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JP7532883B2 - Active energy ray curable composition, cured product, lens and camera module - Google Patents

Active energy ray curable composition, cured product, lens and camera module Download PDF

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JP7532883B2
JP7532883B2 JP2020085743A JP2020085743A JP7532883B2 JP 7532883 B2 JP7532883 B2 JP 7532883B2 JP 2020085743 A JP2020085743 A JP 2020085743A JP 2020085743 A JP2020085743 A JP 2020085743A JP 7532883 B2 JP7532883 B2 JP 7532883B2
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Description

本発明は、活性エネルギー線硬化性組成物、硬化物、レンズ及びカメラモジュールに関する。 The present invention relates to an active energy ray-curable composition, a cured product, a lens, and a camera module.

近年、スマートフォンやモバイルパソコン等の電子機器向け小型カメラモジュールの需要が急速に拡大しており、カメラモジュールの生産効率向上を目指した開発が精力的に取り組まれている。また、電子機器の薄型化が進んだことから、カメラモジュールの薄型化に対する要求も厳しくなっている。従来、シクロオレフィンポリマーに代表される熱可塑性樹脂を用いたインジェクションモールド等により樹脂レンズを成型し、レンズユニットを組み上げる方法によりカメラモジュールは生産されてきた。しかしながら、従来の方法では生産性と薄型化に限界があった。このような市場動向に伴い、レプリカ法により成形したウェハレベルレンズを重ね合わせてレンズユニットを組み上げることで、生産性と薄型化を両立させたカメラモジュールの生産方法が開示されている(特許文献1)。 In recent years, the demand for small camera modules for electronic devices such as smartphones and mobile PCs has been expanding rapidly, and development efforts aimed at improving the production efficiency of camera modules have been actively underway. In addition, as electronic devices have become thinner, the demand for thinner camera modules has also become stricter. Conventionally, camera modules have been produced by molding resin lenses using injection molding or the like using thermoplastic resins such as cycloolefin polymers, and assembling them into a lens unit. However, the conventional method had limitations in productivity and thinning. In response to this market trend, a production method for camera modules that achieves both productivity and thinning has been disclosed (Patent Document 1), in which wafer-level lenses molded by a replica method are stacked together to assemble a lens unit.

一般的にレンズユニットは光学定数、主に屈折率(n)とアッベ数(ν)、が異なるレンズを複数重ね合わせて色収差を補正し、高画素化を実現している。また、前記ウェハレベルレンズに用いる材料としては、生産性、透明性及び耐熱性等の観点から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が好適に用いられている。取り分け中屈折率で高アッベ数な光学定数を有するウェハレベルレンズ用材料として脂肪族骨格を有するポリカーボネートジオール(メタ)アクリレートを用いた樹脂組成物が開示されている(特許文献2)。 In general, a lens unit is made by superposing a plurality of lenses having different optical constants, mainly refractive index (n d ) and Abbe number (ν d ), to correct chromatic aberration and realize high pixel count. In addition, as a material used for the wafer level lens, an active energy ray curable resin composition is preferably used from the viewpoints of productivity, transparency, heat resistance, etc. In particular, a resin composition using polycarbonate diol (meth)acrylate having an aliphatic skeleton has been disclosed as a wafer level lens material having optical constants of a medium refractive index and a high Abbe number (Patent Document 2).

ウェハレベルレンズは基板への直接実装が想定されることから、ハンダリフロー(170℃~260℃)に耐えられる耐熱性が求められる。耐熱性の向上にはチオール化合物や酸化防止剤を添加する方法が開示されている(特許文献3、特許文献4)。また、使用様態に合わせて物性の長期信頼性の指標となる温湿度試験(85℃-85%RH-1000h)に耐えられる耐湿熱性が求められる。しかしながら、85℃-85%RHという過酷な温湿度試験条件において、基板ハガレやレンズ内部の欠陥が発生することのない優れた耐湿熱性を有するウェハレベルレンズの報告はなされていない。取り分け、中屈折率で高アッベ数な光学定数を示す脂肪族骨格は疎水的で湿熱試験後に異常が発生しやすいという課題がある。 Since wafer-level lenses are expected to be directly mounted on a substrate, they are required to have heat resistance that can withstand solder reflow (170°C to 260°C). Methods of adding thiol compounds or antioxidants to improve heat resistance have been disclosed (Patent Document 3, Patent Document 4). In addition, they are required to have moist heat resistance that can withstand a temperature and humidity test (85°C-85% RH-1000h), which is an index of long-term reliability of physical properties according to the mode of use. However, there have been no reports of wafer-level lenses that have excellent moist heat resistance without substrate peeling or defects inside the lens under the harsh temperature and humidity test conditions of 85°C-85% RH. In particular, there is a problem that aliphatic skeletons that show optical constants with a medium refractive index and high Abbe number are hydrophobic and prone to abnormalities after moist heat testing.

そこで、高いアッベ数及び透過率を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な材料が求められていた。 Therefore, there was a demand for a material capable of forming lenses with high Abbe number and transmittance, as well as excellent heat resistance and moist heat resistance.

特開2009-251368号公報JP 2009-251368 A 国際公開第2019/124156号International Publication No. 2019/124156 特開2014-52424号公報JP 2014-52424 A 国際公開第2018/030351号International Publication No. 2018/030351

本発明が解決しようとする課題は、高いアッベ数及び透過率を有し、半田リフロー後も透過率変化が少なく、かつ、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物を提供することである。 The problem that the present invention aims to solve is to provide an active energy ray-curable composition capable of forming lenses that have a high Abbe number and transmittance, exhibit little change in transmittance even after solder reflow, and have excellent heat resistance and moist heat resistance.

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を行った結果、特定のポリカーボネートジオールジ(メタ)アクリレートと、特定の(メタ)アクリロイル基及び環状構造を有する化合物と、特定の(メタ)アクリロイル基とアルキレングリコール構造を有する化合物と、を含有する活性エネルギー線硬化性組成物を用いることで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive research into solving the above problems, the present inventors discovered that the above problems can be solved by using an active energy ray-curable composition that contains a specific polycarbonate diol di(meth)acrylate, a specific compound having a (meth)acryloyl group and a cyclic structure, and a specific compound having a (meth)acryloyl group and an alkylene glycol structure, and thus completed the present invention.

すなわち、本発明は、下記一般式(1)で表されるポリカーボネートジオールジ(メタ)アクリレート(A)と、前記ポリカーボネートジオールジ(メタ)アクリレート(A)以外の一分子中に1又は2個の(メタ)アクリロイル基及び環状構造を有する化合物(B)と、前記ポリカーボネートジオールジ(メタ)アクリレート(A)及び前記化合物(B)以外の一分子中に1又は2個の(メタ)アクリロイル基及び一分子中にアルキレングリコール構造を有する化合物(C)と、を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物、硬化物、レンズ及びカメラモジュールに関する。 That is, the present invention relates to an active energy ray curable composition, a cured product, a lens, and a camera module, which are characterized by containing a polycarbonate diol di(meth)acrylate (A) represented by the following general formula (1), a compound (B) other than the polycarbonate diol di(meth)acrylate (A) having one or two (meth)acryloyl groups and a cyclic structure in one molecule, and a compound (C) other than the polycarbonate diol di(meth)acrylate (A) and the compound (B) having one or two (meth)acryloyl groups in one molecule and an alkylene glycol structure in one molecule.

Figure 0007532883000001

(式中、Rは、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を示し、Rは、それぞれ独立して、炭素原子数1~10の炭化水素基を示す。nは1~10の整数である。)
Figure 0007532883000001

(In the formula, each R 1 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, each R 2 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer from 1 to 10.)

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物により形成されるレンズは、高いアッベ数を有するものであり、色収差を小さくすることができる。また、前記レンズは、半田リフロー前後で透過率の変化量が小さい耐熱性を有するものであり、カメラモジュールに好適に用いることができる。さらに、高温高湿下でも基材からのハガレや欠陥を生じない耐湿熱性を有することから、長期安定性に優れたウェハレベルレンズとして好適に用いることができる。 The lens formed by the active energy ray-curable composition of the present invention has a high Abbe number and can reduce chromatic aberration. In addition, the lens has heat resistance with a small change in transmittance before and after solder reflow, and can be suitably used for camera modules. Furthermore, since the lens has humidity and heat resistance that does not cause peeling or defects from the substrate even under high temperature and high humidity conditions, it can be suitably used as a wafer-level lens with excellent long-term stability.

また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線の照射によって簡便に硬化できるものであり、光インプリントによるレンズ製造に好適に使用することができる。 The active energy ray-curable composition of the present invention can be easily cured by irradiation with active energy rays, and can be suitably used for lens production by photoimprinting.

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、一般式(1)で表されるポリカーボネートジオールジ(メタ)アクリレート(A)と、一分子中に1又は2個の(メタ)アクリロイル基及び環状構造を有する化合物(B)と、一分子中に1又は2個の(メタ)アクリロイル基及び一分子中にアルキレングリコール構造を有する化合物(C)と、を含有するものである。 The active energy ray-curable composition of the present invention contains a polycarbonate diol di(meth)acrylate (A) represented by the general formula (1), a compound (B) having one or two (meth)acryloyl groups and a cyclic structure in one molecule, and a compound (C) having one or two (meth)acryloyl groups in one molecule and an alkylene glycol structure in one molecule.

なお、本発明において、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート及び/又はメタクリレートを意味する。また、「(メタ)アクリロイル」とは、アクリロイル及び/又はメタクリロイルを意味する。さらに、「(メタ)アクリル」とは、アクリル及び/又はメタクリルを意味する。 In the present invention, "(meth)acrylate" means acrylate and/or methacrylate. Furthermore, "(meth)acryloyl" means acryloyl and/or methacryloyl. Furthermore, "(meth)acrylic" means acrylic and/or methacrylic.

前記一般式(1)で表されるポリカーボネートジオールジ(メタ)アクリレート(A)(以下、「(A)成分」と略記する。)としては、下記一般式(1)で表される構造を有するものである。前記(A)成分を用いることで高いアッベ数を有し、優れた耐熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られる。 The polycarbonate diol di(meth)acrylate (A) (hereinafter abbreviated as "component (A)") represented by the general formula (1) has a structure represented by the following general formula (1). By using the component (A), an active energy ray-curable composition capable of forming a lens having a high Abbe number and excellent heat resistance can be obtained.

Figure 0007532883000002

(式中、Rは、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を示し、Rは、それぞれ独立して、炭素原子数1~10の炭化水素基を示す。nは1~10の整数である。)
Figure 0007532883000002

(In the formula, each R 1 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, each R 2 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer from 1 to 10.)

前記(A)成分としては、前記一般式(1)で示される化合物の中でも、より一層高いアッベ数及び屈折率が得られ、かつ、より一層優れた透明性、柔軟性及び耐熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、前記一般式(1)中、Rは水素原子が好ましく、Rは、それぞれ独立して、炭素原子数5~6の直鎖状炭化水素基、炭素原子数6~10の環状炭化水素基が好ましく、nは4~10の整数が好ましい。また、更に結晶化やレンズの継時的な反りを防止しやすい点から、Rは、それぞれ独立して、炭素原子数5~6の直鎖状炭化水素基、シクロへキサン構造、又はイソソルバイド構造を有するものであることがより好ましく、nは、4~6の整数がより好ましい。 As the component (A), among the compounds represented by the general formula (1), an active energy ray-curable composition capable of obtaining a higher Abbe number and refractive index and capable of forming a lens having more excellent transparency, flexibility and heat resistance is obtained, so that in the general formula (1), R 1 is preferably a hydrogen atom, R 2 are each independently preferably a linear hydrocarbon group having 5 to 6 carbon atoms or a cyclic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, and n is preferably an integer from 4 to 10. Furthermore, from the viewpoint of easily preventing crystallization and warping of the lens over time, it is more preferable that R 2 are each independently a linear hydrocarbon group having 5 to 6 carbon atoms, a cyclohexane structure, or an isosorbide structure, and n is more preferably an integer from 4 to 6.

なお、前記一般式(1)中、Rが炭素原子数5~6の直鎖状炭化水素基及び炭素原子数6~10の環状炭化水素基を示し、nが4~6の整数を示すものを用いる場合、前記炭素原子数5~6の直鎖状炭化水素基と、前記炭素原子数6~10の環状炭化水素基との質量割合は、10/90~90/10の範囲が好ましく、20/80~80/20の範囲がより好ましく、60/40~80/20の範囲が特に好ましい。 In addition, in the general formula (1), when R 2 represents a linear hydrocarbon group having 5 to 6 carbon atoms and a cyclic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 4 to 6, the mass ratio of the linear hydrocarbon group having 5 to 6 carbon atoms to the cyclic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms is preferably in the range of 10/90 to 90/10, more preferably in the range of 20/80 to 80/20, and particularly preferably in the range of 60/40 to 80/20.

前記(A)成分としては、例えば、ポリカーボネートジオールと、(メタ)アクリル酸及び/又は(メタ)アクリル酸エステルとの反応物等が挙げられる。 Examples of the (A) component include a reaction product of polycarbonate diol with (meth)acrylic acid and/or (meth)acrylic acid ester.

前記ポリカーボネートジオールとしては、例えば、水酸基を2個以上有する化合物と炭酸エステルとの反応物等が挙げられる。 The polycarbonate diol may be, for example, a reaction product of a compound having two or more hydroxyl groups with a carbonate ester.

前記水酸基を2個以上有する化合物としては、例えば、直鎖状構造を有するアルキレンジオール、分岐鎖状構造を有するアルキレンジオール、環状構造を有するアルキレンジオール、複素環状構造を有するジオール等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the compound having two or more hydroxyl groups include alkylene diols having a linear structure, alkylene diols having a branched structure, alkylene diols having a cyclic structure, and diols having a heterocyclic structure. These compounds can be used alone or in combination of two or more.

前記直鎖状構造を有するアルキレンジオールとしては、例えば、1,2-エタンジオール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,7-ヘプタンジオール、1,8-オクタンジオール、1,9-ノナンジオール、1,10-デカンジオール等が挙げられる。 Examples of the alkylene diol having a linear structure include 1,2-ethanediol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, and 1,10-decanediol.

前記分岐鎖状構造を有するアルキレンジオールとしては、例えば、1,2-プロパンジオール1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、2,3-ブタンジオール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、1,2-ペンタンジオール、1,3-ペンタンジオール、1,4-ペンタンジオール、2,4-ペンタンジオール、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール、3-メチル-1,3-ブタンジオール、2-メチル-1,3-ブタンジオール、1,2-ヘキサンジオール、1,5-ヘキサンジオール、2,5-ヘキサンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2,3-ジメチル-2,3-ブタンジオール、2-エチル-2-メチル-1,3-プロパンジオール、1,2-ヘプタンジオール、2-メチル-2-プロピル-1,3-プロパンジオール、2,4-ジメチル-2,4-ペンタンジオール、3,6-オクタンジオール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール、1,2-ノナンジオール、1,8-ノナンジオール、2,8-ノナンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、1,2-デカンジオール、2,2-ジイソブチル-1,3-プロパンジオール等が挙げられる。 Examples of alkylene diols having a branched chain structure include 1,2-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 2,3-butanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,2-pentanediol, 1,3-pentanediol, 1,4-pentanediol, 2,4-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,3-butanediol, 2-methyl-1,3-butanediol, 1,2-hexanediol, 1,5-hexanediol, 2,5-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,3-dimethyl-2,3-butanediol, 2-ethylenediol, ethyl-2-methyl-1,3-propanediol, 1,2-heptanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2,4-dimethyl-2,4-pentanediol, 3,6-octanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 1,2-nonanediol, 1,8-nonanediol, 2,8-nonanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 1,2-decanediol, 2,2-diisobutyl-1,3-propanediol, etc.

前記環状構造を有するアルキレンジオールとしては、例えば、1,2-シクロペンタンジオール、1,3-シクロペンタンジオール、1,2-シクロヘキサンジオール、1,3-シクロヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサンジオール、1,3-シクロヘキサンジメタノール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、1,3-アダマンタンジオール、1-ヒドロキシ-3-アダマンチルメタノール等が挙げられる。 Examples of the alkylene diol having a cyclic structure include 1,2-cyclopentanediol, 1,3-cyclopentanediol, 1,2-cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,3-adamantanediol, and 1-hydroxy-3-adamantylmethanol.

前記複素環状構造を有するジオールとしては、例えば、3,4-テトラヒドロフランジオール、1,4-ジオキサン-2,3-ジオール、1,1-ビシクロヘキシル-4,4-ジオール、ヘキサヒドロフロ[3,2-b]フラン-3,6-ジオール等が挙げられる。 Examples of diols having a heterocyclic structure include 3,4-tetrahydrofuran diol, 1,4-dioxane-2,3-diol, 1,1-bicyclohexyl-4,4-diol, and hexahydrofuro[3,2-b]furan-3,6-diol.

前記炭酸エステルとしては、例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the carbonate ester include dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate, etc. These compounds can be used alone or in combination of two or more.

前記(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、n-ペンチル(メタ)アクリレート、n-ヘキシル(メタ)アクリレート、n-ヘプチル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの(メタ)アクリル酸エステルは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the (meth)acrylic acid esters include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, n-pentyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, n-heptyl (meth)acrylate, and n-octyl (meth)acrylate. These (meth)acrylic acid esters can be used alone or in combination of two or more.

また、前記(A)成分の市販品としては、例えば、宇部興産株式会社製「UH-100DA」、「UM-90(1/3)DA」、「UM-90(1/1)DA」、「UM-90(3/1)DA」、「UH-100DM」、「UM-90(1/3)DM」、「UM-90(1/1)DM」、「UM-90(3/1)DM」等が挙げられる。 Examples of commercially available products of component (A) include "UH-100DA", "UM-90(1/3)DA", "UM-90(1/1)DA", "UM-90(3/1)DA", "UH-100DM", "UM-90(1/3)DM", "UM-90(1/1)DM", and "UM-90(3/1)DM" manufactured by Ube Industries, Ltd.

前記(A)成分の含有割合は、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、活性エネルギー線硬化性組成物中に10~80質量%の範囲が好ましく、15~60質量%の範囲がより好ましく、20~50質量%の範囲が特に好ましい。 The content of the component (A) in the active energy ray-curable composition is preferably in the range of 10 to 80% by mass, more preferably in the range of 15 to 60% by mass, and particularly preferably in the range of 20 to 50% by mass, since an active energy ray-curable composition capable of forming a lens having a high Abbe number and excellent heat resistance and moist heat resistance can be obtained.

前記一分子中に1又は2個の(メタ)アクリロイル基及び環状構造を有する化合物(B)(以下、「(B)成分」と略記する。)としては、一分子中に1又は2個の(メタ)アクリロイル基及び環状構造を必須として有するものである。前記(B)成分を用いることで、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られる。 The compound (B) having one or two (meth)acryloyl groups and a cyclic structure in one molecule (hereinafter abbreviated as "component (B)") essentially has one or two (meth)acryloyl groups and a cyclic structure in one molecule. By using component (B), an active energy ray-curable composition capable of forming a lens having a high Abbe number and excellent heat resistance can be obtained.

前記環状構造としては、例えば、シクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、シクロオクタン構造、シクロデカン構造等の単環構造、パーヒドロインデン構造、パーヒドロアントラセン構造、パーヒドロフルオレン構造、パーヒドロフェナントレン構造、パーヒドロアセナフテン構造、パーヒドロフェナレン構造、ノルボルナン構造、イソボルナン構造、イソボルニル構造、アダマンタン構造、ビシクロ[3.3.0]オクタン構造、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造、トリシクロ[6.2.1.02,7]ウンデカン構造、ジシクロペンタニル構造、ジシクロペンテニル構造等の多環構造、テトラヒドロフラン構造、1,3-ジオキソラン構造、1,3-ジオキサン構造、1,4ジオキサン構造、ヘキサヒドロフロ[3,2-b]フラン構造等の複素環構造、ベンゼン構造、ナフタレン構造、フルオレン構造、アセナフテン構造、フェナレン構造、アントラセン構造、フェナントレン構造、テトラセン構造、クリセン構造、ピレン構造、トリフェニレン構造、ペンタセン構造、ベンゾピレン構造、ぺリレン構造等の芳香環構造などが挙げられる。これらの環状構造は、一分子中に単独で有することも、2種以上を有することもできる。また、これらの中でも、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、シクロヘキサン構造、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造、1,3-ジオキサン構造が好ましい。 Examples of the cyclic structure include single ring structures such as a cyclopentane structure, a cyclohexane structure, a cyclooctane structure, and a cyclodecane structure, a perhydroindene structure, a perhydroanthracene structure, a perhydrofluorene structure, a perhydrophenanthrene structure, a perhydroacenaphthene structure, a perhydrophenalene structure, a norbornane structure, an isobornane structure, an isobornyl structure, an adamantane structure, a bicyclo[3.3.0]octane structure, a tricyclo[5.2.1.0 2,6 ]decane structure, and a tricyclo[6.2.1.0 2,7 ]octane structure. ]undecane structure, dicyclopentanyl structure, dicyclopentenyl structure, and other polycyclic structures; tetrahydrofuran structure, 1,3-dioxolane structure, 1,3-dioxane structure, 1,4-dioxane structure, hexahydrofuro[3,2-b]furan structure, and other heterocyclic structures; benzene structure, naphthalene structure, fluorene structure, acenaphthene structure, phenalene structure, anthracene structure, phenanthrene structure, tetracene structure, chrysene structure, pyrene structure, triphenylene structure, pentacene structure, benzopyrene structure, perylene structure, and other aromatic ring structures. These cyclic structures may be present alone or in one molecule. Among these, the cyclohexane structure, tricyclo[5.2.1.0 2,6 ]decane structure, and 1,3-dioxane structure are preferred because they provide an active energy ray-curable composition capable of forming a lens having a high Abbe number and excellent heat resistance.

前記(B)成分において、前記環状構造と前記(メタ)アクリロイル基は直接結合していてもよく、連結基を介して結合してもよい。 In the (B) component, the cyclic structure and the (meth)acryloyl group may be bonded directly or via a linking group.

前記連結基としては、例えば、酸素原子、炭素原子数1~10の直鎖状及び/又は分岐鎖状炭化水素基、繰り返し数1~10のアルキレンオキサイド基、カプロラクトンの開環重合体である繰り返し数1~10のアルキルエステル基、アミド基等が挙げられる。 Examples of the linking group include an oxygen atom, a linear and/or branched hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylene oxide group having 1 to 10 repeating numbers, an alkyl ester group having 1 to 10 repeating numbers which is a ring-opening polymer of caprolactone, an amide group, etc.

前記(B)成分の具体例としては、例えば、シクロペンチル(メタ)アクリレート、1-メチルシクロペンチル(メタ)アクリレート、1-エチルシクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、1-メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1-エチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、4-ターシャリーブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-シクロヘキシルプロパニル(メタ)アクレート、水添ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールAアルキレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールAカプロラクトン変性ジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールAグリシジルエーテル変性ジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールFカプロラクトン変性ジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールFアルキレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールFグリシジルエーテル変性ジ(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェニルアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、ノニルフェノール(メタ)アクリレート、ノニルフェノールアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、フェノキシベンジル(メタ)アクリレート、フェニルベンジルアクリレート、ビフェニル(メタ)アクリレート、ビフェニルアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAアルキレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAカプロラクトン変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAグリシジルエーテル変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFカプロラクトン変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFアルキレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFグリシジルエーテル変性ジ(メタ)アクリレート、フルオレンジ(メタ)アクリレート、フルオレンアルキレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニルジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレ-ト、ジシクロペンタニルアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレ-ト、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレ-ト、ジシクロペンテニルアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレ-ト、トリシクロデカンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、アダマンチルジ(メタ)アクリレート、2-メチルアダマンチル(メタ)アクリレート、2-エチルアダマンチル(メタ)アクリレート、2-イソプロピルアダマンチル(メタ)アクリレート、(3-エチルオキセタン-3-イル)メチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、(2-オキソ-1,3-ジオキソラン-4-イル)メチル(メタ)アクリレート、メバロン酸ラクトン(メタ)アクリレート、(2-メチル-2-エチル-1,3-ジオキソラン-4-イル)メチル(メタ)アクリレート、環状トリメチルロールプロパンホルマル(メタ)アクリレート、ジオキサングリコールジ(メタ)アクリレート、(3,4-エポキシシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート、イソソルバイドジ(メタ)アクリレート、イソソルバイドアルキレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。また、これらの中でも、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、2個の(メタ)アクリロイル基を有し、脂環構造又はヘテロ環構造を有する化合物が好ましく、水添ビスフェノールAアルキレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ジオキサングリコールジ(メタ)アクリレートがより好ましい。また、水酸基を含むシクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレートを使用しても良い。 Specific examples of the component (B) include cyclopentyl (meth)acrylate, 1-methylcyclopentyl (meth)acrylate, 1-ethylcyclopentyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 1-methylcyclohexyl (meth)acrylate, 1-ethylcyclohexyl (meth)acrylate, trimethylcyclohexyl (meth)acrylate, 4-tertiarybutylcyclohexyl (meth)acrylate, 2-cyclohexylpropanyl (meth)acrylate, hydrogenated bisphenol A di(meth)acrylate, hydrogenated bisphenol A alkylene oxide modified di(meth)acrylate, hydrogenated bisphenol A caprolactone modified di(meth)acrylate, hydrogenated bisphenol A glycidyl ether modified di(meth)acrylate, hydrogenated bisphenol F di(meth)acrylate, hydrogenated bisphenol F Caprolactone modified di(meth)acrylate, hydrogenated bisphenol F alkylene oxide modified di(meth)acrylate, hydrogenated bisphenol F glycidyl ether modified di(meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, phenyl alkylene oxide modified (meth)acrylate, nonylphenol (meth)acrylate, nonylphenol alkylene oxide modified (meth)acrylate, phenoxybenzyl (meth)acrylate, phenylbenzyl acrylate, biphenyl (meth)acrylate, biphenyl alkylene oxide modified (meth)acrylate, bisphenol A di(meth)acrylate, bisphenol A alkylene oxide modified di(meth)acrylate, bisphenol A caprolactone modified di(meth)acrylate, bisphenol A glycidyl ether modified di(meth)acrylate meth)acrylate, bisphenol F di(meth)acrylate, bisphenol F caprolactone modified di(meth)acrylate, bisphenol F alkylene oxide modified di(meth)acrylate, bisphenol F glycidyl ether modified di(meth)acrylate, fluorene di(meth)acrylate, fluorene alkylene oxide modified di(meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, isobornyl di(meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl alkylene oxide modified (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl alkylene oxide modified (meth)acrylate, tricyclodecane diol di(meth)acrylate, tricyclodecane dimethanol di(meth)acrylate, adamantyl (meth)acrylate, adamantyl Manthyl di(meth)acrylate, 2-methyladamantyl (meth)acrylate, 2-ethyladamantyl (meth)acrylate, 2-isopropyladamantyl (meth)acrylate, (3-ethyloxetan-3-yl)methyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, (2-oxo-1,3-dioxolan-4-yl)methyl (meth)acrylate, mevalonic acid lactone (meth)acrylate, (2-methyl-2-ethyl-1,3-dioxolan-4-yl)methyl (meth)acrylate, cyclic trimethylolpropane formal (meth)acrylate, dioxane glycol di(meth)acrylate, (3,4-epoxycyclohexyl)methyl (meth)acrylate, isosorbide di(meth)acrylate, isosorbide alkylene oxide modified di(meth)acrylate, and the like. These compounds can be used alone or in combination of two or more. Among these, compounds having two (meth)acryloyl groups and an alicyclic structure or a heterocyclic structure are preferred, since they can provide an active energy ray-curable composition capable of forming a lens having a high Abbe number and excellent heat resistance and moist heat resistance, and hydrogenated bisphenol A alkylene oxide-modified di(meth)acrylate, tricyclodecane dimethanol di(meth)acrylate, and dioxane glycol di(meth)acrylate are more preferred. Cyclohexane dimethanol mono(meth)acrylate containing a hydroxyl group may also be used.

また、前記(B)成分の市販品としては、例えば、MIWON社製「Miramer M1110」、「Miramer M1122」、「Miramer M1130」、「Miramer M1142」、「Miramer M1150」、「Miramer M1182」、「Miramer M1192」、「Miramer M140」、「Miramer M142」、「Miramer M144」、「Miramer M150」、「Miramer M164」、「Miramer M166」、「Miramer M1602」、「Miramer M240」、「Miramer M244」、「Miramer M2100」、「Miramer M2200」、「Miramer M2300」、「Miramer M262」、「Miramer M290」、「Miramer M1183」、「Miramer M141」、「Miramer M151」、「Miramer M241」、「Miramer M245」、「Miramer M2101」、「Miramer M2301」、新中村化学工業株式会社製「NKエステル A-IB」、「NKエステル AMP-10G」、「NKエステル AMP-20GY」、「NKエステル A-LEN-10」、「NKエステル 401P」、「NKエステル A-DOG」、「NKエステル A-DCP」、「NKエステル A-BPEF」、「NKエステル A-BPE-2」、「NKエステル A-BPE-2.2」、「NKエステル ABE-100」、「NKエステル A-BPE-10」、「NKエステル A-BPE-20」、「NKエステル A-BPE-30」、「NKエステル A-BPP3」、「NKエステル A-B1206PE」、「NKエステル IB」、「NKエステル PHE-1G」、「NKエステル PHE-2G」、「NKエステル DCP」、「NKエステル BPE-80N」、「NKエステル BPE-100」、「NKエステル BPE-200」、「NKエステル BPE-300」、「NKエステル BPE-500」、「NKエステル BPE-900」、「NKエステル BPE-1300N」、大阪有機化学工業株式会社製「IBXA」、「MEDOL-10」、「OXE-10」、「OXE-30」、「ビスコート#150」、「ビスコート#150D」、「ビスコート#155」、「ビスコート#160」、「ビスコート#192」、「ビスコート#196」、「ビスコート#200」、「ビスコート#700HV」、共栄社化学株式会社製「ライトエステルCH」、「ライトエステルTHF(1000)」、「ライトエステルBZ」、「ライトエステルPO」、「ライトエステルIB-X」、「ライトエステルBP-2EMK」、「ライトアクリレートPO-A」、「ライトアクリレートPOB-A」、「ライトアクリレートP2H-A」、「ライトアクリレートP-200A」、「ライトアクリレートTHF-A」、「ライトアクリレートIB-XA」、「ライトアクリレートBA-104」、「ライトアクリレートDCP-A」、「ライトアクリレートBP-4EAL」、「ライトアクリレートBP-4PA」、日本化薬株式会社製「KAYARAD R-551」、「KAYARAD R-712」、「KAYARAD R-604」、「KAYARAD R-684」、第一工業製薬株式会社製「ニューフロンティアPHE」、「ニューフロンティアPHE-2」、「ニューフロンティアPHE-2D」、「ニューフロンティアNP-1」、「ニューフロンティアNP-4」、「ニューフロンティアN-177E」、「ニューフロンティアOPPE」、「ニューフロンティアBPE-4」、「ニューフロンティアBPE-10」、「ニューフロンティアBPE-20」、「ニューフロンティアBPEM-4」、「ニューフロンティアBPEM-10」、「ニューフロンティアHBPE-4」、「ニューフロンティアHBPEM-10」、日立化成株式会社製「ファンクリルFA-512AS」、「ファンクリルFA-513AS」、「ファンクリルFA-BZA」、「ファンクリルFA-310A」、「ファンクリルFA-314A」、「ファンクリルFA-318A」、「ファンクリルFA-THFA」、「ファンクリルFA-321A」、「ファンクリルFA-324A」、「ファンクリルFA-512M」、「ファンクリルFA-512MT」、「ファンクリルFA-513M」、「ファンクリルFA-BZM」、「ファンクリルFA-310M」、「ファンクリルFA-THFM」、「ファンクリルFA-320M」、「ファンクリルFA-321M」、「ファンクリルFA-3218M」等が挙げられる。 In addition, examples of commercially available products of the component (B) include Miramer M1110, Miramer M1122, Miramer M1130, Miramer M1142, Miramer M1150, Miramer M1182, Miramer M1192, Miramer M140, Miramer M142, Miramer M144, Miramer M150, Miramer M164, Miramer M166, Miramer M1602, Miramer M240, Miramer M244, Miramer M2100, Miramer M220, Miramer M230, Miramer M240, Miramer M244, Miramer M250, Miramer M260, Miramer M270, Miramer M280, Miramer M290, Miramer M300, Miramer M310, Miramer M320, Miramer M330, Miramer M340, Miramer M350, Miramer M360, Miramer M370, Miramer M380, Miramer M390, Miramer M390, Miramer M40 ... M2200, Miramer M2300, Miramer M262, Miramer M290, Miramer M1183, Miramer M141, Miramer M151, Miramer M241, Miramer M245, Miramer M2101, Miramer M2301 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK Ester A-IB, NK Ester AMP-10G, NK Ester AMP-20GY, NK Ester A-LEN-10, NK Ester 401P, NK Ester A-DOG, NK Ester A-DCP, NK Ester A-BPEF, NK Ester A-BPE-2, NK Ester A-BPE-2.2", "NK Ester ABE-100", "NK Ester A-BPE-10", "NK Ester A-BPE-20", "NK Ester A-BPE-30", "NK Ester A-BPP3", "NK Ester A-B1206PE", "NK Ester IB", "NK Ester PHE-1G", "NK Ester PHE-2G", "NK Ester DCP", "NK Ester BPE-80N", "NK Ester BPE-100", "NK Ester BPE-200", "NK Ester BPE-300", "NK Ester BPE-500", "NK Ester BPE-900", "NK Ester BPE-1300N, Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.'s IBXA, MEDOL-10, OXE-10, OXE-30, Viscoat #150, Viscoat #150D, Viscoat #155, Viscoat #160, Viscoat #192, Viscoat #196, Viscoat #200, Viscoat #700HV, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.'s Light Ester CH, Light Ester THF (1000), Light Ester BZ, Light Ester PO , "Light Ester IB-X", "Light Ester BP-2EMK", "Light Acrylate PO-A", "Light Acrylate POB-A", "Light Acrylate P2H-A", "Light Acrylate P-200A", "Light Acrylate THF-A", "Light Acrylate IB-XA", "Light Acrylate BA-104", "Light Acrylate DCP-A", "Light Acrylate BP-4EAL", "Light Acrylate BP-4PA", "KAYARAD R-551", "KAYARAD R-712", "KAYARAD R-604", "KAYARAD R-712 ... R-684, Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.'s "New Frontier PHE", "New Frontier PHE-2", "New Frontier PHE-2D", "New Frontier NP-1", "New Frontier NP-4", "New Frontier N-177E", "New Frontier OPPE", "New Frontier BPE-4", "New Frontier BPE-10", "New Frontier BPE-20", "New Frontier BPEM-4", "New Frontier BPEM-10", "New Frontier HBPE-4", "New Frontier HBPEM-10", Hitachi Chemical Co., Ltd.'s "Fancryl FA-512" AS", "Fancryl FA-513AS", "Fancryl FA-BZA", "Fancryl FA-310A", "Fancryl FA-314A", "Fancryl FA-318A", "Fancryl FA-THFA", "Fancryl FA-321A", "Fancryl FA-324A", "Fancryl FA-512M", "Fancryl FA-512MT", "Fancryl FA-513M", "Fancryl FA-BZM", "Fancryl FA-310M", "Fancryl FA-THFM", "Fancryl FA-320M", "Fancryl FA-321M", "Fancryl FA-3218M", etc.

前記(B)成分の含有割合は、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、活性エネルギー線硬化性組成物中に、5~70質量%の範囲が好ましく、10~60質量%の範囲がより好ましく、20~50質量%の範囲が特に好ましい。 The content of the (B) component in the active energy ray-curable composition is preferably in the range of 5 to 70% by mass, more preferably in the range of 10 to 60% by mass, and particularly preferably in the range of 20 to 50% by mass, since an active energy ray-curable composition capable of forming a lens having a high Abbe number and excellent heat resistance and moist heat resistance can be obtained.

前記一分子中に1又は2個の(メタ)アクリロイル基及び一分子中にアルキレングリコール構造を有する化合物(C)(以下、「(C)成分」と略記する。)としては、一分子中に1又は2個の(メタ)アクリロイル基及びアルキレングリコール構造を必須として有するものである。前記(C)成分を用いることで、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性と耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られる。 The compound (C) having one or two (meth)acryloyl groups in one molecule and an alkylene glycol structure in one molecule (hereinafter abbreviated as "component (C)") essentially has one or two (meth)acryloyl groups and an alkylene glycol structure in one molecule. By using component (C), an active energy ray-curable composition capable of forming a lens having a high Abbe number and excellent heat resistance and moist heat resistance can be obtained.

前記アルキレングリコール構造としては、例えば、1,2-エタンジオール(エチレングリコール)、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,7-ヘプタンジオール、1,8-オクタンジオール、1,9-ノナンジオール、1,10-デカンジオール、1,2-プロパンジオール(プロピレングリコール)、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、2,3-ブタンジオール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、1,2-ペンタンジオール、1,3-ペンタンジオール、1,4-ペンタンジオール、2,4-ペンタンジオール、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)、3-メチル-1,3-ブタンジオール、2-メチル-1,3-ブタンジオール、1,2-ヘキサンジオール、1,5-ヘキサンジオール、2,5-ヘキサンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2,3-ジメチル-2,3-ブタンジオール、2-エチル-2-メチル-1,3-プロパンジオール、1,2-ヘプタンジオール、2-メチル-2-プロピル-1,3-プロパンジオール、2,4-ジメチル-2,4-ペンタンジオール、3,6-オクタンジオール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール、1,2-ノナンジオール、1,8-ノナンジオール、2,8-ノナンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、1,2-デカンジオール、2,2-ジイソブチル-1,3-プロパンジオール等が挙げられる。これらのアルキレングリコール構造は、一分子中に1種のみで有することも、2種以上を有することもできる。また、これらの中でも、優れた耐熱性と耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、が好ましい。更に、より優れた耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、アルキレングリコール構造の繰り返し単位数が2~15であることが好ましい。 Examples of the alkylene glycol structure include 1,2-ethanediol (ethylene glycol), 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 1,2-propanediol (propylene glycol), 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 2,3-butanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,2-pentanediol, 1,3-pentanediol, 1,4-pentanediol, 2,4-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol), 3-methyl-1,3-butanediol, 2-methyl-1,3-butanediol, 1,2-hexanediol, ethanol, 1,5-hexanediol, 2,5-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,3-dimethyl-2,3-butanediol, 2-ethyl-2-methyl-1,3-propanediol, 1,2-heptanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2,4-dimethyl-2,4-pentanediol, 3,6-octanediol, 2,2,4-trimethyl 1,3-pentanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 1,2-nonanediol, 1,8-nonanediol, 2,8-nonanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 1,2-decanediol, 2,2-diisobutyl-1,3-propanediol, etc. These alkylene glycol structures may be present in one molecule, or may have two or more types. Among these, ethylene glycol, propylene glycol, and neopentyl glycol are preferred, since they provide an active energy ray-curable composition capable of forming a lens having excellent heat resistance and moist heat resistance. Furthermore, it is preferred that the number of repeating units of the alkylene glycol structure is 2 to 15, since they provide an active energy ray-curable composition capable of forming a lens having even better moist heat resistance.

また、前記(C)成分の市販品としては、例えば、MIWON社製「Miramer M170」、「Miramer M202」、「Miramer M210」、「Miramer M216」、「Miramer M220」、「Miramer M222」、「Miramer M232」、「Miramer M280」、「Miramer M282」、「Miramer M284」、「Miramer M286」、「Miramer M2040」、「Miramer M231」、「Miramer M233」、「Miramer M235」、「Miramer M281」、「Miramer M283」、新中村化学工業株式会社製「NKエステル A-30G」、「NKエステル A-90G」、「NKエステル A-130G」、「NKエステル AM-30PG」、「NKエステル A-200」、「NKエステル A-400」、「NKエステル A-600」、「NKエステル APG-100」、「NKエステル APG-200」、「NKエステル APG-400」、「NKエステル APG-700」、「NKエステル A-PTMG-65」、「NKエステル M-20G」、「NKエステル M-30G」、「NKエステル M-40G」、「NKエステル M-90G」、「NKエステル M-130G」、「NKエステル M-30PG」、「NKエステル EH-4E」、「NKエステル B-20G」、「NKエステル S-12E」、「NKエステル 2G」、「NKエステル 3G」、「NKエステル 4G」、「NKエステル 9G」、「NKエステル 14G」、「NKエステル 3PG」、「NKエステル 9PG」、共栄社化学株式会社製「ライトエステルBC」、「ライトエステル130MA」、「ライトエステルBC」、「ライトエステル2EG」、「ライトエステル3EG」、「ライトエステル4EG」、「ライトエステル9EG」、「ライトエステル14EG」、「ライトアクリレートEC-A」、「ライトアクリレートMTG-A」、「ライトアクリレートEHDG-AT」、「ライトアクリレート130A」、「ライトアクリレートDPM-A」、「ライトアクリレートP2H-A」、「ライトアクリレートP-200A」、「ライトアクリレート3EG-A」、「ライトアクリレート4EG-A」、「ライトアクリレート9EG-A」、「ライトアクリレート14EG-A」、「ライトアクリレートPTMGA-250」、日立化成株式会社製「ファンクリルFA-240A」、「ファンクリルFA-P240A」、「ファンクリルFA-P270A」、「ファンクリルFA-PTG9A」、「ファンクリルFA-400M(100)」、「ファンクリルFA-240M」、「ファンクリルFA-PTG9M」、第一工業製薬株式会社製「ニューフロンティア ME-3」、「ニューフロンティア ME-4S」、「ニューフロンティア MPE-600」、「ニューフロンティア PE-200」、「ニューフロンティア PE-300」、「ニューフロンティア PE-400」、「ニューフロンティア PE-600」、「ニューフロンティア MPEM-400」、「ニューフロンティア TEGDMA」、日本化薬株式会社製「KAYARAD PEG400DA」、「KAYARAD PEG400DA」、大阪有機化学工業株式会社製「ビスコート#190」、「ビスコート#MTG」、「MPE400A」、「MPE550A」、「ビスコート#310HP」等が挙げられる。 In addition, examples of commercially available products of the component (C) include Miramer M170, Miramer M202, Miramer M210, Miramer M216, Miramer M220, Miramer M222, Miramer M232, Miramer M280, Miramer M282, Miramer M284, Miramer M286, Miramer M2040, Miramer M231, Miramer M233, Miramer M235, Miramer M281, and Miramer M283 manufactured by MIWON Co., Ltd., and NK Ester manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. A-30G", "NK Ester A-90G", "NK Ester A-130G", "NK Ester AM-30PG", "NK Ester A-200", "NK Ester A-400", "NK Ester A-600", "NK Ester APG-100", "NK Ester APG-200", "NK Ester APG-400", "NK Ester APG-700", "NK Ester A-PTMG-65", "NK Ester M-20G", "NK Ester M-30G", "NK Ester M-40G", "NK Ester M-90G", "NK Ester M-130G", "NK Ester M-30PG", "NK Ester EH-4E", "NK Ester B-20G", "NK Ester S-12E", "NK Ester 2G", "NK Ester 3G", "NK Ester 4G", "NK Ester 9G", "NK Ester 14G", "NK Ester 3PG", "NK Ester 9PG", Kyoeisha Chemical Co., Ltd.'s "Light Ester BC", "Light Ester 130MA", "Light Ester BC", "Light Ester 2EG", "Light Ester 3EG", "Light Ester 4EG", "Light Ester 9EG", "Light Ester 14EG", "Light Acrylate EC-A", "Light Acrylate MTG-A", "Light Acrylate EHDG-AT", "Light Acrylate 130A", "Light Acrylate DPM-A", "Light Acrylate P2H-A", "Light Acrylate P-200A", "Light Acrylate 3EG-A", "Light Acrylate 4EG-A", "Light Acrylate 9EG-A", "Light Acrylate 14EG-A", "Light Acrylate PTMGA-250", Hitachi Chemical Co., Ltd.'s "Fancryl FA-240A", "Fancryl FA-P240A", "Fancryl FA-P270A", "Fancryl FA-PTG9A", "Fancryl FA-400M (100)", "Fancryl FA-240M", "Fancryl FA-PTG9M", Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.'s "New Frontier ME-3," "New Frontier ME-4S," "New Frontier MPE-600," "New Frontier PE-200," "New Frontier PE-300," "New Frontier PE-400," "New Frontier PE-600," "New Frontier MPEM-400," "New Frontier TEGDMA," "KAYARAD PEG400DA" and "KAYARAD PEG400DA" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., and "Viscoat #190," "Viscoat #MTG," "MPE400A," "MPE550A," and "Viscoat #310HP" manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. are examples of such products.

前記(C)成分の含有割合は、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、活性エネルギー線硬化性組成物中に、1~30質量%の範囲が好ましく、5~25質量%の範囲がより好ましく、10~20質量%の範囲が特に好ましい。 The content of the component (C) in the active energy ray-curable composition is preferably in the range of 1 to 30% by mass, more preferably in the range of 5 to 25% by mass, and particularly preferably in the range of 10 to 20% by mass, since an active energy ray-curable composition capable of forming a lens having a high Abbe number and excellent heat resistance and moist heat resistance can be obtained.

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、前記(A)成分、前記(B)成分及び前記(C)成分以外に、必要に応じて、耐湿熱性を更に向上させる目的で、一分子中に1又は2個の(メタ)アクリロイル基及び一分子中に少なくとも1個以上の水酸基を有する化合物(D)(以下、「(D)成分」と略記する。)を用いることができる。 In addition to the components (A), (B) and (C), the active energy ray-curable composition of the present invention may contain, as necessary, a compound (D) having one or two (meth)acryloyl groups in one molecule and at least one hydroxyl group in one molecule (hereinafter abbreviated as "component (D)") for the purpose of further improving moist heat resistance.

前記(D)成分としては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-1-メチルエチル(メタ)アクリレート2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェニルフェノールプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシ-3-メチルブチル(メタ)アクリレート、6-ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、8-ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシ-1-アダマンチル(メタ)アクリレート、3,5-ジヒドロキシ-1-アダマンチル(メタ)アクリレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ソルビトールモノ(メタ)アクリレート、ソルビトールジ(メタ)アクリレート、マンニトールモノ(メタ)アクリレート、マンニトールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、前記化合物が有する水酸基の一部又は全てをアルキレンオキサイド変性、カプロラクトン変性した化合物等も用いることができる。これらの化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。またこれらの中でも、より一層高いアッベ数、耐熱性、耐湿熱性を得られる観点から、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ソルビトールエチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレートが好ましい。 Examples of the component (D) include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-1-methylethyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenylphenolpropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxy-3-methylbutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 5-hydroxypropyl (meth)acrylate, 6-hydroxypropyl (meth)acrylate, 7-hydroxypropyl (meth)acrylate, 8-hydroxypropyl (meth)acrylate, 9-hydroxypropyl (meth)acrylate, 10-hydroxypropyl (meth)acrylate, 11-hydroxypropyl (meth)acrylate, 12-hydroxypropyl (meth)acrylate, 13-hydroxypropyl (meth)acrylate, 14-hydroxypropyl (meth)acrylate, 15-hydroxypropyl (meth)acrylate, 16-hydroxypropyl (meth)acrylate, 17-hydroxypropyl (meth)acrylate, 18-hydroxypropyl (meth)acrylate, 19-hydroxypropyl (meth)acrylate, 20-hydroxypropyl (meth)acrylate, 21-hydroxypropyl (meth)acrylate, 22-hydroxypropyl (meth)acrylate, 23-hydroxypropyl (meth)acrylate, 24-hydroxypropyl (meth)acrylate, 25-hydroxypropyl (meth)acrylate, 26-hydroxypropyl (meth)acrylate, 27-hydroxypropyl (meth)acrylate, 28-hydroxypropyl (meth)acrylate, 29-hydroxypropyl (meth)acrylate, 30-hydroxypropyl (meth)acrylate, 31-hydroxypropyl (meth)acrylate, 32-hydroxypropyl (meth)acrylate, 33-hydroxypropyl (meth)acrylate, 34-hydroxypropyl (meth)acrylate, 35-hydroxypropyl (meth)acrylate, 36-hydroxypropyl (meth)acrylate , 37-hydroxy -hydroxy-1-adamantyl (meth)acrylate, 3,5-dihydroxy-1-adamantyl (meth)acrylate, glycerin mono(meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate, trimethylolpropane mono(meth)acrylate, trimethylolpropane di(meth)acrylate, ditrimethylolpropane mono(meth)acrylate, ditrimethylolpropane di(meth)acrylate, pentaerythritol mono(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, dipentaerythritol mono(meth)acrylate, dipentaerythritol di(meth)acrylate, sorbitol mono(meth)acrylate, sorbitol di(meth)acrylate, mannitol mono(meth)acrylate, and mannitol di(meth)acrylate. In addition, compounds in which some or all of the hydroxyl groups of the above-mentioned compounds are modified with alkylene oxide or caprolactone can also be used. These compounds can be used alone or in combination of two or more. Among these, hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxybutyl (meth)acrylate , and sorbitol ethylene oxide-modified di(meth)acrylate are preferred from the viewpoint of obtaining even higher Abbe number, heat resistance, and moist heat resistance.

また、前記(D)成分としては、一分子中に1又は2個のグリシジル基を有する化合物と(メタ)アクリル酸との反応物、一分子中に(メタ)アクリロイル基とグリシジル基を有する化合物と、カルボン酸及び/又は無水ジカルボン酸との反応物等のエポキシ(メタ)アクリレートなども用いることができる。 The component (D) may also be an epoxy (meth)acrylate, such as a reaction product of a compound having one or two glycidyl groups in one molecule with (meth)acrylic acid, or a reaction product of a compound having a (meth)acryloyl group and a glycidyl group in one molecule with a carboxylic acid and/or a dicarboxylic acid anhydride.

前記一分子中に1又は2個のグリシジル基を有する化合物としては、例えば、ドデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1.6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、1,2-エポキシ-4-ビニルシクロヘキサン、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノグリシジルエーテル、1,4-シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、3,4,3,4-ジエポキシビシクロヘキシル、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ε-カプロラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビスフェノールAモノグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールAアルキレンオキサイド変性モノグリシジルエーテル、ビスフェノールAアルキレンオキサイド変性ジグリシジルエーテル、ビスフェノールAカプロラクトン変性モノグリシジルエーテル、ビスフェノールAカプロラクトン変性ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAモノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAアルキレンオキサイド変性モノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAアルキレンオキサイド変性ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAカプロラクトン変性モノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAカプロラクトン変性ジグリシジルエーテル、ビスフェノールFモノグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールFアルキレンオキサイド変性モノグリシジルエーテル、ビスフェノールFアルキレンオキサイド変性ジグリシジルエーテル、ビスフェノールFカプロラクトン変性モノグリシジルエーテル、ビスフェノールFカプロラクトン変性ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFモノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFアルキレンオキサイド変性モノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFアルキレンオキサイド変性ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFカプロラクトン変性モノグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFカプロラクトン変性ジグリシジルエーテル等が挙げられる。 Examples of the compounds having one or two glycidyl groups in one molecule include dodecyl glycidyl ether, tetradecyl glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1.6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane, 3,4-epoxycyclohexane, 4-vinylcyclohexane, 5-vinylcyclohexane, 6-vinylcyclohexane, 7-vinylcyclohexane, 8-vinylcyclohexane, 9-vinylcyclohexane, 10-vinylcyclohexane, 11-vinylcyclohexane, 12-vinylcyclohexane, 13-vinylcyclohexane, 14-vinylcyclohexane, 15-vinylcyclohexane, 16-vinylcyclohexane, 17-vinylcyclohexane, 18-vinylcyclohexane, 19-vinylcyclohexane, 20-vinylcyclohexane, 21-vinylcyclohexane, 22-vinylcyclohexane, 23-vinylcyclohexane, 24-vinylcyclohexane, 25-vinylcyclohexane, 26-vinylcyclohexane, 27-vinylcyclohexane, 28-vinylcyclohexane, 29-vinylcyclohexane, 30-vinylcyclohexane, 31-vinylcyclohexane, 32-vinylcyclohexane, 33-vinylcyclohexane, 34-vinylcyclohexane, 35-vinylcyclohexane, 36-vinylcyclohexane, 37-vinylcyclohexane, 38-vinylcyclohexane, 39-vinylcyclohexane, 40-vinylcyclohexane, 41-vinylcyclohexane, 42-vinylcyclohexane, 43-vinylcyclo Cyclohexyl methyl methacrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol monoglycidyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, 3,4,3,4-diepoxybicyclohexyl, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, ε-caprolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, bisphenol A monoglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol A alkylene oxide-modified monoglycidyl ether, bisphenol A alkylene oxide-modified diglycidyl ether glycidyl ether, bisphenol A caprolactone modified monoglycidyl ether, bisphenol A caprolactone modified diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A monoglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A alkylene oxide modified monoglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A alkylene oxide modified diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A caprolactone modified monoglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A caprolactone modified diglycidyl ether, bisphenol F monoglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol F alkylene oxide modified diglycidyl ether Examples of the glycidyl ether include bisphenol F alkylene oxide modified monoglycidyl ether, bisphenol F caprolactone modified monoglycidyl ether, bisphenol F caprolactone modified diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F monoglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F alkylene oxide modified monoglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F alkylene oxide modified diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F caprolactone modified monoglycidyl ether, and hydrogenated bisphenol F caprolactone modified diglycidyl ether.

前記一分子中に(メタ)アクリロイル基とグリシジル基を有する化合物としては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the compound having a (meth)acryloyl group and a glycidyl group in one molecule include glycidyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate.

前記カルボン酸及び/又は無水ジカルボン酸としては、例えば、(メタ)アクリル酸、1,2-シクロヘキサンジカルボン酸無水物、4-メチルシクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸無水物、1,2,3,6-テトラヒドロ無水フタル酸、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-ジカルボン酸無水物、無水コハク酸、オクテニル無水コハク酸、テトラプロペニル無水コハク酸、3-ドデセニル無水コハク酸、3,3,4,4-テトラヒドロ-3,3-ビフラン-2,2,5,5-テトラオン、4-(2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3-イル)-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1,2-ジカルボン酸無水物、トリメリット酸無水物、ビス(1,3-ジヒドロ-1,3-ジオキソ-5-イソベンゾフランカルボン酸)2-アセチルオキシ-1,3-プロパンジイル等が挙げられる。 Examples of the carboxylic acid and/or dicarboxylic anhydride include (meth)acrylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, methylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, succinic anhydride, octenyl succinic anhydride, tetrapropenyl Examples include succinic anhydride, 3-dodecenyl succinic anhydride, 3,3,4,4-tetrahydro-3,3-bifuran-2,2,5,5-tetraone, 4-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic anhydride, trimellitic anhydride, bis(1,3-dihydro-1,3-dioxo-5-isobenzofuran carboxylic acid) 2-acetyloxy-1,3-propanediyl, etc.

前記(D)成分の市販品としては、例えば、MIWON社製「Miramer M100」、「Miramer M1051」、新中村化学工業株式会社製「NKエステル 702A」、「NKエステル 401P」、「NKエステル 701A」、大阪有機化学工業株式会社製「HEA」、「HPA」、「4-HBA」、「ビスコート#540」、共栄社化学株式会社製「ライトエステルHO-250(N)」、「ライトエステルHOP(N)」、「ライトエステルHOP-A(N)」、「ライトエステルHOA(N)」、「ライトエステルHOB(N)」、「ライトエステルG-101P」、「ライトエステルG-201P」、「ライトアクリレートHOB-A」、「エポキシエステルM-600A」、「HOA-MPE(N)」、第一工業製薬株式会社製「ニューフロンティア PGA」、日本化薬株式会社製「KAYARAD R-128H」、「KAYARAD R-167」、東亜合成株式会社製「アロニックスM-920」、「アロニックスM-926」、三菱ケミカル株式会社製「4HBA」、「CHDMMA」、株式会社ダイセル製「レジストモノマーHMA」、「レジストモノマーDHMA」等が挙げられる。 Commercially available products of the component (D) include, for example, Miramer M100 and Miramer M1051 manufactured by MIWON Co., Ltd., NK Ester 702A, NK Ester 401P, and NK Ester 701A manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., HEA, HPA, 4-HBA, and Viscoat #540 manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Light Ester HO-250(N), Light Ester HOP(N), Light Ester HOP-A(N), Light Ester HOA(N), Light Ester HOB(N), Light Ester G-101P, Light Ester G-201P, Light Acrylate HOB-A, Epoxy Ester M-600A, and HOA-MPE(N) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., New Frontier PGA manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., and KAYARAD manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Examples include "R-128H", "KAYARAD R-167" manufactured by Toagosei Co., Ltd., "Aronix M-920" and "Aronix M-926" manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., "4HBA" and "CHDMMA" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, and "Resist Monomer HMA" and "Resist Monomer DHMA" manufactured by Daicel Corporation.

前記(D)成分の含有割合は、高いアッベ数を有し、優れた耐熱性及び耐湿熱性を有するレンズを形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物が得られることから、活性エネルギー線硬化性組成物中に、1~30質量%の範囲が好ましく、5~20質量%の範囲がより好ましい。 The content of the (D) component in the active energy ray-curable composition is preferably in the range of 1 to 30% by mass, and more preferably in the range of 5 to 20% by mass, since an active energy ray-curable composition capable of forming a lens having a high Abbe number and excellent heat resistance and moist heat resistance can be obtained.

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに、必要に応じて、前記(A)成分、前記(B)成分、前記(C)成分及び前記(D)成分以外に、その他の化合物を用いることもできる。 The active energy ray-curable composition of the present invention may further contain other compounds in addition to the components (A), (B), (C) and (D), if necessary.

前記その他の化合物としては、例えば、水酸基を有する(メタ)アクリレート等が挙げられる。前記水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、さらに前記水酸基を有する(メタ)アクリレートのアルキレンオキサイド変性及び/又はカプロラクトン変性された化合物、ウレタンアクリレート、アクリル(メタ)アクリレート、ポリエステルポリオール(メタ)アクリレート、エポキシアクリレート等が挙げられる。 Examples of the other compounds include (meth)acrylates having a hydroxyl group. Examples of the (meth)acrylates having a hydroxyl group include pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, and further, alkylene oxide-modified and/or caprolactone-modified compounds of the (meth)acrylates having a hydroxyl group, urethane acrylate, acrylic (meth)acrylate, polyester polyol (meth)acrylate, and epoxy acrylate.

また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線を照射することで硬化物やレンズを得ることができる。この活性エネルギー線とは、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線をいう。活性エネルギー線として紫外線を照射する場合には、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物中に光重合開始剤(E)を添加し、硬化性を向上することが好ましい。一方、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線を用いる場合には、光重合開始剤(E)を用いなくても速やかに硬化するので、特に光重合開始剤(E)を添加する必要はない。 The active energy ray curable composition of the present invention can be irradiated with active energy rays to obtain a cured product or lens. The active energy ray refers to ionizing radiation such as ultraviolet rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays. When ultraviolet rays are irradiated as the active energy ray, it is preferable to add a photopolymerization initiator (E) to the active energy ray curable composition of the present invention to improve the curability. On the other hand, when ionizing radiation such as electron beams, α rays, β rays, and γ rays is used, the composition is rapidly cured without using the photopolymerization initiator (E), so there is no need to add the photopolymerization initiator (E).

前記光重合開始剤(E)としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、オリゴ{2-ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-(1-メチルビニル)フェニル]プロパノン}、ベンジルジメチルケタール、1-(4-イソプロピルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル-(2-ヒドロキシ-2-プロピル)ケトン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-2-モルホリノ(4-チオメチルフェニル)プロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタノン等のアセトフェノン系化合物;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン系化合物;2,4,6-トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド系化合物;ベンジル(ジベンゾイル)、メチルフェニルグリオキシエステル、オキシフェニル酢酸2-(2-ヒドロキシエトキシ)エチルエステル、オキシフェニル酢酸2-(2-オキソ-2-フェニルアセトキシエトキシ)エチルエステル等のベンジル系化合物;ベンゾフェノン、o-ベンゾイル安息香酸メチル-4-フェニルベンゾフェノン、4,4’-ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチル-ジフェニルサルファイド、アクリル化ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラ(t-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;2-イソプロピルチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系化合物;ミヒラ-ケトン、4,4’-ジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系化合物;10-ブチル-2-クロロアクリドン、2-エチルアンスラキノン、9,10-フェナンスレンキノン、カンファーキノン、1-[4-(4-ベンゾイルフェニルサルファニル)フェニル]-2-メチル-2-(4-メチルフェニルサルフォニル)プロパン-1-オン等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the photopolymerization initiator (E) include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, oligo{2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propanone}, benzyl dimethyl ketal, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4-(2-hydroxyethoxy)phenyl-(2-hydroxy-2-propyl)ketone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino(4-thiomethylphenyl)propane- acetophenone compounds such as 1-one and 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone; benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl ether and benzoin isopropyl ether; acylphosphine oxide compounds such as 2,4,6-trimethylbenzoin diphenylphosphine oxide and bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide; benzyl (dibenzoyl), methylphenyl glyoxy ester, oxyphenylacetic acid 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl ester, oxyphenyl benzyl compounds such as 2-(2-oxo-2-phenylacetoxyethoxy)ethyl ester of benzoyl acetate; benzophenones such as benzophenone, o-benzoylbenzoic acid methyl-4-phenylbenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyl-diphenyl sulfide, acrylated benzophenone, 3,3',4,4'-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, and 4-methylbenzophenone; thioxanthone compounds such as 2-isopropylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, and 2,4-dichlorothioxanthone; aminobenzophenone compounds such as Michler's ketone and 4,4'-diethylaminobenzophenone; 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, and 1-[4-(4-benzoylphenylsulfanyl)phenyl]-2-methyl-2-(4-methylphenylsulfonyl)propan-1-one. These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

前記光重合開始剤(E)の市販品としては、例えば、IGM社製「Omnirad 1173」、「Omnirad 184」、「Omnirad 127」、「Omnirad 2959」、「Omnirad 369」、「Omnirad 379」、「Omnirad 907」、「Omnirad 4265」、「Omnirad 1000」、「Omnirad 651」、「Omnirad TPO」、「Omnirad TPO-L」、「Omnirad 819」、「Omnirad 2022」、「Omnirad 2100」、「Omnirad 754」、「Omnirad BP」、「Omnirad 4MBZ」、「Omnirad 4PBZ」、「Omnirad 410」、「Omnirad OMBB」、「Omnirad BMS」、「Omnirad 500」、「Omnirad 81」、「Omnirad ITX」、「Omnirad DETX」、「Omnirad MBF」、「Omnirad EMK」、「Omnirad 784」、「Omnirad 1312」、「Omnirad BCIM」、「Omnirad BL 723」、「Omnirad BL 724」、「Omnirad BL 750」、「Omnirad BL751」、「Omnirad EDB」、「Omnirad EHA」、「Omnirad IADB」、「Esacure KIP 150」、「Esacure KIP 100F」、「Esacure KIP 75LT」、「Esacure KIP IT」、「Esacure TZT」、「Esacure KT55」、「Esacure TZM」、「Esacure ONE」、「Esacure 1001M」、「Esacure KIP 160」、「Esacure A 198」、「Esacure KTO 46」、「Esacure DP 250」、「Omnipol 910」、「Omnipol 9210」、「Omnipol BP」、「Omnipol TX」、「Omnipol 3TX」、「Omnipol BL728」、「Omnipol ASA」、日本化薬株式会社製「カヤキュア DETX」、「カヤキュア MBP」、「カヤキュア DMBI」、「カヤキュア EPA」、「カヤキュア OA」、ストウファ・ケミカル社製「バイキュア 10」、「バイキュア 55」、アクゾ社製「トリゴナルP1」、サンドズ社製「サンドレイ1000」、アプジョン社製「ディープ」、ワードブレンキンソップ社製「クオンタキュア PDO」、「クオンタキュアITX」、「クオンタキュアEPD」、Runtec社製「Runtecure-1104」等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。 Examples of commercially available photopolymerization initiators (E) include "Omnirad 1173", "Omnirad 184", "Omnirad 127", "Omnirad 2959", "Omnirad 369", "Omnirad 379", "Omnirad 907", "Omnirad 4265", "Omnirad 1000", "Omnirad 651", "Omnirad TPO", "Omnirad TPO-L", "Omnirad 819", "Omnirad 2022", "Omnirad 2100", "Omnirad 754", "Omnirad BP", and "Omnirad 1000", all manufactured by IGM. 4MBZ”, “Omnirad 4PBZ”, “Omnirad 410”, “Omnirad OMBB”, “Omnirad BMS”, “Omnirad 500”, “Omnirad 81”, “Omnirad ITX”, “Omnirad DETX ”, “Omnirad MBF”, “Omnirad EMK”, “Omnirad 784”, “Omnirad 1312”, “Omnirad BCIM”, “Omnirad BL 723”, “Omnirad BL 724”, “Omnirad BL 750” , “Omnirad BL751”, “Omnirad EDB”, “Omnirad EHA", "Omnirad IADB", "Esacure KIP 150", "Esacure KIP 100F", "Esacure KIP 75LT", "Esacure KIP IT", "Esacure TZT", "Esacure KT55 ”, “Esacure TZM”, “Esacure ONE”, “Esacure 1001M”, “Esacure KIP 160”, “Esacure A 198”, “Esacure KTO 46”, “Esacure DP 250”, “Omnipol 910”, “Omnipol 9210”, “Omnipol BP”, “Omnipol TX”, “Omnipol Examples of photopolymerization initiators include "Kayacure DETX", "Kayacure MBP", "Kayacure DMBI", "Kayacure EPA", and "Kayacure OA" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., "Vicure 10" and "Vicure 55" manufactured by Stouffer Chemical Co., Ltd., "Trigonal P1" manufactured by Akzo Co., Ltd., "Sandray 1000" manufactured by Sandoz Co., Ltd., "Deep" manufactured by Upjohn Co., Ltd., "Quantacure PDO", "Quantacure ITX", and "Quantacure EPD" manufactured by Ward Blenkinsop Co., Ltd., and "Runtecure-1104" manufactured by Runtec Co., Ltd. These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more types.

前記光重合開始剤(E)の使用量としては、十分な硬化性を得られる観点から、前記(A)成分、前記(B)成分、前記(C)成分及び前記(D)成分の合計質量100質量部に対して、0.05~20質量部の範囲が好ましく、0.1~10質量部の範囲がより好ましく、0.5~5質量部の範囲が特に好ましい。 From the viewpoint of obtaining sufficient curability, the amount of the photopolymerization initiator (E) used is preferably in the range of 0.05 to 20 parts by mass, more preferably in the range of 0.1 to 10 parts by mass, and particularly preferably in the range of 0.5 to 5 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the total mass of the components (A), (B), (C), and (D).

また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、耐熱性をさらに向上させることを目的として、耐熱安定剤(F)を添加してもよい。 In addition, a heat stabilizer (F) may be added to the active energy ray-curable composition of the present invention in order to further improve heat resistance.

前記耐熱安定剤としては、例えば、エタンチオール、2-メチルプロパン-2-チオール、n-ドデカンチオール、2,3,3,4,4,5-ヘキサメチルヘキサン-2-チオール、2-メルカプトエタノール、4-メルカプト-1-ブタノール、メルカプト酢酸メチル、3-メルカプトプロピオン酸メチル、3-メルカプトプロピオン酸2-エチルヘキシル、3-メルカプトプロピオン酸3-メトキシブチル、3-メルカプトプロピオン酸n-オクチル、3-メルカプトプロピオン酸ステアリル、3-(トリメトキシシリル)プロパン-1-チオール、3-(トリエトキシシリル)プロパン-1-チオール、ベンゼンチオール、ベンジルチオール、3-メチルベンゼンチオール、4-メチルベンゼンチオール、ナフタレン-2-チオール、ピリジン-2-チオール、ベンゾイミダゾール-2-チオール、ベンゾチアゾール-2-チオール、1,2―エタンジチオール、1,2-プロパンジチオール、1,3-プロパンジチオール、1,4-ブタンジチオール、2,3-ブタンジチオール、1,5-ペンタンジチオール、1,6-ヘキサンジチオール、1,10-デカンジチオール、2,3-ジヒドロキシ-1,4-ブタンジチオール、3,6-ジオキサ-1,8-オクタンジチオール、3,7-ジチア-1,9-ノナンジチオール、1,4-ビス(3-メルカプトプロピオニルオキシ)ブタン、1,4-ビス(3-メルカプトブチリルオキシ)ブタン、テトラエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、1,2-ベンゼンジチオール、1,3-ベンゼンジチオール、1,4-ベンゼンジチオール、2,3-ジアミノー1,4-ベンゼンジチオール、4,5-ジメチル-O-キシレンジチオール、トルエン-3,4-ジチオール、4,4’-ビフェニルジチオール、1,5-ナフタレンジチオール、6-(ジブチルアミノ)-1,3,5-トリアジン-2,4-ジチオール、2-アミノ-1,3,5-トリアジン-4,6-ジチオール、6-アニリノ-1,3,5-トリアジン-2,4-ジチオール、6-(4’-アニリノフェニル-イソプロピルアミノ)-1,3,5-トリアジン-2,4-ジチオール、6-(3’,5’-tert-ブチル-4’-ヒドロキシアニリノ)-1,3,5-トリアジン-2,4-ジチオール、キノキサリンー2,3-ジチオール、プリン-2,6-ジチオール、1,3,4-チアジアゾールー2,5-ジチオール、ビス(2-メルカプトエチル)エーテル、トリメチロールエタントリス(3-メルカプトプロピオネート)、トリメチロールエタントリス(3-メルカプトブチレート)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトブチレート)、1,3,5-ベンゼントリチオール、1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリチオール、トリス[2-(3-メルカプトプロピオニルオキシ)エチル]イソシアヌレート、トリス[2-(3-メルカプトブチリルオキシ)エチル]イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトブチレート)等のメルカプト基を有する化合物などが挙げられる。また、これらの耐熱安定剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the heat resistance stabilizer include ethanethiol, 2-methylpropane-2-thiol, n-dodecanethiol, 2,3,3,4,4,5-hexamethylhexane-2-thiol, 2-mercaptoethanol, 4-mercapto-1-butanol, methyl mercaptoacetate, methyl 3-mercaptopropionate, 2-ethylhexyl 3-mercaptopropionate, 3-methoxybutyl 3-mercaptopropionate, n-octyl 3-mercaptopropionate, stearyl 3-mercaptopropionate, 3-(trimethoxysilyl)propane-1-thiol, 3-(triethoxysilyl)propane-1-thiol, benzenethiol, benzylthiol, 3-methylbenzenethiol, 4-methylbenzenethiol, naphthalene-2-thiol, pyridine-2-thiol, benzimidazole- 2-Thiol, benzothiazole-2-thiol, 1,2-ethanedithiol, 1,2-propanedithiol, 1,3-propanedithiol, 1,4-butanedithiol, 2,3-butanedithiol, 1,5-pentanedithiol, 1,6-hexanedithiol, 1,10-decanedithiol, 2,3-dihydroxy-1,4-butanedithiol, 3,6-dioxa-1,8-octanedithiol 3,7-dithia-1,9-nonanedithiol, 1,4-bis(3-mercaptopropionyloxy)butane, 1,4-bis(3-mercaptobutyryloxy)butane, tetraethylene glycol bis(3-mercaptopropionate), 1,2-benzenedithiol, 1,3-benzenedithiol, 1,4-benzenedithiol, 2,3-diamino-1,4-benzenedithiol, 4,5-dimethyl-O-xylylenedithiol, toluene-3,4-dithiol, 4,4'-biphenyldithiol, 1,5-naphthalenedithiol, 6-(dibutylamino)-1,3,5-triazine-2,4-dithiol, 2-amino-1,3,5-triazine-4,6-dithiol, 6-anilino-1,3,5-triazine-2,4-dithiol, 6-(4'-anilinophenyl-isopropylamino) )-1,3,5-triazine-2,4-dithiol, 6-(3',5'-tert-butyl-4'-hydroxyanilino)-1,3,5-triazine-2,4-dithiol, quinoxaline-2,3-dithiol, purine-2,6-dithiol, 1,3,4-thiadiazole-2,5-dithiol, bis(2-mercaptoethyl)ether, trimethylolethane tris(3-mercaptopropione ester), trimethylolethane tris(3-mercaptobutyrate), trimethylolpropane tris(3-mercaptopropionate), trimethylolpropane tris(3-mercaptobutyrate), 1,3,5-benzenetrithiol, 1,3,5-triazine-2,4,6-trithiol, tris[2-(3-mercaptopropionyloxy)ethyl]isocyanurate, tris[2-(3-mercaptobutyryloxy)ethyl]isocyanurate, pentaerythritol tetrakis(3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis(3-mercaptobutyrate), dipentaerythritol hexakis(3-mercaptopropionate), dipentaerythritol hexakis(3-mercaptobutyrate), and other compounds having a mercapto group. These heat stabilizers can be used alone or in combination of two or more.

前記耐熱安定剤の市販品としては、例えば、花王株式会社製「チオカルコール20」、昭和電工株式会社製「カレンズMT PE1」、「カレンズMT BD1」、「カレンズMT NR1」、「TPMB」、「TEMB」、SC有機化学株式会社製「TMMP」、「TEMPIC」、「PEMP」、「EGMP-4」、「DPMP」、「TMMP II-20P」、「PEMP II-20P」が挙げられる。 Examples of commercially available heat stabilizers include "Chiokalcol 20" manufactured by Kao Corporation, "Karenz MT PE1", "Karenz MT BD1", "Karenz MT NR1", "TPMB", and "TEMB" manufactured by Showa Denko K.K., and "TMMP", "TEMPIC", "PEMP", "EGMP-4", "DPMP", "TMMP II-20P", and "PEMP II-20P" manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd.

前記耐熱安定剤(F)の使用量としては、十分な耐熱性を得られる観点から、前記(A)成分、前記(B)成分、前記(C)成分及び前記(D)成分の合計質量100質量部に対して、0.01~10質量部の範囲が好ましく、0.1~5質量部の範囲がより好ましく、0.5~3質量部の範囲が特に好ましい。 The amount of the heat stabilizer (F) used is preferably in the range of 0.01 to 10 parts by mass, more preferably in the range of 0.1 to 5 parts by mass, and particularly preferably in the range of 0.5 to 3 parts by mass, per 100 parts by mass of the total mass of the (A), (B), (C) and (D) components, from the viewpoint of obtaining sufficient heat resistance.

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに、必要に応じて、前記(A)~(F)成分以外にもその他の添加剤を含有することができる。 The active energy ray-curable composition of the present invention may further contain other additives in addition to the components (A) to (F) as necessary.

前記その他の添加剤としては、例えば、重合禁止剤、光増感剤、表面調整剤、帯電防止剤、消泡剤、粘度調整剤、耐光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、有機顔料、無機顔料、顔料分散剤、シリカビーズ、有機ビーズ等の添加剤;酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化アンチモン等の無機充填剤などが挙げられる。これらその他の添加剤は単独で用いることも2種以上を併用することもできる。また、これらの中でも、耐熱性を向上できることから、酸化防止剤が好ましい。 Examples of the other additives include additives such as polymerization inhibitors, photosensitizers, surface conditioners, antistatic agents, defoamers, viscosity modifiers, light stabilizers, weather stabilizers, ultraviolet absorbers, antioxidants, leveling agents, organic pigments, inorganic pigments, pigment dispersants, silica beads, and organic beads; and inorganic fillers such as silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, zirconium oxide, cerium oxide, and antimony oxide. These other additives can be used alone or in combination of two or more kinds. Among these, antioxidants are preferred because they can improve heat resistance.

前記酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等が挙げられる。これらの酸化防止剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the antioxidant include phenol-based antioxidants, phosphite-based antioxidants, and sulfur-based antioxidants. These antioxidants can be used alone or in combination of two or more.

前記フェノール系酸化防止剤としては、例えば、スチレン化フェノール、2,6-ジターシャリーブチル-p-クレゾール、2,5-ジターシャリーブチルヒドロキノン、2,5-ジターシャリーアミルヒドロキノン、3-(3,5-ジターシャリーブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオン酸オクタデシル、2,4-ビス(オクチルチオメチル)-6-メチルフェノール、2,2-メチレンビス(6-ターシャリーブチル-p-クレゾール)、2,2-メチレンビス(6-ターシャリーブチル-4-エチルフェノール)、4,4-ブチリデンビス(6-ターシャリーブチル-m-クレゾール)、4,4-チオビス(6-ターシャリーブチル-m-クレゾール)、2,2-チオジエチルビス[3-(3,5-ジターシャリーブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオナート]、1,6-ヘキサンジオールビス[3-(3,5-ジターシャリーブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオナート]、ビス[3-(3-ターシャリーブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオンサン][エチレンビス(オキシエチレン)]、ビス[3-[3-(ターシャリーブチル)-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル]プロパン酸]2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン-3,9-ジイルビス(2-メチルプロパン-2,1-ジイル)、N,N-ビス[2-[2-(3,5-ジターシャリーブチル-4-ヒドロキシフェニル)エチルカルボニルオキシ]エチル]オキサミド、N,N-(ヘキサン-1,6-ジイル)ビス[3-(3,5-ジターシャリーブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパンアミド]、2,4,6-トリス(3,5-ジターシャリーブチル-4-ヒドロキシベンジル)メシチレン、1,3,5-トリス(3,5-ジターシャリーブチル-4-ヒドロキシベンジル)-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオン、1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-ターシャリーブチルフェニル)ブタン、ペンタエリトリトールテトラキス[3-(3,5-ジターシャリーブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオナート]、ジエチル(3,5-ジターシャリーブチル-4-ヒドロキシベンジル)ホスホネート等が挙げられる。 Examples of the phenol-based antioxidants include styrenated phenol, 2,6-ditertiary butyl-p-cresol, 2,5-ditertiary butyl hydroquinone, 2,5-ditertiary amyl hydroquinone, 3-(3,5-ditertiary butyl-4-hydroxyphenyl)octadecyl propionate, 2,4-bis(octylthiomethyl)-6-methylphenol, 2,2-methylenebis(6-tertiary butyl-p-cresol), 2,2-methylenebis(6-tertiary butyl-4-ethylphenol), 4 ,4-butylidenebis(6-tert-butyl-m-cresol), 4,4-thiobis(6-tert-butyl-m-cresol), 2,2-thiodiethylbis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], 1,6-hexanediol bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], bis[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionate][ethylene bis(oxyethylene)], bis[3-[3- (tert-butyl)-4-hydroxy-5-methylphenyl]propanoic acid]2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecane-3,9-diylbis(2-methylpropane-2,1-diyl), N,N-bis[2-[2-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)ethylcarbonyloxy]ethyl]oxamide, N,N-(hexane-1,6-diyl)bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanamide], 2,4,6-tris(3,5-ditert-butyl) 1,3,5-tris(3,5-ditertiarybutyl-4-hydroxybenzyl)mesitylene, 1,3,5-tris(3,5-ditertiarybutyl-4-hydroxybenzyl)-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione, 1,1,3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tertiarybutylphenyl)butane, pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-ditertiarybutyl-4-hydroxyphenyl)propionate], diethyl(3,5-ditertiarybutyl-4-hydroxybenzyl)phosphonate, etc.

前記フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば、BASF社製「IRGANOX 1010」、「IRGANOX 1010FF」、「IRGANOX 1035」、「IRGANOX 1035FF(W&C)」、「IRGANOX 1076」、「IRGANOX 1076FD」、「IRGANOX 1098」、「IRGANOX 1135」、「IRGANOX 1330」、「IRGANOX 1520L」、「IRGANOX 245」、「IRGANOX 245FF」、「IRGANOX 259」、「IRGANOX 3114」、川口化学工業株式会社製「ANTAGE BHT」、「ANTAGE DAH」、「ANTAGE DBH」、「ANTAGE W-300」、「ANTAGE W-400」、「ANTAGE W-500」、「ANTAGE クリスタル」、「ANTAGE SP」、「ANTAGE HP-200」、「ANTAGE HP-300」、株式会社ADEKA製「アデカスタブ AO-20」、「アデカスタブ AO-30」、「アデカスタブ AO-40」、「アデカスタブ AO-50」、「アデカスタブ AO-50F」、「アデカスタブ AO-50T」、「アデカスタブ AO-60」、「アデカスタブ AO-60G」、「アデカスタブ AO-80」、「アデカスタブ AO-330」、住友化学株式会社製「SUMILIZER GA-80」、「SUMILIZER GP」、「SUMILIZER MDP-S」、「SUMILIZER WX-R」、「SUMILIZER WX-RC」、三菱ケミカル株式会社製「ヨシノックス BB」、城北化学工業株式会社製「JC-356」等が挙げられる。 Examples of commercially available phenol-based antioxidants include "IRGANOX 1010", "IRGANOX 1010FF", "IRGANOX 1035", "IRGANOX 1035FF (W&C)", "IRGANOX 1076", "IRGANOX 1076FD", "IRGANOX 1098", "IRGANOX 1135", "IRGANOX 1330", "IRGANOX 1520L", "IRGANOX 245", "IRGANOX 245FF", "IRGANOX 259", and "IRGANOX 3114" manufactured by BASF Corporation, and "ANTAGE BHT", "ANTAGE DAH", and "ANTAGE 3114" manufactured by Kawaguchi Chemical Industry Co., Ltd. DBH", "ANTAGE W-300", "ANTAGE W-400", "ANTAGE W-500", "ANTAGE Crystal", "ANTAGE SP", "ANTAGE HP-200", "ANTAGE HP-300", manufactured by ADEKA CORPORATION, "ADK STAB AO-20", "ADK STAB AO-30", "ADK STAB AO-40", "ADK STAB AO-50", "ADK STAB AO-50F", "ADK STAB AO-50T", "ADK STAB AO-60", "ADK STAB AO-60G", "ADK STAB AO-80", "ADK STAB AO-330", manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., "SUMILIZER GA-80", "SUMILIZER GP," "SUMILIZER MDP-S," "SUMILIZER WX-R," "SUMILIZER WX-RC," Mitsubishi Chemical Corporation's "Yoshinox BB," and Johoku Chemical Industry Co., Ltd.'s "JC-356."

前記ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス(2-エチルヘキシル)ホスファイト、トリデシルホスファイトトリイソデシルホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリス(トリデシル)ホスファイト、トリ(ステアリル)ホスファイト、ジフェニルモノ(2-エチルヘキシル)ホスファイト、ジフェニルモノデシルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルモノ(トリデシル)ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス(2,4-ジターシャリーブチルフェニル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイト、4,4-ブチリデンビス(3-メチル-6-ターシャリーブチルフェニルジトリデシルホスファイト)、テトラ(C12~C15アルキル)-4,4-イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、3,9-ビス(オクタデシルオキシ)-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9-ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9-ビス(2,6-ジターシャリーブチル-4-メチルフェノキシ)-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9-ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、2,4,8,10-テトラキス(1,1-ジメチルエチル)-6-[(2-エチルヘキシル)オキシ]-12H-ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、ビス(デシル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(トリデシル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、水添ビスフェノールA・ペンタエリスリトールホスファイトポリマー等が挙げられる。 Examples of the phosphite antioxidants include tris(2-ethylhexyl)phosphite, tridecyl phosphite, triisodecyl phosphite, trilauryl phosphite, tris(tridecyl)phosphite, tri(stearyl)phosphite, diphenyl mono(2-ethylhexyl)phosphite, diphenyl monodecyl phosphite, diphenyl isodecyl phosphite, diphenyl mono(tridecyl)phosphite, triphenyl phosphite, tricresyl phosphite, tris(2,4-ditertiary butylphenyl)phosphite, tris(nonylphenyl)phosphite, tetraphenyl dipropylene glycol diphosphite, 4,4-butylidene bis(3-methyl-6-tertiary butylphenyl ditridecyl phosphite), tetra(C12 to C15 alkyl)-4,4-isopropylidenediphenyl diphosphite, 3,9-bis(octadecyloxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane, 3,9-bis(2,6-ditertiarybutyl-4-methylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane, 2,4,8,10-tetrakis(1,1-dimethylethyl)-6-[(2-ethylhexyl)oxy]-12H-dibenzo[d,g][1,3,2]dioxaphosphocin, bis(decyl)pentaerythritol diphosphite, bis(tridecyl)pentaerythritol diphosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, hydrogenated bisphenol A pentaerythritol phosphite polymer, etc.

前記ホスファイト系酸化防止剤の市販品としては、例えば、BASF社製「IRGAFOS 168」、「IRGAFOS 168FF」、株式会社ADEKA製「アデカスタブ PEP-8」、「アデカスタブ PEP-36」、「アデカスタブ HP-10」、「アデカスタブ 2112」、「アデカスタブ 2112RG」、「アデカスタブ 1178」、「アデカスタブ 1500」、「アデカスタブ C」、「アデカスタブ 135A」、「アデカスタブ 3010」、「アデカスタブ TPP」、城北化学工業株式会社製「JP-360」、「JP-351」、「JP-3CP」、「JP-308E」、「JPE-308E」、「JP-310」、「JP-312L」、「JP-333E」、「JPM-308」、「JPM-311」、「JPM-313」、「JPP-100」、「JA-805」、「JPH-1200」、「JPP-88」、「JPE-10」、「JPE-13R」、「JP-318E」、「JPP-2000PT」、「JP-650」、「JPH-3800」等が挙げられる。 Examples of commercially available phosphite antioxidants include "IRGAFOS 168" and "IRGAFOS 168FF" manufactured by BASF, and "ADK STAB PEP-8", "ADK STAB PEP-36", "ADK STAB HP-10", "ADK STAB 2112", "ADK STAB 2112RG", "ADK STAB 1178", "ADK STAB 1500", "ADK STAB C", "ADK STAB 135A", "ADK STAB 3010", and "ADK STAB 135A" manufactured by ADEKA CORPORATION. TPP" and Johoku Chemical Industry Co., Ltd.'s "JP-360", "JP-351", "JP-3CP", "JP-308E", "JPE-308E", "JP-310", "JP-312L", "JP-333E", "JPM-308", "JPM-311", "JPM-313", "JPP-100", "JA-805", "JPH-1200", "JPP-88", "JPE-10", "JPE-13R", "JP-318E", "JPP-2000PT", "JP-650", "JPH-3800", etc.

前記硫黄系酸化防止剤としては、例えば、3,3-チオジプロピオン酸ジドデシル、3,3-チオビスプロピオン酸ジトリデシル、3,3-チオジプロピオン酸ジオクタデシル、テトラキス[3-(ドデシルチオ)プロピオン酸]ペンタエリトリトール等が挙げられる。 Examples of the sulfur-based antioxidant include didodecyl 3,3-thiodipropionate, ditridecyl 3,3-thiobispropionate, dioctadecyl 3,3-thiodipropionate, and pentaerythritol tetrakis[3-(dodecylthio)propionate].

前記硫黄系酸化防止剤の市販品としては、例えば、BASF社製「IRGANOX PS800FL」、「IRGANOX PS802FL」、株式会社ADEKA製「アデカスタブ AO-412S」、「アデカスタブ AO-503」、ケミプロ化成株式会社製「KEMINOX PLS」、住友化学株式会社製「SUMILIZER TP-D」等が挙げられる。 Examples of commercially available sulfur-based antioxidants include "IRGANOX PS800FL" and "IRGANOX PS802FL" manufactured by BASF, "ADEKA STAB AO-412S" and "ADEKA STAB AO-503" manufactured by ADEKA CORPORATION, "KEMINOX PLS" manufactured by Chemipro Chemical Co., Ltd., and "SUMILIZER TP-D" manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.

前記その他添加剤として、屈折率や熱膨張係数を調整するために無機充填剤が好適に用いられる。前記無機充填剤としては、シリカ微粒子、ジルコニア微粒子、その他の微粒子、等が挙げられ、おのおの独立に1種又は2種以上を組み合わせて使用することができる。前記無機充填剤の粒子径としては1000nm以下が好ましく、500nm以下がより好ましく、100nm以下が特に好ましい。 As the other additives, inorganic fillers are preferably used to adjust the refractive index and thermal expansion coefficient. Examples of the inorganic fillers include silica fine particles, zirconia fine particles, other fine particles, etc., and each of these can be used independently, or in combination of two or more. The particle size of the inorganic filler is preferably 1000 nm or less, more preferably 500 nm or less, and particularly preferably 100 nm or less.

前記シリカ微粒子の市販品としては、例えば、日産化学株式会社製「メタノールシリカゾル」、「MA-ST-M」、「MA-ST-L」、「IPA-ST」、「IPA-ST-L」、「IPA-ST-ZL」、「IPA-ST-UP」、「EG-ST」、「NPC-ST-30」、「PGM-ST」、「DMAC-ST」、「MEK-ST-40、「MEK-ST-L」、「MEK-ST-ZL」、「MEK-ST-UP」、「MIBK-ST」、「MIBK-ST-L」、「CHO-ST-M」、「EAT-ST」、「PMA-ST」、「TOL-ST」、「MEK-AC-2140Z」、「MEK-AC-4130Y」、「MEK-AC-5140Z」、「MIBK-AC-2140Z」、「MIBK-SD-L」、「PGM-AC-2140Y」、「PGM-AC-4140Y」、「MEK-EC-2130Y」、日本触媒株式会社製「シーホスター KE-E10」、「シーホスター KE-E30」、「シーホスター KE-E150」、「シーホスター KE-W10」、「シーホスター KE-W30」、「シーホスター KE-W50」、「シーホスター KE-P10」、「シーホスター KE-P30」、「シーホスター KE-P50」、「シーホスター KE-P100」、「シーホスター KE-P150」、「シーホスター KE-P250」、「シーホスター KE-S10」、「シーホスター KE-S30」、「シーホスター KE-S50」、「シーホスター KE-S100」、「シーホスター KE-S150」、「シーホスター KE-S250」、信越化学株式会社製「QSG-10」、「QSG-30」、「QSG-100」、「QSG-170」、株式会社アドマテックス社製「アドマナノ YA010C」、「YA050C」、「YA100C」、大研化学工業株式会社製「DLSB-001」、「DLSB-002」等が挙げられる。 Commercially available products of the silica fine particles include, for example, "Methanol Silica Sol", "MA-ST-M", "MA-ST-L", "IPA-ST", "IPA-ST-L", "IPA-ST-ZL", "IPA-ST-UP", "EG-ST", "NPC-ST-30", "PGM-ST", "DMAC-ST", "MEK-ST-40", "MEK-ST-L", "MEK-ST-ZL", "MEK-ST-UP", and MIBK-ST", "MIBK-ST-L", "CHO-ST-M", "EAT-ST", "PMA-ST", "TOL-ST", "MEK-AC-2140Z", "MEK-AC-4130Y", "MEK-AC-5140Z", "MIBK-AC-2140 Z”, “MIBK-SD-L”, “PGM-AC-2140Y”, “PGM-AC-4140Y”, “MEK-EC-2130Y”, “Seahoster” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. KE-E10", "SeaHoster KE-E30", "SeaHoster KE-E150", "SeaHoster KE-W10", "SeaHoster KE-W30", "SeaHoster KE-W50", "SeaHoster KE-P10", "SeaHoster KE-P30", "SeaHoster KE-P50", "SeaHoster KE-P100", "SeaHoster KE-P150", "SeaHoster KE-P250", "SeaHoster KE-S10", "SeaHoster KE-S30", "SeaHoster KE-S50", "SeaHoster KE-S100", "SeaHoster KE-S150", "SeaHoster Examples include "KE-S250" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., "QSG-10", "QSG-30", "QSG-100", and "QSG-170" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., "Admanano YA010C", "YA050C", and "YA100C" manufactured by Admatechs Co., Ltd., and "DLSB-001" and "DLSB-002" manufactured by Daiken Chemical Co., Ltd.

前記ジルコニア微粒子の市販品としては、例えば、第一工業製薬株式会社製「ZHR-101」、「ZHR-103」、「ZHR-200」、日本触媒株式会社製「ジルコスターZP-153」、「ジルコスターHR-101」、堺化学工業株式会社製「SZR-W」、「SZR-M」、「SZR-CW」、「SZR-CM」、「SZR-KM」、「SZR-K」、大研化学工業株式会社製「DLZ-001」、「DLZ-007」、「DLZ-003U」、「DLM-001」、「DLM-002」、第一稀元素化学工業株式会社製「ZSL-10A」、「ZSL-10T」、「ZSL-20N」、「ZSL-00014」、アイテック社製「ジルコネオ-Cw」、「ジルコネオ-Ck」、大成化工株式会社製「TZP-103」等が挙げられる。 Examples of commercially available zirconia fine particles include "ZHR-101", "ZHR-103", and "ZHR-200" manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., "Zircostar ZP-153" and "Zircostar HR-101" manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., "SZR-W", "SZR-M", "SZR-CW", "SZR-CM", "SZR-KM", and "SZR-K" manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., "DLZ-001", "DLZ-007", "DLZ-003U", "DLM-001", and "DLM-002" manufactured by Daiken Chemical Industry Co., Ltd., "ZSL-10A", "ZSL-10T", "ZSL-20N", and "ZSL-00014" manufactured by Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd., "Zirconeo-Cw" and "Zirconeo-Ck" manufactured by ITEC Co., Ltd., and "TZP-103" manufactured by Taisei Kako Co., Ltd.

前記その他の微粒子の市販品としては、例えば、チタニア微粒子として、大成化工株式会社製「TTP-113」、「TTP-1132」、チタン酸バリウム微粒子として、第一稀元素化学工業株式会社製「DLB-001」、「DLB-002」、「DLB-003」、アンチモン酸化スズ微粒子として、第一稀元素化学工業株式会社製「DLAT-001」、インジウム酸化スズ微粒子として、第一稀元素化学工業株式会社製「DLIT-001」等が挙げられる。 Examples of commercially available products of the other fine particles include titania fine particles such as "TTP-113" and "TTP-1132" manufactured by Taisei Chemical Industry Co., Ltd., barium titanate fine particles such as "DLB-001", "DLB-002", and "DLB-003" manufactured by Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd., antimony tin oxide fine particles such as "DLAT-001" manufactured by Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd., and indium tin oxide fine particles such as "DLIT-001" manufactured by Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd.

前記活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物を得る方法としては、例えば、基材上に前記活性エネルギー線硬化性組成物を塗工し、その後活性エネルギー線を照射する方法が挙げられる。 As a method for obtaining a cured product of the active energy ray-curable composition, for example, a method of coating the active energy ray-curable composition on a substrate and then irradiating the substrate with active energy rays can be mentioned.

前記基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン系樹脂;セルロースアセテート(ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等)、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレート、セルロースアセテートフタレート、硝酸セルロース等のセルロース系樹脂;ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の塩化ビニル系樹脂;ポリビニルアルコール;エチレン-酢酸ビニル共重合体;ポリスチレン;ポリアミド;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルエーテルケトン;ポリイミド、ポリエーテルイミド等のポリイミド系樹脂;ノルボルネン系樹脂(例えば、日本ゼオン株式会社製「ゼオノア」)、変性ノルボルネン系樹脂(例えば、JSR株式会社製「アートン」)、環状オレフィン共重合体(例えば、三井化学株式会社製「アペル」)などの樹脂フィルム;シリコン、シリコンカーバイド、シリコンナイトライド、サファイア、アルミニウムナイトライド、窒化ガリウム、リン化ガリウム、ヒ化ガリウム、リン化インジウム等の半導体ウエハー;石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、ケイ酸塩ガラス、光学ガラス(クラウンガラス、フリントガラス)等のガラスなどを用いることができる。 Examples of the substrate include polyester-based resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polyolefin-based resins such as polypropylene, polyethylene, and polymethylpentene; cellulose-based resins such as cellulose acetate (diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, etc.), cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate butyrate, cellulose acetate phthalate, and cellulose nitrate; acrylic resins such as polymethyl methacrylate; vinyl chloride-based resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride; polyvinyl alcohol; ethylene-vinyl acetate copolymer; polystyrene; polyamide; polycarbonate polyimide, polyetherimide, and other polyimide-based resins; norbornene-based resins (e.g., Zeonor manufactured by Zeon Corporation), modified norbornene-based resins (e.g., Arton manufactured by JSR Corporation), and cyclic olefin copolymers (e.g., Apel manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) and other resin films; semiconductor wafers such as silicon, silicon carbide, silicon nitride, sapphire, aluminum nitride, gallium nitride, gallium phosphide, gallium arsenide, and indium phosphide; and glasses such as quartz glass, borosilicate glass, soda-lime glass, silicate glass, and optical glass (crown glass, flint glass), etc., can be used.

前記基材に本発明の活性エネルギー線硬化性組成物を塗工する方法としては、例えば、ダイコート、マイクログラビアコート、グラビアコート、ロールコート、コンマコート、エアナイフコート、キスコート、スプレーコート、ディップコート、スピンナーコート、刷毛塗り、シルクスクリーンによるベタコート、ワイヤーバーコート、フローコート、ディスペンサー、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷等が挙げられる。 Methods for applying the active energy ray-curable composition of the present invention to the substrate include, for example, die coating, microgravure coating, gravure coating, roll coating, comma coating, air knife coating, kiss coating, spray coating, dip coating, spinner coating, brush coating, solid coating by silk screen, wire bar coating, flow coating, dispenser, inkjet printing, screen printing, offset printing, etc.

前記活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させる活性エネルギー線としては、上記の通り、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線である。ここで、活性エネルギー線として紫外線を用いる場合、その紫外線を照射する装置としては、例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ランプ(フュージョンランプ)、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、水銀-キセノンランプ、ショートアーク灯、ヘリウム・カドミニウムレーザー、アルゴンレーザー、太陽光、LEDランプ等が挙げられる。 The active energy rays that cure the active energy ray-curable composition are, as described above, ionizing radiation such as ultraviolet rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays. Here, when ultraviolet rays are used as the active energy rays, examples of devices that irradiate the ultraviolet rays include low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, electrodeless lamps (fusion lamps), chemical lamps, black light lamps, mercury-xenon lamps, short arc lamps, helium-cadmium lasers, argon lasers, sunlight, and LED lamps.

前記活性エネルギー線の照射量(積算光量)としては、100~10,000mJ/cmであることが好ましく、300~8,000mJ/cmであることがより好ましい。なお、前記活性エネルギー線の照射量は、所望の励起波長に適した光量計により測定した値を基準とし、例えば、岩崎電気株式会社アイ紫外線積算照度計 UVPF-A2シリーズ、浜松ホトニクス製紫外線光量計C9536/H9535シリーズ、同C9536/H9958シリーズ、同C10427/H10428シリーズ、ウシオ電機製紫外線積算光量計UIT-201、同UIT-250、同UIT-θシリーズ、等を用いることができる。取り分け本発明においては岩崎電気株式会社アイ紫外線積算照度計 UVPF-A2(PD-365)を用いて測定した積算光量を基準とする。 The irradiation amount (accumulated light amount) of the active energy rays is preferably 100 to 10,000 mJ/cm 2 , and more preferably 300 to 8,000 mJ/cm 2. The irradiation amount of the active energy rays is based on a value measured using an actinometer suitable for the desired excitation wavelength, and examples of the irradiation amount include Iwasaki Electric Co., Ltd. Ai ultraviolet integrated illuminometer UVPF-A2 series, Hamamatsu Photonics Co., Ltd. ultraviolet actinometer C9536/H9535 series, C9536/H9958 series, C10427/H10428 series, Ushio Electric Co., Ltd. ultraviolet integrated actinometer UIT-201, UIT-250, UIT-θ series, etc. can be used. In particular, in the present invention, the integrated light amount measured using Iwasaki Electric Co., Ltd. Ai ultraviolet integrated illuminometer UVPF-A2 (PD-365) is used as the standard.

なお、前記活性エネルギー線の照射は、一段階で行ってもよいし、二段階以上に分けて行ってもよい。 The irradiation of the active energy rays may be carried out in one step or in two or more steps.

前記本発明の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物の膜厚としては、硬化物の硬さを十分なものとすることができる点から、1~1000μmの範囲が好ましく、50~500μmの範囲がより好ましい。 The thickness of the cured product of the active energy ray-curable composition of the present invention is preferably in the range of 1 to 1000 μm, and more preferably in the range of 50 to 500 μm, in order to ensure sufficient hardness of the cured product.

前記硬化物の屈折率(n)としては、1.40~1.60の範囲であることが好ましく、1.45~1.55の範囲がより好ましい。なお、前記硬化物の屈折率は、JIS試験方法K7142:2014のA法に準拠して測定した値を示す。 The refractive index (n d ) of the cured product is preferably in the range of 1.40 to 1.60, and more preferably in the range of 1.45 to 1.55. The refractive index of the cured product is a value measured in accordance with JIS test method K7142:2014, Method A.

前記硬化物のアッベ数(ν)としては、53以上であることが好ましく、53~60の範囲であることがより好ましく、55~59の範囲が更に好ましく、56~58の範囲が特に好ましい。なお、前記硬化物のアッベ数はJIS試験方法K7142:2014のA法に準拠して測定した屈折率をもとに算出した値を示す。 The Abbe number (ν d ) of the cured product is preferably 53 or more, more preferably in the range of 53 to 60, even more preferably in the range of 55 to 59, and particularly preferably in the range of 56 to 58. The Abbe number of the cured product is a value calculated based on the refractive index measured in accordance with JIS test method K7142:2014, Method A.

前記硬化物の光線透過率としては、光学用レンズに好適に使用できる観点から波長410nmにおける光線透過率が85%以上であることが好ましく、88%以上であることがより好ましく、90%以上であることが特に好ましい。光線透過率の測定方法については、実施例にて詳述する。 The light transmittance of the cured product at a wavelength of 410 nm is preferably 85% or more, more preferably 88% or more, and particularly preferably 90% or more, from the viewpoint of suitable use in optical lenses. The method for measuring the light transmittance will be described in detail in the Examples.

前記硬化物の耐熱試験後の光線透過率としては、半田リフロー耐性を有する光学用レンズに好適に使用できる観点から波長410nmにおける光線透過率が初期の光線透過率から±5%以内であることが好ましく、±3%以内であることがより好ましく、±1%以内であることが特に好ましい。耐熱試験後の光線透過率の測定方法については、実施例にて詳述する。 The light transmittance of the cured product after the heat resistance test is preferably within ±5% of the initial light transmittance at a wavelength of 410 nm, more preferably within ±3%, and particularly preferably within ±1%, from the viewpoint of suitable use in optical lenses having solder reflow resistance. The method for measuring the light transmittance after the heat resistance test will be described in detail in the Examples.

前記硬化物の吸水率としては、高温多湿環境下で硬化物内部に欠陥を生じさせないために、0.1%~4.0%の範囲であることが好ましく、0.3~3.5%の範囲であることがより好ましく、0.5~2.5%の範囲であることが特に好ましい。なお、前記硬化物の吸水率は、JIS試験方法K7209:2000のC法に準拠した測定値を用いて、水中への溶出分を加味した算出値を示す。 The water absorption rate of the cured product is preferably in the range of 0.1% to 4.0%, more preferably in the range of 0.3 to 3.5%, and particularly preferably in the range of 0.5 to 2.5%, in order to prevent defects from occurring inside the cured product in a high-temperature and high-humidity environment. The water absorption rate of the cured product is a calculated value that takes into account the amount dissolved in water, using a measured value in accordance with JIS test method K7209:2000, Method C.

前記硬化物の耐湿熱性としては、高温多湿環境下で硬化物内部に欠陥を生じさせないために、温度85℃-湿度85%RH-時間1000時間の条件で行った湿熱試験の結果、基材からのハガレがないことが好ましく、硬化物と基材界面に欠陥がないことがより好ましく、硬化物内部に欠陥がないことが特に好ましい。なお、前記硬化物の耐湿熱性の評価方法については、実施例にて詳述する。 The moist heat resistance of the cured product is such that, in order to prevent defects from occurring inside the cured product in a high temperature and high humidity environment, a moist heat test is performed under conditions of a temperature of 85°C, humidity of 85% RH, and time of 1000 hours. As a result, it is preferable that there is no peeling from the substrate, it is more preferable that there are no defects at the interface between the cured product and the substrate, and it is particularly preferable that there are no defects inside the cured product. The method for evaluating the moist heat resistance of the cured product will be described in detail in the Examples.

本発明のレンズは、前記硬化物を有するものである。また、前記レンズは、必要に応じて、前記硬化物の少なくとも片面に無機化合物からなる無機層を有していてもよく、さらに、基材を有していてもよい。 The lens of the present invention has the cured product. Furthermore, the lens may have an inorganic layer made of an inorganic compound on at least one side of the cured product, if necessary, and may further have a substrate.

なお、本発明のレンズは、インプリント成形により、ウェハレベルレンズとして用いることもできる。 The lens of the present invention can also be used as a wafer-level lens by imprint molding.

本発明のレンズを製造する方法としては、特に制限されず、どのような方法にて製造してもよいが、例えば、前記活性エネルギー線硬化性組成物を、ウエハーやガラス等の基材上に塗布し、金型により所望の形状に賦形した後、活性エネルギー線を照射して前記組成物を仮硬化させる。金型を離型後、未硬化の活性エネルギー線硬化性組成物を溶剤により洗浄する現像工程を経て、再度活性エネルギー線を照射し本硬化を行う。さらに必要に応じて、物理蒸着等により無機化合物からなる無機層を硬化物表面に成膜する。最後に前記基材を個片化する方法等が挙げられる。 The method for producing the lens of the present invention is not particularly limited and may be any method. For example, the active energy ray curable composition is applied to a substrate such as a wafer or glass, and the substrate is shaped into a desired shape using a mold. The composition is then temporarily cured by irradiating the active energy ray. After the mold is released, the uncured active energy ray curable composition is washed with a solvent in a development step, and then the composition is again irradiated with active energy ray for full curing. If necessary, an inorganic layer made of an inorganic compound is formed on the surface of the cured product by physical vapor deposition or the like. Finally, the substrate is divided into individual pieces.

前記溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、イソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジオキサン等の環状エーテル系溶剤;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤;トルエン、キシレン、ソルベントナフサ等の芳香族系溶剤;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶剤;カルビトール、セロソルブ、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤;アルキレングリコールモノアルキルエーテル、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテル、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート等のグリコールエーテル系溶剤などが挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the solvent include ketone-based solvents such as methyl ethyl ketone, acetone, isobutyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone; cyclic ether-based solvents such as tetrahydrofuran, dioxolane, and dioxane; ester-based solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate; aromatic solvents such as toluene, xylene, and solvent naphtha; alicyclic hydrocarbon-based solvents such as cyclohexane and methylcyclohexane; alcohol-based solvents such as carbitol, cellosolve, methanol, isopropanol, butanol, and propylene glycol monomethyl ether; and glycol ether-based solvents such as alkylene glycol monoalkyl ether, dialkylene glycol monoalkyl ether, and dialkylene glycol monoalkyl ether acetate. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

前記無機層としては、無機化合物からなる層を意味し、一般に、反射防止、耐擦り傷性等の機能を有するものである。 The inorganic layer refers to a layer made of an inorganic compound, and generally has functions such as anti-reflection and scratch resistance.

前記無機化合物としては、例えば、金属酸化物、複酸化物、金属窒化物、金属フッ化物、複フッ化物、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物及びそれらの混合物等が挙げられる。 Examples of the inorganic compounds include metal oxides, complex oxides, metal nitrides, metal fluorides, complex fluorides, silicon oxides, silicon nitrides, and mixtures thereof.

前記金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、アルミニウム、チタン、イットリウム、インジウム、スズ、ジルコニウム、ニオブ、セリウム、ハフニウム、タンタル、等が挙げられる。 Examples of the metals include lithium, sodium, magnesium, aluminum, titanium, yttrium, indium, tin, zirconium, niobium, cerium, hafnium, and tantalum.

前記無機層を反射防止層(反射防止膜層ともいう)として用いる場合、前記反射防止膜層は単層であってもよいが、低屈折率層と、高屈折率層とを有していてもよい。また、低屈折率層と高屈折率層は、それぞれ1層でも複数層であってもよい。なお、低屈折率層と高屈折率層の積層順序も特に限定されない。 When the inorganic layer is used as an anti-reflection layer (also called an anti-reflection film layer), the anti-reflection film layer may be a single layer, or may have a low refractive index layer and a high refractive index layer. In addition, each of the low refractive index layer and the high refractive index layer may be one layer or multiple layers. The stacking order of the low refractive index layer and the high refractive index layer is not particularly limited.

前記高屈折率層に用いる無機化合物としては、例えば、チタン酸ランタン、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化セリウム、酸化イットリウム及びそれらの混合物等が挙げられる。 Examples of inorganic compounds used in the high refractive index layer include lanthanum titanate, zirconium oxide, titanium oxide, tantalum oxide, niobium oxide, hafnium oxide, cerium oxide, yttrium oxide, and mixtures thereof.

前記低屈折率層に用いる無機化合物としては、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム及びそれらの混合物等が挙げられる。 Examples of inorganic compounds used in the low refractive index layer include silicon oxide, silicon nitride, magnesium fluoride, aluminum fluoride, and mixtures thereof.

前記無機層は、前記樹脂層の表面に成膜することで得られるものである。前記無機層の成膜方法は、特に制限されず、適宜公知の成膜方法を用いることができるが、物理蒸着(PVD)又は化学蒸着(CVD)により成膜することが好ましい。 The inorganic layer is obtained by forming a film on the surface of the resin layer. The method for forming the inorganic layer is not particularly limited, and any known film forming method can be used as appropriate, but it is preferable to form the film by physical vapor deposition (PVD) or chemical vapor deposition (CVD).

前記成膜方法は、成膜工程の一貫性及び簡素化の観点から、前記物理蒸着(PVD)を用いることがより好ましく、例えば、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の方法が挙げられる。 From the viewpoint of consistency and simplification of the film formation process, it is more preferable to use physical vapor deposition (PVD), and examples of the film formation method include vacuum deposition, ion plating, sputtering, etc.

前記真空蒸着としては、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘導加熱方式、電子ビーム加熱方式等を用いることができる。 For example, the vacuum deposition can be performed using a resistance heating method, a high-frequency induction heating method, an electron beam heating method, etc.

前記スパッタリングは、DCスパッタでもRFスパッタでもよく、マグネトロンスパッタでもイオンビームスパッタでもよい。また、平行平板ターゲット方式でも対向ターゲット方式でもよい。また、真空チャンバー内に導入する気体としては、例えば、アルゴン、クリプトン、酸素、窒素等が挙げられ、各々単独でも2種以上を混合して用いてもよい。 The sputtering may be DC sputtering or RF sputtering, or may be magnetron sputtering or ion beam sputtering. It may also be a parallel plate target system or a facing target system. Examples of gases to be introduced into the vacuum chamber include argon, krypton, oxygen, and nitrogen, and each may be used alone or in a mixture of two or more types.

前記無機層の膜厚は、目的とする機能により適宜調整し得るが、反射防止機能を目的とする場合、10nm~5,000nmの範囲が好ましく、無機層の膜強度と生産性の観点から、100nm~2,000nmの範囲がより好ましく、250nm~1,000nmの範囲が特に好ましい。 The thickness of the inorganic layer can be adjusted as appropriate depending on the intended function, but if the intended function is anti-reflection, a thickness in the range of 10 nm to 5,000 nm is preferred, and from the standpoint of the film strength of the inorganic layer and productivity, a thickness in the range of 100 nm to 2,000 nm is more preferred, and a thickness in the range of 250 nm to 1,000 nm is particularly preferred.

以上、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物により形成される硬化物は、高いアッベ数と高光線透過率を有し、かつ耐熱性と耐湿熱性に優れ、活性エネルギー線の照射によって簡便に硬化できるものであることから、光インプリントによるレンズ製造に好適に使用することができる。また、上記レンズを有するカメラモジュールを提供することができる。 As described above, the cured product formed by the active energy ray-curable composition of the present invention has a high Abbe number and high light transmittance, has excellent heat resistance and moist heat resistance, and can be easily cured by irradiation with active energy rays, and therefore can be suitably used for lens production by photoimprinting. In addition, a camera module having the above lens can be provided.

以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。 The present invention will be explained in more detail below with reference to the following examples.

[実施例1]
(A)成分としてポリカーボネートジオールジアクリレート(宇部興産株式会社製「UM-90(1/3)DA」:一般式(1)におけるRが水素原子であり、Rがそれぞれ独立して、炭素原子数6の直鎖状炭化水素基とシクロヘキサン構造をランダムに有するものであり、nが4~5のものである。);60質量部、(B)成分としてトリシクロデカンジメタノールジメタクリレート(共栄社化学株式会社製「DCP-M」);20質量部、(C)成分としてポリエチレングリコールジアクリレート(繰返し単位数4)(新中村化学工業株式会社製「A-200」);20質量部、(E)成分として1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF製「I-184」);1質量部を混合し、50℃に加温後、ホモディスパ―を使用して回転数1,000rpmで10分間撹拌混合して活性エネルギー線硬化性組成物を調製した。
[Example 1]
An active energy ray-curable composition was prepared by mixing 60 parts by mass of polycarbonate diol diacrylate ("UM-90(1/3)DA" manufactured by Ube Industries, Ltd.: R 1 in general formula (1) is a hydrogen atom, R 2 are each independently a linear hydrocarbon group having 6 carbon atoms and a cyclohexane structure arranged randomly, and n is 4 to 5) as a component (A), 20 parts by mass of tricyclodecane dimethanol dimethacrylate ("DCP-M" manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) as a component (B), 20 parts by mass of polyethylene glycol diacrylate (number of repeating units: 4) ("A-200" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) as a component (C), and 1 part by mass of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone ("I-184" manufactured by BASF) as a component (E). The mixture was heated to 50° C. and then stirred and mixed for 10 minutes at a rotation speed of 1,000 rpm using a homodisper.

[実施例2~13、比較例1~7]
(A)、(B)、(C)、(D)及び(F)の種類及び/又は量を表1~3に示す通りに変更した以外は、実施例1と同様にして活性エネルギー線硬化性組成物を調製した。
[Examples 2 to 13, Comparative Examples 1 to 7]
Active energy ray-curable compositions were prepared in the same manner as in Example 1, except that the types and/or amounts of (A), (B), (C), (D), and (F) were changed as shown in Tables 1 to 3.

[屈折率の測定方法]
実施例及び比較例で得られた活性エネルギー線硬化性組成物を三角プリズム型(厚さ5mm、1辺の長さ10mm)に流し込み、アイグラフィックス株式会社製ベルトコンベアー式紫外線照射装置(120Wメタルハライドランプ)を使用して、3,000mJ/cmの紫外線を照射して三角プリズムを作製した。得られた三角プリズムを株式会社島津製作所製カルニュー精密屈折計「KPR-3000」を使用して25℃におけるd線、F線、C線、各々の屈折率を測定した。なお、硬化物の屈折率(n)に最も近い屈折率(n)を有するマッチング液を適宜選択して用いた。
[Method of measuring refractive index]
The active energy ray curable compositions obtained in the Examples and Comparative Examples were poured into a triangular prism mold (thickness 5 mm, length of one side 10 mm) and irradiated with 3,000 mJ/ cm2 of ultraviolet light using a belt conveyor type ultraviolet irradiation device (120 W metal halide lamp) manufactured by Eye Graphics Co., Ltd. to produce a triangular prism. The refractive indexes of the obtained triangular prism at 25°C for the d-line, F-line, and C-line were measured using a Kalnew precision refractometer "KPR-3000" manufactured by Shimadzu Corporation. A matching liquid having a refractive index (n d ) closest to the refractive index (n d ) of the cured product was appropriately selected and used.

[アッベ数の算出方法]
上述の[屈折率の測定方法]にて測定したd線、F線、C線、各々の屈折率を用いて下記式によりアッベ数(ν)を算出した。
[Calculation method of Abbe number]
The Abbe number (ν d ) was calculated according to the following formula using the refractive indices of the d line, F line, and C line measured by the above-mentioned [Method of measuring refractive index].

Figure 0007532883000003
Figure 0007532883000003

[透過率の測定方法]
オクタデシルトリクロロシランにより離型処理を施したガラス板上に、実施例及び比較例で得られた活性エネルギー線硬化性組成物を滴下し、厚み1mmのシムプレートをスペーサーとして油滴の左右に配置後、同様にオクタデシルトリクロロシランにより離型処理を施したガラス板により油滴を挟み込んだ。2枚のガラス板で挟みこまれた活性エネルギー線硬化性組成物の油滴を、岩崎電気株式会社製UV-LED照射装置「LHPUV365/2501」にて照射強度50mW/cm、積算光量8000mJ/cmを照射し、約1mm厚のコイン状硬化物を得た。得られたコイン状硬化物を送風式オーブンにより100℃で20分間加熱した後、日本分光株式会社製紫外可視近赤外分光光度計「V-770」を用いて波長410nmにおける初期透過率を測定した。
[Method of measuring transmittance]
The active energy ray curable compositions obtained in the Examples and Comparative Examples were dropped onto a glass plate that had been subjected to a release treatment with octadecyltrichlorosilane, and 1 mm thick shim plates were placed on the left and right of the oil droplet as spacers, and the oil droplet was then sandwiched between two glass plates that had also been subjected to a release treatment with octadecyltrichlorosilane. The oil droplet of the active energy ray curable composition sandwiched between the two glass plates was irradiated with an irradiation intensity of 50 mW/cm 2 and an accumulated light amount of 8000 mJ/cm 2 using a UV-LED irradiation device "LHPUV365/2501" manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., to obtain a coin-shaped cured product with a thickness of about 1 mm. The obtained coin-shaped cured product was heated in a blower oven at 100°C for 20 minutes, and then the initial transmittance at a wavelength of 410 nm was measured using a UV-visible near-infrared spectrophotometer "V-770" manufactured by JASCO Corporation.

[耐熱試験後透過率の測定方法]
前記透過率の測定方法において測定したコイン状硬化物を、送風式オーブンにより(1)175℃で10分間加熱、乃至(2)260℃で6分間加熱した後、日本分光株式会社製紫外可視近赤外分光光度計「V-770」を用いて波長410nmにおける透過率を、各々耐熱試験後透過率1及び耐熱試験後透過率2として測定した。なお、加熱温度は低温溶融半田と通常溶融半田のリフロー工程に準じた温度設定として175℃と260℃を用いた。
[Method for measuring transmittance after heat resistance test]
The coin-shaped cured product measured by the transmittance measurement method was heated in a fan oven (1) at 175°C for 10 minutes and (2) at 260°C for 6 minutes, and then the transmittance at a wavelength of 410 nm was measured using a UV-Visible-Near-Infrared Spectrophotometer "V-770" manufactured by JASCO Corporation as transmittance after heat resistance test 1 and transmittance after heat resistance test 2. The heating temperatures used were 175°C and 260°C, which are temperature settings in accordance with the reflow process of low-temperature molten solder and normal molten solder.

[吸水率の測定方法]
厚み0.2mmのシムプレートとガラス棒を用いて、アクリル板上に実施例及び比較例で得られた活性エネルギー線硬化性組成物を塗工後、アイグラフィックス株式会社製ベルトコンベアー式紫外線照射装置(120Wメタルハライドランプ)にて積算光量3,000mJ/cmの紫外線照射により膜厚0.2mmのシート状硬化物を得た。得られたシート状硬化物をダンベルカッターを用いて長さ5cm×幅5cmに裁断することで吸水率測定用試験片を作製した。作製した前記試験片を送風式オーブンにより50℃で24時間乾燥後、試験片の重量測定を行い初期重量mとした。初期重量測定後、23℃の純水300mlに24時間浸漬させた。純水から引き上げた試験片に残った水分を旭化成株式会社製不織布「ベンコット」にて拭き取った後、試験片の重量測定を行い浸漬後重量mとした。浸漬後重量測定後、送風式オーブンにより50℃で24時間乾燥させ、試験片の重量測定を行い乾燥重量mとした。上記m~mを用いて、下記式により吸水率を算出した。
[Method for measuring water absorption rate]
Using a 0.2 mm thick shim plate and a glass rod, the active energy ray curable composition obtained in the Examples and Comparative Examples was applied to an acrylic plate, and then a sheet-shaped cured product having a thickness of 0.2 mm was obtained by irradiating ultraviolet rays with an integrated light amount of 3,000 mJ/ cm2 using a belt conveyor type ultraviolet irradiator (120 W metal halide lamp) manufactured by Eye Graphics Co., Ltd. The obtained sheet-shaped cured product was cut into a length of 5 cm x width of 5 cm using a dumbbell cutter to prepare a test piece for measuring water absorption. The prepared test piece was dried at 50°C for 24 hours in a blower oven, and then the weight of the test piece was measured and the initial weight m1 was obtained. After the initial weight was measured, the test piece was immersed in 300 ml of pure water at 23°C for 24 hours. The moisture remaining on the test piece pulled out of the pure water was wiped off with a nonwoven fabric "Bencotto" manufactured by Asahi Kasei Corporation, and then the weight of the test piece was measured and the weight after immersion m2 was obtained. After the weight was measured after immersion, the test piece was dried at 50° C. for 24 hours in a fan oven, and the weight of the test piece was measured and recorded as the dry weight m 3. The water absorption rate was calculated by the following formula using the above m 1 to m 3 .

Figure 0007532883000004
Figure 0007532883000004

[耐湿熱性の評価方法]
実施例及び比較例で得られた活性エネルギー線硬化性組成物を、信越化学工業株式会社製シランカップリング剤「KBM-5103」により密着処理を施したカバーガラス上に滴下し、レンズレプリカにより賦形した後、岩崎電気株式会社製UV-LED照射装置「LHPUV365/2501」にて照射強度50mW/cm、積算光量450mJ/cmの照射により仮硬化させた。レンズレプリカを離型後、プロピレングリコールモノメチルエーテルにより現像処理を行い、未硬化の樹脂組成物を除去した。さらに、積算光量7,550mJ/cmによる本硬化を行った後、送風式オーブンを用いて100℃で90分間のポストベークを行うことで、ウェハレベルレンズを得た。得られたウェハレベルレンズを環境試験機(エスペック製SH-222)を用いて温度85℃、相対湿度85%、で1000時間の耐湿熱試験を行った。試験後レンズを株式会社キーエンス製マイクロスコープ「VHX900」及びオリンパス株式会社製レーザー顕微鏡「OLS5000」を用いて観察し、下記の基準に従い評価した。
[Method for evaluating moist heat resistance]
The active energy ray curable compositions obtained in the examples and comparative examples were dropped onto a cover glass that had been subjected to an adhesion treatment using a silane coupling agent "KBM-5103" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and shaped using a lens replica, and then provisionally cured by irradiation with an irradiation intensity of 50 mW/cm 2 and an accumulated light amount of 450 mJ/cm 2 using a UV-LED irradiation device "LHPUV365/2501" manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd. After releasing the lens replica, a development process was performed using propylene glycol monomethyl ether to remove the uncured resin composition. Furthermore, after main curing with an accumulated light amount of 7,550 mJ/cm 2 , a wafer-level lens was obtained by post-baking at 100°C for 90 minutes using a blower oven. The obtained wafer-level lens was subjected to a 1000-hour moist heat resistance test at a temperature of 85°C and a relative humidity of 85% using an environmental tester (SH-222 manufactured by Espec). After the test, the lens was observed using a microscope "VHX900" manufactured by Keyence Corporation and a laser microscope "OLS5000" manufactured by Olympus Corporation, and evaluated according to the following criteria.

◎:ハガレ、界面欠陥、内部欠陥が見られない。
〇:ハガレ、界面欠陥は見られないが内部欠陥が1~10個程度。
△:ハガレ、界面異常、内部欠陥の程度が中程度。
×:ハガレ、界面異常、内部欠陥が重度。
⊚: No peeling, interface defects, or internal defects were observed.
◯: No peeling or interface defects observed, but 1 to 10 internal defects.
△: Medium degree of peeling, interface abnormality, and internal defects.
×: Serious peeling, interface abnormalities, and internal defects.

Figure 0007532883000005
Figure 0007532883000005

Figure 0007532883000006
Figure 0007532883000006

Figure 0007532883000007
Figure 0007532883000007

表1~3中の略語は以下のものを示す。
「R-604」;
ジオキサングリコールジアクリレート(日本化薬株式会社製)
「HBPE-4」;
EO変性水添ビスフェノールAジアクリレート(第一工業製薬株式会社製)
「A-400」;
ポリエチレングリコールジアクリレート(繰返単位9)(新中村化学工業株式会社製)
「A-600」;
ポリエチレングリコールジアクリレート(繰返単位14)(新中村化学工業株式会社製)
「PE-1」;
ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)(昭和電工株式会社製)
The abbreviations in Tables 1 to 3 represent the following:
"R-604";
Dioxane glycol diacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
"HBPE-4";
EO modified hydrogenated bisphenol A diacrylate (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)
"A-400";
Polyethylene glycol diacrylate (repeating unit 9) (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
"A-600";
Polyethylene glycol diacrylate (repeating unit 14) (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
"PE-1";
Pentaerythritol tetrakis(3-mercaptobutyrate) (Showa Denko K.K.)

表1~3の評価結果より、実施例1~13の本発明の活性エネルギー線硬化性組成物により形成された硬化物は、高アッベ数、高耐熱性を有し、吸水率が0.5~2.5の範囲に制御されかつ高い耐湿熱性を有することが明らかになった。また、実施例1~13のレンズサンプルは硬化後の反りもなく、割れやヒビもなく外観も良好であった。 The evaluation results in Tables 1 to 3 reveal that the cured products formed from the active energy ray-curable compositions of the present invention in Examples 1 to 13 have high Abbe numbers and high heat resistance, their water absorption is controlled within the range of 0.5 to 2.5, and they have high moist heat resistance. In addition, the lens samples of Examples 1 to 13 were free of warping, cracks, or chips after curing, and had good appearances.

一方、比較例1~3は、本発明にて規定する(C)成分を含有しない活性エネルギー線硬化性組成物の例であるが、耐湿熱試験においてハガレ、界面異常、内部欠陥が発生し、耐湿熱性が著しく不十分であることが確認された。 On the other hand, Comparative Examples 1 to 3 are examples of active energy ray-curable compositions that do not contain the component (C) defined in the present invention, and it was confirmed that the moist heat resistance test showed peeling, interface abnormalities, and internal defects, and the moist heat resistance was significantly insufficient.

また、比較例4は、本発明にて規定する(B)成分を含有しない活性エネルギー線硬化性組成物の例であるが、耐湿熱試験において界面異常、内部欠陥が発生し、耐湿熱性が不十分であることが確認された。 Comparative Example 4 is an example of an active energy ray-curable composition that does not contain the component (B) defined in the present invention, but in the moist heat resistance test, it was confirmed that the composition had insufficient moist heat resistance, with interface abnormalities and internal defects occurring.

比較例5~7は、本発明にて規定する(A)成分を含有しない活性エネルギー線硬化性組成物の例であるが、成型後のソリが酷く形状の歪みの発生、初期透過率が低い、吸水率が高い等の問題が確認された。 Comparative examples 5 to 7 are examples of active energy ray-curable compositions that do not contain component (A) as defined in the present invention, but problems were confirmed, such as severe warping after molding, resulting in shape distortion, low initial transmittance, and high water absorption.

Claims (11)

下記一般式(1)で表されるポリカーボネートジオールジ(メタ)アクリレート(A)と、
前記ポリカーボネートジオールジ(メタ)アクリレート(A)以外の一分子中に1又は2個の(メタ)アクリロイル基及び環状構造を有する化合物(B)と、
前記ポリカーボネートジオールジ(メタ)アクリレート(A)及び前記化合物(B)以外の一分子中に1又は2個の(メタ)アクリロイル基及び一分子中にアルキレングリコール構造を有する化合物(C)と、を含有し、
前記環状構造が、シクロヘキサン構造、トリシクロデカン構造及び1,3-ジオキサン構造からなる群より選ばれる1種以上であり、
前記アルキレングリコール構造がエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコールからなる群より選ばれる1種以上であり、
前記アルキレングリコール構造の繰り返し単位数が2~15の整数である活性エネルギー線硬化性組成物。
Figure 0007532883000008
(式中、Rは、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を示し、Rは、それぞれ独立して、炭素原子数1~10の炭化水素基を示す。nは1~10の整数である。)
A polycarbonate diol di(meth)acrylate (A) represented by the following general formula (1),
a compound (B) having one or two (meth)acryloyl groups and a cyclic structure in one molecule other than the polycarbonate diol di(meth)acrylate (A);
and a compound (C) other than the polycarbonate diol di(meth)acrylate (A) and the compound (B) having one or two (meth)acryloyl groups in one molecule and an alkylene glycol structure in one molecule,
the cyclic structure is at least one selected from the group consisting of a cyclohexane structure, a tricyclodecane structure, and a 1,3-dioxane structure,
the alkylene glycol structure is one or more selected from the group consisting of ethylene glycol, propylene glycol, and neopentyl glycol;
The active energy ray-curable composition, wherein the number of repeating units of the alkylene glycol structure is an integer of 2 to 15.
Figure 0007532883000008
(In the formula, each R 1 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, each R 2 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer from 1 to 10.)
前記一般式(1)中のRが、それぞれ独立して、炭素原子数5~6の直鎖状炭化水素基、又はシクロヘキサン構造を有するものである請求項1記載の活性エネルギー線硬化性組成物。 The active energy ray-curable composition according to claim 1, wherein R 2 in the general formula (1) is each independently a linear hydrocarbon group having 5 to 6 carbon atoms or a cyclohexane structure. 前記活性エネルギー線硬化性組成物が、さらに、前記ポリカーボネートジオールジ(メタ)アクリレート(A)、前記化合物(B)及び前記化合物(C)以外の一分子中に1又は2個の(メタ)アクリロイル基及び一分子中に1個以上の水酸基を有する化合物(D)を含有するものである請求項1又は2記載の活性エネルギー線硬化性組成物。 The active energy ray curable composition according to claim 1 or 2, further comprising a compound (D) having one or two (meth)acryloyl groups in one molecule and one or more hydroxyl groups in one molecule other than the polycarbonate diol di(meth)acrylate (A), the compound (B) and the compound (C). 前記化合物(D)が、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、及びソルビトールエチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレートからなる群より選ばれる1種以上である請求項記載の活性エネルギー線硬化性組成物。 The active energy ray-curable composition according to claim 3, wherein the compound (D) is at least one selected from the group consisting of 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4 -hydroxybutyl (meth)acrylate, and sorbitol ethylene oxide-modified di(meth)acrylate. 請求項1~4のいずれか1項記載の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物。 A cured product of the active energy ray-curable composition according to any one of claims 1 to 4. JIS試験方法(K7209:2000)のC法を用いて測定した吸水率が、0.1~4.0%の範囲である請求項5記載の硬化物。 The cured product according to claim 5, whose water absorption rate measured using JIS test method (K7209:2000) C method is in the range of 0.1 to 4.0%. 請求項5記載の硬化物を有することを特徴とするレンズ。 A lens comprising the cured product according to claim 5. 請求項5記載の硬化物を有することを特徴とするウェハレベルレンズ。 A wafer-level lens comprising the cured product according to claim 5. その少なくとも片面に無機化合物層が設けられた請求項5記載の硬化物を有することを特徴とするレンズ。 A lens comprising the cured product according to claim 5, at least one of which has an inorganic compound layer formed on it. 前記無機化合物層が、反射防止層である請求項9記載のレンズ。 The lens according to claim 9, wherein the inorganic compound layer is an anti-reflection layer. 請求項7~10のいずれか1項記載のレンズを有することを特徴とするカメラモジュール。 A camera module comprising a lens according to any one of claims 7 to 10.
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