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JP5864313B2 - Calibration parameter generation system - Google Patents

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JP5864313B2 JP2012056737A JP2012056737A JP5864313B2 JP 5864313 B2 JP5864313 B2 JP 5864313B2 JP 2012056737 A JP2012056737 A JP 2012056737A JP 2012056737 A JP2012056737 A JP 2012056737A JP 5864313 B2 JP5864313 B2 JP 5864313B2
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Description

本発明は、校正パラメータを生成するための校正パラメータ生成システムに関する。   The present invention relates to a calibration parameter generation system for generating calibration parameters.

従来、高周波電源装置から出力される高周波電力をプラズマ処理装置に供給し、エッチング等の方法を用いて半導体ウェハや液晶基板等の被加工物を加工するプラズマ処理システムが開発されている。   2. Description of the Related Art Conventionally, a plasma processing system has been developed that supplies high-frequency power output from a high-frequency power supply device to a plasma processing apparatus and processes a workpiece such as a semiconductor wafer or a liquid crystal substrate using a method such as etching.

図11は、従来のプラズマ処理システムの構成の一例を示すブロック図である。   FIG. 11 is a block diagram showing an example of the configuration of a conventional plasma processing system.

プラズマ処理システムAは、半導体ウェハや液晶基板などの被加工物に対して高周波電力を供給して、例えばプラズマエッチングといった加工処理を行うものである。同図に示すようにプラズマ処理システムAは、高周波電源装置1、インピーダンス整合装置2、高周波測定装置3、およびプラズマ処理装置4を備えている。   The plasma processing system A supplies high-frequency power to a workpiece such as a semiconductor wafer or a liquid crystal substrate, and performs processing such as plasma etching. As shown in the figure, the plasma processing system A includes a high frequency power supply device 1, an impedance matching device 2, a high frequency measuring device 3, and a plasma processing device 4.

高周波電源装置1は、プラズマ処理装置4に高周波電力を供給するものであって、例えば数百kHz以上の周波数を有する高周波電力を出力することができる電源装置である。プラズマ処理装置4は、半導体ウェハや液晶基板等の被加工物をエッチングやCVD等の方法を用いて加工するための装置である。なお、図示しないが、プラズマ処理装置4は、プラズマを発生させるための窒素ガスやアルゴンガスなどの所定のガスを封入するための容器(チャンバー)と、高周波電源装置1からの高周波電力を容器内のガスに供給するための一対の電極を備えている。   The high frequency power supply 1 supplies high frequency power to the plasma processing apparatus 4 and is a power supply capable of outputting high frequency power having a frequency of, for example, several hundred kHz or more. The plasma processing apparatus 4 is an apparatus for processing a workpiece such as a semiconductor wafer or a liquid crystal substrate using a method such as etching or CVD. Although not shown, the plasma processing apparatus 4 includes a container (chamber) for enclosing a predetermined gas such as nitrogen gas or argon gas for generating plasma, and high-frequency power from the high-frequency power supply device 1 in the container. A pair of electrodes for supplying the gas.

プラズマ処理中にプラズマ処理装置4のインピーダンスは変動するので、当該プラズマ処理装置4の入力端で反射した反射波電力が高周波電源装置1を損傷する虞がある。したがって、プラズマ処理システムAにおいては、一般に、高周波電源装置1とプラズマ処理装置4との間にインピーダンス整合装置2が設けられており、プラズマ処理装置4のインピーダンス変動に応じて整合動作を行っている。インピーダンス整合装置2は、図示しない可変リアクタンス素子(例えば、可変キャパシタ、可変インダクタ等)のリアクタンスを変化させることでインピーダンスを変化させ、インピーダンス整合装置2の入力端aから負荷側を見たインピーダンスが予め定めた所望のインピーダンスになるようにする。   Since the impedance of the plasma processing apparatus 4 fluctuates during the plasma processing, the reflected wave power reflected at the input end of the plasma processing apparatus 4 may damage the high-frequency power supply apparatus 1. Therefore, in the plasma processing system A, generally, the impedance matching device 2 is provided between the high-frequency power supply device 1 and the plasma processing device 4, and a matching operation is performed according to the impedance fluctuation of the plasma processing device 4. . The impedance matching device 2 changes the impedance by changing the reactance of a variable reactance element (for example, a variable capacitor, a variable inductor, etc.) not shown, and the impedance when the load side is viewed from the input terminal a of the impedance matching device 2 is determined in advance. The desired impedance is set.

高周波測定装置3は、プラズマ処理中のプラズマ処理装置4の状態を監視するために、プラズマ処理装置4のチャンバー内のインピーダンス、反射係数、高周波電圧、高周波電流、進行波電力および反射波電力などの高周波パラメータを測定する、いわゆるRFセンサである。高周波測定装置3は、センサによって高周波電圧(以下、単に「電圧」という。)と高周波電流(以下、単に「電流」という。)を検出し、その検出信号から電圧と電流の位相差(以下、単に「位相差」という。)θを求めるとともに、電圧実効値Vおよび電流実効値Iを算出する。そして、これらを用いて、各高周波パラメータを算出する。   In order to monitor the state of the plasma processing apparatus 4 during the plasma processing, the high frequency measuring apparatus 3 includes impedance, reflection coefficient, high frequency voltage, high frequency current, traveling wave power, reflected wave power, etc. in the chamber of the plasma processing apparatus 4. This is a so-called RF sensor that measures high-frequency parameters. The high-frequency measuring device 3 detects a high-frequency voltage (hereinafter simply referred to as “voltage”) and a high-frequency current (hereinafter simply referred to as “current”) using a sensor, and a phase difference between the voltage and current (hereinafter referred to as “current”) from the detection signal. It is simply referred to as “phase difference”.) Θ is obtained, and an effective voltage value V and an effective current value I are calculated. Then, using these, each high-frequency parameter is calculated.

一般に、センサの感度はばらつくので、当該センサで検出される検出値から算出された測定値は、正しい値と異なる。したがって、計測装置や測定装置は、予め基準となる被測定物を測定して、検出値から算出された測定値を正しい値に換算する校正パラメータを取得しておき、実際の測定では測定値を当該校正パラメータで正しい値に校正して出力する構成となっている。   In general, since the sensitivity of a sensor varies, a measurement value calculated from a detection value detected by the sensor is different from a correct value. Therefore, the measurement device or the measurement device measures the measurement object serving as a reference in advance, obtains a calibration parameter for converting the measurement value calculated from the detection value into a correct value, and in actual measurement, obtains the measurement value. The calibration parameter is calibrated to the correct value and output.

高周波測定装置3では、電圧実効値V、電流実効値Iおよび位相差θについて校正パラメータを用いて校正を行い、校正後の値を用いて各種高周波パラメータを算出する。具体的には、電圧実効値V、電流実効値Iおよび位相差θからベクトル変換によって電流信号と電圧信号とを算出し、校正パラメータを用いて校正を行い、校正後の電流信号と電圧信号とから逆ベクトル変換によって電圧実効値V’、電流実効値I’および位相差θ’を算出する。電圧実効値V’、電流実効値I’および位相差θ’は校正が行われた値になっている。校正パラメータは、3つの基準負荷に基づいて算出されて、高周波測定装置3のメモリに記憶されている。3つの基準負荷について、それぞれ高周波測定装置3でインピーダンスを測定し、これらのインピーダンス測定値と3つの基準負荷のインピーダンスの真値とから校正パラメータは算出される。   In the high frequency measuring device 3, the voltage effective value V, the current effective value I, and the phase difference θ are calibrated using calibration parameters, and various high frequency parameters are calculated using the calibrated values. Specifically, a current signal and a voltage signal are calculated by vector conversion from the voltage effective value V, the current effective value I, and the phase difference θ, calibration is performed using calibration parameters, and the current signal and voltage signal after calibration are calculated. From these, the effective voltage value V ′, the effective current value I ′, and the phase difference θ ′ are calculated by inverse vector conversion. The voltage effective value V ′, the current effective value I ′, and the phase difference θ ′ are values that have been calibrated. The calibration parameters are calculated based on the three reference loads and stored in the memory of the high frequency measuring device 3. For the three reference loads, the impedance is measured by the high-frequency measuring device 3, and the calibration parameters are calculated from these measured impedance values and the true values of the impedances of the three reference loads.

実際に基準負荷に高周波測定装置3を接続して基準負荷のインピーダンスを測定した場合、高周波測定装置3は基準負荷の入力端でのインピーダンスを測定することができず、測定されたインピーダンスには高周波測定装置3自体のインピーダンスも含まれることになる。したがって、基準負荷のみのインピーダンスを真値として校正パラメータを算出することはできない。したがって、接続された負荷に高周波測定装置3を含めた全体を基準負荷とみなして、当該基準負荷のインピーダンスをインピーダンスアナライザで測定し、当該測定値を基準負荷の真値として校正パラメータを算出する。   When the impedance of the reference load is actually measured by connecting the high frequency measuring device 3 to the reference load, the high frequency measuring device 3 cannot measure the impedance at the input end of the reference load, and the measured impedance includes a high frequency. The impedance of the measuring device 3 itself is also included. Therefore, the calibration parameter cannot be calculated with the impedance of only the reference load as a true value. Therefore, the entire load including the high-frequency measuring device 3 in the connected load is regarded as a reference load, the impedance of the reference load is measured with an impedance analyzer, and the calibration parameter is calculated using the measured value as the true value of the reference load.

図12は、校正パラメータを算出するために行う、基準負荷のインピーダンスの測定方法を説明するためのブロック図である。   FIG. 12 is a block diagram for explaining a method of measuring the impedance of the reference load performed for calculating the calibration parameter.

まず、同図(a)に示すように、高周波測定装置3の出力端cにダミーロード6を接続し、高周波測定装置3の入力端bにインピーダンスアナライザ7を接続する。ダミーロード6は、所定の基準負荷を再現するための負荷装置であり、高周波測定装置3の入力端bから負荷側を見たインピーダンス、すなわちダミーロード6および高周波測定装置3全体のインピーダンスを所定の基準負荷のインピーダンスにする。ダミーロード6は、3つの所定の基準負荷を再現できるようにあらかじめ設定されている。インピーダンスアナライザ7は、インピーダンスを測定するものであり、高周波測定装置3の入力端bから負荷側を見たインピーダンス、すなわち基準負荷のインピーダンスを測定する。ダミーロード6によって各基準負荷を再現して、インピーダンスアナライザ7でインピーダンスを測定して記録する。   First, as shown in FIG. 2A, the dummy load 6 is connected to the output terminal c of the high-frequency measuring device 3, and the impedance analyzer 7 is connected to the input terminal b of the high-frequency measuring device 3. The dummy load 6 is a load device for reproducing a predetermined reference load, and the impedance when the load side is viewed from the input terminal b of the high-frequency measuring device 3, that is, the impedance of the dummy load 6 and the whole high-frequency measuring device 3 is determined in advance. Use reference load impedance. The dummy load 6 is set in advance so that three predetermined reference loads can be reproduced. The impedance analyzer 7 measures impedance, and measures the impedance when the load side is viewed from the input terminal b of the high-frequency measuring device 3, that is, the impedance of the reference load. Each reference load is reproduced by the dummy load 6, and the impedance is measured and recorded by the impedance analyzer 7.

次に、同図(b)に示すように、高周波測定装置3の入力端bからインピーダンスアナライザ7を取り外し、高周波電源装置1およびインピーダンス整合装置2を接続する。そして、ダミーロード6によって各基準負荷を再現し、高周波電源装置1から電力を供給して、高周波測定装置3でインピーダンスを測定して記録する。これらの記録された測定値を用いて、校正パラメータが算出される。なお、インピーダンスアナライザ7は小電力を用いてインピーダンスを測定するものであり、高周波測定装置3は大電力用の測定装置なので、同図(a)の接続状態で高周波測定装置3でインピーダンスを測定しても、適切な測定を行うことができない。したがって、同図(b)の接続状態として、高周波電源装置1から大電力を供給して測定を行う。   Next, as shown in FIG. 2B, the impedance analyzer 7 is removed from the input terminal b of the high frequency measuring device 3, and the high frequency power supply device 1 and the impedance matching device 2 are connected. Each reference load is reproduced by the dummy load 6, electric power is supplied from the high frequency power supply device 1, and the impedance is measured and recorded by the high frequency measuring device 3. Using these recorded measurements, calibration parameters are calculated. The impedance analyzer 7 measures impedance using small electric power, and the high frequency measuring device 3 is a measuring device for high power. Therefore, the impedance is measured by the high frequency measuring device 3 in the connection state shown in FIG. However, proper measurement cannot be performed. Therefore, in the connection state of FIG. 5B, measurement is performed by supplying high power from the high frequency power supply device 1.

特開2011−196932号公報JP 2011-196932 A

インピーダンスアナライザ7は、内蔵する電源装置から測定対象物に電力を供給してインピーダンスを測定する。このとき供給される電力は、数mW程度である。一方、高周波電源装置1が供給する電力は、数kW〜数10kW程度の大電力である。したがって、インピーダンスアナライザ7から電力を供給する場合と、高周波電源装置1から電力を供給する場合とで、ダミーロード6の温度は異なったものとなる。温度特性により、温度が異なるとインピーダンスも異なってくるので、温度が異なる状態で測定された測定値を用いて算出された校正パラメータでは、正確に校正を行うことができない。精度の高い校正パラメータを算出するためには、ダミーロード6の温度が変わらない状態で測定された測定値を用いる必要がある。   The impedance analyzer 7 measures the impedance by supplying power to the measurement object from the built-in power supply device. The power supplied at this time is about several mW. On the other hand, the power supplied by the high-frequency power supply device 1 is a large power of about several kW to several tens kW. Therefore, the temperature of the dummy load 6 differs between when power is supplied from the impedance analyzer 7 and when power is supplied from the high frequency power supply device 1. Since the impedance varies depending on the temperature characteristics depending on the temperature characteristics, the calibration cannot be accurately performed using the calibration parameters calculated using the measured values measured at different temperatures. In order to calculate a calibration parameter with high accuracy, it is necessary to use a measurement value measured in a state where the temperature of the dummy load 6 does not change.

先に図12(b)の状態で高周波測定装置3でインピーダンスを測定し、ダミーロード6の温度が高い状態で図12(a)の状態にしてからインピーダンスアナライザ7でインピーダンスを測定する方法が考えられる。しかしながら、高周波測定装置3とインピーダンスアナライザ7(インピーダンス整合装置2)との間を確実に接続する必要性からN型コネクタなどのネジ型のコネクタが用いられているので、付け外しに時間がかかる。例えば、高周波測定装置3とインピーダンス整合装置2との接続を取り外し、高周波測定装置3にインピーダンスアナライザ7を接続するまでに、熟練した作業者であっても30秒以上の時間がかかる。この間にダミーロード6の温度が下がってしまうので、同じ温度状態でインピーダンスを測定することができない。   A method is conceivable in which the impedance is first measured with the high-frequency measuring device 3 in the state of FIG. 12B, the impedance is measured with the impedance analyzer 7 after the temperature of the dummy load 6 is in the state of FIG. 12A. It is done. However, since a screw-type connector such as an N-type connector is used because it is necessary to reliably connect the high-frequency measuring device 3 and the impedance analyzer 7 (impedance matching device 2), it takes time to attach and detach. For example, it takes 30 seconds or more to remove the connection between the high-frequency measuring device 3 and the impedance matching device 2 and connect the impedance analyzer 7 to the high-frequency measuring device 3 even for a skilled worker. Since the temperature of the dummy load 6 falls during this time, the impedance cannot be measured at the same temperature state.

図13は、電力供給時および遮断時の基準負荷の抵抗値の変化を説明するための図であり、基準負荷(50Ω)の抵抗値を測定したものである。   FIG. 13 is a diagram for explaining a change in the resistance value of the reference load at the time of supplying power and shutting off, and is a measurement of the resistance value of the reference load (50Ω).

同図(a)は、電力供給時のものであり、時間が約9秒のときに大電力(約2kW)の供給を開始している。同図に示すように、供給開始時から急激に抵抗値は上昇し、供給開始から約10秒で約0.1%上昇し、約30秒後には約0.17%上昇している。同図(b)は、電力遮断時のものであり、時間が0秒のときに電力を遮断している。同図に示すように、遮断時から急激に抵抗値は下降し、約10秒で約0.1%下降し、約30秒後には約0.28%下降している。   FIG. 6A shows the case where power is supplied. When the time is about 9 seconds, supply of large power (about 2 kW) is started. As shown in the figure, the resistance value suddenly increases from the start of supply, increases about 0.1% about 10 seconds after the start of supply, and increases about 0.17% after about 30 seconds. FIG. 5B shows the case where the power is cut off, and the power is cut off when the time is 0 second. As shown in the figure, the resistance value suddenly decreases from the time of interruption, decreases by about 0.1% in about 10 seconds, and decreases by about 0.28% after about 30 seconds.

つまり、図12(b)の状態から図12(a)の状態に変更する間に30秒の時間が経過すると、抵抗値が0.3%近くも変化してしまう。インピーダンスの変化も同様となる。インピーダンスにこれだけの変化があると、その測定値を用いて校正パラメータを算出した場合、校正パラメータの精度は低いものとなる。精度の高い校正パラメータを算出するためには、図12(b)の状態と図12(a)の状態との変更を、もっと短時間で行う必要がある。   That is, when the time of 30 seconds elapses while changing from the state of FIG. 12B to the state of FIG. 12A, the resistance value changes by nearly 0.3%. The change in impedance is the same. If there is such a change in the impedance, the accuracy of the calibration parameter is low when the calibration parameter is calculated using the measured value. In order to calculate a calibration parameter with high accuracy, it is necessary to change the state of FIG. 12B and the state of FIG. 12A in a shorter time.

切替装置でインピーダンスアナライザ7とインピーダンス整合装置2とを切り替える方法もあるが、切替装置自体のインピーダンス(入力端子と出力端子とを接続するための接続部材のインピーダンス)によって基準負荷の正確なインピーダンスを測定できなくなるので、算出された校正パラメータの精度は低くなる。特に、半導体スイッチの場合は、インピーダンス整合装置2に接続された高周波電源装置1からインピーダンスアナライザ7に流れる電流を完全に遮断できないので、インピーダンスアナライザ7を破壊してしまう。   Although there is a method of switching between the impedance analyzer 7 and the impedance matching device 2 by the switching device, the accurate impedance of the reference load is measured by the impedance of the switching device itself (impedance of the connecting member for connecting the input terminal and the output terminal). Since it becomes impossible, the accuracy of the calculated calibration parameter is lowered. In particular, in the case of a semiconductor switch, since the current flowing from the high frequency power supply device 1 connected to the impedance matching device 2 to the impedance analyzer 7 cannot be completely cut off, the impedance analyzer 7 is destroyed.

本発明は上記した事情のもとで考え出されたものであって、精度の高い校正パラメータを算出するための校正パラメータ生成システムを提供することをその目的としている。   The present invention has been conceived under the above circumstances, and an object thereof is to provide a calibration parameter generation system for calculating a calibration parameter with high accuracy.

上記課題を解決するため、本発明では、次の技術的手段を講じている。   In order to solve the above problems, the present invention takes the following technical means.

本発明の第1の側面によって提供される校正パラメータ生成システムは、高周波電力供給手段から出力され負荷に供給される高周波電力の高周波電圧および高周波電流を前記負荷よりも前段で検出し、検出した高周波電圧の情報及び高周波電流の情報を校正するための校正パラメータを生成する校正パラメータ生成システムであって、前記高周波電力供給手段と、所定の基準負荷を再現するための負荷装置と、前記負荷装置の入力側に接続され、前記高周波電圧および高周波電流を検出し、高周波電圧検出情報および高周波電流検出情報として出力する検出手段と、前記検出手段から前記負荷装置側を見たインピーダンスを検出し、検出したインピーダンスの情報を負荷側インピーダンス検出情報として出力するインピーダンス検出装置と、前記検出手段を介して前記負荷装置が接続される第1の端子と、前記高周波電力供給手段が接続される第2の端子と、前記インピーダンス検出装置が接続される第3の端子と、前記高周波電圧検出情報、前記高周波電流検出情報および前記負荷側インピーダンス検出情報に基づいて、前記高周波電圧検出情報及び前記高周波電流検出情報を校正するための校正パラメータを生成する校正パラメータ生成手段と、前記第1の端子と前記第2の端子とを直接接続した第1の状態と、前記第1の端子と前記第3の端子とを直接接続した第2の状態とを切り替える切替装置とを備え、前記切替装置は、所定の第1時間で第1の状態から第2の状態に切り替えることを特徴とする。   The calibration parameter generation system provided by the first aspect of the present invention detects the high-frequency voltage and high-frequency current of the high-frequency power output from the high-frequency power supply means and supplied to the load, and detects the detected high frequency. A calibration parameter generation system for generating calibration parameters for calibrating voltage information and high-frequency current information, comprising: the high-frequency power supply means; a load device for reproducing a predetermined reference load; and Detection means connected to the input side for detecting the high-frequency voltage and high-frequency current and outputting them as high-frequency voltage detection information and high-frequency current detection information, and detecting and detecting the impedance viewed from the load device side from the detection means An impedance detection device that outputs impedance information as load-side impedance detection information; A first terminal to which the load device is connected via the detection means; a second terminal to which the high-frequency power supply means is connected; a third terminal to which the impedance detection device is connected; Calibration parameter generation means for generating calibration parameters for calibrating the high-frequency voltage detection information and the high-frequency current detection information based on the voltage detection information, the high-frequency current detection information, and the load-side impedance detection information; And a switching device that switches between a first state in which the first terminal and the second terminal are directly connected and a second state in which the first terminal and the third terminal are directly connected. The apparatus is characterized by switching from the first state to the second state at a predetermined first time.

本発明の第2の側面によって提供される校正パラメータ生成システムは、高周波電力供給手段から出力され負荷に供給される高周波電力の高周波電圧および高周波電流を前記負荷よりも前段で検出し、検出した高周波電圧の情報及び高周波電流の情報を校正するための校正パラメータを生成する校正パラメータ生成システムであって、前記高周波電力供給手段と、所定の基準負荷を再現するための負荷装置と、前記高周波電力供給手段の出力側に接続され、前記高周波電圧および高周波電流を検出し、高周波電圧検出情報および高周波電流検出情報として出力する検出手段と、前記負荷装置のインピーダンスを検出し、検出したインピーダンスの情報を負荷側インピーダンス検出情報として出力するインピーダンス検出装置と、前記負荷装置が接続される第1の端子と、前記検出手段を介して前記高周波電力供給手段が接続される第2の端子と、前記インピーダンス検出装置が接続される第3の端子と、前記高周波電圧検出情報、前記高周波電流検出情報および前記負荷側インピーダンス検出情報に基づいて、前記高周波電圧検出情報及び前記高周波電流検出情報を校正するための校正パラメータを生成する校正パラメータ生成手段と、前記第1の端子と前記第2の端子とを直接接続した第1の状態と、前記第1の端子と前記第3の端子とを直接接続した第2の状態とを切り替える切替装置とを備え、前記切替装置は、所定の第1時間で第1の状態から第2の状態に切り替えることを特徴とする。   The calibration parameter generation system provided by the second aspect of the present invention detects a high-frequency voltage and a high-frequency current of the high-frequency power output from the high-frequency power supply means and supplied to the load before the load, and detects the detected high frequency. A calibration parameter generation system for generating a calibration parameter for calibrating voltage information and high-frequency current information, the high-frequency power supply means, a load device for reproducing a predetermined reference load, and the high-frequency power supply Detecting means connected to the output side of the means for detecting the high-frequency voltage and high-frequency current and outputting the detected high-frequency voltage detection information and high-frequency current detection information; detecting the impedance of the load device; and loading the detected impedance information Impedance detection device for outputting as side impedance detection information, and the load device A first terminal to be connected; a second terminal to which the high-frequency power supply means is connected via the detection means; a third terminal to which the impedance detection device is connected; the high-frequency voltage detection information; Calibration parameter generation means for generating calibration parameters for calibrating the high-frequency voltage detection information and the high-frequency current detection information based on the high-frequency current detection information and the load-side impedance detection information; the first terminal; A switching device that switches between a first state in which the second terminal is directly connected and a second state in which the first terminal and the third terminal are directly connected, and the switching device includes a predetermined state The first state is switched from the first state to the second state.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記切替装置は、所定の第2時間で第2の状態から第1の状態に切り替える。   In a preferred embodiment of the present invention, the switching device switches from the second state to the first state in a predetermined second time.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記第1の状態で前記高周波電力供給手段から前記負荷装置に電力を供給させて、前記検出手段に前記高周波電圧検出情報および高周波電流検出情報を出力させ、前記第2の状態で前記インピーダンス検出装置に前記負荷側インピーダンス検出情報を出力させる制御装置をさらに備え、前記制御装置は、前記第1の状態で前記高周波電力供給手段からの電力供給を停止させてから、前記切替装置に前記第2の状態への切り替えを行わせ、前記第2の状態で前記負荷側インピーダンス検出情報が出力されてから、前記切替装置に前記第1の状態への切り替えを行わせる。   In a preferred embodiment of the present invention, power is supplied from the high-frequency power supply means to the load device in the first state, and the high-frequency voltage detection information and high-frequency current detection information are output to the detection means, The controller further includes a control device that causes the impedance detection device to output the load-side impedance detection information in the second state, and the control device stops power supply from the high-frequency power supply unit in the first state. The switching device is switched to the second state, and after the load side impedance detection information is output in the second state, the switching device is switched to the first state. Make it.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記負荷装置は、3つの所定の基準負荷を再現し、前記校正パラメータ生成手段は、それぞれの基準負荷を再現したときの前記高周波電圧検出情報、前記高周波電流検出情報および前記負荷側インピーダンス検出情報に基づいて、前記校正パラメータを生成する。   In a preferred embodiment of the present invention, the load device reproduces three predetermined reference loads, and the calibration parameter generating means reproduces the high-frequency voltage detection information, the high-frequency current when the respective reference loads are reproduced. The calibration parameter is generated based on the detection information and the load side impedance detection information.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記切替装置は、前記第1の端子を移動させて、前記第1の状態と前記第2の状態とを切り替える。   In a preferred embodiment of the present invention, the switching device switches the first state and the second state by moving the first terminal.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記切替装置は、前記1の端子を搭載した第1の移動板と、前記第1の移動板を移動させる第1の駆動装置とを備えている。   In a preferred embodiment of the present invention, the switching device includes a first moving plate on which the first terminal is mounted and a first driving device that moves the first moving plate.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記切替装置は、前記第2及び前記第3の端子を移動させて、前記第1の状態と前記第2の状態とを切り替える。   In a preferred embodiment of the present invention, the switching device switches between the first state and the second state by moving the second and third terminals.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記切替装置は、前記第2の端子および前記第3の端子を搭載した第2の移動板と、前記第2の移動板を移動させる第2の駆動装置とを備えている。   In a preferred embodiment of the present invention, the switching device includes a second moving plate on which the second terminal and the third terminal are mounted, and a second driving device that moves the second moving plate. And.

本発明によれば、所定の第1時間で第1の状態から第2の状態に切り替えるので、負荷装置の温度変化の少ない状態でインピーダンス検出装置がインピーダンスを測定することができる。また、第1の端子を第2の端子または第3の端子に直接接続するので、第1の端子と第2の端子(または第3の端子)との間に接続部材が介在しない。したがって、接続部材によってインピーダンスが変化することを防止することができる。これにより、精度の高い校正パラメータを算出することができる。   According to the present invention, since the first state is switched to the second state in a predetermined first time, the impedance detection device can measure the impedance in a state where the temperature change of the load device is small. In addition, since the first terminal is directly connected to the second terminal or the third terminal, no connection member is interposed between the first terminal and the second terminal (or the third terminal). Therefore, it is possible to prevent the impedance from being changed by the connection member. Thereby, a highly accurate calibration parameter can be calculated.

本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。   Other features and advantages of the present invention will become more apparent from the detailed description given below with reference to the accompanying drawings.

第1実施形態に係る校正パラメータ生成システムの構成を示すブロック図である。1 is a block diagram illustrating a configuration of a calibration parameter generation system according to a first embodiment. 第1実施形態に係る切替装置の内部構造を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the internal structure of the switching apparatus which concerns on 1st Embodiment. 各端子の構造、および、各端子と各同軸ケーブルとの接続を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure of each terminal, and the connection of each terminal and each coaxial cable. 第1実施形態に係る切替装置の動作を説明するための図である。It is a figure for demonstrating operation | movement of the switching apparatus which concerns on 1st Embodiment. 校正パラメータ生成システムにおける校正パラメータの生成の手順を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the procedure of the production | generation of the calibration parameter in a calibration parameter production | generation system. 切替装置の他の実施例の構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure of the other Example of the switching apparatus. 切替装置の他の実施例の構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure of the other Example of the switching apparatus. 第2実施形態に係る校正パラメータ生成システムの構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the calibration parameter generation system which concerns on 2nd Embodiment. 本発明に係る切替装置の他の使用例を説明するためのブロック図である。It is a block diagram for demonstrating the other usage example of the switching apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る切替装置の他の使用例を説明するためのブロック図である。It is a block diagram for demonstrating the other usage example of the switching apparatus which concerns on this invention. 従来のプラズマ処理システムの構成の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of a structure of the conventional plasma processing system. 高周波測定装置の校正パラメータを算出するために行う、基準負荷のインピーダンスの測定方法を説明するためのブロック図である。It is a block diagram for demonstrating the measuring method of the impedance of a reference load performed in order to calculate the calibration parameter of a high frequency measuring device. 電力供給時および遮断時の基準負荷の抵抗値の変化を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the change of the resistance value of the reference load at the time of electric power supply and interruption | blocking.

以下、本発明の実施の形態を、添付図面を参照して具体的に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings.

図1は、第1実施形態に係る校正パラメータ生成システムの構成を示すブロック図である。   FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a calibration parameter generation system according to the first embodiment.

校正パラメータ生成システムBは、高周波測定装置3の校正パラメータの生成を行うためのものであり、基準負荷のインピーダンスを測定して校正パラメータを算出するためのものである。校正パラメータ生成システムBにおいて、切替装置8の入力側には、高周波電源装置1が接続されたインピーダンス整合装置2(なお、高周波電源装置1とインピーダンス整合装置2とを合わせたものが、本発明の「高周波電力供給手段」に相当する。)と、インピーダンスアナライザ7とが接続されており、切替装置8の出力側には、ダミーロード6が接続された高周波測定装置3が接続されている。すなわち、校正パラメータ生成システムBは、図12(b)に示す接続状態において、インピーダンス整合装置2と高周波測定装置3との間に切替装置8を挿入し、インピーダンスアナライザ7を切替装置8に接続したものである。制御装置9は、後述する校正パラメータの生成の手順(図5参照)に基づいて、各装置を制御するものである。なお、校正パラメータ生成システムBは、特性インピーダンスが50Ω系として構成されている。   The calibration parameter generation system B is for generating a calibration parameter for the high-frequency measuring device 3 and for calculating a calibration parameter by measuring the impedance of a reference load. In the calibration parameter generation system B, the impedance matching device 2 to which the high frequency power supply device 1 is connected is connected to the input side of the switching device 8 (note that the high frequency power supply device 1 and the impedance matching device 2 are combined. And an impedance analyzer 7 are connected to the output side of the switching device 8, and a high frequency measuring device 3 to which a dummy load 6 is connected is connected. That is, the calibration parameter generation system B inserts the switching device 8 between the impedance matching device 2 and the high-frequency measuring device 3 and connects the impedance analyzer 7 to the switching device 8 in the connection state shown in FIG. Is. The control device 9 controls each device based on a calibration parameter generation procedure (see FIG. 5) described later. The calibration parameter generation system B is configured with a characteristic impedance of 50Ω.

なお、プラズマ処理システム(図11参照)において、高周波電源装置1が周波数を変化させることでインピーダンス整合を行うものである場合などには、インピーダンス整合装置2が用いられない場合がある。その場合には、校正パラメータ生成システムBにおいても、同様の高周波電源装置1を用いて、インピーダンス整合装置2を用いない。   In the plasma processing system (see FIG. 11), the impedance matching device 2 may not be used when the high frequency power supply device 1 performs impedance matching by changing the frequency. In that case, the calibration parameter generation system B also uses the same high-frequency power supply device 1 and does not use the impedance matching device 2.

切替装置8は、インピーダンス整合装置2と高周波測定装置3とが接続された状態と、インピーダンスアナライザ7と高周波測定装置3とが接続された状態とを切り替えるものである。インピーダンス整合装置2と高周波測定装置3とを接続して高周波電源装置1から電力を供給することで、ダミーロード6の温度が上昇し、この状態で高周波測定装置3によって基準負荷のインピーダンスを測定することができる。そして、インピーダンスアナライザ7と高周波測定装置3とを接続した状態に短時間で切り替えて、ダミーロード6の温度が殆ど変化しないうちに(低下度合いが少ないうちに)、インピーダンスアナライザ7によって基準負荷のインピーダンスを測定することができる。   The switching device 8 switches between a state where the impedance matching device 2 and the high frequency measuring device 3 are connected and a state where the impedance analyzer 7 and the high frequency measuring device 3 are connected. By connecting the impedance matching device 2 and the high frequency measuring device 3 and supplying power from the high frequency power supply device 1, the temperature of the dummy load 6 rises, and in this state, the impedance of the reference load is measured by the high frequency measuring device 3. be able to. Then, the impedance analyzer 7 and the high frequency measuring device 3 are switched to a connected state in a short time, and the impedance of the reference load is changed by the impedance analyzer 7 while the temperature of the dummy load 6 hardly changes (while the degree of decrease is small). Can be measured.

図2は、切替装置8の内部構造を説明するための図である。   FIG. 2 is a diagram for explaining the internal structure of the switching device 8.

切替装置8は、筐体81、入力端子移動部82、および出力端子移動部83を備えている。図2は、筐体81の一部を省略(筐体81の底板のみを表示している。)し、切替装置8を上方から見た図である。説明の都合上、水平面にX軸とY軸とを定義しており、図2における筐体81の底板の左右方向がX軸方向(左側が正の方向)とし、筐体81の底板の奥行き方向(図2においては上下方向)がY軸方向(上側が正の方向)としている。また、筐体81の底板の垂直方向(図2において紙面の表裏方向)をZ軸方向(表側が正の方向)としている(図3参照)。   The switching device 8 includes a housing 81, an input terminal moving unit 82, and an output terminal moving unit 83. FIG. 2 is a view of the switching device 8 as viewed from above, with a part of the housing 81 omitted (only the bottom plate of the housing 81 is shown). For convenience of explanation, the X axis and the Y axis are defined on the horizontal plane, the left-right direction of the bottom plate of the casing 81 in FIG. 2 is the X-axis direction (the left side is the positive direction), and the depth of the bottom plate of the casing 81 The direction (vertical direction in FIG. 2) is the Y-axis direction (upward is the positive direction). Further, the vertical direction of the bottom plate of the casing 81 (the front and back direction in FIG. 2) is the Z-axis direction (the front side is the positive direction) (see FIG. 3).

筐体81は、例えばアルミなどによって形成されており、入力端子移動部82および出力端子移動部83の各部材を格納するものである。筐体81は接地されて0ボルト電位の基準(グランド)となっている。   The casing 81 is made of, for example, aluminum, and stores each member of the input terminal moving unit 82 and the output terminal moving unit 83. The casing 81 is grounded and serves as a reference (ground) of 0 volt potential.

入力端子移動部82は、入力側の端子を移動させるものであり、駆動モータ82a、送りネジ82b、移動板82c、レール82d、第1入力端子82e、および、第2入力端子82fを備えている。駆動モータ82aは、筐体81の底板に固定されており、回転軸に取り付けられた送りネジ82bを回転駆動する。送りネジ82bがY軸方向を中心軸として回転することで、図示しないボールネジが取り付けられた移動板82cが、送りネジ機構により、レール82d上をY軸方向に移動する。第1入力端子82eおよび第2入力端子82fは、それぞれの軸方向がX軸方向となるように、移動板82cの右端(X軸の負の側)にY軸方向に並べて固定されている。第1入力端子82eの左側(X軸の正の側)には、インピーダンス整合装置2と接続するための同軸ケーブル(図示しない)が取り付けられる。第2入力端子82fの左側には、インピーダンスアナライザ7と接続するための同軸ケーブル(図示しない)が取り付けられる。   The input terminal moving unit 82 moves the input side terminal, and includes a drive motor 82a, a feed screw 82b, a moving plate 82c, a rail 82d, a first input terminal 82e, and a second input terminal 82f. . The drive motor 82a is fixed to the bottom plate of the housing 81, and rotationally drives a feed screw 82b attached to the rotation shaft. When the feed screw 82b rotates about the Y-axis direction as a central axis, the moving plate 82c to which a ball screw (not shown) is attached moves on the rail 82d in the Y-axis direction by the feed screw mechanism. The first input terminal 82e and the second input terminal 82f are fixed side by side in the Y-axis direction at the right end (the negative side of the X-axis) of the moving plate 82c so that the respective axial directions are the X-axis direction. A coaxial cable (not shown) for connecting to the impedance matching device 2 is attached to the left side of the first input terminal 82e (the positive side of the X axis). A coaxial cable (not shown) for connecting to the impedance analyzer 7 is attached to the left side of the second input terminal 82f.

図3は、各端子の構造、および、各端子と各同軸ケーブルとの接続を説明するための図である。図3(a)は、図2に示すIII−III線に沿う断面図であり、図2で図示していない同軸ケーブルおよびコネクタの断面図も記載している。図3(b)は、接続状態を示している。   FIG. 3 is a diagram for explaining the structure of each terminal and the connection between each terminal and each coaxial cable. FIG. 3A is a cross-sectional view taken along line III-III shown in FIG. 2, and also shows a cross-sectional view of a coaxial cable and a connector not shown in FIG. FIG. 3B shows a connection state.

図3(a)に示すように、第1入力端子82eは、移動板82cの右端から垂直方向(Z方向)に延びる固定板に穿設された穴に嵌入して固定されており、外部導体11、内部導体12、および絶縁体13を備えている。外部導体11は、筒状の導体(例えば銅など)であって、一方端(図3においては左端)の外面にネジ溝が形成されている。移動板82cは筐体81を介して接地されているので、移動板82cに接続されている外部導体11も接地されている。内部導体12は、円柱状の導体(例えば銅など)であって、外部導体11の内側に配置されている。内部導体12の一方端(図3においては左端)には同軸ケーブルのコネクタ30の内部導体32が挿入されるための穴部12aが形成されており、他方端(図3においては右端)には出力端子83e(後述)の内部導体22の穴部22bに挿入するための凸部12bが形成されている。絶縁体13は、外部導体11と内部導体12とを絶縁し、内部導体12の中心軸が外部導体11の中心軸に一致するように固定している。絶縁体13の他方端(図3においては右端)には、出力端子83eの内部導体22を嵌合するための空間が形成されている。   As shown in FIG. 3A, the first input terminal 82e is fixed by being fitted into a hole drilled in a fixed plate extending in the vertical direction (Z direction) from the right end of the moving plate 82c. 11, an inner conductor 12, and an insulator 13. The outer conductor 11 is a cylindrical conductor (such as copper), and has a thread groove formed on the outer surface of one end (left end in FIG. 3). Since the moving plate 82c is grounded via the housing 81, the external conductor 11 connected to the moving plate 82c is also grounded. The inner conductor 12 is a cylindrical conductor (for example, copper) and is disposed inside the outer conductor 11. A hole 12a for inserting the inner conductor 32 of the connector 30 of the coaxial cable is formed at one end (the left end in FIG. 3) of the inner conductor 12, and at the other end (the right end in FIG. 3). A convex portion 12b is formed for insertion into the hole portion 22b of the inner conductor 22 of the output terminal 83e (described later). The insulator 13 insulates the outer conductor 11 and the inner conductor 12 from each other, and is fixed so that the central axis of the inner conductor 12 coincides with the central axis of the outer conductor 11. A space for fitting the internal conductor 22 of the output terminal 83e is formed at the other end (right end in FIG. 3) of the insulator 13.

切替装置8とインピーダンス整合装置2とを接続するための同軸ケーブルのコネクタ30は、外部導体31、内部導体32、および絶縁体33,34を備えている。外部導体31は、筒状の導体(例えば銅など)であって、一方端(図3においては右端)の内面にネジ溝が形成されている。内部導体32は、円柱状の導体(例えば銅など)であって、外部導体31の内側に配置されている。絶縁体33は、外部導体31と内部導体32とを絶縁し、内部導体32の中心軸が外部導体31の中心軸に一致するように固定している。なお、コネクタ30は、例えばN型コネクタなどであるが、図3においては簡略化して記載しており、例えば、外部導体31を螺合のために回転させる機構などを省略している。同軸ケーブルの外部導体および内部導体は、それぞれコネクタ30の外部導体31および内部導体32に接続されている。コネクタ30の外部導体31を第1入力端子82eの外部導体11に螺合することで、コネクタ30の内部導体32が第1入力端子82eの内部導体12の一方端の穴部12aに挿入されて、コネクタ30と第1入力端子82eとが接続される(図3(b)参照)。これにより、同軸ケーブルを介して、インピーダンス整合装置2が第1入力端子82eに接続される。同軸ケーブル、コネクタ30、および第1入力端子82eは、すべて特性インピーダンス(50Ω)となるように設計されている。   A coaxial cable connector 30 for connecting the switching device 8 and the impedance matching device 2 includes an outer conductor 31, an inner conductor 32, and insulators 33 and 34. The outer conductor 31 is a cylindrical conductor (for example, copper), and a thread groove is formed on the inner surface of one end (the right end in FIG. 3). The inner conductor 32 is a cylindrical conductor (eg, copper) and is disposed inside the outer conductor 31. The insulator 33 insulates the outer conductor 31 from the inner conductor 32 and is fixed so that the central axis of the inner conductor 32 coincides with the central axis of the outer conductor 31. The connector 30 is, for example, an N-type connector, but is simplified in FIG. 3, and for example, a mechanism for rotating the external conductor 31 for screwing is omitted. The outer conductor and the inner conductor of the coaxial cable are connected to the outer conductor 31 and the inner conductor 32 of the connector 30, respectively. By screwing the outer conductor 31 of the connector 30 to the outer conductor 11 of the first input terminal 82e, the inner conductor 32 of the connector 30 is inserted into the hole 12a at one end of the inner conductor 12 of the first input terminal 82e. The connector 30 and the first input terminal 82e are connected (see FIG. 3B). Thereby, the impedance matching device 2 is connected to the first input terminal 82e via the coaxial cable. The coaxial cable, the connector 30, and the first input terminal 82e are all designed to have a characteristic impedance (50Ω).

第2入力端子82fも、第1入力端子82eと同様の構造であり、移動板82cの右端から垂直方向(Z方向)に延びる固定板に穿設された穴に嵌入して固定されている。切替装置8とインピーダンスアナライザ7とを接続するための同軸ケーブルのコネクタもコネクタ30と同様の構造であり、同様にして第2入力端子82fに接続される。これにより、同軸ケーブルを介して、インピーダンスアナライザ7が第2入力端子82fに接続される。同軸ケーブルおよび第2入力端子82fは、すべて特性インピーダンス(50Ω)となるように設計されている。   The second input terminal 82f has the same structure as the first input terminal 82e, and is fixed by being fitted into a hole formed in a fixed plate extending in the vertical direction (Z direction) from the right end of the moving plate 82c. The connector of the coaxial cable for connecting the switching device 8 and the impedance analyzer 7 has the same structure as the connector 30 and is similarly connected to the second input terminal 82f. Thereby, the impedance analyzer 7 is connected to the second input terminal 82f via the coaxial cable. The coaxial cable and the second input terminal 82f are all designed to have characteristic impedance (50Ω).

図2に戻って、出力端子移動部83は、出力側の端子を移動させるものであり、駆動モータ83a、送りネジ83b、移動板83c、レール83d、および出力端子83eを備えている。駆動モータ83aは、筐体81の底板に固定されており、回転軸に取り付けられた送りネジ83bを回転駆動する。送りネジ83bがX軸方向を中心軸として回転することで、図示しないボールネジが取り付けられた移動板83cが、送りネジ機構により、レール83d上をX軸方向に移動する。出力端子83eは、軸方向がX軸方向となるように、移動板83cの左端(X軸の正の側)に固定されている。出力端子83eの右側には、高周波測定装置3と接続するための同軸ケーブル(図示しない)が取り付けられる。   Returning to FIG. 2, the output terminal moving unit 83 moves the output side terminal, and includes a drive motor 83a, a feed screw 83b, a moving plate 83c, a rail 83d, and an output terminal 83e. The drive motor 83a is fixed to the bottom plate of the housing 81 and rotationally drives a feed screw 83b attached to the rotation shaft. When the feed screw 83b rotates about the X-axis direction as a central axis, the moving plate 83c to which a ball screw (not shown) is attached moves on the rail 83d in the X-axis direction by the feed screw mechanism. The output terminal 83e is fixed to the left end (positive side of the X axis) of the moving plate 83c so that the axial direction is the X axis direction. A coaxial cable (not shown) for connecting to the high frequency measuring device 3 is attached to the right side of the output terminal 83e.

図3(a)に示すように、出力端子83eは、移動板83cの左端から垂直方向(Z方向)に延びる固定板に穿設された穴に嵌入して固定されており、外部導体21、内部導体22、および絶縁体23を備えている。外部導体21は、筒状の導体(例えば銅など)であって、一方端(図3においては右端)の外面にネジ溝が形成されている。移動板83cは筐体81を介して接地されているので、移動板83cに接続されている外部導体21も接地されている。内部導体22は、円柱状の導体(例えば銅など)であって、外部導体21の内側に配置されている。内部導体22の一方端(図3においては右端)には同軸ケーブルのコネクタ40の内部導体42が挿入されるための穴部22aが形成されており、他方端(図3においては左端)には第1入力端子82e(または第2入力端子82f)の内部導体12の凸部12bが挿入されるための穴部22bが形成されている。また、内部導体22の他方端は、外部導体21の他方端(図3においては左端)より突出しており、第1入力端子82e(または第2入力端子82f)の絶縁体13に形成された空間に嵌合されるようになっている。絶縁体23は、外部導体21と内部導体22とを絶縁し、内部導体22の中心軸が外部導体21の中心軸に一致するように固定している。   As shown in FIG. 3A, the output terminal 83e is fixed by being fitted into a hole formed in a fixed plate extending in the vertical direction (Z direction) from the left end of the moving plate 83c. An internal conductor 22 and an insulator 23 are provided. The outer conductor 21 is a cylindrical conductor (such as copper), and has a thread groove formed on the outer surface of one end (the right end in FIG. 3). Since the moving plate 83c is grounded via the casing 81, the external conductor 21 connected to the moving plate 83c is also grounded. The inner conductor 22 is a cylindrical conductor (for example, copper) and is disposed inside the outer conductor 21. A hole 22a for inserting the inner conductor 42 of the connector 40 of the coaxial cable is formed at one end (right end in FIG. 3) of the inner conductor 22, and at the other end (left end in FIG. 3). A hole 22b into which the convex portion 12b of the inner conductor 12 of the first input terminal 82e (or the second input terminal 82f) is inserted is formed. The other end of the inner conductor 22 protrudes from the other end (the left end in FIG. 3) of the outer conductor 21, and is a space formed in the insulator 13 of the first input terminal 82e (or the second input terminal 82f). To be fitted. The insulator 23 insulates the outer conductor 21 and the inner conductor 22 and is fixed so that the central axis of the inner conductor 22 coincides with the central axis of the outer conductor 21.

切替装置8と高周波測定装置3とを接続するための同軸ケーブルのコネクタ40は、外部導体41、内部導体42、および絶縁体43,44を備えている。外部導体41は、筒状の導体(例えば銅など)であって、一方端(図3においては左端)の内面にネジ溝が形成されている。内部導体42は、円柱状の導体(例えば銅など)であって、外部導体41の内側に配置されている。絶縁体43は、外部導体41と内部導体42とを絶縁し、内部導体42の中心軸が外部導体41の中心軸に一致するように固定している。なお、コネクタ40も、例えばN型コネクタなどであるが、図3においては簡略化して記載している。同軸ケーブルの外部導体および内部導体は、それぞれコネクタ40の外部導体41および内部導体42に接続されている。コネクタ40の外部導体41を出力端子83eの外部導体21に螺合することで、コネクタ40の内部導体42が出力端子83eの内部導体22の一方端の穴部22aに挿入されて、コネクタ40と出力端子83eとが接続される(図3(b)参照)。これにより、同軸ケーブルを介して、高周波測定装置3が出力端子83eに接続される。同軸ケーブル、コネクタ40、および出力端子83eは、すべて特性インピーダンス(50Ω)となるように設計されている。   A coaxial cable connector 40 for connecting the switching device 8 and the high-frequency measuring device 3 includes an outer conductor 41, an inner conductor 42, and insulators 43 and 44. The outer conductor 41 is a cylindrical conductor (such as copper), and has a thread groove formed on the inner surface of one end (the left end in FIG. 3). The inner conductor 42 is a cylindrical conductor (eg, copper) and is disposed inside the outer conductor 41. The insulator 43 insulates the outer conductor 41 and the inner conductor 42 and fixes the central axis of the inner conductor 42 so as to coincide with the central axis of the outer conductor 41. The connector 40 is also an N-type connector, for example, but is simplified in FIG. The outer conductor and the inner conductor of the coaxial cable are connected to the outer conductor 41 and the inner conductor 42 of the connector 40, respectively. By screwing the outer conductor 41 of the connector 40 to the outer conductor 21 of the output terminal 83e, the inner conductor 42 of the connector 40 is inserted into the hole 22a at one end of the inner conductor 22 of the output terminal 83e. The output terminal 83e is connected (see FIG. 3B). Thereby, the high frequency measuring device 3 is connected to the output terminal 83e via the coaxial cable. The coaxial cable, the connector 40, and the output terminal 83e are all designed to have a characteristic impedance (50Ω).

図2に示すように、駆動モータ82aの回転を制御して移動板82cをY軸方向に移動させることで、第1入力端子82eおよび第2入力端子82fをY軸方向に移動させることができる。また、駆動モータ83aの回転を制御して移動板83cをX軸方向に移動させることで、出力端子83eをX軸方向に移動させることができる。これにより、第1入力端子82eと出力端子83eとが接続された状態と、第2入力端子82fと出力端子83eとが接続された状態とを切り替えることができる。また、第1入力端子82eと出力端子83eとが接続された状態から第2入力端子82fと出力端子83eとが接続された状態への切り替え(以下では、「第1切り替え」とする。)、および、第2入力端子82fと出力端子83eとが接続された状態から第1入力端子82eと出力端子83eとが接続された状態への切り替え(以下では、「第2切り替え」とする。)のいずれの切り替えも、1秒程度の短い時間で行うことができる。   As shown in FIG. 2, the first input terminal 82e and the second input terminal 82f can be moved in the Y-axis direction by controlling the rotation of the drive motor 82a to move the moving plate 82c in the Y-axis direction. . Further, the output terminal 83e can be moved in the X-axis direction by controlling the rotation of the drive motor 83a to move the moving plate 83c in the X-axis direction. Thereby, the state in which the first input terminal 82e and the output terminal 83e are connected and the state in which the second input terminal 82f and the output terminal 83e are connected can be switched. Further, switching from the state in which the first input terminal 82e and the output terminal 83e are connected to the state in which the second input terminal 82f and the output terminal 83e are connected (hereinafter referred to as “first switching”), Further, switching from the state in which the second input terminal 82f and the output terminal 83e are connected to the state in which the first input terminal 82e and the output terminal 83e are connected (hereinafter referred to as "second switching"). Any switching can be performed in a short time of about 1 second.

図4は、切替装置8の動作を説明するための図である。   FIG. 4 is a diagram for explaining the operation of the switching device 8.

同図(a)は、第1入力端子82eと出力端子83eとが接続された状態を示している。この状態から駆動モータ83aを駆動して移動板83cをX軸の負の方向(同図(a)の矢印参照)に移動させる。出力端子83eの内部導体22(外部導体21から突出している部分)が第1入力端子82eの凹部(絶縁体13に形成された空間)から完全に抜けきった後(同図(b)参照)に、駆動モータ82aを駆動して移動板82cをY軸の正の方向(同図(b)の矢印参照)に移動させる。第2入力端子82fの中心軸と出力端子83eの中心軸とが同軸上になったところ(同図(c)参照)で、駆動モータ83aを駆動して移動板83cをX軸の正の方向(同図(c)の矢印参照)に移動させる。同図(d)は、第2入力端子82fと出力端子83eとが接続された状態を示している。   FIG. 4A shows a state where the first input terminal 82e and the output terminal 83e are connected. From this state, the drive motor 83a is driven to move the moving plate 83c in the negative direction of the X axis (see the arrow in FIG. 5A). After the inner conductor 22 (portion protruding from the outer conductor 21) of the output terminal 83e is completely removed from the recess (the space formed in the insulator 13) of the first input terminal 82e (see FIG. 4B). Then, the drive motor 82a is driven to move the moving plate 82c in the positive direction of the Y axis (see the arrow in FIG. 5B). When the central axis of the second input terminal 82f and the central axis of the output terminal 83e are coaxial (see (c) in the figure), the drive motor 83a is driven to move the moving plate 83c in the positive direction of the X axis. (See the arrow in FIG. 2C). FIG. 4D shows a state where the second input terminal 82f and the output terminal 83e are connected.

同図(d)の状態(第2入力端子82fと出力端子83eとが接続された状態)から同図(a)の状態(第1入力端子82eと出力端子83eとが接続された状態)に切り替える場合は、移動板83cをX軸の負の方向に移動させて出力端子83eの内部導体22が第1入力端子82eの凹部から完全に抜けきった後(同図(c)参照)に移動板82cをY軸の負の方向に移動させ、第1入力端子82eの中心軸と出力端子83eの中心軸とが同軸上になったところ(同図(b)参照)で移動板83cをX軸の正の方向に移動させる。   From the state shown in FIG. 6D (the state where the second input terminal 82f and the output terminal 83e are connected) to the state shown in FIG. 5A (the state where the first input terminal 82e and the output terminal 83e are connected). In the case of switching, the moving plate 83c is moved in the negative direction of the X axis and moved after the inner conductor 22 of the output terminal 83e is completely removed from the recess of the first input terminal 82e (see FIG. 5C). When the plate 82c is moved in the negative direction of the Y axis and the central axis of the first input terminal 82e and the central axis of the output terminal 83e are coaxial (see FIG. 5B), the movable plate 83c is moved to the X direction. Move in the positive direction of the axis.

第1入力端子82eおよび第2入力端子82fと出力端子83eとが正確に接続されるように、駆動モータ82aおよび駆動モータ83aを制御して、移動板82cおよび移動板83cの位置決めを正確に行う必要がある。なお、図4においては、移動板83cの移動を誇張して記載しているが、出力端子83eの内部導体22が第1入力端子82eまたは第2入力端子82fの凹部から完全に抜けきっていればよいので、移動板83cの移動量はもっと少なくてもよい。   The drive motor 82a and the drive motor 83a are controlled so that the first input terminal 82e and the second input terminal 82f are accurately connected to the output terminal 83e, and the movable plate 82c and the movable plate 83c are accurately positioned. There is a need. In FIG. 4, the movement of the moving plate 83c is exaggerated, but the inner conductor 22 of the output terminal 83e can be completely removed from the recess of the first input terminal 82e or the second input terminal 82f. Therefore, the moving amount of the moving plate 83c may be smaller.

図3(b)は、第1入力端子82eと出力端子83eとが接続された状態(図4(a)の状態)を示している。図3(b)に示すように、出力端子83eの突出部分(内部導体22)と第1入力端子82eの凹部とが嵌合され、内部導体12の凸部12bが内部導体22の穴部22bに挿入されることで、内部導体12と内部導体22とが接続されている。また、第1入力端子82eの外部導体11と出力端子83eの外部導体21とは、それぞれ移動板82cおよび移動板83cを介して接地されている。   FIG. 3B shows a state where the first input terminal 82e and the output terminal 83e are connected (the state shown in FIG. 4A). As shown in FIG. 3B, the protruding portion (inner conductor 22) of the output terminal 83e and the recess of the first input terminal 82e are fitted, and the protrusion 12b of the inner conductor 12 is the hole 22b of the inner conductor 22. As a result, the internal conductor 12 and the internal conductor 22 are connected. Further, the outer conductor 11 of the first input terminal 82e and the outer conductor 21 of the output terminal 83e are grounded via the moving plate 82c and the moving plate 83c, respectively.

第1入力端子82eと出力端子83eとが間に特性インピーダンスの異なる部材を介さずに直接接続されているので、インピーダンス整合装置2と高周波測定装置3とが、切替装置8も含め全て50Ωの特性インピーダンスの伝送線路で接続される。また、第2入力端子82fと出力端子83eとが接続された状態(図4(d)の状態)も同様であり、第2入力端子82fと出力端子83eとが間に特性インピーダンスの異なる部材を介さずに直接接続されているので、インピーダンスアナライザ7と高周波測定装置3とが、切替装置8も含め全て50Ωの特性インピーダンスの伝送線路で接続される。つまり、切替装置8は、伝送線路のインピーダンスを変化させることなく、高周波測定装置3への接続を、インピーダンス整合装置2とインピーダンスアナライザ7との間で切り替えることができる。   Since the first input terminal 82e and the output terminal 83e are directly connected without a member having different characteristic impedance between them, the impedance matching device 2 and the high frequency measuring device 3 including the switching device 8 are all 50Ω characteristic. They are connected by an impedance transmission line. Further, the state where the second input terminal 82f and the output terminal 83e are connected (the state shown in FIG. 4D) is the same, and members having different characteristic impedances are interposed between the second input terminal 82f and the output terminal 83e. The impedance analyzer 7 and the high-frequency measuring device 3 are all connected by a transmission line having a characteristic impedance of 50Ω including the switching device 8 because they are directly connected without being interposed. That is, the switching device 8 can switch the connection to the high frequency measuring device 3 between the impedance matching device 2 and the impedance analyzer 7 without changing the impedance of the transmission line.

次に、高周波測定装置3の校正パラメータの生成を行う手順について、図5に示すフローチャートを参照して説明する。   Next, the procedure for generating the calibration parameters of the high-frequency measuring device 3 will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

図5は、校正パラメータ生成システムBにおける校正パラメータの生成の手順を説明するためのフローチャートである。当該フローチャートは、高周波測定装置3のメモリに記憶される校正パラメータを算出するための処理手順を示している。   FIG. 5 is a flowchart for explaining a procedure for generating calibration parameters in the calibration parameter generation system B. The flowchart shows a processing procedure for calculating a calibration parameter stored in the memory of the high-frequency measuring device 3.

3つの基準負荷に基づいて校正を行うので、ステップS2〜S6の処理を3回繰り返す。そのため、基準負荷を特定するための番号Nを変数として、ステップS1でNを「1」とし、ステップS7でNに「1」を加算して、ステップS8でNが「4」より小さいか否かを判別している。これにより、3つの基準負荷に対して、それぞれステップS2〜S6の処理が行われる。   Since calibration is performed based on the three reference loads, the processes in steps S2 to S6 are repeated three times. Therefore, using the number N for specifying the reference load as a variable, N is set to “1” in step S1, “1” is added to N in step S7, and whether or not N is smaller than “4” in step S8. Is determined. As a result, the processes of steps S2 to S6 are performed for the three reference loads.

まず、ダミーロード6によって基準負荷Nを再現して(S2)、切替装置8の切り替え(第2切り替え)によって、インピーダンス整合装置2と高周波測定装置3とを接続する(S3)。つまり、第2入力端子82fと出力端子83eとが接続された状態(図4(d)の状態)であった場合、第1入力端子82eと出力端子83eとが接続された状態(図4(a)の状態)に切り替える。切り替え後、高周波測定装置3で基準負荷Nのインピーダンスを測定する(S4)。この場合、高周波電源装置1からダミーロード6に電力を供給し、所定時間が経過してダミーロード6の温度が上がった状態でインピーダンスを測定する。   First, the reference load N is reproduced by the dummy load 6 (S2), and the impedance matching device 2 and the high-frequency measuring device 3 are connected by switching the switching device 8 (second switching) (S3). That is, when the second input terminal 82f and the output terminal 83e are connected (state shown in FIG. 4D), the first input terminal 82e and the output terminal 83e are connected (FIG. 4D). Switch to the state a). After switching, the impedance of the reference load N is measured by the high frequency measuring device 3 (S4). In this case, power is supplied from the high frequency power supply device 1 to the dummy load 6, and the impedance is measured in a state where the temperature of the dummy load 6 has risen after a predetermined time has elapsed.

次に、高周波電源装置1からの電力供給を停止してから、切替装置8の切り替え(第1切り替え)によって、インピーダンスアナライザ7と高周波測定装置3とを接続する(S5)。つまり、第1入力端子82eと出力端子83eとが接続された状態(図4(a)の状態)から、第2入力端子82fと出力端子83eとが接続された状態(図4(d)の状態)に切り替える。切り替え後、インピーダンスアナライザ7で基準負荷Nのインピーダンスを測定する(S6)。測定後、ダミーロード6によって次の基準負荷を再現する(S2)。   Next, after the power supply from the high frequency power supply device 1 is stopped, the impedance analyzer 7 and the high frequency measurement device 3 are connected by switching the switching device 8 (first switching) (S5). That is, from the state where the first input terminal 82e and the output terminal 83e are connected (the state of FIG. 4A), the state where the second input terminal 82f and the output terminal 83e are connected (the state of FIG. 4D). Switch to (status). After switching, the impedance analyzer 7 measures the impedance of the reference load N (S6). After the measurement, the next reference load is reproduced by the dummy load 6 (S2).

ステップS2〜S6をN=1〜3の場合で繰り返すことで、3つの基準負荷のインピーダンスを、高周波測定装置3およびインピーダンスアナライザ7でそれぞれ測定する。なお、上記のように、切替装置8は、第1切り替えおよび第2切り替えのいずれも、1秒程度の短い時間で行うことができる。そのため、3つの基準負荷のインピーダンスを、高周波測定装置3およびインピーダンスアナライザ7でそれぞれ測定した状態(ステップS6の後)でも、ダミーロード6の温度低下が少ない。この温度低下が許容範囲内であれば、N=2,3の場合のステップS4では、ダミーロード6の温度が上げるための時間を省略することができる。しかし、温度低下が許容できない場合は、N=2,3の場合のステップS4で、ダミーロード6の温度を上げるために、高周波電源装置1からダミーロード6に所定時間だけ電力を供給することによって、ダミーロード6の温度が、N=1の場合のステップS4の状態とほぼ同温度になるようにすればよい。   By repeating steps S2 to S6 in the case of N = 1 to 3, the impedances of the three reference loads are measured by the high frequency measuring device 3 and the impedance analyzer 7, respectively. As described above, the switching device 8 can perform both the first switching and the second switching in a short time of about 1 second. Therefore, even when the impedances of the three reference loads are measured by the high-frequency measuring device 3 and the impedance analyzer 7 (after step S6), the temperature drop of the dummy load 6 is small. If this temperature drop is within an allowable range, the time for increasing the temperature of the dummy load 6 can be omitted in step S4 when N = 2, 3. However, if the temperature drop cannot be tolerated, power is supplied from the high frequency power supply device 1 to the dummy load 6 for a predetermined time in order to increase the temperature of the dummy load 6 in step S4 when N = 2, 3. The temperature of the dummy load 6 may be set to be substantially the same as that in step S4 when N = 1.

次に、インピーダンスアナライザ7と高周波測定装置3とで測定した、3つの基準負荷のそれぞれのインピーダンスから、校正パラメータを算出し、高周波測定装置3の図示しないメモリに記録する(S9)。なお、校正パラメータの算出方法についての詳細な説明は省略する。   Next, calibration parameters are calculated from the impedances of the three reference loads measured by the impedance analyzer 7 and the high frequency measuring device 3, and recorded in a memory (not shown) of the high frequency measuring device 3 (S9). A detailed description of the calibration parameter calculation method is omitted.

本実施形態では、高周波測定装置3の図示しない演算回路が、測定したインピーダンスとインピーダンスアナライザ7より入力されるインピーダンスとをメモリに記録しておき、3つの基準負荷を測定した後に校正パラメータの各要素を算出してメモリに記録する。なお、校正パラメータの算出は高周波測定装置3の演算回路が行う場合に限定されず、例えば、作業者が別途行うようにしてもよい。この場合、作業者が高周波測定装置3の図示しない入力手段で校正パラメータを入力することで、メモリに記録すればよい。   In the present embodiment, the arithmetic circuit (not shown) of the high-frequency measuring device 3 records the measured impedance and the impedance input from the impedance analyzer 7 in a memory, and after measuring three reference loads, each element of the calibration parameter Is calculated and recorded in the memory. The calculation of the calibration parameter is not limited to the case where the arithmetic circuit of the high-frequency measuring device 3 performs, and for example, an operator may perform it separately. In this case, the operator may input the calibration parameters with an input unit (not shown) of the high-frequency measuring device 3 and record it in the memory.

本実施形態では、ダミーロード6による基準負荷の切り替え、切替装置8による接続の切り替え、高周波電源装置1への電力供給指示、高周波測定装置3およびインピーダンスアナライザ7への測定指示、高周波測定装置3への校正パラメータの算出指示を、制御装置9からの信号で行うようにして、校正作業を自動化している。すなわち、制御装置9が、図5のフローチャートに応じたプログラムに基づいて、ステップS2〜S6およびS9の処理を各装置が行うように指示するようになっている。なお、作業者が、図5のフローチャートに応じて各装置を操作するようにしてもよい。   In the present embodiment, the reference load is switched by the dummy load 6, the connection is switched by the switching device 8, the power supply instruction to the high frequency power supply device 1, the measurement instruction to the high frequency measuring device 3 and the impedance analyzer 7, to the high frequency measuring device 3. The calibration operation is automated by issuing a calibration parameter calculation instruction using a signal from the control device 9. That is, the control device 9 instructs each device to perform the processes of steps S2 to S6 and S9 based on the program according to the flowchart of FIG. An operator may operate each device in accordance with the flowchart of FIG.

本実施形態では、3つの基準負荷を、特性インピーダンス(50Ω)を有する基準負荷と、開放状態のインピーダンスおよび短絡状態のインピーダンスにそれぞれ近く反射係数が0.9以下である2つの基準負荷としているが、これに限られない。高周波測定装置3で測定される測定対象の負荷の変動範囲があらかじめわかっている場合は、その変動範囲に応じて、3つの基準負荷を決定すればよい。   In this embodiment, the three reference loads are a reference load having a characteristic impedance (50Ω) and two reference loads having a reflection coefficient of 0.9 or less, which are close to an open impedance and a short-circuit impedance, respectively. Not limited to this. When the variation range of the load to be measured measured by the high-frequency measuring device 3 is known in advance, three reference loads may be determined according to the variation range.

本実施形態において、切替装置8は、第1切り替え(ステップS5)を1秒程度の短い時間で行うことができる。したがって、ステップS4における高周波電源装置1からの電力供給で上がったダミーロード6の温度が殆ど変化しないうちに(低下度合いが少ないうちに)、ステップS6においてインピーダンスアナライザ7でインピーダンスを測定することができる。ダミーロード6の温度が同程度の状態で測定された測定値に基づいて校正パラメータが算出されるので、校正パラメータの精度が高くなり、正確に校正を行うことができる。   In the present embodiment, the switching device 8 can perform the first switching (step S5) in a short time of about 1 second. Therefore, the impedance can be measured by the impedance analyzer 7 in step S6 before the temperature of the dummy load 6 raised by the power supply from the high frequency power supply device 1 in step S4 hardly changes (while the decrease degree is small). . Since the calibration parameters are calculated based on the measured values measured at the same temperature of the dummy load 6, the accuracy of the calibration parameters is increased and the calibration can be performed accurately.

また、切替装置8は、第2切り替え(ステップS3)も1秒程度の短い時間で行うことができる。したがって、基準負荷を変更して高周波測定装置3で再度インピーダンスを測定する場合(ステップS8:YESの後のS4)、ダミーロード6の温度が殆ど変化しないうちに(低下度合いが少ないうちに)測定することができる。これにより、ダミーロード6の温度を上げるための電力供給時間を省略または短縮することができる。さらに、第1切り替えにかかる時間にバラツキが少なく、第2切り替えにかかる時間にもバラツキが少ない。したがって、変更後の基準負荷(N=2,3)の測定を同様の温度状態で行うことができる。これにより、算出される校正パラメータの精度が高くなるので、正確に校正を行うことができる。   The switching device 8 can also perform the second switching (step S3) in a short time of about 1 second. Therefore, when the reference load is changed and the impedance is measured again with the high-frequency measuring device 3 (step S8: S4 after YES), the measurement is performed while the temperature of the dummy load 6 hardly changes (while the degree of decrease is small). can do. Thereby, the power supply time for raising the temperature of the dummy load 6 can be omitted or shortened. Furthermore, there is little variation in the time required for the first switching, and there is little variation in the time required for the second switching. Therefore, the measurement of the reference load (N = 2, 3) after the change can be performed in the same temperature state. As a result, the accuracy of the calculated calibration parameter is increased, so that calibration can be performed accurately.

また、図3に示すように、切替装置8は、インピーダンスを変化させる他の接続部材を介することなく、第1入力端子82e(または第2入力端子82f)と出力端子83eとを直接接続する。したがって、インピーダンスアナライザ7で基準負荷のインピーダンスを正確に測定することができ、精度の高い校正パラメータを算出することができる。   Further, as shown in FIG. 3, the switching device 8 directly connects the first input terminal 82e (or the second input terminal 82f) and the output terminal 83e without using another connection member that changes the impedance. Accordingly, the impedance of the reference load can be accurately measured by the impedance analyzer 7, and a highly accurate calibration parameter can be calculated.

なお、上記実施形態においては、切替装置8が送りネジによる駆動形式で移動板82c,83cを移動させる場合について説明したが、これに限られず、どのような駆動形式で移動させてもよい。例えば、移動板82c,83cをベルト駆動形式で移動させるようにしてもよい。すなわち、駆動モータ82aでベルトをY軸方向に循環させて、当該ベルトに固定された移動板82cをY軸方向に移動させ、同様にして、移動板83cをX軸方向に移動させるようにしてもよい。   In the above-described embodiment, the case where the switching device 8 moves the moving plates 82c and 83c in a drive format using a feed screw has been described. However, the present invention is not limited to this, and any drive format may be used. For example, the moving plates 82c and 83c may be moved in a belt drive format. That is, the drive motor 82a circulates the belt in the Y-axis direction, moves the moving plate 82c fixed to the belt in the Y-axis direction, and similarly moves the moving plate 83c in the X-axis direction. Also good.

上記実施形態においては、第1入力端子82eおよび第2入力端子82fがY軸方向に平行移動する場合について説明したが、これに限られない。例えば、図6(a)に示すように、入力端子移動部82’を、第1入力端子82eおよび第2入力端子82fが垂直方向を中心軸として回転移動する構成としてもよい。すなわち、駆動モータ82aを回転軸が垂直方向となるように固定し、当該回転軸に直交するように移動板82cを固定する。そして、第1入力端子82eおよび第2入力端子82fを、それぞれの中心軸が駆動モータ82aの回転軸と直交するように移動板82cに固定する。この場合、駆動モータ82aを制御して移動板82cを回動させることで、第1入力端子82e(または第2入力端子82f)の中心軸と出力端子83e(図示せず)の中心軸とを一致させて、移動板83cをX軸の正の方向に移動させることで接続する。   In the above embodiment, the case where the first input terminal 82e and the second input terminal 82f are translated in the Y-axis direction has been described, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 6A, the input terminal moving part 82 'may be configured such that the first input terminal 82e and the second input terminal 82f rotate and move with the vertical direction as the central axis. That is, the drive motor 82a is fixed so that the rotation axis is in the vertical direction, and the moving plate 82c is fixed so as to be orthogonal to the rotation axis. Then, the first input terminal 82e and the second input terminal 82f are fixed to the moving plate 82c so that the respective center axes are orthogonal to the rotation axis of the drive motor 82a. In this case, the central axis of the first input terminal 82e (or the second input terminal 82f) and the central axis of the output terminal 83e (not shown) are controlled by controlling the drive motor 82a to rotate the moving plate 82c. The connection is established by moving the moving plate 83c in the positive direction of the X axis.

また、図6(b)に示すように、入力端子移動部82”を、第1入力端子82eおよび第2入力端子82fが垂直方向に平行移動する構成としてもよい。すなわち、駆動モータ82aおよび送りネジ82bを回転軸が垂直方向(Z軸方向)となるように配置し、送りネジ機構でZ軸方向に移動するように移動板82cを設ける。そして、第1入力端子82eおよび第2入力端子82fを、それぞれの軸方向がX軸方向となるように、移動板82cの右端(X軸の負の側)にZ軸方向に並べて固定する。この場合、駆動モータ82aを制御して移動板82cをZ軸方向に平行移動させることで、第1入力端子82e(または第2入力端子82f)の中心軸と出力端子83e(図示せず)の中心軸とを一致させて、移動板83cをX軸の正の方向に移動させることで接続する。   Further, as shown in FIG. 6B, the input terminal moving part 82 ″ may be configured such that the first input terminal 82e and the second input terminal 82f are translated in the vertical direction. The screw 82b is arranged so that the rotation axis is in the vertical direction (Z-axis direction), and a moving plate 82c is provided to move in the Z-axis direction by the feed screw mechanism, and the first input terminal 82e and the second input terminal 82f are aligned and fixed in the Z-axis direction at the right end (negative side of the X-axis) of the moving plate 82c so that the respective axial directions are in the X-axis direction. By moving 82c in the Z-axis direction in parallel, the central axis of the first input terminal 82e (or the second input terminal 82f) and the central axis of the output terminal 83e (not shown) are matched, and the moving plate 83c is moved. X axis positive direction Connecting by allowing moved.

上記実施形態においては、第1入力端子82eおよび第2入力端子82fと、出力端子83eとが、いずれも移動する場合について説明したが、これに限られない。一方が固定され、他方のみが移動するようにしてもよい。以下に、図7を参照して、第1入力端子82eおよび第2入力端子82fが固定され、出力端子83eのみが移動する場合の実施例について説明する。同図において、図2に示す切替装置8と同一または類似の要素には、同一の符号を付している。   In the above embodiment, the case where all of the first input terminal 82e, the second input terminal 82f, and the output terminal 83e move has been described, but the present invention is not limited to this. One may be fixed and only the other may move. Hereinafter, an example in which the first input terminal 82e and the second input terminal 82f are fixed and only the output terminal 83e moves will be described with reference to FIG. In the figure, the same or similar elements as those of the switching device 8 shown in FIG.

図7に示す切替装置8’は、第1入力端子82eおよび第2入力端子82fが固定されて出力端子83eのみが移動する点で、図2に示す切替装置8と異なる。   7 differs from the switching device 8 shown in FIG. 2 in that the first input terminal 82e and the second input terminal 82f are fixed and only the output terminal 83e moves.

出力端子移動部83’は、出力端子83eをX軸方向およびY軸方向に移動させるものである。駆動モータ83aによって送りネジ83bを回転駆動し、送りネジ83bがX軸方向を中心軸として回転することで移動板83cがレール83d上をX軸方向に移動する点は、図2に示す切替装置8と共通している。しかし、駆動モータ83a、送りネジ83b、移動板83c、およびレール83dは、筐体81の底板に配置されているのではなく、移動板83fに配置されている。移動板83fは、筐体81の底板上をY軸方向に移動する。すなわち、筐体81の底板に固定された駆動モータ83gによって送りネジ83hを回転駆動し、送りネジ83hがY軸方向を中心軸として回転することで移動板83fがレール83i上をY軸方向に移動する。第1入力端子82eおよび第2入力端子82fは筐体81に固定されている。   The output terminal moving part 83 'moves the output terminal 83e in the X axis direction and the Y axis direction. The switching device shown in FIG. 2 is that the feed screw 83b is rotated by the drive motor 83a, and the feed screw 83b rotates around the X-axis direction to move the moving plate 83c on the rail 83d in the X-axis direction. 8 and in common. However, the drive motor 83a, the feed screw 83b, the moving plate 83c, and the rail 83d are not arranged on the bottom plate of the housing 81, but are arranged on the moving plate 83f. The moving plate 83f moves on the bottom plate of the housing 81 in the Y-axis direction. That is, the feed screw 83h is rotationally driven by the drive motor 83g fixed to the bottom plate of the housing 81, and the feed screw 83h rotates about the Y-axis direction, so that the moving plate 83f moves on the rail 83i in the Y-axis direction. Moving. The first input terminal 82e and the second input terminal 82f are fixed to the housing 81.

出力端子移動部83’は、駆動モータ83aを制御して移動板83cをX軸方向に移動させ、駆動モータ83gを制御して移動板83fをY軸方向に移動させることで、移動板83cに固定された出力端子83eをX軸方向およびY軸方向に移動させる。切替装置8’においても、第1入力端子82eと出力端子83eとが接続された状態と、第2入力端子82fと出力端子83eとが接続された状態とを切り替えることができる。   The output terminal moving unit 83 ′ controls the driving motor 83a to move the moving plate 83c in the X-axis direction, and controls the driving motor 83g to move the moving plate 83f in the Y-axis direction. The fixed output terminal 83e is moved in the X-axis direction and the Y-axis direction. Also in the switching device 8 ′, the state where the first input terminal 82 e and the output terminal 83 e are connected and the state where the second input terminal 82 f and the output terminal 83 e are connected can be switched.

なお、出力端子83eが固定され、第1入力端子82eおよび第2入力端子82fが移動するようにしてもよい。また、第1入力端子82eと第2入力端子82fとが、別々に移動するようにしてもよい。   Note that the output terminal 83e may be fixed, and the first input terminal 82e and the second input terminal 82f may move. Further, the first input terminal 82e and the second input terminal 82f may be moved separately.

上記実施形態においては、切替装置8(8’)を高周波測定装置3の入力側に配置した場合について説明したが、これに限られず、切替装置8(8’)を高周波測定装置3の出力側に配置してもよい。この場合を第2実施形態として、以下に説明する。   In the above embodiment, the case where the switching device 8 (8 ′) is arranged on the input side of the high-frequency measuring device 3 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the switching device 8 (8 ′) is connected to the output side of the high-frequency measuring device 3. You may arrange in. This case will be described below as a second embodiment.

図8は、第2実施形態に係る校正パラメータ生成システムの構成を示すブロック図である。   FIG. 8 is a block diagram showing a configuration of a calibration parameter generation system according to the second embodiment.

校正パラメータ生成システムB’は高周波測定装置3の配置場所が第1実施形態の校正パラメータ生成システムB(図1参照)と異なっており、高周波測定装置3は、インピーダンス整合装置2と切替装置8との間に配置されている。すなわち、校正パラメータ生成システムB’は、図12(b)に示す接続状態において、高周波測定装置3とダミーロード6との間に切替装置8を挿入し、インピーダンスアナライザ7を切替装置8に接続したものである。なお、校正パラメータ生成システムB’は、特性インピーダンスが50Ω系として構成されている。   The calibration parameter generation system B ′ is different from the calibration parameter generation system B (see FIG. 1) of the first embodiment in the location of the high frequency measurement device 3, and the high frequency measurement device 3 includes the impedance matching device 2, the switching device 8, and the like. It is arranged between. That is, the calibration parameter generation system B ′ has the switching device 8 inserted between the high frequency measurement device 3 and the dummy load 6 and the impedance analyzer 7 is connected to the switching device 8 in the connection state shown in FIG. Is. The calibration parameter generation system B 'is configured with a characteristic impedance of 50Ω.

本実施形態において、切替装置8は、高周波測定装置3がダミーロード6に接続した状態とインピーダンスアナライザ7がダミーロード6に接続した状態とを、容易に短時間で切り替えることができる。したがって、高周波電源装置1からの電力供給で上がったダミーロード6の温度が殆ど変化しないうちに(低下度合いが少ないうちに)、インピーダンスアナライザ7でインピーダンスを測定することができる。また、基準負荷を変更して高周波測定装置3で再度インピーダンスを測定する場合、ダミーロード6の温度が殆ど変化しないうちに(低下度合いが少ないうちに)測定することができる。さらに、各切り替えにかかる時間にバラツキが少ないので、変更後の基準負荷の測定を同様の温度状態で行うことができる。また、切替装置8は、インピーダンスを変化させる他の接続部材を介することなく接続の切り替えを行うことができる。したがって、本実施形態においても、第1実施形態と同様の効果を奏することができる。   In the present embodiment, the switching device 8 can easily switch between a state in which the high-frequency measuring device 3 is connected to the dummy load 6 and a state in which the impedance analyzer 7 is connected to the dummy load 6 in a short time. Therefore, the impedance can be measured by the impedance analyzer 7 while the temperature of the dummy load 6 raised by the power supply from the high frequency power supply device 1 hardly changes (while the degree of decrease is small). In addition, when the impedance is measured again with the high-frequency measuring device 3 while changing the reference load, the impedance can be measured while the temperature of the dummy load 6 hardly changes (while the degree of decrease is small). Further, since there is little variation in the time required for each switching, the reference load after the change can be measured in the same temperature state. In addition, the switching device 8 can switch the connection without using another connection member that changes the impedance. Therefore, also in this embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

なお、上記第1または第2実施形態においては、校正パラメータ生成システムB(B’)を特性インピーダンスが50Ω系としているが、これに限られず、その他の特性インピーダンスで各装置や伝送線路を構成してもよい。   In the first or second embodiment, the calibration parameter generation system B (B ′) has a characteristic impedance of 50Ω, but is not limited to this, and each device or transmission line is configured with other characteristic impedances. May be.

上記第1または第2実施形態においては、切替装置8(8’)を校正作業(測定作業)に用いる場合について説明したが、これに限られない。切替装置8(8’)は、校正作業(測定作業)以外でも用いることができる。すなわち、切替装置8(8’)は、電力の入力または出力を切り替えるための装置として、あらゆる場合に用いることができる。例えば、2台の高周波電源装置1と1台のプラズマ処理装置4とを接続しておき、プラズマ処理装置4に電力を供給する電源を適宜切り替える場合(図9参照)や、2台のプラズマ処理装置4と1台の高周波電源装置1とを接続しておき、高周波電源装置1が電力を供給するプラズマ処理装置4を適宜切り替える場合(図10参照)などにも、切替装置8(8’)を用いることができる。   In the first or second embodiment, the case where the switching device 8 (8 ') is used for calibration work (measurement work) has been described, but the present invention is not limited to this. The switching device 8 (8 ') can be used for other than calibration work (measurement work). That is, the switching device 8 (8 ') can be used in any case as a device for switching power input or output. For example, when two high-frequency power supply apparatuses 1 and one plasma processing apparatus 4 are connected and the power source for supplying power to the plasma processing apparatus 4 is switched as appropriate (see FIG. 9), or two plasma processing The switching device 8 (8 ') is also used when the apparatus 4 and one high frequency power supply device 1 are connected and the plasma processing device 4 to which the high frequency power supply device 1 supplies power is appropriately switched (see FIG. 10). Can be used.

また、入力端子および出力端子の数は限定されない。例えば、3つの入力端子と1つの出力端子とを設け、出力端子がいずれかの入力端子に接続されるようにして、3つの入力を切り替えるようにしてもよい。また、2つの入力端子と2つの出力端子とを設けるようにしてもよい。また、高周波電力を扱う場合に限定されず、低周波の交流電力や直流電力を扱う場合でも、本発明に係る切替装置を用いることができる。   Further, the number of input terminals and output terminals is not limited. For example, three input terminals and one output terminal may be provided, and the three inputs may be switched so that the output terminal is connected to one of the input terminals. Further, two input terminals and two output terminals may be provided. Further, the switching device according to the present invention can be used not only when handling high-frequency power but also when handling low-frequency AC power or DC power.

本発明に係る校正パラメータ生成システムは、上述した実施形態に限定されるものではない。また、本発明に係る校正パラメータ生成システムの各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。   The calibration parameter generation system according to the present invention is not limited to the above-described embodiment. The specific configuration of each part of the calibration parameter generation system according to the present invention can be varied in design in various ways.

A プラズマ処理システム
B,B’ 校正パラメータ生成システム
1 高周波電源装置(高周波電力供給手段)
2 インピーダンス整合装置(高周波電力供給手段)
3 高周波測定装置(検出手段、校正パラメータ生成手段)
4 プラズマ処理装置
5 伝送線路
6 ダミーロード(負荷装置)
7 インピーダンスアナライザ(インピーダンス検出装置)
8,8’ 切替装置
81 筐体
82,82’,82” 入力端子移動部
82a 駆動モータ(第2の駆動装置)
82b 送りネジ
82c 移動板(第2の移動板)
82d レール
82e 第1入力端子(第2の端子)
82f 第2入力端子(第3の端子)
83,83’ 出力端子移動部
83a 駆動モータ(第1の駆動装置)
83b 送りネジ
83c 移動板(第1の移動板)
83d レール
83e 出力端子(第1の端子)
83f 移動板
83g 駆動モータ
83h 送りネジ
83i レール
9 制御装置
A Plasma processing system B, B 'Calibration parameter generation system 1 High frequency power supply (high frequency power supply means)
2 Impedance matching device (high frequency power supply means)
3 High-frequency measuring device (detection means, calibration parameter generation means)
4 Plasma processing equipment 5 Transmission line 6 Dummy load (load equipment)
7 Impedance analyzer (impedance detector)
8, 8 'switching device 81 casing 82, 82', 82 "input terminal moving part 82a drive motor (second drive device)
82b Feed screw 82c Moving plate (second moving plate)
82d rail 82e first input terminal (second terminal)
82f Second input terminal (third terminal)
83, 83 'output terminal moving part 83a drive motor (first drive device)
83b Feed screw 83c Moving plate (first moving plate)
83d Rail 83e Output terminal (first terminal)
83f Moving plate 83g Drive motor 83h Feed screw 83i Rail 9 Control device

Claims (9)

高周波電力供給手段から出力され負荷に供給される高周波電力の高周波電圧および高周波電流を前記負荷よりも前段で検出し、検出した高周波電圧の情報及び高周波電流の情報を校正するための校正パラメータを生成する校正パラメータ生成システムであって、
前記高周波電力供給手段と、
所定の基準負荷を再現するための負荷装置と、
前記負荷装置の入力側に接続され、前記高周波電圧および高周波電流を検出し、高周波電圧検出情報および高周波電流検出情報として出力する検出手段と、
前記検出手段から前記負荷装置側を見たインピーダンスを検出し、検出したインピーダンスの情報を負荷側インピーダンス検出情報として出力するインピーダンス検出装置と、
前記検出手段を介して前記負荷装置が接続される第1の端子と、
前記高周波電力供給手段が接続される第2の端子と、
前記インピーダンス検出装置が接続される第3の端子と、
前記高周波電圧検出情報、前記高周波電流検出情報および前記負荷側インピーダンス検出情報に基づいて、前記高周波電圧検出情報及び前記高周波電流検出情報を校正するための校正パラメータを生成する校正パラメータ生成手段と、
前記第1の端子と前記第2の端子とを直接接続した第1の状態と、前記第1の端子と前記第3の端子とを直接接続した第2の状態とを切り替える切替装置とを備え、
前記切替装置は、所定の第1時間で第1の状態から第2の状態に切り替える、
ことを特徴とする校正パラメータ生成システム。
A high-frequency voltage and a high-frequency current of the high-frequency power output from the high-frequency power supply means and supplied to the load are detected before the load, and calibration parameters for calibrating the detected high-frequency voltage information and high-frequency current information are generated. Calibration parameter generation system
The high-frequency power supply means;
A load device for reproducing a predetermined reference load;
Detecting means connected to the input side of the load device, detecting the high-frequency voltage and high-frequency current, and outputting as high-frequency voltage detection information and high-frequency current detection information;
Impedance detection device that detects the impedance when the load device side is viewed from the detection means, and outputs information of the detected impedance as load side impedance detection information;
A first terminal to which the load device is connected via the detection means;
A second terminal to which the high-frequency power supply means is connected;
A third terminal to which the impedance detection device is connected;
Calibration parameter generating means for generating calibration parameters for calibrating the high-frequency voltage detection information and the high-frequency current detection information based on the high-frequency voltage detection information, the high-frequency current detection information, and the load-side impedance detection information;
A switching device that switches between a first state in which the first terminal and the second terminal are directly connected and a second state in which the first terminal and the third terminal are directly connected; ,
The switching device switches from the first state to the second state at a predetermined first time;
A calibration parameter generation system characterized by that.
高周波電力供給手段から出力され負荷に供給される高周波電力の高周波電圧および高周波電流を前記負荷よりも前段で検出し、検出した高周波電圧の情報及び高周波電流の情報を校正するための校正パラメータを生成する校正パラメータ生成システムであって、
前記高周波電力供給手段と、
所定の基準負荷を再現するための負荷装置と、
前記高周波電力供給手段の出力側に接続され、前記高周波電圧および高周波電流を検出し、高周波電圧検出情報および高周波電流検出情報として出力する検出手段と、
前記負荷装置のインピーダンスを検出し、検出したインピーダンスの情報を負荷側インピーダンス検出情報として出力するインピーダンス検出装置と、
前記負荷装置が接続される第1の端子と、
前記検出手段を介して前記高周波電力供給手段が接続される第2の端子と、
前記インピーダンス検出装置が接続される第3の端子と、
前記高周波電圧検出情報、前記高周波電流検出情報および前記負荷側インピーダンス検出情報に基づいて、前記高周波電圧検出情報及び前記高周波電流検出情報を校正するための校正パラメータを生成する校正パラメータ生成手段と、
前記第1の端子と前記第2の端子とを直接接続した第1の状態と、前記第1の端子と前記第3の端子とを直接接続した第2の状態とを切り替える切替装置とを備え、
前記切替装置は、所定の第1時間で第1の状態から第2の状態に切り替える、
ことを特徴とする校正パラメータ生成システム。
A high-frequency voltage and a high-frequency current of the high-frequency power output from the high-frequency power supply means and supplied to the load are detected before the load, and calibration parameters for calibrating the detected high-frequency voltage information and high-frequency current information are generated. Calibration parameter generation system
The high-frequency power supply means;
A load device for reproducing a predetermined reference load;
Detection means connected to the output side of the high-frequency power supply means, detecting the high-frequency voltage and high-frequency current, and outputting as high-frequency voltage detection information and high-frequency current detection information;
Detecting the impedance of the load device, and outputting the detected impedance information as load-side impedance detection information; and
A first terminal to which the load device is connected;
A second terminal to which the high-frequency power supply means is connected via the detection means;
A third terminal to which the impedance detection device is connected;
Calibration parameter generating means for generating calibration parameters for calibrating the high-frequency voltage detection information and the high-frequency current detection information based on the high-frequency voltage detection information, the high-frequency current detection information, and the load-side impedance detection information;
A switching device that switches between a first state in which the first terminal and the second terminal are directly connected and a second state in which the first terminal and the third terminal are directly connected; ,
The switching device switches from the first state to the second state at a predetermined first time;
A calibration parameter generation system characterized by that.
前記切替装置は、所定の第2時間で第2の状態から第1の状態に切り替える、
請求項1または2に記載の校正パラメータ生成システム。
The switching device switches from the second state to the first state in a predetermined second time;
The calibration parameter generation system according to claim 1 or 2.
前記第1の状態で前記高周波電力供給手段から前記負荷装置に電力を供給させて、前記検出手段に前記高周波電圧検出情報および高周波電流検出情報を出力させ、前記第2の状態で前記インピーダンス検出装置に前記負荷側インピーダンス検出情報を出力させる制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、
前記第1の状態で前記高周波電力供給手段からの電力供給を停止させてから、前記切替装置に前記第2の状態への切り替えを行わせ、
前記第2の状態で前記負荷側インピーダンス検出情報が出力されてから、前記切替装置に前記第1の状態への切り替えを行わせる、
請求項1ないし3のいずれかに記載の校正パラメータ生成システム。
In the first state, power is supplied from the high-frequency power supply means to the load device, the detection means outputs the high-frequency voltage detection information and high-frequency current detection information, and the impedance detection device in the second state. Further comprising a control device for outputting the load side impedance detection information to
The controller is
After stopping the power supply from the high-frequency power supply means in the first state, the switching device to switch to the second state,
After the load side impedance detection information is output in the second state, the switching device is switched to the first state.
The calibration parameter generation system according to any one of claims 1 to 3.
前記負荷装置は、3つの所定の基準負荷を再現し、
前記校正パラメータ生成手段は、それぞれの基準負荷を再現したときの前記高周波電圧検出情報、前記高周波電流検出情報および前記負荷側インピーダンス検出情報に基づいて、前記校正パラメータを生成する、
請求項1ないし4のいずれかに記載の校正パラメータ生成システム。
The load device reproduces three predetermined reference loads,
The calibration parameter generation means generates the calibration parameter based on the high-frequency voltage detection information, the high-frequency current detection information, and the load-side impedance detection information when each reference load is reproduced.
The calibration parameter generation system according to any one of claims 1 to 4.
前記切替装置は、前記第1の端子を移動させて、前記第1の状態と前記第2の状態とを切り替える、
請求項1ないし5のいずれかに記載の校正パラメータ生成システム。
The switching device moves the first terminal to switch between the first state and the second state;
The calibration parameter generation system according to any one of claims 1 to 5.
前記切替装置は、
前記1の端子を搭載した第1の移動板と、
前記第1の移動板を移動させる第1の駆動装置と、
を備えている、
請求項6に記載の校正パラメータ生成システム。
The switching device is
A first moving plate on which the one terminal is mounted;
A first driving device for moving the first moving plate;
With
The calibration parameter generation system according to claim 6.
前記切替装置は、前記第2及び前記第3の端子を移動させて、前記第1の状態と前記第2の状態とを切り替える、
請求項1ないし7のいずれかに記載の校正パラメータ生成システム。
The switching device moves the second and third terminals to switch between the first state and the second state;
The calibration parameter generation system according to any one of claims 1 to 7.
前記切替装置は、
前記第2の端子および前記第3の端子を搭載した第2の移動板と、
前記第2の移動板を移動させる第2の駆動装置と、
を備えている、
請求項8に記載の校正パラメータ生成システム。
The switching device is
A second moving plate on which the second terminal and the third terminal are mounted;
A second driving device for moving the second moving plate;
With
The calibration parameter generation system according to claim 8.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5961417B2 (en) * 2012-03-29 2016-08-02 株式会社ダイヘン Switching device
CN103592517B (en) * 2013-11-26 2016-05-11 中国船舶重工集团公司第七二二研究所 A kind of antenna impedance test macro and method
CN103698609B (en) * 2014-01-13 2016-03-02 国家电网公司 A kind of waveform method for measuring and recording of power transmission line power frequency parameter experiment
CN103869272A (en) * 2014-03-24 2014-06-18 哈尔滨理工大学 Calibration device for high-voltage switch dynamic characteristic tester
EP2944967B1 (en) * 2014-05-15 2020-08-05 ABB Schweiz AG Impedance matching element for voltage and/or current sensing devices
JP6441604B2 (en) * 2014-07-30 2018-12-19 株式会社ダイヘン High frequency measuring device and calibration method of high frequency measuring device
JP2016054041A (en) * 2014-09-03 2016-04-14 株式会社島津製作所 High frequency power supply
CN115298799A (en) * 2020-03-19 2022-11-04 朗姆研究公司 RF reference measurement circuit for a direct drive system supplying power to generate plasma in a substrate processing system
CN115656910B (en) * 2022-12-27 2023-04-21 太原山互科技有限公司 Remote calibration system, method and equipment for mutual inductor calibration instrument
CN119087329B (en) * 2024-11-08 2025-02-18 成都安捷畅医疗科技有限公司 Automatic calibration method and system for high-frequency electrosurgical unit neutral electrode impedance detection

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010080590A (en) * 2008-09-25 2010-04-08 Daihen Corp Change-over switch for on-load tap changer
JP5357091B2 (en) * 2010-03-23 2013-12-04 株式会社ダイヘン High frequency measuring device and calibration method of high frequency measuring device

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