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JP5849386B2 - Suspension substrate, method for manufacturing suspension substrate, suspension, suspension with element, and hard disk drive - Google Patents

Suspension substrate, method for manufacturing suspension substrate, suspension, suspension with element, and hard disk drive Download PDF

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JP5849386B2 JP2010216118A JP2010216118A JP5849386B2 JP 5849386 B2 JP5849386 B2 JP 5849386B2 JP 2010216118 A JP2010216118 A JP 2010216118A JP 2010216118 A JP2010216118 A JP 2010216118A JP 5849386 B2 JP5849386 B2 JP 5849386B2
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Description

本発明は、スライダ実装性に優れ、はんだショートのないサスペンション用基板に関するものである。   The present invention relates to a suspension substrate that is excellent in slider mountability and free from solder shorts.

近年、インターネットの普及等によりパーソナルコンピュータの情報処理量の増大や情報処理速度の高速化が要求されてきており、それに伴って、パーソナルコンピュータに組み込まれているハードディスクドライブ(HDD)も大容量化や情報伝達速度の高速化が必要となってきている。そのため、HDDに用いられるサスペンション用基板(フレキシャー)にも高機能化が求められている。   In recent years, due to the spread of the Internet and the like, there has been a demand for an increase in the amount of information processing of personal computers and an increase in information processing speed, and along with this, the capacity of hard disk drives (HDD) incorporated in personal computers has increased. Increasing information transmission speed is required. For this reason, higher functions are also required for suspension substrates (flexures) used in HDDs.

サスペンション用基板は、スライダ実装領域に、ハードディスクからデータを読み取るスライダ(磁気ヘッド)が接続される。
このようなスライダの接続方法としては、サスペンション用基板のはんだパッド部と、スライダの側面に設けられた端子とをはんだもしくは金ボールで接続する方法が用いられている。しかしながら、HDD性能を向上させるためさまざまな機能をサスペンション用基板およびスライダに設けるため、接続用端子の増加が余儀なくされている。その結果、実装難易度およびスライダの構造の複雑化が進んでいる。それを解消するため、スライダのサスペンション用基板との接触面に接続端子を配置した表面実装形態のスライダおよびサスペンション用基板が提案されている(例えば、特許文献1等)。
In the suspension substrate, a slider (magnetic head) for reading data from the hard disk is connected to the slider mounting area.
As a method for connecting such a slider, a method is used in which a solder pad portion of a suspension board and a terminal provided on a side surface of the slider are connected by solder or gold balls. However, since various functions are provided on the suspension substrate and the slider in order to improve the HDD performance, the number of connection terminals is inevitably increased. As a result, the mounting difficulty level and the complexity of the slider structure are increasing. In order to solve this problem, a slider and a suspension substrate in a surface mounting form in which connection terminals are arranged on a contact surface of the slider with the suspension substrate have been proposed (for example, Patent Document 1).

しかしながら、このような表面実装形態では、サスペンション用基板のスライダ実装領域において、上記スライダ実装領域および外部端子部を接続する接続配線や、上記スライダとはんだ接続されるはんだパッド、ビア用配線層等の導体層、上記導体層の表面に形成されるめっき層およびカバー層の厚み等により、スライダが傾むく等の不具合が生じ実装性が低下したり、スライダをサスペンション用基板上に貼り付けた際に、はんだの流動により短絡が生じるといった不具合が発生する可能性があった。   However, in such a surface mounting configuration, in the slider mounting area of the suspension board, the connection wiring connecting the slider mounting area and the external terminal portion, the solder pad soldered to the slider, the via wiring layer, etc. When the conductor layer, the plating layer formed on the surface of the conductor layer, and the thickness of the cover layer cause problems such as tilting of the slider, the mountability is reduced, or the slider is attached to the suspension substrate. There is a possibility that a short circuit may occur due to the flow of solder.

特開2008−159245号公報JP 2008-159245 A

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、スライダ実装性に優れ、はんだショートのないサスペンション用基板を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and has as its main object to provide a suspension substrate that is excellent in slider mountability and free from solder shorts.

上記課題を解決するために、本発明は、金属基板と、上記金属基板上に形成されたベース絶縁層と、上記ベース絶縁層上に形成され、スライダ実装領域、および上記スライダ実装領域の反対側の端部に配置された外部端子部を接続する接続配線を少なくとも有する導体層と、を有するサスペンション用基板であって、上記スライダ実装領域には、上記ベース絶縁層に形成された貫通孔内に充填されてなり、上記金属基板およびビア用配線を接続する導電性材料からなるビアが形成され、上記スライダ実装領域の導体層には、上記接続配線または上記ビア用配線と接続し、はんだを介してスライダと接続するためのはんだパッドが形成されており、さらに、上記実装領域には、上記導体層上に配置され、かつ上記はんだパッドを囲うように形成されたドライフィルムレジストからなるドライフィルムレジスト層が配置され、上記ドライフィルムレジスト層は、上記ビアより厚い膜厚を有し、かつ上記ドライフィルムレジスト層上に配置されるスライダを上記金属基板に対して平行に保つ位置に配置されていることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。   In order to solve the above problems, the present invention provides a metal substrate, a base insulating layer formed on the metal substrate, a slider mounting region formed on the base insulating layer, and the opposite side of the slider mounting region. And a conductor layer having at least a connection wiring for connecting an external terminal portion disposed at an end of the suspension board, wherein the slider mounting region has a through hole formed in the base insulating layer. A via made of a conductive material for connecting the metal substrate and the via wiring is formed, and the conductor layer in the slider mounting region is connected to the connection wiring or the via wiring, via solder. Solder pads for connecting to the slider are formed, and the mounting area is formed on the conductor layer so as to surround the solder pads. A dry film resist layer made of a dry film resist is disposed, and the dry film resist layer has a film thickness thicker than the via, and a slider disposed on the dry film resist layer is disposed on the metal substrate. And a suspension substrate characterized in that the suspension substrate is disposed in a position to be kept parallel to each other.

本発明によれば、上述のドライフィルムレジスト層を有することにより、上記サスペンション用基板のスライダ実装領域を平坦性に優れたものとすることができ、スライダの実装性に優れたものとすることができる。また、はんだが所定の領域から他所に流出することを防ぐことができ、はんだショートのないものとすることができる。   According to the present invention, by having the above-mentioned dry film resist layer, the slider mounting region of the suspension substrate can be made excellent in flatness, and the slider mounting property can be made excellent. it can. In addition, it is possible to prevent the solder from flowing out from a predetermined region to other places, and it is possible to prevent a solder short.

本発明においては、上記ドライフィルムレジストが感光性ポリイミド樹脂からなるものであることが好ましい。
上記ドライフィルムレジスト層の形状等を精度良く形成することができるからである。
In the present invention, the dry film resist is preferably made of a photosensitive polyimide resin.
This is because the shape and the like of the dry film resist layer can be formed with high accuracy.

本発明においては、上記導体層を覆うように形成されたカバー層を有することが好ましい。上記ドライフィルムレジスト層により覆われない領域の導体層を覆うことにより、めっき層の形成面積を小さいものとすることができ、コストダウンを図ることができる。   In this invention, it is preferable to have a cover layer formed so that the said conductor layer may be covered. By covering the conductor layer in the region not covered with the dry film resist layer, the formation area of the plating layer can be reduced, and the cost can be reduced.

本発明においては、上記ドライフィルムレジスト層が、上記ビアを覆うように形成されていることが好ましい。平坦性により優れたものとすることができるからである。   In the present invention, the dry film resist layer is preferably formed so as to cover the via. This is because the flatness can be improved.

本発明においては、上記はんだパッド上に、はんだが積層されていることが好ましい。上記スライダの実装を容易なものとすることができるからである。   In the present invention, it is preferable that a solder is laminated on the solder pad. This is because the mounting of the slider can be facilitated.

本発明は、サスペンション用基板を含むことを特徴とするサスペンションを提供する。   The present invention provides a suspension including a suspension substrate.

本発明によれば、上述したサスペンション用基板を用いることで、接続安定性に優れたサスペンションとすることができる。   According to the present invention, a suspension having excellent connection stability can be obtained by using the suspension substrate described above.

また、本発明においては、上述したサスペンションと、上記サスペンションのスライダ実装領域に実装された素子(スライダ)と、を有することを特徴とする素子付サスペンションを提供する。   The present invention also provides a suspension with an element, characterized by having the above-described suspension and an element (slider) mounted in a slider mounting region of the suspension.

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、接続安定性に優れた素子付サスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension, a suspension with an element having excellent connection stability can be obtained.

また、本発明においては、上述した素子付サスペンションを含むことを特徴とするハードディスクドライブを提供する。   The present invention also provides a hard disk drive including the above-described suspension with an element.

本発明によれば、上述した素子付サスペンションを用いることで、安定性に優れたハードディスクドライブとすることができる。   According to the present invention, a hard disk drive having excellent stability can be obtained by using the above-described suspension with an element.

本発明は、金属基板と、上記金属基板上に形成されたベース絶縁層と、上記ベース絶縁層上に形成され、スライダ実装領域、および上記スライダ実装領域の反対側の端部に配置された外部端子部を接続する接続配線を少なくとも有する導体層と、を有し、上記スライダ実装領域には、上記ベース絶縁層に形成された貫通孔内に充填されてなり、上記金属基板およびビア用配線を接続する導電性材料からなるビアとが形成され、上記スライダ実装領域の導体層には、上記接続配線または上記ビア用配線と接続し、はんだを介してスライダと接続するためのはんだパッドが形成されており、さらに、上記実装領域には、上記導体層上に配置され、かつ上記はんだパッドを囲うように形成されたドライフィルムレジストからなるドライフィルムレジスト層が配置され、上記ドライフィルムレジスト層は、上記ビアより厚い膜厚を有し、かつ上記ドライフィルムレジスト層上に配置されるスライダを上記金属基板に対して平行に保つ位置に配置されているサスペンション用基板の製造方法であって、上記金属基板、ベース絶縁層、導体層およびビアを有する積層基板を準備する積層基板準備工程と、上記ドライフィルムレジストを、上記積層基板に、上記はんだパッド、導体層およびビアを覆うように貼り付けた後、上記ドライフィルムレジストを露光・現像し、上記ドライフィルムレジスト層を形成するドライフィルムレジスト層形成工程を有することを特徴とするサスペンション用基板の製造方法を提供する。   The present invention relates to a metal substrate, a base insulating layer formed on the metal substrate, a slider mounting region formed on the base insulating layer, and an external portion disposed on the opposite end of the slider mounting region. A conductor layer having at least a connection wiring for connecting the terminal portion, and the slider mounting region is filled in a through-hole formed in the base insulating layer, and the metal substrate and the via wiring are connected to each other. A via made of a conductive material to be connected is formed, and a solder pad for connecting to the connection wiring or the via wiring and connecting to the slider via solder is formed on the conductor layer in the slider mounting region. Further, the mounting region is provided with a dry film resist made of a dry film resist disposed on the conductor layer and formed so as to surround the solder pad. The dry film resist layer has a thickness greater than that of the via, and is disposed at a position that keeps the slider disposed on the dry film resist layer parallel to the metal substrate. A method for manufacturing a suspension substrate, comprising: a multilayer substrate preparation step of preparing a multilayer substrate having the metal substrate, a base insulating layer, a conductor layer, and a via; and the dry film resist on the multilayer substrate, the solder pad Manufacturing a suspension substrate, characterized by having a dry film resist layer forming step of forming the dry film resist layer by exposing and developing the dry film resist after pasting so as to cover the conductor layer and the via Provide a method.

本発明によれば、上記ドライフィルムレジスト層形成工程を有することにより、平坦性に優れたサスペンション用基板を容易に得ることができる。   According to the present invention, by having the dry film resist layer forming step, a suspension substrate having excellent flatness can be easily obtained.

本発明は、スライダ実装性に優れ、はんだショートのないサスペンション用基板を提供できるといった効果を奏する。   The present invention is advantageous in that it can provide a suspension substrate that is excellent in slider mountability and free from solder shorts.

本発明のサスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明における端子形成部およびその近傍の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the terminal formation part in this invention, and its vicinity. 図2のA−A線断面図である。It is the sectional view on the AA line of FIG. 図2に記載のサスペンション用基板にスライダが実装された場合のA−A線断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA when a slider is mounted on the suspension substrate illustrated in FIG. 2. 本発明のサスペンション用基板の他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the other example of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板の他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the other example of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板の他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the other example of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板の他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the other example of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板の他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the other example of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板の他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the other example of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板の他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the other example of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンションの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the suspension of this invention. 本発明の素子付サスペンションの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the suspension with an element of this invention. 本発明のハードディスクドライブの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the hard disk drive of this invention.

本発明は、サスペンション用基板、それを用いたサスペンション、素子付サスペンションおよびハードディスクドライブ、ならびにその製造方法に関するものである。
以下、本発明のサスペンション用基板、サスペンション用基板の製造方法、サスペンション、素子付サスペンションおよびハードディスクドライブについて詳細に説明する。
The present invention relates to a suspension board, a suspension using the same, a suspension with an element and a hard disk drive, and a method of manufacturing the same.
The suspension substrate, suspension substrate manufacturing method, suspension, suspension with element, and hard disk drive of the present invention will be described in detail below.

A.サスペンション用基板
まず、本発明のサスペンション用基板について説明する。
本発明のサスペンション用基板は、金属基板と、上記金属基板上に形成されたベース絶縁層と、上記ベース絶縁層上に形成され、スライダ実装領域、および上記スライダ実装領域の反対側の端部に配置された外部端子部を接続する接続配線を少なくとも有する導体層と、を有するサスペンション用基板であって、上記スライダ実装領域には、上記ベース絶縁層に形成された貫通孔内に充填されてなり、上記金属基板およびビア用配線を接続する導電性材料からなるビアが形成され、上記スライダ実装領域の導体層には、上記接続配線または上記ビア用配線と接続し、はんだを介してスライダと接続するためのはんだパッドが形成されており、さらに、上記実装領域には、上記導体層上に配置され、かつ上記はんだパッドを囲うように形成されたドライフィルムレジストからなるドライフィルムレジスト層が配置され、上記ドライフィルムレジスト層は、上記ビアより厚い膜厚を有し、かつ上記ドライフィルムレジスト層上に配置されるスライダを上記金属基板に対して平行に保つ位置に配置されていることを特徴とするものである。
A. First, the suspension substrate of the present invention will be described.
The suspension substrate of the present invention is formed on the metal substrate, the base insulating layer formed on the metal substrate, the base insulating layer, and the slider mounting region and the end opposite to the slider mounting region. A suspension substrate having at least a connection layer for connecting the arranged external terminal portion, wherein the slider mounting region is filled in a through-hole formed in the base insulating layer. A via made of a conductive material for connecting the metal substrate and the via wiring is formed, and the conductor layer in the slider mounting region is connected to the connection wiring or the via wiring and connected to the slider via solder. A solder pad is formed on the conductive layer, and the solder pad is formed so as to surround the solder pad. A dry film resist layer made of a dry film resist is disposed. The dry film resist layer has a thickness greater than that of the via, and a slider disposed on the dry film resist layer is parallel to the metal substrate. It is arrange | positioned in the position kept at this.

このような本発明のサスペンション用基板について図を参照して説明する。図1は、本発明のサスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。図1に示されるサスペンション用基板10は、一方の先端部分に形成されたスライダ実装領域20と、上記スライダ実装領域20の反対側の端部に配置された外部端子部と、上記外部端子部およびスライダ実装領域20を接続する接続配線3cと、を有するものである。
また、図2は、図1のスライダ実装領域20の近傍を示す概略平面図であり、図3は、図2のA−A線断面図である。
Such a suspension substrate of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic plan view showing an example of the suspension substrate of the present invention. A suspension substrate 10 shown in FIG. 1 includes a slider mounting region 20 formed at one end portion, an external terminal portion disposed at an end opposite to the slider mounting region 20, the external terminal portion, And a connection wiring 3c for connecting the slider mounting region 20.
2 is a schematic plan view showing the vicinity of the slider mounting area 20 of FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG.

図1〜図3に例示するように、本発明のサスペンション用基板10は、金属基板1と、上記金属基板1上に形成されたベース絶縁層2と、上記ベース絶縁層2のスライダ実装領域20および外部端子部を接続する接続配線3cと、を有し、上記スライダ実装領域20には、上記ベース絶縁層2に形成された貫通孔内に充填されてなり、上記金属基板1およびビア用配線3bを接続する導電性材料からなるビア5が形成され、上記スライダ実装領域20の導体層には、上記接続配線3cまたは上記ビア用配線3bと接続し、はんだを介してスライダと接続するためのはんだパッド3aが形成されており、さらに、上記実装領域20には、上記導体層上に配置され、かつ上記はんだパッド3aを囲うように形成されたドライフィルムレジストからなるドライフィルムレジスト層6が配置され、上記ドライフィルムレジスト層6は、上記ビア5より厚い膜厚を有し、かつ上記ドライフィルムレジスト層6上に配置されるスライダを上記金属基板1に対して平行に保つ位置に配置されているものである。
なお、この例において、上記はんだパッド3aは、めっき層8により覆われ、上記導体層(接続配線3c)がカバー層7により覆われるものである。
また、図1および図2においては、説明の容易のため、カバー層、ドライフィルムレジスト層およびめっき層の記載を省略するものである。
As illustrated in FIGS. 1 to 3, the suspension substrate 10 of the present invention includes a metal substrate 1, a base insulating layer 2 formed on the metal substrate 1, and a slider mounting region 20 of the base insulating layer 2. And a connection wiring 3c for connecting the external terminal portion, and the slider mounting region 20 is filled in a through-hole formed in the base insulating layer 2, and the metal substrate 1 and via wiring A via 5 made of a conductive material for connecting 3b is formed, and the conductor layer in the slider mounting region 20 is connected to the connection wiring 3c or the via wiring 3b and is connected to the slider via solder. Solder pads 3a are formed. Further, the mounting region 20 is made of a dry film resist disposed on the conductor layer and formed so as to surround the solder pads 3a. The dry film resist layer 6 is disposed, the dry film resist layer 6 is thicker than the via 5, and a slider disposed on the dry film resist layer 6 is disposed on the metal substrate 1. It is arranged at a position to keep parallel.
In this example, the solder pad 3 a is covered with a plating layer 8, and the conductor layer (connection wiring 3 c) is covered with a cover layer 7.
In FIG. 1 and FIG. 2, the description of the cover layer, the dry film resist layer, and the plating layer is omitted for ease of explanation.

また、図4は、図2に示すサスペンション用基板10のドライフィルムレジスト層6上にスライダ(素子)41が実装された場合のA−A線断面図である。この例においては、上記サスペンション用基板10のはんだパッド3a上に配置されたはんだ21により、上記サスペンション用基板10および上記スライダ41が接続されている。 FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line AA when the slider (element) 41 is mounted on the dry film resist layer 6 of the suspension substrate 10 shown in FIG. In this example, the suspension substrate 10 and the slider 41 are connected by the solder 21 disposed on the solder pad 3 a of the suspension substrate 10.

本発明によれば、上記ドライフィルムレジスト層がドライフィルムレジストであるため、加熱圧着により上記ドライフィルムレジストを貼り付ける際に、上記導体層やビア等の各構成の高さのばらつきを吸収することができる。このため、上記サスペンション用基板のスライダ実装領域を平坦性に優れたものとすることができる。したがって、サスペンション用基板との接触面に形成されるサスペンション用基板との接続端子を配置した表面実装形態のスライダを実装した場合に、上記スライダが傾くことを防ぐことを可能とできることから、実装性に優れたものとすることができる。
また、上述のように、上記ドライフィルムレジスト層は、上記各構成の高さのばらつきを吸収できることから、各構成の厚み管理が容易となりサスペンション用基板の製造難易度を下げることができ、歩留まりの向上を図ることができる。
さらに、上記ドライフィルムレジスト層が、上記はんだパッドを囲うものであること、すなわち、上記はんだパッドが露出するような貫通孔を有することにより、はんだによりはんだパッドと上記スライダとを接続した場合に上記はんだが流出し、接続すべきでない端子等とのショート等を生じることを防ぐことができる。このように、はんだが所定の領域から他所に流出することを防ぐことができ、はんだショートのないものとすることができる。
According to the present invention, since the dry film resist layer is a dry film resist, when the dry film resist is applied by thermocompression bonding, the variation in height of each component such as the conductor layer and via is absorbed. Can do. For this reason, the slider mounting region of the suspension substrate can be made excellent in flatness. Therefore, when mounting a surface mount type slider on which a connection terminal with the suspension board formed on the contact surface with the suspension board is mounted, it is possible to prevent the slider from being tilted. It can be made excellent.
In addition, as described above, the dry film resist layer can absorb the variation in the height of each component, so that the thickness management of each component can be facilitated and the manufacturing difficulty of the suspension substrate can be reduced, and the yield can be reduced. Improvements can be made.
Further, when the dry film resist layer surrounds the solder pad, that is, when the solder pad and the slider are connected by solder by having a through hole that exposes the solder pad, It is possible to prevent the solder from flowing out and causing a short circuit with a terminal that should not be connected. In this way, it is possible to prevent the solder from flowing out from a predetermined region to other places, and it is possible to prevent a solder short.

本発明のサスペンション用基板は、上記ドライフィルムレジスト層、金属基板、ベース絶縁層、導体層およびビアを少なくとも有するものである。
以下、本発明のサスペンション用基板の各構成について詳細に説明する。
The suspension substrate of the present invention has at least the dry film resist layer, metal substrate, base insulating layer, conductor layer, and via.
Hereinafter, each configuration of the suspension substrate of the present invention will be described in detail.

1.ドライフィルムレジスト層
本発明におけるドライフィルムレジスト層は、上記実装領域の上記導体層上に配置され、かつ上記はんだパッドを囲うように形成されたドライフィルムレジストからなるものである。また、上記ビアより厚い膜厚を有し、かつ上記ドライフィルムレジスト層上に配置されるスライダを上記金属基板に対して平行に保つ位置に配置されているものである。
ここで、平行であるとは、上記スライダが実装されたサスペンション用基板を用いてハードディスクドライブとした際に、上記スライダがハードディスク上のデータを精度良く読み取ることができる状態であることをいうものである。
具体的には、ドライフィルムレジスト層の表面の平面度が15μm以下であることを指し、なかでも本発明においては、5μm以下であることが好ましい。データの読み取り、書き込みをより安定的に行うことができるからである。
なお、上記平面度についてはJIS B0621 に規定された手法で求めることができる。
1. Dry Film Resist Layer The dry film resist layer in the present invention is made of a dry film resist that is disposed on the conductor layer in the mounting area and is formed so as to surround the solder pad. Further, the slider having a thickness larger than that of the via and disposed on the dry film resist layer is disposed at a position to keep the slider parallel to the metal substrate.
Here, parallel means that the slider can read the data on the hard disk with high accuracy when the suspension board on which the slider is mounted is used as a hard disk drive. is there.
Specifically, it indicates that the flatness of the surface of the dry film resist layer is 15 μm or less, and in the present invention, it is preferably 5 μm or less. This is because data can be read and written more stably.
In addition, about the said flatness, it can obtain | require by the method prescribed | regulated to JISB0621.

(1)ドライフィルムレジスト
本発明に用いられるドライフィルムレジスト層はドライフィルムレジストからなるものである。
このようなドライフィルムレジスト(以下、DRFとする場合がある。)としては、所望の耐熱性を有し、感光性を有する樹脂からなるものであれば良く、ポジ型であっても、ネガ型であっても良く、サスペンション用基板用途に一般的に用いられるものを使用することができる。具体的には、ポリイミド系DFRや、エポキシ系DFRを挙げることができる。
(1) Dry film resist The dry film resist layer used in the present invention comprises a dry film resist.
Such a dry film resist (hereinafter sometimes referred to as DRF) may be any resin having a desired heat resistance and a photosensitive property. It is also possible to use those commonly used for suspension substrate applications. Specific examples include polyimide DFR and epoxy DFR.

本発明に用いられるドライフィルムレジストの弾性率としては、加熱時の反りを防止することができるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、0.15GPa〜3.5GPaの範囲内であることが好ましく、なかでも、0.15GPa〜0.5GPaの範囲内であることが好ましい。上記弾性率が上述した範囲内であることにより、反り等のより少ないものとすることができるからである。   The elastic modulus of the dry film resist used in the present invention is not particularly limited as long as warpage during heating can be prevented, but specifically, 0.15 GPa to 3.5 GPa. It is preferable to be within the range, and it is particularly preferable to be within the range of 0.15 GPa to 0.5 GPa. This is because, when the elastic modulus is within the above-described range, the warp or the like can be reduced.

本発明に用いられるドライフィルムレジストの膜厚としては、上記導体層等を覆った場合であっても上記ドライフィルムレジスト層を平坦なものとすることができ、上記ビアよりも厚いものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、25μm〜50μmの範囲内とすることができる。 As the film thickness of the dry film resist used in the present invention, the dry film resist layer can be made flat even when the conductor layer is covered, so long as it is thicker than the via. Although it does not specifically limit, Specifically, it can be in the range of 25 micrometers-50 micrometers.

(2)ドライフィルムレジスト層
本発明に用いられるドライフィルムレジスト層が配置される位置としては、少なくともスライダ実装領域を含み、上記スライダを上記金属基板に対して平行に保つことができる位置であれば特に限定されるものではない。
このような位置としては、スライダの形状等に応じて適宜設定されるものであるが、例えば、図5に例示するように、平面視上、上記サスペンション用基板のスライダと接触する領域であるスライダ実装領域のはんだパッドを囲う領域を除いた全面や、図6に例示するように、上記スライダ実装領域におけるはんだパッド周囲のみ、図7に例示するように、上記スライダ実装領域における導体層(接続配線およびビア用配線)およびビアを覆う位置、図8に例示するように、上記スライダ実装領域における導体層およびビアを覆う位置に加えて上記スライダ実装領域の外周部、図9および図10に例示するように、上記導体層およびビアを覆う箇所に加えて上記スライダ実装領域の外周部の一部、さらには、図11に例示するように、上記スライダ実装領域以外に形成された導体層の一部を覆う箇所等とすることができる。
なお、図5〜図11中の符号については、図2〜図3のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
本発明においては、なかでも、平面視上、上記スライダ実装領域のはんだパッドを囲う領域を除き、かつ、上記スライダ実装領域のスライダー底面積を少なくとも含む位置であることが好ましく、特に、平面視上、上記スライダ実装領域のはんだパッドを囲う領域を除き、かつ、スライダー底面積と同一部位であることが好ましい。上記スライダを安定的に平行に保つことができるからである。また、上記ドライフィルムレジスト層が、上述した位置以外にも形成された場合には、本発明のサスペンション用基板の柔軟性が低下し、ハードディスクドライブに用いられた際に、安定的なデータ読み取りが困難となる可能性があるからである。
(2) Dry film resist layer The position at which the dry film resist layer used in the present invention is disposed includes at least a slider mounting region and can be any position that can keep the slider parallel to the metal substrate. It is not particularly limited.
Such a position is appropriately set according to the shape of the slider and the like. For example, as illustrated in FIG. 5, the slider is a region that is in contact with the slider of the suspension substrate in plan view. As shown in FIG. 7, the conductor layer (connection wiring) in the slider mounting area, as shown in FIG. 7, is the entire surface excluding the area surrounding the solder pad in the mounting area, and only the periphery of the solder pad in the slider mounting area. 8 and the positions covering the vias, as shown in FIG. 8, in addition to the positions covering the conductor layers and vias in the slider mounting area, the outer peripheral portion of the slider mounting area, illustrated in FIGS. 9 and 10 Thus, in addition to the portion covering the conductor layer and the via, a part of the outer peripheral portion of the slider mounting region, and further, as illustrated in FIG. It can be a portion for covering a portion of the conductor layer formed on other than Ida mounting region.
5 to 11 indicate the same members as those in FIGS. 2 to 3, and a description thereof will be omitted here.
In the present invention, in particular, in a plan view, it is preferably a position excluding a region surrounding the solder pad in the slider mounting region and including at least the slider bottom area of the slider mounting region. The slider mounting area is preferably the same area as the slider bottom area except for the area surrounding the solder pad. This is because the slider can be stably kept parallel. Further, when the dry film resist layer is formed at a position other than the above-described positions, the flexibility of the suspension substrate of the present invention is reduced, and stable data reading is possible when used in a hard disk drive. This is because it may be difficult.

本発明に用いられるドライフィルムレジスト層の平面視形状は、上記はんだパッドを囲う形状、すなわち、上記はんだパッドが露出するように設けられた貫通孔を有するものである。
このようなドライフィルムレジスト層の平面視形状としては、例えば、上記ビアが露出する開口部を有するものとすることができる。
本発明においては、なかでも、上記ビアが露出する開口部を含まない形状、すなわち、上記ビアを覆うように形成されていることが好ましい。平坦性により優れたものとすることができるからである。また、上記ビアがスライダと接触する等の不具合を防ぐことができるからである。
The plan view shape of the dry film resist layer used in the present invention has a shape surrounding the solder pad, that is, a through hole provided so that the solder pad is exposed.
As such a plan view shape of the dry film resist layer, for example, it may have an opening through which the via is exposed.
In the present invention, in particular, it is preferable that the via is exposed so as not to have an opening, that is, so as to cover the via. This is because the flatness can be improved. Further, it is possible to prevent problems such as contact of the via with the slider.

また、平面視上の上記はんだパッドが露出する貫通孔の大きさとしては、上記はんだパッドよりも広いもの、すなわち、上記はんだパッド全てが平面視上露出するものであっても良く、上記はんだパッドよりも狭いもの、すなわち、上記はんだパッドの一部が露出するものであっても良い   Further, the size of the through hole through which the solder pad is exposed in plan view may be wider than the solder pad, that is, all the solder pads may be exposed in plan view. Narrower than that, that is, a part of the solder pad exposed may be used.

本発明に用いられるドライフィルムレジスト層の膜厚としては、上記ビアの膜厚よりも厚いものであり、上記スライダを平行に保つことができるものであれば特に限定されるものではない。
本発明においては、上記ビアよりも1μm〜50μmの範囲内で厚いことが好ましく、なかでも、3μm〜30μmの範囲内で厚いことが好ましく、特に5μm〜15μmの範囲内で厚いことが好ましい。上記スライダと接触する上記ドライフィルムレジスト層の表面を上記金属基板と平行、かつ、平坦なものとすることが容易だからである。また、上記はんだパッドを、上記スライダの接続端子とはんだ接続した場合にはんだの流出を十分に抑制することができ、はんだショートの発生のより少ないものとすることができるからである。
The thickness of the dry film resist layer used in the present invention is not particularly limited as long as it is larger than the thickness of the via and can keep the slider in parallel.
In the present invention, the via is preferably thicker in the range of 1 μm to 50 μm, more preferably in the range of 3 μm to 30 μm, and particularly preferably in the range of 5 μm to 15 μm. This is because it is easy to make the surface of the dry film resist layer in contact with the slider parallel to the metal substrate and flat. Further, when the solder pad is solder-connected to the connection terminal of the slider, it is possible to sufficiently suppress the outflow of solder and to reduce the occurrence of solder shorts.

本発明に用いられるドライフィルムレジスト層の形成方法としては、所望のパターンのドライフィルムレジスト層を形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、上記導体層を覆うように、上記ドライフィルムレジストを貼り合わせた後、露光・現像する方法が用いることができる。   The dry film resist layer forming method used in the present invention is not particularly limited as long as it is a method capable of forming a dry film resist layer having a desired pattern. A method of exposing and developing after bonding a dry film resist can be used.

2.金属基板
本発明に用いられる金属基板は、上記ベース絶縁層、導体層、ビアおよびドライフィルムレジスト層を支持するものである。
このような金属基板の材料としては、特に限定されるものではないが、ばね性を有する金属であることが好ましく、具体的には、SUS等を挙げることができる。
また、本発明に用いられる金属基板の厚さとしては、その材料の種類により異なるものであるが、例えば10μm〜20μmの範囲内とすることができる。
2. Metal substrate The metal substrate used in the present invention supports the base insulating layer, the conductor layer, the via, and the dry film resist layer.
The material for such a metal substrate is not particularly limited, but is preferably a metal having a spring property, and specific examples thereof include SUS.
In addition, the thickness of the metal substrate used in the present invention varies depending on the type of the material, but can be in the range of 10 μm to 20 μm, for example.

本発明に用いられる金属基板の形成方法としては、所望のパターンの金属基板を得ることができる方法であれば特に限定されるものではなく、サスペンション用基板に一般的に用いられる方法を使用することができる。具体的には、レジストを用いたエッチングによりパターニングする方法等を用いることができる。   The method for forming a metal substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it can obtain a metal substrate having a desired pattern, and a method generally used for a suspension substrate should be used. Can do. Specifically, a method of patterning by etching using a resist can be used.

3.ベース絶縁層
本発明に用いられるベース絶縁層は、上記金属基板上に形成されるものである。
3. Base insulating layer The base insulating layer used in the present invention is formed on the metal substrate.

このようなベース絶縁層の材料としては、上記金属基板と上記は導体層との短絡を防止することができるものであれば特に限定されるものではなく、通常ポリイミド樹脂(PI)等の絶縁性樹脂を挙げることができる。また、上記ベース絶縁層の材料は、感光性材料であっても良いが、非感光性材料であることが好ましい。材料選択の幅を広いものとすることができるからである。また、非感光性材料は吸湿膨張係数が低く、反り等の発生の少ないものとすることができるからである。   The material of the base insulating layer is not particularly limited as long as it can prevent a short circuit between the metal substrate and the conductor layer, and usually has an insulating property such as polyimide resin (PI). Resins can be mentioned. The material of the base insulating layer may be a photosensitive material, but is preferably a non-photosensitive material. This is because the range of material selection can be widened. In addition, the non-photosensitive material has a low hygroscopic expansion coefficient and can generate less warpage.

また、上記ベース絶縁層の厚さとしては、上記金属基板と上記導体層との短絡を防止することができるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、5μm〜10μmの範囲内とすることができる。   Further, the thickness of the base insulating layer is not particularly limited as long as it can prevent a short circuit between the metal substrate and the conductor layer. Can be within range.

本発明に用いられるベース絶縁層は、上記スライダ実装領域に上記ビアが形成される貫通孔を有するものである。
このような貫通孔のサイズとしては、サスペンション用基板に一般的に用いられるものと同様とすることができる。
The base insulating layer used in the present invention has a through hole in which the via is formed in the slider mounting region.
The size of such a through hole can be the same as that generally used for a suspension substrate.

本発明において用いられるベース絶縁層の形成方法としては、所望のパターンのベース絶縁層を形成することができる方法であれば特に限定されるものではなく、上記材料を含む液状のベース絶縁層形成用塗工液を塗布またはドライフィルム状の材料を貼り合わせ、その後、露光・現像またはフォトリソ法によりパターニングする方法を用いることができる。   The method for forming the base insulating layer used in the present invention is not particularly limited as long as it can form a base insulating layer having a desired pattern. For forming a liquid base insulating layer containing the above-described material. A method can be used in which a coating liquid is applied or a dry film-like material is bonded, followed by patterning by exposure / development or photolithography.

4.導体層
本発明に用いられる導体層は、上記ベース絶縁層上に形成された接続配線を少なくとも有するものである。また、上記スライダ実装領域に形成されたビア用配線層、はんだパッドを含むものである。
4). Conductor Layer The conductor layer used in the present invention has at least connection wiring formed on the base insulating layer. In addition, a via wiring layer and a solder pad formed in the slider mounting region are included.

本発明に用いられるはんだパッドは、上記接続配線または上記ビア用配線と接続し、はんだを介してスライダと接続するものであり、平面視上、上記ドライフィルムレジスト層により囲われ、表面が露出するものである。
なお、表面が露出するとは、後述するめっき層により被覆されている場合も含むものである。
The solder pad used in the present invention is connected to the connection wiring or the via wiring and is connected to the slider via solder, and is surrounded by the dry film resist layer in a plan view to expose the surface. Is.
In addition, the case where the surface is exposed includes the case where it is covered with a plating layer described later.

本発明に用いられるはんだパッドの平面視上の形状としては、上記スライダと安定的に接続できるものであれば特に限定されるものではなく、既に説明した図1に例示するように円形状や多角形状等、一般的なサスペンション用基板に形成されるはんだパッドの形状と同様とすることができる。
また、上記はんだパッドのサイズとしては、上記スライダと安定的に接続できるものであれば特に限定されるものではなく、一般的なサスペンション用基板に形成されるはんだパッドのサイズと同様とすることができる。
The shape of the solder pad used in the present invention in plan view is not particularly limited as long as it can be stably connected to the slider, and as shown in FIG. The shape can be the same as the shape of a solder pad formed on a general suspension board.
The size of the solder pad is not particularly limited as long as it can be stably connected to the slider, and may be the same as the size of a solder pad formed on a general suspension board. it can.

本発明におけるはんだパッドの隣接するはんだパッドとの距離としては、上記ドライフィルムレジスト層により両者が隔てることができる距離であれば特に限定されるものではなく、具体的には、40μm〜200μmの範囲内とすることができ、なかでも、40μm〜80μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲内であることにより、上記はんだパッド間にドライフィルムレジスト層を配置することが容易であるからである。また、上記スライダ実装領域に十分な数のはんだパッドを形成することができるからである。   The distance between the solder pad adjacent to the solder pad in the present invention is not particularly limited as long as the distance between the two can be separated by the dry film resist layer, and specifically, a range of 40 μm to 200 μm. In particular, it is preferably in the range of 40 μm to 80 μm. It is because it is easy to arrange | position a dry film resist layer between the said solder pads by being in the said range. In addition, a sufficient number of solder pads can be formed in the slider mounting region.

本発明におけるビア用配線層は、上記金属基板と接続するビアが形成される貫通孔を有するものである。
このような貫通孔のサイズとしては、サスペンション用基板に一般的に用いられるものと同様とすることができる。
また、上記ビア用配線層の貫通孔の形成箇所としては、上記スライダ実装領域内であれば特に限定されるものではなく、本発明のサスペンション用基板の種類等に応じて設定されるものである。
The via wiring layer in the present invention has a through hole in which a via connected to the metal substrate is formed.
The size of such a through hole can be the same as that generally used for a suspension substrate.
Further, the formation position of the through hole in the via wiring layer is not particularly limited as long as it is within the slider mounting region, and is set according to the type of the suspension substrate of the present invention. .

本発明における接続配線は、上記スライダ実装領域および外部端子部を接続するものである。
このような接続配線のパターンとしては、上記スライダ実装領域および外部端子部を安定的に接続することができるものであれば特に限定されるものではない。
The connection wiring in the present invention connects the slider mounting region and the external terminal portion.
Such a connection wiring pattern is not particularly limited as long as it can stably connect the slider mounting region and the external terminal portion.

本発明に用いられる導体層の材料としては、例えば金属を挙げることができ、中でも銅(Cu)が好ましい。   Examples of the material for the conductor layer used in the present invention include metals, and copper (Cu) is particularly preferable.

本発明に用いられる導体層の厚みとしては、上記導体層を精度良く形成することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば5μm〜18μmの範囲内とすることができ、なかでも9μm〜12μmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the conductor layer used in the present invention is not particularly limited as long as the conductor layer can be formed with high accuracy. For example, the thickness can be within a range of 5 μm to 18 μm. However, it is preferably in the range of 9 μm to 12 μm.

本発明に用いられる導体層の形成方法としては、上記導体層を精度良く形成することができる方法であれば特に限定されるものではなく、サスペンション用基板に一般的に用いられる方法を使用することができる。例えば、上記導体層の材料からなる導体層形成用層を電界めっき法等により形成した後、レジストを用いたエッチングによりパターニングし、上記導体層を成する方法を挙げることができる。   The method for forming the conductor layer used in the present invention is not particularly limited as long as the method can form the conductor layer with high accuracy, and a method generally used for a suspension substrate should be used. Can do. For example, a method of forming the conductor layer by forming a conductor layer forming layer made of the material of the conductor layer by an electroplating method or the like and then patterning by etching using a resist can be given.

本発明に用いられる導体層は、めっき層により被覆されるものであっても良い。特に、上記はんだパッドのように、表面が露出する箇所はめっき層により被覆されることが好ましい。めっき層の一例としては、金めっき層を挙げることができる。また、金めっき層の下地としてニッケルめっき層が形成されていても良い。めっき層の厚さは、例えば0.1μm〜4.0μmの範囲内とすることができる。
本発明において、上記めっき層を形成する方法としては、例えば、電解めっき法を挙げることができる。
The conductor layer used in the present invention may be covered with a plating layer. In particular, like the solder pad, the portion where the surface is exposed is preferably covered with a plating layer. An example of the plating layer is a gold plating layer. Further, a nickel plating layer may be formed as a base for the gold plating layer. The thickness of the plating layer can be, for example, in the range of 0.1 μm to 4.0 μm.
In the present invention, examples of the method for forming the plating layer include an electrolytic plating method.

5.ビア
本発明に用いられるビアは、スライダ実装領域に形成されるものであり、上記ベース絶縁層およびビア用配線層に形成された貫通孔に充填された導電性材料からなるものであり、上記金属基板および上記ビア用配線層を接続するものである。
5. Vias The vias used in the present invention are formed in the slider mounting region, are made of a conductive material filled in through holes formed in the base insulating layer and the via wiring layer, and the metal The substrate and the via wiring layer are connected.

このような導電性材料としては、半田等の金属材料による接続及びめっきによる金属析出が可能な金属(Ni,Cu等)を一般的に用いることができる。   As such a conductive material, a metal (Ni, Cu, etc.) that can be connected by a metal material such as solder and deposited by plating can be generally used.

本発明に用いられるビアは、上記金属基板およびビア用配線層を接続するように充填されるものであれば特に限定されるものではないが、通常、すでに説明した図2および図3に示すように、平面視上、上記ビア用配線層の一部を覆うように形成される。   The via used in the present invention is not particularly limited as long as it is filled so as to connect the metal substrate and the via wiring layer. Usually, as shown in FIGS. 2 and 3 already described. In addition, it is formed so as to cover a part of the via wiring layer in plan view.

本発明におけるビアの上記ビア用配線層表面からの厚みとしては、上記ビア用配線層と安定的に接続することができるものであれば特に限定されるものではないが、通常、3μm〜30μmの範囲内であり、なかでも、5μm〜15μmの範囲内であることが好ましい。上記ビア用配線層と安定的に接続することができるからである。   The thickness of the via from the surface of the via wiring layer in the present invention is not particularly limited as long as it can be stably connected to the via wiring layer, but usually 3 μm to 30 μm. It is within the range, and in particular, it is preferably within the range of 5 μm to 15 μm. This is because the via wiring layer can be stably connected.

本発明に用いられるビアの形成方法としては、上記導電性材料を、上記ベース絶縁層およびビア用配線層の貫通孔に充填することができる方法であれば良く、サスペンション用基板において一般的に用いられる方法が用いられる。例えば、電界めっき法を用いる方法を挙げることができる。   As a method for forming a via used in the present invention, any method can be used as long as the conductive material can be filled into the through holes of the base insulating layer and the via wiring layer. Method is used. For example, a method using an electroplating method can be given.

6.サスペンション用基板
本発明のサスペンション用基板は、上記ドライフィルムレジスト層、金属基板、ベース絶縁層、導体層およびビアを少なくとも有するものである。
本発明においては、既に説明した図3に示すように、上記導体層を覆うように形成されたカバー層を有することが好ましい。通常、表面が露出した導体層等は、電気信号の減衰や上記導体層等の劣化を防ぐため、その表面が上記めっき層等の高コストな材料により被覆される。このため、上記ドライフィルムレジスト層により覆われない領域の導体層を上記カバー層で覆うことにより、めっき層の形成面積を小さいものとすることができ、コストダウンを図ることができるからである。
また、既に説明した図3に示すように、上記はんだパッド上に、はんだが積層されていることが好ましい。上記スライダの実装を容易なものとすることができるからである。
6). Suspension Substrate The suspension substrate of the present invention has at least the dry film resist layer, metal substrate, base insulating layer, conductor layer, and via.
In the present invention, as shown in FIG. 3 already described, it is preferable to have a cover layer formed so as to cover the conductor layer. Usually, a conductor layer or the like whose surface is exposed is covered with a high-cost material such as the plating layer in order to prevent attenuation of an electric signal or deterioration of the conductor layer or the like. For this reason, it is because the formation area of a plating layer can be made small and cost reduction can be aimed at by covering the conductor layer of the area | region which is not covered with the said dry film resist layer with the said cover layer.
Moreover, as shown in FIG. 3 already described, it is preferable that solder is laminated on the solder pad. This is because the mounting of the slider can be facilitated.

(1)カバー層
本発明に用いられるカバー層は、上記導体層を覆うように形成されるものである。
(1) Cover layer The cover layer used for this invention is formed so that the said conductor layer may be covered.

このようなカバー層の形成に用いられる材料としては、絶縁性を有するものであれば良く、具体的には、上記「3.ベース絶縁層」の項に記載の材料を用いることができる。   The material used for forming such a cover layer is not particularly limited as long as it has an insulating property, and specifically, the material described in the above section “3. Base insulating layer” can be used.

本発明に用いられるカバー層の形成箇所としては、上記導体層のうち、はんだパッド等のようにはんだ等を用いて他の端子等と接続するため露出する領域以外であれば特に限定されるものではなく、既に説明した図3に示すように、上記ドライフィルムレジスト層により覆われていない導体層である接続配線を覆う箇所であっても良く、図12に例示するように上記ドライフィルムレジスト層6により覆われる導体層、すなわち、ビア用配線層3bをも覆うものであっても良い。
本発明においては、上記カバー層が、少なくとも上記ドライフィルムレジスト層により覆われない導体層を覆うように形成されるものであることが好ましい。通常、カバー層により覆われておらず、露出している導体層は、上述のように、金めっき等のめっき層により被覆されるが、このような金めっき等で被覆するとコストが高いものになる。しかしながら、上記ドライフィルムレジスト層により覆われていない領域の導体層をカバー層により覆うことにより、このような金めっき等のめっき層の面積を小さいものとすることができ、コストダウンを図ることができるからである。
また、本発明においては、なかでも、上記ドライフィルムレジスト層により覆われる導体層も覆うように形成されるものであることが好ましい。上記カバー層、めっき層、およびドライフィルムレジスト層の順で形成した場合、めっき層を形成する際に、上記ドライフィルムレジスト層により覆われる領域の導体層がカバー層により覆われたものとすることができる。このため、他のレジスト等を使用することなく、上記ドライフィルムレジスト層により覆われる導体層にめっき層を形成することを防ぐことができ、めっき層の面積を小さいものとすることができるからである。なお、上記カバー層は、上記導体層に含まれるビア用配線層を覆う場合においては、通常、上記ビア用配線層のうち上記ビアにより覆われる領域を除いて形成されるものである。
The formation location of the cover layer used in the present invention is not particularly limited as long as it is other than the exposed area of the conductor layer such as a solder pad to be connected to other terminals using solder or the like. Instead, as shown in FIG. 3 which has already been described, the dry film resist layer may be a portion covering the connection wiring which is a conductor layer not covered with the dry film resist layer. The conductor layer covered with 6, that is, the via wiring layer 3 b may also be covered.
In the present invention, the cover layer is preferably formed so as to cover at least the conductor layer not covered with the dry film resist layer. Normally, the exposed conductor layer that is not covered by the cover layer is covered with a plating layer such as gold plating as described above. However, it is expensive to cover with such gold plating. Become. However, by covering the conductor layer in the region not covered with the dry film resist layer with the cover layer, the area of the plating layer such as gold plating can be reduced, and the cost can be reduced. Because it can.
Moreover, in this invention, it is preferable that it is formed so that the conductor layer covered with the said dry film resist layer may also be covered especially. When the cover layer, the plating layer, and the dry film resist layer are formed in this order, the conductor layer in the region covered with the dry film resist layer is covered with the cover layer when forming the plating layer. Can do. For this reason, it is possible to prevent the plating layer from being formed on the conductor layer covered with the dry film resist layer without using other resists, and to reduce the area of the plating layer. is there. Note that, when the via wiring layer included in the conductor layer is covered, the cover layer is usually formed except for the region covered by the via in the via wiring layer.

本発明に用いられるカバー層の厚みとしては、上記導体層の劣化や短絡等を防ぐことができるものであれば良く、例えば2μm〜30μmの範囲内であることが好ましく、2μm〜10μmの範囲内であることがより好ましい。上記スライダ実装領域以外に形成した場合であっても、本発明のサスペンション用基板の柔軟性を損なうことがないからである。また、電気信号の減衰や上記導体層の劣化を十分に抑制することができるからである。   The thickness of the cover layer used in the present invention is not particularly limited as long as it can prevent the conductor layer from being deteriorated or short-circuited. For example, it is preferably in the range of 2 to 30 μm, and preferably in the range of 2 to 10 μm. It is more preferable that This is because the flexibility of the suspension substrate of the present invention is not impaired even when formed outside the slider mounting region. Moreover, it is because attenuation | damping of an electrical signal and deterioration of the said conductor layer can fully be suppressed.

本発明におけるカバー層の形成方法としては、所望の領域に上記カバー層を形成することができる方法であれば特に限定されるものではないが、上記材料を含む液状のカバー層形成用塗工液を上記導体層を覆うように塗布した後、露光・現像またはフォトリソ法によりパターニングする方法を用いることが好ましい。上述の厚みのカバー層を安定的に形成することができるからである。   The method for forming the cover layer in the present invention is not particularly limited as long as it is a method capable of forming the cover layer in a desired region, but a liquid cover layer forming coating solution containing the above material It is preferable to use a method of coating the conductive layer so as to cover the conductor layer and then patterning by exposure / development or photolithography. This is because the cover layer having the above thickness can be formed stably.

(2)はんだ
本発明に用いられるはんだは、上記はんだパッド上に積層されるものである。
このようなはんだとしては、サスペンション用基板に一般的に用いられるものを使用することができる。
(2) Solder The solder used in the present invention is laminated on the solder pad.
As such solder, what is generally used for a suspension substrate can be used.

本発明におけるはんだは、少なくとも、上記スライダ実装領域に含まれるはんだパッド上に積層されていれば良く、他の領域における接続パッド等にも積層されるものであっても良い。
また、本発明におけるはんだは、上記はんだパッドを囲う空間よりも小さい体積のものであるが、通常、上記ドライフィルムレジスト層上にスライダが実装された際に上記スライダと安定的に接することができるように、上記ドライフィルムレジスト層よりも厚みが厚いもの、すなわち、断面視上、上記はんだが、上記ドライフィルムレジスト層の上記スライダが実装される表面より高くなるように積層される。
The solder in the present invention only needs to be stacked on at least a solder pad included in the slider mounting region, and may be stacked on a connection pad in another region.
In addition, the solder in the present invention has a volume smaller than the space surrounding the solder pad, but normally it can stably contact the slider when the slider is mounted on the dry film resist layer. As described above, the layer is thicker than the dry film resist layer, that is, so that the solder is higher than the surface of the dry film resist layer on which the slider is mounted in a sectional view.

本発明におけるはんだの積層方法としては、上記はんだパッド上に安定的に積層できる方法であれば良く、例えば、上記ドライフィルムレジスト層を形成後に、はんだボール等を配置する方法等、スクリーン印刷にて配置する手法などを挙げることができる。   As a method for laminating the solder in the present invention, any method can be used as long as it can be stably laminated on the solder pad, for example, by screen printing such as a method of arranging solder balls after forming the dry film resist layer. An arrangement method can be cited.

B.サスペンション用基板の製造方法
次に、サスペンション用基板の製造方法について説明する。
本発明のサスペンション用基板の製造方法は、金属基板と、上記金属基板上に形成されたベース絶縁層と、上記ベース絶縁層上に形成され、スライダ実装領域、および上記スライダ実装領域の反対側の端部に配置された外部端子部を接続する接続配線を少なくとも有する導体層と、を有し、上記スライダ実装領域には、上記ベース絶縁層に形成された貫通孔内に充填されてなり、上記金属基板およびビア用配線を接続する導電性材料からなるビアとが形成され、上記スライダ実装領域の導体層には、上記接続配線または上記ビア用配線と接続し、はんだを介してスライダと接続するためのはんだパッドが形成されており、さらに、上記実装領域には、上記導体層上に配置され、かつ上記はんだパッドを囲うように形成されたドライフィルムレジストからなるドライフィルムレジスト層が配置され、上記ドライフィルムレジスト層は、上記ビアより厚い膜厚を有し、かつ上記ドライフィルムレジスト層上に配置されるスライダを上記金属基板に対して平行に保つ位置に配置されているサスペンション用基板の製造方法であって、上記金属基板、ベース絶縁層、導体層およびビアを有する積層基板を準備する積層基板準備工程と、上記ドライフィルムレジストを、上記積層基板に、上記はんだパッド、導体層およびビアを覆うように貼り付けた後、上記ドライフィルムレジストを露光・現像し、上記ドライフィルムレジスト層を形成するドライフィルムレジスト層形成工程を有することを特徴とするものである。
B. Next, a method for manufacturing a suspension substrate will be described.
The method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention includes a metal substrate, a base insulating layer formed on the metal substrate, a slider mounting region formed on the base insulating layer, and on the opposite side of the slider mounting region. A conductor layer having at least a connection wiring for connecting an external terminal portion disposed at an end, and the slider mounting region is filled in a through hole formed in the base insulating layer, A via made of a conductive material for connecting the metal substrate and the via wiring is formed, and the conductor layer in the slider mounting region is connected to the connection wiring or the via wiring and connected to the slider via solder. In addition, a dry film layer is formed in the mounting region so as to be disposed on the conductor layer and to surround the solder pad. A dry film resist layer made of a strike is disposed, and the dry film resist layer has a film thickness thicker than the via and keeps a slider disposed on the dry film resist layer parallel to the metal substrate. A method of manufacturing a suspension substrate disposed at a position, comprising: a laminated substrate preparation step of preparing a laminated substrate having the metal substrate, a base insulating layer, a conductor layer and a via; and the dry film resist, the laminated substrate In addition, a dry film resist layer forming step of forming the dry film resist layer by exposing and developing the dry film resist after being pasted so as to cover the solder pad, the conductor layer, and the via is provided. Is.

このような本発明のサスペンション用基板の製造方法について図を参照して説明する。図13は、本発明のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す概略工程図である。図12に例示するように、金属基板形成用層1xを準備し、上記金属基板形成用層1xの表面上にベース絶縁層形成用層2x、上記ベース絶縁層形成用層2x上にスパッタリング法を用いてシード層(図示せず)を形成し、その後、上記シード層上に、電解めっき法により導体層形成用層3xを形成することにより積層体を形成する(図13(a))。
その後、図13(b)に示すように、ドライフィルムレジスト(DFR)を用いてレジストを形成し、ウェットエッチングを行い、上記導体層形成用層3xから、上記はんだパッド3b、ビア用配線層3b、接続配線3cを、上記金属基板形成用層1xから、上記金属基板1を同時に形成した後、レジストを剥離する。
次に、図13(c)に例示するように、上記導体層、すなわち、上記はんだパッド3a、ビア用配線層3bおよび接続配線3cを覆うように液状のカバー層形成用塗工液を塗布し、乾燥することによりカバー層形成用層を形成し、次いで、DFRを用いてレジストを形成し、レジストから露出するカバー層形成用層をウェットエッチングし、上記ビア用配線層3bの一部および接続配線3cを覆うように形成されたカバー層7を形成する。
次いで、図13(d)に例示するように、DFRを用いてレジストを形成し、レジストから露出するベース絶縁層形成用層2xをウェットエッチングし、ビアを形成するための貫通孔をスライダ実装領域に有するベース絶縁層2を形成する。
その後、図13(e)に例示するように、電界めっき法にてビア5を形成し、積層基板とする。
次いで、図13(f)に例示するように、ドライフィルムレジスト6aを、平面視上、上記積層基板の上記スライダ実装領域20上に、上記導体層、すなわち、はんだパッド3a、ビア用配線3bおよび接続配線3cを覆うように貼り付けた後、上記ドライフィルムレジスト6aをフォトマスクを介して露光・現像し上記ドライフィルムレジスト層6を形成することにより、サスペンション用基板10を得る(図13(g))。
なお、図13(a)、(b)、(d)および(e)が積層基板準備工程であり、図13(f)〜図13(g)がドライフィルムレジスト層形成工程である。
また、図13中の符号については、図2〜図3のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
A method for manufacturing the suspension substrate of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 13 is a schematic process diagram showing an example of a method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention. As illustrated in FIG. 12, a metal substrate forming layer 1x is prepared, and a base insulating layer forming layer 2x is formed on the surface of the metal substrate forming layer 1x, and a sputtering method is applied on the base insulating layer forming layer 2x. Then, a seed layer (not shown) is formed, and then a conductor layer forming layer 3x is formed on the seed layer by electroplating to form a laminate (FIG. 13A).
Thereafter, as shown in FIG. 13B, a resist is formed using a dry film resist (DFR), wet etching is performed, and the solder pad 3b and via wiring layer 3b are formed from the conductor layer forming layer 3x. Then, after the metal substrate 1 is simultaneously formed from the metal substrate forming layer 1x with the connection wiring 3c, the resist is peeled off.
Next, as illustrated in FIG. 13C, a liquid cover layer forming coating solution is applied so as to cover the conductor layer, that is, the solder pad 3a, the via wiring layer 3b, and the connection wiring 3c. Then, a cover layer forming layer is formed by drying, a resist is then formed using DFR, the cover layer forming layer exposed from the resist is wet etched, and a part of the via wiring layer 3b and the connection are formed. A cover layer 7 is formed so as to cover the wiring 3c.
Next, as illustrated in FIG. 13D, a resist is formed using DFR, the base insulating layer forming layer 2x exposed from the resist is wet-etched, and a through hole for forming a via is formed in the slider mounting region. The base insulating layer 2 is formed.
Thereafter, as illustrated in FIG. 13E, vias 5 are formed by electroplating to obtain a laminated substrate.
Next, as illustrated in FIG. 13F, the dry film resist 6a is formed on the slider mounting region 20 of the multilayer substrate in plan view, with the conductor layer, that is, the solder pad 3a, the via wiring 3b, and After being attached so as to cover the connection wiring 3c, the dry film resist 6a is exposed and developed through a photomask to form the dry film resist layer 6, thereby obtaining the suspension substrate 10 (FIG. 13G). )).
13A, 13B, 13D, and 13E are laminated substrate preparation steps, and FIGS. 13F to 13G are dry film resist layer forming steps.
Moreover, about the code | symbol in FIG. 13, since it shows the member same as the thing of FIGS. 2-3, description here is abbreviate | omitted.

本発明によれば、上記ドライフィルムレジスト層形成工程を有することにより、平坦性に優れたサスペンション用基板を容易に得ることができる。   According to the present invention, by having the dry film resist layer forming step, a suspension substrate having excellent flatness can be easily obtained.

本発明のサスペンション用基板の製造方法は、上記積層基板準備工程およびドライフィルムレジスト層形成工程を少なくとも有するものである。
以下、本発明のサスペンション用基板の製造方法の各工程について説明する。
なお、本発明により得られるサスペンション用基板については、上記「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
The method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention includes at least the laminated substrate preparation step and the dry film resist layer formation step.
Hereafter, each process of the manufacturing method of the board | substrate for suspensions of this invention is demonstrated.
The suspension substrate obtained by the present invention is the same as the content described in the above “A. Suspension substrate”, and the description is omitted here.

1.積層基板準備工程
本発明における積層基板準備工程は、上記金属基板、ベース絶縁層、導体層およびビアを有する積層基板を準備する工程である。
1. Laminated substrate preparation step The laminated substrate preparation step in the present invention is a step of preparing a laminated substrate having the metal substrate, the base insulating layer, the conductor layer, and the via.

本工程における上記積層基板の各構成の形成方法については、上記「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
また、上記金属基板、ベース絶縁層、および導体層については、上記金属基板上に、上記ベース絶縁層、および、導体層をこの順で形成するものであっても良く、上記金属基板を構成する材料からなる金属基板形成用層と、上記金属基板形成用層上に形成され、上記ベース絶縁層を形成可能な材料からなるベース絶縁層形成用層と、上記ベース絶縁層形成用層上に形成され、上記導体層を形成可能な材料からなる導体層形成用層とを有する積層体を形成した後に、上記導体層および金属基板、ベース絶縁層の順で形成するものであっても良い。
本発明においては、なかでも、上記積層体を用いる方法であることが好ましい。上記各構成を精度良く形成することができるからである。
The formation method of each component of the laminated substrate in this step is the same as the content described in the above “A. Suspension substrate”, and therefore description thereof is omitted here.
The metal substrate, the base insulating layer, and the conductor layer may be formed by forming the base insulating layer and the conductor layer in this order on the metal substrate, and constitute the metal substrate. A metal substrate forming layer made of a material, a base insulating layer forming layer formed on the metal substrate forming layer and made of a material capable of forming the base insulating layer, and formed on the base insulating layer forming layer Then, after forming a laminated body having a conductor layer forming layer made of a material capable of forming the conductor layer, the conductor layer, the metal substrate, and the base insulating layer may be formed in this order.
In the present invention, the method using the laminate is particularly preferable. It is because each said structure can be formed with sufficient precision.

2.ドライフィルムレジスト層形成工程
本発明におけるドライフィルムレジスト層形成工程は、上記ドライフィルムレジストを、上記積層基板に、上記導体層およびビアを覆うように貼り付けた後、上記ドライフィルムレジストを露光・現像し上記ドライフィルムレジスト層を形成する工程である。
2. Dry film resist layer forming step In the dry film resist layer forming step of the present invention, the dry film resist is attached to the laminated substrate so as to cover the conductor layer and the via, and then the dry film resist is exposed and developed. And a step of forming the dry film resist layer.

本工程において、上記ドライフィルムレジストを上記積層基板に貼り付ける方法としては、上記積層基板上の上記導体層を覆い、上記ドライフィルムレジストの表面が平坦なものとなるように貼り付ける方法であれば良く、例えば、加熱圧着により貼り付ける方法を用いることができる。   In this step, the dry film resist may be attached to the laminated substrate as long as the conductive layer on the laminated substrate is covered and the dry film resist has a flat surface. For example, a method of attaching by thermocompression bonding can be used.

本工程において上記ドライフィルムレジストを貼り付ける位置としては、少なくとも上記ドライフィルムレジスト層が形成される位置に貼り付けるものであれば良く、上記導体層を覆うように上記ベース絶縁層の全面に貼り付けるものであっても良い。   In this step, the dry film resist may be attached to the base insulating layer so as to cover at least the position where the dry film resist layer is formed. It may be a thing.

本工程において、上記加熱圧着の条件としては、上記ドライフィルムレジストの表面が平坦となり、かつ、上記ベース絶縁層に十分に密着できるものであれば特に限定されるものではなく、上記ドライフィルムレジストの種類等に応じて適宜設定されるものである。   In this step, the conditions for the thermocompression bonding are not particularly limited as long as the surface of the dry film resist is flat and can be sufficiently adhered to the insulating base layer. It is appropriately set according to the type and the like.

本工程において、上記ドライフィルムレジストを露光・現像する方法としては、一般的なドライフィルムレジストのパターニング方法を用いることができる。   In this step, a general dry film resist patterning method can be used as a method for exposing and developing the dry film resist.

なお、上記ドライフィルムレジストについては、上記「A.サスペンション用基板」の「1.ドライフィルムレジスト層」の項に記載の内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   The dry film resist can be the same as the contents described in the section “1. Dry film resist layer” of the “A. Suspension substrate”, and the description thereof is omitted here.

3.サスペンション用基板
本発明におけるサスペンション用基板の製造方法は、少なくとも上記積層基板準備工程およびドライフィルムレジスト層形成工程を含むものであるが、必要に応じて他の工程を有するものであっても良い。
このような他の工程としては、例えば、上記導体層を覆うようにカバー層を形成するカバー層形成工程や、上記はんだパッドや露出する上記導体層の表面に、めっき層を形成するめっき層形成工程、上記はんだパッド上にはんだを積層するはんだ積層工程等を有するものであっても良い。
なお、上記カバー層形成工程において、上記カバー層を形成する方法および形成されるカバー層については、上記「A.サスペンション用基板」の「6.サスペンション用基板」の「(1)カバー層」の項に記載の内容と同様である。また、上記めっき層形成工程において、上記めっき層を形成する方法および形成されるめっき層については、上記「A.サスペンション用基板」の「4.導体層」の項に記載の内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
また、はんだ積層工程等において、はんだを積層する方法としては、はんだボールを上記はんだパッド上に配置する方法等を挙げることができる。
3. Suspension Substrate The manufacturing method of a suspension substrate in the present invention includes at least the laminated substrate preparation step and the dry film resist layer formation step, but may include other steps as necessary.
Examples of such other processes include a cover layer forming process for forming a cover layer so as to cover the conductor layer, and a plating layer forming for forming a plating layer on the surface of the solder pad or the exposed conductor layer. It may have a process, a solder lamination process of laminating solder on the solder pad, and the like.
In the cover layer forming step, the method of forming the cover layer and the cover layer to be formed are described in “(1) Cover layer” of “6. Suspension substrate” of “A. Suspension substrate”. The contents are the same as described in the section. In the plating layer forming step, the method for forming the plating layer and the plating layer to be formed are the same as those described in the section “4. Conductor layer” of “A. Suspension substrate”. Therefore, explanation here is omitted.
Moreover, as a method of laminating the solder in the solder laminating step or the like, a method of arranging a solder ball on the solder pad can be exemplified.

C.サスペンション
次に、本発明のサスペンションについて説明する。本発明のサスペンションは、上述したサスペンション用基板を含むことを特徴とするものである。
C. Suspension Next, the suspension of the present invention will be described. The suspension of the present invention includes the above-described suspension substrate.

本発明によれば、上述したサスペンション用基板を用いることで、接続安定性に優れたサスペンションとすることができる。   According to the present invention, a suspension having excellent connection stability can be obtained by using the suspension substrate described above.

図14は、本発明のサスペンションの一例を示す概略平面図である。図14に示されるサスペンション30は、上述したサスペンション用基板10と、スライダ実装領域20が形成されている表面とは反対側のサスペンション用基板10の表面に備え付けられたロードビーム31とを有するものである。   FIG. 14 is a schematic plan view showing an example of the suspension of the present invention. A suspension 30 shown in FIG. 14 has the above-described suspension substrate 10 and a load beam 31 provided on the surface of the suspension substrate 10 opposite to the surface on which the slider mounting region 20 is formed. is there.

本発明のサスペンションは、少なくともサスペンション用基板を有し、通常は、さらにロードビームを有する。サスペンション用基板については、上記「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、ロードビームは、一般的なサスペンションに用いられるロードビームと同様のものを用いることができる。   The suspension of the present invention has at least a suspension substrate, and usually further has a load beam. The suspension substrate is the same as the content described in “A. Suspension substrate”, and therefore, the description thereof is omitted here. The load beam can be the same as the load beam used for a general suspension.

D.素子付サスペンション
次に、本発明の素子付サスペンションについて説明する。本発明の素子付サスペンションは、上述したサスペンションと、上記サスペンションのスライダ実装領域に実装された素子(スライダ)と、を有することを特徴とするものである。
D. Next, the suspension with an element of the present invention will be described. The suspension with an element of the present invention includes the above-described suspension and an element (slider) mounted in a slider mounting region of the suspension.

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、接続安定性に優れた素子付サスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension, a suspension with an element having excellent connection stability can be obtained.

図15は、本発明の素子付サスペンションの一例を示す概略平面図である。図15に示される素子付サスペンション40は、上述したサスペンション30と、サスペンション30のスライダ実装領域20に実装された素子(スライダ)41とを有するものである。   FIG. 15 is a schematic plan view showing an example of the suspension with an element of the present invention. A suspension with an element 40 shown in FIG. 15 includes the suspension 30 described above and an element (slider) 41 mounted on the slider mounting area 20 of the suspension 30.

本発明の素子付サスペンションは、少なくともサスペンションおよび素子(スライダ)を有するものである。上記サスペンションについては、上記「C.サスペンション」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、上記スライダについては、上記「A.サスペンション用基板」の項に記載のスライダと同様であるので、ここでの説明は省略する。   The suspension with an element of the present invention has at least a suspension and an element (slider). The suspension described above is the same as that described in “C. Suspension”, and is not described here. The slider is the same as the slider described in the section “A. Suspension substrate”, and the description thereof is omitted here.

E.ハードディスクドライブ
次に、本発明のハードディスクドライブについて説明する。本発明のハードディスクドライブは、上述した素子付サスペンションを含むことを特徴とするものである。
E. Next, the hard disk drive of the present invention will be described. The hard disk drive of the present invention is characterized by including the above-described suspension with an element.

本発明によれば、上述した素子付サスペンションを用いることで、より高機能化されたハードディスクドライブとすることができる。   According to the present invention, a hard disk drive with higher functionality can be obtained by using the above-described suspension with an element.

図16は、本発明のハードディスクドライブの一例を示す概略平面図である。図16に示されるハードディスクドライブ50は、上述した素子付サスペンション40と、素子付サスペンション40がデータの書き込みおよび読み込みを行うディスク51と、ディスク51を回転させるスピンドルモータ52と、素子付サスペンション40の素子を移動させるアーム53およびボイスコイルモータ54と、上記の部材を密閉するケース55とを有するものである。   FIG. 16 is a schematic plan view showing an example of the hard disk drive of the present invention. A hard disk drive 50 shown in FIG. 16 includes the above-described suspension 40 with an element, a disk 51 on which data is written and read by the suspension 40 with an element, a spindle motor 52 that rotates the disk 51, and the elements of the suspension 40 with an element. And a voice coil motor 54, and a case 55 for sealing the above-described members.

本発明のハードディスクドライブは、少なくとも素子付サスペンションを有し、通常は、さらにディスク、スピンドルモータ、アームおよびボイスコイルモータを有する。素子付サスペンションについては、上記「C.素子付サスペンション」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、その他の部材についても、一般的なハードディスクドライブに用いられる部材と同様のものを用いることができる。   The hard disk drive of the present invention has at least a suspension with an element, and usually further includes a disk, a spindle motor, an arm, and a voice coil motor. Since the suspension with an element is the same as the content described in “C. Suspension with an element”, description thereof is omitted here. As other members, the same members as those used in a general hard disk drive can be used.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下、本発明について実施例および比較例を用いて具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described using examples and comparative examples.

[実施例1] [Example 1]

厚さ20μmのSUS304である金属支持基板形成用層の上に、絶縁層形成材料として第1の非感光性ポリイミドを用い、厚さ10μmのベース絶縁層形成用層を塗工方法にて形成した。さらに、そのベース絶縁層形成用層上にシード層となるNi-Cr-Cu層をスパッタ工法で約300nmコーティングし、それを導通媒体としCuめっきにて厚さ9μmのCuめっき層である導体層形成用層を形成し、金属支持基板形成用層、ベース絶縁層形成用層および導体層形成用層からなる3層の積層体を得た。   A base insulating layer forming layer having a thickness of 10 μm was formed by a coating method on the metal supporting substrate forming layer of SUS304 having a thickness of 20 μm, using the first non-photosensitive polyimide as an insulating layer forming material. . Further, a Ni—Cr—Cu layer serving as a seed layer is coated on the base insulating layer forming layer by a sputtering method to a thickness of about 300 nm, and this is used as a conductive medium to form a conductor layer which is a 9 μm thick Cu plating layer by Cu plating. A forming layer was formed to obtain a three-layer laminate including a metal support substrate forming layer, a base insulating layer forming layer, and a conductor layer forming layer.

SUS(金属支持基板形成用層)側で位置精度が重要な治具孔と、Cuめっき層(導体層形成用層)側で目的とする接続配線を含む導体層を形成できるように、ドライフィルムを用いて同時にパターニングし、パターン状のレジストを得た。その後、塩化第二鉄液を用いてエッチングし、エッチング後レジスト剥膜を行い、上記金属支持基板形成用層に治具孔、ならびに、上記ベース絶縁層形成用層上に上記接続配線や端子部(はんだパッド)およびビア用配線を含む導体層を形成した。   A dry film so that a jig layer in which positional accuracy is important on the SUS (metal support substrate forming layer) side and a conductor layer including the desired connection wiring on the Cu plating layer (conductor layer forming layer) side can be formed. Were simultaneously patterned to obtain a patterned resist. Thereafter, etching is performed using a ferric chloride solution, resist stripping is performed after etching, jig holes are formed in the metal support substrate forming layer, and the connection wiring and terminal portions are formed on the base insulating layer forming layer. A conductor layer including a (solder pad) and via wiring was formed.

非感光性ポリイミド系の液状カバー層形成材料をダイコーターでコーティングし、乾燥後、レジスト製版し現像と同時にカバー層形成材料をエッチングし、その後、硬化させ、厚さ3〜5μmのカバー層形成材料(第2の非感光性ポリイミド)からなるカバー層を、上記接続配線等を含む導体層および絶縁層上に形成した。   A non-photosensitive polyimide-based liquid cover layer forming material is coated with a die coater, dried, resist-engraved, and the cover layer forming material is etched at the same time as development, then cured, and then a cover layer forming material having a thickness of 3 to 5 μm. A cover layer made of (second non-photosensitive polyimide) was formed on the conductor layer and the insulating layer including the connection wiring and the like.

次いで、上記ベース絶縁層形成用層(第1の非感光性ポリイミド層)をレジスト製版し、有機アルカリエッチング液を用いてエッチングし、エッチング後にレジスト剥膜を行いパターン状のベース絶縁層を得た。   Next, the base insulating layer forming layer (first non-photosensitive polyimide layer) is engraved with a resist, etched using an organic alkaline etchant, and stripped after the etching to obtain a patterned base insulating layer .

次いで、端子部(はんだパッド)を酸洗浄した後に、電解Auめっきを行い、端子部表面にめっき部を形成した。めっき部の厚さは、1.5〜2.5μmであった。   Next, after the terminal portion (solder pad) was acid cleaned, electrolytic Au plating was performed to form a plated portion on the surface of the terminal portion. The thickness of the plating part was 1.5 to 2.5 μm.

金属支持基板形成用層と上記導体層との導通を取る目的として、再度、レジスト製版を行い、電解Niめっきを行い、レジスト剥離を行い、ビアを得た。なお、電解Niめっき浴には標準的なスルファミン酸Niめっき浴を用い、電解浸漬めっき(0.2A、14分)で電解Niめっきを行った。ビアの厚みは、上記導体層から、3〜8μmであった。   For the purpose of establishing conduction between the metal support substrate forming layer and the conductor layer, resist plate making was performed again, electrolytic Ni plating was performed, and the resist was peeled off to obtain a via. A standard sulfamic acid Ni plating bath was used as the electrolytic Ni plating bath, and electrolytic Ni plating was performed by electrolytic immersion plating (0.2 A, 14 minutes). The via thickness was 3 to 8 μm from the conductor layer.

SUSの外形加工を行うため、再度、レジスト製版を行い、SUS側(金属支持基板形成用層)のみエッチングし、エッチング後にレジスト剥膜を行った。このようにして、金属支持基板を形成した。   In order to perform the outer shape processing of SUS, resist engraving was performed again, and only the SUS side (metal support substrate forming layer) was etched. After etching, resist stripping was performed. In this way, a metal support substrate was formed.

レジスト剥離をおこなった配線基板について、ドライフィルムレジストとして、東亜合成社製SS8000 厚み38umを用い、所定の形状のドライフィルムレジスト層になるように露光、現像を行った。その後、熱処理を行いドライフィルムレジストの加熱硬化を実施し、上記導体層からの厚さが10〜12μmであり、上記端子部(はんだパッド)を囲うように形成され、上記ビアよりも厚みの厚いドライフィルムレジスト層を形成した。
このようにして、サスペンション用基板を形成した。
About the wiring board which performed resist peeling, exposure and image development were performed so that it might become a dry film resist layer of a predetermined shape, using SS8000 thickness 38um by Toa Gosei Co., Ltd. as a dry film resist. Thereafter, heat treatment is performed to heat and cure the dry film resist, and the thickness from the conductor layer is 10 to 12 μm, and is formed so as to surround the terminal portion (solder pad), and is thicker than the via. A dry film resist layer was formed.
In this way, a suspension substrate was formed.

1 … 金属基板
2 … ベース絶縁層
3a … はんだパッド
3b … ビア用配線層
3c … 導体層
5 … ビア
6 … ドライフィルムレジスト層
7 … カバー層
8 … めっき層
10 … サスペンション用基板
11 … はんだ
20 … スライダ実装領域
30 … サスペンション
31 … ロードビーム
40 … 素子付サスペンション
41 … 素子(スライダ)
50 … ハードディスクドライブ
51 … ディスク
52 … スピンドルモータ
53 … アーム
54 … ボイスコイルモータ
55 … ケース
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal substrate 2 ... Base insulating layer 3a ... Solder pad 3b ... Via wiring layer 3c ... Conductor layer 5 ... Via 6 ... Dry film resist layer 7 ... Cover layer 8 ... Plating layer 10 ... Suspension substrate 11 ... Solder 20 ... Slider mounting area 30 ... Suspension 31 ... Load beam 40 ... Suspension with element 41 ... Element (slider)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 50 ... Hard disk drive 51 ... Disk 52 ... Spindle motor 53 ... Arm 54 ... Voice coil motor 55 ... Case

Claims (9)

金属基板と、
前記金属基板上に形成されたベース絶縁層と、
前記ベース絶縁層上に形成され、スライダ実装領域、および前記スライダ実装領域の反対側の端部に配置された外部端子部を接続する接続配線を少なくとも有する導体層と、
を有するサスペンション用基板であって
前記スライダ実装領域には、前記ベース絶縁層およびビア用配線に形成された貫通孔内に充填されてなり、前記金属基板および前記ビア用配線を接続する導電性材料からなるビアが形成され、
前記スライダ実装領域の導体層には、前記接続配線または前記ビア用配線と接続し、はんだを介してスライダと接続するためのはんだパッドが形成されており、
さらに、前記スライダ実装領域には、前記導体層上に配置され、かつ前記はんだパッドを囲うように形成されたドライフィルムレジストからなるドライフィルムレジスト層が配置され、
前記ドライフィルムレジスト層は、前記ビアより厚い膜厚を有し、かつ前記ドライフィルムレジスト層上に配置されるスライダを前記金属基板に対して平行に保つ位置に配置されており、
さらに、前記ドライフィルムレジスト層は、前記はんだパッド表面が露出するような貫通孔を有し、前記貫通孔内の前記はんだパッド表面は、前記ドライフィルムレジスト層の前記金属基板と反対側の表面から、前記金属基板側に位置し、凹部を形成していることを特徴とするサスペンション用基板。
A metal substrate;
A base insulating layer formed on the metal substrate;
A conductor layer that is formed on the base insulating layer and has at least a connection wiring that connects a slider mounting region and an external terminal portion disposed at an end opposite to the slider mounting region;
The said slider mounting region a suspension substrate with the insulating base layer and becomes filled in the through hole formed in the via wiring, wherein the metal substrate and the conductive material for connecting the via wiring A via consisting of
The conductor layer in the slider mounting region is connected to the connection wiring or the via wiring, and a solder pad for connecting to the slider via solder is formed,
Further, in the slider mounting region, a dry film resist layer made of a dry film resist disposed on the conductor layer and formed so as to surround the solder pad is disposed,
The dry film resist layer has a thickness that is thicker than the via, and is disposed at a position that keeps the slider disposed on the dry film resist layer parallel to the metal substrate,
Further, the dry film resist layer has a through hole that exposes the surface of the solder pad, and the solder pad surface in the through hole is from a surface of the dry film resist layer opposite to the metal substrate. A suspension substrate, which is located on the metal substrate side and has a recess.
前記ドライフィルムレジストが感光性ポリイミド樹脂からなるものであることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 1, wherein the dry film resist is made of a photosensitive polyimide resin. 前記導体層を覆うように形成されたカバー層を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 1, further comprising a cover layer formed so as to cover the conductor layer. 前記ドライフィルムレジスト層が、前記ビアを覆うように形成されていることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the dry film resist layer is formed so as to cover the via. 前記はんだパッド上に、はんだが積層されていることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to any one of claims 1 to 4, wherein solder is laminated on the solder pad. 請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載のサスペンション用基板を含むことを特徴とするサスペンション。   A suspension comprising the suspension substrate according to any one of claims 1 to 5. 請求項6に記載のサスペンションと、前記サスペンションのスライダ実装領域に実装された素子と、を有することを特徴とする素子付サスペンション。   A suspension with an element, comprising: the suspension according to claim 6; and an element mounted on a slider mounting region of the suspension. 請求項7に記載の素子付サスペンションを含むことを特徴とするハードディスクドライブ。   A hard disk drive comprising the suspension with an element according to claim 7. 金属基板と、
前記金属基板上に形成されたベース絶縁層と、
前記ベース絶縁層上に形成され、スライダ実装領域、および前記スライダ実装領域の反対側の端部に配置された外部端子部を接続する接続配線を少なくとも有する導体層と、
を有し、
前記スライダ実装領域には、前記ベース絶縁層およびビア用配線に形成された貫通孔内に充填されてなり、前記金属基板および前記ビア用配線を接続する導電性材料からなるビアとが形成され、
前記スライダ実装領域の導体層には、前記接続配線または前記ビア用配線と接続し、はんだを介してスライダと接続するためのはんだパッドが形成されており、
さらに、前記スライダ実装領域には、前記導体層上に配置され、かつ前記はんだパッドを囲うように形成されたドライフィルムレジストからなるドライフィルムレジスト層が配置され、
前記ドライフィルムレジスト層は、前記ビアより厚い膜厚を有し、かつ前記ドライフィルムレジスト層上に配置されるスライダを前記金属基板に対して平行に保つ位置に配置されており、
さらに、前記ドライフィルムレジスト層は、前記はんだパッド表面が露出するような貫通孔を有し、前記貫通孔内の前記はんだパッド表面は、前記ドライフィルムレジスト層の前記金属基板と反対側の表面から、前記金属基板側に位置し、凹部を形成しているサスペンション用基板を製造する、サスペンション用基板の製造方法であって、
前記金属基板、ベース絶縁層、導体層およびビアを有する積層基板を準備する積層基板準備工程と、
前記ドライフィルムレジストを、前記積層基板に、前記はんだパッド、導体層およびビアを覆うように貼り付けた後、前記ドライフィルムレジストを露光・現像し、前記ドライフィルムレジスト層を形成するドライフィルムレジスト層形成工程を有することを特徴とするサスペンション用基板の製造方法。
A metal substrate;
A base insulating layer formed on the metal substrate;
A conductor layer that is formed on the base insulating layer and has at least a connection wiring that connects a slider mounting region and an external terminal portion disposed at an end opposite to the slider mounting region;
Have
Wherein the slider mounting region, the filled in the base insulating layer and through-holes formed in the via wiring becomes in a via made of a conductive material for connecting wiring the metal substrate and the vias are formed,
The conductor layer in the slider mounting region is connected to the connection wiring or the via wiring, and a solder pad for connecting to the slider via solder is formed,
Further, in the slider mounting region, a dry film resist layer made of a dry film resist disposed on the conductor layer and formed so as to surround the solder pad is disposed,
The dry film resist layer has a thickness that is thicker than the via, and is disposed at a position that keeps the slider disposed on the dry film resist layer parallel to the metal substrate,
Further, the dry film resist layer has a through hole that exposes the surface of the solder pad, and the solder pad surface in the through hole is from a surface of the dry film resist layer opposite to the metal substrate. A suspension substrate manufacturing method for manufacturing a suspension substrate located on the metal substrate side and forming a recess,
A laminated substrate preparing step of preparing a laminated substrate having the metal substrate, base insulating layer, conductor layer and via;
A dry film resist layer for forming the dry film resist layer by applying the dry film resist to the laminated substrate so as to cover the solder pads, conductor layers and vias, and then exposing and developing the dry film resist. A method for manufacturing a suspension substrate, comprising a forming step.
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