JP7248458B2 - 表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、表示装置の技術に関し、表示領域内に画素と重ならない非表示領域（以降、透明領域という）がある表示装置に適用して有効な技術に関する。

特許文献１（特開２００６－３４３７２８号公報）には、映像表示部と透明表示部との間に遮光部が配置された表示装置が記載されている。また、特許文献２（米国特許出願公開第２０１７／０１２３４５２号明細書）には、カメラと重なる位置に透明領域が設けられた表示装置が記載されている。

特開２００６－３４３７２８号公報 米国特許出願公開第２０１７／０１２３４５２号明細書

表示装置に対して、表示領域内の非表示領域の面積を出来る限り小さくして、有効表示領域の占有率を増大させる要求がある。本願発明者は、この要求に対する取組の一環として、例えばカメラなどの部品を配置する領域の周囲を囲む位置まで表示領域の面積を拡大させる技術について検討した。平面視において、表示領域の内側にカメラなどの部品を配置する領域が存在する場合、表示領域に配置される多数の信号配線のレイアウトが課題になる。例えば、表示領域の内側に可視光透過性の透明領域を配置する場合、複数の信号配線が、透明領域と重ならないように、透明領域の周辺を迂回する必要がある。また例えば、透明領域の周辺では、迂回配線が密集して配置される。このため、隣り合う信号配線間でカップリングが生じると、信号の電位ズレの原因になる。

本発明の目的は、表示装置の性能を向上させる技術を提供することにある。

本発明の一態様である表示装置は、表示領域と、平面視において前記表示領域の内側にある透明領域と、平面視において前記表示領域と前記透明領域との間にある額縁領域と、を備える第１基板と、前記表示領域において前記第１基板上の第１導電層に形成され、第１方向に延びる複数の走査信号線と、前記表示領域において前記第１基板上の第２導電層に形成され、前記第１方向と交差する第２方向に延びる複数の映像信号線と、を有する。前記複数の映像信号線は、前記額縁領域に配置される第１迂回配線、および前記第１迂回配線の両端に接続され、かつ、前記第２方向に延びる２本の第１延在配線を有する第１映像信号線と、前記額縁領域に配置される第２迂回配線、および前記第２迂回配線の両端に接続され、かつ、前記第２方向に延びる２本の第２延在配線を有する第２映像信号線と、を含む。平面視において、前記第１映像信号線および前記第２映像信号線は、前記額縁領域で互いに交差する。

一実施の形態である表示装置の一例を示す表示面側の平面図である。 図１のＡ－Ａ線に沿った断面図である。 図１に示す表示装置が備える画素周辺の回路構成例を示す回路図である。 図２に示す表示装置の表示領域の拡大断面図である。 図３に示す複数の副画素のそれぞれに、映像信号を入力するイメージを示す説明図である。 図３に示す複数の副画素のそれぞれに、映像信号を入力するタイミングチャートの一例を示すチャート図である。 図１に示す透明領域周辺の第１導電層の拡大平面図である。 図１に示す透明領域周辺の第２導電層の拡大平面図である。 図８に示す第２導電層の一部分を拡大して示す拡大平面図である。 図９のＡ－Ａ線に沿った拡大断面図である。 図９に示す複数の映像信号線のうち、第３導電層に形成された配線を含む映像信号線の延在方向に沿った拡大断面図である。 図７に示す複数の走査信号線の構成例を示す平面図である。 図９に対する変形例である表示装置の第２導電層の一部分を拡大して示す拡大平面図である。 図９に対する他の変形例である表示装置の第２導電層の一部分を拡大して示す拡大平面図である。 図９に対する他の変形例である表示装置の第２導電層の一部分を拡大して示す拡大平面図である。 図１５のＡ－Ａ線に沿った拡大断面図である。 図１に示す表示装置の変形例である表示装置が備える透明領域の周囲の額縁領域に配置されるシール材の平面形状を示す拡大平面図である。 図１７のＡ－Ａ線に沿った拡大断面図である。 図１７および図１８に示す表示装置において、図１５に示すＡ－Ａ線に対応する断面における拡大断面図である。 図１９に対する変形例である表示装置の拡大断面図である。 図５に対する変形例である信号選択回路の動作方法のイメージを示す説明図である。 複数の映像信号配線の配列順序の例を示すイメージ図である。 図２２に示す配線レイアウトの変形例を示すイメージ図である。 図２３に示す配線レイアウトの変形例を示すイメージ図である。

以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一または関連する符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

また、以下の実施の形態では、表示装置の例として、電気光学層である液晶層を備えた液晶表示装置を取り上げて説明する。ただし、以下で説明する技術は、液晶表示装置の他、種々の変形例に適用できる。例えば、電気光学層は、液晶層の他、有機発光素子層、マイクロＬＥＤを含む無機発光素子層、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）シャッター、あるいは、電気泳動素子層など、電気的なエネルギーを印加することにより、光学特性が変化する素子を含んだ層であればよい。

本願では、平面視において、互いに隣り合うように配列される複数の配線（後述する走査信号線や映像信号線）の配線幅、配置ピッチ、あるいは、配置密度などの用語をもちいる場合がある。上記の用語は、以下のように定義される。配線幅とは、配線の延在方向（長手方向）に対して直交する方向の配線の長さである。配置ピッチとは、互いに隣り合う配線間の中心間距離である。配線密度とは、単位面積当たりに配線を構成する導体パターンが占める割合である。配線密度は、配線幅と配置ピッチ（中心間距離）との関係により規定される。すなわち、配線幅を定数とすると、配線密度は、配置ピッチと反比例する。また、配置ピッチを定数とすると、配線密度は配線幅に比例する。また、配線の離間距離とは、互いに隣り合う配線の間の距離である。なお、複数の配線のそれぞれは、幅方向の断面において、台形の断面形状を有する。この場合、隣り合う配線の離間距離とは、隣り合う配線それぞれが有する台形の底辺間の距離を意味する。また、配線幅とは、配線が有する台形の底辺の長さを意味する。また、本明細書において、ラインアンドスペースという用語を用いる場合があるが、このラインアンドスペースのラインとは、配線幅の意味であり、スペースとは離間距離の意味である。

また、液晶表示装置は、液晶層の液晶分子の配向を変化させるための電界の印加方向により、大きくは以下の２通りに分類される。すなわち、第１の分類として、表示装置の厚さ方向（あるいは面外方向）に電界が印加される、所謂、縦電界モードがある。縦電界モードには、例えばＴＮ（Twisted Nematic）モードや、ＶＡ（Vertical Alignment）モードなどがある。また、第２の分類として、表示装置の平面方向（あるいは面内方向）に電界が印加される、所謂、横電界モードがある。横電界モードには、例えばＩＰＳ（In-Plane Switching）モードや、ＩＰＳモードの一つであるＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードなどがある。以下で説明する技術は、縦電界モードおよび横電界モードのいずれにも適用できるが、以下で説明する実施の形態では、一例として、横電界モードの表示装置を取り上げて説明する。

（実施の形態１）
＜表示装置の構成＞
まず、表示装置の構成について説明する。図１は、本実施の形態の表示装置の一例を示す表示面側の平面図である。図１では、表示領域ＤＡと周辺領域ＰＦＡの境界、表示領域ＤＡと額縁領域ＦＲＡとの境界、および額縁領域ＦＲＡと透明領域ＴＲＡとの境界のそれぞれを二点鎖線で示している。また、図１では、シール材ＳＬＭが配置される領域をドットパターンで示している。図２は、図１のＡ－Ａ線に沿った断面図である。後述する図４に示すように、基板１０と基板２０との間には、液晶層ＬＱの他、複数の導電層や絶縁層があるが、図２では図示を省略している。図３は、図１に示す表示装置が備える画素周辺の回路構成例を示す回路図である。図４は、図２に示す表示装置の表示領域の拡大断面図である。図４では、基板１０の厚さ方向（図４に示すＺ方向）における走査信号線ＧＬと映像信号線ＳＬとの位置関係の例を示すため、図４とは異なる断面に設けられた走査信号線ＧＬを点線で示している。

図１に示すように、本実施の形態の表示装置ＤＳＰ１は、表示領域ＤＡを有する。表示領域ＤＡには、外部から供給される入力信号に応じて画像が形成される。表示領域ＤＡは、表示面を視た平面視において、表示装置ＤＳＰ１が画像を表示する有効領域である。また、表示装置ＤＳＰ１は、平面視において、表示領域ＤＡの周囲にある周辺領域（非表示領域）ＰＦＡを有する。なお、表示装置ＤＳＰ１は、表示領域ＤＡの周囲に周辺領域ＰＦＡを備えているが、変形例として、周縁部まで表示領域ＤＡになっている表示装置もある。以下で説明する技術は、表示領域ＤＡが、表示装置の周縁部まで広がっているタイプの表示装置にも適用できる。また、図１に示す表示装置ＤＳＰ１の表示領域ＤＡは四角形であるが、表示領域が多角形や円形など、四角形以外の形状であってもよい。例えば、表示領域ＤＡの４つの角部のそれぞれが、ラウンド形状になっている場合がある。

また、表示装置ＤＳＰ１は、平面視において、表示領域ＤＡの内側にある透明領域ＴＲＡと、額縁領域ＦＲＡと、を有する。また、透明領域ＴＲＡは単純に第１領域ＴＲＡ、額縁領域ＦＲＡは単純に第２領域ＦＲＡと表現してもよい。額縁領域ＦＲＡは、平面視において透明領域ＴＲＡの外縁に沿って透明領域ＴＲＡを囲み、表示領域ＤＡと透明領域ＴＲＡとの間にある。また、額縁領域ＦＲＡは後述する遮光膜ＢＭにより遮光されており、額縁領域ＦＲＡは、「遮光領域」と言い換えることもできる。透明領域ＴＲＡは、表示装置ＤＳＰ１に取り付けられるカメラなどの部品が配置される領域である。透明領域ＴＲＡは、カメラなどの部材に可視光を照射するため、可視光を透過するように形成されている。例えば、表示装置を構成する基板や偏光板には、透明領域ＴＲＡに開口部（貫通孔、ホール、あるいはノッチともいう）が設けられている。あるいは、透明領域ＴＲＡには、可視光透過性の部材（ガラス基板や絶縁膜等）が設けられる一方、金属配線などの遮光性部材が配置されていない。あるいは、透明領域ＴＲＡには、カメラなどの部材の機能に悪影響を及ぼさない程度の透明度を有していればよく、例えば表示領域に形成されたカラーフィルタを透明領域には配置しない、表示領域に形成されたブラックマトリクスの配線密度よりも透明領域ＴＲＡに形成されたブラックマトリクスの配線密度の方が小さい（疎である）、表示領域に形成された走査線及び映像信号線の配線密度よりも透明領域ＴＲＡに形成された走査線及び映像信号線の配線密度の方が小さい（疎である）、等であってもよい。なお、透明領域ＴＲＡや額縁領域ＦＲＡには、カメラの他、マイク、あるいはスピーカなどの部品が配置される場合もある。

図２に示すように、表示装置ＤＳＰ１は、液晶層ＬＱを介して対向するように貼り合せられた基板１０および基板２０を有している。基板１０および基板２０は、表示装置ＤＳＰ１の厚さ方向（Ｚ方向）において互いに対向する。基板１０は、液晶層ＬＱ（および基板２０）と対向する前面（主面、面）１０ｆを有する。また基板２０は、基板１０の前面１０ｆ（および液晶層ＬＱ）と対向する背面（主面、面）２０ｂを有する。基板１０は、スイッチング素子（能動素子）としての複数のトランジスタ（トランジスタ素子）Ｔｒ１（図３参照）がアレイ状に配置されたアレイ基板である。また、基板２０は、表示面側に設けられた基板である。基板２０は、アレイ基板に対向配置された基板という意味で、対向基板と言い換えることができる。

また、液晶層ＬＱは、基板１０の前面１０ｆと基板２０の背面２０ｂとの間にある。液晶層ＬＱは、可視光の透過状態を制御する電気光学層である。スイッチング素子を介して液晶層ＬＱの周辺に形成される電界の状態を制御することにより、そこを通過する光を変調する機能を備えている。基板１０および基板２０にある表示領域ＤＡは、図２に示すように液晶層ＬＱと重畳する。

また、基板１０と基板２０とは、シール材（接着材）ＳＬＭを介して接着される。図１に示すように、シール材ＳＬＭは、表示領域ＤＡの周囲を囲むように、周辺領域ＰＦＡに配置される。図２に示すように、シール材ＳＬＭの内側には、液晶層ＬＱがある。シール材ＳＬＭは、基板１０と基板２０との間に液晶を封入するシールとしての役割を果たす。また、シール材ＳＬＭは、基板１０と基板２０とを接着する、接着材としての役割を果たす。

また、表示装置ＤＳＰ１は、光学素子ＯＤ１と、光学素子ＯＤ２と、を有する。光学素子ＯＤ１は、基板１０とバックライトユニットＢＬとの間に配置される。光学素子ＯＤ２は、基板２０の表示面側、すなわち基板２０を挟んで基板１０の反対側に配置される。光学素子ＯＤ１および光学素子ＯＤ２は、それぞれ少なくとも偏光板を含んでおり、必要に応じて位相差板を含んでいてもよい。また上述のように透明領域ＴＲＡには透明性をより高めるため、透明性の阻害要因となり得る可能性のある光学素子ＯＤ１、ＯＤ２は形成されていない。より具体的には光学素子ＯＤ１、ＯＤ２は透明領域ＴＲＡの形状に沿って開口部（ホール若しくはノッチともいう）が設けられることになる。ただし、カメラなどの部材の機能を大きく阻害しないものであれば、光学素子ＯＤ１及びＯＤ２は透明領域ＴＲＡに形成されるものであってもよい。

また、表示装置ＤＳＰ１は、基板２０の表示面側を覆う、カバー部材ＣＶＭ（図２参照）を備えている。カバー部材ＣＶＭは、基板２０の背面（面）２０ｂの反対側の前面（面）１０ｆに対向する。基板２０は、Ｚ方向において、カバー部材ＣＶＭと基板１０の間にある。カバー部材ＣＶＭは、基板１０、２０や光学素子ＯＤ２を保護する保護部材であって、表示装置ＤＳＰ１の表示面側に配置されている。ただし、本実施の形態に対する変形例としては、カバー部材ＣＶＭが無い場合もある。

基板１０および基板２０のそれぞれは、可視光透過性（可視光が透過する特性）を備える透明な板材である。透明な板材である基板として、ガラス基板を例示することができる。また、基板１０や基板２０の構成材料として、ポリイミドやポリアミド、ポリカルボナート、あるいは、ポリエステルなどのポリマーを含む樹脂材料（可視光透過性の樹脂材料）を用いることもできる。また、ポリイミドなどの樹脂材料から成る基板の場合、基板が可撓性を備える。基板１０が可撓性を備える場合、基板１０の一部分（例えば周辺領域ＰＦＡ）を湾曲させる、あるいは折り曲げることができる。基板１０や基板２０が可撓性を備えている場合、平面視における周辺領域ＰＦＡの面積を低減できる。この場合、平面視における有効表示領域の占有率を増大させることができる。

図３に示すように、表示領域ＤＡには、複数の画素（ピクセル）ＰＸが配置される。図３に示す例では、複数の画素ＰＸのそれぞれは、複数の副画素（サブピクセル）ＰＸｓを有する。複数の副画素ＰＸｓには、例えば、赤色用、青色用、および緑色用の副画素ＰＸｓが含まれ、複数の副画素ＰＸｓの色調を制御することにより、カラー画像を表示することができる。一つの画素ＰＸを構成する副画素ＰＸｓの種類の数は、図３に例示する３種類の他、種々の変形例が適用できる。

複数の副画素ＰＸｓのそれぞれは、液晶層ＬＱに印加する電界のオン－オフを制御するスイッチング素子であるトランジスタＴｒ１を備える。トランジスタＴｒ１は、副画素ＰＸｓの動作を制御する。トランジスタＴｒ１は、後述するように、基板１０上に形成された薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）である。

また、図３に示すように、表示装置ＤＳＰ１は、表示領域ＤＡにおいて、Ｘ方向に延びる複数の走査信号線ＧＬと、表示領域ＤＡにおいて、Ｘ方向に交差する（図３では直交する）Ｙ方向に延びる複数の映像信号線ＳＬと、を有する。走査信号線ＧＬは、トランジスタＴｒ１のゲートに接続される、ゲート線である。また、映像信号線ＳＬは、トランジスタＴｒ１のソースに接続される、ソース線である。複数の走査信号線ＧＬのそれぞれは、Ｘ方向に延び、かつ、Ｙ方向において、例えば等間隔で配列されている。複数の映像信号線ＳＬのそれぞれは、Ｙ方向に延び、かつ、Ｘ方向において、例えば等間隔で配列されている。

複数の走査信号線ＧＬのそれぞれは、走査駆動回路（ゲート駆動回路）ＧＤに接続される。走査駆動回路ＧＤから出力された走査信号Ｇｓｉは、走査信号線ＧＬを介してトランジスタＴｒ１のゲートに入力される。また、複数の映像信号線ＳＬのそれぞれは、映像信号駆動回路ＳＤに接続される。映像信号駆動回路ＳＤから出力された映像信号Ｓｐｉｃは、映像信号線ＳＬを介してトランジスタＴｒ１のソースに入力される。

図３に示す例では、複数の映像信号線ＳＬのそれぞれは、スイッチ素子を含む信号選択回路ＡＳＷ、および信号選択回路ＡＳＷに接続される配線ＳＬＤを介して映像信号駆動回路ＳＤに接続される。信号選択回路ＡＳＷは、一つの入力経路から入力された信号を、複数の出力経路に選択的に出力するデマルチプレクサである。例えば、図３に示す配線ＳＬＤから赤色用の信号、緑色用の信号、および青色用の信号が順番に入力され、これらの入力信号を、対応する副画素ＰＸｓに対して順次出力する機能を備える。配線ＳＬＤは、図１に示す表示領域ＤＡの外部に配置される。配線ＳＬＤと映像信号線ＳＬとの間に信号選択回路ＡＳＷを介在させることにより、配線ＳＬＤの本数を低減できる。例えば、上記した例の場合、配線ＳＬＤの本数は、映像信号線ＳＬの本数の１／３でよい。

複数の映像信号線ＳＬのそれぞれは、トランジスタＴｒ１を介して画素電極ＰＥに接続される。詳しくは、映像信号線ＳＬは、トランジスタＴｒ１のソースに接続され、画素電極ＰＥは、トランジスタＴｒ１のドレインに接続される。トランジスタＴｒ１がオンになっている時、画素電極ＰＥには、映像信号線ＳＬから映像信号Ｓｐｉｃが供給される。また、画素電極ＰＥは、誘電層（図３に示す容量素子ＣＳ）を介して共通電極ＣＥに接続されている。共通電極ＣＥには、共通電位供給回路ＣＤから固定電位が供給される。共通電極ＣＥに供給される固定電位は、複数の副画素ＰＸｓに対して共通の電位である。表示期間において、共通電極ＣＥに供給される電位と、画素電極ＰＥに供給される電位との電位差に応じて各副画素ＰＸｓには電界が形成され、この電界により、液晶層ＬＱに含まれる液晶分子が駆動される。

なお、詳細は後述するが、本実施の形態の場合、複数の映像信号線ＳＬのそれぞれには、表示フレーム毎に、互いに反対の極性を持つ電位が交互に印加される。また、一つの表示フレームにおいて、複数の映像信号線ＳＬのうちの一部には、正の極性の電位が印加され、他部には、負の極性の電位が印加される。このように、映像信号線ＳＬの列毎に正の電位と負の電位とを交互に入力する駆動方式の場合、映像信号駆動回路ＳＤの駆動電圧を低減できるという点で好ましい。

図３に示す走査駆動回路ＧＤ、映像信号駆動回路ＳＤ、および共通電位供給回路ＣＤのそれぞれは、例えば、図１に示す周辺領域ＰＦＡ、または、周辺領域ＰＦＡに接続される配線基板ＦＷＢ１に搭載された駆動ＩＣチップＣＢ１（図２参照）に形成された回路である。ただし、変形例として、走査駆動回路ＧＤ、映像信号駆動回路ＳＤ、および共通電位供給回路ＣＤのそれぞれが、基板１０上に形成された回路である場合もある。また、配線基板ＦＷＢ１は基板１０に形成された複数の端子ＴＭ１に接続され、端子ＴＭ１を介して基板１０上に形成される回路と電気的に接続される。

図４に示すように、基板１０と液晶層ＬＱとの間には、複数の導電層ＣＬ１～ＣＬ５、複数の絶縁膜１１～１６、および配向膜ＡＬ１がある。複数の導電層ＣＬ１～ＣＬ５、複数の絶縁膜１１～１６、および配向膜ＡＬ１は基板１０の前面１０ｆ上に形成される。また、基板２０と液晶層ＬＱとの間には、遮光膜ＢＭと、カラーフィルタＣＦＲ、ＣＦＧおよびＣＦＢと、絶縁膜ＯＣ１と、配向膜ＡＬ２と、がある。遮光膜ＢＭ、カラーフィルタＣＦＲ、ＣＦＧ、ＣＦＢ、絶縁膜ＯＣ１、および配向膜ＡＬ２は、基板２０の背面２０ｂ上に形成される。

図４に示す導電層ＣＬ１、ＣＬ２およびＣＬ３のそれぞれには、遮光性の金属の導体パターン（金属配線）が形成される。導電層ＣＬ１および導電層ＣＬ３は、例えばモリブデン（Ｍｏ）やタングステン（Ｗ）等の金属またはそれらの合金から成る金属膜を含む。導電層ＣＬ２の導体パターンは、例えばアルミニウム（Ａｌ）膜がチタン（Ｔｉ）膜や窒化チタン（ＴｉＮ）膜などに挟まれた積層膜など、多層構造の金属膜を含む。また、導電層ＣＬ４および導電層ＣＬ５は、主に、ＩＴＯ（Indium tin oxide）またはＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）などの導電性の酸化物材料（透明導電材料）を含む。

導電層ＣＬ１～ＣＬ５の間には、絶縁膜が介在する。導電層ＣＬ１と基板１０との間には、絶縁膜１１、および絶縁膜１２が介在する。導電層ＣＬ１と導電層ＣＬ２との間には、絶縁膜１３が介在する。導電層ＣＬ３と導電層ＣＬ４との間には、絶縁膜１４が介在する。導電層ＣＬ４と導電層ＣＬ５との間には、絶縁膜１５が介在する。導電層ＣＬ５と液晶層ＬＱとの間には、配向膜ＡＬ１が介在する。絶縁膜１１、１２、１３、および１６のそれぞれは、無機絶縁膜である。無機絶縁膜としては、例えば窒化珪素（ＳｉＮ）膜、酸化珪素（ＳｉＯ）膜、酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）膜あるいはこれらの積層膜を例示できる。また、絶縁膜１４および絶縁膜１５は、有機絶縁膜である。有機材料から成る絶縁膜は、無機材料から成る絶縁膜よりも厚く形成することにより、上面（前面）を平坦化することができる。絶縁膜１４および絶縁膜１５は、下地層に形成された導体パターンの凹凸を平坦化する平坦化膜として用いられる。このため、絶縁膜１４の厚さおよび絶縁膜１５の厚さは、無機絶縁膜である絶縁膜１１、１２、および１３のそれぞれの厚さより厚い。有機絶縁膜の例としては、アクリル系の感光性樹脂などが例示できる。ただし、絶縁膜１５は有機絶縁膜に限らず、無機絶縁膜であってもよい。絶縁膜１５が無機絶縁膜である場合、絶縁膜１１、１２、および１３のそれぞれの厚さよりも厚い無機絶縁膜や、無機絶縁膜が複数積層されるものが好ましい。

複数の走査信号線ＧＬのそれぞれは、基板１０上の導電層ＣＬ１に形成される。基板１０上には絶縁膜１１および絶縁膜１２が積層され、走査信号線ＧＬは絶縁膜１２上に形成される。複数の映像信号線ＳＬのそれぞれは、基板１０上の導電層ＣＬ２に形成される。基板１０上には絶縁膜１１、１２および１３が積層され、映像信号線ＳＬは絶縁膜１３上に形成される。

絶縁膜１１と絶縁膜１２との間には、図３に示すトランジスタ（トランジスタ素子）Ｔｒ１の半導体層が形成される。半導体層は、図４とは異なる断面にあるため、図４には半導体層を示していない。半導体層のソース領域は、導電層ＣＬ２に形成される映像信号線ＳＬと電気的に接続される。半導体層のドレイン領域は、導電層ＣＬ５の画素電極ＰＥと電気的に接続される。平面視において、走査信号線ＧＬは、半導体層のソース領域とドレイン領域との間に延びる。また、走査信号線ＧＬは、半導体層のチャネル領域と重なり、トランジスタＴｒ１のゲート電極として機能する。チャネル領域と走査信号線ＧＬとの間に介在する絶縁膜１２は、ゲート絶縁膜として機能する。上記した例のように、トランジスタＴｒ１のチャネル領域の上側にゲート電極が配置される構造のＴＦＴは、トップゲート方式と呼ばれる。ただし、ＴＦＴの方式には種々の変形例があり、例えば、チャネル領域の下側にゲート電極が配置されるボトムゲート方式を用いてもよい。あるいは、チャネル領域の上側および下側の両方にゲート電極が配置される方式もある。

導電層ＣＬ３には、配線ＭＷ３が配置される。配線ＭＷ３は、走査信号線ＧＬや映像信号線ＳＬと同様に金属から成る金属配線である。配線ＭＷ３は、厚さ方向（Ｚ方向）において映像信号線ＳＬと重なる位置に配置されている。配線ＭＷ３は、導電層ＣＬ４に形成される共通電極ＣＥと電気的に接続される。この場合、配線ＭＷ３は、共通電極ＣＥに電位を供給する配線として利用することができる。あるいは、配線ＭＷ３は、表示装置ＤＳＰ１がタッチパネル機能を備えている場合に、タッチ位置の検出に利用される駆動信号や検出信号を伝送する信号伝送経路として利用される。

また、後述するように、本実施の形態の場合、額縁領域ＦＲＡにおいて、複数の映像信号線ＳＬの一部が互いに交差する。導電層ＣＬ３は、映像信号線ＳＬを交差させるための配線層として利用される。言い換えれば、互いに交差する映像信号線ＳＬのうち、一方の映像信号線ＳＬの迂回配線部が導電層ＣＬ３に形成される。

導電層ＣＬ４には、共通電極ＣＥが形成される。共通電極ＣＥは、平坦化膜である絶縁膜１５上に形成される。図４では、一つの共通電極ＣＥを示しているが、図１に示す表示領域ＤＡにおいて、複数の共通電極ＣＥが互いに離間して配置されていてもよい。また、上記したように、共通電極ＣＥには、複数の副画素ＰＸｓに対して共通する電位が供給される。このため、図４に示すように共通電極ＣＥは、複数の副画素ＰＸｓに亘って配置されていてもよい。

導電層ＣＬ５には、複数の画素電極ＰＥが形成される。画素電極ＰＥが形成される導電層ＣＬ５と共通電極ＣＥが形成される導電層ＣＬ４との間には、無機絶縁膜である絶縁膜１６が介在する。この絶縁膜１６が誘電層として機能して、図３に示す容量素子ＣＳが形成される。

複数の画素電極ＰＥは、配向膜ＡＬ１に覆われる。配向膜ＡＬ１は液晶層ＬＱに含まれる液晶分子の初期配向を揃える機能を備える有機絶縁膜であって、例えばポリイミド樹脂から成る。また、配向膜ＡＬ１は、液晶層ＬＱに接する。

また、図４に示すように、基板２０の背面（主面、面）２０ｂ上には、遮光膜ＢＭ、カラーフィルタＣＦＲ、ＣＦＧ、ＣＦＢ、絶縁膜ＯＣ１、および配向膜ＡＬ２が形成されている。

カラーフィルタＣＦＲ、ＣＦＧおよびＣＦＢは、基板１０と対向する背面２０ｂ側に形成される。図３に示す例では、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色のカラーフィルタＣＦＲ、ＣＦＧ、ＣＦＢが周期的に配列される。カラー表示装置では、例えばこの赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色の画素を１組として、カラー画像を表示する。基板２０の複数のカラーフィルタＣＦＲ、ＣＦＧ、ＣＦＢは、基板１０に形成される画素電極ＰＥを有するそれぞれの画素ＰＸ（図１参照）と、互いに対向する位置に配置される。なお、カラーフィルタの種類は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色に限定されるものではない。

また、各色のカラーフィルタＣＦＲ、ＣＦＧ、ＣＦＢのそれぞれの境界には、遮光膜ＢＭが配置される。遮光膜ＢＭはブラックマトリクスと呼ばれ、例えば黒色の樹脂や、低反射性の金属から成る。遮光膜ＢＭは、平面視において、例えば格子状に形成される。言い換えれば、遮光膜ＢＭは、Ｘ方向およびＹ方向に延在している。詳しくは、遮光膜ＢＭは、Ｙ方向に延びる複数の部分と、Ｙ方向に交差するＸ方向に延びる複数の部分を有している。各画素ＰＸをブラックマトリクスで区画することにより、光漏れや混色を抑制することができる。

遮光膜ＢＭは、表示領域ＤＡにおいて、金属配線である走査信号線ＧＬ、映像信号線ＳＬ、および配線ＭＷ３と重畳する。遮光性を有する金属配線が遮光膜ＢＭと重なる位置に配置されていることにより、表示画面において、金属配線が視認され難くなる。一方、共通電極ＣＥおよび画素電極ＰＥの少なくとも一部分は、遮光膜ＢＭと重ならない位置に配置されている。共通電極ＣＥおよび画素電極ＰＥは、可視光透過性の導電性材料により形成されている。このため、共通電極ＣＥおよび画素電極ＰＥは遮光膜ＢＭと重ならない位置に配置されているが、各副画素ＰＸｓにおいて、可視光は、共通電極ＣＥや画素電極ＰＥにより遮光されない。

また、遮光膜ＢＭは、基板２０の周辺領域ＰＦＡ（図１参照）にも形成される。周辺領域ＰＦＡは、遮光膜ＢＭと重畳する。表示領域ＤＡは、周辺領域ＰＦＡよりも内側の領域として規定される。また、周辺領域ＰＦＡは、図２に示すバックライトユニット（光源）ＢＬから照射された光を遮光する遮光膜ＢＭと重畳する領域である。遮光膜ＢＭは表示領域ＤＡ内にも形成されるが、表示領域ＤＡには、遮光膜ＢＭに複数の開口部が形成される。一般的に、遮光膜ＢＭに形成され、カラーフィルタが露出する開口部のうち、最も周縁部側に形成された開口部の端部が、表示領域ＤＡと周辺領域ＰＦＡの境界として規定される。

図４に示す絶縁膜ＯＣ１は、カラーフィルタＣＦＲ、ＣＦＧ、ＣＦＢを覆っている。絶縁膜ＯＣ１は、カラーフィルタから液晶層に対して不純物が拡散するのを防止する保護膜として機能する。絶縁膜ＯＣ１は、例えばアクリル系の感光性樹脂等から成る、有機絶縁膜である。

絶縁膜ＯＣ１は、配向膜ＡＬ２に覆われる。配向膜ＡＬ２は液晶層ＬＱに含まれる液晶分子の初期配向を揃える機能を備える有機絶縁膜であって、例えばポリイミド樹脂から成る。また、配向膜ＡＬ２は、液晶層ＬＱに接する。

＜信号選択回路＞
次に、図３に示す信号選択回路ＡＳＷを利用した映像信号Ｓｐｉｃの入力方法について説明する。図５は、図３に示す複数の副画素のそれぞれに、映像信号を入力するイメージを示す説明図である。図５の複数の副画素ＰＸｓのそれぞれに記載される「＋」や「－」の記号は、各副画素ＰＸｓの入力信号の極性を示している。図６は、図３に示す複数の副画素のそれぞれに、映像信号を入力するタイミングチャートの一例を示すチャート図である。

図５に示すように、信号選択回路ＡＳＷは、スイッチ（信号線駆動回路）ＡＳＷ１、ＡＳＷ２、およびＡＳＷ３を備える。図６に示すように、信号選択回路ＡＳＷでは、スイッチＡＳＷ１、ＡＳＷ２、およびＡＳＷ３に、オン信号あるいはオフ信号であるパルス信号が順番に入力される。例えば、スイッチＡＳＷ１にオン信号のパルス信号が入力された時、図５に示す赤色用の複数の副画素ＰＸｓのそれぞれに赤色用の映像信号Ｓｐｉｃが供給される。スイッチＡＳＷ２にオン信号が入力された時、緑色用の複数の副画素ＰＸｓのそれぞれに緑色用の映像信号Ｓｐｉｃが供給される。スイッチＡＳＷ３にオン信号が入力された時、青色用の複数の副画素ＰＸｓのそれぞれに青色用の映像信号Ｓｐｉｃが供給される。図６に示す例では、スイッチＡＳＷ１、ＡＳＷ２、およびＡＳＷ３のそれぞれに順番にオン信号が入力された後、スイッチＡＳＷ１、ＡＳＷ２、およびＡＳＷ３のそれぞれに順番にオフ信号が入力される。スイッチＡＳＷ１にオン信号が入力された時、列ＧｎおよびＢｎには映像信号が供給されていない。

なお、上記したオン信号は、スイッチＡＳＷ１、ＡＳＷ２、およびＡＳＷ３のいずれかをオンする信号である。このオン信号が供給されたスイッチＡＳＷ１、ＡＳＷ２、またはＡＳＷ３のいずれかに接続される映像信号線ＳＬには、書き込み信号である映像信号Ｓｐｉｃが供給される。以下、本明細書において、「同じタイミングでオン信号が印加される」あるいは「異なるタイミングでオン信号が印加される」と記載する場合があるが、これは、「同じタイミングで書き込み信号が伝送される」あるいは、「異なるタイミングで書き込み信号が伝送される」と読み替えることができる。

図６に示す列Ｒｎには、スイッチＡＳＷ１にオン信号が印加されてからオフ信号が印加されるまでの間、電圧が印加される。列Ｇｎには、スイッチＡＳＷ２にオン信号が印加されてからオフ信号が印加されるまでの間、電圧が印加される。列Ｂｎ－１およびＢｎのそれぞれには、スイッチＡＳＷ１にオン信号が印加されてからオフ信号が印加されるまでの間、電圧が印加される。

また、本実施の形態の場合、互いに異なる極性の信号が映像信号Ｓｐｉｃ（図５参照）として供給される。図５および図６に示す例では、信号Ｓ１が正の極性を持つ映像信号Ｓｐｉｃに相当し、信号Ｓ２が負の極性を持つ映像信号Ｓｐｉｃに相当する。図５に示す例では、複数の副画素ＰＸｓは、列Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１，Ｒ２，Ｇ２，Ｂ２，・・・Ｒ６，Ｇ６，およびＢ６の各列に、それぞれ複数個ずつ配列される。同じ列の副画素ＰＸｓには、同じ極性の映像信号Ｓｐｉｃが入力される。例えば図５では、列Ｒ１や列Ｂ１には正の極性の信号が入力され、列Ｇ１や列Ｒ２には、負の極性が印加される。

また、複数の副画素ＰＸｓのそれぞれに印加される信号の極性は、単位表示フレーム毎に反転する。例えば、第１表示フレームにおいて、図５に示す列Ｒ１や列Ｂ１には正の極性の信号が入力され、列Ｇ１や列Ｒ２には、負の極性の信号が印加される場合、第１表示フレームに続く、第２表示フレームでは、列Ｒ１や列Ｂ１には不の極性の信号が入力され、列Ｇ１や列Ｒ２には、正の極性の信号が印加される。

＜透明領域ＴＲＡ周辺の詳細＞
次に、図１に示す透明領域ＴＲＡの周辺について詳細に説明する。図７は、図１に示す透明領域周辺の第１導電層の拡大平面図である。図８は、図１に示す透明領域周辺の第２導電層の拡大平面図である。図８は、導電層ＣＬ２の平面図であるが、導電層ＣＬ３（図４参照）に形成された配線を点線で示している。

図７に示すように、複数の走査信号線ＧＬのそれぞれは、表示領域ＤＡ内において、Ｘ方向に延びる。また、図８に示すように複数の映像信号線ＳＬのそれぞれは、表示領域ＤＡ内において、Ｙ方向に延びる。図３に示すように、走査信号線ＧＬと映像信号線ＳＬとが交差する一つの交差部に、一つの副画素ＰＸｓが形成される。

ここで、図７に示すように、表示領域ＤＡ内に透明領域ＴＲＡが配置される場合、Ｘ方向に沿って直線的に延びる複数の走査信号線ＧＬのうちの一部は、走査信号線ＧＬの延在配線部（走査信号用延在配線部）ＧＬｒの延長線上に透明領域ＴＲＡが配置される。同様に、図８に示すように、表示領域ＤＡ内に透明領域ＴＲＡが配置される場合、Ｙ方向に沿って直線的に延びる複数の映像信号線ＳＬのうちの一部は、映像信号線ＳＬの延在配線部（映像信号用延在配線部）ＳＬｒの延長線上に透明領域ＴＲＡが配置される。しかし、透明領域ＴＲＡにおける可視光透過性を向上させるためには、金属配線である走査信号線ＧＬや映像信号線ＳＬが、透明領域ＴＲＡと重ならないことが好ましい。本明細書では、走査信号線ＧＬや映像信号線ＳＬの一部分において、一方向に沿って延びる部分を延在配線部、透明領域ＴＲＡを避けるように迂回している部分を迂回配線部と呼ぶ。ただし、「配線部」という呼称については単に「配線」と称してもよい。例えば、「延在配線部」を単に「延在配線」、「迂回配線部」を「迂回配線」、と呼称した場合でも、その意味は同じである。

透明領域ＴＲＡの周囲の領域を表示領域として利用するためには、走査信号線ＧＬや映像信号線ＳＬが透明領域ＴＲＡの近傍で寸断されないようにする必要がある。本実施の形態の表示装置ＤＳＰ１の場合、図７に示すように、複数の走査信号線ＧＬの一部は、表示領域ＤＡに配置され、Ｘ方向に延びる複数の延在配線部（走査信号用延在配線部）ＧＬｒと、導電層ＣＬ１の額縁領域ＦＲＡに配置され、両端が複数の延在配線部ＧＬｒに接続される複数の迂回配線部ＧＬｃと、を備える。迂回配線部ＧＬｃは、透明領域ＴＲＡの外縁に沿って走査信号の伝送経路を迂回させる配線である。走査信号の伝送経路を構成する迂回配線部ＧＬｃは、本願明細書において、走査信号用迂回配線部と呼ぶ場合がある。また、迂回配線部ＧＬｃは、第１導電層である導電層ＣＬ１に形成されるので、本願明細書において、第１層迂回配線部と呼ぶ場合がある。迂回配線部ＧＬｃは延在配線部ＧＬｒの延在方向であるＸ方向と異なる方向に延びている。図７に示す例では、複数の迂回配線部ＧＬｃのそれぞれは、円形を成す透明領域ＴＲＡの外縁に沿って円弧状に延びる。また、複数の迂回配線部ＧＬｃのそれぞれは、二つの端部ＧＬｅを有し、二つの端部ＧＬｅのそれぞれに、延在配線部ＧＬｒが接続されている。

また、表示装置ＤＳＰ１の場合、図８に示すように、複数の映像信号線ＳＬの一部は、表示領域ＤＡに配置され、Ｙ方向に延びる複数の延在配線部（映像信号用延在配線部）ＳＬｒと、導電層ＣＬ２の額縁領域ＦＲＡに配置され、両端が複数の延在配線部ＳＬｒに接続される複数の迂回配線部ＳＬｃ２と、を備える。迂回配線部ＳＬｃ２は、透明領域ＴＲＡの外縁に沿って映像信号の伝送経路を迂回させる配線である。映像信号の伝送経路を構成する迂回配線部ＳＬｃ２は、本願明細書において、映像信号用迂回配線部と呼ぶ場合がある。また、迂回配線部ＳＬｃ２は、第２導電層である導電層ＣＬ２に形成されるので、本願明細書において、第２層迂回配線部と呼ぶ場合がある。迂回配線部ＳＬｃ２は、延在配線部ＳＬｒの延在方向であるＹ方向と異なる方向に延びている。図８に示す例では、複数の迂回配線部ＳＬｃ２のそれぞれは、円形を成す透明領域ＴＲＡの外縁に沿って円弧状に延びる。また、複数の迂回配線部ＳＬｃ２のそれぞれは、二つの端部ＳＬｅを有し、二つの端部ＳＬｅのそれぞれに、延在配線部ＳＬｒが接続されている。

ここで、図７に示す迂回配線部ＧＬｃおよび図８に示す迂回配線部ＳＬｃ２が配置される額縁領域ＦＲＡでは、走査信号線ＧＬと映像信号線ＳＬとの交差部の配置が、表示領域ＤＡとは異なる。このため、額縁領域ＦＲＡを有効表示領域として利用することが難しい。このため、平面視における有効表示領域の占有率を大きくするためには、額縁領域ＦＲＡの面積を小さくすることが好ましい。このため、額縁領域ＦＲＡでは、複数の迂回配線部ＳＬｃ２のそれぞれが、表示領域ＤＡに配置される複数の映像信号線ＳＬと比較して相対的に狭い配置ピッチで配置されている。これにより、額縁領域ＦＲＡの面積を低減することができる。

カラー表示装置の場合、複数種類の色用の映像信号線ＳＬが必要になる。本実施の形態の場合、図８に示す複数の映像信号線ＳＬは、第１色用（例えば赤色用）の映像信号が伝送される複数の映像信号線ＳＬＲと、第２色用（例えば青色用）の映像信号が伝送される複数の映像信号線ＳＬＢと、第３色用（例えば緑色用）の映像信号が伝送される複数の映像信号線ＳＬＧとを含む。この場合、一つの画素に３本の映像信号線ＳＬが配置されるので、映像信号線ＳＬの配置ピッチは、走査信号線ＧＬの配置ピッチより小さい。このため、額縁領域ＦＲＡに配置される映像信号線ＳＬの本数は、額縁領域ＦＲＡに配置される走査信号線ＧＬの本数より多い。したがって、額縁領域ＦＲＡの面積の下限値を規定する要素としては、映像信号線ＳＬの本数の方が、走査信号線ＧＬの本数よりも支配的である。

額縁領域ＦＲＡの面積を低減させるためには、図８に示す額縁領域ＦＲＡに配置される映像信号線ＳＬの配置ピッチを低減させることが重要である。表示装置ＤＳＰ１の場合、額縁領域ＦＲＡに配置される映像信号線ＳＬの迂回配線部ＳＬｃ２の配置ピッチは、表示領域ＤＡにおける映像信号線ＳＬの延在配線部ＳＬｒの配置ピッチより小さい。例えば、図８に示す例では、表示領域ＤＡにおける映像信号線ＳＬの配置ピッチＳＬｐ１は、１８μｍである。一方、額縁領域ＦＲＡにおける迂回配線部ＳＬｃ２の配置ピッチＳＬｐ２は、４．５μｍである。表示装置ＤＳＰ１の場合、迂回配線部ＳＬｃ２の配置ピッチＳＬｐ２は、表示領域ＤＡにおける映像信号線ＳＬの配置ピッチＳＬｐ１より小さいので、額縁領域ＦＲＡの面積を低減することができる。

ところが、本願発明者の検討によれば、額縁領域ＦＲＡにおいて、映像信号線ＳＬの迂回配線部ＳＬｃ２の配置ピッチが狭くなることにより、隣り合う迂回配線部ＳＬｃ２の間で容量性のカップリング（以下、容量性カップリング、または単にカップリングと記載する）が生じる場合があることが判った。詳しくは、図６に一点鎖線で示すように、列Ｂｎ－１、Ｒｎ、Ｇｎ、およびＢｎのそれぞれに供給される映像信号の電位に「電位ズレ」が生じる。例えば列Ｒｎに供給される信号波形を例に説明する。図６に示す信号線Ｓ１は上述のように正の極性の映像信号が、信号線Ｓ２には負の極性の映像信号が同相で遷移する状態が示される。図６における実施形態ではカラム反転駆動において、信号線Ｓ１に供給される正の極性は、白書込みが行われているため所定の基準電位から高電位側に電位が遷移している。また、信号線Ｓ２に供給される負の極性は、黒書き込みが行われているため、低電位側から所定の基準電位に電位が遷移している。このため、正の極性の信号線Ｓ１と負の極性の信号線Ｓ２は同じタイミングで電位が同方向に遷移している。このとき、まず、スイッチＡＳＷ１にオン信号が供給されると、列Ｒｎに供給される信号波形の電位が上昇する。次に、スイッチＡＳＷ２にオン信号が供給されると、列Ｇｎに供給される信号波形の電位が上昇する。この時、列Ｒｎに接続される迂回配線部ＳＬｃ２（図８参照）と、列Ｇｎに接続される迂回配線部ＳＬｃ２とが隣り合っている場合、配線間の容量性カップリングの影響により、列Ｒｎに供給される信号波形の電位がさらに上昇する。このように、スイッチＡＳＷ２にオン信号が供給された時の列Ｒｎに供給される信号波形の電位の上昇分が「電位ズレ」である。この電位ズレは、スイッチＡＳＷ３にオン信号が供給される時にも発生する。スイッチＡＳＷ３にオン信号が供給される時は、列Ｂｎ－１に接続される迂回配線部ＳＬｃ２の電位が上昇することに起因して発生する。

図６に一点鎖線で示す電位ズレは、図８に示す多数の映像信号線ＳＬのうち、迂回配線部ＳＬｃ２を含む映像信号線ＳＬのみに発生する。電位ズレが生じた信号波形が供給される副画素ＰＸｓ（図５参照）では、形成される電界が電位ズレの影響を受ける。表示パターンによっては、この電位ズレの影響が表示ムラとして視認される場合がある。本願発明者は、図８に示す額縁領域ＦＲＡにおいて、複数の迂回配線部ＳＬｃ２の配列順序と、表示領域ＤＡにおける複数の映像信号線ＳＬの配列順序とを互いに異なるようにすることで、隣り合う迂回配線部ＳＬｃ２の容量性カップリングを抑制する方法について検討した。

＜額縁領域での配線レイアウト＞
次に、額縁領域での映像信号線のレイアウトについて説明する。図９は、図８に示す第２導電層の一部分を拡大して示す拡大平面図である。図１０は、図９のＡ－Ａ線に沿った拡大断面図である。図９では、第１導電層に形成される走査信号線ＧＬを点線で示し、第３導電層に形成される配線を一点鎖線で示す。また、図９では、表示領域ＤＡと額縁領域ＦＲＡとの境界を二点鎖線で示している。図９および図１０では、図５に示す列Ｒ１の副画素ＰＸｓに映像信号を供給する映像信号線ＳＬを配線（映像信号線）ＷＲ１として示している。同様に、図５に示す列Ｇ１、Ｂ１、Ｒ２、Ｇ２、およびＢ２の副画素ＰＸｓに映像信号を供給する映像信号線ＳＬを、それぞれ、配線（映像信号線）ＷＧ１、ＷＢ１、ＷＲ２、ＷＧ２、およびＷＢ２として示している。また、図９および図１０では、配線ＷＲ１の迂回配線部を迂回配線部ＷＲ１として示している。同様に、配線（映像信号線）ＷＧ１、ＷＢ１、ＷＲ２、ＷＧ２、およびＷＢ２の迂回配線部を迂回配線部ＷＧ１ｃ、ＷＢ１ｃ、ＷＲ２ｃ、ＷＧ２ｃ、およびＷＢ２ｃとして示している。

以下の説明において、図９や図１０に対応する変形例について説明する場合には、映像信号線ＳＬに対して図９や図１０と同様に符号を付している。例えば、後述する図１３に示す配線ＷＲ３は、図５に示す列Ｒ３の副画素ＰＸｓに映像信号を供給する映像信号線ＳＬを示す。また、迂回配線部ＷＲ３ｃとは、配線ＷＲ３に含まれ、かつ、額縁領域ＦＲＡにおいて、延在配線部ＳＬｒと異なる方向に延びる配線部分を表す。

図９に示すように、本実施の形態の場合、複数の映像信号線ＳＬのうち、額縁領域ＦＲＡを通過する映像信号線ＳＬは、表示領域ＤＡと、額縁領域ＦＲＡとで、互いに異なる配列順序により配列されている。言い換えれば、複数の映像信号線ＳＬのうちの一部は、額縁領域ＦＲＡにおいて、互いに交差する。

例えば、図９に示す例では、複数の映像信号線ＳＬは、配線ＷＧ１および配線ＷＲ２を含む。配線ＷＧ１は、額縁領域ＦＲＡに配置される迂回配線部ＷＧ１ｃと、迂回配線部ＷＧ１ｃの両端に接続され、かつ、Ｙ方向に延びる２本の延在配線部ＳＬｒを有する。配線ＷＲ２は、額縁領域ＦＲＡに配置される迂回配線部ＷＲ２ｃと、迂回配線部ＷＲ２ｃの両端に接続され、かつ、Ｙ方向に延びる２本の延在配線部ＳＬｒを有する。配線ＷＧ１と配線ＷＲ２とは、額縁領域ＦＲＡにおいて、互いに交差する。詳しくは、配線ＷＧ１と配線ＷＲ２とは、図８および図９に示す交差部ＷＸ１で交差する。また、図９に示す例では、配線ＷＲ２は、配線ＷＧ１および配線ＷＢ１のそれぞれと交差する。このように、額縁領域ＦＲＡを通過する複数の映像信号線ＳＬが互いに交差する場合、額縁領域ＦＲＡにおいて狭ピッチで配置される複数の迂回配線部ＳＬｃ２に生じる容量性カップリングを低減することができる。

図６に示すように、隣り合う配線間の容量性カップリングに起因する電位ズレは、互いに隣り合う配線のそれぞれに、異なるタイミングでオン信号またはオフ信号が印加された時に、発生する。したがって、互いに隣り合う配線のそれぞれに、同時にオン信号またはオフ信号が印加される場合には、電位ズレが生じ難い。

また、図９に示すように、平面視において、互いに隣り合う映像信号線ＳＬの間に、走査信号線ＧＬが配置されている場合、走査信号線ＧＬは、両隣の映像信号線ＳＬの容量性カップリングを抑制するシールドとして機能する。例えば、図９および図１０に示す例の場合、平面視（詳しくは、導電層ＣＬ２を透過して視た透過平面視）において、迂回配線部ＷＲ２ｃと迂回配線部ＷＧ１ｃとの間には、走査信号線ＧＬが配置され、迂回配線部ＷＲ２ｃおよびＷＧ１ｃの延在方向に沿って延びている。この場合、迂回配線部ＷＲ２ｃと迂回配線部ＷＧ１ｃとの間では、容量性カップリングを低減できる。例えば、図９および図１０に示す例において、配線ＷＲ１と迂回配線部ＷＲ２ｃの間には約０．２ｐＦ（ピコファラッド）の寄生容量が生じる。一方、迂回配線部ＷＲ２ｃと迂回配線部ＷＧ１ｃとの間には、約０．０７ｐＦの寄生容量が生じる。

図９および図１０に示すように、本実施の形態の場合、額縁領域ＦＲＡでは、同じタイミングでオン信号またはオフ信号が印加される迂回配線部ＷＲ１ｃと迂回配線部ＷＲ２ｃとが互いに隣り合うように配置されている。同様に、迂回配線部ＷＧ１ｃおよびＷＧ２ｃと、迂回配線部ＷＢ１ｃおよびＷＢ２ｃとは、それぞれが互いに隣り合うように配置されている。この場合、迂回配線部ＷＲ１ｃとＷＲ２ｃとの間、迂回配線部ＷＧ１ｃとＷＧ２ｃとの間、および迂回配線部ＷＢ１ｃとＷＢ２ｃとの間では、カップリングの発生を抑制できる。

また、平面視において、迂回配線部ＷＲ２ｃとＷＧ１ｃとの間、および迂回配線部ＷＧ２ｃとＷＢ１ｃとの間には、それぞれ、走査信号線ＧＬの迂回配線部ＧＬｃが配置される。迂回配線部ＧＬｃは、導電層ＣＬ２の迂回配線部の延在方向に沿って延びている。この場合、迂回配線部ＷＲ２ｃとＷＧ１ｃとの間、および迂回配線部ＷＧ２ｃとＷＢ１ｃとの間の寄生容量は、走査信号線ＧＬが配置されることにより低減される。

つまり、本実施の形態の場合、額縁領域ＦＲＡを通過する映像信号線ＳＬを、表示領域ＤＡと、額縁領域ＦＲＡとで、互いに異なる配列順序により配列することで、容量性カップリングを低減できる。この結果、額縁領域ＦＲＡにおける容量性カップリングに起因した電位ズレを低減できる。上記の通り、電位ズレは、表示ムラの原因となるが、本実施の形態によれば、表示ムラの発生を抑制できる。

また、図１に示すように、表示装置ＤＳＰ１は、Ｙ方向において、額縁領域ＦＲＡの両隣に表示領域ＤＡを備える。このため、互いに交差する映像信号線ＳＬは、額縁領域ＦＲＡの複数箇所で互いに交差する。例えば、図８に示す配線ＷＧ１と配線ＷＲ２とは、交差部ＷＸ１および交差部ＷＸ２で互いに交差する。これにより、図１に示すＹ方向において、額縁領域ＦＲＡの両隣に配置される表示領域ＤＡのそれぞれにおいて、表示品質を揃えることができる。

図１１は、図９に示す複数の映像信号線のうち、第３導電層に形成された配線を含む映像信号線の延在方向に沿った拡大断面図である。詳しくは、図９に示す迂回配線部ＷＲ２ｃの配線経路に沿った断面図が図１１に示されている。図１１に示すように、迂回配線部ＷＲ２ｃの一部分であるバイパス配線（迂回配線）ＳＬｂは、導電層ＣＬ１およびＣＬ２とは異なる導電層ＣＬ３に形成される。バイパス配線ＳＬｂは、一方の端部が、導電層ＣＬ２の配線ＷＲ２の延在配線部ＳＬｒに接続され、他方の端部が導電層ＣＬ２の迂回配線部ＷＲ２ｃに接続される。バイパス配線ＳＬｂは、配線ＷＲ２と配線ＷＧ１とが交差する交差部ＷＸ１を含む。

複数の映像信号線ＳＬを互いに交差させる時、交差部ＷＸ１において、少なくとも一方の映像信号線ＳＬは、導電層ＣＬ２とは異なる導電層に形成されている必要がある。ここで、図１１に対する変形例として、バイパス配線ＳＬｂを導電層ＣＬ１に形成することもできる。しかし、導電層ＣＬ１には、複数の走査信号線ＧＬが配置されている。このため、コンタクト部ＷＣ１およびＷＣ２を含むバイパス配線ＳＬｂと、走査信号線ＧＬとの干渉を回避する必要がある。この結果、図８に示す額縁領域ＦＲＡの範囲が大きくなる懸念がある。一方、図１１に示すように、バイパス配線ＳＬｂが導電層ＣＬ３に形成されている場合、走査信号線ＧＬとバイパス配線ＳＬｂとが干渉することはない。この結果、複数の映像信号線ＳＬ同士を互いに交差させた場合でも、額縁領域ＦＲＡの範囲が大きくなることを抑制できる。

また、図５と図９とを参照すると、図９に示す配線ＷＲ１および配線ＷＲ２には、互いに反対の極性を持つ電位が供給される。例えば図５に示す表示フレームでは、列Ｒ１に接続される配線ＷＲ１（図９参照）には正の電位が供給され、列Ｒ２に接続される配線ＷＲ２（図９参照）には、負の電位が供給される。また、図５に示す表示フレームに続く、次の表示フレームでは、配線ＷＲ１に負の電位が供給され、配線ＷＲ２には正の電位が供給される。図９に示す配線ＷＧ１および配線ＷＧ２と、配線ＷＢ１および配線ＷＢ２のそれぞれにも、互いに反対の極性を持つ電位が供給される。

互いに隣り合い、かつ、同じ方向に延びる二本の配線のそれぞれに、互いに反対の極性を持つ電位が供給される場合、二本の配線に電流が流れることにより生じる磁束が互いに打ち消し合うので、二本の配線間の相互インダクタンスの影響を低減することができる。例えば図９に示す例の場合、迂回配線部ＷＲ１ｃおよび迂回配線部ＷＲ２ｃの間の相互インダクタンスの影響を低減できる。同様に、迂回配線部ＷＲ１ｃおよび迂回配線部ＷＧ２ｃの間の相互インダクタンスの影響を低減できる。迂回配線部ＷＢ１ｃおよび迂回配線部ＷＢ２ｃの間の相互インダクタンスの影響を低減できる。

ところで、本実施の形態のように、映像信号線ＳＬの種類が、赤用、緑用、および青用の３種類である場合、映像信号線ＳＬの本数は、走査信号線ＧＬの本数の３倍である。したがって、図９に示すように、平面視において隣り合う走査信号線ＧＬの間に２本の映像信号線ＳＬを配置する場合には、走査信号線ＧＬの数が不足する。この走査信号線ＧＬの不足分を補う方法として、例えば図１２に示す例では、複数の走査信号線ＧＬのうちの一部は、額縁領域ＦＲＡにおいて、複数（図１２では２本）の配線に分岐している。図１２は、図７に示す複数の走査信号線の構成例を示す平面図である。図１２に示す構造は、以下のように表現することができる。複数の走査信号線は、一つの延在配線部ＧＬｒに接続される複数の迂回配線部を有する走査信号線を含む。言い換えれば、複数の走査信号線の一部は、第１の延在配線部ＧＬｒに接続される第１の迂回配線と、上記第１の延在配線部ＧＬｒに接続され、かつ第１の迂回配線部と離間して延びる第２の迂回配線と、を備える。

また、図示は省略するが、上記した走査信号線ＧＬの不足分を補う別の変形例として、複数の迂回配線部ＧＬｃの間に、接地電位が供給される配線が配置されている場合がある。

図１３は、図９に対する変形例である表示装置の第２導電層の一部分を拡大して示す拡大平面図である。図１３では、第１導電層に形成される走査信号線ＧＬを点線で示し、第３導電層に形成される配線を一点鎖線で示す。また、図１３では、表示領域ＤＡと額縁領域ＦＲＡとの境界を二点鎖線で示している。

図１３に示す変形例の場合、映像信号線ＳＬの本数に対して走査信号線ＧＬの本数が不足しない。図１３に示す表示装置ＤＳＰ２は、額縁領域ＦＲＡにおいて、隣り合う走査信号線ＧＬの迂回配線部ＧＬｃの間に、３本の映像信号線ＳＬの迂回配線部ＳＬｃ２が配置されている点で、図９に示す表示装置ＤＳＰ１と相違する。図１３に示す例では、隣り合う走査信号線ＧＬの迂回配線部ＧＬｃ間には、迂回配線部ＷＲ１ｃ、ＷＲ２ｃ、およびＷＲ３ｃのセット、迂回配線部ＷＧ１ｃ、ＷＧ２ｃ、およびＷＧ３ｃのセット、および迂回配線部ＷＢ１ｃ、ＷＢ２ｃ、およびＷＢ３ｃのセットがそれぞれ配置されている。迂回配線部ＷＲ１ｃ、ＷＲ２ｃ、およびＷＲ３ｃのセット、迂回配線部ＷＧ１ｃ、ＷＧ２ｃ、およびＷＧ３ｃのセット、および迂回配線部ＷＢ１ｃ、ＷＢ２ｃ、およびＷＢ３ｃのセットのそれぞれには、同じタイミングで書き込み信号が伝送される。

迂回配線部ＷＲ３ｃおよびＷＧ１ｃは導電層ＣＬ２において互いに隣り合う。また、迂回配線部ＷＲ３ｃおよびＷＧ１ｃには、互いに異なるタイミングで、書き込み信号が伝送されるので、容量性のカップリングに起因する電位ズレを抑制する必要がある。ただし、平面視（詳しくは、導電層ＣＬ２を透過して視た透過平面視）において、迂回配線部ＷＲ３ｃとＷＧ１ｃとの間には、走査信号線ＧＬの迂回配線部ＧＬｃが配置され、迂回配線部ＷＲ３ｃおよびＷＧ１ｃの延在方向に沿って延びている。このため、迂回配線部ＷＲ３ｃとＷＧ１ｃとの間に生じる寄生容量は小さい。したがって、配線ＷＲ３と配線ＷＧ１との間では、容量性のカップリングによる電位ズレの影響は小さい。

また、表示装置ＤＳＰ２の場合、額縁領域ＦＲＡにおいて、一本の走査信号線ＧＬに対して三本の映像信号線ＳＬが配置されている。このため、走査信号線ＧＬの本数が映像信号線ＳＬの本数に対して不足しない。このため、図１２に示すように、複数の走査信号線ＧＬのうちの一部を分岐するなどの対策を行う必要がない点で好ましい。

図１４は、図９に対する他の変形例である表示装置の第２導電層の一部分を拡大して示す拡大平面図である。図１４では、第１導電層に形成される走査信号線ＧＬを点線で示し、第３導電層に形成される配線を一点鎖線で示す。また、図１４では、表示領域ＤＡと額縁領域ＦＲＡとの境界を二点鎖線で示している。

図１４に示す表示装置ＤＳＰ１の場合、六本の映像信号線ＳＬのセットに対して、映像信号線ＳＬが互いに交差する交差部は、配線ＷＲ２と配線ＷＢ１とが交差する交差部ＷＸ３のみである。このように、交差部の数を低減できれば、交差部に接続されるコンタクト部ＷＣ１およびＷＣ２（図１１参照）の数を低減することができる。例えば、額縁領域ＦＲＡに配置される迂回配線部ＳＬｃ２の配置ピッチがさらに小さくなり、コンタクト部ＷＣ１およびＷＣ２を配置するスペースが困難になる場合に有効である。

表示装置ＤＳＰ３の場合、額縁領域ＦＲＡにおいて、迂回配線部ＷＧ１ｃは、迂回配線部ＷＲ１ｃとＷＲ２ｃとの間に配置される。迂回配線部ＷＧ２ｃは、迂回配線部ＷＢ１ｃとＷＢ２ｃとの間に配置される。上記したように、配線ＷＲ１と配線ＷＲ２には、互いに異なる電位が供給される。このため、迂回配線部ＷＲ１ｃおよび迂回配線部ＷＲ２ｃに書き込み信号が伝送される時、書き込み信号の電流により生じる磁束は、互いに打ち消し合う。したがって、配線ＷＲ１および配線ＷＲ２に書き込み信号が伝送されたことによる配線ＷＧ１に対するノイズ影響を低減できる。

（実施の形態２）
上記実施の形態１では、映像信号線ＳＬの迂回配線部の殆どが導電層ＣＬ２に形成されている実施態様について説明した。本願発明者は、上記実施の形態１に対して、額縁領域ＦＲＡの面積をさらに低減させる方法として、図１０および図１１に示す導電層ＣＬ３を迂回配線部の配置スペースとして活用する構造について検討を行った。本実施の形態２では、映像信号線ＳＬの迂回配線部を複数の導電層で引き回す場合の実施態様について説明する。図１５は、図９に対する他の変形例である表示装置の第２導電層の一部分を拡大して示す拡大平面図である。図１６は、図１５のＡ－Ａ線に沿った拡大断面図である。図１５では、第１導電層に形成される走査信号線ＧＬを点線で示し、第３導電層に形成される配線（バイパス配線ＳＬｂを含む）を一点鎖線で示す。また、図１５では、表示領域ＤＡと額縁領域ＦＲＡとの境界を二点鎖線で示している。

図１５および図１６に示す表示装置ＤＳＰ４は、映像信号線ＳＬの迂回配線部が、導電層ＣＬ２および導電層ＣＬ３（図１６参照）を利用して引き回されている点で、図９および図１０に示す表示装置ＤＳＰ１と相違する。言い換えれば、表示装置ＤＳＰ２が備える映像信号線ＳＬの複数の迂回配線部は、図１６に示す導電層ＣＬ２に配置される複数の迂回配線部（第２層迂回配線部）ＳＬｃ２と、導電層ＣＬ３に配置される複数の迂回配線部（第３層迂回配線部）ＳＬｃ３と、を含む。また、図１６に示す迂回配線部ＳＬｃ３の配置ピッチＳＬｐ３は、図８に示す導電層ＣＬ２の、表示領域ＤＡにおける映像信号線ＳＬの配置ピッチＳＬｐ１より小さい。例えば、迂回配線部ＳＬｃ３の配置ピッチＳＬｐ３は、９μｍである。

表示装置ＤＳＰ４の場合、導電層ＣＬ３を迂回配線部ＳＬｃ３の配置スペースとして活用するので、図８に示す表示装置ＤＳＰ１と比較して、額縁領域ＦＲＡの面積をさらに小さくすることができる。

表示装置ＤＳＰ４の場合、迂回配線部ＷＲ２ｃ、ＷＧ２ｃ、およびＷＢ２ｃのそれぞれは、導電層ＣＬ３（図１６参照）に形成される。また、迂回配線部ＷＲ１ｃ、ＷＲ３ｃ、ＷＧ１ｃ、ＷＧ３ｃ、ＷＢ１ｃ、およびＷＢ３ｃのそれぞれは、導電層ＣＬ２に形成される。迂回配線部ＷＲ２ｃは、迂回配線部ＷＲ１ｃおよび迂回配線部ＷＲ３ｃに沿って延びる。迂回配線部ＷＧ２ｃは、迂回配線部ＷＧ１ｃおよび迂回配線部ＷＧ３ｃに沿って延びる。迂回配線部ＷＢ２ｃは、迂回配線部ＷＢ１ｃおよび迂回配線部ＷＢ３ｃに沿って延びる。

図１５に示すように、表示装置ＤＳＰ４の場合、隣り合う迂回配線部ＧＬｃの間には、迂回配線部ＷＲ１ｃ、ＷＲ２ｃ、およびＷＲ３ｃのセット、迂回配線部ＷＧ１ｃ、ＷＧ２ｃ、およびＷＧ３ｃのセット、および迂回配線部ＷＢ１ｃ、ＷＢ２ｃ、およびＷＢ３ｃのセットがそれぞれ配置されている。迂回配線部ＷＲ１ｃ、ＷＲ２ｃ、およびＷＲ３ｃのセット、迂回配線部ＷＧ１ｃ、ＷＧ２ｃ、およびＷＧ３ｃのセット、および迂回配線部ＷＢ１ｃ、ＷＢ２ｃ、およびＷＢ３ｃのセットのそれぞれには、同じタイミングで書き込み信号が伝送される。

迂回配線部ＷＲ３ｃおよびＷＧ１ｃは導電層ＣＬ２において互いに隣り合う。また、迂回配線部ＷＲ３ｃおよびＷＧ１ｃには、互いに異なるタイミングで、書き込み信号が伝送されるので、容量性のカップリングに起因する電位ズレを抑制する必要がある。ただし、平面視（詳しくは、導電層ＣＬ２を透過して視た透過平面視）において、迂回配線部ＷＲ３ｃとＷＧ１ｃとの間には、走査信号線ＧＬの迂回配線部ＧＬｃが配置され、迂回配線部ＷＲ３ｃおよびＷＧ１ｃの延在方向に沿って延びている。このため、迂回配線部ＷＲ３ｃとＷＧ１ｃとの間に生じる寄生容量は小さい。したがって、配線ＷＲ３と配線ＷＧ１との間では、容量性のカップリングによる電位ズレの影響は小さい。この点は、図１３を用いて説明した表示装置ＤＳＰ２と同様である。

表示装置ＤＳＰ４の場合、図１に示す表示装置ＤＳＰ１よりも額縁領域ＦＲＡの面積を低減させ、かつ、容量性のカップリングに起因する電位ズレを抑制できる。ただし、図１７および図１８に示す表示装置ＤＳＰ５のように、額縁領域ＦＲＡに、遮光性の金属配線に重なるようにシール材ＳＬＭが配置されることがある。額縁領域ＦＲＡにシール材ＳＬＭが形成される場合、シール材ＳＬＭを硬化させる光、詳しくは紫外線を透過させることを考慮した構造にする必要がある。図１７は、図１に示す表示装置の変形例である表示装置が備える透明領域ＴＲＡの周囲の額縁領域に配置されるシール材の平面形状を示す拡大平面図である。図１８は、図１７のＡ－Ａ線に沿った拡大断面図である。

図１７に示すように、表示装置ＤＳＰ１は、平面視において、透明領域ＴＲＡを囲むように額縁領域ＦＲＡに配置され、基板１０（図１８参照）と基板２０（図１８参照）とを接着固定するシール材ＳＬＭを備える。シール材ＳＬＭは、図１および図２に示す周辺領域ＰＦＡに配置されるシール材ＳＬＭと同じ材料から成り、液晶層ＬＱ（図１８参照）が表示領域ＤＡの外側に漏れ出すことを抑制する機能を備える。図１８に示す例では、透明領域ＴＲＡには、基板１０や基板２０が存在するが、額縁領域ＦＲＡの全周に亘って、シール材ＳＬＭが配置されている場合、透明領域ＴＲＡにおいて、基板１０（または基板１０および基板２０）を貫通する開口部を形成することができる。

シール材ＳＬＭは、紫外線硬化性樹脂を含む。表示装置ＤＳＰ５の製造工程では、図１７に示すようにシール材ＳＬＭを塗布した後、シール材ＳＬＭに紫外線を照射する。これにより、図１８に示すシール材ＳＬＭが硬化し、基板１０と基板２０とが接着される。また、基板１０と基板２０との間に配置されたシール材ＳＬＭを硬化させることにより、透明領域ＴＲＡに表示領域ＤＡから液晶が侵入することを防止できる。この場合、透明領域ＴＲＡの透明性が液晶により阻害されることを防止できる。額縁領域ＦＲＡの紫外線硬化性樹脂であるシール材ＳＬＭを硬化させる際には、シール材ＳＬＭに紫外線を照射する必要がある。シール材ＳＬＭと基板２０との間には、遮光膜ＢＭが配置されている。シール材ＳＬＭは、遮光膜ＢＭに覆われる。このため、シール材ＳＬＭに紫外線を照射しようとすれば、基板１０側から紫外線を照射する必要がある。

図１６に示す表示装置ＤＳＰ４の場合、迂回配線部ＷＲ１ｃとＷＲ３ｃとの間、迂回配線部ＷＧ１ｃとＷＧ３ｃとの間、迂回配線部ＷＢ１ｃとＷＢ３ｃとの間、の領域は、走査信号線ＧＬの迂回配線部ＧＬｃと重ならない。しかし、迂回配線部ＷＲ１ｃとＷＲ３ｃとの間、迂回配線部ＷＧ１ｃとＷＧ３ｃとの間、迂回配線部ＷＢ１ｃとＷＢ３ｃとの間、の領域は、それぞれ、迂回配線部ＳＬｃ３に覆われている。したがって、図１８に示す基板１０側から照射される紫外線をシール材ＳＬＭに照射するためには、迂回配線部ＷＲ１ｃとＷＲ３ｃとの間、迂回配線部ＷＧ１ｃとＷＧ３ｃとの間、迂回配線部ＷＢ１ｃとＷＢ３ｃとの間、の領域に紫外線が透過する光路を設ける必要がある。

図１９は、図１７および図１８に示す表示装置において、図１５に示すＡ－Ａ線に対応する断面における拡大断面図である。また、図２０は、図１９に対する変形例である表示装置の拡大断面図である。

図１９に示す表示装置ＤＳＰ５は、導電層ＣＬ３に形成された映像信号線ＳＬの迂回配線部ＳＬｃ３と、導電層ＣＬ１に形成された走査信号線ＧＬの迂回配線部ＧＬｃとが、基板１０（図１８参照）の厚さ方向（Ｚ方向）において重なっている。図１９に示す例では、走査信号線ＧＬの迂回配線部ＧＬｃのそれぞれは、全体が映像信号線ＳＬの迂回配線部ＳＬｃ３に覆われている。この場合、図１９に示すように、迂回配線部ＷＲ３ｃとＷＧ１ｃとの間、および迂回配線部ＷＧ３ｃとＷＢ１ｃとの間にそれぞれ光路ＵＶＰが形成される。光路ＵＶＰは、紫外線の導光路である。つまり、図１９に示す構造の場合、光路ＵＶＰが設けられているので、図１８に示すシール材ＳＬＭを紫外線により硬化させることが可能である。

図１９に示す表示装置ＤＳＰ５の場合、互いに異なるタイミングで書き込み信号が伝送される、迂回配線部ＷＲ３ｃとＷＧ１ｃとが、間に走査信号線ＧＬを介さずに隣り合っている。このため、迂回配線部ＷＲ３ｃとＷＧ１ｃとの間には、０．１７ｐＦ（ピコファラッド）程度の寄生容量が形成される。図１９に示す例では、複数の配線間に形成される寄生容量のうち、迂回配線部ＷＲ３ｃとＷＧ１ｃとの間、および迂回配線部ＷＧ３ｃとＷＢ１ｃとの間に形成される寄生容量が最も大きい。

図１９に示す導電層ＣＬ３に形成される迂回配線部ＳＬｃ３と、その迂回配線部ＳＬｃ３と重なる位置に配置される迂回配線部ＳＬｃ２と、にそれぞれ異なるタイミングで書き込み信号が伝送された場合、迂回配線部ＳＬｃ３とＳＬｃ２との間には大きな寄生容量が形成される。例えば、図１９に示す導電層ＣＬ３に形成される、迂回配線部ＷＲ２ｃと迂回配線部ＷＧ２ｃとの位置を交換した場合、迂回配線部ＷＧ２ｃとＷＲ１ｃとの間に形成される寄生容量は、０．４７ｐＦ程度になる。この値は、上記した０．１７ｐＦの約３倍の値である。そこで、図１９に示す表示装置ＤＳＰ５の場合、相対的に小さい０．１７ｐＦの寄生容量が形成されることは許容し、０．４７ｐＦの寄生容量が形成されることを抑制している。

図１９に示す構造例は以下のように表現できる。すなわち、導電層ＣＬ２に形成される迂回配線部ＷＲ１ｃおよびＷＲ３ｃのそれぞれは、導電層ＣＬ３に形成される迂回配線部ＷＲ２ｃ、および導電層ＣＬ１に形成される走査信号線ＧＬの迂回配線部ＧＬｃのそれぞれと重なる。また、配線ＷＲ１、ＷＲ２、およびＷＲ３のそれぞれには、同じタイミングで書き込み信号が伝送される。

また、図２０に示す表示装置ＤＳＰ６の場合、光路ＵＶＰの幅は、図１９に示す例より狭いが、寄生容量の値は低減することができる。表示装置ＤＳＰ６の場合、導電層ＣＬ３に形成される迂回配線部ＳＬｃ３と導電層ＣＬ１に形成される迂回配線部ＧＬｃとは、それぞれ一部分が重なっている。また、迂回配線部ＳＬｃ３は、迂回配線部ＧＬｃと重ならない部分を有する。また、迂回配線部ＧＬｃは、迂回配線部ＳＬｃ３と重ならない部分を有する。また、迂回配線部ＷＲ３ｃとＷＧ１ｃとは、導電層ＣＬ２において互いに隣り合う。迂回配線部ＷＧ１ｃから走査信号線ＧＬの迂回配線部ＧＬｃまでの最短距離は、迂回配線部ＷＧ１ｃから迂回配線部ＷＲ３ｃまでの最短距離より短い。この場合、迂回配線部ＷＲ３ｃとＷＧ１ｃとの間にある走査信号線ＧＬの迂回配線部ＧＬｃは、迂回配線部ＷＲ３ｃおよびＷＧ１の容量性カップリングを抑制するシールドとして機能する。この結果、配線ＷＲ３およびＷＧ１に、互いに異なるタイミングで書き込み信号が伝送された場合でも、迂回配線部ＷＲ３ｃとＷＧ１ｃとの間に形成される寄生容量の値は、少なくとも０．１７ｐＦより小さい。

図２０に示す構造例は以下のように表現できる。すなわち、導電層ＣＬ２に形成される迂回配線部ＷＲ１ｃおよびＷＲ３ｃのそれぞれは、導電層ＣＬ３に形成される迂回配線部ＷＲ２ｃと重なる。また、迂回配線部ＷＲ１ｃおよびＷＲ３ｃのいずれか一方は、導電層ＣＬ１に形成される走査信号線ＧＬの迂回配線部ＧＬｃと重なる。また、迂回配線部ＷＲ１ｃおよびＷＲ３ｃの他方は、導電層ＣＬ１に形成される走査信号線ＧＬの迂回配線部ＧＬｃと重ならず、かつ、導電層ＣＬ１において互いに隣り合う迂回配線部ＧＬｃの間に配置される。また、配線ＷＲ１、ＷＲ２、およびＷＲ３のそれぞれには、同じタイミングで書き込み信号が伝送される。

なお、図示は省略するが、本実施の形態の変形例として、図１４を用いて説明した表示装置ＤＳＰ３のような配線レイアウトを適用することができる。すなわち、図１４に示すレイアウトの変形例として、迂回配線部ＷＧ１ｃおよびＷＧ２ｃが、図１６に示す導電層ＣＬ３に形成されている場合がある。また、図１４に示すレイアウトの変形例として、走査信号線ＧＬの迂回配線部ＧＬｃの位置を図１９に示す例、あるいは図２０に示す例と同様にずらす場合がある。

なお、図１８に示す表示領域ＤＡの基板１０および２０が透明領域ＴＲＡ全体に延びている場合、透明領域ＴＲＡに液晶層ＬＱが存在してもよい。例えば、図１８に対する変形例として、額縁領域ＦＲＡにシール材ＳＬＭが設けられない場合もある。この場合、シール材ＳＬＭを硬化させるための光路ＵＶＰ（図１９参照）を設ける必要がないので、図１６に示す構造を適用できる。

（実施の形態３）
上記実施の形態１では、図５に示すように、信号選択回路ＡＳＷの動作により一つの信号Ｓ１またはＳ２が３本の映像信号線ＳＬに順番に入力される動作方法について説明した。しかし、信号選択回路ＡＳＷの動作には種々の変形例がある。例えば、図２１に変形例として示すように、一つの信号Ｓ１またはＳ２が６本の映像信号線ＳＬのうちの２本ずつに順番に入力される動作方法もある。図５に示す例においては１本の信号線Ｓ１から分岐した３本の信号線ＳＬに対し３つのスイッチＡＳＷ１，ＡＳＷ２，およびＡＳＷ３が電気的に接続されているのに対し、図２１で示す例においては１本の信号線Ｓ１から分岐した６本の信号線ＳＬに対し６つのスイッチ（信号線駆動回路）ＡＳＷ１，ＡＳＷ２，ＡＳＷ３，ＡＳＷ４，ＡＳＷ５，およびＡＳＷ６がそれぞれ接続されている。本実施の形態では、図２１に示す信号選択回路により動作する表示装置における、額縁領域周辺の配線レイアウトについて説明する。

図２１は、図５に対する変形例である信号選択回路の動作方法のイメージを示す説明図である。また、図２２～図２４のそれぞれは、複数の映像信号配線の配列順序の例を示すイメージ図である。図２２～図２４では、図９等に示す拡大平面図に代えて、映像信号線ＳＬの延在配線部ＳＬｒおよび迂回配線部の配列順序と、複数の映像信号線ＳＬが互いに交差する状態を模式的に示している。また、図２２～図２４では、例えば図１０に示す迂回配線部ＷＲ１ｃとＷＲ２ｃのように、容量性カップリングを低減させるためのセット（ブロックまたはグループとも呼ぶ）になっている迂回配線部の符号を、二点鎖線で囲んで示している。

図２２に示す配線レイアウトの例は、図１３や図１５を用いて説明した配線レイアウトと同様である。図２２の配線レイアウトの場合、同じタイミングで書き込み信号が印加される３個の迂回配線部がセットになっている。

図２３に示す配線レイアウトの例は、図１４を用いて説明した配線レイアウトと同様である。図２３の配線レイアウトの場合、緑色用の映像信号が伝送される迂回配線部ＷＧ１ｃ～ＷＧ６ｃのそれぞれの両隣に、赤色用の映像信号が伝送される迂回配線部ＷＲ１ｃ～ＷＲ６ｃ、または青色用の映像信号が伝送される迂回配線部ＷＢ１ｃ～ＷＢ６ｃが配置される。各セットにおいて、迂回配線部ＷＧ１ｃ～ＷＧ６ｃの両隣の迂回配線部には、同じタイミングで書き込み信号が伝送される。

図２４に示す配線レイアウトの例は、図２３に示す配線レイアウトの変形例である。図２３の配線レイアウトの場合、赤用の映像信号が伝送される迂回配線部ＷＲ１ｃ～ＷＲ６ｃのそれぞれの両隣に、緑色用の映像信号が伝送される迂回配線部ＷＧ１ｃ～ＷＧ６ｃ、または青色用の映像信号が伝送される迂回配線部ＷＢ１ｃ～ＷＢ６ｃが配置される。各セットにおいて、迂回配線部ＷＲ１ｃ～ＷＲ６ｃの両隣の迂回配線部には、同じタイミングで書き込み信号が伝送される。図２４に示す例では、図２１に示すスイッチＡＳＷ１、ＡＳＷ２、およびＡＳＷ３のうち、スイッチＡＳＷ１が最も先にオンになる。言い換えれば、図２４に示す複数の迂回配線部のうち、迂回配線部ＷＲ１ｃ～ＷＲ６ｃには、他の迂回配線部よりも先に、書き込み信号が伝送される。

本発明は、表示装置に利用可能である。

１０，２０ 基板
１０ｆ，２０ｆ 前面（主面、面）
１１－１６ 絶縁膜
２０ｂ 背面（主面、面）
ＡＬ１，ＡＬ２ 配向膜
ＡＳＷ 信号選択回路
ＡＳＷ１，ＡＳＷ２，ＡＳＷ３，ＡＳＷ４，ＡＳＷ５，ＡＳＷ６ スイッチ（信号線駆動回路）
Ｂ１，Ｂ２，Ｂｎ，Ｂｎ－１，Ｇ１，Ｇ２，Ｇ６，Ｇｎ、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ６，Ｒｎ 列
ＢＬ バックライトユニット（光源）
ＢＭ 遮光膜
ＣＢ１ 駆動ＩＣチップ
ＣＤ 共通電位供給回路
ＣＥ 共通電極
ＣＦＢ，ＣＦＧ，ＣＦＲ カラーフィルタ
ＣＬ１，ＣＬ２，ＣＬ３，ＣＬ４，ＣＬ５ 導電層
ＣＳ 容量素子
ＣＶＭ カバー部材
ＤＡ 表示領域
ＤＳＰ１，ＤＳＰ２，ＤＳＰ３，ＤＳＰ４，ＤＳＰ５，ＤＳＰ６ 表示装置
ＦＲＡ 額縁領域
ＦＷＢ１ 配線基板
ＧＤ 走査駆動回路（ゲート駆動回路）
ＧＬ 走査信号線
ＧＬｃ，ＳＬｃ２，ＳＬｃ３ 迂回配線部
ＧＬｅ，ＳＬｅ 端部
ＧＬｒ，ＳＬｒ 延在配線部
Ｇｓｉ 走査信号
ＬＱ 液晶層
ＭＷ３ 配線
ＯＣ１ 絶縁膜
ＯＤ１，ＯＤ２ 光学素子
ＰＥ 画素電極
ＰＦＡ 周辺領域（非表示領域）
ＰＸ 画素（ピクセル）
ＰＸｓ 副画素（サブピクセル）
Ｓ１，Ｓ２ 信号
ＳＤ 映像信号駆動回路
ＳＬ，ＳＬＢ，ＳＬＧ，ＳＬＲ 映像信号線
ＳＬｂ バイパス配線（迂回配線）
ＳＬＤ 配線
ＳＬＭ シール材（接着材）
ＳＬｐ１，ＳＬｐ２，ＳＬｐ３ 配置ピッチ（中心間距離）
Ｓｐｉｃ 映像信号
ＴＭ１ 端子
Ｔｒ１ トランジスタ（トランジスタ素子）
ＴＲＡ 透明領域
ＵＶＰ 光路
ＷＢ１－ＷＢ６，ＷＧ１－ＷＧ６，ＷＲ１－ＷＲ６ 配線（映像信号線）
ＷＢ１ｃ－ＷＢ６ｃ，ＷＧ１ｃ－ＷＧ６ｃ，ＷＲ１ｃ－ＷＲ６ｃ 迂回配線部
ＷＣ１，ＷＣ２ コンタクト部
ＷＸ１，ＷＸ２，ＷＸ３ 交差部

Claims (9)

1. 表示領域を備える第１基板と、
   平面視において前記表示領域の内側にある透明領域と、
   平面視において前記表示領域と前記透明領域との間にある額縁領域と、
   前記表示領域において前記第１基板上の第１導電層に形成され、第１方向に延びる複数の走査信号線と、
   前記表示領域において前記第１基板上の第２導電層に形成され、前記第１方向と交差する第２方向に延びる複数の映像信号線と、
   を有し、
   前記複数の映像信号線は、
   前記額縁領域に配置される第１迂回配線、および前記第１迂回配線の両端に接続され、かつ、前記第２方向に延びる２本の第１延在配線を有する第１映像信号線と、
   前記額縁領域に配置される第２迂回配線、および前記第２迂回配線の両端に接続され、かつ、前記第２方向に延びる２本の第２延在配線を有する第２映像信号線と、
   前記額縁領域に配置される第３迂回配線、および前記第３迂回配線の両端に接続され、かつ、前記第２方向に延びる２本の第３延在配線を有する第３映像信号線と、
   を含み、
   平面視において、前記第３迂回配線と前記第１迂回配線とは互いに隣り合い、
   平面視において、前記第１映像信号線および前記第２映像信号線は、前記額縁領域で互いに交差し、
   前記第１映像信号線および前記第３映像信号線には、同じタイミングで書き込み信号が伝送され、
   前記第２映像信号線には、前記第１および第３映像信号線に書き込み信号が伝送されるタイミングとは異なるタイミングで書き込み信号が伝送される、表示装置。
2. 請求項１において、
   前記第１および第２映像信号線を含む前記複数の映像信号線の一部は、前記額縁領域に配置される複数の迂回配線、および前記複数の迂回配線の両端に接続され、かつ、前記第２方向に延びる複数の延在配線を含み、
   前記額縁領域において、互いに隣り合う前記複数の迂回配線の中心間距離は、前記表示領域において、互いに隣り合う前記複数の延在配線の中心間距離より短い、表示装置。
3. 請求項２において、
   前記第１映像信号線および前記第２映像信号線は、前記額縁領域に設けられた第１交差部および第２交差部のそれぞれにおいて、互いに交差する、表示装置。
4. 請求項１において、
   前記第２映像信号線の前記第２迂回配線の一部分は、前記第１および第２導電層とは異なる第３導電層に形成され、
   前記第２迂回配線の前記第３導電層に形成された部分は、前記第１映像信号線と前記第２映像信号線とが交差する第１交差部を含む、表示装置。
5. 請求項１において、
   平面視において、前記第１迂回配線と前記第２迂回配線との間には、前記複数の走査信号線のうちの一本に含まれる第１走査信号線が配置され、
   前記第１走査信号線は、前記第１迂回配線と前記第２迂回配線との間において、前記第１および第２迂回配線の延在方向に沿って延びる、表示装置。
6. 請求項５において、
   平面視において、前記第３迂回配線と前記第１迂回配線との間には、前記第１および第３迂回配線の延在方向に沿って延びる前記複数の走査信号線は配置されない、表示装置。
7. 請求項１において、
   前記第１映像信号線と前記第３映像信号線には、互いに反対の極性を持つ電位が供給される、表示装置。
8. 請求項６において、
   前記第３映像信号線の前記第３迂回配線は、前記第１および第２導電層とは異なる第３導電層に形成され、
   前記第３迂回配線は、前記第２導電層に形成される前記第２映像信号線の前記第２迂回配線に沿って延びる、表示装置。
9. 請求項８において、
   前記第１映像信号線および前記第３映像信号線には、同じタイミングで書き込み信号が伝送され、
   前記第２映像信号線には、前記第１および第３映像信号線に書き込み信号が伝送されるタイミングとは異なるタイミングで書き込み信号が伝送される、表示装置。

Images