JPH04351905A - XY stage equipped with laser length measuring device - Google Patents
XY stage equipped with laser length measuring deviceInfo
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- JPH04351905A JPH04351905A JP3127651A JP12765191A JPH04351905A JP H04351905 A JPH04351905 A JP H04351905A JP 3127651 A JP3127651 A JP 3127651A JP 12765191 A JP12765191 A JP 12765191A JP H04351905 A JPH04351905 A JP H04351905A
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- laser
- stage
- movable stage
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lasers (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は加工物等を支持するため
のXYステージに関し、さらに詳細にはレーザ測長装置
を備えたXYステージに関する。XYステージは加工物
等を支持するために多くの分野で使用されている。例え
ば、ステッパー等の半導体製造装置はウエハを支持する
ためにXYステージを含む。ウエハはXYステージの可
動ステージ部に載置され、可動ステージ部を移動しつつ
位置決めすることによりウエハを精密に定められた位置
に配置する。精密な位置決めのためには、可動ステージ
部の位置を精密に計測することが必要である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an XY stage for supporting a workpiece, and more particularly to an XY stage equipped with a laser length measuring device. XY stages are used in many fields to support workpieces and the like. For example, semiconductor manufacturing equipment such as a stepper includes an XY stage to support a wafer. The wafer is placed on a movable stage section of an XY stage, and the wafer is placed at a precisely determined position by moving and positioning the movable stage section. For precise positioning, it is necessary to accurately measure the position of the movable stage section.
【0002】最近、LSIの微細化に伴い、ステッパー
等の半導体製造装置には、10万分の1mmという非常
に高い位置決め精度が必要になってきており、可動ステ
ージ部の位置を計測する手段にも高精度の測定装置が求
められている。干渉式レーザ測長装置は高精度の測定が
可能であり、ウエハを載置する可動ステージ部の位置を
計測する手段としてますます使用されるようになってき
ている。Recently, with the miniaturization of LSIs, extremely high positioning accuracy of 1/100,000 mm has become necessary for semiconductor manufacturing equipment such as steppers. High precision measurement equipment is required. Interferometric laser length measuring devices are capable of highly accurate measurement, and are increasingly being used as means for measuring the position of a movable stage section on which a wafer is placed.
【0003】0003
【従来の技術】干渉式レーザ測長装置は、測定光と参照
光の干渉を利用したものであり、従来、固定部に設けた
干渉計と、可動ステージ部に設けた反射ミラーとを含む
構成になっている。測長原理は種々の方式があるが、例
えばヘテロダイン干渉を用いたものが図6に示される。
図6においては、XYステージは、X軸方向に移動可能
な案内部1a の上にY軸方向に移動可能に設けられた
可動ステージ部1を含み、可動ステージ部1の隣接する
2側面に反射ミラー2が取りつけられる。XYステージ
の固定部には、各反射ミラー2に対向するように干渉計
3が配置される。レーザー光源4は測定光成分と参照光
成分を含むレーザ光を干渉計3に供給する。測定光は干
渉計3を通って反射面2に向かい、反射面2で反射し、
再び干渉計3を通ってレシーバ5に達する。参照光は干
渉計3に入るが反射面2には向かわず、反射してきた測
定光と干渉計3において一緒になってレシーバ5に達す
る。従って、測定光は干渉計3と反射面2との間の往復
距離を余計に進んでおり、測定光と参照光を重ねた干渉
波からその距離を求めることができる。[Prior Art] Interferometric laser length measurement devices utilize interference between measurement light and reference light, and conventionally have a configuration that includes an interferometer provided on a fixed part and a reflection mirror provided on a movable stage part. It has become. There are various length measurement principles, and for example, one using heterodyne interference is shown in FIG. In FIG. 6, the XY stage includes a movable stage section 1 that is movable in the Y-axis direction on a guide section 1a that is movable in the X-axis direction. Mirror 2 is attached. An interferometer 3 is arranged at a fixed portion of the XY stage so as to face each reflecting mirror 2. A laser light source 4 supplies a laser beam including a measurement light component and a reference light component to the interferometer 3. The measurement light passes through the interferometer 3, goes to the reflective surface 2, is reflected by the reflective surface 2,
It passes through the interferometer 3 again and reaches the receiver 5. The reference light enters the interferometer 3 but does not reach the reflecting surface 2, and reaches the receiver 5 together with the reflected measurement light at the interferometer 3. Therefore, the measurement light travels an extra round trip distance between the interferometer 3 and the reflecting surface 2, and the distance can be determined from the interference wave that overlaps the measurement light and the reference light.
【0004】一方、ステッパー等の半導体製造装置では
、LSIの生産性向上のために、使用するウエハのサイ
ズが大きくなりつつある。これに伴い、ステッパーのウ
エハを載置する可動ステージ部も大きくなり、且つその
可動範囲も大きくすることが要求されるようになってい
る。ステッパーの可動ステージ部の可動範囲が大きくな
ると、レーザ測長装置で可動ステージ部の移動量を測定
するためには、可動ステージ部に取りつける反射ミラー
を大きくすることが必要になる。On the other hand, in semiconductor manufacturing equipment such as steppers, the size of wafers used is becoming larger in order to improve LSI productivity. Along with this, the movable stage portion of the stepper on which the wafer is placed has also become larger, and the movable range thereof has also been required to be increased. As the movable range of the movable stage section of the stepper increases, it becomes necessary to increase the size of the reflecting mirror attached to the movable stage section in order to measure the amount of movement of the movable stage section using a laser length measuring device.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところが、ステッパー
の可動ステージ部のように、高い精度の位置決めが必要
な支持装置では、反射ミラーの反射面の面精度は、λ/
20(He−Neレーザの場合、λ=0.6328μm
)以上という厳しい値が要求される。このため、長い
距離を測長できるように反射ミラーを大きくすると、面
精度を維持するために反射ミラーの剛性を高く確保しな
ければならず、反射ミラーの厚さや幅も大きくしなけれ
ばならない。このため、反射ミラーの重量が大きくなり
、反射ミラーが可動ステージ部に搭載されていると可動
ステージ部の運動制御性能が低下する。反射ミラーの大
型化は、必然的に可動ステージ部の固有振動数を低下さ
せ、位置決め精度の低下や位置決め時間の低下を招くと
いう欠点がある。However, in support devices that require highly accurate positioning, such as the movable stage of a stepper, the surface accuracy of the reflective surface of the reflective mirror is λ/
20 (for He-Ne laser, λ=0.6328 μm
) or higher is required. For this reason, if the reflecting mirror is made large enough to measure a long distance, it is necessary to ensure high rigidity of the reflecting mirror in order to maintain surface accuracy, and the thickness and width of the reflecting mirror must also be increased. Therefore, the weight of the reflecting mirror increases, and if the reflecting mirror is mounted on the movable stage section, the motion control performance of the movable stage section will deteriorate. Increasing the size of the reflecting mirror inevitably lowers the natural frequency of the movable stage section, resulting in a disadvantage of lowering positioning accuracy and positioning time.
【0006】本発明は、反射ミラーを可動ステージ部の
外の固定部に固定し、干渉計の方を可動ステージ部に搭
載して、レーザ測長装置を構成することにより、反射ミ
ラーの重量の増加による可動ステージ部の性能の低下を
防止することのできるレーザ測長装置を備えたXYステ
ージを提供することを目的とする。The present invention reduces the weight of the reflecting mirror by fixing the reflecting mirror to a fixed part outside the movable stage part and mounting the interferometer on the movable stage part to constitute a laser length measuring device. An object of the present invention is to provide an XY stage equipped with a laser length measuring device that can prevent the performance of a movable stage section from deteriorating due to an increase in the length of the movable stage.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の原理説明図であ
る図1を参照すると、本発明のXYステージ10は、2
次元平面内の直交する少なくとも2軸方向(X、Y)に
移動可能な可動ステージ部12を有する。この可動ステ
ージ部12には例えばウエハを載置する支持台(図示せ
ず)等を設けることができる。XYステージ10には可
動ステージ部12の移動量をレーザ光の干渉を利用して
測長するレーザ測長装置14が設けられる。各レーザ測
長装置14は、可動ステージ部12に搭載された干渉計
16と、XYステージ10の固定部に設けられた反射ミ
ラー18とからなる。レーザ光源(図示せず)がXYス
テージ10の固定部に設けられる場合には、例えば光フ
ァイバによりレーザ光がレーザ光源から干渉計16に供
給される。干渉計はビームスプリッタ等の偏光分離手段
を含み、レーザ光の一部分(測定光)と残りの部分(参
照光)に分離する。分離されたレーザ光の一部分(測定
光)は干渉計16を通って反射ミラー18で反射し、干
渉計16に戻る。分離されたレーザ光の残りの部分(参
照光)は反射ミラー18に向かわず、上記反射して戻っ
てきたレーザ光の一部分と干渉し、それによって、可動
ステージ部12の位置を検出するようにしたものである
。[Means for Solving the Problems] Referring to FIG. 1, which is a diagram illustrating the principle of the present invention, the XY stage 10 of the present invention has two
It has a movable stage section 12 that is movable in at least two orthogonal axial directions (X, Y) within a dimensional plane. The movable stage section 12 can be provided with, for example, a support stand (not shown) on which a wafer is placed. The XY stage 10 is provided with a laser length measuring device 14 that measures the amount of movement of the movable stage section 12 using interference of laser light. Each laser length measuring device 14 includes an interferometer 16 mounted on the movable stage section 12 and a reflection mirror 18 provided on the fixed section of the XY stage 10. When a laser light source (not shown) is provided at a fixed portion of the XY stage 10, the laser light is supplied from the laser light source to the interferometer 16 through, for example, an optical fiber. The interferometer includes a polarization separation means such as a beam splitter, and separates the laser beam into a portion (measurement beam) and a remaining portion (reference beam). A portion of the separated laser light (measurement light) passes through the interferometer 16, is reflected by the reflection mirror 18, and returns to the interferometer 16. The remaining portion of the separated laser beam (reference beam) does not head toward the reflecting mirror 18, but interferes with a portion of the laser beam that has been reflected and returned, thereby detecting the position of the movable stage section 12. This is what I did.
【0008】[0008]
【作用】本発明では、図1のように、干渉計16を可動
ステージ部12に搭載して、そこに、レーザ光を導き、
可動ステージ部12の移動量を測定する。反射ミラー1
8は固定の位置に設けられる。このため、可動ステージ
部12の可動範囲が大きくなったら、それに応じて反射
ミラー18の長さを長くすればよい。反射ミラー18は
固定部にあるので、反射ミラー18が大きくなっても可
動ステージ部12の重量はそれによって増加しない。従
って、可動ステージ部12の可動範囲が大きくなっても
、可動ステージ部12の制御性能や位置決め精度の低下
、位置決め時間の増加等のXYステージの性能の低下が
起こらない。[Operation] In the present invention, as shown in FIG.
The amount of movement of the movable stage section 12 is measured. Reflection mirror 1
8 is provided at a fixed position. Therefore, if the movable range of the movable stage portion 12 becomes larger, the length of the reflecting mirror 18 may be increased accordingly. Since the reflecting mirror 18 is located at a fixed portion, even if the reflecting mirror 18 becomes larger, the weight of the movable stage portion 12 does not increase accordingly. Therefore, even if the movable range of the movable stage section 12 becomes larger, the performance of the XY stage does not deteriorate, such as a decrease in control performance or positioning accuracy of the movable stage section 12, or an increase in positioning time.
【0009】[0009]
【実施例】図2は本発明の第1実施例を示す図である。
XYステージ10は固定のベース部20と、このベース
部20に設けられた可動ステージ部12とを含む。X軸
リニアガイド22がベース部20に設けられ、ガイド部
24がこのX軸リニアガイド22に摺動可能に取りつけ
られる。このガイド部24にはY軸リニアガイド26が
設けられ、可動ステージ部12はこのY軸リニアガイド
26に摺動可能に取りつけられる。従って、可動ステー
ジ部12は2次元平面内の直交する少なくとも2軸方向
(X、Y)に移動可能である。このXYステージ10が
ステッパー等の半導体製造装置で利用される場合には、
可動ステージ部12の上に任意の形体でウエハの支持台
30を設けることができる。Embodiment FIG. 2 is a diagram showing a first embodiment of the present invention. The XY stage 10 includes a fixed base portion 20 and a movable stage portion 12 provided on the base portion 20. An X-axis linear guide 22 is provided on the base portion 20, and a guide portion 24 is slidably attached to the X-axis linear guide 22. This guide section 24 is provided with a Y-axis linear guide 26, and the movable stage section 12 is slidably attached to this Y-axis linear guide 26. Therefore, the movable stage section 12 is movable in at least two orthogonal axial directions (X, Y) within a two-dimensional plane. When this XY stage 10 is used in semiconductor manufacturing equipment such as a stepper,
A wafer support 30 can be provided on the movable stage section 12 in any desired shape.
【0010】レーザ測長装置14は、可動ステージ部1
2に搭載された干渉計16と、XYステージ10のベー
ス部20に取りつけた固定ブロック32に固定された反
射ミラー18とからなる。干渉計16はウエハの支持台
30とほぼ同じ高さとなるように可動ステージ部12の
直交する2辺に沿って配置され、反射ミラー18は各干
渉計16と対向して配置される。The laser length measuring device 14 includes a movable stage section 1
2, and a reflecting mirror 18 fixed to a fixed block 32 attached to the base portion 20 of the XY stage 10. The interferometers 16 are arranged along two perpendicular sides of the movable stage section 12 so as to be at approximately the same height as the wafer support 30, and the reflecting mirrors 18 are arranged opposite to each interferometer 16.
【0011】レーザチューブ34がXYステージ10の
ベース20に配置され、光ファイバ36がレーザチュー
ブ34と各干渉計16の間に延びる。実施例においては
、レーザチューブ34は、偏光したレーザ光を発生する
光源と、各干渉計16で干渉したレーザ光を受けて電気
的な信号に変換するレシーバとを含む。A laser tube 34 is located on the base 20 of the XY stage 10, and an optical fiber 36 extends between the laser tube 34 and each interferometer 16. In the embodiment, the laser tube 34 includes a light source that generates polarized laser light and a receiver that receives the laser light that has interfered with each interferometer 16 and converts it into an electrical signal.
【0012】図3は図2の干渉計16の詳細図である。
図4は図3の光路を示し、(A)は干渉計16内での測
定光の光路を示し、(B)は参照光の光路を示す図であ
る。図3及び図4では、各光ファイバ36は、レーザチ
ューブ34から干渉計16へレーザ光を供給する入力光
ファイバ36aと、干渉計16からレーザチューブ34
内のレシーバへ処理光を送る出力光を送る出力光ファイ
バ36bとを含むように示してある。また、図3及び図
4には、反射ミラー18も示されている。FIG. 3 is a detailed diagram of the interferometer 16 of FIG. 4 shows the optical path of FIG. 3, (A) shows the optical path of the measurement light within the interferometer 16, and (B) shows the optical path of the reference light. 3 and 4, each optical fiber 36 includes an input optical fiber 36a that supplies laser light from the laser tube 34 to the interferometer 16, and an input optical fiber 36a that supplies laser light from the interferometer 16 to the laser tube 34.
and an output optical fiber 36b that carries output light that sends processed light to a receiver within. Also shown in FIGS. 3 and 4 is a reflective mirror 18.
【0013】コリメートレンズ38が、入力光ファイバ
36aの端部近くに配置され、入力光ファイバ36aか
ら供給されたレーザ光が平行光線となるようになってい
る。
コリメートレンズ38の先方にはビームスプリッタ40
が設けられる。ビームスプリッタ40は斜めの偏光面4
1を有し、レーザチューブ34から供給されるレーザ光
を測定光と参照光に分離する。実施例においては、レー
ザチューブ34は単一波長のレーザ光を供給するが、偏
光面に対しビームスプリッタ40が45°で交差する様
に配置して、従って、図4の(A)、(B)に示される
ように、偏光面41において、レーザ光の一部分(測定
光)が透過し且つ残りの部分(参照光)が反射する。A collimating lens 38 is disposed near the end of the input optical fiber 36a so that the laser light supplied from the input optical fiber 36a becomes a parallel beam. A beam splitter 40 is located ahead of the collimating lens 38.
will be provided. Beam splitter 40 has an oblique polarization plane 4
1, and separates the laser light supplied from the laser tube 34 into measurement light and reference light. In the embodiment, the laser tube 34 provides a single wavelength laser beam, but is arranged so that the beam splitter 40 intersects the plane of polarization at 45°, so that the laser beam in FIGS. ), in the polarization plane 41, part of the laser light (measurement light) is transmitted, and the remaining part (reference light) is reflected.
【0014】ビームスプリッタ40の透過方向の先方で
該ビームスプリッタ40と反射ミラー18との間には四
分の一波長板42が配置される。さらに、ビームスプリ
ッタ40の反射方向の先方には第1のコーナーキューブ
44が配置され、さらに、このビームスプリッタ40の
第1のコーナーキューブ44とは反対側に第2のコーナ
ーキューブ46が配置される。さらに、ビームスプリッ
タ40の反射ミラー18とは反対側の片隅に逆望遠鏡4
8が配置される。A quarter-wave plate 42 is arranged between the beam splitter 40 and the reflecting mirror 18 at the far end of the beam splitter 40 in the transmission direction. Furthermore, a first corner cube 44 is arranged on the other side of the beam splitter 40 in the reflection direction, and furthermore, a second corner cube 46 is arranged on the opposite side of the beam splitter 40 from the first corner cube 44. . Furthermore, an inverted telescope 4 is placed in one corner of the beam splitter 40 opposite to the reflecting mirror 18.
8 is placed.
【0015】従って、図4の(A)に示されるように、
ビームスプリッタ40を透過したレーザ光は、四分の一
波長板42を通る間にレーザ光の位相が90°ずれて円
偏光となり反射ミラー18に達し、反射ミラー18で反
射して四分の一波長板42を通る間にさらに位相は90
度ずれる。従って、反射光は供給時の偏光面に対して9
0度回転してビームスプリッタ40に戻る。そのため、
この反射光はビームスプリッタ40を透過しなくなり、
ビームスプリッタ40で反射して方向を変え、第2のコ
ーナーキューブ46に入射する。この入射光は第2のコ
ーナーキューブ46において2度反射してビームスプリ
ッタ40に入射し、ビームスプリッタ40で反射して、
再び四分の一波長板42を通って反射ミラー18に向か
う。このとき、光路は最初に反射ミラー18に向かった
ときと平行であるが、ビームスプリッタ40の上方から
下方にずれている。そして、このレーザ光は反射ミラー
18で反射して、四分の一波長板42を通ってビームス
プリッタ40に戻る。このレーザ光は四分の一波長板4
2を2度通ることにより偏光面がさらに90度回転して
おり、最初の供給時の偏光面に対して 180度回転し
て元に戻り、従って、ビームスプリッタ40をそのまま
透過し、逆望遠鏡48に至る。Therefore, as shown in FIG. 4(A),
The laser beam transmitted through the beam splitter 40 shifts in phase by 90 degrees while passing through the quarter-wave plate 42, becomes circularly polarized light, reaches the reflecting mirror 18, is reflected by the reflecting mirror 18, and becomes circularly polarized light. While passing through the wave plate 42, the phase is further changed to 90
The degree is off. Therefore, the reflected light is 9
It rotates 0 degrees and returns to the beam splitter 40. Therefore,
This reflected light no longer passes through the beam splitter 40,
The beam is reflected by the beam splitter 40, changes direction, and enters the second corner cube 46. This incident light is reflected twice by the second corner cube 46, enters the beam splitter 40, is reflected by the beam splitter 40, and
The light passes through the quarter-wave plate 42 again and heads toward the reflecting mirror 18. At this time, the optical path is parallel to the first direction toward the reflecting mirror 18, but is shifted downward from above the beam splitter 40. This laser light is then reflected by the reflection mirror 18 and returns to the beam splitter 40 through the quarter-wave plate 42. This laser beam is transmitted through a quarter-wave plate 4
By passing through the beam splitter 2 twice, the plane of polarization is further rotated by 90 degrees, and the plane of polarization is rotated by 180 degrees with respect to the plane of polarization at the time of initial supply. leading to.
【0016】図4の(B)に示されるように、ビームス
プリッタ40で反射したレーザ光は、第1のコーナーキ
ューブ44に入射する。この入射光は第1のコーナーキ
ューブ44において2度反射してビームスプリッタ40
に入射し、ビームスプリッタ40で反射して、最初の入
射方向とは逆方向にビームスプリッタ40から出射する
。この参照光の出射光路は(A)に示す測定光の出射光
路と重なり、逆望遠鏡48に至る。こうして、測定光と
参照光は出力光ファイバ36bを通ってレーザチューブ
34内のレシーバへ送られ、そこで干渉波を電気信号に
変換して処理することにより干渉計16と反射ミラー1
8との間の距離を計算することができる。As shown in FIG. 4B, the laser beam reflected by the beam splitter 40 is incident on the first corner cube 44. As shown in FIG. This incident light is reflected twice at the first corner cube 44 and then sent to the beam splitter 40.
The beam enters the beam, is reflected by the beam splitter 40, and exits from the beam splitter 40 in a direction opposite to the initial direction of incidence. The output optical path of this reference light overlaps with the output optical path of the measurement light shown in (A), and reaches the inverted telescope 48. In this way, the measurement light and the reference light are sent through the output optical fiber 36b to the receiver in the laser tube 34, where the interference waves are converted into electrical signals and processed, thereby converting the interferometer 16 and the reflecting mirror 1.
8 can be calculated.
【0017】図3及び図4に示す実施例においては、出
力光ファイバ36bは複数の出力光ファイバ36cで構
成され、逆望遠鏡48と複数の出力光ファイバ36cと
の間に補助的に幾つかの光学素子が配置されている。こ
れらの光学素子は、例えば、ビームスプリッタ 50,
54, 60 、直角プリズム 56, 58, 6
2 、並びに二分の一波長板52、四分の一波長板64
である。この構成は、測定光と参照光の間の位相ずれを
検出し、ミラーの直進方向と直進距離を検出する為の手
段である。In the embodiment shown in FIGS. 3 and 4, the output optical fiber 36b is composed of a plurality of output optical fibers 36c, and some auxiliary optical fibers are connected between the inverted telescope 48 and the plurality of output optical fibers 36c. Optical elements are arranged. These optical elements include, for example, a beam splitter 50,
54, 60, right angle prism 56, 58, 6
2, as well as a half-wave plate 52 and a quarter-wave plate 64
It is. This configuration is a means for detecting the phase shift between the measurement light and the reference light, and detecting the straight direction and the straight distance of the mirror.
【0018】図5は本発明の第2実施例を示す図である
。基本的な構成は図2の実施例とほぼ同様である。XY
ステージ10は固定のベース部20と、このベース部2
0に設けられた可動ステージ部12とを含み、ガイド部
24がX軸リニアガイド22に設けられ、可動ステージ
部12はY軸リニアガイド26に摺動可能に取りつけら
れる。また、レーザ測長装置14は、可動ステージ部1
2に搭載された干渉計16と、固定ブロック32に固定
された反射ミラー18とからなる。可動ステージ部12
の上に任意の形体でウエハの支持台(図示せず)を設け
ることができる。FIG. 5 is a diagram showing a second embodiment of the present invention. The basic configuration is almost the same as the embodiment shown in FIG. XY
The stage 10 includes a fixed base part 20 and this base part 2.
A guide section 24 is provided on the X-axis linear guide 22, and the movable stage section 12 is slidably attached to the Y-axis linear guide 26. Further, the laser length measuring device 14 includes the movable stage section 1
2 and a reflecting mirror 18 fixed to a fixed block 32. Movable stage section 12
A wafer support (not shown) can be provided on the wafer in any desired configuration.
【0019】この実施例においては、レーザチューブ3
4から干渉計16へレーザ光を導くために、ビームベン
ダ70とビームスプリッタ72が図2の光ファイバ36
の代わりに設けられる。また、補助的なビームベンダ7
4,76がベース部20に設けられ、レーザチューブ3
4のレーザ光をビームベンダ70へ送る。ビームベンダ
70はガイド部24に取りつけられ、ビームスプリッタ
72は可動ステージ部12に取りつけられて各干渉計1
6へレーザ光を供給する。このように、光ファイバ36
を用いなくても、ビームベンダ70やビームスプリッタ
72等により固定のベース部20上のレーザチューブ3
4から可動ステージ部12上の干渉計16へレーザ光を
導くことができる。In this embodiment, the laser tube 3
4 to the interferometer 16, a beam bender 70 and a beam splitter 72 are connected to the optical fiber 36 in FIG.
provided in place of. In addition, the auxiliary beam bender 7
4 and 76 are provided on the base part 20, and the laser tube 3
4 laser beams are sent to the beam bender 70. The beam bender 70 is attached to the guide section 24, and the beam splitter 72 is attached to the movable stage section 12 to connect each interferometer 1.
A laser beam is supplied to 6. In this way, the optical fiber 36
Even without using a
4 to the interferometer 16 on the movable stage section 12.
【0020】[0020]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
反射ミラーを固定の位置に設け、干渉計を可動ステージ
部に搭載して、そこに、レーザ光を導き、可動ステージ
部の移動量を測定するように構成したので、可動ステー
ジ部の可動範囲が大きくなっても、それに応じて反射ミ
ラーの長さを長くすればよく、可動ステージ部の重量は
それによって増加しないようにすることができ、可動ス
テージ部の制御性能や位置決め精度の低下、位置決め時
間の増加等のXYステージの性能の低下が起こらない。[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention,
The reflective mirror is set at a fixed position, the interferometer is mounted on the movable stage, and the laser beam is guided there to measure the amount of movement of the movable stage, so the movable range of the movable stage is Even if the size increases, the length of the reflecting mirror can be lengthened accordingly, and the weight of the movable stage section can be prevented from increasing, resulting in a decrease in control performance and positioning accuracy of the movable stage section, and a decrease in positioning time. There is no deterioration in the performance of the XY stage such as an increase in .
【図1】本発明の原理図である。FIG. 1 is a diagram showing the principle of the present invention.
【図2】本発明の第1実施例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a first embodiment of the present invention.
【図3】図2の干渉計の詳細図である。FIG. 3 is a detailed view of the interferometer of FIG. 2;
【図4】図3の干渉計内での光路を示す図であり、(A
)は測定光の光路を示し、(B)は参照光の光路を示す
図である。FIG. 4 is a diagram showing the optical path within the interferometer of FIG.
) shows the optical path of the measurement light, and (B) shows the optical path of the reference light.
【図5】本発明の第2実施例を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a second embodiment of the present invention.
【図6】従来技術を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a prior art.
10…XYステージ 12…可動ステージ部 14…レーザ測長装置 16…干渉計 18…反射ミラー 34…レーザチューブ 36…光ファイバ 40…ビームスプリッタ 42…四分の一波長板 44,46 …コーナーキューブ 70…ビームベンダ 72…ビームスプリッタ 10...XY stage 12...Movable stage part 14...Laser length measuring device 16...Interferometer 18...Reflection mirror 34...Laser tube 36...Optical fiber 40...beam splitter 42...quarter wave plate 44,46...corner cube 70...beam bender 72...beam splitter
Claims (4)
交する少なくとも2軸方向に移動可能な可動ステージ部
(12)と、該可動ステージ部の移動量をレーザ光の干
渉を利用して測長するレーザ測長装置(14)とを備え
たXYステージにおいて、該レーザ測長装置(14)は
、レーザ光源(34)と、該XYステージの該可動ステ
ージ部(12)に搭載された干渉計(16)と、該XY
ステージの固定部に設けられた反射ミラー(18)とか
らなり、レーザ光源から該干渉計へ導かれたレーザ光の
一部分が該反射ミラーで反射して該干渉計に戻り、そし
て該反射ミラーへ向かわないレーザ光の残りの部分と干
渉するようにしたことを特徴とするレーザ測長装置を備
えたXYステージ。1. A fixed part (20), a movable stage part (12) movable in at least two orthogonal axes directions in a two-dimensional plane, and a moving amount of the movable stage part using interference of laser light. In the XY stage, the laser length measuring device (14) is mounted on a laser light source (34) and the movable stage section (12) of the XY stage. interferometer (16) and the XY
It consists of a reflecting mirror (18) provided on the fixed part of the stage, and a part of the laser beam guided from the laser light source to the interferometer is reflected by the reflecting mirror, returns to the interferometer, and then returns to the reflecting mirror. An XY stage equipped with a laser length measuring device characterized in that the laser beam interferes with the remaining part of the laser beam that is not directed.
ジの固定部(20)に設けられ、且つ光ファイバ(36
)が該レーザ光源(34)から該可動ステージ部(12
)の該干渉計(16)へレーザ光を導くために設けられ
ることを特徴とする請求項1に記載のレーザ測長装置を
備えたXYステージ。2. The laser light source (34) is provided on the fixed part (20) of the XY stage, and the optical fiber (36)
) from the laser light source (34) to the movable stage section (12).
2. The XY stage equipped with a laser length measuring device according to claim 1, wherein the XY stage is provided to guide laser light to the interferometer (16) of the laser length measuring device.
分を透過させ且つ残りの部分を反射させて分離するビー
ムスプリッタ(40)と、該レーザ光の透過方向の先方
で該ビームスプリッタと該反射ミラー(18)との間に
配置される四分の一波長板(42)と、該レーザ光の反
射方向の先方に配置される第一のコーナーキューブ(4
4)と、該ビームスプリッタの該第1のコーナーキュー
ブとは反対側に配置される第2のコーナーキューブ(4
6)とからなることを特徴とする請求項1又は2項に記
載のレーザ測長装置を備えたXYステージ。3. The interferometer (16) includes a beam splitter (40) that transmits a portion of the laser beam and reflects the remaining portion, and a beam splitter (40) that transmits a portion of the laser beam and reflects the remaining portion. A quarter wavelength plate (42) disposed between the reflecting mirror (18) and a first corner cube (42) disposed at the front in the direction of reflection of the laser beam.
4), and a second corner cube (4) disposed on the opposite side of the beam splitter from the first corner cube.
6) An XY stage equipped with the laser length measuring device according to claim 1 or 2, comprising:
プリッタ(72)が該可動ステージ部(12)に設けら
れ、該レーザ光源(34)から該ビームスプリッタ(7
2)を介して複数の該干渉計(16)にレーザ光を供給
するようにしたことを特徴とする請求項1に記載のレー
ザ測長装置を備えたXYステージ。4. A plurality of the interferometers (16) and beam splitters (72) are provided on the movable stage section (12), and a plurality of interferometers (16) and beam splitters (72) are provided on the movable stage section (12), and a plurality of interferometers (16) and beam splitters (72) are provided on the movable stage section (12), and a plurality of interferometers (16) and beam splitters (72) are provided on the movable stage section (12).
2). The XY stage equipped with a laser length measuring device according to claim 1, wherein laser light is supplied to the plurality of interferometers (16) through a laser beam length measuring device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3127651A JPH04351905A (en) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | XY stage equipped with laser length measuring device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3127651A JPH04351905A (en) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | XY stage equipped with laser length measuring device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04351905A true JPH04351905A (en) | 1992-12-07 |
Family
ID=14965368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3127651A Withdrawn JPH04351905A (en) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | XY stage equipped with laser length measuring device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04351905A (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1991
- 1991-05-30 JP JP3127651A patent/JPH04351905A/en not_active Withdrawn
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