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JP7540923B2 - Processing liquid supplying apparatus, substrate processing apparatus, and processing liquid supplying method - Google Patents

Processing liquid supplying apparatus, substrate processing apparatus, and processing liquid supplying method Download PDF

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JP7540923B2 JP2020155583A JP2020155583A JP7540923B2 JP 7540923 B2 JP7540923 B2 JP 7540923B2 JP 2020155583 A JP2020155583 A JP 2020155583A JP 2020155583 A JP2020155583 A JP 2020155583A JP 7540923 B2 JP7540923 B2 JP 7540923B2
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Description

この発明は、基板に処理液を供給する装置、処理液で基板を処理する装置、および、基板に処理液を供給する方法に関する。処理の対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置および有機ＥＬ(Electroluminescence)表示装置等のＦＰＤ(Flat Panel Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板等が含まれる。 This invention relates to an apparatus for supplying a treatment liquid to a substrate, an apparatus for treating a substrate with a treatment liquid, and a method for supplying a treatment liquid to a substrate. Substrates to be treated include, for example, semiconductor wafers, substrates for FPDs (Flat Panel Displays) such as liquid crystal displays and organic EL (Electroluminescence) displays, substrates for optical disks, substrates for magnetic disks, substrates for magneto-optical disks, substrates for photomasks, ceramic substrates, and substrates for solar cells.

処理液によって基板の表面を処理する手法が知られている。基板上には緻密な回路パターンが形成されている。そのため、基板への不純物の付着を抑制するために、処理液を送液する配管には、処理液中の不純物を除去するフィルタが設けられている（下記特許文献１を参照）。 A method is known for treating the surface of a substrate with a treatment liquid. A dense circuit pattern is formed on the substrate. Therefore, in order to prevent impurities from adhering to the substrate, a filter is provided in the pipe that delivers the treatment liquid to remove impurities from the treatment liquid (see Patent Document 1 below).

特開２０１９－３６６３９号公報JP 2019-36639 A

特許文献１に開示されているフィルタは、そのポア径よりも大きい不純物を捕獲するように構成されている。そのため、使用時間の経過とともにフィルタが目詰まりを起こして不純物除去効率が低下するので、定期的に交換する必要がある。
そこで、この発明の１つの目的は、フィルタの不純物除去効率が低下した場合に、フィルタを交換することなく不純物除去効率を回復させることができる処理液供給装置、基板処理装置および処理液供給方法を提供することである。 The filter disclosed in Patent Document 1 is configured to capture impurities larger than the pore diameter of the filter, and therefore the filter becomes clogged over time and its impurity removal efficiency decreases, so the filter needs to be replaced periodically.
Therefore, one object of the present invention is to provide a processing liquid supplying apparatus, a substrate processing apparatus, and a processing liquid supplying method that can restore the impurity removal efficiency of the filter when the impurity removal efficiency of the filter has decreased, without replacing the filter.

この発明の一実施形態は、基板に処理液を供給して前記基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する処理液供給装置を提供する。この処理液供給装置は、処理液中の不純物を除去する不純物除去ユニットと、前記不純物除去ユニットから処理液を排液する排液流路と、前記不純物除去ユニットから前記処理ユニットに向けて処理液を送る供給流路とを備える。 One embodiment of the present invention provides a processing liquid supplying device that supplies processing liquid to a substrate and a processing unit that processes the substrate. The processing liquid supplying device includes an impurity removal unit that removes impurities from the processing liquid, a drainage flow path that drains the processing liquid from the impurity removal unit, and a supply flow path that sends the processing liquid from the impurity removal unit to the processing unit.

そして、前記不純物除去ユニットが、処理液を貯留する貯留タンクと、前記貯留タンクに収容されている感温性ゲルフィルタであって、転移温度を境界として、親水性および疎水性のうちの一方から他方に変化する感温性ゲルを有する感温性ゲルフィルタと、前記貯留タンクから処理液を引き込み、前記貯留タンク内に処理液を戻すことで処理液を循環させる循環流路であって、前記循環する処理液を前記感温性ゲルフィルタに通過させる循環流路と、前記転移温度以上の温度に前記感温性ゲルフィルタを加熱する加熱ユニットとを含む。 The impurity removal unit includes a storage tank for storing a treatment liquid, a thermosensitive gel filter contained in the storage tank, the thermosensitive gel filter having a thermosensitive gel that changes from one of hydrophilicity and hydrophobicity to the other at a transition temperature, a circulation flow path that draws the treatment liquid from the storage tank and returns the treatment liquid to the storage tank to circulate the treatment liquid, the circulation flow path passing the circulating treatment liquid through the thermosensitive gel filter, and a heating unit that heats the thermosensitive gel filter to a temperature equal to or higher than the transition temperature.

この装置によれば、感温性ゲルを有する感温性ゲルフィルタが貯留タンクに収容されている。感温性ゲルは、転移温度を境界として、親水性および疎水性の一方から他方に変化する性質を有する。
処理液中に存在する不純物は、主に、金属や有機物等の疎水性物質である。そのため、感温性ゲルが疎水性であるときには、感温性ゲルと不純物との間の疎水性相互作用によって感温性ゲルが不純物を捕獲する。一方、感温性ゲルが親水性であるときには、感温性ゲルと不純物との間の疎水性相互作用が充分に作用せず、感温性ゲルから不純物が放出される。そのため、感温性ゲルフィルタは、加熱ユニットで転移温度以上の温度に加熱されることによって、処理液中の不純物を捕獲可能な状態と、処理液中に不純物を放出可能な状態とのいずれかに切り替えられる。 According to this device, a thermosensitive gel filter having a thermosensitive gel is contained in a storage tank. The thermosensitive gel has a property of changing from one of hydrophilicity and hydrophobicity to the other at a transition temperature.
The impurities present in the treatment liquid are mainly hydrophobic substances such as metals and organic matter. Therefore, when the thermosensitive gel is hydrophobic, the thermosensitive gel captures the impurities due to the hydrophobic interaction between the thermosensitive gel and the impurities. On the other hand, when the thermosensitive gel is hydrophilic, the hydrophobic interaction between the thermosensitive gel and the impurities does not work sufficiently, and the impurities are released from the thermosensitive gel. Therefore, the thermosensitive gel filter is switched between a state in which it can capture impurities in the treatment liquid and a state in which it can release impurities into the treatment liquid by being heated to a temperature equal to or higher than the transition temperature by the heating unit.

そこで、感温性ゲルが疎水性であるときに循環流路によって処理液を循環させて感温性ゲルフィルタに通過させることによって、貯留タンクおよび循環流路を流れる処理液中の不純物を感温性ゲルフィルタに捕獲させて処理液中から不純物を除去できる。そして、不純物が充分に除去された処理液を、供給流路を介して処理ユニットに供給できる。
不純物を捕獲することによって感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合には、感温性ゲルを親水性に変化させた状態で処理液を感温性ゲルフィルタに通過させれば、感温性ゲルフィルタから不純物を解放させ、不純物を処理液中に放出できる。これにより、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率を回復させることができる。そして、不純物を多量に含んだ処理液を、排液流路を介して貯留タンクから排除することで、不純物除去ユニットを再び利用可能な状態に戻すことができる。 Therefore, when the thermosensitive gel is hydrophobic, the treatment liquid is circulated through the circulation flow path and passed through the thermosensitive gel filter, so that impurities in the treatment liquid flowing through the storage tank and the circulation flow path are captured by the thermosensitive gel filter and removed from the treatment liquid.The treatment liquid from which the impurities have been sufficiently removed can then be supplied to the treatment unit via the supply flow path.
When the impurity removal efficiency of the thermosensitive gel filter is reduced by capturing impurities, the impurities can be released from the thermosensitive gel filter and released into the treatment liquid by passing the treatment liquid through the thermosensitive gel filter while the thermosensitive gel is in a hydrophilic state. This allows the impurity removal efficiency of the thermosensitive gel filter to be restored. The treatment liquid containing a large amount of impurities can then be removed from the storage tank via the drainage flow path, allowing the impurity removal unit to be restored to a usable state again.

以上のように、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合であっても、感温性ゲルフィルタを交換することなく不純物除去効率を回復させることができる。
感温性ゲルは、下限臨界溶液温度（ＬＣＳＴ: Lower Critical Solution Temperature）以上の温度になると疎水性を示すＬＣＳＴ型感温性ゲルであってもよい。ＬＣＳＴは、ＬＣＳＴ型感温性ゲルの転移温度に相当する。 As described above, even if the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter decreases, the impurity removal efficiency can be restored without replacing the temperature-sensitive gel filter.
The thermosensitive gel may be a lower critical solution temperature (LCST) type thermosensitive gel that becomes hydrophobic at a temperature equal to or higher than the LCST. The LCST corresponds to the transition temperature of the LCST type thermosensitive gel.

また、感温性ゲルは、上限臨界溶液温度（ＵＣＳＴ: Upper Critical Solution Temperature）よりも低い温度になると疎水性を示すＵＣＳＴ型感温性ゲルであってもよい。ＵＣＳＴは、ＵＣＳＴ型感温性ゲルの転移温度に相当する。
感温性ゲルがＬＣＳＴ型感温性ゲルである場合、加熱によって親水性から疎水性へ感温性ゲルの状態を速やかに変化させることができる。そのため、感温性ゲルフィルタによる不純物の捕獲を速やかに開始することができる。ひいては、不純物が除去された処理液の供給流路への供給を速やかに開始できる。 The thermosensitive gel may be an upper critical solution temperature (UCST) type thermosensitive gel that becomes hydrophobic at a temperature lower than the upper critical solution temperature (UCST). The UCST corresponds to the transition temperature of the UCST type thermosensitive gel.
When the thermosensitive gel is an LCST type thermosensitive gel, the state of the thermosensitive gel can be quickly changed from hydrophilic to hydrophobic by heating, so that the thermosensitive gel filter can quickly start capturing impurities, and thus the supply of the treatment liquid from which the impurities have been removed to the supply flow path can quickly start.

温度調節によって、親水性から疎水性へ感温性ゲルを変化させることを、感温性ゲルを疎水化すると表現する。同様に、温度調節によって、疎水性から親水性へ感温性ゲルを変化させることを、感温性ゲルを親水化すると表現する。
この発明の一実施形態では、前記不純物除去ユニットが、前記循環流路によって循環される処理液中の不純物量を測定する不純物量測定ユニットをさらに含む。そして、前記感温性ゲルが疎水性である状態で前記不純物量測定ユニットによって測定される不純物量が基準不純物量よりも少ない場合には、前記処理液が前記供給流路に送り出され、前記感温性ゲルが疎水性である状態で前記不純物量測定ユニットによって測定される不純物量が基準不純物量以上である場合には、前記感温性ゲルを親水化した後に前記処理液が前記排液流路に送り出される。 Changing a thermosensitive gel from hydrophilic to hydrophobic by adjusting the temperature is referred to as making the thermosensitive gel hydrophobic. Similarly, changing a thermosensitive gel from hydrophobic to hydrophilic by adjusting the temperature is referred to as making the thermosensitive gel hydrophilic.
In one embodiment of the present invention, the impurity removal unit further includes an impurity amount measuring unit for measuring the amount of impurities in the treatment liquid circulated by the circulation flow path, and when the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit in a state where the thermosensitive gel is hydrophobic is less than a reference impurity amount, the treatment liquid is sent to the supply flow path, and when the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit in a state where the thermosensitive gel is hydrophobic is equal to or greater than the reference impurity amount, the treatment liquid is sent to the drainage flow path after hydrophilizing the thermosensitive gel.

この構成によれば、処理液の送出先が、不純物量測定ユニットによって測定される不純物量に基づいて切り替えられる。したがって、処理液の送出先を、感温性ゲルの不純物除去効率に基づいて、適切に切り替えることができる。
この発明の一実施形態では、前記感温性ゲルフィルタが、前記処理液を通過させつつ前記感温性ゲルを保持するフィルタ部材をさらに含む。そのため、親水性の感温性ゲルが吸液して膨潤した場合であっても、感温性ゲルを感温性ゲルフィルタの外部に流出させることなく貯留タンク内の所定の位置に維持できる。 According to this configuration, the destination of the treatment liquid is switched based on the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit, and therefore the destination of the treatment liquid can be appropriately switched based on the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel.
In one embodiment of the present invention, the thermosensitive gel filter further includes a filter member that retains the thermosensitive gel while allowing the treatment liquid to pass therethrough, so that even if the hydrophilic thermosensitive gel absorbs liquid and swells, the thermosensitive gel can be maintained at a predetermined position in the storage tank without flowing out of the thermosensitive gel filter.

この発明の一実施形態では、前記貯留タンクの内部が、前記感温性ゲルフィルタによって、第１収容部および第２収容部に仕切られている。前記第１収容部は、前記感温性ゲルフィルタを挟んで前記第２収容部よりも処理液の循環方向の上流側に位置する。そして、前記第１収容部には、前記排液流路が接続されており、前記第２収容部には、前記供給流路が接続されている。 In one embodiment of the present invention, the inside of the storage tank is divided into a first storage section and a second storage section by the temperature-sensitive gel filter. The first storage section is located upstream of the second storage section in the circulation direction of the treatment liquid, sandwiching the temperature-sensitive gel filter therebetween. The first storage section is connected to the drainage flow path, and the second storage section is connected to the supply flow path.

そのため、感温性ゲルフィルタよりも循環方向の上流側の不純物が比較的多い処理液を排液流路に送ることができる。一方、感温性ゲルフィルタよりも循環方向の下流側の不純物が比較的少ない処理液を供給流路に送ることができる。
この発明の一実施形態では、前記供給流路が、前記不純物除去ユニットから送出される処理液が流れる上流供給流路と、前記上流供給流路を介して前記不純物除去ユニットから供給される処理液を貯留する供給タンクと、前記供給タンク内の処理液を前記処理ユニットに供給する下流供給流路とを含む。 Therefore, the treatment liquid having a relatively large amount of impurities upstream of the temperature-sensitive gel filter in the circulation direction can be sent to the drainage flow path, while the treatment liquid having a relatively small amount of impurities downstream of the temperature-sensitive gel filter in the circulation direction can be sent to the supply flow path.
In one embodiment of the present invention, the supply flow path includes an upstream supply flow path through which the processing liquid discharged from the impurity removal unit flows, a supply tank for storing the processing liquid supplied from the impurity removal unit via the upstream supply flow path, and a downstream supply flow path for supplying the processing liquid in the supply tank to the processing unit.

この構成によれば、不純物が充分に除去された処理液が、不純物除去ユニットから送出され、供給タンクに貯留される。そのため、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率を回復させるために不純物除去ユニットから供給流路への処理液の送出が一時的に停止されている場合であっても、供給タンク内の処理液を処理ユニットに供給できる。したがって、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率を回復させつつ、処理ユニットに処理液を安定して供給できる。 According to this configuration, the processing liquid from which impurities have been sufficiently removed is sent out from the impurity removal unit and stored in the supply tank. Therefore, even if the delivery of processing liquid from the impurity removal unit to the supply flow path is temporarily stopped in order to restore the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter, the processing liquid in the supply tank can be supplied to the processing unit. Therefore, the processing liquid can be stably supplied to the processing unit while restoring the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter.

この発明の一実施形態では、前記循環流路が、前記貯留タンクから処理液が送られる上流循環流路と、前記上流循環流路を介して前記貯留タンクから供給される処理液を貯留する循環タンクと、前記循環タンク内の処理液を前記貯留タンクに戻す下流循環流路とを含む。
この構成によれば、循環流路の一部である循環タンク内に処理液を貯留することができる。そのため、循環流路および貯留タンクを循環する処理液の量を増大させることができる。 In one embodiment of the present invention, the circulation flow path includes an upstream circulation flow path through which the processing liquid is sent from the storage tank, a circulation tank that stores the processing liquid supplied from the storage tank via the upstream circulation flow path, and a downstream circulation flow path that returns the processing liquid in the circulation tank to the storage tank.
According to this configuration, the treatment liquid can be stored in the circulation tank, which is a part of the circulation flow path, and therefore the amount of treatment liquid circulating through the circulation flow path and the storage tank can be increased.

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記処理ユニットから排出される汚染処理液を前記不純物除去ユニットに戻す帰還流路をさらに備える。そのため、処理ユニットから排出される汚染処理液を再利用することで、基板処理に要するコストおよび環境負荷を低減できる。
その一方で、処理ユニットから排出される汚染処理液中には不純物が多量に存在している。そのため、汚染処理液を不純物除去ユニットに戻した場合、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下しやすい。しかしながら、感温性ゲルフィルタを含む不純物除去ユニットを用いれば、汚染処理液からの不純物の除去によって不純物除去効率が低下した場合であっても、温度調節によって容易に不純物を放出できる。そのため、感温性ゲルフィルタを交換することなく汚染処理液から不純物を除去できる。 In one embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus further includes a return flow path for returning the contaminant processing liquid discharged from the processing unit to the impurity removal unit, thereby reducing costs and environmental loads required for substrate processing by reusing the contaminant processing liquid discharged from the processing unit.
On the other hand, a large amount of impurities is present in the contaminant treatment liquid discharged from the treatment unit. Therefore, when the contaminant treatment liquid is returned to the impurity removal unit, the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter is likely to decrease. However, if an impurity removal unit including a temperature-sensitive gel filter is used, the impurities can be easily released by adjusting the temperature even if the impurity removal efficiency decreases due to the removal of impurities from the contaminant treatment liquid. Therefore, impurities can be removed from the contaminant treatment liquid without replacing the temperature-sensitive gel filter.

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記処理ユニットで使用されていない新処理液を前記循環タンクに供給する新液流路をさらに備える。
処理ユニットで使用されていない新処理液中の不純物量は、処理ユニットで使用された汚染処理液と比較して非常に少ない。しかしながら、感温性ゲルフィルタを含む不純物除去ユニットを用いて不純物量を新処理液中から一層低減すれば、清浄度が一層高い処理液を処理ユニットに供給できる。 In a preferred embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus further includes a new liquid flow path that supplies new processing liquid that has not been used in the processing unit to the circulation tank.
The amount of impurities in the new processing solution that has not been used in the processing unit is very small compared to the contaminated processing solution that has been used in the processing unit. However, if the amount of impurities in the new processing solution is further reduced by using an impurity removal unit including a temperature-sensitive gel filter, a processing solution with a higher level of purity can be supplied to the processing unit.

この発明の一実施形態では、前記不純物除去ユニットが、前記感温性ゲルフィルタを洗浄する洗浄液を前記貯留タンクに供給する洗浄液流路をさらに含む。そのため、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合には、貯留タンク内に洗浄液を供給して感温性ゲルフィルタを速やかに洗浄できる。
この発明の一実施形態では、前記不純物除去ユニットが、複数設けられている。そして、各前記不純物除去ユニットが、処理液の送出先を前記供給流路および前記排液流路のいずれかに切り替えるように構成されている。そのため、不純物除去ユニットの感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合であっても、その不純物除去ユニットの感温性ゲルフィルタの感温性ゲルから不純物を放出させて不純物除去効率を回復させつつ、別の不純物除去ユニットを用いて処理液から不純物を充分に除去し、その処理液を供給流路に送出できる。 In one embodiment of the present invention, the impurity removal unit further includes a cleaning liquid flow path that supplies a cleaning liquid for cleaning the temperature-sensitive gel filter to the storage tank, so that when the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter decreases, the temperature-sensitive gel filter can be quickly cleaned by supplying a cleaning liquid into the storage tank.
In one embodiment of the present invention, a plurality of the impurity removal units are provided, and each of the impurity removal units is configured to switch the destination of the treatment liquid to either the supply flow path or the drainage flow path. Therefore, even if the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter of an impurity removal unit decreases, impurities can be released from the temperature-sensitive gel of the temperature-sensitive gel filter of the impurity removal unit to recover the impurity removal efficiency, while impurities can be sufficiently removed from the treatment liquid using another impurity removal unit, and the treatment liquid can be sent to the supply flow path.

この発明の一実施形態では、前記処理液供給装置と前記処理ユニットとを含む、基板処理装置が提供される。この基板処理装置によれば、上述の効果を奏する。
この発明の他の実施形態は、処理液で基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する処理液供給方法を提供する。この処理液供給方法は、処理液を貯留する貯留タンク内に収容されている感温性ゲルフィルタに含まれる感温性ゲルが疎水性となっている状態で前記感温性ゲルフィルタに処理液を通過させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記処理液中の不純物を捕獲させて前記処理液中から不純物を除去する不純物除去工程と、前記不純物除去工程の後、前記処理ユニットに処理液を供給する供給流路へ向けて前記貯留タンクから前記処理液を送り出す供給工程と、前記供給工程の後、前記感温性ゲルが親水性である状態で前記感温性ゲルフィルタに洗浄液を通過させることによって、前記感温性ゲルフィルタから前記洗浄液に不純物を放出させる不純物放出工程と、前記不純物放出工程の後、排液流路を介して、前記貯留タンクから前記処理液を排除する排液工程とを含む。 According to one embodiment of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus including the processing liquid supply device and the processing unit, and the above-mentioned effects are achieved by the substrate processing apparatus.
Another embodiment of the present invention provides a method for supplying a processing liquid to a processing unit for processing a substrate with the processing liquid, the method including an impurity removing step of passing the processing liquid through a thermosensitive gel filter contained in a storage tank for storing the processing liquid while the thermosensitive gel contained in the thermosensitive gel filter is in a hydrophobic state, thereby causing the thermosensitive gel filter to capture impurities in the processing liquid and remove the impurities from the processing liquid, a supply step of sending the processing liquid from the storage tank toward a supply flow path that supplies the processing liquid to the processing unit after the impurity removing step, an impurity releasing step of passing a cleaning liquid through the thermosensitive gel filter while the thermosensitive gel is in a hydrophilic state after the supply step, thereby releasing impurities from the temperature-sensitive gel filter into the cleaning liquid, and a draining step of discharging the processing liquid from the storage tank via a drainage flow path after the impurity releasing step.

この方法によれば、感温性ゲルが疎水性であるときに処理液を感温性ゲルフィルタに通過させることによって、処理液中の不純物を感温性ゲルフィルタに捕獲させて処理液中から不純物を除去できる。そして、不純物が充分に除去された処理液を、供給流路を介して処理ユニットに供給できる。
不純物を捕獲することによって感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合には、感温性ゲルを親水化した状態で貯留タンク内の処理液を感温性ゲルフィルタに通過させることで、感温性ゲルフィルタによって捕獲されていた不純物を処理液中に放出できる。これにより、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率を回復させることができる。そして、排液流路を介して、処理液とともに多量の不純物を貯留タンクから排除することで、不純物除去ユニットを再び利用可能な状態に戻すことができる。 According to this method, when the thermosensitive gel is hydrophobic, impurities in the treatment liquid are captured by the thermosensitive gel filter and removed from the treatment liquid by passing the treatment liquid through the thermosensitive gel filter, and the treatment liquid from which the impurities have been sufficiently removed can be supplied to the treatment unit via the supply flow path.
When the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter is reduced by capturing impurities, the impurities captured by the temperature-sensitive gel filter can be released into the treatment liquid by passing the treatment liquid in the storage tank through the temperature-sensitive gel filter while the temperature-sensitive gel is in a hydrophilic state. This allows the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter to be restored. Then, a large amount of impurities can be removed from the storage tank together with the treatment liquid via the drainage flow path, making it possible to return the impurity removal unit to a usable state again.

以上のように、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合であっても、感温性ゲルフィルタを交換することなく不純物除去効率を回復させることができる。
この発明の他の実施形態によれば、前記処理液供給方法が、前記感温性ゲルフィルタを転移温度以上の温度に加熱することによって、前記感温性ゲルを疎水性に変化させる疎水化工程と、前記感温性ゲルフィルタを前記転移温度よりも低い温度に冷却することによって、前記感温性ゲルの状態を親水性に変化させる親水化工程とをさらに含む。 As described above, even if the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter decreases, the impurity removal efficiency can be restored without replacing the temperature-sensitive gel filter.
According to another embodiment of the present invention, the treatment liquid supplying method further includes a hydrophobization step of heating the thermosensitive gel filter to a temperature equal to or higher than a transition temperature to change the thermosensitive gel to a hydrophobic state, and a hydrophilization step of cooling the thermosensitive gel filter to a temperature lower than the transition temperature to change the state of the thermosensitive gel to a hydrophilic state.

この方法によれば、加熱によって感温性ゲルが疎水化し、冷却によって感温性ゲルが親水化する。すなわち、感温性ゲルが、ＬＣＳＴ型感温性ゲルである。
この場合、たとえばヒータによる加熱によって感温性ゲルを速やかに疎水化させることができる。そのため、感温性ゲルフィルタによる不純物の捕獲を速やかに開始できる。ひいては、不純物が除去された処理液の供給流路への供給を速やかに開始できる。 According to this method, the thermosensitive gel becomes hydrophobic when heated and becomes hydrophilic when cooled, that is, the thermosensitive gel is an LCST type thermosensitive gel.
In this case, the thermosensitive gel can be quickly rendered hydrophobic by heating with a heater, for example, so that the thermosensitive gel filter can quickly start capturing impurities, and thus the supply of the treatment liquid from which the impurities have been removed to the supply flow path can quickly start.

この発明の他の実施形態によれば、前記不純物除去工程が、前記貯留タンクから液体を引き込み前記貯留タンク内に液体を戻す循環流路によって処理液を循環させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記処理液を通過させる循環除去工程を含む。そして、前記不純物放出工程が、前記循環流路によって前記洗浄液を循環させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記洗浄液を通過させる循環洗浄工程を含む。 According to another embodiment of the present invention, the impurity removal step includes a circulation removal step of passing the treatment liquid through the temperature-sensitive gel filter by circulating the treatment liquid through a circulation flow path that draws liquid from the storage tank and returns the liquid to the storage tank. And the impurity release step includes a circulation cleaning step of passing the cleaning liquid through the temperature-sensitive gel filter by circulating the cleaning liquid through the circulation flow path.

この方法によれば、循環流路によって処理液を循環させて感温性ゲルフィルタに処理液を通過させることによって処理液から不純物が除去され、循環流路によって洗浄液を循環させて感温性ゲルフィルタに洗浄液を通過させることによって感温性ゲルフィルタから不純物が放出される。液体の循環によって処理液および洗浄液を感温性ゲルフィルタに効率良く通過させることができる。これにより、処理液から不純物の除去、および、不純物除去効率の回復が速やかに行われる。 According to this method, impurities are removed from the treatment liquid by circulating the treatment liquid through the circulation flow path and passing the treatment liquid through the temperature-sensitive gel filter, and impurities are released from the temperature-sensitive gel filter by circulating the cleaning liquid through the circulation flow path and passing the cleaning liquid through the temperature-sensitive gel filter. Circulating the liquid allows the treatment liquid and cleaning liquid to pass through the temperature-sensitive gel filter efficiently. This allows impurities to be removed from the treatment liquid and the impurity removal efficiency to be quickly restored.

この発明の他の実施形態によれば、前記処理液供給方法が、前記処理ユニットで使用された汚染処理液を、帰還流路を介して前記貯留タンクに帰還させる帰還工程をさらに含む。そして、前記循環除去工程において前記循環流路によって循環される前記処理液が、前記汚染処理液であり、前記循環洗浄工程において前記循環流路によって循環される前記洗浄液が、前記汚染処理液である。 According to another embodiment of the present invention, the processing liquid supply method further includes a return process for returning the contaminated processing liquid used in the processing unit to the storage tank via a return flow path. The processing liquid circulated by the circulation flow path in the circulation removal process is the contaminated processing liquid, and the cleaning liquid circulated by the circulation flow path in the circulation cleaning process is the contaminated processing liquid.

この方法によれば、処理ユニットから排出される汚染処理液が貯留タンクに帰還する。すなわち、汚染処理液が再利用される。これにより、基板処理に要するコストおよび環境負荷を低減できる。
その一方で、汚染処理液中には不純物が多量に存在している。そのため、汚染処理液を不純物除去ユニットに戻した場合、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下しやすい。しかしながら、感温性ゲルフィルタを用いれば、汚染処理液からの不純物の除去によって不純物除去効率が低下した場合であっても、温度調節によって容易に不純物を放出できる。そのため、感温性ゲルフィルタを交換することなく汚染処理液から不純物を除去できる。 According to this method, the contaminated processing liquid discharged from the processing unit is returned to the storage tank, i.e., the contaminated processing liquid is reused, thereby reducing the cost and environmental load required for substrate processing.
On the other hand, the contamination treatment liquid contains a large amount of impurities. Therefore, when the contamination treatment liquid is returned to the impurity removal unit, the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter is likely to decrease. However, if a temperature-sensitive gel filter is used, the impurities can be easily released by adjusting the temperature even if the impurity removal efficiency decreases due to the removal of impurities from the contamination treatment liquid. Therefore, impurities can be removed from the contamination treatment liquid without replacing the temperature-sensitive gel filter.

さらに、感温性ゲルフィルタに不純物を捕獲させるための処理液、および、感温性ゲルフィルタから不純物を放出させるための洗浄液として、汚染処理液が用いられる。そのため、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した際には、循環流路によって循環される液体の液種を変更する必要がないため、不純物除去効率の回復に速やかに開始できる。したがって、汚染処理液とは別の種類の洗浄液を感温性ゲルフィルタに通過させる構成と比較して、不純物を感温性ゲルフィルタから速やかに放出させることができる。 Furthermore, a contamination treatment liquid is used as a treatment liquid for trapping impurities in the temperature-sensitive gel filter, and as a cleaning liquid for releasing impurities from the temperature-sensitive gel filter. Therefore, when the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter decreases, there is no need to change the type of liquid circulated by the circulation flow path, so that the impurity removal efficiency can be quickly restored. Therefore, compared to a configuration in which a different type of cleaning liquid from the contamination treatment liquid is passed through the temperature-sensitive gel filter, impurities can be quickly released from the temperature-sensitive gel filter.

この発明の他の実施形態によれば、前記不純物放出工程が、前記貯留タンクに前記洗浄液を供給して前記感温性ゲルフィルタを前記洗浄液に浸漬させ、前記貯留タンク内の前記洗浄液を前記排液流路から排液して前記貯留タンク内に排液流を形成する浸漬洗浄工程を含む。
この構成によれば、貯留タンク内に供給された洗浄液に感温性ゲルフィルタが浸漬される。これにより、洗浄液中に感温性ゲルから不純物が放出される。その後、貯留タンク内の洗浄液を排液流路から排液することによって貯留タンク内に排液流が形成される。洗浄液中に放出された不純物が、この排液流によって洗浄液とともに貯留タンク内から除去される。これにより、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率を回復させることができる。 According to another embodiment of the present invention, the impurity release process includes an immersion cleaning process in which the cleaning liquid is supplied to the storage tank, the temperature-sensitive gel filter is immersed in the cleaning liquid, and the cleaning liquid in the storage tank is drained from the drainage flow path to form a drainage flow in the storage tank.
According to this configuration, the temperature-sensitive gel filter is immersed in the cleaning liquid supplied into the storage tank. This causes impurities to be released from the temperature-sensitive gel into the cleaning liquid. The cleaning liquid in the storage tank is then drained from the drainage flow path to form a drainage flow path in the storage tank. The impurities released into the cleaning liquid are removed from the storage tank together with the cleaning liquid by this drainage flow path. This allows the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter to be restored.

この発明の他の実施形態によれば、前記貯留タンクとして、第１貯留タンクおよび第２貯留タンクが設けられている。前記不純物放出工程が、前記第１貯留タンク内に収容されている第１感温性ゲルフィルタに含まれる第１感温性ゲルが親水性である状態で、前記第１感温性ゲルフィルタに洗浄液を通過させることによって、前記第１感温性ゲルフィルタから前記洗浄液に不純物を放出させる工程を含む。そして、前記不純物除去工程は、前記不純物放出工程が実行されている間に、前記第２貯留タンク内に収容されている第２感温性ゲルフィルタに含まれる前記第２感温性ゲルが疎水性である状態で前記第２貯留タンク内の処理液を前記第２感温性ゲルフィルタに通過させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記処理液中の不純物を捕獲させて前記処理液中から不純物を除去する工程を含む。 According to another embodiment of the present invention, a first storage tank and a second storage tank are provided as the storage tanks. The impurity releasing step includes a step of releasing impurities from the first storage tank into the cleaning liquid by passing a cleaning liquid through the first storage tank while the first temperature-sensitive gel contained in the first storage tank is hydrophilic. The impurity removing step includes a step of causing the processing liquid in the second storage tank to pass through the second temperature-sensitive gel filter while the second temperature-sensitive gel contained in the second storage tank is hydrophobic, thereby causing the temperature-sensitive gel filter to capture the impurities in the processing liquid and removing the impurities from the processing liquid while the impurity releasing step is being performed.

この方法によれば、第１貯留タンク内に収容されている第１感温性ゲルフィルタから洗浄液に不純物を放出させている間に、別の貯留タンク（第２貯留タンク）に収容されている第２感温性ゲルフィルタによって、処理液から不純物を充分に除去できる。
そのため、一方の感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合にであっても、その感温性ゲルフィルタの感温性ゲルから不純物を放出させて不純物除去効率を回復させつつ、別の感温性ゲルフィルタを用いて処理液から不純物を充分に除去し、その処理液を供給流路に送出できる。 According to this method, while impurities are being released into the cleaning liquid from the first temperature-sensitive gel filter contained in the first storage tank, impurities can be sufficiently removed from the treatment liquid by the second temperature-sensitive gel filter contained in another storage tank (second storage tank).
Therefore, even if the impurity removal efficiency of one of the temperature-sensitive gel filters decreases, the impurities can be released from the temperature-sensitive gel of that temperature-sensitive gel filter to restore the impurity removal efficiency, while the impurities can be sufficiently removed from the treatment liquid using another temperature-sensitive gel filter, and the treatment liquid can be sent to the supply flow path.

したがって、貯留タンク内の感温性ゲルフィルタの不純物除去効率を回復させつつ、別の貯留タンク内の感温性ゲルフィルタを用いて処理ユニットに処理液を安定して供給できる。
この発明のさらに他の実施形態は、処理液で基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する処理液供給方法を提供する。この処理液供給方法は、転移温度を境界として、親水性および疎水性のうちの一方から他方に変化する感温性ゲルを有する感温性ゲルフィルタを収容する貯留タンク内の処理液を循環させて、前記感温性ゲルフィルタに処理液を通過させる循環工程と、前記感温性ゲルが疎水性となる温度に前記感温性ゲルフィルタの温度を調節する温度調節工程と、前記感温性ゲルが疎水性となる温度に前記感温性ゲルフィルタの温度が調節されている状態で、前記感温性ゲルフィルタを通過する処理液の不純物量が所定の基準不純物量よりも少ないか否かを判定する不純物量判定工程とを含む。さらに、前記不純物量判定工程によって測定される不純物量が、前記基準不純物量よりも少ない場合には、前記処理ユニットに向けて処理液を送る供給流路に処理液を送出する供給工程が実行され、前記不純物量判定工程によって測定される不純物量が、前記基準不純物量以上である場合には、前記感温性ゲルが親水性となる温度に前記感温性ゲルフィルタの温度を調節した後、前記処理液を排液する排液流路に処理液を送出する排液工程が実行されるように、前記供給工程および前記排液工程が選択的に実行される。 Therefore, the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter in the storage tank can be restored, and the processing liquid can be stably supplied to the processing unit by using the temperature-sensitive gel filter in another storage tank.
Yet another embodiment of the present invention provides a processing liquid supplying method for supplying a processing liquid to a processing unit for processing a substrate with the processing liquid, the processing liquid supplying method including a circulating step of circulating the processing liquid in a storage tank accommodating a thermosensitive gel filter having a thermosensitive gel that changes from one of hydrophilicity and hydrophobicity to the other at a transition temperature, and passing the processing liquid through the thermosensitive gel filter, a temperature adjusting step of adjusting the temperature of the thermosensitive gel filter to a temperature at which the thermosensitive gel becomes hydrophobic, and an impurity amount determining step of determining whether an amount of impurities in the processing liquid passing through the thermosensitive gel filter is less than a predetermined reference impurity amount in a state in which the temperature of the thermosensitive gel filter is adjusted to the temperature at which the thermosensitive gel becomes hydrophobic. Furthermore, when the amount of impurities measured by the impurity amount determination process is less than the standard impurity amount, a supply process is performed in which the treatment liquid is sent to a supply flow path that sends the treatment liquid toward the treatment unit, and when the amount of impurities measured by the impurity amount determination process is equal to or greater than the standard impurity amount, the supply process and the drainage process are selectively performed so that a drainage process is performed in which the treatment liquid is sent to a drainage flow path that drains the treatment liquid after adjusting the temperature of the thermosensitive gel filter to a temperature at which the thermosensitive gel becomes hydrophilic.

この処理液供給方法によれば、上述の処理液供給方法と同様の効果を奏する。 This treatment liquid supply method provides the same effects as the treatment liquid supply method described above.

図１は、この発明の第１実施形態に係る基板処理装置の構成例を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a substrate processing apparatus according to a first embodiment of the present invention. 図２は、前記基板処理装置の主要部の電気的構成例を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing an example of the electrical configuration of the main parts of the substrate processing apparatus. 図３は、前記基板処理装置に備えられる不純物除去ユニットの動作例を説明するためのフローチャートである。FIG. 3 is a flow chart for explaining an example of the operation of the impurity removing unit provided in the substrate processing apparatus. 図４Ａは、前記基板処理装置に備えられる不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 4A is a schematic diagram for explaining an example of the operation of the impurity removing unit provided in the substrate processing apparatus. 図４Ｂは、前記不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 4B is a schematic diagram for explaining an example of the operation of the impurity removal unit. 図４Ｃは、前記不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 4C is a schematic diagram for explaining an example of the operation of the impurity removing unit. 図４Ｄは、前記不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 4D is a schematic diagram for explaining an example of the operation of the impurity removing unit. 図４Ｅは、前記不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 4E is a schematic diagram for explaining an example of the operation of the impurity removing unit. 図５は、この発明の第２実施形態に係る基板処理装置の構成例を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a substrate processing apparatus according to a second embodiment of the present invention. 図６Ａは、第２実施形態に係る基板処理装置に備えられる不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 6A is a schematic view for explaining an example of operation of the impurity removal unit provided in the substrate processing apparatus according to the second embodiment. 図６Ｂは、第２実施形態に係る不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 6B is a schematic diagram for explaining an example of the operation of the impurity removal unit according to the second embodiment. 図６Ｃは、第２実施形態に係る不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 6C is a schematic diagram for explaining an example of the operation of the impurity removal unit according to the second embodiment. 図６Ｄは、第２実施形態に係る不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 6D is a schematic diagram for explaining an example of the operation of the impurity removal unit according to the second embodiment. 図７は、この発明の第３実施形態に係る基板処理装置の構成例を示す模式図である。FIG. 7 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a substrate processing apparatus according to a third embodiment of the present invention. 図８Ａは、第３実施形態に係る基板処理装置に備えられる不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 8A is a schematic view for explaining an example of operation of the impurity removal unit provided in the substrate processing apparatus according to the third embodiment. 図８Ｂは、第３実施形態に係る不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 8B is a schematic diagram for explaining an example of the operation of the impurity removal unit according to the third embodiment. 図９は、この発明の第４実施形態に係る基板処理装置の構成例を示す模式図である。FIG. 9 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a substrate processing apparatus according to a fourth embodiment of the present invention. 図１０Ａは、第４実施形態に係る基板処理装置に備えられる不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 10A is a schematic view for explaining an example of the operation of the impurity removal unit provided in the substrate processing apparatus according to the fourth embodiment. 図１０Ｂは、第４実施形態に係る不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 10B is a schematic diagram for explaining an example of the operation of the impurity removal unit according to the fourth embodiment. 図１０Ｃは、第４実施形態に係る不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 10C is a schematic diagram for explaining an example of the operation of the impurity removal unit according to the fourth embodiment. 図１０Ｄは、第４実施形態に係る不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 10D is a schematic diagram for explaining an example of the operation of the impurity removal unit according to the fourth embodiment. 図１０Ｅは、第４実施形態に係る不純物除去ユニットの動作例を説明するための模式図である。FIG. 10E is a schematic diagram for explaining an example of the operation of the impurity removal unit according to the fourth embodiment. 図１１は、前記不純物除去ユニットに備えられる貯留タンクの変形例について説明するための模式図である。FIG. 11 is a schematic diagram for explaining a modified example of the storage tank provided in the impurity removing unit. 図１２は、第１実施形態に係る不純物除去ユニットと第４実施形態に係る不純物除去ユニットとを組み合わせた場合の基板処理装置の構成例を示す模式図である。FIG. 12 is a schematic diagram showing a configuration example of a substrate processing apparatus in which the impurity removal unit according to the first embodiment and the impurity removal unit according to the fourth embodiment are combined. 図１３は、第１実施形態に係る不純物除去ユニットに備えられる感温性ゲルがＵＣＳＴ型感温性ゲルである場合の、不純物除去ユニットの動作例を説明するためのフローチャートである。FIG. 13 is a flowchart for explaining an example of the operation of the impurity removal unit in the case where the thermosensitive gel provided in the impurity removal unit according to the first embodiment is a UCST type thermosensitive gel.

以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して説明する。
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１の構成例を示す模式図である。基板処理装置１は、半導体ウエハなどの円板状の基板Ｗを一枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置１は、処理液で基板Ｗを処理する処理ユニット２と、処理ユニット２に基板Ｗを搬送する搬送ロボット（図示せず）と、処理ユニット２に処理液を供給する処理液供給装置３と、基板処理装置１を制御するコントローラ４（図２を参照）とを含む。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
First Embodiment
1 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a substrate processing apparatus 1 according to a first embodiment of the present invention. The substrate processing apparatus 1 is a single-wafer type apparatus that processes disk-shaped substrates W, such as semiconductor wafers, one by one. The substrate processing apparatus 1 includes processing units 2 that process the substrates W with a processing liquid, a transport robot (not shown) that transports the substrates W to the processing units 2, a processing liquid supplying device 3 that supplies the processing liquid to the processing units 2, and a controller 4 (see FIG. 2) that controls the substrate processing apparatus 1.

処理ユニット２内で基板Ｗに対して供給される処理液には、薬液やリンス液等が含まれる。薬液は、たとえば、フッ酸（フッ化水素水：ＨＦ）である。薬液は、フッ酸に限られず、硫酸、酢酸、硝酸、塩酸、フッ酸、バッファードフッ酸（ＢＨＦ）、希フッ酸（ＤＨＦ）、アンモニア水、過酸化水素水、界面活性剤、腐食防止剤のうちの少なくとも１つを含む液であってもよい。これらを混合した薬液の例としては、ＳＰＭ（硫酸過酸化水素水混合液）、ＳＣ１（アンモニア過酸化水素水混合液：ＡＰＭ）、ＳＣ２（塩酸過酸化水素水混合液：ＨＰＭ）等が挙げられる。 The processing liquid supplied to the substrate W in the processing unit 2 includes chemical liquids and rinsing liquids. The chemical liquid is, for example, hydrofluoric acid (hydrogen fluoride: HF). The chemical liquid is not limited to hydrofluoric acid, and may be a liquid containing at least one of sulfuric acid, acetic acid, nitric acid, hydrochloric acid, hydrofluoric acid, buffered hydrofluoric acid (BHF), dilute hydrofluoric acid (DHF), ammonia water, hydrogen peroxide water, a surfactant, and a corrosion inhibitor. Examples of chemical liquids that are mixtures of these include SPM (sulfuric acid hydrogen peroxide mixture), SC1 (ammonia hydrogen peroxide mixture: APM), and SC2 (hydrochloric acid hydrogen peroxide mixture: HPM).

リンス液とは、たとえば、脱イオン水（Deionized Water: DIW）である。リンス液は、ＤＩＷに限られず、炭酸水、電解イオン水、オゾン水、希釈濃度（たとえば、１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下）の塩酸水、アンモニア水、還元水（水素水）、親水性の有機溶剤のうちの少なくとも１つを含む液であってもよい。
親水性の有機溶剤は、たとえば、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、メタノール、エタノール、およびアセトンのうちの少なくとも１つを含む液であってもよい。 The rinse liquid is, for example, deionized water (DIW). The rinse liquid is not limited to DIW, and may be a liquid containing at least one of carbonated water, electrolytic ionized water, ozone water, hydrochloric acid water with a dilute concentration (for example, 10 ppm to 100 ppm), ammonia water, reduced water (hydrogen water), and a hydrophilic organic solvent.
The hydrophilic organic solvent may be, for example, a liquid containing at least one of IPA (isopropyl alcohol), methanol, ethanol, and acetone.

処理ユニット２は、スピンチャック１０と、処理液ノズル１１と、カップ１２と、処理チャンバ１３とを含む。スピンチャック１０は、一枚の基板Ｗを水平な姿勢で保持しながら基板Ｗの中央部を通る鉛直な回転軸線Ａ１まわりに基板Ｗを回転させる。処理液ノズル１１は、基板Ｗの上面に処理液を供給する。カップ１２は、スピンチャック１０を取り囲み、基板Ｗから飛散する処理液を受ける。処理チャンバ１３は、スピンチャック１０、処理液ノズル１１およびカップ１２を収容する。処理ユニット２内で使用された処理液を汚染処理液という。したがって、カップ１２の底部から排出される処理液は、汚染処理液である。 The processing unit 2 includes a spin chuck 10, a processing liquid nozzle 11, a cup 12, and a processing chamber 13. The spin chuck 10 holds one substrate W in a horizontal position and rotates the substrate W around a vertical rotation axis A1 passing through the center of the substrate W. The processing liquid nozzle 11 supplies processing liquid to the upper surface of the substrate W. The cup 12 surrounds the spin chuck 10 and receives processing liquid scattered from the substrate W. The processing chamber 13 contains the spin chuck 10, the processing liquid nozzle 11, and the cup 12. The processing liquid used in the processing unit 2 is called a contaminated processing liquid. Therefore, the processing liquid discharged from the bottom of the cup 12 is a contaminated processing liquid.

スピンチャック１０は、複数のチャックピン１５と、スピンベース１６と、回転軸１７と、スピンモータ１８とを含む。複数のチャックピン１５は、スピンベース１６の上面に周方向に間隔を空けて配置されている。複数のチャックピン１５は、基板Ｗがスピンベース１６と一体回転可能なように、基板Ｗを把持する。回転軸１７は、回転軸線Ａ１に沿って鉛直方向に延びている。回転軸１７の上端は、スピンベース１６の下面中央に結合されている。スピンモータ１８は、回転軸１７に回転力を与えることによって、スピンベース１６および基板Ｗを回転させる。 The spin chuck 10 includes a plurality of chuck pins 15, a spin base 16, a rotating shaft 17, and a spin motor 18. The plurality of chuck pins 15 are arranged at intervals in the circumferential direction on the upper surface of the spin base 16. The plurality of chuck pins 15 grip the substrate W so that the substrate W can rotate integrally with the spin base 16. The rotating shaft 17 extends vertically along the rotation axis A1. The upper end of the rotating shaft 17 is coupled to the center of the lower surface of the spin base 16. The spin motor 18 applies a rotational force to the rotating shaft 17 to rotate the spin base 16 and the substrate W.

処理液供給装置３は、処理液中の不純物を除去する不純物除去ユニット２０と、不純物除去ユニット２０から処理液を排液する排液配管２１と、汚染処理液を処理ユニット２から不純物除去ユニット２０に戻す帰還配管２２と、不純物除去ユニット２０から処理ユニット２に向けて処理液を送る供給ユニット１９とを備えている。
供給ユニット１９は、不純物除去ユニット２０から送出される処理液が流れる上流供給配管２３と、上流供給配管２３を介して不純物除去ユニット２０から供給される処理液を貯留する供給タンク２４と、供給タンク２４内の処理液を処理ユニット２に供給する下流供給配管２５と、下流供給配管２５から供給タンク２４へ処理液を戻す供給側戻り配管２６とをさらに備えている。上流供給配管２３内の流路と、供給タンク２４の内部空間と、下流供給配管２５内の流路とによって、供給流路が構成されている。 The processing liquid supply device 3 includes an impurity removal unit 20 that removes impurities from the processing liquid, a drainage pipe 21 that drains the processing liquid from the impurity removal unit 20, a return pipe 22 that returns the contaminated processing liquid from the processing unit 2 to the impurity removal unit 20, and a supply unit 19 that sends the processing liquid from the impurity removal unit 20 to the processing unit 2.
The supply unit 19 further includes an upstream supply pipe 23 through which the processing liquid delivered from the impurity removal unit 20 flows, a supply tank 24 for storing the processing liquid supplied from the impurity removal unit 20 via the upstream supply pipe 23, a downstream supply pipe 25 for supplying the processing liquid in the supply tank 24 to the processing unit 2, and a supply-side return pipe 26 for returning the processing liquid from the downstream supply pipe 25 to the supply tank 24. A supply flow path is formed by the flow path in the upstream supply pipe 23, the internal space of the supply tank 24, and the flow path in the downstream supply pipe 25.

不純物除去ユニット２０は、処理液を貯留する貯留タンク３０と、貯留タンク３０に収容されている感温性ゲルフィルタ３１と、貯留タンク３０内の処理液を循環させる循環配管３２とを含む。
循環配管３２は、その内部に貯留タンク３０内の処理液を引き込み、循環配管３２内に引き込んだ処理液をその一端から他端まで移動させ、貯留タンク３０内に戻すことによって、処理液を循環させる。これにより、循環配管３２および貯留タンク３０を循環する処理液が感温性ゲルフィルタ３１内を通過する。循環配管３２は、その内部に循環流路を形成する配管である。 The impurity removal unit 20 includes a storage tank 30 for storing the treatment liquid, a temperature-sensitive gel filter 31 contained in the storage tank 30 , and a circulation pipe 32 for circulating the treatment liquid in the storage tank 30 .
The circulation pipe 32 draws the treatment liquid in the storage tank 30 into itself, moves the treatment liquid drawn into the circulation pipe 32 from one end to the other end, and returns the treatment liquid to the storage tank 30, thereby circulating the treatment liquid. As a result, the treatment liquid circulating through the circulation pipe 32 and the storage tank 30 passes through the temperature-sensitive gel filter 31. The circulation pipe 32 is a pipe that forms a circulation flow path therein.

貯留タンク３０は、処理液を貯留する内部空間３３を有する。貯留タンク３０の内部空間３３は、感温性ゲルフィルタ３１によって、第１収容部３３ａと第２収容部３３ｂとに仕切られている。第１収容部３３ａは、感温性ゲルフィルタ３１を挟んで第２収容部３３ｂよりも処理液の循環方向Ｃの上流側に位置する。循環配管３２の上流端は、第２収容部３３ｂに接続されており、循環配管３２の下流端は、第１収容部３３ａに接続されている。 The storage tank 30 has an internal space 33 for storing the treatment liquid. The internal space 33 of the storage tank 30 is divided into a first storage section 33a and a second storage section 33b by a temperature-sensitive gel filter 31. The first storage section 33a is located upstream of the second storage section 33b in the circulation direction C of the treatment liquid, sandwiching the temperature-sensitive gel filter 31 between them. The upstream end of the circulation pipe 32 is connected to the second storage section 33b, and the downstream end of the circulation pipe 32 is connected to the first storage section 33a.

この実施形態では、感温性ゲルフィルタ３１は、第２収容部３３ｂが第１収容部３３ａよりも上方に位置するように貯留タンク３０の内部空間３３を仕切っている。そのため、循環配管３２が処理液を循環させている間、循環配管３２の上流端が処理液の液面よりも下方に位置するように、循環配管３２は、貯留タンク３０の内部にまで延びている。
貯留タンク３０内には、貯留タンク３０内の処理液の液面の高さを検知する液面センサ３４が設けられている。液面センサ３４は、非接触式のレベルセンサが好ましく、たとえば、超音波式のレベルセンサであってもよい。 In this embodiment, the temperature-sensitive gel filter 31 divides the internal space 33 of the storage tank 30 such that the second storage section 33b is located above the first storage section 33a. Therefore, while the circulation pipe 32 circulates the treatment liquid, the circulation pipe 32 extends into the interior of the storage tank 30 such that the upstream end of the circulation pipe 32 is located below the liquid level of the treatment liquid.
A liquid level sensor 34 is provided in the storage tank 30 to detect the liquid level of the processing liquid in the storage tank 30. The liquid level sensor 34 is preferably a non-contact type level sensor, and may be, for example, an ultrasonic type level sensor.

不純物除去ユニット２０は、循環ポンプ４０、上流循環バルブ４１、不純物量測定ユニット４２、中間循環バルブ４３、下流循環バルブ４４、循環ヒータ４５、および、循環温度計４６を含む。循環ポンプ４０、上流循環バルブ４１、不純物量測定ユニット４２、中間循環バルブ４３、下流循環バルブ４４、循環ヒータ４５、および、循環温度計４６は、循環配管３２の上流端側から下流端側に向かって、この順番で介装されている。 The impurity removal unit 20 includes a circulation pump 40, an upstream circulation valve 41, an impurity amount measuring unit 42, an intermediate circulation valve 43, a downstream circulation valve 44, a circulation heater 45, and a circulation thermometer 46. The circulation pump 40, the upstream circulation valve 41, the impurity amount measuring unit 42, the intermediate circulation valve 43, the downstream circulation valve 44, the circulation heater 45, and the circulation thermometer 46 are arranged in this order from the upstream end to the downstream end of the circulation piping 32.

循環ポンプ４０は、貯留タンク３０内の処理液を循環配管３２に送り出す。上流循環バルブ４１、中間循環バルブ４３および下流循環バルブ４４は、循環配管３２内の循環流路を開閉する。
不純物量測定ユニット４２は、たとえば、液中パーティクル測定器および金属濃度測定器の少なくとも一方を含む機器である。液中パーティクル測定器は、サンプルに光を照射して、パーティクルからの光の散乱の強さを測り、そのパーティクルの大きさに比例した光強度を電気信号として取り出すことでパーティクル径およびパーティクル数を測定する機器である。 The circulation pump 40 pumps the treatment liquid in the storage tank 30 to the circulation pipe 32. The upstream circulation valve 41, the intermediate circulation valve 43, and the downstream circulation valve 44 open and close the circulation flow path in the circulation pipe 32.
The impurity amount measuring unit 42 is, for example, a device including at least one of a liquid-borne particle measuring device and a metal concentration measuring device. The liquid-borne particle measuring device is a device that measures particle diameters and particle counts by irradiating a sample with light, measuring the intensity of light scattered from particles, and extracting light intensity proportional to the size of the particles as an electrical signal.

金属濃度測定器は、イオン選択性電極法（ＩＳＥ: Ion Selective Electrode）を用いた電気化学的測定手法によって、液中の特定イオン濃度を測定する機器である。
循環温度計４６は、循環配管３２内の処理液の温度を検出する循環温度検出ユニットの一例である。
循環ヒータ４５は、循環配管３２内の処理液を加熱する。循環ヒータ４５は、加熱ユニットの一例である。循環配管３２内の流路において循環ヒータ４５によって加熱される循環加熱部分３２ａは、下流循環バルブ４４よりも下流側で、かつ、循環温度計４６よりも上流側に設定される。 A metal concentration meter is an instrument that measures the concentration of a specific ion in a liquid by an electrochemical measurement method using an ion selective electrode (ISE).
The circulation thermometer 46 is an example of a circulation temperature detection unit that detects the temperature of the processing liquid in the circulation pipe 32 .
The circulation heater 45 heats the treatment liquid in the circulation pipe 32. The circulation heater 45 is an example of a heating unit. A circulation heating portion 32a in the flow path in the circulation pipe 32 that is heated by the circulation heater 45 is set downstream of the downstream circulation valve 44 and upstream of the circulation thermometer 46.

循環ヒータ４５は、下流循環バルブ４４よりも下流側で、かつ、循環温度計４６よりも上流側の循環加熱部分３２ａを加熱する構成であれば、循環配管３２に介装されている構成でなくてもよく、循環配管３２を外部から加熱する構成であってもよい。
感温性ゲルフィルタ３１は、転移温度を境界として、親水性および疎水性の一方から他方に変化する性質を有する感温性ゲル５０と、処理液を通過させつつ感温性ゲル５０を保持するフィルタ部材５１とを含む。この実施形態では、フィルタ部材５１は、循環方向Ｃの両側から感温性ゲル５０を挟む一対のシート状フィルタ５２を含む。 As long as the circulation heater 45 is configured to heat the circulation heating portion 32a downstream of the downstream circulation valve 44 and upstream of the circulation thermometer 46, it does not have to be configured to be interposed in the circulation piping 32, and may be configured to heat the circulation piping 32 from the outside.
The thermosensitive gel filter 31 includes a thermosensitive gel 50 that changes from hydrophilicity or hydrophobicity to the other at a transition temperature, and a filter member 51 that holds the thermosensitive gel 50 while allowing the treatment liquid to pass through. In this embodiment, the filter member 51 includes a pair of sheet-like filters 52 that sandwich the thermosensitive gel 50 from both sides in the circulation direction C.

感温性ゲル５０は、転移温度を境界として、親疎水転移する高分子の共重合体である。親疎水転移とは、親水性および疎水性の一方から他方に変化する性質のことである。
処理液中に存在する不純物は、主に、金属や有機物等の疎水性物質である。そのため、感温性ゲル５０が疎水性であるときには、疎水性相互作用によって感温性ゲル５０が処理液中の不純物を捕獲（吸着）する。一方、感温性ゲル５０が親水性であるときには、疎水性相互作用が弱いため、感温性ゲル５０は、処理液中に不純物を放出する。感温性ゲル５０は、温度変化によって、疎水性および親水性の一方から他方に可逆的に変化する。感温性ゲル５０は、親水条件下では吸水して膨潤し、疎水条件下では脱水して収縮（凝集）する体積相転移を発現する。 The thermosensitive gel 50 is a polymer copolymer that undergoes hydrophilic-hydrophobic transition at a transition temperature. The hydrophilic-hydrophobic transition is a property that changes from one of hydrophilicity and hydrophobicity to the other.
The impurities present in the treatment liquid are mainly hydrophobic substances such as metals and organic matter. Therefore, when the thermosensitive gel 50 is hydrophobic, the thermosensitive gel 50 captures (adsorbs) the impurities in the treatment liquid due to hydrophobic interaction. On the other hand, when the thermosensitive gel 50 is hydrophilic, the hydrophobic interaction is weak, so the thermosensitive gel 50 releases the impurities into the treatment liquid. The thermosensitive gel 50 reversibly changes from one of hydrophobicity and hydrophilicity to the other due to temperature change. The thermosensitive gel 50 exhibits a volume phase transition in which it absorbs water and swells under hydrophilic conditions, and dehydrates and shrinks (aggregates) under hydrophobic conditions.

感温性ゲル５０は、転移温度以上の温度で疎水性を示し、転移温度よりも低い温度で親水性を示すＬＣＳＴ型感温性ゲルと、転移温度よりも低い温度で疎水性を示し、転移温度以上の温度で親水性を示すＵＣＳＴ型感温性ゲルとに分類される。ＬＣＳＴ型感温性ゲルは、転移温度以上の温度で疎水性を示し、転移温度よりも低い温度で親水性を示す。ＵＣＳＴ型感温性ゲルは、転移温度以下の温度で疎水性を示し、転移温度よりも高い温度で親水性を示す。 Thermosensitive gels 50 are classified into LCST-type thermosensitive gels, which are hydrophobic at temperatures equal to or higher than the transition temperature and hydrophilic at temperatures lower than the transition temperature, and UCST-type thermosensitive gels, which are hydrophobic at temperatures lower than the transition temperature and hydrophilic at temperatures equal to or higher than the transition temperature. LCST-type thermosensitive gels are hydrophobic at temperatures equal to or higher than the transition temperature and hydrophilic at temperatures lower than the transition temperature. UCST-type thermosensitive gels are hydrophobic at temperatures equal to or lower than the transition temperature and hydrophilic at temperatures higher than the transition temperature.

ＬＣＳＴ型感温性ゲルは、たとえば、ポリ（Ｎ－アルキルアクリルアミド）、ポリ（Ｎ－イソプロピルアクリルアミド）、ポリ（Ｎ－ビニルアルキルアミド）、ポリビニルアルキルエーテル、メチルセルロースのうちの少なくとも１つを含んでいてもよい。
ＵＣＳＴ型感温性ゲルは、ポリ（アクリルアミド－ＣＯ－アクリロニトリル）、ポリ（アリルアミン－ＣＯ－アリルウレア）、スルフォベタインポリマーのうちの少なくとも１つを含んでいてもよい。 The LCST type thermosensitive gel may contain, for example, at least one of poly(N-alkylacrylamide), poly(N-isopropylacrylamide), poly(N-vinylalkylamide), polyvinyl alkyl ether, and methyl cellulose.
The UCST type thermosensitive gel may include at least one of poly(acrylamide-co-acrylonitrile), poly(allylamine-co-allylurea), and sulfobetaine polymer.

この実施形態では、感温性ゲルがＬＣＳＴ型感温性ゲルである例について説明する。ＬＣＳＴ型感温性ゲルの転移温度（ＬＣＳＴ）は、常温（５℃以上２５℃以下の温度）よりも高く、たとえば、３０℃以上で、かつ、５０℃以下である。そのため、感温性ゲル５０を親水性から疎水性への変化は、ヒータによる加熱が必要であるが、感温性ゲル５０を疎水性から親水性への変化は、自然冷却によって達成できる。自然冷却とは、クーラ等の冷却ユニットを用いずに、感温性ゲルフィルタ３１および処理液の放熱によって、感温性ゲルフィルタ３１および処理液が冷却されることをいう。 In this embodiment, an example will be described in which the thermosensitive gel is an LCST type thermosensitive gel. The transition temperature (LCST) of the LCST type thermosensitive gel is higher than room temperature (a temperature between 5°C and 25°C), for example, 30°C or higher and 50°C or lower. Therefore, while heating with a heater is required to change the thermosensitive gel 50 from hydrophilic to hydrophobic, the change of the thermosensitive gel 50 from hydrophobic to hydrophilic can be achieved by natural cooling. Natural cooling refers to the cooling of the thermosensitive gel filter 31 and the treatment liquid by the dissipation of heat from the thermosensitive gel filter 31 and the treatment liquid without using a cooling unit such as a cooler.

帰還配管２２は、その内部に帰還流路を形成する配管である。帰還配管２２の上流端は、たとえば、カップ１２に接続されている。帰還配管２２の下流端は、たとえば、循環配管３２に分岐接続されている。循環配管３２において帰還配管２２が分岐する位置は、中間循環バルブ４３よりも下流側で、かつ、下流循環バルブ４４よりも上流側に位置する。
この実施形態では、帰還配管２２が貯留タンク３０に直接接続されているのではなく、帰還配管２２は、循環配管３２に分岐接続されている。そのため、処理液が、帰還配管２２から貯留タンク３０に直接送られるのではなく、循環配管３２を介して貯留タンク３０に送られる。この実施形態とは異なり、帰還配管２２は、貯留タンク３０の第１収容部３３ａに直接接続されていてもよい。 The return pipe 22 is a pipe that forms a return flow path therein. The upstream end of the return pipe 22 is connected to, for example, the cup 12. The downstream end of the return pipe 22 is connected to, for example, a branched portion of the circulation pipe 32. The position at which the return pipe 22 branches off from the circulation pipe 32 is located downstream of the intermediate circulation valve 43 and upstream of the downstream circulation valve 44.
In this embodiment, the return pipe 22 is not directly connected to the storage tank 30, but is branched and connected to the circulation pipe 32. Therefore, the processing liquid is not sent directly from the return pipe 22 to the storage tank 30, but is sent to the storage tank 30 via the circulation pipe 32. Unlike this embodiment, the return pipe 22 may be directly connected to the first storage portion 33a of the storage tank 30.

処理液供給装置３は、帰還配管２２に介装され、帰還配管２２内の流路を開閉する帰還バルブ６０を備えている。
排液配管２１は、その内部に排液流路を形成する配管である。排液配管２１の上流端は、貯留タンク３０の第１収容部３３ａに接続されている。処理液供給装置３は、排液配管２１に介装され、排液配管２１内の流路を開閉する排液バルブ７０をさらに備えている。なお、この実施形態とは異なり、処理液供給装置３は、第２収容部３３ｂに接続される排液配管（図示せず）をさらに備えていてもよく、用途に応じて、当該排液配管と排液配管２１とが使い分けられてもよい。 The processing liquid supplying device 3 includes a return valve 60 that is disposed in the return pipe 22 and opens and closes the flow path in the return pipe 22 .
The drainage pipe 21 is a pipe that forms a drainage flow path therein. The upstream end of the drainage pipe 21 is connected to the first storage unit 33a of the storage tank 30. The processing liquid supplying device 3 further includes a drainage valve 70 that is interposed in the drainage pipe 21 and opens and closes the flow path in the drainage pipe 21. Unlike this embodiment, the processing liquid supplying device 3 may further include a drainage pipe (not shown) that is connected to the second storage unit 33b, and the drainage pipe and the drainage pipe 21 may be used separately depending on the application.

上流供給配管２３は、その内部に上流供給流路を形成する配管である。上流供給配管２３の上流端は、たとえば、循環配管３２に分岐接続されている。上流供給配管２３の上流端は、循環ポンプ４０よりも下流側で、かつ、上流循環バルブ４１よりも上流側において循環配管３２に接続されていることが好ましい。
この実施形態のように、上流供給配管２３の分岐接続位置が循環ポンプ４０よりも下流側に位置する構成であれば、上流供給配管２３に処理液を送り出すポンプを省略できる。上流供給配管２３の下流端は、供給タンク２４に接続されている。上流供給配管２３は、この実施形態では、循環配管３２に接続されているが、この実施形態とは異なり、貯留タンク３０の第１収容部３３ａに直接接続されていてもよい。 The upstream supply pipe 23 is a pipe that forms an upstream supply flow path therein. The upstream end of the upstream supply pipe 23 is, for example, branched and connected to the circulation pipe 32. It is preferable that the upstream end of the upstream supply pipe 23 is connected to the circulation pipe 32 downstream of the circulation pump 40 and upstream of the upstream circulation valve 41.
As in this embodiment, if the branch connection position of the upstream supply pipe 23 is located downstream of the circulation pump 40, it is possible to omit a pump that sends out the treatment liquid to the upstream supply pipe 23. The downstream end of the upstream supply pipe 23 is connected to the supply tank 24. In this embodiment, the upstream supply pipe 23 is connected to the circulation pipe 32, but unlike this embodiment, the upstream supply pipe 23 may be directly connected to the first storage portion 33a of the storage tank 30.

処理液供給装置３は、上流供給配管２３に介装され、上流供給配管２３内の流路を開閉する上流供給バルブ８０をさらに備えている。
下流供給配管２５は、その内部に下流供給流路を形成する配管である。下流供給配管２５は、下流供給配管２５の上流端が処理液の液面よりも下方に位置するように、供給タンク２４の内部にまで延びている。下流供給配管２５の下流端は、処理液ノズル１１に接続されている。供給ユニット１９は、供給ポンプ８１、供給ヒータ８２、供給フィルタ８３、および下流供給バルブ８４を含む。供給ポンプ８１、供給ヒータ８２、供給フィルタ８３、および下流供給バルブ８４は、下流供給配管２５の上流側からこの順番で下流供給配管２５に介装されている。 The processing liquid supply device 3 further includes an upstream supply valve 80 that is disposed in the upstream supply pipe 23 and opens and closes the flow path in the upstream supply pipe 23 .
The downstream supply pipe 25 is a pipe that forms a downstream supply flow path therein. The downstream supply pipe 25 extends to the inside of the supply tank 24 so that the upstream end of the downstream supply pipe 25 is located below the liquid level of the processing liquid. The downstream end of the downstream supply pipe 25 is connected to the processing liquid nozzle 11. The supply unit 19 includes a supply pump 81, a supply heater 82, a supply filter 83, and a downstream supply valve 84. The supply pump 81, the supply heater 82, the supply filter 83, and the downstream supply valve 84 are interposed in the downstream supply pipe 25 in this order from the upstream side of the downstream supply pipe 25.

供給ポンプ８１は、供給タンク２４内の処理液を下流供給配管２５に送り出す。供給フィルタ８３は、下流供給配管２５内の処理液中の不純物を除去するフィルタである。供給フィルタ８３としては、常温よりも高温での使用に適したフィルタが用いられる。供給フィルタ８３は、たとえば、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）疎水膜をろ過膜として含む。供給フィルタ８３が濾過膜としてＰＴＦＥ疎水膜を含む構成であれば、不純物としての疎水性化合物を処理液から効果的に除去できる。 The supply pump 81 sends the treatment liquid in the supply tank 24 to the downstream supply pipe 25. The supply filter 83 is a filter that removes impurities from the treatment liquid in the downstream supply pipe 25. A filter suitable for use at temperatures higher than room temperature is used as the supply filter 83. The supply filter 83 includes, for example, a PTFE (polytetrafluoroethylene) hydrophobic membrane as a filtration membrane. If the supply filter 83 is configured to include a PTFE hydrophobic membrane as a filtration membrane, hydrophobic compounds as impurities can be effectively removed from the treatment liquid.

下流供給バルブ８４は、下流供給配管２５内の流路（下流供給流路）を開閉する。
供給ヒータ８２は、下流供給配管２５内の処理液を加熱する。下流供給配管２５内の流路において供給ヒータ８２によって加熱される供給加熱部分２５ａは、たとえば、供給ポンプ８１よりも下流側でかつ供給フィルタ８３よりも上流側に設定される。
供給ヒータ８２は、供給ポンプ８１よりも下流側でかつ供給フィルタ８３よりも上流側の供給加熱部分２５ａを加熱する構成であれば、下流供給配管２５に介装されていなくてもよく、下流供給配管２５を外部から加熱する構成であってもよい。 The downstream supply valve 84 opens and closes the flow path (downstream supply flow path) in the downstream supply pipe 25 .
The supply heater 82 heats the processing liquid in the downstream supply piping 25. A supply heating portion 25a in the flow path in the downstream supply piping 25 that is heated by the supply heater 82 is set, for example, downstream of the supply pump 81 and upstream of the supply filter 83.
As long as the supply heater 82 is configured to heat the supply heating portion 25a downstream of the supply pump 81 and upstream of the supply filter 83, it does not have to be installed in the downstream supply piping 25, and may be configured to heat the downstream supply piping 25 from the outside.

供給側戻り配管２６の上流端は、下流供給配管２５に分岐接続されている。供給側戻り配管２６の下流端は、供給タンク２４に接続されている。処理液供給装置３は、供給側戻り配管２６に介装され、供給側戻り配管２６内の流路（供給側戻り流路）を開閉する供給側循環バルブ８５をさらに備えている。
供給側戻り配管２６の分岐接続位置は、供給フィルタ８３よりも下流側で、かつ、下流供給バルブ８４よりも上流側に位置することが好ましい。供給側戻り配管２６の分岐接続位置が、供給ポンプ８１よりも下流側であるため、供給側戻り配管２６に処理液を送り出すポンプを供給ポンプ８１とは別に設ける必要がない。供給側戻り配管２６の分岐接続位置が、供給ヒータ８２よりも下流側であるため、供給タンク２４内の処理液を加熱するためのヒータを供給ヒータ８２とは別に設ける必要がない。 The upstream end of the supply-side return pipe 26 is branched and connected to the downstream supply pipe 25. The downstream end of the supply-side return pipe 26 is connected to the supply tank 24. The processing liquid supply device 3 further includes a supply-side circulation valve 85 that is interposed in the supply-side return pipe 26 and opens and closes a flow path in the supply-side return pipe 26 (supply-side return flow path).
The branch connection position of the supply side return pipe 26 is preferably located downstream of the supply filter 83 and upstream of the downstream supply valve 84. Since the branch connection position of the supply side return pipe 26 is downstream of the supply pump 81, it is not necessary to provide a pump for sending the processing liquid to the supply side return pipe 26 separately from the supply pump 81. Since the branch connection position of the supply side return pipe 26 is downstream of the supply heater 82, it is not necessary to provide a heater for heating the processing liquid in the supply tank 24 separately from the supply heater 82.

図２は、基板処理装置１の主要部の電気的構成を説明するためのブロック図である。コントローラ４は、マイクロコンピュータを備えており、所定のプログラムに従って、基板処理装置１に備えられた制御対象を制御する。より具体的には、コントローラ４は、プロセッサ（ＣＰＵ）５と、プログラムが格納されたメモリ６とを含み、プロセッサ５がプログラムを実行することによって、基板処理のための様々な制御処理を実行するように構成されている。 Figure 2 is a block diagram for explaining the electrical configuration of the main parts of the substrate processing apparatus 1. The controller 4 includes a microcomputer and controls the control objects included in the substrate processing apparatus 1 according to a predetermined program. More specifically, the controller 4 includes a processor (CPU) 5 and a memory 6 in which a program is stored, and is configured to perform various control processes for substrate processing by the processor 5 executing the program.

特に、コントローラ４は、スピンモータ１８、循環ヒータ４５、供給ヒータ８２、不純物量測定ユニット４２、循環ポンプ４０、供給ポンプ８１、液面センサ３４、循環温度計４６、上流循環バルブ４１、中間循環バルブ４３、下流循環バルブ４４、帰還バルブ６０、排液バルブ７０、上流供給バルブ８０、下流供給バルブ８４、供給側循環バルブ８５等の動作を制御する。その他、コントローラ４は、後述する各実施形態に係る基板処理装置１Ｐ、１Ｑ、１Ｒに備えられる部材の動作も制御する。 In particular, the controller 4 controls the operation of the spin motor 18, circulation heater 45, supply heater 82, impurity amount measuring unit 42, circulation pump 40, supply pump 81, liquid level sensor 34, circulation thermometer 46, upstream circulation valve 41, intermediate circulation valve 43, downstream circulation valve 44, return valve 60, drain valve 70, upstream supply valve 80, downstream supply valve 84, supply side circulation valve 85, etc. In addition, the controller 4 also controls the operation of the members provided in the substrate processing apparatuses 1P, 1Q, and 1R according to each embodiment described below.

次に、処理液供給装置３の全体の動作について説明する。
まず、処理ユニット２へ処理液を供給する前に、下流供給バルブ８４が閉じられかつ供給側循環バルブ８５が開かれる。この状態で、供給ポンプ８１を作動させることで、供給タンク２４内の処理液が、下流供給配管２５および供給側戻り配管２６を循環する。詳しくは、供給タンク２４の内の処理液が、下流供給配管２５の上流端から引き込まれ、下流供給配管２５内に引き込まれた処理液が供給側戻り配管２６の下流端まで移動し、供給タンク２４内に戻る。 Next, the overall operation of the processing liquid supplying device 3 will be described.
First, before supplying the processing liquid to the processing unit 2, the downstream supply valve 84 is closed and the supply side circulation valve 85 is opened. In this state, the supply pump 81 is operated to circulate the processing liquid in the supply tank 24 through the downstream supply piping 25 and the supply side return piping 26. In detail, the processing liquid in the supply tank 24 is drawn from the upstream end of the downstream supply piping 25, and the processing liquid drawn into the downstream supply piping 25 moves to the downstream end of the supply side return piping 26 and returns to the supply tank 24.

供給タンク２４内の処理液が、下流供給配管２５および供給側戻り配管２６を循環している間、供給ヒータ８２を作動させることによって、供給タンク２４内の処理液の温度を上昇させることができる。
処理液の温度が充分に上昇した後、下流供給バルブ８４が開かれ、供給側循環バルブ８５が閉じられ、供給ポンプ８１が作動される。これにより、供給タンク２４内の処理液が、処理ユニット２の処理液ノズル１１に供給される。 While the processing liquid in the supply tank 24 circulates through the downstream supply piping 25 and the supply side return piping 26, the supply heater 82 can be operated to increase the temperature of the processing liquid in the supply tank 24.
After the temperature of the processing liquid has risen sufficiently, the downstream supply valve 84 is opened, the supply side circulation valve 85 is closed, and the supply pump 81 is operated. As a result, the processing liquid in the supply tank 24 is supplied to the processing liquid nozzle 11 of the processing unit 2.

処理液を加熱する必要がない場合には、供給タンク２４内の処理液の循環を省略してもよい。
処理液ノズル１１から吐出された処理液は、回転状態の基板Ｗの上面に着液する。基板Ｗの上面に着液した処理液は、遠心力の作用によって基板Ｗ外に飛散し、カップ１２によって受けられる。 When there is no need to heat the processing liquid, circulation of the processing liquid within the supply tank 24 may be omitted.
The processing liquid discharged from the processing liquid nozzle 11 lands on the upper surface of the rotating substrate W. The processing liquid that has landed on the upper surface of the substrate W is scattered outside the substrate W by the action of centrifugal force and is received in the cup 12.

カップ１２によって受けられた汚染処理液は、帰還配管２２を介して不純物除去ユニット２０に流入する。不純物除去ユニット２０に流入した処理液が不純物除去ユニット２０の感温性ゲルフィルタ３１を通過することによって、汚染処理液中の不純物が除去される。これにより、不純物が除去された清浄処理液が生成される。清浄処理液は、上流供給配管２３を介して供給タンク２４に送られる。このように、汚染処理液から不純物が除去されて清浄処理液が生成され、清浄処理液が供給タンク２４に戻される。つまり、処理液が再利用される。 The contaminated processing liquid received by the cup 12 flows into the impurity removal unit 20 via the return pipe 22. The processing liquid that flows into the impurity removal unit 20 passes through the temperature-sensitive gel filter 31 of the impurity removal unit 20, thereby removing impurities from the contaminated processing liquid. This produces a clean processing liquid from which the impurities have been removed. The clean processing liquid is sent to the supply tank 24 via the upstream supply pipe 23. In this way, the impurities are removed from the contaminated processing liquid to produce a clean processing liquid, which is then returned to the supply tank 24. In other words, the processing liquid is reused.

以下では、不純物除去ユニット２０の動作について詳しく説明する。
図３は、不純物除去ユニット２０の動作について説明するためのフローチャートである。図４Ａ～図４Ｅは、不純物除去ユニット２０の動作例について説明するための模式図である。
図４Ａ～図４Ｅでは、開いているバルブを黒色で示しており、閉じているバルブを白色で示している（後述する図６Ａ～図６Ｄ、図８Ａ、図８Ｂおよび図１０Ａ～図１０Ｅにおいても同様）。図４Ａ～図４Ｅでは、作動中のヒータおよびポンプには、「ＯＮ」と記載し、作動していないヒータおよびポンプには、「ＯＦＦ」と記載している（後述する図６Ａ～図６Ｄ、図８Ａ、図８Ｂおよび図１０Ａ～図１０Ｅにおいても同様）。 The operation of the impurity removal unit 20 will now be described in detail.
Fig. 3 is a flow chart for explaining the operation of the impurity removal unit 20. Figs. 4A to 4E are schematic diagrams for explaining an example of the operation of the impurity removal unit 20.
In Figures 4A to 4E, open valves are shown in black and closed valves are shown in white (this also applies to Figures 6A to 6D, 8A, 8B, and 10A to 10E described below). In Figures 4A to 4E, heaters and pumps that are in operation are marked "ON" and heaters and pumps that are not in operation are marked "OFF" (this also applies to Figures 6A to 6D, 8A, 8B, and 10A to 10E described below).

不純物量測定ユニット４２、循環温度計４６および液面センサ３４は、常時作動していてもよい。
図４Ａに示すように、帰還バルブ６０および下流循環バルブ４４が開かれる。これにより、処理液が、不純物除去ユニット２０に戻り（帰還工程）、貯留タンク３０に補充される（補充工程）。 The impurity amount measuring unit 42, the circulation thermometer 46 and the liquid level sensor 34 may be in operation at all times.
4A, the return valve 60 and the downstream circulation valve 44 are opened, whereby the processing liquid is returned to the impurity removal unit 20 (return process) and replenished to the storage tank 30 (replenishment process).

帰還配管２２から貯留タンク３０内に処理液が送られて貯留タンク３０内の処理液の液面が上昇し、液面センサ３４の測定値が循環配管３２の上流端よりも上方の所定の第１高さＨ１に達すると、帰還バルブ６０が閉じられ、上流循環バルブ４１および中間循環バルブ４３が開かれる。そして、循環ポンプ４０が作動される。これにより、図４Ｂに示すように、貯留タンク３０内の処理液が、循環配管３２に引き込まれ循環配管３２から貯留タンク３０内に戻されることで、処理液の循環が開始される（循環工程）。 When the treatment liquid is sent from the return pipe 22 into the storage tank 30, causing the liquid level of the treatment liquid in the storage tank 30 to rise, and the measurement value of the liquid level sensor 34 reaches a predetermined first height H1 above the upstream end of the circulation pipe 32, the return valve 60 is closed, and the upstream circulation valve 41 and the intermediate circulation valve 43 are opened. Then, the circulation pump 40 is operated. As a result, as shown in FIG. 4B, the treatment liquid in the storage tank 30 is drawn into the circulation pipe 32 and returned from the circulation pipe 32 to the storage tank 30, thereby starting circulation of the treatment liquid (circulation process).

循環配管３２内を流れる処理液は、循環ヒータ４５によって加熱される。貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１は、循環ヒータ４５によって加熱された処理液によって加熱される（ステップＳ１：ゲル加熱開始工程）。
感温性ゲルフィルタ３１は、循環する処理液を介して、循環ヒータ４５によって加熱される（循環加熱工程）。感温性ゲルフィルタ３１は、処理液によって加熱されることで、処理液と同じ温度に達する。そのため、循環配管３２内を流れる処理液の温度を循環温度計４６によって測定することによって、感温性ゲルフィルタ３１の温度（ゲル温度）を間接的に測定できる（ゲル温度測定工程）。この実施形態では、帰還工程においても循環ヒータ４５が作動している。そのため、循環工程が開始される前に処理液の加熱が開始されている。 The treatment liquid flowing through the circulation pipe 32 is heated by the circulation heater 45. The temperature-sensitive gel filter 31 in the storage tank 30 is heated by the treatment liquid heated by the circulation heater 45 (step S1: gel heating start step).
The temperature-sensitive gel filter 31 is heated by the circulation heater 45 via the circulating treatment liquid (circulation heating step). The temperature-sensitive gel filter 31 is heated by the treatment liquid and reaches the same temperature as the treatment liquid. Therefore, the temperature (gel temperature) of the temperature-sensitive gel filter 31 can be indirectly measured by measuring the temperature of the treatment liquid flowing in the circulation pipe 32 with the circulation thermometer 46 (gel temperature measurement step). In this embodiment, the circulation heater 45 is also operating in the return step. Therefore, heating of the treatment liquid is started before the circulation step is started.

そして、ステップＳ１の後、コントローラ４は、感温性ゲルフィルタ３１の温度が、転移温度以上の温度であるか否かを監視する（ステップＳ２：第１ゲル温度監視工程）。ゲル温度が感温性ゲル５０の転移温度（ＬＣＳＴ）よりも低い場合には（ステップＳ２：ＮＯ）、ステップＳ２に戻る。
処理液は、循環配管３２および貯留タンク３０を所定時間循環することによって、感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱される。感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱されることによって、感温性ゲルフィルタ３１に含まれる感温性ゲルが疎水化される（疎水化工程）。すなわち、感温性ゲル５０が疎水性となる温度に感温性ゲルフィルタ３１の温度が調節される（温度調節工程）。貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱されると（ステップＳ２：ＹＥＳ）、ステップＳ３に進む。 After step S1, the controller 4 monitors whether the temperature of the thermosensitive gel filter 31 is equal to or higher than the transition temperature (step S2: first gel temperature monitoring step). If the gel temperature is lower than the transition temperature (LCST) of the thermosensitive gel 50 (step S2: NO), the controller 4 returns to step S2.
The treatment liquid is heated to a temperature equal to or higher than the transition temperature of the thermosensitive gel 50 by circulating through the circulation pipe 32 and the storage tank 30 for a predetermined time. The thermosensitive gel filter 31 is heated to a temperature equal to or higher than the transition temperature of the thermosensitive gel 50, so that the thermosensitive gel contained in the thermosensitive gel filter 31 is hydrophobized (hydrophobization process). That is, the temperature of the thermosensitive gel filter 31 is adjusted to a temperature at which the thermosensitive gel 50 becomes hydrophobic (temperature adjustment process). When the thermosensitive gel filter 31 in the storage tank 30 is heated to a temperature equal to or higher than the transition temperature of the thermosensitive gel 50 (step S2: YES), the process proceeds to step S3.

ステップＳ３では、コントローラ４は、ゲル温度が転移温度以上の温度に達したときから所定の不純物除去時間が経過したか否かを監視する（ステップＳ３：経過時間監視工程）。
感温性ゲルフィルタ３１が転移温度以上に加熱されている状態、すなわち、感温性ゲル５０が疎水性となっている状態で、感温性ゲルフィルタ３１に処理液を通過させることによって、処理液中の不純物が感温性ゲルフィルタ３１によって除去される（不純物除去工程、循環除去工程）。感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が充分に高い場合には、不純物は、時間経過とともに処理液から除去される。 In step S3, the controller 4 monitors whether or not a predetermined impurity removal time has elapsed since the gel temperature reached a temperature equal to or higher than the transition temperature (step S3: elapsed time monitoring step).
When the temperature-sensitive gel filter 31 is heated to or above the transition temperature, i.e., when the temperature-sensitive gel 50 is hydrophobic, the treatment liquid is passed through the temperature-sensitive gel filter 31, whereby impurities in the treatment liquid are removed by the temperature-sensitive gel filter 31 (impurity removal step, circulation removal step). If the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter 31 is sufficiently high, the impurities are removed from the treatment liquid over time.

この実施形態の不純物除去工程では、不純物除去ユニット２０に供給される処理液は汚染処理液である。そのため、感温性ゲルフィルタ３１によって汚染処理液中の不純物が捕獲されて汚染処理液から不純物が除去される。
循環配管３２および貯留タンク３０を循環する処理液を加熱することで不純物除去工程および疎水化工程が実行される。不純物除去工程は、疎水化工程による感温性ゲル５０の疎水化が達成された後に実行される。 In the impurity removal process of this embodiment, the treatment liquid supplied to the impurity removal unit 20 is a contaminated treatment liquid. Therefore, impurities in the contaminated treatment liquid are captured by the temperature-sensitive gel filter 31, and the impurities are removed from the contaminated treatment liquid.
The impurity removing step and the hydrophobizing step are performed by heating the treatment liquid circulating through the circulation pipe 32 and the storage tank 30. The impurity removing step is performed after the thermosensitive gel 50 has been hydrophobized in the hydrophobizing step.

この実施形態とは異なり、処理液の温度が、貯留タンク３０および循環配管３２を循環する前から転移温度以上の温度であった場合には、疎水化工程は実行されず、循環工程の開始と同時に不純物除去工程が開始される。
コントローラ４は、不純物除去時間が経過していない場合（ステップＳ３：ＮＯ）、ステップＳ３に戻る。コントローラ４は、不純物除去時間が経過すると（ステップＳ３：ＹＥＳ）、不純物量測定ユニット４２が測定する不純物量が、基準不純物量よりも低いか否かを判定する（ステップＳ４：不純物量判定工程）。不純物量判定工程は、感温性ゲル５０が疎水性となる温度にゲル温度が調節されている状態で実行される。 Unlike this embodiment, if the temperature of the treatment liquid is above the transition temperature before circulating through the storage tank 30 and the circulation piping 32, the hydrophobization process is not performed, and the impurity removal process is started simultaneously with the start of the circulation process.
If the impurity removal time has not elapsed (step S3: NO), the controller 4 returns to step S3. If the impurity removal time has elapsed (step S3: YES), the controller 4 determines whether the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit 42 is lower than the reference amount of impurities (step S4: impurity amount determination step). The impurity amount determination step is performed in a state where the gel temperature is adjusted to a temperature at which the thermosensitive gel 50 becomes hydrophobic.

不純物除去時間経過後に、不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量が基準不純物量よりも低い場合には（ステップＳ４：ＹＥＳ）、図４Ｃに示すように、処理液の循環を維持しながら、上流供給バルブ８０が開かれる。貯留タンク３０から供給タンク２４に向けて、不純物が充分に除去された処理液（清浄処理液）が送られる（ステップＳ５：供給工程）。すなわち、循環配管３２および貯留タンク３０を循環する処理液から不純物が充分に除去された後、供給工程が実行される。 If the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit 42 is lower than the reference amount of impurities after the impurity removal time has elapsed (step S4: YES), the upstream supply valve 80 is opened while maintaining circulation of the treatment liquid, as shown in FIG. 4C. The treatment liquid from which impurities have been sufficiently removed (clean treatment liquid) is sent from the storage tank 30 to the supply tank 24 (step S5: supply process). That is, the supply process is executed after impurities have been sufficiently removed from the treatment liquid circulating through the circulation piping 32 and the storage tank 30.

供給工程の実行によって、貯留タンク３０内の処理液の液面が低下し、図４Ｃに二点鎖線に示すように液面センサ３４の測定値が所定の第２高さＨ２に達すると、上流供給バルブ８０、上流循環バルブ４１および中間循環バルブ４３が閉じられる。これにより、処理液の循環および供給タンク２４への処理液の供給が停止される。その後、貯留タンク３０に処理液が補充されると、不純物除去ユニット２０の動作がステップＳ１から再び開始される。 When the supply process is performed, the level of the processing liquid in the storage tank 30 drops, and the measurement value of the liquid level sensor 34 reaches a predetermined second height H2, as shown by the two-dot chain line in Figure 4C, the upstream supply valve 80, the upstream circulation valve 41, and the intermediate circulation valve 43 are closed. This stops the circulation of the processing liquid and the supply of the processing liquid to the supply tank 24. After that, when the storage tank 30 is replenished with processing liquid, the operation of the impurity removal unit 20 is restarted from step S1.

一方、不純物除去時間経過後においても、不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量が基準不純物量以上である場合には（ステップＳ４：ＮＯ）、図４Ｄに示すように、循環ヒータ４５が停止される。
循環ヒータ４５が停止された状態で処理液が循環配管３２および貯留タンク３０を所定時間循環することによって、処理液が常温にまで自然冷却される。貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１は、処理液によって冷却される（ステップＳ６：ゲル加熱停止工程）。 On the other hand, if the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit 42 is equal to or greater than the reference amount of impurities even after the impurity removal time has elapsed (step S4: NO), the circulation heater 45 is stopped as shown in FIG. 4D.
The treatment liquid is naturally cooled to room temperature by circulating the treatment liquid through the circulation pipe 32 and the storage tank 30 for a predetermined time while the circulation heater 45 is stopped. The temperature-sensitive gel filter 31 in the storage tank 30 is cooled by the treatment liquid (step S6: gel heating stop step).

感温性ゲルフィルタ３１は、循環する処理液を介して、冷却される（循環冷却工程）。感温性ゲルフィルタ３１は、処理液によって冷却されることで、処理液と同じ温度に達する。
ステップＳ６の後、コントローラ４は、感温性ゲルフィルタ３１の温度が、転移温度よりも低いか否かを監視する（ステップＳ７：第２ゲル温度監視工程）。コントローラ４は、貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度以上である場合には（ステップＳ７：ＮＯ）、ステップＳ７に戻る。 The temperature-sensitive gel filter 31 is cooled by the circulating treatment liquid (circulation cooling step) until the temperature of the temperature-sensitive gel filter 31 reaches the same temperature as the treatment liquid.
After step S6, the controller 4 monitors whether the temperature of the thermosensitive gel filter 31 is lower than the transition temperature (step S7: second gel temperature monitoring step). If the temperature of the thermosensitive gel filter 31 in the storage tank 30 is equal to or higher than the transition temperature of the thermosensitive gel 50 (step S7: NO), the controller 4 returns to step S7.

処理液は、循環配管３２および貯留タンク３０を所定時間循環することによって、感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却される。感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却されることによって、感温性ゲルフィルタ３１に含まれる感温性ゲルが親水化される（親水化工程）。
感温性ゲルフィルタ３１が転移温度よりも低い温度に冷却されている状態、すなわち、感温性ゲル５０が親水性となっている状態で、感温性ゲルフィルタ３１に処理液を通過させることによって、感温性ゲルフィルタ３１によって捕獲されていた不純物が処理液中に放出される（不純物放出工程、循環洗浄工程、循環放出工程）。 The treatment liquid is circulated through the circulation pipe 32 and the storage tank 30 for a predetermined time, whereby the treatment liquid is cooled to a temperature lower than the transition temperature of the thermosensitive gel 50. By cooling the thermosensitive gel filter 31 to a temperature lower than the transition temperature of the thermosensitive gel 50, the thermosensitive gel contained in the thermosensitive gel filter 31 is made hydrophilic (hydrophilization process).
When the temperature-sensitive gel filter 31 is cooled to a temperature lower than the transition temperature, i.e., when the temperature-sensitive gel 50 is hydrophilic, the treatment liquid is passed through the temperature-sensitive gel filter 31, whereby the impurities captured by the temperature-sensitive gel filter 31 are released into the treatment liquid (impurity release process, circulating cleaning process, circulating release process).

この実施形態の不純物放出工程において不純物除去ユニット２０に供給される処理液は、洗浄液としての汚染処理液である。そのため、感温性ゲルフィルタ３１から汚染処理液に不純物が放出される。
貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却されると（ステップＳ７：ＹＥＳ）、図４Ｅに示すように、処理液の循環を維持しながら、排液バルブ７０が開かれる。これにより、貯留タンク３０から排液配管２１（排液流路）に向けて処理液が送られる（ステップＳ８：排液工程）。すなわち、循環配管３２および貯留タンク３０を循環する処理液に不純物が放出された後、排液工程が実行される。 In the impurity releasing step of this embodiment, the treatment liquid supplied to the impurity removing unit 20 is a contaminant treatment liquid as a cleaning liquid, so that impurities are released from the temperature-sensitive gel filter 31 into the contaminant treatment liquid.
When the thermosensitive gel filter 31 in the storage tank 30 is cooled to a temperature lower than the transition temperature of the thermosensitive gel 50 (step S7: YES), the drain valve 70 is opened while maintaining the circulation of the treatment liquid, as shown in Fig. 4E. This causes the treatment liquid to be sent from the storage tank 30 to the drain pipe 21 (drainage flow path) (step S8: drainage step). That is, after impurities are released into the treatment liquid circulating through the circulation pipe 32 and the storage tank 30, the drainage step is executed.

排液工程の実行によって、貯留タンク３０内の処理液の液面が低下し、図４Ｅに二点鎖線に示すように液面センサ３４の測定値が所定の第２高さＨ２に達すると、排液バルブ７０、上流循環バルブ４１および中間循環バルブ４３が閉じられる。これにより、処理液の循環および排液が停止される。その後、貯留タンク３０に処理液が補充されると、不純物除去ユニット２０の動作がステップＳ１から再び開始される。 When the drainage process is performed, the level of the processing liquid in the storage tank 30 drops, and the measurement value of the liquid level sensor 34 reaches a predetermined second height H2, as shown by the two-dot chain line in Figure 4E, the drainage valve 70, the upstream circulation valve 41, and the intermediate circulation valve 43 are closed. This stops the circulation and drainage of the processing liquid. After that, when the storage tank 30 is replenished with processing liquid, the operation of the impurity removal unit 20 is restarted from step S1.

このように、この実施形態では、不純物除去ユニット２０の不純物除去効率の低下度合に応じて、供給工程と排液工程とが選択的に実行される。
ただし、最初の不純物除去工程の実行前では、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率は低下しておらず充分に高い。そのため、最初の不純物除去工程の際に不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量は、基準不純物量よりも低い。したがって、不純物除去ユニット２０の動作において、供給工程（ステップＳ５）が少なくとも一回実行された後に、二回目以降の動作において排液工程（ステップＳ８）が実行される。 In this manner, in this embodiment, the supplying process and the draining process are selectively performed depending on the degree of decrease in the impurity removal efficiency of the impurity removal unit 20 .
However, before the first impurity removal step is performed, the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter 31 is not decreased and is sufficiently high. Therefore, the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit 42 during the first impurity removal step is lower than the reference impurity amount. Therefore, in the operation of the impurity removal unit 20, after the supply step (step S5) is performed at least once, the drainage step (step S8) is performed in the second or subsequent operations.

第１実施形態によれば、感温性ゲル５０が疎水性であるときに処理液を感温性ゲルフィルタ３１に通過させることによって、処理液中の不純物を感温性ゲルフィルタ３１に捕獲させ処理液中から不純物を除去できる。そして、不純物が充分に除去された処理液を、上流供給配管２３、供給タンク２４および下流供給配管２５を介して処理ユニット２に供給できる。 According to the first embodiment, when the temperature-sensitive gel 50 is hydrophobic, impurities in the treatment liquid are captured by the temperature-sensitive gel filter 31 and removed from the treatment liquid by passing the treatment liquid through the temperature-sensitive gel filter 31. Then, the treatment liquid from which the impurities have been sufficiently removed can be supplied to the treatment unit 2 via the upstream supply pipe 23, the supply tank 24, and the downstream supply pipe 25.

不純物を捕獲することによって感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が低下した場合には、感温性ゲル５０を親水性に変化させた状態で貯留タンク３０内の洗浄液としての処理液を循環配管３２によって循環させて感温性ゲルフィルタ３１に通過させれば、感温性ゲルフィルタ３１によって捕獲されていた不純物を処理液中に放出できる。これにより、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率を回復させることができる。そして、不純物を多量に含んだ処理液を、排液配管２１を介して貯留タンク３０から排除することで、不純物除去ユニット２０を再び利用可能な状態に戻すことができる。 If the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter 31 is reduced by capturing impurities, the impurities captured by the temperature-sensitive gel filter 31 can be released into the treatment liquid by circulating the treatment liquid as a cleaning liquid in the storage tank 30 through the circulation pipe 32 while the temperature-sensitive gel 50 is made hydrophilic and passing it through the temperature-sensitive gel filter 31. This allows the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter 31 to be restored. Then, the treatment liquid containing a large amount of impurities can be removed from the storage tank 30 through the drainage pipe 21, making it possible to return the impurity removal unit 20 to a usable state again.

以上のように、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が低下した場合であっても、感温性ゲルフィルタ３１を交換することなく不純物除去効率を回復させることができる。
この実施形態のように、感温性ゲル５０がＬＣＳＴ型感温性ゲルである場合、加熱によって親水性から疎水性へ感温性ゲル５０の状態を速やかに変化させることができる。そのため、感温性ゲルフィルタ３１による不純物の捕獲を速やかに開始することができる。ひいては、不純物が除去された処理液の上流供給配管２３（供給流路）への供給を速やかに開始できる。 As described above, even if the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter 31 decreases, the impurity removal efficiency can be restored without replacing the temperature-sensitive gel filter 31 .
In the case where the thermosensitive gel 50 is an LCST type thermosensitive gel as in this embodiment, the state of the thermosensitive gel 50 can be quickly changed from hydrophilic to hydrophobic by heating. Therefore, the capture of impurities by the thermosensitive gel filter 31 can be quickly started. In turn, the supply of the treatment liquid from which the impurities have been removed to the upstream supply pipe 23 (supply flow path) can be quickly started.

第１実施形態によれば、感温性ゲル５０が疎水性である状態で不純物量測定ユニット４２によって測定された不純物量が基準不純物量よりも少ない場合には、処理液が上流供給配管２３に送り出される。そして、感温性ゲル５０が疎水性である状態で不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量が基準不純物量以上である場合には、感温性ゲル５０を親水化した後に処理液が排液配管２１に送り出される。 According to the first embodiment, when the temperature-sensitive gel 50 is hydrophobic and the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit 42 is less than the reference impurity amount, the treatment liquid is sent to the upstream supply pipe 23. When the temperature-sensitive gel 50 is hydrophobic and the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit 42 is equal to or greater than the reference impurity amount, the temperature-sensitive gel 50 is hydrophilized and then the treatment liquid is sent to the drain pipe 21.

そのため、貯留タンク３０内の処理液の送出先が、不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量に基づいて適切に切り替えることができる。
詳しくは、不純物除去工程が実行された後の不純物量が基準不純物量よりも少ない場合には、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が充分に高い。そのため、不純物除去工程の後、上流供給配管２３に向けて清浄度の高い処理液を送り出すことができる。一方、不純物除去工程が実行された後の不純物量が基準不純物量以上である場合には、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が低下している。そのため、不純物放出工程を実行することで、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が回復される。 Therefore, the destination of the processing liquid in the storage tank 30 can be appropriately switched based on the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit 42 .
Specifically, when the amount of impurities after the impurity removal process is performed is less than the reference impurity amount, the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter 31 is sufficiently high. Therefore, after the impurity removal process, a highly clean treatment liquid can be sent toward the upstream supply pipe 23. On the other hand, when the amount of impurities after the impurity removal process is performed is equal to or greater than the reference impurity amount, the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter 31 has decreased. Therefore, by performing the impurity release process, the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter is restored.

このように、不純物量を測定することで、適切なタイミングで不純物除去効率を回復させることができる。
第１実施形態によれば、感温性ゲルフィルタ３１が、処理液を通過させつつ感温性ゲル５０を保持するフィルタ部材５１をさらに含む。そのため、親水性の感温性ゲル５０が吸液して膨潤した場合であっても、感温性ゲル５０を感温性ゲルフィルタ３１の外部に流出させることなく貯留タンク３０内の所定の位置に維持できる。 In this way, by measuring the amount of impurities, it is possible to restore the impurity removal efficiency at an appropriate time.
According to the first embodiment, the temperature-sensitive gel filter 31 further includes a filter member 51 that allows the treatment liquid to pass through while retaining the temperature-sensitive gel 50. Therefore, even if the hydrophilic temperature-sensitive gel 50 absorbs liquid and swells, the temperature-sensitive gel 50 can be maintained at a predetermined position in the storage tank 30 without flowing out of the temperature-sensitive gel filter 31.

第１実施形態によれば、貯留タンク３０の内部空間３３が、感温性ゲルフィルタ３１によって、第１収容部３３ａおよび第２収容部３３ｂに仕切られている。第１収容部３３ａは、感温性ゲルフィルタ３１を挟んで第２収容部３３ｂよりも処理液の循環方向Ｃの上流側に位置する。そして、上流供給配管２３は、第２収容部３３ｂに接続されており、第１収容部３３ａには、排液配管２１が接続されている。 According to the first embodiment, the internal space 33 of the storage tank 30 is divided into a first storage section 33a and a second storage section 33b by a temperature-sensitive gel filter 31. The first storage section 33a is located upstream of the second storage section 33b in the circulation direction C of the treatment liquid, sandwiching the temperature-sensitive gel filter 31 therebetween. The upstream supply pipe 23 is connected to the second storage section 33b, and the drainage pipe 21 is connected to the first storage section 33a.

そのため、感温性ゲルフィルタ３１よりも循環方向Ｃの上流側の不純物が比較的多い処理液を排液配管２１に送ることができる。一方、感温性ゲルフィルタ３１よりも循環方向Ｃの下流側の不純物が比較的少ない処理液を上流供給配管２３に送ることができる。
第１実施形態によれば、上流供給配管２３と、供給タンク２４と、下流供給配管２５とによって、供給流路が構成されている。そのため、不純物除去ユニット２０によって生成された清浄処理液が、供給タンク２４に貯留される。そのため、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率を回復させるために不純物除去ユニット２０から上流供給配管２３への処理液の送出が一時的に停止されている場合であっても、供給タンク２４内の処理液を処理ユニット２に供給できる。したがって、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率を回復させつつ、処理ユニット２に処理液を安定して供給できる。 Therefore, the treatment liquid containing a relatively large amount of impurities upstream of the temperature-sensitive gel filter 31 in the circulation direction C can be sent to the drain pipe 21. On the other hand, the treatment liquid containing a relatively small amount of impurities downstream of the temperature-sensitive gel filter 31 in the circulation direction C can be sent to the upstream supply pipe 23.
According to the first embodiment, a supply flow path is formed by the upstream supply pipe 23, the supply tank 24, and the downstream supply pipe 25. Therefore, the clean processing liquid generated by the impurity removal unit 20 is stored in the supply tank 24. Therefore, even if the delivery of the processing liquid from the impurity removal unit 20 to the upstream supply pipe 23 is temporarily stopped in order to restore the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter 31, the processing liquid in the supply tank 24 can be supplied to the processing unit 2. Therefore, the processing liquid can be stably supplied to the processing unit 2 while restoring the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter 31.

第１実施形態によれば、汚染処理液が、帰還配管２２を介して貯留タンク３０に帰還させる。処理ユニット２から排出される汚染処理液を再利用することで、基板処理に要するコストおよび環境負荷を低減できる。
その一方で、汚染処理液中には不純物が多量に存在している。そのため、汚染処理液を不純物除去ユニット２０に戻した場合、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が低下しやすい。しかしながら、汚染処理液からの不純物の除去によって不純物除去効率が低下した場合であっても、感温性ゲルフィルタ３１は、冷却によって容易に不純物を放出できる。そのため、感温性ゲルフィルタ３１を交換することなく汚染処理液から不純物を除去できる。 According to the first embodiment, the contaminated processing liquid is returned to the storage tank 30 via the return pipe 22. By reusing the contaminated processing liquid discharged from the processing unit 2, the cost required for substrate processing and the environmental load can be reduced.
On the other hand, the contamination treatment liquid contains a large amount of impurities. Therefore, when the contamination treatment liquid is returned to the impurity removal unit 20, the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter 31 is likely to decrease. However, even if the impurity removal efficiency decreases due to the removal of impurities from the contamination treatment liquid, the temperature-sensitive gel filter 31 can easily release the impurities by cooling. Therefore, impurities can be removed from the contamination treatment liquid without replacing the temperature-sensitive gel filter 31.

さらに、感温性ゲルフィルタ３１に不純物を捕獲させるための処理液、および、感温性ゲルフィルタ３１から不純物を放出させるための洗浄液として、汚染処理液が用いられる。そのため、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が低下した際には、循環配管３２によって循環される液体の液種を変更する必要がないため、不純物除去効率の回復に速やかに開始できる。したがって、汚染処理液とは別の種類の洗浄液を感温性ゲルフィルタ３１に通過させて感温性ゲル５０から不純物を放出させる構成と比較して、感温性ゲルフィルタ３１から不純物を速やかに除去できる。 Furthermore, a contamination treatment liquid is used as a treatment liquid for trapping impurities in the temperature-sensitive gel filter 31, and as a cleaning liquid for releasing impurities from the temperature-sensitive gel filter 31. Therefore, when the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter 31 decreases, there is no need to change the type of liquid circulated by the circulation pipe 32, so that the recovery of the impurity removal efficiency can be started quickly. Therefore, impurities can be removed from the temperature-sensitive gel filter 31 quickly compared to a configuration in which a different type of cleaning liquid from the contamination treatment liquid is passed through the temperature-sensitive gel filter 31 to release impurities from the temperature-sensitive gel 50.

第１実施形態によれば、処理液を循環させて感温性ゲルフィルタ３１に処理液を通過させる。そのため、処理液を感温性ゲルフィルタ３１に効率良く通過させることができる。これにより、処理液から不純物の除去、および、不純物除去効率の回復が速やかに行われる。
また、この実施形態では、帰還配管２２は、循環ヒータ４５よりも上流側で循環配管３２に接続されている。そのため、帰還配管２２から貯留タンク３０に送られる処理液が循環ヒータ４５によって加熱される。したがって、処理液が循環される前に処理液の加熱が開始される。 According to the first embodiment, the treatment liquid is circulated and passed through the temperature-sensitive gel filter 31. Therefore, the treatment liquid can be efficiently passed through the temperature-sensitive gel filter 31. This allows impurities to be quickly removed from the treatment liquid and the impurity removal efficiency to be quickly restored.
In this embodiment, the return pipe 22 is connected to the circulation pipe 32 upstream of the circulation heater 45. Therefore, the processing liquid sent from the return pipe 22 to the storage tank 30 is heated by the circulation heater 45. Therefore, heating of the processing liquid is started before the processing liquid is circulated.

第１実施形態では、ステップＳ６のゲル加熱停止工程の後に、感温性ゲルフィルタ３１を冷却する方法として、循環冷却工程が用いられる。しかしながら、循環冷却工程では、処理液の冷却に伴って、感温性ゲルフィルタ３１から処理液に不純物が放出されるため、この不純物によって循環配管３２が汚染されるおそれがある。
そこで、循環冷却工程を行うことなく感温性ゲルフィルタ３１を冷却するために、循環ポンプ４０を停止させた状態で放置して感温性ゲルフィルタ３１を自然冷却させてもよい。感温性ゲルフィルタ３１の温度低下を促進するために、図示しない冷却ユニット（クーラ）を貯留タンク３０に設け、当該冷却ユニットを用いて貯留タンク３０を冷却することで感温性ゲルフィルタ３１を強制的に冷却してもよい。 In the first embodiment, after the gel heating stopping step in step S6, a circulation cooling step is used as a method for cooling the temperature-sensitive gel filter 31. However, in the circulation cooling step, impurities are released from the temperature-sensitive gel filter 31 into the treatment liquid as the treatment liquid is cooled, and there is a risk that the circulation piping 32 will be contaminated by these impurities.
Therefore, in order to cool the thermosensitive gel filter 31 without carrying out the circulating cooling process, the circulation pump 40 may be stopped and left to allow the thermosensitive gel filter 31 to cool naturally. In order to promote the decrease in temperature of the thermosensitive gel filter 31, a cooling unit (cooler) (not shown) may be provided in the storage tank 30, and the storage tank 30 may be cooled using the cooling unit, thereby forcibly cooling the thermosensitive gel filter 31.

また、ゲル加熱停止工程（ステップＳ６）の後、循環冷却工程および第２ゲル温度監視工程（ステップＳ７）を行うことなく、排液工程（ステップＳ８）が行われてもよい。貯留タンク３０から処理液が排出される過程で処理液が自然冷却され、冷却された処理液によって感温性ゲルフィルタ３１が処理液の温度にまで冷却される。感温性ゲルフィルタ３１が常温にまで冷却されることによって、不純物を放出する。処理液に放出された不純物は、処理液とともに貯留タンク３０外へ排出されるため、不純物による循環配管３２の汚染を抑制できる。 Furthermore, after the gel heating stopping step (step S6), the draining step (step S8) may be performed without performing the circulation cooling step and the second gel temperature monitoring step (step S7). The treatment liquid is naturally cooled in the process of being discharged from the storage tank 30, and the cooled treatment liquid cools the temperature-sensitive gel filter 31 to the temperature of the treatment liquid. The temperature-sensitive gel filter 31 is cooled to room temperature, thereby releasing impurities. The impurities released into the treatment liquid are discharged outside the storage tank 30 together with the treatment liquid, so contamination of the circulation piping 32 by impurities can be suppressed.

＜第２実施形態＞
図５は、この発明の第２実施形態に係る基板処理装置１Ｐの構成例を示す模式図である。図５および後述する図６Ａ～図６Ｄにおいて、前述の図１～図４Ｅに示された構成と同等の構成については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。基板処理装置１Ｐが、第１実施形態に係る基板処理装置１と主に異なる点は、処理液供給装置３Ｐが、洗浄液配管９０、洗浄液ポンプ９１および洗浄液バルブ９２を備える点である。 Second Embodiment
Fig. 5 is a schematic diagram showing a configuration example of a substrate processing apparatus 1P according to a second embodiment of the present invention. In Fig. 5 and Figs. 6A to 6D described later, components equivalent to those shown in Figs. 1 to 4E described above are given the same reference numerals as in Fig. 1 and the like, and descriptions thereof will be omitted. The substrate processing apparatus 1P mainly differs from the substrate processing apparatus 1 according to the first embodiment in that a processing liquid supplying apparatus 3P includes a cleaning liquid piping 90, a cleaning liquid pump 91, and a cleaning liquid valve 92.

洗浄液配管９０は、貯留タンク３０に洗浄液を供給する。洗浄液配管９０は、その内部に洗浄液流路を形成する配管である。洗浄液配管９０の上流端は、洗浄液タンク９３に接続されており、洗浄液配管９０の下流端は、貯留タンク３０に接続されている。
洗浄液ポンプ９１は、洗浄液配管９０に介装されている。洗浄液ポンプ９１は、洗浄液タンク９３内の洗浄液を洗浄液配管９０に向けて送り出す。洗浄液バルブ９２は、洗浄液ポンプ９１よりも下流側で洗浄液配管９０に介装されている。洗浄液バルブ９２は、洗浄液配管９０内の洗浄液流路を開閉する。 The cleaning liquid piping 90 supplies the cleaning liquid to the storage tank 30. The cleaning liquid piping 90 is a pipe that forms a cleaning liquid flow path therein. The upstream end of the cleaning liquid piping 90 is connected to the cleaning liquid tank 93, and the downstream end of the cleaning liquid piping 90 is connected to the storage tank 30.
The cleaning liquid pump 91 is disposed in the cleaning liquid piping 90. The cleaning liquid pump 91 sends out the cleaning liquid in the cleaning liquid tank 93 toward the cleaning liquid piping 90. The cleaning liquid valve 92 is disposed in the cleaning liquid piping 90 downstream of the cleaning liquid pump 91. The cleaning liquid valve 92 opens and closes the cleaning liquid flow path in the cleaning liquid piping 90.

第２実施形態における洗浄液は、汚染処理液ではなく、洗浄液タンク９３内に貯留されたＤＩＷ等である。より具体的には、洗浄液としては、リンス液と同様の液体を使用することができる。洗浄液は、ＤＩＷに限られず、炭酸水、電解イオン水、オゾン水、希釈濃度（たとえば、１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下）の塩酸水、アンモニア水、還元水（水素水）、親水性の有機溶剤のうちの少なくとも１つを含む液であってもよい。 The cleaning liquid in the second embodiment is not a contamination treatment liquid, but DIW or the like stored in the cleaning liquid tank 93. More specifically, a liquid similar to the rinse liquid can be used as the cleaning liquid. The cleaning liquid is not limited to DIW, and may be a liquid containing at least one of carbonated water, electrolytic ion water, ozone water, hydrochloric acid water with a dilute concentration (for example, 10 ppm or more and 100 ppm or less), ammonia water, reduced water (hydrogen water), and a hydrophilic organic solvent.

次に、第２実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例について説明する。
第２実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例は、排液工程（ステップＳ８）を除いて第１実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例とほぼ同じである。そのため、以下では、排液工程（ステップＳ８）を中心に、第２実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例について説明する。 Next, an example of the operation of the impurity removal unit 20 according to the second embodiment will be described.
An example of the operation of the impurity removal unit 20 according to the second embodiment is almost the same as the example of the operation of the impurity removal unit 20 according to the first embodiment, except for the drainage step (step S8). Therefore, hereinafter, an example of the operation of the impurity removal unit 20 according to the second embodiment will be described, focusing on the drainage step (step S8).

図６Ａ～図６Ｄは、第２実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例を説明するための模式図である。
第２実施形態においても、第１実施形態と同様に、不純物除去時間経過後に、不純物量が基準不純物量よりも低い場合には（ステップＳ４：ＹＥＳ）、処理液が、循環配管３２および貯留タンク３０を所定時間循環することによって感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却される（循環冷却工程）。 6A to 6D are schematic views for explaining an example of the operation of the impurity removal unit 20 according to the second embodiment.
In the second embodiment, as in the first embodiment, if the amount of impurities is lower than the reference impurity amount after the impurity removal time has elapsed (step S4: YES), the treatment liquid is cooled to a temperature lower than the transition temperature of the thermosensitive gel 50 by circulating through the circulation piping 32 and the storage tank 30 for a predetermined time (circulation cooling process).

貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却されると（ステップＳ７：ＹＥＳ）、図６Ａに示すように、上流循環バルブ４１、中間循環バルブ４３、および下流循環バルブ４４が閉じられ、排液バルブ７０が開かれる。さらに、循環ポンプ４０が停止される。
この実施形態では、排液流路が貯留タンク３０の底面から開口しているため、処理液は、自重によって、貯留タンク３０から排液配管２１（排液流路）に向けて送られる（ステップＳ８：排液工程）。 When the thermosensitive gel filter 31 in the storage tank 30 is cooled to a temperature lower than the transition temperature of the thermosensitive gel 50 (step S7: YES), the upstream circulation valve 41, the intermediate circulation valve 43, and the downstream circulation valve 44 are closed, and the drain valve 70 is opened, as shown in Fig. 6A. Furthermore, the circulation pump 40 is stopped.
In this embodiment, since the drainage flow path opens from the bottom surface of the storage tank 30, the treatment liquid is sent from the storage tank 30 to the drainage pipe 21 (drainage flow path) by its own weight (step S8: drainage process).

その後、排液バルブ７０が閉じられ洗浄液バルブ９２が開かれる。そして、洗浄液ポンプ９１が作動される。これにより、図６Ｂに示すように、貯留タンク３０内に洗浄液が供給される。たとえば、図６Ｂに二点鎖線で示すように、液面センサ３４の測定値が所定の第１高さＨ１に達すると、洗浄液バルブ９２が閉じられる。第１高さＨ１は、感温性ゲルフィルタ３１よりも高い位置に設定されている。これにより、感温性ゲルフィルタ３１が洗浄液に浸漬される（洗浄液浸漬工程）。 Then, the drain valve 70 is closed and the cleaning liquid valve 92 is opened. Then, the cleaning liquid pump 91 is operated. As a result, cleaning liquid is supplied into the storage tank 30 as shown in FIG. 6B. For example, as shown by the two-dot chain line in FIG. 6B, when the measurement value of the liquid level sensor 34 reaches a predetermined first height H1, the cleaning liquid valve 92 is closed. The first height H1 is set to a position higher than the temperature-sensitive gel filter 31. As a result, the temperature-sensitive gel filter 31 is immersed in the cleaning liquid (cleaning liquid immersion process).

感温性ゲルフィルタ３１を洗浄液に浸漬させた後、排液バルブ７０が再び開かれる。これにより、図６Ｃに示すように、貯留タンク３０内の洗浄液が貯留タンク３０内に排液流Ｄを形成しながら排液配管２１から排液される（浸漬洗浄工程）。
その後、浸漬洗浄工程（図６Ｂおよび図６Ｃを参照）が繰り返される。具体的には、貯留タンク３０に洗浄液を再び供給して感温性ゲルフィルタ３１を洗浄液に浸漬させ、貯留タンク３０内の洗浄液を排液配管２１から排液して貯留タンク３０内に排液流Ｄが形成される。排液流Ｄは、上方から下方に向かう洗浄液の流れである。 After the temperature-sensitive gel filter 31 is immersed in the cleaning liquid, the drain valve 70 is opened again, whereby the cleaning liquid in the storage tank 30 is drained from the drain pipe 21 while forming a drain flow D in the storage tank 30, as shown in Fig. 6C (immersion cleaning process).
Thereafter, the immersion cleaning process (see Figs. 6B and 6C) is repeated. Specifically, the cleaning liquid is supplied again to the storage tank 30 to immerse the temperature-sensitive gel filter 31 in the cleaning liquid, and the cleaning liquid in the storage tank 30 is drained from the drain pipe 21 to form a drain flow D in the storage tank 30. The drain flow D is a flow of the cleaning liquid from above downward.

浸漬洗浄工程が複数回実行された後、排液バルブ７０が閉じられた状態で、帰還バルブ６０および下流循環バルブ４４が開かれ、図６Ｄに示すように、貯留タンク３０に汚染処理液が供給される。これにより、たとえば、図６Ｄに二点鎖線で示すように、液面センサ３４の測定値が所定の第１高さＨ１に達すると、帰還バルブ６０および下流循環バルブ４４が閉じられる。これにより、感温性ゲルフィルタ３１が汚染処理液に浸漬される（汚染処理液浸漬工程）。その後、排液バルブ７０が開かれて貯留タンク３０内の汚染処理液が排液される。これにより、貯留タンク３０内に残存していた洗浄液が汚染処理液によって置換される。 After the immersion cleaning process is performed multiple times, the return valve 60 and downstream circulation valve 44 are opened with the drain valve 70 closed, and the contamination treatment liquid is supplied to the storage tank 30 as shown in FIG. 6D. As a result, for example, as shown by the two-dot chain line in FIG. 6D, when the measurement value of the liquid level sensor 34 reaches a predetermined first height H1, the return valve 60 and downstream circulation valve 44 are closed. As a result, the temperature-sensitive gel filter 31 is immersed in the contamination treatment liquid (contamination treatment liquid immersion process). After that, the drain valve 70 is opened to drain the contamination treatment liquid in the storage tank 30. As a result, the cleaning liquid remaining in the storage tank 30 is replaced with the contamination treatment liquid.

第２実施形態によれば、第１実施形態と同様の効果を奏する。
第２実施形態によれば、以下の効果も奏する。第２実施形態では、貯留タンク３０内に供給された洗浄液に感温性ゲルフィルタ３１が浸漬される。これにより、洗浄液中に感温性ゲル５０から不純物が放出される。その後、貯留タンク３０内の洗浄液を排液配管２１から排液することによって貯留タンク３０内に排液流Ｄが形成される。洗浄液中に放出された不純物が、この排液流Ｄによって洗浄液とともに貯留タンク３０内から除去される。これにより、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率を回復させることができる。
また、第２実施形態によれば、洗浄液が、洗浄液配管９０を介して、洗浄液タンク９３から貯留タンク３０に供給される。そのため、感温性ゲルフィルタ３１を速やかに洗浄できる。 According to the second embodiment, the same effects as those of the first embodiment are achieved.
The second embodiment also provides the following effects. In the second embodiment, the temperature-sensitive gel filter 31 is immersed in the cleaning liquid supplied into the storage tank 30. This causes impurities to be released from the temperature-sensitive gel 50 into the cleaning liquid. The cleaning liquid in the storage tank 30 is then drained from the drain pipe 21 to form a drain flow D in the storage tank 30. The impurities released into the cleaning liquid are removed from the storage tank 30 together with the cleaning liquid by this drain flow D. This makes it possible to restore the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter 31.
Furthermore, according to the second embodiment, the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid tank 93 to the storage tank 30 via the cleaning liquid pipe 90. Therefore, the temperature-sensitive gel filter 31 can be quickly cleaned.

第２実施形態とは異なり、循環冷却工程を行うことなく感温性ゲルフィルタ３１を冷却するために、循環ポンプ４０を停止させた状態で放置して感温性ゲルフィルタ３１を自然冷却させてもよい。また、感温性ゲルフィルタ３１の温度低下を促進するために、図示しない冷却ユニット（クーラ）を貯留タンク３０に設け、冷却ユニットを用いて貯留タンク３０を冷却することで感温性ゲルフィルタ３１を強制的に冷却してもよい。 Unlike the second embodiment, in order to cool the thermosensitive gel filter 31 without performing a circulating cooling process, the circulation pump 40 may be stopped and left to allow the thermosensitive gel filter 31 to cool naturally. Also, in order to accelerate the temperature drop of the thermosensitive gel filter 31, a cooling unit (cooler) (not shown) may be provided in the storage tank 30, and the storage tank 30 may be cooled using the cooling unit to forcibly cool the thermosensitive gel filter 31.

また、ゲル加熱停止工程（ステップＳ６）の後、循環冷却工程および第２ゲル温度監視工程（ステップＳ７）を行うことなく、排液工程（ステップＳ８）が行われてもよい。すなわち、ゲル加熱停止工程において循環ヒータ４５が停止されるとともに、循環ポンプ４０が停止され、かつ、排液バルブ７０が開かれる。これにより、感温性ゲルフィルタ３１が冷却される前に貯留タンク３０内の処理液が排液される。その後、貯留タンク３０内に供給される洗浄液によって、感温性ゲルフィルタ３１が、処理液の温度にまで冷却される。それによって感温性ゲルフィルタ３１が不純物を放出する。処理液に放出された不純物は、処理液とともに貯留タンク３０外へ排出されるため、不純物による循環配管３２の汚染を抑制できる。 After the gel heating stop step (step S6), the draining step (step S8) may be performed without performing the circulation cooling step and the second gel temperature monitoring step (step S7). That is, in the gel heating stop step, the circulation heater 45 is stopped, the circulation pump 40 is stopped, and the drain valve 70 is opened. As a result, the treatment liquid in the storage tank 30 is drained before the temperature-sensitive gel filter 31 is cooled. After that, the temperature-sensitive gel filter 31 is cooled to the temperature of the treatment liquid by the cleaning liquid supplied into the storage tank 30. As a result, the temperature-sensitive gel filter 31 releases impurities. The impurities released into the treatment liquid are discharged outside the storage tank 30 together with the treatment liquid, so that contamination of the circulation piping 32 by impurities can be suppressed.

＜第３実施形態＞
図７は、この発明の第３実施形態に係る基板処理装置１Ｑの構成例を示す模式図である。図７ならびに後述する図８Ａおよび図８Ｂにおいて、前述の図１～図６Ｄに示された構成と同等の構成については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。
基板処理装置１Ｑが第１実施形態に係る基板処理装置１と主に異なる点は、処理液供給装置３Ｑが、複数（この実施形態では２個）の不純物除去ユニット２０を備えている点である。 Third Embodiment
Fig. 7 is a schematic diagram showing a configuration example of a substrate processing apparatus 1Q according to a third embodiment of the present invention. In Fig. 7 and Figs. 8A and 8B described later, components equivalent to those shown in Figs. 1 to 6D described above are given the same reference numerals as in Fig. 1 and the like, and descriptions thereof will be omitted.
The substrate processing apparatus 1Q differs from the substrate processing apparatus 1 according to the first embodiment mainly in that a processing liquid supplying apparatus 3Q includes a plurality of impurity removing units 20 (two in this embodiment).

複数の不純物除去ユニット２０は、第１不純物除去ユニット２０Ａと、第２不純物除去ユニット２０Ｂとを含む。第１不純物除去ユニット２０Ａおよび第２不純物除去ユニット２０Ｂは、いずれも同様の構成を有している。
詳しくは、第１不純物除去ユニット２０Ａの貯留タンク３０、感温性ゲルフィルタ３１、循環配管３２、循環ポンプ４０、上流循環バルブ４１、不純物量測定ユニット４２、中間循環バルブ４３、下流循環バルブ４４、循環ヒータ４５、および、循環温度計４６を、それぞれ、第１貯留タンク３０Ａ、第１感温性ゲルフィルタ３１Ａ、第１循環配管３２Ａ、第１循環ポンプ４０Ａ、第１上流循環バルブ４１Ａ、第１不純物量測定ユニット４２Ａ、第１中間循環バルブ４３Ａ、第１下流循環バルブ４４Ａ、第１循環ヒータ４５Ａ、第１循環温度計４６Ａと表現する場合がある。 The plurality of impurity removal units 20 include a first impurity removal unit 20A and a second impurity removal unit 20B. The first impurity removal unit 20A and the second impurity removal unit 20B have the same configuration.
In detail, the storage tank 30, temperature-sensitive gel filter 31, circulation piping 32, circulation pump 40, upstream circulation valve 41, impurity amount measuring unit 42, intermediate circulation valve 43, downstream circulation valve 44, circulation heater 45, and circulation thermometer 46 of the first impurity removal unit 20A may be expressed as the first storage tank 30A, the first temperature-sensitive gel filter 31A, the first circulation piping 32A, the first circulation pump 40A, the first upstream circulation valve 41A, the first impurity amount measuring unit 42A, the first intermediate circulation valve 43A, the first downstream circulation valve 44A, the first circulation heater 45A, and the first circulation thermometer 46A, respectively.

同様に、第２不純物除去ユニット２０Ｂの貯留タンク３０、感温性ゲルフィルタ３１、循環配管３２、循環ポンプ４０、上流循環バルブ４１、不純物量測定ユニット４２、中間循環バルブ４３、下流循環バルブ４４、循環ヒータ４５、および、循環温度計４６を、それぞれ、第２貯留タンク３０Ｂ、第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂ、第２循環配管３２Ｂ、第２循環ポンプ４０Ｂ、第２上流循環バルブ４１Ｂ、第２不純物量測定ユニット４２Ｂ、第２中間循環バルブ４３Ｂ、第２下流循環バルブ４４Ｂ、第２循環ヒータ４５Ｂ、第２循環温度計４６Ｂと表現する場合がある。 Similarly, the storage tank 30, temperature-sensitive gel filter 31, circulation piping 32, circulation pump 40, upstream circulation valve 41, impurity amount measuring unit 42, intermediate circulation valve 43, downstream circulation valve 44, circulation heater 45, and circulation thermometer 46 of the second impurity removal unit 20B may be referred to as the second storage tank 30B, the second temperature-sensitive gel filter 31B, the second circulation piping 32B, the second circulation pump 40B, the second upstream circulation valve 41B, the second impurity amount measuring unit 42B, the second intermediate circulation valve 43B, the second downstream circulation valve 44B, the second circulation heater 45B, and the second circulation thermometer 46B, respectively.

第３実施形態の処理液供給装置３Ｑは、複数の帰還配管２２および複数の排液配管２１を備えている。
複数の帰還配管２２は、第１帰還配管２２Ａおよび第２帰還配管２２Ｂ含む。第１帰還配管２２Ａは、その内部に第１帰還流路を形成する配管である。第２帰還配管２２Ｂは、その内部に第２帰還流路を形成する配管である。 The processing liquid supplying apparatus 3Q of the third embodiment includes a plurality of return pipes 22 and a plurality of drainage pipes 21.
The multiple return pipes 22 include a first return pipe 22A and a second return pipe 22B. The first return pipe 22A is a pipe that forms a first return flow path therein. The second return pipe 22B is a pipe that forms a second return flow path therein.

第１帰還配管２２Ａの上流端は、たとえば、カップ１２に接続されている。第１帰還配管２２Ａの下流端は、たとえば、第１循環配管３２Ａに分岐接続されている。第１帰還配管２２Ａに介装されている帰還バルブ６０は、第１帰還配管２２Ａ内の流路（第１帰還流路）を開閉する第１帰還バルブ６０Ａともいう。
第２帰還配管２２Ｂの上端部は、第１帰還バルブ６０Ａよりも上流側で第１帰還配管２２Ａに接続されている。第２帰還配管２２Ｂの下流端は、たとえば、第２循環配管３２Ｂに分岐接続されている。第２帰還配管２２Ｂに介装されている帰還バルブ６０は、第２帰還配管２２Ｂ内の流路（第２帰還流路）を開閉する第２帰還バルブ６０Ｂともいう。 An upstream end of the first return pipe 22A is connected to, for example, the cup 12. A downstream end of the first return pipe 22A is branched and connected to, for example, the first circulation pipe 32A. The return valve 60 interposed in the first return pipe 22A is also referred to as a first return valve 60A that opens and closes a flow path (first return flow path) in the first return pipe 22A.
The upper end of the second return pipe 22B is connected to the first return pipe 22A upstream of the first return valve 60A. The downstream end of the second return pipe 22B is branched and connected to, for example, the second circulation pipe 32B. The return valve 60 interposed in the second return pipe 22B is also referred to as a second return valve 60B, which opens and closes a flow path (second return flow path) in the second return pipe 22B.

複数の排液配管２１は、第１排液配管２１Ａおよび第２排液配管２１Ｂを含む。第１排液配管２１Ａの上流端および第２排液配管２１Ｂの上流端は、それぞれ、第１貯留タンク３０Ａおよび第２貯留タンク３０Ｂに接続されている。第１排液配管２１Ａは、その内部に第１排液流路を形成する配管である。第２排液配管２１Ｂは、その内部に第２排液流路を形成する配管である。 The multiple drainage pipes 21 include a first drainage pipe 21A and a second drainage pipe 21B. The upstream end of the first drainage pipe 21A and the upstream end of the second drainage pipe 21B are connected to a first storage tank 30A and a second storage tank 30B, respectively. The first drainage pipe 21A is a pipe that forms a first drainage flow path therein. The second drainage pipe 21B is a pipe that forms a second drainage flow path therein.

第１帰還配管２２Ａに介装されている排液バルブ７０は、第１排液配管２１Ａ内の流路（第１排液流路）を開閉する第１排液バルブ７０Ａともいう。第２排液配管２１Ｂに介装されている排液バルブ７０は、第２排液配管２１Ｂ内の流路（第２排液流路）を開閉する第２排液バルブ７０Ｂともいう。
供給ユニット１９は、複数の上流供給配管２３を備える。複数の上流供給配管２３は、第１上流供給配管２３Ａおよび第２上流供給配管２３Ｂを含む。 The drainage valve 70 installed in the first return pipe 22A is also referred to as a first drainage valve 70A that opens and closes a flow path (first drainage flow path) in the first drainage pipe 21A. The drainage valve 70 installed in the second drainage pipe 21B is also referred to as a second drainage valve 70B that opens and closes a flow path (second drainage flow path) in the second drainage pipe 21B.
The supply unit 19 includes a plurality of upstream supply pipes 23. The plurality of upstream supply pipes 23 include a first upstream supply pipe 23A and a second upstream supply pipe 23B.

第１上流供給配管２３Ａは、その内部に第１上流供給流路を形成する配管である。第１上流供給配管２３Ａの上流端は、たとえば、第１循環ポンプ４０Ａよりも下流側で、かつ、第１上流循環バルブ４１Ａよりも上流側で、第１循環配管３２Ａに分岐接続されている。第１上流供給配管２３Ａに介装されている上流供給バルブ８０は、第１上流供給配管２３Ａ内の流路（第１上流供給流路）を開閉する第１上流供給バルブ８０Ａともいう。 The first upstream supply pipe 23A is a pipe that forms a first upstream supply flow path therein. The upstream end of the first upstream supply pipe 23A is branched and connected to the first circulation pipe 32A, for example, downstream of the first circulation pump 40A and upstream of the first upstream circulation valve 41A. The upstream supply valve 80 interposed in the first upstream supply pipe 23A is also referred to as the first upstream supply valve 80A, which opens and closes the flow path (first upstream supply flow path) in the first upstream supply pipe 23A.

第２上流供給配管２３Ｂは、その内部に第２上流供給流路を形成する配管である。第２上流供給配管２３Ｂの上流端は、たとえば、第２循環ポンプ４０Ｂよりも下流側で、かつ、第２上流循環バルブ４１Ｂよりも上流側において、第２循環配管３２Ｂに分岐接続されている。第２上流供給配管２３Ｂの下流端は、第１上流供給バルブ８０Ａよりも下流側で第１上流供給配管２３Ａに接続されている。第２上流供給配管２３Ｂに介装されている上流供給バルブ８０は、第２上流供給配管２３Ｂ内の流路（第２上流供給流路）を開閉する第２上流供給バルブ８０Ｂともいう。 The second upstream supply pipe 23B is a pipe that forms a second upstream supply flow path therein. The upstream end of the second upstream supply pipe 23B is branched and connected to the second circulation pipe 32B, for example, downstream of the second circulation pump 40B and upstream of the second upstream circulation valve 41B. The downstream end of the second upstream supply pipe 23B is connected to the first upstream supply pipe 23A downstream of the first upstream supply valve 80A. The upstream supply valve 80 interposed in the second upstream supply pipe 23B is also called the second upstream supply valve 80B, which opens and closes the flow path (second upstream supply flow path) in the second upstream supply pipe 23B.

次に、第３実施形態に係る複数の不純物除去ユニット２０の動作例について説明する。
第３実施形態に係る各不純物除去ユニット２０の動作例は、第１実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例とほぼ同じである。しかしながら、第３実施形態に係る複数の不純物除去ユニット２０は、一部の不純物除去ユニット２０が不純物除去効率を回復させている間に、別の不純物除去ユニット２０が処理液から不純物を除去するように動作される。 Next, an example of the operation of the multiple impurity removal units 20 according to the third embodiment will be described.
An operation example of each impurity removal unit 20 according to the third embodiment is substantially the same as the operation example of the impurity removal unit 20 according to the first embodiment. However, the multiple impurity removal units 20 according to the third embodiment are operated such that while some of the impurity removal units 20 are recovering the impurity removal efficiency, the other impurity removal units 20 remove impurities from the treatment liquid.

そのため、以下では、各不純物除去ユニット２０の動作の詳細については説明を省略し、第１不純物除去ユニット２０Ａが不純物除去効率を回復させている間に、第２不純物除去ユニット２０Ｂが処理液から不純物を除去している様子について説明する。
図８Ａおよび図８Ｂは、第３実施形態に係る複数の不純物除去ユニット２０の動作例を説明するための模式図である。 Therefore, in the following, we will omit detailed explanations of the operation of each impurity removal unit 20, and instead explain how the second impurity removal unit 20B removes impurities from the treatment liquid while the first impurity removal unit 20A restores the impurity removal efficiency.
8A and 8B are schematic views for explaining an example of the operation of the multiple impurity removal units 20 according to the third embodiment.

具体的には、図８Ａに示すように、第１循環ヒータ４５Ａによる加熱を停止した状態で、処理液を第１循環配管３２Ａおよび第１貯留タンク３０Ａに循環させる。これにより、処理液が冷却され、処理液を介して第１感温性ゲルフィルタ３１Ａが冷却される。第１感温性ゲルフィルタ３１Ａが転移温度よりも低い温度に冷却されている状態、すなわち、第１感温性ゲル５０Ａが親水性である状態で、第１感温性ゲルフィルタ３１Ａに処理液を通過させることによって、不純物が第１感温性ゲルフィルタ３１Ａから処理液に放出される（不純物放出工程、循環放出工程）。 Specifically, as shown in FIG. 8A, the treatment liquid is circulated through the first circulation pipe 32A and the first storage tank 30A with heating by the first circulation heater 45A stopped. This cools the treatment liquid, and the first thermosensitive gel filter 31A is cooled through the treatment liquid. When the first thermosensitive gel filter 31A is cooled to a temperature lower than the transition temperature, i.e., when the first thermosensitive gel 50A is hydrophilic, the treatment liquid is passed through the first thermosensitive gel filter 31A, whereby impurities are released from the first thermosensitive gel filter 31A into the treatment liquid (impurity release process, circulation release process).

ここで、不純物放出工程において、第１感温性ゲルフィルタ３１Ａを冷却するために、処理液を循環させることなく、第１循環ポンプ４０Ａを停止した状態で第１感温性ゲルフィルタ３１Ａを常温に自然冷却させてもよい。第１感温性ゲルフィルタ３１Ａの温度低下を促進するために、図示しない冷却ユニット（クーラ）を第１貯留タンク３０Ａに設け、冷却ユニットを用いて第１貯留タンク３０Ａを冷却することで第１感温性ゲルフィルタ３１Ａを強制的に冷却してもよい。 Here, in the impurity release process, in order to cool the first temperature-sensitive gel filter 31A, the first circulation pump 40A may be stopped and the first temperature-sensitive gel filter 31A may be allowed to cool naturally to room temperature without circulating the treatment liquid. In order to accelerate the temperature drop of the first temperature-sensitive gel filter 31A, a cooling unit (cooler) (not shown) may be provided in the first storage tank 30A, and the first storage tank 30A may be cooled using the cooling unit to forcibly cool the first temperature-sensitive gel filter 31A.

一方、第２不純物除去ユニット２０Ｂでは、処理液が、第２循環ヒータ４５Ｂによって加熱されながら、第２循環配管３２Ｂおよび第２貯留タンク３０Ｂを循環する。これにより、処理液が加熱され、処理液を介して第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂが加熱される。
第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂが転移温度以上に加熱されている状態、すなわち、第２感温性ゲル５０Ｂが疎水性となっている状態で、第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂに処理液を通過させることによって、処理液中の不純物が第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂによって捕獲されて、処理液中から除去される（不純物除去工程、循環除去工程）。 Meanwhile, in the second impurity removal unit 20B, the treatment liquid circulates through the second circulation pipe 32B and the second storage tank 30B while being heated by the second circulation heater 45B, whereby the treatment liquid is heated, and the second temperature-sensitive gel filter 31B is heated via the treatment liquid.
When the second temperature-sensitive gel filter 31B is heated to or above the transition temperature, i.e., when the second temperature-sensitive gel 50B is hydrophobic, the treatment liquid is passed through the second temperature-sensitive gel filter 31B, whereby impurities in the treatment liquid are captured by the second temperature-sensitive gel filter 31B and removed from the treatment liquid (impurity removal process, circulation removal process).

その後、図８Ｂに示すように、第１不純物除去ユニット２０Ａでは、処理液の循環を維持しながら、第１排液バルブ７０Ａが開かれる。これにより、第１貯留タンク３０Ａから第１排液配管２１Ａ（第１排液流路）に向けて処理液が送られる（排液工程）。すなわち、第１循環配管３２Ａおよび第１貯留タンク３０Ａを循環する処理液に第１感温性ゲルフィルタ３１Ａから不純物が放出された後、排液工程が実行される。 After that, as shown in FIG. 8B, in the first impurity removal unit 20A, the first drainage valve 70A is opened while maintaining circulation of the treatment liquid. This causes the treatment liquid to be sent from the first storage tank 30A to the first drainage pipe 21A (first drainage flow path) (drainage process). That is, after impurities are released from the first temperature-sensitive gel filter 31A into the treatment liquid circulating through the first circulation pipe 32A and the first storage tank 30A, the drainage process is executed.

一方、第２不純物除去ユニット２０Ｂでは、処理液の循環を維持しながら、第２上流供給バルブ８０Ｂが開かれる。第２貯留タンク３０Ｂから供給タンク２４（供給流路）に向けて、清浄処理液が送られる（供給工程）。すなわち、第２循環配管３２Ｂおよび第２貯留タンク３０Ｂを循環する処理液から不純物が第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂによって充分に除去された後、供給工程が実行される。 Meanwhile, in the second impurity removal unit 20B, the second upstream supply valve 80B is opened while maintaining circulation of the treatment liquid. The clean treatment liquid is sent from the second storage tank 30B to the supply tank 24 (supply flow path) (supply process). That is, the supply process is carried out after impurities are sufficiently removed from the treatment liquid circulating through the second circulation pipe 32B and the second storage tank 30B by the second temperature-sensitive gel filter 31B.

このように、第３実施形態では、第１貯留タンク３０Ａ内に収容されている第１感温性ゲルフィルタ３１Ａから洗浄液に不純物を放出させている間に、別の貯留タンク（第２貯留タンク３０Ｂ）に収容されている第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂによって、処理液から不純物を充分に除去できる。
そのため、一方の感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が低下した場合であっても、その感温性ゲルフィルタ３１の感温性ゲル５０から不純物を放出させて不純物除去効率を回復させつつ、別の感温性ゲルフィルタ３１を用いて処理液から不純物を充分に除去し、その処理液を供給ユニット１９に送出できる。 Thus, in the third embodiment, while impurities are being released into the cleaning liquid from the first temperature-sensitive gel filter 31A contained in the first storage tank 30A, impurities can be sufficiently removed from the treatment liquid by the second temperature-sensitive gel filter 31B contained in another storage tank (second storage tank 30B).
Therefore, even if the impurity removal efficiency of one of the temperature-sensitive gel filters 31 decreases, the impurities can be released from the temperature-sensitive gel 50 of that temperature-sensitive gel filter 31 to restore the impurity removal efficiency, while the impurities can be sufficiently removed from the treatment liquid using another temperature-sensitive gel filter 31, and the treatment liquid can be sent to the supply unit 19.

したがって、一部の貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率を回復させつつ、別の貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１を用いて処理ユニット２に処理液を安定して供給できる。
当然、図８Ａおよび図８Ｂとは異なり、第１不純物除去ユニット２０Ａにおいて不純物除去工程が実行され、第２不純物除去ユニット２０Ｂにおいて不純物放出工程が実行されることもある。 Therefore, while the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filters 31 in some of the storage tanks 30 is restored, the processing liquid can be stably supplied to the processing unit 2 by using the temperature-sensitive gel filters 31 in the other storage tanks 30 .
Of course, unlike FIGS. 8A and 8B, the impurity removal step may be performed in the first impurity removal unit 20A, and the impurity release step may be performed in the second impurity removal unit 20B.

第２不純物除去ユニット２０Ｂにおいて不純物放出工程が行われる場合であっても、第１不純物除去ユニット２０Ａにおいて不純物放出工程が行われるときと同様に、冷却方法を変更することが可能である。
すなわち、第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂを冷却するために、処理液を循環させることなく、第２循環ポンプ４０Ｂを停止させた状態で第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂを常温にまで自然冷却させてもよい。第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂの温度低下を促進するために、図示しない冷却ユニット（クーラ）を第２貯留タンク３０Ｂに設け、冷却ユニットを用いて第２貯留タンク３０Ｂを冷却することで第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂを強制的に冷却してもよい。 Even when the impurity releasing step is performed in the second impurity removal unit 20B, the cooling method can be changed in the same way as when the impurity releasing step is performed in the first impurity removal unit 20A.
That is, in order to cool the second temperature-sensitive gel filter 31B, the second temperature-sensitive gel filter 31B may be naturally cooled to room temperature with the second circulation pump 40B stopped without circulating the treatment liquid. In order to accelerate the decrease in temperature of the second temperature-sensitive gel filter 31B, a cooling unit (cooler) (not shown) may be provided in the second storage tank 30B, and the second storage tank 30B may be cooled using the cooling unit to forcibly cool the second temperature-sensitive gel filter 31B.

＜第４実施形態＞
図９は、この発明の第４実施形態に係る基板処理装置１Ｒの構成例を示す模式図である。図９および後述する図１０Ａ～図１０Ｅにおいて、前述の図１～図８Ｂに示された構成と同等の構成については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。
基板処理装置１Ｒが第１実施形態に係る基板処理装置１と主に異なる点は、処理液供給装置３Ｒの不純物除去ユニット２０Ｒに供給される処理液が新液タンク１４１から供給される新処理液である点、および、循環流路が、上流循環配管１００、循環タンク１０１および下流循環配管１０２によって形成されている点である。 Fourth Embodiment
Fig. 9 is a schematic diagram showing a configuration example of a substrate processing apparatus 1R according to a fourth embodiment of the present invention. In Fig. 9 and Figs. 10A to 10E described later, components equivalent to those shown in Figs. 1 to 8B described above are given the same reference numerals as in Fig. 1 and the like, and descriptions thereof will be omitted.
The main differences between the substrate processing apparatus 1R and the substrate processing apparatus 1 according to the first embodiment are that the processing liquid supplied to the impurity removal unit 20R of the processing liquid supply apparatus 3R is new processing liquid supplied from a new liquid tank 141, and that the circulation flow path is formed by an upstream circulation piping 100, a circulation tank 101 and a downstream circulation piping 102.

詳しくは、第４実施形態に係る不純物除去ユニット２０Ｒは、貯留タンク３０Ｒと、貯留タンク３０Ｒから処理液が送られる上流循環配管１００と、上流循環配管１００を介して貯留タンク３０Ｒから供給される処理液を貯留する循環タンク１０１と、循環タンク内の処理液を貯留タンク３０Ｒに戻す下流循環配管１０２とを含む。貯留タンク３０Ｒ内の構成は、第１実施形態に係る貯留タンク３０と同様である。 In detail, the impurity removal unit 20R according to the fourth embodiment includes a storage tank 30R, an upstream circulation pipe 100 to which the treatment liquid is sent from the storage tank 30R, a circulation tank 101 that stores the treatment liquid supplied from the storage tank 30R via the upstream circulation pipe 100, and a downstream circulation pipe 102 that returns the treatment liquid in the circulation tank to the storage tank 30R. The configuration inside the storage tank 30R is the same as that of the storage tank 30 according to the first embodiment.

上流循環配管１００は、その内部に上流循環流路を形成する配管である。上流循環配管１００の上流端は、貯留タンク３０Ｒに接続されており、上流循環配管１００の下流端は、循環タンク１０１に接続されている。上流循環配管１００の上流端は、詳しくは、第２収容部３３ｂに接続されており、上流循環配管１００内を処理液が流れている間に上流循環配管１００の上流端が処理液の液面よりも下方に維持されるように、上流循環配管１００の上流端は、貯留タンク３０Ｒの内部にまで延びている。 The upstream circulation pipe 100 is a pipe that forms an upstream circulation flow path therein. The upstream end of the upstream circulation pipe 100 is connected to the storage tank 30R, and the downstream end of the upstream circulation pipe 100 is connected to the circulation tank 101. More specifically, the upstream end of the upstream circulation pipe 100 is connected to the second storage section 33b, and the upstream end of the upstream circulation pipe 100 extends into the storage tank 30R so that the upstream end of the upstream circulation pipe 100 is maintained below the liquid level of the treatment liquid while the treatment liquid is flowing through the upstream circulation pipe 100.

下流循環配管１０２は、その内部に下流循環流路を形成する配管である。下流循環配管１０２の上流端は、循環タンク１０１に接続されており、下流循環配管１０２の下流端は、貯留タンク３０Ｒの第１収容部３３ａに接続されている。下流循環配管１０２の上流端は、下流循環配管１０２内を処理液が流れている間において下流循環配管１０２の上流端が処理液の液面よりも下方に位置するように、循環タンク１０１の内部にまで延びている。 The downstream circulation pipe 102 is a pipe that forms a downstream circulation flow path therein. The upstream end of the downstream circulation pipe 102 is connected to the circulation tank 101, and the downstream end of the downstream circulation pipe 102 is connected to the first storage section 33a of the storage tank 30R. The upstream end of the downstream circulation pipe 102 extends into the inside of the circulation tank 101 so that the upstream end of the downstream circulation pipe 102 is located below the liquid level of the treatment liquid while the treatment liquid is flowing through the downstream circulation pipe 102.

不純物除去ユニット２０は、不純物量測定ユニット１１０、上流循環バルブ１１１、循環ポンプ１１２、第１下流循環バルブ１１３、循環ヒータ１１４、循環フィルタ１１５、第２下流循環バルブ１１６、第３下流循環バルブ１１７および循環温度計１１８を備えている。不純物量測定ユニット１１０および上流循環バルブ１１１は、上流循環配管１００の上流側からこの順番で上流循環配管１００に介装されている。 The impurity removal unit 20 includes an impurity amount measurement unit 110, an upstream circulation valve 111, a circulation pump 112, a first downstream circulation valve 113, a circulation heater 114, a circulation filter 115, a second downstream circulation valve 116, a third downstream circulation valve 117, and a circulation thermometer 118. The impurity amount measurement unit 110 and the upstream circulation valve 111 are interposed in the upstream circulation piping 100 in this order from the upstream side of the upstream circulation piping 100.

不純物量測定ユニット１１０は、不純物量測定ユニット４２と同様の構成である。上流循環バルブ１１１は、上流循環配管１００の内の流路（上流循環流路）を開閉する。
循環ポンプ１１２、第１下流循環バルブ１１３、第２下流循環バルブ１１６、第３下流循環バルブ１１７、および、循環温度計１１８は、下流循環配管１０２の上流側から下流側に向かってこの順番で、下流循環配管１０２に介装されている。 The impurity amount measuring unit 110 has a similar configuration to the impurity amount measuring unit 42. The upstream circulation valve 111 opens and closes a flow path in the upstream circulation pipe 100 (upstream circulation flow path).
The circulation pump 112, the first downstream circulation valve 113, the second downstream circulation valve 116, the third downstream circulation valve 117, and the circulation thermometer 118 are interposed in the downstream circulation piping 102 in the stated order from the upstream side to the downstream side of the downstream circulation piping 102.

循環ポンプ１１２は、循環タンク１０１内の処理液を下流循環配管１０２に送り出す。下流循環配管１０２に処理液が送り出されることによって、下流循環配管１０２内の処理液が貯留タンク３０Ｒ内に送り出され、貯留タンク３０Ｒ内の処理液が上流循環配管１００内に送り出される。言い換えると、循環ポンプ１１２は、貯留タンク３０Ｒ内の処理液を上流循環配管１００に送り出している。この実施形態とは異なり、循環ポンプ１１２は、上流循環配管１００に介装されていてもよい。 The circulation pump 112 sends the processing liquid in the circulation tank 101 to the downstream circulation pipe 102. By sending the processing liquid to the downstream circulation pipe 102, the processing liquid in the downstream circulation pipe 102 is sent into the storage tank 30R, and the processing liquid in the storage tank 30R is sent into the upstream circulation pipe 100. In other words, the circulation pump 112 sends the processing liquid in the storage tank 30R to the upstream circulation pipe 100. Unlike this embodiment, the circulation pump 112 may be interposed in the upstream circulation pipe 100.

第１下流循環バルブ１１３、第２下流循環バルブ１１６および第３下流循環バルブ１１７は、下流循環配管１０２内の流路（下流循環流路）を開閉する。
循環フィルタ１１５は、下流循環配管１０２内の処理液中の不純物を除去するフィルタである。循環フィルタ１１５としては、常温よりも高温での使用に適したフィルタが用いられる。循環フィルタ１１５は、たとえば、ＰＴＦＥ疎水膜をろ過膜として含む。循環フィルタ１１５が濾過膜としてＰＴＦＥ疎水膜を含む構成であれば、不純物としての疎水性化合物を処理液から効果的に除去できる。 The first downstream circulation valve 113 , the second downstream circulation valve 116 and the third downstream circulation valve 117 open and close the flow path (downstream circulation flow path) in the downstream circulation pipe 102 .
The circulation filter 115 is a filter that removes impurities from the treatment liquid in the downstream circulation pipe 102. A filter suitable for use at temperatures higher than room temperature is used as the circulation filter 115. The circulation filter 115 includes, for example, a PTFE hydrophobic membrane as a filtration membrane. If the circulation filter 115 is configured to include a PTFE hydrophobic membrane as a filtration membrane, hydrophobic compounds as impurities can be effectively removed from the treatment liquid.

循環ヒータ１１４は、下流循環配管１０２内の処理液を加熱する。循環ヒータ１１４は、加熱ユニットの一例である。下流循環配管１０２において循環ヒータ１１４によって加熱される循環加熱部分１０２ａは、下流循環配管１０２において第１下流循環バルブ１１３よりも下流側で、かつ循環フィルタ１１５よりも上流側の位置に設定されている。
循環ヒータ１１４は、第１下流循環バルブ１１３よりも下流側で、かつ循環フィルタ１１５よりも上流側の循環加熱部分１０２ａを加熱する構成であれば、下流循環配管１０２に介装されている構成でなくてもよく、下流循環配管１０２を外部から加熱する構成であってもよい。 The circulation heater 114 heats the treatment liquid in the downstream circulation pipe 102. The circulation heater 114 is an example of a heating unit. A circulation heating portion 102a in the downstream circulation pipe 102 that is heated by the circulation heater 114 is set at a position downstream of the first downstream circulation valve 113 and upstream of the circulation filter 115 in the downstream circulation pipe 102.
As long as the circulation heater 114 is configured to heat the circulation heating portion 102a downstream of the first downstream circulation valve 113 and upstream of the circulation filter 115, it does not have to be configured to be interposed in the downstream circulation piping 102, and may be configured to heat the downstream circulation piping 102 from the outside.

循環温度計１１８は、下流循環配管１０２内の処理液の温度を検出する循環温度検出ユニットの一例である。
不純物除去ユニット２０Ｒは、下流循環配管１０２に分岐接続される分岐循環配管１０３をさらに備えている。分岐循環配管１０３の上流端は、循環ポンプ１１２の下流側で、かつ、第１下流循環バルブ１１３の上流側において、下流循環配管１０２に分岐接続されている。分岐循環配管１０３の下流端は、第２下流循環バルブ１１６の下流側で、かつ、第３下流循環バルブ１１７の上流側において、下流循環配管１０２に分岐接続されている。 The circulation thermometer 118 is an example of a circulation temperature detection unit that detects the temperature of the processing liquid in the downstream circulation pipe 102 .
The impurity removal unit 20R further includes a branch circulation pipe 103 that is branched off and connected to the downstream circulation pipe 102. An upstream end of the branch circulation pipe 103 is branched off and connected to the downstream circulation pipe 102 downstream of the circulation pump 112 and upstream of the first downstream circulation valve 113. A downstream end of the branch circulation pipe 103 is branched off and connected to the downstream circulation pipe 102 downstream of the second downstream circulation valve 116 and upstream of the third downstream circulation valve 117.

不純物除去ユニット２０Ｒは、第１分岐バルブ１２０、第２分岐バルブ１２１および循環クーラ１２２を備えている。分岐循環配管１０３には、第１分岐バルブ１２０および第２分岐バルブ１２１が、上流側からこの順番で介装されている。第１分岐バルブ１２０および第２分岐バルブ１２１は、分岐循環配管１０３内の流路（分岐循環流路）を開閉する。 The impurity removal unit 20R includes a first branch valve 120, a second branch valve 121, and a circulation cooler 122. The first branch valve 120 and the second branch valve 121 are interposed in the branch circulation pipe 103 in this order from the upstream side. The first branch valve 120 and the second branch valve 121 open and close the flow path (branch circulation flow path) in the branch circulation pipe 103.

循環クーラ１２２は、分岐循環配管１０３内の処理液を冷却する。循環クーラ１２２は、感温性ゲルフィルタ３１Ｒを冷却させる冷却ユニットの一例である。分岐循環配管１０３において循環クーラ１２２によって冷却される循環冷却部分１０３ａは、分岐循環配管１０３において第１分岐バルブ１２０よりも下流側で、かつ第２分岐バルブ１２１よりも上流側の位置に設定されている。 The circulation cooler 122 cools the processing liquid in the branch circulation pipe 103. The circulation cooler 122 is an example of a cooling unit that cools the temperature-sensitive gel filter 31R. The circulation cooling portion 103a in the branch circulation pipe 103 that is cooled by the circulation cooler 122 is set at a position downstream of the first branch valve 120 and upstream of the second branch valve 121 in the branch circulation pipe 103.

循環クーラ１２２は、第１分岐バルブ１２０よりも下流側で、かつ第２分岐バルブ１２１よりも上流側の循環冷却部分１０３ａを冷却する構成であれば、分岐循環配管１０３に介装されている構成でなくてもよく、分岐循環配管１０３を外部から加熱する構成であってもよい。
第４実施形態に係る処理液供給装置３Ｒは、不純物除去ユニット２０Ｒから処理ユニット２に向けて処理液を送る供給配管１３０と、処理ユニット２で使用されていない処理液（新処理液）を不純物除去ユニット２０に供給する新液配管１４０と、不純物除去ユニット２０から処理液を排液する排液配管２１とを備えている。排液配管２１は、第１実施形態と同様の構成である。 As long as the circulation cooler 122 is configured to cool the circulation cooling portion 103a downstream of the first branch valve 120 and upstream of the second branch valve 121, it does not have to be configured to be interposed in the branch circulation piping 103, and may be configured to heat the branch circulation piping 103 from the outside.
The processing liquid supplying device 3R according to the fourth embodiment includes a supply pipe 130 for feeding the processing liquid from the impurity removal unit 20R toward the processing unit 2, a new liquid pipe 140 for feeding the processing liquid (new processing liquid) that has not been used in the processing unit 2 to the impurity removal unit 20, and a drainage pipe 21 for draining the processing liquid from the impurity removal unit 20. The drainage pipe 21 has the same configuration as in the first embodiment.

処理ユニット２内で使用されていない処理液とは、処理液ノズル１１から吐出された後、配管を介して循環流路に戻った処理液ではなく、新液タンク１４１から循環流路に新たに供給される処理液のことである。
供給配管１３０は、その内部に供給流路を形成する配管である。供給配管１３０の上流端は、たとえば、上流循環配管１００において不純物量測定ユニット１１０よりも上流側に分岐接続されている。供給配管の下流端は、処理液ノズル１１に接続されている。この実施形態とは異なり、供給配管１３０の上流端は、貯留タンク３０Ｒの第２収容部３３ｂに接続されていてもよい。 The processing liquid that is not used in the processing unit 2 does not mean the processing liquid that has been ejected from the processing liquid nozzle 11 and then returned to the circulation flow path via piping, but the processing liquid that is newly supplied to the circulation flow path from the new liquid tank 141.
The supply pipe 130 is a pipe that forms a supply flow path therein. An upstream end of the supply pipe 130 is, for example, branched off and connected to the upstream circulation pipe 100 upstream of the impurity amount measuring unit 110. A downstream end of the supply pipe is connected to the processing liquid nozzle 11. Unlike this embodiment, the upstream end of the supply pipe 130 may be connected to the second storage portion 33b of the storage tank 30R.

処理液供給装置３Ｒは、供給配管１３０に介装され、供給配管１３０内の流路（供給流路）を開閉する供給バルブ１３１をさらに備えている。
新液配管１４０は、循環タンク１０１に新処理液を供給する。新処理液は、処理ユニット２で使用されていない処理液であり、汚染処理液よりも清浄度が高い。新液配管１４０は、その内部に新液流路を形成する配管である。新液配管１４０の上流端は、新液タンク１４１に接続されており、新液配管１４０の下流端は、循環タンク１０１に接続されている。 The processing liquid supplying device 3R further includes a supply valve 131 that is disposed in the supply pipe 130 and opens and closes a flow path (supply flow path) in the supply pipe 130.
The new liquid piping 140 supplies new processing liquid to the circulation tank 101. The new processing liquid is a processing liquid that has not been used in the processing unit 2 and has a higher degree of purity than the contaminated processing liquid. The new liquid piping 140 is a pipe that forms a new liquid flow path therein. The upstream end of the new liquid piping 140 is connected to the new liquid tank 141, and the downstream end of the new liquid piping 140 is connected to the circulation tank 101.

処理液供給装置３は、新液配管１４０に介装されている新液ポンプ１４２と、新液ポンプ１４２よりも下流側で新液配管１４０に介装されている新液バルブ１４３とを含む。新液ポンプ１４２は、新液タンク１４１内の新液を新液配管１４０に向けて送り出す。新液バルブ１４３は、新液ポンプ１４２よりも下流側で新液配管１４０に介装されている。新液バルブ１４３は、新液配管１４０内の新液流路を開閉する。 The processing liquid supply device 3 includes a new liquid pump 142 installed in the new liquid piping 140, and a new liquid valve 143 installed in the new liquid piping 140 downstream of the new liquid pump 142. The new liquid pump 142 sends out new liquid in the new liquid tank 141 toward the new liquid piping 140. The new liquid valve 143 is installed in the new liquid piping 140 downstream of the new liquid pump 142. The new liquid valve 143 opens and closes the new liquid flow path in the new liquid piping 140.

以下では、図３および図１０Ａ～図１０Ｅを参照して、第４実施形態に係る不純物除去ユニット２０Ｒの動作について詳しく説明する。図１０Ａ～図１０Ｅは、不純物除去ユニット２０Ｒの動作例について説明するための模式図である。
不純物量測定ユニット１１０、循環温度計１１８および液面センサ３４は、常時作動していてもよい。 The operation of the impurity removal unit 20R according to the fourth embodiment will be described in detail below with reference to Fig. 3 and Fig. 10A to Fig. 10E. Fig. 10A to Fig. 10E are schematic diagrams for explaining an example of the operation of the impurity removal unit 20R.
The impurity amount measuring unit 110, the circulation thermometer 118 and the liquid level sensor 34 may be in operation at all times.

新液バルブ１４３が開かれ、新液ポンプ１４２が作動されることにより、新処理液が、不純物除去ユニット２０Ｒの循環タンク１０１に補充される（補充工程）。循環タンク１０１に処理液が充分貯留されている場合には、不純物除去ユニット２０Ｒへの新処理液の補充は省略可能である。
図１０Ａに示すように、循環タンク１０１に処理液が貯留されている状態で、循環ポンプ１１２および循環ヒータ１１４が作動され、第１下流循環バルブ１１３、第２下流循環バルブ１１６および第３下流循環バルブ１１７が開かれる。これにより、貯留タンク３０Ｒに処理液が補充される。 The new liquid valve 143 is opened and the new liquid pump 142 is operated to replenish the circulation tank 101 of the impurity removal unit 20R with new processing liquid (replenishment step). If a sufficient amount of processing liquid is stored in the circulation tank 101, the replenishment of the new processing liquid to the impurity removal unit 20R can be omitted.
10A, in a state where the processing liquid is stored in the circulation tank 101, the circulation pump 112 and the circulation heater 114 are operated, and the first downstream circulation valve 113, the second downstream circulation valve 116, and the third downstream circulation valve 117 are opened. As a result, the storage tank 30R is replenished with the processing liquid.

貯留タンク３０Ｒ内に処理液が送られて貯留タンク３０Ｒ内の処理液の液面が上昇し、液面センサ３４の測定値が上流循環配管１００の上流端よりも上方の所定の第１高さＨ１に達すると、新液バルブ１４３が閉じられ、新液ポンプ１４２が停止される。そして、上流循環バルブ１１１が開かれる。これにより、図１０Ｂに示すように、貯留タンク３０Ｒ内の処理液が、上流循環配管１００に引き込まれ下流循環配管１０２から貯留タンク３０Ｒ内に戻されることで、処理液の循環が開始される（循環工程）。 When the processing liquid is sent into the storage tank 30R and the liquid level of the processing liquid in the storage tank 30R rises, and the measurement value of the liquid level sensor 34 reaches a predetermined first height H1 above the upstream end of the upstream circulation pipe 100, the new liquid valve 143 is closed and the new liquid pump 142 is stopped. Then, the upstream circulation valve 111 is opened. As a result, as shown in FIG. 10B, the processing liquid in the storage tank 30R is drawn into the upstream circulation pipe 100 and returned to the storage tank 30R from the downstream circulation pipe 102, starting circulation of the processing liquid (circulation process).

上流循環配管１００内を流れる処理液は、循環ヒータ１１４によって加熱される。貯留タンク３０Ｒ内の感温性ゲルフィルタ３１Ｒは、循環ヒータ１１４によって加熱された処理液によって加熱される（ステップＳ１：ゲル加熱開始工程）。
第４実施形態とは異なり、処理液の循環や、貯留タンク３０Ｒから上流循環配管１００への処理液の供給を助けるため、上流循環配管１００にポンプ（図示せず）をさらに介装させてもよい。 The treatment liquid flowing through the upstream circulation pipe 100 is heated by the circulation heater 114. The temperature-sensitive gel filter 31R in the storage tank 30R is heated by the treatment liquid heated by the circulation heater 114 (step S1: gel heating start step).
Unlike the fourth embodiment, a pump (not shown) may be further provided in the upstream circulation pipe 100 to assist in circulating the treatment liquid and in supplying the treatment liquid from the storage tank 30R to the upstream circulation pipe 100.

感温性ゲルフィルタ３１Ｒは、循環する処理液を介して、循環ヒータ１１４によって加熱される（循環加熱工程）。感温性ゲルフィルタ３１Ｒは、処理液によって加熱されることで、処理液と同じ温度に達する。そのため、下流循環配管１０２内を流れる処理液の温度を循環温度計１１８によって測定することによって、感温性ゲルフィルタ３１Ｒの温度（ゲル温度）が間接的に測定される（ゲル温度測定工程）。 The temperature-sensitive gel filter 31R is heated by the circulation heater 114 via the circulating treatment liquid (circulation heating process). The temperature-sensitive gel filter 31R is heated by the treatment liquid and reaches the same temperature as the treatment liquid. Therefore, the temperature (gel temperature) of the temperature-sensitive gel filter 31R is indirectly measured by measuring the temperature of the treatment liquid flowing in the downstream circulation pipe 102 with the circulation thermometer 118 (gel temperature measurement process).

そして、ステップＳ１の後、コントローラ４は、感温性ゲルフィルタ３１Ｒの温度が、転移温度よりも低いか否かを監視する（ステップＳ２：第１ゲル温度監視工程）。ゲル温度が感温性ゲル５０の転移温度よりも低い場合には（ステップＳ２：ＮＯ）、ステップＳ２に戻る。
処理液は、上流循環配管１００、循環タンク１０１および下流循環配管１０２によって構成される循環流路と、貯留タンク３０Ｒとを所定時間循環することによって、感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱される。感温性ゲルフィルタ３１Ｒが感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱されることによって、感温性ゲルフィルタ３１Ｒに含まれる感温性ゲルが疎水化される（疎水化工程）。貯留タンク３０Ｒ内の感温性ゲルフィルタ３１Ｒが感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱されると（ステップＳ２：ＹＥＳ）、ステップＳ３に進む。 After step S1, the controller 4 monitors whether the temperature of the thermosensitive gel filter 31R is lower than the transition temperature (step S2: first gel temperature monitoring step). If the gel temperature is lower than the transition temperature of the thermosensitive gel 50 (step S2: NO), the controller 4 returns to step S2.
The treatment liquid is heated to a temperature equal to or higher than the transition temperature of the thermosensitive gel 50 by circulating the treatment liquid for a predetermined time between the circulation flow path formed by the upstream circulation pipe 100, the circulation tank 101, and the downstream circulation pipe 102, and the storage tank 30R. The thermosensitive gel contained in the thermosensitive gel filter 31R is hydrophobized by heating the thermosensitive gel filter 31R to a temperature equal to or higher than the transition temperature of the thermosensitive gel 50 (hydrophobization process). When the thermosensitive gel filter 31R in the storage tank 30R is heated to a temperature equal to or higher than the transition temperature of the thermosensitive gel 50 (step S2: YES), the process proceeds to step S3.

ステップＳ３では、コントローラ４は、ゲル温度が転移温度以上の温度に達したときから所定の不純物除去時間が経過したか否かを監視する（ステップＳ３：経過時間監視工程）。
感温性ゲルフィルタ３１Ｒが転移温度以上に加熱されている状態、すなわち、感温性ゲル５０が疎水性となっている状態で、感温性ゲルフィルタ３１Ｒに処理液を通過させることによって、処理液中の不純物が感温性ゲルフィルタ３１Ｒによって捕獲されて、処理液中から除去される（不純物除去工程、循環除去工程）。感温性ゲルフィルタ３１Ｒの不純物除去効率が充分に高い場合には、不純物は、時間経過とともに処理液から除去される。 In step S3, the controller 4 monitors whether or not a predetermined impurity removal time has elapsed since the gel temperature reached a temperature equal to or higher than the transition temperature (step S3: elapsed time monitoring step).
When the temperature-sensitive gel filter 31R is heated to or above its transition temperature, i.e., when the temperature-sensitive gel 50 is hydrophobic, the treatment liquid is passed through the temperature-sensitive gel filter 31R, whereby impurities in the treatment liquid are captured by the temperature-sensitive gel filter 31R and removed from the treatment liquid (impurity removal step, circulation removal step). If the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter 31R is sufficiently high, the impurities are removed from the treatment liquid over time.

この実施形態の不純物除去工程では、不純物除去ユニット２０Ｒに供給される処理液は、新液である。そのため、感温性ゲルフィルタ３１Ｒによって汚染処理液中の不純物が捕獲されて汚染処理液から不純物が除去される。
循環流路（上流循環配管１００、循環タンク１０１および下流循環配管１０２）と貯留タンク３０Ｒとを循環する処理液を加熱することで不純物除去工程および疎水化工程が行われる。不純物除去工程は、疎水化工程による感温性ゲル５０の疎水化が達成された後に実行される。 In the impurity removal process of this embodiment, the treatment liquid supplied to the impurity removal unit 20R is new liquid, so that impurities in the contaminated treatment liquid are captured by the temperature-sensitive gel filter 31R and removed from the contaminated treatment liquid.
The impurity removal process and the hydrophobization process are performed by heating the treatment liquid circulating through the circulation flow path (the upstream circulation piping 100, the circulation tank 101, and the downstream circulation piping 102) and the storage tank 30R. The impurity removal process is performed after the thermosensitive gel 50 has been hydrophobized by the hydrophobization process.

この実施形態とは異なり、処理液の温度が、貯留タンク３０Ｒおよび循環流路（上流循環配管１００、循環タンク１０１および下流循環配管１０２）を循環する前から転移温度以上の温度であった場合には、循環工程の開始と同時に不純物除去工程が開始される。
コントローラ４は、不純物除去時間が経過していない場合（ステップＳ３：ＮＯ）、ステップＳ３に戻る。不純物除去時間が経過すると（ステップＳ３：ＹＥＳ）、不純物量測定ユニット４２が検出する不純物量が、基準不純物量よりも低いか否かを判定する（ステップＳ４：不純物量判定工程）。不純物量判定工程は、感温性ゲル５０が疎水性となる温度にゲル温度が調節されている状態で実行される。 Unlike this embodiment, if the temperature of the treatment liquid is above the transition temperature before circulating through the storage tank 30R and the circulation flow path (upstream circulation piping 100, circulation tank 101, and downstream circulation piping 102), the impurity removal process is started simultaneously with the start of the circulation process.
If the impurity removal time has not elapsed (step S3: NO), the controller 4 returns to step S3. If the impurity removal time has elapsed (step S3: YES), the controller 4 determines whether the amount of impurities detected by the impurity amount measuring unit 42 is lower than the reference amount of impurities (step S4: impurity amount determination step). The impurity amount determination step is performed in a state where the gel temperature is adjusted to a temperature at which the thermosensitive gel 50 becomes hydrophobic.

不純物除去時間経過後に、不純物量測定ユニット１１０によって測定される不純物量が基準不純物量よりも低い場合には（ステップＳ４：ＹＥＳ）、図１０Ｃに示すように、処理液の循環を維持しながら、供給バルブ１３１が開かれる。貯留タンク３０Ｒから供給配管１３０（供給流路）に向けて、不純物が充分に除去された処理液（清浄処理液）が送られる（ステップＳ５：供給工程）。すなわち、循環流路および貯留タンク３０Ｒを循環する処理液から不純物が充分に除去された後、供給工程が実行される。この実施形態では、供給配管１３０は、処理ユニット２の処理液ノズル１１（図９を参照）に直接接続されているので、供給バルブ１３１が開かれると、基板Ｗの上面に処理液が供給される。 If the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit 110 is lower than the reference amount of impurities after the impurity removal time has elapsed (step S4: YES), the supply valve 131 is opened while maintaining the circulation of the processing liquid, as shown in FIG. 10C. The processing liquid (clean processing liquid) from which impurities have been sufficiently removed is sent from the storage tank 30R to the supply pipe 130 (supply flow path) (step S5: supply process). That is, the supply process is performed after impurities have been sufficiently removed from the processing liquid circulating through the circulation flow path and the storage tank 30R. In this embodiment, the supply pipe 130 is directly connected to the processing liquid nozzle 11 (see FIG. 9) of the processing unit 2, so that when the supply valve 131 is opened, the processing liquid is supplied to the upper surface of the substrate W.

供給工程の実行によって、循環タンク１０１および貯留タンク３０Ｒ内の処理液の液面が低下し、液面センサ３４の測定値が所定の第２高さＨ２に達すると、供給バルブ１３１が閉じられる。あるいは、所定時間供給工程が継続された後、供給バルブ１３１が閉じられる。そして、処理液の循環を維持しながら、新液タンク１４１から循環タンク１０１への新液の供給が開始される。その後、貯留タンク３０Ｒに処理液が補充されると、不純物除去ユニット２０の動作が再び開始される。 When the supply process is performed, the liquid level of the processing liquid in the circulation tank 101 and the storage tank 30R drops, and the measurement value of the liquid level sensor 34 reaches a predetermined second height H2, the supply valve 131 is closed. Alternatively, the supply process is continued for a predetermined time, and then the supply valve 131 is closed. Then, while maintaining the circulation of the processing liquid, the supply of new liquid from the new liquid tank 141 to the circulation tank 101 is started. After that, when the storage tank 30R is replenished with processing liquid, the operation of the impurity removal unit 20 is started again.

一方、不純物除去時間経過後においても、不純物量測定ユニット１１０によって測定される不純物量が基準不純物量以上である場合には（ステップＳ４：ＮＯ）、図１０Ｄに示すように、循環ヒータ１１４が停止され、第１下流循環バルブ１１３および第２下流循環バルブ１１６が閉じられる。その代わりに、循環クーラ１２２が作動され、第１分岐バルブ１２０および第２分岐バルブ１２１が開かれる。 On the other hand, if the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit 110 is equal to or greater than the reference amount of impurities even after the impurity removal time has elapsed (step S4: NO), as shown in FIG. 10D, the circulation heater 114 is stopped, and the first downstream circulation valve 113 and the second downstream circulation valve 116 are closed. Instead, the circulation cooler 122 is operated, and the first branch valve 120 and the second branch valve 121 are opened.

分岐循環配管１０３を流れる処理液は、循環クーラ１２２によって冷却される。貯留タンク３０Ｒ内の感温性ゲルフィルタ３１Ｒは、循環クーラ１２２によって冷却された処理液によって冷却される（ステップＳ６：ゲル加熱停止工程、ゲル冷却工程）。
感温性ゲルフィルタ３１Ｒは、循環する処理液を介して、冷却される（循環冷却工程）。感温性ゲルフィルタ３１Ｒは、処理液によって冷却されることで、処理液と同じ温度に達する。 The treatment liquid flowing through the branch circulation pipe 103 is cooled by the circulation cooler 122. The temperature-sensitive gel filter 31R in the storage tank 30R is cooled by the treatment liquid cooled by the circulation cooler 122 (step S6: gel heating stopping step, gel cooling step).
The temperature-sensitive gel filter 31R is cooled by the circulating treatment liquid (circulation cooling step) The temperature-sensitive gel filter 31R is cooled by the treatment liquid and reaches the same temperature as the treatment liquid.

ステップＳ６の後、コントローラ４は、感温性ゲルフィルタ３１Ｒの温度が、転移温度よりも低いか否かを監視する（ステップＳ７：第２ゲル温度監視工程）。貯留タンク３０Ｒ内の感温性ゲルフィルタ３１Ｒが感温性ゲルの転移温度以上である場合には（ステップＳ７：ＮＯ）、ステップＳ７に戻る。
処理液は、循環流路および貯留タンク３０Ｒを所定時間循環することによって、感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却される。感温性ゲルフィルタ３１Ｒが感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却されることによって、感温性ゲルフィルタ３１Ｒに含まれる感温性ゲルが親水化される（親水化工程）。 After step S6, the controller 4 monitors whether the temperature of the thermosensitive gel filter 31R is lower than the transition temperature (step S7: second gel temperature monitoring step). If the temperature of the thermosensitive gel filter 31R in the storage tank 30R is equal to or higher than the transition temperature of the thermosensitive gel (step S7: NO), the process returns to step S7.
The treatment liquid is circulated through the circulation flow path and the storage tank 30R for a predetermined time, whereby the treatment liquid is cooled to a temperature lower than the transition temperature of the thermosensitive gel 50. By cooling the thermosensitive gel filter 31R to a temperature lower than the transition temperature of the thermosensitive gel 50, the thermosensitive gel contained in the thermosensitive gel filter 31R is made hydrophilic (hydrophilization process).

感温性ゲルフィルタ３１Ｒが転移温度よりも低い温度に冷却されている状態、すなわち、感温性ゲル５０が親水性となっている状態で、感温性ゲルフィルタ３１Ｒに処理液を通過させることによって、感温性ゲルフィルタ３１Ｒによって捕獲されていた不純物が処理液中に放出される（不純物放出工程、循環放出工程）。
この実施形態の不純物放出工程において不純物除去ユニット２０に供給される処理液は、洗浄液としての新液である。そのため、感温性ゲルフィルタ３１Ｒから新液に不純物が放出される。 When the temperature-sensitive gel filter 31R is cooled to a temperature lower than the transition temperature, i.e., when the temperature-sensitive gel 50 is hydrophilic, the treatment liquid is passed through the temperature-sensitive gel filter 31R, whereby the impurities captured by the temperature-sensitive gel filter 31R are released into the treatment liquid (impurity release process, circulation release process).
In the impurity releasing step of this embodiment, the treatment liquid supplied to the impurity removing unit 20 is a new liquid as a cleaning liquid, so that impurities are released from the temperature-sensitive gel filter 31R into the new liquid.

貯留タンク３０Ｒ内の感温性ゲルフィルタ３１Ｒが感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却されると（ステップＳ７：ＹＥＳ）、図１０Ｅに示すように、処理液の循環を維持しながら、排液バルブ７０が開かれる。これにより、貯留タンク３０Ｒから排液配管２１（排液流路）に向けて処理液が送られる（ステップＳ８：排液工程）。すなわち、循環流路および貯留タンク３０Ｒを循環する処理液に不純物が放出された後、排液工程が実行される。 When the thermosensitive gel filter 31R in the storage tank 30R is cooled to a temperature lower than the transition temperature of the thermosensitive gel 50 (step S7: YES), the drain valve 70 is opened while maintaining the circulation of the treatment liquid, as shown in FIG. 10E. This causes the treatment liquid to be sent from the storage tank 30R to the drain pipe 21 (drainage flow path) (step S8: drainage process). That is, after impurities are released into the treatment liquid circulating through the circulation flow path and the storage tank 30R, the drainage process is executed.

排液工程の実行によって、貯留タンク３０Ｒ内の処理液の液面が低下し、液面センサ３４の測定値が所定の第２高さＨ２に達すると、排液バルブ７０、上流循環バルブ４１および中間循環バルブ４３が閉じられる。あるいは、所定時間排液工程が継続された後、排液バルブ７０が閉じられる。これにより、処理液の循環および排液が停止される。その後、貯留タンク３０Ｒに処理液が補充されると、不純物除去ユニット２０Ｒの動作がステップＳ１から再び開始される。 When the drainage process is performed, the level of the processing liquid in the storage tank 30R drops, and the measurement value of the liquid level sensor 34 reaches a predetermined second height H2, the drainage valve 70, the upstream circulation valve 41, and the intermediate circulation valve 43 are closed. Alternatively, after the drainage process is continued for a predetermined time, the drainage valve 70 is closed. This stops the circulation and drainage of the processing liquid. Thereafter, when the storage tank 30R is replenished with processing liquid, the operation of the impurity removal unit 20R is restarted from step S1.

このように、第４実施形態においても、不純物除去ユニット２０Ｒの不純物除去効率の低下度合に応じて、供給工程と排液工程とが選択的に実行される。
ただし、最初の不純物除去工程の実行前では、感温性ゲルフィルタ３１Ｒの不純物除去効率は低下しておらず充分に高い。そのため、最初の不純物除去工程の際に不純物量測定ユニット１１０によって測定される不純物量は、基準不純物量よりも低い。したがって、不純物除去ユニット２０Ｒの動作において、供給工程（ステップＳ５）が少なくとも一回実行された後に、二回目以降の動作において排液工程（ステップＳ８）が実行される。 In this manner, also in the fourth embodiment, the supplying step and the draining step are selectively performed depending on the degree of decrease in the impurity removal efficiency of the impurity removal unit 20R.
However, before the first impurity removal step is performed, the impurity removal efficiency of the temperature-sensitive gel filter 31R is not decreased and is sufficiently high. Therefore, the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit 110 during the first impurity removal step is lower than the reference impurity amount. Therefore, in the operation of the impurity removal unit 20R, after the supply step (step S5) is performed at least once, the drainage step (step S8) is performed in the second or subsequent operations.

第４実施形態によれば、第１実施形態と同様の効果を奏する。
また、新処理液中に不純物量は、処理ユニット２で使用された汚染処理液と比較して非常に少ない。しかしながら、感温性ゲルフィルタ３１Ｒを含む不純物除去ユニット２０を用いて不純物量を新処理液中から一層低減すれば、清浄度が一層高い処理液を処理ユニット２に供給できる。 According to the fourth embodiment, the same effects as those of the first embodiment are achieved.
Furthermore, the amount of impurities in the new processing liquid is very small compared to the contaminated processing liquid used in the processing unit 2. However, if the amount of impurities in the new processing liquid is further reduced by using the impurity removal unit 20 including the temperature-sensitive gel filter 31R, a processing liquid with a higher degree of cleanliness can be supplied to the processing unit 2.

ステップＳ６のゲル加熱停止工程の後に、感温性ゲルフィルタ３１Ｒを冷却する方法として、第４実施形態では、循環冷却工程が用いられる。しかしながら、感温性ゲルフィルタ３１Ｒを冷却するために、処理液を循環させることなく、循環ポンプ１１２を停止させた状態で感温性ゲルフィルタ３１Ｒが常温にまで自然冷却させてもよい。感温性ゲルフィルタ３１Ｒの温度低下を促進するために、図示しない冷却ユニット（クーラ）を貯留タンク３０Ｒに設け、冷却ユニットを用いて貯留タンク３０Ｒを冷却することで感温性ゲルフィルタ３１Ｒを強制的に冷却してもよい。 In the fourth embodiment, a circulation cooling process is used as a method for cooling the temperature-sensitive gel filter 31R after the gel heating stopping process in step S6. However, in order to cool the temperature-sensitive gel filter 31R, the circulation pump 112 may be stopped and the temperature-sensitive gel filter 31R may be allowed to cool naturally to room temperature without circulating the treatment liquid. In order to accelerate the temperature drop of the temperature-sensitive gel filter 31R, a cooling unit (cooler) (not shown) may be provided in the storage tank 30R, and the storage tank 30R may be cooled using the cooling unit to forcibly cool the temperature-sensitive gel filter 31R.

また、排液バルブ７０を閉じ、第１分岐バルブ１２０および第２分岐バルブ１２１を開くことで、冷却された処理液を貯留タンク３０Ｒに注入し、感温性ゲルフィルタ３１Ｒを浸漬および冷却してもよい（浸漬洗浄工程）。これにより、感温性ゲルフィルタ３１Ｒから処理液中に不純物が放出される。その後、排液バルブ７０を開くことで、貯留タンク３０Ｒから不純物とともに処理液を排液できる。 Alternatively, the drain valve 70 may be closed and the first branch valve 120 and the second branch valve 121 may be opened to inject the cooled processing liquid into the storage tank 30R and immerse and cool the temperature-sensitive gel filter 31R (immersion cleaning process). This causes impurities to be released from the temperature-sensitive gel filter 31R into the processing liquid. Thereafter, the drain valve 70 may be opened to drain the processing liquid together with the impurities from the storage tank 30R.

このように、処理液の循環を行うことなく感温性ゲルフィルタ３１Ｒから不純物を放出させれば循環流路の汚染を回避しつつ、感温性ゲルフィルタ３１Ｒの不純物効率を回復できる。なお、貯留タンク３０Ｒへの処理液の注入は複数回行われてもよい。すなわち、浸漬による感温性ゲルフィルタ３１Ｒの洗浄は複数回行われてもよい。
＜その他の実施形態＞
この発明は、以上に説明した実施形態に限定されるものではなく、さらに他の形態で実施することができる。 In this way, by releasing impurities from the temperature-sensitive gel filter 31R without circulating the treatment liquid, it is possible to avoid contamination of the circulation flow path and recover the impurity efficiency of the temperature-sensitive gel filter 31R. Note that the treatment liquid may be injected into the storage tank 30R multiple times. In other words, the temperature-sensitive gel filter 31R may be washed by immersion multiple times.
<Other embodiments>
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be embodied in other forms.

たとえば、図１１に示すように、貯留タンク３０の内部空間３３は、第１収容部３３ａと第２収容部３３ｂとが感温性ゲルフィルタ３１を挟んで横方向（水平方向）に互いに対向するように感温性ゲルフィルタ３１によって仕切られていてもよい。この場合、貯留タンク３０に接続される各配管（循環配管３２、排液配管２１等）は、貯留タンク３０の第１収容部３３ａおよび第２収容部３３ｂのいずれに接続されているかに関わらず、貯留タンク３０の下端部に接続されていることが好ましい。そうであれば処理液の液面と、配管の端部との位置関係を考慮することなく、処理液を循環配管３２に循環させることができる。むろん、この構成は、第１実施形態～第３実施形態に係る貯留タンク３０だけでなく、図９に示す第４実施形態に係る貯留タンク３０Ｒにも適用可能である。 For example, as shown in FIG. 11, the internal space 33 of the storage tank 30 may be partitioned by the thermosensitive gel filter 31 so that the first storage section 33a and the second storage section 33b face each other laterally (horizontally) with the thermosensitive gel filter 31 in between. In this case, it is preferable that each pipe (circulation pipe 32, drainage pipe 21, etc.) connected to the storage tank 30 is connected to the lower end of the storage tank 30 regardless of whether it is connected to the first storage section 33a or the second storage section 33b of the storage tank 30. In this case, the treatment liquid can be circulated through the circulation pipe 32 without considering the positional relationship between the liquid level of the treatment liquid and the end of the pipe. Of course, this configuration is applicable not only to the storage tanks 30 according to the first to third embodiments, but also to the storage tank 30R according to the fourth embodiment shown in FIG. 9.

また、図１、図５および図７に二点鎖線で示すように、供給タンク２４に新処理液を供給できるように構成されていてもよい。詳しくは、処理液供給装置３，３Ｐ，３Ｑが、新液タンク１５０から新処理液が送出される新液配管１５１と、新液配管１５１に介装された新液ポンプ１５２と、新液ポンプ１５２よりも下流側で新液配管１５１に介装された新液バルブ１５３とを含んでいてもよい。 Also, as shown by the two-dot chain lines in Figures 1, 5 and 7, the supply tank 24 may be configured to be able to supply new processing liquid. In more detail, the processing liquid supply device 3, 3P, 3Q may include a new liquid pipe 151 through which new processing liquid is delivered from the new liquid tank 150, a new liquid pump 152 provided in the new liquid pipe 151, and a new liquid valve 153 provided in the new liquid pipe 151 downstream of the new liquid pump 152.

また、各実施形態を組み合わせることが可能である。たとえば、図１２に示すように、第１実施形態と第４実施形態とが組み合わせられていてもよい。すなわち、汚染処理液が帰還配管２２から不純物除去ユニット２０に供給され、不純物除去ユニット２０から不純物除去ユニット２０Ｒに清浄処理液が供給される。そして、不純物除去ユニット２０Ｒによってさらに清浄化された処理液が処理ユニット２に供給される。第４実施形態において、不純物除去ユニット２０Ｒを複数設けることも可能である。 It is also possible to combine the various embodiments. For example, as shown in FIG. 12, the first and fourth embodiments may be combined. That is, the contaminated processing liquid is supplied from the return pipe 22 to the impurity removal unit 20, and the impurity removal unit 20 supplies the clean processing liquid to the impurity removal unit 20R. The processing liquid further purified by the impurity removal unit 20R is then supplied to the processing unit 2. In the fourth embodiment, it is also possible to provide multiple impurity removal units 20R.

また、第１実施形態に係る処理液供給装置３（図１を参照）、第２実施形態に係る処理液供給装置３Ｐ（図５を参照）、第３実施形態に係る処理液供給装置３Ｑ（図７を参照）においても、第４実施形態と同様に、不純物除去ユニット２０が、処理液を冷却するクーラ（冷却ユニット）を有していてもよい。この場合、クーラによって冷却された処理液を介して、感温性ゲルフィルタ３１が冷却される。 Furthermore, in the treatment liquid supplying device 3 according to the first embodiment (see FIG. 1), the treatment liquid supplying device 3P according to the second embodiment (see FIG. 5), and the treatment liquid supplying device 3Q according to the third embodiment (see FIG. 7), the impurity removal unit 20 may have a cooler (cooling unit) that cools the treatment liquid, as in the fourth embodiment. In this case, the temperature-sensitive gel filter 31 is cooled via the treatment liquid cooled by the cooler.

また、上述の各実施形態では、感温性ゲルフィルタ３１の加熱は、循環流路内の処理液を介して行われる。しかしながら、貯留タンク３０内にヒータを設けて貯留タンク３０内の処理液を加熱し、その処理液を介して感温性ゲルフィルタ３１を加熱してもよい。あるいは、感温性ゲルフィルタ３１を直接加熱してもよい。
また、上述の各実施形態では、感温性ゲル５０がＬＣＳＴ型感温性ゲルである例について説明した。上述の実施形態とは異なり、感温性ゲル５０は、ＵＣＳＴ型感温性ゲルであってもよい。 In each of the above-described embodiments, the temperature-sensitive gel filter 31 is heated via the treatment liquid in the circulation flow path. However, a heater may be provided in the storage tank 30 to heat the treatment liquid in the storage tank 30, and the temperature-sensitive gel filter 31 may be heated via the treatment liquid. Alternatively, the temperature-sensitive gel filter 31 may be heated directly.
In each of the above-described embodiments, the thermosensitive gel 50 is an LCST type thermosensitive gel. However, unlike the above-described embodiments, the thermosensitive gel 50 may be a UCST type thermosensitive gel.

ＵＣＳＴ型感温性ゲルの転移温度（ＵＣＳＴ）は、常温よりも高く、たとえば、３０℃以上で５０℃以下である。つまり、ＵＣＳＴ型感温性ゲルは、常温において疎水性である。そのため、処理液を加熱することなく、処理液を感温性ゲルフィルタ３１に通過させることによって、処理液から不純物を除去できる。処理液の温度を常温に維持することによって、感温性ゲルフィルタ３１の温度が調節される（温度調節工程）。 The transition temperature (UCST) of the UCST type thermosensitive gel is higher than room temperature, for example, 30°C or higher and 50°C or lower. In other words, the UCST type thermosensitive gel is hydrophobic at room temperature. Therefore, impurities can be removed from the treatment liquid by passing the treatment liquid through the thermosensitive gel filter 31 without heating the treatment liquid. The temperature of the treatment liquid is maintained at room temperature, and the temperature of the thermosensitive gel filter 31 is adjusted (temperature adjustment process).

そのため、感温性ゲル５０がＵＣＳＴ型感温性ゲルである場合には、不純物除去ユニット２０の動作例は、図１３に示すように、図３に示す動作例とは多少異なる。
具体的には、コントローラ４が、ゲル加熱開始工程（ステップＳ１）が省略され、まず、ゲル温度が転移温度よりも低いか否かを監視する（ステップＳ１０：第１ゲル温度監視工程）。ゲル温度が感温性ゲル５０の転移温度（ＵＣＳＴ）以上の温度である場合には（ステップＳ１０：ＮＯ）、ステップＳ１０に戻る。 Therefore, when the thermosensitive gel 50 is a UCST type thermosensitive gel, an example of the operation of the impurity removing unit 20 is slightly different from the example of the operation shown in FIG. 3, as shown in FIG.
Specifically, the gel heating start step (step S1) is omitted, and the controller 4 first monitors whether the gel temperature is lower than the transition temperature (step S10: first gel temperature monitoring step). If the gel temperature is equal to or higher than the transition temperature (UCST) of the thermosensitive gel 50 (step S10: NO), the controller 4 returns to step S10.

ゲル温度が感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度である場合には（ステップＳ１０：ＹＥＳ）、コントローラ４は、ゲル温度が転移温度以上の温度に達したときから所定の不純物除去時間が経過したか否かを監視する（ステップＳ３：経過時間監視工程）。
コントローラ４は、不純物除去時間が経過していない場合（ステップＳ３：ＮＯ）、ステップＳ３に戻る。不純物除去時間が経過すると（ステップＳ３：ＹＥＳ）、不純物量測定ユニット４２が検出する不純物量が、基準不純物量よりも低いか否かを判定する（ステップＳ４：不純物量判定工程）。 If the gel temperature is lower than the transition temperature of the thermosensitive gel 50 (step S10: YES), the controller 4 monitors whether a predetermined impurity removal time has elapsed since the gel temperature reached a temperature equal to or higher than the transition temperature (step S3: elapsed time monitoring process).
If the impurity removal time has not elapsed (step S3: NO), the controller 4 returns to step S3. If the impurity removal time has elapsed (step S3: YES), the controller 4 determines whether the amount of impurities detected by the impurity amount measuring unit 42 is lower than the reference amount of impurities (step S4: impurity amount determining step).

不純物除去時間経過後に、不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量が基準不純物量よりも低い場合には（ステップＳ４：ＹＥＳ）、供給工程（ステップＳ５）が実行される。
一方、不純物除去時間経過後においても、不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量が基準不純物量以上である場合には（ステップＳ４：ＮＯ）、循環ヒータ４５が作動され、感温性ゲルフィルタ３１の加熱が開始される（ステップＳ１１：ゲル加熱開始工程）。 When the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit 42 is lower than the reference amount of impurities after the impurity removal time has elapsed (step S4: YES), the supplying step (step S5) is executed.
On the other hand, if the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit 42 is equal to or greater than the reference impurity amount even after the impurity removal time has elapsed (step S4: NO), the circulating heater 45 is activated and heating of the temperature-sensitive gel filter 31 is started (step S11: gel heating start process).

その後、コントローラ４は、感温性ゲルフィルタ３１の温度が、転移温度以上の温度であるか否かを監視する（ステップＳ１２：第２ゲル温度監視工程）。貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度よりも低い場合には（ステップＳ１２：ＮＯ）、ステップＳ１２に戻る。
一方、貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱されると（ステップＳ１２：ＹＥＳ）、排液工程（ステップＳ８）が実行される。 Thereafter, the controller 4 monitors whether the temperature of the thermosensitive gel filter 31 is equal to or higher than the transition temperature (step S12: second gel temperature monitoring step). If the temperature of the thermosensitive gel filter 31 in the storage tank 30 is lower than the transition temperature of the thermosensitive gel 50 (step S12: NO), the process returns to step S12.
On the other hand, when the temperature-sensitive gel filter 31 in the storage tank 30 is heated to a temperature equal to or higher than the transition temperature of the temperature-sensitive gel 50 (step S12: YES), the liquid draining step (step S8) is executed.

このように、感温性ゲル５０がＵＣＳＴ型感温性ゲルである場合においても、供給工程と排液工程とが選択的に実行される。詳しくは、不純物量が基準不純物量よりも少ない場合には、供給ユニット１９に処理液を送出される。そして、不純物量が基準不純物量以上である場合には、感温性ゲル５０が親水性となる温度（転移温度以上の温度）に感温性ゲルフィルタ３１の温度を調節した後、排液配管２１に処理液が送出される。 In this way, even when the thermosensitive gel 50 is a UCST type thermosensitive gel, the supply process and the drainage process are selectively performed. In particular, when the amount of impurities is less than the reference amount of impurities, the treatment liquid is sent to the supply unit 19. When the amount of impurities is equal to or greater than the reference amount of impurities, the temperature of the thermosensitive gel filter 31 is adjusted to a temperature at which the thermosensitive gel 50 becomes hydrophilic (a temperature equal to or greater than the transition temperature), and then the treatment liquid is sent to the drainage pipe 21.

なお、上述した実施形態は例示的なものであり、種々の変更が可能である。たとえば、処理液の循環を好適に行うために、配管に介装されるポンプの位置や個数を適宜変更することが可能である。また、排液を好適に行うために、貯留タンクに接続される排液配管の個数や接続位置を適宜変更することが可能である。また、貯留タンクに直接接続され、新液を貯留タンクへと供給する新液供給ユニットや、貯留タンクに直接接続され洗浄液を貯留タンクへと供給する洗浄液供給ユニットをさらに設ける等の変更が可能である。 The above-described embodiment is illustrative and may be modified in various ways. For example, the position and number of pumps installed in the piping may be changed as appropriate to optimally circulate the processing liquid. Also, the number and connection positions of the drainage pipes connected to the storage tank may be changed as appropriate to optimally drain the liquid. Modifications may also be made, such as providing a new liquid supply unit that is directly connected to the storage tank and supplies new liquid to the storage tank, or a cleaning liquid supply unit that is directly connected to the storage tank and supplies cleaning liquid to the storage tank.

その他、特許請求の範囲に記載した範囲で種々の変更を行うことができる。 Various other modifications may be made within the scope of the claims.

１ ：基板処理装置
１Ｐ ：基板処理装置
１Ｑ ：基板処理装置
１Ｒ ：基板処理装置
２ ：処理ユニット
３ ：処理液供給装置
３Ｐ ：処理液供給装置
３Ｑ ：処理液供給装置
３Ｒ ：処理液供給装置
１９ ：供給ユニット（供給流路）
２０ ：不純物除去ユニット
２０Ａ ：第１不純物除去ユニット
２０Ｂ ：第２不純物除去ユニット
２０Ｒ ：不純物除去ユニット
２１ ：排液配管（排液流路）
２１Ａ ：第１排液配管（排液流路）
２１Ｂ ：第２排液配管（排液流路）
２２ ：帰還配管（帰還流路）
２２Ａ ：第１帰還配管（帰還流路）
２２Ｂ ：第２帰還配管（帰還流路）
２３ ：上流供給配管（供給流路）
２３Ａ ：第１上流供給配管（供給流路）
２３Ｂ ：第２上流供給配管（供給流路）
２４ ：供給タンク（供給流路）
２５ ：下流供給配管（供給流路）
３０ ：貯留タンク
３０Ａ ：第１貯留タンク
３０Ｂ ：第２貯留タンク
３０Ｒ ：貯留タンク
３１ ：感温性ゲルフィルタ
３１Ａ ：第１感温性ゲルフィルタ
３１Ｂ ：第２感温性ゲルフィルタ
３１Ｒ ：感温性ゲルフィルタ
３２ ：循環配管（循環流路）
３２Ａ ：第１循環配管（循環流路）
３２Ｂ ：第２循環配管（循環流路）
３３ ：内部空間
３３ａ ：第１収容部
３３ｂ ：第２収容部
４２ ：不純物量測定ユニット
４２Ａ ：第１不純物量測定ユニット
４２Ｂ ：第２不純物量測定ユニット
４５ ：循環ヒータ（加熱ユニット）
４５Ａ ：第１循環ヒータ（加熱ユニット）
４５Ｂ ：第２循環ヒータ（加熱ユニット）
５０ ：感温性ゲル
５０Ａ ：第１感温性ゲル
５０Ｂ ：第２感温性ゲル
５１ ：フィルタ部材
１００ ：上流循環配管（循環流路）
１０１ ：循環タンク（循環流路）
１０２ ：下流循環配管（循環流路）
１１０ ：不純物量測定ユニット
１１４ ：循環ヒータ（加熱ユニット）
１３０ ：供給配管（供給流路）
１４０ ：新液配管（新液流路）
Ｗ ：基板 1: Substrate processing apparatus 1P: Substrate processing apparatus 1Q: Substrate processing apparatus 1R: Substrate processing apparatus 2: Processing unit 3: Processing liquid supply apparatus 3P: Processing liquid supply apparatus 3Q: Processing liquid supply apparatus 3R: Processing liquid supply apparatus 19: Supply unit (supply flow path)
20: impurity removal unit 20A: first impurity removal unit 20B: second impurity removal unit 20R: impurity removal unit 21: drainage pipe (drainage flow path)
21A: First drainage pipe (drainage flow path)
21B: Second drainage pipe (drainage flow path)
22: Return pipe (return flow path)
22A: First return pipe (return flow path)
22B: Second return pipe (return flow path)
23: Upstream supply piping (supply flow path)
23A: First upstream supply pipe (supply flow path)
23B: Second upstream supply pipe (supply flow path)
24: Supply tank (supply flow path)
25: downstream supply piping (supply flow path)
30: Storage tank 30A: First storage tank 30B: Second storage tank 30R: Storage tank 31: Temperature-sensitive gel filter 31A: First temperature-sensitive gel filter 31B: Second temperature-sensitive gel filter 31R: Temperature-sensitive gel filter 32: Circulation pipe (circulation flow path)
32A: First circulation pipe (circulation flow path)
32B: Second circulation pipe (circulation flow path)
33: Internal space 33a: First storage section 33b: Second storage section 42: Impurity amount measuring unit 42A: First impurity amount measuring unit 42B: Second impurity amount measuring unit 45: Circulation heater (heating unit)
45A: First circulation heater (heating unit)
45B: Second circulation heater (heating unit)
50: Temperature-sensitive gel 50A: First temperature-sensitive gel 50B: Second temperature-sensitive gel 51: Filter member 100: Upstream circulation pipe (circulation flow path)
101: Circulation tank (circulation flow path)
102: downstream circulation piping (circulation flow path)
110: Impurity amount measuring unit 114: Circulation heater (heating unit)
130: Supply pipe (supply flow path)
140: New liquid piping (new liquid flow path)
W: Substrate

Claims (20)

基板に処理液を供給して前記基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する処理液供給装置であって、
処理液中の不純物を除去する不純物除去ユニットと、
前記不純物除去ユニットから処理液を排液する排液流路と、
前記不純物除去ユニットから前記処理ユニットに向けて処理液を送る供給流路と
を備え、
前記不純物除去ユニットが、
処理液を貯留する貯留タンクと、
前記貯留タンクに収容されている感温性ゲルフィルタであって、転移温度を境界として、親水性および疎水性のうちの一方から他方に変化する感温性ゲルを有する感温性ゲルフィルタと、
前記貯留タンクから処理液を引き込み、前記貯留タンク内に処理液を戻すことで処理液を循環させる循環流路であって、前記循環する処理液を前記感温性ゲルフィルタに通過させる循環流路と、
前記転移温度以上の温度に前記感温性ゲルフィルタを加熱する加熱ユニットとを含む、処理液供給装置。 A processing liquid supplying apparatus for supplying a processing liquid to a processing unit for processing a substrate, the processing liquid being provided
an impurity removal unit for removing impurities from the treatment liquid;
a drainage flow path for draining a treatment liquid from the impurity removal unit;
a supply flow path for supplying a treatment liquid from the impurity removal unit to the treatment unit,
The impurity removal unit comprises:
a storage tank for storing the processing liquid;
a thermosensitive gel filter contained in the storage tank, the thermosensitive gel filter having a thermosensitive gel that changes from one of hydrophilicity and hydrophobicity to the other at a transition temperature;
a circulation flow path that draws in the treatment liquid from the storage tank and returns the treatment liquid to the storage tank, the circulation flow path passing the circulating treatment liquid through the temperature-sensitive gel filter;
a heating unit for heating the temperature-sensitive gel filter to a temperature equal to or higher than the transition temperature. 前記感温性ゲルフィルタは、前記感温性ゲルが疎水性であるときには、その内部を通過する処理液の不純物を捕獲し、前記感温性ゲルが親水性であるときには、その内部を通過する処理液に不純物を放出する、請求項１に記載の処理液供給装置。 The treatment liquid supply device according to claim 1, wherein the temperature-sensitive gel filter captures impurities in the treatment liquid passing through its interior when the temperature-sensitive gel is hydrophobic, and releases impurities into the treatment liquid passing through its interior when the temperature-sensitive gel is hydrophilic. 前記感温性ゲルは、前記感温性ゲルフィルタの温度が前記転移温度以上になることで親水性から疎水性に変化し、前記感温性ゲルフィルタの温度が前記転移温度よりも低くなることで疎水性から親水性に変化する、請求項１または２に記載の処理液供給装置。 The treatment liquid supply device according to claim 1 or 2, wherein the thermosensitive gel changes from hydrophilic to hydrophobic when the temperature of the thermosensitive gel filter becomes equal to or higher than the transition temperature, and changes from hydrophobic to hydrophilic when the temperature of the thermosensitive gel filter becomes lower than the transition temperature. 前記不純物除去ユニットが、前記循環流路によって循環される処理液中の不純物量を測定する不純物量測定ユニットをさらに含み、
前記感温性ゲルが疎水性である状態で前記不純物量測定ユニットによって測定される不純物量が基準不純物量よりも少ない場合には、前記処理液が前記供給流路に送り出され、前記感温性ゲルが疎水性である状態で前記不純物量測定ユニットによって測定される不純物量が基準不純物量以上である場合には、前記感温性ゲルを親水化した後に前記処理液が前記排液流路に送り出される、請求項１～３のいずれか一項に記載の処理液供給装置。 the impurity removal unit further includes an impurity amount measuring unit for measuring an amount of impurities in the treatment liquid circulated through the circulation flow path;
A treatment liquid supply device as described in any one of claims 1 to 3, wherein when the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit when the thermosensitive gel is hydrophobic is less than a standard impurity amount, the treatment liquid is sent to the supply flow path, and when the amount of impurities measured by the impurity amount measuring unit when the thermosensitive gel is hydrophobic is equal to or greater than the standard impurity amount, the treatment liquid is sent to the drainage flow path after hydrophilizing the thermosensitive gel. 前記感温性ゲルフィルタが、前記処理液を通過させつつ前記感温性ゲルを保持するフィルタ部材をさらに含む、請求項１～４のいずれか一項に記載の処理液供給装置。 The treatment liquid supply device according to any one of claims 1 to 4, wherein the temperature-sensitive gel filter further includes a filter member that retains the temperature-sensitive gel while allowing the treatment liquid to pass through. 前記貯留タンクの内部が、前記感温性ゲルフィルタによって、第１収容部および第２収容部に仕切られており、
前記第１収容部は、前記感温性ゲルフィルタを挟んで前記第２収容部よりも処理液の循環方向の上流側に位置し、
前記第１収容部には、前記排液流路が接続されており、
前記第２収容部には、前記供給流路が接続されている、請求項１～５のいずれか一項に記載の処理液供給装置。 The inside of the storage tank is partitioned into a first storage section and a second storage section by the temperature-sensitive gel filter,
the first container is located upstream of the second container in a circulation direction of the treatment liquid, with the temperature-sensitive gel filter interposed therebetween;
The first storage section is connected to the drainage flow path,
6. The treatment liquid supplying device according to claim 1, wherein the second container is connected to the supply flow path. 前記供給流路が、前記不純物除去ユニットから送出される処理液が流れる上流供給流路と、前記上流供給流路を介して前記不純物除去ユニットから供給される処理液を貯留する供給タンクと、前記供給タンク内の処理液を前記処理ユニットに供給する下流供給流路とを含む、請求項１～６のいずれか一項に記載の処理液供給装置。 The processing liquid supply device according to any one of claims 1 to 6, wherein the supply flow path includes an upstream supply flow path through which the processing liquid discharged from the impurity removal unit flows, a supply tank that stores the processing liquid supplied from the impurity removal unit via the upstream supply flow path, and a downstream supply flow path that supplies the processing liquid in the supply tank to the processing unit. 前記循環流路が、前記貯留タンクから処理液が送られる上流循環流路と、前記上流循環流路を介して前記貯留タンクから供給される処理液を貯留する循環タンクと、前記循環タンク内の処理液を前記貯留タンクに戻す下流循環流路とを含む、請求項１～７のいずれか一項に記載の処理液供給装置。 The treatment liquid supply device according to any one of claims 1 to 7, wherein the circulation flow path includes an upstream circulation flow path through which the treatment liquid is sent from the storage tank, a circulation tank that stores the treatment liquid supplied from the storage tank via the upstream circulation flow path, and a downstream circulation flow path that returns the treatment liquid in the circulation tank to the storage tank. 前記処理ユニットで使用された汚染処理液を前記不純物除去ユニットに戻す帰還流路をさらに備える、請求項１～７のいずれか一項に記載の処理液供給装置。 The processing liquid supply device according to any one of claims 1 to 7, further comprising a return flow path for returning the contaminated processing liquid used in the processing unit to the impurity removal unit. 前記処理ユニットで使用されていない新たな処理液を前記不純物除去ユニットに供給する新液流路をさらに備える、請求項１～９のいずれか一項に記載の処理液供給装置。 The processing liquid supply device according to any one of claims 1 to 9, further comprising a new liquid flow path that supplies new processing liquid that has not been used in the processing unit to the impurity removal unit. 前記不純物除去ユニットが、前記感温性ゲルフィルタを洗浄する洗浄液を前記貯留タンクに供給する洗浄液流路をさらに含む、請求項１～１０のいずれか一項に記載の処理液供給装置。 The processing liquid supply device according to any one of claims 1 to 10, wherein the impurity removal unit further includes a cleaning liquid flow path that supplies a cleaning liquid for cleaning the temperature-sensitive gel filter to the storage tank. 前記不純物除去ユニットが、複数設けられており、
各前記不純物除去ユニットが、処理液の送出先を前記供給流路および前記排液流路のいずれかに切り替えるように構成されている、請求項１～１１のいずれか一項に記載の処理液供給装置。 The impurity removal unit is provided in plurality,
12. The processing liquid supplying device according to claim 1, wherein each of the impurity removal units is configured to switch a destination of the processing liquid to either the supply flow path or the drainage flow path. 請求項１～１２のいずれか一項に記載の処理液供給装置と、前記処理ユニットとを含む、基板処理装置。 A substrate processing apparatus including the processing liquid supply device according to any one of claims 1 to 12 and the processing unit. 処理液で基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する処理液供給方法であって、
処理液を貯留する貯留タンク内に収容されている感温性ゲルフィルタに含まれる感温性ゲルが疎水性である状態で前記感温性ゲルフィルタに処理液を通過させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記処理液中の不純物を捕獲させて前記処理液中から不純物を除去する不純物除去工程と、
前記不純物除去工程の後、前記処理ユニットに処理液を供給する供給流路へ向けて前記貯留タンクから前記処理液を送り出す供給工程と、
前記供給工程の後、前記感温性ゲルが親水性となっている状態で前記感温性ゲルフィルタに洗浄液を通過させることによって、前記感温性ゲルフィルタから前記洗浄液に不純物を放出させる不純物放出工程と、
前記不純物放出工程の後、排液流路を介して、前記貯留タンクから前記処理液を排除する排液工程とを含む、処理液供給方法。 1. A method for supplying a processing liquid to a processing unit for processing a substrate with the processing liquid, comprising the steps of:
an impurity removing step of passing the treatment liquid through a thermosensitive gel filter contained in a storage tank for storing the treatment liquid while the thermosensitive gel contained in the thermosensitive gel filter is in a hydrophobic state, thereby causing the thermosensitive gel filter to capture impurities in the treatment liquid and remove the impurities from the treatment liquid;
a supply step of sending the processing liquid from the storage tank toward a supply flow path that supplies the processing liquid to the processing unit after the impurity removal step;
an impurity releasing step of passing a cleaning liquid through the thermosensitive gel filter while the thermosensitive gel is in a hydrophilic state after the supplying step, thereby releasing impurities from the thermosensitive gel filter into the cleaning liquid;
a draining step of discharging the processing liquid from the storage tank through a drainage flow path after the impurity releasing step. 前記感温性ゲルフィルタを転移温度以上の温度に加熱することによって、前記感温性ゲルを疎水性に変化させる疎水化工程と、
前記感温性ゲルフィルタを前記転移温度よりも低い温度に冷却することによって、前記感温性ゲルを親水性に変化させる親水化工程とをさらに含む、請求項１４に記載の処理液供給方法。 a hydrophobization step of heating the thermosensitive gel filter to a temperature equal to or higher than a transition temperature thereof to make the thermosensitive gel hydrophobic;
15. The treatment liquid supplying method according to claim 14, further comprising a hydrophilization step of cooling the thermosensitive gel filter to a temperature lower than the transition temperature, thereby turning the thermosensitive gel into a hydrophilic state. 前記不純物除去工程が、前記貯留タンクから液体を引き込み前記貯留タンク内に液体を戻す循環流路によって処理液を循環させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記処理液を通過させる循環除去工程を含み、
前記不純物放出工程が、前記循環流路によって前記洗浄液を循環させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記洗浄液を通過させる循環洗浄工程を含む、請求項１４または１５に記載の処理液供給方法。 the impurity removal step includes a circulation removal step of passing the treatment liquid through the temperature-sensitive gel filter by circulating the treatment liquid through a circulation flow path that draws liquid from the storage tank and returns the liquid to the storage tank,
16. The treatment liquid supplying method according to claim 14, wherein the impurity releasing step includes a circulating cleaning step of circulating the cleaning liquid through the circulation flow path to pass the cleaning liquid through the temperature-sensitive gel filter. 前記処理ユニットで使用された汚染処理液を、帰還流路を介して前記貯留タンクに帰還させる帰還工程をさらに含み、
前記循環除去工程が、前記感温性ゲルフィルタに前記汚染処理液中の不純物を捕獲させて前記汚染処理液から不純物を除去する工程を含み、
前記循環洗浄工程が、前記感温性ゲルフィルタから前記汚染処理液に不純物を放出させる工程を含む、請求項１６に記載の処理液供給方法。 The method further includes a return step of returning the contaminated treatment liquid used in the treatment unit to the storage tank via a return flow path,
the circulating and removing step includes a step of removing impurities from the contamination treatment liquid by trapping the impurities in the contamination treatment liquid with the temperature-sensitive gel filter,
17. The processing liquid supply method according to claim 16, wherein the circulating and cleaning step includes a step of releasing impurities from the temperature-sensitive gel filter into the contaminated processing liquid. 前記不純物放出工程が、前記貯留タンクに前記洗浄液を供給して前記感温性ゲルフィルタを前記洗浄液に浸漬させ、前記貯留タンク内の前記洗浄液を前記排液流路から排液して前記貯留タンク内に排液流を形成する浸漬洗浄工程を含む、請求項１４または１５に記載の処理液供給方法。 The treatment liquid supply method according to claim 14 or 15, wherein the impurity releasing step includes an immersion cleaning step of supplying the cleaning liquid to the storage tank, immersing the temperature-sensitive gel filter in the cleaning liquid, and draining the cleaning liquid in the storage tank from the drainage flow path to form a drainage flow in the storage tank. 前記貯留タンクとして、第１貯留タンクおよび第２貯留タンクが設けられており、
前記不純物放出工程が、前記第１貯留タンク内に収容されている第１感温性ゲルフィルタに含まれる第１感温性ゲルが親水性である状態で、前記第１感温性ゲルフィルタに洗浄液を通過させることによって、前記第１感温性ゲルフィルタから前記洗浄液に不純物を放出させる工程を含み、
前記不純物除去工程が、前記不純物放出工程が実行されている間に、前記第２貯留タンク内に収容されている第２感温性ゲルフィルタに含まれる第２感温性ゲルが疎水性である状態で前記第２貯留タンク内の処理液を前記第２感温性ゲルフィルタに通過させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記処理液中の不純物を捕獲させて前記処理液中から不純物を除去する工程を含む、請求項１４～１８のいずれか一項に記載の処理液供給方法。 The storage tank includes a first storage tank and a second storage tank,
the impurity releasing step includes a step of passing a cleaning liquid through a first temperature-sensitive gel filter in a state in which a first temperature-sensitive gel contained in the first temperature-sensitive gel filter accommodated in the first storage tank is hydrophilic, thereby releasing impurities from the first temperature-sensitive gel filter into the cleaning liquid;
The treatment liquid supply method according to any one of claims 14 to 18, wherein the impurity removal step includes a step of passing the treatment liquid in the second storage tank through the second temperature-sensitive gel filter while the impurity release step is being performed, thereby causing the temperature-sensitive gel filter to capture impurities in the treatment liquid and remove the impurities from the treatment liquid. 処理液で基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する処理液供給方法であって、
転移温度を境界として、親水性および疎水性のうちの一方から他方に変化する感温性ゲルを有する感温性ゲルフィルタを収容する貯留タンク内の処理液を循環させて、前記感温性ゲルフィルタに処理液を通過させる循環工程と、
前記感温性ゲルが疎水性となる温度に前記感温性ゲルフィルタの温度を調節する温度調節工程と、
前記感温性ゲルが疎水性となる温度に前記感温性ゲルフィルタの温度が調節されている状態で、前記感温性ゲルフィルタを通過する処理液の不純物量が所定の基準不純物量よりも少ないか否かを判定する不純物量判定工程とを含み、
前記不純物量判定工程によって測定される不純物量が、前記基準不純物量よりも少ない場合には、前記処理ユニットに向けて処理液を送る供給流路に処理液を送出する供給工程が実行され、前記不純物量判定工程によって測定される不純物量が、前記基準不純物量以上である場合には、前記感温性ゲルが親水性となる温度に前記感温性ゲルフィルタの温度を調節した後、前記処理液を排液する排液流路に処理液を送出する排液工程が実行されるように、前記供給工程および前記排液工程が選択的に実行される、処理液供給方法。 1. A method for supplying a processing liquid to a processing unit for processing a substrate with the processing liquid, comprising the steps of:
a circulation step of circulating a treatment liquid in a storage tank containing a thermosensitive gel filter having a thermosensitive gel that changes from one of hydrophilicity and hydrophobicity to the other at a transition temperature, and passing the treatment liquid through the thermosensitive gel filter;
a temperature adjusting step of adjusting the temperature of the thermosensitive gel filter to a temperature at which the thermosensitive gel becomes hydrophobic;
and an impurity amount determination step of determining whether or not an amount of impurities in a treatment liquid passing through the thermosensitive gel filter is less than a predetermined reference impurity amount while the temperature of the thermosensitive gel filter is adjusted to a temperature at which the thermosensitive gel becomes hydrophobic,
a supply step of sending the treatment liquid to a supply flow path that sends the treatment liquid toward the treatment unit when the amount of impurities measured by the impurity amount determination step is less than the standard impurity amount, and a drainage step of sending the treatment liquid to a drainage flow path that drains the treatment liquid after adjusting the temperature of the thermosensitive gel filter to a temperature at which the thermosensitive gel becomes hydrophilic is performed when the amount of impurities measured by the impurity amount determination step is equal to or greater than the standard impurity amount.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115338181A (en) * 2022-07-26 2022-11-15 泸州龙芯微科技有限公司 Surface cleaning device behind chip scribing

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003059884A (en) 2001-08-20 2003-02-28 Tokyo Electron Ltd Substrate treatment apparatus and substrate treatment method
JP2007039845A (en) 2005-08-04 2007-02-15 Teijin Fibers Ltd Polyester fiber structure and method for producing the same
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW420829B (en) * 1997-05-22 2001-02-01 Tokyo Electron Ltd Treatment device and method, impurity removing apparatus
JP2005136374A (en) * 2003-10-06 2005-05-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor manufacturing apparatus and pattern forming method using the same
JP2008066351A (en) * 2006-09-05 2008-03-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing apparatus

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003059884A (en) 2001-08-20 2003-02-28 Tokyo Electron Ltd Substrate treatment apparatus and substrate treatment method
JP2007039845A (en) 2005-08-04 2007-02-15 Teijin Fibers Ltd Polyester fiber structure and method for producing the same
JP2007201330A (en) 2006-01-30 2007-08-09 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing equipment

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