JPH05156016A - Production of hybrid silica gel - Google Patents
Production of hybrid silica gelInfo
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- JPH05156016A JPH05156016A JP32322691A JP32322691A JPH05156016A JP H05156016 A JPH05156016 A JP H05156016A JP 32322691 A JP32322691 A JP 32322691A JP 32322691 A JP32322691 A JP 32322691A JP H05156016 A JPH05156016 A JP H05156016A
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- photochromic
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 テトラエトキシシラン等のテトラアルコキシ
シラン、フェニルトリエトキシシラン等のオルガノアル
コキシシラン、及び分子内にアルコキシシリル基を有す
るフォトクロミック化合物を反応させて、共加水分解、
縮合によりフォトクロミックハイブリッドシリカゲルを
製造する。
【効果】 オルガノアルコキシシランを併用することに
より、作製されたシリカゲル中の酸点が減少、あるいは
酸強度が低減される。この結果、シリカゲル中に化学的
に固定されたフォトクロミック化合物部の劣化が防止で
き、光耐久性が向上する。又、フォトクロミック化合物
部がシリカゲルに化学的に結合しているのでフォトクロ
ミック化合物が溶媒中で溶出することがない。更にテト
ラアルコキシシランを原料のひとつに用いているため、
強度、耐溶剤性、耐熱性にも秀れる。
(57) [Summary] [Structure] A tetraalkoxysilane such as tetraethoxysilane, an organoalkoxysilane such as phenyltriethoxysilane, and a photochromic compound having an alkoxysilyl group in the molecule are reacted to perform cohydrolysis,
Photochromic hybrid silica gel is produced by condensation. [Effect] By using the organoalkoxysilane in combination, the number of acid sites in the produced silica gel is reduced, or the acid strength is reduced. As a result, deterioration of the photochromic compound portion chemically fixed in silica gel can be prevented, and light durability is improved. Further, since the photochromic compound portion is chemically bonded to silica gel, the photochromic compound does not elute in the solvent. Furthermore, because tetraalkoxysilane is used as one of the raw materials,
Excellent strength, solvent resistance, and heat resistance.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ソルーゲル法によるフ
ォトクロミック特性を有するハイブリッドシリカゲルの
製造方法、詳しくは、フォトクロミック材としての耐久
性を著しく高めたハイブリッドシリカゲルの製造方法に
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a hybrid silica gel having photochromic properties by a sol-gel method, and more particularly to a method for producing a hybrid silica gel having a remarkably improved durability as a photochromic material.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、ゾルーゲル法はシリカガラスの低
温合成法として知られており、溶液状態の原料から、加
水分解、縮重合反応によりシロキサン結合を生成させ
て、シリコン酸化物とするものである。二元系以上の酸
化物を作製する場合においては、原料を分子オーダーで
混合できるため均一な共重合酸化物が作製できる。ま
た、溶融法によるシリカガラスの合成では有機物のよう
に高温にすると分解してしまう物質はシリカガラス中に
ドープすることができないが、溶液混合を行うゾルーゲ
ル法では比較的低温でガラスを合成できるのでシリカガ
ラス中に有機物をドープすることが可能である。この方
法を用いてシリカゲル中に様々な色素をドープした研究
が行われ、例えば、牧島ら(J.Am.Ceram.Soc,69(4)198
6)、谷ら(J.Appl.Phys,58(9)1.Nov.1985) 、David AVNI
L ら(J.Non.Cry.Solids,74,1985,395)などに紹介されて
いる。2. Description of the Related Art Conventionally, the sol-gel method has been known as a low temperature synthesis method of silica glass, and a siloxane bond is formed from a raw material in a solution state by hydrolysis and polycondensation reaction to obtain a silicon oxide. .. In the case of producing a binary or higher oxide, the raw materials can be mixed on a molecular order, so that a uniform copolymerized oxide can be produced. Further, in the synthesis of silica glass by the melting method, a substance that decomposes at a high temperature such as an organic substance cannot be doped into silica glass, but the sol-gel method of solution mixing can synthesize glass at a relatively low temperature. It is possible to dope organic substances into silica glass. Studies of doping various dyes into silica gel using this method have been performed, for example, Makishima et al. (J. Am. Ceram. Soc, 69 (4) 198).
6), Tani et al. (J. Appl. Phys, 58 (9) 1.Nov. 1985), David AVNI
L et al. (J. Non. Cry. Solids, 74, 1985, 395).
【0003】我々は以前よりシリカゲル中へ機能性有機
物をドープする研究を行なってきた。これまで、シリカ
ゲル中にフォトクロミック化合物等の機能性色素をドー
プし、その機能をシリカゲル中で発現させることに成功
した。さらに、アルコキシシリル基を有するフォトクロ
ミック化合物を用いて、シリカゲル中に化学的に固定化
することにより、シリカゲルからフォトクロミック化合
物が溶出するのを防止できることを見いだした。We have been conducting research on doping functional organic substances into silica gel for a long time. So far, we have succeeded in doping the functional dyes such as photochromic compounds into silica gel and expressing the function in silica gel. Further, they have found that the photochromic compound having an alkoxysilyl group can be chemically immobilized in silica gel to prevent the photochromic compound from being eluted from the silica gel.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法によってシリカゲル中に固定されたフォトクロミック
化合物は耐久性が低下する場合があることが新たに見い
だされた。この原因は、検討の結果、以下のように推定
される。有機物を含んでいる場合、高温度で熱処理でき
ないためにシリカゲル中には水酸基が多く残存しており
シリカゲル中の酸点の量はかなり多く、水溶液中pH3
〜4に相当する。そのために、ドープされたフォトクロ
ミック化合物は劣化を起こし易く、特にフォトクロミッ
ク化合物の場合には光照射によって劣化反応が促進され
酸化劣化が顕著である。従って、従来のフォトクロミッ
ク特性を示すシリカゲルは実用上、耐久性の面で未だ十
分でなく、これらの課題を解決することが極めて重要で
あった。However, it has been newly found that the photochromic compound fixed in silica gel may have low durability by the above method. As a result of examination, the cause of this is presumed as follows. When organic matter is contained, heat treatment cannot be performed at a high temperature, so many hydroxyl groups remain in the silica gel, and the amount of acid sites in the silica gel is considerably large.
Equivalent to ~ 4. Therefore, the doped photochromic compound is prone to deterioration, and particularly in the case of the photochromic compound, deterioration reaction is promoted by light irradiation and oxidative deterioration is remarkable. Therefore, conventional silica gels exhibiting photochromic properties are not yet practically sufficient in terms of durability, and it has been extremely important to solve these problems.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記のよう
な従来技術の問題点を解決すべく鋭意研究を重ねた結
果、フォトクロミック特性を示す化合物を化学的に固定
してドープしたシリカゲルのフォトクロミック特性の耐
久性を、シリカゲルの酸強度をコントロールすることに
より向上させることに成功した。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems of the prior art, the present inventors have found that a silica gel doped with a compound exhibiting photochromic properties is chemically fixed. We succeeded in improving the durability of photochromic properties by controlling the acid strength of silica gel.
【0006】即ち、本発明は、一般式(1)で表される
テトラアルコキシシラン、 Si(OR1 )4 (1) (式中、R1 はアルキル基を示す) 一般式(2)で表されるオルガノアルコキシシラン、及
びアルコキシシリル基 R2 n Si(OR3 )4-n (2) (式中、R2 はアルキル基、アルケニル基、またはフェ
ニル基を、R3 はアルキル基を、nは1または2の整数
を示す)を有するフォトクロミック化合物を反応させる
ことを特徴とするフォトクロミックハイブリッドシリカ
ゲルの製造方法である。That is, the present invention provides a tetraalkoxysilane represented by the general formula (1), Si (OR 1 ) 4 (1) (wherein R 1 represents an alkyl group) represented by the general formula (2) Organoalkoxysilane and an alkoxysilyl group R 2 n Si (OR 3 ) 4-n (2) (wherein R 2 is an alkyl group, an alkenyl group or a phenyl group, R 3 is an alkyl group, n Is a photochromic compound having an integer of 1 or 2).
【0007】更に他の発明は、一般式(1)で表される
テトラアルコキシシランと、 Si(OR1 )4 (1) (式中、R1 はアルキル基を示す) アルコキシシリル基を有するフォトクロミック化合物と
を反応させてシリカゲルを合成し、次いで該シリカゲル
を一般式(2)で表されるオルガノアルコキシシランで R2 n Si(OR3 )4-n (2) (式中、R2 はアルキル基、アルケニル基、またはフェ
ニル基を、R3 はアルキル基を、nは1または2の整数
を示す) 処理することを特徴とするフォトクロミックハイブリッ
ドシリカゲルの製造方法である。Still another invention is a photochromic compound having a tetraalkoxysilane represented by the general formula (1) and Si (OR 1 ) 4 (1) (in the formula, R 1 represents an alkyl group) alkoxysilyl group. Silica gel is synthesized by reacting with a compound, and the silica gel is then treated with an organoalkoxysilane represented by the general formula (2) to R 2 n Si (OR 3 ) 4-n (2) (wherein R 2 is an alkyl group). Group, an alkenyl group, or a phenyl group, R 3 is an alkyl group, and n is an integer of 1 or 2).
【0008】以下に本発明を詳しく説明する。The present invention will be described in detail below.
【0009】本発明は、ハイブリッドシリカゲル中に固
定化されたフォトクロミック化合物の劣化を抑える方法
として、酸点を低減すること、あるいはシリカゲルの酸
強度を低減することを目的としている。The object of the present invention is to reduce the acid sites or the acid strength of silica gel as a method for suppressing the deterioration of the photochromic compound immobilized in hybrid silica gel.
【0010】本発明のフォトクロミックハイブリッドシ
リカゲルとは、いわゆるゾルーゲル法を用いて、フォト
クロミック特性を示す有機化合物によりシリカゲルにフ
ォトクロミック特性を付与することを目的として、シリ
カゲル中に化学的に固定してフォトクロミック化合物を
分子単位あるいはクラスターで分散含有させたものを指
す。該シリカゲルの形状は何んら制限されず、薄膜、バ
ルクゲル、ファイバー、粒子等のいづれの形態もとりう
る。The photochromic hybrid silica gel of the present invention is a so-called sol-gel method for chemically imparting photochromic compounds to silica gel for the purpose of imparting photochromic properties to the silica gel with an organic compound exhibiting photochromic properties. It refers to those dispersed and contained in molecular units or clusters. The shape of the silica gel is not limited at all, and may take any form such as a thin film, bulk gel, fiber and particles.
【0011】本発明の製造方法に用いる一般式(1)で
表されるテトラアルコキシシランとしては、R1 がメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の、テトラメ
トキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキ
シシラン、及びテトラブトキシシラン等が挙げられる。As the tetraalkoxysilane represented by the general formula (1) used in the production method of the present invention, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, etc., in which R 1 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group or the like, Examples thereof include tetrapropoxysilane and tetrabutoxysilane.
【0012】同じく製造に使用する一般式(2)で示さ
れるオルガノアルコキシシランにおいて、R2 はアルキ
ル基、アルケニル基、またはフェニル基である。該アル
キル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、オクチル基、デシル基、オクタデシル基等の直鎖
状または分岐状アルキル基が挙げられる。該アルケニル
基としてはエテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘ
キセニル基等の直鎖状または分岐状アルケニル基が挙げ
られる。R3 はアルキル基を示し、R1 で例示したもの
と同様な置換基が好適に挙げられる。In the organoalkoxysilane represented by the general formula (2), which is also used in the production, R 2 is an alkyl group, an alkenyl group or a phenyl group. Examples of the alkyl group include linear or branched alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, octyl group, decyl group and octadecyl group. Examples of the alkenyl group include linear or branched alkenyl groups such as an ethenyl group, a propenyl group, a butenyl group and a hexenyl group. R 3 represents an alkyl group, and preferably the same substituents as those exemplified for R 1 can be mentioned.
【0013】一般式(2)のオルガノアルコキシシラン
を具体的に例示すると、フェニルトリメトキシシラン、
フェニルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシ
シラン、n−ブチルトリメトキシシラン、イソブチルト
リメトキシシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、
n−オクタデシルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、エチルトリエトキシシラン、アミルトリエ
トキシシラン、n−オクチルトリエトキシシラン、n−
オクタデシルトリエトキシシラン、n−ドデシルトリエ
トキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリ
ブトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、ビニル
トリエトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ジフ
ェニルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、
ビニルメチルジエトキシシラン等が挙げられる。Specific examples of the organoalkoxysilane of the general formula (2) include phenyltrimethoxysilane,
Phenyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, propyltrimethoxysilane, n-butyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane,
n-octadecyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, amyltriethoxysilane, n-octyltriethoxysilane, n-
Octadecyltriethoxysilane, n-dodecyltriethoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltributoxysilane, ethyltripropoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltriethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane,
Examples thereof include vinylmethyldiethoxysilane.
【0014】本発明に用いるアルコキシシリル基を有す
るフォトクロミック化合物(以下シリル基含有フォトク
ロミック化合物という)としては、前記シリコンアルコ
キシドやオルガノアルコキシシランと共加水分解可能な
アルコキシシリル基を分子内に有するものであれば、特
に制限はなく種々の有機フォトクロミック化合物を用い
ることができる。例えば、アゾベンゼン類、スピロピラ
ン類、スピロキサジン類等のフォトクロミック化合物に
アルコキシ基を導入した化合物が好適に用いられる。該
化合物群を以下に具体的に例示するがこれらに限定され
るものではない。The photochromic compound having an alkoxysilyl group used in the present invention (hereinafter referred to as a silyl group-containing photochromic compound) may be one having an alkoxysilyl group which can be cohydrolyzed with the above silicon alkoxide or organoalkoxysilane in the molecule. If there is no particular limitation, various organic photochromic compounds can be used. For example, a compound obtained by introducing an alkoxy group into a photochromic compound such as azobenzenes, spiropyrans, and spiroxazines is preferably used. Specific examples of the compound group are shown below, but the compound group is not limited thereto.
【0015】[0015]
【化1】 [Chemical 1]
【0016】[0016]
【化2】 [Chemical 2]
【0017】これらのフォトクロミック化合物は分子内
にアルコキシシリル基を有しているので、加水分解によ
りテトラアルコキシシラン及び/又はオルガノアルコキ
シシランと縮重合してSi−O−Si結合が生成し、シ
リカゲルと化学的に結合することができる。Since these photochromic compounds have an alkoxysilyl group in the molecule, they are hydrolyzed to cause polycondensation with tetraalkoxysilanes and / or organoalkoxysilanes to form Si--O--Si bonds, and silica gel and Can be chemically bound.
【0018】本発明のフォトクロミックハイブリッドシ
リカゲルの製造方法は以下の二通りの方法がある。There are the following two methods for producing the photochromic hybrid silica gel of the present invention.
【0019】第1の方法は、一般式(1)で表されるテ
トラアルコキシシラン、一般式(2)で表されるオルガ
ノアルコキシシラン、及びシリル基含有フォトクロミッ
ク化合物を反応させて、共加水分解、並びに縮合反応に
より製造する方法である。この方法はいわゆるゾルーゲ
ル法と呼ばれるものであり、公知の方法が何んら制限な
く採用される。In the first method, a tetraalkoxysilane represented by the general formula (1), an organoalkoxysilane represented by the general formula (2), and a silyl group-containing photochromic compound are reacted with each other to co-hydrolyze, And a method of producing by condensation reaction. This method is a so-called sol-gel method, and known methods can be adopted without any limitation.
【0020】例えば、pH2〜3で、10〜40モル倍
の酸性アルコール水溶液中で反応させ、共加水分解並び
に縮合を行う。具体的には、加水分解速度の遅いオルガ
ノアルコキシシランとシリル基含有フォトクロミック化
合物を上記溶液中で先に反応させ、反応途中でテトラア
ルコキシシランを添加する方法、或いは、同水溶液中で
テトラアルコキシシランとシリル基含有フォトクロミッ
ク化合物を反応させてオリゴマーとし、次いでオルガノ
アルコキシシランと反応させてハイブリッドシリカゲル
とする方法が挙げられる。For example, co-hydrolysis and condensation are carried out by reacting in an acidic alcohol aqueous solution having a pH of 2-3 and a molar ratio of 10-40. Specifically, a method in which an organoalkoxysilane having a slow hydrolysis rate and a silyl group-containing photochromic compound are first reacted in the above solution, and tetraalkoxysilane is added during the reaction, or tetraalkoxysilane is added in the same aqueous solution. A method of reacting a silyl group-containing photochromic compound to form an oligomer and then reacting with an organoalkoxysilane to form a hybrid silica gel can be mentioned.
【0021】後者のオリゴマーを経由させる方法は、以
下に詳述するように、種々な形態のハイブリッドシリカ
ゲルを製造できるので好適に採用される。The latter method of passing through an oligomer is preferably adopted because hybrid silica gel of various forms can be produced as described in detail below.
【0022】例えば、粒子状のシリカゲルを作製する場
合は、上記オリゴマーとオルガノアルコキシシランとの
混合溶液を、pH10〜13で10〜20倍容量のアン
モニア水−アルコール溶液に滴下して乳濁液をとし、得
られた固体を遠心分離等により回収する方法が好適に用
いられる。またバルク状シリカゲルを作製する場合に
は、例えば小さい穴のある容器に該オリゴマー溶液及び
オルガノアルコキシシランを入れて静置し、溶媒を徐々
に揮発させる方法等が好適である。さらに前記のオリゴ
マーとオルガノアルコキシシランとの混合溶液を基板状
にディップコーティングあるいはスピンコーティングす
ることにより薄膜状のハイブリッドシリカゲルを製造す
ることができる。For example, in the case of producing particulate silica gel, a mixed solution of the above-mentioned oligomer and organoalkoxysilane is added dropwise to a 10-20 times volume ammonia water-alcohol solution having a pH of 10-13 to form an emulsion. And a method of collecting the obtained solid by centrifugation or the like is preferably used. In the case of producing bulk silica gel, for example, a method in which the oligomer solution and the organoalkoxysilane are placed in a container having a small hole and allowed to stand still to gradually evaporate the solvent is suitable. Further, a thin film hybrid silica gel can be produced by dip-coating or spin-coating a mixed solution of the above-mentioned oligomer and organoalkoxysilane on a substrate.
【0023】テトラアルコキシシランとオルガノアルコ
キシシランの反応量比は、加水分解反応時間を調節すれ
ば、任意の割合で反応させることが可能である。Regarding the reaction amount ratio of the tetraalkoxysilane and the organoalkoxysilane, it is possible to react at any ratio by adjusting the hydrolysis reaction time.
【0024】シリル基含有フォトクロミック化合物の使
用量は特に限定されることはなく任意の割合で用いるこ
とができるが、通常テトラアルコキシシランおよびオル
ガノアルコキシシランの全量に対して0.2〜1倍モル
使用される。The amount of the silyl group-containing photochromic compound used is not particularly limited and may be used in any ratio. Usually, it is used in an amount of 0.2 to 1 times the molar amount of the tetraalkoxysilane and the organoalkoxysilane. To be done.
【0025】加水分解温度は、添加したシリル基含有フ
ォトクロミック化合物が分解しない温度であれば特に制
限されない。温度が高い方が早く加水分解が進行する
が、加水分解時に酸性触媒を加えている場合は高温にす
ると酸化劣化を促進するので10〜60℃程度が好まし
い。The hydrolysis temperature is not particularly limited as long as it does not decompose the added silyl group-containing photochromic compound. The higher the temperature is, the faster the hydrolysis proceeds, but when an acidic catalyst is added during the hydrolysis, high temperature promotes oxidative deterioration, so about 10 to 60 ° C. is preferable.
【0026】また加水分解後の、ゲル中に残存する水分
およびアルコールを除去するための熱処理温度は作製し
ようとする目的物によって異なるが、フォトクロミック
化合物の機能が失われない温度であれば特に制限はな
い。通常は、100〜200℃で処理される。The heat treatment temperature for removing water and alcohol remaining in the gel after hydrolysis varies depending on the intended product, but is not particularly limited as long as the function of the photochromic compound is not lost. Absent. Usually, it is processed at 100 to 200 ° C.
【0027】加水分解および縮合反応を均一に進行させ
る目的で通常、反応溶媒を用いるが、アルコールが好適
に用いられる。このアルコールとしては、メタノール、
エタノール、プロパノール、およびブタノール等が挙げ
られる。A reaction solvent is usually used for the purpose of allowing the hydrolysis and condensation reaction to proceed uniformly, but alcohol is preferably used. As this alcohol, methanol,
Examples include ethanol, propanol, and butanol.
【0028】前述のごとく、加水分解および縮合反応を
促進するために、塩酸、硫酸、酢酸、クエン酸等の酸性
触媒や、水酸化ナトリウム、アンモニア等の塩基性触媒
を用いることは好ましい態様である。水は加水分解反応
に必要な成分であり、その使用量は被加水分解物の量
や、得られるシリカゲルの形態等により適宜選択され
る。As mentioned above, in order to accelerate the hydrolysis and condensation reactions, it is a preferred embodiment to use an acidic catalyst such as hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid or citric acid, or a basic catalyst such as sodium hydroxide or ammonia. .. Water is a component necessary for the hydrolysis reaction, and the amount used is appropriately selected depending on the amount of the substance to be hydrolyzed, the form of the resulting silica gel and the like.
【0029】本発明のフォトクロミックハイブリッドシ
リカゲルの他の製造方法は、一般式(1)で表されるテ
トラアルコキシシラン及びシリル基含有フォトクロミッ
ク化合物を反応させて、共加水分解、縮合反応により一
担ハイブリッドシリカゲルを製造した後、一般式(2)
で表されるオルガノアルコキシシランで反応処理する方
法である。Another method for producing the photochromic hybrid silica gel of the present invention is to carry out a co-hydrolysis and condensation reaction to react a tetraalkoxysilane represented by the general formula (1) and a photochromic compound containing a silyl group, and carry out a one-part hybrid silica gel. After the production of the general formula (2)
Is a method of performing a reaction treatment with an organoalkoxysilane represented by.
【0030】例えば、一般式(1)で表されるテトラア
ルコキシシランとシリル基含有フォトクロミック化合物
とをpH2〜3の酸性アルコール水溶液で加水分解を行
って得られたオリゴマーを更に反応を進めてハイブリッ
ドシリカゲルとし、次いで一般式(2)で表されるオル
ガノアルコキシシランと反応させる。For example, the tetraalkoxysilane represented by the general formula (1) and the silyl group-containing photochromic compound are hydrolyzed with an aqueous acidic alcohol solution having a pH of 2 to 3, and the resulting oligomer is further reacted to produce a hybrid silica gel. And then reacted with the organoalkoxysilane represented by the general formula (2).
【0031】通常は、アルコール等の有機溶媒中で両者
を反応させ、次いで溶媒を除去する。該ハイブリッドシ
リカゲルの形状は薄膜、粒子等特に制限はなく、粒子の
場合、あらかじめ処理する粒子を溶媒に分散させてから
オルガノアルコキシシランの溶液と混合するのがよい。
充分に分散させるために一定時間超音波処理する方法も
好適である。Usually, both are reacted in an organic solvent such as alcohol, and then the solvent is removed. The shape of the hybrid silica gel is not particularly limited, such as a thin film and particles. In the case of particles, it is preferable to disperse the particles to be treated in advance in a solvent and then mix with the solution of the organoalkoxysilane.
A method of performing ultrasonic treatment for a certain period of time is also suitable for sufficiently dispersing.
【0032】この第2の製造方法においても、先の製造
方法における溶媒、触媒、加水分解温度、熱処理温度等
の製造条件が同じく採用される。但し、テトラアルコキ
シシランに対するオルガノアルコキシシランの反応量
は、オルガノアルコキシシランの量が多い場合はオルガ
ノアルコキシシラン単独の粒子が生成する傾向にあるた
め、通常テトラアルコキシシランに対して5〜40モル
%とする。Also in this second production method, the production conditions such as the solvent, the catalyst, the hydrolysis temperature and the heat treatment temperature in the previous production method are also adopted. However, the reaction amount of the organoalkoxysilane with respect to the tetraalkoxysilane is usually 5 to 40 mol% with respect to the tetraalkoxysilane because the particles of the organoalkoxysilane tend to be generated when the amount of the organoalkoxysilane is large. To do.
【0033】[0033]
【作用及び効果】本発明によって製造されるフォトクロ
ミックハイブリッドシリカゲルは、シリカゲルの製造
時、または製造後にオルガノアルコキシシランを存在さ
せて反応処理することによって、シリカゲル中の酸点を
減少させ、酸強度を低減させたものである。即ち、加水
分解によって水酸基になりうるアルコキシ基の少ないオ
ルガノアルコキシシランを用いて、ゲル中に残存する水
酸基と反応させて酸強度を減少させる。この結果、劣化
を起こし易いフォトクロミック特性を示す化合物部の劣
化を防止し、ひいてはフォトクロミック特性の耐久性を
向上させるものである。[Functions and Effects] The photochromic hybrid silica gel produced according to the present invention is subjected to a reaction treatment in the presence of an organoalkoxysilane during or after the production of the silica gel to reduce the acid points in the silica gel and reduce the acid strength. It was made. That is, an organoalkoxysilane having a small number of alkoxy groups which can be converted into hydroxyl groups by hydrolysis is used to react with the hydroxyl groups remaining in the gel to reduce the acid strength. As a result, it is possible to prevent deterioration of the compound portion exhibiting photochromic characteristics that easily cause deterioration, and improve the durability of the photochromic characteristics.
【0034】もちろん、フォトクロミック化合物部がシ
リカゲルと化学的に結合して固定化されているためフォ
トクロミック化合物が有機溶媒などで溶出することがな
い。Of course, since the photochromic compound part is chemically bonded and fixed to silica gel, the photochromic compound is not eluted with an organic solvent or the like.
【0035】更に、シリカゲル原料としてテトラアルコ
キシシランを用いているのでゲル自体が十分な強度を有
し、耐溶剤性や耐熱性にも優れる。例えば、テトラアル
コキシシランを用いずオルガノアルコキシシランのみを
用いて作製したフォトクロミックハイブリッドシリカゲ
ル粒子は、エタノール中で膨潤し、テトラヒドロフラン
に溶解するとともに160℃付近に融点をもつ。これに
対しテトラアルコキシシランを10モル%併用して作製
したハイブリッドシリカゲル粒子はエタノールに溶解せ
ず且つ有機基が燃焼するまでの融点を有さない。又、3
0モル%併用した場合には、テトラヒドロフランにも溶
解しなくなる。Further, since the tetraalkoxysilane is used as the silica gel raw material, the gel itself has sufficient strength and is excellent in solvent resistance and heat resistance. For example, photochromic hybrid silica gel particles produced using only organoalkoxysilane without using tetraalkoxysilane swell in ethanol, dissolve in tetrahydrofuran, and have a melting point near 160 ° C. On the other hand, the hybrid silica gel particles produced by using tetraalkoxysilane in combination with 10 mol% do not dissolve in ethanol and do not have a melting point until the organic group burns. Again 3
When it is used in an amount of 0 mol%, it also becomes insoluble in tetrahydrofuran.
【0036】[0036]
【実施例】以下実施例及び比較例により本発明をさらに
具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0037】実施例1 フェニルトリエトキシシラン2.1gとスピロオキサジ
ン(a)0.24gをエタノール20mlに溶解した溶
液に、pH3の塩酸水溶液4.5mlを添加し、25℃
で15時間攪拌した。該反応液にテトラエトキシシラン
0.8gを添加し、さらに5時間攪拌した。該反応液を
アンモニア水(25%アンモニア水11.2ml、水5
6ml)中に攪拌しながら滴下した。生成した固体を遠
心分離により分離し、水およびエタノールで洗浄した
後、120℃で4時間乾燥させることにより、粒径0.
2〜0.4μmのハイブリッドシリカゲル粒子を得た。Example 1 To a solution prepared by dissolving 2.1 g of phenyltriethoxysilane and 0.24 g of spirooxazine (a) in 20 ml of ethanol, 4.5 ml of hydrochloric acid aqueous solution having a pH of 3 was added, and the mixture was added at 25 ° C.
It was stirred for 15 hours. 0.8 g of tetraethoxysilane was added to the reaction liquid, and the mixture was further stirred for 5 hours. Aqueous ammonia (25% aqueous ammonia 11.2 ml, water 5
6 ml) with stirring. The produced solid was separated by centrifugation, washed with water and ethanol, and then dried at 120 ° C. for 4 hours to give a particle size of 0.
Hybrid silica gel particles of 2 to 0.4 μm were obtained.
【0038】該シリカゲル粒子の表面酸強度を指示薬法
によって測定したところ、pKaが5〜6で酸強度が低
下していた。When the surface acid strength of the silica gel particles was measured by an indicator method, the pKa was 5 to 6 and the acid strength was low.
【0039】ポリメチルメタクリレート(PMMA)2
gをジオキサン40mlに溶解させた溶液と、上記方法
で作製したハイブリッドシリカゲル粒子0.02gをジ
オキサン2mlに分散させた分散液とを混合した後、超
音波処理し、次いでこの調製液1mlをシャーレに流し
込みジオキサンを蒸発させてキャストフィルムを作製し
た。このPMMAフィルムにXeランプを連続照射し、
このPMMAフィルムを30分毎に取り出してフォトク
ロミック反応に基づく吸光度を測定し、図1にその結果
を示した。尚、この図において、吸光度は照射開始直後
の吸光度を基準とし、初期吸光度との比をプロットし
た。図中、後述の比較例1との比較により、本発明のハ
イブリッドシリカゲルは吸光度の半減期(吸光度が初期
吸光度の50%に達する時間)が1.8倍程度延びてお
り、光耐久性が向上していることが認められる。Polymethylmethacrylate (PMMA) 2
g in 40 ml of dioxane and a dispersion of 0.02 g of the hybrid silica gel particles prepared in the above method in 2 ml of dioxane were mixed and then sonicated, and 1 ml of this preparation was placed in a Petri dish. A cast film was prepared by evaporating the cast dioxane. This PMMA film is continuously irradiated with a Xe lamp,
The PMMA film was taken out every 30 minutes and the absorbance based on the photochromic reaction was measured. The results are shown in FIG. In this figure, the absorbance was plotted based on the absorbance immediately after the start of irradiation, and the ratio to the initial absorbance was plotted. In the figure, by comparison with Comparative Example 1 described later, the hybrid silica gel of the present invention has an increased half-life of absorbance (time at which the absorbance reaches 50% of the initial absorbance) by about 1.8 times, and the light durability is improved. It is recognized that they are doing.
【0040】又、得られた上記のハイブリッドシリカゲ
ルをエタノールを用いてソックスレー抽出したところ、
抽出後も抽出前と同様なフォトクロミック特性を示し
た。The hybrid silica gel thus obtained was subjected to Soxhlet extraction with ethanol.
After extraction, it showed the same photochromic properties as before extraction.
【0041】比較例1 テトラエトキシシラン2gとスピロオキサジン(a)
0.24gをエタノール20mlに溶解した溶液に、p
H3の塩酸−エタノール水溶液3.6ml(水0.2m
l)を添加し、25℃で5時間攪拌した。該反応液をア
ンモニア−エタノール水溶液(25%アンモニア水1
1.2ml,エタノール56ml)中に攪拌しながら滴
下した。生成した固体を遠心分離により反応液から分離
し、水およびエタノールで洗浄した後、120℃で4時
間乾燥させることにより、フォトクロミック特性を有す
るシリカゲル粒子を得た。Comparative Example 1 2 g of tetraethoxysilane and spirooxazine (a)
To a solution prepared by dissolving 0.24 g in 20 ml of ethanol, p
H3 hydrochloric acid-ethanol aqueous solution 3.6 ml (water 0.2 m
1) was added, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 5 hours. The reaction solution was treated with an ammonia-ethanol aqueous solution (25% ammonia water 1
1.2 ml, ethanol 56 ml) was added dropwise with stirring. The produced solid was separated from the reaction solution by centrifugation, washed with water and ethanol, and then dried at 120 ° C. for 4 hours to obtain silica gel particles having photochromic properties.
【0042】このシリカゲル粒子の表面酸強度を実施例
1と同様に行ったところpKaが3〜4であった。又、
実施例1と同様にしてキャストフィルムを作製し次いで
吸光度の経時変化を測定した。その結果をあわせて図1
に示した。When the surface acid strength of the silica gel particles was measured in the same manner as in Example 1, the pKa was 3-4. or,
A cast film was prepared in the same manner as in Example 1, and the change in absorbance with time was measured. Figure 1 together with the results
It was shown to.
【0043】実施例2 フェニルトリエトキシシラン21gとスピロオキサジン
(a)0.24gをエタノール20mlに溶解した溶液
に、pH3の塩酸水溶液45ml(水2.5ml)を添
加し、25℃で15時間攪拌した。該反応液にテトラエ
トキシシラン8gを添加し、さらに5時間攪拌した。該
反応液を静置し、小さな孔の開いた蓋をして徐々に溶媒
を揮発させた。充分乾燥させてキセロゲル状にしてから
120℃で4時間乾燥させてハイブリッドシリカゲルを
作製した。Example 2 To a solution of 21 g of phenyltriethoxysilane and 0.24 g of spirooxazine (a) in 20 ml of ethanol was added 45 ml of a hydrochloric acid aqueous solution of pH 3 (2.5 ml of water), and the mixture was stirred at 25 ° C. for 15 hours. did. 8 g of tetraethoxysilane was added to the reaction solution, and the mixture was further stirred for 5 hours. The reaction solution was allowed to stand, a lid with small holes was placed, and the solvent was gradually evaporated. It was sufficiently dried to form a xerogel and then dried at 120 ° C. for 4 hours to prepare a hybrid silica gel.
【0044】このハイブリッドシリカゲルのpKaは6
であった。このハイブリッドシリカゲルを一旦粉砕した
後、ペレット状に成型して実施例1と同様にして連続照
射を行ったところ、後述のテトラエトキシシランのみを
用いて作製した比較例2のシリカゲルに比して、吸光度
の半減期が1.5倍に延びた。The pKa of this hybrid silica gel is 6
Met. This hybrid silica gel was once crushed, then molded into pellets and subjected to continuous irradiation in the same manner as in Example 1, and compared with the silica gel of Comparative Example 2 produced using only tetraethoxysilane described below, The half-life of absorbance was increased by 1.5 times.
【0045】比較例2 テトラエトキシシラン20gとスピロオキサジン(a)
2.4gをエタノール20mlに溶解した溶液に、pH
3の塩酸水溶液45ml(水2.5ml)を添加し、2
5℃で15時間攪拌した。該反応液を静置し、小さな孔
の開いた蓋をして徐々に溶媒を揮発させた。充分乾燥さ
せてキセロゲル状にしてから120℃で4時間乾燥させ
てシリカゲルを作製した。Comparative Example 2 20 g of tetraethoxysilane and spirooxazine (a)
To a solution of 2.4 g dissolved in 20 ml of ethanol, pH
45 ml of hydrochloric acid aqueous solution of 3 (2.5 ml of water) was added, and 2
The mixture was stirred at 5 ° C for 15 hours. The reaction solution was allowed to stand, a lid with small holes was placed, and the solvent was gradually evaporated. It was sufficiently dried to form a xerogel and then dried at 120 ° C. for 4 hours to produce silica gel.
【0046】このシリカゲルから実施例2と同様にして
ペレットを作製し、次いで吸光度の経時変化を調べた。Pellets were prepared from this silica gel in the same manner as in Example 2, and the change in absorbance with time was examined.
【0047】実施例3 フェニルトリエトキシシラン2.1gとスピロオキサジ
ン(b)0.24gをエタノール20mlに溶解した溶
液に、pH3の塩酸水溶液4.5mlを添加し、25℃
で15時間攪拌した。該反応液にテトラエトキシシラン
0.8gを添加し、さらに5時間攪拌した。該反応液を
清浄なガラス基板上にディップコーティングした。溶媒
が揮発した後120℃で10分間熱処理し、冷却後、再
びディップコーティングをおこなった。この操作を10
回繰り返した後、120℃で4時間熱処理し、ゲルフィ
ルムを得た。Example 3 To a solution prepared by dissolving 2.1 g of phenyltriethoxysilane and 0.24 g of spirooxazine (b) in 20 ml of ethanol, 4.5 ml of hydrochloric acid aqueous solution having a pH of 3 was added, and the mixture was added at 25 ° C.
It was stirred for 15 hours. 0.8 g of tetraethoxysilane was added to the reaction liquid, and the mixture was further stirred for 5 hours. The reaction solution was dip-coated on a clean glass substrate. After the solvent was volatilized, heat treatment was performed at 120 ° C. for 10 minutes, cooling was performed, and then dip coating was performed again. Do this operation 10
After repeating the process twice, heat treatment was performed at 120 ° C. for 4 hours to obtain a gel film.
【0048】このゲルフィルムのpKaは5〜6であっ
た。又、実施例1と同様にしてXeランプの連続照射を
行ったところ、後述のテトラエトキシシランのみを用い
て作製した比較例3のフィルムに比して、吸光度の半減
期が1.7倍であった。The pKa of this gel film was 5-6. Further, when continuous irradiation with a Xe lamp was performed in the same manner as in Example 1, the absorbance half-life was 1.7 times that of the film of Comparative Example 3 produced using only tetraethoxysilane described below. there were.
【0049】比較例3 テトラエトキシシラン2gとスピロオキサジン(b)
0.24gをエタノール20mlに溶解した溶液に、p
H3の塩酸水溶液4.5mlを添加し、25℃で15時
間攪拌した。該反応液を清浄なガラス基板上にディップ
コーティングした。溶媒が揮発した後120℃で10分
間熱処理し、冷却後、再びディップコーティングをおこ
なった。この操作を10回繰り返した後、120℃で4
時間熱処理し、ゲルフィルムを得た。Comparative Example 3 Tetraethoxysilane 2 g and spirooxazine (b)
To a solution prepared by dissolving 0.24 g in 20 ml of ethanol, p
4.5 ml of H3 aqueous hydrochloric acid solution was added, and the mixture was stirred at 25 ° C for 15 hours. The reaction solution was dip-coated on a clean glass substrate. After the solvent was volatilized, heat treatment was performed at 120 ° C. for 10 minutes, cooling was performed, and then dip coating was performed again. After repeating this operation 10 times, 4 at 120 ℃
A heat treatment was performed for an hour to obtain a gel film.
【0050】このフィルムのフォトクロミック反応に基
づく吸光度の経時変化を実施例3と同様にして調べた。The temporal change of the absorbance of this film based on the photochromic reaction was examined in the same manner as in Example 3.
【0051】実施例4 テトラエトキシシラン2gとスピロオキサジン(a)
0.24gをエタノール20mlに溶解した溶液に、p
H3の塩酸エタノール−水溶液3.6ml(水0.2m
l)を添加し、25℃で5時間攪拌した。該反応液をア
ンモニア−エタノール水溶液(25%アンモニア水1
1.2ml、エタノール56ml)中に攪拌しながら滴
下した後、分離、洗浄及び乾燥してハイブリッドシリカ
ゲル粒子を作製した。該シリカゲル粒子0.6gをメチ
ルトリエトキシシラン1gを含んだエタノール溶液20
ml中に分散させ、1時間超音波処理を行った。遠心分
離により粒子を回収し、水とエタノールで洗浄した後、
120℃で4時間熱処理しすることによりハイブリッド
シリカゲル粒子を得た。Example 4 2 g of tetraethoxysilane and spirooxazine (a)
To a solution prepared by dissolving 0.24 g in 20 ml of ethanol, p
H3 hydrochloric acid ethanol-water solution 3.6 ml (water 0.2 m
1) was added, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 5 hours. The reaction solution was treated with an ammonia-ethanol aqueous solution (25% ammonia water 1
1.2 ml, ethanol 56 ml), the mixture was added dropwise with stirring, separated, washed and dried to prepare hybrid silica gel particles. An ethanol solution 20 containing 0.6 g of the silica gel particles and 1 g of methyltriethoxysilane.
It was dispersed in ml and sonicated for 1 hour. After collecting the particles by centrifugation and washing with water and ethanol,
Hybrid silica gel particles were obtained by heat treatment at 120 ° C. for 4 hours.
【0052】該シリカゲル粒子のpKaは5であった。
又、実施例1と同様にしてPMMAフィルムを作製し、
光耐久性を調べたところ、メチルエトキシシランで処理
しなかった以外本実施例と同様にして作製したシリカゲ
ル粒子(pKa=3〜4)から調製されたPMMAフィ
ルムにくらべ、吸光度の半減期が1.6倍となり、光耐
久性が向上することが判明した。The pKa of the silica gel particles was 5.
Further, a PMMA film was prepared in the same manner as in Example 1,
When the light durability was examined, the half-life of the absorbance was 1 as compared with the PMMA film prepared from silica gel particles (pKa = 3 to 4) produced in the same manner as in this example except that it was not treated with methylethoxysilane. It was found to be 0.6 times, and the light durability was improved.
【0053】実施例5 テトラメトキシシラン2g、アリルトリメトキシシラン
2g及びスピロピラン(e)0.45gをメタノール2
0mlに溶解した溶液に、pH2の塩酸−メタノール水
溶液3.6ml(水0.2ml)を添加し、25℃で5
時間攪拌した。該反応液を清浄なガラス基板上にディッ
プコーティングした。溶媒が揮発した後120℃で10
分間熱処理し、冷却後、再びディップコーティングをお
こない、この操作を10回繰り返した。最後に120℃
で4時間熱処理し、シリカゲルフィルムを得た。該フィ
ルムは紫外線照射により着色し、可視光照射により消色
するフォトクロ活性を示した。また、実施例3と同等の
光耐久性を示した。Example 5 2 g of tetramethoxysilane, 2 g of allyltrimethoxysilane and 0.45 g of spiropyran (e) were added to 2 parts of methanol.
To a solution dissolved in 0 ml, 3.6 ml of a hydrochloric acid-methanol aqueous solution having a pH of 2 (0.2 ml of water) was added, and the mixture was added at
Stir for hours. The reaction solution was dip-coated on a clean glass substrate. 10 at 120 ° C after the solvent evaporates
After heat treatment for 1 minute and cooling, dip coating was performed again, and this operation was repeated 10 times. Finally 120 ℃
After heat treatment for 4 hours, a silica gel film was obtained. The film exhibited photochromic activity which was colored by irradiation with ultraviolet rays and was erased by irradiation with visible light. Further, it showed the same light durability as that of Example 3.
【0054】実施例6 テトラエトキシシラン2gとアゾベンゼン(g)0.2
4gをエタノール20mlに溶解した溶液に、pH3の
塩酸−エタノール水溶液3.6ml(水0.2ml)を
添加し、25℃で5時間攪拌した。該反応液とエチルト
リエトキシシラン2gのエタノール溶液10mlとを混
合した溶液をアンモニア−エタノール水溶液(25%ア
ンモニア水11.2ml、エタノール56ml)中に攪
拌しながら滴下した。生成した固体を遠心分離により分
離し、エタノール及び水で洗浄し、100℃で4時間熱
処理しすることによりフォトクロミック活性を有するハ
イブリッドシリカゲル粒子を得た。Example 6 2 g of tetraethoxysilane and 0.2 of azobenzene (g)
To a solution of 4 g dissolved in 20 ml of ethanol, 3.6 ml of a hydrochloric acid-ethanol aqueous solution having a pH of 3 (0.2 ml of water) was added, and the mixture was stirred at 25 ° C for 5 hours. A solution obtained by mixing the reaction solution and 10 ml of an ethanol solution of 2 g of ethyltriethoxysilane was added dropwise to an ammonia-ethanol aqueous solution (25% ammonia water 11.2 ml, ethanol 56 ml) with stirring. The produced solid was separated by centrifugation, washed with ethanol and water, and heat-treated at 100 ° C. for 4 hours to obtain hybrid silica gel particles having photochromic activity.
【0055】このシリカゲル粒子に紫外線と可視光を交
互に照射したところ、シスートランス光異性化によるフ
ォトクロミック特性が速みやかに行こることが観察され
た。When the silica gel particles were alternately irradiated with ultraviolet rays and visible light, it was observed that the photochromic properties due to cis-trans photoisomerization were rapidly obtained.
【0056】更に、実施例1と同様にして該シリカゲル
粒子よりPMMAフィルムを作製し、吸光度の経時変化
を調べたところ、後述のテトラエトキシシランのみを用
いて作製した比較例6のシリカゲルの場合にくらべて半
減期が1.3倍であった。Furthermore, a PMMA film was prepared from the silica gel particles in the same manner as in Example 1 and the change in absorbance with time was examined. In the case of the silica gel of Comparative Example 6 prepared using only tetraethoxysilane described below, The half-life was 1.3 times longer than that of the other products.
【0057】比較例6 テトラエトキシシラン2gとアゾベンゼン(g)0.2
4gをエタノール20mlに溶解した溶液に、pH3の
塩酸−エタノール水溶液3.6ml(水0.2ml)を
添加し、25℃で5時間攪拌した。該反応液をアンモニ
ア−エタノール水溶液(25%アンモニア水11.2m
l、エタノール56ml)中に攪拌しながら滴下した。
生成した固体を遠心分離により分離し、エタノール及び
水で洗浄し、100℃で4時間熱処理しすることにより
フォトクロミック活性を有するハイブリッドシリカゲル
粒子を得た。Comparative Example 6 Tetraethoxysilane 2 g and azobenzene (g) 0.2
To a solution of 4 g dissolved in 20 ml of ethanol, 3.6 ml of a hydrochloric acid-ethanol aqueous solution having a pH of 3 (0.2 ml of water) was added, and the mixture was stirred at 25 ° C for 5 hours. The reaction solution was treated with an ammonia-ethanol aqueous solution (25% ammonia water 11.2 m).
1 and 56 ml of ethanol) was added dropwise with stirring.
The produced solid was separated by centrifugation, washed with ethanol and water, and heat-treated at 100 ° C. for 4 hours to obtain hybrid silica gel particles having photochromic activity.
【0058】このシリカゲル粒子から実施例1と同様に
してPMMAフィルムを作製し、次いで吸光度の経時変
化を求めた。A PMMA film was prepared from the silica gel particles in the same manner as in Example 1, and then the change in absorbance with time was determined.
【図1】実施例1、及び比較例1で作製した(ハイブリ
ッド)シリカゲル粒子を含むPMMAフィルムのフォト
クロミック反応に基づく吸光度の経時変化を示す図であ
る。FIG. 1 is a diagram showing a time-dependent change in absorbance based on a photochromic reaction of a PMMA film containing (hybrid) silica gel particles produced in Example 1 and Comparative Example 1.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08G 77/26 NUJ 8319−4J // C09K 9/02 B 6917−4H ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Office reference number FI technical display location C08G 77/26 NUJ 8319-4J // C09K 9/02 B 6917-4H
Claims (2)
シシラン、 Si(OR1 )4 (1) (式中、R1 はアルキル基を示す) 一般式(2)で表されるオルガノアルコキシシラン、 R2 n Si(OR3 )4-n (2) (式中、R2 はアルキル基、アルケニル基、またはフェ
ニル基を、R3 はアルキル基を、nは1または2の整数
を示す)及びアルコキシシリル基を有するフォトクロミ
ック化合物を反応させることを特徴とするフォトクロミ
ックハイブリッドシリカゲルの製造方法。1. A tetraalkoxysilane represented by the general formula (1), Si (OR 1 ) 4 (1) (in the formula, R 1 represents an alkyl group) An organoalkoxy represented by the general formula (2) Silane, R 2 n Si (OR 3 ) 4-n (2) (wherein R 2 represents an alkyl group, an alkenyl group, or a phenyl group, R 3 represents an alkyl group, and n represents an integer of 1 or 2). ) And a photochromic compound having an alkoxysilyl group are reacted with each other to produce a photochromic hybrid silica gel.
シシランと、 Si(OR1 )4 (1) (式中、R1 はアルキル基を示す) アルコキシシリル基を有するフォトクロミック化合物と
を反応させてシリカゲルを合成し、次いで該シリカゲル
を一般式(2)で表されるオルガノアルコキシシラン
で、 R2 n Si(OR3 )4-n (2) (式中、R2 はアルキル基、アルケニル基、またはフェ
ニル基を、R3 はアルキル基を、nは1または2の整数
を示す) 処理することを特徴とするフォトクロミックハイブリッ
ドシリカゲルの製造方法。2. A reaction between a tetraalkoxysilane represented by the general formula (1) and Si (OR 1 ) 4 (1) (wherein R 1 represents an alkyl group) with a photochromic compound having an alkoxysilyl group. To synthesize silica gel, and then the silica gel is treated with an organoalkoxysilane represented by the general formula (2) to obtain R 2 n Si (OR 3 ) 4-n (2) (wherein R 2 is an alkyl group or an alkenyl group). Group or phenyl group, R 3 represents an alkyl group, and n represents an integer of 1 or 2).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32322691A JPH05156016A (en) | 1991-12-06 | 1991-12-06 | Production of hybrid silica gel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32322691A JPH05156016A (en) | 1991-12-06 | 1991-12-06 | Production of hybrid silica gel |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05156016A true JPH05156016A (en) | 1993-06-22 |
Family
ID=18152425
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32322691A Pending JPH05156016A (en) | 1991-12-06 | 1991-12-06 | Production of hybrid silica gel |
Country Status (1)
| Country | Link |
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