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JP6837184B2 - Liquid crystal resin composition - Google Patents

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JP6837184B2 JP2020512757A JP2020512757A JP6837184B2 JP 6837184 B2 JP6837184 B2 JP 6837184B2 JP 2020512757 A JP2020512757 A JP 2020512757A JP 2020512757 A JP2020512757 A JP 2020512757A JP 6837184 B2 JP6837184 B2 JP 6837184B2
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Description

本発明は、液晶性樹脂組成物に関する。 The present invention relates to a liquid crystal resin composition.

液晶性ポリエステル樹脂に代表される液晶性樹脂は、優れた機械的強度、耐熱性、耐薬品性、電気的性質等をバランス良く有し、優れた寸法安定性も有するため高機能エンジニアリングプラスチックとして広く利用されている。最近では、液晶性樹脂は、これらの特長を生かして、精密機器部品に使用されるようになっている。 Liquid crystal resins represented by liquid crystal polyester resins have excellent mechanical strength, heat resistance, chemical resistance, electrical properties, etc. in a well-balanced manner, and also have excellent dimensional stability, so they are widely used as high-performance engineering plastics. It's being used. Recently, liquid crystal resins have come to be used for precision equipment parts by taking advantage of these features.

液晶性樹脂組成物には、ブリスター発生の問題が生じ得る。即ち、液晶性ポリエステル、液晶性ポリエステルアミド等の液晶性ポリマーは、高温熱安定性が良いため、高温での熱処理を要する材料に使用される場合が多い。しかし、成形品を高温の空気中及び液体中に長時間放置すると、表面にブリスターと呼ばれる細かい膨れが生じるという問題が起こる。 The liquid crystal resin composition may have a problem of blistering. That is, liquid crystal polymers such as liquid crystal polyester and liquid crystal polyester amide are often used as materials that require heat treatment at high temperature because they have good high temperature thermal stability. However, when the molded product is left in high temperature air or liquid for a long time, there arises a problem that fine swelling called blister is generated on the surface.

この現象の一原因は、液晶性ポリマーが溶融状態にある時に発生する分解ガス等が成形品内部に持ち込まれ、その後、高温の熱処理を行う際にそのガスが膨張し、加熱で軟化した成形品表面を押し上げ、押し上げられた部分がブリスターとして現れることである。このような原因で発生するブリスターの発生が低減された液晶性樹脂組成物としては、例えば、液晶性ポリエステルと特定の脂肪酸エステルと充填材と脂肪酸金属塩とを含有する液晶性樹脂組成物が公知である(特許文献1)。 One cause of this phenomenon is that the decomposition gas generated when the liquid crystal polymer is in a molten state is brought into the molded product, and then the gas expands when heat treatment is performed at a high temperature, and the molded product is softened by heating. The surface is pushed up, and the pushed up part appears as a blister. As a liquid crystal resin composition in which the generation of blister generated due to such a cause is reduced, for example, a liquid crystal resin composition containing a liquid crystal polyester, a specific fatty acid ester, a filler, and a fatty acid metal salt is known. (Patent Document 1).

特開2009−179693号公報JP-A-2009-179693

ブリスター発生の別の原因は、スキン層とコア層との境界に生じる歪みや複雑な成形品形状がもたらす不均一層構造に起因する空洞(層間剥離)がリフロー時に熱膨張して、加熱で軟化した成形品表面を押し上げ、押し上げられた部分がブリスターとして現れることである。特に肉厚差の大きな成形品の製造においては、溶融した液晶性樹脂組成物が薄肉部から厚肉部へ流動する過程で、液晶性樹脂特有の流動現象により、肉厚部に十分な充填がなされずに不均一層構造が形成されやすい問題がある。従来の液晶性組成物では、このような肉厚差の大きな成形品におけるブリスター発生の問題を解決するには不充分である。 Another cause of blister generation is that the cavities (delamination) caused by the distortion that occurs at the boundary between the skin layer and the core layer and the non-uniform layer structure caused by the complicated molded product shape expand thermally during reflow and soften by heating. The surface of the molded product is pushed up, and the pushed up part appears as a blister. Especially in the production of molded products with a large difference in wall thickness, the melted liquid crystal resin composition is sufficiently filled in the thick part due to the flow phenomenon peculiar to the liquid crystal resin in the process of flowing from the thin part to the thick part. There is a problem that a non-uniform layer structure is likely to be formed without being formed. The conventional liquid crystal composition is insufficient to solve the problem of blistering in a molded product having such a large difference in wall thickness.

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、肉厚差の大きな成形品におけるブリスター発生が抑制された液晶性樹脂組成物を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal resin composition in which blister generation is suppressed in a molded product having a large wall thickness difference.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた。その結果、液晶性樹脂組成物のスウェル比を特定の範囲に調整することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。より具体的には本発明は以下のものを提供する。 The present inventors have conducted intensive studies to solve the above problems. As a result, they have found that the above problems can be solved by adjusting the swell ratio of the liquid crystal resin composition to a specific range, and have completed the present invention. More specifically, the present invention provides the following.

(1) (A)液晶性樹脂、(B)ウィスカー、及び(C)板状充填剤を含有する液晶性樹脂組成物であって、前記液晶性樹脂組成物のスウェル比は、1.00超である液晶性樹脂組成物。 A liquid crystal resin composition containing (1) (A) liquid crystal resin, (B) whisker, and (C) plate-like filler, and the swell ratio of the liquid crystal resin composition exceeds 1.00. Is a liquid crystal resin composition.

(2) コネクター用である(1)に記載の液晶性樹脂組成物であって、前記コネクターは、前記液晶性樹脂組成物の成形品からなり、前記成形品は、厚肉部と薄肉部との肉厚差が0.5mm以上である偏肉構造を有し、前記成形品のゲート部から前記厚肉部に至る経路が前記薄肉部を経由する形状を有する液晶性樹脂組成物。 (2) The liquid crystal resin composition according to (1) for a connector, wherein the connector is a molded product of the liquid crystal resin composition, and the molded product has a thick portion and a thin portion. A liquid crystal resin composition having an unbalanced wall thickness difference of 0.5 mm or more, and having a shape in which a path from a gate portion of the molded product to the thick wall portion passes through the thin wall portion.

(3) リフロー工程を経るコネクター用である(1)又は(2)に記載の液晶性樹脂組成物であって、前記リフロー工程は、プレヒートゾーンにおける加熱とリフローゾーンにおける加熱とを含み、前記プレヒートゾーンにおいて、設定温度は140〜170℃、処理時間は1〜3分間であり、前記リフローゾーンにおいて、設定温度は180〜210℃、処理時間は30〜120秒であるとともに、実測の平均温度は183℃以上、実測のピーク温度は220〜270℃である液晶性樹脂組成物。 (3) The liquid crystal resin composition according to (1) or (2) for a connector that undergoes a reflow step, wherein the reflow step includes heating in a preheat zone and heating in a reflow zone, and the preheat. In the zone, the set temperature is 140 to 170 ° C. and the processing time is 1 to 3 minutes. In the reflow zone, the set temperature is 180 to 210 ° C., the processing time is 30 to 120 seconds, and the measured average temperature is A liquid crystal resin composition having a temperature of 183 ° C. or higher and a measured peak temperature of 220 to 270 ° C.

本発明によれば、肉厚差の大きな成形品におけるブリスター発生が抑制された液晶性樹脂組成物を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal resin composition in which blisters are suppressed in molded products having a large difference in wall thickness.

実施例で成形したDDR−DIMMコネクターを示す図である。なお、Aはゲート位置を示す。図中の数値の単位はmmである。It is a figure which shows the DDR-DIMM connector molded in an Example. Note that A indicates a gate position. The unit of the numerical value in the figure is mm. 実施例で成形したFPCコネクターを示す図である。なお、Aはゲート位置を示す。図中の数値の単位はmmである。It is a figure which shows the FPC connector molded in an Example. Note that A indicates a gate position. The unit of the numerical value in the figure is mm. 実施例で成形し、段差感度ブリスター評価で用いた成形品を示す図である。なお、Aはゲート位置を示す。図中の数値の単位はmmである。It is a figure which shows the molded article which was molded in Example and used in the step sensitivity blister evaluation. Note that A indicates a gate position. The unit of the numerical value in the figure is mm.

<液晶性樹脂組成物>
本発明に係る液晶性樹脂組成物は、(A)液晶性樹脂、(B)ウィスカー、及び(C)板状充填剤を含有する液晶性樹脂組成物であって、前記液晶性樹脂組成物のスウェル比は、1.00超である。本発明に係る液晶性樹脂組成物は、スウェル比が1.00超であることにより、肉厚差の大きな成形品におけるブリスター発生が効果的に抑制される。ブリスター発生がより効果的に抑制されることから、前記スウェル比は、1.02以上であることが好ましく、1.03以上であることがより好ましい。前記スウェル比の上限は、特に限定されず、例えば、1.2で良い。
<Liquid crystal resin composition>
The liquid crystal resin composition according to the present invention is a liquid crystal resin composition containing (A) a liquid crystal resin, (B) a whisker, and (C) a plate-like filler, and is the liquid crystal resin composition. The swell ratio is greater than 1.00. In the liquid crystal resin composition according to the present invention, when the swell ratio is more than 1.00, the generation of blisters in a molded product having a large wall thickness difference is effectively suppressed. Since the generation of blisters is suppressed more effectively, the swell ratio is preferably 1.02 or more, and more preferably 1.03 or more. The upper limit of the swell ratio is not particularly limited, and may be, for example, 1.2.

本明細書において、スウェル比としては、液晶性樹脂の融点よりも10〜20℃高いシリンダー温度、せん断速度2432sec−1の条件で、ISO 11443に準拠して流動性を測定する際に、内径1mm、長さ20mmのオリフィスから押し出された後、寸法が安定した押出品の外径Dを測定し、上記オリフィスの内径dとの比D/dを算出し、得られた値を採用する。In the present specification, the swell ratio is 1 mm in inner diameter when measuring the fluidity in accordance with ISO 11443 under the conditions of a cylinder temperature 10 to 20 ° C. higher than the melting point of the liquid crystal resin and a shear rate of 2432 sec -1. After being extruded from an orifice having a length of 20 mm, the outer diameter D of the extruded product having stable dimensions is measured, the ratio D / d to the inner diameter d of the orifice is calculated, and the obtained value is adopted.

スウェル比は、押し出された液晶性樹脂組成物の膨らみやすさを表す。一見すると、流動性が高い程、スウェル比が高いようにも思えるが、スウェル比は、必ずしも溶融粘度のみで決まるわけではなく、同じ溶融粘度を示す液晶性樹脂組成物同士が異なるスウェル比を有し得る。同様のことは、充填剤又はポリマーの種類又は含有量についても当てはまる。また、スウェル比は、液晶性樹脂組成物を調製する際のコンパウンド条件にも左右される。即ち、同じ成分を同じ量で含有する液晶性樹脂組成物同士であっても、コンパウンド条件が異なると、異なるスウェル比を示し得る。このように、スウェル比は、複合的要素が複雑に関係して決まる指標である。 The swell ratio represents the ease of swelling of the extruded liquid crystal resin composition. At first glance, it seems that the higher the fluidity, the higher the swell ratio, but the swell ratio is not necessarily determined only by the melt viscosity, and the liquid crystal resin compositions showing the same melt viscosity have different swell ratios. Can be done. The same applies to the type or content of fillers or polymers. The swell ratio also depends on the compound conditions when preparing the liquid crystal resin composition. That is, even liquid crystal resin compositions containing the same component in the same amount can exhibit different swell ratios under different compound conditions. In this way, the swell ratio is an index determined by the complex relationship of complex factors.

一方、ブリスター発生も、溶融粘度だけで決まるわけではなく、同じ溶融粘度を示す液晶性樹脂組成物同士であっても、一方ではブリスターが発生し、他方ではブリスターが発生しないということが起こり得る。同様のことは、充填剤又はポリマーの種類又は含有量及びコンパウンド条件についても当てはまる。このように、ブリスター発生も、複合的要素が複雑に関係して決まる指標である。ここで、実施例及び比較例において実証されている通り、本発明における他の要件の具備を条件に、スウェル比が1.00超であると、肉厚差の大きな成形品におけるブリスター発生が抑制される。複雑な成形品を成形する際には、例えば、液晶性樹脂組成物の溶融物の主流に対して垂直な方向に分岐したキャビティが延びるような金型が使用される。スウェル比が1.00超であると、このように垂直な方向に延びるキャビティにまでも上記溶融物が広がりやすく、空隙を埋め尽くしやすいため、肉厚差の大きな成形品におけるブリスター発生を抑制しやすい。 On the other hand, the generation of blisters is not determined only by the melt viscosity, and even if the liquid crystal resin compositions exhibit the same melt viscosity, it is possible that blisters are generated on one side and no blisters are generated on the other side. The same applies to the type or content of filler or polymer and compound conditions. In this way, the occurrence of blisters is also an index determined by the complex relationship of multiple factors. Here, as demonstrated in Examples and Comparative Examples, when the swell ratio exceeds 1.00, the occurrence of blisters in the molded product having a large wall thickness difference is suppressed, provided that the other requirements in the present invention are satisfied. Will be done. When molding a complicated molded product, for example, a mold is used in which a cavity branched in a direction perpendicular to the mainstream of the melt of the liquid crystal resin composition extends. When the swell ratio exceeds 1.00, the melt easily spreads even into the cavity extending in the vertical direction and fills the voids, so that the generation of blisters in the molded product having a large wall thickness difference is suppressed. Cheap.

[(A)液晶性樹脂]
本発明で使用する(A)液晶性樹脂とは、光学異方性溶融相を形成し得る性質を有する溶融加工性ポリマーを指す。異方性溶融相の性質は、直交偏光子を利用した慣用の偏光検査法により確認することが出来る。より具体的には、異方性溶融相の確認は、Leitz偏光顕微鏡を使用し、Leitzホットステージに載せた溶融試料を窒素雰囲気下で40倍の倍率で観察することにより実施できる。本発明に適用できる液晶性ポリマーは直交偏光子の間で検査したときに、たとえ溶融静止状態であっても偏光は通常透過し、光学的に異方性を示す。
[(A) Liquid crystal resin]
The liquid crystal resin (A) used in the present invention refers to a melt-processable polymer having a property of forming an optically anisotropic molten phase. The properties of the anisotropic molten phase can be confirmed by a conventional polarization inspection method using an orthogonal polarizing element. More specifically, the anisotropic molten phase can be confirmed by observing the molten sample placed on the Leitz hot stage at a magnification of 40 times under a nitrogen atmosphere using a Leitz polarizing microscope. Liquid crystalline polymers applicable to the present invention normally transmit polarized light and are optically anisotropy when inspected between orthogonal polarizers, even in the molten and resting state.

上記のような(A)液晶性樹脂の種類としては特に限定されず、芳香族ポリエステル及び/又は芳香族ポリエステルアミドであることが好ましい。また、芳香族ポリエステル及び/又は芳香族ポリエステルアミドを同一分子鎖中に部分的に含むポリエステルもその範囲にある。(A)液晶性樹脂としては、60℃でペンタフルオロフェノールに濃度0.1質量%で溶解したときに、好ましくは少なくとも約2.0dl/g、更に好ましくは2.0〜10.0dl/gの対数粘度(I.V.)を有するものが好ましく使用される。 The type of the liquid crystal resin (A) as described above is not particularly limited, and is preferably an aromatic polyester and / or an aromatic polyester amide. The range also includes polyesters that partially contain aromatic polyesters and / or aromatic polyester amides in the same molecular chain. The liquid crystal resin (A) preferably at least about 2.0 dl / g, more preferably 2.0 to 10.0 dl / g when dissolved in pentafluorophenol at 60 ° C. at a concentration of 0.1% by mass. Those having a logarithmic viscosity (IV) of are preferably used.

本発明に適用できる(A)液晶性樹脂としての芳香族ポリエステル又は芳香族ポリエステルアミドは、特に好ましくは、芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ヒドロキシアミン、及び芳香族ジアミンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物に由来する繰り返し単位を構成成分として有する芳香族ポリエステル又は芳香族ポリエステルアミドである。 The aromatic polyester or aromatic polyesteramide as the (A) liquid crystal resin applicable to the present invention is particularly preferably at least one selected from the group consisting of aromatic hydroxycarboxylic acids, aromatic hydroxyamines, and aromatic diamines. It is an aromatic polyester or an aromatic polyester amide having a repeating unit derived from a species compound as a constituent.

より具体的には、
(1)主として芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体の1種又は2種以上に由来する繰り返し単位からなるポリエステル;
(2)主として(a)芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体の1種又は2種以上に由来する繰り返し単位と、(b)芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸、及びそれらの誘導体の1種又は2種以上に由来する繰り返し単位とからなるポリエステル;
(3)主として(a)芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体の1種又は2種以上に由来する繰り返し単位と、(b)芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸、及びそれらの誘導体の1種又は2種以上に由来する繰り返し単位と、(c)芳香族ジオール、脂環族ジオール、脂肪族ジオール、及びそれらの誘導体の少なくとも1種又は2種以上に由来する繰り返し単位、とからなるポリエステル;
(4)主として(a)芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体の1種又は2種以上に由来する繰り返し単位と、(b)芳香族ヒドロキシアミン、芳香族ジアミン、及びそれらの誘導体の1種又は2種以上に由来する繰り返し単位と、(c)芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸、及びそれらの誘導体の1種又は2種以上に由来する繰り返し単位、とからなるポリエステルアミド;
(5)主として(a)芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体の1種又は2種以上に由来する繰り返し単位と、(b)芳香族ヒドロキシアミン、芳香族ジアミン、及びそれらの誘導体の1種又は2種以上に由来する繰り返し単位と、(c)芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸、及びそれらの誘導体の1種又は2種以上に由来する繰り返し単位と、(d)芳香族ジオール、脂環族ジオール、脂肪族ジオール、及びそれらの誘導体の少なくとも1種又は2種以上に由来する繰り返し単位、とからなるポリエステルアミド等が挙げられる。更に上記の構成成分に必要に応じ分子量調整剤を併用してもよい。
More specifically
(1) Polyester composed of repeating units mainly derived from one or more kinds of aromatic hydroxycarboxylic acids and their derivatives;
(2) Repeating units mainly derived from (a) one or more aromatic hydroxycarboxylic acids and their derivatives, and (b) aromatic dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, and one of their derivatives. Or polyester consisting of repeating units derived from two or more species;
(3) Repeating units mainly derived from (a) one or more kinds of aromatic hydroxycarboxylic acids and their derivatives, and (b) one kind of aromatic dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, and their derivatives. Or a polyester consisting of a repeating unit derived from two or more kinds and (c) a repeating unit derived from at least one kind or two or more kinds of aromatic diols, alicyclic diols, aliphatic diols, and derivatives thereof;
(4) Repeating units mainly derived from (a) one or more of aromatic hydroxycarboxylic acids and their derivatives, and (b) one or two of aromatic hydroxyamines, aromatic diamines, and their derivatives. Polyester amides consisting of repeating units derived from species or higher and (c) aromatic dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, and repeating units derived from one or more of their derivatives;
(5) Repetitive units mainly derived from (a) one or more aromatic hydroxycarboxylic acids and their derivatives, and (b) one or two aromatic hydroxyamines, aromatic diamines, and their derivatives. Repeating units derived from species or higher, (c) aromatic dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, and repeating units derived from one or more of their derivatives, and (d) aromatic diols, alicyclics. Examples thereof include polyesteramides composed of group diols, aliphatic diols, and repeating units derived from at least one or more of the derivatives thereof. Further, a molecular weight adjusting agent may be used in combination with the above-mentioned constituent components, if necessary.

本発明に適用できる(A)液晶性樹脂を構成する具体的化合物の好ましい例としては、p−ヒドロキシ安息香酸、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸等の芳香族ヒドロキシカルボン酸、2,6−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、ハイドロキノン、レゾルシン、下記一般式(I)で表される化合物、及び下記一般式(II)で表される化合物等の芳香族ジオール;テレフタル酸、イソフタル酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、及び下記一般式(III)で表される化合物等の芳香族ジカルボン酸;p−アミノフェノール、p−フェニレンジアミン等の芳香族アミン類が挙げられる。

Figure 0006837184
(X:アルキレン(C〜C)、アルキリデン、−O−、−SO−、−SO−、−S−、及び−CO−より選ばれる基である)
Figure 0006837184
Figure 0006837184
(Y:−(CH−(n=1〜4)及び−O(CHO−(n=1〜4)より選ばれる基である。)Preferred examples of the specific compound constituting the (A) liquid crystal resin applicable to the present invention include aromatic hydroxycarboxylic acids such as p-hydroxybenzoic acid and 6-hydroxy-2-naphthoic acid, and 2,6-dihydroxy. Aromatic diols such as naphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 4,4'-dihydroxybiphenyl, hydroquinone, resorcin, compounds represented by the following general formula (I), and compounds represented by the following general formula (II). Aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, 4,4'-diphenyldicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and compounds represented by the following general formula (III); p-aminophenol, p- Examples include aromatic amines such as phenylenediamine.
Figure 0006837184
(X: A group selected from alkylene (C 1 to C 4 ), alkylidene, -O-, -SO-, -SO 2- , -S-, and -CO-)
Figure 0006837184
Figure 0006837184
(Y: A group selected from − (CH 2 ) n − (n = 1 to 4) and −O (CH 2 ) n O − (n = 1 to 4).)

本発明に用いられる(A)液晶性樹脂の調製は、上記のモノマー化合物(又はモノマーの混合物)から直接重合法やエステル交換法を用いて公知の方法で行うことができ、通常は溶融重合法、溶液重合法、スラリー重合法、固相重合法等、又はこれらの2種以上の組み合わせが用いられ、溶融重合法、又は溶融重合法と固相重合法との組み合わせが好ましく用いられる。エステル形成能を有する上記化合物類はそのままの形で重合に用いてもよく、また、重合の前段階でアシル化剤等を用いて前駆体から該エステル形成能を有する誘導体に変性されたものでもよい。アシル化剤としては、無水酢酸等の無水カルボン酸等を挙げることができる。 The liquid crystal resin (A) used in the present invention can be prepared from the above-mentioned monomer compound (or mixture of monomers) by a known method using a direct polymerization method or a transesterification method, and is usually a melt polymerization method. , Solution polymerization method, slurry polymerization method, solid phase polymerization method, etc., or a combination of two or more of these is used, and a melt polymerization method or a combination of a melt polymerization method and a solid phase polymerization method is preferably used. The above compounds having an ester-forming ability may be used for polymerization as they are, or may be modified from a precursor to a derivative having the ester-forming ability by using an acylating agent or the like in the pre-polymerization step. Good. Examples of the acylating agent include acetic anhydride and other anhydrous carboxylic acids.

重合に際しては、種々の触媒の使用が可能である。使用可能な触媒の代表的なものとしては、酢酸カリウム、酢酸マグネシウム、酢酸第一錫、テトラブチルチタネート、酢酸鉛、酢酸ナトリウム、三酸化アンチモン、トリス(2,4−ペンタンジオナト)コバルト(III)等の金属塩系触媒、N−メチルイミダゾール、4−ジメチルアミノピリジン等の有機化合物系触媒を挙げることができる。触媒の使用量は、一般には、モノマーの全重量に対して、約0.001〜1質量%であることが好ましく、約0.01〜0.2質量%であることが特に好ましい。 Various catalysts can be used for the polymerization. Typical usable catalysts are potassium acetate, magnesium acetate, stannous acetate, tetrabutyl titanate, lead acetate, sodium acetate, antimony trioxide, tris (2,4-pentandionato) cobalt (III). ) And other metal salt-based catalysts, and organic compound-based catalysts such as N-methylimidazole and 4-dimethylaminopyridine. Generally, the amount of the catalyst used is preferably about 0.001 to 1% by mass, particularly preferably about 0.01 to 0.2% by mass, based on the total weight of the monomer.

上記のような方法で得られた(A)液晶性樹脂の溶融粘度は特に限定されない。一般には成形温度での溶融粘度が剪断速度1000sec−1で10MPa以上600MPa以下のものが使用可能である。しかし、それ自体あまり高粘度のものは流動性が非常に悪化するため好ましくない。なお、上記(A)液晶性樹脂は2種以上の液晶性樹脂の混合物であってもよい。The melt viscosity of the liquid crystal resin (A) obtained by the above method is not particularly limited. Generally, one having a melt viscosity at a molding temperature of 1000 sec -1 and a shear rate of 10 MPa or more and 600 MPa or less can be used. However, the one having a very high viscosity by itself is not preferable because the fluidity is very deteriorated. The liquid crystal resin (A) may be a mixture of two or more kinds of liquid crystal resins.

(A)液晶性樹脂の融点(以下、「Tm」ともいう。)及び結晶化温度(以下、「Tc」ともいう。)は特に限定されない。TmとTcとの差Tm−Tcは、ブリスター発生を抑制しやすく、機械的強度を維持しやすい点で、45℃以下が好ましく、42℃以下がより好ましく、40℃以下が更により好ましい。Tm−Tcの下限は、特に限定されず、0℃、1℃、5℃、10℃、20℃、30℃、及び37℃のいずれでもよい。 (A) The melting point (hereinafter, also referred to as “Tm”) and the crystallization temperature (hereinafter, also referred to as “Tc”) of the liquid crystal resin are not particularly limited. The difference between Tm and Tc Tm-Tc is preferably 45 ° C. or lower, more preferably 42 ° C. or lower, and even more preferably 40 ° C. or lower, in that blister generation is easily suppressed and mechanical strength is easily maintained. The lower limit of Tm-Tc is not particularly limited, and may be any of 0 ° C, 1 ° C, 5 ° C, 10 ° C, 20 ° C, 30 ° C, and 37 ° C.

本発明の液晶性樹脂組成物において、(A)液晶性樹脂の好ましい含有量は、50〜75質量%である。(A)成分の含有量が上記範囲内であると、得られる組成物は、流動性を維持しつつ、ブリスター発生を抑制しやすい。(A)成分の含有量は、より好ましくは53〜70質量%、更により好ましくは55〜68質量%である。 In the liquid crystal resin composition of the present invention, the preferable content of the liquid crystal resin (A) is 50 to 75% by mass. When the content of the component (A) is within the above range, the obtained composition tends to suppress the generation of blisters while maintaining the fluidity. The content of the component (A) is more preferably 53 to 70% by mass, and even more preferably 55 to 68% by mass.

[(B)ウィスカー]
本発明に係る液晶性樹脂組成物には、ウィスカーが含まれる。本発明に係る液晶性樹脂組成物にウィスカーが含まれることにより、得られる組成物は、機械的強度を維持しつつ、ブリスター発生を抑制しやすい。ウィスカーは、1種単独で又は2種以上組み合わせて使用することができる。
[(B) Whisker]
The liquid crystal resin composition according to the present invention includes whiskers. By including the whiskers in the liquid crystal resin composition according to the present invention, the obtained composition tends to suppress the generation of blisters while maintaining the mechanical strength. The whiskers can be used alone or in combination of two or more.

(B)ウィスカーの平均繊維長は、好ましくは50〜200μmであり、より好ましくは100〜170μmであり、更により好ましくは120〜150μmである。上記平均繊維長が上記範囲内であると、得られる組成物は、機械的強度を維持しつつ、ブリスター発生をより抑制しやすい。なお、平均繊維長は実体顕微鏡画像をCCDカメラからPCに取り込み、画像測定機によって画像処理手法により測定された値を採用する。 (B) The average fiber length of the whiskers is preferably 50 to 200 μm, more preferably 100 to 170 μm, and even more preferably 120 to 150 μm. When the average fiber length is within the above range, the obtained composition is more likely to suppress the generation of blisters while maintaining the mechanical strength. The average fiber length is a value measured by an image processing method by an image measuring machine by capturing a stereomicroscopic image from a CCD camera into a PC.

(B)ウィスカーの好ましい平均繊維径は1〜15μm以下であり、より好ましい平均繊維径は5〜10μmである。上記平均繊維径が上記範囲内であると、得られる組成物は、機械的強度を維持しつつ、ブリスター発生をより抑制しやすい。なお、平均繊維径は実体顕微鏡画像をCCDカメラからPCに取り込み、画像測定機によって画像処理手法により測定された値を採用する。 (B) The whisker has a preferable average fiber diameter of 1 to 15 μm or less, and a more preferable average fiber diameter of 5 to 10 μm. When the average fiber diameter is within the above range, the obtained composition is more likely to suppress the generation of blisters while maintaining the mechanical strength. The average fiber diameter is a value measured by an image processing method using a stereomicroscope image taken from a CCD camera into a PC and an image measuring machine.

(B)ウィスカーとしては、特に限定されず、例えば、チタン酸カリウムウィスカー、ケイ酸カルシウムウィスカー(ウォラストナイト)、炭酸カルシウムウィスカー、酸化亜鉛ウィスカー、ホウ酸アルミニウムウィスカー、窒化珪素ウィスカー、三窒化珪素ウィスカー、塩基性硫酸マグネシウムウィスカー、チタン酸バリウムウィスカー、炭化珪素ウィスカー、ボロンウィスカーが挙げられ、入手性等の点で、チタン酸カリウムウィスカー、ケイ酸カルシウムウィスカー(ウォラストナイト)、炭酸カルシウムウィスカー、酸化亜鉛ウィスカー、ホウ酸アルミニウムウィスカー等が好ましく、ケイ酸カルシウムウィスカー(ウォラストナイト)がより好ましい。なお、本発明の液晶性樹脂組成物中の(B)ウィスカーの形状と、配合される前の(B)ウィスカーの形状とは異なる。上述の(B)ウィスカーの形状は配合される前の形状である。配合される前の形状が上述の通りであれば、機械的強度を維持しつつ、ブリスター発生が抑制された成形品を得やすい。 (B) The whiskers are not particularly limited, and are, for example, potassium titanate whiskers, calcium silicate whiskers (wollastonite), calcium carbonate whiskers, zinc oxide whiskers, aluminum borate whiskers, silicon nitride whiskers, silicon trinitride whiskers. , Basic magnesium sulfate whiskers, barium whiskers titanate, silicon carbide whiskers, boron whiskers, etc. In terms of availability, potassium titanate whiskers, calcium silicate whiskers (wollastonite), calcium carbonate whiskers, zinc oxide Whiskers, aluminum borate whiskers and the like are preferable, and calcium silicate whiskers (wollastonite) are more preferable. The shape of the (B) whiskers in the liquid crystal resin composition of the present invention is different from the shape of the (B) whiskers before being blended. The shape of the whisker (B) described above is the shape before blending. If the shape before blending is as described above, it is easy to obtain a molded product in which blister generation is suppressed while maintaining mechanical strength.

本発明の液晶性樹脂組成物において、(B)ウィスカーの好ましい含有量は、3〜30質量%である。(B)成分の含有量が上記範囲内であると、得られる組成物は、機械的強度を維持しつつ、ブリスター発生を抑制しやすい。(B)成分の含有量は、より好ましくは4〜30質量%(例えば、5〜30質量%又は4〜29質量%)、更により好ましくは5〜28質量%(例えば、5〜27.5質量%)である。 In the liquid crystal resin composition of the present invention, the preferable content of (B) whiskers is 3 to 30% by mass. When the content of the component (B) is within the above range, the obtained composition tends to suppress the generation of blisters while maintaining the mechanical strength. The content of the component (B) is more preferably 4 to 30% by mass (for example, 5 to 30% by mass or 4 to 29% by mass), still more preferably 5 to 28% by mass (for example, 5 to 27.5% by mass). Mass%).

[(C)板状充填剤]
本発明に係る液晶性樹脂組成物には、板状充填剤が含まれる。本発明に係る液晶性樹脂組成物に板状充填剤が含まれることにより、そり変形が抑制された成形品を得ることができる。板状充填剤は、1種単独で又は2種以上組み合わせて使用することができる。
[(C) Plate-shaped filler]
The liquid crystal resin composition according to the present invention contains a plate-like filler. By including the plate-shaped filler in the liquid crystal resin composition according to the present invention, it is possible to obtain a molded product in which warpage deformation is suppressed. The plate-shaped filler can be used alone or in combination of two or more.

本発明の液晶性樹脂組成物において、(C)板状充填剤の好ましい含有量は、10〜35質量%である。(C)成分の含有量が上記範囲内であると、得られる組成物からは、そり変形が抑制された成形品を得やすい。(C)成分の含有量は、より好ましくは10〜32質量%(例えば、11〜32質量%)、更により好ましくは12〜30質量%(例えば、12.5〜30質量%)である。 In the liquid crystal resin composition of the present invention, the preferable content of the (C) plate-like filler is 10 to 35% by mass. When the content of the component (C) is within the above range, it is easy to obtain a molded product in which warpage deformation is suppressed from the obtained composition. The content of the component (C) is more preferably 10 to 32% by mass (for example, 11 to 32% by mass), still more preferably 12 to 30% by mass (for example, 12.5 to 30% by mass).

本発明における板状充填剤としては、タルク、マイカ、ガラスフレーク、各種の金属箔等が挙げられる。液晶性樹脂組成物の流動性を悪化させることなく、液晶性樹脂組成物から得られる成形品のそり変形を抑制させるという点で、タルク及びマイカから選択される1種以上が好ましく、タルクがより好ましい。板状充填剤の平均粒径については、特に限定されず、薄肉部における流動性を考慮すると小さい方が望ましい。一方、液晶性樹脂組成物から得られるコネクター等の成形品のそり変形を小さくするためには、一定の大きさを維持している必要がある。具体的には、1〜100μmが好ましく、5〜50μmがより好ましい。 Examples of the plate-like filler in the present invention include talc, mica, glass flakes, and various metal foils. One or more selected from talc and mica are preferable, and talc is more preferable, in that the warp deformation of the molded product obtained from the liquid crystal resin composition is suppressed without deteriorating the fluidity of the liquid crystal resin composition. preferable. The average particle size of the plate-shaped filler is not particularly limited, and a smaller one is desirable in consideration of the fluidity in the thin-walled portion. On the other hand, in order to reduce the warp deformation of a molded product such as a connector obtained from the liquid crystal resin composition, it is necessary to maintain a certain size. Specifically, 1 to 100 μm is preferable, and 5 to 50 μm is more preferable.

〔タルク〕
本発明において使用できるタルクとしては、当該タルクの全固形分量に対して、Fe、Al及びCaOの合計含有量が2.5質量%以下であり、Fe及びAlの合計含有量が1.0質量%超2.0質量%以下であり、かつCaOの含有量が0.5質量%未満であるものが好ましい。即ち、本発明において使用できるタルクは、その主成分たるSiO及びMgOの他、Fe、Al及びCaOのうちの少なくとも1種を含有し、各成分が上記の含有量範囲で含有するものであってもよい。
〔talc〕
As the talc that can be used in the present invention, the total content of Fe 2 O 3 , Al 2 O 3 and Ca O is 2.5% by mass or less with respect to the total solid content of the talc, and Fe 2 O 3 and Al It is preferable that the total content of 2O 3 is more than 1.0% by mass and 2.0% by mass or less, and the content of CaO is less than 0.5% by mass. That is, the talc that can be used in the present invention contains at least one of Fe 2 O 3 , Al 2 O 3, and CaO in addition to SiO 2 and MgO, which are the main components thereof, and each component is in the above content range. It may be contained in.

上記タルクにおいて、Fe、Al及びCaOの合計含有量が2.5質量%以下であると、液晶性樹脂組成物の成形加工性及び当該液晶性樹脂組成物から成形されたコネクター等の成形品の耐熱性が悪化しにくい。そのため、Fe、Al及びCaOの合計含有量は、1.0質量%以上2.0質量%以下が好ましい。In the above talc, when the total content of Fe 2 O 3 , Al 2 O 3 and CaO was 2.5% by mass or less, the liquid crystal resin composition was molded from the molding processability and the liquid crystal resin composition. The heat resistance of molded products such as connectors does not deteriorate easily. Therefore, the total content of Fe 2 O 3 , Al 2 O 3 and CaO is preferably 1.0% by mass or more and 2.0% by mass or less.

また、上記タルクのうち、Fe及びAlの合計含有量が1.0質量%超のタルクは入手しやすい。また、上記タルクにおいて、Fe及びAlの合計含有量が2.0質量%以下であると、液晶性樹脂組成物の成形加工性及び当該液晶性樹脂組成物から成形されたコネクター等の成形品の耐熱性が悪化しにくい。そのため、Fe及びAlの合計含有量は、1.0質量%超1.7質量%以下が好ましい。Further, among the above talcs, talc having a total content of Fe 2 O 3 and Al 2 O 3 of more than 1.0% by mass is easily available. Further, in the above talc, when the total content of Fe 2 O 3 and Al 2 O 3 is 2.0% by mass or less, the liquid crystal resin composition is molded from the moldability and the liquid crystal resin composition. The heat resistance of molded products such as connectors does not deteriorate easily. Therefore, the total content of Fe 2 O 3 and Al 2 O 3 is preferably more than 1.0% by mass and 1.7% by mass or less.

また、上記タルクにおいて、CaOの含有量が0.5質量%未満であると、液晶性樹脂組成物の成形加工性及び当該液晶性樹脂組成物から成形されたコネクター等の成形品の耐熱性が悪化しにくい。そのため、CaOの含有量は、0.01質量%以上0.4質量%以下が好ましい。 Further, in the above talc, when the CaO content is less than 0.5% by mass, the molding processability of the liquid crystal resin composition and the heat resistance of the molded product such as the connector molded from the liquid crystal resin composition are deteriorated. It is hard to get worse. Therefore, the CaO content is preferably 0.01% by mass or more and 0.4% by mass or less.

本発明におけるタルクの、レーザー回折法で測定した質量基準又は体積基準の累積平均粒子径(D50)は、成形品のそり変形の防止及び液晶性樹脂組成物の流動性の維持という観点から、4.0〜20.0μmであることが好ましく、10〜18μmであることがより好ましい。The mass-based or volume-based cumulative average particle diameter (D 50 ) of talc in the present invention measured by a laser diffraction method is determined from the viewpoint of preventing warpage deformation of the molded product and maintaining the fluidity of the liquid crystal resin composition. It is preferably 4.0 to 20.0 μm, more preferably 10 to 18 μm.

〔マイカ〕
マイカとは、アルミニウム、カリウム、マグネシウム、ナトリウム、鉄等を含んだケイ酸塩鉱物の粉砕物である。本発明において使用できるマイカとしては、白雲母、金雲母、黒雲母、人造雲母等が挙げられるが、これらのうち色相が良好であり、低価格であるという点で白雲母が好ましい。
[Mica]
Mica is a pulverized product of silicate minerals containing aluminum, potassium, magnesium, sodium, iron and the like. Examples of mica that can be used in the present invention include muscovite, phlogopite, biotite, and artificial mica. Of these, muscovite is preferable because it has a good hue and is inexpensive.

また、マイカの製造において、鉱物を粉砕する方法としては、湿式粉砕法及び乾式粉砕法が知られている。湿式粉砕法とは、マイカ原石を乾式粉砕機にて粗粉砕した後、水を加えてスラリー状態にて湿式粉砕で本粉砕し、その後、脱水、乾燥を行う方法である。湿式粉砕法と比較して、乾式粉砕法は低コストで一般的な方法であるが、湿式粉砕法を用いると、鉱物を薄く細かく粉砕することがより容易である。後述する好ましい平均粒径及び厚みを有するマイカが得られるという理由で、本発明においては薄く細かい粉砕物を使用することが好ましい。したがって、本発明においては、湿式粉砕法により製造されたマイカを使用するのが好ましい。 Further, in the production of mica, a wet pulverization method and a dry pulverization method are known as methods for pulverizing minerals. The wet pulverization method is a method in which rough mica is roughly pulverized by a dry pulverizer, water is added, and the main pulverization is performed by wet pulverization in a slurry state, and then dehydration and drying are performed. Although the dry pulverization method is a low-cost and general method as compared with the wet pulverization method, it is easier to pulverize the mineral thinly and finely by using the wet pulverization method. In the present invention, it is preferable to use a thin and fine pulverized product because mica having a preferable average particle size and thickness described later can be obtained. Therefore, in the present invention, it is preferable to use mica produced by the wet pulverization method.

また、湿式粉砕法においては、被粉砕物を水に分散させる工程が必要であるため、被粉砕物の分散効率を高めるために、被粉砕物に凝集沈降剤及び/又は沈降助剤を加えることが一般的である。本発明において使用できる凝集沈降剤及び沈降助剤としては、ポリ塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、硫酸第一鉄、硫酸第二鉄、塩化コッパラス、ポリ硫酸鉄、ポリ塩化第二鉄、鉄−シリカ無機高分子凝集剤、塩化第二鉄−シリカ無機高分子凝集剤、消石灰(Ca(OH))、苛性ソーダ(NaOH)、ソーダ灰(NaCO)等が挙げられる。これらの凝集沈降剤及び沈降助剤は、pHがアルカリ性又は酸性である。本発明で使用するマイカは、湿式粉砕する際に凝集沈降剤及び/又は沈降助剤を使用していないものが好ましい。凝集沈降剤及び/又は沈降助剤で処理されていないマイカを使用すると、液晶性樹脂組成物中のポリマーの分解が生じにくく、多量のガス発生やポリマーの分子量低下等が起きにくいため、得られるコネクター等の成形品の性能をより良好に維持するのが容易である。Further, since the wet pulverization method requires a step of dispersing the object to be crushed in water, a coagulation sedimentation agent and / or a sedimentation aid is added to the object to be pulverized in order to improve the dispersion efficiency of the object to be pulverized. Is common. Examples of the coagulation sedimentation agent and sedimentation aid that can be used in the present invention include polyaluminum chloride, aluminum sulfate, ferrous sulfate, ferric sulfate, copper chloride, polyiron sulfate, ferric chloride, and iron-silica inorganic high. Examples thereof include a molecular flocculant, a ferric chloride-silica inorganic polymer flocculant, slaked lime (Ca (OH) 2 ), caustic soda (NaOH), and soda ash (Na 2 CO 3 ). These coagulation sedimentation agents and sedimentation aids have an alkaline or acidic pH. The mica used in the present invention is preferably one that does not use a coagulation sedimentation agent and / or a sedimentation aid during wet pulverization. When mica not treated with the coagulation sedimentation agent and / or the sedimentation aid is used, the polymer in the liquid crystal resin composition is less likely to be decomposed, and a large amount of gas is less likely to be generated or the molecular weight of the polymer is less likely to decrease. It is easy to maintain better performance of molded products such as connectors.

本発明において使用できるマイカは、マイクロトラックレーザー回折法により測定した平均粒径が10〜100μmであるものが好ましく、平均粒径が20〜80μmであるものが特に好ましい。マイカの平均粒径が10μm以上であると、成形品の剛性に対する改良効果が十分となりやすいため好ましい。マイカの平均粒径が100μm以下であると、成形品の剛性の向上が十分となりやすく、ウェルド強度も十分となりやすいため好ましい。更に、マイカの平均粒径が100μm以下であると、本発明のコネクター等を成形するのに十分な流動性を確保しやすい。 The mica that can be used in the present invention preferably has an average particle size of 10 to 100 μm measured by a microtrack laser diffraction method, and particularly preferably an average particle size of 20 to 80 μm. When the average particle size of mica is 10 μm or more, the effect of improving the rigidity of the molded product is likely to be sufficient, which is preferable. When the average particle size of mica is 100 μm or less, the rigidity of the molded product is likely to be sufficiently improved, and the weld strength is also likely to be sufficient, which is preferable. Further, when the average particle size of mica is 100 μm or less, it is easy to secure sufficient fluidity for molding the connector or the like of the present invention.

本発明において使用できるマイカの厚みは、電子顕微鏡の観察により実測した厚みが0.01〜1μmであることが好ましく、0.03〜0.3μmであることが特に好ましい。マイカの厚みが0.01μm以上であると、液晶性樹脂組成物の溶融加工の際にマイカが割れにくくなるため、成形品の剛性が向上しやすい可能性があるため好ましい。マイカの厚みが1μm以下であると、成形品の剛性に対する改良効果が十分となりやすいため好ましい。 The thickness of mica that can be used in the present invention is preferably 0.01 to 1 μm, particularly preferably 0.03 to 0.3 μm, as measured by observation with an electron microscope. When the thickness of the mica is 0.01 μm or more, the mica is less likely to crack during the melt processing of the liquid crystal resin composition, and the rigidity of the molded product may be easily improved, which is preferable. When the thickness of mica is 1 μm or less, the effect of improving the rigidity of the molded product is likely to be sufficient, which is preferable.

本発明において使用できるマイカは、シランカップリング剤等で表面処理されていてもよく、かつ/又は、結合剤で造粒し顆粒状とされていてもよい。 The mica that can be used in the present invention may be surface-treated with a silane coupling agent or the like, and / or may be granulated with a binder to form granules.

[その他の成分]
本発明に係る液晶性樹脂組成物には、本発明の効果を害さない範囲で、その他の重合体、その他の充填剤、一般に合成樹脂に添加される公知の物質、即ち、酸化防止剤や紫外線吸収剤等の安定剤、帯電防止剤、難燃剤、染料や顔料等の着色剤、潤滑剤、離型剤、結晶化促進剤、結晶核剤等も要求性能に応じ適宜添加することができる。その他の充填剤とは、(B)ウィスカー及び(C)板状充填剤以外の充填剤をいい、例えば、シリカ等の粒状充填剤が挙げられる。
[Other ingredients]
The liquid crystal resin composition according to the present invention includes other polymers, other fillers, and known substances generally added to synthetic resins, that is, antioxidants and ultraviolet rays, as long as the effects of the present invention are not impaired. Stabilizers such as absorbents, antistatic agents, flame retardants, colorants such as dyes and pigments, lubricants, mold release agents, crystallization accelerators, crystal nucleating agents and the like can also be appropriately added depending on the required performance. The other fillers refer to fillers other than (B) whiskers and (C) plate-shaped fillers, and examples thereof include granular fillers such as silica.

[液晶性樹脂組成物の調製方法]
本発明の液晶性樹脂組成物の調製方法は特に限定されない。例えば、上記(A)〜(C)成分を配合して、これらを1軸又は2軸押出機を用いて溶融混練処理することで、液晶性樹脂組成物の調製が行われる。
[Method for preparing liquid crystal resin composition]
The method for preparing the liquid crystal resin composition of the present invention is not particularly limited. For example, the liquid crystal resin composition is prepared by blending the above components (A) to (C) and melt-kneading them with a single-screw or twin-screw extruder.

本発明の液晶性樹脂組成物は、好ましくはコネクター用であり、前記コネクターは、前記液晶性樹脂組成物の成形品からなり、前記成形品は、厚肉部と薄肉部との肉厚差が0.5mm以上である偏肉構造を有し、前記成形品のゲート部から前記厚肉部に至る経路が前記薄肉部を経由する形状を有する。前記成形品は、上述の形状を有するため、その製造時には、溶融した液晶性樹脂組成物が薄肉部から厚肉部へ流動することが必要である。本発明の液晶性樹脂組成物は、単に、厚肉部と薄肉部との肉厚差が0.5mm以上である偏肉構造を有するだけではなく、薄肉部から厚肉部への液晶性樹脂組成物の流動が必要な成形品からなるコネクターにおいて、ブリスターの発生を効果的に抑制することができる。なお、かかるコネクターの代表例としては、DDRコネクター等のメモリーモジュール用コネクター;SATAコネクター等のインターフェースコネクターが挙げられる。DDRコネクターとしては、例えば、DDR−DIMMコネクター、DDR2−DIMMコネクター、DDR−SO−DIMMコネクター、DDR2−SO−DIMMコネクター、DDR−Micro−DIMMコネクター、DDR2−Micro−DIMMコネクター等が挙げられる。 The liquid crystal resin composition of the present invention is preferably for a connector, the connector is made of a molded product of the liquid crystal resin composition, and the molded product has a wall thickness difference between a thick portion and a thin portion. It has an uneven wall structure of 0.5 mm or more, and has a shape in which the path from the gate portion of the molded product to the thick portion passes through the thin portion. Since the molded product has the above-mentioned shape, it is necessary for the molten liquid crystal resin composition to flow from the thin portion to the thick portion at the time of its production. The liquid crystal resin composition of the present invention not only has an unbalanced wall structure in which the wall thickness difference between the thick portion and the thin portion is 0.5 mm or more, but also the liquid crystal resin from the thin portion to the thick portion. In a connector made of a molded product that requires the flow of the composition, the generation of blisters can be effectively suppressed. A typical example of such a connector is a connector for a memory module such as a DDR connector; an interface connector such as a SATA connector. Examples of the DDR connector include a DDR-DIMM connector, a DDR2-DIMM connector, a DDR-SO-DIMM connector, a DDR2-SO-DIMM connector, a DDR-Micro-DIMM connector, a DDR2-Micro-DIMM connector and the like.

また、本発明の液晶性樹脂組成物は、好ましくはリフロー工程を経るコネクター用であり、前記リフロー工程は、プレヒートゾーンにおける加熱とリフローゾーンにおける加熱とを含み、前記プレヒートゾーンにおいて、設定温度は140〜170℃、処理時間は1〜3分間であり、前記リフローゾーンにおいて、設定温度は180〜210℃、処理時間は30〜120秒であるとともに、実測の平均温度は183℃以上、実測のピーク温度は220〜270℃である。前記プレヒートゾーンでは、温度を140〜170℃で1〜3分間維持することにより、半田ペーストが加熱され、ペースト内のフラックスが半田付けされる表面を適切に洗浄することができる。プレヒートゾーンにおける加熱後、例えば、オーブンの温度を毎秒1〜3℃で上昇させることによって、前記リフローゾーンにおける加熱に遷移することができる。前記リフローゾーンでは、設定温度が180〜210℃、処理時間が30〜120秒であることにより、コネクターの実温度が少なくとも60秒以上、183℃(半田の融点)以上になる結果、半田付けによる歪やブリッジ、低温状態での接続等を効果的に防ぐことができることに加え、実測のピーク温度220〜260℃での処理時間が30〜120秒維持されるため、十分なリフローを完結することができる。本発明の液晶性樹脂組成物は、上記リフロー工程を経るコネクターにおいて、ブリスターの発生を効果的に抑制することができる。 Further, the liquid crystal resin composition of the present invention is preferably for a connector that undergoes a reflow step, and the reflow step includes heating in the preheat zone and heating in the reflow zone, and the set temperature is 140 in the preheat zone. The temperature is ~ 170 ° C. and the treatment time is 1 to 3 minutes. In the reflow zone, the set temperature is 180 to 210 ° C., the treatment time is 30 to 120 seconds, the average temperature of the actual measurement is 183 ° C. or higher, and the peak of the actual measurement. The temperature is 220 to 270 ° C. In the preheat zone, by maintaining the temperature at 140 to 170 ° C. for 1 to 3 minutes, the solder paste is heated, and the surface to which the flux in the paste is soldered can be appropriately cleaned. After heating in the preheat zone, the transition to heating in the reflow zone can be made, for example, by raising the oven temperature at 1-3 ° C. per second. In the reflow zone, since the set temperature is 180 to 210 ° C. and the processing time is 30 to 120 seconds, the actual temperature of the connector becomes at least 60 seconds or more and 183 ° C. (melting point of solder) or more, resulting in soldering. In addition to being able to effectively prevent distortion, bridging, connection in low temperature conditions, etc., the processing time at the measured peak temperature of 220 to 260 ° C is maintained for 30 to 120 seconds, so sufficient reflow should be completed. Can be done. The liquid crystal resin composition of the present invention can effectively suppress the generation of blisters in the connector that has undergone the above reflow process.

以下、実施例により本発明を更に詳しく説明するが、本発明は以下の実施例に限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

(A)液晶性樹脂
(液晶性ポリマー1の製造方法)
撹拌機、還流カラム、モノマー投入口、窒素導入口、減圧/流出ラインを備えた重合容器に、以下の原料モノマー、金属触媒、アシル化剤を仕込み、窒素置換を開始した。
(I)4−ヒドロキシ安息香酸:1380g(60モル%)(HBA)
(II)6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸:157g(5モル%)(HNA)
(III)テレフタル酸:484g(17.5モル%)(TA)
(IV)4,4’−ジヒドロキシビフェニル:388g(12.5モル%)(BP)
(V)4−アセトキシアミノフェノール:17.2g(5モル%)(APAP)
酢酸カリウム触媒:110mg
無水酢酸:1659g
(A) Liquid crystal resin (method for producing liquid crystal polymer 1)
The following raw material monomers, metal catalysts, and acylating agents were charged into a polymerization vessel equipped with a stirrer, a reflux column, a monomer inlet, a nitrogen inlet, and a depressurization / outflow line, and nitrogen substitution was started.
(I) 4-Hydroxybenzoic acid: 1380 g (60 mol%) (HBA)
(II) 6-Hydroxy-2-naphthoic acid: 157 g (5 mol%) (HNA)
(III) Terephthalic acid: 484 g (17.5 mol%) (TA)
(IV) 4,4'-dihydroxybiphenyl: 388 g (12.5 mol%) (BP)
(V) 4-acetoxyaminophenol: 17.2 g (5 mol%) (APAP)
Potassium acetate catalyst: 110 mg
Acetic anhydride: 1659 g

重合容器に原料を仕込んだ後、反応系の温度を140℃に上げ、140℃で1時間反応させた。その後、更に340℃まで4.5時間かけて昇温し、そこから15分かけて10Torr(即ち、1330Pa)まで減圧して、酢酸、過剰の無水酢酸、その他の低沸分を留出させながら溶融重合を行った。撹拌トルクが所定の値に達した後、窒素を導入して減圧状態から常圧を経て加圧状態にして、重合容器の下部からポリマーを排出し、ストランドをペレタイズしてペレット化した。得られたペレットの融点は336℃、融点と結晶化温度との差Tm−Tcは40℃、溶融粘度は20Pa・sであった。 After charging the raw materials into the polymerization vessel, the temperature of the reaction system was raised to 140 ° C., and the reaction was carried out at 140 ° C. for 1 hour. Then, the temperature is further raised to 340 ° C. over 4.5 hours, and then the pressure is reduced to 10 Torr (that is, 1330 Pa) over 15 minutes while distilling acetic acid, excess acetic anhydride, and other low boiling points. Melt polymerization was performed. After the stirring torque reached a predetermined value, nitrogen was introduced to bring the mixture from a reduced pressure state to a pressurized state through normal pressure, the polymer was discharged from the lower part of the polymerization vessel, and the strands were pelletized and pelletized. The melting point of the obtained pellet was 336 ° C., the difference Tm-Tc between the melting point and the crystallization temperature was 40 ° C., and the melt viscosity was 20 Pa · s.

(液晶性ポリマー2の製造方法)
撹拌機、還流カラム、モノマー投入口、窒素導入口、減圧/流出ラインを備えた重合容器に、以下の原料モノマー、脂肪酸金属塩触媒、アシル化剤を仕込み、窒素置換を開始した。
(I)4−ヒドロキシ安息香酸1385g(60モル%)(HBA)
(II)6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸88g(2.8モル%)(HNA)
(III)テレフタル酸504g(18.15モル%)(TA)
(IV)イソフタル酸19g(0.7モル%)(IA)
(V)4,4’−ジヒドロキシビフェニル415g(13.35モル%)(BP)
(VI)N−アセチル−p−アミノフェノール126g(5モル%)(APAP)
酢酸カリウム触媒120mg
無水酢酸1662g
原料を仕込んだ後、反応系の温度を140℃に上げ、140℃で1時間反応させた。その後、更に360℃まで5.5時間かけて昇温し、そこから20分かけて10Torr(即ち1330Pa)まで減圧にして、酢酸、過剰の無水酢酸、その他の低沸分を留出させながら溶融重合を行った。撹拌トルクが所定の値に達した後、窒素を導入して減圧状態から常圧を経て加圧状態にして、重合容器の下部からポリマーを排出し、ストランドをペレタイズしてペレット化した。得られたペレットの融点は345℃、Tm−Tcは37℃、溶融粘度は10Pa・sであった。
(Manufacturing method of liquid crystal polymer 2)
The following raw material monomers, fatty acid metal salt catalysts, and acylating agents were charged into a polymerization vessel equipped with a stirrer, a reflux column, a monomer inlet, a nitrogen inlet, and a depressurization / outflow line, and nitrogen substitution was started.
(I) 4-Hydroxybenzoic acid 1385 g (60 mol%) (HBA)
(II) 6-Hydroxy-2-naphthoic acid 88 g (2.8 mol%) (HNA)
(III) 504 g (18.15 mol%) of terephthalic acid (TA)
(IV) Isophthalic acid 19 g (0.7 mol%) (IA)
(V) 4,4'-Dihydroxybiphenyl 415 g (13.35 mol%) (BP)
(VI) 126 g (5 mol%) of N-acetyl-p-aminophenol (APAP)
Potassium acetate catalyst 120 mg
1662 g of acetic anhydride
After charging the raw materials, the temperature of the reaction system was raised to 140 ° C., and the reaction was carried out at 140 ° C. for 1 hour. Then, the temperature is further raised to 360 ° C. over 5.5 hours, and then the pressure is reduced to 10 Torr (that is, 1330 Pa) over 20 minutes to melt acetic acid, excess acetic anhydride, and other low boiling points. Polymerization was performed. After the stirring torque reached a predetermined value, nitrogen was introduced to bring the mixture from a reduced pressure state to a pressurized state through normal pressure, the polymer was discharged from the lower part of the polymerization vessel, and the strands were pelletized and pelletized. The obtained pellet had a melting point of 345 ° C., a Tm-Tc of 37 ° C., and a melt viscosity of 10 Pa · s.

(液晶性ポリマー3の製造方法)
撹拌機、還流カラム、モノマー投入口、窒素導入口、減圧/流出ラインを備えた重合容器に、以下の原料モノマー、金属触媒、アシル化剤を仕込み、窒素置換を開始した。
(I)4−ヒドロキシ安息香酸:1040g(48モル%)(HBA)
(II)6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸:89g(3モル%)(HNA)
(III)テレフタル酸:547g(21モル%)(TA)
(IV)イソフタル酸:91g(3.5モル%)(IA)
(V)4,4’−ジヒドロキシビフェニル:716g(24.5モル%)(BP)
酢酸カリウム触媒:110mg
無水酢酸:1644g
(Manufacturing method of liquid crystal polymer 3)
The following raw material monomers, metal catalysts, and acylating agents were charged into a polymerization vessel equipped with a stirrer, a reflux column, a monomer inlet, a nitrogen inlet, and a depressurization / outflow line, and nitrogen substitution was started.
(I) 4-Hydroxybenzoic acid: 1040 g (48 mol%) (HBA)
(II) 6-Hydroxy-2-naphthoic acid: 89 g (3 mol%) (HNA)
(III) Terephthalic acid: 547 g (21 mol%) (TA)
(IV) Isophthalic acid: 91 g (3.5 mol%) (IA)
(V) 4,4'-Dihydroxybiphenyl: 716 g (24.5 mol%) (BP)
Potassium acetate catalyst: 110 mg
Acetic anhydride: 1644 g

重合容器に原料を仕込んだ後、反応系の温度を140℃に上げ、140℃で1時間反応させた。その後、更に360℃まで5.5時間かけて昇温し、そこから20分かけて5Torr(即ち、667Pa)まで減圧して、酢酸、過剰の無水酢酸、その他の低沸分を留出させながら溶融重合を行った。撹拌トルクが所定の値に達した後、窒素を導入して減圧状態から常圧を経て加圧状態にして、重合容器の下部からポリマーを排出し、ストランドをペレタイズしてペレット化した。得られたペレットの融点は355℃、Tm−Tcは48℃、溶融粘度は10Pa・sであった。
なお、液晶性ポリマー1〜3の溶融粘度は、後述する液晶性樹脂組成物の溶融粘度の測定方法と同様にして測定した。
After charging the raw materials into the polymerization vessel, the temperature of the reaction system was raised to 140 ° C., and the reaction was carried out at 140 ° C. for 1 hour. Then, the temperature is further raised to 360 ° C. over 5.5 hours, and then the pressure is reduced to 5 Torr (that is, 667 Pa) over 20 minutes while distilling acetic acid, excess acetic anhydride, and other low boiling points. Melt polymerization was performed. After the stirring torque reached a predetermined value, nitrogen was introduced to bring the mixture from a reduced pressure state to a pressurized state through normal pressure, the polymer was discharged from the lower part of the polymerization vessel, and the strands were pelletized and pelletized. The melting point of the obtained pellet was 355 ° C, Tm-Tc was 48 ° C, and the melt viscosity was 10 Pa · s.
The melt viscosities of the liquid crystal polymers 1 to 3 were measured in the same manner as the method for measuring the melt viscosity of the liquid crystal resin composition described later.

(充填剤)
(B)繊維状充填剤
ミルドファイバー:日本電気硝子(株)製EPH150M−01M、繊維径10.5μm、数平均繊維長150μm
ガラス繊維:日本電気硝子(株)製ECS03T−786H、繊維径10μm、長さ3mmのチョプドストランド
ケイ酸カルシウムウィスカー:NYCO Materials社製NYGLOS 8、数平均繊維長136μm、平均繊維径8μm
(C)板状充填剤
タルク:松村産業(株)製クラウンタルクPP、平均粒子径12.8μm
(D)球状充填剤
ガラスビーズ:ポッターズ・バロティーニ(株)製EGB731、平均粒子径20.0μm
(filler)
(B) Fibrous filler Mild fiber: EPH150M-01M manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., fiber diameter 10.5 μm, number average fiber length 150 μm
Glass fiber: ECS03T-786H manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., chopped strand with fiber diameter of 10 μm and length of 3 mm Calcium silicate whiskers: NYGLOS 8 manufactured by NYCO Materials, number average fiber length 136 μm, average fiber diameter 8 μm
(C) Plate-shaped filler talc: Crown talc PP manufactured by Matsumura Sangyo Co., Ltd., average particle size 12.8 μm
(D) Spherical filler Glass beads: EGB731 manufactured by Potters Barotini Co., Ltd., average particle diameter 20.0 μm

[液晶性樹脂組成物の製造]
上記成分を、表1、表2、又は表3に示す割合で二軸押出機((株)日本製鋼所製TEX30α型)を用いて、シリンダー温度350℃にて溶融混練し、液晶性樹脂組成物ペレットを得た。その際、実施例1〜11、比較例1〜4、6、7では、上記押出機のメインフィード口から液晶性樹脂を供給し、上記メインフィード口より押出方向後方に設けられたサイドフィード口から充填剤を供給した。一方、比較例5では、上記押出機のメインフィード口から液晶性樹脂及び充填剤を供給した。なお、表中の「%」は質量%を示す。
[Manufacturing of liquid crystal resin composition]
The above components are melt-kneaded at a cylinder temperature of 350 ° C. using a twin-screw extruder (TEX30α type manufactured by Japan Steel Works, Ltd.) at the ratio shown in Table 1, Table 2, or Table 3 to form a liquid crystal resin composition. A product pellet was obtained. At that time, in Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 4, 6 and 7, the liquid crystal resin is supplied from the main feed port of the extruder, and the side feed port provided behind the main feed port in the extrusion direction. The filler was supplied from. On the other hand, in Comparative Example 5, the liquid crystal resin and the filler were supplied from the main feed port of the extruder. In addition, "%" in the table shows mass%.

[融点の測定]
TAインスツルメント社製DSCにて、液晶性ポリマーを室温から20℃/分の昇温条件で測定した際に観測される吸熱ピーク温度(Tm1)の観測後、(Tm1+40)℃の温度で2分間保持した後、20℃/分の降温条件で室温まで一旦冷却した後、再度、20℃/分の昇温条件で測定した際に観測される吸熱ピークの温度を測定した。
[Measurement of melting point]
After observing the heat absorption peak temperature (Tm1) observed when the liquid crystal polymer was measured at a temperature rising condition of 20 ° C./min from room temperature with a DSC manufactured by TA Instruments, 2 at a temperature of (Tm1 + 40) ° C. After holding for 1 minute, the temperature was once cooled to room temperature under the temperature lowering condition of 20 ° C./min, and then the temperature of the heat absorption peak observed when the measurement was performed again under the temperature rising condition of 20 ° C./min was measured.

[結晶化温度の測定]
TAインスツルメント社製DSCにて、液晶性ポリマーを室温から20℃/分の昇温条件で測定した際に観測される吸熱ピーク温度(Tm1)の観測後、(Tm1+40)℃の温度で2分間保持した後、20℃/分の降温条件で測定した際に観測される発熱ピーク温度を測定した。
[Measurement of crystallization temperature]
After observing the heat absorption peak temperature (Tm1) observed when the liquid crystal polymer was measured at a temperature rising condition of 20 ° C./min from room temperature with a DSC manufactured by TA Instruments, 2 at a temperature of (Tm1 + 40) ° C. After holding for 1 minute, the exothermic peak temperature observed when measured under the temperature lowering condition of 20 ° C./min was measured.

[スウェル比の測定]
液晶性樹脂組成物のスウェル比を、上記ペレットを用いて測定した。具体的には、キャピラリー式レオメーター((株)東洋精機製作所製、キャピログラフ1D:ピストン径10mm)により、下記シリンダー温度、せん断速度2432sec−1の条件で、ISO 11443に準拠して流動性を測定する際に、内径1mm、長さ20mmのオリフィスから押し出されて膨張し又は収縮した後、寸法が安定した時点で、押出品の外径Dを測定した。オリフィスの内径をdとしたとき、D/dを算出し、得られた値をスウェル比とした。結果を表1又は表2に示す。
シリンダー温度:
350℃(実施例1、2、4〜11、比較例2〜7)
360℃(実施例3)
370℃(比較例1)
[Measurement of swell ratio]
The swell ratio of the liquid crystal resin composition was measured using the above pellets. Specifically, the fluidity is measured in accordance with ISO 11443 under the following conditions of cylinder temperature and shear rate 2432sec -1 by a capillary type Reometer (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd., Capillograph 1D: piston diameter 10 mm). The outer diameter D of the extruded product was measured when the dimensions became stable after being extruded from an orifice having an inner diameter of 1 mm and a length of 20 mm to expand or contract. When the inner diameter of the orifice was d, D / d was calculated and the obtained value was taken as the swell ratio. The results are shown in Table 1 or Table 2.
Cylinder temperature:
350 ° C (Examples 1, 2, 4 to 11, Comparative Examples 2 to 7)
360 ° C (Example 3)
370 ° C (Comparative Example 1)

[溶融粘度の測定]
液晶性樹脂組成物の溶融粘度を、上記ペレットを用いて測定した。具体的には、キャピラリー式レオメーター((株)東洋精機製作所製、キャピログラフ1D:ピストン径10mm)により、下記シリンダー温度、せん断速度1000sec−1の条件での見かけの溶融粘度をISO 11443に準拠して測定した。測定には、内径1mm、長さ20mmのオリフィスを用いた。結果を表1又は表2に示す。
シリンダー温度:
350℃(実施例1、2、4〜11、比較例2〜7)
360℃(実施例3)
370℃(比較例1)
[Measurement of melt viscosity]
The melt viscosity of the liquid crystal resin composition was measured using the pellets. Specifically, using a capillary rheometer (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd., Capillary Graph 1D: piston diameter 10 mm), the apparent melt viscosity under the following cylinder temperature and shear rate of 1000 sec -1 is based on ISO 11443. Was measured. An orifice having an inner diameter of 1 mm and a length of 20 mm was used for the measurement. The results are shown in Table 1 or Table 2.
Cylinder temperature:
350 ° C (Examples 1, 2, 4 to 11, Comparative Examples 2 to 7)
360 ° C (Example 3)
370 ° C (Comparative Example 1)

[荷重たわみ温度(DTUL)の測定]
上記ペレットを、成形機(住友重機械工業(株)製 「SE100DU」)を用いて、以下の成形条件で成形し、測定用試験片(80mm×10mm×4mm)を得た。この試験片を用いて、ISO75−1,2に準拠した方法で荷重たわみ温度を測定した。なお、曲げ応力としては、1.8MPaを用いた。結果を表1又は表2に示す。
〔成形条件〕
シリンダー温度:
350℃(実施例1、2、4〜11、比較例2〜7)
360℃(実施例3)
370℃(比較例1)
金型温度: 90℃
射出速度: 33mm/sec
[Measurement of deflection temperature under load (DTUL)]
The pellet was molded using a molding machine (“SE100DU” manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) under the following molding conditions to obtain a test piece for measurement (80 mm × 10 mm × 4 mm). Using this test piece, the deflection temperature under load was measured by a method compliant with ISO75-1 and ISO75-1. As the bending stress, 1.8 MPa was used. The results are shown in Table 1 or Table 2.
〔Molding condition〕
Cylinder temperature:
350 ° C (Examples 1, 2, 4 to 11, Comparative Examples 2 to 7)
360 ° C (Example 3)
370 ° C (Comparative Example 1)
Mold temperature: 90 ° C
Injection speed: 33 mm / sec

[曲げ試験]
上記ペレットを、成形機(住友重機械工業(株)製 「SE100DU」)を用いて、以下の成形条件で成形し、80mm×10mm×4mmの曲げ試験片を作製した。この試験片を用いて、ISO178に準拠し、曲げ強度及び曲げ弾性率を測定した。結果を表1又は表2に示す。
〔成形条件〕
シリンダー温度:
350℃(実施例1、2、4〜11、比較例2〜7)
360℃(実施例3)
370℃(比較例1)
金型温度: 90℃
射出速度: 33mm/sec
保圧: 50MPa
[Bending test]
The pellet was molded using a molding machine (“SE100DU” manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) under the following molding conditions to prepare a bending test piece of 80 mm × 10 mm × 4 mm. Using this test piece, bending strength and flexural modulus were measured according to ISO178. The results are shown in Table 1 or Table 2.
〔Molding condition〕
Cylinder temperature:
350 ° C (Examples 1, 2, 4 to 11, Comparative Examples 2 to 7)
360 ° C (Example 3)
370 ° C (Comparative Example 1)
Mold temperature: 90 ° C
Injection speed: 33 mm / sec
Holding pressure: 50 MPa

[平面度の測定]
上記ペレットを、成形機(住友重機械工業(株)製 「SE−100DU」)を用いて、以下の成形条件で成形し、80mm×80mm×1mmの平板状試験片を5枚作製した。1枚目の平板状試験片を水平面に静置し、(株)ミツトヨ製のCNC画像測定機(型式:QVBHU404−PRO1F)を用いて、上記平板状試験片上の9箇所において、上記水平面からの高さを測定し、得られた測定値から平均の高さを算出した。高さを測定した位置は、平板状試験片の主平面上に、この主平面の各辺からの距離が3mmとなるように、一辺が74mmの正方形を置いたときに、この正方形の各頂点、この正方形の各辺の中点、及びこの正方形の2本の対角線の交点に該当する位置である。上記水平面からの高さが上記平均の高さと同一であり、上記水平面と平行な面を基準面とした。上記9箇所で測定された高さの中から、基準面からの最大高さと最小高さとを選択し、両者の差を算出した。同様にして、他の4枚の平板状試験片についても上記の差を算出し、得られた5個の値を平均して、平面度の値とした。結果を表1又は表2に示す。
〔成形条件〕
シリンダー温度:
350℃(実施例1、2、4〜11、比較例2〜7)
360℃(実施例3)
370℃(比較例1)
金型温度: 90℃
射出速度: 33mm/sec
保圧: 60MPa
[Measurement of flatness]
The pellets were molded using a molding machine (“SE-100DU” manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) under the following molding conditions to prepare five flat test pieces of 80 mm × 80 mm × 1 mm. The first plate-shaped test piece was allowed to stand on a horizontal surface, and using a CNC image measuring machine (model: QVBHU404-PRO1F) manufactured by Mitutoyo Co., Ltd., at nine locations on the flat plate-shaped test piece, from the horizontal surface. The height was measured, and the average height was calculated from the obtained measured values. The position where the height was measured is when a square with a side of 74 mm is placed on the main plane of the flat plate-shaped test piece so that the distance from each side of this main plane is 3 mm, and each vertex of this square is placed. , The midpoint of each side of this square, and the position corresponding to the intersection of the two diagonal lines of this square. The height from the horizontal plane is the same as the average height, and a plane parallel to the horizontal plane is used as a reference plane. From the heights measured at the above nine points, the maximum height and the minimum height from the reference plane were selected, and the difference between the two was calculated. Similarly, the above difference was calculated for the other four flat plate-shaped test pieces, and the five values obtained were averaged to obtain the flatness value. The results are shown in Table 1 or Table 2.
〔Molding condition〕
Cylinder temperature:
350 ° C (Examples 1, 2, 4 to 11, Comparative Examples 2 to 7)
360 ° C (Example 3)
370 ° C (Comparative Example 1)
Mold temperature: 90 ° C
Injection speed: 33 mm / sec
Holding pressure: 60 MPa

[ブリスター温度の測定]
上記ペレットを、成形機(住友重機械工業(株)製 「SE100DU」)を用いて、以下の成形条件で成形し、ウェルド部を有する12.5mm×120mm×0.8mmの成形品を得た。この成形品を上記ウェルド部で二分割して得た断片を1検体とし、所定温度のホットプレスに5分間挟んだ。その後、目視にて上記検体の表面にブリスターが発生しているかどうかを調べた。ブリスター温度は、ブリスターの発生個数がゼロとなる最高温度とした。なお、上記所定温度は250〜300℃の範囲において10℃刻みで設定した。
〔成形条件〕
シリンダー温度:
350℃(実施 例1、2、4〜11、比較例2〜7)
360℃(実施例3)
370℃(比較例1)
金型温度: 90℃
射出速度: 33mm/sec
[Measurement of blister temperature]
The pellet was molded using a molding machine (“SE100DU” manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) under the following molding conditions to obtain a molded product of 12.5 mm × 120 mm × 0.8 mm having a weld portion. .. A fragment obtained by dividing this molded product into two parts at the weld portion was used as one sample and sandwiched in a hot press at a predetermined temperature for 5 minutes. Then, it was visually examined whether or not blisters were generated on the surface of the sample. The blister temperature was set to the maximum temperature at which the number of blisters generated was zero. The predetermined temperature was set in the range of 250 to 300 ° C. in increments of 10 ° C.
〔Molding condition〕
Cylinder temperature:
350 ° C (Examples 1, 2, 4 to 11, Comparative Examples 2 to 7)
360 ° C (Example 3)
370 ° C (Comparative Example 1)
Mold temperature: 90 ° C
Injection speed: 33 mm / sec

[段差感度ブリスター評価]
上記ペレットを、成形機((株)ソディック製 「TR100EH」)を用いて、以下の成形条件で成形し、図3に示すような、段差0.5mm/0.4mm又は段差0.2mm/0.3mmを有する12.9mm×73.0mm×0.8mmの成形品を得た。
〔成形条件〕
シリンダー温度:
350℃(実施例1、2、4〜11、比較例2〜7)
360℃(実施例3)
370℃(比較例1)
金型温度:80℃
射出速度:100、200、300、又は400mm/sec
[Step sensitivity blister evaluation]
The pellets were molded using a molding machine (“TR100EH” manufactured by Sodick Co., Ltd.) under the following molding conditions, and as shown in FIG. 3, a step of 0.5 mm / 0.4 mm or a step of 0.2 mm / 0. A 12.9 mm × 73.0 mm × 0.8 mm molded product having a thickness of 0.3 mm was obtained.
〔Molding condition〕
Cylinder temperature:
350 ° C (Examples 1, 2, 4 to 11, Comparative Examples 2 to 7)
360 ° C (Example 3)
370 ° C (Comparative Example 1)
Mold temperature: 80 ° C
Injection rate: 100, 200, 300, or 400 mm / sec

得られた成形品に対し、下記条件でIRリフローを行い、ブリスター発生の有無を目視で観察した。なお、上記成形品はゲートを境に異なる段差を有するところ、本評価においては各段差を独立した検体と見なした。段差4条件×射出速度4条件の計16条件の各々について、10本の検体の評価を行い、合計160本の検体中で、ブリスターが発生した検体の本数をカウントした。結果を表1又は表2に示す。
[IRリフロー条件]
測定機:日本パルス技術研究所製大型卓上リフローハンダ付け装置RF−300(遠赤外線ヒーター使用)
試料送り速度:140mm/sec
リフロー炉通過時間:5分
プレヒートゾーンの設定温度:150℃(処理時間:60秒)
実測の平均温度:150℃
リフローゾーンの設定温度:190℃(処理時間:60秒)
実測の平均温度:230℃以上
実則のピーク温度:251℃
The obtained molded product was subjected to IR reflow under the following conditions, and the presence or absence of blisters was visually observed. Since the molded product has different steps at the gate, each step was regarded as an independent sample in this evaluation. Ten samples were evaluated for each of a total of 16 conditions (4 steps 4 conditions × 4 injection speed conditions), and the number of samples in which blister was generated was counted out of a total of 160 samples. The results are shown in Table 1 or Table 2.
[IR reflow conditions]
Measuring machine: Large desktop reflow soldering device RF-300 manufactured by Japan Pulse Technology Laboratory (using far infrared heater)
Sample feed rate: 140 mm / sec
Reflow furnace transit time: 5 minutes Preheat zone set temperature: 150 ° C (processing time: 60 seconds)
Measured average temperature: 150 ° C
Reflow zone set temperature: 190 ° C (processing time: 60 seconds)
Measured average temperature: 230 ° C or higher Actual peak temperature: 251 ° C

[DDR型ブリスター評価]
下記成形条件で、液晶性樹脂組成物を射出成形し(ゲート:トンネルゲート、ゲートサイズ:φ0.75mm)、図1に示すような、全体の大きさ70.0mm×26.0mm×4.0mmt、ピッチ間距離0.6mm、ピン孔数100×2のDDR−DIMMコネクターを得た。
〔成形条件〕
成形機:住友重機械工業SE30DUZ
シリンダー温度:
350℃(実施例1、2、4〜11、比較例2〜7)
360℃(実施例3)
370℃(比較例1)
金型温度:80℃
射出速度:200mm/sec
[DDR type blister evaluation]
The liquid crystal resin composition is injection-molded under the following molding conditions (gate: tunnel gate, gate size: φ0.75 mm), and the overall size is 70.0 mm × 26.0 mm × 4.0 mmt as shown in FIG. , A DDR-DIMM connector having a pitch-to-pitch distance of 0.6 mm and a pin hole number of 100 × 2 was obtained.
〔Molding condition〕
Molding machine: Sumitomo Heavy Industries SE30DUZ
Cylinder temperature:
350 ° C (Examples 1, 2, 4 to 11, Comparative Examples 2 to 7)
360 ° C (Example 3)
370 ° C (Comparative Example 1)
Mold temperature: 80 ° C
Injection speed: 200 mm / sec

得られたコネクターに対し、下記条件でIRリフローを行い、ブリスター発生の有無を目視で観察した。結果を表1又は表2に示す。表中、ブリスター発生なしを「○」で、ブリスター発生ありを「×」で示す。
[IRリフロー条件]
測定機:日本パルス技術研究所製大型卓上リフローハンダ付け装置RF−300(遠赤外線ヒーター使用)
試料送り速度:140mm/sec
リフロー炉通過時間:5分
プレヒートゾーンの設定温度:150℃(処理時間:60秒)
実測の平均温度:150℃
リフローゾーンの設定温度:190℃(処理時間:60秒)
実測の平均温度:230℃以上
実測のピーク温度:251℃
The obtained connector was subjected to IR reflow under the following conditions, and the presence or absence of blisters was visually observed. The results are shown in Table 1 or Table 2. In the table, "○" indicates that no blisters have occurred, and "x" indicates that blisters have occurred.
[IR reflow conditions]
Measuring machine: Large desktop reflow soldering device RF-300 manufactured by Japan Pulse Technology Laboratory (using far infrared heater)
Sample feed rate: 140 mm / sec
Reflow furnace transit time: 5 minutes Preheat zone set temperature: 150 ° C (processing time: 60 seconds)
Measured average temperature: 150 ° C
Reflow zone set temperature: 190 ° C (processing time: 60 seconds)
Measured average temperature: 230 ° C or higher Measured peak temperature: 251 ° C

[FPC型ブリスター評価]
下記成形条件で、液晶性樹脂組成物を射出成形し(ゲート:トンネルゲート、ゲートサイズ:φ0.4mm)、図2に示すような、全体の大きさ17.6mm×4.00mm×1.16mm、ピッチ間距離0.5mm、ピン孔数30×2ピン、最小肉厚:0.12mmのFPCコネクターを得た。
〔成形条件〕
成形機:住友重機械工業、SE30DUZ
シリンダー温度:
350℃(実施例1、2、4〜11、比較例2〜7)
360℃(実施例3)
370℃(比較例1)
金型温度:80℃
射出速度:200mm/sec
保圧力:50MPa
保圧時間:0.5秒
冷却時間:10秒
スクリュー回転数:120rpm
スクリュー背圧:1.2MPa
[FPC type blister evaluation]
The liquid crystal resin composition is injection-molded under the following molding conditions (gate: tunnel gate, gate size: φ0.4 mm), and the overall size is 17.6 mm × 4.00 mm × 1.16 mm as shown in FIG. An FPC connector having a distance between pitches of 0.5 mm, a number of pin holes of 30 × 2 pins, and a minimum wall thickness of 0.12 mm was obtained.
〔Molding condition〕
Molding machine: Sumitomo Heavy Industries, SE30DUZ
Cylinder temperature:
350 ° C (Examples 1, 2, 4 to 11, Comparative Examples 2 to 7)
360 ° C (Example 3)
370 ° C (Comparative Example 1)
Mold temperature: 80 ° C
Injection speed: 200 mm / sec
Holding pressure: 50 MPa
Holding time: 0.5 seconds Cooling time: 10 seconds Screw rotation speed: 120 rpm
Screw back pressure: 1.2 MPa

得られたコネクターに対し、下記条件でIRリフローを行い、ブリスター発生の有無を目視で観察した。結果を表1又は表2に示す。表中、ブリスター発生なしを「○」で、ブリスター発生ありを「×」で示す。
[IRリフロー条件]
測定機:日本パルス技術研究所製大型卓上リフローハンダ付け装置RF−300(遠赤外線ヒーター使用)
試料送り速度:140mm/sec
リフロー炉通過時間:5分
プレヒートゾーンの設定温度:150℃(処理時間:60秒)
実測の平均温度:150℃
リフローゾーンの設定温度:190℃(処理時間:60秒)
実測の平均温度:230℃以上
実測のピーク温度:251℃
The obtained connector was subjected to IR reflow under the following conditions, and the presence or absence of blisters was visually observed. The results are shown in Table 1 or Table 2. In the table, "○" indicates that no blisters have occurred, and "x" indicates that blisters have occurred.
[IR reflow conditions]
Measuring machine: Large desktop reflow soldering device RF-300 manufactured by Japan Pulse Technology Laboratory (using far infrared heater)
Sample feed rate: 140 mm / sec
Reflow furnace transit time: 5 minutes Preheat zone set temperature: 150 ° C (processing time: 60 seconds)
Measured average temperature: 150 ° C
Reflow zone set temperature: 190 ° C (processing time: 60 seconds)
Measured average temperature: 230 ° C or higher Measured peak temperature: 251 ° C

Figure 0006837184
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表1、表2、及び表3から分かる通り、本発明の液晶性樹脂組成物は、(A)液晶性樹脂、(B)ウィスカー、及び(C)板状充填剤を含有し、スウェル比が1.00超であることにより、機械的強度を維持し、かつ、そり変形が抑制されるとともに、ブリスター発生が抑制された成形品を与えるものであった。 As can be seen from Tables 1, 2 and 3, the liquid crystal resin composition of the present invention contains (A) a liquid crystal resin, (B) a whiskers, and (C) a plate-like filler, and has a swell ratio. When the content exceeds 1.00, the mechanical strength is maintained, warpage deformation is suppressed, and blister generation is suppressed to give a molded product.

Claims (3)

(A)液晶性樹脂、
(B)ウィスカー、及び
(C)板状充填剤
を含有するコネクター用液晶性樹脂組成物であって、
前記(A)液晶性樹脂は、芳香族ポリエステルアミドであり、
前記(B)ウィスカーの平均繊維長は、50〜200μmであり、
前記液晶性樹脂組成物のスウェル比は、1.00超であり、
前記スウェル比は、前記(A)液晶性樹脂の融点よりも10〜20℃高いシリンダー温度、せん断速度2432sec−1の条件で、ISO 11443に準拠して流動性を測定する際に、内径1mm、長さ20mmのオリフィスから押し出された後、寸法が安定した押出品の外径Dを測定し、上記オリフィスの内径dとの比D/dを算出し、得られた値である液晶性樹脂組成物。
(A) Liquid crystal resin,
A liquid crystal resin composition for a connector containing (B) a whisker and (C) a plate-like filler.
The liquid crystal resin (A) is an aromatic polyester amide.
The average fiber length of the whiskers (B) is 50 to 200 μm.
The swell ratio of the liquid crystal resin composition is more than 1.00.
The swell ratio has an inner diameter of 1 mm when measuring the fluidity in accordance with ISO 11443 under the conditions of a cylinder temperature 10 to 20 ° C. higher than the melting point of the liquid crystal resin (A) and a shear rate of 2432 sec -1. After being extruded from an orifice having a length of 20 mm, the outer diameter D of the extruded product having stable dimensions was measured, the ratio D / d to the inner diameter d of the orifice was calculated, and the liquid crystal resin composition was obtained. Stuff.
求項1に記載のコネクター用液晶性樹脂組成物であって、
前記コネクターは、前記液晶性樹脂組成物の成形品からなり、
前記成形品は、厚肉部と薄肉部との肉厚差が0.5mm以上である偏肉構造を有し、前記成形品のゲート部から前記厚肉部に至る経路が前記薄肉部を経由する形状を有する液晶性樹脂組成物。
A connector for a liquid crystal resin composition according toMotomeko 1,
The connector is made of a molded product of the liquid crystal resin composition.
The molded product has an uneven wall thickness structure in which the wall thickness difference between the thick portion and the thin wall portion is 0.5 mm or more, and the path from the gate portion of the molded product to the thick wall portion passes through the thin wall portion. A liquid crystal resin composition having a shape to be molded.
求項1又は2に記載のコネクター用液晶性樹脂組成物であって、
前記コネクターは、リフロー工程を経るコネクターであり、
前記リフロー工程は、プレヒートゾーンにおける加熱とリフローゾーンにおける加熱とを含み、
前記プレヒートゾーンにおいて、設定温度は140〜170℃、処理時間は1〜3分間であり、
前記リフローゾーンにおいて、設定温度は180〜210℃、処理時間は30〜120秒であるとともに、実測の平均温度は183℃以上、実測のピーク温度は220〜270℃である液晶性樹脂組成物。
AMotomeko 1 or connector for a liquid crystal resin composition according to 2,
The connector is a connector that undergoes a reflow process.
The reflow step includes heating in the preheat zone and heating in the reflow zone.
In the preheat zone, the set temperature is 140 to 170 ° C. and the processing time is 1 to 3 minutes.
In the reflow zone, the liquid crystal resin composition has a set temperature of 180 to 210 ° C., a treatment time of 30 to 120 seconds, an actually measured average temperature of 183 ° C. or higher, and an actually measured peak temperature of 220 to 270 ° C.
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