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JP5861186B2 - Manufacturing method of pressure-sensitive adhesive film for sealing fine holes - Google Patents

Manufacturing method of pressure-sensitive adhesive film for sealing fine holes Download PDF

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JP5861186B2
JP5861186B2 JP2011116950A JP2011116950A JP5861186B2 JP 5861186 B2 JP5861186 B2 JP 5861186B2 JP 2011116950 A JP2011116950 A JP 2011116950A JP 2011116950 A JP2011116950 A JP 2011116950A JP 5861186 B2 JP5861186 B2 JP 5861186B2
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晃之 岩谷
晃之 岩谷
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Description

この発明は微細孔封止用粘着フィルムに関する。   The present invention relates to an adhesive film for sealing fine holes.

近年、複写機やプリンター、その他の画像形成装置等に広く用いられる、インクジェット記録ヘッドの吐出口など、直径数10μmの微細孔を有する要素部品が多くの分野で用いられている。これら要素部品の材質としては、金属、プラスチック、セラミックスが用いられている。
流通過程において、これらの要素部品の微細孔は粘着フィルムで覆われていることが多く、製品に組み込まれるとき、あるいは使用直前に、粘着フィルムが剥離されて使用される。
しかし、流通過程における粘着フィルムの粘着力不足による内容物の漏れ、粘着フィルムを剥離するときに生じる粘着層残渣などの問題が生じることが多い。
これらの問題に対処するため、エポキシ基および/またはオキセタニル基を有する重合体と、内容物の液体と反応することにより上記反応基の重合開始剤として作用する物質を提供することが可能な物質とを含む粘着層を有する粘着テープが知られている(特許文献1)。
In recent years, element parts having fine holes with a diameter of several tens of μm, such as ejection ports of ink jet recording heads, which are widely used in copying machines, printers, and other image forming apparatuses, are used in many fields. Metals, plastics, and ceramics are used as materials for these element parts.
In the distribution process, the micropores of these component parts are often covered with an adhesive film, and the adhesive film is peeled off when used in a product or immediately before use.
However, problems such as leakage of contents due to insufficient adhesive force of the adhesive film in the distribution process and adhesive layer residue generated when the adhesive film is peeled are often caused.
In order to cope with these problems, a polymer having an epoxy group and / or an oxetanyl group, and a substance capable of providing a substance that acts as a polymerization initiator of the reactive group by reacting with a liquid of the content, A pressure-sensitive adhesive tape having a pressure-sensitive adhesive layer is known (Patent Document 1).

一方、基材フィルムの片面に自己粘着層を有して、この自己粘着力によりタッチパネルの表面に着脱自在に貼着できるようにしたタッチパネル用表面保護フィルムにおいて、その粘着層として、低分子シロキサン量(ΣD3〜10)が1500ppm以下であるシリコーンゴム系粘着層が知られている(特許文献2)。   On the other hand, a surface protective film for a touch panel that has a self-adhesive layer on one side of the base film and can be detachably attached to the surface of the touch panel by this self-adhesive force. A silicone rubber pressure-sensitive adhesive layer having (ΣD3 to 10) of 1500 ppm or less is known (Patent Document 2).

しかしながら、従来の粘着テープにおいては、粘着層の粘着力が強くなると粘着層残渣が多くなり、また、粘着力が弱くなると内容物漏れが生じやすくなるという問題がある。   However, the conventional adhesive tape has a problem that when the adhesive force of the adhesive layer increases, the adhesive layer residue increases, and when the adhesive force decreases, the contents leak easily.

特開2009−149069JP2009-149069 特許第4366346号Japanese Patent No. 4366346

本発明は、このような問題に対処するためになされたもので、微細孔を有する要素部品の微細孔周辺を粘着層残渣などにより汚染することなく、また、微細孔を封止するための最適な粘着力を有する微細孔封止用粘着フィルムの提供を目的とする。   The present invention has been made to cope with such a problem, and is suitable for sealing fine holes without contaminating the fine hole periphery of an element part having fine holes with an adhesive layer residue or the like. An object of the present invention is to provide a pressure-sensitive adhesive film for sealing micropores having an excellent adhesive force.

本発明の微細孔封止用粘着フィルムは、基材フィルム、シリコーン粘着層、剥離フィルムがこの順に、直接または他の層を介して、積層されてなり、
上記シリコーン粘着層は、ポリジメチルシロキサン骨格を有するシリコーン化合物として、分子内にエポキシ基およびオキセタニル基を含まないポリジメチルシロキサン骨格を有するシリコーンオイルに、オルガノポリシロキサンレジンとして、M単位(R 3 SiO 0.5 、ただしRはCH 3 −、C 6 5 −、またはC n 2n+1 −( n は6以下の整数)を表す)とQ単位(SiO 2 )とから構成されるMQレジンが配合されたシリコーン組成物を電子線により架橋してなる粘着層であり、
上記オルガノポリシロキサンレジンの配合量は、シリコーン組成物全体量に対して、15質量%を超え50質量%未満であり、
該粘着層のガラス板に対する180度剥離粘着力が0.1〜2.0N/25mmであり
、超微小硬度計による測定値ηitが40〜80%であることを特徴とする。
特に、上記他の層が上記基材フィルムの表面処理層または表面薄層であることを特徴とする。
The pressure-sensitive adhesive film for sealing micropores of the present invention comprises a base film, a silicone pressure-sensitive adhesive layer, and a release film laminated in this order, directly or via other layers,
The silicone adhesive layer is a silicone compound having a polydimethylsiloxane skeleton, a silicone oil having a polydimethylsiloxane skeleton that does not contain an epoxy group and an oxetanyl group in the molecule , an organopolysiloxane resin , M units (R 3 SiO 0.5 Where R is CH 3 —, C 6 H 5 —, or C n H 2n + 1 — (where n is an integer of 6 or less) and an MQ resin composed of Q units (SiO 2 ). An adhesive layer obtained by crosslinking the silicone composition with an electron beam,
The compounding amount of the organopolysiloxane resin is more than 15% by mass and less than 50% by mass with respect to the total amount of the silicone composition.
180 degree peeling adhesive force with respect to the glass plate of this adhesion layer is 0.1-2.0 N / 25mm, and measured value (eta) it by an ultra micro hardness meter is 40-80%, It is characterized by the above-mentioned.
In particular, the other layer is a surface treatment layer or a thin surface layer of the base film.

また、上記シリコーン組成物に更に共架橋剤が配合されていることを特徴とする。
また、基材フィルムおよび剥離フィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムからなることを特徴とする。
Moreover, a co-crosslinking agent is further blended in the silicone composition.
The base film and the release film are made of a polyethylene terephthalate film.

本発明は、オルガノポリシロキサンレジンが配合されたシリコーン組成物を電子線により架橋した粘着層としたので、耐汚染性に優れると共に、微細孔を封止するための最適な高いシール性が得られる。   In the present invention, a silicone composition containing an organopolysiloxane resin is used as an adhesive layer crosslinked with an electron beam, so that it has excellent anti-contamination properties and an optimum high sealing property for sealing micropores. .

本発明で用いられる基材フィルムは、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリカーボネート、アクリル系樹脂およびフッ素樹脂等からなるフィルムである。中でもポリエステルフィルムは寸法安定性および経済性等の点で好ましい。特に好ましい基材フィルムは入手し易さの観点からポリエチレンテレフタレートフィルムである。これらの基材フィルムは、着色加工、抗菌加工、ハード加工、帯電防止加工、防汚加工および防眩加工を施すことができ、これらの加工をしたフィルムを用いることにより、微細孔封止用粘着フィルムとしての特性が一層望ましいものとなる。また、易接着処理やコロナ処理、プラズマ処理、プライマー処理等の表面処理を施すことにより、またはこれら表面処理能を有する表面薄層を設けることにより、シリコーン粘着層との接着をより一層強くすることができる。なお、上記基材フィルムの厚さは、特に限定されないが、取扱い性の点では5〜500μm、特に10〜200μmが好ましい。   The base film used in the present invention is a film made of polyester, polyamide, polyolefin, polycarbonate, acrylic resin, fluororesin, or the like. Among these, a polyester film is preferable in terms of dimensional stability and economy. A particularly preferable base film is a polyethylene terephthalate film from the viewpoint of availability. These base films can be subjected to coloring processing, antibacterial processing, hard processing, antistatic processing, antifouling processing and antiglare processing. By using these processed films, adhesive for micropore sealing The properties as a film become more desirable. In addition, by applying surface treatment such as easy adhesion treatment, corona treatment, plasma treatment, primer treatment, etc., or by providing a surface thin layer having these surface treatment capabilities, the adhesion to the silicone adhesive layer is further strengthened. Can do. In addition, although the thickness of the said base film is not specifically limited, 5-500 micrometers, especially 10-200 micrometers are preferable at the point of handleability.

本発明で用いられる剥離フィルムは、特に限定されないが、長鎖アルキル基含有樹脂や、フッ素系化合物よりなる離型層が積層された市販の離型用ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることができる。   Although the release film used in the present invention is not particularly limited, it is possible to use a long-chain alkyl group-containing resin or a commercially available release polyethylene terephthalate film in which a release layer made of a fluorine compound is laminated.

シリコーン粘着層は、ポリジメチルシロキサン骨格を有するシリコーン化合物にオルガノポリシロキサンレジンが配合されている。
シリコーン化合物としては、分子内にエポキシ基およびオキセタニル基を含まないシリコーン化合物であることが好ましく、ポリジメチルシロキサン骨格のシリコーン化合物を主成分(70質量%以上、より好ましくは90質量%以上、さらに好ましくは100質量%)として含むものであることが好ましい。特に、ポリジメチルシロキサン骨格を有するシリコーン化合物として、数平均分子量(Mn)が5万〜50万の未架橋体であることが好ましい。未架橋体のMnは8万〜40万がより好ましく、10万〜35万がさらに好ましい。
In the silicone adhesive layer, an organopolysiloxane resin is blended with a silicone compound having a polydimethylsiloxane skeleton.
The silicone compound is preferably a silicone compound that does not contain an epoxy group or an oxetanyl group in the molecule, and a polydimethylsiloxane skeleton silicone compound as a main component (70% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, further preferably Is preferably included as 100% by mass). In particular, the silicone compound having a polydimethylsiloxane skeleton is preferably an uncrosslinked product having a number average molecular weight (Mn) of 50,000 to 500,000. The uncrosslinked Mn is more preferably 80,000 to 400,000, and more preferably 100,000 to 350,000.

シリコーン化合物の未架橋体を用いることで溶媒への溶解性や流動性が確保でき、粘着層の形成が容易となる。また、未架橋体のMnが5万以上のものは架橋性が向上するため、好適である。未架橋体のMnが50万以下であれば、後述する製造方法において、塗工液の粘度が高くなり過ぎるなどの生産時の操業性の悪化を抑制することができる。従って、シリコーン化合物の未架橋体の層を形成し、その後に架橋を行なうのが好ましい実施態様である。   By using an uncrosslinked product of a silicone compound, solubility in a solvent and fluidity can be secured, and formation of an adhesive layer is facilitated. Moreover, since Mn of 50,000 or more of an uncrosslinked body improves crosslinkability, it is suitable. If the Mn of the uncrosslinked product is 500,000 or less, it is possible to suppress deterioration in operability during production such as the viscosity of the coating solution becoming too high in the production method described later. Therefore, it is a preferred embodiment to form an uncrosslinked layer of silicone compound and then perform crosslinking.

上記内容を満たす未架橋シリコーン化合物としては、例えば、シリコーンオイルとして市販されているものを使用することができる。シリコーンオイルを用いる場合は、ストレートシリコーンオイルの中でも、分子内にエポキシ基およびオキセタニル基を含まない、非反応性のジメチルシリコーンオイルを用いるのが好ましい。これにより、架橋後のシリコーン化合物がポリジメチルシロキサン骨格を有するものとなる。メチルフェニルタイプのシリコーンオイルでは架橋性が低下し、反応性のメチル水素タイプのシリコーンオイルは保存安定性等が悪いため、品質や操業性に悪影響を及ぼすことがあるので好ましくないが、10質量%未満(より好ましくは5質量%未満)であれば、メチルフェニルタイプやメチル水素タイプまたは各種の変性タイプといった、ポリジメチルシロキサン骨格を有さないシリコーン化合物を配合することができる。   As an uncrosslinked silicone compound satisfying the above contents, for example, a commercially available silicone oil can be used. When using silicone oil, it is preferable to use non-reactive dimethyl silicone oil which does not contain an epoxy group and oxetanyl group in the molecule among straight silicone oils. Thereby, the silicone compound after crosslinking has a polydimethylsiloxane skeleton. The methyl phenyl type silicone oil has a poor cross-linkability, and the reactive methyl hydrogen type silicone oil has poor storage stability, which may adversely affect quality and operability. If it is less than (more preferably less than 5% by mass), a silicone compound having no polydimethylsiloxane skeleton, such as methylphenyl type, methylhydrogen type, or various modified types, can be blended.

また、上記未架橋シリコーン化合物には、30質量%未満であればポリアルキルアルケニルシロキサン骨格のシリコーン化合物が含まれていてもよい。また、ポリアルキルアルケニルシロキサン骨格のシリコーン化合物はできるだけ少ない方がよい。ポリアルキルアルケニルシロキサン骨格のシリコーン化合物を含まないポリジメチルシロキサン骨格のシリコーン化合物のみよりなることが好ましい。   The uncrosslinked silicone compound may contain a polyalkylalkenylsiloxane skeleton silicone compound as long as it is less than 30% by mass. Further, the amount of the silicone compound having a polyalkylalkenylsiloxane skeleton should be as small as possible. It is preferably made of only a polydimethylsiloxane skeleton silicone compound that does not contain a polyalkylalkenylsiloxane skeleton silicone compound.

本発明における粘着層には、本発明の効果を妨げない範囲であれば、シリカ等の補強剤が含まれてもよいが、補強剤を全く含まないことが特に好ましい。   The adhesive layer in the present invention may contain a reinforcing agent such as silica as long as the effect of the present invention is not hindered, but it is particularly preferable that no reinforcing agent is contained.

本発明における粘着層には、上記未架橋シリコーン化合物にオルガノポリシロキサンレジンが配合されている。
オルガノポリシロキサンレジンは、M単位(R3SiO0.5)とQ単位(SiO2)とから構成されるMQレジンが好適に使用できる。ここで、Rは、CH3−、C65−、Cn2n+1−( n は6以下の整数)等を表す。特にRがCH3−であることがより安定な基となるため好ましい。Q単位に対するM単位のモル比は0.5〜1.5であるMQレジンが好ましい。
MQレジンを未架橋シリコーン化合物に配合することにより、粘着層の粘着力を向上させ、かつ電子線により架橋することで、被着体への汚染がなくなる。
なお、オルガノポリシロキサンレジンが配合されているシリコーン系粘着剤を、未架橋シリコーン化合物に配合する場合は、オルガノポリシロキサンレジンとしての配合量が15質量%を超え50質量%未満となるようにシリコーン系粘着剤を配合する。
In the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention, an organopolysiloxane resin is blended with the uncrosslinked silicone compound.
As the organopolysiloxane resin, an MQ resin composed of M units (R 3 SiO 0.5 ) and Q units (SiO 2 ) can be preferably used. Here, R represents CH 3 —, C 6 H 5 —, C n H 2n + 1 — (n is an integer of 6 or less) and the like. In particular, R is preferably CH 3 — because it is a more stable group. MQ resins having a molar ratio of M units to Q units of 0.5 to 1.5 are preferred.
By blending MQ resin into the uncrosslinked silicone compound, the adhesive force of the adhesive layer is improved, and cross-linking with an electron beam eliminates contamination of the adherend.
When the silicone-based pressure-sensitive adhesive containing the organopolysiloxane resin is blended with the uncrosslinked silicone compound, the silicone is blended so that the blending amount as the organopolysiloxane resin is more than 15% by mass and less than 50% by mass. Formulate adhesive.

オルガノポリシロキサンレジンの配合量は、シリコーン組成物全体量に対して、すなわち、上記シリコーン化合物およびオルガノポリシロキサンレジンの合計量に対して、15質量%を超え50質量%未満、好ましくは20質量%以上40質量%以下である。15質量%以下であると粘着力が低下し、50質量%以上になると糊残りが発生する。   The compounding amount of the organopolysiloxane resin is more than 15% by mass and less than 50% by mass, preferably 20% by mass, based on the total amount of the silicone composition, ie, the total amount of the silicone compound and the organopolysiloxane resin. It is 40 mass% or less. When it is 15% by mass or less, the adhesive strength is reduced, and when it is 50% by mass or more, adhesive residue is generated.

シリコーン粘着層には、共架橋剤を配合できる。共架橋剤は基材フィルムとなるポリエステルフィルムとの接着強度を高めることができる。
共架橋剤としては、(メタ)アクリル酸誘導体およびアリル誘導体等が例示されるが、中でも不飽和結合を2個以上、特に3個以上有する誘導体が好ましい。これらの化合物は、ゴムの共架橋剤として広く使用されており、多価アルコールと(メタ)アクリル酸のエステル、多価カルボン酸のアリルエステル、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート等が挙げられる。
A co-crosslinking agent can be blended in the silicone adhesive layer. The co-crosslinking agent can increase the adhesive strength with the polyester film serving as the base film.
Examples of the co-crosslinking agent include (meth) acrylic acid derivatives and allyl derivatives. Among them, derivatives having 2 or more, particularly 3 or more unsaturated bonds are preferable. These compounds are widely used as rubber co-crosslinking agents, and examples include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, allyl esters of polycarboxylic acid, triallyl isocyanurate, triallyl cyanurate, and the like. .

上記多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステルは、2個以上のアルコール性水酸基を有する多価アルコールのアルコール性水酸基2個以上を(メタ)アクリル酸でエステル化したエステル化合物である。具体的には、例えばエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、2,2’−ビス[4−(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル]プロパン、グリセリンジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンジ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールテトラ(メタ)アクリレート、ダイマージオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられ、特に3個以上の(メタ)アクリロイル基を含む化合物が好ましい。なお、上記の化合物は、アクリル酸およびメタクリル酸のそれぞれの単独エステル化合物を例示したが、アクリル酸とメタクリル酸の混合エステルの形であってもよい。
また、多価カルボン酸のアリルエステルとしては、フタル酸ジアリレート、トリメリット酸ジアリレート、ピロメリット酸テトラアリレート等が挙げられる。
The ester of the polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid is an ester compound obtained by esterifying two or more alcoholic hydroxyl groups of a polyhydric alcohol having two or more alcoholic hydroxyl groups with (meth) acrylic acid. Specifically, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, Neopentyl glycol di (meth) acrylate, 2,2'-bis [4- (meth) acryloxydiethoxyphenyl] propane, glycerol di (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) Acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tetramethylolmethane di (meth) acrylate, tetramethylolmethanetri (meth) acrylate, Examples include tramethylol tetra (meth) acrylate, dimer diol di (meth) acrylate, and the like, and particularly compounds containing three or more (meth) acryloyl groups are preferable. In addition, although said compound illustrated each single ester compound of acrylic acid and methacrylic acid, the form of mixed ester of acrylic acid and methacrylic acid may be sufficient.
Examples of the allyl ester of polyvalent carboxylic acid include phthalic acid diarylate, trimellitic acid diarylate, and pyromellitic acid tetraarylate.

上記共架橋剤は、いずれか一種を単独で用いてもよく、二種以上を併用してもよい。なお、この発明に用いられる共架橋剤は上記の例示化合物に限定されるものではない。
上記共架橋剤の配合量は、シリコーン組成物全体に対して、0.2〜20質量%が好ましく、0.5〜10質量%がより好ましい。
Any one of the above-mentioned co-crosslinking agents may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. The co-crosslinking agent used in the present invention is not limited to the above exemplary compounds.
0.2-20 mass% is preferable with respect to the whole silicone composition, and, as for the compounding quantity of the said co-crosslinking agent, 0.5-10 mass% is more preferable.

上記シリコーン組成物を電子線により架橋して粘着層が得られる。
上記シリコーン組成物に電子線を照射すると、ポリジメチルシロキサンのメチル基から水素が引き抜かれ、同様にメチル基から水素が引き抜かれた隣接するシリコーン化合物との間で、架橋反応が起こると考えられている。従って、電子線による架橋方法では、シリコーン化合物にラジカル発生のための過酸化物等や架橋用触媒等の添加剤を配合する必要がない。このため、これらの添加物の残渣による被着体に対する汚染が抑制され、架橋用触媒等を配合した後のポットライフを考慮する必要もなく、短時間で効率的に架橋が完了するため生産性が高くなる等のメリットがある。
The silicone composition is crosslinked with an electron beam to obtain an adhesive layer.
It is thought that when the silicone composition is irradiated with an electron beam, hydrogen is extracted from the methyl group of polydimethylsiloxane and a crosslinking reaction occurs between adjacent silicone compounds from which hydrogen is extracted from the methyl group. Yes. Therefore, in the crosslinking method using an electron beam, it is not necessary to add an additive such as a peroxide for radical generation or a crosslinking catalyst to the silicone compound. For this reason, the contamination of the adherend due to the residue of these additives is suppressed, and it is not necessary to consider the pot life after blending the crosslinking catalyst, etc., so that the crosslinking is completed efficiently in a short time. There are merits such as higher.

電子線架橋法は照射装置(EB照射装置)の入手しやすさから好適である。EB照射装置における電子線照射量としては、50〜300kGy、好ましくは100〜200kGyの範囲である。電子線照射量を50kGy以上とすることにより、シリコーン化合物の架橋反応を促進でき、再剥離する際に被着体に対する糊残りを低減し、リペアー性を向上させることができる。一方、電子線照射量を300kGy以下にすることにより、架橋反応の過度の進行によるシール性の低下を抑制することができる。   The electron beam cross-linking method is preferable because of the availability of an irradiation apparatus (EB irradiation apparatus). The electron beam irradiation dose in the EB irradiation apparatus is in the range of 50 to 300 kGy, preferably 100 to 200 kGy. By setting the electron beam irradiation amount to 50 kGy or more, the crosslinking reaction of the silicone compound can be promoted, and the adhesive residue on the adherend can be reduced and the repairability can be improved when re-peeling. On the other hand, by making the electron beam irradiation amount 300 kGy or less, it is possible to suppress a decrease in sealing performance due to excessive progress of the crosslinking reaction.

電子線架橋して得られる微細孔封止用粘着フィルムにおける粘着層のガラス板に対する180度剥離粘着力が0.1〜2.0N/25mm、好ましくは0.12〜1.6N/25mmである。0.1N/25mm未満では粘着力が低下し、2.0N/25mmを超えると粘着層残渣が多くなる。
また、超微小硬度計による測定値ηitが40〜80%である。ηitが40%未満であると粘着層残渣が多くなり易くなり、80%を超えるとシール性が低下する場合がある。
上記粘着力およびηitの範囲は粘着層の配合と電子線架橋の条件範囲を上記範囲とすることにより達成できる。
180 degree peeling adhesive force with respect to the glass plate of the adhesion layer in the adhesive film for micropore sealing obtained by electron beam crosslinking is 0.1 to 2.0 N / 25 mm, preferably 0.12 to 1.6 N / 25 mm. . If it is less than 0.1 N / 25 mm, the adhesive strength decreases, and if it exceeds 2.0 N / 25 mm, the adhesive layer residue increases.
Further, the measured value ηit measured by an ultra micro hardness meter is 40 to 80%. If ηit is less than 40%, the adhesive layer residue tends to increase, and if it exceeds 80%, the sealing performance may be deteriorated.
The ranges of the above-mentioned adhesive strength and ηit can be achieved by setting the range of the pressure-sensitive adhesive layer and the electron beam cross-linking conditions within the above ranges.

粘着力はJIS Z0237に準じてガラス板に対する180度剥離法で測定できる。ガラスは、厚み3mm、幅30mmのフロートガラスを用いる。試料は25mm幅とし、ガラスへの貼着は2Kgのローラを用いて約29mm/秒の速さで2往復することにより行なう。剥離速度は300mm/分とし、貼着後23℃の雰囲気下にて24時間放置後、23℃の雰囲気下で引っ張り試験を行ない、最大引張強度を粘着力(N/25mm)とする。   The adhesive strength can be measured by a 180 degree peeling method with respect to a glass plate according to JIS Z0237. As the glass, a float glass having a thickness of 3 mm and a width of 30 mm is used. The sample has a width of 25 mm, and is attached to the glass by reciprocating twice at a speed of about 29 mm / second using a 2 kg roller. The peeling speed is 300 mm / min, and after leaving for 24 hours in an atmosphere of 23 ° C. after the sticking, a tensile test is performed in an atmosphere of 23 ° C., and the maximum tensile strength is defined as adhesive strength (N / 25 mm).

また、超微小硬度計による測定値ηitは、以下の方法で測定される値である。
(1)試料調整
試料は約2cm角に切り取り、1mm以上のガラス板上に測定面の反対面を基材レスタイプのアクリル系両面粘着剤(厚さ25μm)やシアノアクリレート系などの接着剤にて固定する。固定後30分以上放置した後、測定面のセパレータを剥離して測定する。
(2)測定機器
測定機器は、島津製作所製 ダイナミック超微小硬度計 DUH−211を用いる。
(3)測定条件
測定条件は以下の通りである。
(i)設定
試験モード 負荷−除荷試験
使用圧子 115度三角錐圧子
圧子弾性率:1.140E+006N/mm2
圧子ポアソン比:0.07
軟質試料測定 あり
(ii)条件
試験力 0.50mN(または0.70mN)
負荷速度 0.0150mN/秒
負荷保持時間 2秒
除荷保持時間 5秒
(4)データ
n数 各3の平均値
なお、測定値は、マシンコンプライアンス補正(Cf)、投影面積関数の補正(Ap)および接触面積関数の補正(As)を施した値を記載する。これら補正の原理は上記DUH−211の取扱説明書に詳細が記載されている。
(5)測定値ηitの意味
超微小硬度計による測定値ηitは以下の意味である。
押し込みによる機械的な仕事について、押し込みによって機械的仕事Wtotalは、その一部が塑性変形量Wplastとして消費される。その試験力の除荷時に、残りの部分は弾性変形の仕事Welastとして開放されるので、ηitはWelast/Wtotal(%)として定義される。
Further, the measured value ηit by the ultra-micro hardness meter is a value measured by the following method.
(1) Sample preparation The sample is cut into approximately 2cm squares, and the opposite side of the measurement surface on a glass plate of 1mm or more is used as an adhesive such as a baseless acrylic double-sided adhesive (thickness 25μm) or cyanoacrylate. And fix. After standing for 30 minutes or more after fixing, the separator on the measurement surface is peeled off and measured.
(2) Measuring device As a measuring device, Shimadzu Corporation dynamic microhardness meter DUH-211 is used.
(3) Measurement conditions Measurement conditions are as follows.
(I) Setting Test mode Load-unloading test Indenter 115 degree triangular pyramid indenter
Indenter elastic modulus: 1.140E + 006 N / mm 2
Indenter Poisson's ratio: 0.07
Soft sample measurement Yes (ii) Conditions Test force 0.50 mN (or 0.70 mN)
Load speed 0.0150 mN / sec Load holding time 2 seconds Unloading holding time 5 seconds (4) Data n number Average value of each 3 Note that the measured values are machine compliance correction (Cf) and projection area function correction (Ap) In addition, the values after correction (As) of the contact area function are described. The details of these correction principles are described in the instruction manual for DUH-211.
(5) Meaning of measured value ηit The measured value ηit measured by the ultra-micro hardness meter has the following meaning.
Mechanical work by pushing, the mechanical work W total by pushing, part of it is consumed as the plastic deformation amount W plast. At the time of unloading of the test force, the remaining part is released as the elastic deformation work W elast , so ηit is defined as W elast / W total (%).

本発明の微細孔封止用粘着フィルムは、上述した未架橋のシリコーン化合物およびMQレジンを溶剤に溶解あるいは分散させて、必要に応じて接着性改良剤を添加して塗工液を調製し、塗工法で基材フィルム上に塗布した後に、上記条件で電子線架橋処理をして得られる。
未架橋のシリコーンオイルおよびMQレジンは、トルエン等の芳香族炭化水素によく溶解するので、これらの溶剤に溶解して塗工法で塗布するのが好ましい。
塗工法としては、各種の塗布方法、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、バーコート法、マイヤーバーコート法、ダイコート法、スプレーコート法等を用いることができる。
未架橋のシリコーンオイルを用いると、従来のミラブルタイプのシリコーンゴムコンパウンドを溶剤に溶解する場合に必要な混練等によるコンパウンドの可塑化工程が不要である。また、得られた塗工液の保存安定性がよく、シリコーンゴムコンパウンドの溶液調製の際によく見られるゲル化等の増粘現象等も起こらない。さらに、シリコーンゴムコンパウンドの溶液化において発生することがあるシリコーンゴムコンパウンドの未溶解による異物の生成が抑制されるため、清澄度の高い塗工液が得られる等のメリットがある。
基材フィルム上に塗布した後に乾燥することにより、未架橋の粘着層が基材フィルム上に積層される。
上記乾燥は、基材フィルムの材質、厚さや設備の乾燥炉長などから設定できる。多くの場合、急激に溶媒の沸点近くまで温度をかけると突沸という現象を起こし、気泡などの外観不具合を引き起こしやすいので、温度は徐々に上げるのが好ましい。
The pressure-sensitive adhesive film for sealing micropores of the present invention is prepared by dissolving or dispersing the above-mentioned uncrosslinked silicone compound and MQ resin in a solvent, and adding an adhesion improver as necessary to prepare a coating solution. It is obtained by applying an electron beam cross-linking treatment under the above conditions after coating on a substrate film by a coating method.
Uncrosslinked silicone oil and MQ resin are well soluble in aromatic hydrocarbons such as toluene, and are preferably dissolved in these solvents and applied by a coating method.
As the coating method, various coating methods such as reverse coating method, gravure coating method, rod coating method, bar coating method, Mayer bar coating method, die coating method, spray coating method and the like can be used.
When an uncrosslinked silicone oil is used, a compound plasticizing step by kneading or the like necessary for dissolving a conventional millable type silicone rubber compound in a solvent is unnecessary. In addition, the obtained coating solution has good storage stability, and does not cause a thickening phenomenon such as gelation, which is often seen when preparing a solution of a silicone rubber compound. Furthermore, since the production | generation of the foreign material by the silicone rubber compound not melt | dissolving which may generate | occur | produce in the solutionization of a silicone rubber compound is suppressed, there exists a merit that a coating liquid with high clarity is obtained.
An uncrosslinked adhesive layer is laminated on the base film by drying after coating on the base film.
The said drying can be set from the material of a base film, thickness, the drying furnace length of an installation, etc. In many cases, when the temperature is rapidly applied to the vicinity of the boiling point of the solvent, a phenomenon called bumping occurs, and appearance defects such as bubbles are likely to occur. Therefore, it is preferable to gradually raise the temperature.

基材フィルム上に積層され未架橋の粘着層の表面に上記剥離フィルムを積層して、この剥離フィルム上から電子線架橋処理を行なうことが好ましい。
電子線架橋処理終了後の微細孔封止用粘着フィルムは、ロール状に巻き取られる。
電子線架橋処理後の微細孔封止用粘着フィルムは、用途に応じた寸法にスリットまたは/およびカットされて使用される。
It is preferable to laminate the release film on the surface of the non-crosslinked adhesive layer laminated on the base film and perform electron beam crosslinking treatment from the release film.
The pressure-sensitive adhesive film for sealing micropores after the electron beam crosslinking treatment is wound into a roll.
The fine hole sealing pressure-sensitive adhesive film after the electron beam cross-linking treatment is used after being slit or / and cut into dimensions according to the application.

本発明の微細孔封止用粘着フィルムは、基材フィルム厚さが20〜200μm、粘着層厚さが10〜60μm、剥離フィルム厚さが10〜100μmであることが好ましい。   The adhesive film for sealing micropores of the present invention preferably has a base film thickness of 20 to 200 μm, an adhesive layer thickness of 10 to 60 μm, and a release film thickness of 10 to 100 μm.

本発明の微細孔封止用粘着フィルムは、金属、プラスチック、セラミックスなどの基材に直径数10μmの微細孔が設けられた要素部品における、該微細孔部分を封止するための粘着フィルムとして好適に用いることができる。   The pressure-sensitive adhesive film for sealing micropores of the present invention is suitable as a pressure-sensitive adhesive film for sealing micropores in element parts in which micropores with a diameter of several tens of μm are provided on a base material such as metal, plastic, and ceramics. Can be used.

実施例1
(1)粘着層形成用塗工液の調製
シリカ等の補強剤を実質的に含まず、数平均分子量が24万(GPC法で測定、ポリスチレン換算)の未架橋のポリジメチルシロキサン骨格よりなる非反応性のシリコーン化合物であるシリコーンオイル67質量部をトルエンに溶解した。これにMQレジンを固形分中60質量%含有するシリコーン化合物(東レ・ダウコーニング株式会社製、SD4580PSA、固形分60質量%)56質量部、およびトリメチロールプロパントリメタクリレート(表1において、TMPとして表す)1.3質量部を添加して均一に溶解して固形分30質量%の塗工液とした。なお、表1において、シリコーン化合物は、非反応性のシリコーンオイルと、MQレジンを含有するシリコーン系粘着剤中のMQレジンを除いたシリコーン化合物との合計量である。
Example 1
(1) Preparation of pressure-sensitive adhesive layer-forming coating solution A non-crosslinked polydimethylsiloxane skeleton having substantially no reinforcing agent such as silica and having a number average molecular weight of 240,000 (measured by GPC method, converted to polystyrene) 67 parts by mass of silicone oil , which is a reactive silicone compound, was dissolved in toluene. This is a silicone compound containing 60% by mass of MQ resin in solids (Toray Dow Corning, SD4580PSA, solids 60% by mass), 56 parts by mass, and trimethylolpropane trimethacrylate (expressed as TMP in Table 1). ) 1.3 parts by mass was added and dissolved uniformly to obtain a coating liquid having a solid content of 30% by mass. In Table 1, the silicone compound is the total amount of the non-reactive silicone oil and the silicone compound excluding the MQ resin in the silicone-based pressure-sensitive adhesive containing MQ resin.

(2)粘着層の形成と、剥離フィルムの貼着
上記塗工液をロールコーターに供給し、片面に易接着処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)の易接着処理面に、乾燥後の厚みが45μmとなるように塗布し、続いてオーブンに導入して90℃で乾燥した。基材フィルム上に未架橋のシリコーン粘着層が片面に形成された積層体が得られた。
ついで、この粘着層の表面に、フッ素系化合物よりなる離型層が積層されたポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ75μm)を離型層と粘着層が接するように重ねつつ、圧着ローラ(圧力30N/cm2)で押さえ剥離フィルムを貼着した。
(2) Formation of pressure-sensitive adhesive layer and adhesion of release film The above coating solution is supplied to a roll coater and dried on an easy-adhesion-treated surface of a polyethylene terephthalate film (thickness 38 μm) subjected to easy-adhesion treatment on one side. The coating was applied so that the subsequent thickness was 45 μm, and subsequently introduced into an oven and dried at 90 ° C. A laminate in which an uncrosslinked silicone adhesive layer was formed on one side on a base film was obtained.
Next, a pressure roller (pressure 30 N / cm) was placed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer while a polyethylene terephthalate film (thickness 75 μm) on which a release layer made of a fluorine-based compound was laminated so that the release layer and the pressure-sensitive adhesive layer were in contact with each other. 2 ) A pressure-release release film was attached.

(3)電子線照射
上記フィルム積層体を連続的に電子線照射装置に導入し、剥離フィルム側から、200KV、150kGyのエネルギーで電子線を照射して粘着層の架橋を行ない、架橋後のシリコーン粘着層を備えた微細孔封止用粘着フィルムをロール状に巻取った。
得られた微細孔封止用粘着フィルムの構成、電子線照射条件を表1に示す。なお、表1において、剥離フィルムは省略した。また、シリコーン化合物およびMQレジンの配合割合は小数点以下を切り捨てて表示した。
(3) Electron beam irradiation The above film laminate is continuously introduced into an electron beam irradiation apparatus, and the adhesive layer is crosslinked by irradiating an electron beam with an energy of 200 KV and 150 kGy from the release film side. The pressure-sensitive adhesive film for sealing fine holes provided with the pressure-sensitive adhesive layer was wound into a roll.
Table 1 shows the structure of the obtained pressure-sensitive adhesive film for sealing fine holes and the electron beam irradiation conditions. In Table 1, the release film was omitted. In addition, the blending ratio of the silicone compound and the MQ resin was displayed by omitting the decimal part.

(4)評価
ロール状に巻取られた微細孔封止用粘着フィルムより剥離フィルムを剥離して、180度剥離粘着力、超微小硬度計による測定、汚染性、粘着層残渣性、シール性を評価した。 180度剥離粘着力および超微小硬度計による測定は上述した方法により行なった。
(4) Evaluation The peelable film is peeled off from the adhesive film for sealing micropores wound up in a roll shape, and the 180 degree peel adhesive strength, the measurement with an ultra-micro hardness meter, the contamination property, the adhesive layer residue property, the sealing property Evaluated. The 180 degree peel adhesion and the measurement with an ultra-micro hardness meter were performed by the above-described methods.

汚染性はガラス板の被着面に100μm厚さのポリエチレンテレフタレートフィルムを置き、その上に試料の粘着面を貼り合わせる。その後、60℃で48時間放置後に試料を剥がして、ポリエチレンテレフタレートを置いた周囲のガラス面の汚染の有無を目視で観察した。ガラス面が清浄である場合を○、汚染されている場合を×とした。   For contamination, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm is placed on the adherend surface of a glass plate, and the adhesive surface of the sample is bonded thereon. Thereafter, the sample was peeled off after standing at 60 ° C. for 48 hours, and the presence or absence of contamination of the surrounding glass surface on which polyethylene terephthalate was placed was visually observed. The case where the glass surface was clean was marked with ○, and the case where it was contaminated was marked with ×.

粘着層残渣性は、上記汚染性と同様に実施してガラス面の粘着層残渣の有無を目視で観察した。ガラス面が清浄である場合を○、粘着層が残っている場合を×とした。
シール性は、底部全面に直径50μmの微細孔を有する容器の該微細孔に試料の粘着面を貼り合わせ、容器内に精製水を満たしときの液漏れの有無により評価した。液漏れが生じた場合を×、液漏れが見られない場合を○とした。
結果を表2に示す。
The adhesive layer residue property was implemented in the same manner as the above-mentioned contamination property, and the presence or absence of the adhesive layer residue on the glass surface was visually observed. The case where the glass surface was clean was marked with ◯, and the case where the adhesive layer remained was marked with ×.
The sealing property was evaluated based on the presence or absence of liquid leakage when the sample was bonded to the micropores of a container having micropores with a diameter of 50 μm on the entire bottom and the container was filled with purified water. The case where liquid leakage occurred was marked as x, and the case where liquid leakage was not observed was marked as ◯.
The results are shown in Table 2.

実施例2〜9、比較例1〜6
微細孔封止用粘着フィルムの構成、電子線照射条件を表1に示すとおりとする以外は、実施例1と同様にして微細孔封止用粘着フィルムを作製した。得られた微細孔封止用粘着フィルムを実施例1と同様にして評価した。結果を表2に示す。なお、比較例3は、ジメチルシロキサン骨格を有するシリコーン化合物の代わりにアルケニル基を有するポリオルガノシロキサン(東レ・ダウコーニング株式会社製、SD7226、固形分30質量%)221質量部を使用し、白金触媒(東レ・ダウコーニング株式会社製、NC−25)を添加して塗工液調整し、塗工時に120℃加熱により架橋させた例であり、比較例4および5は、市販されているアクリル系樹脂を粘着層とする粘着フィルムである。
Examples 2-9, Comparative Examples 1-6
A microporous sealing film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the configuration of the microporous sealing film and the electron beam irradiation conditions were as shown in Table 1. The obtained adhesive film for sealing micropores was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2. In addition, Comparative Example 3 uses 221 parts by mass of a polyorganosiloxane having an alkenyl group instead of a silicone compound having a dimethylsiloxane skeleton (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., SD7226, solid content 30% by mass), and a platinum catalyst. (Toray Dow Corning Co., Ltd., NC-25) was added to adjust the coating solution and crosslinked by heating at 120 ° C. during coating. Comparative Examples 4 and 5 are commercially available acrylics It is an adhesive film having a resin as an adhesive layer.

Figure 0005861186
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本発明の微細孔封止用粘着フィルムは、粘着力に優れていると共に、粘着層の残渣が見られないので、各種の微細孔を封止するための粘着フィルムとして利用できる。   The pressure-sensitive adhesive film for sealing micropores of the present invention is excellent in adhesive force and can be used as a pressure-sensitive adhesive film for sealing various micropores because no residue of the pressure-sensitive adhesive layer is observed.

Claims (4)

基材フィルム、シリコーン粘着層、剥離フィルムがこの順に、直接または他の層を介して、積層されてなる微細孔封止用粘着フィルムの製造方法であって、
前記シリコーン粘着層のガラス板に対する180度剥離粘着力が0.1〜2.0N/25mmであり、超微小硬度計による測定値ηitが40〜80%であり、
前記シリコーン粘着層は、分子内にエポキシ基およびオキセタニル基を含まないポリジメチルシロキサン骨格を有するシリコーンオイルに、M単位(R3SiO0.5、ただしRはCH3−、C65−、またはCn2n+1−( n は6以下の整数)を表す)とQ単位(SiO2)とから構成されるMQレジンが配合されたシリコーン組成物であって、前記MQレジンの配合量が該シリコーン組成物全体量に対して15質量%を超え50質量%未満である組成物を、電子線により架橋してなることを特徴とする微細孔封止用粘着フィルムの製造方法
A base film, a silicone pressure-sensitive adhesive layer, and a release film are laminated in this order, directly or via other layers, and a method for producing a pressure-sensitive adhesive film for sealing micropores,
180 degree peeling adhesive force with respect to the glass plate of the silicone adhesive layer is 0.1 to 2.0 N / 25 mm, and a measured value ηit by an ultra micro hardness meter is 40 to 80%,
The silicone adhesive layer is prepared by adding M units (R 3 SiO 0.5 , where R is CH 3 —, C 6 H 5 —, or C to silicone oil having a polydimethylsiloxane skeleton that does not contain an epoxy group and oxetanyl group in the molecule. n H 2n + 1 − (where n represents an integer of 6 or less) and a Q composition (SiO 2 ), and a silicone composition in which the MQ resin is blended. A method for producing a pressure-sensitive adhesive film for sealing micropores, comprising cross-linking a composition that exceeds 15% by mass and less than 50% by mass with an electron beam with respect to the total amount of the silicone composition .
前記他の層が前記基材フィルムの表面処理層または表面薄層であることを特徴とする請求項1記載の微細孔封止用粘着フィルムの製造方法The method for producing a pressure-sensitive adhesive film for sealing micropores according to claim 1, wherein the other layer is a surface treatment layer or a surface thin layer of the base film. 前記シリコーン組成物に更に共架橋剤が配合されていることを特徴とする請求項1または請求項2記載の微細孔封止用粘着フィルムの製造方法The method for producing a pressure-sensitive adhesive film for sealing micropores according to claim 1 or 2, wherein a co-crosslinking agent is further blended in the silicone composition. 基材フィルムおよび剥離フィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムからなることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項記載の微細孔封止用粘着フィルムの製造方法The method for producing an adhesive film for sealing micropores according to any one of claims 1 to 3, wherein the base film and the release film are made of a polyethylene terephthalate film.
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