emitted radiation.

本発明の可搬型放射線撮影装置は、平板状に形成されると共に、当該平板状の一方の面側に放射線が照射された場合と当該平板状の他方の面側に放射線が照射された場合とで撮影される放射線画像の特性が異なり、放射線が照射されることにより光が発生する発光層、及び当該発光層に発生した光を受光することにより電荷が蓄積されると共に当該電荷を読み出すためのスイッチ素子が形成された基板が積層されて構成された放射線検出器が内蔵されている。 The portable radiographic imaging device of the present invention is formed in a flat plate shape, and when radiation is applied to one side of the flat plate and when the other surface side of the flat plate is irradiated with radiation. in characteristics of captured the radiation image Ri is Do different, the light emitting layer where light is generated by radiation is irradiated, and for reading the charge together with the charges are accumulated by receiving light generated in the light-emitting layer A radiation detector constructed by laminating a substrate on which the switch element is formed is incorporated.

そして、本発明の可搬型放射線撮影装置は、一方の面側及び他方の面側の何れにおいても照射された放射線による放射線画像を撮影可能とされている。   The portable radiographic apparatus of the present invention can capture a radiographic image of the irradiated radiation on either one side or the other side.

このように、本発明の可搬型放射線撮影装置は、一方の面側に放射線が照射された場合と当該平板状の他方の面側に放射線が照射された場合とで撮影される放射線画像の特性が異なり、放射線が照射されることにより光が発生する発光層、及び当該発光層に発生した光を受光することにより電荷が蓄積されると共に当該電荷を読み出すためのスイッチ素子が形成された基板が積層されて構成された放射線検出器の一方の面側及び他方の面側の何れにおいても照射された放射線による放射線画像を撮影可能であるため、特性の異なる放射線画像の撮影を簡易に行える。 As described above, the portable radiographic imaging device of the present invention has characteristics of radiographic images captured when radiation is applied to one side and when the other side of the flat plate is irradiated. substrate but depends, emitting layer where light is generated by radiation is irradiated, and switching elements for reading the charges are formed along with the charge is accumulated by receiving light generated in the light-emitting layer Since the radiation image by the irradiated radiation can be taken on either the one surface side or the other surface side of the radiation detector constructed by stacking the radiation detectors, radiation images having different characteristics can be easily taken.

なお、本発明は、請求項に記載の発明のように、前記放射線検出器は、前記発光層と前記基板のいずれか一方が2つ設けられ、前記発光層と前記基板とを交互に積層させた構成としてもよい。 According to the present invention, as in the invention described in claim 2 , the radiation detector is provided with either one of the light emitting layer and the substrate, and the light emitting layer and the substrate are alternately stacked. It is good also as the structure made to do.

また、発明は、請求項に記載の発明のように、前記放射線検出器は、前記発光層と前記基板それぞれ2つ設けられると共に、放射線を遮蔽する遮蔽板が設けられ、当該遮蔽板の前記一方の面側及び前記他方の面側に前記発光層と前記基板が積層されて構成されてもよい。 The present invention, as in the invention according to claim 3, wherein the radiation detector, together with the substrate and the light emitting layer is provided two each, shielding plates are provided for shielding the radiation, the shield plate The light emitting layer and the substrate may be laminated on the one surface side and the other surface side.

また、請求項又は請求項に記載の発明は、請求項に記載の発明のように、前記放射線検出器は、前記発光層が2つ設けられると共に、当該2つの発光層の厚み、当該発光層に充填され、放射線が照射されることにより発光する粒子の粒径、当該粒子の重層構造、当該粒子の充填率、付活剤のドープ量、前記発光層の材料、及び前記発光層の層構造の少なくとも1つの変更、並びに前記発光層の前記基板と非対向の面への前記光反射する反射層の形成の何れかが行われてもよい。 The invention according to claim 2 or claim 3, as in the invention according to claim 4, wherein the radiation detector, the light-emitting layer has two provided Rutotomoni, the two thicknesses of the light-emitting layer The particle size of the particles that are filled in the light emitting layer and emit light when irradiated with radiation, the multilayer structure of the particles, the filling rate of the particles, the doping amount of the activator, the material of the light emitting layer, and the light emission At least one of the layer structures of the layers may be changed, and a reflective layer that reflects the light may be formed on a surface of the light emitting layer that is not opposed to the substrate.

また、請求項2又は請求項3に記載の発明は、請求項に記載の発明のように、前記放射線検出器は、前記基板が2つ設けられると共に、当該2つの基板の信号の読み出し特性の変更が行われてもよい。 Further, the invention according to claim 2 or claim 3, as in the invention of claim 5, wherein the radiation detector, wherein the substrate is two provided Rutotomoni, reading of the two substrates of the signal Changes in characteristics may be made.

また、発明は、請求項に記載の発明のように、前記放射線検出器は、前記一方の面側及び前記他方の面側の何れ一方が放射線を半導体層で電荷に変換する直接変換方式とされ、他方が放射線を光に変換した後に電荷に変換する間接変換方式とされてもよい。 Further, according to the present invention, as in the invention described in claim 6 , the radiation detector has a direct conversion in which either one of the one surface side and the other surface side converts radiation into electric charge in a semiconductor layer. The system may be a system, and the other may be an indirect conversion system in which radiation is converted into light and then converted into electric charge.

また、発明は、請求項に記載の発明のように、前記発光層が、放射線が照射されることにより発光する蛍光体材料の柱状結晶を含んで構成されてもよい。 Further, in the present invention, as in the invention described in claim 7 , the light emitting layer may include a columnar crystal of a phosphor material that emits light when irradiated with radiation.

また、請求項に記載の発明は、請求項に記載の発明のように、前記蛍光体材料を、CsIとしてもよい。 In the invention described in claim 7 , as in the invention described in claim 8 , the phosphor material may be CsI.

また、本発明は、請求項に記載の発明のように、前記放射線検出器は、前記一方の面側及び前記他方の面側の何れ一方が画質重視の特性とされ、他方が感度重視の特性とされてもよい。 The present invention, as in the invention according to claim 9, wherein the radiation detector is one of the one surface side and the other surface side is a characteristic of the image-quality priority, the other is the sensitivity emphasis May be the characteristic.

また、請求項1〜請求項9の何れか1項に記載の発明は、請求項10に記載の発明のように、平板状に形成されると共に、前記放射線検出器が内蔵され、当該平板の一方の面側、他方の面側の何れにおいても照射された放射線による放射線画像を撮影可能な撮影ユニットと、前記放射線検出器の撮影動作を制御する制御部が内蔵された制御ユニットと、前記撮影ユニットと前記制御ユニットとが並んだ展開状態、及び前記撮影ユニットと前記制御ユニットとが重なり合って折り畳まれた収納状態に開閉可能に連結する連結部材と、を備えてもよい。 In addition, the invention according to any one of claims 1 to 9 is formed in a flat plate shape as in the invention according to claim 10, and the radiation detector is built in, and the flat plate shape. An imaging unit capable of capturing a radiographic image of the irradiated radiation on either the one surface side or the other surface side, a control unit incorporating a control unit for controlling the imaging operation of the radiation detector, There may be provided a connecting member that can be opened and closed in an unfolded state in which the photographing unit and the control unit are arranged, and a storage state in which the photographing unit and the control unit are overlapped and folded.

また、請求項1〜請求項9の何れか1項に記載の発明は、請求項11に記載の発明のように、平板状に形成されると共に、前記放射線検出器が内蔵され、当該平板の一方の面側、他方の面側の何れにおいても照射された放射線による放射線画像を撮影可能な撮影ユニットと、前記放射線検出器の撮影動作を制御する制御部が内蔵された制御ユニットと、前記制御ユニットに対して前記撮影ユニットの一方の面、他方の面を反転可能に連結する連結部材と、を備えてもよい。 In addition, the invention according to any one of claims 1 to 9 is formed in a flat plate shape as in the invention according to claim 11, and the radiation detector is built in the flat plate shape. An imaging unit capable of capturing a radiographic image of the irradiated radiation on either the one surface side or the other surface side, a control unit incorporating a control unit for controlling the imaging operation of the radiation detector, And a connecting member that reversibly connects one surface of the photographing unit and the other surface to the control unit.

本発明の放射線撮影装置は、特性の異なる放射線画像の撮影を簡易に行うことができる、という優れた効果を有する。   The radiographic apparatus of the present invention has an excellent effect that radiographic images having different characteristics can be easily captured.

第1の実施の形態に係る放射線検出器の構成を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically the structure of the radiation detector which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る放射線検出器の構成を示した平面図である。It is the top view which showed the structure of the radiation detector which concerns on 1st Embodiment. 実施の形態に係るTFT基板の構成を概略的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed roughly the structure of the TFT substrate which concerns on embodiment. 第1の実施の形態に係る放射線検出器の構成を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the structure of the radiation detector which concerns on 1st Embodiment. 実施の形態に係るシンチレータ層の厚みと感度の変化を示すグラフである。It is a graph which shows the change of the thickness and sensitivity of a scintillator layer concerning an embodiment. 実施の形態に係るシンチレータ層の厚みと画質の変化を示すグラフである。It is a graph which shows the change of the thickness of a scintillator layer and image quality concerning an embodiment. 実施の形態に係る平板状の電子カセッテの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the flat electronic cassette which concerns on embodiment. 実施の形態に係る平板状の電子カセッテの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the flat electronic cassette which concerns on embodiment. 第1及び第2の実施の形態に係る電子カセッテの電気系の要部構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the principal part structure of the electric system of the electronic cassette concerning 1st and 2nd embodiment. 実施の形態に係る開閉可能な電子カセッテの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the electronic cassette which can be opened and closed which concerns on embodiment. 実施の形態に係る開閉可能な電子カセッテの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the electronic cassette which can be opened and closed which concerns on embodiment. 実施の形態に係る開閉可能な電子カセッテの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the electronic cassette which can be opened and closed which concerns on embodiment. 実施の形態に係る反転可能な電子カセッテの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the electronic cassette which can be reversed which concerns on embodiment. 実施の形態に係る反転可能な電子カセッテの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the electronic cassette which can be reversed which concerns on embodiment. 実施の形態に係る反転可能な電子カセッテの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the electronic cassette which can be reversed which concerns on embodiment. 第2の実施の形態に係る放射線検出器の構成を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the structure of the radiation detector which concerns on 2nd Embodiment. シンチレータ層の小粒子と大粒子の重層構造を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the multilayer structure of the small particle and large particle of a scintillator layer. シンチレータ層のTFT基板と反対側の面に反射層を形成した場合の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a structure at the time of forming a reflection layer in the surface on the opposite side to the TFT substrate of a scintillator layer. 第3の実施の形態に係る放射線検出器の構成を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the structure of the radiation detector which concerns on 3rd Embodiment. 第3及び第4の実施の形態に係る電子カセッテの電気系の要部構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the principal part structure of the electric system of the electronic cassette concerning 3rd and 4th embodiment. 第4の実施の形態に係る放射線検出器の構成を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the structure of the radiation detector which concerns on 4th Embodiment. 他の形態に係る直接変換方式の放射線検出器の構成を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically the structure of the radiation detector of the direct conversion system which concerns on another form. CsIの累積被曝量と感度の関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the cumulative exposure amount of CsI, and a sensitivity. (A)は他の形態に係る開閉可能な電子カセッテの収納状態での断面構成を示す断面図であり、(B)は他の形態に係る開閉可能な電子カセッテの展開状態での断面構成を示す断面図である。(A) is sectional drawing which shows the cross-sectional structure in the accommodation state of the electronic cassette which can be opened and closed which concerns on another form, (B) is the cross-sectional structure in the expansion | deployment state of the electronic cassette which can be opened and closed which concerns on another form It is sectional drawing shown. CsIで形成されたシンチレータ層の感度変化の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the sensitivity change of the scintillator layer formed with CsI.

以下、図面を参照して本発明を実施するための形態について説明する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.

[第1の実施の形態]
まず、本実施の形態に係る放射線検出器20の構成について説明する。
[First Embodiment]
First, the configuration of the radiation detector 20 according to the present embodiment will be described.

図1には、本実施形態に係る放射線検出器20の構成を模式的に示した断面図が示されており、図2には、放射線検出器20の構成を示す平面図が示されている。   FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of the radiation detector 20 according to the present embodiment, and FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the radiation detector 20. .

図1に示すように、放射線検出器20は、絶縁性基板22に薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)などのスイッチ素子24が形成されたTFT基板26を備えている。   As shown in FIG. 1, the radiation detector 20 includes a TFT substrate 26 in which a switch element 24 such as a thin film transistor (TFT) is formed on an insulating substrate 22.

このTFT基板26上には、入射される放射線を変換する放射線変換層の一例として、入射される放射線を光に変換するシンチレータ層28が形成されている。   On the TFT substrate 26, a scintillator layer 28 that converts incident radiation into light is formed as an example of a radiation conversion layer that converts incident radiation.

シンチレータ層28としては、例えば、CsI:Tl、GOS(GdS:Tb)を用いることができる。なお、シンチレータ層28は、これらの材料に限られるものではない。 As the scintillator layer 28, for example, CsI: Tl, GOS (Gd 2 O 2 S: Tb) can be used. The scintillator layer 28 is not limited to these materials.

シンチレータ層28が発する光の波長域は、可視光域(波長360nm〜830nm)であることが好ましく、この放射線検出器20によってモノクロ撮像を可能とするためには、緑色の波長域を含んでいることがより好ましい。   The wavelength range of light emitted by the scintillator layer 28 is preferably a visible light range (wavelength 360 nm to 830 nm), and in order to enable monochrome imaging by the radiation detector 20, a green wavelength range is included. It is more preferable.

シンチレータ層28に用いる蛍光体としては、具体的には、放射線としてX線を用いて撮像する場合、ヨウ化セシウム(CsI)を含むものが好ましく、X線照射時の発光スペクトルが420nm〜600nmにあるCsI(Tl)を用いることが特に好ましい。なお、CsI(Tl)の可視光域における発光ピーク波長は565nmである。   Specifically, the phosphor used in the scintillator layer 28 preferably contains cesium iodide (CsI) when imaging using X-rays as radiation, and the emission spectrum upon irradiation with X-rays is 420 nm to 600 nm. It is particularly preferred to use some CsI (Tl). Note that the emission peak wavelength of CsI (Tl) in the visible light region is 565 nm.

シンチレータ層28は、例えば、CsI(Tl)等の柱状結晶で形成しようとする場合、蒸着基板への蒸着によって形成されてもよい。このように蒸着によってシンチレータ層28を形成する場合、蒸着基板は、X線の透過率、コストの面からAlの板がよく使用されるがこれに限定されるものではない。なお、シンチレータ層28としてGOSを用いる場合、蒸着基板を用いずにTFT基板26の表面にGOSを塗布することにより、シンチレータ層28を形成してもよい。   The scintillator layer 28 may be formed by vapor deposition on a vapor deposition substrate, for example, when it is intended to be formed of columnar crystals such as CsI (Tl). Thus, when the scintillator layer 28 is formed by vapor deposition, an Al plate is often used as the vapor deposition substrate from the viewpoint of X-ray transmittance and cost, but is not limited thereto. When GOS is used as the scintillator layer 28, the scintillator layer 28 may be formed by applying GOS to the surface of the TFT substrate 26 without using a vapor deposition substrate.

絶縁性基板22としては、光透過性を有し且つ放射線の吸収が少ないものあれ何れでもよく、例えば、ガラス基板、透明セラミック基板、光透過性の樹脂基板を用いることができる。なお、絶縁性基板22は、これらの材料に限られるものではない。 As the insulating substrate 22, as long as and absorption of radiation having a light transmitting property is small either well, for example, may be a glass substrate, a transparent ceramic substrate, a light transmissive resin substrate. The insulating substrate 22 is not limited to these materials.

シンチレータ層28とTFT基板26との間には、シンチレータ層28によって変換された光が入射されることにより電荷を発生する光導電層30が配置されている。この光導電層30のシンチレータ層28側の表面には、光導電層30にバイアス電圧を印加するためのバイアス電極32が形成されている。   Between the scintillator layer 28 and the TFT substrate 26, a photoconductive layer 30 that generates charges when light converted by the scintillator layer 28 is incident is disposed. A bias electrode 32 for applying a bias voltage to the photoconductive layer 30 is formed on the surface of the photoconductive layer 30 on the scintillator layer 28 side.

光導電層30は、シンチレータ層28から発せられた光を吸収し、吸収した光に応じた電荷を発生する。光導電層30は、光が照射されることにより電荷を発生する材料により形成すればよく、例えば、アモルファスシリコンや有機光電変換材料などにより形成することができる。アモルファスシリコンを含む光導電層30であれば、幅広い吸収スペクトルを持ち、シンチレータ層28による発光を吸収することができる。有機光電変換材料を含む光導電層30であれば、可視域にシャープな吸収スペクトルを持ち、シンチレータ層28による発光以外の電磁波が光導電層30に吸収されることがほとんどなく、X線等の放射線が光導電層30で吸収されることによって発生するノイズを効果的に抑制することができる。   The photoconductive layer 30 absorbs light emitted from the scintillator layer 28 and generates a charge corresponding to the absorbed light. The photoconductive layer 30 may be formed of a material that generates charges when irradiated with light. For example, the photoconductive layer 30 may be formed of amorphous silicon, an organic photoelectric conversion material, or the like. The photoconductive layer 30 containing amorphous silicon has a wide absorption spectrum and can absorb light emitted by the scintillator layer 28. If the photoconductive layer 30 includes an organic photoelectric conversion material, it has a sharp absorption spectrum in the visible region, and electromagnetic waves other than light emitted by the scintillator layer 28 are hardly absorbed by the photoconductive layer 30, such as X-rays. Noise generated when radiation is absorbed by the photoconductive layer 30 can be effectively suppressed.

光導電層30を構成する有機光電変換材料は、シンチレータ層28で発光した光を最も効率良く吸収するために、その吸収ピーク波長が、シンチレータ層28の発光ピーク波長と近いほど好ましい。有機光電変換材料の吸収ピーク波長とシンチレータ層28の発光ピーク波長とが一致することが理想的であるが、双方の差が小さければシンチレータ層28から発された光を十分に吸収することが可能である。具体的には、有機光電変換材料の吸収ピーク波長と、シンチレータ層28の放射線に対する発光ピーク波長との差が、10nm以内であることが好ましく、5nm以内であることがより好ましい。   The organic photoelectric conversion material constituting the photoconductive layer 30 is preferably such that its absorption peak wavelength is closer to the emission peak wavelength of the scintillator layer 28 in order to absorb light emitted by the scintillator layer 28 most efficiently. Ideally, the absorption peak wavelength of the organic photoelectric conversion material matches the emission peak wavelength of the scintillator layer 28, but if the difference between the two is small, the light emitted from the scintillator layer 28 can be sufficiently absorbed. It is. Specifically, the difference between the absorption peak wavelength of the organic photoelectric conversion material and the emission peak wavelength with respect to the radiation of the scintillator layer 28 is preferably within 10 nm, and more preferably within 5 nm.

このような条件を満たすことが可能な有機光電変換材料としては、例えばキナクリドン系有機化合物及びフタロシアニン系有機化合物が挙げられる。例えばキナクリドンの可視域における吸収ピーク波長は560nmであるため、有機光電変換材料としてキナクリドンを用い、シンチレータ層28の材料としてCsI(Tl)を用いれば、上記ピーク波長の差を5nm以内にすることが可能となり、光導電層30で発生する電荷量をほぼ最大にすることができる。   Examples of organic photoelectric conversion materials that can satisfy such conditions include quinacridone-based organic compounds and phthalocyanine-based organic compounds. For example, since the absorption peak wavelength of quinacridone in the visible region is 560 nm, if quinacridone is used as the organic photoelectric conversion material and CsI (Tl) is used as the material of the scintillator layer 28, the difference in the peak wavelength may be within 5 nm. The amount of charge generated in the photoconductive layer 30 can be substantially maximized.

TFT基板26には、光導電層30で発生した電荷を収集する電荷収集電極34が形成されている。TFT基板26では、各電荷収集電極34で収集された電荷が、スイッチ素子24によって読み出される。   On the TFT substrate 26, a charge collecting electrode 34 for collecting charges generated in the photoconductive layer 30 is formed. In the TFT substrate 26, the charges collected by the charge collection electrodes 34 are read out by the switch element 24.

次に、本実施の形態に係る放射線検出器20に適用可能な光導電層30について具体的に説明する。   Next, the photoconductive layer 30 applicable to the radiation detector 20 according to the present embodiment will be specifically described.

本発明に係る放射線検出器20における電磁波吸収/光電変換部位は、1対の電荷収集電極34,バイアス電極32と、該電荷収集電極34,バイアス電極32間に挟まれた光導電層30とを含む有機層により構成することができる。この有機層は、より具体的には、電磁波を吸収する部位、光電変換部位、電子輸送部位、正孔輸送部位、電子ブロッキング部位、正孔ブロッキング部位、結晶化防止部位、電極、及び層間接触改良部位等の積み重ねもしくは混合により形成することができる。   The electromagnetic wave absorption / photoelectric conversion site in the radiation detector 20 according to the present invention includes a pair of charge collection electrode 34 and bias electrode 32, and a photoconductive layer 30 sandwiched between the charge collection electrode 34 and bias electrode 32. It can be comprised by the organic layer to contain. More specifically, this organic layer is a part that absorbs electromagnetic waves, a photoelectric conversion part, an electron transport part, a hole transport part, an electron blocking part, a hole blocking part, a crystallization preventing part, an electrode, and an interlayer contact improvement. It can be formed by stacking or mixing parts.

上記有機層は、有機p型化合物または有機n型化合物を含有することが好ましい。   The organic layer preferably contains an organic p-type compound or an organic n-type compound.

有機p型半導体(化合物)は、主に正孔輸送性有機化合物に代表されるドナー性有機半導体(化合物)であり、電子を供与しやすい性質がある有機化合物をいう。さらに詳しくは2つの有機材料を接触させて用いたときにイオン化ポテンシャルの小さい方の有機化合物をいう。したがって、ドナー性有機化合物としては、電子供与性のある有機化合物であればいずれの有機化合物も使用可能である。   The organic p-type semiconductor (compound) is a donor organic semiconductor (compound) mainly represented by a hole-transporting organic compound and refers to an organic compound having a property of easily donating electrons. More specifically, an organic compound having a smaller ionization potential when two organic materials are used in contact with each other. Therefore, any organic compound can be used as the donor organic compound as long as it is an electron-donating organic compound.

有機n型半導体(化合物)は、主に電子輸送性有機化合物に代表されるアクセプター性有機半導体(化合物)であり、電子を受容しやすい性質がある有機化合物をいう。さらに詳しくは2つの有機化合物を接触させて用いたときに電子親和力の大きい方の有機化合物をいう。したがって、アクセプター性有機化合物は、電子受容性のある有機化合物であればいずれの有機化合物も使用可能である。   An organic n-type semiconductor (compound) is an acceptor organic semiconductor (compound) mainly represented by an electron-transporting organic compound and refers to an organic compound having a property of easily accepting electrons. More specifically, the organic compound having the higher electron affinity when two organic compounds are used in contact with each other. Therefore, as the acceptor organic compound, any organic compound can be used as long as it is an electron-accepting organic compound.

この有機p型半導体及び有機n型半導体として適用可能な材料、及び光導電層30の構成については、特開2009−32854号公報において詳細に説明されているため説明を省略する。なお、光導電層30は、さらにフラーレン若しくはカーボンナノチューブを含有させて形成してもよい。   Since the materials applicable as the organic p-type semiconductor and organic n-type semiconductor and the configuration of the photoconductive layer 30 are described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-32854, description thereof is omitted. The photoconductive layer 30 may be formed by further containing fullerenes or carbon nanotubes.

各画素部を構成するセンサ部36は、少なくとも電荷収集電極34、光導電層30、及びバイアス電極32を含んでいればよいが、暗電流の増加を抑制するため、電子ブロッキング膜及び正孔ブロッキング膜の少なくともいずれかを設けることが好ましく、両方を設けることがより好ましい。   The sensor unit 36 constituting each pixel unit only needs to include at least the charge collection electrode 34, the photoconductive layer 30, and the bias electrode 32. In order to suppress an increase in dark current, an electron blocking film and a hole blocking unit are included. It is preferable to provide at least one of the films, and it is more preferable to provide both.

電子ブロッキング膜は、電荷収集電極34と光導電層30との間に設けることができ、電荷収集電極34とバイアス電極32間にバイアス電圧を印加したときに、電荷収集電極34から光導電層30に電子が注入されて暗電流が増加してしまうのを抑制することができる。   The electron blocking film can be provided between the charge collection electrode 34 and the photoconductive layer 30, and when a bias voltage is applied between the charge collection electrode 34 and the bias electrode 32, the charge collection electrode 34 to the photoconductive layer 30. It is possible to prevent the dark current from being increased due to the injection of electrons.

電子ブロッキング膜には、電子供与性有機材料を用いることができる。   An electron donating organic material can be used for the electron blocking film.

実際に電子ブロッキング膜に用いる材料は、隣接する電極の材料および隣接する光導電層30の材料等に応じて選択すればよく、隣接する電極の材料の仕事関数(Wf)より1.3eV以上電子親和力(Ea)が大きく、かつ、隣接する光導電層30の材料のイオン化ポテンシャル(Ip)と同等のIpもしくはそれより小さいIpを持つものが好ましい。この電子供与性有機材料として適用可能な材料については、特開2009−32854号公報において詳細に説明されているため説明を省略する。   The material actually used for the electron blocking film may be selected according to the material of the adjacent electrode, the material of the adjacent photoconductive layer 30 and the like, and the electron function is 1.3 eV or more from the work function (Wf) of the adjacent electrode material. Those having a large affinity (Ea) and an Ip equivalent to or smaller than the ionization potential (Ip) of the material of the adjacent photoconductive layer 30 are preferable. Since the material applicable as the electron donating organic material is described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-32854, description thereof is omitted.

電子ブロッキング膜の厚みは、暗電流抑制効果を確実に発揮させるとともに、センサ部36の光電変換効率の低下を防ぐため、10nm以上200nm以下が好ましく、さらに好ましくは30nm以上150nm以下、特に好ましくは50nm以上100nm以下である。   The thickness of the electron blocking film is preferably 10 nm or more and 200 nm or less, more preferably 30 nm or more and 150 nm or less, and particularly preferably 50 nm, in order to surely exhibit the dark current suppressing effect and prevent a decrease in the photoelectric conversion efficiency of the sensor unit 36. It is 100 nm or less.

正孔ブロッキング膜は、光導電層30とバイアス電極32との間に設けることができ、電荷収集電極34とバイアス電極32間にバイアス電圧を印加したときに、バイアス電極32から光導電層30に正孔が注入されて暗電流が増加してしまうのを抑制することができる。   The hole blocking film can be provided between the photoconductive layer 30 and the bias electrode 32. When a bias voltage is applied between the charge collecting electrode 34 and the bias electrode 32, the hole blocking film is applied from the bias electrode 32 to the photoconductive layer 30. It is possible to suppress the increase in dark current due to the injection of holes.

正孔ブロッキング膜には、電子受容性有機材料を用いることができる。   An electron-accepting organic material can be used for the hole blocking film.

正孔ブロッキング膜の厚みは、暗電流抑制効果を確実に発揮させるとともに、センサ部36の光電変換効率の低下を防ぐため、10nm以上200nm以下が好ましく、さらに好ましくは30nm以上150nm以下、特に好ましくは50nm以上100nm以下である。   The thickness of the hole blocking film is preferably 10 nm or more and 200 nm or less, more preferably 30 nm or more and 150 nm or less, particularly preferably, in order to surely exhibit the dark current suppressing effect and prevent a decrease in photoelectric conversion efficiency of the sensor unit 36. It is 50 nm or more and 100 nm or less.

実際に正孔ブロッキング膜に用いる材料は、隣接する電極の材料および隣接する光導電層30の材料等に応じて選択すればよく、隣接する電極の材料の仕事関数(Wf)より1.3eV以上イオン化ポテンシャル(Ip)が大きく、かつ、隣接する光導電層30の材料の電子親和力(Ea)と同等のEaもしくはそれより大きいEaを持つものが好ましい。この電子受容性有機材料として適用可能な材料については、特開2009−32854号公報において詳細に説明されているため説明を省略する。   The material actually used for the hole blocking film may be selected according to the material of the adjacent electrode, the material of the adjacent photoconductive layer 30 and the like, and 1.3 eV or more from the work function (Wf) of the material of the adjacent electrode. A material having a large ionization potential (Ip) and an Ea equivalent to or larger than the electron affinity (Ea) of the material of the adjacent photoconductive layer 30 is preferable. Since the material applicable as the electron-accepting organic material is described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-32854, description thereof is omitted.

なお、光導電層30で発生した電荷のうち、正孔がバイアス電極32に移動し、電子が電荷収集電極34に移動するようにバイアス電圧を設定する場合には、電子ブロッキング膜と正孔ブロッキング膜の位置を逆にすれば良い。又、電子ブロッキング膜と正孔ブロッキング膜は両方設けなくてもよく、いずれかを設けておけば、ある程度の暗電流抑制効果を得ることができる。   In the case where the bias voltage is set so that the holes move to the bias electrode 32 and the electrons move to the charge collecting electrode 34 among the charges generated in the photoconductive layer 30, the electron blocking film and the hole blocking are set. What is necessary is just to reverse the position of a film | membrane. Moreover, it is not necessary to provide both the electron blocking film and the hole blocking film. If either one is provided, a certain degree of dark current suppressing effect can be obtained.

図3には、スイッチ素子24の構成が概略的に示されている。 3 shows the structure of the switch element 24 is shown schematically.

TFT基板26には、電荷収集電極34に対応して、電荷収集電極34に移動した電荷を電気信号に変換して出力するスイッチ素子24が形成されている。スイッチ素子24の形成された領域は、平面視において電荷収集電極34と重なる部分を有しており、このような構成とすることで、各画素部におけるスイッチ素子24とセンサ部36とが厚さ方向で重なりを有することとなる。なお、放射線検出器20(画素部)の平面積を最小にするために、スイッチ素子24の形成された領域が電荷収集電極34によって完全に覆われていることが望ましい。 The TFT substrate 26, corresponding to the charge collecting electrode 34, the switch element 24 for converting an electrical signal charge transferred to the charge collecting electrode 34 is formed. Forming regions of the switch element 24 has a portion overlapping with the charge collecting electrode 34 in plan view, by adopting such a configuration, the switch element 24 in each pixel portion and the sensor portion 36 And have an overlap in the thickness direction. Incidentally, the radiation detector 20 to the plane area of the (pixel portion) in order to minimize, it is desirable to form regions of switches element 24 is completely covered by the charge collecting electrode 34.

スイッチ素子24は、ゲート電極220、ゲート絶縁膜222、及び活性層(チャネル層)224が積層され、さらに、活性層224上にソース電極226とドレイン電極228が所定の間隔を開けて形成されている。 Switch element 24, the gate electrode 220, the gate insulating film 222, and an active layer (channel layer) 224 are stacked and further, forming the source electrode 226 and the drain electrode 228 on the active layer 224 with a predetermined gap Has been.

ドレイン電極228は、絶縁性基板22と電荷収集電極34との間に設けられた絶縁膜219を貫通して形成された導電性材料の配線を介して対応する電荷収集電極34と電気的に接続されている。これにより、電荷収集電極34で捕集された電荷をスイッチ素子24に移動させることができる。 The drain electrode 228 is electrically connected to the corresponding charge collection electrode 34 through a wiring made of a conductive material formed through an insulating film 219 provided between the insulating substrate 22 and the charge collection electrode 34. Has been. Thus, it is possible to move the collected charges in the charge collecting electrode 34 to the switch element 24.

活性層224は、例えば、アモルファスシリコンや非晶質酸化物、有機半導体材料、カーボンナノチューブなどにより形成することができる。なお、活性層224を構成する材料は、これらに限定されるものではない。   The active layer 224 can be formed of, for example, amorphous silicon, amorphous oxide, organic semiconductor material, carbon nanotube, or the like. Note that the material forming the active layer 224 is not limited thereto.

活性層224を構成可能な非晶質酸化物としては、In、Ga及びZnのうちの少なくとも1つを含む酸化物(例えばIn−O系)が好ましく、In、Ga及びZnのうちの少なくとも2つを含む酸化物(例えばIn−Zn−O系、In−Ga−O系、Ga−Zn−O系)がより好ましく、In、Ga及びZnを含む酸化物が特に好ましい。In−Ga−Zn−O系非晶質酸化物としては、結晶状態における組成がInGaO(ZnO)(mは6未満の自然数)で表される非晶質酸化物が好ましく、特に、InGaZnOがより好ましい。なお、活性層224を構成可能な非晶質酸化物は、これらに限定されるものではない。 The amorphous oxide that can form the active layer 224 is preferably an oxide containing at least one of In, Ga, and Zn (for example, In—O-based), and at least two of In, Ga, and Zn. Oxides containing one (for example, In—Zn—O, In—Ga—O, and Ga—Zn—O) are more preferable, and oxides including In, Ga, and Zn are particularly preferable. As the In—Ga—Zn—O-based amorphous oxide, an amorphous oxide whose composition in a crystalline state is represented by InGaO 3 (ZnO) m (m is a natural number less than 6) is preferable, and InGaZnO is particularly preferable. 4 is more preferable. Note that the amorphous oxide that can form the active layer 224 is not limited thereto.

活性層224を構成可能な有機半導体材料としては、フタロシアニン化合物や、ペンタセン、バナジルフタロシアニン等を挙げることができるがこれらに限定されるものではない。なお、フタロシアニン化合物の構成については、特開2009−212389号公報において詳細に説明されているため説明を省略する。   Examples of the organic semiconductor material that can form the active layer 224 include, but are not limited to, phthalocyanine compounds, pentacene, vanadyl phthalocyanine, and the like. In addition, about the structure of a phthalocyanine compound, since it is demonstrated in detail in Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-212389, description is abbreviate | omitted.

スイッチ素子24の活性層224を非晶質酸化物や有機半導体材料、カーボンナノチューブで形成したものとすれば、X線等の放射線を吸収せず、あるいは吸収したとしても極めて微量に留まるため、スイッチ素子24におけるノイズの発生を効果的に抑制することができる。 Active layer 224 of an amorphous oxide, an organic semiconductor material of the switch element 24, if those formed with carbon nanotube, does not absorb radiation such as X-rays, or since the stay extremely small amount as absorbed , it is possible to effectively suppress the generation of noise in the switch element 24.

また、活性層224をカーボンナノチューブで形成した場合、スイッチ素子24のスイッチング速度を高速化することができ、また、可視光域での光の吸収度合の低いスイッチ素子24を形成できる。なお、カーボンナノチューブで活性層224を形成する場合、活性層224に極微量の金属性不純物が混入するだけで、スイッチ素子24の性能は著しく低下するため、遠心分離などにより極めて高純度のカーボンナノチューブを分離・抽出して形成する必要がある。 Also, when forming the active layer 224 with the carbon nanotube, it is possible to speed up the switching speed of the switch element 24, also to form a switch element 24 low absorption degree of light in the visible light region . In the case of forming the active layer 224 by the carbon nanotubes, only the active layer 224 to the very small amount of metallic impurities is mixed, since the performance of the switch element 24 is significantly reduced, the very high purity by such as centrifugation It is necessary to separate and extract carbon nanotubes.

ここで、上述した非晶質酸化物、有機半導体材料、カーボンナノチューブや、有機光電変換材料は、いずれも低温での成膜が可能である。従って、絶縁性基板22としては、半導体基板、石英基板、及びガラス基板等の耐熱性の高い基板に限定されず、プラスチック等の可撓性基板、アラミド、バイオナノファイバを用いることもできる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリ(クロロトリフルオロエチレン)等の可撓性基板を用いることができる。このようなプラスチック製の可撓性基板を用いれば、軽量化を図ることもでき、例えば持ち運び等に有利となる。   Here, any of the above-described amorphous oxide, organic semiconductor material, carbon nanotube, and organic photoelectric conversion material can be formed at a low temperature. Therefore, the insulating substrate 22 is not limited to a highly heat-resistant substrate such as a semiconductor substrate, a quartz substrate, and a glass substrate, and a flexible substrate such as plastic, aramid, or bionanofiber can also be used. Specifically, flexible materials such as polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene phthalate, polyethylene naphthalate, polystyrene, polycarbonate, polyethersulfone, polyarylate, polyimide, polycycloolefin, norbornene resin, poly (chlorotrifluoroethylene), etc. A conductive substrate can be used. If such a plastic flexible substrate is used, it is possible to reduce the weight, which is advantageous for carrying around, for example.

また、絶縁性基板22には、絶縁性を確保するための絶縁層、水分や酸素の透過を防止するためのガスバリア層、平坦性あるいは電極等との密着性を向上するためのアンダーコート層等を設けてもよい。 The insulating substrate 22 includes an insulating layer for ensuring insulation, a gas barrier layer for preventing permeation of moisture and oxygen, an undercoat layer for improving flatness or adhesion to electrodes, and the like. May be provided.

アラミドは、200度以上の高温プロセスを適用できるために,透明電極材料を高温硬化させて低抵抗化でき、また、ハンダのリフロー工程を含むドライバICの自動実装にも対応できる。また、アラミドは、ITO(indium tin oxide)やガラス基板と熱膨張係数が近いため、製造後の反りが少なく、割れにくい。また、アラミドは、ガラス基板等と比べて薄く基板を形成できる。なお、超薄型ガラス基板とアラミドを積層して絶縁性基板22を形成してもよい。   Since aramid can be applied at a high temperature process of 200 ° C. or more, the transparent electrode material can be cured at a high temperature to reduce the resistance, and can also be used for automatic mounting of a driver IC including a solder reflow process. Moreover, since aramid has a thermal expansion coefficient close to that of ITO (indium tin oxide) or a glass substrate, warping after production is small and it is difficult to crack. In addition, aramid can form a substrate thinner than a glass substrate or the like. The insulating substrate 22 may be formed by laminating an ultrathin glass substrate and aramid.

バイオナノファイバは、バクテリア(酢酸菌、Acetobacter Xylinum)が産出するセルロースミクロフィブリル束(バクテリアセルロース)と透明樹脂との複合したものである。セルロースミクロフィブリル束は、幅50nmと可視光波長に対して1/10のサイズで、かつ、高強度、高弾性、低熱膨である。バクテリアセルロースにアクリル樹脂、エポキシ樹脂等の透明樹脂を含浸・硬化させることで、繊維を60−70%も含有しながら、波長500nmで約90%の光透過率を示すバイオナノファイバが得られる。バイオナノファイバは、シリコン結晶に匹敵する低い熱膨張係数(3−7ppm)を有し、鋼鉄並の強度(460MPa)、高弾性(30GPa)で、かつフレキシブルであることから、ガラス基板等と比べて薄く絶縁性基板22を形成できる。   Bionanofiber is a composite of cellulose microfibril bundles (bacterial cellulose) produced by bacteria (Acetobacter Xylinum) and a transparent resin. The cellulose microfibril bundle has a width of 50 nm and a size of 1/10 of the visible light wavelength, and has high strength, high elasticity, and low thermal expansion. By impregnating and curing a transparent resin such as an acrylic resin or an epoxy resin in bacterial cellulose, a bio-nanofiber having a light transmittance of about 90% at a wavelength of 500 nm can be obtained while containing 60-70% of the fiber. Bionanofiber has a low coefficient of thermal expansion (3-7ppm) comparable to silicon crystals, and is as strong as steel (460MPa), highly elastic (30GPa), and flexible, compared to glass substrates, etc. A thin insulating substrate 22 can be formed.

本実施の形態では、絶縁性基板22上に、スイッチ素子24、センサ部36、透明な平坦化層38を順に形成し、当該絶縁性基板22上に光吸収性の低い接着樹脂等を用いた接着層39でシンチレータ層28を貼り付けることにより放射線検出器20を形成している。以下、平坦化層38まで形成された絶縁性基板22をTFT基板26と称する。 In this embodiment, on the insulating substrate 22, the switch element 24, the sensor unit 36, a transparent flattening layer 38 are sequentially formed, the low light-absorbing property on the insulating substrate 22 adhesive resin The radiation detector 20 is formed by affixing the scintillator layer 28 with the adhesive layer 39 used. Hereinafter, the insulating substrate 22 formed up to the planarizing layer 38 is referred to as a TFT substrate 26.

センサ部36は、図2に示すように、TFT基板26に二次元状に配置されており、それに対応して、スイッチ素子24が、絶縁性基板22に2次元状に配置されている。   As shown in FIG. 2, the sensor unit 36 is two-dimensionally arranged on the TFT substrate 26, and the switch element 24 is two-dimensionally arranged on the insulating substrate 22 correspondingly.

また、TFT基板26には、一定方向(行方向)に延設され各スイッチ素子24をオンオフさせるための複数本のゲート配線40と、ゲート配線40と直交する方向(列方向)に延設されオン状態のスイッチ素子24を介して電荷を読み出すための複数本のデータ配線42が設けられている。   The TFT substrate 26 is extended in a certain direction (row direction) and a plurality of gate wirings 40 for turning on / off each switch element 24, and in a direction orthogonal to the gate wirings 40 (column direction). A plurality of data wirings 42 for reading out electric charges through the switch element 24 in the on state are provided.

なお、TFT基板26上には、TFT基板26上を平坦化するための平坦化層38が形成されている。また、TFT基板26とシンチレータ層28との間であって、平坦化層38上には、シンチレータ層28をTFT基板26に接着するための接着層39が、形成されている。   A flattening layer 38 for flattening the TFT substrate 26 is formed on the TFT substrate 26. An adhesive layer 39 for bonding the scintillator layer 28 to the TFT substrate 26 is formed between the TFT substrate 26 and the scintillator layer 28 and on the planarizing layer 38.

TFT基板26は、平板状で平面視において外縁に4辺を有する四辺形状をしている。具体的には、矩形状に形成されている。   The TFT substrate 26 is flat and has a quadrilateral shape having four sides on the outer edge in plan view. Specifically, it is formed in a rectangular shape.

ここで、放射線検出器20は、図4に示すように、シンチレータ層28が接着された表側から放射線が照射(表面照射、裏面読取方式(所謂PSS(Penetration Side Sampling)方式)ともいう)されてもよく、TFT基板26側(裏側)から放射線が照射(裏面照射、表面読取方式(所謂ISS(Irradiation Side Sampling)方式ともいう)されてもよい。放射線検出器20は、表側から放射線が照射された場合、シンチレータ層28の上面側(TFT基板26の反対側)でより強く発光し、裏側から放射線が照射された場合、TFT基板26を透過した放射線がシンチレータ層28に入射してシンチレータ層28のTFT基板26側がより強く発光する。各光導電層30には、シンチレータ層28で発生した光により電荷が発生する。このため、放射線検出器20は、表側から放射線が照射された場合の方が裏側から放射線が照射された場合よりも、放射線がTFT基板26を透過しないため、放射線に対する感度を高く設計することが可能であり、また、裏側から放射線が照射された場合の方が表側から放射線が照射された場合よりも各光導電層30に対するシンチレータ層28の発光位置が近いため、撮影によって得られる放射線画像の分解能が高い。   Here, as shown in FIG. 4, the radiation detector 20 is irradiated with radiation from the front side to which the scintillator layer 28 is bonded (also referred to as front side irradiation, back side reading method (so-called PSS (Penetration Side Sampling) method)). Alternatively, radiation may be applied from the TFT substrate 26 side (back side) (backside irradiation, surface reading method (also referred to as so-called ISS (Irradiation Side Sampling) method)), and the radiation detector 20 is irradiated with radiation from the front side. In this case, when light is emitted more strongly on the upper surface side (opposite side of the TFT substrate 26) of the scintillator layer 28 and radiation is irradiated from the back side, the radiation transmitted through the TFT substrate 26 enters the scintillator layer 28 and enters the scintillator layer 28. The TFT substrate 26 side emits light more intensely, and each photoconductive layer 30 is charged by the light generated in the scintillator layer 28. Therefore, radiation is generated. The ejector 20 can be designed with high sensitivity to radiation because radiation does not pass through the TFT substrate 26 when radiation is irradiated from the front side compared to when radiation is irradiated from the back side. Moreover, since the light emission position of the scintillator layer 28 with respect to each photoconductive layer 30 is closer when the radiation is irradiated from the back side than when the radiation is irradiated from the front side, the resolution of the radiographic image obtained by imaging is higher.

すなわち、放射線検出器20は、平板状の一方の面側に放射線が照射された場合と当該平板状の他方の面側に放射線が照射された場合とで撮影される放射線画像の特性が異なる。   That is, the radiation detector 20 has different characteristics of radiographic images taken when radiation is irradiated on one flat surface side and when radiation is irradiated on the other flat surface side.

図5には、放射線検出器20に対して放射線を表面照射した場合と放射線検出器20に対して放射線を裏面照射した場合でのシンチレータ層28の厚みと感度の変化の一例が示されおり、図6には、放射線検出器20に対して表面から放射線を照射した場合と放射線検出器20に対して裏面から放射線を照射した場合でのシンチレータ層28の厚みとMTF(Modulation Transfer Factor)の変化の一例が示されている。   FIG. 5 shows an example of changes in the thickness and sensitivity of the scintillator layer 28 when the radiation detector 20 is irradiated with radiation on the front surface and when the radiation detector 20 is irradiated with back radiation. FIG. 6 shows changes in the thickness and MTF (Modulation Transfer Factor) of the scintillator layer 28 when the radiation detector 20 is irradiated with radiation from the front surface and when the radiation detector 20 is irradiated with radiation from the back surface. An example is shown.

次に、このような放射線検出器20を内蔵した電子カセッテの構成について説明する。   Next, the configuration of an electronic cassette incorporating such a radiation detector 20 will be described.

放射線検出器20の一方の面側、他方の面側の何れにおいても照射された放射線による放射線画像を撮影可能とする構成として、図7〜図9に示すような電子カセッテ10Aを平板状に形成して全体を反転させる構成、図10〜図12に示すような電子カセッテ10Bを開閉可能とする構成、図13〜図15に示すような電子カセッテ10の一部を反転可能とする構成が例示できる。   An electronic cassette 10A as shown in FIGS. 7 to 9 is formed in a flat plate shape so that a radiation image can be taken by radiation applied on either one side or the other side of the radiation detector 20. Then, a configuration for reversing the whole, a configuration for enabling opening and closing of the electronic cassette 10B as shown in FIGS. 10 to 12, and a configuration for enabling reversing a part of the electronic cassette 10 as shown in FIGS. it can.

以下、電子カセッテ10A〜10Cの構成について説明する。   Hereinafter, the configuration of the electronic cassettes 10A to 10C will be described.

図7には、電子カセッテ10Aの構成を示す斜視図が示されており、図8には、電子カセッテ10Aの断面図が示されている。   7 is a perspective view showing the configuration of the electronic cassette 10A, and FIG. 8 is a cross-sectional view of the electronic cassette 10A.

電子カセッテ10Aは、放射線Xを透過させる材料からなる平板状の筐体18を備えており、防水性、密閉性を有する構造とされている。筐体18の内部には、上述の放射線検出器20が配設されている。筐体18は、平板状の一方の面及び他方の面の放射線検出器20の配設位置に対応する領域が撮影時に放射線が照射される撮影領域18A、18Bとされている。放射線検出器20は、シンチレータ層28が撮影領域18A側、TFT基板26が撮影領域18B側となるように内蔵されており、撮影領域18Aが放射線検出器20に対して表側から放射線を照射する表面照射用の撮影領域、撮影領域18Bが放射線検出器20に対して裏側から放射線を照射する裏面照射用の撮影領域とされている。   The electronic cassette 10A includes a flat casing 18 made of a material that transmits the radiation X, and has a waterproof and airtight structure. The above-described radiation detector 20 is disposed inside the housing 18. The housing 18 has imaging regions 18A and 18B in which radiation is irradiated at the time of imaging in regions corresponding to the arrangement positions of the radiation detectors 20 on one surface of the flat plate and the other surface. The radiation detector 20 is built in such that the scintillator layer 28 is on the imaging region 18A side and the TFT substrate 26 is on the imaging region 18B side, and the imaging region 18A irradiates the radiation detector 20 with radiation from the front side. The imaging region for irradiation and the imaging region 18B are imaging regions for backside irradiation that irradiate the radiation detector 20 with radiation from the back side.

また、筐体18の内部の一端側には、放射線検出器20と重ならない位置(撮影領域18A、18Bの範囲外)に、後述する制御部50や電源部70を収容するケース31が配置されている。ここで、電子カセッテ10Aは、撮影領域18A、18Bの両面で放射線画像を撮影可能とするため、撮影領域18A、18B内に回路や素子などの放射線画像に影響を与える部材を配置しないようにしている。   In addition, a case 31 that accommodates a control unit 50 and a power supply unit 70 described later is disposed at one end inside the housing 18 at a position that does not overlap the radiation detector 20 (outside the range of the imaging regions 18A and 18B). ing. Here, since the electronic cassette 10A enables radiographic images to be captured on both sides of the imaging areas 18A and 18B, a member that affects the radiographic image such as a circuit or an element is not disposed in the imaging areas 18A and 18B. Yes.

また、電子カセッテ10Aは、筐体18の側面に各種ボタンを備えた操作パネル19が設けられている。   Further, the electronic cassette 10 </ b> A is provided with an operation panel 19 having various buttons on the side surface of the housing 18.

図9には、電子カセッテ10Aの電気系の要部構成を示すブロック図が示されている。   FIG. 9 is a block diagram showing a main configuration of the electrical system of the electronic cassette 10A.

放射線検出器20は、隣り合う2辺の一辺側にゲート線ドライバ52が配置され、他辺側に信号処理部54が配置されている。   In the radiation detector 20, a gate line driver 52 is disposed on one side of two adjacent sides, and a signal processing unit 54 is disposed on the other side.

筐体18の内部には、制御部50として、画像メモリ56と、カセッテ制御部58と、無線通信部60とを備えている。   Inside the housing 18, an image memory 56, a cassette control unit 58, and a wireless communication unit 60 are provided as the control unit 50.

放射線検出器20の個々のゲート配線40はゲート線ドライバ52に接続されており、個々のデータ配線42は信号処理部54に接続されている。   Individual gate lines 40 of the radiation detector 20 are connected to a gate line driver 52, and individual data lines 42 are connected to a signal processing unit 54.

各スイッチ素子24は、ゲート線ドライバ52からゲート配線40を介して供給される信号により行単位で順にオンされ、オン状態とされたスイッチ素子24によって読み出された電荷は、電気信号としてデータ配線42を伝送されて信号処理部54に入力される。これにより、電荷は行単位で順に読み出され、二次元状の放射線画像が取得可能となる。   Each switch element 24 is sequentially turned on in a row unit by a signal supplied from the gate line driver 52 via the gate wiring 40, and the charges read by the switch elements 24 that are turned on are converted into data wiring as electrical signals. 42 is transmitted and input to the signal processing unit 54. As a result, the charges are sequentially read out in units of rows, and a two-dimensional radiation image can be acquired.

図示は省略するが、信号処理部54は、個々のデータ配線42毎に、入力される電気信号を増幅する増幅回路及びサンプルホールド回路を備えており、個々のデータ配線42を伝送された電気信号は増幅回路で増幅された後にサンプルホールド回路に保持される。また、サンプルホールド回路の出力側にはマルチプレクサ、A/D(アナログ/デジタル)変換器が順に接続されており、個々のサンプルホールド回路に保持された電気信号はマルチプレクサに順に(シリアルに)入力され、A/D変換器によってデジタルの画像データへ変換される。   Although not shown, the signal processing unit 54 includes an amplification circuit and a sample hold circuit for amplifying an input electric signal for each individual data wiring 42, and the electric signal transmitted through the individual data wiring 42. Is amplified by the amplifier circuit and then held in the sample hold circuit. Further, a multiplexer and an A / D (analog / digital) converter are connected in order to the output side of the sample and hold circuit, and the electric signals held in the individual sample and hold circuits are sequentially (serially) input to the multiplexer. The digital image data is converted by an A / D converter.

信号処理部54には画像メモリ56が接続されており、信号処理部54のA/D変換器から出力された画像データは画像メモリ56に順に記憶される。画像メモリ56は所定枚分の画像データを記憶可能な記憶容量を有しており、放射線画像の撮影が行われる毎に、撮影によって得られた画像データが画像メモリ56に順次記憶される。   An image memory 56 is connected to the signal processing unit 54, and image data output from the A / D converter of the signal processing unit 54 is sequentially stored in the image memory 56. The image memory 56 has a storage capacity capable of storing a predetermined number of image data, and image data obtained by imaging is sequentially stored in the image memory 56 each time a radiographic image is captured.

画像メモリ56はカセッテ制御部58と接続されている。カセッテ制御部58はマイクロコンピュータによって構成され、CPU(中央処理装置)58A、ROMおよびRAMを含むメモリ58B、フラッシュメモリ等からなる不揮発性の記憶部58Cを備えており、電子カセッテ10A全体の動作を制御する。   The image memory 56 is connected to the cassette control unit 58. The cassette control unit 58 is constituted by a microcomputer, and includes a CPU (central processing unit) 58A, a memory 58B including a ROM and a RAM, a nonvolatile storage unit 58C including a flash memory, and the like, and operates the entire electronic cassette 10A. Control.

また、カセッテ制御部58には無線通信部60が接続されている。無線通信部60は、IEEE(Institute of Electrical and Electronics Engineers)802.11a/b/g/n等に代表される無線LAN(Local Area Network)規格に対応しており、無線通信による外部機器との間での各種情報の伝送を制御する。カセッテ制御部58は、無線通信部60を介して、コンソールなどの放射線撮影全体を制御する外部装置と無線通信が可能とされており、コンソールとの間で各種情報の送受信が可能とされている。カセッテ制御部58は、コンソールから無線通信部60を介して受信される撮影条件などの各種情報を記憶し、撮影条件に基づいて電荷の読み出しを開始する。   A wireless communication unit 60 is connected to the cassette control unit 58. The wireless communication unit 60 corresponds to a wireless local area network (LAN) standard represented by IEEE (Institute of Electrical and Electronics Engineers) 802.11a / b / g / n, etc. Control the transmission of various information between them. The cassette control unit 58 can wirelessly communicate with an external device that controls the entire radiographic imaging such as a console via the wireless communication unit 60, and can transmit and receive various types of information to and from the console. . The cassette control unit 58 stores various information such as imaging conditions received from the console via the wireless communication unit 60, and starts reading out charges based on the imaging conditions.

また、カセッテ制御部58は、操作パネル19が接続されており、操作パネル19に対する操作内容を把握することができる。   In addition, the operation control unit 19 is connected to the cassette control unit 58, and the operation content for the operation panel 19 can be grasped.

また、電子カセッテ10には、電源部70が設けられており、上述した各種回路や各素子(操作パネル19、ゲート線ドライバ52、信号処理部54、画像メモリ56、無線通信部60やカセッテ制御部58として機能するマイクロコンピュータ)は、電源部70から供給された電力によって作動する。電源部70は、電子カセッテ10の可搬性を損なわないように、バッテリ(充電可能な二次電池)を内蔵しており、充電されたバッテリから各種回路・素子へ電力を供給する。なお、図9では、電源部70と各種回路や各素子を接続する配線を省略している。   Further, the electronic cassette 10 is provided with a power supply unit 70, and the various circuits and elements described above (the operation panel 19, the gate line driver 52, the signal processing unit 54, the image memory 56, the wireless communication unit 60, and the cassette control). The microcomputer functioning as the unit 58 is operated by the electric power supplied from the power supply unit 70. The power supply unit 70 incorporates a battery (a rechargeable secondary battery) so as not to impair the portability of the electronic cassette 10, and supplies power from the charged battery to various circuits and elements. In FIG. 9, the power supply unit 70 and various circuits and wirings for connecting each element are omitted.

電子カセッテ10Aは、表面照射用の撮影領域18Aと裏面照射用の撮影領域18Bが設けられており、全体を反転させることにより、撮影領域18A又は撮影領域18Bで放射線画像の撮影が可能とされている。   The electronic cassette 10A is provided with an imaging area 18A for front side illumination and an imaging area 18B for back side illumination. By inverting the whole, radiographic images can be taken in the imaging area 18A or the imaging area 18B. Yes.

電子カセッテ10Aは、放射線画像を撮影する際に、撮影に用いる撮影領域を上として、図8に示すように、放射線を発生する放射線発生装置80と間隔を空けて配置され、撮影領域上に患者の撮影対象部位Bが配置される。放射線発生装置80は予め与えられた撮影条件等に応じた放射線量の放射線を射出する。放射線発生装置80から射出された放射線Xは、撮影対象部位Bを透過することで画像情報を担持した後に電子カセッテ10に照射される。   The electronic cassette 10A is arranged at a distance from a radiation generator 80 for generating radiation, as shown in FIG. 8, with the imaging region used for imaging being taken up when imaging a radiographic image, and the patient is placed on the imaging region. The imaging target region B is arranged. The radiation generation apparatus 80 emits radiation having a radiation dose according to imaging conditions given in advance. The radiation X emitted from the radiation generator 80 is irradiated to the electronic cassette 10 after carrying image information by passing through the imaging target region B.

放射線発生装置80から照射された放射線Xは、撮影対象部位Bを透過した後に電子カセッテ10に到達する。これにより、電子カセッテ10に内蔵された放射線検出器20の各電荷収集電極34には照射された放射線Xの線量に応じた電荷が収集されて蓄積される。   The radiation X irradiated from the radiation generator 80 reaches the electronic cassette 10 after passing through the imaging target region B. As a result, charges corresponding to the dose of the irradiated radiation X are collected and accumulated in each charge collecting electrode 34 of the radiation detector 20 incorporated in the electronic cassette 10.

カセッテ制御部58は、放射線Xの照射終了後に、ゲート線ドライバ52を制御してゲート線ドライバ52から1ラインずつ順に各ゲート配線40にON信号を出力させ、各ゲート配線40に接続された各スイッチ素子24を1ラインずつ順にONさせる。これにより、1ラインずつ順に各電荷収集電極34に蓄積された電荷が電気信号として各データ配線42に流れ出す。各データ配線42に流れ出した電気信号は信号処理部54に入力されて、デジタルの画像情報へ変換されて、画像メモリ56に記憶される。   The cassette control unit 58 controls the gate line driver 52 after the irradiation of the radiation X, and outputs an ON signal to each gate wiring 40 sequentially from the gate line driver 52 line by line, and connects each gate wiring 40 to each gate wiring 40. The switch elements 24 are turned on in order line by line. As a result, the charges accumulated in each charge collecting electrode 34 in order line by line flow out to each data wiring 42 as an electrical signal. The electric signal flowing out to each data wiring 42 is input to the signal processing unit 54, converted into digital image information, and stored in the image memory 56.

カセッテ制御部58は、撮影終了後、画像メモリ56に記憶された画像情報をコンソールへ送信する。なお、静止画を撮影する場合について説明したが、撮影を連続的に行うことにより動画撮影を行ってもよい。   The cassette control unit 58 transmits the image information stored in the image memory 56 to the console after the photographing is completed. In addition, although the case where a still image is imaged has been described, moving image shooting may be performed by continuously performing image capturing.

このように本実施の形態に係る電子カセッテ10Aは、全体を反転させて撮影領域18A又は撮影領域18Bで撮影を行うことにより、特性の異なる放射線画像の撮影を簡易に行える。   As described above, the electronic cassette 10A according to the present embodiment can easily capture radiographic images having different characteristics by inverting the whole and performing imaging in the imaging region 18A or the imaging region 18B.

次に、電子カセッテ10Bの構成について説明する。   Next, the configuration of the electronic cassette 10B will be described.

図10及び図11には、実施の形態に係る電子カセッテ10Bの構成を示す斜視図が示されており、図12には、電子カセッテ10Bの概略構成を示す断面図が示されている。なお、上記電子カセッテ10A(図7〜図9参照)と対応する部分については同一の符号を付して、同じ機能を有する部分については説明を省略する。   10 and 11 are perspective views showing the configuration of the electronic cassette 10B according to the embodiment, and FIG. 12 is a cross-sectional view showing the schematic configuration of the electronic cassette 10B. Note that portions corresponding to those of the electronic cassette 10A (see FIGS. 7 to 9) are denoted by the same reference numerals, and description of portions having the same functions is omitted.

電子カセッテ10Bは、放射線検出器20、ゲート線ドライバ52、信号処理部54が内蔵され、照射された放射線による放射線画像を撮影する平板状の撮影ユニット12と、制御部50や電源部70が内蔵された制御ユニット14とがヒンジ16によって開閉可能に連結されている。   The electronic cassette 10B includes a radiation detector 20, a gate line driver 52, and a signal processing unit 54, and includes a flat imaging unit 12 that captures a radiographic image of the irradiated radiation, and a control unit 50 and a power supply unit 70. The control unit 14 is connected by a hinge 16 so that it can be opened and closed.

撮影ユニット12及び制御ユニット14は、一方に対して他方がヒンジ16を回動中心にて回動することにより、撮影ユニット12と制御ユニット14とが並んだ展開状態(図11)と、撮影ユニット12と制御ユニット14とが重なり合って折り畳まれた収納状態(図10)とに開閉可能とされている。   The photographing unit 12 and the control unit 14 are rotated with the hinge 16 at the center of rotation while the other is in the unfolded state (FIG. 11) in which the photographing unit 12 and the control unit 14 are aligned, and the photographing unit. 12 and the control unit 14 can be opened and closed in the storage state (FIG. 10) folded and overlapped.

また、電子カセッテ10Bは、制御ユニット14の上面に操作パネル19が設けられている。   The electronic cassette 10 </ b> B is provided with an operation panel 19 on the upper surface of the control unit 14.

撮影ユニット12は、図12に示すように収納状態においてシンチレータ層28が制御ユニット14側、TFT基板26が外側(制御ユニット14側の反対側)となるように放射線検出器20が内蔵されており、収納状態において外側となる面が放射線検出器20に対して裏側から放射線を照射する裏面照射用の撮影領域18B(図10)とされ、制御ユニット14と対向する面が放射線検出器20に対して表側から放射線を照射する表面照射用の撮影領域18A(図11)とされている。   As shown in FIG. 12, the imaging unit 12 has a built-in radiation detector 20 so that the scintillator layer 28 is on the control unit 14 side and the TFT substrate 26 is on the outside (opposite side of the control unit 14 side). In addition, the outer surface in the storage state is an imaging region 18B (FIG. 10) for irradiating the radiation detector 20 from the back side, and the surface facing the control unit 14 is the radiation detector 20. The imaging region 18A (FIG. 11) for surface irradiation that irradiates radiation from the front side.

放射線検出器20と制御部50や電源部70とは、ヒンジ16内に設けられた接続配線44により接続されている。   The radiation detector 20, the control unit 50, and the power supply unit 70 are connected by a connection wiring 44 provided in the hinge 16.

このように、電子カセッテ10Bは、収納状態において裏面照射用の撮影領域18Bでの放射線画像の撮影が可能とされ、展開状態において表面照射用の撮影領域18Aでの放射線画像の撮影が可能とされており、開閉させて撮影領域18A又は撮影領域18Bで撮影を行うことにより、特性の異なる放射線画像の撮影を簡易に行える。   As described above, the electronic cassette 10B can capture a radiographic image in the imaging region 18B for backside illumination in the housed state, and can capture a radiographic image in the imaging region 18A for surface illumination in the unfolded state. The radiographic images having different characteristics can be easily captured by opening and closing and performing imaging in the imaging region 18A or the imaging region 18B.

次に、電子カセッテ10Cの構成について説明する。   Next, the configuration of the electronic cassette 10C will be described.

図13及び図14には、実施の形態に係る電子カセッテ10Cの構成を示す斜視図が示されており、図15には、電子カセッテ10Cの概略構成を示す断面図が示されている。なお、上記電子カセッテ10A(図7〜図9参照)及び上記電子カセッテ10B(図10〜図12参照)と対応する部分については同一の符号を付して、同じ機能を有する部分については説明を省略する。   13 and 14 are perspective views showing the configuration of the electronic cassette 10C according to the embodiment, and FIG. 15 is a cross-sectional view showing the schematic configuration of the electronic cassette 10C. The parts corresponding to those of the electronic cassette 10A (see FIGS. 7 to 9) and the electronic cassette 10B (see FIGS. 10 to 12) are denoted by the same reference numerals, and the parts having the same functions are described. Omitted.

電子カセッテ10Cは、放射線検出器20、ゲート線ドライバ52、信号処理部54が内蔵され、照射された放射線による放射線画像を撮影する平板状の撮影ユニット12と、制御部50や電源部70が内蔵された制御ユニット14とが回転軸17によって回転可能に連結されている。放射線検出器20と制御部50や電源部70とは、回転軸17に設けられた接続配線44により接続されている。   The electronic cassette 10C includes a radiation detector 20, a gate line driver 52, and a signal processing unit 54, and includes a flat imaging unit 12 that captures a radiographic image of the irradiated radiation, and a control unit 50 and a power supply unit 70. The control unit 14 is connected to a rotary shaft 17 so as to be rotatable. The radiation detector 20, the control unit 50, and the power supply unit 70 are connected by a connection wiring 44 provided on the rotating shaft 17.

また、撮影ユニット12は、放射線検出器20の配設位置に対応して平板状の一方の面及び他方の面に撮影領域18A、18Bが設けられている。   The imaging unit 12 is provided with imaging regions 18A and 18B on one surface and the other surface of the flat plate corresponding to the position where the radiation detector 20 is disposed.

また、電子カセッテ10Cは、制御ユニット14の上面に操作パネル19が設けられている。   The electronic cassette 10 </ b> C is provided with an operation panel 19 on the upper surface of the control unit 14.

放射線検出器20は、シンチレータ層28が撮影領域18A側、TFT基板26が撮影領域18Bとなるように内蔵されており、撮影領域18Aが放射線検出器20に対して表側から放射線を照射する表面照射用の撮影領域、撮影領域18Bが放射線検出器20に対して裏側から放射線を照射する裏面照射用の撮影領域とされている。   The radiation detector 20 is built in such that the scintillator layer 28 is on the imaging region 18A side and the TFT substrate 26 is on the imaging region 18B, and the imaging region 18A irradiates the radiation detector 20 with radiation from the front side. The imaging region for imaging, the imaging region 18B, is an imaging region for backside irradiation that irradiates the radiation detector 20 with radiation from the back side.

放射線検出器20と制御部50や電源部70とは、回転軸17内に設けられた接続配線44により接続されている。   The radiation detector 20, the control unit 50, and the power supply unit 70 are connected by a connection wiring 44 provided in the rotary shaft 17.

撮影ユニット12及び制御ユニット14は、一方に対して他方が回転することにより、撮影領域18Aと操作パネル19とが並んだ状態(図13)と、撮影領域18Bと操作パネル19とが並んだ状態(図14)とに変更可能とされている。   The imaging unit 12 and the control unit 14 are rotated with respect to the other so that the imaging area 18A and the operation panel 19 are aligned (FIG. 13), and the imaging area 18B and the operation panel 19 are aligned. (FIG. 14).

このように、電子カセッテ10Bは、撮影領域18Aと操作パネル19とが並んだ状態(図13)において表面照射用の撮影領域18Aでの放射線画像の撮影が可能とされ、撮影領域18Bと操作パネル19とが並んだ状態(図14)において裏面照射用の撮影領域18Bでの放射線画像の撮影が可能とされており、回転させて撮影領域18A又は撮影領域18Bで撮影を行うことにより、特性の異なる放射線画像の撮影を簡易に行える。   As described above, the electronic cassette 10B can capture a radiographic image in the imaging region 18A for surface irradiation in a state where the imaging region 18A and the operation panel 19 are aligned (FIG. 13). 19 (FIG. 14), the radiographic image can be captured in the imaging region 18B for backside illumination, and by rotating and imaging in the imaging region 18A or the imaging region 18B, characteristics of Different radiographic images can be taken easily.

[第2の実施の形態]
次に、第2の実施の形態について説明する。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment will be described.

図16には、第2の実施形態に係る放射線検出器20の構成を模式的に示した断面図が示されている。なお、第1の実施の形態の放射線検出器20(図1〜図4参照)と対応する部分については同一の符号を付して、同じ機能を有する部分については説明を省略する。   FIG. 16 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of the radiation detector 20 according to the second exemplary embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the part corresponding to the radiation detector 20 (refer FIGS. 1-4) of 1st Embodiment, and description is abbreviate | omitted about the part which has the same function.

本実施の形態に係る放射線検出器20は、TFT基板26の両面に2つのシンチレータ層28(28A、28B)が形成されている。   In the radiation detector 20 according to the present embodiment, two scintillator layers 28 (28A, 28B) are formed on both surfaces of the TFT substrate 26.

TFT基板26の両面に2つのシンチレータ層28が形成されているため、本実施の形態の放射線検出器20は、放射線検出器20の表裏の何れから放射線が照射されても表面照射となる。   Since the two scintillator layers 28 are formed on both surfaces of the TFT substrate 26, the radiation detector 20 of the present embodiment performs surface irradiation regardless of whether the radiation detector 20 is irradiated with radiation from either the front or the back.

ここで、シンチレータ層28は、図5、図6に示すように厚みによっても発光特定が変化する。   Here, the specific light emission of the scintillator layer 28 varies depending on the thickness as shown in FIGS.

シンチレータ層28は、厚い程、発光量が多く、感度が高くなるが光散乱等で画質が低下する。   The thicker the scintillator layer 28, the more light is emitted and the higher the sensitivity, but the image quality is degraded by light scattering or the like.

よって、シンチレータ層28A、28Bの厚みをシンチレータ層28B>シンチレータ層28Aとすることによりシンチレータ層28A側を画質重視とし、シンチレータ層28B側を感度重視とすることができる。なお、シンチレータ層28は、50μ未満ではX線に対する出力が十分に得られず、表面照射の場合、300μmを超えるとなると反射光がシンチ内で散乱、吸収されてしまうので表面に出てくる光量が不十分となりやすくなる。表面照射で用いる場合、シンチレータ層28は、厚みを50〜300μの範囲とすることが好ましいく、100〜250μmの範囲とすることがより好ましい。   Therefore, by setting the thickness of the scintillator layers 28A and 28B to be the scintillator layer 28B> the scintillator layer 28A, the scintillator layer 28A side can be focused on image quality, and the scintillator layer 28B side can be focused on sensitivity. If the scintillator layer 28 is less than 50 μm, a sufficient output for X-rays cannot be obtained. In the case of surface irradiation, if it exceeds 300 μm, the reflected light will be scattered and absorbed in the scintillator, and the amount of light that appears on the surface Tends to be insufficient. When used for surface irradiation, the scintillator layer 28 preferably has a thickness in the range of 50 to 300 μm, and more preferably in the range of 100 to 250 μm.

また、シンチレータ層28は、シンチレータ層28に充填され、放射線が照射されることにより発光する粒子の粒径が大きい程、発光量が多く、感度が高くなるが、光散乱や検出画素に接している粒子が隣の画素に影響を与えるので、画質が低下する。   The scintillator layer 28 is filled in the scintillator layer 28, and the larger the particle size of the particles that emit light when irradiated with radiation, the greater the amount of light emission and the higher the sensitivity. Since the particles that are present affect adjacent pixels, the image quality is degraded.

よって、シンチレータ層28A、28Bの粒子の粒径をシンチレータ層28B>シンチレータ層28Aとすることによりシンチレータ層28A側を画質重視とし、シンチレータ層28B側を感度重視とすることができる。   Therefore, by setting the particle size of the scintillator layers 28A and 28B to scintillator layer 28B> scintillator layer 28A, the scintillator layer 28A side can be focused on image quality, and the scintillator layer 28B side can be focused on sensitivity.

また、シンチレータ層28は、小粒子と大粒子の重層構造とすることができる。例えば、図17に示すように、シンチレータ層28を照射側を小粒子の領域25AとしTFT基板26側を大粒子の領域25Bとした方が画像のボケが少ないが、小粒子で放射状に発した光の斜め成分がTFT基板26まで届き難く感度が低下する。また、領域25Aと領域25Bの比率を変えて、小粒子の層に対して大粒子の層を多くすることにより感度が高くなるが、光散乱が隣の画素に影響を与えるので、画質が低下する。 Further, the scintillator layer 28 can have a multilayer structure of small particles and large particles. For example, as shown in FIG. 17, although a small blur of the image towards the scintillator layer 28 irradiated side and the region 25A of the small particles a TFT substrate 26 side and a region 25B of the large particles, originating radially small particles It is difficult for the oblique component of the light to reach the TFT substrate 26, and the sensitivity is lowered. In addition, the sensitivity is increased by changing the ratio of the region 25A and the region 25B to increase the large particle layer relative to the small particle layer, but the image quality deteriorates because light scattering affects the adjacent pixels. To do.

よって、シンチレータ層28A、28Bの粒子の重層構造を変えることにより、シンチレータ層28A側を画質重視とし、シンチレータ層28B側を感度重視とすることができる。   Therefore, by changing the layered structure of the particles of the scintillator layers 28A and 28B, the scintillator layer 28A side can be focused on image quality, and the scintillator layer 28B side can be focused on sensitivity.

また、シンチレータ層28は、充填率が高いほど感度が高くなるが、光の散乱が多くなり画質が低下する。ここで、充填率とは、シンチレータ層28の粒子の総体積/シンチレータ層28の体積×100した値である。なお、シンチレータ層28は、粉体を取り扱う上、充填率が80%を超えると製造上困難であるため、充填率が50〜80体積%が好ましい。   Further, the scintillator layer 28 has higher sensitivity as the filling rate is higher, but light scattering increases and image quality is degraded. Here, the filling rate is a value obtained by dividing the total volume of particles of the scintillator layer 28 / the volume of the scintillator layer 28 × 100. In addition, since the scintillator layer 28 is difficult to manufacture when handling powder and the filling rate exceeds 80%, the filling rate is preferably 50 to 80% by volume.

よって、シンチレータ層28A、28Bの粒子の充填率をシンチレータ層28B>シンチレータ層28Aとすることによりシンチレータ層28A側を画質重視とし、シンチレータ層28B側を感度重視とすることができる。   Therefore, by setting the particle filling rate of the scintillator layers 28A and 28B to scintillator layer 28B> scintillator layer 28A, the scintillator layer 28A side can be focused on image quality, and the scintillator layer 28B side can be focused on sensitivity.

また、シンチレータ層28は、付活剤のドープ量によっても発光特定が変化し、付活剤のドープ量が多くなるほど発光量が増加する傾向があるが、光の散乱が多くなり画質が低下する。   The scintillator layer 28 also has a specific emission change depending on the amount of activator doped, and the amount of emitted light tends to increase as the amount of activator doped increases, but the amount of light scattering increases and image quality decreases. .

よって、シンチレータ層28A、28Bの付活剤のドープ量をシンチレータ層28B>シンチレータ層28Aとすることによりシンチレータ層28A側を画質重視とし、シンチレータ層28B側を感度重視とすることができる。   Therefore, by setting the scintillator layers 28A and 28B to have an activator doping amount of scintillator layer 28B> scintillator layer 28A, the scintillator layer 28A side can be focused on image quality, and the scintillator layer 28B side can be focused on sensitivity.

また、シンチレータ層28は、用いる材料を変えることにより、放射線に対する発光特定が異なる。   Further, the scintillator layer 28 has different emission specifications for radiation by changing the material used.

例えば、シンチレータ層28AをGOSで形成し、シンチレータ層28BをCsI:Tlで形成することにより、シンチレータ層28Aは感度重視となり、シンチレータ層28Bは画質重視となる。   For example, when the scintillator layer 28A is formed of GOS and the scintillator layer 28B is formed of CsI: Tl, the scintillator layer 28A is focused on sensitivity, and the scintillator layer 28B is focused on image quality.

また、シンチレータ層28は、平板状や柱状分離の層構造とすることにより、放射線に対する発光特定が異なる。   In addition, the scintillator layer 28 has a flat or columnar layer structure, so that the emission specification for radiation is different.

例えば、シンチレータ層28Aを平板状の層構造とし、シンチレータ層28Bを柱状分離の層構造とすることにより、シンチレータ層28Aは感度重視となり、シンチレータ層28Bは画質重視となる。   For example, when the scintillator layer 28A has a flat layer structure and the scintillator layer 28B has a columnar separation layer structure, the scintillator layer 28A is focused on sensitivity, and the scintillator layer 28B is focused on image quality.

また、図18に示すように、シンチレータ層28のTFT基板26と反対側の面にX線を透過し、可視光反射する反射層29を形成することにより、発生した光をより効率的にTFT基板26へ導けるため、感度が向上する。この反射層を設ける方法は、スパッタ法、蒸着法、塗布法のいずれでも良い。反射層29としては、Au,Ag,Cu,Al,Ni,Tiなど、使用するシンチレータ層28の発光波長領域での反射の高い物質が好ましい。例えば、シンチレータ層28がGOS:Tbの場合、波長は400〜600nmにおいて反射率の高いAg,Al,Cuなどがよく、厚さは、0.01μm未満では反射率が得られず、3μを超えても反射率の向上が得られないため、0.01〜3μmが好ましい。 In addition, as shown in FIG. 18, by forming a reflective layer 29 that transmits X-rays and reflects visible light on the surface of the scintillator layer 28 opposite to the TFT substrate 26, the generated light is more efficiently generated. Since it can be led to the TFT substrate 26, the sensitivity is improved. The reflective layer may be provided by any of sputtering, vapor deposition, and coating methods. The reflective layer 29 is preferably a material that is highly reflective in the emission wavelength region of the scintillator layer 28 to be used, such as Au, Ag, Cu, Al, Ni, Ti. For example, the scintillator layer 28 GOS: For Tb, wavelength Ag having high reflectance at 400 to 600 nm, Al, Cu, etc. well, the thickness is not obtained reflectivity is less than 0.01 [mu] m, a 3.mu. m because not obtained on improvement of the reflectance exceeds, 0.01 to 3 [mu] m is preferred.

ここで、シンチレータ層28は、粒子の粒径、粒子の重層構造、粒子の充填率、付活剤のドープ量、材料、層構造の変更や、反射層29の形成を組み合わせて行うことにより、特性を異ならせることができることは言うまでもない。   Here, the scintillator layer 28 is formed by combining particle diameter, particle multilayer structure, particle filling rate, activator dope amount, material, layer structure change, and formation of the reflective layer 29. Needless to say, the characteristics can be different.

本実施の形態では、シンチレータ層28A、28Bの厚み、粒子の粒径、粒子の重層構造、粒子の充填率、付活剤のドープ量、材料、層構造を変えたり、反射層29を形成することにより、放射線検出器20の平板状の一方の面側に放射線が照射された場合と当該平板状の他方の面側に放射線が照射された場合とで撮影される放射線画像の特性を異ならせることができるため、上述の電子カセッテ10A〜10Cに内蔵させることにより、特性の異なる放射線画像の撮影を簡易に行える。   In the present embodiment, the thickness of the scintillator layers 28A and 28B, the particle diameter, the particle multilayer structure, the particle filling rate, the activator dope amount, the material and the layer structure are changed, or the reflective layer 29 is formed. Thus, the characteristics of the radiographic image to be taken are different depending on whether the radiation is applied to one flat surface of the radiation detector 20 or the other surface of the flat plate. Therefore, by incorporating the electronic cassettes 10A to 10C in the above-described manner, radiographic images having different characteristics can be easily taken.

[第3の実施の形態]
次に、第3の実施の形態について説明する。
[Third Embodiment]
Next, a third embodiment will be described.

図19には、第3の実施形態に係る放射線検出器20の構成を模式的に示した断面図が示されている。なお、第1の実施の形態の放射線検出器20(図1〜図4参照)と対応する部分については同一の符号を付して、同じ機能を有する部分については説明を省略する。   FIG. 19 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of the radiation detector 20 according to the third exemplary embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the part corresponding to the radiation detector 20 (refer FIGS. 1-4) of 1st Embodiment, and description is abbreviate | omitted about the part which has the same function.

図19に示すように、放射線検出器20は、1つのシンチレータ層28の両面にTFT基板26(26A、26B)を設けている。   As shown in FIG. 19, the radiation detector 20 is provided with TFT substrates 26 (26 </ b> A, 26 </ b> B) on both surfaces of one scintillator layer 28.

このように、シンチレータ層28の両面にTFT基板26A、26Bを設けているため、本実施の形態の放射線検出器20は、表裏の何れから放射線が照射されても裏面照射となる。   As described above, since the TFT substrates 26A and 26B are provided on both surfaces of the scintillator layer 28, the radiation detector 20 according to the present embodiment performs back-surface irradiation regardless of whether the radiation is irradiated from the front or the back.

本実施の形態では、例えば、TFT基板26A、26Bの光導電層30の材料を変えたり、あるいは、TFT基板26Aとシンチレータ層28の間、TFT基板26Bとシンチレータ層28の間にフィルタを形成したり、TFT基板26AとTFT基板26Bとでフォトダイオードとして機能する光導電層30の受光面積を変えて、受光面積を感度重視する側で画質重視する側よりも広くしたり、TFT基板26AとTFT基板26Bとで画素ピッチを変えて画素ピッチを画質重視する側で感度重視する側よりも狭くしたり、TFT基板26A、26Bの信号の読み出し特性を変更することにより、TFT基板26A、26Bの光に対する受光特性を変えている。   In the present embodiment, for example, the material of the photoconductive layer 30 of the TFT substrates 26A and 26B is changed, or a filter is formed between the TFT substrate 26A and the scintillator layer 28, or between the TFT substrate 26B and the scintillator layer 28. Alternatively, the light receiving area of the photoconductive layer 30 functioning as a photodiode is changed between the TFT substrate 26A and the TFT substrate 26B so that the light receiving area is wider than the side where importance is placed on the image quality. By changing the pixel pitch with the substrate 26B so that the pixel pitch is narrower than the sensitivity-oriented side, or by changing the signal readout characteristics of the TFT substrates 26A and 26B, the light of the TFT substrates 26A and 26B is changed. The light-receiving characteristics for are changed.

TFT基板26A、26Bの光に対する受光特性を変えることにより、放射線検出器20の平板状の一方の面側に放射線が照射された場合と当該平板状の他方の面側に放射線が照射された場合とで撮影される放射線画像の特性を異ならせることができるため、上述の電子カセッテ10A〜10Cに内蔵させることにより特性の異なる放射線画像の撮影を簡易に行える。   By changing the light receiving characteristics of the TFT substrates 26A and 26B with respect to the light, when radiation is applied to one flat surface of the radiation detector 20 and when the other light is irradiated to the other surface of the flat plate Therefore, it is possible to easily capture radiographic images having different characteristics by incorporating them in the above-described electronic cassettes 10A to 10C.

図20には、電子カセッテ10Aに本実施の形態に係る放射線検出器20を内蔵させた際の電気系の要部構成を示すブロック図が示されている。   FIG. 20 is a block diagram showing a main configuration of the electric system when the radiation detector 20 according to the present embodiment is built in the electronic cassette 10A.

放射線検出器20は、TFT基板26Aが撮影領域18A側となり、TFT基板26Bが撮影領域18B側となるように内蔵されているものとする。   The radiation detector 20 is incorporated so that the TFT substrate 26A is on the imaging region 18A side and the TFT substrate 26B is on the imaging region 18B side.

電子カセッテ10Aは、TFT基板26A、26Bに対応してゲート線ドライバ52と信号処理部54を設ければよい。図20には、電子カセッテ10AにおいてTFT基板26A、26Bに対応してゲート線ドライバ52A、52Bと信号処理部54A、54Bを設けた構成が示されている。   The electronic cassette 10A may be provided with a gate line driver 52 and a signal processing unit 54 corresponding to the TFT substrates 26A and 26B. FIG. 20 shows a configuration in which gate line drivers 52A and 52B and signal processing units 54A and 54B are provided corresponding to the TFT substrates 26A and 26B in the electronic cassette 10A.

カセッテ制御部58は、ゲート線ドライバ52A、52Bの動作を制御しており、撮影の際にコンソールから撮影領域18Aと撮影領域18Bの何れが撮影を行うかを示す撮影面情報を無線通信部60を介して受信する。そして、カセッテ制御部58は、放射線Xの照射終了後に、撮影面情報により指定された撮影領域に対応するゲート線ドライバ52を制御して画像の読み出しを行う。   The cassette control unit 58 controls the operation of the gate line drivers 52A and 52B, and captures radiographing surface information indicating which one of the imaging area 18A and the imaging area 18B performs imaging from the console during imaging. Receive via. Then, the cassette control unit 58 reads the image by controlling the gate line driver 52 corresponding to the imaging region specified by the imaging surface information after the irradiation of the radiation X is completed.

これにより、撮影領域18A及び撮影領域18Bで放射線画像の撮影が行える。   Thereby, radiographic images can be captured in the imaging region 18A and the imaging region 18B.

[第4の実施の形態]
次に、第4の実施の形態について説明する。
[Fourth Embodiment]
Next, a fourth embodiment will be described.

図21には、第4の実施形態に係る放射線検出器20の構成を模式的に示した断面図が示されている。なお、第1の実施の形態の放射線検出器20(図1〜図4参照)と対応する部分については同一の符号を付して、同じ機能を有する部分については説明を省略する。   FIG. 21 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of the radiation detector 20 according to the fourth exemplary embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the part corresponding to the radiation detector 20 (refer FIGS. 1-4) of 1st Embodiment, and description is abbreviate | omitted about the part which has the same function.

1に示すように、放射線検出器20は、2つのTFT基板26(26A、26B)と2つのシンチレータ層28(28A、28B)と、放射線を遮蔽する放射線遮蔽板27とを備えている。 As shown in FIG. 2 1, the radiation detector 20 includes two TFT substrate 26 (26A, 26B) and two of the scintillator layer 28 (28A, 28B) and, a radiation shielding plate 27 for shielding radiation .

本実施形態に係る放射線検出器20は、放射線遮蔽板27の一方の面にシンチレータ層28AとTFT基板26Aが順に設けられ、放射線遮蔽板27の他方の面にシンチレータ層28BとTFT基板26B順に設けられている。 In the radiation detector 20 according to the present embodiment, the scintillator layer 28A and the TFT substrate 26A are sequentially provided on one surface of the radiation shielding plate 27, and the scintillator layer 28B and the TFT substrate 26B are sequentially disposed on the other surface of the radiation shielding plate 27. Is provided.

このように、放射線遮蔽板27の一方の面にシンチレータ層28AとTFT基板26Aを順に設けたことにより、シンチレータ層28AとTFT基板26Aは一方の面側からの放射線の照射が裏面照射となり、放射線遮蔽板27の他方の面にシンチレータ層28BとTFT基板26Bを順に設けたことにより、シンチレータ層28BとTFT基板26Bは他方の面側からの放射線の照射が裏面照射となる。また、放射線検出器20は、放射線遮蔽板27を設けたことにより、一方の面側から照射された放射線が他方の面側へ透過せず、他方の面側から照射された放射線が一方の面側へも透過しない。   In this way, by providing the scintillator layer 28A and the TFT substrate 26A in this order on one surface of the radiation shielding plate 27, the scintillator layer 28A and the TFT substrate 26A are irradiated with radiation from the one surface side, so that the radiation is irradiated. By providing the scintillator layer 28B and the TFT substrate 26B in this order on the other surface of the shielding plate 27, the scintillator layer 28B and the TFT substrate 26B are irradiated with radiation from the other surface side. Further, since the radiation detector 20 is provided with the radiation shielding plate 27, the radiation irradiated from one surface side does not transmit to the other surface side, and the radiation irradiated from the other surface side is one surface. It does not penetrate to the side.

本実施の形態では、シンチレータ層28A、28Bの厚み、粒径、粒子の重層構造、充填率、付活剤のドープ量、材料、層構造を変えたり、反射層29を形成したり、TFT基板26A、26Bの光導電層30の材料を変えたり、あるいは、TFT基板26Aとシンチレータ層28の間、TFT基板26Bとシンチレータ層28の間にフィルタを形成したり、TFT基板26AとTFT基板26Bとでフォトダイオードとして機能する光導電層30の受光面積を変えて、受光面積を感度重視する側で画質重視する側よりも広くしたり、TFT基板26AとTFT基板26Bとで画素ピッチを変えて画素ピッチを画質重視する側で感度重視する側よりも狭くしたりすることにより、放射線検出器20の平板状の一方の面側に放射線が照射された場合と当該平板状の他方の面側に放射線が照射された場合とで撮影される放射線画像の特性を異ならせることができるため、上述の電子カセッテ10A〜10Cに内蔵させることにより特性の異なる放射線画像の撮影を簡易に行える。   In the present embodiment, the scintillator layers 28A and 28B are changed in thickness, particle size, particle multilayer structure, filling rate, activator dope amount, material, layer structure, reflective layer 29, TFT substrate, etc. The material of the photoconductive layer 30 of 26A and 26B is changed, or a filter is formed between the TFT substrate 26A and the scintillator layer 28, between the TFT substrate 26B and the scintillator layer 28, or between the TFT substrate 26A and the TFT substrate 26B. The light receiving area of the photoconductive layer 30 functioning as a photodiode is changed so that the light receiving area is wider than the side where importance is placed on the image quality, or the pixel pitch is changed between the TFT substrate 26A and the TFT substrate 26B. Radiation was applied to one flat surface of the radiation detector 20 by making the pitch narrower than the image quality-oriented side. Since the characteristics of the radiographic image to be taken can be made different depending on whether the other surface side of the flat plate is irradiated with radiation, radiation having different characteristics can be obtained by incorporating it in the above-described electronic cassettes 10A to 10C. You can easily take images.

本実施の形態に係る放射線検出器20を上述の電子カセッテ10A〜10Cに内蔵させる場合、放射線検出器20が2つのTFT基板26A、26Bを備えているため、電子カセッテ10A〜10Cは、第3の実施の形態と同様に、TFT基板26A、26Bに対応してゲート線ドライバ52A、52Bと信号処理部54A、54Bを設けるようにすればよい。   When the radiation detector 20 according to the present embodiment is built in the above-described electronic cassettes 10A to 10C, since the radiation detector 20 includes two TFT substrates 26A and 26B, the electronic cassettes 10A to 10C are the third ones. Similarly to the embodiment, the gate line drivers 52A and 52B and the signal processing units 54A and 54B may be provided corresponding to the TFT substrates 26A and 26B.

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。発明の要旨を逸脱しない範囲で上記実施の形態に多様な変更または改良を加えることができ、当該変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれる。   As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. Various modifications or improvements can be added to the above-described embodiment without departing from the gist of the invention, and embodiments to which such modifications or improvements are added are also included in the technical scope of the present invention.

また、上記の実施の形態は、クレーム(請求項)にかかる発明を限定するものではなく、また実施の形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。前述した実施の形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜の組み合わせにより種々の発明を抽出できる。実施の形態に示される全構成要件から幾つかの構成要件が削除されても、効果が得られる限りにおいて、この幾つかの構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。   The above embodiments do not limit the invention according to the claims (claims), and all the combinations of features described in the embodiments are essential for the solution means of the invention. Is not limited. The embodiments described above include inventions at various stages, and various inventions can be extracted by appropriately combining a plurality of disclosed constituent elements. Even if some constituent requirements are deleted from all the constituent requirements shown in the embodiment, as long as an effect is obtained, a configuration from which these some constituent requirements are deleted can be extracted as an invention.

上記各実施の形態では、電子カセッテ10B、10Cのゲート線ドライバ52や信号処理部54を撮影ユニット12内に設けた場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、ゲート線ドライバ52や信号処理部54をASIC(Application Specific Integrated Circuit)など集積回路で構成し、ヒンジ16内や回転軸17内に配置してもよい。これにより、集積回路の冷却効果を高めることができる。   In each of the above embodiments, the case where the gate line driver 52 and the signal processing unit 54 of the electronic cassettes 10B and 10C are provided in the photographing unit 12 has been described, but the present invention is not limited to this. For example, the gate line driver 52 and the signal processing unit 54 may be configured by an integrated circuit such as an ASIC (Application Specific Integrated Circuit) and disposed in the hinge 16 or the rotary shaft 17. Thereby, the cooling effect of the integrated circuit can be enhanced.

また、上記各実施の形態では、放射線を一度シンチレータ層28で光に変換し、変換した光を光導電層30で電荷に変換して蓄積する間接変換方式の放射線検出器20に本発明を適用した場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、第4の実施の形態の放射線検出器20の一方の面側を、放射線を直接、アモルファスセレン等を用いたセンサ部で電荷に変換して蓄積する直接変換方式としてもよい。   In each of the above embodiments, the present invention is applied to the radiation detector 20 of the indirect conversion system in which radiation is once converted into light by the scintillator layer 28, and the converted light is converted into charges by the photoconductive layer 30 and stored. However, the present invention is not limited to this, for example, a sensor that uses amorphous selenium or the like directly on one surface side of the radiation detector 20 of the fourth embodiment. Alternatively, a direct conversion method may be used in which the charge is converted and stored in the unit.

直接変換方式の放射線検出器は、図22に示すように、入射される放射線を変換する放射線変換層の一例として、入射される放射線を電荷に変換する光導電層48が、TFT基板26上に形成されている。   As shown in FIG. 22, in the direct conversion type radiation detector, as an example of a radiation conversion layer for converting incident radiation, a photoconductive layer 48 for converting incident radiation into electric charges is formed on the TFT substrate 26. Is formed.

光導電層48としては、アモルファスSe、Bi12MO20(M:Ti、Si、Ge)、Bi4M3O12(M:Ti、Si、Ge)、Bi2O3、BiMO4(M:Nb、Ta、V)、Bi2WO6、Bi24B2O39、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、MNbO3(M:Li、Na、K)、PbO、HgI2、PbI2、CdS、CdSe、CdTe、BiI3、GaAs等のうち少なくとも1つを主成分とする化合物などが用いられるが、暗抵抗が高く、X線照射に対して良好な光導電性を示し、真空蒸着法により低温で大面積成膜が可能な非晶質(アモルファス)材料が好まれる。 As the photoconductive layer 48, amorphous Se, Bi 12 MO 20 (M: Ti, Si, Ge), Bi 4 M 3 O 12 (M: Ti, Si, Ge), Bi 2 O 3 , BiMO 4 (M: Nb, Ta, V), Bi 2 WO 6 , Bi 24 B 2 O 39 , ZnO, ZnS, ZnSe, ZnTe, MNbO 3 (M: Li, Na, K), PbO, HgI 2 , PbI 2 , CdS, CdSe , CdTe, BiI 3 , GaAs, etc. are used as a main component, but they have high dark resistance, good photoconductivity against X-ray irradiation, and low temperature by vacuum deposition. An amorphous material capable of forming a large area is preferred.

光導電層48上には、光導電層48の表面側に形成され、光導電層48へバイアス電圧を印加するためのバイアス電極49が形成されている。   On the photoconductive layer 48, a bias electrode 49 that is formed on the surface side of the photoconductive layer 48 and applies a bias voltage to the photoconductive layer 48 is formed.

直接変換方式の放射線検出装置では、間接変換方式の放射線検出装置と同様に、光導電層48で発生した電荷を収集する電荷収集電極34がTFT基板26に形成されている。   In the direct conversion type radiation detection apparatus, as in the indirect conversion type radiation detection apparatus, a charge collection electrode 34 that collects the charges generated in the photoconductive layer 48 is formed on the TFT substrate 26.

また、直接変換方式の放射線検出装置におけるTFT基板26は、各電荷収集電極34で収集された電荷を蓄積する電荷蓄積容量35を備えている。この各電荷蓄積容量35に蓄積された電荷が、スイッチ素子24によって読み出される。   Further, the TFT substrate 26 in the direct conversion type radiation detection apparatus includes a charge storage capacitor 35 for storing the charges collected by the charge collection electrodes 34. The charge accumulated in each charge storage capacitor 35 is read out by the switch element 24.

また、第4の実施の形態では、放射線検出器20の一方の面及び他方の面を共に裏面照射の構成とした場合について説明したが、これに限定されるものではない。一方の面及び他方の面の一方又は両方を表面照射の構成としてもよい。   In the fourth embodiment, the case where both the one surface and the other surface of the radiation detector 20 are configured to be back-illuminated has been described. However, the present invention is not limited to this. One or both of one surface and the other surface may be configured as surface irradiation.

また、各実施の形態では、静止画の撮影を行う場合について説明したが、これに限定されるものではなく、動画撮影を行うようにしてもよい。動画撮影は連続的に撮影を繰り返すため、発熱量多い。このため、例えば、電子カセッテ10Bのように、撮影ユニット12と制御ユニット14とを開閉可能に構成した場合、収納状態において静止画撮影を可能とし、展開状態において動画撮影を可能とすること冷却の点から好ましい。 In each embodiment, the case of taking a still image has been described. However, the present invention is not limited to this, and moving image shooting may be performed. Because movie shooting repeated continuously shooting, the calorific value is large. Thus, for example, as in the electronic cassette 10B, if the openable structure of the imaging unit 12 and the control unit 14, to allow the still image shooting in the accommodated state, cooling to allow moving image shooting in the deployed state From the point of view, it is preferable.

ところで、CsIは、図23に示すように、連続して撮影が行われて累積被曝量の増加と共に感度が低下し、放射線が照射されない状態で維持されると低下した感度が回復する。   By the way, as shown in FIG. 23, the sensitivity of CsI decreases as the cumulative exposure dose increases, and the sensitivity decreases when the CsI is maintained in a state where no radiation is irradiated.

このため、例えば、図16、図21に示すように2つのシンチレータ層28(28A、28B)を有する放射線検出器20のシンチレータ層28A、28BをCsI(例えば、CsI:Tlの柱状結晶)で形成する。そして、この放射線検出器20を電子カセッテ10A〜10Cに内蔵させて一方の面及び他方の面(撮影領域18A、18B)で放射線画像を撮影可能に構成する。この場合、電子カセッテ10A〜10Cでは、一方の面及び他方の面を照射された放射線の線量をそれぞれ検出して一方の面及び他方の面での累積被曝量をそれぞれ記憶し、累積被曝量から推測されるシンチレータ層28の感度が撮影される放射線画像の画質に影響が生じる所定の許容感度以下となった場合、シンチレータ層28の感度が許容感度以下となった面での撮影を禁止して、反対側の面での撮影を促すようにしてもよい。特に、図21に示す放射線検出器20は、放射線遮蔽板27で放射線が遮蔽されるため、許容値以上となった面のシンチレータ層28を放射線が照射されない状態にして休ませることができる。照射された放射線の線量の検出は、電子カセッテ10A〜10Cの内部に放射線を検知可能なセンサを設けて行うものとしてもよく、また、撮影された放射線画像の各画素の画素値から行うものとしてもよい(例えば、全画素の画素値の累計値を照射された放射線の線量とみなす)。シンチレータ層28の感度が許容感度以下となった面での撮影の禁止は、コンソールなどの外部装置を介して撮影者に通知するものとしてもよく、また、操作パネル19に表示部などを設けて表示により行うものとしてもよい。   Therefore, for example, as shown in FIGS. 16 and 21, the scintillator layers 28A and 28B of the radiation detector 20 having the two scintillator layers 28 (28A and 28B) are formed of CsI (for example, CsI: Tl columnar crystals). To do. Then, the radiation detector 20 is built in the electronic cassettes 10A to 10C so that radiographic images can be captured on one surface and the other surface (imaging regions 18A and 18B). In this case, in the electronic cassettes 10A to 10C, the doses of radiation irradiated on one surface and the other surface are detected, respectively, and the cumulative exposure doses on the one surface and the other surface are stored, respectively. When the estimated sensitivity of the scintillator layer 28 is lower than a predetermined allowable sensitivity that affects the image quality of the radiographic image to be captured, photographing on the surface where the sensitivity of the scintillator layer 28 is lower than the allowable sensitivity is prohibited. It is also possible to encourage shooting on the opposite side. In particular, since the radiation detector 20 shown in FIG. 21 is shielded from radiation by the radiation shielding plate 27, the scintillator layer 28 on the surface that has exceeded the allowable value can be rested without being irradiated with radiation. Detection of the dose of irradiated radiation may be performed by providing a sensor capable of detecting radiation inside the electronic cassettes 10A to 10C, or from the pixel value of each pixel of the captured radiation image. (For example, the cumulative value of the pixel values of all the pixels is regarded as the dose of the irradiated radiation). The prohibition of shooting when the sensitivity of the scintillator layer 28 is less than the allowable sensitivity may be notified to the photographer via an external device such as a console, and a display unit or the like is provided on the operation panel 19. The display may be performed.

また、CsIは、高温環境に保存することで低下した感度が早く回復する。また、CsIは、使用環境温度が高い方が感度の低下を抑制できる。このため、例えば、図16、図21に示すように2つのシンチレータ層28(28A、28B)を有する放射線検出器20の一方のシンチレータ層28AをCsI(例えば、CsI:Tlの柱状結晶)で形成し、他方のシンチレータ層28BをGOSで形成する。そして、この放射線検出器20を開閉可能な電子カセッテ10Bに内蔵させて一方の面及び他方の面(撮影領域18A、18B)で放射線画像を撮影可能に構成する。この場合、図24(A)(B)に示すように、放射線検出器20は、収納状態においてシンチレータ層28Bが制御ユニット14側、シンチレータ層28Aが外側(制御ユニット14側の反対側)となるように撮影ユニット12に内蔵されることが好ましい。電子カセッテ10Bは、収納状態(図24(A))で制御ユニット14からの熱が撮影ユニット12に伝わり易い。このため、撮影領域18B側にシンチレータ層28Aを配置して収納状態での撮影にシンチレータ層28Aを用いることにより、シンチレータ層28Aの感度の低下が抑制される。一方、GOSは温度変化による感度の変化はほとんどない。このため、撮影領域18A側にシンチレータ層28Bを配置して展開状態(図24(B))での撮影にシンチレータ層28Bを用いることにより温度変化による感度の変化で画質の変化がほとんど発生しない。   Also, CsI recovers quickly from the reduced sensitivity when stored in a high temperature environment. Moreover, CsI can suppress the fall of a sensitivity, the one where use environment temperature is high. Therefore, for example, as shown in FIGS. 16 and 21, one scintillator layer 28A of the radiation detector 20 having two scintillator layers 28 (28A, 28B) is formed of CsI (for example, CsI: Tl columnar crystal). Then, the other scintillator layer 28B is formed by GOS. The radiation detector 20 is built in an openable / closable electronic cassette 10B so that a radiation image can be captured on one surface and the other surface (imaging regions 18A and 18B). In this case, as shown in FIGS. 24A and 24B, in the radiation detector 20, in the housed state, the scintillator layer 28B is on the control unit 14 side, and the scintillator layer 28A is on the outside (opposite side of the control unit 14 side). As described above, it is preferably built in the photographing unit 12. In the electronic cassette 10B, heat from the control unit 14 is easily transmitted to the photographing unit 12 in the housed state (FIG. 24A). For this reason, by disposing the scintillator layer 28A on the photographing region 18B side and using the scintillator layer 28A for photographing in the housed state, a decrease in sensitivity of the scintillator layer 28A is suppressed. On the other hand, the sensitivity of GOS hardly changes due to temperature change. For this reason, by arranging the scintillator layer 28B on the photographing region 18A side and using the scintillator layer 28B for photographing in the unfolded state (FIG. 24B), the image quality hardly changes due to the change in sensitivity due to the temperature change.

また、シンチレータ層28をCsIで形成した場合、累積被曝量からシンチレータ層28の感度の変化を推測し、シンチレータ層28の感度が許容感度以下となった際にシンチレータ層28の温度を高く維持して低下した感度を早く回復させるようにしてもよい。   In addition, when the scintillator layer 28 is formed of CsI, a change in the sensitivity of the scintillator layer 28 is estimated from the accumulated exposure amount, and when the sensitivity of the scintillator layer 28 becomes lower than the allowable sensitivity, the temperature of the scintillator layer 28 is maintained high. The reduced sensitivity may be recovered quickly.

図25には、例えば、図24(A)(B)に示すような構成の電子カセッテ10において、CsIで形成されたシンチレータ層28Aの感度変化の一例が示されている。   FIG. 25 shows an example of a sensitivity change of the scintillator layer 28A formed of CsI in the electronic cassette 10 having the configuration shown in FIGS. 24 (A) and 24 (B), for example.

電子カセッテ10は、撮影1日目及び2日目、それぞれ撮影領域18Bでの撮影が行われることによりシンチレータ層28Aの感度が低下し、夜間に放射線が照射されない状態で維持されることによりシンチレータ層28Aの感度が回復する。また、電子カセッテ10は、撮影3日目、撮影領域18Bで連続的に放射線画像の撮影を行う透視撮影(動画撮影)が行われ、シンチレータ層28Aの感度が許容感度以下となった際に、撮影領域18Bでの撮影を禁止して、撮影領域18Aでの撮影や、他の電子カセッテ10での撮影を促すようにする。   In the electronic cassette 10, the sensitivity of the scintillator layer 28A is reduced by performing imaging in the imaging region 18B on the first and second imaging days, and the scintillator layer is maintained in a state where no radiation is irradiated at night. The sensitivity of 28A is restored. In addition, the electronic cassette 10 is subjected to fluoroscopic imaging (moving image imaging) in which radiographic images are continuously captured in the imaging region 18B on the third day of imaging, and when the sensitivity of the scintillator layer 28A falls below the allowable sensitivity, Shooting in the shooting area 18B is prohibited, and shooting in the shooting area 18A or shooting with another electronic cassette 10 is encouraged.

各撮影日でのシンチレータ層28Aの感度の変化は、例えば、各撮影日に最初に所定量の放射線を電子カセッテ10に照射して装置状態を校正するキャリブレーションを行うものとした場合、各撮影日のキャリブレーションの際にシンチレータ層28Aの感度を検出を行い、各撮影日の間、それぞれ照射された累積被曝量を求めてキャリブレーションの際に検出したシンチレータ層28Aの感度が、図23に示すように累積被曝量の増加と共に感度が低下するものとして、シンチレータ層28Aの感度を推定するものとしてもよい。また、撮影で放射線が照射された照射時期及び累積被曝量と放射線が照射されない状態で維持された期間からシンチレータ層28Aの感度を推定するものとしてもよい。   The change in sensitivity of the scintillator layer 28A on each shooting date is, for example, when calibration is performed to calibrate the apparatus state by first irradiating the electronic cassette 10 with a predetermined amount of radiation on each shooting date. FIG. 23 shows the sensitivity of the scintillator layer 28A detected at the time of calibration by detecting the sensitivity of the scintillator layer 28A during the calibration of the day, obtaining the cumulative exposure dose irradiated during each photographing day. As shown, the sensitivity of the scintillator layer 28A may be estimated as the sensitivity decreases as the cumulative exposure increases. Further, the sensitivity of the scintillator layer 28A may be estimated from the irradiation time when radiation is irradiated in imaging, the accumulated exposure dose, and the period maintained without irradiation.

また、電子カセッテ10は、シンチレータ層28Aの感度が許容感度以下となった場合、例えば、夜間、制御ユニット14を発熱させて、制御ユニット14の熱により撮影ユニット12を暖め、シンチレータ層28Aの温度を高く維持することにより低下したシンチレータ層28Aの感度を早く回復させている。なお、電子カセッテ10がクレードルなどの収容装置に収容されて保管される場合、収容装置が、夜間、電子カセッテ10を暖め、シンチレータ層28Aの温度を高く維持するものとしてもよい。   In addition, when the sensitivity of the scintillator layer 28A becomes less than the allowable sensitivity, the electronic cassette 10 generates heat at the control unit 14 at night, for example, and warms the photographing unit 12 by the heat of the control unit 14, and the temperature of the scintillator layer 28A. The sensitivity of the scintillator layer 28A, which has been lowered, is recovered quickly by maintaining a high value. In the case where the electronic cassette 10 is stored and stored in a storage device such as a cradle, the storage device may warm the electronic cassette 10 at night to keep the temperature of the scintillator layer 28A high.

その他、上記実施の形態で説明した電子カセッテ10及び放射線検出器20の構成は一例であり、本発明の主旨を逸脱しない範囲内において適宜変更可能であることは言うまでもない。   In addition, the configurations of the electronic cassette 10 and the radiation detector 20 described in the above embodiment are merely examples, and it is needless to say that the configurations can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention.

10A、10B、10C 電子カセッテ
12 撮影ユニット
14 制御ユニット
16 ヒンジ(連結部材)
17 回転軸(連結部材)
20 放射線検出器
26、26A、26B TFT基板(基板)
27 放射線遮蔽板(遮蔽板)
28、28A、28B シンチレータ層(発光層)
29 反射層
30 光導電層
10A, 10B, 10C Electronic cassette 12 Imaging unit 14 Control unit 16 Hinge (connection member)
17 Rotating shaft (connecting member)
20 Radiation detector 26, 26A, 26B TFT substrate (substrate)
27 Radiation shielding plate (shielding plate)
28, 28A, 28B Scintillator layer (light emitting layer)
29 reflective layer 30 photoconductive layer

Claims (11)

平板状に形成されると共に、当該平板状の一方の面側に放射線が照射された場合と当該平板状の他方の面側に放射線が照射された場合とで撮影される放射線画像の特性が異なり、放射線が照射されることにより光が発生する発光層、及び当該発光層に発生した光を受光することにより電荷が蓄積されると共に当該電荷を読み出すためのスイッチ素子が形成された基板が積層されて構成された放射線検出器が内蔵され、前記一方の面側及び前記他方の面側の何れにおいても照射された放射線による放射線画像を撮影可能とされた可搬型放射線撮影装置。 In addition to being formed in a flat plate shape, the characteristics of the radiographic image taken are different when radiation is applied to one side of the flat plate and when radiation is applied to the other surface of the flat plate. A light-emitting layer that generates light when irradiated with radiation, and a substrate on which a switch element for reading out the charge is formed while charge is accumulated by receiving light generated in the light-emitting layer. A portable radiation imaging apparatus that includes a radiation detector configured as described above and that can capture a radiation image of the irradiated radiation on both the one surface side and the other surface side. 前記放射線検出器は、前記発光層と前記基板のいずれか一方が2つ設けられ、前記発光層と前記基板とが交互に積層された
請求項記載の可搬型放射線撮影装置。
Said radiation detector, wherein one of the light-emitting layer and the substrate is two provided, the light-emitting layer and the substrate and is portable radiographic imaging device according to claim 1, wherein the alternately stacked.
前記放射線検出器は、前記発光層と前記基板それぞれ2つ設けられると共に、放射線を遮蔽する遮蔽板が設けられ、当該遮蔽板の前記一方の面側及び前記他方の面側に前記発光層と前記基板が積層されて構成された
請求項記載の可搬型放射線撮影装置。
The radiation detector is provided with two light emitting layers and two substrates , respectively, and is provided with a shielding plate for shielding radiation, and the light emitting layer is disposed on the one surface side and the other surface side of the shielding plate. portable radiographic imaging device according to claim 1, wherein the substrate is formed by laminating.
前記放射線検出器は、前記発光層が2つ設けられると共に、当該2つの発光層の厚み、当該発光層に充填され、放射線が照射されることにより発光する粒子の粒径、当該粒子の重層構造、当該粒子の充填率、付活剤のドープ量、前記発光層の材料、及び前記発光層の層構造の少なくとも1つの変更、並びに前記発光層の前記基板と非対向の面への前記光反射する反射層の形成の何れかが行われた
請求項又は請求項記載の可搬型放射線撮影装置。
Said radiation detector, said light emitting layer has two provided Rutotomoni, the two light-emitting layer having a thickness is filled in the light-emitting layer, the particle size of the particles radiation emits light by being irradiated layer of the particles At least one change in the structure, the filling rate of the particles, the doping amount of the activator, the material of the light emitting layer, and the layer structure of the light emitting layer, and the light on the surface of the light emitting layer not facing the substrate portable radiographic imaging device according to claim 2 or claim 3, wherein any one has been made of the formation of the reflective layer for reflecting.
前記放射線検出器は、前記基板が2つ設けられると共に、当該2つの基板の信号の読み出し特性の変更が行われた
請求項2又は請求項3記載の可搬型放射線撮影装置。
It said radiation detector, wherein the substrate is two provided Rutotomoni, portable radiographic imaging device of the two according to claim 2 or claim 3, wherein changing the read characteristics of the substrate of the signal is performed.
前記放射線検出器は、前記一方の面側及び前記他方の面側の何れ一方が放射線を半導体層で電荷に変換する直接変換方式とされ、他方が放射線を光に変換した後に電荷に変換する間接変換方式とされた
請求項記載の可搬型放射線撮影装置。
Wherein the radiation detector is one of the one surface side and the other surface is a direct conversion method that converts a charge radiation in the semiconductor layer, converts the charge after the other is obtained by converting the radiation into light indirect conversion with claims 1 portable radiographic imaging device according.
前記発光層は、放射線が照射されることにより発光する蛍光体材料の柱状結晶を含んで構成された
請求項〜請求項の何れか1項記載の可搬型放射線撮影装置。
The EML phosphor portable radiographic imaging device according to any one of claims 1 to 6, which is configured to include columnar crystals of the material that emits light when radiation is irradiated.
前記蛍光体材料を、CsIとした
請求項項記載の可搬型放射線撮影装置。
The portable radiographic apparatus according to claim 7 , wherein the phosphor material is CsI.
前記放射線検出器は、前記一方の面側及び前記他方の面側の何れ一方が画質重視の特性とされ、他方が感度重視の特性とされた
請求項1〜請求項の何れか1項記載の可搬型放射線撮影装置。
Wherein the radiation detector is one of the one surface side and the other surface side is a characteristic of the image-quality priority, any one of claims 1 to 8 in which the other is a characteristic of sensitivity oriented The portable radiation imaging apparatus described.
平板状に形成されると共に、前記放射線検出器が内蔵され、当該平板の一方の面側、他方の面側の何れにおいても照射された放射線による放射線画像を撮影可能な撮影ユニットと、
前記放射線検出器の撮影動作を制御する制御部が内蔵された制御ユニットと、
前記撮影ユニットと前記制御ユニットとが並んだ展開状態、及び前記撮影ユニットと前記制御ユニットとが重なり合って折り畳まれた収納状態に開閉可能に連結する連結部材と、
を備えた請求項1〜請求項の何れか1項記載の可搬型放射線撮影装置。
Is formed in a flat plate shape, the radiation detector is incorporated, the imaging unit can image a radiation image by radiation is also irradiated the flat-plate-like one side, in any of the other side,
A control unit having a built-in control unit for controlling the imaging operation of the radiation detector;
A connecting member that is openably and closably connected to an unfolded state in which the photographing unit and the control unit are aligned, and a storage state in which the photographing unit and the control unit are overlapped and folded;
A portable radiation imaging apparatus according to any one of claims 1 to 9 , further comprising:
平板状に形成されると共に、前記放射線検出器が内蔵され、当該平板の一方の面側、他方の面側の何れにおいても照射された放射線による放射線画像を撮影可能な撮影ユニットと、
前記放射線検出器の撮影動作を制御する制御部が内蔵された制御ユニットと、
前記制御ユニットに対して前記撮影ユニットの一方の面、他方の面を反転可能に連結する連結部材と、
を備えた請求項1〜請求項の何れか1項記載の可搬型放射線撮影装置。
Is formed in a flat plate shape, the radiation detector is incorporated, the imaging unit can image a radiation image by radiation is also irradiated the flat-plate-like one side, in any of the other side,
A control unit having a built-in control unit for controlling the imaging operation of the radiation detector;
A connecting member that reversibly connects one surface of the photographing unit to the control unit, and the other surface;
A portable radiation imaging apparatus according to any one of claims 1 to 9 , further comprising:
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