JP7512757B2 - 樹脂組成物並びにそれを含む光学レンズ及び光学フィルム - Google Patents
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Description
本発明は、樹脂組成物並びにそれを含む光学レンズ及び光学フィルムに関する。
液晶表示装置、光ディスク装置、プロジェクションスクリーンの光学系や、カメラ、フィルム一体型カメラ、ビデオカメラ等の各種カメラの光学系に使用される光学素子の材料として、光学ガラスあるいは光学用透明樹脂が使用されている。光学ガラスは、耐熱性や透明性、寸法安定性、耐薬品性等に優れ、様々な屈折率（ｎｄ）やアッベ数（νｄ）を有する多種類の材料が存在しているが、材料コストが高い上、成形加工性が悪く、また生産性が低いという問題点を有している。
上記の光学ガラスに対して、光学用透明樹脂、中でも熱可塑性透明樹脂からなる光学レンズは、射出成形により大量生産が可能で、しかも非球面レンズの製造も容易であるという利点を有しており、光学レンズ用高屈折率材料としてポリカーボネート樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂などが使用されている。
光学用樹脂を光学レンズとして用いる場合、屈折率やアッベ数などの光学特性に加えて、耐熱性、透明性、低吸水性、耐薬品性、低複屈折、耐湿熱性等が求められる。特に近年では、優れた光学特性に加えて、さらなる薄型化や精密デザイン化の要求が高まっている。
屈折率が高い光学用樹脂として有用なものとして、例えば、フルオレン構造やビナフタレン構造を有する構成単位を含むポリカーボネート樹脂が挙げられる。しかしながら、フルオレン構造やビナフタレン構造は嵩高い構造であることから、樹脂の溶融流動性に欠け、安定に精密成形を行うことや高品質の成形体を得ることは難しかった。また、これらの樹脂は吸水膨張性があり、精密成形体として使用する場合には、寸法安定性に改善の余地があった。
このような状況の下、依然として、優れた光学特性に加えて、溶融流動性が高く、低吸水性を特徴とする樹脂組成物及び光学レンズが求められている。
本発明は、優れた光学特性に加えて、溶融流動性が高く、低吸水性を特徴とする樹脂組成物を提供する。本発明はまた、この樹脂組成物を使用することにより、優れた光学レンズを提供する。
本発明者らは上記課題を解決するべく鋭意検討を重ねた結果、下記樹脂組成物及び光学レンズによって、上記課題を解決することができることを見出し、本発明に到達した。
本発明は、以下の態様を含む。
＜１＞
シロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂と、
下記一般式（２）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｂ）及び／又は下記一般式（３）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｃ）を含む樹脂と、を含むことを特徴とする樹脂組成物。
（一般式（２）中、
Ｒａ及びＲｂは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、Ｏ、Ｎ及びＳから選択される１つ以上のヘテロ環原子を含む、置換基を有してもよい炭素数６～２０のヘテロアリール基、又は置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリールオキシ基、ならびに－Ｃ≡Ｃ－Ｒｈからなる群より選択され、
Ｒｈは置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、又はＯ、Ｎ及びＳから選択される１つ以上のヘテロ環原子を含む、置換基を有してもよい炭素数６～２０のヘテロアリール基を表し、
Ｘ１は、単結合であるか、又は置換基を有してもよいフルオレン基を表し、
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基を表し、
ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０～６の整数を表し、
ａ及びｂは、それぞれ独立に、０～１０の整数を表す。）
（一般式（３）中、
Ｒｃ及びＲｄは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、及び置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基からなる群より選択され、
Ｙ１は、置換基を有してもよいフルオレン基を表し、
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基を表し、
ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、
ａ及びｂは、それぞれ独立に、０～１０の整数を表す。）
＜２＞
前記シロキサン構成単位（Ａ）が、下記一般式（１－１）～（１－４）のいずれかで表される構成単位の少なくとも一つを含む、＜１＞に記載の樹脂組成物。
（一般式（１－１）～（１－４）中、
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数６～３０のアリール基を表し、
Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６及びＲ３１～Ｒ３６は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルコキシ基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数２～２０のアルケニル基、又は置換基を有してもよい炭素数６～３０のアリール基を示し、
Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基であり、
Ｊ１は、それぞれ独立して、０～５の整数を表し、
Ｋ１は、それぞれ独立して、０～５の整数を表し、
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立して、-Ｏ-，-ＣＨ２-のいずれかを表し、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、０～３の整数を表し、
Ｘは、単結合であるか、又は下記式（４）～（９）で表される構造式のうちいずれかであり、
（一般式（４）～（９）中、
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数６～３０のアリール基を表すか、あるいは、Ｒ１１及びＲ１２が互いに結合して形成する、置換基を有してもよい炭素数１～２０の炭素環又は複素環を表し、
ｒ及びｓは、それぞれ独立して、０～５０００の整数を表す。）
＜３＞
前記一般式（２）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｂ）が、下記一般式（２ａ）で表されるジオールに由来する構成単位及び下記一般式（２ｂ）で表されるジオールに由来する構成単位の少なくとも一つを含む、＜１＞又は＜２＞に記載の樹脂組成物。
（一般式（２ａ）中、Ｒａ、Ｒｂ、Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ一般式（２）におけるものと同義である。）
（一般式（２ｂ）中、
Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ一般式（２）におけるものと同義であり、
Ｒｅ及びＲｆは、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、及び置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリールオキシ基からなる群より選択される。）
＜４＞
前記一般式（２）におけるＲａ及びＲｂが、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、ナフチル基、又は下記からなる群より選択される置換基を表す、＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の樹脂組成物。
＜５＞
前記一般式（３）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｃ）が、下記一般式（３ａ）で表されるジオールに由来する構成単位を含む、＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の樹脂組成物。
（一般式（３ａ）中、
Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ一般式（３）におけるものと同義であり、
Ｒｅ及びＲｆは、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、及び置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリールオキシ基からなる群より選択される。）
＜６＞
前記シロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂と、前記構成単位（Ｂ）及び前記構成単位（Ｃ）を含む樹脂との質量比（（Ａ）／（Ｂ＋Ｃ））が、９９／１～１／９９である、請求項１から５のいずれかに記載の樹脂組成物。
＜７＞
更に、酸化防止剤を含む、＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の樹脂組成物。
＜８＞
前記酸化防止剤が、ホスファイト系酸化防止剤及び／又はフェノール系酸化防止剤である、＜７＞に記載の樹脂組成物。
＜９＞
＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の樹脂組成物を含む成形体。
＜１０＞
前記成形体が光学レンズである、＜９＞に記載の成形体。
＜１１＞
前記成形体が光学フィルムである、＜９＞に記載の成形体。
＜１＞
シロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂と、
下記一般式（２）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｂ）及び／又は下記一般式（３）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｃ）を含む樹脂と、を含むことを特徴とする樹脂組成物。
（一般式（２）中、
Ｒａ及びＲｂは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、Ｏ、Ｎ及びＳから選択される１つ以上のヘテロ環原子を含む、置換基を有してもよい炭素数６～２０のヘテロアリール基、又は置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリールオキシ基、ならびに－Ｃ≡Ｃ－Ｒｈからなる群より選択され、
Ｒｈは置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、又はＯ、Ｎ及びＳから選択される１つ以上のヘテロ環原子を含む、置換基を有してもよい炭素数６～２０のヘテロアリール基を表し、
Ｘ１は、単結合であるか、又は置換基を有してもよいフルオレン基を表し、
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基を表し、
ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０～６の整数を表し、
ａ及びｂは、それぞれ独立に、０～１０の整数を表す。）
（一般式（３）中、
Ｒｃ及びＲｄは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、及び置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基からなる群より選択され、
Ｙ１は、置換基を有してもよいフルオレン基を表し、
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基を表し、
ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、
ａ及びｂは、それぞれ独立に、０～１０の整数を表す。）
＜２＞
前記シロキサン構成単位（Ａ）が、下記一般式（１－１）～（１－４）のいずれかで表される構成単位の少なくとも一つを含む、＜１＞に記載の樹脂組成物。
（一般式（１－１）～（１－４）中、
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数６～３０のアリール基を表し、
Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６及びＲ３１～Ｒ３６は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルコキシ基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数２～２０のアルケニル基、又は置換基を有してもよい炭素数６～３０のアリール基を示し、
Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基であり、
Ｊ１は、それぞれ独立して、０～５の整数を表し、
Ｋ１は、それぞれ独立して、０～５の整数を表し、
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立して、-Ｏ-，-ＣＨ２-のいずれかを表し、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、０～３の整数を表し、
Ｘは、単結合であるか、又は下記式（４）～（９）で表される構造式のうちいずれかであり、
（一般式（４）～（９）中、
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数６～３０のアリール基を表すか、あるいは、Ｒ１１及びＲ１２が互いに結合して形成する、置換基を有してもよい炭素数１～２０の炭素環又は複素環を表し、
ｒ及びｓは、それぞれ独立して、０～５０００の整数を表す。）
＜３＞
前記一般式（２）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｂ）が、下記一般式（２ａ）で表されるジオールに由来する構成単位及び下記一般式（２ｂ）で表されるジオールに由来する構成単位の少なくとも一つを含む、＜１＞又は＜２＞に記載の樹脂組成物。
（一般式（２ａ）中、Ｒａ、Ｒｂ、Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ一般式（２）におけるものと同義である。）
（一般式（２ｂ）中、
Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ一般式（２）におけるものと同義であり、
Ｒｅ及びＲｆは、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、及び置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリールオキシ基からなる群より選択される。）
＜４＞
前記一般式（２）におけるＲａ及びＲｂが、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、ナフチル基、又は下記からなる群より選択される置換基を表す、＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の樹脂組成物。
＜５＞
前記一般式（３）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｃ）が、下記一般式（３ａ）で表されるジオールに由来する構成単位を含む、＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の樹脂組成物。
（一般式（３ａ）中、
Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ一般式（３）におけるものと同義であり、
Ｒｅ及びＲｆは、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、及び置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリールオキシ基からなる群より選択される。）
＜６＞
前記シロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂と、前記構成単位（Ｂ）及び前記構成単位（Ｃ）を含む樹脂との質量比（（Ａ）／（Ｂ＋Ｃ））が、９９／１～１／９９である、請求項１から５のいずれかに記載の樹脂組成物。
＜７＞
更に、酸化防止剤を含む、＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の樹脂組成物。
＜８＞
前記酸化防止剤が、ホスファイト系酸化防止剤及び／又はフェノール系酸化防止剤である、＜７＞に記載の樹脂組成物。
＜９＞
＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の樹脂組成物を含む成形体。
＜１０＞
前記成形体が光学レンズである、＜９＞に記載の成形体。
＜１１＞
前記成形体が光学フィルムである、＜９＞に記載の成形体。
本発明の樹脂組成物は、優れた光学特性に加えて、溶融流動性が高く、低吸水性を有する。また、本発明の樹脂組成物を使用することにより、優れた光学レンズ及び光学フィルムを得ることができる。
以下、本発明を実施するための形態（以下、単に「本実施形態」ともいう。）について詳細に説明する。以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。本発明は、その要旨の範囲内で適宜に変形して実施できる。
１．樹脂組成物
本発明の樹脂組成物は、
シロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂と、
下記一般式（２）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｂ）及び／又は下記一般式（３）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｃ）を含む樹脂と、を含むことを特徴とする。
（一般式（２）中、
Ｒａ及びＲｂは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、Ｏ、Ｎ及びＳから選択される１つ以上のヘテロ環原子を含む、置換基を有してもよい炭素数６～２０のヘテロアリール基、又は置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリールオキシ基、ならびに－Ｃ≡Ｃ－Ｒｈからなる群より選択され、
Ｒｈは置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、又はＯ、Ｎ及びＳから選択される１つ以上のヘテロ環原子を含む、置換基を有してもよい炭素数６～２０のヘテロアリール基を表し、
Ｘ１は、単結合であるか、又は置換基を有してもよいフルオレン基を表し、
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基を表し、
ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０～６の整数を表し、
ａ及びｂは、それぞれ独立に、０～１０の整数を表す。）
（一般式（３）中、
Ｒｃ及びＲｄは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、及び置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基からなる群より選択され、
Ｙ１は、置換基を有してもよいフルオレン基を表し、
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基を表し、
ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、
ａ及びｂは、それぞれ独立に、０～１０の整数を表す。）
以下、各構成成分について、詳細に説明する。
本発明の樹脂組成物は、
シロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂と、
下記一般式（２）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｂ）及び／又は下記一般式（３）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｃ）を含む樹脂と、を含むことを特徴とする。
（一般式（２）中、
Ｒａ及びＲｂは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、Ｏ、Ｎ及びＳから選択される１つ以上のヘテロ環原子を含む、置換基を有してもよい炭素数６～２０のヘテロアリール基、又は置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリールオキシ基、ならびに－Ｃ≡Ｃ－Ｒｈからなる群より選択され、
Ｒｈは置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、又はＯ、Ｎ及びＳから選択される１つ以上のヘテロ環原子を含む、置換基を有してもよい炭素数６～２０のヘテロアリール基を表し、
Ｘ１は、単結合であるか、又は置換基を有してもよいフルオレン基を表し、
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基を表し、
ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０～６の整数を表し、
ａ及びｂは、それぞれ独立に、０～１０の整数を表す。）
（一般式（３）中、
Ｒｃ及びＲｄは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、及び置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基からなる群より選択され、
Ｙ１は、置換基を有してもよいフルオレン基を表し、
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基を表し、
ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、
ａ及びｂは、それぞれ独立に、０～１０の整数を表す。）
以下、各構成成分について、詳細に説明する。
２．シロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂
２－１．シロキサン構成単位（Ａ）
本発明の樹脂組成物に用いられるシロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂（以下、「ポリシロキサン樹脂」ともいう。）は、少なくとも、下記一般式（１－１）～（１－４）のいずれかで表される構成単位の少なくとも一つを含むポリマーである。
２－１．シロキサン構成単位（Ａ）
本発明の樹脂組成物に用いられるシロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂（以下、「ポリシロキサン樹脂」ともいう。）は、少なくとも、下記一般式（１－１）～（１－４）のいずれかで表される構成単位の少なくとも一つを含むポリマーである。
一般式（１－１）～（１－４）中、
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数６～３０のアリール基を表す。
Ｒ１及びＲ２が、置換基を有してもよいアルキル基である場合、合計炭素数が１～１０であることが好ましく、合計炭素数が１～４であることがより好ましく、合計炭素数が１又は２であることが特に好ましい。
また、Ｒ１及びＲ２が、置換基を有してもよいアリール基である場合、合計炭素数が６～２０であることが好ましく、合計炭素数が６～１２であることがより好ましく、合計炭素数が６～８であることが特に好ましい。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数６～３０のアリール基を表す。
Ｒ１及びＲ２が、置換基を有してもよいアルキル基である場合、合計炭素数が１～１０であることが好ましく、合計炭素数が１～４であることがより好ましく、合計炭素数が１又は２であることが特に好ましい。
また、Ｒ１及びＲ２が、置換基を有してもよいアリール基である場合、合計炭素数が６～２０であることが好ましく、合計炭素数が６～１２であることがより好ましく、合計炭素数が６～８であることが特に好ましい。
一般式（１－１）～（１－２）中、
Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６及びＲ３１～Ｒ３６は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルコキシ基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数２～２０のアルケニル基、又は置換基を有してもよい炭素数６～３０のアリール基を示す。
Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６及びＲ３１～Ｒ３６が、置換基を有してもよいアルコキシ基である場合、合計炭素数が１～１０であることが好ましく、合計炭素数が１～４であることがより好ましく、合計炭素数が１又は２であることが特に好ましい。
Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６及びＲ３１～Ｒ３６が、置換基を有してもよいアルキル基である場合、合計炭素数が１～１０であることが好ましく、合計炭素数が１～４であることがより好ましく、合計炭素数が１又は２であることが特に好ましい。
Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６及びＲ３１～Ｒ３６が、置換基を有してもよいアルケニル基である場合、合計炭素数が２～１０であることが好ましく、合計炭素数が２～６であることがより好ましく、合計炭素数が２～４であることが特に好ましい。
また、Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６及びＲ３１～Ｒ３６が、置換基を有してもよいアリール基である場合、合計炭素数が６～２０であることが好ましく、合計炭素数が６～１２であることがより好ましく、合計炭素数が６～８であることが特に好ましい。
Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６及びＲ３１～Ｒ３６は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルコキシ基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数２～２０のアルケニル基、又は置換基を有してもよい炭素数６～３０のアリール基を示す。
Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６及びＲ３１～Ｒ３６が、置換基を有してもよいアルコキシ基である場合、合計炭素数が１～１０であることが好ましく、合計炭素数が１～４であることがより好ましく、合計炭素数が１又は２であることが特に好ましい。
Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６及びＲ３１～Ｒ３６が、置換基を有してもよいアルキル基である場合、合計炭素数が１～１０であることが好ましく、合計炭素数が１～４であることがより好ましく、合計炭素数が１又は２であることが特に好ましい。
Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６及びＲ３１～Ｒ３６が、置換基を有してもよいアルケニル基である場合、合計炭素数が２～１０であることが好ましく、合計炭素数が２～６であることがより好ましく、合計炭素数が２～４であることが特に好ましい。
また、Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６及びＲ３１～Ｒ３６が、置換基を有してもよいアリール基である場合、合計炭素数が６～２０であることが好ましく、合計炭素数が６～１２であることがより好ましく、合計炭素数が６～８であることが特に好ましい。
一般式（１－１）～（１－３）中、
Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基であり、好ましくは炭素数１～３のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数１又は２のアルキレン基である。
Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基であり、好ましくは炭素数１～３のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数１又は２のアルキレン基である。
一般式（１－１）～（１－３）中、
Ｊ１は、それぞれ独立して、０～５の整数を表し、好ましくは０～３の整数であり、より好ましくは０～２の整数であり、例えば１又は２である。
Ｊ１は、それぞれ独立して、０～５の整数を表し、好ましくは０～３の整数であり、より好ましくは０～２の整数であり、例えば１又は２である。
一般式（１－１）～（１－３）中、
Ｋ１は、それぞれ独立して、０～５の整数を表し、好ましくは０～３の整数であり、より好ましくは０～２の整数であり、例えば１又は２である。
Ｋ１は、それぞれ独立して、０～５の整数を表し、好ましくは０～３の整数であり、より好ましくは０～２の整数であり、例えば１又は２である。
一般式（１－３）中、
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立して、-Ｏ-，-ＣＨ２-のいずれかを表す。本発明の一実施形態において、Ａ１は-Ｏ-又は-ＣＨ２-である。本発明の一実施形態において、Ａ２は-Ｏ-又は-ＣＨ２-である。
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立して、-Ｏ-，-ＣＨ２-のいずれかを表す。本発明の一実施形態において、Ａ１は-Ｏ-又は-ＣＨ２-である。本発明の一実施形態において、Ａ２は-Ｏ-又は-ＣＨ２-である。
一般式（１－３）中、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、０～３の整数を表し、好ましくは、１又は２である。
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立して、０～３の整数を表し、好ましくは、１又は２である。
一般式（１－１）～（１－２）中、
Ｘは、単結合であるか、又は下記式（４）～（９）で表される構造式のうちいずれかであり、
Ｘは、単結合であるか、又は下記式（４）～（９）で表される構造式のうちいずれかであり、
一般式（４）及び（９）中、
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数６～３０のアリール基を表すか、あるいは、Ｒ１１及びＲ１２が互いに結合して形成する、置換基を有してもよい炭素数１～２０の炭素環又は複素環を表す。
Ｒ１１及びＲ１２は、好ましくは、それぞれ独立して、水素、置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数６～１６のアリール基である。
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数６～３０のアリール基を表すか、あるいは、Ｒ１１及びＲ１２が互いに結合して形成する、置換基を有してもよい炭素数１～２０の炭素環又は複素環を表す。
Ｒ１１及びＲ１２は、好ましくは、それぞれ独立して、水素、置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数６～１６のアリール基である。
一般式（７）及び（９）中、
ｒ及びｓは、それぞれ独立して、０～５０００の整数を表し、好ましくは０～１０００の整数であり、より好ましくは０～５００の整数であり、さらに好ましくは０～１００の整数である。
ｒ及びｓは、それぞれ独立して、０～５０００の整数を表し、好ましくは０～１０００の整数であり、より好ましくは０～５００の整数であり、さらに好ましくは０～１００の整数である。
本発明の好ましい一実施形態において、シロキサン構成単位においては、Ｘは、Ｒ１１及びＲ１２が互いに結合して形成されたフルオレン環構造である。
本発明の好ましい一実施形態において、シロキサン構成単位（Ａ）は、少なくとも下記式（１）で表されるものを含む。
式（１）において、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基、又は、アリール基を表す。式（１）におけるＲ１及びＲ２は、それぞれ、置換基を有してもよい合計炭素数１～２０のアルキル基、又は、合計炭素数６～３０のアリール基である。
Ｒ１及びＲ２の好ましい選択肢については、上記式（１－１）～（１－４）のＲ１及びＲ２と同様である。
Ｒ１及びＲ２の好ましい選択肢については、上記式（１－１）～（１－４）のＲ１及びＲ２と同様である。
上述のＲ１及びＲ２の置換基としては、水酸基、ハロゲン、アミノ基、ビニル基、カルボキシル基、シアノ基、（メタ）アクリルオキシ基、グリシジルオキシ基、メルカプト基等が挙げられる。
式（１）におけるＲ１及びＲ２の好ましい具体例としては、メチル基、フェニル基、ビニル基、及び、プロピル基が挙げられる。
式（１）におけるＲ１及びＲ２の好ましい具体例としては、メチル基、フェニル基、ビニル基、及び、プロピル基が挙げられる。
式（１）において、Ｒ３～Ｒ１０の好ましい選択肢については、上記式（１－１）～（１－４）のＲ３～Ｒ１０と同様である。
上述のＲ３～Ｒ１０の置換基としては、水酸基、ハロゲン、アミノ基、ビニル基、カルボキシル基、シアノ基、（メタ）アクリルオキシ基、グリシジルオキシ基、メルカプト基等が挙げられる。
上述のＲ３～Ｒ１０の置換基としては、水酸基、ハロゲン、アミノ基、ビニル基、カルボキシル基、シアノ基、（メタ）アクリルオキシ基、グリシジルオキシ基、メルカプト基等が挙げられる。
式（１）において、Ｘは、上記式（１－１及び（１－２）のＸと同様である。
本発明の樹脂組成物に用いられるシロキサン構成単位（Ａ）として式（１）の構成単位を含む樹脂において、式（１）の構成単位の重合度は、１０以上１，０００以下の整数を表す。式（１’）におけるｍの値は、好ましくは、２０以上８００以下であり、より好ましくは３０以上５００以下である。
２－２．シロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂の物性
本実施形態において、耐熱性及び光学特性のバランスを考慮すると、構成単位（Ａ）を含む樹脂中の全構成単位に対する構成単位（Ａ）の含有量は、１０～９５モル％であることが好ましい。上記含有量が１０モル％以上であると、十分に良好な耐熱性及び光学特性が得られる傾向にある。また、上記含有量が９５モル％以下であると、良好な耐熱性及び光学特性を確保しつつ成形性を向上させることができるため好ましい。上記と同様の観点から、構成単位（Ａ）を含む樹脂中の全構成単位に対する構成単位（Ａ）の含有量は、１５～９５モル％であることがより好ましく、更に好ましくは２０～９５モル％である。
本実施形態において、耐熱性及び光学特性のバランスを考慮すると、構成単位（Ａ）を含む樹脂中の全構成単位に対する構成単位（Ａ）の含有量は、１０～９５モル％であることが好ましい。上記含有量が１０モル％以上であると、十分に良好な耐熱性及び光学特性が得られる傾向にある。また、上記含有量が９５モル％以下であると、良好な耐熱性及び光学特性を確保しつつ成形性を向上させることができるため好ましい。上記と同様の観点から、構成単位（Ａ）を含む樹脂中の全構成単位に対する構成単位（Ａ）の含有量は、１５～９５モル％であることがより好ましく、更に好ましくは２０～９５モル％である。
本実施形態において、構成単位（Ａ）を含む樹脂は、本発明の効果を有する限り特に限定されないが、下記（１）～（５）のいずれか一つ以上を満たすことが好ましく、下記（１）～（５）の全てを満たすことが更に好ましい。
（１）質量平均分子量
本発明の樹脂組成物においてシロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂として用いられる、ポリアリーレンシロキサン化合物等のポリシロキサン樹脂の質量平均分子量は、５，０００～３００，０００であることが好ましく、１０，０００～３００，０００であることがより好ましく、１０，０００～２００，０００であることがさらに好ましく、１０，０００～１００，０００であることが特に好ましく、例えば、２０，０００～９０，０００であり、さらに好ましくは、３０，０００～８０，０００であり、特に好ましくは、４０，０００～７０，０００である。
本発明の樹脂組成物においてシロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂として用いられる、ポリアリーレンシロキサン化合物等のポリシロキサン樹脂の質量平均分子量は、５，０００～３００，０００であることが好ましく、１０，０００～３００，０００であることがより好ましく、１０，０００～２００，０００であることがさらに好ましく、１０，０００～１００，０００であることが特に好ましく、例えば、２０，０００～９０，０００であり、さらに好ましくは、３０，０００～８０，０００であり、特に好ましくは、４０，０００～７０，０００である。
（２）ガラス転移温度
本発明の樹脂組成物においてシロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂として用いられる、ポリアリーレンシロキサン化合物等のポリシロキサン樹脂においては、ＪＩＳ Ｋ ７１２１に準拠したガラス転移温度（Ｔｇ）が、例えば４０～２００℃であり、４５～１６０℃であることが好ましい。
本発明の樹脂組成物においてシロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂として用いられる、ポリアリーレンシロキサン化合物等のポリシロキサン樹脂においては、ＪＩＳ Ｋ ７１２１に準拠したガラス転移温度（Ｔｇ）が、例えば４０～２００℃であり、４５～１６０℃であることが好ましい。
（３）環状体の含有量
上述のポリシロキサン樹脂、すなわち、式（１－１）～式（１－４）のいずれかで表されるシロキサン構成単位を有するポリシロキサン樹脂においては、質量平均分子量は、５，０００～３００，０００であるとともに、以下の式（５－４）で表される環状体の合計含有量が、ポリシロキサン樹脂の全質量を基準として４．０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは３．０質量％以下であり、さらに好ましくは２．０質量％以下であり、特に好ましくは１．０質量％以下である。
これらの分子量の小さい環状体、例えば環状二量体の合計含有量が上述の範囲内であれば、ポリシロキサン樹脂の性状、特に光学用途で用いられる場合において良好であるといえる。
式（５－４）においては、式（５－４）で表される構成単位と他の構成単位との配置は任意である。すなわち、式（５－４）として構成が明示されている構成単位以外の構成単位が含まれ得るものの、いずれの場合にも、ｍの値の合計は２～１０であり、好ましくは２～５であり、より好ましくは２又は３であり、例えば２である。
Ｒ１～Ｒ２、Ｒ３～Ｒ１０、及びＸは、式（１－１）のものと同様である。
式（５－４）において、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基であり、好ましくは炭素数１～３のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数１又は２のアルキレン基である。
式（５－４）において、ｉ及びｉｉは、それぞれ独立して、０～５の整数を表し、好ましくは０～３の整数であり、より好ましくは０～２の整数であり、例えば１又は２である。
上述のポリシロキサン樹脂、すなわち、式（１－１）～式（１－４）のいずれかで表されるシロキサン構成単位を有するポリシロキサン樹脂においては、質量平均分子量は、５，０００～３００，０００であるとともに、以下の式（５－４）で表される環状体の合計含有量が、ポリシロキサン樹脂の全質量を基準として４．０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは３．０質量％以下であり、さらに好ましくは２．０質量％以下であり、特に好ましくは１．０質量％以下である。
これらの分子量の小さい環状体、例えば環状二量体の合計含有量が上述の範囲内であれば、ポリシロキサン樹脂の性状、特に光学用途で用いられる場合において良好であるといえる。
式（５－４）においては、式（５－４）で表される構成単位と他の構成単位との配置は任意である。すなわち、式（５－４）として構成が明示されている構成単位以外の構成単位が含まれ得るものの、いずれの場合にも、ｍの値の合計は２～１０であり、好ましくは２～５であり、より好ましくは２又は３であり、例えば２である。
Ｒ１～Ｒ２、Ｒ３～Ｒ１０、及びＸは、式（１－１）のものと同様である。
式（５－４）において、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基であり、好ましくは炭素数１～３のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数１又は２のアルキレン基である。
式（５－４）において、ｉ及びｉｉは、それぞれ独立して、０～５の整数を表し、好ましくは０～３の整数であり、より好ましくは０～２の整数であり、例えば１又は２である。
ポリシロキサン樹脂における分子量の小さい環状体も、ポリカーボネート共重合体における上述の質量平均分子量が１，０００以下の低分子量化合物の含有率と同様に、下限値は、特に重要でないものの、０．７質量％程度である。ただし、０．００１質量％，０．０１質量％，あるいは、０．１質量％程度の以上の上記低分子量化合物が含まれていても、ポリシロキサン樹脂の性状、特に光学用途で用いられる場合において問題ない一方、流動性が向上し得る。このためポリシロキサン樹脂における質量平均分子量が１，０００以下の低分子量化合物の含有率の下限値は、０．００１質量％，０．０１質量％，あるいは、０．１質量％であってもよい。
ポリシロキサン樹脂における上述の低分子量の環状体の含有率は、詳細を実施例にて後述するように、ＧＰＣ分析により得られた各成分のピーク面積の比から、不純物である数種類の低分子量化合物の含有量を合計して算出された値である。すなわち、詳細を後述するように、ポリカーボネート共重合体における分子量が１，０００以下の低分子量化合物の割合の測定と同様に、所定のＧＰＣ面積比より算出され得る。
なお、式（５－４）の示す環状体のうち、具体例として下記式（５－４’）の環状二量体が挙げられ式（５－４’）の環状二量体の分子構造と、このような環状二量体がポリシロキサン樹脂において含まれ得ることが確認された。
また、ポリシロキサン樹脂においては、以下の式（６－１）及び（６－２）で表される環状体の合計含有量が、含まれ得る。これらの環状体は、ポリシロキサン樹脂の製造のための重合反応の副反応の結果、生じる環状二量体と考えられる。これらの環状二量体のポリシロキサン樹脂における含有量は、ポリシロキサン樹脂の全質量を基準として２．０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは１．５質量％以下であり、さらに好ましくは１．０質量％以下であり、特に好ましくは０．５質量％以下である。
式（６－１）及び（６－２）においては、これらの式で表される構成単位と他の構成単位との配置は任意である。すなわち、式（６－１）及び（６－２）として構成が明示されている構成単位以外の構成単位が含まれ得るものの、いずれの場合にも、ｎの値の合計は２～１０であり、好ましくは２～５であり、より好ましくは２又は３であり、例えば２である。
式（６－１）及び（６－２）において、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基であり、好ましくは炭素数１～３のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数１又は２のアルキレン基である。
式（６－１）及び（６－２）において、ｉ及びｉｉは、それぞれ独立して、０以上５以下の整数を表し、好ましくは０以上３以下の整数であり、より好ましくは０以上２以下の整数であり、例えば１又は２である。
なお、式（６－１）及び（６－２）における、
Ｒ１及びＲ２、Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６、Ｒ３１～Ｒ３６、及びＸは、それぞれ式（１－１）及び（１－２）のものと同様である。式（６－１）及び（６－２）における、Ｘ１及びＸ２、ｉ及びｉｉは、式（５－４）のものと同様である。
式（６－１）及び（６－２）においては、これらの式で表される構成単位と他の構成単位との配置は任意である。すなわち、式（６－１）及び（６－２）として構成が明示されている構成単位以外の構成単位が含まれ得るものの、いずれの場合にも、ｎの値の合計は２～１０であり、好ましくは２～５であり、より好ましくは２又は３であり、例えば２である。
式（６－１）及び（６－２）において、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基であり、好ましくは炭素数１～３のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数１又は２のアルキレン基である。
式（６－１）及び（６－２）において、ｉ及びｉｉは、それぞれ独立して、０以上５以下の整数を表し、好ましくは０以上３以下の整数であり、より好ましくは０以上２以下の整数であり、例えば１又は２である。
なお、式（６－１）及び（６－２）における、
Ｒ１及びＲ２、Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６、Ｒ３１～Ｒ３６、及びＸは、それぞれ式（１－１）及び（１－２）のものと同様である。式（６－１）及び（６－２）における、Ｘ１及びＸ２、ｉ及びｉｉは、式（５－４）のものと同様である。
また、ポリシロキサン樹脂に含まれる式（６－１）及び（６－２）で表される環状二量体の合計含有量の下限値は、特に限定されないが、例えば、０．００１質量％，０．０１質量％，あるいは、０．１質量％であってもよい。若干量の環状二量体の存在は、ポリシロキサン樹脂の成形時における流動性の向上に貢献し得る。
また、式（６－１）及び（６－２）の化合物のそれぞれの具体例として、下記の式（６－１’）及び（６－２’）の環状体が挙げられる。
なお、式（６－１’）及び（６－２’）における、
Ｒ１及びＲ２、Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６、Ｒ３１～Ｒ３６、Ｘ、Ｘ１及びＸ２、ｉ及びｉｉは、上述の通り式（６－１）及び（６－２）のものと同様である。
なお、式（６－１’）及び（６－２’）における、
Ｒ１及びＲ２、Ｒ３～Ｒ１０、Ｒ２１～Ｒ２６、Ｒ３１～Ｒ３６、Ｘ、Ｘ１及びＸ２、ｉ及びｉｉは、上述の通り式（６－１）及び（６－２）のものと同様である。
（４）１％質量減少熱分解温度
ポリシロキサン樹脂においては、１％質量減少熱分解温度が、４１５℃以下であることが好ましく、より好ましくは、１％質量減少熱分解温度が４００℃以下であり、さらに好ましくは、１％質量減少熱分解温度が３８５℃以下であり、特に好ましくは、１％質量減少熱分解温度が３７０℃以下である。
ポリシロキサン樹脂においては、１％質量減少熱分解温度が、４１５℃以下であることが好ましく、より好ましくは、１％質量減少熱分解温度が４００℃以下であり、さらに好ましくは、１％質量減少熱分解温度が３８５℃以下であり、特に好ましくは、１％質量減少熱分解温度が３７０℃以下である。
（５）ケイ素原子の合計質量（総Ｓｉ量）の割合
ポリシロキサン樹脂においては、ポリシロキサン樹脂の全質量を基準としたケイ素原子の合計質量（総Ｓｉ量）の割合が、０．１～２０質量％であることが好ましく、１．０～１５質量％であることがより好ましく、２．０～１２質量％であることがさらに好ましく、３．０～１０質量％（例えば、３．１質量％以上、あるいは３．１質量％超で９．８質量％以下）特に好ましい。
ポリシロキサン樹脂においては、ポリシロキサン樹脂の全質量を基準としたケイ素原子の合計質量（総Ｓｉ量）の割合が、０．１～２０質量％であることが好ましく、１．０～１５質量％であることがより好ましく、２．０～１２質量％であることがさらに好ましく、３．０～１０質量％（例えば、３．１質量％以上、あるいは３．１質量％超で９．８質量％以下）特に好ましい。
２－３．シロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂の製造方法
本発明の樹脂組成物に用いられるシロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂は、いずれも詳細を上述した、所定のジアリールオキシシラン化合物等であるオキシシラン化合物と、芳香族ジオール化合物等のジオール化合物とを、エステル交換触媒の存在下、重合させる重合工程を有する方法により製造される。以下、ポリシロキサン樹脂の製造方法について説明する。
本発明の樹脂組成物に用いられるシロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂は、いずれも詳細を上述した、所定のジアリールオキシシラン化合物等であるオキシシラン化合物と、芳香族ジオール化合物等のジオール化合物とを、エステル交換触媒の存在下、重合させる重合工程を有する方法により製造される。以下、ポリシロキサン樹脂の製造方法について説明する。
上述の重合反応を概略的に示すと、以下の通りである。例えば、ジアリールオキシシラン化合物の一例である、２つのメチル基とフェノキシ基とを有するジフェノキシシラン化合物（Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＯＰｈ）２）と、芳香族ジオール化合物の一例であるビスフェノールＡとを反応させると、以下のポリアリーレンシロキサン化合物が得られる。
すなわち、下記式（Ａ）の反応により生成されるシロキサン構造を有するポリアリーレンシロキサン化合物が製造される。
この重合反応においては、下記の通り、副生成物として、フェノール（ＰｈＯＨ）等のアリールアルコールが生じる。そこで、重合工程においては、上述の各成分の混合物を溶融させた状態で、減圧下、フェノール等の副生成物であるアリールアルコールを除去しながら重合反応を進行させる。
以下、本発明に係るポリシロキサン樹脂の製造方法について、詳細に説明する。なお、ポリシロキサン樹脂は、ポリアリーレンシロキサン化合物、ポリアルキレンシロキサン化合物、それらの混合物の他、詳細を後述するジアリールオキシシラン化合物由来の構成単位と、ジアルコキシシラン化合物由来の構成単位とをポリマー鎖にいずれも含む形態を包含する。
すなわち、下記式（Ａ）の反応により生成されるシロキサン構造を有するポリアリーレンシロキサン化合物が製造される。
この重合反応においては、下記の通り、副生成物として、フェノール（ＰｈＯＨ）等のアリールアルコールが生じる。そこで、重合工程においては、上述の各成分の混合物を溶融させた状態で、減圧下、フェノール等の副生成物であるアリールアルコールを除去しながら重合反応を進行させる。
以下、本発明に係るポリシロキサン樹脂の製造方法について、詳細に説明する。なお、ポリシロキサン樹脂は、ポリアリーレンシロキサン化合物、ポリアルキレンシロキサン化合物、それらの混合物の他、詳細を後述するジアリールオキシシラン化合物由来の構成単位と、ジアルコキシシラン化合物由来の構成単位とをポリマー鎖にいずれも含む形態を包含する。
（Ａ）オキシシラン化合物
ポリシロキサン樹脂の製造に用いられるオキシシラン化合物として、ジアリールオキシシラン化合物、及び、ジアルコキシシラン化合物が挙げられる。
ポリシロキサン樹脂の製造に用いられるオキシシラン化合物として、ジアリールオキシシラン化合物、及び、ジアルコキシシラン化合物が挙げられる。
（Ａ－１）ジアリールオキシシラン化合物
重合工程において用いられるジアリールオキシシラン化合物は、例えば上記式（Ａ）に示されるように、ポリアリーレンシロキサン化合物におけるシロキサン構成単位を形成するために用いられる。
ジアリールオキシシラン化合物として、ジアルキルジアリールオキシシラン、ジアリールジアリールオキシシラン、及び、モノアルキルモノアリールジアリールオキシシランが挙げられる。すなわち、重合工程においては、これらのいずれか一つ、あるいは複数をシラン系化合物として用いても良い。
重合工程において用いられるジアリールオキシシラン化合物は、例えば上記式（Ａ）に示されるように、ポリアリーレンシロキサン化合物におけるシロキサン構成単位を形成するために用いられる。
ジアリールオキシシラン化合物として、ジアルキルジアリールオキシシラン、ジアリールジアリールオキシシラン、及び、モノアルキルモノアリールジアリールオキシシランが挙げられる。すなわち、重合工程においては、これらのいずれか一つ、あるいは複数をシラン系化合物として用いても良い。
ジアリールオキシシラン化合物を一般式Ｓｉ（ＲａＲｂ）（ＯＡｒ）２で表したとき、ＲａとＲｂは、それぞれ独立して、アルキル基とアリール基から選択される。ＲａとＲｂは、それぞれ独立に、置換基を有してもよい合計炭素数１～２０のアルキル基、及び、合計炭素数６～３０のアリール基のいずれかであることが好ましい。より好ましくは、Ｒａ及びＲｂが、置換基を有してもよいアルキル基である場合、合計炭素数が１～１０であることが好ましく、合計炭素数が１～６であることがより好ましく、合計炭素数が１又は２であることが特に好ましい。
また、Ｒａ及びＲｂが、置換基を有してもよいアリール基である場合、合計炭素数が６～２０であることが好ましく、合計炭素数が６～１２であることがより好ましく、合計炭素数が６～８であることが特に好ましい。
また、Ｒａ及びＲｂが、置換基を有してもよいアリール基である場合、合計炭素数が６～２０であることが好ましく、合計炭素数が６～１２であることがより好ましく、合計炭素数が６～８であることが特に好ましい。
上述の置換基としては、水酸基、ハロゲン、アミノ基、ビニル基、カルボキシル基、シアノ基、（メタ）アクリルオキシ基、グリシジルオキシ基、メルカプト基等が挙げられる。
式（１）におけるＲａ及びＲｂの好ましい具体例としては、メチル基、フェニル基、ビニル基、及び、プロピル基が挙げられる。
式（１）におけるＲａ及びＲｂの好ましい具体例としては、メチル基、フェニル基、ビニル基、及び、プロピル基が挙げられる。
なお、上記式（Ａ）からも明らかであるように、ジアリールオキシシラン化合物のアリールオキシ基（ＯＡｒ基）は、ポリアリーレンシロキサン化合物のポリマー鎖に導入されるものではなく、例えばフェノール等の副生成物（ＡｒＯＨ）を生じさせる。このため、アリールオキシ基の種類については、特に限定されない。ただし、重合工程における副生物をなるべく容易に反応系から取り除けるように、アリールオキシ基は、極性と分子量の低いことが好ましく、例えば、フェノキシ基である。
ジアルキルジアリールオキシシランの具体例としては、ジメチルジフェノキシシラン、メチルエチルジフェノキシシラン、ジエチルジフェノキシシラン等が挙げられ、ジアリールジアリールオキシシランの具体例としては、ジフェニルジフェノキシシラン等が挙げられる。また、モノアルキルモノアリールジアリールオキシシランの具体例としては、メチルフェニルフェノキシシラン等が挙げられる。
なお、これらのジアリールオキシシラン化合物は、既知の手法により合成可能であり、また、市販されているものを用いても良い。
なお、これらのジアリールオキシシラン化合物は、既知の手法により合成可能であり、また、市販されているものを用いても良い。
（Ａ－２）ジアルコキシシラン化合物
ジアルコキシシラン化合物として、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン、及び、モノアルキルモノアリールジアルコキシシランが挙げられる。すなわち、重合工程においては、これらのいずれか一つ、あるいは複数をシラン系化合物として用いても良い。
ジアルコキシシラン化合物として、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン、及び、モノアルキルモノアリールジアルコキシシランが挙げられる。すなわち、重合工程においては、これらのいずれか一つ、あるいは複数をシラン系化合物として用いても良い。
ジアルコキシシラン化合物を一般式Ｓｉ（ＲａＲｂ）（ＯＲＣ）２で表したとき、ＲａとＲｂは、それぞれ独立して、（Ａ－１）ジアリールオキシシラン化合物の欄に記載のＲａとＲｂと同じ、アルキル基とアリール基から選択される。
なお、上記式（Ａ）からも明らかであるように、シラン化合物のアルコキシ基（ＯＲＣ基）は、ポリカーボネート共重合体のポリマー鎖に導入されるものではなく、例えばメタノール等の副生成物（ＭｅＯＨ）を生じさせる。このため、アルコキシ基の種類については、特に限定されない。ただし、重合工程における副生物をなるべく容易に反応系から取り除けるように、アルコキシ基（ＯＲＣ基）は、例えば、メトキシ基である。
なお、上記式（Ａ）からも明らかであるように、シラン化合物のアルコキシ基（ＯＲＣ基）は、ポリカーボネート共重合体のポリマー鎖に導入されるものではなく、例えばメタノール等の副生成物（ＭｅＯＨ）を生じさせる。このため、アルコキシ基の種類については、特に限定されない。ただし、重合工程における副生物をなるべく容易に反応系から取り除けるように、アルコキシ基（ＯＲＣ基）は、例えば、メトキシ基である。
ジアルキルジアルコキシシランの具体例としては、ジメチルジメトキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン等が挙げられ、ジアリールジアルコキシシランの具体例としては、ジフェニルジメトキシシラン等が挙げられる。また、モノアルキルモノアリールジアルコキシシランの具体例としては、メチルフェニルジメトキシシラン等が挙げられる。
（Ｂ）ジオール化合物
ポリシロキサン樹脂の製造に用いられるジオール化合物として、芳香族ジオール化合物、及び、脂環式ジオール化合物が挙げられる。ジオール化合物として、芳香族ジオール化合物と脂環式ジオール化合物の混合物を用いてもよい。
ポリシロキサン樹脂の製造に用いられるジオール化合物として、芳香族ジオール化合物、及び、脂環式ジオール化合物が挙げられる。ジオール化合物として、芳香族ジオール化合物と脂環式ジオール化合物の混合物を用いてもよい。
（Ｂ－１）芳香族ジオール化合物
重合工程において用いられる芳香族ジオール化合物は、重合反応の概略に関する上記式（Ａ）にて示されるように、ポリアリーレンシロキサン化合物等のポリシロキサン樹脂の主鎖を構成するために用いられる。
従って、重合工程で用いられる芳香族ジオール化合物としては、ポリカーボネート樹脂の材料となり得るモノマーが好ましく、例えば、ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン、１，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１－フェニルエタン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－ヒドロキシ－３－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－フェニルフェニル）プロパン、２，２－ビス（３－シクロヘキシル－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－ブロモフェニル）プロパン、２，２－ビス（３，５－ジブロモ－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－メトキシフェニル）プロパン、４，４’－ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルフェニルエーテル、４，４’－ジヒドロキシフェニルスルフィド、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルジフェニルスルフィド、４，４’－ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルジフェニルスルホキシド、４，４’－ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルジフェニルスルホン、２，２－ビス（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（３－ブロモ－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１－ビス（３－シクロヘキシル－４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、４，４’－ジヒドロキシビフェニル、９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）フルオレン、４，４’－スルホニルジフェノール、２，２’－ジフェニル－４，４’－スルホニルジフェノール、２，２’－ジメチル－４，４’－スルホニルジフェノール、１，３－ビス｛２－（４－ヒドロキシフェニル）プロピル｝ベンゼン、１，４－ビス｛２－（４－ヒドロキシフェニル）プロピル｝ベンゼン、１，４－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，３－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，８－ビス（４－ヒドロキシフェニル）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン、４，４’－（１，３－アダマンタンジイル）ジフェノール、及び１，３－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－５，７－ジメチルアダマンタン等が挙げられる。
その他、ポリカーボネート共重合体に関する上記［（ＩＩＩ－１）芳香族ジオール化合物］の欄に記載の芳香族ジオール化合物も、ポリシロキサン樹脂の製造のための重合工程において使用できる。
重合工程において用いられる芳香族ジオール化合物は、重合反応の概略に関する上記式（Ａ）にて示されるように、ポリアリーレンシロキサン化合物等のポリシロキサン樹脂の主鎖を構成するために用いられる。
従って、重合工程で用いられる芳香族ジオール化合物としては、ポリカーボネート樹脂の材料となり得るモノマーが好ましく、例えば、ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン、１，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１－フェニルエタン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－ヒドロキシ－３－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－フェニルフェニル）プロパン、２，２－ビス（３－シクロヘキシル－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－ブロモフェニル）プロパン、２，２－ビス（３，５－ジブロモ－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－メトキシフェニル）プロパン、４，４’－ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルフェニルエーテル、４，４’－ジヒドロキシフェニルスルフィド、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルジフェニルスルフィド、４，４’－ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルジフェニルスルホキシド、４，４’－ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルジフェニルスルホン、２，２－ビス（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（３－ブロモ－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１－ビス（３－シクロヘキシル－４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、４，４’－ジヒドロキシビフェニル、９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）フルオレン、４，４’－スルホニルジフェノール、２，２’－ジフェニル－４，４’－スルホニルジフェノール、２，２’－ジメチル－４，４’－スルホニルジフェノール、１，３－ビス｛２－（４－ヒドロキシフェニル）プロピル｝ベンゼン、１，４－ビス｛２－（４－ヒドロキシフェニル）プロピル｝ベンゼン、１，４－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，３－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，８－ビス（４－ヒドロキシフェニル）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン、４，４’－（１，３－アダマンタンジイル）ジフェノール、及び１，３－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－５，７－ジメチルアダマンタン等が挙げられる。
その他、ポリカーボネート共重合体に関する上記［（ＩＩＩ－１）芳香族ジオール化合物］の欄に記載の芳香族ジオール化合物も、ポリシロキサン樹脂の製造のための重合工程において使用できる。
（Ｂ－２）脂環式ジオール化合物
重合工程において用いられる脂環式ジオール化合物もまた、ポリシロキサン樹脂の主鎖を構成するために用いられる。
脂環式ジオール化合物の具体例として、スピログリコール、シクロヘキサンジメタノール、ＰＣＰＤＭ、ＴＣＤＤＭ等が挙げられる。
その他、ポリカーボネート共重合体に関する上記［（ＩＩＩ－２）脂環式ジオール化合物］の欄に記載の脂環式ジオール化合物も、ポリシロキサン樹脂の製造のための重合工程において使用できる。
重合工程において用いられる脂環式ジオール化合物もまた、ポリシロキサン樹脂の主鎖を構成するために用いられる。
脂環式ジオール化合物の具体例として、スピログリコール、シクロヘキサンジメタノール、ＰＣＰＤＭ、ＴＣＤＤＭ等が挙げられる。
その他、ポリカーボネート共重合体に関する上記［（ＩＩＩ－２）脂環式ジオール化合物］の欄に記載の脂環式ジオール化合物も、ポリシロキサン樹脂の製造のための重合工程において使用できる。
（Ｃ）エステル交換触媒
重合工程において用いられるエステル交換触媒としては、塩基性化合物を含む触媒が好ましい。塩基性化合物触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物等を含むものがあげられ、このような化合物としては、アルカリ金属、及び、アルカリ土類金属化合物等の有機酸塩、炭酸塩等の無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物あるいはアルコキシド等が挙げられる。または、塩基性化合物触媒として、４級アンモニウムヒドロキシド及びそれらの塩、アミン類等が用いられる。また、これらの化合物は単独で、もしくは複数の種類を組み合わせて用いることができる。
エステル交換触媒は、上述の塩基性化合物触媒のうち、アルカリ金属炭酸塩、又は、アルカリ金属水酸化物を含むことがより好ましい。より好ましいエステル交換触媒の具体例として、炭酸セシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化セシウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等を含むものが挙げられる。
なお、エステル交換触媒は、既知の手法により調製可能であり、また、市販されているものを用いても良い。
重合工程において用いられるエステル交換触媒としては、塩基性化合物を含む触媒が好ましい。塩基性化合物触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物等を含むものがあげられ、このような化合物としては、アルカリ金属、及び、アルカリ土類金属化合物等の有機酸塩、炭酸塩等の無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物あるいはアルコキシド等が挙げられる。または、塩基性化合物触媒として、４級アンモニウムヒドロキシド及びそれらの塩、アミン類等が用いられる。また、これらの化合物は単独で、もしくは複数の種類を組み合わせて用いることができる。
エステル交換触媒は、上述の塩基性化合物触媒のうち、アルカリ金属炭酸塩、又は、アルカリ金属水酸化物を含むことがより好ましい。より好ましいエステル交換触媒の具体例として、炭酸セシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化セシウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等を含むものが挙げられる。
なお、エステル交換触媒は、既知の手法により調製可能であり、また、市販されているものを用いても良い。
（Ｄ）重合工程
重合工程においては、少なくとも、上述の（Ｉ）ジアリールオキシシラン化合物等のジオキシシラン化合物、及び、（ＩＩ）芳香族ジオール化合物等のジオール化合物を、（ＩＩＩ）エステル交換触媒の存在下で重合させる。この重合反応においては、上記各成分の混合物を溶融させ、溶融状態として減圧下、副生成物であるアリールアルコール及び又はアルキルアルコールを除去する。このように反応条件を設定することにより、重合反応を効率的に進行させることができる。
重合工程においては、少なくとも、上述の（Ｉ）ジアリールオキシシラン化合物等のジオキシシラン化合物、及び、（ＩＩ）芳香族ジオール化合物等のジオール化合物を、（ＩＩＩ）エステル交換触媒の存在下で重合させる。この重合反応においては、上記各成分の混合物を溶融させ、溶融状態として減圧下、副生成物であるアリールアルコール及び又はアルキルアルコールを除去する。このように反応条件を設定することにより、重合反応を効率的に進行させることができる。
重合工程において、上述の重合反応における圧力は、１０１,３００Ｐａ以下の範囲内であることが好ましい。より好ましくは、重合反応の圧力は２７,０００Ｐａ以下であり、さらに好ましくは、４００Ｐａ以下である。
重合工程においては、ある程度の時間、減圧させず常圧の状態、あるいは、さほど減圧させていない状態を維持した後、系内を次第に減圧させて、さらに重合反応を進めることが好ましい。このように、反応系内の減圧度を途中から徐々に向上させることにより、反応開始時に必要な作業を常圧下で開始できるとともに、副生成物のアリールアルコール又はアルキルアルコールを反応系外に容易に除去させることが可能となる。具体的には、１００～１０,０００Ｐａ／分程度のペースで減圧工程を進行させることが好ましく、より好ましくは５００～７,０００Ｐａ／分、さらに好ましくは１，０００～４,０００Ｐａ／分で減圧させる。
重合工程においては、ある程度の時間、減圧させず常圧の状態、あるいは、さほど減圧させていない状態を維持した後、系内を次第に減圧させて、さらに重合反応を進めることが好ましい。このように、反応系内の減圧度を途中から徐々に向上させることにより、反応開始時に必要な作業を常圧下で開始できるとともに、副生成物のアリールアルコール又はアルキルアルコールを反応系外に容易に除去させることが可能となる。具体的には、１００～１０,０００Ｐａ／分程度のペースで減圧工程を進行させることが好ましく、より好ましくは５００～７,０００Ｐａ／分、さらに好ましくは１，０００～４,０００Ｐａ／分で減圧させる。
以上の記載からも明らかであるように、重合工程においては、常に減圧下で重合反応を行うことが必要ではなく、少なくとも原料が溶融状態になった状態から、好ましくはある程度、重合反応を進行させてから、反応系内を減圧させることが好ましい。例えば、後述するように、重合工程においては次第に反応温度を上げていくことが好ましいため、減圧工程は、ある程度、反応系の温度が昇温されてから、例えば１５０℃以上、より好ましくは１８０℃以上に昇温された状態で、開始することが好ましい。
重合工程において、上述の重合反応における温度は、１５０～３００℃の範囲内であることが好ましい。より好ましくは、重合反応の温度は１８０～２９０℃、さらに好ましくは、２００～２８０℃である。
このように、重合工程においては、２００℃よりも高い反応温度で、オキシシラン化合物又はジアリールオキシシラン化合物と、ジオール化合物又は芳香族ジオール化合物とを重合させることが好ましい。また、減圧下で、重合工程を行うことが好ましい。
また、副生成物のアリールアルコール又はアルキルアルコールを徐々に生じさせ、除去するために、例えば上述の範囲内で設定された反応温度まで、室温から徐々に昇温させることが好ましい。昇温は１～１０℃／分程度のペースで進行させることが好ましく、より好ましくは２～８℃／分、さらに好ましくは３～７℃／分で昇温させる。
このように、重合工程においては、２００℃よりも高い反応温度で、オキシシラン化合物又はジアリールオキシシラン化合物と、ジオール化合物又は芳香族ジオール化合物とを重合させることが好ましい。また、減圧下で、重合工程を行うことが好ましい。
また、副生成物のアリールアルコール又はアルキルアルコールを徐々に生じさせ、除去するために、例えば上述の範囲内で設定された反応温度まで、室温から徐々に昇温させることが好ましい。昇温は１～１０℃／分程度のペースで進行させることが好ましく、より好ましくは２～８℃／分、さらに好ましくは３～７℃／分で昇温させる。
重合工程の時間は、目的とするポリシロキサン樹脂の種類、圧力、温度などの反応条件も考慮の上で適宜、定められるが、例えば、重合工程にかける合計時間は１～１０時間以内である。より詳しくは、反応系内の上述の減圧の前の反応時間が０．１～３時間であり、好ましくは０．５～２時間であり、減圧後の反応時間が０．５～８時間であり、好ましくは１～６時間である。
また、上述のオキシシラン化合物、及び、ジオール化合物の各成分の互いの相溶性は良好であり、重合工程においては、溶媒を使用せずにポリカーボネート共重合体を製造できる。このように、例えばハロゲン系溶媒等の溶媒が不要であるため、重合反応による環境負荷の低減を可能にするとともに、重合工程を簡素化することができる。
さらに、重合工程において生じる副生成物は、上述のアリールアルコール、アルキルアルコール等であり、反応系からの除去が容易であるとともに、安全等に配慮して特別な処理を講じる必要のないものである。このため、本発明に係るポリシロキサン樹脂の製造方法は、例えば、酸が副生したり、あるいは酸を使用する従来の製法に比べて、環境負荷を低減させたりすることができる。
重合工程において、エステル交換触媒のモル量の芳香族ジオール化合物のモル量に対する比（モル比：すなわち、エステル交換触媒のモル量／芳香族ジオール化合物のモル量の値）は、０．０１μｍｏｌ／ｍｏｌ～１６，０００μｍｏｌ／ｍｏｌ（１.０×１０－８～１.６×１０－２）である。本モル比は、０．０５～１０，０００μｍｏｌ／ｍｏｌ（５.０×１０－８～１.０×１０－２）であることが好ましく、より好ましくは、０．５～５０００μｍｏｌ／ｍｏｌ（５.０×１０－７～５.０×１０－３）であり、さらに好ましくは、０．８０～１０００μｍｏｌ／ｍｏｌ（８.０×１０－７～１.０×１０－３）であり、特に好ましくは、１．０～１００μｍｏｌ／ｍｏｌ（１.０×１０－６～１.０×１０－４）である。
重合工程において、ジアリールオキシシラン化合物等のオキシシラン化合物に対する芳香族ジオール化合物等のジオール化合物のモル比（すなわち、オキシシラン化合物のモル数／ジオール化合物のモル数の値）は、例えば０．８～１．３であり、０．９以上１．２以下であることが好ましく、より好ましくは、０．９５以上１．１８以下であり、さらに好ましくは、１．００以上１．１６以下である。
前記重合反応における反応温度は触媒の種類、その使用量などによるが、通常１５０℃から３００℃の範囲で選ばれ、反応速度及び樹脂の着色を考慮すると１８０℃～２８０℃が好ましい。反応槽内の圧力は、大気雰囲気下から最終的には１ｋＰａ以下に調節することが好ましく、最終的には０．５ｋＰａ以下とするのがより好ましい。
前記重合反応を行う際には、所望によりリン化合物を添加してもよい。リン化合物としては、以下に限定されないが、例えば、リン酸、亜リン酸、リン酸エステル、亜リン酸エステル等を挙げることができる。リン酸エステルとしては、以下に限定されないが、例えば、リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸ブチル、リン酸フェニル、リン酸ジメチル、リン酸ジエチル、リン酸ジブチル、リン酸ジフェニル、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリブチル、リン酸トリフェニル等を挙げることができる。亜リン酸エステルとしては、以下に限定されないが、例えば、亜リン酸メチル、亜リン酸エチル、亜リン酸ブチル、亜リン酸フェニル、亜リン酸ジメチル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジブチル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリブチル、亜リン酸トリフェニル等を挙げることができる。これらは単独で又は二種以上を組み合わせて使用することができる。本実施形態の構成単位（Ａ）を含む樹脂中のリン原子の濃度は１～５００ｐｐｍが好ましく、５～４００ｐｐｍがより好ましく、１０～２００ｐｐｍが更に好ましい。
また、本実施形態の構成単位（Ａ）を含む樹脂の製造時には、エーテル化防止剤、熱安定剤、光安定剤等の各種安定剤、重合調整剤等を使用することができる。
本実施形態の構成単位（Ａ）を含む樹脂には、本実施形態の目的を損なわない範囲で、酸化防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、着色剤、光安定剤、滑剤、可塑剤、流動性改質剤、増粘剤、難燃剤、結晶核剤、相溶化剤、強化剤、増量剤、染料、帯電防止剤、抗菌剤、艶消し剤、乾燥調節剤、沈降防止剤、界面活性剤、乾燥油、ワックス類、フィラー、補強剤、表面平滑剤、レベリング剤、重合金属不活性化剤、硬化反応促進剤、ブルーイング剤等の各種添加剤、成形助剤を添加することができる。
紫外線吸収剤としては、後述する、構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂について用いることができるものを同様に用いることができる。また、ブルーイング剤としては、後述する、構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂について用いることができるものを同様に用いることができる。
３．構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂
３－１．構成単位（Ｂ）及び構成単位（Ｃ）
本実施形態の樹脂組成物は、上述した構成単位（Ａ）を含む樹脂に加えて、下記一般式（２）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｂ）（以下、単に「構成単位（Ｂ）」ともいう。）及び／又は下記一般式（３）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｃ）（以下、単に「構成単位（Ｃ）ともいう。）を含む樹脂を含む。構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂は、比較的吸水率が低く、機械的強度に優れることからポリカーボネート樹脂であることが特に好ましい。
３－１．構成単位（Ｂ）及び構成単位（Ｃ）
本実施形態の樹脂組成物は、上述した構成単位（Ａ）を含む樹脂に加えて、下記一般式（２）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｂ）（以下、単に「構成単位（Ｂ）」ともいう。）及び／又は下記一般式（３）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｃ）（以下、単に「構成単位（Ｃ）ともいう。）を含む樹脂を含む。構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂は、比較的吸水率が低く、機械的強度に優れることからポリカーボネート樹脂であることが特に好ましい。
以下では、構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂がポリカーボネート樹脂である場合を説明するが、ポリエステル樹脂あるいはポリエステルカーボネート樹脂など、ポリカーボネート樹脂以外の樹脂であってもよい。
（１）構成単位（Ｂ）
構成単位（Ｂ）は、下記式（２）で表されるジオールに由来する。
一般式（２）中、Ｒａ及びＲｂは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシル基、炭素数５～２０のシクロアルキル基、炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、炭素数６～２０のアリール基、Ｏ、Ｎ及びＳから選択される１つ以上のヘテロ環原子を含む炭素数６～２０のヘテロアリール基又は炭素数６～２０のアリールオキシ基、ならびに－Ｃ≡Ｃ－Ｒｈからなる群より選択され、
Ｒｈは炭素数６～２０のアリール基、又はＯ、Ｎ及びＳから選択される１つ以上のヘテロ環原子を含む炭素数６～２０のヘテロアリール基を表し、
Ｘ１は、単結合又はフルオレン基を表し、
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、炭素数１～４のアルキレン基を表し、好ましくは炭素数２のアルキレン基を表し、
ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０～６の整数を表し、好ましくは０～２の整数を表し、より好ましくは０又は１を表し、
a及びｂは、それぞれ独立に、０～１０の整数を表し、好ましくは１～３の整数を表し、より好ましくは１を表す。
構成単位（Ｂ）は、下記式（２）で表されるジオールに由来する。
一般式（２）中、Ｒａ及びＲｂは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシル基、炭素数５～２０のシクロアルキル基、炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、炭素数６～２０のアリール基、Ｏ、Ｎ及びＳから選択される１つ以上のヘテロ環原子を含む炭素数６～２０のヘテロアリール基又は炭素数６～２０のアリールオキシ基、ならびに－Ｃ≡Ｃ－Ｒｈからなる群より選択され、
Ｒｈは炭素数６～２０のアリール基、又はＯ、Ｎ及びＳから選択される１つ以上のヘテロ環原子を含む炭素数６～２０のヘテロアリール基を表し、
Ｘ１は、単結合又はフルオレン基を表し、
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、炭素数１～４のアルキレン基を表し、好ましくは炭素数２のアルキレン基を表し、
ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０～６の整数を表し、好ましくは０～２の整数を表し、より好ましくは０又は１を表し、
a及びｂは、それぞれ独立に、０～１０の整数を表し、好ましくは１～３の整数を表し、より好ましくは１を表す。
一般式（２）におけるＲａ及びＲｂは、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、ナフチル基又は下記からなる群より選択される置換基を表すことが好ましい。
上記ナフチル基としては、例えば以下が挙げられる。
一般式（２）におけるＲａ及びＲｂは、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は
を表すことが好ましい。
を表すことが好ましい。
一般式（２）で表される構成単位（Ｂ）は、下記一般式（２ａ）で表される構成単位及び下記一般式（２ｂ）で表される構成単位の少なくとも一つを含むことが好ましい。
一般式（２ａ）中、Ｒａ、Ｒｂ、Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ一般式（２）におけるものと同義である。
一般式（２ｂ）中、Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ一般式（２）におけるものと同義である。Ｒｅ及びＲｆは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシル基、炭素数５～２０のシクロアルキル基、炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、炭素数６～２０のアリール基、及び炭素数６～２０のアリールオキシ基からなる群より選択される。Ｒｅ及びＲｆは、より好ましくは、それぞれ独立に、水素原子、フェニル基、ナフチル基、又はメチル基を表し、特に好ましくは水素原子を表す。
一般式（２ａ）中、Ｒａ、Ｒｂ、Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ一般式（２）におけるものと同義である。
一般式（２ｂ）中、Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ一般式（２）におけるものと同義である。Ｒｅ及びＲｆは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシル基、炭素数５～２０のシクロアルキル基、炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、炭素数６～２０のアリール基、及び炭素数６～２０のアリールオキシ基からなる群より選択される。Ｒｅ及びＲｆは、より好ましくは、それぞれ独立に、水素原子、フェニル基、ナフチル基、又はメチル基を表し、特に好ましくは水素原子を表す。
本実施形態の樹脂組成物において、構成単位（Ａ）と構成単位（Ｂ）との質量比（Ａ／Ｂ）は、９９／１～１／９９であることが好ましく、９５／５～５／９５であることがより好ましく、９０／１０～１０／９０であることが特に好ましい。
（２）構成単位（Ｃ）
構成単位（Ｃ）は、下記式（３）で表されるジオールに由来する。
一般式（３）中、Ｒｃ及びＲｄは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシル基、炭素数５～２０のシクロアルキル基、炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、及び炭素数６～２０のアリール基からなる群より選択され、好ましくは、水素原子、メチル基、又はフェニル基を表し、
Ｙ１は、フルオレン基を表し、
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、炭素数１～４のアルキレン基を表し、好ましくは炭素数２のアルキレン基を表し、
ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、好ましくは０～２の整数を表し、より好ましくは０又は１を表し、
a及びｂは、それぞれ独立に、０～１０の整数を表し、好ましくは１～３の整数を表し、より好ましくは１を表す。
構成単位（Ｃ）は、下記式（３）で表されるジオールに由来する。
一般式（３）中、Ｒｃ及びＲｄは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシル基、炭素数５～２０のシクロアルキル基、炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、及び炭素数６～２０のアリール基からなる群より選択され、好ましくは、水素原子、メチル基、又はフェニル基を表し、
Ｙ１は、フルオレン基を表し、
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、炭素数１～４のアルキレン基を表し、好ましくは炭素数２のアルキレン基を表し、
ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、好ましくは０～２の整数を表し、より好ましくは０又は１を表し、
a及びｂは、それぞれ独立に、０～１０の整数を表し、好ましくは１～３の整数を表し、より好ましくは１を表す。
一般式（３）で表される構成単位（Ｃ）は、下記一般式（３ａ）で表される構成単位を含むことが好ましい。
一般式（３ａ）中、Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ一般式（３）におけるものと同義である。Ｒｅ及びＲｆは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシル基、炭素数５～２０のシクロアルキル基、炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、炭素数６～２０のアリール基、及び炭素数６～２０のアリールオキシ基からなる群より選択される。Ｒｅ及びＲｆは、より好ましくは、それぞれ独立に、水素原子、フェニル基、ナフチル基、又はメチル基を表し、特に好ましくは水素原子を表す。
一般式（３ａ）中、Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ一般式（３）におけるものと同義である。Ｒｅ及びＲｆは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシル基、炭素数５～２０のシクロアルキル基、炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、炭素数６～２０のアリール基、及び炭素数６～２０のアリールオキシ基からなる群より選択される。Ｒｅ及びＲｆは、より好ましくは、それぞれ独立に、水素原子、フェニル基、ナフチル基、又はメチル基を表し、特に好ましくは水素原子を表す。
３－２．構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂の物性
本発明の樹脂組成物に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂は、構成単位（Ｂ）及び構成単位（Ｃ）の少なくとも一方を含み、好ましくは構成単位（Ｂ）又は構成単位（Ｃ）のいずれか一方から実質的になる。例えば、本発明の樹脂組成物に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂の構成単位のうち、好ましくは９０％以上、より好ましくは９５%以上、さらに好ましくは９８％以上が構成単位（Ｂ）又は構成単位（Ｃ）から構成される。
本発明の樹脂組成物に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂は、構成単位（Ｂ）及び構成単位（Ｃ）の少なくとも一方を含み、好ましくは構成単位（Ｂ）又は構成単位（Ｃ）のいずれか一方から実質的になる。例えば、本発明の樹脂組成物に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂の構成単位のうち、好ましくは９０％以上、より好ましくは９５%以上、さらに好ましくは９８％以上が構成単位（Ｂ）又は構成単位（Ｃ）から構成される。
本発明の樹脂組成物に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂が、構成単位（Ｂ）及び構成単位（Ｃ）の両方を含む場合、これらの構成単位がどのように樹脂に含まれるかは特に限定されない。本発明の一態様において、構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂は、構成単位（Ｂ）及び構成単位（Ｃ）を含む共重合体を含んでいてもよく、それぞれの構成単位からなるホモポリマーを含む二元系樹脂であってもよい。
本発明の樹脂組成物に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂は、ランダム、ブロック及び交互共重合構造のいずれを含んでもよい。本発明の樹脂組成物に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂は、ポリカーボネート樹脂又はポリエステルカーボネート樹脂である。
本実施形態において、構成単位（Ｂ）及び構成単位（Ｃ）を含む樹脂は、本発明の効果を有する限り特に限定されないが、下記（１）～（３）のいずれか一つ以上を満たすことが好ましく、下記（１）～（３）の全てを満たすことが更に好ましい。
（１）質量平均分子量（Ｍｗ）
本発明の樹脂組成物に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂の好ましい質量平均分子量（Ｍｗ）は、１０，０００～１００，０００である。なお本明細書において、「質量平均分子量（Ｍｗ）」とは、「ポリスチレン換算質量平均分子量（Ｍｗ）」を意味する。
本発明の樹脂組成物に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂の好ましい質量平均分子量（Ｍｗ）は、１０，０００～１００，０００である。なお本明細書において、「質量平均分子量（Ｍｗ）」とは、「ポリスチレン換算質量平均分子量（Ｍｗ）」を意味する。
より好ましくは、ポリスチレン換算質量平均分子量（Ｍｗ）は、１０，０００～５０，０００であり、さらに好ましくは１５，０００～４５，０００であり、さらにより好ましくは２０，０００～４０，０００である。
Ｍｗが１０，０００より小さいと、成形体が脆くなるため好ましくない。Ｍｗが１００，０００より大きいと、溶融粘度が高くなるため製造後の樹脂の取り出しが困難になり、更には流動性が悪くなり溶融状態で射出成形しにくくなるため好ましくない。
（２）屈折率（ｎｄ）
本発明の樹脂組成物に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂の２３℃、波長５８７．６ｎｍにおける屈折率（ｎｄ）は、好ましくは１．６３５～１．６９５、より好ましくは１．６４０～１．６９０、さらに好ましくは１．６４５～１．６８５であり、特に好ましくは１．６６０～１．６８５である。本発明に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂は、屈折率（ｎｄ）が高く、光学レンズ材料に適している。屈折率は、後述する実施例に記載された方法によって測定することができる。
本発明の樹脂組成物に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂の２３℃、波長５８７．６ｎｍにおける屈折率（ｎｄ）は、好ましくは１．６３５～１．６９５、より好ましくは１．６４０～１．６９０、さらに好ましくは１．６４５～１．６８５であり、特に好ましくは１．６６０～１．６８５である。本発明に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂は、屈折率（ｎｄ）が高く、光学レンズ材料に適している。屈折率は、後述する実施例に記載された方法によって測定することができる。
（３）アッベ数（νｄ）
本発明の樹脂組成物に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂のアッベ数（νｄ）は、好ましくは７０以下、より好ましくは３０以下、さらに好ましくは２４以下、さらにより好ましくは２２以下、特に好ましくは２０以下である。アッベ数の下限は、１４、１６、１７、又は１８程度である。アッベ数は、後述する実施例に記載された方法によって測定することができる。
本発明の樹脂組成物に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂のアッベ数（νｄ）は、好ましくは７０以下、より好ましくは３０以下、さらに好ましくは２４以下、さらにより好ましくは２２以下、特に好ましくは２０以下である。アッベ数の下限は、１４、１６、１７、又は１８程度である。アッベ数は、後述する実施例に記載された方法によって測定することができる。
３－３．構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂の製造方法
構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂の製造方法について、構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂がポリカーボネート樹脂である場合を例に説明する。
構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂の製造方法について、構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂がポリカーボネート樹脂である場合を例に説明する。
本発明に用いる構成単位（Ｂ）を含むポリカーボネート樹脂を製造する場合は、下記一般式（２ａ）で表される化合物及び下記一般式（２ｂ）で表される化合物の少なくとも一つをジヒドロキシ成分として使用し、炭酸ジエステルなどのカーボネート前駆物質と反応させることで好ましく製造することができる。具体的には、上記ジヒドロキシ成分及び炭酸ジエステルなどのカーボネート前駆物質を、塩基性化合物触媒もしくはエステル交換触媒もしくはその双方からなる混合触媒の存在下、又は無触媒下において、溶融重縮合法により反応させて製造することができる。
一般式（２ａ）中、Ｒａ、Ｒｂ、Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ上述の通りである。
一般式（２ａ）中、Ｒａ、Ｒｂ、Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ上述の通りである。
一般式（２ａ）で表されるジヒドロキシ化合物の例として、２，２’－ビス（１－ヒドロキシメトキシ）－１，１’－ビナフタレン、２，２’－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）－１，１’－ビナフタレン、２，２’－ビス（３－ヒドロキシプロピルオキシ）－１，１’－ビナフタレン、２，２’－ビス（４－ヒドロキシブトキシ）－１，１’－ビナフタレン等が挙げられる。なかでも２，２’－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）－１，１’－ビナフタレン（以下“ＢＮＥ”と省略することがある）が好ましい。これらは単独で使用してもよく、又は二種以上組み合わせて用いてもよい。
一般式（２ａ）中のａ及びｂが同一でない（すなわちａ≠ｂ）化合物は、一般式（２ａ）の化合物を主成分とするモノマー中で合計で５０ｐｐｍ以下であることが好ましく、２０ｐｐｍ以下であることがより好ましい。
一般式（２ｂ）中、Ｒｅ、Ｒｆ、Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ上述の通りである。
一般式（２ｂ）の化合物としては、９，９－ビス（ヒドロキシ（ポリ）アルコキシナフチル）フルオレン類が挙げられる。例えば、一般式（２ｂ）の化合物として、９，９－ビス［６－（１－ヒドロキシメトキシ）ナフタレン－２－イル］フルオレン、９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシエトキシ）ナフタレン－２－イル］フルオレン、９，９－ビス［６－（３－ヒドロキシプロポキシ）ナフタレン－２－イル］フルオレン、及び９，９－ビス［６－（４－ヒドロキシブトキシ）ナフタレン－２－イル］フルオレンなどが挙げられる。なかでも９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシエトキシ）ナフタレン－２－イル］フルオレンが好ましい。これらは単独で使用してもよく、又は二種以上組み合わせて用いてもよい。
一般式（２ｂ）の化合物を製造する際、原料の一つであるフルオレノンが不純物として含まれることがある。フルオレノンの含有量は、一般式（２ｂ）の化合物を主成分とするモノマー中で、１０００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１００ｐｐｍ以下であることがより好ましく、５０ｐｐｍ以下であることがさらに好ましく、１０ｐｐｍ以下であることが特に好ましい。一般式（２ｂ）の化合物を主成分とするモノマー中に含まれるフルオレノンは、重合後に樹脂中に残存する場合がある。フルオレノンの含有量が少ないほど、樹脂の色相が良好となるため好ましい。さらに、不純物ではないが、一般式（２ｂ）中のａ及びｂが同一でない（すなわちａ≠ｂ）化合物は、一般式（２ｂ）の化合物を主成分とするモノマー中で合計で５０ｐｐｍ以下であることが好ましく、２０ｐｐｍ以下であることがより好ましい。
一般式（２ｂ）の化合物は、種々の合成方法で製造することができる。例えば、特許第5442800号公報に記載のように、（a）塩化水素ガス及びメルカプトカルボン酸の存在下、フルオレノン類とヒドロキシナフタレン類とを反応させる方法、（b）酸触媒（及びアルキルメルカプタン）の存在下、９－フルオレノンとヒドロキシナフタレン類とを反応させる方法、（c）塩酸及びチオール類（メルカプトカルボン酸など）の存在下、フルオレノン類とヒドロキシナフタレン類とを反応させる方法、（d）硫酸及びチオール類（メルカプトカルボン酸など）の存在下、フルオレノン類とヒドロキシナフタレン類とを反応させ、炭化水素類と極性溶媒とで構成された晶析溶媒で晶析させてビスナフトールフルオレンを製造する方法などを利用して９，９－ビス（ヒドロキシナフチル）フルオレン類を得、これに[ＡＯ]ａ基及び[ＢＯ]ｂ基に対応する化合物（アルキレンオキサイドやハロアルカノールなど）を反応させることにより製造することができる。例えば、９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシエトキシ）ナフチル］フルオレンは、９，９－ビス［６－ヒドロキシナフチル］フルオレンと２－クロロエタノールとをアルカリ条件下にて反応させることにより得てもよい。
本発明に用いる構成単位（Ｃ）を含むポリカーボネート樹脂を製造する場合は、下記一般式（３ａ）で表される化合物をジヒドロキシ成分（「ジオール」ともいう）として使用し、炭酸ジエステルなどのカーボネート前駆物質と反応させることで好ましく製造することができる。具体的には、上記ジヒドロキシ成分及び炭酸ジエステルなどのカーボネート前駆物質を、塩基性化合物触媒もしくはエステル交換触媒もしくはその双方からなる混合触媒の存在下、又は無触媒下において、溶融重縮合法により反応させて製造することができる。
一般式（３ａ）中、Ｒｅ、Ｒｆ、Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ上述の通りである。
一般式（３ａ）中、Ｒｅ、Ｒｆ、Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ上述の通りである。
一般式（３ａ）で表されるジヒドロキシ化合物の例として、９，９－ビス[４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル]フルオレン、９，９－ビス[４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－メチルフェニル]フルオレン、９，９－ビス[４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル]フルオレン、９，９－ビス[４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－イソプロピルフェニル]フルオレン、９，９－ビス[４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－シクロヘキシルフェニル]フルオレン、９，９－ビス[４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－フェニルフェニル]フルオレン（以下“ＢＰＰＥＦ”と省略することがある）等が挙げられる。なかでも９，９－ビス[４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル]フルオレン及び９，９－ビス[４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－フェニルフェニル]フルオレンが好ましく、さらに９，９－ビス[４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－フェニルフェニル]フルオレン（ＢＰＰＥＦ）が好ましい。これらは単独で使用してもよく、又は二種以上組み合わせて用いてもよい。
一般式（３ａ）中のａ及びｂが同一でない（すなわちａ≠ｂ）化合物は一般式（３ａ）の化合物を主成分とするモノマー中で合計で５０ｐｐｍ以下であることが好ましく、２０ｐｐｍ以下であることがより好ましい。
上記以外に併用することができる芳香族ジヒドロキシ化合物として、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡＰ、ビスフェノールＡＦ、ビスフェノールＢ、ビスフェノールＢＰ、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＥ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＧ、ビスフェノールＭ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＰ、ビスフェノールＰＨ、ビスフェノールＴＭＣ、及びビスフェノールＺ等が例示される。
本発明に用いられる炭酸ジエステルとしては、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ－クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等が挙げられる。これらの中でも特に、ジフェニルカーボネートが好ましい。ジフェニルカーボネートは、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して０．９７～１．２０モルの比率で用いられることが好ましく、より好ましくは０．９８～１．１０モルの比率であり、さらに好ましくは１．００～１．１０モルの比率である。
エステル交換触媒のうち、塩基性化合物触媒としては、特にアルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、及び含窒素化合物等が挙げられる。
本発明に使用されるアルカリ金属化合物としては、例えばアルカリ金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リチウム、フェニルリン酸２ナトリウム、ビスフェノールＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２セシウム塩もしくは２リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩もしくはリチウム塩等が用いられる。
アルカリ土類金属化合物としては、例えばアルカリ土類金属化合物の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム等が用いられる。
含窒素化合物としては、例えば４級アンモニウムヒドロキシド及びそれらの塩、アミン類等が挙げられる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル基、アリール基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類；トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類；ジエチルアミン、ジブチルアミン等の２級アミン類；プロピルアミン、ブチルアミン等の１級アミン類；２－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類；あるいは、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基もしくは塩基性塩等が用いられる。
エステル交換触媒としては、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛等の塩が好ましく用いられ、これらは単独もしくは組み合わせて用いることができる。
エステル交換触媒としては、具体的には、酢酸亜鉛、安息香酸亜鉛、２－エチルヘキサン酸亜鉛、塩化スズ（II）、塩化スズ（IV）、酢酸スズ（II）、酢酸スズ（IV）、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジメトキシド、ジルコニウムアセチルアセトナート、オキシ酢酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラブトキシド、酢酸鉛（II）、酢酸鉛（IV）等が用いられる。
これらの触媒は、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して、１×１０－９～１×１０－３モルの比率で、好ましくは１×１０－７～１×１０－４モルの比率で用いられる。
溶融重縮合法は、前記の原料及び触媒を用いて、加熱下で、さらに常圧又は減圧下で、エステル交換反応により副生成物を除去しながら溶融重縮合を行うものである。
本組成系での溶融重縮合は、上述したジヒドロキシ成分及び炭酸ジエステルを反応容器中で溶融後、副生するモノヒドロキシ化合物を滞留させた状態で、反応を行うことが望ましい。滞留させるために、反応装置を閉塞したり、減圧したり加圧したりするなど圧力を制御することができる。この工程の反応時間は、２０分以上２４０分以下であり、好ましくは４０分以上１８０分以下、特に好ましくは６０分以上１５０分以下である。この際、副生するモノヒドロキシ化合物を生成後すぐに留去すると、最終的に得られるポリカーボネート樹脂は高分子量体の含有量が少ない。しかし、副生したモノヒドロキシ化合物を反応容器中に一定時間滞留させると、最終的に得られるポリカーボネート樹脂は高分子量体の含有量が多いものが得られる。
溶融重縮合反応は、連続式で行ってもよくまたバッチ式で行ってもよい。反応を行うに際して用いられる反応装置は、錨型攪拌翼、マックスブレンド攪拌翼、ヘリカルリボン型攪拌翼等を装備した縦型であっても、パドル翼、格子翼、メガネ翼等を装備した横型であっても、スクリューを装備した押出機型であってもよい。また、重合物の粘度を勘案してこれらの反応装置を適宜組み合わせた反応装置を使用することが好適に実施される。
本発明に使用される構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂の製造方法では、重合反応終了後、熱安定性及び加水分解安定性を保持するために、触媒を除去もしくは失活させてもよい。既知の酸性物質の添加による触媒の失活を行う方法を好適に実施できる。酸性物質としては、具体的には、安息香酸ブチル等のエステル類、ｐ－トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類；ｐ－トルエンスルホン酸ブチル、ｐ－トルエンスルホン酸ヘキシル等の芳香族スルホン酸エステル類；亜リン酸、リン酸、ホスホン酸等のリン酸類；亜リン酸トリフェニル、亜リン酸モノフェニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジｎ－プロピル、亜リン酸ジｎ－ブチル、亜リン酸ジｎ－ヘキシル、亜リン酸ジオクチル、亜リン酸モノオクチル等の亜リン酸エステル類；リン酸トリフェニル、リン酸ジフェニル、リン酸モノフェニル、リン酸ジブチル、リン酸ジオクチル、リン酸モノオクチル等のリン酸エステル類；ジフェニルホスホン酸、ジオクチルホスホン酸、ジブチルホスホン酸等のホスホン酸類；フェニルホスホン酸ジエチル等のホスホン酸エステル類；トリフェニルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン等のホスフィン類；ホウ酸、フェニルホウ酸等のホウ酸類；ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等の芳香族スルホン酸塩類；ステアリン酸クロライド、塩化ベンゾイル、ｐ－トルエンスルホン酸クロライド等の有機ハロゲン化物；ジメチル硫酸等のアルキル硫酸；塩化ベンジル等の有機ハロゲン化物等が好適に用いられる。これらの失活剤は、触媒量に対して０．０１～５０倍モル、好ましくは０．３～２０倍モル使用される。触媒量に対して０．０１倍モルより少ないと、失活効果が不充分となり好ましくない。また、触媒量に対して５０倍モルより多いと、樹脂の耐熱性が低下し、成形体が着色しやすくなるため好ましくない。
触媒失活後、ポリマー中の低沸点化合物を、０．１～１ｍｍＨｇの圧力、２００～３５０℃の温度で脱揮除去する工程を設けてもよい。この工程には、パドル翼、格子翼、メガネ翼等、表面更新能の優れた攪拌翼を備えた横型装置、あるいは薄膜蒸発器が好適に用いられる。
本発明に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂は、異物含有量が極力少ないことが望まれ、溶融原料の濾過、触媒液の濾過等が好適に実施される。フィルターのメッシュは、５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１μｍ以下である。さらに、生成する樹脂のポリマーフィルターによる濾過が好適に実施される。ポリマーフィルターのメッシュは、１００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３０μｍ以下である。また、樹脂ペレットを採取する工程は、当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。
構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂を用意した後、該樹脂に酸化防止剤などの添加剤を添加することが好ましい。添加方法は特に限定されず、任意の方法で行ってよい。例えば、構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂を入れた容器に後から添加剤を添加してもよいし、予め添加剤を入れた容器に後から構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂を入れてもよいし、構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂と添加剤とを同時に一つの容器に入れてもよい。具体的には、ターンブルミキサー、ヘンシェルミキサー、リボンブレンダー、スーパーミキサー、ロールミキサー又はタンブラーミキサーを用いて、ペレット状の構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂に添加剤を付着させてもよい。このような添加方法によれば、構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂を含む樹脂組成物中に添加剤を均一に分散することができ、熱履歴を少なくすることができるため好ましい。また、ペレット状の構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂と、構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂の一部へ高濃度で添加剤を溶融混練したペレット同士とを混合してもよい。
構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂へ添加剤を添加した後、これらを溶融混練することが好ましい。溶融混練の方法は特に限定されず、任意の方法で行ってよい。例えば、溶融混練は一軸又は二軸押出機、バンバリーミキサー、スタティックミキサー等の既知の混練方法で行ってもよい。構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂は添加剤の添加前にペレット化していてもよい。ペレット化の方法は特に限定されず、任意の方法を用いることができる。また、溶融混練によって得られた構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂をペレット化してもよく、ここでのペレット化の方法も任意の方法を用いることができる。
本発明の樹脂組成物に用いる構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂には、本実施形態の目的を損なわない範囲で、酸化防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、着色剤、光安定剤、滑剤、可塑剤、流動性改質剤、増粘剤、難燃剤、結晶核剤、相溶化剤、強化剤、増量剤、染料、帯電防止剤、抗菌剤、艶消し剤、乾燥調節剤、沈降防止剤、界面活性剤、乾燥油、ワックス類、フィラー、補強剤、表面平滑剤、レベリング剤、重合金属不活性化剤、硬化反応促進剤、ブルーイング剤等の各種添加剤、成形助剤等を添加してもよい。
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、環状イミノエステル系紫外線吸収剤及びシアノアクリレート系紫外線吸収剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収剤が好ましい。すなわち、以下に挙げる紫外線吸収剤は、いずれかを単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２－（２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジクミルフェニル）フェニルベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２，２’－メチレンビス［４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－（２Ｎ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール］、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－アミルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－４－オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２，２’－メチレンビス（４－クミル－６－ベンゾトリアゾールフェニル）、２，２’－ｐ－フェニレンビス（１，３－ベンゾオキサジン－４－オン）、２－［２－ヒドロキシ－３－（３，４，５，６－テトラヒドロフタルイミドメチル）－５－メチルフェニル］ベンゾトリアゾ－ル等が挙げられる。
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－オクトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ベンジロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホキシトリハイドライドレイトベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４，４’－ジメトキシベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４，４’－ジメトキシ－５－ソジウムスルホキシベンゾフェノン、ビス（５－ベンゾイル－４－ヒドロキシ－２－メトキシフェニル）メタン、２－ヒドロキシ－４－ｎ－ドデシルオキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－２’－カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。
トリアジン系紫外線吸収剤としては、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［（ヘキシル）オキシ］－フェノール、２－（４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［（オクチル）オキシ］－フェノール等が挙げられる。
環状イミノエステル系紫外線吸収剤としては、２，２’－ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２’－ｐ－フェニレンビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２’－ｍ－フェニレンビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２’－（４，４’－ジフェニレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２’－（２，６－ナフタレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２’－（１，５－ナフタレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２’－（２－メチル－ｐ－フェニレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２’－（２－ニトロ－ｐ－フェニレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）及び２，２’－（２－クロロ－ｐ－フェニレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）などが挙げられる。
シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、１，３－ビス－［（２’－シアノ－３’，３’－ジフェニルアクリロイル）オキシ］－２，２－ビス［（２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリロイル）オキシ］メチル）プロパン、及び１，３－ビス－［（２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリロイル）オキシ］ベンゼンなどが挙げられる。
紫外線吸収剤の含有量は、構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．０１～３．０質量部であり、より好ましくは０．０２～１．０質量部であり、さらに好ましくは０．０５～０．８質量部である。かかる配合量の範囲であれば、用途に応じ、構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂に十分な耐候性を付与することが可能である。
ブルーイング剤としては、例えば、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ１３［ＣＡ．Ｎｏ（カラーインデックスＮｏ）６０７２５；商標名 ランクセス社製「マクロレックスバイオレットＢ」、三菱化学（株）製「ダイアレジンブルーＧ」、住友化学工業（株）製「スミプラストバイオレットＢ」］、Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ１４、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ３１［ＣＡ．Ｎｏ６８２１０；商標名 三菱化学（株）製「ダイアレジンバイオレットＤ」］、Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ３３［ＣＡ．Ｎｏ６０７２５；商標名 三菱化学（株）製「ダイアレジンブルーＪ」］、Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ３６［ＣＡ．Ｎｏ６８２１０；商標名 ランクセス社製「マクロレックスバイオレット３Ｒ」］、Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂｌｕｅ４５［ＣＡ．Ｎｏ６１１１０；商標名 サンド社製「テトラゾールブルーＲＬＳ」］、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂｌｕｅ９４［ＣＡ．Ｎｏ６１５００；商標名 三菱化学（株）製「ダイアレジンブルーＮ」］、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂｌｕｅ９７［ランクセス社製「マクロレックスブルーＲＲ」］、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂｌｕｅ４５、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂｌｕｅ８７及び一般名Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｖｉｏｌｅｔ２８が挙げられる。ブルーイング剤は光学レンズの黄色味を打ち消すために添加され、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。ブルーイング剤の添加量は、構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．００００１～０．００５質量部であり、より好ましくは０．００００１～０．０００５質量部であり、さらに好ましくは０．００００１～０．０００２質量部である。
４．樹脂組成物の製造方法
樹脂組成物の製造方法は特に制限されず、既知の方法により製造することができる。一実施形態において、樹脂組成物の製造方法は、熱可塑性樹脂と配合剤とを混合する工程を含む。溶媒及び添加剤の少なくとも１つを混合する工程をさらに含んでいてもよい。例えば、熱可塑性樹脂に対して、配合剤及び添加剤を順次又は同時に添加して混合することにより、樹脂組成物を製造することができる。混合する工程は、常法により実施することができ、例えば、押出機により混練する方法や、樹脂及び配合剤をそれぞれ溶媒（例えばメチレンクロライドやＴＨＦ等）に溶解して溶液とした後に溶液同士を混合する方法等がある。
樹脂組成物の製造方法は特に制限されず、既知の方法により製造することができる。一実施形態において、樹脂組成物の製造方法は、熱可塑性樹脂と配合剤とを混合する工程を含む。溶媒及び添加剤の少なくとも１つを混合する工程をさらに含んでいてもよい。例えば、熱可塑性樹脂に対して、配合剤及び添加剤を順次又は同時に添加して混合することにより、樹脂組成物を製造することができる。混合する工程は、常法により実施することができ、例えば、押出機により混練する方法や、樹脂及び配合剤をそれぞれ溶媒（例えばメチレンクロライドやＴＨＦ等）に溶解して溶液とした後に溶液同士を混合する方法等がある。
本実施形態の樹脂組成物において、シロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂と、構成単位（Ｂ）及び構成単位（Ｃ）を含む樹脂との質量比（（Ａ）／（Ｂ＋Ｃ））は、９９／１～１／９９であることが好ましく、９５／５～３０／７０であることがより好ましく、９５／５～５０／５０であることが特に好ましい。
本実施形態の樹脂組成物は、本実施形態の所望とする効果を損なわない範囲で、本実施形態における構成単位（Ａ）を含む樹脂、構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）を含む樹脂以外の樹脂を併用することができる。そのような樹脂としては、特に限定されないが、例えば、本実施形態におけるポリシロキサン樹脂以外のポリシロキサン樹脂、本実施形態におけるポリカーボネート樹脂以外のポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、シクロオレフィン樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアセタール樹脂及びメチルメタクリレート－スチレン共重合樹脂からなる群より選択される少なくとも１つの樹脂が挙げられる。これらは種々既知のものを用いることができ、１種を単独で又は２種以上を併用して樹脂組成物に加えることができる。
本実施形態の樹脂組成物は、本実施形態の所望とする効果を損なわない範囲で、酸化防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、着色剤、光安定剤、滑剤、可塑剤、流動性改質剤、増粘剤、難燃剤、結晶核剤、相溶化剤、強化剤、増量剤、染料、帯電防止剤、抗菌剤、艶消し剤、乾燥調節剤、沈降防止剤、界面活性剤、乾燥油、ワックス類、フィラー、補強剤、表面平滑剤、レベリング剤、重合金属不活性化剤、硬化反応促進剤等の各種添加剤、成形助剤などを加えてもよい。
[酸化防止剤]
本実施形態の樹脂組成物は、成形時に樹脂が劣化することを防ぎ、金型汚れを防ぐことで安定成形を行う観点から酸化防止剤を含むことが好ましい。樹脂組成物中に含まれる酸化防止剤の量は、好ましくは０．００１～０．５０質量部、より好ましくは０．０１～０．４０質量部、特に好ましくは０．０５～０．３０質量部である。酸化防止剤の量を０．００１質量部以上とすることで熱安定性を向上する効果が奏され、かつ、０．５０質量部以下とすることで酸化防止剤の量が多過ぎることによる、屈折率の低下、Ｔｇの低下を抑制することができる。
本実施形態の樹脂組成物は、成形時に樹脂が劣化することを防ぎ、金型汚れを防ぐことで安定成形を行う観点から酸化防止剤を含むことが好ましい。樹脂組成物中に含まれる酸化防止剤の量は、好ましくは０．００１～０．５０質量部、より好ましくは０．０１～０．４０質量部、特に好ましくは０．０５～０．３０質量部である。酸化防止剤の量を０．００１質量部以上とすることで熱安定性を向上する効果が奏され、かつ、０．５０質量部以下とすることで酸化防止剤の量が多過ぎることによる、屈折率の低下、Ｔｇの低下を抑制することができる。
酸化防止剤として、一種類の酸化防止剤を用いてもよく、複数種類の酸化防止剤を組み合わせ用いてもよい。複数種類の酸化防止剤を用いる場合は、酸化防止剤の合計量が上記の数値範囲となるように調整すればよい。
本発明に用いる酸化防止剤としては、ホスファイト系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、エポキシ系酸化防止剤及びヒンダードアミン系酸化防止剤が挙げられるが、特にホスファイト系酸化防止剤又はフェノール系酸化防止剤が好ましく、ホスファイト系酸化防止剤及びフェノール系酸化防止剤を併用することがより好ましい。本発明の一実施形態において、本発明の樹脂組成物に含まれる酸化防止剤は、ホスファイト系酸化防止剤及び／又はフェノール系酸化防止剤である。ホスファイト系酸化防止剤としては、トリクレジルホスファイト、トリス（2-エチルヘキシル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリス（トリデシル）ホスファイト及びトリオレイルホスファイトや、株式会社ＡＤＥＫＡ製のアデカスタブＰＥＰ－８、アデカスタブＰＥＰ－３６、アデカスタブＨＰ－１０、アデカスタブ２１１２、アデカスタブ２１１２ＲＧ、アデカスタブ１１７８、アデカスタブ１５００、アデカスタブＣ、アデカスタブ１３５Ａ、アデカスタブ３０１０及びアデカスタブＴＰＰが挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、アデカスタブＰＥＰ３６（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、アデカスタブ１５００（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、及びアデカスタブ２１１２（株式会社ＡＤＥＫＡ製）は、それぞれ下記の構造を有する。
フェノール系酸化防止剤としては、下記一般式で示される化合物を好ましく挙げることができる。
上記一般式中、Ｒｐ１及びＲｐ２は、それぞれ独立して、炭素数１～１０の炭化水素基である。Ａは、エステル基、エーテル基及びアミド基から選ばれる官能基及び／又はリン原子を含有してもよい炭素数１～２０の炭化水素基である。Ｂは、酸素原子及び／又は窒素原子を含有してもよい炭素数１～６の炭化水素基、イオウ原子又は単結合である。ｇは、１～４の整数を示す。具体的には、１，６－ヘキサンジオール－ビス〔３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，２－チオ－ジエチレンビス〔３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－イソシアヌレート及びＮ，Ｎ’－ヘキサメチレンビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ヒドロシンナマイド）や、株式会社ＡＤＥＫＡ製のアデガスタブＡＯ-２０、アデカスタブＡＯ－３０、アデカスタブＡＯ－５０、アデカスタブＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブＡＯ－６０、アデカスタブＡＳＯ－６０ＧＡＯ－８０Ｇ及びアデカスタブＡＯ－３３０が挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、アデカスタブＡＯ６０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、アデカスタブＡＯ８０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、及びアデカスタブＡＯ５０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）は、それぞれ下記の構造を有する。
上記一般式中、Ｒｐ１及びＲｐ２は、それぞれ独立して、炭素数１～１０の炭化水素基である。Ａは、エステル基、エーテル基及びアミド基から選ばれる官能基及び／又はリン原子を含有してもよい炭素数１～２０の炭化水素基である。Ｂは、酸素原子及び／又は窒素原子を含有してもよい炭素数１～６の炭化水素基、イオウ原子又は単結合である。ｇは、１～４の整数を示す。具体的には、１，６－ヘキサンジオール－ビス〔３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，２－チオ－ジエチレンビス〔３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－イソシアヌレート及びＮ，Ｎ’－ヘキサメチレンビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ヒドロシンナマイド）や、株式会社ＡＤＥＫＡ製のアデガスタブＡＯ-２０、アデカスタブＡＯ－３０、アデカスタブＡＯ－５０、アデカスタブＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブＡＯ－６０、アデカスタブＡＳＯ－６０ＧＡＯ－８０Ｇ及びアデカスタブＡＯ－３３０が挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、アデカスタブＡＯ６０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、アデカスタブＡＯ８０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、及びアデカスタブＡＯ５０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）は、それぞれ下記の構造を有する。
[離型剤]
本実施形態の樹脂組成物は、成形加工時の樹脂組成物と成形機との摩擦を低減し、それにより樹脂の分子量低下や着色を防ぐ観点から離型剤を含むことが好ましい。樹脂組成物中に含まれる離型剤の量は、好ましくは０．００１～０．５０質量％、より好ましくは０．０１～０．４０質量％、特に好ましくは０．０５～０．３０質量％である。
本実施形態の樹脂組成物は、成形加工時の樹脂組成物と成形機との摩擦を低減し、それにより樹脂の分子量低下や着色を防ぐ観点から離型剤を含むことが好ましい。樹脂組成物中に含まれる離型剤の量は、好ましくは０．００１～０．５０質量％、より好ましくは０．０１～０．４０質量％、特に好ましくは０．０５～０．３０質量％である。
離型剤としては、その９０質量％以上がアルコールと脂肪酸とのエステルからなるものが好ましい。アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、具体的には一価アルコールと脂肪酸とのエステルや、多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルが挙げられる。上記一価アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、炭素原子数１～２０の一価アルコールと炭素原子数１０～３０の飽和脂肪酸とのエステルが好ましい。また、多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルとしては、炭素原子数１～２５の多価アルコールと炭素原子数１０～３０の飽和脂肪酸との部分エステル又は全エステルが好ましい。
具体的に、一価アルコールと飽和脂肪酸とのエステルとしては、ステアリルステアレート、パルミチルパルミテート、ブチルステアレート、メチルラウレート、イソプロピルパルミテート等が挙げられる。多価アルコールと飽和脂肪酸との部分エステル又は全エステルとしては、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸ジグリセリド、ステアリン酸トリグリセリド、ステアリン酸モノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、カプリン酸モノグリセリド、ラウリン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペンタエリスリトールテトラペラルゴネート、プロピレングリコールモノステアレート、ビフェニルビフェネ－ト、ソルビタンモノステアレート、２－エチルヘキシルステアレート、ジペンタエリスリトールヘキサステアレート等のジペンタエリスルトールの全エステル又は部分エステル等が挙げられる。これらのエステルのうち、ステアリン酸ステアリル、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸ジグリセリド又はステアリン酸トリグリセリドが好ましい。
５．樹脂組成物の物性
本発明の樹脂組成物は、低Ｔｇ化され高流動である。よって、本発明の樹脂組成物は、射出成形が可能である。樹脂組成物の物性については、下記及び実施例において詳細に説明する。
本発明の樹脂組成物は、低Ｔｇ化され高流動である。よって、本発明の樹脂組成物は、射出成形が可能である。樹脂組成物の物性については、下記及び実施例において詳細に説明する。
（１）ケイ素原子の合計質量割合（総Ｓｉ量）
本発明の一実施形態において、樹脂組成物の総Ｓｉ量は、０．０１～１０質量％であることが好ましく、０．１～６質量％であることがより好ましく、０．１～２質量％であることが更により好ましく、０．１～１質量％であることが更により一層好ましい。
本発明の一実施形態において、樹脂組成物の総Ｓｉ量は、０．０１～１０質量％であることが好ましく、０．１～６質量％であることがより好ましく、０．１～２質量％であることが更により好ましく、０．１～１質量％であることが更により一層好ましい。
（２）ガラス転移温度（Ｔｇ）
本発明の一実施形態において、樹脂組成物のガラス転移温度は、５０～１８０℃であることが好ましく、９０～１７５℃であることがより好ましく、１００～１７０℃であることが更により好ましく、１３０～１５０℃であることが更により一層好ましい。
本発明の一実施形態において、樹脂組成物のガラス転移温度は、５０～１８０℃であることが好ましく、９０～１７５℃であることがより好ましく、１００～１７０℃であることが更により好ましく、１３０～１５０℃であることが更により一層好ましい。
（３）屈折率（ｎｄ）
本発明の一実施形態において、樹脂組成物の屈折率は、１．５０～１．７５であることが好ましく、１．５５～１．７０であることがより好ましく、１．６０～１．７０であることが更により好ましく、１．６５～１．７０であることが更により一層好ましい。
本発明の一実施形態において、樹脂組成物の屈折率は、１．５０～１．７５であることが好ましく、１．５５～１．７０であることがより好ましく、１．６０～１．７０であることが更により好ましく、１．６５～１．７０であることが更により一層好ましい。
（４）アッベ数（ｖｄ）
本発明の一実施形態において、樹脂組成物のアッベ数は、１５～３５であることが好ましく、２０～３５であることがより好ましく、２０～３０であることが更により好ましく、２０～２５であることが更により一層好ましい。
本発明の一実施形態において、樹脂組成物のアッベ数は、１５～３５であることが好ましく、２０～３５であることがより好ましく、２０～３０であることが更により好ましく、２０～２５であることが更により一層好ましい。
（５）溶融粘度（ＭＶＲ／メルトボリュームフローレイト）
本発明の一実施形態において、樹脂組成物のＭＶＲ（２６０℃、荷重２．１６０ｋｇ）は、１０～５００ｃｍ３／１０分であることが好ましく、５０～５００ｃｍ３／１０分であることがより好ましく、１００～５００ｃｍ３／１０分であることが更により好ましく、２００～５００ｃｍ３／１０分であることが更により一層好ましい。
本発明の一実施形態において、樹脂組成物のＭＶＲ（２６０℃、荷重２．１６０ｋｇ）は、１０～５００ｃｍ３／１０分であることが好ましく、５０～５００ｃｍ３／１０分であることがより好ましく、１００～５００ｃｍ３／１０分であることが更により好ましく、２００～５００ｃｍ３／１０分であることが更により一層好ましい。
（６）透過率
本発明の一実施形態において、樹脂組成物の透過率は、７０～９９％であることが好ましく、７５～９９％であることがより好ましく、８０～９５％であることが更により好ましく、８５～９０％であることが更により一層好ましい。
本発明の一実施形態において、樹脂組成物の透過率は、７０～９９％であることが好ましく、７５～９９％であることがより好ましく、８０～９５％であることが更により好ましく、８５～９０％であることが更により一層好ましい。
（７）吸水率
本発明の一実施形態において、樹脂組成物の吸水率（大気下、２５℃、２４ｈｒ）は、１００～３０００ｐｐｍであることが好ましく、２００～２５００ｐｐｍであることがより好ましく、５００～２０００ｐｐｍであることが更により好ましく、１０００～２０００ｐｐｍであることが更により一層好ましい。
本発明の一実施形態において、樹脂組成物の吸水率（大気下、２５℃、２４ｈｒ）は、１００～３０００ｐｐｍであることが好ましく、２００～２５００ｐｐｍであることがより好ましく、５００～２０００ｐｐｍであることが更により好ましく、１０００～２０００ｐｐｍであることが更により一層好ましい。
６．成形品
本発明の樹脂組成物は、光学部材に好適に用いることができる。本発明の一実施形態において、本発明の樹脂組成物を含む光学部材が提供される。本発明の一実施形態において、光学部材には、光ディスク、透明導電性基板、光カード、シート、フィルム、光ファイバー、レンズ、プリズム、光学膜、基盤、光学フィルター、ハードコート膜等が含まれるが、これらに限定されない。本発明の樹脂組成物は、高流動でキャスト法による成形が可能であるため、特に薄型の光学部材の製造に好適である。本発明の好ましい実施形態において、本発明の樹脂組成物を用いて製造される光学部材は、光学レンズであってよい。本発明の別の好ましい実施形態において、本発明の樹脂組成物を用いて製造される光学部材は、光学フィルムであってよい。
本発明の樹脂組成物は、光学部材に好適に用いることができる。本発明の一実施形態において、本発明の樹脂組成物を含む光学部材が提供される。本発明の一実施形態において、光学部材には、光ディスク、透明導電性基板、光カード、シート、フィルム、光ファイバー、レンズ、プリズム、光学膜、基盤、光学フィルター、ハードコート膜等が含まれるが、これらに限定されない。本発明の樹脂組成物は、高流動でキャスト法による成形が可能であるため、特に薄型の光学部材の製造に好適である。本発明の好ましい実施形態において、本発明の樹脂組成物を用いて製造される光学部材は、光学レンズであってよい。本発明の別の好ましい実施形態において、本発明の樹脂組成物を用いて製造される光学部材は、光学フィルムであってよい。
本発明の樹脂組成物を含む光学部材を射出成形で製造する場合、シリンダー温度２６０～３５０℃、金型温度９０～１７０℃の条件にて成形することが好ましい。さらに好ましくは、シリンダー温度２７０～３２０℃、金型温度１００～１６０℃の条件にて成形することが好ましい。シリンダー温度が３５０℃より高い場合では、樹脂組成物が分解着色し、２６０℃より低い場合では、溶融粘度が高く成形が困難になりやすい。また金型温度が１７０℃より高い場合では、樹脂組成物からなる成形片が金型から取り出すことが困難になりやすい。他方、金型温度が、９０℃未満では、成形時の金型内で樹脂が早く固まり過ぎて成形片の形状が制御しにくくなったり、金型に付された賦型を十分に転写することが困難になったりしやすい。
[光学レンズ]
本発明の樹脂組成物を用いて製造される光学レンズは、高屈折率であり、低アッベ数であり、かつ、高い熱安定性を有するため、望遠鏡、双眼鏡、テレビプロジェクター等、従来、高価な高屈折率ガラスレンズが用いられていた分野に用いることができ、極めて有用である。必要に応じて、非球面レンズの形で用いることが好ましい。非球面レンズは、１枚のレンズで球面収差を実質的にゼロとすることが可能であるため、複数の球面レンズの組み合わせによって球面収差を取り除く必要がなく、軽量化及び生産コストの低減化が可能になる。従って、非球面レンズは、光学レンズの中でも特にカメラレンズとして有用である。
本発明の樹脂組成物を用いて製造される光学レンズは、高屈折率であり、低アッベ数であり、かつ、高い熱安定性を有するため、望遠鏡、双眼鏡、テレビプロジェクター等、従来、高価な高屈折率ガラスレンズが用いられていた分野に用いることができ、極めて有用である。必要に応じて、非球面レンズの形で用いることが好ましい。非球面レンズは、１枚のレンズで球面収差を実質的にゼロとすることが可能であるため、複数の球面レンズの組み合わせによって球面収差を取り除く必要がなく、軽量化及び生産コストの低減化が可能になる。従って、非球面レンズは、光学レンズの中でも特にカメラレンズとして有用である。
光学レンズは、例えば射出成形法、圧縮成形法、射出圧縮成形法など任意の方法により成形される。本発明により、ガラスレンズでは技術的に加工の困難な高屈折率低複屈折非球面レンズをより簡便に得ることができる。
光学レンズへの異物の混入を極力避けるため、成形環境も当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。
[光学フィルム]
本発明の樹脂組成物を用いて製造される光学フィルムは、透明性及び熱安定性に優れるため、液晶基板用フィルム、光メモリーカード等に好適に使用される。
本発明の樹脂組成物を用いて製造される光学フィルムは、透明性及び熱安定性に優れるため、液晶基板用フィルム、光メモリーカード等に好適に使用される。
成形方法としては、射出成形の他、圧縮成形、注型、ロール加工、押出成形、延伸などが例示されるがこれに限らない。
本発明のポリカーボネート樹脂を射出成形に使用する場合、好ましいガラス転移温度（Ｔｇ）は９０～１８０℃であり、より好ましくは９５～１７５℃であり、さらに好ましくは１００～１７０℃、さらにより好ましくは１３０～１７０℃、特に好ましくは１３５～１５０℃である。Ｔｇが９０℃より低いと、使用温度範囲が狭くなるため好ましくない。また１８０℃を越えると、樹脂の溶融温度が高くなり、樹脂の分解や着色が発生しやすくなるため好ましくない。樹脂のガラス転移温度が高すぎると、汎用の金型温調機では、金型温度と樹脂ガラス転移温度の差が大きくなってしまう。そのため、製品に厳密な面精度が求められる用途においては、ガラス転移温度が高すぎる樹脂の使用は難しく、好ましくない。また、成形流動性及び成形耐熱性の観点からは、Ｔｇの下限値は１３０℃が好ましく、１３５℃がより好ましく、Ｔｇの上限値は、１６０℃が好ましく、１５０℃がより好ましい。
光学フィルムへの異物の混入を極力避けるため、成形環境も当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。
以下に本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に何らの制限を受けるものではない。なお、実施例中の測定値は以下の方法あるいは装置を用いて測定した。
＜シロキサン樹脂、ポリカーボネート樹脂、及び樹脂組成物の評価方法＞
（１）ポリスチレン換算質量平均分子量（Ｍｗ）
ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）を用い、クロロホルムを展開溶媒として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレン（Ｓｈｏｄｅｘ ＳＴＡＮＤＡＲＤ、ＳＭ－１０５）を用いて検量線を作成した。測定した標準ポリスチレンから各ピークの溶出時間と分子量値をプロットし、３次式による近似を行い、較正曲線とした。
（１）ポリスチレン換算質量平均分子量（Ｍｗ）
ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）を用い、クロロホルムを展開溶媒として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレン（Ｓｈｏｄｅｘ ＳＴＡＮＤＡＲＤ、ＳＭ－１０５）を用いて検量線を作成した。測定した標準ポリスチレンから各ピークの溶出時間と分子量値をプロットし、３次式による近似を行い、較正曲線とした。
そして、得られた較正曲線を基に、下記式から、質量平均分子量（Ｍｗ）をポリスチレン換算値として求めた。
［計算式］
Ｍｗ＝Σ（Ｗｉ×Ｍｉ）／Σ（Ｗｉ）
（上記式中、ｉは、分子量Ｍを分割した際のｉ番目の分割点、Ｗｉはｉ番目の質量、Ｍｉはｉ番目の分子量を表す。また、分子量Ｍは、較正曲線の同溶出時間でのポリスチレン換算での分子量を表す。）
［測定条件］
・装置：株式会社島津製作所社製Ｌａｂｓｏｌｕｔｉｏｎｓ
・カラム：ガードカラム（Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ Ｋ－Ｇ ４Ａ）×１本、分析カラム（Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ Ｋ－８０５Ｌ）×２本
・溶媒：クロロホルム（ＨＰＬＣグレード）
・注入量：１０μＬ
・試料濃度：２０００ｐｐｍ
・溶媒流速：１ｍＬ／ｍｉｎ
・測定温度：４０℃
・検出器：ＲＩ
［計算式］
Ｍｗ＝Σ（Ｗｉ×Ｍｉ）／Σ（Ｗｉ）
（上記式中、ｉは、分子量Ｍを分割した際のｉ番目の分割点、Ｗｉはｉ番目の質量、Ｍｉはｉ番目の分子量を表す。また、分子量Ｍは、較正曲線の同溶出時間でのポリスチレン換算での分子量を表す。）
［測定条件］
・装置：株式会社島津製作所社製Ｌａｂｓｏｌｕｔｉｏｎｓ
・カラム：ガードカラム（Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ Ｋ－Ｇ ４Ａ）×１本、分析カラム（Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ Ｋ－８０５Ｌ）×２本
・溶媒：クロロホルム（ＨＰＬＣグレード）
・注入量：１０μＬ
・試料濃度：２０００ｐｐｍ
・溶媒流速：１ｍＬ／ｍｉｎ
・測定温度：４０℃
・検出器：ＲＩ
（２）ケイ素原子の合計質量割合（総Ｓｉ量）
重クロロホルムを溶媒として５質量％の樹脂組成物を含む試料を調製し、１Ｈ－ＮＭＲを測定した。ＮＭＲスペクトルより、樹脂組成物全体の骨格由来のピークの積分値から算出されるモル比（モル％）（Ｐ）とシロキサン構成単位（Ａ）の骨格由来のピークの積分値から算出されるモル比（モル％）（Ｑ）とを求め、（Ｐ）と（Ｑ）の差より構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）の骨格由来のピークの積分値から算出されるモル比（モル％）（Ｒ）を得た。次に、（Ｑ）×ジオール骨格（シロキサン構成単位（Ａ））に対する分子量）＋（（Ｒ）×ジオール骨格（構成単位（Ｂ）及び構成単位（Ｃ））に対する分子量）より樹脂組成物を構成する全ポリマー質量（Ｓ）を算出した。（（Ｑ）×２８）より樹脂組成物全体に含まれるＳｉ質量（Ｔ）を算出し、{（Ｔ）／（Ｓ）}×１００より総Ｓｉ量（質量％）を求めた。
［樹脂組成物全体の骨格由来のピークの積分値（Ｐ）］－［シロキサン構成単位（Ａ）の骨格由来のピークの積分値（Ｑ）］＝［構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）の骨格由来のピークの積分値（Ｒ）］
［（Ｑ）×シロキサン構成単位（Ａ）に対する分子量］＋［（Ｒ）×構成単位（Ｂ）及び構成単位（Ｃ）に対する分子量］＝［全ポリマー質量（Ｓ）］
（Ｑ）×２８＝Ｓｉ質量（Ｔ）
｛（Ｔ）／（Ｓ）｝×１００＝総Ｓｉ量（質量％）
重クロロホルムを溶媒として５質量％の樹脂組成物を含む試料を調製し、１Ｈ－ＮＭＲを測定した。ＮＭＲスペクトルより、樹脂組成物全体の骨格由来のピークの積分値から算出されるモル比（モル％）（Ｐ）とシロキサン構成単位（Ａ）の骨格由来のピークの積分値から算出されるモル比（モル％）（Ｑ）とを求め、（Ｐ）と（Ｑ）の差より構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）の骨格由来のピークの積分値から算出されるモル比（モル％）（Ｒ）を得た。次に、（Ｑ）×ジオール骨格（シロキサン構成単位（Ａ））に対する分子量）＋（（Ｒ）×ジオール骨格（構成単位（Ｂ）及び構成単位（Ｃ））に対する分子量）より樹脂組成物を構成する全ポリマー質量（Ｓ）を算出した。（（Ｑ）×２８）より樹脂組成物全体に含まれるＳｉ質量（Ｔ）を算出し、{（Ｔ）／（Ｓ）}×１００より総Ｓｉ量（質量％）を求めた。
［樹脂組成物全体の骨格由来のピークの積分値（Ｐ）］－［シロキサン構成単位（Ａ）の骨格由来のピークの積分値（Ｑ）］＝［構成単位（Ｂ）及び／又は構成単位（Ｃ）の骨格由来のピークの積分値（Ｒ）］
［（Ｑ）×シロキサン構成単位（Ａ）に対する分子量］＋［（Ｒ）×構成単位（Ｂ）及び構成単位（Ｃ）に対する分子量］＝［全ポリマー質量（Ｓ）］
（Ｑ）×２８＝Ｓｉ質量（Ｔ）
｛（Ｔ）／（Ｓ）｝×１００＝総Ｓｉ量（質量％）
（３）ガラス転移温度（Ｔｇ）
測定サンプルとして、５～１２ｍｇの試験片を、ＡＩオートサンプラ用試料容器（ＲＤＣアルミパン、直径６．８ｍｍ、高さ２．５ｍｍの円柱容器）に精秤し、試料容器の上部をＡＩオートサンプラ用カバーによってシールして調製した。
測定サンプルとして、５～１２ｍｇの試験片を、ＡＩオートサンプラ用試料容器（ＲＤＣアルミパン、直径６．８ｍｍ、高さ２．５ｍｍの円柱容器）に精秤し、試料容器の上部をＡＩオートサンプラ用カバーによってシールして調製した。
測定は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用い、窒素雰囲気下（窒素流量：５０ｍｌ／ｍｉｎ）で行い、参照セルには標準物質としてサファイア１０．０ｍｇを用いた。そして、３０℃に調整した測定サンプルを、２０℃／ｍｉｎで２８０℃まで昇温した後、２０℃／ｍｉｎで冷却して３０℃まで降温した。その後、１０℃／ｍｉｎで２８０℃まで昇温して測定した。
測定装置：示差走査熱量計（ＤＳＣ）（製品名「ＤＳＣ－７０２０」、株式会社日立ハイテクサイエンス製）
測定装置：示差走査熱量計（ＤＳＣ）（製品名「ＤＳＣ－７０２０」、株式会社日立ハイテクサイエンス製）
（４）屈折率（ｎｄ）
樹脂及び樹脂組成物からなる厚さ３ｍｍの直角片について、アッベ屈折計を用い、ＪＩＳ－Ｋ－７１４２の方法に準拠して測定した。
樹脂及び樹脂組成物からなる厚さ３ｍｍの直角片について、アッベ屈折計を用い、ＪＩＳ－Ｋ－７１４２の方法に準拠して測定した。
（５）アッベ数（νｄ）
樹脂及び樹脂組成物からなる厚さ３ｍｍの直角片について、アッベ屈折計を用い、２３℃下での波長４８６ｎｍ、５８９ｎｍ及び６５６ｎｍの屈折率を測定し、さらに下記式を用いてアッベ数を算出した。なお、アッベ数（νｄ）とは、実施例に記載の式（１）により表される数値で、屈折率の波長依存性を示している。従って、高アッベ数の物質は、波長による屈折率の変化が小さく、色収差が少ないことを表している。
式（１） νｄ＝（ｎｄ－１）／（ｎＦ－ｎＣ）
（式（１）中、νｄはアッベ数、ｎＦは波長４８６ｎｍにおける屈折率、ｎｄは波長５８９ｎｍにおける屈折率、ｎＣは波長６５６ｎｍにおける屈折率を示す）。
樹脂及び樹脂組成物からなる厚さ３ｍｍの直角片について、アッベ屈折計を用い、２３℃下での波長４８６ｎｍ、５８９ｎｍ及び６５６ｎｍの屈折率を測定し、さらに下記式を用いてアッベ数を算出した。なお、アッベ数（νｄ）とは、実施例に記載の式（１）により表される数値で、屈折率の波長依存性を示している。従って、高アッベ数の物質は、波長による屈折率の変化が小さく、色収差が少ないことを表している。
式（１） νｄ＝（ｎｄ－１）／（ｎＦ－ｎＣ）
（式（１）中、νｄはアッベ数、ｎＦは波長４８６ｎｍにおける屈折率、ｎｄは波長５８９ｎｍにおける屈折率、ｎＣは波長６５６ｎｍにおける屈折率を示す）。
（６）溶融粘度（ＭＶＲ／メルトボリュームフローレイト）
ＩＳＯ１１３３に準拠し、２６０℃、荷重２．１６０ｋｇの条件にて測定した。
測定機器：メルトインデックサＴ－１１１（株式会社東洋精機製作所製）
ＩＳＯ１１３３に準拠し、２６０℃、荷重２．１６０ｋｇの条件にて測定した。
測定機器：メルトインデックサＴ－１１１（株式会社東洋精機製作所製）
（７）１％－熱質量減少開始温度
測定サンプル１０ｍｇを、白金パン（Ｐｔオープン型試料容器 φ５．２ Ｈ２．５ｍｍ）に精秤した。測定は、大気下で行った。基準物質としてα－アルミナ０．００５１９ｇを用いた。サンプル温度を３０℃に調整し、１０℃／ｍｉｎで５５０℃まで昇温し、１質量％の質量減少温度を「１％－熱質量減少開始温度」とした。
測定装置：示差熱熱質量同時測定装置（ＴＧ／ＤＴＡ）（日立ハイテクサイエンス製、ＴＧ／ＤＴＡ７３００）
測定サンプル１０ｍｇを、白金パン（Ｐｔオープン型試料容器 φ５．２ Ｈ２．５ｍｍ）に精秤した。測定は、大気下で行った。基準物質としてα－アルミナ０．００５１９ｇを用いた。サンプル温度を３０℃に調整し、１０℃／ｍｉｎで５５０℃まで昇温し、１質量％の質量減少温度を「１％－熱質量減少開始温度」とした。
測定装置：示差熱熱質量同時測定装置（ＴＧ／ＤＴＡ）（日立ハイテクサイエンス製、ＴＧ／ＤＴＡ７３００）
（８）透過率
ＪＩＳ－Ｋ７３７５の方法に準拠して測定した。試験片は、樹脂組成物を８０℃で１２時間、乾燥機により真空乾燥した後、射出成形機（新興セルビック社製「Ｃ-Ｍｏｂｉｌｅ」）により成形した、３０ｍｍ×３８ｍｍ×１５ｍｍの平板プレートを用いた。
成形体樹脂温度２６０℃、金型温度１１０℃にて成形したものを用いた。
ＪＩＳ－Ｋ７３７５の方法に準拠して測定した。試験片は、樹脂組成物を８０℃で１２時間、乾燥機により真空乾燥した後、射出成形機（新興セルビック社製「Ｃ-Ｍｏｂｉｌｅ」）により成形した、３０ｍｍ×３８ｍｍ×１５ｍｍの平板プレートを用いた。
成形体樹脂温度２６０℃、金型温度１１０℃にて成形したものを用いた。
（９）吸水率
ＪＩＳ―Ｋ７２０９の方法に準拠し、大気下、２５℃の条件下、２４ｈｒ及び１６８ｈｒでの値を測定した。試験片は、（７）透過率と同様のものを用いた。
ＪＩＳ―Ｋ７２０９の方法に準拠し、大気下、２５℃の条件下、２４ｈｒ及び１６８ｈｒでの値を測定した。試験片は、（７）透過率と同様のものを用いた。
＜シロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂の合成＞
＜合成例１＞
原料として、９，９－ビス[４－(２－ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン（ＢＰＥＦ）３０．７３ｇ（０．０７モル）、ジメチルジフェノキシシラン（ＤＭＤＰＳ）１８．７０ｇ（０．０８モル）、及び触媒として炭酸水素ナトリウム３０．０μモル／モル（触媒量はＢＰＥＦに対する相対的なモル数）とを攪拌機の備え付けた１００ｍｌの４つ口フラスコに入れ、系内を窒素雰囲気下に置換した。１９０℃にて原料を加熱溶融し、２０分間攪拌した。
＜合成例１＞
原料として、９，９－ビス[４－(２－ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン（ＢＰＥＦ）３０．７３ｇ（０．０７モル）、ジメチルジフェノキシシラン（ＤＭＤＰＳ）１８．７０ｇ（０．０８モル）、及び触媒として炭酸水素ナトリウム３０．０μモル／モル（触媒量はＢＰＥＦに対する相対的なモル数）とを攪拌機の備え付けた１００ｍｌの４つ口フラスコに入れ、系内を窒素雰囲気下に置換した。１９０℃にて原料を加熱溶融し、２０分間攪拌した。
その後、１時間３２分かけて、反応系より留出するフェノールを冷却管にて凝集、除去しつつエステル交換反応を行ない、系内を２６０℃、減圧度を２ｈＰａ以下とし、さらに６０分保持することで、無色透明のポリシロキサン樹脂を得た。なお、減圧時には、大気圧から、30,000Pa、27,500Pa、25,000Pa、22,500Pa、20,000Pa、17,500Pa、15,000Pa、12,500Pa、10,000Pa、8,000Pa、6,000Pa、4,000Pa、2,000Pa、1,000Pa、200Pa以下へと段階的に圧力が変化するように調整した。
得られたポリシロキサン樹脂（ＳｉＢＰＥＦ）のＭｗは１６,９８３、ＭＶＲは１,０８３ｃｍ３／１０分、屈折率（ｎｄ）は１．６２３、アッベ数（νｄ）は２４．２、Ｔｇは８３℃、１％－熱質量減少開始温度は３７８℃であった。
＜合成例２＞
原料として、ＢＰＥＦ ９２．２５ｇ（０．２１モル）、ジフェニルジメトキシシラン（ＤＰＤＭＳ）５２．８１ｇ（０．２２モル）、及び触媒として炭酸水素ナトリウム５．０μモル／モル（触媒量はＢＰＥＦに対する相対的なモル数）とを攪拌機の備え付けた３００ｍｌの４つ口フラスコに入れ、系内を窒素雰囲気下に置換した。１９０℃にて原料を加熱溶融し、４７分間攪拌した。
原料として、ＢＰＥＦ ９２．２５ｇ（０．２１モル）、ジフェニルジメトキシシラン（ＤＰＤＭＳ）５２．８１ｇ（０．２２モル）、及び触媒として炭酸水素ナトリウム５．０μモル／モル（触媒量はＢＰＥＦに対する相対的なモル数）とを攪拌機の備え付けた３００ｍｌの４つ口フラスコに入れ、系内を窒素雰囲気下に置換した。１９０℃にて原料を加熱溶融し、４７分間攪拌した。
その後、１時間１８分かけて、反応系より留出するメタノールを冷却管にて凝集、除去しつつエステル交換反応を行ない、系内を２４０℃、減圧度を２ｈＰａ以下とし、さらに６０分保持することで、無色透明のポリシロキサンを得た。なお、減圧時には、大気圧から、80,000Pa、60,000Pa、40,000Pa、20,000Pa、10,000Pa、8,000Pa、6,000Pa、4,000Pa、2,000Pa、1,000Pa、200Pa以下へと段階的に圧力が変化するように調整した。
得られたポリシロキサン樹脂（Ｐｈ２ＳｉＢＰＥＦ）のＭｗは４０,０６１、ＭＶＲは１,０５０ｃｍ３／１０分、屈折率（ｎｄ）は１．６４３、アッベ数（νｄ）は２４．０、Ｔｇは９７℃、１％－熱質量減少開始温度は３５０℃であった。
＜ポリカーボネート樹脂の合成＞
＜合成例３＞ ＥＰ６
原料として、ＢＰＥＦ ２０．００ｋｇ（４５．６４モル）、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）１０．１６ｋｇ（４７．４３モル）、及び炭酸水素ナトリウム３０ｍｇ（３．６×１０－４モル）を、撹拌機及び留出装置付きの５０Ｌ反応器に入れ、窒素雰囲気１０１３ｈＰａの下、６０分かけて２０５℃に加熱し撹拌した。続いて、２０分かけて２６７ｈＰａまで減圧し、２０５℃、２６７ｈＰａの条件下で３０分間保持した。その後、２０分かけて２１５℃、２４０ｈＰａとなるように、そこから５０分かけて２３０℃、２００ｈＰａとなるように、更にそこから６０分かけて２４０℃、１３３Ｐａ以下となるように、昇温と減圧を行い、最終的に２４０℃、１３３Ｐａ以下の条件下で２０分間保持した。反応液が適度な溶融粘度となったことを確認後、撹拌を止め、反応器内に窒素ガスを導入、反応器内を１０２６ｈＰａに加圧し、生成したポリカーボネート樹脂を反応器下からペレタイズしながら取り出した。
＜合成例３＞ ＥＰ６
原料として、ＢＰＥＦ ２０．００ｋｇ（４５．６４モル）、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）１０．１６ｋｇ（４７．４３モル）、及び炭酸水素ナトリウム３０ｍｇ（３．６×１０－４モル）を、撹拌機及び留出装置付きの５０Ｌ反応器に入れ、窒素雰囲気１０１３ｈＰａの下、６０分かけて２０５℃に加熱し撹拌した。続いて、２０分かけて２６７ｈＰａまで減圧し、２０５℃、２６７ｈＰａの条件下で３０分間保持した。その後、２０分かけて２１５℃、２４０ｈＰａとなるように、そこから５０分かけて２３０℃、２００ｈＰａとなるように、更にそこから６０分かけて２４０℃、１３３Ｐａ以下となるように、昇温と減圧を行い、最終的に２４０℃、１３３Ｐａ以下の条件下で２０分間保持した。反応液が適度な溶融粘度となったことを確認後、撹拌を止め、反応器内に窒素ガスを導入、反応器内を１０２６ｈＰａに加圧し、生成したポリカーボネート樹脂を反応器下からペレタイズしながら取り出した。
得られたポリカーボネート樹脂のポリスチレン換算質量平均分子量（Ｍｗ）は２３,０００であった。
＜合成例４＞ ＥＰ７
原料を、２，２’－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）－１，１’－ビナフタレン（ＢＮＥ） ７．１９ｋｇ（１９．２１モル）、ＢＰＥＦ １１．５８ｋｇ（２６．４４モル）、ＤＰＣ１０．１６ｋｇ（４７．４３モル）、及び炭酸水素ナトリウム３０ｍｇ（３．６×１０－４モル）に替える以外は合成例３と同様にして、ポリカーボネート樹脂を得た。
原料を、２，２’－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）－１，１’－ビナフタレン（ＢＮＥ） ７．１９ｋｇ（１９．２１モル）、ＢＰＥＦ １１．５８ｋｇ（２６．４４モル）、ＤＰＣ１０．１６ｋｇ（４７．４３モル）、及び炭酸水素ナトリウム３０ｍｇ（３．６×１０－４モル）に替える以外は合成例３と同様にして、ポリカーボネート樹脂を得た。
得られたポリカーボネート樹脂のポリスチレン換算質量平均分子量（Ｍｗ）は４５,０００であった。
＜合成例５＞ ＥＰ８
原料を、２，２’－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）－１，１’－ビナフタレン（ＢＮＥ） ７．７４ｋｇ（２０．６６モル）、９，９－ビス（４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－フェニルフェニル）フルオレン（ＢＰＰＥＦ）１４．７６ｋｇ（２４．９８モル）、ＤＰＣ１０．１６ｋｇ（４７．４３モル）、及び炭酸水素ナトリウム３０ｍｇ（３．６×１０－４モル）に替える以外は合成例３と同様にして、ポリカーボネート樹脂を得た。
原料を、２，２’－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）－１，１’－ビナフタレン（ＢＮＥ） ７．７４ｋｇ（２０．６６モル）、９，９－ビス（４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－フェニルフェニル）フルオレン（ＢＰＰＥＦ）１４．７６ｋｇ（２４．９８モル）、ＤＰＣ１０．１６ｋｇ（４７．４３モル）、及び炭酸水素ナトリウム３０ｍｇ（３．６×１０－４モル）に替える以外は合成例３と同様にして、ポリカーボネート樹脂を得た。
得られたポリカーボネート樹脂のポリスチレン換算質量平均分子量（Ｍｗ）は５０,０００であった。
＜樹脂組成物の製造方法＞
＜実施例１～５＞
合成例１又は２で得られたシロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂（ポリシロキサン樹脂）、合成例３～５で得られたポリカーボネート樹脂を、下記表１に記載の割合（単位は質量部）にて混合した。これを混練押出機（東洋精機製作所製、ラボプラストミル４Ｃ１５０）を用いて２６０℃で混練押出して樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物の物性を下記表１に示す。
＜実施例１～５＞
合成例１又は２で得られたシロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂（ポリシロキサン樹脂）、合成例３～５で得られたポリカーボネート樹脂を、下記表１に記載の割合（単位は質量部）にて混合した。これを混練押出機（東洋精機製作所製、ラボプラストミル４Ｃ１５０）を用いて２６０℃で混練押出して樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物の物性を下記表１に示す。
＜比較例１～３＞
合成例３～５で得られたポリカーボネート樹脂を下記表１に記載の添加量で、実施例１～５と同様に混練押出しした。得られた樹脂の物性を下記表１に示す。
合成例３～５で得られたポリカーボネート樹脂を下記表１に記載の添加量で、実施例１～５と同様に混練押出しした。得られた樹脂の物性を下記表１に示す。
尚、透過率及び吸水率測定用試験片の成形条件は、下記表２に示す通りである。
上述のように、本願発明の樹脂組成物は、優れた光学特性に加えて、溶融流動性が高く、低吸水性を有し、光学レンズ及び光学フィルムに用いるのに好適である。
Claims (11)
- シロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂と、
下記一般式（２）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｂ）及び／又は下記一般式（３）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｃ）を含む樹脂と、から本質的に構成されることを特徴とする樹脂組成物：
Ｒａ及びＲｂは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、Ｏ、Ｎ及びＳから選択される１つ以上のヘテロ環原子を含む、置換基を有してもよい炭素数６～２０のヘテロアリール基、又は置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリールオキシ基、ならびに－Ｃ≡Ｃ－Ｒｈからなる群より選択され、
Ｒｈは置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、又はＯ、Ｎ及びＳから選択される１つ以上のヘテロ環原子を含む、置換基を有してもよい炭素数６～２０のヘテロアリール基を表し、
Ｘ１は、単結合であるか、又は置換基を有してもよいフルオレン基を表し、
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基を表し、
ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０～６の整数を表し、
ａ及びｂは、それぞれ独立に、０～１０の整数を表す。）
Ｒｃ及びＲｄは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、及び置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基からなる群より選択され、
Ｙ１は、置換基を有してもよいフルオレン基を表し、
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基を表し、
ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、
ａ及びｂは、それぞれ独立に、０～１０の整数を表す。）
であって、
前記シロキサン構成単位（Ａ）が、下記一般式（１－１）～（１－４）のいずれかで表される構成単位の少なくとも一つを含む、樹脂組成物。
Ｒ １ 及びＲ ２ は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数６～３０のアリール基を表し、
Ｒ ３ ～Ｒ １０ 、Ｒ ２１ ～Ｒ ２６ 及びＲ ３１ ～Ｒ ３６ は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルコキシ基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数２～２０のアルケニル基、又は置換基を有してもよい炭素数６～３０のアリール基を示し、
Ｚ １ 及びＺ ２ は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数１～５のアルキレン基であり、
Ｊ １ は、それぞれ独立して、０～５の整数を表し、
Ｋ １ は、それぞれ独立して、０～５の整数を表し、
Ａ １ 及びＡ ２ は、それぞれ独立して、-Ｏ-，-ＣＨ ２ -のいずれかを表し、
Ｌ １ 及びＬ ２ は、それぞれ独立して、０～３の整数を表し、
Ｘは、単結合であるか、又は下記式（４）～（９）で表される構造式のうちいずれかであり、
Ｒ １１ 及びＲ １２ は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数６～３０のアリール基を表すか、あるいは、Ｒ １１ 及びＲ １２ が互いに結合して形成する、置換基を有してもよい炭素数１～２０の炭素環又は複素環を表し、
ｒ及びｓは、それぞれ独立して、０～５０００の整数を表す。） - アルカリ（土類）金属原子の有機金属塩系難燃剤を含まない、請求項１に記載の樹脂組成物。
- 前記一般式（２）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｂ）が、下記一般式（２ａ）で表されるジオールに由来する構成単位及び下記一般式（２ｂ）で表されるジオールに由来する構成単位の少なくとも一つを含む、請求項１又は２に記載の樹脂組成物。
Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ一般式（２）におけるものと同義であり、
Ｒｅ及びＲｆは、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、及び置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリールオキシ基からなる群より選択される。） - 前記一般式（２）におけるＲａ及びＲｂが、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、ナフチル基、又は下記からなる群より選択される置換基を表す、請求項１から３のいずれかに記載の樹脂組成物。
- 前記一般式（３）で表されるジオールに由来する構成単位（Ｃ）が、下記一般式（３ａ）で表されるジオールに由来する構成単位を含む、請求項１から４のいずれかに記載の樹脂組成物。
Ａ、Ｂ、a及びｂは、それぞれ一般式（３）におけるものと同義であり、
Ｒｅ及びＲｆは、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数５～２０のシクロアルコキシル基、置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリール基、及び置換基を有してもよい炭素数６～２０のアリールオキシ基からなる群より選択される。） - 前記シロキサン構成単位（Ａ）を含む樹脂と、前記構成単位（Ｂ）及び前記構成単位（Ｃ）を含む樹脂との質量比（（Ａ）／（Ｂ＋Ｃ））が、９９／１～１／９９である、請求項１から５のいずれかに記載の樹脂組成物。
- 更に、酸化防止剤を含む、請求項１から６のいずれかに記載の樹脂組成物。
- 前記酸化防止剤が、ホスファイト系酸化防止剤及び／又はフェノール系酸化防止剤である、請求項７に記載の樹脂組成物。
- 請求項１から８のいずれかに記載の樹脂組成物を含む成形体。
- 前記成形体が光学レンズである、請求項９に記載の成形体。
- 前記成形体が光学フィルムである、請求項９に記載の成形体。
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